JP5560464B2

JP5560464B2 - 不斉水素化触媒

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Publication number: JP5560464B2
Application number: JP2010265555A
Authority: JP
Inventors: 伸也山田; 裕徳前田; 容嗣堀
Original assignee: Takasago International Corp
Current assignee: Takasago International Corp
Priority date: 2010-11-29
Filing date: 2010-11-29
Publication date: 2014-07-30
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Also published as: EP2457655A3; EP2457655A2; US20120136176A1; US8674144B2; JP2012115726A

Description

本発明は、不斉水素化用触媒を用い、α，β−不飽和カルボニル化合物の炭素−炭素二重結合を選択的に不斉水素化することにより、光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを製造する方法に関するものである。

従来から、α，β−不飽和アルデヒドの炭素−炭素二重結合を水素ガスで不斉水素化する試みは行なわれており、特に香料として重要な光学活性シトロネラ−ルを得るためにネラ−ル、ゲラニア−ルを不斉水素化する方法は知られている（特許文献１、２）。これらの方法は、少量の均一系触媒を用い水素ガスにより炭素−炭素二重結合を水素化する方法であることから、助剤を必要としないため大量の廃棄物がでない。

Ｐｄブラック、Ｐｄ／Ｃ又はＰｄ／ＴｉＯ_２と（-）-ｄｉｈｙｄｒｏａｐｏｖｉｎｃａｍｉｃ酸エチルエステル、プロリン又はシンコニジンとを組み合わせて使用したα，β−不飽和ケトンの炭素−炭素二重結合の不斉水素化が報告されている（非特許文献１〜５）。
有機不斉触媒とＨａｎｔｚｓｃｈエステルを用いたα，β−不飽和化合物の水素移動型不斉水素化反応が報告されている（特許文献３、非特許文献６）。
また、ペプチド化合物のみによる不斉触媒反応は報告されている（非特許文献７）。さらにペプチド化合物とＨａｎｔｚｓｃｈエステルを用いたα，β−不飽和化合物の水素移動型不斉水素化反応が報告されている（非特許文献８）。

日本国特開昭５４−１４９１１号公報日本国特表２００８−５１５８４３号公報米国特許出願公開第２００６／０１６１０２４号明細書

ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭｏｌｅｃｕｌａｒＣａｔａｌｙｓｉｓＡ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ１９９９，１３８，１２３−１２７ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭｏｌｅｃｕｌａｒＣａｔａｌｙｓｉｓＡ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ２００１，１７０，１０１−１０７ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭｏｌｅｃｕｌａｒＣａｔａｌｙｓｉｓＡ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ２００２，１７９，１０１−１０６ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭｏｌｅｃｕｌａｒＣａｔａｌｙｓｉｓＡ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ２００２，１７９，１０７−１１２ＪｏｕｒｎａｌｏｆＭｏｌｅｃｕｌａｒＣａｔａｌｙｓｉｓＡ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ２００３，１９２，１８９−１９４Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．２００７，４０，１３２７−１３３９Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００７，１０７，５７５９−５８１２Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，２００９，２０，４６１−４６６．

しかしながら、特許文献１及び２の方法で使用する触媒は高価なロジウム金属等を用いた均一系触媒であり、反応溶液に溶解するため触媒の回収は難しい。
非特許文献１〜５の方法においては、実施例としてイソホロンと特殊なエキソサイクリックケトンしかなく、また、本発明の触媒系は使用されていない。
非特許文献６、非特許文献７、非特許文献８及び特許文献３の有機触媒を用いる方法では、原料の不飽和アルデヒド又は不飽和ケトンに対して２０ｍｏｌ％程度の触媒量が必要であることと、水素化の基質であるＨａｎｔｚｓｃｈエステルは原料の不飽和アルデヒド又はケトンに対して等量以上必要であることから、光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンの製造方法としては経済的に不利である。
そこで、反応溶液に溶解しない固体触媒等の不均一系触媒を用いることにより、容易に触媒の回収をする方法が求められていた。
また、固体触媒等の不均一系触媒を使用したα，β−不飽和アルデヒドの不斉水素化反応は知られていなかった。

本発明の目的は、反応溶液からの分離が容易な不均一系触媒を不斉水素化用触媒として用い、α，β−不飽和カルボニル化合物の炭素−炭素二重結合を不斉水素化し対応する光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを得る方法に関する。特にシトラ−ル、ゲラニア−ル、又はネラ−ルを不斉水素化反応により水素化して、光学活性なシトロネラ−ルを得る方法に関する。

本発明者等は上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、特定の金属粉末又は金属担持物、光学活性ペプチド化合物、及び酸を用いることにより、α，β−不飽和カルボニル化合物を不斉水素化し、対応する光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンが得られることを見いだし、本発明を完成するに到った。
また、反応終了後に光学活性ペプチド化合物、及び金属粉末又は金属担持物を反応系内より容易に回収することにより、再び不斉水素化用触媒として再利用ができる。

すなわち本発明は以下の各発明を包含する。
〔１〕
周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属の粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物と、
下記一般式（１）

（式（１）中、環Ａは３〜７員環で、置換基を有してもよく、炭素、窒素、硫黄、酸素、及び燐からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子を含む。環Ａは縮環構造となっていてもよい。Ｒ^１は、Ｙ位置のカルボニル基とペプチド結合により結合しているアミノ酸残基または２〜３０のアミノ酸からなるペプチド残基を表す。Ｒ^２は、Ｒ^１のＣ末端のカルボニル基と結合するアミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはポリマー鎖を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性ペプチド化合物と、酸とを含むα，β−不飽和カルボニル化合物の不斉水素化用触媒。
〔２〕
金属がニッケル、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、パラジウム及び白金からなる群から選ばれる上記〔１〕に記載の不斉水素化用触媒。
〔３〕
下記一般式（２）

（式（２）中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよい芳香族複素環基、置換基を有してもよい脂肪族複素環基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、又は置換基を有してもよいアラルキルオキシ基を表す。また、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^３とＲ^５、Ｒ^３とＲ^６、Ｒ^４とＲ^６、又はＲ^５とＲ^６とで環を形成してもよい。ただし、Ｒ^３とＲ^４、又はＲ^３とＲ^５とが環を形成していない場合、Ｒ^４が水素原子でないときはＲ^５及びＲ^６は互いに同じであっても異なってもよく、Ｒ^４が水素原子のときはＲ^５及びＲ^６は水素原子以外であり互いに異なる。）
で表されるα，β−不飽和カルボニル化合物を、上記〔１〕又は〔２〕に記載の不斉水素化用触媒を用いて不斉水素化する工程を含む、下記一般式（３）

（式（３）中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、式（２）の定義と同じである。２つの＊は、少なくとも一方が不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性カルボニル化合物の製造方法。
〔４〕
α，β−不飽和カルボニル化合物が、ゲラニアール、ネラール又はシトラールである上記〔３〕に記載の製造方法。
〔５〕
α，β−不飽和カルボニル化合物が、炭素数５〜１８のα，β−不飽和ケトン類である上記〔３〕に記載の製造方法。

本発明は上記のように、不斉水素化反応における触媒として、金属粉末又は金属担持物と共に、エナンチオ選択性に寄与する添加物として光学活性ペプチド化合物、及び酸を用いるものである。
本発明の不斉水素化触媒は、従来の不斉水素化触媒のように、触媒を調製するための反応工程を必要としない。単に、原料化合物、光学活性ペプチド化合物、金属粉末又は金属担持物、及び酸を混合して不斉水素化するものである。このように操作も簡便であり、また、金属粉末又は金属担持物、及び光学活性ペプチド化合物は回収して再使用でき、工業的にも有利である。

また、本発明の触媒を使用する際に、α，β−不飽和カルボニル化合物のα位とβ位の二重結合においてＺ配置及びＥ配置の化合物のいずれを基質として使用した場合においても、生成する光学活性カルボニル化合物の立体配置は、使用する光学活性ペプチド化合物の立体配置に依存する。そのため、本発明では、Ｚ配置化合物とＥ配置化合物との混合物を基質として使用した場合においても、同じ立体配置の光学活性カルボニル化合物を製造することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
本願において“重量％”及び“重量部”は、それぞれ“質量％”及び“質量部”と同義である。

＜触媒＞
本発明においては、α，β−不飽和カルボニル化合物を基質として用い、これを本発明の触媒を使用して不斉水素化し、光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを製造する。まず、本発明の触媒について説明する。

（金属）
本発明の触媒は、周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属の粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物と、一般式（１）で表される光学活性ペプチド化合物と、酸とを含むα，β−不飽和カルボニル化合物の不斉水素化用触媒である。

周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物について説明する。
周期表における第８〜１０族の金属としては、Ｎｉ（ニッケル）、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｄ（パラジウム）及びＰｔ（白金）が好ましく、特に好ましい金属はＰｄである。

金属粉末としては、例えば、Ｐｄブラック、Ｐｔブラック等があげられる。

金属担持物としては、上記の金属が担体に担持されたものが用いられ、これらの金属がカーボン、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナ、ゼオライト、金属酸化物、金属ハロゲン化物、金属硫化物、金属スルホン酸塩、金属硝酸塩、金属炭酸塩、金属リン酸塩等の担体に担持されているものが好適に用いられる。これらの中でも、パラジウム又は白金が担体に担持されているものが好ましい。

具体的な金属担持物としては、ラネーニッケル、Ｒｕ／Ｃ、Ｒｈ／Ｃ、Ｐｄ／Ｃ、Ｉｒ／Ｃ、Ｐｔ／Ｃ、Ｐｄ／Ｃ（ｅｎ）（パラジウム炭素―エチレンジアミン複合体）、Ｐｄ／Ｆｉｂ（パラジウム−フィブロイン）、Ｐｄ／ＰＥＩ（パラジウム−ポリエチレンイミン）、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２、Ｐｄ／ＴｉＯ_２、Ｐｄ／ＺｒＯ_２、Ｐｄ／ＣｅＯ_２、Ｐｄ／ＺｎＯ、Ｐｄ／ＣｄＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ_２、Ｐｄ／ＳｎＯ_２、Ｐｄ／ＰｂＯ、Ｐｄ／Ａｓ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ｓｂ_２Ｏ_５、Ｐｄ／Ｖ_２Ｏ_５、Ｐｄ／Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｐｄ／Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＭｏＯ_３、Ｐｄ／ＷＯ_３、Ｐｄ／ＢｅＯ、Ｐｄ／ＭｇＯ、Ｐｄ／ＣａＯ、Ｐｄ／ＳｒＯ、Ｐｄ／ＢａＯ、Ｐｄ／Ｙ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ｌａ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ｎａ_２Ｏ、Ｐｄ／Ｋ_２Ｏ、Ｐｄ／ＣｄＳ、Ｐｄ／ＺｎＳ、Ｐｄ／ＭｇＳＯ_４、Ｐｄ／ＣａＳＯ_４、Ｐｄ／ＳｒＳＯ_４、Ｐｄ／ＢａＳＯ_４、Ｐｄ／ＣｕＳＯ_４、Ｐｄ／ＺｎＳＯ_４、Ｐｄ／ＣｄＳＯ_４、Ｐｄ／Ａｌ_２（ＳＯ_４）_３、Ｐｄ／ＦｅＳＯ_４、Ｐｄ／Ｆｅ_２（ＳＯ_４）_３、Ｐｄ／ＣｏＳＯ_４、Ｐｄ／ＮｉＳＯ_４、Ｐｄ／Ｃｒ_２（ＳＯ_４）_３、Ｐｄ／ＫＨＳＯ_４、Ｐｄ／Ｋ_２ＳＯ_４、Ｐｄ／（ＮＨ_４）_２ＳＯ_４、Ｐｄ／Ｚｎ（ＮＯ_３）_２、Ｐｄ／Ｃａ（ＮＯ_３）_２、Ｐｄ／Ｂｉ（ＮＯ_３）_３、Ｐｄ／Ｆｅ（ＮＯ_３）_３、Ｐｄ／Ｎａ_２ＣＯ_３、Ｐｄ／Ｋ_２ＣＯ_３、Ｐｄ／ＫＨＣＯ_３、Ｐｄ／ＫＮａＣＯ_３、Ｐｄ／ＣａＣＯ_３、Ｐｄ／ＳｒＣＯ_３、Ｐｄ／ＢａＣＯ_３、Ｐｄ／（ＮＨ_４）_２ＣＯ_３、Ｐｄ／Ｎａ_２ＷＯ₄・２Ｈ_２Ｏ、Ｐｄ／ＫＣＮ、Ｐｄ／ＢＰＯ_４、Ｐｄ／ＡｌＰＯ_４、Ｐｄ／ＣｒＰＯ_４、Ｐｄ／ＦｅＰＯ_４、Ｐｄ／Ｃｕ_３（ＰＯ_４）_２、Ｐｄ／Ｚｎ_３（ＰＯ_４）_２、Ｐｄ／Ｍｇ_３（ＰＯ_４）_２、Ｐｄ／Ｔｉ_３（ＰＯ_４）_４、Ｐｄ／Ｚｒ_３（ＰＯ_４）_４、Ｐｄ／Ｎｉ_３（ＰＯ_４）_２、Ｐｄ／ＡｇＣｌ、Ｐｄ／ＣｕＣｌ、Ｐｄ／ＣａＣｌ_２、Ｐｄ／ＡｌＣｌ_３、Ｐｄ／ＴｉＣｌ_３、Ｐｄ／ＳｎＣｌ_２、Ｐｄ／ＣａＦ_２、Ｐｄ／ＢａＦ_２、Ｐｄ／ＡｇＣｌＯ_４、Ｐｄ／Ｍｇ（ＣｌＯ_４）_２、Ｐｄ／Ｚｅｏｌｉｔｅ、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＺｒＯ_２、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＢｅＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＣａＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＳｒＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＢａＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＺｎＯ、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＺｒＯ_２、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−Ｇａ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−Ｙ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−Ｌａ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＭｏＯ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＷＯ_３、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−Ｖ_２Ｏ_５、Ｐｄ／ＳｉＯ_２−ＴｈＯ_２、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＭｇＯ、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＺｎＯ、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＣｄＯ、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＴｈＯ_２、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＴｉＯ_２、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−Ｖ_２Ｏ_５、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＭｏＯ_３、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＷＯ_３、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−Ｍｎ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−Ｃｏ_３Ｏ_４、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３−ＮｉＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＣｕＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＺｎＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＣｄＯ、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＺｒＯ_２、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＳｎＯ_２、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−Ｂｉ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−Ｓｂ_２Ｏ_５、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−Ｖ_２Ｏ_５、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＭｏＯ_３、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＷＯ_３、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−Ｍｎ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−Ｃｏ_３Ｏ_４、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＮｉＯ、Ｐｄ／ＺｒＯ_２−ＣｄＯ、Ｐｄ／ＺｎＯ−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＺｎＯ−Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＭｏＯ_３−ＣｏＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＭｏＯ_３−ＮｉＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２−ＭｇＯ、Ｐｄ／ＭｏＯ_３−Ａｌ_２Ｏ_３−ＭｇＯ、Ｐｄ／ｈｅｔｅｒｏｐｏｌｙａｃｉｄｓ、Ｐｔ／ＳｉＯ_２、Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｔ／Ｚｅｏｌｉｔｅ、Ｒｈ／Ａｌ_２Ｏ_３等が挙げられる。

（光学活性ペプチド化合物）
続いて、本発明における触媒成分として用いられる一般式（１）で表される光学活性ペプチド化合物について説明する。

式（１）中、環Ａは３〜７員環で、置換基を有してもよく、炭素、窒素、硫黄、酸素、及び燐からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子を含む。環Ａは縮環構造となっていてもよい。Ｒ^１は、Ｙ位置のカルボニル基とペプチド結合により結合しているアミノ酸残基または２〜３０のアミノ酸からなるペプチド残基を表す。Ｒ^２は、Ｒ^１のＣ末端のカルボニル基と結合するアミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはポリマー鎖を表す。＊は不斉炭素原子を表す。

一般式（１）で表される光学活性ペプチド化合物のＲ^１であるアミノ酸残基およびペプチド残基を構成する単位であるアミノ酸について説明する。アミノ酸としては、例えば、光学活性でないアミノ酸としてグリシン、２，２−ジメチルグリシン等が挙げられ、光学活性なアミノ酸としてＬ体、Ｄ体、及びＤＬ体である、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、プロリン、トリプトファン、チロシン、ヒスチジン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、グルタミン、グルタミン酸、リジン、メチオニン、セリン、トレオニン等が挙げられる。

Ｒ^２で示される、光学活性ペプチド化合物の末端は、アミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、またはポリマー鎖を表す。

Ｒ^２のアミノ基の具体例としては、例えば炭素数１〜２０のアミノ基が好ましく、具体的には、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基及びモルホリル基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、１−フェニルエチルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基等が挙げられる。

Ｒ^２のアルコキシ基の具体例としては、たとえば炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−メチルペンチロキシ基、３−メチルペンチロキシ基、４−メチルペンチロキシ基、５−メチルペンチロキシ基、シクロペンチロキシ基、シクロヘキシロキシ基、ジシクロペンチルメトキシ基、ジシクロヘキシルメトキシ基、トリシクロペンチルメトキシ基、トリシクロヘキシルメトキシ基、フェニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基及びトリフェニルメトキシ基等が挙げられる。

Ｒ^２のポリマー鎖の具体例としては、例えば、Ｒ^１にアルコキシ基として結合しているポリスチレン、Ｒ^１にアミノ基として結合しているポリスチレン等が挙げられる。

Ｒ^２は、これらの中でもアミノ基が好ましく、とくにＮ−フェニルアミノ基、１−フェニルエチルアミノ基が好ましい。

環Ａは、基本骨格としては、例えば、アジリジン骨格、アゼチジン骨格、ピロリジン骨格、ピロリン骨格、ピラゾリジン骨格、イミダゾリジン骨格、イミダゾリジノン骨格、ピラゾリン骨格、チアゾリジン骨格、ピペリジン骨格、ピペラジン骨格、モルホリン骨格、チオモルホリン骨格等が挙げられる。これらの基本骨格に置換基が存在していてもよい。
環Ａが、ベンゼン環などにより縮環構造となる場合の基本骨格としては、例えば、インドリン骨格、ジヒドロキノキサリン骨格、テトラヒドロイソキノリン骨格、ジヒドロキノキサリノン骨格等が挙げられる。これらの基本骨格に置換基が存在していてもよい。

環Ａ及び縮環した環Ａとしては、これらの中でも、置換基を有していても良いピロリジン骨格、及び置換基を有していても良いピペリジン骨格が好ましい。

環Ａ及び縮環した環Ａの置換基としては、オキソ基、ハロゲン原子、アシル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、水酸基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアミド基、置換基を有してもよい芳香族複素環基、及び置換基を有してもよい脂肪族複素環基が挙げられる。

ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。

アシル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイル基、ナフトイル基、フェナンスロイル基、アンスロイル基等が挙げられる。

アルキル基としては、鎖状又は分岐状の例えば炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基及びドコシル基等が挙げられる。

また、これらアルキル基は置換基を有してもよく、該アルキル基の置換基としては、例えばアルケニル基、アルキニル基、アリール基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アルコキシ基、トリアルキルシロキシ基、アルキレンジオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、置換アミノ基、ハロゲン化アルキル基、シクロアルキル基、水酸基、アミノ基及びハロゲン原子等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアルケニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられ、具体的にはビニル基、プロペニル基、１−ブテニル基、ペンテニル基及びヘキセニル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアルキニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的にはエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基及びヘキシニル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアリール基としては、例えば炭素数６〜２０のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、トリル基、イソプロピルフェニル基、キシリル基、ｔ−ブチルフェニル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、アダマンチルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基、４−（２’−ｐ−トリルプロピル）フェニル基、メシチル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、４−（３’，４’，５’，６’，７’，８’，９’，１０’−ヘプタデカフロロデシル）フェニル基及びフルオロフェニル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としての脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の脂肪族複素環基、及び多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、２−オキソ−１−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基及びテトラヒドロチエニル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としての芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の芳香族複素環基、及び多環又は縮合環の芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基の具体例としては、例えば、フリル基、メチルフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリニル基、イミダゾリル基、オキサゾリニル基、チアゾリニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基及びベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数１〜８のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−メチルペンチロキシ基、３−メチルペンチロキシ基、４−メチルペンチロキシ基、５−メチルペンチロキシ基、シクロペンチロキシ基及びシクロヘキシロキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのトリアルキルシロキシ基としては、例えばトリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、ジメチルｔｅｒｔ−ブチルシロキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアルキレンジオキシ基としては、例えば炭素数１〜３のアルキレンジオキシ基が挙げられ、具体的にはメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基及びイソプロピリデンジオキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアリールオキシ基としては、例えば炭素数６〜１５のアリールオキシ基が挙げられ、具体的にはフェノキシ基、ナフチロキシ基、アンスリロキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、４−フェニルフェノキシ基、３，５−ジフェニルフェノキシ基、４−メシチルフェノキシ基及び３，５−ビス（トリフロロメチル）フェノキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアラルキルオキシ基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基が挙げられ、具体的にはベンジロキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、１−フェニルブトキシ基、２−フェニルブトキシ基、３−フェニルブトキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−フェニルペンチロキシ基、２−フェニルペンチロキシ基、３−フェニルペンチロキシ基、４−フェニルペンチロキシ基、５−フェニルペンチロキシ基、１−フェニルヘキシロキシ基、２−フェニルヘキシロキシ基、３−フェニルヘキシロキシ基、４−フェニルヘキシロキシ基、５−フェニルヘキシロキシ基及び６−フェニルヘキシロキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのヘテロアリールオキシ基としては、例えば、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、炭素数２〜１４のヘテロアリールオキシ基が挙げられ、具体的には、２−ピリジルオキシ基、２−ピラジルオキシ基、２−ピリミジルオキシ基及び２−キノリルオキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としての置換アミノ基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基及びモルホリル基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、パーハロゲノアルキル基が好ましく、例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプタフロロプロピル基、ウンデカフロロペンチル基、ヘプタデカフロロオクチル基、ウンデカフロロシクロヘキシル基、ジクロロメチル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。

アルキル基に置換するハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。

シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。
これらシクロアルキル基は置換基を有してもよく、該置換基としては、前記のアルキル基の置換基の説明で述べたような置換基が挙げられる。

アルコキシ基としては、たとえば炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−メチルペンチロキシ基、３−メチルペンチロキシ基、４−メチルペンチロキシ基、５−メチルペンチロキシ基、シクロペンチロキシ基、シクロヘキシロキシ基、ジシクロペンチルメトキシ基、ジシクロヘキシルメトキシ基、トリシクロペンチルメトキシ基、トリシクロヘキシルメトキシ基、フェニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基及びトリフェニルメトキシ基等が挙げられる。
これらアルコキシ基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

アルケニル基としては、鎖状又は分岐状あるいは環状の、例えば炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。具体的なアルケニル基としては、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、４，８−ジメチル−３，７−ノナジエニル基、１−シクロヘキセニル基及び３−シクロヘキセニル基等が挙げられる。
これらアルケニル基は置換基を有してもよく、該置換基としては、前記のアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。

アリール基としては、例えば炭素数６〜２０のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、トリル基、イソプロピルフェニル基、キシリル基、ｔ−ブチルフェニル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、アダマンチルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基、４−（２’−ｐ−トリルプロピル）フェニル基、メシチル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、４−（３’，４’，５’，６’，７’，８’，９’，１０’−ヘプタデカフロロデシル）フェニル基及びフルオロフェニル基等が挙げられる。
これらアリール基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。

アラルキル基としては、例えば炭素数７〜４５のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、トリルメチル基、キシリルメチル基、メシチルメチル基、４−フェニルフェニルメチル基、３−フェニルフェニルメチル基、２−フェニルフェニルメチル基、４−メシチルフェニルメチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、９−アンスリルメチル基、９−フェナントリルメチル基、３，５−ジフェニルフェニルメチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基、ジフェニルメチル基、ジトリルメチル基、ジキシリルメチル基、ジメシチルメチル基、ジ（４−フェニルフェニル）メチル基、ジ（３−フェニルフェニル）メチル基、ジ（２−フェニルフェニル）メチル基、ジ（４−メシチルフェニル）メチル基、ジ１−ナフチルメチル基、ジ２−ナフチルメチル基、ジ９−アンスリルメチル基、ジ９−フェナントリルメチル基、ビス（３，５−ジフェニルフェニル）メチル基、トリフェニルメチル基、トリトリルメチル基、トリキシリルメチル基、トリメシチルメチル基、トリ（４−フェニルフェニル）メチル基、トリ（３−フェニルフェニル）メチル基、トリ（２−フェニルフェニル）メチル基、トリ（４−メシチルフェニル）メチル基、トリ１−ナフチルメチル基、トリ２−ナフチルメチル基、トリ９−アンスリルメチル基、トリ９−フェナントリルメチル基、トリス（３，５−ジフェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシフェニルメチル基、トリメチルシロキシジフェニルメチル基、トリメチルシロキシジトリルメチル基、トリメチルシロキシジ（４−ｔ−ブチルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジキシリルメチル基、トリメチルシロキシジ（２−フェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジ（３−フェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジ（４−フェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシビス（３，５−ジフェニルフェニル）メチル基、トリメチルシロキシジ（４−メシチルフェニル）メチル基及びトリメチルシロキシビス（３，５−ジトリフロロメチルフェニル）メチル基等が挙げられる。
これらアラルキル基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

アミノ基としては、例えば炭素数１〜２０のアミノ基が好ましく、具体的には、アミノ基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基及びモルホリル基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基等が挙げられる。
これらアミノ基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

アルコキシカルボニル基としては、たとえば炭素数１〜３０のアルコキシカルボニル基が好ましく、具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、２−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチロキシカルボニル基、２−メチルブトキシカルボニル基、３−メチルブトキシカルボニル基、２，２−ジメチルプロポキシカルボニル基、ｎ−ヘキシロキシカルボニル基、２−メチルペンチロキシカルボニル基、３−メチルペンチロキシカルボニル基、４−メチルペンチロキシカルボニル基、５−メチルペンチロキシカルボニル基、シクロペンチロキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、ジシクロペンチルメトキシカルボニル基、ジシクロヘキシルメトキシカルボニル基、トリシクロペンチルメトキシカルボニル基、トリシクロヘキシルメトキシカルボニル基、フェニルメトキシカルボニル基、ジフェニルメトキシカルボニル基及びトリフェニルメトキシカルボニル基等が挙げられる。
これらアルコキシカルボニル基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

アミド基としては、例えば炭素数１〜３０のアミド基が好ましく具体的にはアセトアミド基、ｎ−プロピオンアミド基、イソプロピオンアミド基、ｎ−ブタナミド基、２−ブタナミド基、イソブタナミド基、ｔｅｒｔ−ブタナミド基、ｎ−ペンタナミド基、２−メチルブタナミド基、３−メチルブタナミド基、２，２−ジメチルプロピオンアミド基、ｎ−ヘキサナミド基、２−メチルペンタナミド基、３−メチルペンタナミド基、４−メチルペンタナミド基、５−メチルペンタナミド基、シクロペンタナミド基、シクロヘキサナミド基、ジシクロペンチルアセトアミド基、ジシクロヘキシルアセトアミド基、トリシクロペンチルアセトアミド基、トリシクロヘキシルアセトアミド基、フェニルアセトアミド基、ジフェニルアセトアミド基、トリフェニルアセトアミド基、ベンズアミド基、ナフタレンアミド基等が挙げられる。
これらアミド基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の芳香族複素環基、及び多環又は縮合環の芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基の具体例としては、例えば、フリル基、メチルフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリニル基、イミダゾリル基、オキサゾリニル基、チアゾリニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基及びベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
これら芳香族複素環基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の脂肪族複素環基、及び多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、２−オキソ−１−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基及びテトラヒドロチエニル基等が挙げられる。
これら脂肪族複素環基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

本発明の一般式（１）で表される光学活性ペプチド化合物の具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。
以下化合物中、ｐｏｌｙｍｅｒはポリマー鎖を、Ｄ−ＰｒｏはＤ−プロリン残基を、ＰｒｏはＬ−プロリン残基を、Ｄ−ＰｉｃはＤ−ＰｉｐｅｃｏｌｉｎｉｃＡｃｉｄを、ＰｉｃはＬ−ＰｉｐｅｃｏｌｉｎｉｃＡｃｉｄを表す。

本発明の一般式（１）で表される光学活性ペプチド化合物は、一般的なペプチド合成法によって合成することができる。合成方法としては、例えば、以下のＳｃｈｅｍｅ１〜１１で表すことができる。
Ｓｃｈｅｍｅ中、ＨＯ−Ｓｕ、ＨＯ−Ｂｔ、Ｂｏｃ、及びＥＤＣｌは以下を示す。

Ｓｃｈｅｍｅ中、
ＰｒｏはＬ−プロリン残基を、
Ｄ−ＰｒｏはＤ−プロリン残基を、
ＬｅｕはＬ−ロイシン残基を、
Ａｉｂは、２，２−ジメチルグリシン残基を、
ＴｒｐはＬ−トリプトファン残基を、
ＰｈｅはＬ−フェニアルアラニン残基を、
Ｇｌｙはグリシン残基を表す。
Ｓｃｈｅｍｅ中、Ｂｎはベンジル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。

上記方法は、Ｂｏｃ等で保護されたアミノ酸と、末端をアミン等で保護されたアミノ酸とを、ＥＤＣｌ（Ｎ−ｅｔｈｙｌ−Ｎ’−（３−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｄｅ）やＤＣＣ（ｄｉｃｙｃｌｏｈｅｘｙｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ）等の脱水剤を使用してＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）やＴＨＦ（テトラヒドロフラン）等の溶媒中で脱水反応を行いペプチド結合を作る。その後、塩酸等の酸により保護基であるＢｏｃ等を外してペプチドを得る。この操作を繰り返すことで所望のペプチド化合物が得られる。

（酸）
更に、本発明においてはもう一つの触媒成分として酸を含む。
酸としては有機酸又は無機酸を用いることができるが、有機酸が好ましい。

具体的な有機酸の例としては、酢酸、クロロ酢酸、ジフロロ酢酸、トリフロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリブロモ酢酸、安息香酸、２，４−ジニトロ安息香酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、Ｌ−乳酸、ＤＬ−トロパ酸、ＤＬ−リンゴ酸、Ｌ−リンゴ酸、Ｄ−リンゴ酸、ＤＬ−酒石酸、Ｄ−酒石酸、Ｌ−酒石酸、Ｌ−ジベンゾイル酒石酸、Ｄ−ジベンゾイル酒石酸、ＤＬ−マンデル酸、Ｌ−マンデル酸、Ｄ−マンデル酸及びトリフロロメタンスルホン酸等が挙げられる。
具体的な無機酸の例としては、弗酸、塩酸、臭酸、ヨウ酸、硫酸、過塩素酸、燐酸、及び硝酸等が挙げられる。

＜基質＞
本発明においては、α，β−不飽和カルボニル化合物を基質として用い、これを本発明の触媒を使用して不斉水素化し、光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンを製造する。

基質として用いられるα，β−不飽和カルボニル化合物としては、特に限定されないが、例えば下記一般式（２）で示される化合物が挙げられる。なお、α，β−不飽和カルボニル化合物のα位とβ位の二重結合において、Ｚ配置及びＥ配置があるものは、それらの何れも含むものである。

一般式（２）

（式（２）中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよい芳香族複素環基、置換基を有してもよい脂肪族複素環基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、又は置換基を有してもよいアラルキルオキシ基を表す。また、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^３とＲ^５、Ｒ^３とＲ^６、Ｒ^４とＲ^６、又はＲ^５とＲ^６とで環を形成してもよい。ただし、Ｒ^３とＲ^４、又はＲ^３とＲ^５とが環を形成していない場合、Ｒ^４が水素原子でないときはＲ^５及びＲ^６は互いに同じであっても異なってもよく、Ｒ^４が水素原子のときはＲ^５及びＲ^６は水素原子以外であり互いに異なる。）

前記式（２）で示される化合物すなわちα，β−不飽和アルデヒド又はα，β−不飽和ケトンを、本発明の触媒を使用して不斉水素化することにより、下記式（３）で示される光学活性カルボニル化合物である光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンが製造される。

式（３）中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、式（２）の定義と同じである。２つの＊は、少なくとも一方が不斉炭素原子を表す。

一般式（２）で示されるα，β−不飽和カルボニル化合物及び一般式（３）で表される光学活性カルボニル化合物において、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６で表される基である、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシ基について説明する。これらの基はいずれも置換基を有してもよい。

アルキル基としては、鎖状又は分岐状の例えば炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基及びドコシル基等が挙げられる。

また、これらアルキル基は置換基を有してもよく、該アルキル基の置換基としては、例えばアルケニル基、アルキニル基、アリール基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アルコキシ基、アルキレンジオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、置換アミノ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、及びハロゲン化アルキル基等が挙げられる。

アルキル基に置換するアルキニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的にはエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基及びヘキシニル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基及びフルオロフェニル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としての脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の脂肪族複素環基、及び多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、２−オキソ−１−ピロリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基及びテトラヒドロチエニル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としての芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５であり、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる基があげられる。好ましくは、５又は６員の単環の芳香族複素環基、及び多環又は縮合環の芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基の具体例としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリニル基、イミダゾリル基、オキサゾリニル基、チアゾリニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基及びベンゾチアゾリル基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチロキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロポキシ基、ｎ−ヘキシロキシ基、２−メチルペンチロキシ基、３−メチルペンチロキシ基、４−メチルペンチロキシ基及び５−メチルペンチロキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアリールオキシ基としては、例えば炭素数６〜１４のアリールオキシ基が挙げられ、具体的にはフェノキシ基、ナフチロキシ基及びアンスリロキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてのアラルキルオキシ基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基が挙げられ、具体的にはベンジルオキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、１−フェニルブトキシ基、２−フェニルブトキシ基、３−フェニルブトキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−フェニルペンチロキシ基、２−フェニルペンチロキシ基、３−フェニルペンチロキシ基、４−フェニルペンチロキシ基、５−フェニルペンチロキシ基、１−フェニルヘキシロキシ基、２−フェニルヘキシロキシ基、３−フェニルヘキシロキシ基、４−フェニルヘキシロキシ基、５−フェニルヘキシロキシ基及び６−フェニルヘキシロキシ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としての置換アミノ基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基等が挙げられる。

アルキル基の置換基としてアルコキシカルボニル基としては、たとえば炭素数１〜３０のアルコキシカルボニル基が好ましく、具体的にはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、２−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチロキシカルボニル基、２−メチルブトキシカルボニル基、３−メチルブトキシカルボニル基、２，２−ジメチルプロポキシカルボニル基、ｎ−ヘキシロキシカルボニル基、２−メチルペンチロキシカルボニル基、３−メチルペンチロキシカルボニル基、４−メチルペンチロキシカルボニル基、５−メチルペンチロキシカルボニル基、シクロペンチロキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、ジシクロペンチルメトキシカルボニル基、ジシクロヘキシルメトキシカルボニル基、トリシクロペンチルメトキシカルボニル基、トリシクロヘキシルメトキシカルボニル基、フェニルメトキシカルボニル基、ジフェニルメトキシカルボニル基及びトリフェニルメトキシカルボニル基等が挙げられる。

アルキル基に置換するハロゲン化アルキル基としては、パーハロゲノアルキル基が好ましく、例えば、トリフロロメチル基、ペンタフロロエチル基、ヘプタフロロプロピル基、ウンデカフロロペンチル基、ヘプタデカフロロオクチル基、ウンデカフロロシクロヘキシル基、ジクロロメチル基等が挙げられる。

アルケニル基としては、鎖状又分岐状あるいは環状の、例えば炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。具体的なアルケニル基としては、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、４−メチル−３−ペンテニル基、４，８−ジメチル−３，７−ノナジエニル基、１−シクロヘキセニル基及び３−シクロヘキセニル基等が挙げられる。
これらアルケニル基は置換基を有してもよく、該置換基としては、前記のアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。

アリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらアリール基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の置換基の説明で述べたような基が挙げられる。

アラルキル基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基等が挙げられる。
これらアラルキル基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

アシル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイル基、ナフトイル基、フェナンスロイル基、アンスロイル基等が挙げられる。
これらアシル基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

アラルキルオキシ基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基が挙げられ、具体的にはベンジロキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、１−フェニルブトキシ基、２−フェニルブトキシ基、３−フェニルブトキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−フェニルペンチロキシ基、２−フェニルペンチロキシ基、３−フェニルペンチロキシ基、４−フェニルペンチロキシ基、５−フェニルペンチロキシ基、１−フェニルヘキシロキシ基、２−フェニルヘキシロキシ基、３−フェニルヘキシロキシ基、４−フェニルヘキシロキシ基、５−フェニルヘキシロキシ基及び６−フェニルヘキシロキシ基等が挙げられる。
これらアラルキルオキシ基は置換基を有してもよく、該置換基としてはアルキル基の説明で述べたような基が挙げられる。

一般式（２）で表されるα，β−不飽和カルボニル化合物及び一般式（３）で表される光学活性カルボニル化合物において、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^３とＲ^５、Ｒ^３とＲ^６、Ｒ^４とＲ^６、又はＲ^５とＲ^６とで形成する環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、インダン環、テトラリン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、インデン環、ジヒドロナフタレン環、オクタヒドロナフタレン環、デカヒドロナフタレン環等が挙げられる。これらの環は、前述したようなアルキル基、以下で説明するアシル基等で置換されていてもよい。

Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^３とＲ^５、Ｒ^３とＲ^６、Ｒ^４とＲ^６、又はＲ^５とＲ^６とで形成する環の置換基としてのアシル基としては、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、オクタノイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、キシロイル基、ナフトイル基、フェナンスロイル基、アンスロイル基等が挙げられる。

本発明において基質として用いられるα，β−不飽和アルデヒドの具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。なお、α，β−不飽和アルデヒドのα位とβ位の二重結合において、Ｚ配置及びＥ配置があるものは、それらの何れも含むものである。以下化合物中の波線は、Ｚ配置及びＥ配置、又はそれらの混合物を表す。

以下、化合物中、Ｍｅはメチル基を、Ｂｎはベンジル基を表す。

前記したようなα，β−不飽和アルデヒドの中でも、ゲラニアール（下記Ａ）、ネラール（下記Ｂ）及びシトラールが特に好ましいものとして挙げられる。

本発明において基質として用いられるα，β−不飽和ケトンは、炭素数５〜１８のケトン類が好ましい。
α，β−不飽和ケトンの具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。なお、α，β−不飽和ケトンのα位とβ位の二重結合において、Ｚ配置及びＥ配置があるものは、それらの何れも含むものである。以下、化合物中の波線は、Ｚ配置及びＥ配置、又はそれらの混合物を表す。
以下化合物中、Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、Ｐｒはプロピル基、Ｂｎはベンジル基を表す。

＜光学活性カルボニル化合物の製造方法＞
本発明では、前記した触媒の存在下に、α，β−不飽和カルボニル化合物を不斉水素化反応させることにより、光学活性アルデヒド又は光学活性ケトンのような光学活性カルボニル化合物が得られる。

本発明の触媒の成分として用いられる金属粉末及び金属担持物の使用量は、種々の反応条件により異なるが、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物の重量に対して、金属粉末の全重量及び金属担持物の全重量が、例えば０．０１〜１０重量％であり、好ましくは０．０２〜５重量％用いることができる。

本発明の触媒の成分として用いられる光学活性ペプチド化合物の使用量は、種々の反応条件により異なるが、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物に対して、例えば０．０１〜２０重量％であり、好ましくは０．０４〜１０重量％用いることができる。

本発明の触媒の成分として用いられる酸の使用量は、種々の反応条件により異なるが、光学活性ペプチド化合物に対して、例えば、０．０１〜１０倍モルであり、好ましくは０．２〜４倍モル用いることができる。

本発明の触媒を用いてα，β−不飽和カルボニル化合物を不斉水素化し光学活性カルボニル化合物を製造する際には、溶媒の存在下又は非存在下で行うことができるが、溶媒存在下で行うことが好ましい。

使用される具体的な溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素系有機溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系有機溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系有機溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソランなどのエーテル系有機溶媒；水；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ターシャリーブタノール等のアルコール系有機溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ブロモトルエン等のハロゲン化炭化水素系有機溶媒；ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等が好ましく、必要に応じこれらの溶媒の混合溶媒を用いることもできる。これら溶媒の中でも、ヘプタン、トルエン、テトラヒドロフラン、ｔ−ブタノール、含水ｔ−ブタノールが特に好ましい。
溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができるが、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物の重量（ｇ）に対して例えば０〜２０倍容量（ｍＬ）〔（ｍＬ／ｇ）〕、好ましくは０〜５倍容量（ｍＬ）〔（ｍＬ／ｇ）〕である。

本発明の方法は、水素ガスを水素源として行うが、その水素圧は、０．０１ＭＰａ〜１０ＭＰａであり、好ましくは０．１ＭＰａ〜１ＭＰａである。反応温度は、−７８〜１００℃であり、好ましくは１０〜７０℃である。反応時間は、反応条件により異なるが、通常１〜３０時間である。

上記のようにして得られた光学活性カルボニル化合物は、例えば抽出、再結晶、各種クロマトグラフィー等の通常用いられる操作により、単離精製を行うことができる。また、得られる光学活性カルボニル化合物の立体配置は、光学活性ペプチド化合物の立体配置を適宜選択することによって、ｄ体又はｌ体（Ｒ体又はＳ体）を製造することができる。

以下、本発明を合成例、実施例及び比較例により具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。

生成物の測定は、ガスクロマトグラフィ−法（ＧＬＣ）により行った。条件は以下に述べる通りである。
使用分析機器：島津製作所製Ｇ２０１０ガスクロマトグラフ
カラム：転化率測定Ａｇｉｌｅｎｔ社製ＤＢ−ＷＡＸ（０．２５ｍｍｘ３０ｍ）
光学純度スペルコ社製β−ＤＥＸ−２２５（０．２５ｍｍｘ３０ｍ）
検出器：ＦＩＤ

＜Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成＞
（実施例１〜４で使用した光学活性ペプチド化合物の合成）（Ｓｃｈｅｍｅ１〜３）
（合成例１）ＳｅｇｍｅｎｔＡ：Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＨの合成（Ｓｃｈｅｍｅ１）
（合成例１−１）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＢｎの合成
Ｎ−Ｂｏｃ−Ｌ−Ｐｒｏｌｉｎｅ（東京化成工業（株）製）３．２３ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）とＤ−Ｐｒｏｌｉｎｅｂｅｎｚｙｌｅｓｔｅｒ３．０８ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと記す）溶液６０ｍＬにＥＤＣｌ５．７５ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）を加えて室温下１８時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１／１（容量比））で精製し、４．５５ｇの目的物を得た。収率７５．４％。

（合成例１−２）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＨの合成
合成例１−１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＢｎ４．１０ｇ（１０．２ｍｍｏｌ）のメタノール溶液４１ｍＬにＰｄ／Ｃ２．０５ｇ（ＡＳＣＡ−２，ｃａ．Ｐｄ５ｗｔ％，５０％ｗｅｔ）を加えて水素雰囲気下、室温で２０時間撹拌した。反応液をセライトでろ過後、減圧濃縮して目的物を得た。収率１００％。

（合成例２）ＳｅｇｍｅｎｔＢ：Ｈ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成（Ｓｃｈｅｍｅ２）
（合成例２−１）Ｂｏｃ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ｌｅｕ−ＯＨ（東京化成工業（株）製）９．９７ｇ（４０．０ｍｍｏｌ），ａｎｉｌｉｎｅ３．６５ｍＬ（４０．０ｍｍｏｌ）及びＨＯ−Ｓｕ（ｈｙｄｒｏｘｙｓｕｃｃｉｎｉｍｉｄｅ）４．６０ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１００ｍＬにＥＤＣｌ８．４３ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）を加えて室温下８時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各1回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１〜２／１（容量比））で精製し、５．４３ｇの目的物を得た。収率４４．３％。

（合成例２−２）Ｈ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液１５．０ｍＬに氷冷下、合成例２−１で得たＢｏｃ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ３．００ｇ（９．７９ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層をトルエンで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエン溶液を減圧濃縮して２．０３ｇの目的物を得た。収率１００％。

（合成例２−３）Ｂｏｃ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ａｉｂ−ＯＨ（シグマアルドリッチ（株）製）１．９９ｇ（９．７９ｍｍｏｌ）と合成例２−２で得たＨ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ２．０３ｇ（９．７９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液４０ｍＬにＥＤＣｌ３．７６ｇ（１９．６ｍｍｏｌ）を加えて室温下１７時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１／１（容量比））で精製し、２．４２ｇの目的物を得た。収率６３．１％。

（合成例２−４）Ｈ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液５ｍＬに氷冷下、合成例２−３で得たＢｏｃ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ１．００ｇ（２．５５ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して７４４ｍｇの目的物を得た。収率１００％。

（合成例３）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成（ＳｅｇｍｅｎｔＡ＋ＳｅｇｍｅｎｔＢ）（Ｓｃｈｅｍｅ３）
（合成例３−１）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成
合成例１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＨ（ＳｅｇｍｅｎｔＡ）４００ｍｇ（１．２８ｍｍｏｌ）、合成例２で得たＨ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ（ＳｅｇｍｅｎｔＢ）３７２ｍｇ（１．２８ｍｍｏｌ）及びＨＯ−Ｂｔ１９６ｍｇ（１．２８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液５ｍＬにＥＤＣｌ４９１ｍｇ（２．５６ｍｍｏｌ）を加えて室温下２４時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜０／１（容量比））で精製し、６５０ｍｇの目的物を得た。収率８６．７％。

（合成例３−２）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液６ｍＬに氷冷下、合成例３−１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ６００ｍｇ（１．０２ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して粗アミンを得た。アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／メタノール＝１０／０〜１０／１（容量比））で精製し、３００ｍｇの目的物を得た。収率６０．６％。

＜Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成＞（実施例５、６で使用した光学活性ペプチド化合物の合成）（Ｓｃｈｅｍｅ４〜５）
（合成例４）ＳｅｇｍｅｎｔＣ：Ｈ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成（Ｓｃｈｅｍｅ４）
（合成例４−１）Ｂｏｃ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ｔｒｐ−ＯＨ（東京化成工業（株）製）５．００ｇ（１６．４ｍｍｏｌ），ａｎｉｌｉｎｅ１．５０ｍＬ（１６．４ｍｍｏｌ）及びＨＯ−Ｓｕ１．８９ｇ（１．６４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１００ｍＬにＥＤＣｌ４．７２ｇ（２４．６ｍｍｏｌ）を加えて室温下１６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１（容量比））で精製し、３．１０ｇの目的物を得た。収率４９．８％。

（合成例４−２）Ｈ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液１６．５ｍＬに氷冷下、合成例４−１で得たＢｏｃ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈ２．７５ｇ（７．２５ｍｍｏｌ）を加えて３時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層をトルエンで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエン溶液を減圧濃縮して２．２７ｇの目的物を得た。収率１００％。

（合成例４−３）Ｂｏｃ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ａｉｂ−ＯＨ（シグマアルドリッチ（株）製）１．４７ｇ（７．２５ｍｍｏｌ）と合成例４−２で得たＨ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈ２．０３ｇ（７．２５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液４０ｍＬにＥＤＣｌ２．７８ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加えて室温下１６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜０／１（容量比））で精製し、２．２０ｇの目的物を得た。収率６５．３％。

（合成例４−４）Ｈ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液５ｍＬに氷冷下、合成例４−３で得たＢｏｃ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈ５００ｍｇ（１．０８ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して３３７ｍｇの目的物を得た。収率１００％。

（合成例５）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成（ＳｅｇｍｅｎｔＡ＋ＳｅｇｍｅｎｔＣ）（Ｓｃｈｅｍｅ５）
（合成例５−１）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成
合成例１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＨ（ＳｅｇｍｅｎｔＡ）３３７ｍｇ（１．０８ｍｍｏｌ），合成例４で得たＨ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈ（ＳｅｇｍｅｎｔＣ）４２０ｍｇ（１．０８ｍｍｏｌ）及びＨＯ−Ｂｔ１６５ｍｇ（１．０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液５ｍＬにＥＤＣｌ４１４ｍｇ（２．１６ｍｍｏｌ）を加えて室温下６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜０／１（容量比））で精製し、４６０ｍｇの目的物を得た。収率６４．７％。

（合成例５−２）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液４．６ｍＬに氷冷下、合成例５−１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈ４６０ｍｇ（０．６９８ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して粗アミンを得た。アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／メタノール＝１／０〜２／１（容量比））で精製し、３４０ｍｇの目的物を得た。収率８７．２％。

＜Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成＞（実施例１０で使用した光学活性ペプチド化合物の合成）（Ｓｃｈｅｍｅ６〜７）
（合成例６）ＳｅｇｍｅｎｔＤ：Ｈ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成（Ｓｃｈｅｍｅ６）
（合成例６−１）Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ｐｈｅ−ＯＨ（東京化成工業（株）製）５．３１ｇ（２０．０ｍｍｏｌ），ａｎｉｌｉｎｅ１．８２ｍＬ（２０．０ｍｍｏｌ）及びＨＯ−Ｂｔ３．０６ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１０６ｍＬにＥＤＣｌ７．６７ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）を加えて室温下６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝９／１〜７／１（容量比））で精製し、５．９３ｇの目的物を得た。収率８７．１％。

（合成例６−２）Ｈ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液２５．０ｍＬに氷冷下、合成例６−１で得たＢｏｃ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈ５．００ｇ（１４．７ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層をトルエンで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエン溶液を減圧濃縮して３．５３ｇの目的物を得た。収率１００％。

（合成例６−３）Ｂｏｃ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ａｉｂ−ＯＨ（シグマアルドリッチ（株）製）２．９９ｇ（１４．７ｍｍｏｌ）と合成例６−２で得たＨ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈ３．５３ｇ（１４．７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液６０ｍＬにＥＤＣｌ４．０４ｇ（２２．１ｍｍｏｌ）を加えて室温下６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１／１（容量比））で精製し、５．７９ｇの目的物を得た。収率９２．６％。

（合成例６−４）Ｈ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液６．４ｍＬに氷冷下、合成例６−３で得たＢｏｃ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈ１．２８ｇ（３．００ｍｍｏｌ）を加えて３時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して９７６ｍｇの目的物を得た。収率１００％。

（合成例７）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成（ＳｅｇｍｅｎｔＡ＋ＳｅｇｍｅｎｔＤ）（Ｓｃｈｅｍｅ７）
（合成例７−１）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成
合成例１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＨ（ＳｅｇｍｅｎｔＡ）９３７ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ），合成例６で得たＨ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈ（ＳｅｇｍｅｎｔＤ）９７６ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ）及びＨＯ−Ｂｔ４５９ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液３０ｍＬにＥＤＣｌ８６３ｍｇ（４．５０ｍｍｏｌ）を加えて室温下２０時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜０／１（容量比））で精製し、１．６４ｇの目的物を得た。収率８８．２％。

（合成例７−２）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液７．３ｍＬに氷冷下、合成例７−１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈ１．４６ｇ（２．３６ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して粗アミンを得た。アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／メタノール＝１／０〜９／１（容量比））で精製し、８００ｍｇの目的物を得た。収率６５．２％。

＜Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成＞（実施例１１で使用した光学活性ペプチド化合物の合成）（Ｓｃｈｅｍｅ８〜９）
（合成例８）ＳｅｇｍｅｎｔＥ：Ｈ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成（Ｓｃｈｅｍｅ８）
（合成例８−１）Ｂｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ｇｌｙ−ＯＨ（東京化成工業（株）製）３．５０ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）及びａｎｉｌｉｎｅ１．８２ｍＬ（２０．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液５０ｍＬにＥＤＣｌ７．６７ｇ（４０．０ｍｍｏｌ）を加えて室温下６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を食塩水で洗浄後（各２回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１（容量比））で精製し、４．８５ｇの目的物を得た。収率９６．９％。

（合成例８−２）Ｈ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液４０．０ｍＬに氷冷下、合成例８−１で得たＢｏｃ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈ４．００ｇ（１６．０ｍｍｏｌ）を加えて４時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して２．１０ｇの目的物を得た。収率８７．４％。

（合成例８−３）Ｂｏｃ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ａｉｂ−ＯＨ（シグマアルドリッチ（株）製）２．８５ｇ（１４．０ｍｍｏｌ）と合成例８−２で得たＨ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈ２．１０ｇ（１４．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液２１０ｍＬにＥＤＣｌ２．１４ｇ（２１．０ｍｍｏｌ）を加えて室温下８時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各２回）、減圧濃縮して目的とするアミド４．３８ｇを得た。収率９３．２％。

（合成例８−４）Ｈ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液１０．０ｍＬに氷冷下、合成例８−３で得たＢｏｃ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈ１．０１ｇ（３．００ｍｍｏｌ）を加えて３時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して７０６ｍｇの目的物を得た。収率１００％。

（合成例９）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成（ＳｅｇｍｅｎｔＡ＋ＳｅｇｍｅｎｔＥ）（Ｓｃｈｅｍｅ９）
（合成例９−１）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成
合成例１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＯＨ（ＳｅｇｍｅｎｔＡ）９３７ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ），合成例８で得たＨ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈ（ＳｅｇｍｅｎｔＥ）７０６ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ）及びＨＯ−Ｂｔ４５９ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液３０ｍＬにＥＤＣｌ８６３ｍｇ（４．５０ｍｍｏｌ）を加えて室温下２０時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ過後、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／メタノール＝１／０〜１９／１（容量比））で精製し、１．０６ｇの目的物を得た。収率６６．７％。

（合成例９−２）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液６．７ｍＬに氷冷下、合成例９−１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈ９６０ｍｇ（１．８１ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して粗アミンを得た。アルミナカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／メタノール＝１／０〜９／１（容量比））で精製し、４８０ｍｇの目的物を得た。収率６１．７％。

（合成例１０）＜Ｈ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈの合成＞（実施例７で使用した光学活性ペプチド化合物の合成）（Ｓｃｈｅｍｅ１０）
（合成例１０−１）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−ＯＨ（東京化成工業（株）製）１００ｍｇ（０．５２６ｍｍｏｌ）とＨ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈ（東京化成工業（株）製）１１３ｍｇ（０．５２６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液５ｍＬにＥＤＣｌ２０１ｍｇ（１．０５ｍｍｏｌ）を加えて室温下６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１／１（容量比））で精製し、１５０ｍｇの目的物を得た。収率７３．６％。

（合成例１０−２）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液１．５ｍＬに氷冷下、合成例１０−１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈ１５０ｍｇ（０．３８７ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して２７ｍｇの目的物を得た。収率２４．３％。

（合成例１１）＜Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈの合成＞（実施例８、９で使用した光学活性ペプチド化合物の合成）（Ｓｃｈｅｍｅ１１）
（合成例１１−１）Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈの合成
Ｂｏｃ−Ｐｒｏ−ＯＨ（東京化成工業（株）製）１００ｍｇ（０．５２６ｍｍｏｌ）とＨ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈ（東京化成工業（株）製）１１３ｍｇ（０．５２６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液５ｍＬにＥＤＣｌ２０１ｍｇ（１．０５ｍｍｏｌ）を加えて室温下６時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、濃縮物に水および酢酸エチルを加えて抽出した。有機層を希塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で洗浄後（各１回）、減圧濃縮して粗アミドを得た。得られたアミド体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜１／１（容量比））で精製し、１６０ｍｇの目的物を得た。収率７３．６％。

（合成例１１−２）Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈの合成
塩化水素の４Ｎジオキサン溶液１．６ｍＬに氷冷下、合成例１１−１で得たＢｏｃ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈ１６０ｍｇ（０．４１３ｍｍｏｌ）を加えて２時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、得られた濃縮物に水を加えて溶解し、水層を炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ＝１１に調製した。水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル溶液を減圧濃縮して６０ｍｇの目的物を得た。収率５０．５％。

（実施例１）
５０ｍＬ反応フラスコに、シトラール（ゲラニアール：ネラール＝５０：５０）２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／硫酸バリウム２５ｍｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ１００ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ。シトラールに対して５．０重量％）、トリフルオロ酢酸２３．５ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）、１０重量％含水ｔ−ブタノール４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。４０℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は２５．６％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は６１．６％ｅ．ｅ．であった。

（実施例２）
５０ｍＬ反応フラスコに、シトラール（ゲラニアール：ネラール＝５０：５０）２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／硫酸バリウム２５ｍｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ１００ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ。シトラールに対して５．０重量％）、トリフルオロ酢酸２３．５ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）、１０重量％含水ｔ−ブタノール４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。５０℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は６４．１％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は６１．４％ｅ．ｅ．であった。

（実施例３）
５０ｍＬ反応フラスコに、ゲラニアール２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／シリカアルミナ２５ｍｇ（ゲラニアールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ１００ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ。ゲラニアールに対して５．０重量％）、トリフルオロ酢酸２３．５ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）、トルエン４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。２５℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、ゲラニアールからシトロネラールへの転化率は３．９％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は３０．４％ｅ．ｅ．であった。

（実施例４）
５０ｍＬ反応フラスコに、ゲラニアール２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／ゼオライト２５ｍｇ（ゲラニアールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｌｅｕ−ＮＨＰｈ１００ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ。ゲラニアールに対して５．０重量％）、トリフルオロ酢酸２３．５ｍｇ（０．２１ｍｍｏｌ）、トルエン４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。２５℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、ゲラニアールからシトロネラールへの転化率は４１．０％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は１４．７％ｅ．ｅ．であった。

（実施例５）
５０ｍＬ反応フラスコに、シトラール（ゲラニアール：ネラール＝５０：５０）２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／硫酸バリウム２５ｍｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈ１２０ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ。シトラールに対して６．０重量％）、トリフルオロ酢酸２４．５ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ）、１０重量％含水ｔ−ブタノール４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。４０℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は２０．０％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は４４．０％ｅ．ｅ．であった。

（実施例６）
５０ｍＬ反応フラスコに、シトラール（ゲラニアール：ネラール＝５０：５０）２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／硫酸バリウム２５ｍｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｔｒｐ−ＮＨＰｈ１２０ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ。シトラールに対して６．０重量％）、トリフルオロ酢酸２４．５ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ）、１０重量％含水ｔ−ブタノール４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。５０℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は２８．３％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は４６．５％ｅ．ｅ．であった。

（実施例７）
５０ｍＬ反応フラスコに、ゲラニアール２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／硫酸バリウム２５ｍｇ（ゲラニアールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈ７０ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ。ゲラニアールに対して３．５重量％）、トリフルオロ酢酸２７．８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、トルエン４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。２５℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、ゲラニアールからシトロネラールへの転化率は６．９％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は１０．９％ｅ．ｅ．であった。

（実施例８）
５０ｍＬ反応フラスコに、ゲラニアール２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／シリカアルミナ２５ｍｇ（ゲラニアールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈ７０ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ。ゲラニアールに対して３．５重量％）、トリフルオロ酢酸２７．８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、トルエン４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。２５℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、ゲラニアールからシトロネラールへの転化率は４．９％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は１５．０％ｅ．ｅ．であった。

（実施例９）
５０ｍＬ反応フラスコに、ゲラニアール２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／ゼオライト２５ｍｇ（ゲラニアールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−ＮＨＰｈ７０ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ。ゲラニアールに対して３．５重量％）、トリフルオロ酢酸２７．８ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、トルエン４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。２５℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、ゲラニアールからシトロネラールへの転化率は５．７％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は７．３％ｅ．ｅ．であった。

（実施例１０）
５０ｍＬ反応フラスコに、シトラール（ゲラニアール：ネラール＝５０：５０）２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／硫酸バリウム２５ｍｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｐｈｅ−ＮＨＰｈ１２０ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ。シトラールに対して６．０重量％）、トリフルオロ酢酸２６．３ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）、１０重量％含水ｔ−ブタノール４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。５０℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は３８．０％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は５４．１％ｅ．ｅ．であった。

（実施例１１）
５０ｍＬ反応フラスコに、シトラール２ｇ（１３．１４ｍｍｏｌ）、５重量％Ｐｄ／硫酸バリウム２５ｍｇ（シトラールに対して１．２５重量％）、Ｈ−Ｐｒｏ−Ｄ−Ｐｒｏ−Ａｉｂ−Ｇｌｙ−ＮＨＰｈ１００ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ。シトラールに対して５．０重量％）、トリフルオロ酢酸２６．５ｍｇ（０．２３ｍｍｏｌ）、１０重量％含水ｔ−ブタノール４ｍＬをいれ攪拌し、水素雰囲気とした。５０℃にて２１時間攪拌した後、触媒をろ過後、ガスクロマトグラフィ−で分析したところ、シトラールからシトロネラールへの転化率は４８．２％で、得られたシトロネラ−ルはｌ体であり、その光学純度は３８．５％ｅ．ｅ．であった。

本発明において用いられる不斉水素化用触媒は、金属粉末又は金属担持物、光学活性ペプチド化合物、及び酸を単に混合するだけで、基質であるα，β−不飽和カルボニル化合物を簡便に不斉水素化し、光学活性α，β−カルボニル化合物を製造することができる。
すなわち、シトラール（ゲラニアールとネラールとの混合物）、ゲラニアール、又はネラールのα，β−炭素−炭素二重結合を選択的に不斉水素化することにより、光学活性シトロネラールを得ることができる。光学活性シトロネラールはそれ自体が香料として有用であるばかりでなく、光学活性シトロネロール、光学活性イソプレゴール、光学活性メントールの重要な原料である。
本発明はＺ配置化合物とＥ配置化合物との混合物（いわゆるシトラール）を基質として使用した場合においても、シトラールを蒸留して高純度のネラール、またはゲラニアールを得た後に不斉水素化を行う必要がなく、同じ立体配置の光学活性カルボニル化合物を製造することができる。
そして、本発明の触媒は、反応溶液に可溶性ではないため、反応系内から金属又は金属担持物、及び光学活性ペプチド化合物を容易に回収して再利用でき、工業的にも有利である。

Claims

周期表における第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属の粉末又は第８〜１０族金属より選ばれる少なくとも一種の金属が担体に担持された金属担持物と、下記一般式（１）

（式（１）中、環Ａは３〜７員環で、置換基を有してもよく、炭素、窒素、硫黄、酸素、及び燐からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子を含む。環Ａは縮環構造となっていてもよい。Ｒ^１は、Ｙ位置のカルボニル基とペプチド結合により結合しているアミノ酸残基または２〜３０のアミノ酸からなるペプチド残基を表す。Ｒ^２は、Ｒ^１のＣ末端のカルボニル基と結合するアミノ基、アルコキシ基、ヒドロキシ基またはポリマー鎖を表す。＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性ペプチド化合物と、酸とを含む、α，β−不飽和カルボニル化合物の不斉水素化用触媒。
前記金属がニッケル、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、パラジウム及び白金からなる群から選ばれる、請求項１に記載の不斉水素化用触媒。
下記一般式（２）

（式（２）中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有してもよい芳香族複素環基、置換基を有してもよい脂肪族複素環基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、又は置換基を有してもよいアラルキルオキシ基を表す。また、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^３とＲ^５、Ｒ^３とＲ^６、Ｒ^４とＲ^６、又はＲ^５とＲ^６とで環を形成してもよい。ただし、Ｒ^３とＲ^４、又はＲ^３とＲ^５とが環を形成していない場合、Ｒ^４が水素原子でないときはＲ^５及びＲ^６は互いに同じであっても異なってもよく、Ｒ^４が水素原子のときはＲ^５及びＲ^６は水素原子以外であり互いに異なる。）
で表されるα，β−不飽和カルボニル化合物を、請求項１又は請求項２に記載の不斉水素化用触媒を用いて不斉水素化する工程を含む、下記一般式（３）

（式（３）中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、式（２）の定義と同じである。２つの＊は、少なくとも一方が不斉炭素原子を表す。）
で表される光学活性カルボニル化合物の製造方法。
α，β−不飽和カルボニル化合物が、ゲラニアール、ネラール又はシトラールである、請求項３に記載の製造方法。
α，β−不飽和カルボニル化合物が、炭素数５〜１８のα，β−不飽和ケトン類である、請求項３に記載の製造方法。