JP5419297B2 - レーザーミラーにおける熱変形の補償 - Google Patents

Description

本発明は高出力二酸化炭素スラブレーザーに関する。より具体的には本発明は熱変形を減少させポインティング安定性を向上させるミラーシステムの設計に関する。

本発明は高出力拡散冷却二酸化炭素スラブレーザーに関する。その様なレーザーの例は共有米国特許第5,140,606号に見られる。本文献は参照により本明細書に組み入れられる。これらのレーザーはレーザーガスを含む密閉ハウジング内に取り付けられた一対の長方形の金属電極を含む。これらの電極は近接して配置されスラブ形放電領域を規定する。ＲＦパワーがレーザー光を生成するガスを励起するために使用される。

これらのタイプのレーザーは通常平行に対向する電極の幅寸法方向に非安定共振器及び2つの電極を分離する垂直（すなわち、「ギャップ」）寸法方向に導波路形共振器を持つハイブリッド光共振器を用いる。初期の設計では正分枝（positive branch）非安定共振器（例えば、米国特許第4,719,639号を参照願いたい。本文献は参照により本明細書に組み入れられる。）を用いた。後の設計では負分岐（negative branch）非安定共振器（例えば、米国特許第5,048,048号を参照願いたい）を用いた。

正分岐非安定共振器の設計は負分岐の設計よりも調整する程度がはるかに困難であるが、その設計では温度の変化による共振器ミラーの曲率の変化の関数としての、出力ビームポインティングの変動（pointing variation）に対する感度がより低い。他方、負分岐共振器はより容易に調整することができるが、そのビームポインティングの変動は温度によるミラーの曲率の変化により敏感である。温度によるミラーの曲率の変化は出力レーザービームのポインティングを変動させる。

負分岐非安定共振器の有利な点をより容易に調整するために、温度の変化によるミラー曲率の変化によるレーザービームポインティング安定性が大きく変化する問題を解決する必要がある。これは特に放電長さが短くなり幅が増すと特に当てはまる。分析結果によるとレーザービームのポインティングの変動は負分岐非安定共振器の幅と共に直接増大し、及び逆にその長さの二乗に逆比例する。短い工業用ＣＯ２レーザーの設計は、ビームの品質が損なわれない限りＣＯ２レーザーの工業上の応用において好意的に見られている。この観点より、放電の長さをより短くすると、放電の幅は同一のレーザー出力を得るために必要な同じ放電領域を維持するために増大させることが必要となる。

負分岐非安定共振器の設計では、出力結合ミラー及びリターンミラー（return mirror）は凹面を持つ。ミラーは通常出力結合側を除いては、垂直寸法方向の小さいギャップにより分離された平行に対向する電極の全幅に拡がる。ミラーの表面に堆積される薄い高度の反射フィルムはミラーの表面を加熱する非常に少量だが限定された熱を吸収するため、レーザービームが反射するミラーの表面に直接加熱が起きる。この反射面からの熱がミラーの厚み幅を通して伝達され、それによってミラーの前面及び裏面の間の温度勾配を作り出す。

ミラーの裏側は通常ミラーを支える巨大な機械的なハウジングに取り付けられているため、ミラーの裏面は通常前面よりも温度が低い。そして前面と裏面間に温度勾配が維持される。この温度勾配はレーザー出力と共に増大し、ミラー表面の変形又はゆがみを起こし、それにより光共振器の形状を乱してビームの輪郭形状及びポインティングの変動の様なレーザービーム能力に好ましくない変化をもたらす。熱勾配の場合、ゆがみは凹面のミラー表面（レーザー放電に向かう側）をより凸状にする。

例えば、放電に対するＲＦパワー入力、パルス繰り返し周波数、負荷サイクル等の様なレーザーの運転条件の変化に対応した出力ビームパラメータの変化はミラーの熱勾配に変化を起こし、その様な変化は工業レーザーシステムにおいては望ましいことではない。これらのレーザーミラー熱変形効果を除去し又は低減させることが強く望まれており、本発明の開示の焦点となる。本発明は、単に非安定レーザー共振器出力ビームのポインティングの変動を低減させることのみよりも広い範囲で応用されうることは注目すべきである。例えば、高い光出力を扱う光システム中のミラーの変形を低減することに関係しうる。我々の分析及び実験的試験の結果、負分岐非安定共振器を用いたスラブＣＯ２レーザーの出力においてビームポインティングの変動を引起す主な理由が高反射フィードバックミラー及び非安定共振器の出力結合ミラー表面の曲率の変化であることを示している。曲率のこの変化は以下に示す3つの熱の影響（効果）により生じる：
１． ミラーの厚さ全体に渡る温度勾配はミラーを曲げる原因となる。ミラーの裏側はミラーの反射面よりも温度が低いため、前面は裏面よりも膨張しミラーは凹形が減少する。僅かの温度勾配によりレーザー出力ビームが受容可能な量を超えて偏向しうることを見出した。
２． レーザー放射によるミラー加熱によるミラーの平均温度の上昇はまた、ミラー材料の熱による膨張のためミラーの凹形を減少させる。ミラーの曲率の変化は共振器の最適調整状態を変えて、レーザーの能力を低下させる。本発明の場合、ミラー材料は銅であるが曲率の同様の変化は、例えば、シリコンの様な他のミラー材料においても予想される。
３． ミラーの材料（通常は銅）と大きなミラーホルダーパテ形式（pate-form）（通常アルミニウムから成る）の間のバイメタル効果は、また異なる熱膨張係数を持つ2つの材料により引き起こされる曲げにより曲率半径を変える。アルミニウムの熱膨張係数は銅よりも大きいことは留意すべきである。この場合、バイメタル効果は凹面ミラーをより凹面状とする。

ミラーの加熱による有害な影響は従来の技術により矯正が可能であった。例えば、米国特許第5,020,895号にはミラーの熱による変形を補償するために用いることのできる光学技術について記述している。このアプローチでは能動電子フィードバック回路をセンサー及び圧電物質又は調整液又はガス圧力室の様なアクチュエーターと組み合わせて使用して、ミラーに対する熱の影響から生じる曲率半径の変化に対抗する力を与える。このアプローチは望ましくない複雑な要素を加えそしてレーザーのコストを増大させる。他の従来技術は電子フィードバック回路を温度センサー及び共振器ミラーの裏側を加熱する加熱要素と組み合わせて、曲率半径の変化に対抗するための適当な温度分布を確立することである（米国特許第5,751,750号を参照）。後者の特許はまた、レーザービームの少量部分を取り出して（couple out）ミラーの前面及び裏面の温度を均等にするためミラーの裏面に照射するアプローチについて伝える。これらの両者のアプローチは望ましくない複雑な要素を加え、そしてレーザーのコストを増大させる。

米国特許第4,287,421号は事前に選択された反射コーティングを持つ透明なミラー材料が、少量のレーザー照射がコーティング及びミラー材料を通って伝わり、そしてさらにミラーの裏側のコーティングにより吸収される様にすることができることを開示している。反射及び吸収パラメータは、吸収するコーティングにより吸収される照射がミラーの裏側を加熱し、ミラーの前面と裏面の温度勾配を補償するに十分である様に選択される。このアプローチの限界はミラーに透明な材料が必要であることである。そのため、Ｓｉ又はＺｎＳｅミラーよりもより損傷に抵抗力のあると信じられている銅のミラーには有用でない。

本発明はミラーの変形を悪化させるよりも改善させるために、バイメタル効果を用いて熱によるミラーの変形の問題の解決を図る。ある好ましい実施の態様においては、レーザーハウジングのエンドヘッダーアセンブリ（end header assembly）はその上にミラーサポートが取り付けられるフランジにより規定される。細長いミラー要素はサポートに取り付けられる。ミラー要素は金属から成り、共振器の反射面の一つを構成するその前面の曲がった部分を含む。前面は更に少なくとも一つの、及び好ましくは、ミラーの曲がった部分に平行に伸びる２つのプレーナー領域を含む。これらのプレーナー領域は曲がった部分から一段低くても良い。

本発明においては、金属細片がミラー要素のプレーナー部分の上に取り付けられている。これらの細片はミラー要素の金属材料の熱膨張係数よりも低い係数を持つ材料から形成される。好ましい実施の態様においては、ミラー要素は銅から成り、細片はステンレス鋼から成る。

２つの材料の異なる膨張率のためミラーと細片はバイメタル効果を生じる。この場合、バイメタル効果はミラーの凹形を更に凹形にする様に働く。対照的に加熱の差があることによりミラーの凹形は減少することになる。ステンレス鋼片の厚さ及びサイズを適当に選択することにより2つの効果がバランスし変形を最小に抑える。他の実施の態様においては、一以上の金属細片はミラー要素の裏側に取り付けられる。この場合ミラーの前面の加熱により引起される熱勾配の効果に対抗させるために、細片の熱膨張係数はミラー要素の熱膨張係数より大きくなる様に選択される。

本発明の更なる目的及び有利な点は、以下に示す図面と共に以下の詳細な記載から明らかに成るであろう。

図１はレーザー放電に向かう側を示す従来技術のヘッダー及びミラー台及びミラーの斜視図である。 図２はレーザー室の外側を示す従来技術のヘッダーの斜視図である。 図３Ａは本発明のヘッダー及びミラー アセンブリの拡大斜視図である。 図３Ｂは図３Ａのヘッダーの組み立て斜視図である。 図４Ａは放電の出力カプラー側で使用される本発明のヘッダー及びミラー アセンブリの拡大斜視図である。 図４Ｂは図４Ａのヘッダーの組立て斜視図である。 図５は本発明を用いた試験レーザーに基づくポインティング安定性の改善を表すグラフである。 図６Ａは本発明の第２の実施の態様のヘッダー及びミラー アセンブリの拡大斜視図である。 図６Ｂは図６Ａのヘッダーの組立て斜視図である。

好ましい実施の態様の詳細な説明

図1及び２は、ＣＯ２スラブレーザーの負分岐非安定共振器の一部を形成する湾曲したミラーを取り付けるための実験用レーザーで用いたヘッダーアセンブリ１０を表す。

ヘッダーアセンブリは、電極、CO2:N2.H_e:XeのCO₂ガス混合物及び共振器ミラーを含むレーザー管ハウジング室を密閉するための主ハウジングにボルトで留められるアルミニウムフランジを含む。Ｏ−リング１４は密閉シールとなる。2008年3月26日に出願された共有米国特許出願番号12/079,296（参照により本明細書に組み入れられる）は本明細書に開示するフランジを取り付けることのできるレーザー管ハウジングの例を表す（また上に引用された米国特許第5,140,606号を参照）。

銅のミラー１６が、アルミニウムフランジの高くなった内側表面２０に更に連結されたアルミニウムミラーベース１８に取り付けられる。ミラー１６は、ミラーの反射面を規定する、細長い高度に研磨された凹形領域２２を含む。1対のプレーナー表面２６は湾曲した表面の両側にある。プレーナー表面は湾曲した表面から段差のある低い位置にあり、そのためミラーは本質的にその断面がＴ−型である。

銅ミラーを大きなアルミニウムベースに取り付けることにより、それらの材料の熱膨張係数の差が大きいためバイメタル効果が生ずる。このバイメタル効果はミラーの曲率に大きな変化を起こし、それによって温度によるレーザービームのポインティング方向に変動を発生させる。フランジの高くなった表面２０は図２に示す様にフランジの裏面に機械加工により挿入された2軸角度位置調節可能な柱２８を持つ。この傾動可能な柱２８は凹んだ前面を持ち、その面は密閉シールを保持するが、それは調節可能な柱の端をアルミニウムフランジアセンブリ材料に結合する機械加工プロセスの間に残った薄い皮膜により端のフランジアセンブリ材料の不可欠な一部になることにより行われる（上に引用した米国特許第5,140,606号を参照）。図２の４つのネジ３２は、2つの角度軸によりミラーの方向を調整しレーザー共振器のキャビティに適合させる様に用いる。

図1及び２に示すこのミラー アセンブリ構造は400から500W ＣＯ２スラブレーザーのための負分岐ハイブリッド非安定導波管共振器を形成するために用いられた。電極の幅は3.780インチであった。ミラーの曲率半径は約0.6mであった（更にこの試験レーザーの詳細は2007年7月30日に出願された米国特許第60/962,555号に見ることができ、本文献は参照により本明細書に組み入れられる。）
この先行技術ミラー アセンブリ構造は、レーザーの電源が入れられた後、レーザー出力ビームポインティングに400 から800ミクロラジアン変動を与えるものであった。このビームポインティングの変動は殆んどのレーザー材料加工作業では受けいれられない。分析及び経験の双方の調査によって温度によるキャビティ長の変化により引起されるポインティングの変動は１℃当たり約３０ミクロラジアンであった。温度によるキャビティ長の変化により引起されるこのレーザービームの偏向は、先に述べたミラーの曲率半径の変化を引起す３つの熱効果と比べて小さいものであった。すなわち、ミラーの前面及び裏面の間の温度勾配、ミラーの曲率を変える銅の熱膨張、及び温度変化によるアルミニウムと銅の間のバイメタル効果である。

温度によるビームポインティングの変動の最大の原因は大きなアルミニウムベースプレートとベースプレート上に取り付けられた銅ミラーの間のバイメタル効果であった。図１に示すアセンブリの銅とアルミニウム間のバイメタル効果によるレーザービームの偏向は１℃当たり約２２０ミクロラジアンであった。最も重要なことは、バイメタル効果は、ミラーの熱勾配の変化及び銅及びアルミニウム間の熱膨張によるミラーの曲率半径の変化により起こされるビームの偏向の変化を補償することが可能であることが判明したことである。

注目すべきは非安定光学共振器において温度によるミラーの曲率半径の変化を低減させるためのバイメタル効果を持つミラー構造を使用することは幅広く応用されている。これは本願発明の焦点となり、レーザー出力、操業負荷サイクル、パルス繰り返し周波数等の変化により引起される温度の変化の関数としてのＣＯ２スラブレーザー出力ビーム偏向の低減させることに係わる。

図３Ａ及び３Ｂはミラーの加熱によるポインティングの変動を低減させる好ましいアプローチを示す。以下に議論するように、図１及び２の設計に対して２つの重要な変更がなされている。まず、大きなアルミニウムベース１８が取除かれている。第２に、一対のステンレス鋼片４０がミラー１６のプレーナー表面２６に取り付けられている。ステンレス鋼片は差別加熱によるミラーの歪みを限定するように働く。

我々の実験では、鋼片４０は17-4PHステンレス形鋼であった。各ステンレス鋼片は銅Ｔ−型ミラーに留めネジ４４によって取り付けられ、そして六角ナット４６により固定される。Ｔ−型ミラー及びステンレス鋼片アセンブリは２つの取り付け用ネジ（示さず）によって高くなった表面２０に取り付けられる。だぼピン４８が、ミラーを２つのネジ溝のある取り付け穴へ直列に取り付けるために用いられる。

高くなった表面２０は図２に示す２軸角度調整可能な柱に連結される。この柱はミラーの外面を密封されたレーザー管ハウジング室に対して調整するために使用される。

図１及び２のアルミニウムベースプレート１８の除去及び「Ｔ」型ミラーの中心を図３Ａ及び３Ｂに示す２軸角度調整可能な柱の高くなった表面２０に直接取り付けることにより、アルミニウムベースプレートと銅ミラーの間のバイメタル効果を取除き、温度による出力レーザービームのポインティングの変動を大きく改善することができた。Ｔ型銅ミラーの前面に取り付けられたステンレス鋼片４０の間のバイメタル効果により、温度による残りのビームポインティングの変動を補償することが可能であった。フランジ ミラー アセンブリ１２がレーザー管ハウジングに取り付けられた（上に述べた参考文献に記載のように）。

ステンレス鋼片の厚み及び長さは、所望の温度範囲に亙り所望量の熱補償が得られるまで、Ｔ型銅ミラーの寸法に基づき選択され、そして分析及び実験に基づき最初に調整される。ステンレス鋼片については本明細書で議論されたが、他の材料もまた本発明の範囲から逸脱することなく有力な対象となり得る。

ただ、必要なことは鋼片の熱膨張係数はミラーを形成する材料のそれよりも小さくなければならない。この様に、バイメタル効果はミラーの差別加熱により起きる歪みを補償することができる。

図４Ａ及び４Ｂは図３Ａ及び３Ｂに類似の説明図であるが、レーザーの出力カプラー側を示す。主な違いはレーザービームがそれを通ってレーザー管ハウジングを出る出力ポート５０が追加されていることである。ホルダー５２がZnSe又はSiの様な材料から形成される出力窓（示さず）を保持するように設けられている。窓ホルダー５２は密封シールを保持するように設計される。ミラー２６の長さは、共振器の出力ビームカプリングポートを設ける必要から出力側が短くなっていることに留意する必要がある。

負分岐ハイブリッド非安定導波管共振器からの出力カプリングの量は、技術分野で良く知られているように共振器の倍率により決定される。

本明細書に開示されている、銅及びステンレス鋼の例の様な２つのバイメタル材料を一緒に保持する代替的な、好ましいアプローチには、上で議論した機械的な圧縮成形技術に替わって、２つの材料を半田付けか、又はろう付けすることにより接着させることがある。接着による場合は、機械的圧縮成形によるアプローチよりも最初は開発のためのより多くの努力が必要である。しかし、そのアプローチは、特にレーザー管ハウジングが、製造サイクルのベーク−アウト（bake-out)において経験する温度サイクルを経た後はより長期の安定をもたらすことがありうる。

図５は２つのレーザー、一つはバイメタル熱補償があり、他の一つはそれがないあるビームポインティングの変動データを示すグラフである。Ａ表示の曲線は図１及び２の従来技術の構造を持つレーザーに対応する。Ｂ表示の曲線は図３及び４のレーザー設計に対応する。図５はミラーに適用された温度制御冷却剤により調整されたレーザーミラーの時間による温度の変動を示す。図５はまた冷却剤によるその時のミラーの、温度の変動に対応する時間の非安定共振器（ＵＲ）のビームポインティングの変動を示す。両方のレーザーは同じ４００Ｗの出力であり、上に述べたものと同じである。

時間ｔ＝０で従来技術のレーザーの電源が入れられ、ミラー温度が約１０００秒で２２℃から約２９℃に上がり始める（曲線Ａ１）。この時間はレーザーミラーについては通常のレーザーのスタートアップ温度の上昇のための時間である。このスタートアップ時間の間に従来技術のレーザーの出力ビームの角度位置は約１２００ミクロラジアン変化した（すなわち、６３００から７５００ミクロラジアンへ）。１０００秒後に従来技術のレーザーのミラー温度は制御冷却剤によって、約１５００秒後（すなわち、時間≦２５００秒）に約４０℃になる様に上げられた。約４０℃のミラー温度で、レーザービームの位置は２０００ミクロラジアンの位置変化により、約９５００ミクロラジアンとなった。２５００秒後に、ミラー温度は約２５℃下がり、これによりビームポインティング位置が約６１００ミクロラジアンに下った（すなわち、約３４００ミクロラジアンの角度位置の変化）。この挙動は殆んどの材料加工の使用においては受容れられないものであることは確かである。

時間ｔ＝０で、本発明により構成されたレーザー（これは出力において従来技術のレーザーと同等である）の電源が入れられ、そのミラーの温度は１０００秒少し後に２２℃から約３２℃に上がり始めた（曲線Ｂ１）。このスタートアップ時間の間に出力ビームの角度位置は６３００から約６１００ミクロラジアンへ下り（曲線Ｂ２）、これは僅か約１００ミクロラジアンの変化に過ぎない。これは大きな改善のレベルを超えるものである。更にミラー温度が４０℃に上げられ、そして約６℃に下るにつれてビームポインティング安定性が更に大きく改善された。図５に示すポインティング安定性は殆んどの材料加工の使用において受容れられるものである。従来技術のレーザーの偏向挙動と本発明により構成されたレーザーのそれを比較すると、非安定共振器ミラーのバイメタル熱補償によって改善が見られることを明確に示している。例えば、スタートアップ時のポインティング安定性は約１ミリラジアンから約１００ミクロラジアンに減少している。

図６Ａ及び６Ｂは代替的アプローチを示す。図６Ａ及び６Ｂの実施の態様は、ミラーの歪みを制御する細片４０Ａが前面ではなくミラー要素１６の裏面にあることを除いては、図３Ａ及び３Ｂの実施の態様と同じである。この場合、細片４０Ａの熱膨張係数はミラー要素の熱膨張係数よりも大きくなければならない。この様に、バイメタル効果はミラーをより凹型にする傾向があり、他方、熱勾配はミラーの凹型を減少させる傾向がある。細片４０Ａの厚さと幅を適切に選択することにより、２つの効果をバランスさせてポインティング安定性を改善することができる。

２つの細片４０Ａが示されているが、任意の数（一以上）の細片を用いることができる。本明細書で説明した実施の態様では、ミラー要素１６の幅（図６Ａの垂直方向の寸法）は図３Ａに示すものより大きく、１対の細片４０Ａをミラー要素の裏面に取り付けることが可能であり、一方中央取付け部分４８のための間隔を提供する。
銅ミラー要素の場合、細片はアルミニウムから形成することができる。従来技術の設計ではミラー要素の裏面に取り付けられる大きなアルミニウムブロック１８（図１）を含んでいたことに注意すべきである。この大きなブロックは大きく且つ制御されないバイメタル効果を生み出していた。これと対照的に、そして上で述べた様に、細片のサイズは熱勾配効果をバランスさせ、効果を改善することができる様に選択することができる。

細片をミラー要素の前面（図３及び４）又はミラー要素の裏面（図６）に設けることが望ましいと信じられているが、これらの側端に沿って細片を取り付けることも可能である。

本発明は好ましい実施の態様について記載しているが、当業者は特許請求の範囲に規定した本願発明の範囲及び思想から逸脱することなく、これらに種々の変更及び修飾を加えることが可能である。

Claims (14)

1. ガス放電レーザーの端部ミラーを支持するためのヘッダーアセンブリであって、
   ミラーサポートを含むフランジ；
   実質的に金属材料から形成された細長いミラー要素であって、ミラー要素の裏表面のミラーサポートに取り付けられ、光の伝播を制御するための細長い湾曲した反射する部分を含むミラー要素の前面を持ち、前記前面は更に湾曲した部分に平行に伸びる少なくとも一つのプレーナー表面を含み；及び
   前記ミラー要素の前記プレーナー表面に連結された細長い細片であり、前記細片は、ミラー要素を形成する金属材料の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を持つ金属材料より形成される、細片
   を含む前記ヘッダーアセンブリ。
2. 前記ミラー要素が主に銅から形成され、前記細片が主にステンレス鋼から形成される、請求項１のアセンブリ。
3. 前記細片がミラー要素にボルトで留められる、請求項１のアセンブリ。
4. 前記細片がミラー要素に接着される、請求項１のアセンブリ。
5. 前記プレーナー表面が、放電から離れる方向に向かって、湾曲した表面から段差により低い位置にある、請求項１のアセンブリ。
6. 前記ミラー要素が湾曲した部分に平行に伸びる第２のプレーナー表面を持ち、前記少なくとも一つのプレーナー表面に対向する、湾曲した表面の、ある側にあり、前記アセンブリが更に前記第２のプレーナー表面に連結された第２の細長い金属細片を含み、前記第２の細長い細片は、ミラー要素を形成する金属材料の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を持つ金属材料より形成される、
   前記請求項１のアセンブリ。
7. 前記少なくとも一つのプレーナー表面及び前記第２のプレーナー表面は、放電から離れる方向に向かって、湾曲した表面から段差により低い位置にある、請求項６のアセンブリ。
   
8. 前記湾曲した表面は凹形状である、請求項１のアセンブリ。
9. ガス放電レーザーの端部ミラーを支持するためのヘッダーアセンブリであって、
   ミラーサポートを含むフランジ；
   実質的に金属材料から形成された細長いミラー要素であって、ミラー要素の裏面のミラーサポートに取り付けられ、光の伝播を制御するための細長い凹形状反射する部分を含むミラー要素の前面を持ち、前記前面は、湾曲した部分の両側に、湾曲した部分と平行に伸びる一対のプレーナー表面を更に含み、前記プレーナー表面は、放電から離れる方向にむかって、湾曲した部分から段差により低い位置にあり；及び
   前記ミラー要素の前記各プレーナー表面に連結された細長い細片であり、前記細片はミラー要素を形成する金属材料の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を持つ金属材料より形成される、細片
   を含む前記ヘッダーアセンブリ。
10. 前記ミラー要素が主に銅から形成され、前記細片が主にステンレス鋼から形成される、請求項９のアセンブリ。
11. 前記細片がミラー要素にボルトで留められる、請求項９のアセンブリ。
12. 前記細片がミラー要素に接着される、請求項９のアセンブリ。
13. ガス放電レーザーの端部ミラーを支持するためのヘッダーアセンブリであって、
    ミラーサポートを含むフランジ；
    実質的に金属材料から形成された細長いミラー要素であって、ミラー要素の裏表面のミラーサポートに取り付けられ、光の伝播を制御するための細長い湾曲した反射する部分を含むミラー要素の前面を持ち；及び
    前記ミラー要素に連結された細長い細片であり、前記細片は金属材料より形成され、前記細片の位置及びその熱膨張係数はミラーとレーザービームの相互作用により生じる熱勾配により引起されるミラーの歪みを補償する様に選択される、細片
    を含む前記ヘッダーアセンブリ。
14. 前記ミラー要素の前面が、湾曲した部分に平行して伸びる少なくとも一つのプレーナー表面を持ち、前記細片は前記プレーナー表面に取り付けられ、前記細片はミラー要素を形成する金属材料の熱膨張係数よりも小さい熱膨張係数を持つ、請求項１３のアセンブリ。

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