JP5520182B2

JP5520182B2 - Retaining material

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Publication number: JP5520182B2
Application number: JP2010219248A
Authority: JP
Inventors: 吉見望月; 貴宏久米; 将人実谷
Original assignee: Fujibo Holdins Inc
Current assignee: Fujibo Holdins Inc
Priority date: 2010-09-29
Filing date: 2010-09-29
Publication date: 2014-06-11
Anticipated expiration: 2030-09-29
Also published as: JP2012071399A

Description

本発明は保持材に係り、特に、湿式凝固法により形成されたスキン層を有し該スキン層より内部側に多数のセルが形成された軟質樹脂製の樹脂シートを備えた保持材に関する。 The present invention relates to a holding material, and more particularly, to a holding material including a resin sheet made of a soft resin having a skin layer formed by a wet coagulation method and having a number of cells formed on the inner side of the skin layer.

従来液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用ガラス基板、カラーフィルタにおける赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の三原色の色材膜が表面に形成されたガラス基板、ＬＣＤセル等で構成されたフラットパネルディスプレイ等では、それらの製造過程で研磨加工が行われている。一般に、研磨加工では、研磨加工の対象となる被研磨物を保持する目的で、湿式凝固法により表面側にスキン層を有し内部に多数のセル（発泡）が形成された多孔質シートを備えた保持材が用いられている。すなわち、裏面側を研削処理し厚みを均一化した多孔質シート（樹脂製保持層）と、粘着層を有する基材とを接着させ多孔質シートを基材で支持させた保持材が用いられている。 Conventional glass substrate for liquid crystal display (LCD), glass substrate on which color material films of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) in color filters are formed, flat composed of LCD cells, etc. In panel displays and the like, polishing is performed in the manufacturing process thereof. Generally, in the polishing process, a porous sheet having a skin layer on the surface side by a wet coagulation method and having a large number of cells (foaming) formed therein is provided for the purpose of holding an object to be polished. Retaining material is used. That is, a holding material is used in which a porous sheet (resin holding layer) having a uniform thickness by grinding the back side is bonded to a base material having an adhesive layer and the porous sheet is supported by the base material. Yes.

保持材を用いた場合、被研磨物は、保持材の表面における凝着力、水等の表面張力による吸着力等の複合的作用で保持されることとなる。このような保持材では、半導体の片面研磨で通常用いられるような枠材を有するテンプレート方式の保持材と比較して、枠材を用いなくとも研磨加工中に被研磨物の横滑りを抑制することができる。このため、複数のサイズの被研磨物を同一の工程にて研磨加工する際に同一の保持材で対応することが可能であり、また、自動化ラインにおける被研磨物の脱着において位置精度が不十分な場合でも被研磨物の損傷が発生しにくくなる、という利点がある。 When the holding material is used, the object to be polished is held by a composite action such as an adhesion force on the surface of the holding material, an adsorption force due to a surface tension of water or the like. With such a holding material, compared to a template-type holding material having a frame material that is usually used in single-side polishing of semiconductors, side slip of an object to be polished is suppressed during polishing without using a frame material. Can do. Therefore, it is possible to handle a plurality of sizes of objects to be polished in the same process with the same holding material, and the positional accuracy is insufficient in detachment of the objects to be polished in an automated line. Even in such a case, there is an advantage that the object to be polished is hardly damaged.

一方、生産性向上を図るために、被研磨物を大型化する傾向がある。例えば、ＬＣＤの構成材料であるガラス基板では、年々大型化が進められており、一辺が３ｍに迫る大型のガラス基板が使用されるに至っている。ガラス基板の大型化に伴い、研磨加工後に保持材からガラス基板を取り外す際に、ガラス基板にかかる力が大きくなり、ガラス基板の撓みによる割れ等が発生する、といった問題が生じている。 On the other hand, in order to improve productivity, the object to be polished tends to be enlarged. For example, glass substrates, which are constituent materials for LCDs, have been increasing in size year by year, and large glass substrates with a side approaching 3 m have been used. Along with the increase in size of the glass substrate, when the glass substrate is removed from the holding material after the polishing process, there is a problem that a force applied to the glass substrate is increased and a crack or the like due to the bending of the glass substrate occurs.

ところが、例えば、ガラス基板の研磨加工に保持材を用いる場合、研磨液に含まれる酸化セリウム等の砥粒が保持材表面に凝着することがあり、保持材に固着した砥粒から溶出する水酸化ランタンなどのアルカリ成分がスキン層表面を劣化させ、被研磨物保持性を低下させることがある。また、スキン層表面の劣化部分が多孔質シート内部への研磨液等の浸透を助長し多孔質シートの内部を劣化させることで、弾性を喪失する原因となる。さらには、保持材に凝着した砥粒が研磨加工の再開時にガラス表面に固着してしまい、研磨加工後の洗浄時でも除去できなくなる“ガラス焼け”と呼ばれる現象が生じ、ガラス基板の品質に大きな影響を及ぼすこともある。これらの問題以外にも、多孔質シートの素材である軟質樹脂を化学的に劣化させるような酸やアルカリと接触した場合には、スキン層が劣化し弾性を喪失することがある。このため、研磨加工時に被研磨物との摩擦によるスキン層表面の損傷が著しくなり、結果として被研磨物保持性の大幅な低下や保持材の弾性の喪失が生じることとなる。 However, for example, when a holding material is used for polishing a glass substrate, abrasive grains such as cerium oxide contained in the polishing liquid may adhere to the surface of the holding material, and water eluted from the abrasive grains fixed to the holding material. An alkali component such as lanthanum oxide may deteriorate the surface of the skin layer and reduce the retention of the object to be polished. In addition, the deteriorated portion on the surface of the skin layer promotes the penetration of the polishing liquid or the like into the porous sheet and deteriorates the inside of the porous sheet, thereby causing loss of elasticity. In addition, the abrasive grains adhered to the holding material adheres to the glass surface when the polishing process is resumed, and a phenomenon called “glass burn” that cannot be removed even after cleaning after the polishing process occurs. It can have a big impact. In addition to these problems, the skin layer may deteriorate and lose elasticity when it comes into contact with an acid or alkali that chemically degrades the soft resin that is the material of the porous sheet. For this reason, damage to the surface of the skin layer due to friction with the object to be polished becomes significant at the time of polishing, and as a result, the retention of the object to be polished is greatly reduced and the elasticity of the holding material is lost.

これらの問題を回避するために、例えば、保持材の耐酸性、耐アルカリ性を改善する技術として、エアバック方式の研磨ヘッドに半導体を保持させるために塩化ビニルを材料とする弾性体の技術が開示されている（特許文献１参照）。また、耐酸性、耐アルカリ性を有するポリオレフィンやポリフェニレンスルフィドの繊維を用いた保持材の技術が開示されている（特許文献２参照）。 In order to avoid these problems, for example, as a technique for improving the acid resistance and alkali resistance of the holding material, an elastic body technique using vinyl chloride as a material for holding a semiconductor in an air bag type polishing head is disclosed. (See Patent Document 1). In addition, a technique for a holding material using a fiber of polyolefin or polyphenylene sulfide having acid resistance and alkali resistance is disclosed (see Patent Document 2).

特開２００７−３２４４９７号公報JP 2007-324497 A 特開２００９−８８４５６号公報JP 2009-88456 A

しかしながら、特許文献１の技術では、真空吸引力や水の表面張力により被研磨物を保持することができるものの、被研磨物の横ずれを抑制することが難しく、枠材を用いたテンプレート方式の採用を余儀なくされる。このため、被研磨物のサイズにあわせたそれぞれの枠材を要することとなり、研磨加工中に被研磨物と枠材との接触により被研磨物が損傷するおそれもある。また、特許文献２の技術では、耐酸性、耐アルカリ性が向上するものの、繊維材を用いたことで被研磨物の横ずれを抑制することが難しくなる。このため、テンプレート方式の保持材として使用せざるを得ず、特許文献１と同様の問題が生じることとなる。従って、大型の被研磨物でも着脱時の損傷を抑制するために被研磨物と保持材との密着力を制限することが重要となる一方で、枠材を用いることなく保持力の急激な低下を回避して長時間にわたる安定した保持力を確保することが重要となる。 However, in the technique of Patent Document 1, although the object to be polished can be held by a vacuum suction force or surface tension of water, it is difficult to suppress the lateral displacement of the object to be polished, and a template method using a frame material is employed. Will be forced. For this reason, each frame material according to the size of the object to be polished is required, and the object to be polished may be damaged by the contact between the object to be polished and the frame material during the polishing process. Moreover, in the technique of patent document 2, although acid resistance and alkali resistance improve, it becomes difficult to suppress the lateral shift of a to-be-polished object by using a fiber material. For this reason, it must be used as a template-type holding material, and the same problem as in Patent Document 1 occurs. Therefore, it is important to limit the adhesion between the object to be polished and the holding material in order to suppress damage during attachment / detachment even for a large object to be polished, while the holding power rapidly decreases without using a frame material. It is important to ensure a stable holding force over a long period of time.

本発明は上記事案に鑑み、被研磨物に対する保持力を確保し被研磨物の着脱を容易にすることができる保持材を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a holding material that can secure a holding force for an object to be polished and can easily attach and detach the object to be polished.

上記課題を解決するために、本発明は、湿式凝固法により形成されたスキン層を有し該スキン層より内部側に多数のセルが形成された軟質樹脂製の樹脂シートと、前記スキン層の表面に配置されており、表面が被研磨物を保持するための保持面を形成するとともに前記スキン層を保護する保護層と、を備え、前記保護層は、前記樹脂シートを形成する軟質樹脂より耐酸性ないし耐アルカリ性の大きな樹脂で形成されており、前記スキン層の表面を部分的に露出させるように穴または溝が形成されていることを特徴とする保持材である。 In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a resin sheet made of a soft resin having a skin layer formed by a wet coagulation method and having a plurality of cells formed on the inner side of the skin layer, and the skin layer. A protective layer disposed on the surface, the surface forming a holding surface for holding an object to be polished and protecting the skin layer, wherein the protective layer is made of a soft resin that forms the resin sheet. The holding material is formed of a resin having high acid resistance or alkali resistance, and has holes or grooves formed so as to partially expose the surface of the skin layer.

本発明では、保護層が樹脂シートを形成する軟質樹脂より耐酸性ないし耐アルカリ性の大きな樹脂で形成されたため、穴または溝が形成されていても全体として酸性やアルカリ性の研磨液に対する耐性が高まり樹脂シート内への浸水が抑制されるので、被研磨物に対する保持力を確保することができ、保護層を設けることで保持面での剛性が高められ、保護層に穴または溝が形成されたことで被研磨物に対する密着力が制限されるので、被研磨物の着脱を容易にすることができる。 In the present invention, since the protective layer is formed of a resin having a higher acid resistance or alkali resistance than the soft resin forming the resin sheet, the resin has a higher resistance to an acidic or alkaline polishing liquid as a whole even if holes or grooves are formed. Since water intrusion into the sheet is suppressed, it is possible to secure a holding force for the object to be polished, and the rigidity on the holding surface is increased by providing a protective layer, and holes or grooves are formed in the protective layer. Thus, since the adhesion force to the object to be polished is limited, the object to be polished can be easily attached and detached.

この場合において、保護層を、スキン層の表面に対する被覆率が５０％〜９９％の範囲とすることができる。保護層にはスキン層の表面を部分的に露出させるように穴が形成されており、穴が、２ｍｍ以下の直径を有する円形状で、保持面内で均等となるように形成されていてもよい。保護層を構成する樹脂を、液温が５０℃でｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液に１週間浸漬した前後における引張強度保持率が８０％以上とすることができる。保護層を構成する樹脂を、液温が５０℃でｐＨ１．５の塩酸水溶液に３週間浸漬した前後における引張強度保持率が８０％以上とすることができる。また、保護層の厚みを１μｍ〜１００μｍの範囲とし、樹脂シートの厚みを２００μｍ〜２０００μｍの範囲としてもよい。このとき、樹脂シートをポリウレタン樹脂製とし、保護層を構成する樹脂をエラストマとしてもよい。 In this case, the coverage of the protective layer with respect to the surface of the skin layer can be in the range of 50% to 99%. A hole is formed in the protective layer so as to partially expose the surface of the skin layer, and the hole has a circular shape having a diameter of 2 mm or less and is formed to be uniform in the holding surface. Good. The tensile strength retention ratio before and after immersing the resin constituting the protective layer in a sodium hydroxide aqueous solution having a liquid temperature of 50 ° C. and a pH of 13 for one week can be 80% or more. The tensile strength retention before and after immersing the resin constituting the protective layer in a hydrochloric acid aqueous solution having a liquid temperature of 50 ° C. and a pH of 1.5 for 3 weeks can be 80% or more. The thickness of the protective layer may be in the range of 1 μm to 100 μm, and the thickness of the resin sheet may be in the range of 200 μm to 2000 μm. At this time, the resin sheet may be made of polyurethane resin, and the resin constituting the protective layer may be elastomer.

本発明によれば、保護層が樹脂シートを形成する軟質樹脂より耐酸性ないし耐アルカリ性の大きな樹脂で形成されたため、穴または溝が形成されていても全体として酸性やアルカリ性の研磨液に対する耐性が高まり樹脂シート内への浸水が抑制されるので、被研磨物に対する保持力を確保することができ、保護層を設けることで保持面での剛性が高められ、保護層に穴または溝が形成されたことで被研磨物に対する密着力が制限されるので、被研磨物の着脱を容易にすることができる、という効果を得ることができる。 According to the present invention, since the protective layer is formed of a resin having a higher acid resistance or alkali resistance than the soft resin forming the resin sheet, even if a hole or a groove is formed, the protective layer as a whole is resistant to an acidic or alkaline polishing liquid. Since the water intrusion into the resin sheet is suppressed and the holding force against the object to be polished can be secured, the rigidity on the holding surface is increased by providing the protective layer, and a hole or groove is formed in the protective layer. As a result, the adhesion to the object to be polished is limited, so that an effect that the object can be easily attached and detached can be obtained.

本発明を適用した実施形態の保持材を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the holding material of embodiment to which this invention is applied. 保持材の保護層における凹部の形成パターンを示す平面図であり、（Ａ）は実施形態の保持材を示し、円形状の凹部が均等に分散するように形成された形成パターン、（Ｂ）は別の態様の保持材を示し、凹部として格子状の溝が形成された形成パターン、（Ｃ）は他の態様の保持材を示し、凹部として同心円状の溝が形成された形成パターンをそれぞれ示す。It is a top view which shows the formation pattern of the recessed part in the protective layer of a holding material, (A) shows the holding material of embodiment, and the formation pattern formed so that a circular recessed part may disperse | distribute uniformly, (B) is The holding material of another aspect is shown, and the formation pattern in which a grid-like groove is formed as a recess, and (C) shows the holding material of another aspect and the formation pattern in which a concentric groove is formed as a recess. . 保持材の被研磨物保持性を評価するときの保持材および被研磨物の位置関係を模式的に示し、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は断面図である。The positional relationship of a holding material and a to-be-polished object when evaluating the to-be-polished object holding | maintenance property of a holding material is shown typically, (A) is a top view, (B) is sectional drawing.

以下、図面を参照して、本発明を適用した保持材の実施の形態について説明する。 Embodiments of a holding material to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.

＜構成＞
本実施形態の保持材１０は、図１に示すように、湿式凝固法により作製されたポリウレタン樹脂（軟質樹脂）製の樹脂シートとしてのポリウレタンシート２と、ポリウレタンシート２の表面に配置された保護層５とを備えている。 <Configuration>
As shown in FIG. 1, the holding material 10 of the present embodiment includes a polyurethane sheet 2 as a polyurethane resin (soft resin) resin sheet manufactured by a wet coagulation method, and a protection disposed on the surface of the polyurethane sheet 2. Layer 5.

ポリウレタンシート２は、湿式凝固法による作製時に形成され表面平坦性を有するスキン層２ａと、スキン層２ａより内部側に形成されたナップ層２ｂとを有している。ナップ層２ｂには、ポリウレタンシート２の厚み方向（図１の縦方向）に沿って縦長で丸みを帯びた円錐状（断面縦長三角状）の多数のセル（気孔）３が略均等に分散した状態で形成されている。セル３の縦長方向の長さは、ポリウレタンシート２の厚みの範囲でバラツキを有している。スキン層２ａの近傍では、長さの小さい多数のセル３が形成された微細セル構造を形成している。セル３は、スキン層２ａ側の孔径がスキン層２ａと反対の面側（以下、スキン層２ａと反対の面を裏面と呼称する。）の孔径より小さく形成されている。すなわち、セル３はスキン層２ａ側が裏面側より縮径されている。セル３の間のポリウレタン樹脂は、セル３より小さい孔径の多数の図示しない微細孔が形成されたマイクロポーラス状に形成されている。スキン層２ａ、セル３、図示しない微細孔が不図示の連通孔で網目状に連通しており、ポリウレタンシート２が全体として連続セル構造を有するものとなる。ポリウレタンシート２の厚みは、２００〜２０００μｍの範囲で調整することができ、本例では、８００μｍに調整されている。 The polyurethane sheet 2 has a skin layer 2a formed at the time of production by a wet coagulation method and having surface flatness, and a nap layer 2b formed on the inner side from the skin layer 2a. In the nap layer 2b, a large number of cells (pores) 3 having a vertically long and rounded conical shape (longitudinal triangular shape in cross section) along the thickness direction (vertical direction in FIG. 1) of the polyurethane sheet 2 are dispersed substantially evenly. It is formed in a state. The length in the longitudinal direction of the cell 3 varies within the range of the thickness of the polyurethane sheet 2. In the vicinity of the skin layer 2a, a fine cell structure is formed in which a large number of cells 3 having a small length are formed. The cell 3 is formed such that the pore diameter on the skin layer 2a side is smaller than the pore diameter on the surface side opposite to the skin layer 2a (hereinafter, the surface opposite to the skin layer 2a is referred to as the back surface). That is, the diameter of the cell 3 is reduced on the skin layer 2a side from the back side. The polyurethane resin between the cells 3 is formed in a microporous shape in which a large number of micropores (not shown) having a pore diameter smaller than that of the cells 3 are formed. The skin layer 2a, the cells 3 and the fine holes (not shown) communicate with each other in a mesh shape through communication holes (not shown), and the polyurethane sheet 2 has a continuous cell structure as a whole. The thickness of the polyurethane sheet 2 can be adjusted in the range of 200 to 2000 μm, and is adjusted to 800 μm in this example.

また、スキン層２ａの表面に配置された保護層５は、ポリウレタンシート２を形成するポリウレタン樹脂と比べて耐酸性および耐アルカリ性の大きな樹脂で形成されている。耐酸性としては、保護層５を形成する樹脂を、液温が５０℃でｐＨ１．５の塩酸水溶液に３週間浸漬した後の引張強度をＡ１とし、当該塩酸水溶液に浸漬する前の引張強度をＢ１としたときに、１００×Ａ１／Ｂ１で表される引張強度保持率が８０％以上を示す。一方、耐アルカリ性としては、液温が５０℃でｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液に１週間浸漬した後の引張強度をＡ２とし、当該水酸化ナトリウム水溶液に浸漬する前の引張強度をＢ２としたときに、１００×Ａ２／Ｂ２で表される引張強度保持率が８０％以上を示す。このような樹脂としては、ゴム材等のエラストマを挙げることができ、具体的には、シリコーンゴム、フッ素ゴム、塩素化ポリエチレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム、エピクロロヒドリンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、水素化アクリロニトリル−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴムから選択される少なくとも１種を用いることができる。本例では、保護層５の樹脂として、クロロプレンゴムが用いられている。耐酸性、耐アルカリ性に優れた保護層５がスキン層２ａの表面に配置されたことで、保護層５がスキン層２ａを保護する機能を果たすこととなる。 In addition, the protective layer 5 disposed on the surface of the skin layer 2 a is formed of a resin having higher acid resistance and alkali resistance than the polyurethane resin forming the polyurethane sheet 2. For acid resistance, the tensile strength after immersing the resin forming the protective layer 5 in a hydrochloric acid aqueous solution having a liquid temperature of 50 ° C. and a pH of 1.5 for 3 weeks is defined as A1, and the tensile strength before immersing in the aqueous hydrochloric acid solution is defined as A1. When B1, the tensile strength retention represented by 100 × A1 / B1 is 80% or more. On the other hand, as alkali resistance, when the liquid temperature is 50 ° C. and the tensile strength after immersion in a sodium hydroxide aqueous solution of pH 13 for 1 week is A2, and the tensile strength before immersion in the aqueous sodium hydroxide solution is B2, , 100 × A2 / B2 represents a tensile strength retention of 80% or more. Examples of such resins include elastomers such as rubber materials, and specifically, silicone rubber, fluorine rubber, chlorinated polyethylene rubber, chlorosulfonated polyethylene rubber, epichlorohydrin rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, At least one selected from hydrogenated acrylonitrile-butadiene rubber, ethylene-propylene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, styrene-butadiene rubber, and butadiene rubber can be used. In this example, chloroprene rubber is used as the resin for the protective layer 5. Since the protective layer 5 excellent in acid resistance and alkali resistance is disposed on the surface of the skin layer 2a, the protective layer 5 functions to protect the skin layer 2a.

保護層５は、湿式凝固法によるポリウレタンシート２の作製後にスキン層２ａの表面を覆うように形成されている。保護層５の表面が被研磨物を保持するための保持面Ｓを形成している。保護層５には、この保護層５の厚み分を貫通するように凹部５ａが形成されている。すなわち、保護層５がスキン層２ａの表面に形成されているため、スキン層２ａの表面が部分的に露出している。また、スキン層２ａが湿式凝固法により形成されたまま残されていることで、ナップ層２ｂに形成されたセル３は、保持面Ｓや凹部５ａの位置で開孔を形成していない。保護層５の厚みは、１〜１００μｍの範囲で形成することができ、本例では、５０μｍに調整されている。 The protective layer 5 is formed so as to cover the surface of the skin layer 2a after the production of the polyurethane sheet 2 by the wet coagulation method. The surface of the protective layer 5 forms a holding surface S for holding an object to be polished. In the protective layer 5, a recess 5 a is formed so as to penetrate the thickness of the protective layer 5. That is, since the protective layer 5 is formed on the surface of the skin layer 2a, the surface of the skin layer 2a is partially exposed. Further, since the skin layer 2a is left as it is formed by the wet coagulation method, the cell 3 formed in the nap layer 2b does not form a hole at the position of the holding surface S or the recess 5a. The thickness of the protective layer 5 can be formed in the range of 1 to 100 μm, and is adjusted to 50 μm in this example.

保護層５に形成された凹部５ａは、穴または溝として形成することができるが、本例では、円形状の穴として形成されている。すなわち、図２（Ａ）に示すように、本例では、円形状の凹部５ａが均等に分散するように形成されている。凹部５ａの大きさは、直径２ｍｍ以下で調整することができる。また、凹部５ａは、保持面Ｓに１〜２５０個／ｃｍ^２の割合で形成されている。保護層５がスキン層２ａの表面を覆うように形成されているものの、凹部５ａが形成されたことで、保護層５の形成された面積のスキン層２ａの表面の全面積に対する割合を示す被覆率を５０〜９９％の範囲で調整することができる。例えば、直径１．５ｍｍの円形状の凹部５ａを３個／ｃｍ^２の割合で形成すれば、被覆率が約９５％となる。 The recess 5a formed in the protective layer 5 can be formed as a hole or a groove, but in this example, it is formed as a circular hole. That is, as shown in FIG. 2A, in this example, the circular concave portions 5a are formed so as to be evenly dispersed. The size of the recess 5a can be adjusted with a diameter of 2 mm or less. The recess 5a is formed at a rate of 1 to 250 pieces / cm ² on the holding surface S. Although the protective layer 5 is formed so as to cover the surface of the skin layer 2a, the coating showing the ratio of the area where the protective layer 5 is formed to the total area of the surface of the skin layer 2a due to the formation of the recess 5a. The rate can be adjusted in the range of 50-99%. For example, if the circular concave portions 5a having a diameter of 1.5 mm are formed at a rate of 3 pieces / cm ² , the coverage is about 95%.

また、保持材１０では、ポリウレタンシート２の裏面側に両面テープ７が貼り合わされている。両面テープ７は、可撓性を有する樹脂製フィルム等の基材を有している。基材としては、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略記する。）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等を用いることができるが、本例では、ＰＥＴ製フィルムが用いられている。基材は、両面にそれぞれ粘着剤が塗布された粘着剤層（不図示）を有している。粘着剤層の粘着剤には、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系等の粘着剤を用いることができるが、本例では、アクリル系粘着剤が用いられている。両面テープ７は、一面側の粘着剤層を介してポリウレタンシート２の裏面側と貼り合わされており、他面側の粘着剤層が剥離紙８で覆われている。なお、本例では、両面テープ７の基材が保持材１０の全体を支持する機能も兼ねている。 In the holding material 10, the double-sided tape 7 is bonded to the back side of the polyurethane sheet 2. The double-sided tape 7 has a base material such as a resin film having flexibility. As the substrate, polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET), polyethylene (PE), polypropylene (PP), or the like can be used. In this example, a PET film is used. The base material has an adhesive layer (not shown) in which an adhesive is applied to both sides. As the pressure-sensitive adhesive for the pressure-sensitive adhesive layer, acrylic-based, urethane-based, and epoxy-based pressure-sensitive adhesives can be used. In this example, an acrylic pressure-sensitive adhesive is used. The double-sided tape 7 is bonded to the back surface side of the polyurethane sheet 2 via an adhesive layer on one side, and the adhesive layer on the other side is covered with a release paper 8. In this example, the base material of the double-sided tape 7 also functions to support the entire holding material 10.

＜製造＞
保持材１０は、湿式凝固法により作製したポリウレタン樹脂製のシートのスキン層２ａ側に保護層５、凹部５ａを形成し、両面テープ７と貼り合わせることで製造される。すなわち、ポリウレタン樹脂を溶解させた樹脂溶液を準備する準備工程、水系凝固液中で樹脂溶液を凝固させてシート状のポリウレタン樹脂を形成するシート形成工程、ポリウレタン樹脂を洗浄し乾燥させる洗浄・乾燥工程、スキン層２ａ側に水性クロロプレンゴムエマルションを塗工して保護層５、凹部５ａを形成する被覆工程、両面テープと貼り合わせるラミネート工程を経て保持材１０を製造する。以下、工程順に説明する。 <Manufacturing>
The holding material 10 is manufactured by forming a protective layer 5 and a recess 5a on the skin layer 2a side of a polyurethane resin sheet produced by a wet coagulation method, and bonding the double-sided tape 7 together. That is, a preparation process for preparing a resin solution in which a polyurethane resin is dissolved, a sheet formation process for coagulating the resin solution in an aqueous coagulation liquid to form a sheet-like polyurethane resin, and a washing / drying process for washing and drying the polyurethane resin Then, the holding material 10 is manufactured through a protective layer 5, a covering step for forming the recess 5 a by applying an aqueous chloroprene rubber emulsion on the skin layer 2 a side, and a laminating step for bonding to the double-sided tape. Hereinafter, it demonstrates in order of a process.

準備工程では、ポリウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂を溶解可能な水混和性の有機溶媒および添加剤を混合してポリウレタン樹脂を溶解させる。有機溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略記する。）やＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）等を用いることができるが、本例では、ＤＭＦを用いる。ポリウレタン樹脂には、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系等の樹脂から、１００％モジュラスが２０ＭＰａ以下のものを選択して用い、例えば、ポリウレタン樹脂が３０質量％（ｗｔ％）となるようにＤＭＦに溶解させる。添加剤としては、セル３の大きさや量（個数）を制御するカーボンブラック等の顔料、セル形成を促進させる親水性活性剤およびポリウレタン樹脂の再生を安定化させる疎水性活性剤等を用いることができる。得られた溶液を減圧下で脱泡し樹脂溶液を調製する。 In the preparation step, the polyurethane resin is dissolved by mixing the polyurethane resin, a water-miscible organic solvent capable of dissolving the polyurethane resin, and an additive. As the organic solvent, N, N-dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), or the like can be used. In this example, DMF is used. As the polyurethane resin, a polyester resin, a polyether resin, a polycarbonate resin or the like having a 100% modulus of 20 MPa or less is selected and used, for example, DMF so that the polyurethane resin is 30% by mass (wt%). Dissolve in. As the additive, a pigment such as carbon black for controlling the size and amount (number) of the cells 3, a hydrophilic activator for promoting cell formation, a hydrophobic activator for stabilizing regeneration of the polyurethane resin, and the like are used. it can. The obtained solution is degassed under reduced pressure to prepare a resin solution.

シート形成工程では、準備工程で準備した樹脂溶液を成膜基材に連続的に塗布し、水系凝固液中で樹脂溶液を凝固させてシート状のポリウレタン樹脂を形成する。樹脂溶液を、塗布装置により常温下で帯状の成膜基材に均一な厚さとなるように塗布する。塗布装置として、本例では、ナイフコータを用い、ナイフコータと成膜基材との間隙（クリアランス）を調整することで、樹脂溶液の塗布厚み（塗布量）を調整する。本例では、得られるポリウレタンシートの厚みを上述した範囲とするため、塗布厚みを５００〜２０００μｍの範囲に調整する。成膜基材には、可撓性フィルム、不織布、織布等を用いることができるが、本例では、成膜基材をＰＥＴ製フィルムとして説明する。 In the sheet forming step, the resin solution prepared in the preparation step is continuously applied to the film forming substrate, and the resin solution is solidified in an aqueous coagulating liquid to form a sheet-like polyurethane resin. The resin solution is applied to the band-shaped film-forming substrate at a normal temperature by a coating apparatus so as to have a uniform thickness. In this example, a knife coater is used as the coating apparatus, and the coating thickness (coating amount) of the resin solution is adjusted by adjusting the gap (clearance) between the knife coater and the film forming substrate. In this example, in order to make the thickness of the polyurethane sheet obtained into the above-mentioned range, the coating thickness is adjusted to a range of 500 to 2000 μm. Although a flexible film, a nonwoven fabric, a woven fabric, or the like can be used as the film forming substrate, in this example, the film forming substrate is described as a PET film.

成膜基材に塗布された樹脂溶液を、ポリウレタン樹脂に対して貧溶媒である水を主成分とする凝固液（水系凝固液）中に案内する。凝固液としては、水にＤＭＦやＤＭＡｃ等の有機溶媒を混合しておくこともできるが、本例では、水を用いる。凝固液中では、まず、塗布された樹脂溶液の表面側にスキン層２ａが厚さ数μｍ程度にわたって形成される。その後、樹脂溶液中のＤＭＦと凝固液（水）との置換の進行によりナップ層２ｂが形成されポリウレタン樹脂がシート状に再生する。ＤＭＦが樹脂溶液から脱溶媒し、ＤＭＦと凝固液とが置換することにより、スキン層２ａより内側のポリウレタン樹脂中にセル３および図示しない微細孔が形成され、スキン層２ａ、セル３、図示しない微細孔が網目状に連通した連続セル構造が形成される。このとき、成膜基材のＰＥＴ製フィルムが水を浸透させないため、樹脂溶液の表面側（スキン層２ａ側）で脱溶媒が生じて成膜基材側が表面側より大きなセル３が形成される。 The resin solution applied to the film forming substrate is guided into a coagulating liquid (water-based coagulating liquid) whose main component is water, which is a poor solvent for the polyurethane resin. As the coagulation liquid, an organic solvent such as DMF or DMAc can be mixed with water, but in this example, water is used. In the coagulation liquid, first, the skin layer 2a is formed on the surface side of the applied resin solution over a thickness of about several μm. Thereafter, the nap layer 2b is formed by the progress of substitution between the DMF in the resin solution and the coagulating liquid (water), and the polyurethane resin is regenerated into a sheet shape. When the DMF is desolvated from the resin solution and the DMF and the coagulating liquid are replaced, the cells 3 and fine pores (not shown) are formed in the polyurethane resin inside the skin layer 2a, and the skin layers 2a and 3 are not shown. A continuous cell structure is formed in which the micropores are connected in a network. At this time, since the PET film of the film formation substrate does not permeate water, desolvation occurs on the surface side (skin layer 2a side) of the resin solution, and cells 3 having a larger film formation substrate side than the surface side are formed. .

洗浄・乾燥工程では、再生した帯状（長尺シート状）のポリウレタン樹脂を洗浄した後乾燥させる。すなわち、ポリウレタン樹脂を、成膜基材から剥離した後、水等の洗浄液中で洗浄してポリウレタン樹脂中に残留するＤＭＦを除去する。洗浄後、本例では、内部に熱源を有するシリンダを備えたシリンダ乾燥機を使用しポリウレタン樹脂を乾燥させる。ポリウレタン樹脂がシリンダの周面に沿って通過することで乾燥しポリウレタンシート２が得られる。 In the washing / drying step, the regenerated band-like (long sheet-like) polyurethane resin is washed and dried. That is, after the polyurethane resin is peeled from the film forming substrate, it is washed in a cleaning solution such as water to remove DMF remaining in the polyurethane resin. After washing, in this example, the polyurethane resin is dried using a cylinder dryer provided with a cylinder having a heat source inside. When the polyurethane resin passes along the peripheral surface of the cylinder, the polyurethane sheet 2 is obtained by drying.

保護層５を形成するときは、本例では、スクリーン印刷機を使用したスクリーン印刷の手法を用いる。換言すれば、保護層５は、ポリウレタンシート２のスキン層２ａ上にスクリーン印刷されたものである。具体的には、凹部５ａの形成パターンに合わせてホールパターンを形成した版を、乾燥後のポリウレタンシート２のスキン層２ａ側の表面に載置する。水性クロロプレンゴムエマルションを版に注ぎ込みスキージで一様な厚みとなるように延ばす。加熱雰囲気下で溶媒を除去することでクロロプレンゴム製の保護層５が形成され、保護層５に凹部５ａが形成される。なお、保護層５の厚みは、版の厚さ、樹脂濃度で調整することができる。 When forming the protective layer 5, in this example, a screen printing method using a screen printer is used. In other words, the protective layer 5 is screen-printed on the skin layer 2 a of the polyurethane sheet 2. Specifically, a plate in which a hole pattern is formed in accordance with the formation pattern of the recess 5a is placed on the surface of the dried polyurethane sheet 2 on the skin layer 2a side. Aqueous chloroprene rubber emulsion is poured into the plate and stretched to a uniform thickness with a squeegee. By removing the solvent under a heating atmosphere, the protective layer 5 made of chloroprene rubber is formed, and the concave portion 5 a is formed in the protective layer 5. The thickness of the protective layer 5 can be adjusted by the thickness of the plate and the resin concentration.

ラミネート工程では、ポリウレタンシート２の保護層５と反対の面、つまり裏面側と、両面テープ７とを貼り合わせる。このとき、両面テープ７の一面側の粘着剤層と、ポリウレタンシート２の裏面側とを貼り合わせる。ポリウレタンシート２および両面テープ７を貼り合わせた後、所望のサイズ、形状に裁断する。そして、キズや汚れ、異物等の付着がないことを確認する等の検査を行い、保持材１０を完成させる。 In the laminating step, the surface opposite to the protective layer 5 of the polyurethane sheet 2, that is, the back surface side, and the double-sided tape 7 are bonded together. At this time, the pressure-sensitive adhesive layer on one side of the double-sided tape 7 and the back side of the polyurethane sheet 2 are bonded together. After the polyurethane sheet 2 and the double-sided tape 7 are bonded together, the sheet is cut into a desired size and shape. Then, an inspection such as confirming that there is no adhesion of scratches, dirt, foreign matter, etc. is performed, and the holding material 10 is completed.

保持材１０を用いて被研磨物の研磨加工を行うときは、例えば、保持用定盤および研磨用定盤が対向するように配置された片面研磨機が使用される。保持用定盤には保持材１０を貼着し、研磨用定盤には研磨パッドを装着する。保持用定盤に保持材１０を貼着するときは、剥離紙８を取り除き露出した粘着剤層で貼着する。被研磨物を保持させるときは、保持面Ｓに被研磨物を当接させ保持用定盤側に押し付ける。被研磨物は保持材１０を介して保持用定盤に保持されることとなる。被研磨物の加工面と研磨パッドとの間に研磨粒子を含む研磨液を循環供給するとともに、被研磨物に研磨圧をかけながら保持用定盤ないし研磨用定盤を回転させることで、被研磨物（加工面）を研磨加工する。 When polishing an object to be polished using the holding material 10, for example, a single-side polishing machine arranged so that the holding surface plate and the polishing surface plate face each other is used. A holding material 10 is attached to the holding surface plate, and a polishing pad is attached to the polishing surface plate. When the holding material 10 is attached to the holding surface plate, the release paper 8 is removed and the exposed adhesive layer is attached. When holding an object to be polished, the object to be polished is brought into contact with the holding surface S and pressed against the holding platen side. The object to be polished is held on the holding surface plate via the holding material 10. A polishing liquid containing abrasive particles is circulated and supplied between the processing surface of the object to be polished and the polishing pad, and the holding surface plate or polishing surface plate is rotated while applying polishing pressure to the object to be polished. Polish the polished object (processed surface).

＜作用等＞
次に、本実施形態の保持材１０の作用等について説明する。 <Action etc.>
Next, the operation and the like of the holding material 10 of the present embodiment will be described.

本実施形態では、ポリウレタンシート２のスキン層２ａの表面に保護層５が形成されている。保護層５では、ポリウレタン樹脂より耐酸性、耐アルカリ性の大きなクロロプレンゴムが用いられている。保護層５を形成するクロロプレンゴムがポリウレタンシート２と比べて耐酸性、耐アルカリ性に優れるため、保護層５には凹部５ａが形成されているものの、研磨加工時に研磨液と接触したときに保護層５によりスキン層２ａの全体として劣化を抑制しスキン層２ａを保護することができる。保護層５を有していない従来の保持材では、スキン層表面が酸性やアルカリ性の研磨液との接触により劣化することでポリウレタンシート内に研磨液が急激に浸入し、被研磨物の脱落や破損、さらには、ポリウレタンシートと両面テープとの剥離を招くことがあった。これに対して、保持材１０では、スキン層２ａの表面が保護層５で保護されるため、ポリウレタンシート２内に研磨液が浸入しにくくなり、長時間にわたり安定した被研磨物保持性を確保することができる。 In the present embodiment, the protective layer 5 is formed on the surface of the skin layer 2 a of the polyurethane sheet 2. In the protective layer 5, chloroprene rubber having higher acid resistance and alkali resistance than polyurethane resin is used. Since the chloroprene rubber forming the protective layer 5 is superior in acid resistance and alkali resistance compared to the polyurethane sheet 2, the protective layer 5 has a recess 5 a, but the protective layer is in contact with the polishing liquid during polishing. 5 can suppress the deterioration of the skin layer 2a as a whole and protect the skin layer 2a. In the conventional holding material that does not have the protective layer 5, the surface of the skin layer deteriorates due to contact with an acidic or alkaline polishing liquid, so that the polishing liquid rapidly infiltrates into the polyurethane sheet, and the object to be polished may fall off. There was a case where breakage and further peeling of the polyurethane sheet and the double-sided tape were caused. On the other hand, in the holding material 10, since the surface of the skin layer 2a is protected by the protective layer 5, it becomes difficult for the polishing liquid to enter the polyurethane sheet 2, and the stable holding property of the object to be polished is ensured for a long time. can do.

また、保護層５には、保持面Ｓ内で円形状の凹部５ａが均等となるように形成されている。このため、被研磨物を保持させるときに被研磨物および保持材１０間でエアの咬み込みが生じても、凹部５ａにより保持面Ｓと被研磨物との間でのエアの貯留を抑制することができる。これにより、被研磨物を平坦に保持することができ、研磨加工による被研磨物の平坦性向上を図ることができる。このような保持材１０では、スキン層２ａの表面にクロロプレンゴムの保護層５が形成されたことで、保持面Ｓでの剛性が高まり被研磨物に対する密着力、換言すれば保持力が制限される。これにより、面積が１０，０００ｃｍ^２以上の大型被研磨物の研磨加工においても、被研磨物に対する最低限の保持力を確保しながら、被研磨物の着脱を容易にすることができ、被研磨物の撓みによる損傷を抑制することができる。さらには、被研磨物の損傷が抑制されることで、被研磨物の損傷に伴う研磨機の停止を減少させることができ、研磨加工の効率向上を図ることができる。 Further, the protective layer 5 is formed so that the circular recesses 5 a are uniform in the holding surface S. For this reason, even if air biting occurs between the object to be polished and the holding material 10 when holding the object to be polished, the recess 5a suppresses the storage of air between the holding surface S and the object to be polished. be able to. As a result, the object to be polished can be held flat, and the flatness of the object to be polished can be improved by polishing. In such a holding material 10, since the protective layer 5 of chloroprene rubber is formed on the surface of the skin layer 2a, the rigidity on the holding surface S is increased and the adhesion to the object to be polished, in other words, the holding force is limited. The As a result, even when polishing a large-sized workpiece having an area of 10,000 cm ² or more, it is possible to easily attach and detach the workpiece while ensuring a minimum holding force for the workpiece. Damage due to bending of an object can be suppressed. Furthermore, since the damage to the object to be polished is suppressed, the stoppage of the polishing machine due to the damage to the object to be polished can be reduced, and the efficiency of the polishing process can be improved.

更に、本実施形態では、保持材１０を構成するポリウレタンシート２内への研磨液の急激な浸入が抑制されるため、ポリウレタンシート２と両面テープ７との剥離を抑制することができる。このため、被研磨物保持性が安定化されることから、被研磨物に対する研磨ムラの発生を抑制することができる。また、被研磨物を保持したときでも、凹部５ａの位置で部分的に露出したスキン層２ａの表面と被研磨物とが直接接触することが抑制されるため、スキン層２ａ表面の損傷を抑制することができる。 Furthermore, in this embodiment, since the rapid penetration | invasion of the polishing liquid into the polyurethane sheet 2 which comprises the holding material 10 is suppressed, peeling with the polyurethane sheet 2 and the double-sided tape 7 can be suppressed. For this reason, since the retainability of the object to be polished is stabilized, the occurrence of uneven polishing on the object to be polished can be suppressed. Further, even when the object to be polished is held, since the surface of the object to be polished and the surface of the skin layer 2a partially exposed at the position of the recess 5a are suppressed, damage to the surface of the skin layer 2a is suppressed. can do.

なお、本実施形態では、保護層５を形成する樹脂として耐酸性および耐アルカリ性に優れるクロロプレンゴムを例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。ポリウレタンシート２を形成するポリウレタン樹脂と比べて、耐酸性ないし耐アルカリ性の大きな材料であれば、いずれの材料も使用することができる。すなわち、耐酸性および耐アルカリ性のいずれかを有していればよく、酸性またはアルカリ性の研磨液にあわせて選定すればよい。このような材料としては、シリコーンゴム、フッ素ゴム、塩素化ポリエチレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム、エピクロロヒドリンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、水素化アクリロニトリル−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴムから選択される少なくとも１種を挙げることができる。 In the present embodiment, chloroprene rubber having excellent acid resistance and alkali resistance is exemplified as the resin forming the protective layer 5, but the present invention is not limited to this. Any material can be used as long as it has a higher acid resistance or alkali resistance than the polyurethane resin forming the polyurethane sheet 2. That is, it is only necessary to have either acid resistance or alkali resistance, and it may be selected according to an acidic or alkaline polishing liquid. Such materials include silicone rubber, fluorine rubber, chlorinated polyethylene rubber, chlorosulfonated polyethylene rubber, epichlorohydrin rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, hydrogenated acrylonitrile-butadiene rubber, ethylene-propylene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber. , At least one selected from styrene-butadiene rubber and butadiene rubber.

また、本実施形態では、保護層５のスキン層２ａに対する被覆率を５０〜９９％の範囲に調整する例を示したが、本発明はこれに制限されるものではない。被覆率が５０％を下回ると、凹部５ａの位置で露出したスキン層２ａの表面と被研磨物とが接触することがあり、保護層５のスキン層２ａに対する保護機能が不十分となる。反対に、被覆率が９９％を上回ると、被研磨物を保持させるときに、保持面Ｓと被研磨物との間に咬み込まれたエアを除去することが難しくなり、エアの貯留を招くため、研磨加工による被研磨物の平坦性向上を阻害することとなる。また、保持面Ｓと被研磨物との接触面積が大きくなるため、被研磨物を取り外すときに被研磨物の損傷を招くこともある。従って、スキン層２ａの保護やエアの除去を考慮すれば、被覆率を５０〜９９％の範囲とすることが好ましい。 In the present embodiment, the example in which the coverage of the protective layer 5 on the skin layer 2a is adjusted to a range of 50 to 99% is shown, but the present invention is not limited to this. When the coverage is less than 50%, the surface of the skin layer 2a exposed at the position of the recess 5a may come into contact with the object to be polished, and the protective function of the protective layer 5 with respect to the skin layer 2a becomes insufficient. On the other hand, when the coverage ratio exceeds 99%, it becomes difficult to remove the air bitten between the holding surface S and the object to be polished when the object to be polished is held, and the air is stored. Therefore, the improvement in flatness of the object to be polished by the polishing process is hindered. Further, since the contact area between the holding surface S and the object to be polished becomes large, the object to be polished may be damaged when the object to be polished is removed. Therefore, in consideration of protection of the skin layer 2a and air removal, the coverage is preferably in the range of 50 to 99%.

更に、本実施形態では、凹部５ａを直径２ｍｍ以下の円形状とする例を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図２（Ｂ）に示すように、格子状の溝が形成された形成パターンとしてもよく、図２（Ｃ）に示すように、同心円状の溝が形成された形成パターンとしてもよい。このような溝が形成された形成パターン、換言すれば、保護層５を形成する水性クロロプレンゴムエマルションの塗工されない部分が連続して形成されたパターンでは、研磨加工中に被研磨物に対する保持性が低下する可能性がある。従って、被研磨物保持性を考慮すれば、上述した円形状の凹部５ａが分散するように形成されていることが好ましい。 Furthermore, in this embodiment, although the example which makes the recessed part 5a circular shape with a diameter of 2 mm or less was shown, this invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 2B, a formation pattern in which lattice-like grooves are formed may be used, or as shown in FIG. 2C, a formation pattern in which concentric grooves are formed may be used. In the formation pattern in which such grooves are formed, in other words, in the pattern in which the non-coated portion of the aqueous chloroprene rubber emulsion forming the protective layer 5 is continuously formed, the retainability to the object to be polished during the polishing process May be reduced. Therefore, in consideration of retention of the object to be polished, it is preferable that the circular concave portions 5a described above are formed so as to be dispersed.

また更に、本実施形態では、保護層５の厚みを１〜１００μｍの範囲とする例を示したが、本発明はこれに制限されるものではない。保護層５の厚みが１μｍに満たないとスキン層２ａの表面を保護するためには不十分であり、反対に、１００μｍを超えると保護層５自体の剛性が高くなりすぎるため、被研磨物に対する密着性を確保することができなくなる。換言すれば、保護層５の厚みが保持面Ｓでの剛性に影響するため、被研磨物の大きさに合わせて保護層５の厚みを調整すればよい。例えば、保護層５の厚みを大きくした場合、剛性が高くなり大型の被研磨物には適しているものの、小型（小径）の被研磨物では保持性の低下を招くことがある。また、保護層５の厚みが１００μｍを超える場合は、３ｍ級の大型被研磨物でも研磨加工中に保持材から脱落する可能性がある。従って、スキン層２ａの保護や被研磨物に対する密着性を考慮すれば、保護層５の厚みを上述した範囲とすることが好ましい。 Furthermore, in this embodiment, although the example which makes the thickness of the protective layer 5 the range of 1-100 micrometers was shown, this invention is not restrict | limited to this. If the thickness of the protective layer 5 is less than 1 μm, it is insufficient to protect the surface of the skin layer 2a. On the contrary, if the thickness exceeds 100 μm, the rigidity of the protective layer 5 itself becomes too high. Adhesion cannot be ensured. In other words, since the thickness of the protective layer 5 affects the rigidity of the holding surface S, the thickness of the protective layer 5 may be adjusted according to the size of the object to be polished. For example, when the thickness of the protective layer 5 is increased, the rigidity becomes high and suitable for a large object to be polished, but a small (small diameter) object to be polished may cause a decrease in retention. Moreover, when the thickness of the protective layer 5 exceeds 100 micrometers, even a 3 m class large-sized to-be-polished object may fall out from a holding material during grinding | polishing process. Therefore, considering the protection of the skin layer 2a and the adhesion to the object to be polished, the thickness of the protective layer 5 is preferably set in the above-described range.

更にまた、本実施形態では、保護層５、凹部５ａの形成にスクリーン印刷機を使用する例を示したが、本発明はこれに制限されるものではない。一様な厚みとなるように保護層５を形成し、スキン層２ａの表面を部分的に露出させるように凹部５ａを形成することができる方法であれば、いかなる方法を採用するようにしてもよい。このような方法として、例えば、グラビア印刷の手法による転写法を挙げることができる。 Furthermore, in this embodiment, although the example which uses a screen printer for formation of the protective layer 5 and the recessed part 5a was shown, this invention is not restrict | limited to this. Any method may be adopted as long as the protective layer 5 is formed to have a uniform thickness and the concave portion 5a can be formed so as to partially expose the surface of the skin layer 2a. Good. An example of such a method is a transfer method using a gravure printing technique.

また、本実施形態では、ポリウレタン樹脂製のポリウレタンシート２を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、ポリエチレン樹脂等を用いてもよく、湿式凝固法によりスキン層が形成されたセル構造を有するものであればよい。更に付言すれば、軟質樹脂については、日本工業規格（ＪＩＳＫ６９００−１９９４プラスチック−用語）に、「指定条件のもとで、曲げ試験、またはそれが適用できない場合には引張試験における弾性率が、７０ＭＰａより大きくないプラスチック」と定められていることから、この条件を満たすものであればよい。 Moreover, in this embodiment, although the polyurethane sheet 2 made from a polyurethane resin was illustrated, this invention is not limited to this. For example, a polyethylene resin or the like may be used as long as it has a cell structure in which a skin layer is formed by a wet coagulation method. In addition, for soft resins, the Japanese Industrial Standard (JIS K6900-1994 Plastic-Terminology) states, “Under specified conditions, the elastic modulus in the bending test, or if it is not applicable, the tensile test, Since it is defined as “plastic not larger than 70 MPa”, any material satisfying this condition may be used.

更に、本実施形態では特に言及していないが、ポリウレタンシート２の厚みの均一化を図るために、ポリウレタンシート２のスキン層２ａと反対の面、つまり裏面側にバフ処理やスライス処理等を施すようにしてもよい。例えば、バフ処理を行うときは、乾燥後の成膜樹脂のスキン層２ａ側の表面に、表面が平坦な圧接治具を圧接し、裏面側に出現した凹凸をバフ処理等で除去すればよい。 Further, although not particularly mentioned in the present embodiment, in order to make the thickness of the polyurethane sheet 2 uniform, a buffing process, a slicing process, or the like is performed on the surface opposite to the skin layer 2a of the polyurethane sheet 2, that is, the back surface side. You may do it. For example, when buffing is performed, a pressure welding jig having a flat surface is pressed against the surface of the film-forming resin after drying on the skin layer 2a side, and irregularities appearing on the back side may be removed by buffing or the like. .

次に、本実施形態に従い製造した保持材１０の実施例について説明する。なお、比較のために製造した比較例の保持材についても併記する。 Next, examples of the holding material 10 manufactured according to the present embodiment will be described. In addition, it describes together about the holding material of the comparative example manufactured for the comparison.

（実施例１）
実施例１では、湿式凝固法により厚み８００μｍのポリウレタンシート２を形成し、スキン層２ａの表面に水性クロロプレンゴムエマルションを塗工し厚み５０μｍの保護層５を形成した。この保護層５には、直径１．５ｍｍで、保持面Ｓ側に１０個／ｃｍ^２の割合で凹部５ａを形成し保持材１０を製造した。この保持材１０では、保護層５の被覆率が約８２％となる。 Example 1
In Example 1, a polyurethane sheet 2 having a thickness of 800 μm was formed by a wet coagulation method, and an aqueous chloroprene rubber emulsion was applied to the surface of the skin layer 2a to form a protective layer 5 having a thickness of 50 μm. The protective layer 5 has a diameter of 1.5 mm, and the concave portions 5a are formed on the holding surface S side at a rate of 10 pieces / cm ² to manufacture the holding material 10. In this holding material 10, the coverage of the protective layer 5 is about 82%.

（比較例１）
比較例１では、保護層５、凹部５ａを形成しないこと以外は実施例１と同様にして保持材を製造した。すなわち、比較例１は従来のスキン層２ａを有する保持材である。 (Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, a holding material was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the protective layer 5 and the recess 5a were not formed. That is, Comparative Example 1 is a holding material having a conventional skin layer 2a.

（評価）
各実施例および比較例の保持材について、被研磨物保持性を評価した。被研磨物保持性は、以下の方法で測定した。図３に示すように、保持材１０を表面が略平坦な定盤８１に貼付し、保持材１０の表面（保持面Ｓ）上に縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス板８２を置き、ガラス板８２に８０ｇｆ／ｃｍ^２（７８４ｍＮ／ｃｍ^２）の荷重がかかるようにおもり８３を載せた後、大型被研磨物での保持材との保持力を再現するために、灰化炉にて６０℃で２時間かけて十分に圧接することで密着性を向上させた。ガラス板８２を横（水平）方向（図３の矢印Ａ方向）に引っ張り、ガラス板８２がずれるときの引張力のピーク値（最大値）を測定した。測定は５回行い、平均値を算出して保持性を評価した。 (Evaluation)
About the holding material of each Example and a comparative example, to-be-polished material holding | maintenance property was evaluated. The retention property of the object to be polished was measured by the following method. As shown in FIG. 3, the holding material 10 is affixed to a surface plate 81 having a substantially flat surface, and a glass plate 82 of 10 cm long × 10 cm wide is placed on the surface (holding surface S) of the holding material 10. In order to reproduce the holding force with the holding material on the large-sized object to be polished at 60 ° C. in the ashing furnace after placing the weight 83 so that a load of 80 gf / cm ² (784 mN / cm ² ) is applied to Adhesion was improved by sufficiently pressing over 2 hours. The glass plate 82 was pulled in the horizontal (horizontal) direction (arrow A direction in FIG. 3), and the peak value (maximum value) of the tensile force when the glass plate 82 was displaced was measured. The measurement was performed 5 times, and the average value was calculated to evaluate the retention.

保護層５を形成していない比較例１の保持材では、５回中３回の測定で引張力が平均で８９０Ｎを示したが、２回はガラス板に破損が生じてデータの入手ができなかった。これは、比較例１の保持材ではガラス板を保持することができるものの、ガラス板と保持材との凝着力が大きすぎるため、研磨加工後の取り外し作業が難しくなり、ガラス板を損傷させたものと考えられる。これに対して、保持面Ｓ側に保護層５、凹部５ａを形成した実施例１の保持材１０では、保持性が６３８Ｎを示し、比較例１の保持材より若干小さくなり、保持性の評価後には、ガラス板を損傷させることはなかった。このことから、保持面Ｓ側に保護層５、凹部５を形成することで、保持材表面での剛性が高まり、被研磨物に対する密着性が制限されるので、ガラス板８２（研磨加工における被研磨物に相当。）を取り外す際に破損する可能性が低くなることが判明した。 In the holding material of Comparative Example 1 in which the protective layer 5 was not formed, the average tensile strength was 890 N in 3 out of 5 measurements, but the glass plate was broken twice and data could be obtained. There wasn't. This is because the holding material of Comparative Example 1 can hold the glass plate, but the adhesion force between the glass plate and the holding material is too large, so that the removal work after polishing becomes difficult and the glass plate is damaged. It is considered a thing. On the other hand, in the holding material 10 of Example 1 in which the protective layer 5 and the recess 5a are formed on the holding surface S side, the holding property is 638N, which is slightly smaller than the holding material of Comparative Example 1, and evaluation of the holding property. Later, the glass plate was not damaged. Therefore, by forming the protective layer 5 and the recess 5 on the holding surface S side, the rigidity on the surface of the holding material is increased and the adhesion to the object to be polished is limited. It was found that the possibility of breakage was reduced when removing.

本発明は被研磨物に対する保持力を確保し被研磨物の着脱を容易にすることができる保持材を提供するものであるため、保持材の製造、販売に寄与するので、産業上の利用可能性を有する。 Since the present invention provides a holding material that can secure the holding power to the object to be polished and facilitate the attachment and detachment of the object to be polished, it contributes to the manufacture and sale of the holding material. Have sex.

Ｓ保持面
２ポリウレタンシート（樹脂シート）
２ａスキン層
２ｂナップ層
３セル
５保護層
５ａ凹部
１０保持材 S Holding surface 2 Polyurethane sheet (resin sheet)
2a Skin layer 2b Nap layer 3 Cell 5 Protective layer 5a Recess 10 Holding material

Claims

A resin sheet made of a soft resin having a skin layer formed by a wet coagulation method and having a number of cells formed on the inner side of the skin layer;
A protective layer disposed on the surface of the skin layer, the surface forming a holding surface for holding an object to be polished and protecting the skin layer;
With
The protective layer is formed of a resin having a greater acid resistance or alkali resistance than the soft resin forming the resin sheet, and a hole or a groove is formed so as to partially expose the surface of the skin layer. A holding material characterized by

The holding material according to claim 1, wherein the protective layer has a coverage of 50% to 99% with respect to the surface of the skin layer.

A hole is formed in the protective layer so as to partially expose the surface of the skin layer, and the hole has a circular shape having a diameter of 2 mm or less, and is uniform in the holding surface. The holding material according to claim 2, wherein the holding material is formed.

2. The retention according to claim 1, wherein the resin constituting the protective layer has a tensile strength retention of 80% or more before and after being immersed in an aqueous sodium hydroxide solution having a liquid temperature of 50 ° C. and a pH of 13 for 1 week. Wood.

2. The retention according to claim 1, wherein the resin constituting the protective layer has a tensile strength retention of 80% or more before and after being immersed in an aqueous hydrochloric acid solution having a liquid temperature of 50 ° C. and a pH of 1.5 for 3 weeks. Wood.

2. The holding material according to claim 1, wherein a thickness of the protective layer is in a range of 1 μm to 100 μm, and a thickness of the resin sheet is in a range of 200 μm to 2000 μm.

The holding material according to claim 6, wherein the resin sheet is made of a polyurethane resin, and the resin forming the protective layer is an elastomer.