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JP5593175B2 - Sealing adhesive sheet, electronic device, and organic device - Google Patents

Sealing adhesive sheet, electronic device, and organic device Download PDF

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JP5593175B2 JP2010202306A JP2010202306A JP5593175B2 JP 5593175 B2 JP5593175 B2 JP 5593175B2 JP 2010202306 A JP2010202306 A JP 2010202306A JP 2010202306 A JP2010202306 A JP 2010202306A JP 5593175 B2 JP5593175 B2 JP 5593175B2
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Description

本発明は、封止用粘着シート、並びに、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスに関する。   The present invention relates to a sealing adhesive sheet, and an electronic device and an organic device including the sealing adhesive sheet.

近年、有機エレクトロニクスは、塗布や印刷プロセスを用いて、フレキシブルなプラスチック基板上に、室温に近い低温でディスプレイ、回路、電池等を形成できる技術として注目されており、さまざまな有機デバイス、液晶ディスプレイ、電子ペーパー、薄膜トランジスタ等の研究開発が進められている。
例えば、有機デバイスで用いられる有機EL素子は、陽極と陰極との間に有機電荷輸送層や有機発光層を積層させた有機層を設けたものであり、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。また、有機デバイスは、プラスチックフィルムを基板として用いることで、薄型化、軽量化、フレキシブル化等を実現するディスプレイとしても期待されている。
In recent years, organic electronics has been attracting attention as a technology that can form displays, circuits, batteries, etc. on flexible plastic substrates at low temperatures close to room temperature using coating and printing processes. Various organic devices, liquid crystal displays, Research and development of electronic paper, thin film transistors, etc. are underway.
For example, an organic EL element used in an organic device has an organic layer in which an organic charge transport layer or an organic light emitting layer is laminated between an anode and a cathode, and can emit light with high brightness by low voltage direct current drive. As a light emitting element, it is attracting attention. In addition, organic devices are also expected as displays that achieve a reduction in thickness, weight, flexibility, etc. by using a plastic film as a substrate.

ところで、有機EL素子は、一定時間駆動した場合、発光輝度、発光効率、発光均一性等の発光特性が初期に比べて劣化するという問題がある。この問題の原因としては、有機EL素子内に侵入した酸素や水蒸気等による電極の酸化や有機物の変性、駆動時の熱による有機材料の酸化分解等が考えられる。
また、構造体の界面が剥離する現象も頻繁に発生する。その現象は、酸素や水蒸気等の影響や、駆動時の発熱により高温下に曝されると、各構成要素の熱膨張率の違いにより構造体の界面で応力が発生することが原因と考えられる。
By the way, when the organic EL element is driven for a certain time, there is a problem that light emission characteristics such as light emission luminance, light emission efficiency, and light emission uniformity are deteriorated as compared with the initial stage. Possible causes of this problem include oxidation of the electrode due to oxygen or water vapor entering the organic EL element, modification of organic matter, oxidative decomposition of the organic material due to heat during driving, and the like.
In addition, a phenomenon that the interface of the structure peels frequently occurs. The phenomenon is thought to be caused by stress at the interface of the structure due to the difference in thermal expansion coefficient of each component when exposed to high temperature due to the influence of oxygen, water vapor, etc. or heat generated during driving. .

上記問題を解決するために、有機EL素子を封止し、酸素や水蒸気との接触を抑制するため、例えば、ガラス基板上に形成された有機EL素子に対して耐湿性を有する光硬化性樹脂で覆い、かつ光硬化性樹脂層の上部に透水性の小さい基板を固着させる方法が開示されている(特許文献1参照)。また、対向する透明基板をフリットガラスからなるシール材で封止する方法(特許文献2参照)、基板とシールド材によって気密空間を形成する際に、両者をカチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤で接着する方法(特許文献3参照)、互いに対向する2つの電極間に発光層を有する積層構造体の外表面に絶縁性無機化合物からなる保護層を設け、その保護層の外側に高分子フィルムからなるシールド層を設けることで、有機EL素子を封止すると接着層により形成された封止フィルムにより、有機EL素子を封止する方法(特許文献4参照)等が開示されている。
また、近年、有機EL素子に対して、薄型化、軽量化、フレキシブル化等を実現するために、ガラス板に代えてプラスチックフィルムを用いて封止する方法について検討されている。例えば、防湿性高分子フィルムと接着層から形成された封止フィルムを有機EL素子の外表面上に被覆する方法(特許文献5参照)や、イソブチレン樹脂を含む接着性封止用組成物フィルムにより有機EL素子を封止する方法(特許文献6参照)、有機EL素子の基板上に光硬化性樹脂層による平滑な一次膜を形成する方法(特許文献7参照)等が挙げられる。
In order to solve the above problems, for example, a photo-curing resin having moisture resistance with respect to an organic EL element formed on a glass substrate in order to seal the organic EL element and suppress contact with oxygen or water vapor. And a method of fixing a substrate with low water permeability to the upper part of the photocurable resin layer is disclosed (see Patent Document 1). Also, a method of sealing an opposing transparent substrate with a sealing material made of frit glass (see Patent Document 2), and when forming an airtight space with a substrate and a shield material, the two are bonded with a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin. A method of adhering with an agent (see Patent Document 3), a protective layer made of an insulating inorganic compound is provided on the outer surface of a laminated structure having a light emitting layer between two electrodes facing each other, and a polymer is provided outside the protective layer A method of sealing an organic EL element with a sealing film formed by an adhesive layer when the organic EL element is sealed by providing a shield layer made of a film is disclosed (see Patent Document 4).
In recent years, a method of sealing using a plastic film instead of a glass plate has been studied in order to realize reduction in thickness, weight, flexibility, and the like of an organic EL element. For example, by a method of coating a sealing film formed of a moisture-proof polymer film and an adhesive layer on the outer surface of an organic EL element (see Patent Document 5), or an adhesive sealing composition film containing an isobutylene resin Examples include a method of sealing an organic EL element (see Patent Document 6), a method of forming a smooth primary film with a photocurable resin layer on a substrate of the organic EL element (see Patent Document 7), and the like.

特開平5−182759号公報JP-A-5-182759 特開平10−74583号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-74583 特開平10−233283号公報JP-A-10-233283 特開平5−89959号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-89959 特開平5−101884号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-101884 特表2009−524705号公報Special table 2009-524705 gazette 特許第4419012号公報Japanese Patent No. 4419012

しかしながら、従来のプラスチックフィルムを用いた上記方法では、水蒸気や酸素等を透過しやすく、有機EL素子等の素子の劣化を起こしやすいという問題を有している。また、長時間の駆動や屋外での駆動環境から、高温下又は紫外線照射下に曝されるころにより、接着層自体が劣化し、それに伴い封止している有機EL素子等の素子の特性も劣化するという問題を有している。
本発明は、水蒸気透過率が非常に低く、優れたガスバリア性能を有し、紫外線照射に曝された場合においても、封止している素子の特性の劣化を抑制しうる封止用粘着シート、並びに、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスを提供することを目的とする。
However, the above-described method using a conventional plastic film has a problem that water vapor, oxygen, and the like are easily transmitted and elements such as an organic EL element are easily deteriorated. In addition, the adhesive layer itself deteriorates due to exposure to high temperature or ultraviolet irradiation from a long-time driving or outdoor driving environment, and the characteristics of elements such as organic EL elements that are sealed are also associated with it. It has a problem of deterioration.
The present invention is a pressure-sensitive adhesive sheet for sealing, which has a very low water vapor transmission rate, has excellent gas barrier performance, and can suppress deterioration of the characteristics of the sealing element even when exposed to ultraviolet irradiation, And it aims at providing the electronic device and organic device which comprise this adhesive sheet for sealing.

本発明者らは、基材上に、少なくともガスバリア層と粘着剤層を有する封止用粘着シートであって、粘着剤層が特定の樹脂及び添加剤を含む粘着剤組成物からなる封止用粘着シートが上記課題を解決しうることを見出した。
すなわち、本発明は、下記[1]〜[7]を提供するものである。
[1]基材上に、少なくともガスバリア層と粘着剤層とを有する封止用粘着シートであって、前記粘着剤層が、第1成分として重量平均分子量30万〜50万のポリイソブチレン系樹脂(A)、第2成分として重量平均分子量1000〜25万のポリブテン樹脂(B)、第3成分としてヒンダードアミン系光安定剤(C)及び/又はヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)を含み、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、ポリブテン樹脂(B)を10〜100質量部含む粘着剤組成物からなる、封止用粘着シート。
[2]40℃、相対湿度90%における水蒸気透過率が、0.5g/(m2・day)以下である、上記[1]に記載の封止用粘着シート。
[3]ヒンダードアミン系光安定剤(C)が、3級のヒンダードアミン基を有するヒンダードアミン系光安定剤である、上記[1]又は[2]に記載の封止用粘着シート。
[4]ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)が、ヒンダードフェノール基のべータ位が2つともターシャリーブチル基で置換されたヒンダードフェノール系酸化防止剤である、上記[l]〜[3]のいずれか1項に記載の封止用粘着シート。
[5]電子デバイスに用いられる、上記[1]〜[4]のいずれか1項に記載の封止用粘着シート。
[6]上記[1]〜[4]のいずれか1項に記載の封止用粘着シートを具備する、電子デバイス。
[7]少なくとも一対の対向する電極と該電極間に配置される有機層とを有する構造体、及び該構造体の上部、下部、及び/又は周囲に配置された[1]〜[4]のいずれか1項に記載の封止用粘着シートを具備する、有機デバイス。
The present inventors provide a sealing adhesive sheet having at least a gas barrier layer and an adhesive layer on a substrate, wherein the adhesive layer comprises an adhesive composition containing a specific resin and an additive. It has been found that an adhesive sheet can solve the above problems.
That is, the present invention provides the following [1] to [7].
[1] A sealing pressure-sensitive adhesive sheet having at least a gas barrier layer and a pressure-sensitive adhesive layer on a substrate, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a weight average molecular weight of 300,000 to 500,000 as a first component. (A), a polybutene resin (B) having a weight average molecular weight of 1,000 to 250,000 as the second component, a hindered amine light stabilizer (C) and / or a hindered phenol antioxidant (D) as the third component, A pressure-sensitive adhesive sheet for sealing, comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing 10 to 100 parts by mass of the polybutene resin (B) with respect to 100 parts by mass of the polyisobutylene resin (A).
[2] The pressure-sensitive adhesive sheet for sealing according to the above [1], wherein a water vapor transmission rate at 40 ° C. and a relative humidity of 90% is 0.5 g / (m 2 · day) or less.
[3] The pressure-sensitive adhesive sheet for sealing according to the above [1] or [2], wherein the hindered amine light stabilizer (C) is a hindered amine light stabilizer having a tertiary hindered amine group.
[4] The above [l], wherein the hindered phenol antioxidant (D) is a hindered phenol antioxidant in which both of the hindered phenol groups are substituted with tertiary butyl groups. The adhesive sheet for sealing according to any one of to [3].
[5] The sealing adhesive sheet according to any one of the above [1] to [4], which is used in an electronic device.
[6] An electronic device comprising the sealing adhesive sheet according to any one of [1] to [4].
[7] A structure having at least a pair of opposing electrodes and an organic layer disposed between the electrodes, and the structures according to [1] to [4] disposed at an upper portion, a lower portion, and / or around the structure. An organic device comprising the sealing adhesive sheet according to any one of the above.

本発明の封止用粘着シートは、水蒸気透過率が非常に低く、優れたガスバリア性能を有し、紫外線照射に曝された場合においても、封止している素子の特性の劣化を抑制しうる。そのため、本発明の封止用粘着シートは、電子デバイス、有機デバイスの封止用の部材として好適であり、この封止用粘着シートを具備する電子デバイス及び有機デバイスは、長時間の駆動や屋外での駆動環境によっても、素子の特性の劣化を抑制しうる。   The pressure-sensitive adhesive sheet for sealing of the present invention has a very low water vapor transmission rate, has excellent gas barrier performance, and can suppress deterioration of the characteristics of the sealed element even when exposed to ultraviolet irradiation. . Therefore, the pressure-sensitive adhesive sheet for sealing of the present invention is suitable as a sealing member for electronic devices and organic devices. Electronic devices and organic devices provided with this pressure-sensitive adhesive sheet for sealing can be driven for a long time or outdoors. The deterioration of the characteristics of the element can also be suppressed depending on the driving environment.

本発明の封止用粘着シートの構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the adhesive sheet for sealing of this invention. 本発明の封止用粘着シートを具備する有機デバイスの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the organic device which comprises the adhesive sheet for sealing of this invention.

本発明の封止用粘着シートは、基材上に、少なくともガスバリア層と粘着剤層を有する。
図1は、本発明の封止用粘着シートの構成の一例を示す図である。本発明の封止用粘着シートは、少なくとも、基材、ガスバリア層、粘着剤層を有するが、積層する順序は特に限定されない。例えば、図1の(A1)のように、基材2の片面にガスバリア層3を積層し、そのガスバリア層3の上に粘着剤層4が積層されるような封止用粘着シート1であってもよい。他に、図1の(A2)の封止用粘着シート1aのように、基材2の片面にガスバリア層3を積層し、基材2のガスバリア層3が積層された面とは反対の面に、粘着剤層4を形成してもよい。
また、図1の(B)のように、基材2の片面にガスバリア層3、粘着剤層4aを積層した上で、反対側の基材に粘着剤層4bを設けて、両面に粘着剤層を有する封止用粘着シート1aとすることもできる。
さらに、図1の(C)のように、2つのガスバリア層3a、3bに対し、粘着剤層4aを介して積層した両面に粘着剤層を有する封止用粘着シート1bとしてもよい。この封止用粘着シート1bは、粘着剤層4aが2つのガスバリア層3a、3bを接着するだけでなく、外部から衝撃が加わった場合に、衝撃を吸収し、ガスバリア層3a、3bを保護する役割も担うことができる。
なお、図1には示してないが、基材、ガスバリア層、粘着剤層以外の「その他の層」を設けてもよい。その他の層が積層される位置は、特に限定されない。
以下、本発明の封止用粘着シートを構成する(1)粘着剤層、(2)基材、(3)ガスバリア層、(4)その他の層について説明する。
The sealing pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention has at least a gas barrier layer and a pressure-sensitive adhesive layer on a substrate.
FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of the sealing adhesive sheet of the present invention. Although the pressure-sensitive adhesive sheet for sealing of the present invention has at least a base material, a gas barrier layer, and a pressure-sensitive adhesive layer, the order of lamination is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 1 (A1), a sealing adhesive sheet 1 in which a gas barrier layer 3 is laminated on one side of a substrate 2 and an adhesive layer 4 is laminated on the gas barrier layer 3 is used. May be. In addition, like the sealing adhesive sheet 1a of FIG. 1 (A2), the gas barrier layer 3 is laminated on one surface of the substrate 2, and the surface opposite to the surface of the substrate 2 on which the gas barrier layer 3 is laminated. Alternatively, the pressure-sensitive adhesive layer 4 may be formed.
Further, as shown in FIG. 1 (B), the gas barrier layer 3 and the pressure-sensitive adhesive layer 4a are laminated on one surface of the base material 2, and the pressure-sensitive adhesive layer 4b is provided on the opposite base material. It can also be set as the adhesive sheet 1a for sealing which has a layer.
Furthermore, it is good also as the adhesive sheet 1b for sealing which has an adhesive layer on both surfaces laminated | stacked through the adhesive layer 4a with respect to two gas barrier layers 3a and 3b like (C) of FIG. In the sealing adhesive sheet 1b, the adhesive layer 4a not only bonds the two gas barrier layers 3a and 3b, but also absorbs an impact and protects the gas barrier layers 3a and 3b when an impact is applied from the outside. It can also play a role.
Although not shown in FIG. 1, “other layers” other than the base material, the gas barrier layer, and the pressure-sensitive adhesive layer may be provided. The position where other layers are laminated is not particularly limited.
Hereinafter, (1) pressure-sensitive adhesive layer, (2) base material, (3) gas barrier layer, and (4) other layers constituting the sealing pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described.

〔(1)粘着剤層〕
粘着剤層は、後述の基材、ガスバリア層、又はその他の層の上に積層されるが、基材に対して、片面若しくは両面に有していてもよい。
[(1) Adhesive layer]
Although an adhesive layer is laminated | stacked on the below-mentioned base material, a gas barrier layer, or another layer, you may have on one side or both surfaces with respect to a base material.

本発明の粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、第1成分として重量平均分子量30万〜50万のポリイソブチレン系樹脂(A)、第2成分として重量平均分子量1000〜25万のポリブテン樹脂(B)、第3成分としてヒンダードアミン系光安定剤(C)及び/又はヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)を含む。
本発明の粘着剤組成物は、これら特定の樹脂を含むため、形成される粘着剤層の水蒸気透過率が非常に低く、高温下又は紫外線照射下での耐久性にも優れている。
なお、本発明の粘着剤組成物は、これら特定の樹脂の他に、その他の樹脂及び添加剤を含んでもよい。以下、本発明の粘着剤組成物の含まれる(A)〜(D)成分、及びその他の樹脂及び添加剤について説明する。
The pressure-sensitive adhesive composition forming the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention comprises a polyisobutylene resin (A) having a weight average molecular weight of 300,000 to 500,000 as a first component and a polybutene resin having a weight average molecular weight of 1,000 to 250,000 as a second component. (B) As a 3rd component, a hindered amine light stabilizer (C) and / or a hindered phenolic antioxidant (D) are included.
Since the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention contains these specific resins, the pressure-sensitive adhesive layer to be formed has a very low water vapor permeability and is excellent in durability under high temperature or ultraviolet irradiation.
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may contain other resins and additives in addition to these specific resins. Hereinafter, components (A) to (D) included in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention, and other resins and additives will be described.

<ポリイソブチレン系樹脂(A)>
ポリイソブチレン系樹脂(A)(以下「樹脂(A)」ともいう)は、主鎖又は側鎖にポリイソブチレン骨格を有する樹脂であり、下記構成単位(a)を有する樹脂である。
<Polyisobutylene resin (A)>
The polyisobutylene-based resin (A) (hereinafter also referred to as “resin (A)”) is a resin having a polyisobutylene skeleton in the main chain or side chain, and a resin having the following structural unit (a).

Figure 0005593175
Figure 0005593175

樹脂(A)としては、例えば、イソブチレンの単独重合体であるポリイソブチレン、イソブチレンとイソプレン、イソブチレンとn−ブテン、イソブチレンとブタジエンの共重合体、これら共重合体を臭素化又は塩素化したハロゲン化共重合体等が挙げられる。なお、樹脂(A)が共重合体の場合、イソブチレンからなる構成単位が、全モノマーの中で一番多く含まれているものとする。   Examples of the resin (A) include polyisobutylene which is a homopolymer of isobutylene, isobutylene and isoprene, isobutylene and n-butene, a copolymer of isobutylene and butadiene, and a halogenated halogenated chlorinated copolymer of these copolymers. A copolymer etc. are mentioned. In addition, when resin (A) is a copolymer, the structural unit which consists of isobutylene shall be contained most among all the monomers.

樹脂(A)の合成方法としては、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等のルイス酸触媒の存在下で、イソブチレン等のモノマー成分を重合する方法が挙げられる。また、樹脂(A)は、市販品も使用することもできる。市販品としては、Vistanex(Exxon Chemical Co.製)、Hycar(Goodrich社製)、Oppanol(BASF社製)等が挙げられる。これらの樹脂(A)は、単独で又は2種以上を併用して用いてもよい。   Examples of the method for synthesizing the resin (A) include a method in which a monomer component such as isobutylene is polymerized in the presence of a Lewis acid catalyst such as aluminum chloride or boron trifluoride. Moreover, a commercial item can also be used for resin (A). Examples of commercially available products include Vistanex (manufactured by Exxon Chemical Co.), Hycar (manufactured by Goodrich), Opanol (manufactured by BASF), and the like. These resins (A) may be used alone or in combination of two or more.

樹脂(A)の重量平均分子量は、水蒸気透過率を低下させ、凝集力を向上させる観点から、30万〜50万であるが、好ましくは32万〜48万、より好ましくは33万〜45万である。重量平均分子量が30万より小さいと、粘着剤組成物の凝集力が十分に得られず、被着体を汚染する可能性がある。また、50万より大きくなると、粘着剤組成物の凝集力が高くなりすぎて、柔軟性や流動性が低くなり、被着体との濡れが十分に得られ難い。また、粘着剤組成物を調製する際に、分子量が高すぎると溶媒に対する溶解性が低下する場合がある。
なお、本願でいう重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法で測定されるポリスチレン換算の値である(以下の記載においても同様)。
The weight average molecular weight of the resin (A) is from 300,000 to 500,000, preferably from 320,000 to 480,000, more preferably from 330,000 to 450,000, from the viewpoint of reducing the water vapor transmission rate and improving the cohesive force. It is. If the weight average molecular weight is less than 300,000, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition cannot be sufficiently obtained, and the adherend may be contaminated. On the other hand, if it exceeds 500,000, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition becomes too high, and the flexibility and fluidity become low, and it is difficult to sufficiently obtain wetness with the adherend. Moreover, when preparing an adhesive composition, when molecular weight is too high, the solubility with respect to a solvent may fall.
In addition, the weight average molecular weight as used in this application is the value of polystyrene conversion measured by a gel permeation chromatography (GPC) method (the same applies to the following description).

<ポリブテン樹脂(B)>
ポリブテン樹脂(B)(以下「樹脂(B)」ともいう)は、長鎖状炭化水素の分子構造を持った共重合物質である。樹脂(B)は、樹脂(A)と良好に相溶し、適度に樹脂(A)を可塑化させることで、被着体に対する濡れ性を高め、粘着物性、柔軟性、保持力等を向上させることができる。
樹脂(B)としては、ポリブテン共重合体、エチレン・1−ブテン共重合体エラストマー、エチレン・プロピレン・1−ブテン共重合体エラストマー、プロピレン・1−ブテン共重合体エラストマー、エチレン・1−ブテン−非共役ジエン共重合体エラストマー、エチレン・プロピレン・1−ブテン−非共役ジエン共重合体エラストマー等のエチレンプロピレンゴム等が挙げられる。
これらの中でも、樹脂(A)と良好に相溶し、適度に樹脂(A)を可塑化させ、柔軟性や流動性を高くさせる観点から、ポリブテン共重合体が好ましい。また、ポリブテン共重合体としては、イソブテン、1−ブテン、2−ブテンのうち少なくとも2つを共重合させたものが挙げられるが、イソブテン・1−ブテン共重合体がより好ましい。
<Polybutene resin (B)>
The polybutene resin (B) (hereinafter also referred to as “resin (B)”) is a copolymer having a long-chain hydrocarbon molecular structure. Resin (B) is well compatible with resin (A) and plasticizes resin (A) appropriately, thereby improving wettability to the adherend and improving adhesive properties, flexibility, holding power, etc. Can be made.
Examples of the resin (B) include polybutene copolymer, ethylene / 1-butene copolymer elastomer, ethylene / propylene / 1-butene copolymer elastomer, propylene / 1-butene copolymer elastomer, ethylene / 1-butene- Examples thereof include ethylene-propylene rubber such as non-conjugated diene copolymer elastomer and ethylene / propylene / 1-butene-non-conjugated diene copolymer elastomer.
Among these, a polybutene copolymer is preferable from the viewpoint of being well compatible with the resin (A), appropriately plasticizing the resin (A), and increasing flexibility and fluidity. Examples of the polybutene copolymer include those obtained by copolymerizing at least two of isobutene, 1-butene, and 2-butene, and more preferred is an isobutene / 1-butene copolymer.

樹脂(B)の合成方法としては、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等のルイス酸触媒の存在下で、樹脂(B)を構成するモノマー成分を重合する方法が挙げられる。
また、樹脂(B)は、市販品も使用することもできる。市販品としては、例えば、出光ポリブテン(出光興産社製)、ニッサンポリブテン(日本油脂社製)、日石ポリブテン(新日本石油社製)等が挙げられる。これらの樹脂(B)は、単独又は2種以上を併用して用いてもよい。
Examples of the method for synthesizing the resin (B) include a method of polymerizing a monomer component constituting the resin (B) in the presence of a Lewis acid catalyst such as aluminum chloride or boron trifluoride.
Moreover, a commercial item can also be used for resin (B). Examples of commercially available products include Idemitsu polybutene (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), Nissan polybutene (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.), Nisseki Polybutene (manufactured by Nippon Oil & Petroleum Corporation), and the like. These resins (B) may be used alone or in combination of two or more.

樹脂(B)の重量平均分子量は、樹脂(A)と良好に相溶し適度に樹脂(A)を可塑化させ、粘着剤層の水蒸気透過率等の物性に影響を与えない観点から、1000〜25万であるが、好ましくは1200〜22万、より好ましくは1500〜20万である。
重量平均分子量が1000より小さいと、樹脂(B)が低分子成分として分離して被着体を汚染したり、高温下で発生するアウトガスが増加する等、物性に悪影響を及ぼす恐れがある。一方、25万より大きいと、樹脂(A)を十分な可塑化させることができず、被着体との濡れが十分に得られ難い。
The weight average molecular weight of the resin (B) is 1000 from the viewpoint that it is well compatible with the resin (A), plasticizes the resin (A) appropriately, and does not affect physical properties such as water vapor permeability of the pressure-sensitive adhesive layer. Although it is -250,000, Preferably it is 1200-220,000, More preferably, it is 1500-200,000.
If the weight average molecular weight is less than 1000, the resin (B) may be separated as a low molecular component to contaminate the adherend, or the outgas generated at high temperatures may increase, which may adversely affect physical properties. On the other hand, if it is larger than 250,000, the resin (A) cannot be sufficiently plasticized, and it is difficult to obtain sufficient wettability with the adherend.

ポリブテン樹脂(B)の含有量は、粘着力、凝集力、及び水蒸気透過率とのバランスの観点から、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、10〜100質量部であるが、好ましくは15〜100質量部、より好ましくは25〜100質量部である。
10質量部未満であると、樹脂(A)を十分に可塑化させることができず、被着体との濡れが十分でないため好ましくない。一方、100質量部を超えると、凝集力が低下すると共に、紫外線照射に対する耐久性が劣るため好ましくない。
The content of the polybutene resin (B) is 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyisobutylene-based resin (A) from the viewpoint of balance with adhesive force, cohesive force, and water vapor permeability. Preferably it is 15-100 mass parts, More preferably, it is 25-100 mass parts.
If it is less than 10 parts by mass, the resin (A) cannot be sufficiently plasticized, and the wettability with the adherend is not sufficient. On the other hand, if it exceeds 100 parts by mass, the cohesive force is lowered and the durability against ultraviolet irradiation is inferior, which is not preferable.

<ヒンダードアミン系光安定剤(C)>
本発明では、光安定剤として、ヒンダードアミン系光安定剤(C)(以下「光安定剤(C)」ともいう)を用いる。ヒンダードアミン系光安定剤は、1分子中に下記式(c)で表わされる基(ヒンダードアミン基)を少なくとも1つ有する。
<Hindered amine light stabilizer (C)>
In the present invention, a hindered amine light stabilizer (C) (hereinafter also referred to as “light stabilizer (C)”) is used as the light stabilizer. The hindered amine light stabilizer has at least one group (hindered amine group) represented by the following formula (c) in one molecule.

Figure 0005593175
Figure 0005593175

式(c)中、R1は水素原子、アルキル基、アルコキシ基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。
1分子中に式(c)で表わされる基が複数あるときは、複数の基においてR1は同一であっても異なっていてもよい。
In the formula (c), R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group.
When there are a plurality of groups represented by the formula (c) in one molecule, R 1 in the plurality of groups may be the same or different.

光安定剤(C)としては、例えば、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ[{6−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ、ポリ[{6−モルフォリノ−s−トリアジン−2,4−ジイル}{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ}ヘキサメチレン{(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)イミノ、N,N’,N’’,N’’’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)[[3,5−ビス(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、シクロヘキサンと過酸化N−ブチル2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジンアミン−2,4,6−トリクロロ1,3,5−トリアジンとの反応生成物と2−アミノエタノールとの反応生成物、デカン二酸ビス(2,2,6,6−テトラメチル−1−(オクチルオキシ)−4−ピペリジニル)エステル、1,1−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−ピペリジル)セバケート及びメチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート(混合物)、N,N’、N’’,N’’’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−ピペリジル)セバケート及びメチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート(混合物)、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート等が挙げられる。   Examples of the light stabilizer (C) include dimethyl succinate-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine polycondensate, poly [{6- (1 , 1,3,3-tetramethylbutyl) amino-1,3,5-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino} hexamethylene {( 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino, poly [{6-morpholino-s-triazine-2,4-diyl} {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) ) Imino} hexamethylene {(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino, N, N ′, N ″, N ′ ″-tetrakis- (4,6-bis- (butyl-)) (N-methyl-2,2,6,6-tetramethyl Piperidin-4-yl) -4,7-diazadecane-1,10-diamine, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethyl) Ethyl) -4-hydroxyphenyl] methyl] butyl malonate, cyclohexane and N-butyl peroxide 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidineamine-2,4,6-trichloro 1,3,5- Reaction product of triazine with reaction product of 2-aminoethanol, decanedioic acid bis (2,2,6,6-tetramethyl-1- (octyloxy) -4-piperidinyl) ester, 1,1- Reaction products of dimethylethyl hydroperoxide and octane, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-piperidyl) sebacate and methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl- Piperidyl sebacate (mixture), N, N ′, N ″, N ′ ″-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine) -4-yl) -4,7-diazadecane-1,10-diamine, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-piperidyl) sebacate and methyl 1,2,2,6,6-pentamethyl-4 -Piperidyl sebacate (mixture), bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate and the like.

これらの中でも、光安定剤としての性能に優れ、粘着剤組成物の紫外線に対する耐久性を向上させるという観点から、式(c)中のR1がアルキル基である3級のヒンダードアミン基であることが好ましい。3級のヒンダードアミン基を有するヒンダードアミン系光安定剤は、特に光安定剤としての性能が優れている。
このような光安定剤(C)としては、例えば、N,N’,N’’,N’’’−テトラキス−(4,6−ビス−(ブチル−(N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−4,7−ジアザデカン−1,10−ジアミン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−ピペリジル)セバケート及びメチル1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルセバケート(混合物)、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート等が挙げられる。
なお、これらの光安定剤(C)は、単独又は2種以上を併用して用いてもよい。
Among these, it is a tertiary hindered amine group in which R 1 in the formula (c) is an alkyl group from the viewpoint of excellent performance as a light stabilizer and improving the durability of the pressure-sensitive adhesive composition to ultraviolet rays. Is preferred. The hindered amine light stabilizer having a tertiary hindered amine group is particularly excellent in performance as a light stabilizer.
Examples of such a light stabilizer (C) include N, N ′, N ″, N ′ ″-tetrakis- (4,6-bis- (butyl- (N-methyl-2,2,6). , 6-Tetramethylpiperidin-4-yl) -4,7-diazadecane-1,10-diamine, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-piperidyl) sebacate and methyl 1,2,2,6 , 6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate (mixture), bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate and the like.
In addition, you may use these light stabilizers (C) individually or in combination of 2 or more types.

光安定剤(C)の含有量は、光安定剤としての性能を発揮して粘着剤組成物の紫外線に対する耐久性を向上させる観点から、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは0.25〜1.0質量部、より好ましくは0.3〜0.9質量部、更に好ましくは0.4〜0.8質量部である。光安定剤(C)の含有量が0.25質量部以上であれば、粘着剤組成物の耐久性を十分に向上させることができ、1.0質量部以下であれば、他の成分と分離してしまうことも抑制できる。   The content of the light stabilizer (C) is based on 100 parts by mass of the polyisobutylene resin (A) from the viewpoint of improving the durability of the pressure-sensitive adhesive composition to ultraviolet rays by exhibiting the performance as a light stabilizer. Preferably it is 0.25-1.0 mass part, More preferably, it is 0.3-0.9 mass part, More preferably, it is 0.4-0.8 mass part. If the content of the light stabilizer (C) is 0.25 part by mass or more, the durability of the pressure-sensitive adhesive composition can be sufficiently improved, and if it is 1.0 part by mass or less, other components and Separation can also be suppressed.

<ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)>
本発明では、酸化防止剤として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)(以下「酸化防止剤(D)」ともいう)を用いる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、1分子中に下記式(d)で表わされる基(ヒンダードフェノール基)を少なくとも1つ有する。
<Hindered phenolic antioxidant (D)>
In the present invention, a hindered phenolic antioxidant (D) (hereinafter also referred to as “antioxidant (D)”) is used as the antioxidant. The hindered phenol antioxidant has at least one group (hindered phenol group) represented by the following formula (d) in one molecule.

Figure 0005593175
Figure 0005593175

式(d)中、R2、R3は、各々、水素原子、直鎖状アルキル基、又は分枝状アルキル基を表す。直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。分枝状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基等が挙げられる。
1分子中に式(d)で表わされる基が複数あるとき、R2及びR3は、複数の基において、同一であっても異なっていてもよい。
In formula (d), R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom, a linear alkyl group, or a branched alkyl group. Examples of the linear alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Examples of the branched alkyl group include isopropyl group, isobutyl group, tertiary butyl group and the like.
When there are a plurality of groups represented by the formula (d) in one molecule, R 2 and R 3 may be the same or different in the plurality of groups.

酸化防止剤(D)としては、例えば、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロキシンナマミド、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)1,3,5−トリアジン、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、4,4’−ブチリデンビス−(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス−(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス−(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)トリオン、イソオクチル(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロキシンナマミド、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)1,3,5−トリアジン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)トリオン、イソオクチル(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等が挙げられる。   Examples of the antioxidant (D) include triethylene glycol-bis [3- (3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- ( 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythrityl tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio -Diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N '-Hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydroxynamamide, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tri (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 2,4-bis- (n-octylthio) ) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) 1,3,5-triazine, 2,4-bis [(octylthio) methyl] -o-cresol, 2,6-di-t -Butyl-p-cresol, 4,4'-butylidenebis- (6-t-butyl-3-methylphenol), 2,2'-methylenebis- (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2 ' -Methylenebis- (4-ethyl-6-tert-butylphenol), 2,6-di-tert-butyl-4-ethylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t) -Butylpheny ) Butane, 1,3,5-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) trione, isooctyl (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythris Lithyl tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy Phenyl) propionate], octadecyl-3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl) 4-hydroxy-hydroxynamamide, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -isocyanurate, 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) 1,3,5 -Triazine, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 1,3,5-tris (3,5-di-t-butyl- 4-hydroxybenzyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) trione, isooctyl (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate and the like. .

これらの中でも、酸化防止剤(D)は、粘着剤組成物の高湿熱に対する耐久性を向上させるという観点から、式(d)中のR2及びR3が分枝状アルキル基であるヒンダードフェノール系酸化防止剤が好ましく、ヒンダードフェノール基のベータ位が2つともターシャリーブチル基であるヒンダードフェノール系酸化防止剤がよりことが好ましい。ヒンダードフェノール基のベータ位が2つともターシャリーブチル基であるヒンダードフェノール系酸化防止剤は、本発明のような長時間の駆動や屋外での駆動環境下で用いる場合において、特に酸化防止剤としての性能に優れている。
このような酸化防止剤(D)としては、例えば、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリチル・テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N’−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロキシンナマミド、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)1,3,5−トリアジン、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)トリオン、イソオクチル(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート等が挙げられる。なお、酸化防止剤(D)の市販品としては、ヨシノックスBHT(吉富ファインケミカル社製)、IRGANOX565(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)、IRGANOX1010等が挙げられる。
これらの酸化防止剤(D)は、単独又は2種以上を併用して用いてもよい。
Among these, the antioxidant (D) is a hindered in which R 2 and R 3 in the formula (d) are branched alkyl groups from the viewpoint of improving the durability of the pressure-sensitive adhesive composition to high-humidity heat. Phenol-based antioxidants are preferable, and hindered phenol-based antioxidants in which both of the beta positions of the hindered phenol group are tertiary butyl groups are more preferable. The hindered phenol antioxidants in which both of the hindered phenol groups are in a tertiary butyl group are particularly antioxidants when used in a long-time driving or outdoor driving environment as in the present invention. Excellent performance as an agent.
Examples of such antioxidant (D) include 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentaerythrityl tetrakis [ 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] , Octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, N, N′-hexamethylenebis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-hydroxynnamamide 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, tris- (3,5-di-t-butyl-4 -Hydroxybenzyl) -isocyanurate, 2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylanilino) 1,3,5-triazine, 2,6-di -T-butyl-p-cresol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 1,3,5-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -1, 3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) trione, isooctyl (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, etc. In addition, antioxidant (D ) Commercially available products include Yoshinox BHT (manufactured by Yoshitomi Fine Chemical), IRGANOX 565 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), IRGANOX 1010, and the like.
These antioxidants (D) may be used alone or in combination of two or more.

酸化防止剤(D)の含有量は、粘着剤組成物の高湿熱に対する耐久性を向上させる観点から、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは0.25〜1.0質量部、より好ましくは0.3〜0.9質量部、更に好ましくは0.4〜0.8質量部である。酸化防止剤(D)の含有量が0.25質量部以上であれば、粘着剤組成物の耐久性を十分に向上させることができ、1.0質量部以下であれば、他の成分と分離してしまうことも抑制できる。本発明の粘着剤組成物は、ヒンダードアミン系光安定剤(C)及びヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)の少なくともいずれかを含んでいる。また、用途に応じて併用して用いてもよい。   The content of the antioxidant (D) is preferably 0.25 to 1.0 with respect to 100 parts by mass of the polyisobutylene resin (A) from the viewpoint of improving the durability of the pressure-sensitive adhesive composition to high-humidity heat. It is a mass part, More preferably, it is 0.3-0.9 mass part, More preferably, it is 0.4-0.8 mass part. If the content of the antioxidant (D) is 0.25 parts by mass or more, the durability of the pressure-sensitive adhesive composition can be sufficiently improved, and if it is 1.0 parts by mass or less, other components and Separation can also be suppressed. The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention contains at least one of a hindered amine light stabilizer (C) and a hindered phenol antioxidant (D). Moreover, you may use together according to a use.

<その他の樹脂>
本発明の粘着剤組成物は、上記(A)〜(D)の他、その他の樹脂として、環状オレフィン系重合体(E)(以下「重合体(E)」ともいう)を含むことが好ましい。重合体(E)は、塗工時の粘度の調製、可塑性効果による柔軟性の向上、濡れ性向上による初期粘着力の向上、凝集力の増大等において有用であり、水蒸気透過率の低減効果も有する。
重合体(E)は、環状オレフィン系単量体に由来する繰り返し単位を含有する。環状オレフィン系単量体の結合様式は、主鎖中に環状構造を導入しうるものであればとくに限定されず、該単量体の炭素−炭素不飽和結合を重合したもの、環状共役ジエンを付加重合したもの等が挙げられる。重合体(E)としては、ノルボルネン環を有する脂環族系単量体を付加重合させた重合体、環状オレフィン以外の共重合可能な単量体と共重合させた重合体、ノルボルネン環を有する脂環族系単量体を開環重合させた開環重合体等が挙げられる。また、単環の環状オレフィン系単量体を付加重合させた重合体、シクロペンタジエンやシクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を1,4−付加重合させた重合体、単環の環状オレフィン系単量体及び環状共役ジエン系単量体と、環状オレフィン以外の共重合可能な単量体とを共重合させた重合体も挙げられる。
<Other resins>
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention preferably contains a cyclic olefin polymer (E) (hereinafter also referred to as “polymer (E)”) as the other resin in addition to the above (A) to (D). . The polymer (E) is useful in the adjustment of the viscosity at the time of coating, the improvement of the flexibility due to the plasticity effect, the improvement of the initial adhesive force due to the improvement of the wettability, the increase of the cohesive force, etc. Have.
The polymer (E) contains a repeating unit derived from a cyclic olefin monomer. The bonding mode of the cyclic olefin monomer is not particularly limited as long as a cyclic structure can be introduced into the main chain, and a polymer obtained by polymerizing a carbon-carbon unsaturated bond of the monomer, or a cyclic conjugated diene. Addition-polymerized products and the like can be mentioned. The polymer (E) includes a polymer obtained by addition polymerization of an alicyclic monomer having a norbornene ring, a polymer copolymerized with a copolymerizable monomer other than a cyclic olefin, and a norbornene ring. Examples thereof include a ring-opening polymer obtained by ring-opening polymerization of an alicyclic monomer. In addition, a polymer obtained by addition polymerization of a monocyclic olefin monomer, a polymer obtained by 1,4-addition polymerization of a cyclic conjugated diene monomer such as cyclopentadiene or cyclohexadiene, a monocyclic olefin The polymer which copolymerized the monomer and cyclic conjugated diene type monomer, and the copolymerizable monomer other than cyclic olefin is also mentioned.

また、これらの重合体(E)は、さらに水素添加させてもよい。具体的には、粘着付与剤として知られる石油樹脂を水素添加した、いわゆる水添石油樹脂等が挙げられる。水添石油樹脂としては、水添化率を異にする部分水添樹脂から完全水添樹脂まで挙げることができるが、樹脂(A)及び樹脂(B)との相溶性、水蒸気透過率、高湿熱や紫外線に対する耐久性の点から、完全水添樹脂が好ましい。
水添石油樹脂としては、例えば、水添テルペン系樹脂、水添ロジン及び水添ロジンエステル系樹脂、不均化ロジン、不均化ロジンエステル系樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するペンテン、イソプレン、ピペリン、1.3−ペンタジエン等のC5留分を共重合して得られるC5系石油樹脂の水添加樹脂である水添ジシクロペンタジエン系樹脂、部分水添芳香族変性ジシクロペンタジエン系樹脂、石油ナフサの熱分解で生成するインデン、ビニルトルエン、α−又はβ−メチルスチレン等のC9留分を共重合して得られるC9系石油樹脂を水添した樹脂、上記したC5留分とC9留分の共重合石油樹脂を水添した樹脂等が挙げられる。これらの中でも、低透湿性の観点と、樹脂(A)及び樹脂(B)が高湿熱や紫外線により変色(黄変)を防ぎ、透明性を確保する観点から、水添ジシクロペンタジエン系樹脂が好ましい。
なお、これらの重合体(E)は、単独又は2種以上を併用して用いてもよい。
Further, these polymers (E) may be further hydrogenated. Specifically, what is called hydrogenated petroleum resin etc. which hydrogenated petroleum resin known as a tackifier is mentioned. Examples of the hydrogenated petroleum resin include a partially hydrogenated resin having a different hydrogenation rate to a fully hydrogenated resin. However, the compatibility with the resin (A) and the resin (B), water vapor transmission rate, high From the viewpoint of durability against wet heat and ultraviolet rays, a completely hydrogenated resin is preferred.
Examples of hydrogenated petroleum resins include hydrogenated terpene resins, hydrogenated rosins and hydrogenated rosin ester resins, disproportionated rosins, disproportionated rosin ester resins, pentenes generated by thermal decomposition of petroleum naphtha, and isoprene. Hydrogenated dicyclopentadiene resin which is a hydrogenated resin of C5 petroleum resin obtained by copolymerizing C5 fractions such as piperine and 1.3-pentadiene, partially hydrogenated aromatic modified dicyclopentadiene resin, Resin obtained by hydrogenation of C9 petroleum resin obtained by copolymerizing C9 fraction such as indene, vinyltoluene, α- or β-methylstyrene produced by thermal decomposition of petroleum naphtha, C5 fraction and C9 fraction described above For example, a resin obtained by hydrogenation of a copolymerized petroleum resin. Among these, hydrogenated dicyclopentadiene resins are used from the viewpoint of low moisture permeability and from the viewpoint of preventing the discoloration (yellowing) of the resin (A) and the resin (B) by high humidity heat or ultraviolet rays and ensuring transparency. preferable.
In addition, you may use these polymers (E) individually or in combination of 2 or more types.

重合体(E)の重量平均分子量は、好ましくは200〜5000、より好ましくは500〜3000である。重量平均分子量が5,000以下であれば、優れた粘着性を付与でき、被着体との濡れを十分に得ることできる。また、樹脂(A)との相溶性も良好となる。
重合体(E)の含有量は、粘度、柔軟性、濡れ性、凝集力、及び水蒸気透過率の低減効果の観点から、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは10〜300質量部、より好ましくは10〜100質量部、更に好ましくは20〜80質量部である。重合体(E)の含有量が10質量部以上であれば、優れた粘着性を付与でき、被着体との濡れを十分に得ることができ、300質量部以下であれば、粘着剤組成物の凝集力を十分に得ることができ、被着体に貼り付ける場合、剥がれを防止することができる。
The weight average molecular weight of the polymer (E) is preferably 200 to 5,000, more preferably 500 to 3,000. When the weight average molecular weight is 5,000 or less, excellent adhesiveness can be imparted and sufficient wetting with the adherend can be obtained. Moreover, compatibility with resin (A) also becomes favorable.
The content of the polymer (E) is preferably 10 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyisobutylene resin (A) from the viewpoints of viscosity, flexibility, wettability, cohesive force, and water vapor transmission rate reduction effect. 300 mass parts, More preferably, it is 10-100 mass parts, More preferably, it is 20-80 mass parts. When the content of the polymer (E) is 10 parts by mass or more, excellent adhesiveness can be imparted, and sufficient wettability with the adherend can be obtained. The cohesive strength of the object can be sufficiently obtained, and when being attached to an adherend, peeling can be prevented.

<その他の添加剤>
本発明の粘着剤組成物は、粘着物性等を阻害しない範囲において、更にその他の添加剤として、光安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、樹脂安定剤、充てん剤、顔料、増量剤等を含んでもよい。これらの添加剤は、単独又は2種以上を併用して用いてもよい。
ヒンダートアミン系光安定剤(C)以外の光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系の光安定剤等が挙げられる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)以外の酸化防止剤としては、例えば、リン酸エステル系化合物等が挙げられる。これら(C)以外の光安定剤、及び(D)以外の酸化防止剤のそれぞれの含有量は、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは0.01〜2質量部である。
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系化合物、オキサゾリアックアシッドアミド化合物、ベンゾフェノン系化合物等が挙げられる。これら紫外線吸収剤の含有量は、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは0.01〜3質量部である。
樹脂安定剤としては、例えば、イミダゾール系樹脂安定剤、ジチオカルバミン酸塩系樹脂安定剤、リン系樹脂安定剤、硫黄エステル系樹脂安定剤等が挙げられる。これら樹脂安定剤の含有量は、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、好ましくは0.01〜3質量である。
<Other additives>
The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention includes a light stabilizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a resin stabilizer, a filler, a pigment, a bulking agent, etc. May be included. These additives may be used alone or in combination of two or more.
Examples of light stabilizers other than the hindered amine light stabilizer (C) include benzophenone-based and benzotriazole-based light stabilizers. Examples of the antioxidant other than the hindered phenol antioxidant (D) include phosphate ester compounds. Each content of these light stabilizers other than (C) and antioxidants other than (D) is preferably 0.01 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyisobutylene resin (A). is there.
Examples of ultraviolet absorbers include benzotriazole compounds, oxazolyac acid amide compounds, benzophenone compounds, and the like. The content of these ultraviolet absorbers is preferably 0.01 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyisobutylene resin (A).
Examples of the resin stabilizer include an imidazole resin stabilizer, a dithiocarbamate resin stabilizer, a phosphorus resin stabilizer, and a sulfur ester resin stabilizer. The content of these resin stabilizers is preferably 0.01 to 3 masses per 100 mass parts of the polyisobutylene resin (A).

本発明の粘着剤組成物は、さらにトルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の有機溶媒を配合してもよい。有機溶媒を配合する場合、粘着剤組成物の固形分濃度は、好ましくは10〜60質量%、より好ましくは10〜45質量%、更に好ましくは15〜30質量%である。10質量%以上であれば、溶剤の使用量としては十分であり、60質量%以下であれば、適度な粘度となり、優れた塗工作業性を有する溶液となり得る。   The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention may further contain an organic solvent such as toluene, ethyl acetate, or methyl ethyl ketone. When mix | blending an organic solvent, solid content concentration of an adhesive composition becomes like this. Preferably it is 10-60 mass%, More preferably, it is 10-45 mass%, More preferably, it is 15-30 mass%. If it is 10% by mass or more, the amount of the solvent used is sufficient, and if it is 60% by mass or less, it has an appropriate viscosity and can be a solution having excellent coating workability.

本発明の粘着剤層を形成する方法は、特に制限はなく、公知の方法により製造できる。例えば、有機溶媒を配合した粘着剤組成物(溶液)を公知の塗工方法により製造することができる。例えばスピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の公知の方法により基材や剥離シートの剥離層面に粘着剤組成物を有機溶剤に溶解した溶液を塗工したのち、溶剤や低沸点成分の残留を防ぐために、80〜150℃の温度で30秒〜5分間加熱して製造することができる。   There is no restriction | limiting in particular in the method of forming the adhesive layer of this invention, It can manufacture by a well-known method. For example, a pressure-sensitive adhesive composition (solution) containing an organic solvent can be produced by a known coating method. For example, the pressure-sensitive adhesive composition on the release layer surface of the substrate or release sheet by a known method such as spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, or gravure coating. In order to prevent the solvent and low-boiling components from remaining, the solution can be produced by heating at a temperature of 80 to 150 ° C. for 30 seconds to 5 minutes.

形成される粘着剤層の厚さは、特に制限はなく、封止用粘着シートの用途等に応じて適宜選定されるが、好ましくは0.5〜100μm、より好ましくは1〜60μm、更に好ましくは3〜40μmである。0.5μm以上であれば、被着体に対し良好な粘着力が得られ、100μm以下であれば、生産性の面で有利であり、取り扱いやすい封止用粘着シートとなり得る。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer to be formed is not particularly limited and is appropriately selected according to the use of the pressure-sensitive adhesive sheet for sealing, etc., preferably 0.5 to 100 μm, more preferably 1 to 60 μm, still more preferably. Is 3-40 μm. If it is 0.5 μm or more, good adhesive force can be obtained for the adherend, and if it is 100 μm or less, it is advantageous in terms of productivity and can be an easy-to-handle pressure-sensitive adhesive sheet.

本発明の粘着剤層の厚み50μmにおける水蒸気透過率は、40℃、90%RH(RH:相対湿度)において、好ましくは10g/(m2・day)以下、より好ましくは8g/(m2・day)以下、更に好ましくは6g/(m2・day)以下である。水蒸気透過率が10g/(m2・day)以下であれば、有機EL素子等の封止に用いた場合、粘着剤層の端部からの水蒸気の入り込みを抑制することができる。なお、水蒸気透過率については公知方法で測定することができる。
また、本発明の粘着剤層は、粘着剤層自体の厚みが薄い場合でも、高い粘着力を有する。粘着剤層の粘着力は、好ましくは3N/25mm以上、より好ましくは5N/25mm以上である。
The water vapor transmission rate at a thickness of 50 μm of the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention is preferably 10 g / (m 2 · day) or less, more preferably 8 g / (m 2 · m) at 40 ° C. and 90% RH (RH: relative humidity). day) or less, more preferably 6 g / (m 2 · day) or less. When the water vapor transmission rate is 10 g / (m 2 · day) or less, when used for sealing an organic EL element or the like, the entry of water vapor from the end of the pressure-sensitive adhesive layer can be suppressed. The water vapor transmission rate can be measured by a known method.
Further, the pressure-sensitive adhesive layer of the present invention has high adhesive force even when the pressure-sensitive adhesive layer itself is thin. The adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 3 N / 25 mm or more, more preferably 5 N / 25 mm or more.

なお、本発明の封止用粘着シートにおいて、粘着剤層上に、所望により剥離シートを設けてもよいが、この剥離シートとしては、例えばグラシン紙、コート紙、上質紙等の紙基材、これらの紙基材にポリエチレンやポリプロピレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙、又上記基材にセルロース、デンプン、ポリビニルアルコール、アクリル−スチレン樹脂等で目止め処理を行った紙基材、あるいはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルムのようなプラスチックフィルム、及びこれらのプラスチックフィルムに易接着処理を施したフィルム等に剥離剤を塗布したもの等が挙げられる。
剥離剤層を形成させるために用いる剥離剤としては、例えばオレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂等が用いられる。
剥離剤層の厚さは、特に限定されないが、剥離剤を溶液状態で塗工する場合は好ましくは0.05〜2.0μmであり、より好ましくは0.1〜1.5μmである。剥離剤層として、ポリエチレンやポリプロピレン等の熱可塑性樹脂を用いて形成させる場合は、剥離剤層の厚さは、好ましくは3〜50μm、より好ましくは5〜40μmである。
In the sealing adhesive sheet of the present invention, a release sheet may be provided on the adhesive layer as desired. Examples of the release sheet include paper substrates such as glassine paper, coated paper, and high-quality paper, Laminated paper obtained by laminating a thermoplastic resin such as polyethylene or polypropylene to these paper base materials, or a paper base material obtained by sealing the base material with cellulose, starch, polyvinyl alcohol, acrylic-styrene resin, or polyethylene. Polyester films such as terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc., plastic films such as polyethylene films such as polyethylene and polypropylene, and films obtained by applying an adhesive to these plastic films, etc. Can be mentioned.
Examples of the release agent used to form the release agent layer include rubber elastomers such as olefin resins, isoprene resins, butadiene resins, long chain alkyl resins, alkyd resins, fluorine resins, silicone resins, etc. Is used.
The thickness of the release agent layer is not particularly limited, but when the release agent is applied in a solution state, it is preferably 0.05 to 2.0 μm, more preferably 0.1 to 1.5 μm. When the release agent layer is formed using a thermoplastic resin such as polyethylene or polypropylene, the thickness of the release agent layer is preferably 3 to 50 μm, more preferably 5 to 40 μm.

〔(2)基材〕
本発明の基材としては、本発明の目的に合致するものであれば特に制限されない。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、全芳香族ポリアミド、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン共重合体等のポリアミド、ルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等のシクロオレフィン系ポリマー等、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレートの樹脂からなるシートが挙げられる。また、アルミニウム箔、銅箔や鉄箔等の金属箔、ガラス等を基材として用いてもよい。
これらの中でも、透明性に優れ、汎用性の観点から、ポリエステル、ポリアミド又はシクロオレフィン系ポリマーが好ましく、ポリエステル又はシクロオレフィン系ポリマーがより好ましい。
[(2) Base material]
The substrate of the present invention is not particularly limited as long as it meets the object of the present invention. For example, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyimides, polyamideimides, wholly aromatic polyamides, nylon 6, nylon 66, nylon copolymers and other polyamides, rubornene polymers, monocyclic Cyclic olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, vinyl alicyclic hydrocarbon polymers, cycloolefin polymers such as hydrides thereof, polyphenylene ether, polyether ketone, polyether ether ketone, polycarbonate, Examples thereof include a sheet made of a resin of polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, or polyarylate. Moreover, you may use aluminum foil, metal foil, such as copper foil and iron foil, glass, etc. as a base material.
Among these, polyester, polyamide or cycloolefin polymer is preferable, and polyester or cycloolefin polymer is more preferable from the viewpoint of excellent transparency and versatility.

基材の厚さは、特に制限はないが、取り扱いやすさの観点から、好ましくは2〜200μm、より好ましくは10〜150μm、更に好ましくは20〜100μmである。   Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a base material, From a viewpoint of ease of handling, Preferably it is 2-200 micrometers, More preferably, it is 10-150 micrometers, More preferably, it is 20-100 micrometers.

〔(3)ガスバリア層〕
ガスバリア層の材料としては、酸素及び水蒸気の透過を阻止するものであれば制約はない。例えば、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、スズ等の金属、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、ポリオルガノシロキサン化合物、テトラオルガノシラン化合物等の珪素化合物、酸化アルミニウム、酸窒化アルミニウム等のアルミニウム化合物、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリクロロトリフロロエチレン等の樹脂等が挙げられる。
上記の中でもガスバリア層の材料としては、ガスバリア性の点から、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、スズ等の金属、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、ポリオルガノシロキサン化合物、テトラオルガノシラン化合物等の珪素化合物、酸化アルミニウム、酸窒化アルミニウム等のアルミニウム化合物、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物が好ましい。中でも、透明性の点から、ポリシラザン化合物、ポリカルボシラン化合物、ポリシラン化合物、ポリオルガノシロキサン化合物、及びテトラオルガノシラン化合物がより好ましい。
[(3) Gas barrier layer]
The material for the gas barrier layer is not limited as long as it prevents the permeation of oxygen and water vapor. For example, metal such as aluminum, magnesium, zinc, tin, silicon nitride, silicon oxide, silicon oxynitride, polysilazane compound, polycarbosilane compound, polysilane compound, polyorganosiloxane compound, silicon compound such as tetraorganosilane compound, aluminum oxide , Aluminum compounds such as aluminum oxynitride, inorganic oxides such as magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide, tin oxide, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polychlorotrifluoroethylene And the like.
Among these, as the material of the gas barrier layer, from the viewpoint of gas barrier properties, metals such as aluminum, magnesium, zinc and tin, silicon nitride, silicon oxide, silicon oxynitride, polysilazane compound, polycarbosilane compound, polysilane compound, polyorgano Preferred are silicon compounds such as siloxane compounds and tetraorganosilane compounds, aluminum compounds such as aluminum oxide and aluminum oxynitride, and inorganic oxides such as magnesium oxide, zinc oxide, indium oxide and tin oxide. Among these, from the viewpoint of transparency, polysilazane compounds, polycarbosilane compounds, polysilane compounds, polyorganosiloxane compounds, and tetraorganosilane compounds are more preferable.

(ポリシラザン化合物)
ポリシラザン化合物は、分子内に、(−Si−N−)結合を含む繰り返し単位を有する高分子であり、下記式(1)で表される繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。
(Polysilazane compound)
The polysilazane compound is a polymer having a repeating unit containing a (—Si—N—) bond in the molecule, and examples thereof include a compound having a repeating unit represented by the following formula (1).

Figure 0005593175
Figure 0005593175

式(1)中、R4、R5、R6は、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するシクロアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基又はアルキルシリル基等の非加水分解性基を表す。
これらの中でも、R4〜R6としては、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、又はフェニル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
また、式(1)で表される繰り返し単位を有するポリシラザン化合物としては、入手容易性及び優れたガスバリア性を有する層を形成できる観点から、R4〜R6が全て水素原子である無機ポリシラザン、又はR4〜R6の少なくとも1つが水素原子ではない有機ポリシラザンが好ましく、無機ポリシラザンがより好ましく、ペルヒドロポリシラザンが更に好ましい。
ポリシラザン化合物の数平均分子量は、特に限定されないが、100〜50,000であるのが好ましい。
In formula (1), R 4 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl group, an unsubstituted or substituted cycloalkyl group, an unsubstituted or substituted group. Represents a non-hydrolyzable group such as an alkenyl group having a substituent, an unsubstituted or substituted aryl group or an alkylsilyl group.
Among these, as R < 4 > -R < 6 >, a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a phenyl group is preferable, and a hydrogen atom is especially preferable.
Moreover, as a polysilazane compound having a repeating unit represented by the formula (1), an inorganic polysilazane in which R 4 to R 6 are all hydrogen atoms from the viewpoint of easy availability and formation of an excellent gas barrier property, Alternatively, organic polysilazane in which at least one of R 4 to R 6 is not a hydrogen atom is preferable, inorganic polysilazane is more preferable, and perhydropolysilazane is further preferable.
The number average molecular weight of the polysilazane compound is not particularly limited, but is preferably 100 to 50,000.

(ポリカルボシラン化合物)
ポリカルボシラン化合物は、分子内の主鎖に、(−Si−C−)結合を含む繰り返し単位を有する高分子化合物であり、下記式(2)で表される繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。
(Polycarbosilane compound)
The polycarbosilane compound is a polymer compound having a repeating unit containing a (—Si—C—) bond in the main chain in the molecule, and includes a compound having a repeating unit represented by the following formula (2). .

Figure 0005593175
Figure 0005593175

式(2)中R7、R8は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、又は1価の複素環基を表す。R7、R8は、それぞれ同一であっても相異なっていてもよい。また、R9は、アルキレン基、アリーレン基又は2価の複素環基を表す。 In the formula (2), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, or a monovalent heterocyclic group. R 7 and R 8 may be the same or different from each other. R 9 represents an alkylene group, an arylene group or a divalent heterocyclic group.

これらの中でも、式(2)で表される繰り返し単位を有するポリカルボシラン化合物としては、R7、R8が、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアリール基であり、R9がアルキレン基又はアリーレン基であるものが好ましく、R7、R8がそれぞれ独立して、水素原子又はアルキル基であり、R9がアルキレン基であるものがより好ましく、R7、R8がそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基であり、R9が炭素数1〜6のアルキレン基であるものが更に好ましい。
ポリカルボシラン化合物の重量平均分子量は、通常400〜12000である。
Among these, as a polycarbosilane compound having a repeating unit represented by the formula (2), R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and R 9 is an alkylene. A group or an arylene group is preferred, R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group, R 9 is preferably an alkylene group, and R 7 and R 8 are each independently And a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 9 is more preferably an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
The weight average molecular weight of the polycarbosilane compound is usually 400 to 12000.

(ポリシラン化合物)
ポリシラン化合物は、分子内に、(−Si−Si−)結合を含む繰り返し単位を有する高分子化合物である。かかるポリシラン化合物としては、下記式(3)で表される構造単位から選択された少なくとも一種の繰り返し単位を有する化合物が挙げられる。
(Polysilane compound)
The polysilane compound is a polymer compound having a repeating unit containing a (—Si—Si—) bond in the molecule. Examples of such polysilane compounds include compounds having at least one repeating unit selected from structural units represented by the following formula (3).

Figure 0005593175
Figure 0005593175

式(3)中、R10、R11は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシル基、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、置換基を有していてもよいアミノ基、シリル基、又はハロゲン原子を表す。 In formula (3), R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, hydroxyl group, alkyl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group, aryl group, alkoxy group, cycloalkyloxy group, aryl An oxy group, an aralkyloxy group, an amino group optionally having a substituent, a silyl group, or a halogen atom is represented.

用いるポリシラン化合物としては、式(3)において、R10及びR11が、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基又はシリル基であるものが好ましく、R10及びR11が、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基又はアリール基であるものがより好ましく、R10及びR11が、それぞれ独立して、炭素数1〜4のアルキル基又はアリール基であるものが更に好ましい。 As the polysilane compound to be used, in the formula (3), R 10 and R 11 are preferably each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, or a silyl group, R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, more preferably those wherein the alkyl group or aryl group, R 10 and R 11 are each independently an alkyl group or an aryl group having from 1 to 4 carbon atoms Is more preferred.

用いるポリシラン化合物の形態は特に制限されず、非環状ポリシラン(直鎖状ポリシラン、分岐鎖状ポリシラン、網目状ポリシラン等)や、環状ポリシラン等の単独重合体であっても、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体、くし型共重合体等の共重合体であってもよい。
ポリシラン化合物が非環状ポリシランである場合は、ポリシラン化合物の末端基(末端置換基)は、水素原子であっても、ハロゲン原子(塩素原子等)、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、シリル基等であってもよい。
The form of the polysilane compound to be used is not particularly limited, and it may be a random copolymer, a block even if it is a homopolymer such as acyclic polysilane (linear polysilane, branched polysilane, network polysilane, etc.) or cyclic polysilane. Copolymers such as copolymers, alternating copolymers, and comb copolymers may also be used.
When the polysilane compound is an acyclic polysilane, the terminal group (terminal substituent) of the polysilane compound is a hydrogen atom, a halogen atom (such as a chlorine atom), an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a silyl group, etc. It may be.

ポリシラン化合物の重量平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは300〜100000、より好ましくは400〜50000、更に好ましくは500〜30000である。   Although the weight average molecular weight of a polysilane compound is not specifically limited, Preferably it is 300-100,000, More preferably, it is 400-50000, More preferably, it is 500-30000.

(ポリオルガノシロキサン化合物)
ポリオルガノシロキサン化合物は、主鎖構造に制限は無く、直鎖状、ラダー状、籠上のいずれであってもよい。
例えば、直鎖状の主鎖構造としては下記式(4)で表される構造が、ラダー状の主鎖構造としては下記式(5)で表される構造が、籠状の主鎖構造としては下記式(6)で表される構造が例示される。
(Polyorganosiloxane compound)
The polyorganosiloxane compound is not limited in the main chain structure, and may be any of a straight chain, a ladder, and a cage.
For example, the structure represented by the following formula (4) as a linear main chain structure, and the structure represented by the following formula (5) as a ladder main chain structure are Is exemplified by the structure represented by the following formula (6).

Figure 0005593175
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式(4)〜(6)中、Rx、Ry、Rzは、それぞれ独立して、水素原子、無置換若しくは置換基を有するアルキル基、無置換若しくは置換基を有するアルケニル基、無置換若しくは置換基を有するアリール基等の非加水分解性基を表す。式中のRx、Ry、Rzは、それぞれ同一でも相異なっていてもよいが、式(1)中のRxが2つとも水素原子であることはない。
これらの中でも、Rx、Ry、Rzとしては、それぞれ独立して、無置換若しくは置換基を有する、炭素数1〜6のアルキル基又はフェニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、3−グリシドキシプロピル基、又はフェニル基が特に好ましい。
In formulas (4) to (6), Rx, Ry, and Rz each independently represent a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl group, an unsubstituted or substituted alkenyl group, an unsubstituted or substituted group. Represents a non-hydrolyzable group such as an aryl group having Rx, Ry, and Rz in the formula may be the same or different from each other, but both Rx in the formula (1) are not hydrogen atoms.
Among these, as Rx, Ry, and Rz, each independently, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group is preferable, and a methyl group, an ethyl group, a propyl group, 3- A glycidoxypropyl group or a phenyl group is particularly preferred.

(テトラオルガノシラン化合物)
テトラオルガノシラン化合物は、ケイ素元素に4個の加水分解性基が結合した化合物であり、具体的には、式(7):SiX4で表される化合物である。
式(7):SiX4中、Xは加水分解置換基を表し、互いに同一であっても相異なっていてもよい。
Xとしては、式(8):OR(Rは炭素数1〜10の炭化水素基、又はアルコキシ基を表す。)で表される基、式(9):OSi(Ra)(Rb)(Rc)で表される基(Ra、Rb、Rcはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又はフェニル基を表す。)、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。
(Tetraorganosilane compound)
The tetraorganosilane compound is a compound in which four hydrolyzable groups are bonded to a silicon element. Specifically, the tetraorganosilane compound is a compound represented by the formula (7): SiX 4 .
Formula (7): In SiX 4 , X represents a hydrolysis substituent and may be the same or different from each other.
X is a group represented by the formula (8): OR (R represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group), and the formula (9): OSi (R a ) (R b ) A group represented by (R c ) (R a , R b , and R c each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group), a chlorine atom, a bromine atom, etc. And the like.

テトラオルガノシラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシラン、テトラブトキシシラン等のテトラ(C1〜C10)アルコキシシラン;トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、トリプロポキシクロロシラン等のトリ(C1〜C10)アルコキシハロゲノシラン;ジメトキジシクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、ジプロポキシジクロロシラン等のジ(C1〜C10)ジハロゲノアルコキシシラン;メトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシラン、プロポキシトリクロロシラン等のモノ(C1〜C10)アルコキシトリハロゲノシラン;テトラクロロシラン、テトラブロモシラン等のテトラハロゲノシラン;が挙げられる。ここで、(C1〜C10)は炭素数が1〜10であることを表す。
これらのテトラオルガノシラン化合物は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the tetraorganosilane compound include tetra (C1-C10) alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, and tetrabutoxysilane; trimethoxychlorosilane, triethoxychlorosilane, and tripropoxy Tri (C1-C10) alkoxyhalogenosilanes such as chlorosilane; Di (C1-C10) dihalogenoalkoxysilanes such as dimethoxycyclosilane, diethoxydichlorosilane, dipropoxydichlorosilane; methoxytrichlorosilane, ethoxytrichlorosilane, propoxytri Mono (C1-C10) alkoxytrihalogenosilanes such as chlorosilane; tetrahalogenosilanes such as tetrachlorosilane and tetrabromosilane; Here, (C1 to C10) represents that the carbon number is 1 to 10.
These tetraorganosilane compounds can be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、取り扱い性に優れ、ガスバリア性の観点から、テトラ(C1〜C10)アルコキシシランが好ましい。なお、これらのテトラオルガノシラン化合物は、適当な溶媒中、水及び必要に応じて触媒の存在下で、加水分解・脱水縮合させることが好ましい。   Among these, tetra (C1-C10) alkoxysilane is preferable from the viewpoint of excellent handleability and gas barrier properties. These tetraorganosilane compounds are preferably hydrolyzed and dehydrated in a suitable solvent in the presence of water and optionally a catalyst.

テトラオルガノシラン化合物の加水分解・脱水縮合物の重量平均分子量は、特に限定されないが、機械的強度にも優れるガスバリア層を得る観点から、好ましくは200〜50000、より好ましくは200〜30000、更に好ましくは200〜10000である。重量平均分子量が200以上であれば、十分な被膜形成能力を有し、50000以下であれば、十分な機械強度を有する膜が形成される。   The weight average molecular weight of the hydrolysis / dehydration condensate of the tetraorganosilane compound is not particularly limited, but is preferably 200 to 50000, more preferably 200 to 30000, and still more preferably from the viewpoint of obtaining a gas barrier layer having excellent mechanical strength. Is 200-10000. If the weight average molecular weight is 200 or more, it has sufficient film forming ability, and if it is 50000 or less, a film having sufficient mechanical strength is formed.

ガスバリア層を形成する方法としては、特に限定されず、例えば、上述の材料を有機溶剤に溶解した溶液を、上記基材上に塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。塗布方法としては、特に限定されず、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
また、他の形成方法としては、上記材料を蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱CVD法、プラズマCVD法等により基材上に形成する方法が挙げられる。
なお、以下、基材上にガスバリア層が形成されたものを「ガスバリアフィルム」ともいう。
The method for forming the gas barrier layer is not particularly limited. For example, a method in which a solution in which the above-described material is dissolved in an organic solvent is applied on the substrate, and the obtained coating film is appropriately dried. Is mentioned. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include known coating methods such as spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating.
As another forming method, a method of forming the above-mentioned material on a substrate by vapor deposition, sputtering, ion plating, thermal CVD, plasma CVD, or the like can be given.
In the following, a gas barrier layer formed on a substrate is also referred to as a “gas barrier film”.

形成されるガスバリア層の厚みは、ガスバリア性能と取り扱い性の観点から、好ましくは20nm〜100μm、より好ましくは30〜500nm、更に好ましくは40〜200nmである。なお、本発明においては、ガスバリア層が、ナノオーダーであっても、十分なガスバリア性能を有する封止用粘着シートを得ることができる。   The thickness of the formed gas barrier layer is preferably 20 nm to 100 μm, more preferably 30 to 500 nm, and still more preferably 40 to 200 nm, from the viewpoint of gas barrier performance and handleability. In addition, in this invention, even if a gas barrier layer is nano order, the adhesive sheet for sealing which has sufficient gas barrier performance can be obtained.

さらに、ガスバリア層の表面に対して、イオンを注入することが好ましい。イオンを注入することで、高い透明性をもったままガスバリア性能を向上させることができる。イオンを注入する工程としては、特に限定されないが、例えば、基材上にガスバリア層を形成した後、該ガスバリア層にイオンを注入する方法が挙げられる。   Furthermore, it is preferable to implant ions into the surface of the gas barrier layer. By implanting ions, gas barrier performance can be improved while maintaining high transparency. The step of implanting ions is not particularly limited, and examples thereof include a method of forming a gas barrier layer on a substrate and then implanting ions into the gas barrier layer.

注入されるイオンとしては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス;フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン;金、銀、銅、白金、ニッケル、パラジウム、クロム、チタン、モリブデン、ニオブ、タンタル、タングステン、アルミニウム等の金属のイオン等が挙げられる。
これらの中でも、より簡便に注入することができ、特に優れたガスバリア性能と透明性を有する封止用粘着シートを得る観点から、水素、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、及びクリプトンからなる群から選ばれる少なくとも一種のイオンが好ましい。
なお、イオンの注入量は、封止用粘着シートの使用目的(必要なガスバリア性、透明性等)等を考慮して適宜決定される。
Examples of implanted ions include rare gases such as argon, helium, neon, krypton, and xenon; ions such as fluorocarbon, hydrogen, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, chlorine, fluorine, and sulfur; gold, silver, copper, and platinum And ions of metals such as nickel, palladium, chromium, titanium, molybdenum, niobium, tantalum, tungsten, and aluminum.
Among these, hydrogen, nitrogen, oxygen, argon, helium, neon, xenon, and krypton can be injected more easily and from the viewpoint of obtaining a pressure-sensitive adhesive sheet having excellent gas barrier performance and transparency. At least one ion selected from the group consisting of
The ion implantation amount is appropriately determined in consideration of the purpose of use of the sealing sheet for sealing (necessary gas barrier properties, transparency, etc.).

イオン注入する方法としては、電界により加速されたイオン(イオンビーム)を照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法(プラズマイオン注入法)等が挙げられる。これらの中でも、簡便に優れたガスバリア性等を有する封止用粘着シートを得る観点から、プラズマイオン注入法が好ましい。
プラズマイオン注入法は、例えば、プラズマ生成ガスを含む雰囲気下でプラズマを発生させ、ガスバリア層に負の高電圧パルスを印加することにより、該プラズマ中のイオン(陽イオン)を、ガスバリア層の表面部に注入して行うことができる。
Examples of the ion implantation method include a method of irradiating ions accelerated by an electric field (ion beam), a method of implanting ions in plasma (plasma ion implantation method), and the like. Among these, the plasma ion implantation method is preferable from the viewpoint of obtaining a pressure-sensitive adhesive sheet for sealing having excellent gas barrier properties and the like.
In the plasma ion implantation method, for example, a plasma is generated in an atmosphere containing a plasma generation gas, and a negative high voltage pulse is applied to the gas barrier layer, so that ions (positive ions) in the plasma are changed to the surface of the gas barrier layer. It can be performed by injecting into the part.

イオンが注入される部分の厚みは、イオンの種類や印加電圧、処理時間等の注入条件により制御することができ、ガスバリア層の厚み、封止用粘着シートの使用目的等に応じて決定すればよいが、通常10〜1000nm、好ましくは10〜200nmである。   The thickness of the portion into which ions are implanted can be controlled by implantation conditions such as ion type, applied voltage, treatment time, etc., and can be determined according to the thickness of the gas barrier layer, the purpose of use of the sealing adhesive sheet, etc. Although it is good, it is usually 10 to 1000 nm, preferably 10 to 200 nm.

このようにして得られたガスバリアフィルムの、ガスバリア層の厚み75nmにおける水蒸気透過率は、40℃、90%RHにおいて、好ましくは0.5g/(m2・day)以下、より好ましくは0.05g/(m2・day)以下である。なお、ガスバリアフィルムの水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。例えば、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率は、実施例に記載の装置を使用して測定することができる。 The gas barrier film thus obtained has a water vapor transmission rate at a gas barrier layer thickness of 75 nm of 40 g and 90% RH, preferably 0.5 g / (m 2 · day) or less, more preferably 0.05 g. / (M 2 · day) or less. In addition, the transmittance | permeability, such as water vapor | steam, of a gas barrier film can be measured using a well-known gas-permeability measuring apparatus. For example, the water vapor transmission rate of the gas barrier film can be measured using the apparatus described in the examples.

〔(4)その他の層〕
上述の(1)〜(3)以外のその他の層としては、導電体層、プライマー層等が挙げられる。なお、その他の層が積層される位置は、限定されず、目的に応じて適宜選択される。
<導電体層>
導電体層を構成する材料としては、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO);フッ素をドープした酸化スズ(FTO);酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛インジウム(IZO)等の導電性金属酸化物;金、銀、クロム、ニッケル等の金属;これら金属と導電性金属酸化物との混合物;ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質;ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール等の有機導電性材料;等が挙げられる。導電体層は、これらの材料からなる層が複数積層されてなる積層体であってもよい。
これらの中でも、透明性の点から、導電性金属酸化物が好ましく、ITOが特に好ましい。
[(4) Other layers]
Examples of other layers other than the above (1) to (3) include a conductor layer and a primer layer. In addition, the position where another layer is laminated | stacked is not limited, According to the objective, it selects suitably.
<Conductor layer>
Examples of the material constituting the conductor layer include metals, alloys, metal oxides, electrically conductive compounds, and mixtures thereof. Specifically, tin oxide (ATO) doped with antimony; tin oxide (FTO) doped with fluorine; conductive such as tin oxide, zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) Metal such as gold, silver, chromium and nickel; mixtures of these metals and conductive metal oxides; inorganic conductive materials such as copper iodide and copper sulfide; organic conductive materials such as polyaniline, polythiophene and polypyrrole Material, etc. The conductor layer may be a laminate in which a plurality of layers made of these materials are laminated.
Among these, a conductive metal oxide is preferable from the viewpoint of transparency, and ITO is particularly preferable.

導電体層の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱CVD法、プラズマCVD法等が挙げられる。これらの中でも、簡便に導電体層が形成できることから、スパッタリング法が好ましい。
スパッタリング法は、真空槽内に放電ガス(アルゴン等)を導入し、ターゲットと基板との間に高周波電圧あるいは直流電圧を加えて放電ガスをプラズマ化し、該プラズマをターゲットに衝突させることでターゲット材料を飛ばし、基板に付着させて薄膜を得る方法である。ターゲットとしては、前記導電体層を形成する材料からなるものが使用される。
Examples of the method for forming the conductor layer include a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a thermal CVD method, a plasma CVD method, and the like. Among these, the sputtering method is preferable because the conductor layer can be easily formed.
The sputtering method introduces a discharge gas (such as argon) into a vacuum chamber, applies a high-frequency voltage or a direct current voltage between the target and the substrate to turn the discharge gas into plasma, and collides the plasma with the target material. This is a method of obtaining a thin film by skipping and attaching to a substrate. As the target, a target made of a material for forming the conductor layer is used.

導電体層の厚さはその用途等に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは10nm〜50μm、より好ましくは20nm〜20μmである。得られる導電体層の表面抵抗率は、好ましくは1000Ω/□以下である。   The thickness of the conductor layer may be appropriately selected according to the application and the like, but is preferably 10 nm to 50 μm, more preferably 20 nm to 20 μm. The surface resistivity of the obtained conductor layer is preferably 1000Ω / □ or less.

形成された導電体層には、必要に応じてパターニングを行ってもよい。パターニングする方法としては、フォトリソグラフィー等による化学的エッチング、レーザ等を用いた物理的エッチング等、マスクを用いた真空蒸着法やスパッタリング法、リフトオフ法、印刷法等が挙げられる。   The formed conductor layer may be patterned as necessary. Examples of the patterning method include chemical etching by photolithography and the like, physical etching using a laser and the like, vacuum deposition method using a mask, sputtering method, lift-off method, printing method, and the like.

(プライマー層)
プライマー層は、基材層とガスバリア層との層間密着性を高める役割を果たす。プライマー層を設けることにより、層間密着性及び表面平滑性に極めて優れる封止用粘着シートを得ることができる。
プライマー層を構成する材料としては、特に限定されず、公知のものが使用できる。例えば、ケイ素含有化合物;光重合性モノマー及び/又は光重合性プレポリマーからなる光重合性化合物、及び少なくとも可視光域の光でラジカルを発生する重合開始剤を含む光重合性組成物;ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂(特にポリアクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール等とイソシアネート化合物との2液硬化型樹脂)、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール系樹脂、ニトロセルロース系樹脂等の樹脂類;アルキルチタネート;エチレンイミン;等が挙げられる。これらの材料は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(Primer layer)
A primer layer plays the role which improves the interlayer adhesiveness of a base material layer and a gas barrier layer. By providing the primer layer, it is possible to obtain an adhesive sheet for sealing that is extremely excellent in interlayer adhesion and surface smoothness.
It does not specifically limit as a material which comprises a primer layer, A well-known thing can be used. For example, a photopolymerizable composition comprising a silicon-containing compound; a photopolymerizable compound comprising a photopolymerizable monomer and / or a photopolymerizable prepolymer, and a polymerization initiator that generates radicals at least in the visible light region; Resin, polyurethane resin (especially two-part curable resin of polyacryl polyol, polyester polyol, polyether polyol, etc. and isocyanate compound), acrylic resin, polycarbonate resin, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral Resins such as resins and nitrocellulose resins; alkyl titanates; ethyleneimines; These materials can be used alone or in combination of two or more.

プライマー層は、プライマー層を構成する材料を適当な溶剤に溶解又は分散してなるプライマー層形成用溶液を、基材層の片面又は両面に塗付し、得られた塗膜を乾燥させ、所望により加熱することより形成することができる。
プライマー層形成用溶液を基材に塗付する方法としては、通常の湿式コーティング方法を用いることができる。例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、エアナイフコート、ロールナイフコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。
プライマー層形成用溶液の塗膜を乾燥する方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射等、従来公知の乾燥方法が採用できる。プライマー層の厚みは、好ましくは10〜1000nmである。
For the primer layer, a primer layer forming solution obtained by dissolving or dispersing the material constituting the primer layer in an appropriate solvent is applied to one or both sides of the base material layer, and the obtained coating film is dried to obtain a desired layer. It can form by heating by.
As a method of applying the primer layer forming solution to the substrate, a normal wet coating method can be used. Examples include dipping method, roll coating, gravure coating, knife coating, air knife coating, roll knife coating, die coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method and the like.
As a method for drying the coating film of the primer layer forming solution, conventionally known drying methods such as hot air drying, hot roll drying, and infrared irradiation can be employed. The thickness of the primer layer is preferably 10 to 1000 nm.

また、得られたプライマー層にも、上述のガスバリア層と同様に、イオン注入を行ってもよい。プライマー層にもイオン注入を行うことにより、より優れたガスバリア性能を得ることができる。   Moreover, you may ion-implant into the obtained primer layer similarly to the above-mentioned gas barrier layer. By performing ion implantation also on the primer layer, better gas barrier performance can be obtained.

〔封止用粘着シートの特性〕
本発明の封止用粘着シートの形状は、特に制限されず、例えば、シート状、直方体状、多角柱状、筒状等が挙げられる。例えば、電子デバイス用部材として用いる場合には、シート状であることが好ましい。
[Characteristics of sealing adhesive sheet]
The shape of the sealing adhesive sheet of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a sheet shape, a rectangular parallelepiped shape, a polygonal column shape, and a cylindrical shape. For example, when it is used as a member for an electronic device, it is preferably a sheet.

本発明の封止用粘着シートの水蒸気透過率は、40℃、90%RH(RH:相対湿度)において、好ましくは0.5g/(m2・day)以下、より好ましくは0.05g/(m2・day)以下、更に好ましくは0.005g/(m2・day)以下、特に好ましくは0.0005g/(m2・day)以下である。水蒸気透過率が0.5g/(m2・day)であれば、有機EL素子等の封止に用いた場合、長時間の駆動や駆動環境によっても、有機EL素子等の封止している素子の特性の劣化を抑制することができる。封止用粘着シートの水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。本発明においては、実施例に記載の方法で測定される。 The water vapor permeability of the sealing adhesive sheet of the present invention is preferably 0.5 g / (m 2 · day) or less, more preferably 0.05 g / (at 40 ° C. and 90% RH (RH: relative humidity). m 2 · day) or less, more preferably 0.005 g / (m 2 · day) or less, and particularly preferably 0.0005 g / (m 2 · day) or less. When the water vapor transmission rate is 0.5 g / (m 2 · day), when used for sealing an organic EL element or the like, the organic EL element or the like is sealed even by long-time driving or driving environment. Deterioration of element characteristics can be suppressed. The transmittance of water vapor or the like of the sealing adhesive sheet can be measured using a known gas permeability measuring device. In this invention, it measures by the method as described in an Example.

本発明の封止用粘着シートは、封止用部材として、有機トランジスタ、有機メモリー、有機EL等の有機デバイス;液晶ディスプレイ;電子ペーパー;薄膜トランジスタ;エレクトロクロミック;電気化学発光デバイス;タッチパネル;ディスプレイ;太陽電池;熱電変換デバイス;圧電変換デバイス;蓄電デバイス;等の電子デバイス用途に用いることができる。例えば、図2に、本発明の封止用粘着シートで封止した有機EL素子を有する有機デバイスの例を示す。有機EL素子11は、ガラス基板12と、該ガラス基板12上に構造体13を備える。構造体は、少なくとも一対の対向する電極と、該電極間に配置される正孔輸送層や発光層等の有機層とを有する。例えば、図2における構造体13は、一対の対向する電極14a、14bの間に有機層15を有している。一方、基材2上にガスバリア層3、及び粘着剤層4が積層した本発明の封止用粘着シート1は、該構造体13の上部、下部、及び/又は周囲に配置される。封止用粘着シート1の粘着剤層4が、構造体14とガラス基板12と密着し固着されることにより有機EL素子11が封止され、有機デバイス10となる。封止の方法としては、ガラス基板12上に構造体14を形成した後、本発明の封止用粘着シート1を貼付して封止される。本発明の封止用粘着シートを用いれば、簡便に封止することができる。
このように本発明の封止用粘着シートにより封止された有機EL素子を有する有機デバイスは、封止用粘着シートが、優れたガスバリア性を有し、かつ粘着剤層が、紫外線照射下の環境下での耐久性に優れているため、長時間の駆動や駆動環境によっても、有機EL素子の特性の劣化を抑制しうる。
なお、当該効果は、有機デバイスに限らず、上述したような種々の電子デバイス用途でも同様効果が奏される。
The sealing pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention has an organic device such as an organic transistor, organic memory, or organic EL as a sealing member; liquid crystal display; electronic paper; thin film transistor; electrochromic; electrochemiluminescence device; It can be used for electronic devices such as batteries; thermoelectric conversion devices; piezoelectric conversion devices; For example, in FIG. 2, the example of the organic device which has an organic EL element sealed with the adhesive sheet for sealing of this invention is shown. The organic EL element 11 includes a glass substrate 12 and a structure 13 on the glass substrate 12. The structure includes at least a pair of opposed electrodes and an organic layer such as a hole transport layer or a light emitting layer disposed between the electrodes. For example, the structure 13 in FIG. 2 includes an organic layer 15 between a pair of opposed electrodes 14a and 14b. On the other hand, the pressure-sensitive adhesive sheet 1 for sealing of the present invention in which the gas barrier layer 3 and the pressure-sensitive adhesive layer 4 are laminated on the base material 2 is disposed on the upper portion, the lower portion, and / or the periphery of the structure 13. The organic EL element 11 is sealed by the pressure-sensitive adhesive layer 4 of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 for sealing, and is bonded to the structure 14 and the glass substrate 12 to form the organic device 10. As a sealing method, after forming the structure 14 on the glass substrate 12, the sealing adhesive sheet 1 of the present invention is pasted and sealed. If the sealing adhesive sheet of this invention is used, it can seal easily.
As described above, the organic device having the organic EL element sealed with the sealing adhesive sheet of the present invention has a sealing adhesive sheet having an excellent gas barrier property, and the adhesive layer is under ultraviolet irradiation. Since the durability under the environment is excellent, the deterioration of the characteristics of the organic EL element can be suppressed even by a long-time driving or driving environment.
In addition, the said effect is show | played not only in an organic device but the same effect also in various electronic device uses as mentioned above.

以下の実施例において用いた水蒸気透過率測定装置と測定条件、有機デバイスの評価基準は、以下のとおりである。   The water vapor transmission rate measuring apparatus, measurement conditions, and evaluation criteria for organic devices used in the following examples are as follows.

<水蒸気透過率測定装置>
以下の実施例、及び比較例で得られた封止用粘着シートについて、40℃、相対湿度90%の条件下で下記装置を用いて水蒸気透過率を測定した。
・水蒸気透過率が0.01g/(m2・day)以上のとき:製品名「L89−500」(LYSSY社製)、
・水蒸気透過率が0.01g/(m2・day)未満のとき:製品名「deltaperm」(TECHNOLOX社製)
<Water vapor transmission rate measuring device>
About the pressure-sensitive adhesive sheet for sealing obtained in the following Examples and Comparative Examples, the water vapor transmission rate was measured using the following apparatus under the conditions of 40 ° C. and relative humidity of 90%.
When the water vapor transmission rate is 0.01 g / (m 2 · day) or more: product name “L89-500” (manufactured by LYSSY),
・ When water vapor transmission rate is less than 0.01 g / (m 2 · day): Product name “deltaperm” (manufactured by TECHNOLOX)

<有機デバイスの評価基準>
実施例、及び比較例で得られた封止用粘着シートを用いて作製した有機デバイスを、標準環境下(温度23℃、相対湿度50%)で200時間放置した後、有機EL素子を起動させ、ダークスポット(非発光箇所)を観察した。
また、実施例、及び比較例で得られた封止用粘着シートの粘着剤層の面をむき出しにした状態で、紫外線フェードメータU−48(スガ試験機(株)製)を用いて、500W/m2(波長300−700nm)の紫外線を50時間連続照射(以下、FOMともいう)した後、同様に有機デバイスを作製した。そして、標準環境下(温度23℃、相対湿度50%)で200時間放置した後、有機EL素子を起動させ、ダークスポット(非発光箇所)を観察した。
観察した素子を評価基準は以下のとおりである。
・「◎」:ダークスポットの発生が全く見られない場合(ダークスポットの発生抑制効果が非常に優れている)。
・「○」:ダークスポットの発生が発光面積の5%未満の場合(ダークスポットの発生抑制効果が優れている)。
・「×」:ダークスポットの発生が発光面積の5%以上の場合(ダークスポットの発生抑制効果が劣る)。
・「−」:粘着剤層の埋め込み性が低く、有機EL素子へのラミネートが出来ずに、均一な発光面を得られない場合。
<Evaluation criteria for organic devices>
The organic device produced using the adhesive sheet for sealing obtained in Examples and Comparative Examples was left in a standard environment (temperature 23 ° C., relative humidity 50%) for 200 hours, and then the organic EL element was activated. A dark spot (non-light emitting portion) was observed.
In addition, with the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet for sealing obtained in Examples and Comparative Examples exposed, using an ultraviolet fade meter U-48 (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.), 500 W After continuously irradiating UV light of / m 2 (wavelength 300-700 nm) for 50 hours (hereinafter also referred to as FOM), an organic device was similarly produced. Then, after being allowed to stand for 200 hours in a standard environment (temperature 23 ° C., relative humidity 50%), the organic EL element was activated, and dark spots (non-light emitting portions) were observed.
Evaluation criteria for the observed elements are as follows.
-“◎”: When dark spots are not observed at all (the dark spot occurrence suppressing effect is very excellent).
“◯”: When the occurrence of dark spots is less than 5% of the light emitting area (the effect of suppressing the occurrence of dark spots is excellent).
“X”: When dark spots are generated by 5% or more of the light emitting area (the effect of suppressing dark spots is poor).
"-": When the embedding property of the pressure-sensitive adhesive layer is low, lamination to the organic EL element cannot be performed, and a uniform light emitting surface cannot be obtained.

〔実施例1〕
<粘着剤組成物の調製>
ポリイソブチレン系樹脂(A)として「オパノールB50(BASF製、Mw:34万)」100質量部、ポリブテン樹脂(B)として「日石ポリブテン グレードHV−1900(新日本石油社製、Mw:1900)」30質量部、ヒンダードアミン系光安定剤(C)として「TINUVIN765(チバ・ジャパン製、3級のヒンダードアミン基を有する)」0.5質量部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)として「IRGANOX1010(チバ・ジャパン製、ヒンダードフェノール基のβ位が2つともターシャリーブチル基を有する)」0.5質量部、及び環状オレフィン系重合体(E)として「Eastotac H−100L Resin(イーストマンケミカル.Co.製)」50質量部を、トルエンに溶解し、固形分濃度約25質量%の粘着剤組成物を調製した。
[Example 1]
<Preparation of pressure-sensitive adhesive composition>
100 parts by weight of “OPanol B50 (manufactured by BASF, Mw: 340,000)” as polyisobutylene resin (A), and “Nisseki Polybutene Grade HV-1900 (manufactured by Nippon Oil Corporation, Mw: 1900) as polybutene resin (B) 30 parts by weight, 0.5 parts by weight of “TINUVIN 765 (manufactured by Ciba Japan, having a tertiary hindered amine group)” as a hindered amine light stabilizer (C), “IRGANOX 1010 as a hindered phenolic antioxidant (D)” (Ciba Japan, both β-positions of hindered phenol groups have a tertiary butyl group) 0.5 parts by mass, and cyclic olefin polymer (E) “Eastotac H-100L Resin (Eastman Chemical Co.) ”50 parts by mass dissolved in toluene and concentrated in solids About 25% by weight of the adhesive composition was prepared.

<封止用粘着シートの作製>
ガスバリア層として、アルミニウム(Al)が蒸着されたポリエチレンテレフタレートフィルム「アルペット12/34(アジアアルミ(株)社製)」をガスバリアフィルムとして用い、調製した上記粘着剤組成物の溶液を乾燥後に形成される粘着剤層の厚さが20μmとなるようにアルミニウム側(ガスバリア層側)に塗工し、120℃で2分間乾燥させて粘着剤層を形成した。次に、形成した粘着剤層面に対して、剥離シートとして、厚さ38μmの剥離処理をしたポリエチレンテレフタレートフィルムの剥離処理面を貼付して、封止用粘着シートを作製した。
<Preparation of sealing sheet for sealing>
As the gas barrier layer, a polyethylene terephthalate film “Alpet 12/34 (produced by Asia Aluminum Co., Ltd.)” on which aluminum (Al) is deposited is used as a gas barrier film, and the prepared pressure-sensitive adhesive composition solution is formed after drying. The pressure-sensitive adhesive layer was coated on the aluminum side (gas barrier layer side) so as to have a thickness of 20 μm, and dried at 120 ° C. for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Next, the release treatment surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm was applied as a release sheet to the pressure-sensitive adhesive layer surface to prepare an adhesive sheet for sealing.

<有機EL素子、有機デバイスの作製>
陽極として、スパッタリングによって酸化インジウムスズ(ITO)膜(厚さ:150nm、シート抵抗:30Ω/スクエア)を付けたガラス基板の表面を、溶媒洗浄とUV/オソン処理により洗浄した。その後、ITO膜上に、有機材料であるN,N’−ビス(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ビス(フェニル)−ベンジデン)を60nm、トリス(8−ヒドロキシ−キノリネート)アルミニウムを40nm、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリンを10nm、(8−ヒドロキシ−キノリノレート)リチウムを10nm、0.1〜0.2nm/sの速度で順次蒸着し、発光層を形成した。有機材料はすべて「Luminescence Technology Corp.製」である。最後に、その上に陰極としてアルミニウム(Al)(高純度化学研究所(株)社製)を0.1nm/sの速度で100nm蒸着して、有機EL素子を作製した。なお、蒸着時の真空度は、全て1×10-4Pa以下で行った。
ここで、上述の方法で作製した封止用粘着シートを、窒素雰囲気下において、120℃に加熱したホットプレート上で10分間乾燥した後、室温まで低下するのを確認してから、有機EL素子の陰極を完全に覆う形でラミネートし、有機デバイスを作製した。
<Production of organic EL elements and organic devices>
As an anode, the surface of a glass substrate provided with an indium tin oxide (ITO) film (thickness: 150 nm, sheet resistance: 30 Ω / square) by sputtering was cleaned by solvent cleaning and UV / Osson treatment. Thereafter, N, N′-bis (naphthalen-1-yl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidene), which is an organic material, is 60 nm and tris (8-hydroxy-quinolinate) aluminum on the ITO film. 40 nm, 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline, 10 nm, (8-hydroxy-quinolinolate) lithium was sequentially deposited at a rate of 10 nm, 0.1-0.2 nm / s to emit light. A layer was formed. All organic materials are “made by Luminescence Technology Corp.”. Finally, aluminum (Al) (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.) was deposited as a cathode at a rate of 100 nm at a rate of 0.1 nm / s to produce an organic EL device. Note that the degree of vacuum at the time of vapor deposition was 1 × 10 −4 Pa or less.
Here, the sealing pressure-sensitive adhesive sheet produced by the above-described method was dried for 10 minutes on a hot plate heated to 120 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then confirmed to decrease to room temperature. An organic device was manufactured by laminating the cathode completely.

〔実施例2〕
実施例1において、ヒンダードアミン系光安定剤(C)を加えない以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔実施例3〕
実施例1において、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)を加えない以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔実施例4〕
実施例2において、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)を1.0質量部に変えた以外は、実施例2と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔実施例5〕
実施例3において、ヒンダードアミン系光安定剤(C)を1.0質量部に変えた以外は、実施例3と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
[Example 2]
In Example 1, except that the hindered amine light stabilizer (C) was not added, an adhesive sheet for sealing and an organic device were produced in the same manner as in Example 1.
Example 3
In Example 1, the adhesive sheet for sealing and the organic device were produced like Example 1 except not adding a hindered phenolic antioxidant (D).
Example 4
In Example 2, the adhesive sheet for sealing and the organic device were produced like Example 2 except having changed the hindered phenolic antioxidant (D) into 1.0 mass part.
Example 5
In Example 3, the sealing adhesive sheet and the organic device were produced like Example 3 except having changed the hindered amine light stabilizer (C) into 1.0 mass part.

〔実施例6〕
実施例1において、ガスバリア層として用いた「アルペット12/34」を、以下のように作製したガスバリアフィルムに変えた以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
Example 6
In the same manner as in Example 1, except that “Alpet 12/34” used as the gas barrier layer in Example 1 was changed to a gas barrier film produced as follows, an adhesive sheet for sealing, and an organic device Was made.

<ガスバリアフィルムの作製>
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルムである「PET50 A−4100(東洋紡績社製、厚さ50μm、以下「PETフィルム」ともいう)に、ガスバリア層形成材料としてポリシラザン化合物(クラリアントジャパン社製、商品名「アクアミカNL110−20」、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材)を塗布し、120℃で1分間加熱してPETフィルム上にポリシラザン化合物を含む、膜厚75nmの層を形成した。
次に、プラズマイオン注入装置を用いて、得られた層の表面に、アルゴン(Ar)をプラズマイオン注入し、基材上にガスバリア層を有するガスバリアフィルムを作製した。
<プラズマイオン注入装置>
用いたプラズマイオン注入装置は外部電界を用いてイオンを注入する装置である。
・RF電源:日本電子社製、型番号「RF」56000
・高電圧パルス電源:栗田製作所社製、「PV−3−HSHV−0835」
<プラズマイオン注入条件>
・プラズマ生成ガス:Ar
・ガス流量:100sccm
・Duty比:0.5%
・繰り返し周波数:1000Hz
・印加電圧:−10kV
・RF電源:周波数 13.56MHz、印加電力 1000W
・チャンバー内圧:0.2Pa
・パルス幅:5μsec
・処理時間(イオン注入時間):5分間
・搬送速度:0.2m/min
<Production of gas barrier film>
As a base material, a polyethylene terephthalate film “PET50 A-4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 50 μm, hereinafter also referred to as“ PET film ”) and a gas barrier layer forming material, a polysilazane compound (manufactured by Clariant Japan, trade name“ AQUAMICA NL110-20 ", a coating material mainly composed of perhydropolysilazane) was applied and heated at 120 ° C for 1 minute to form a 75 nm thick layer containing a polysilazane compound on the PET film.
Next, using a plasma ion implantation apparatus, argon (Ar) was plasma ion implanted into the surface of the obtained layer to produce a gas barrier film having a gas barrier layer on the substrate.
<Plasma ion implantation system>
The plasma ion implantation apparatus used is an apparatus for implanting ions using an external electric field.
・ RF power supply: JEOL Ltd., model number “RF” 56000
・ High voltage pulse power supply: “PV-3-HSHV-0835” manufactured by Kurita Manufacturing Co., Ltd.
<Plasma ion implantation conditions>
・ Plasma generated gas: Ar
・ Gas flow rate: 100sccm
・ Duty ratio: 0.5%
・ Repetition frequency: 1000Hz
-Applied voltage: -10 kV
-RF power supply: frequency 13.56 MHz, applied power 1000 W
-Chamber internal pressure: 0.2 Pa
・ Pulse width: 5μsec
・ Processing time (ion implantation time): 5 minutes ・ Conveying speed: 0.2 m / min

〔実施例7〕
実施例6において、ポリシラザン化合物の代わりに、ポリオルガノシロキサン系化合物(信越化学工業社製、商品名「KS358」、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン樹脂)に変えた以外は、実施例6と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
Example 7
In Example 6, instead of the polysilazane compound, a polyorganosiloxane compound (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name “KS358”, silicone resin containing polydimethylsiloxane as a main component) was used. Similarly, an adhesive sheet for sealing and an organic device were produced.

〔比較例1〕 実施例1において、ガスバリアフィルムとして用いた「アルペット12/34」を、ガスバリア層を有しないポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績社製、商品名「PET50 A−4100」、厚さ50μm)に変えた以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例2〕
実施例1において、ヒンダードアミン系光安定剤(C)及びヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)を加えない以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例3〕
実施例1において、ポリブテン樹脂(B)を150質量部加えた以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
[Comparative Example 1] In Example 1, "Alpet 12/34" used as a gas barrier film was replaced with a polyethylene terephthalate film having no gas barrier layer (trade name "PET50 A-4100" manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 50 µm). The sealing adhesive sheet and the organic device were produced in the same manner as in Example 1 except that the above was changed.
[Comparative Example 2]
In Example 1, the adhesive sheet for sealing and the organic device were produced like Example 1 except not adding a hindered amine light stabilizer (C) and a hindered phenolic antioxidant (D). .
[Comparative Example 3]
In Example 1, except that 150 parts by mass of the polybutene resin (B) was added, an adhesive sheet for sealing and an organic device were produced in the same manner as in Example 1.

〔比較例4〕
実施例1において、オパノールB50の代わりに、ポリイソブチレン系樹脂(A)として「オパノールB100(BASF製、Mw:110万)」を100質量部加えた以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例5〕
実施例1において、オパノールB50の代わりに、ポリイソブチレン系樹脂(A)として「オパノールB80SF(BASF製、Mw:75万)」を100質量部加えた以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
〔比較例6〕
実施例1において、オパノールB50の代わりに、ポリイソブチレン系樹脂(A)として「オパノールB30(BASF製、Mw:20万)」を100質量部加えた以外は、実施例1と同様にして、封止用粘着シート、及び有機デバイスを作製した。
[Comparative Example 4]
In Example 1, instead of Opanol B50, sealing was performed in the same manner as in Example 1 except that 100 parts by mass of “Opanol B100 (manufactured by BASF, Mw: 1.1 million)” was added as the polyisobutylene resin (A). A pressure-sensitive adhesive sheet for stopping and an organic device were produced.
[Comparative Example 5]
In Example 1, instead of Opanol B50, sealing was performed in the same manner as in Example 1 except that 100 parts by mass of “Opanol B80SF (manufactured by BASF, Mw: 750,000)” was added as the polyisobutylene resin (A). A pressure-sensitive adhesive sheet for stopping and an organic device were produced.
[Comparative Example 6]
In Example 1, instead of Opanol B50, sealing was performed in the same manner as in Example 1 except that 100 parts by mass of “Opanol B30 (manufactured by BASF, Mw: 200,000)” was added as the polyisobutylene resin (A). A pressure-sensitive adhesive sheet for stopping and an organic device were produced.

実施例1〜7及び比較例1〜6の封止用粘着シート、及び有機デバイスの評価を表1に示す。   Table 1 shows the sealing adhesive sheets of Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 6 and the evaluation of the organic devices.

Figure 0005593175
Figure 0005593175

表1から、実施例1〜7の封止用粘着シートは、比較例1に比べ、水蒸気透過率が非常に低く、優れたバリア性能を有することがわかる。また、実施例1〜7の封止用粘着シートは、比較例4〜6に比べ、有機EL素子へのラミネートが良好であることがわかる。さらに、実施例1〜7の封止用粘着シートを用いた有機デバイスは、比較例2、3に比べ、紫外線照射に曝されたFOMありの場合においても、封止されている有機EL素子の特性の劣化が抑えられていることがわかる。   From Table 1, it can be seen that the sealing pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 1 to 7 have a very low water vapor transmission rate as compared with Comparative Example 1 and have excellent barrier performance. Moreover, it turns out that the adhesive sheet for sealing of Examples 1-7 has a favorable lamination to an organic EL element compared with Comparative Examples 4-6. Furthermore, the organic device using the pressure-sensitive adhesive sheet for sealing of Examples 1 to 7 is a comparative example of the sealed organic EL element even in the case of FOM exposed to ultraviolet irradiation as compared with Comparative Examples 2 and 3. It can be seen that the deterioration of characteristics is suppressed.

本発明の封止用粘着シートは、封止用部材として、有機トランジスタ、有機メモリー、有機EL等の有機デバイス;液晶ディスプレイ;電子ペーパー;薄膜トランジスタ;エレクトロクロミック;電気化学発光デバイス;タッチパネル;ディスプレイ;太陽電池;熱電変換デバイス;圧電変換デバイス;蓄電デバイス;等の電子デバイスの用途に好適である。   The sealing pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention has an organic device such as an organic transistor, organic memory, or organic EL as a sealing member; liquid crystal display; electronic paper; thin film transistor; electrochromic; electrochemiluminescence device; Suitable for applications of electronic devices such as batteries; thermoelectric conversion devices; piezoelectric conversion devices;

1、1a、1b、1c 封止用粘着シート
2、2a、2b 基材
3、3a、3b ガスバリア層
4、4a、4b、4c 粘着剤層
10 有機デバイス
11 有機EL素子
12 ガラス基板
13 構造体
14a、14b 電極
15 有機層
1, 1a, 1b, 1c Sealing adhesive sheet 2, 2a, 2b Base material 3, 3a, 3b Gas barrier layer 4, 4a, 4b, 4c Adhesive layer 10 Organic device 11 Organic EL element 12 Glass substrate 13 Structure 14a 14b Electrode 15 Organic layer

Claims (8)

基材上に、少なくともガスバリア層と粘着剤層とを有する封止用粘着シートであって、
前記粘着剤層が、第1成分として重量平均分子量30万〜50万のポリイソブチレン系樹脂(A)、第2成分として重量平均分子量1000〜25万のポリブテン樹脂(B)、第3成分としてヒンダードアミン系光安定剤(C)及び/又はヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)、並びに重量平均分子量200〜5000の環状オレフィン系重合体及びその水素添加物から選ばれる重合体(E)を含み、ポリイソブチレン系樹脂(A)100質量部に対して、ポリブテン樹脂(B)を10〜100質量部含み、且つ、重合体(E)を10〜100質量部含む粘着剤組成物からなる、封止用粘着シート。
On a base material, a pressure-sensitive adhesive sheet for sealing with a least also gas gas barrier layer and the adhesive layer,
The pressure-sensitive adhesive layer comprises a polyisobutylene resin (A) having a weight average molecular weight of 300,000 to 500,000 as a first component, a polybutene resin (B) having a weight average molecular weight of 1,000 to 250,000 as a second component, and a hindered amine as a third component. A light stabilizer (C) and / or a hindered phenol antioxidant (D) , and a polymer (E) selected from a cyclic olefin polymer having a weight average molecular weight of 200 to 5,000 and a hydrogenated product thereof , against polyisobutylene-based resin (a) 100 parts by mass of a polybutene resin (B) seen from 10 to 100 parts by mass including, and comprised of polymer (E) a pressure-sensitive adhesive composition comprising 10 to 100 parts by mass, sealing Stop adhesive sheet.
40℃、90%RHにおける水蒸気透過率が、0.5g/(m2・day)以下である、請求項1に記載の封止用粘着シート。 The pressure-sensitive adhesive sheet for sealing according to claim 1, wherein the water vapor transmission rate at 40 ° C. and 90% RH is 0.5 g / (m 2 · day) or less. ヒンダードアミン系光安定剤(C)が、3級のヒンダードアミン基を有するヒンダードアミン系光安定剤である、請求項1又は2に記載の封止用粘着シート。   The pressure-sensitive adhesive sheet for sealing according to claim 1 or 2, wherein the hindered amine light stabilizer (C) is a hindered amine light stabilizer having a tertiary hindered amine group. ヒンダードフェノール系酸化防止剤(D)が、ヒンダードフェノール基のべータ位が2つともターシャリーブチル基で置換されたヒンダードフェノール系酸化防止剤である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の封止用粘着シート。   The hindered phenol antioxidant (D) is a hindered phenol antioxidant in which both of the beta positions of the hindered phenol group are substituted with tertiary butyl groups. The sealing pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1. 前記粘着剤組成物が硬化剤、熱反応開始剤、及び光開始剤のいずれも含まない、請求項1〜4のいずれか1項に記載の封止用粘着シート。The pressure-sensitive adhesive sheet for sealing according to any one of claims 1 to 4, wherein the pressure-sensitive adhesive composition does not contain any of a curing agent, a thermal reaction initiator, and a photoinitiator. 電子デバイスに用いられる、請求項1〜のいずれか1項に記載の封止用粘着シート。 The pressure-sensitive adhesive sheet for sealing according to any one of claims 1 to 5 , which is used for an electronic device. 請求項1〜のいずれか1項に記載の封止用粘着シートを具備する、電子デバイス。 An electronic device comprising the sealing adhesive sheet according to any one of claims 1 to 6 . 少なくとも一対の対向する電極と該電極間に配置される有機層とを有する構造体、並びに、該構造体の上部、下部、及び周のいずれか1つ以上に配置された請求項1〜のいずれか1項に記載の封止用粘着シートを具備する、有機デバイス。 At least a structure having an organic layer disposed between a pair of opposed electrodes and the electrode, and the upper portion of the structure, the lower, claim 1 disposed in any one or moreBiAmane circumference An organic device comprising the sealing adhesive sheet according to any one of 6 .
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Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104584257B (en) 2012-05-02 2017-06-20 汉高知识产权控股有限责任公司 Curable encapsulant and application thereof
CN104812863B (en) * 2012-11-30 2017-05-17 琳得科株式会社 Adhesive agent composition, adhesive sheet, and electronic device
EP2927297A4 (en) * 2012-11-30 2016-08-03 Lintec Corp Adhesive agent composition, adhesive sheet, and electronic device and production method therefor
KR20150016876A (en) * 2013-08-05 2015-02-13 주식회사 엘지화학 Pressure sensitive adhesive compositions, pressure sensitive adhesive film and encapsulation method of organic electronic device using the same
CA2922839C (en) * 2013-09-13 2021-10-26 Dow Global Technologies Llc Peroxide-crosslinkable compositions and processes for their manufacture
JP6247916B2 (en) * 2013-12-03 2017-12-13 古河電気工業株式会社 Resin composition, organic electronic device element sealing resin sheet, organic electroluminescence element, and image display apparatus
JP5820894B2 (en) * 2014-02-21 2015-11-24 デクセリアルズ株式会社 Sealing tape, phosphor sheet, and method for producing phosphor sheet
TWI679259B (en) 2014-08-11 2019-12-11 德商漢高智慧財產控股公司 Optically clear hot melt adhesives and uses thereof
KR102275213B1 (en) * 2014-11-14 2021-07-08 린텍 가부시키가이샤 Sealing sheet, member for electronic devices, and electronic device
TWI730984B (en) 2015-09-18 2021-06-21 德商漢高智慧財產控股公司 Curable and optically clear pressure sensitive adhesives and uses thereof
JP7080180B2 (en) * 2016-11-10 2022-06-03 リンテック株式会社 Gas barrier laminated sheet, manufacturing method of gas barrier laminated sheet, and electronic member or optical member
JP6378743B2 (en) * 2016-12-07 2018-08-22 リンテック株式会社 Battery adhesive sheet and lithium ion battery
WO2018174116A1 (en) * 2017-03-23 2018-09-27 味の素株式会社 Sheet for sealing
TWI843699B (en) * 2017-03-29 2024-06-01 日商味之素股份有限公司 Sealing sheet
WO2018181192A1 (en) * 2017-03-30 2018-10-04 リンテック株式会社 Adhesive composition, sealing sheet and sealed body
US20210036202A1 (en) * 2017-03-30 2021-02-04 Lintec Corporation Thermoelectric conversion module and method for manufacturing same
JP7040968B2 (en) * 2018-03-19 2022-03-23 日東電工株式会社 Adhesive sheet and magnetic disk device
CN111378232A (en) * 2020-03-19 2020-07-07 深圳市天宁达胶粘技术有限公司 UV (ultraviolet) curing solvent-free sealing material for lithium battery and preparation method thereof
WO2023157875A1 (en) * 2022-02-18 2023-08-24 王子ホールディングス株式会社 Double-sided adhesive sheet, laminate, and method for manufacturing laminate

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3581208B2 (en) * 1995-12-12 2004-10-27 日東電工株式会社 Pressure sensitive adhesives and surface protection materials
JP2002332410A (en) * 2001-05-09 2002-11-22 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Curing composition
JP2007197517A (en) * 2006-01-24 2007-08-09 Three M Innovative Properties Co Adhesive sealing composition, sealing film and organic el element
CN102083930B (en) * 2008-06-02 2013-12-11 3M创新有限公司 Adhesive encapsulating composition and electronic devices made therewith

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