JP5448882B2 - Planographic printing plate precursor and plate making method - Google Patents
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Description
本発明は、平版印刷版原版及びそれを用いる製版方法に関する。詳しくは、レーザーによる画像露光により直接製版可能な平版印刷版原版、及び、前記平版印刷版原版を機上現像する製版方法に関する。 The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a plate making method using the same. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor that can be directly made by laser image exposure and a plate making method for developing the lithographic printing plate precursor on-press.
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来は、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)を用い、PS版にリスフィルムなどのマスクを通した露光を行った後、アルカリ性現像液などによる現像処理を行い、画像部に対応する画像記録層を残存させ、非画像部に対応する不要な画像記録層を溶解除去して、平版印刷版を得ていた。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support is used. After exposure through a mask such as a film, development with an alkaline developer is performed to leave the image recording layer corresponding to the image area, and dissolve and remove the unnecessary image recording layer corresponding to the non-image area. And obtained a lithographic printing plate.
この分野の最近の進歩によって、現在、平版印刷版は、CTP(コンピュータ・トゥ・プレート)技術によって得られるようになっている。すなわち、レーザーやレーザーダイオードを用いて、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版原版を走査露光し、現像して平版印刷版が得られる。 Due to recent advances in this field, lithographic printing plates are now available with CTP (computer to plate) technology. That is, a lithographic printing plate can be obtained by scanning and exposing a lithographic printing plate precursor directly using a laser or a laser diode without a lith film, and developing it.
上記進歩に伴って、平版印刷版原版に関わる課題は、CTP技術に対応した画像形成特性、印刷特性、物理特性などの改良へと変化してきている。また、地球環境への関心の高まりから、平版印刷版原版に関わるもう一つの課題として、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。 Along with the above progress, problems related to the lithographic printing plate precursor have been changed to improvements in image formation characteristics, printing characteristics, physical characteristics and the like corresponding to the CTP technology. In addition, due to increasing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquids associated with wet processing such as development processing have been highlighted as another issue related to lithographic printing plate precursors.
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。製版の無処理化としては、画像記録層の極性変換を利用した方法が知られている。例えば特許文献1では、ベタイン側鎖を含有する高分子バインダーを含む画像形成性要素を熱画像形成し、現像工程無しに直ぐに湿し水及びインクで処理する画像形成方法が知られている。この方法では、画像記録層表面は熱画像形成前には湿し水を受け入れるが、熱画像形成された後では湿し水を弾きインキ受容性となるので、画像記録層の除去は必要ない。
また、簡易な製版方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
For the above environmental problems, simplification and no processing of development or plate making are directed. A method using polarity conversion of the image recording layer is known as a process for making the plate making non-processed. For example, Patent Document 1 discloses an image forming method in which an image forming element including a polymer binder containing a betaine side chain is subjected to thermal image formation and immediately treated with dampening water and ink without a development step. In this method, the surface of the image recording layer receives fountain solution before the thermal image formation, but after the thermal image formation, the fountain solution is repelled and becomes ink-receptive, so that it is not necessary to remove the image recording layer.
Further, as one simple plate making method, a method called “on-press development” is performed. That is, after the exposure of the lithographic printing plate precursor, conventional development is not performed, but it is mounted on a printing machine as it is, and unnecessary portions of the image recording layer are removed at the initial stage of a normal printing process.
上述のような製版作業の簡易化においては、作業のしやすさの点から明室又は黄色灯下で取り扱い可能な平版印刷版原版及び光源を用いるシステムが好ましいので、光源としては、波長760〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザー及びYAGレーザー等の固体レーザーが用いられる。また、UVレーザーを用いることができる。 In the simplification of the plate making operation as described above, a system using a lithographic printing plate precursor and a light source that can be handled in a bright room or under a yellow light is preferable in terms of ease of work. A solid-state laser such as a semiconductor laser or a YAG laser emitting an infrared ray of 1200 nm is used. Further, a UV laser can be used.
機上現像可能な平版印刷版原版としては、例えば特許文献2及び3には、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記録層(感熱層)を有する平版印刷版原版が記載されている。特許文献2では、画像形成に用いる熱でマイクロカプセル外壁が破壊され、重合性化合物などの熱反応性の化合物がカプセル外に出ることを利用することが提案されている。また、特許文献4には、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層(感光層)を設けた平版印刷版原版が記載されている。更に、特許文献5には、支持体上に、重合性化合物と、ポリエチレンオキシド鎖を側鎖に有するグラフトポリマーを含む高分子バインダーを有し、かつ、該バインダーが重合性組成物中に懸濁された離散粒子として存在することを特徴とする画像記録層を設けた機上現像可能な平版印刷版原版が記載されている。 As a lithographic printing plate precursor capable of on-press development, for example, in Patent Documents 2 and 3, a lithographic printing plate having an image recording layer (thermosensitive layer) containing a microcapsule containing a polymerizable compound on a hydrophilic support. The original edition is listed. In Patent Document 2, it is proposed to utilize the fact that the outer wall of the microcapsule is broken by heat used for image formation and a thermally reactive compound such as a polymerizable compound comes out of the capsule. Patent Document 4 describes a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound is provided on a support. Furthermore, Patent Document 5 has a polymer binder containing a polymerizable compound and a graft polymer having a polyethylene oxide chain as a side chain on a support, and the binder is suspended in the polymerizable composition. An on-press developable lithographic printing plate precursor provided with an image recording layer, which is characterized by being present as discrete particles, is described.
このような重合反応を利用した画像形成法によって、熱可塑性疎水性ポリマー微粒子を熱で合体(融着)させる画像形成法に比較し、耐刷性が改良されてきたが、様々な印刷条件への対応という実用的な観点からは、まだ、機上現像性や耐汚れ性と耐刷性との両立が十分ではなかった。 The image forming method using such a polymerization reaction has improved the printing durability compared to the image forming method in which thermoplastic hydrophobic polymer fine particles are coalesced (fused) with heat. From the practical point of view, the on-press developability, stain resistance and printing durability are not yet sufficient.
本発明の目的は、レーザー露光による画像記録が可能であり、良好な機上現像性を有し、かつ汚れ性に優れ、更に従来のラジカル重合を用いた場合と比較して非常に優れた耐刷性を有する機上現像型の平版印刷版原版を提供すること、及びその平版印刷版原版を使用する平版印刷方法を提供することである。 The object of the present invention is that image recording by laser exposure is possible, it has good on-machine developability, is excellent in stain resistance, and has excellent resistance to resistance compared with the case of using conventional radical polymerization. An on-press development type lithographic printing plate precursor having printability and a lithographic printing method using the lithographic printing plate precursor.
1.支持体上に、(A)ベタイン構造を含有する側鎖を有する高分子化合物、(B)赤外線吸収剤、(C)重合開始剤及び(D)エチレン性不飽和重合性化合物を含有し、印刷インキ及び/又は湿し水により除去できる画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。
2.前記高分子化合物が、有機ポリマー微粒子であることを特徴とする前記1に記載の平版印刷版原版。
3.前記高分子化合物がバインダーであり、前記画像記録層が、更に(E)有機微粒子を含有することを特徴とする前記1に記載の平版印刷版原版。
4.前記有機微粒子が、マイクロカプセル又はミクロゲルであることを特徴とする前記3に記載の平版印刷版原版。
5.前記ベタイン構造が、カルボベタイン、スルホベタイン又はホスホベタインであることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
6.前記ベタイン構造が、カルボベタイン又はスルホベタインであることを特徴とする前記5に記載の平版印刷版原版。
7.前記高分子化合物が、下記一般式(1)〜(4)から選ばれる少なくとも一つのモノマー単位を含むことを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
1. On the support, (A) a polymer compound having a side chain containing a betaine structure, (B) an infrared absorber, (C) a polymerization initiator, and (D) an ethylenically unsaturated polymerizable compound, and printing A lithographic printing plate precursor comprising an image recording layer which can be removed by ink and / or fountain solution.
2. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the polymer compound is organic polymer fine particles.
3. 2. The lithographic printing plate precursor as described in 1 above, wherein the polymer compound is a binder, and the image recording layer further comprises (E) organic fine particles.
4). 4. The lithographic printing plate precursor as described in 3 above, wherein the organic fine particles are microcapsules or microgels.
5. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 4 above, wherein the betaine structure is carbobetaine, sulfobetaine, or phosphobetaine.
6). 6. The lithographic printing plate precursor as described in 5 above, wherein the betaine structure is carbobetaine or sulfobetaine.
7). The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 5 above, wherein the polymer compound comprises at least one monomer unit selected from the following general formulas (1) to (4).
(上式中、R1、R4、R7及びR10はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜12の置換基を表し、L1、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に単結合又は2価の連結基を表し、X1はアルキレン基、置換アルキレン基、又はポリアルキレンオキシド基を有する2価の連結基を表し、Y1はアルキレン基又は置換アルキレン基を表し、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。(R2、R3及びY1)、(R5、R6及びY1)、(R8、R9及びY1)、並びに(R11〜R13及びY1)の各群中の任意の2つが結合して複素環を形成していてもよい。) (In the above formula, R 1 , R 4 , R 7 and R 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms, and L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are Each independently represents a single bond or a divalent linking group, X 1 represents an alkylene group, a substituted alkylene group, or a divalent linking group having a polyalkylene oxide group, and Y 1 represents an alkylene group or a substituted alkylene group. , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 and R 13 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, Represents an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group or an aryl group (R 2 , R 3 and Y 1 ), (R 5 , R 6 and Y 1 ), (R 8 , R 9 and Y 1 ), and ( R 11 to R 13 and responsibility in each group Y 1) Two members to the may form a heterocyclic ring.)
8.前記一般式(1)及び(2)中の、R1及びR4がそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、L1及びL2がそれぞれ独立に−COO−、−OCO−、−O−、−CO−NR14−又はフェニレン基を表し、R14が水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基若しくはアラルキル基を表すことを特徴とする前記7に記載の平版印刷版原版。
9.前記高分子化合物が、下記一般式(5)で表されるモノマー単位を含むことを特徴とする前記1〜8のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
8). In the general formulas (1) and (2), R 1 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and L 1 and L 2 each independently represent —COO—, —OCO—, —O—. , —CO—NR 14 — or a phenylene group, R 14 is a hydrogen atom, or an optionally substituted alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms. The lithographic printing plate precursor as described in 7 above, wherein
9. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 8 above, wherein the polymer compound comprises a monomer unit represented by the following general formula (5).
(上式中、R15は水素原子、ハロゲン原子、又は炭素原子数1〜12の置換基を表し、R16は、エステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基又はアリール基を有する基を表す。) (In the above formula, R 15 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent having 1 to 12 carbon atoms, and R 16 represents a group having an ester group, an amide group, a cyano group, a hydroxy group, or an aryl group. .)
10.前記一般式(5)の、R15が、水素原子又はメチルであり、R16が、エステル基、アミド基、シアノ基又は置換基を有してよいフェニル基を有する基であることを特徴とする前記9に記載の平版印刷版原版。
11.前記一般式(5)において、R16がポリアルキレンオキシ基を含有することを特徴とする前記9又は10に記載の平版印刷版原版。
12.前記高分子化合物が更に下記一般式(6)〜(8)で表されるエチレン性不飽和重合性基の少なくとも一つを側鎖に有するモノマー単位を含むことを特徴とする前記1〜11のいずれか1項に記載の平版印刷版原版。
10. In the general formula (5), R 15 is a hydrogen atom or methyl, and R 16 is an ester group, an amide group, a cyano group, or a group having a phenyl group which may have a substituent. The lithographic printing plate precursor as described in 9 above.
11. The lithographic printing plate precursor as described in 9 or 10 above, wherein in the general formula (5), R 16 contains a polyalkyleneoxy group.
12 1 to 11 above, wherein the polymer compound further comprises a monomer unit having at least one ethylenically unsaturated polymerizable group represented by the following general formulas (6) to (8) in the side chain. The lithographic printing plate precursor as described in any one of the above items.
(式中、X及びYはそれぞれ独立に、酸素原子又は−N(R28)−を表す。Zは酸素原子、−N(R28)−又はフェニレン基を表す。R17〜R28はそれぞれ独立に1価の置換基を表す) (In the formula, X and Y each independently represent an oxygen atom or —N (R 28 ) —. Z represents an oxygen atom, —N (R 28 ) — or a phenylene group. R 17 to R 28 each represent Independently represents a monovalent substituent)
13.前記画像記録層の上に更に保護層を有することを特徴とする前記1〜12のいずれか一項に記載の平版印刷版原版。
14.前記保護層が無機層状化合物を含有することを特徴とする前記13に記載の平版印刷版原版。
15.前記1〜14のいずれかに記載の平版印刷版原版を、赤外線レーザーにより画像露光した後に印刷機に装着するか、印刷機に装着した後に赤外線レーザーにより画像露光し、該平版印刷版原版に印刷インキと湿し水とを供給して、画像記録層未露光部分を除去する平版印刷版原版の製版方法。
13. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 12 above, further comprising a protective layer on the image recording layer.
14 The lithographic printing plate precursor as described in 13 above, wherein the protective layer contains an inorganic stratiform compound.
15. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 14 above is image-exposed with an infrared laser and then mounted on a printing machine, or is mounted on a printing machine and image-exposed with an infrared laser and printed on the lithographic printing plate precursor A method for making a lithographic printing plate precursor by supplying ink and fountain solution to remove unexposed portions of the image recording layer.
本発明では、重合反応を利用して画像形成を行う画像記録層に、ベタイン構造を含有する側鎖を有する高分子化合物を含有させることによって、前記課題を解決できた。
本発明の作用機構は明確ではないが、以下のことが推測される。未露光部においては高分子化合物に導入されたベタイン構造の高い親水性により湿し水との相互作用が向上し、かつ有機ポリマー微粒子が存在することで、良好な機上現像性が付与でき、また、耐汚れ性が向上した。更に、耐刷性が予想外に大きく向上したのは、露光部において、ベタイン構造を有するモノマー単位が熱分解して疎水化することにより湿し水の浸透性を低下させただけでなく、熱分解物がラジカル性化学種を含むことでラジカル重合を促進し、画像の硬化性が増加したためであると推定している。
In the present invention, the above-described problem can be solved by including a polymer compound having a side chain containing a betaine structure in an image recording layer for forming an image using a polymerization reaction.
Although the mechanism of action of the present invention is not clear, the following is presumed. In the unexposed area, the interaction with the fountain solution is improved by the high hydrophilicity of the betaine structure introduced into the polymer compound, and the presence of the organic polymer fine particles can give good on-machine developability, In addition, the stain resistance was improved. Furthermore, the printing durability was greatly improved unexpectedly, because not only the monomer unit having a betaine structure was thermally decomposed and hydrophobized in the exposed area, but also the dampening water permeability was lowered. It is presumed that the decomposition product contains radical chemical species to promote radical polymerization and increase the curability of the image.
本発明によれば、良好な機上現像性を有し、かつ汚れ性に優れ、更に従来のラジカル重合を用いた場合と比較して非常に優れた耐刷性を有する機上現像型の平版印刷版を提供することができる。 According to the present invention, an on-press development type lithographic plate having good on-press developability, excellent stain resistance, and very excellent printing durability compared to the case of using conventional radical polymerization. A print version can be provided.
以下、本発明の平版印刷版原版の構成要素及び成分などについて説明する。 The components and components of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described below.
[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、少なくとも下記(A)〜(D)を含有し、印刷インキ及び/又は湿し水により除去できる画像記録層を有することを特徴とする。
(A)ベタイン構造を含有する側鎖を有する高分子化合物
(B)赤外線吸収剤
(C)重合開始剤
(D)エチレン性不飽和重合性化合物
これによって、良好な機上現像性を有し、かつ汚れ性に優れ、更に従来のラジカル重合を用いた場合と比較して非常に優れた耐刷性を有する機上現像型の平版印刷版原版が得られる。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor according to the invention is characterized in that it contains at least the following (A) to (D) on a support and has an image recording layer that can be removed by printing ink and / or fountain solution.
(A) Polymer compound having a side chain containing a betaine structure (B) Infrared absorber (C) Polymerization initiator (D) Ethylenically unsaturated polymerizable compound Thereby, it has good on-press developability, Moreover, an on-press development type lithographic printing plate precursor having excellent stain resistance and further excellent printing durability as compared with the case of using conventional radical polymerization can be obtained.
(A)ベタイン構造を含有する側鎖を有する高分子化合物
(a1)ベタイン構造を有するモノマー単位
画像記録層に用いられる高分子化合物が有するベタイン構造は、カルボベタイン、スルホベタイン又はホスホベタインであることが好ましい。具体的には、この高分子化合物は下記一般式(1)〜(4)で表されるモノマー単位のいずれかを含むことが好ましい。
(A) Polymer compound having side chain containing betaine structure (a1) Monomer unit having betaine structure The betaine structure of the polymer compound used in the image recording layer is carbobetaine, sulfobetaine or phosphobetaine. Is preferred. Specifically, the polymer compound preferably includes any of monomer units represented by the following general formulas (1) to (4).
上式中、R1、R4、R7及びR10はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜12の置換基を表し、L1、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に単結合又は2価の連結基を表し、X1はアルキレン基、置換アルキレン基、又はポリアルキレンオキシド基を有する2価の連結基を表し、Y1はアルキレン基又は置換アルキレン基を表し、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。(R2、R3及びY1)、(R5、R6及びY1)、(R8、R9及びY1)、並びに(R11〜R13及びY1)の各群中の任意の2つが結合して複素環を形成していてもよい。 In the above formula, R 1 , R 4 , R 7 and R 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms, and L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are each Independently represents a single bond or a divalent linking group, X 1 represents an alkylene group, a substituted alkylene group, or a divalent linking group having a polyalkylene oxide group, Y 1 represents an alkylene group or a substituted alkylene group, R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 and R 13 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, alkenyl Represents a group, an alkynyl group, a cycloalkyl group or an aryl group. Any of the groups (R 2 , R 3 and Y 1 ), (R 5 , R 6 and Y 1 ), (R 8 , R 9 and Y 1 ), and (R 11 to R 13 and Y 1 ) May be combined to form a heterocyclic ring.
R2、R3、R5、R6、R8、R9、R11、R12及びR13としての各基、X1、Y1としてのアルキレン基が有してもよい置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホキシ基、ウレイド基、オキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボニル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基(-SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、スルフィナモイル基、ホスフォノ基(-PO3H2)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(-OPO3H2)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。 As the substituents that each group as R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 and R 13 and the alkylene group as X 1 and Y 1 may have, , Alkyl group, aryl group, heteroaryl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, halogen atom, hydroxy group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, amino group, acyloxy group , Carbamoyloxy group, sulfoxy group, ureido group, oxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carbonyl group, oxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfinyl group, sulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base Groups (hereinafter referred to as sulfonate groups), sulfinamoyl groups, phosphono groups (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonateoxy group), cyano group, nitro group, etc. Is mentioned.
印刷物が良好な汚れ性を示すためには、上記一般式(1)〜(4)の中でも、一般式(1)又は一般式(2)で表されるモノマー単位が好ましい。 In order for the printed matter to exhibit good stain resistance, among the general formulas (1) to (4), the monomer unit represented by the general formula (1) or the general formula (2) is preferable.
上式における好ましい態様を以下に示す。
R1、R4、R7及びR10は独立して、水素原子又は炭素原子数が1〜6のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが最も好ましい。
L1、L2、L3及びL4は独立して単結合、−COO−、−OCO−、−CO−、−O−、−CO−NR14−、−NR14−CO−、2価の芳香族基(アリーレン基)又は2価の複素環基であることが好ましく、単結合、−COO−、−OCO−、−CO−、−O−、−CO−NR14−、又はアリーレン基であることが更に好ましく、−COO−、−OCO−、−O−、−CO−NR14−又はフェニレン基であることが最も好ましい。
R14は水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜12の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基若しくはアラルキル基であり、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜6の、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基であることがより好ましく、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜4のアルキル基であることが更に好ましい。
Preferred embodiments in the above formula are shown below.
R 1 , R 4 , R 7 and R 10 are preferably independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Is more preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is most preferable.
L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are each independently a single bond, —COO—, —OCO—, —CO—, —O—, —CO—NR 14 —, —NR 14 —CO—, divalent Is preferably a single bond, —COO—, —OCO—, —CO—, —O—, —CO—NR 14 —, or an arylene group. It is more preferable that it is —COO—, —OCO—, —O—, —CO—NR 14 — or a phenylene group.
R 14 is a hydrogen atom or an alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and has a hydrogen atom or a substituent. It is more preferably an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group having 1 to 6 carbon atoms, which is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent. More preferably.
X1は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜12のアルキレン基であるか、又は−(CH2CH2−O)n−、−(CH(CH3)CH2−O)n−、若しくは−(CH2CH(CH3)−O)n −で表されるポリアルキレンオキシド基を含む2価の連結基であることが好ましく、炭素原子数1〜10のアルキレン基であるか、又は−(CH2CH2−O)n−で表されるポリエチレンオキシド基を含む2価の連結基であることがより好ましく、炭素原子数1〜8のアルキレン基であるか、又は−(CH2CH2−O)n−で表されるポリエチレンオキシド基を含む2価の連結基であることが最も好ましい。
ここで、nは好ましくは1〜50、より好ましくは1〜30、特に好ましくは1〜10の数を示す。ここにおいて、nは単一であっても複数の種類の混合物であってもよく、混合物である場合、nは平均値を表す。
X 1 is an optionally substituted alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, or — (CH 2 CH 2 —O) n —, — (CH (CH 3 ) CH 2 —O). n -, or - is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms a divalent linking group containing a polyalkylene oxide group represented by - (CH 2 CH (CH 3 ) -O) n Or a divalent linking group containing a polyethylene oxide group represented by — (CH 2 CH 2 —O) n —, which is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, or — Most preferably, it is a divalent linking group containing a polyethylene oxide group represented by (CH 2 CH 2 —O) n —.
Here, n is preferably 1 to 50, more preferably 1 to 30, and particularly preferably 1 to 10. Here, n may be single or a mixture of a plurality of types, and in the case of a mixture, n represents an average value.
Y1は置換基を有してもよい炭素原子数1〜12のアルキレン基であることが好ましく、置換基を有してもよい炭素原子数1〜8のアルキレン基であることがより好ましく、炭素原子数1〜6のアルキレン基であることが特に好ましい。
R2、R3、R5、R6、R8、R9、R11、R12及びR13は独立して置換基を有してもよい炭素原子数1〜3のアルキル基であるか、又は(R2、R3及びY1)、(R5、R6及びY1)、(R8、R9及びY1)、並びに(R11〜R13及びY1)の各群中の任意の2つが結合した5〜6員環の複素環であることが好ましく、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R11、R12及びR13は独立してメチル基又はエチル基であるか、又は(R2、R3及びY1)、(R5、R6及びY1)、(R8、R9及びY1)、並びに(R11〜R13及びY1)の各群中の任意の2つが結合してピロリジン環若しくはピペリジン環を形成していることがより好ましい。
Y 1 is preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, more preferably an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, Particularly preferred is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
Are R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 and R 13 independently an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms that may have a substituent? Or (R 2 , R 3 and Y 1 ), (R 5 , R 6 and Y 1 ), (R 8 , R 9 and Y 1 ), and (R 11 to R 13 and Y 1 ) It is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic ring in which any two of R 2 , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 and R 13 are independent. Methyl groups or ethyl groups, or (R 2 , R 3 and Y 1 ), (R 5 , R 6 and Y 1 ), (R 8 , R 9 and Y 1 ), and (R 11 to R More preferably, any two of each group of 13 and Y 1 ) are bonded to form a pyrrolidine ring or a piperidine ring.
以下に、ベタイン構造を側鎖に有するモノマー単位の好ましい例を挙げる。式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Lは−COO−又は−CONH−を表し、X1、X2及びX3は独立にメチル基又はエチル基を表し、lは1〜10の整数を表し、mは1〜8の整数を表し、nは1〜6の整数を表す。) Below, the preferable example of the monomer unit which has a betaine structure in a side chain is given. In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group, L represents —COO— or —CONH—, X 1 , X 2 and X 3 independently represent a methyl group or an ethyl group, and l represents 1 to 10 An integer is represented, m represents an integer of 1 to 8, and n represents an integer of 1 to 6. )
更に具体的には以下の構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 More specific examples include the following structures, but the present invention is not limited to these.
ベタイン構造を含有する側鎖を有するモノマー単位は、本発明に係る高分子化合物中に、1種のみが用いられていてもよく、2種以上を含んでいてもよい。これらのベタイン構造を含むモノマー単位は、機上現像性及び非画像部の汚れ性の観点から、高分子化合物中に、5〜70質量%含まれていることが好ましく、5〜60質量%含有されていることがより好ましく、最も好ましくは8〜50質量%の範囲である。 As for the monomer unit having a side chain containing a betaine structure, only one type may be used in the polymer compound according to the present invention, or two or more types may be included. The monomer unit containing these betaine structures is preferably contained in the polymer compound in an amount of 5 to 70% by mass, and 5 to 60% by mass from the viewpoint of on-press developability and stain resistance of non-image areas. More preferably, it is the range of 8-50 mass%.
(a2)高分子化合物を構成するその他のモノマー単位
本発明の高分子化合物は、上記ベタイン構造を側鎖に有するモノマー単位に加えて、下記一般式(5)で表されるモノマー単位を含むことが好ましい。
(A2) Other monomer units constituting the polymer compound The polymer compound of the present invention contains a monomer unit represented by the following general formula (5) in addition to the monomer unit having the betaine structure in the side chain. Is preferred.
上式中、R15は水素原子、ハロゲン原子、又は炭素原子数1〜12の置換基を表し、R16は、エステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基又はアリール基を有する基を表す。 In the above formula, R 15 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent having 1 to 12 carbon atoms, and R 16 represents a group having an ester group, an amide group, a cyano group, a hydroxy group, or an aryl group.
上式における好ましい態様を以下に示す。
R15は、水素原子又は炭素原子数が1〜6のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素原子数1〜3のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが最も好ましい。
R16は、エステル基、アミド基、シアノ基又は置換基を有してよいフェニル基であることが好ましい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホキシ基、ウレイド基、オキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボニル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフィニル基、スルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、スルフィナモイル基、ホスフォノ基(−PO3H2)及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO3H2)及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられる。
Preferred embodiments in the above formula are shown below.
R 15 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and a hydrogen atom or a methyl group. Is most preferred.
R 16 is preferably an ester group, an amide group, a cyano group or a phenyl group which may have a substituent. Substituents include alkyl groups, aryl groups, heteroaryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aralkyl groups, halogen atoms, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, mercapto groups, alkylthio groups, arylthio groups, alkyldithio groups, amino groups. Group, acyloxy group, carbamoyloxy group, sulfoxy group, ureido group, oxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carbonyl group, oxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfinyl group, sulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) And its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), sulfinamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonate group), phosphonooxy group (—OPO 3 H 2). ) And its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphine) Referred to as Natookishi group), a cyano group, a nitro group, and the like.
一般式(5)のモノマー単位に対応するモノマーの具体例としては、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどを挙げることができる。その中でも、スチレン、アクリロニトリル及びメタクリル酸メチルが特に好ましい。
本発明における高分子化合物は、これらからのモノマー単位を複数種含んでもよい。
これらのモノマー単位は、高分子化合物中に、30〜95質量%含まれていることが好ましく、40〜95質量%含有されていることがより好ましく、最も好ましくは50〜92質量%の範囲である。
Specific examples of the monomer corresponding to the monomer unit of the general formula (5) include styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl carbazole. And acrylate or methacrylate having a polyalkylene structure. Among these, styrene, acrylonitrile and methyl methacrylate are particularly preferable.
The polymer compound in the present invention may contain a plurality of monomer units from these.
These monomer units are preferably contained in the polymer compound in an amount of 30 to 95% by mass, more preferably 40 to 95% by mass, and most preferably in the range of 50 to 92% by mass. is there.
また、本発明の高分子化合物においては、一般式(5)のR16がポリアルキレンオキシ基を含有することで、良好な機上現像性を達成することができる。ポリアルキレンオキシ基としては、ポリエチレンオキシ基又はポリプロピレンオキシ基であることが好ましく、ポリエチレンオキシ基であることが特に好ましい。ここで、アルキレンオキシ基の繰り返しユニット数は、好ましくは1〜100であり、より好ましくは2〜80であり、特に好ましくは4〜50の数を示す。
このようなモノマー単位の好ましい例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the polymer compound of the present invention, good on-press developability can be achieved when R 16 in the general formula (5) contains a polyalkyleneoxy group. The polyalkyleneoxy group is preferably a polyethyleneoxy group or a polypropyleneoxy group, and particularly preferably a polyethyleneoxy group. Here, the number of repeating units of the alkyleneoxy group is preferably 1 to 100, more preferably 2 to 80, and particularly preferably 4 to 50.
Although the preferable example of such a monomer unit is shown below, this invention is not limited to these.
(式中、nは1〜50の整数を表し、R1及びR2は独立に水素原子又はメチル基を表す。) (In the formula, n represents an integer of 1 to 50, and R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or a methyl group.)
更に具体的には以下の構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 More specific examples include the following structures, but the present invention is not limited to these.
ポリアルキレンオキシ基を含有する側鎖を有するモノマー単位は、高分子化合物中に1〜70質量%含まれていることが好ましく、2〜50質量%含まれていることがより好ましく、3〜40質量%含まれていることが特に好ましい。 The monomer unit having a side chain containing a polyalkyleneoxy group is preferably contained in the polymer compound in an amount of 1 to 70% by mass, more preferably 2 to 50% by mass, and 3 to 40%. It is particularly preferable that it is contained by mass%.
更に本発明で用いる高分子化合物は、画像部の皮膜強度を向上するためにエチレン性不飽和重合性基を側鎖に有することが好ましい。特に一般式(5)のR16が、下記一般式(6)〜(8)から選ばれるエチレン性不飽和重合性基を含有する基であることがより好ましい。
これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するアクリルポリマーやポリウレタンとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。
Furthermore, the polymer compound used in the present invention preferably has an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain in order to improve the film strength of the image area. In particular, R 16 in the general formula (5) is more preferably a group containing an ethylenically unsaturated polymerizable group selected from the following general formulas (6) to (8).
These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. For example, a reaction between an acrylic polymer or polyurethane having a carboxy group in the side chain and polyurethane and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used.
(式中、X、Yはそれぞれ独立に、酸素原子又は−N(R28)−を表す。Zは酸素原子、−N(R28)−又はフェニレン基を表す。R17〜R28はそれぞれ独立に水素原子又は1価の置換基を表す。) (In the formula, X and Y each independently represents an oxygen atom or —N (R 28 ) —. Z represents an oxygen atom, —N (R 28 ) — or a phenylene group. R 17 to R 28 each represent Independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.)
高分子化合物中のエチレン性不飽和重合性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子化合物1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。 The content of ethylenically unsaturated polymerizable groups in the polymer compound (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol per gram of polymer compound, More preferably, it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.
エチレン性不飽和重合性基を側鎖に有するモノマー単位の具体例として、例えば以下に示す構造が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the monomer unit having an ethylenically unsaturated polymerizable group in the side chain include, for example, the structures shown below, but the present invention is not limited thereto.
本発明の高分子化合物には、UVインキ使用時における、現像性、非画像部細線再現性、カス発生の抑制、耐刷性を満足させるために、側鎖にスルホンアミド基を有するモノマー単位を共重合してもよい。このようなモノマー単位のためのモノマーの具体例としては、特開2009−241258号公報の段落番号[0024]〜[0027]に記載の化合物が挙げられる。 The polymer compound of the present invention has a monomer unit having a sulfonamide group in the side chain in order to satisfy developability, non-image portion fine line reproducibility, suppression of residue generation, and printing durability when using UV ink. It may be copolymerized. Specific examples of the monomer for such a monomer unit include compounds described in paragraph numbers [0024] to [0027] of JP-A No. 2009-241258.
また、本発明の高分子化合物には、着肉性を制御するため、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基などの親油性の基を導入できる。具体的には、メタクリル酸アルキルエステルなどの親油性基含有モノマーを共重合すればよい。 In addition, a lipophilic group such as an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or an alkenyl group can be introduced into the polymer compound of the present invention in order to control the inking property. Specifically, a lipophilic group-containing monomer such as an alkyl methacrylate may be copolymerized.
本発明における高分子化合物は質量平均モル質量(Mw)が2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万〜30万であるのが更に好ましい。 The polymer compound in the present invention preferably has a mass average molar mass (Mw) of 2000 or more, more preferably 5000 or more, and still more preferably 10,000 to 300,000.
本発明の高分子化合物は、画像記録層中の存在形態としては、バインダーとして存在してもよいし、ポリマー微粒子として存在してもよい。微粒子として存在する場合の平均粒径は0.01〜3.0μmであることが好ましい。
画像記録層中の高分子化合物含有量は、画像記録層全固形分に対して5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。
The polymer compound of the present invention may be present as a binder or polymer fine particles as an existing form in the image recording layer. When present as fine particles, the average particle size is preferably 0.01 to 3.0 μm.
The content of the polymer compound in the image recording layer is from 5 to 90% by mass, preferably from 5 to 80% by mass, more preferably from 10 to 70% by mass, based on the total solid content of the image recording layer. preferable.
本発明における高分子化合物の具体例を以下の表に挙げるが、これらに限定されるものではない。表中の質量平均モル質量(Mw)はポリスチレンを標準物質としたゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)により測定したものである。 Specific examples of the polymer compound in the present invention are listed in the following table, but are not limited thereto. The mass average molar mass (Mw) in the table is measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance.
(B)赤外線吸収剤
赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述の重合開始剤に電子移動及び/又はエネルギー移動する機能を有する。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料である。
(B) Infrared Absorber The infrared absorbent has a function of converting absorbed infrared light into heat and a function of exciting with infrared light to transfer electrons and / or energy to a polymerization initiator described later. The infrared absorber used in the present invention is a dye having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.
染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).
一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−N(R9)(R10)、−X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、R9及びR10は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜10のアリール基、炭素原子数1〜8のアルキル基、水素原子を表し、またR9とR10とが互いに結合して環を形成してもよい。なかでもフェニル基が好ましい(-NPh2)。X2は酸素原子又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロアリール基、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。以下に示す基において、Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -N (R 9) (R 10), - X 2 -L 1 or a group shown below. Here, R 9 and R 10 may be the same or different and each may have a substituent, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydrogen atom R 9 and R 10 may be bonded to each other to form a ring. Of these, a phenyl group is preferred (—NPh 2 ). X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, a heteroaryl group, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. In the group shown below, Xa - has Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom .
R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましい。またR1とR2は互いに連結し環を形成してもよく、環を形成する際は5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the image recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms. R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring, and when forming a ring, it is particularly preferable to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアリール基を示す。好ましいアリール基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aryl group which may have a substituent. Preferred aryl groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxy groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za − represents a counter anion. However, Za − is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za − is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of the storage stability of the image recording layer coating solution. , Hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.
好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]に記載の化合物、特開2002−023360号公報の段落番号[0016]〜[0021]、特開2002−040638号公報の段落番号[0012]〜[0037]に記載の化合物、好ましくは特開2002−278057号公報の段落番号[0034]〜[0041]、特開2008−195018号公報の段落番号[0080]〜[0086]に記載の化合物、最も好ましくは特開2007−90850号公報の段落番号[0035]〜[0043]に記載の化合物が挙げられる。
また特開平5−5005号公報の段落番号[0008]〜[0009]、特開2001−222101号公報の段落番号[0022]〜[0025]に記載の化合物も好ましく使用することが出来る。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used include compounds described in paragraphs [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969, and JP-A No. 2002-023360. Paragraph numbers [0016] to [0021] of JP-A No. 2002-040638, compounds described in paragraph Nos. [0012] to [0037] of JP-A No. 2002-040638, preferably paragraph Nos. [0034] of JP-A No. 2002-278057 [0041], compounds described in paragraph numbers [0080] to [0086] of JP 2008-195018 A, most preferably compounds described in paragraph numbers [0035] to [0043] of JP 2007-90850 A Is mentioned.
In addition, compounds described in paragraph numbers [0008] to [0009] of JP-A No. 5-5005 and paragraph numbers [0022] to [0025] of JP-A No. 2001-222101 can also be preferably used.
また、これらの赤外線吸収剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収剤以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0072]〜[0076]に記載の化合物が好ましい。 Moreover, these infrared absorbers may use only 1 type, may use 2 or more types together, and may use infrared absorbers other than infrared absorbers, such as a pigment, together. As the pigment, compounds described in paragraph numbers [0072] to [0076] of JP-A-2008-195018 are preferable.
本発明における画像記録層中の赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全固形分の0.1〜10.0質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5.0質量%である The content of the infrared absorber in the image recording layer in the present invention is preferably 0.1 to 10.0% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass of the total solid content of the image recording layer.
(C)重合開始剤
本発明に用いられる(C)重合開始剤としては、(D)エチレン性不飽和重合性化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明において使用しうる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。
(C) Polymerization initiator The (C) polymerization initiator used in the present invention is a compound that initiates and accelerates the polymerization of (D) an ethylenically unsaturated polymerizable compound. As the polymerization initiator that can be used in the present invention, a radical polymerization initiator is preferable, and a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, and the like can be used.
本発明におけるラジカル重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(h)有機ホウ酸塩化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物、が挙げられる。 Examples of the radical polymerization initiator in the present invention include (a) an organic halide, (b) a carbonyl compound, (c) an azo compound, (d) an organic peroxide, (e) a metallocene compound, and (f) an azide compound. (G) hexaarylbiimidazole compound, (h) organic borate compound, (i) disulfone compound, (j) oxime ester compound, (k) onium salt compound.
(a)有機ハロゲン化物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0022]〜[0023]に記載の化合物が好ましい。 (A) As the organic halide, compounds described in paragraph numbers [0022] to [0023] of JP-A-2008-195018 are preferable.
(b)カルボニル化合物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0024]に記載の化合物が好ましい。 (B) As the carbonyl compound, compounds described in paragraph [0024] of JP-A-2008-195018 are preferable.
(c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。 (C) As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
(d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0025]に記載の化合物が好ましい。 (D) As the organic peroxide, for example, compounds described in paragraph [0025] of JP-A-2008-195018 are preferable.
(e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0026]に記載の化合物が好ましい。 As the (e) metallocene compound, for example, the compound described in paragraph [0026] of JP-A-2008-195018 is preferable.
(f)アジド化合物としては、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。
(F) Examples of the azide compound include 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone.
(G) As the hexaarylbiimidazole compound, for example, a compound described in paragraph [0027] of JP-A-2008-195018 is preferable.
(h)有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。 (H) As the organic borate compound, for example, a compound described in paragraph [0028] of JP-A-2008-195018 is preferable.
(i)ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号に記載の化合物が挙げられる。 (I) Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A No. 61-166544.
(j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]〜[0030]に記載の化合物が好ましい。 (J) As the oxime ester compound, for example, compounds described in paragraph numbers [0028] to [0030] of JP-A-2008-195018 are preferable.
(k)オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)、特開平5-158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2−150848号、特開2008−195018号の各公報、又はJ.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩、特開2008−195018号公報に記載のアジニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。 (K) Examples of the onium salt compounds include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, ammonium described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, and the like. Salt, phosphonium salts described in U.S. Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056, EP 104,143, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0311520 JP-A-2-150848, JP-A-2008-195018, or J.P. V. Ivonium salt described in Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), European Patents 370,693, 233,567, 297,443, 297,442, US Patent 4,933,377, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2,904,626, 3,604,580 Sulphonium salts described in the respective specifications of U.S. Pat. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as azinium salts described in JP-A-2008-195018.
上記の中でもより好ましいものとして、オニウム塩、なかでもヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。 Of these, more preferred are onium salts, especially iodonium salts, sulfonium salts and azinium salts. Although the specific example of these compounds is shown below, it is not limited to this.
ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、更に好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。 As an example of the iodonium salt, a diphenyl iodonium salt is preferable, and a diphenyl iodonium salt substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is particularly preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt is more preferable. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis ( -t- butylphenyl) iodonium tetraphenylborate and the like.
スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 Examples of sulfonium salts include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = Examples thereof include tetrafluoroborate, tris (4-chlorophenyl) sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) benzenesulfonate, and tris (4-chlorophenyl) sulfonium = hexafluorophosphate.
アジニウム塩の例としては、1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−シクロヘキシルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロ−1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4−ジクロロ−1−(2−エチルヘキシルオキシ)ピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−ベンジルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−フェネチルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=p−トルエンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ブロミド、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。 Examples of azinium salts include 1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyl (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 4-chloro-1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-cyanopyridinium = hexafluorophosphate, 3,4 -Dichloro-1- (2-ethylhexyloxy) pyridinium = hexafluorophosphate, 1-benzyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-phenethylo Ci-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = p-toluenesulfonate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = perfluorobutanesulfonate 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium bromide, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium tetrafluoroborate.
重合開始剤は、画像記録層の全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。 The polymerization initiator is preferably added in an amount of 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. be able to. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained.
(D)エチレン性不飽和重合性化合物
本発明における画像記録層に用いるエチレン性不飽和重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。
(D) Ethylenically unsaturated polymerizable compound The ethylenically unsaturated polymerizable compound used for the image recording layer in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has a terminal ethylenically unsaturated compound. It is selected from compounds having at least one, preferably two or more saturated bonds. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof.
モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。 Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids. An ester of an acid and a polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and a polyvalent amine compound are used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxy group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。これらは、特表2006−508380号公報、特開2002−287344号公報、特開2008−256850号公報、特開2001−342222号公報、特開平9−179296号公報、特開平9−179297号公報、特開平9−179298号公報、特開2004−294935号公報、特開2006−243493号公報、特開2002−275129号公報、特開2003−64130号公報、特開2003−280187号公報、特開平10−333321号公報、を含む参照文献に記載されている。 As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid. These are disclosed in JP-T-2006-508380, JP-A-2002-287344, JP-A-2008-256850, JP-A-2001-342222, JP-A-9-179296, JP-A-9-179297. JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, It is described in references including Kaihei 10-333321.
多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。 Specific examples of the monomer of the ester of a polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, Examples include trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) -modified triacrylate, and polyester acrylate oligomer. Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl ] Dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, and the like. Specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis-methacrylic. Examples include amide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, and xylylene bismethacrylamide.
また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(b)で示されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (b)
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
In addition, urethane-based addition-polymerizable compounds produced by using an addition reaction between an isocyanate and a hydroxy group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in Japanese Patent Publication No. 48-41708. A vinyl containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxy group represented by the following general formula (b) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. A urethane compound etc. are mentioned.
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (b)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )
また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報、特開2003−344997号公報、特開2006−65210号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報、特開2000−250211号公報、特開2007−94138号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類や、US7153632号公報、特表平8−505958号公報、特開2007−293221号公報、特開2007−293223号公報記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。 Also, urethanes described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, and JP-A-2006-65210. Acrylates, JP-B 58-49860, JP-B 56-17654, JP-B 62-39417, JP-B 62-39418, JP-A 2000-250211, JP-A 2007-94138 Urethane compounds having an ethylene oxide-based skeleton described in the publication, and urethane compounds having a hydrophilic group described in US Pat. No. 7,153,632, JP-T 8-505958, JP-A 2007-293221, and JP-A 2007-293223. Are also suitable.
上記の中でも、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。 Among them, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, etc. are excellent in the balance between the hydrophilicity involved in on-press developability and the polymerization ability involved in printing durability. Isocyanuric acid ethylene oxide modified acrylates are particularly preferred.
これらのエチレン性不飽和重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。上記の重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜75質量%、更に好ましくは10〜70質量%、特に好ましくは15〜60質量%の範囲で使用される。 Details of the method of use such as the structure of these ethylenically unsaturated polymerizable compounds, whether they are used alone or in combination, and the amount added can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 75% by mass, more preferably 10 to 70% by mass, and particularly preferably 15 to 60% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.
(E)有機微粒子
本発明においては、機上現像性を向上させるため、画像記録層に有機微粒子を含有することができる。本発明における有機微粒子は、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、重合性基を有するポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及びミクロゲル(架橋ポリマー微粒子)から選ばれる少なくともひとつであることが好ましい。なかでも、重合性基を有するポリマー微粒子及びミクロゲルが好ましい。本発明における有機微粒子は、上記本発明の高分子化合物の離散粒子であってもよく、特に好ましい実施形態では、この有機微粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和重合性基を含む。このような有機微粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
(E) Organic fine particles In the present invention, organic fine particles can be contained in the image recording layer in order to improve on-press developability. The organic fine particles in the present invention are at least selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, thermoreactive polymer fine particles, polymer fine particles having a polymerizable group, microcapsules enclosing a hydrophobic compound, and microgel (crosslinked polymer fine particles). One is preferable. Among these, polymer fine particles and microgels having a polymerizable group are preferable. The organic fine particles in the present invention may be discrete particles of the polymer compound of the present invention, and in a particularly preferred embodiment, the organic fine particles contain at least one ethylenically unsaturated polymerizable group. Due to the presence of such organic fine particles, an effect of improving the printing durability of the exposed portion and the on-press developability of the unexposed portion can be obtained.
疎水性熱可塑性ポリマー微粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.333003、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の疎水性熱可塑性ポリマー微粒子を好適なものとして挙げることができる。
このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。
本発明に用いられる疎水性熱可塑性ポリマー微粒子の平均粒径は0.01〜3.0μmが好ましい。
Hydrophobic thermoplastic polymer fine particles include Research Disclosure No. 1 of January 1992. 331,003, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250 and European Patent No. 931647 are suitable. Can be cited as
Specific examples of polymers constituting such polymer fine particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinyl carbazole, and polyalkylene structures. Mention may be made of homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof. Among them, more preferable examples include a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, and polymethyl methacrylate.
The average particle size of the hydrophobic thermoplastic polymer fine particles used in the present invention is preferably 0.01 to 3.0 μm.
本発明に用いられる熱反応性ポリマー微粒子としては、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋、及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 Examples of the heat-reactive polymer fine particles used in the present invention include polymer fine particles having a heat-reactive group, and these form a hydrophobized region by crosslinking due to a heat reaction and a functional group change at that time.
本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。 The thermoreactive group in the polymer fine particles having a thermoreactive group used in the present invention may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group, Examples include ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (eg, acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationic polymerizable groups (eg, vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.) ), An isocyanate group that performs an addition reaction or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group, and a functional group having an active hydrogen atom that is a reaction partner thereof (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), a condensation reaction Carboxy group to be carried out and reaction partner hydroxy group or amino group, acid anhydride to carry out ring-opening addition reaction and reaction An amino group or a hydroxyl group a manual may be mentioned as suitable.
本発明で用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。更に、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。 As the microcapsules used in the present invention, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or part of the constituent components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. Is. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. Furthermore, it is preferable that the image recording layer containing the microcapsule includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.
本発明においては、架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様であってもよい。このミクロゲルは、その中又は表面の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができ、特に、ラジカル重合性基をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。 In this invention, the aspect containing a crosslinked resin particle, ie, a microgel, may be sufficient. This microgel can contain a part of the constituent components of the image recording layer in at least one of the inside and the surface thereof, and in particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having a radical polymerizable group on the surface thereof, This is particularly preferable from the viewpoint of image formation sensitivity and printing durability.
画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化、若しくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。 As a method for microencapsulating or microgelling the constituent components of the image recording layer, known methods can be applied.
上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmが更に好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。 The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is still more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
有機微粒子の含有量としては、画像記録層全固形分の5〜90質量%の範囲であることが好ましい。 The organic fine particle content is preferably in the range of 5 to 90% by mass of the total solid content of the image recording layer.
(F)その他の成分
本発明における画像記録層には、必要に応じて、更に他の成分を含有することができる。
(F) Other components The image recording layer in the invention may further contain other components as required.
(1)低分子親水性化合物
本発明における画像記録層は、耐刷性を低下させることなく機上現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類、等が挙げられる。
(1) Low molecular weight hydrophilic compound The image recording layer in the invention may contain a low molecular weight hydrophilic compound in order to improve the on-press developability without reducing the printing durability.
As the low molecular weight hydrophilic compound, for example, as the water-soluble organic compound, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like glycols and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyols such as pentaerythritol and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfones such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkylsulfuric acid and alkylethersulfuric acid and salts thereof, phenylphosphonic acid Organic phosphonic acids and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids and salts thereof such as amino acids, betaines, and the like.
本発明においてはこれらの中でも、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類、ベタイン類の群から選ばれる少なくとも一つを含有させることが好ましい。 Among these, in the present invention, it is preferable to contain at least one selected from the group consisting of polyols, organic sulfates, organic sulfonates, and betaines.
有機スルホン酸塩の具体的な化合物としては、n−ブチルスルホン酸ナトリウム、n−ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2−エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n−オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11−トリオキサペンタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、13−エチル−5,8,11−トリオキサヘプタデカン−1−スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14−テトラオキサテトラデコサン−1−スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、p−ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p−スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル−5−スルホン酸ナトリウム、1−ナフチルスルホン酸ナトリウム、4−ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5−ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6−ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007−276454号公報の段落番号[0026]〜[0031]、特開2009−154525号公報の段落番号[0020]〜[0047]に記載の化合物などが挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。 Specific examples of organic sulfonates include alkyl sulfonates such as sodium n-butyl sulfonate, sodium n-hexyl sulfonate, sodium 2-ethylhexyl sulfonate, sodium cyclohexyl sulfonate, and sodium n-octyl sulfonate. Sodium 5,8,11-trioxapentadecane-1-sulfonate, sodium 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1; Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium sulfonate, 5,8,11,14-tetraoxatetradecosane-1-sodium sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxy Benzenesulfo Acid sodium, sodium p-styrenesulfonate, sodium dimethyl-5-sulfonate isophthalate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, disodium 1,5-naphthalenedisulfonate, 1,3,6 -Aryl sulfonates such as trisodium naphthalene trisulfonate, paragraph numbers [0026] to [0031] of JP 2007-276454 A, and paragraph numbers [0020] to [0047] of JP 2009-154525 A And the compounds described. The salt may be a potassium salt or a lithium salt.
有機硫酸塩としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位は1〜4であるのが好ましく、塩は、ナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。これらの具体例としては、特開2007−276454号公報の段落番号[0034]〜[0038]に記載の化合物が挙げられる。 Organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1 to 4, and the salt is preferably a sodium salt, potassium salt or lithium salt. Specific examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0034] to [0038] of JP-A-2007-276454.
ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素原子数が1〜5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3−ヒドロキシ−4−トリメチルアンモニオブチラート、4−(1−ピリジニオ)ブチラート、1−ヒドロキシエチル−1−イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3−トリメチルアンモニオ−1−プロパンスルホナート、3−(1−ピリジニオ)−1−プロパンスルホナートなどが挙げられる。 As the betaines, compounds having 1 to 5 carbon atoms of the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom are preferable. Specific examples include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, 3-hydroxy-4-trimethyl. Ammonioobylate, 4- (1-pyridinio) butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, Examples include 3- (1-pyridinio) -1-propanesulfonate.
上記の低分子親水性化合物は、疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持できる。 The above low molecular weight hydrophilic compound has a small hydrophobic part structure and almost no surface-active action, so that dampening water penetrates into the exposed part of the image recording layer (image part) and the hydrophobicity and film strength of the image part. Ink acceptability and printing durability of the image recording layer can be maintained satisfactorily.
これら低分子親水性化合物の画像記録層への添加量は、画像記録層全固形分量の0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましい。より好ましくは1質量%以上15質量%以下であり、更に好ましくは2質量%以上10質量%以下である。この範囲で良好な機上現像性と耐刷性が得られる。
これらの化合物は単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The amount of these low molecular weight hydrophilic compounds added to the image recording layer is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less of the total solid content of the image recording layer. More preferably, they are 1 mass% or more and 15 mass% or less, More preferably, they are 2 mass% or more and 10 mass% or less. In this range, good on-press developability and printing durability can be obtained.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.
(2)感脂化剤
本発明の画像記録層には、着肉性を向上させるために、画像記録層にホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマーなどの感脂化剤を用いることができる。特に、保護層に無機質の層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機質の層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機質の層状化合物による印刷途中の着肉性低下を防止する。
(2) Grease Sensitizer In the image recording layer of the present invention, a lipid sensitizer such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low molecular weight compound, or an ammonium group-containing polymer is used for the image recording layer in order to improve the inking property. be able to. In particular, when an inorganic layered compound is contained in the protective layer, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and prevent a decrease in the inking property during printing by the inorganic layered compound.
好適なホスホニウム化合物としては、特開2006−297907号公報及び特開2007−50660号公報に記載のホスホニウム化合物を挙げることができる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4−ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7−ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9−ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン−2,7−ジスルホナートなどが挙げられる。 Suitable phosphonium compounds include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis (triphenylphosphonio) butanedi (hexafluorophosphate), 1,7-bis (tri Phenylphosphonio) heptane sulfate, 1,9-bis (triphenylphosphonio) nonane = naphthalene-2,7-disulfonate, and the like.
上記含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第4級アンモニウム塩類が挙げられる。またイミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。なかでも、第4級アンモニウム塩類、及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p−トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008−284858号公報の段落番号[0021]〜[0037]、特開2009−90645号公報の段落番号[0030]〜[0057]に記載の化合物などが挙げられる。 Examples of the nitrogen-containing low molecular weight compound include amine salts and quaternary ammonium salts. Also included are imidazolinium salts, benzoimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Of these, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferable. Specific examples include tetramethylammonium = hexafluorophosphate, tetrabutylammonium = hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium = p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium = hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium = hexafluorophosphate. Fert, benzyldimethyldodecyl ammonium = hexafluorophosphate, paragraph numbers [0021] to [0037] of JP-A-2008-284858, paragraph numbers [0030] to [0057] of JP-A-2009-90645 Compound etc. are mentioned.
上記アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すれば如何なるものでもよいが、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5〜80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009−208458号公報の段落番号[0089]〜[0105]に記載のポリマーが挙げられる。 The ammonium group-containing polymer may be any polymer as long as it has an ammonium group in its structure, but a polymer containing 5 to 80 mol% of a (meth) acrylate having an ammonium group in the side chain as a copolymerization component is preferable. . Specific examples include the polymers described in paragraph numbers [0089] to [0105] of JP2009-208458A.
上記アンモニウム塩含有ポリマーは、下記の測定方法で求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値で、5〜120の範囲のものが好ましく、10〜110の範囲のものがより好ましく、15〜100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を質量平均分子量に換算すると、10000〜150000が好ましく、17000〜140000がより好ましく、20000〜130000が特に好ましい。 The ammonium salt-containing polymer has a reduced specific viscosity (unit: ml / g) determined by the following measurement method, preferably in the range of 5 to 120, more preferably in the range of 10 to 110, 15 Those in the range of ~ 100 are particularly preferred. When the said reduced specific viscosity is converted into a mass average molecular weight, 10,000-150,000 are preferable, 17000-140000 are more preferable, 20000-130000 are especially preferable.
<還元比粘度の測定方法>
30%ポリマー溶液3.33g(固形分として1g)を、20mlのメスフラスコに秤量し、N−メチルピロリドンでメスアップする。この溶液を30℃の恒温槽で30分間静置し、ウベローデ還元粘度管(粘度計定数=0.010cSt/s)に入れて30℃にて流れ落ちる時間を測定する。なお測定は同一サンプルで2回測定し、その平均値を算出する。同様にブランク(N−メチルピロリドンのみ)の場合も測定し、下記式から還元比粘度(ml/g)を算出した。
<Measurement method of reduced specific viscosity>
Weigh 3.33 g of 30% polymer solution (1 g as solid content) into a 20 ml volumetric flask and make up with N-methylpyrrolidone. This solution is allowed to stand for 30 minutes in a thermostatic bath at 30 ° C., put in an Ubbelohde reduced viscosity tube (viscosity constant = 0.010 cSt / s), and the time for flowing down at 30 ° C. is measured. The measurement is performed twice with the same sample, and the average value is calculated. Similarly, in the case of a blank (only N-methylpyrrolidone), the reduced specific viscosity (ml / g) was calculated from the following formula.
以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90 質量平均分子量4.5万)
(2)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量6.0万)
(3)2−(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p−トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70 質量平均分子量4.5万)
(4)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2−エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量6.0万)
(5)2−(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60 質量平均分子量7.0万)
(6)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比 25/75 質量平均分子量6.5万)
(7)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量6.5万)
(8)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13−エチル−5,8,11−トリオキサ−1−ヘプタデカンスルホナート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80 質量平均分子量7.5万)
(9)2−(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6−ジオキサヘプチルメタクリレート/2−ヒドロキシ−3−メタクロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5 質量平均分子量6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90 mass average molecular weight 45,000)
(2) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 mass average molecular weight 60,000)
(3) 2- (Ethyldimethylammonio) ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70 mass average molecular weight 45,000)
(4) 2- (trimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 mass average molecular weight 60,000)
(5) 2- (Trimethylammonio) ethyl methacrylate = methyl sulfate / hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60 mass average molecular weight 7 million)
(6) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75 mass average molecular weight 650,000)
(7) 2- (Butyldimethylammonio) ethyl acrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 mass average molecular weight 650,000)
(8) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 (Mass average molecular weight 75,000)
(9) 2- (butyldimethylammonio) ethyl methacrylate = hexafluorophosphate / 3,6-dioxaheptyl methacrylate / 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5 (Mass average molecular weight 650,000)
上記感脂化剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して0.01〜30.0質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15.0質量%、1〜10質量%が更に好ましい。 The content of the sensitizer is preferably 0.01 to 30.0% by mass, more preferably 0.1 to 15.0% by mass and 1 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Is more preferable.
(4)その他
更にその他の成分として、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、及び共増感剤若しくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]、特開2006−091479号公報の段落番号[0023]〜[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書の段落番号[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。
(4) Others Further, as other components, surfactants, colorants, baking-out agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, inorganic layered compounds, co-sensitizers or chain transfer agents, etc. Can be added. Specifically, paragraph numbers [0114] to [0159] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-284817, paragraph numbers [0023] to [0027] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-091479, and US Patent Publication No. 2008/0311520. The compound and the addition amount described in paragraph [0060] of FIG.
(G)画像記録層の形成
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
(G) Formation of Image Recording Layer The image recording layer in the present invention may be prepared by using the necessary components described above as described in paragraphs [0142] to [0143] of JP-A-2008-195018, for example. A coating solution is prepared by dispersing or dissolving in a coating solution, which is coated on a support by a known method such as bar coater coating and dried. The image recording layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer can be obtained.
(下塗り層)
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある)を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) is preferably provided between the image recording layer and the support. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area, and easily peels off the image recording layer from the support in the unexposed area. Contributes to improvement. In the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, thereby preventing the heat generated by the exposure from diffusing to the support and reducing the sensitivity.
下塗り層に用いる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基、及び画像記録層と密着性を向上させるために架橋性基を有するものが好ましい。更に、スルホ基などの親水性付与基を有する化合物も好適な化合物として挙げることができる。これらの化合物は、低分子でも高分子ポリマーであってもよい。又、これらの化合物は必要に応じて2種以上を混合して使用してもよい。 As the compound used for the undercoat layer, those having an adsorptive group capable of being adsorbed on the surface of the support and a crosslinkable group for improving the adhesion to the image recording layer are preferable. Furthermore, compounds having a hydrophilicity-imparting group such as a sulfo group can also be mentioned as suitable compounds. These compounds may be low molecular weight or high molecular weight polymers. Moreover, you may use these compounds in mixture of 2 or more types as needed.
高分子ポリマーである場合は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO3H2、−OPO3H2、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−、−COCH2COCH3が好ましい。親水基としては、スルホ基が好ましい。架橋性基としてはメタクリル基、アリル基などが好ましい。
この高分子ポリマーは、高分子ポリマーの極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005−125749号、特開2006−239867号、特開2006−215263号の各公報記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面に相互作用する官能基、及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物を含有するものも好ましく用いられる。より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
In the case of a high molecular polymer, a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group is preferable. The adsorbable adsorptive group to the surface of the support, a phenolic hydroxy group, a carboxy group, -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - COCH 2 COCH 3 Is preferred. As the hydrophilic group, a sulfo group is preferable. The crosslinkable group is preferably a methacryl group or an allyl group.
This polymer may have a crosslinkable group introduced by salt formation between the polar substituent of the polymer, a substituent having a counter charge and a compound having an ethylenically unsaturated bond, Other monomers, preferably hydrophilic monomers, may be further copolymerized.
Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679 and an ethylenic compound described in JP-A-2-304441. The phosphorus compound which has a heavy bond reactive group is mentioned suitably. Crosslinkable group (preferably ethylenically unsaturated bond group) described in JP-A-2005-238816, JP-A-2005-12549, JP-A-2006-239867, JP-A-2006-215263, surface of support Those containing a low-molecular or high-molecular compound having a functional group that interacts with each other and a hydrophilic group are also preferably used. More preferable are polymer polymers having an adsorbable group, a hydrophilic group, and a crosslinkable group that can be adsorbed on the support surface described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038.
下塗り層用高分子樹脂中の不飽和二重結合の含有量は、高分子ポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、最も好ましくは0.2〜5.5mmolである。
下塗り層用の高分子ポリマーは、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
The content of unsaturated double bonds in the polymer resin for the undercoat layer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, and most preferably 0.2 to 5.5 mmol per 1 g of the polymer.
The polymer for the undercoat layer preferably has a mass average molar mass of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.
本発明の下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第2級又は第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等(例えば、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6−テトラヒドロキシ−p−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)を含有することができる。 The undercoat layer of the present invention comprises, in addition to the above undercoat compound, a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, an amino group, or a functional group having a polymerization inhibiting ability, in order to prevent contamination over time. Compounds having a group that interacts with the surface of an aluminum support (for example, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil , Sulfophthalic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, and the like.
下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.
(支持体)
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体としては、公知の支持体が用いられる。なかでも、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。
また、上記アルミニウム板は必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理や封孔処理、及び米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号及び同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケートあるいは米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号及び同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸などによる表面親水化処理を適宜選択して行うことができる。
支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。
(Support)
As the support used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, a known support is used. Of these, an aluminum plate that has been roughened and anodized by a known method is preferred.
In addition, the above aluminum plate is optionally subjected to micropore enlargement treatment or sealing treatment of an anodized film described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365, and US Pat. 714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734, or alkali metal silicates as described in U.S. Pat. Surface hydrophilization treatment with polyvinylphosphonic acid or the like as described in each specification of 3,276,868, 4,153,461 and 4,689,272 is appropriately performed and performed. be able to.
The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm.
本発明の支持体には必要に応じて、裏面に、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平5−45885号公報に記載されているケイ素のアルコキシ化合物を含むバックコート層を設けることができる。 If necessary, the support of the present invention includes an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a silicon alkoxy compound described in JP-A-5-45885 on the back surface. A backcoat layer can be provided.
(保護層)
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層の上に保護層(オーバーコート層)を設けることが好ましい。保護層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
(Protective layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a protective layer (overcoat layer) is preferably provided on the image recording layer. In addition to the function of suppressing the image formation inhibition reaction by blocking oxygen, the protective layer has a function of preventing scratches in the image recording layer and preventing ablation during high-illuminance laser exposure.
このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしては、カルボン酸基又はスルホン酸基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005−250216号、特開2006−259137号の公報に記載の変性ポリビニルアルコールが好適である。
The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeability polymer used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more types can be mixed and used as necessary. it can. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.
As the modified polyvinyl alcohol, acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxylic acid group or a sulfonic acid group is preferably used. Specifically, modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137 are suitable.
また、保護層には酸素遮断性を高めるため、特開2005−119273号公報に記載のように天然雲母、合成雲母等の無機質の層状化合物を含有することが好ましい。
また、保護層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子など公知の添加物を含むことができる。また、画像記録層の説明に記載した感脂化剤を保護層に含有させることもできる。
Further, in order to enhance the oxygen barrier property, the protective layer preferably contains an inorganic layered compound such as natural mica and synthetic mica as described in JP-A-2005-119273.
Further, the protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coating properties, and inorganic fine particles for controlling surface slipperiness. Further, the protective layer can contain the sensitizer described in the description of the image recording layer.
保護層は、公知の方法で塗布される。保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。 The protective layer is applied by a known method. The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. in the range of 02~1g / m 2.
〔製版方法〕
本発明の平版印刷版原版の製版は機上現像方法で行うことが好ましい。機上現像方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、油性インキと水性成分とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の画像記録層未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で行ってもよいし、プレートセッターなどで別途行ってもよい。後者の場合は、露光済み平版印刷版原版は現像処理工程を経ないでそのまま印刷機に装着される。その後、該印刷機を用い、油性インキと水性成分とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出され非画像部が形成される。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が用いられる。
以下、更に詳細に説明する。
[Plate making method]
The plate making of the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably carried out by an on-press development method. The on-press development method includes an image exposure process for a lithographic printing plate precursor, a printing process in which an oil-based ink and an aqueous component are supplied and printed without performing any development process on the exposed lithographic printing plate precursor. The image recording layer unexposed portion of the lithographic printing plate precursor is removed in the course of the printing process. Imagewise exposure may be performed on the printing machine after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine, or may be separately performed with a plate setter or the like. In the latter case, the exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a printing machine without undergoing a development process. Thereafter, by using the printing machine and supplying the oil-based ink and the aqueous component and printing as it is, an on-press development process, that is, an image recording layer in an unexposed area is removed at an early stage of printing, Accordingly, the surface of the hydrophilic support is exposed to form a non-image part. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary lithographic printing ink and fountain solution are used.
This will be described in more detail below.
本発明において画像露光に用いられる光源としては、レーザーが好ましい。本発明に用いられるレーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を照射する固体レーザー及び半導体レーザーなどが好適に挙げられる。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
In the present invention, the light source used for image exposure is preferably a laser. Although the laser used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser etc. which irradiate infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm are mentioned suitably.
Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In the laser, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time.
露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像露光される。 The exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of a printing press. In the case of a printing press equipped with a laser exposure device, image exposure is performed after a lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of the printing press.
画像様に露光した平版印刷版原版に湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水及び/又は印刷インキによって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。 When printing is performed by supplying dampening water and printing ink to the lithographic printing plate precursor exposed imagewise, the image recording layer cured by exposure has a printing ink acceptance having an oleophilic surface in the exposed portion of the image recording layer. Forming part. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image recording layer is removed by dissolution or dispersion by the supplied dampening water and / or printing ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area. As a result, the fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, and the printing ink is deposited on the image recording layer in the exposed area and printing is started.
ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給するのが好ましい。
このようにして、本発明の平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
Here, dampening water or printing ink may be supplied to the printing plate first, but printing is first performed in order to prevent the dampening water from being contaminated by the removed image recording layer components. It is preferable to supply ink.
In this way, the lithographic printing plate precursor according to the invention is developed on the machine on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.
〔高分子化合物の合成例〕
(1)高分子化合物(P−1)の合成
コンデンサー、攪拌機を取り付けた1 L 三口フラスコに1−メチル−2−ピロリドン、200gを入れ、窒素気流下75 ℃ まで加熱した。ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位数は45)20g 、スチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g,[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]ジメチル−(3−スルホプロピル)アンモニウムベタイン、内塩(MOE)12g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)6g 、V−601(和光純薬工業(株)製)0.8g、1−メチル−2−ピロリドン200gの溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に2時間攪拌し、V−601を0.4g添加して4時間反応させた。窒素を止め、室温まで反応溶液を冷却した後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)25g、p−メトキシフェノール0.3g、ジブチル錫ジラウレート0.6gを入れ、60℃で加熱攪拌を行った。6時間後、メタノール50gを投入し、未反応の2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを失活させて室温まで反応溶液を冷却した。
高分子反応により二重結合が側鎖に導入されたことは1H−NMRスペクトルにより確認された。ポリアクリル酸を標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により質量平均モル質量(Mw)を測定した結果、6.3万であった。
[Synthesis example of polymer compound]
(1) Synthesis of Polymer Compound (P-1) 200 g of 1-methyl-2-pyrrolidone was placed in a 1 L three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, and heated to 75 ° C. under a nitrogen stream. 20 g of polyethylene glycol methyl ether methacrylate (PEGMA ethylene glycol has an average number of repeating units of 45), 10 g of styrene (St), 50 g of acrylonitrile (AN), [2- (methacryloyloxy) ethyl] dimethyl- (3-sulfopropyl) ammonium Betaine, inner salt (MOE) 12 g, 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA) 6 g, V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.8 g, 1-methyl-2-pyrrolidone 200 g over 2 hours And dripped. After completion of the dropping, the mixture was further stirred for 2 hours, 0.4 g of V-601 was added, and the mixture was reacted for 4 hours. After nitrogen was stopped and the reaction solution was cooled to room temperature, 25 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI), 0.3 g of p-methoxyphenol and 0.6 g of dibutyltin dilaurate were added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. Six hours later, 50 g of methanol was added, unreacted 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was deactivated, and the reaction solution was cooled to room temperature.
It was confirmed by 1 H-NMR spectrum that a double bond was introduced into the side chain by the polymer reaction. It was 63,000 as a result of measuring a mass mean molar mass (Mw) by the gel permeation chromatography method (GPC) which used polyacrylic acid as the standard substance.
(2)高分子化合物(P−14)の合成
コンデンサー、攪拌機を取り付けた1 L 三口フラスコに1−メチル−2−ピロリドン、200gを入れ、窒素気流下75 ℃ まで加熱した。ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は45)20g 、スチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g,[3−(メタクリロイルアミノ)プロピル]ジメチル−(3−スルホプロピル)アンモニウムベタイン、内塩12g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)6g 、V−601(和光純薬工業(株)製)0.8g、1−メチル−2−ピロリドン200gの溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に2時間攪拌し、V−601を0.4g添加して4時間反応させた。窒素を止め、室温まで反応溶液を冷却した後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)25g、p−メトキシフェノール0.3g、ジブチル錫ジラウレート0.6gを入れ、60℃で加熱攪拌を行った。6時間後、メタノール50gを投入し、未反応の2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを失活させて室温まで反応溶液を冷却した。
高分子反応により二重結合が側鎖に導入されたことは1H−NMRスペクトルにより確認された。ポリアクリル酸を標準物質としたGPCにより質量平均分子量を測定した結果、5.2万であった。
(2) Synthesis of polymer compound (P-14) 200 g of 1-methyl-2-pyrrolidone was placed in a 1 L three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer and heated to 75 ° C. under a nitrogen stream. 20 g of polyethylene glycol methyl ether methacrylate (PEGMA ethylene glycol has an average repeating unit of 45), 10 g of styrene (St), 50 g of acrylonitrile (AN), [3- (methacryloylamino) propyl] dimethyl- (3-sulfopropyl) ammonium betaine A solution of 12 g of inner salt, 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), 0.8 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 200 g of 1-methyl-2-pyrrolidone was added dropwise over 2 hours. After completion of the dropping, the mixture was further stirred for 2 hours, 0.4 g of V-601 was added, and the mixture was reacted for 4 hours. After nitrogen was stopped and the reaction solution was cooled to room temperature, 25 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI), 0.3 g of p-methoxyphenol and 0.6 g of dibutyltin dilaurate were added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. Six hours later, 50 g of methanol was added, unreacted 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was deactivated, and the reaction solution was cooled to room temperature.
It was confirmed by 1 H-NMR spectrum that a double bond was introduced into the side chain by the polymer reaction. The mass average molecular weight measured by GPC using polyacrylic acid as a standard substance was 52,000.
(3)高分子化合物(P−27)の合成
コンデンサー、攪拌機を取り付けた1 L 三口フラスコに1−メチル−2−ピロリドン、200gを入れ、窒素気流下75 ℃ まで加熱した。ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は約45)20g 、スチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g,[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]ジメチル−(3−カルボキシエチル)アンモニウムベタイン、内塩12g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)6g 、V−601(和光純薬工業(株)製)0.8g、1−メチル−2−ピロリドン200gの溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に2時間攪拌し、V−601を0.4g添加して4時間反応させた。窒素を止め、室温まで反応溶液を冷却した後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)25g、p−メトキシフェノール0.3g、ジブチル錫ジラウレート0.6gを入れ、60℃で加熱攪拌を行った。6時間後、メタノール50gを投入し、未反応の2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを失活させて室温まで反応溶液を冷却した。
高分子反応により二重結合が側鎖に導入されたことは1H−NMRスペクトルにより確認された。ポリアクリル酸を標準物質としたGPCにより質量平均分子量を測定した結果、5.7万であった。
(3) Synthesis of polymer compound (P-27) 200 g of 1-methyl-2-pyrrolidone was placed in a 1 L three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer and heated to 75 ° C. under a nitrogen stream. 20 g of polyethylene glycol methyl ether methacrylate (PEGMA ethylene glycol has an average repeating unit of about 45), 10 g of styrene (St), 50 g of acrylonitrile (AN), [2- (methacryloyloxy) ethyl] dimethyl- (3-carboxyethyl) ammonium A solution of betaine, inner salt 12 g, 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA) 6 g, V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.8 g, and 1-methyl-2-pyrrolidone 200 g was added dropwise over 2 hours. . After completion of the dropping, the mixture was further stirred for 2 hours, 0.4 g of V-601 was added, and the mixture was reacted for 4 hours. After nitrogen was stopped and the reaction solution was cooled to room temperature, 25 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI), 0.3 g of p-methoxyphenol and 0.6 g of dibutyltin dilaurate were added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. Six hours later, 50 g of methanol was added, unreacted 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was deactivated, and the reaction solution was cooled to room temperature.
It was confirmed by 1 H-NMR spectrum that a double bond was introduced into the side chain by the polymer reaction. The mass average molecular weight measured by GPC using polyacrylic acid as a standard substance was 57,000.
(4)高分子化合物(P−57)のポリマー微粒子水分散液の製造
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は45)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]ジメチル−(3−スルホプロピル)アンモニウムベタイン、内塩12g、及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行していた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
(4) Production of polymer fine particle aqueous dispersion of polymer compound (P-57) A 1000 ml four-necked flask was equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and nitrogen gas was introduced. Then, 20 g of polyethylene glycol methyl ether methacrylate (the average repeating unit of PEGMA ethylene glycol was 45), 200 g of distilled water and 200 g of n-propanol were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, 10 g of styrene (St) premixed, 50 g of acrylonitrile (AN), [2- (methacryloyloxy) ethyl] dimethyl- (3-sulfopropyl) ammonium betaine, 12 g of inner salt, and 2,2′-azobis A mixture of 0.8 g of isobutyronitrile was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization had progressed over 98% at the stage of reaction for a total of 20 hours. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 150 nm.
ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。 Here, the particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring a total of 5000 fine particle sizes on the photograph, and a logarithmic scale between 0 and the maximum value of the obtained particle size measurement values. And the frequency of appearance of each particle size was plotted and obtained. For non-spherical particles, the particle size of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.
(5)高分子化合物(P−64)のポリマー微粒子水分散液の製造
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は45)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、[3−(メタクリロイルアミノ)プロピル]ジメチル−(3−スルホプロピル)アンモニウムベタイン、内塩12g、及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行していた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
(5) Production of polymer fine particle aqueous dispersion of polymer compound (P-64) A 1000 ml four-necked flask was equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and nitrogen gas was introduced. Then, 20 g of polyethylene glycol methyl ether methacrylate (the average repeating unit of PEGMA ethylene glycol was 45), 200 g of distilled water and 200 g of n-propanol were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, 10 g of styrene (St) premixed, 50 g of acrylonitrile (AN), [3- (methacryloylamino) propyl] dimethyl- (3-sulfopropyl) ammonium betaine, 12 g of inner salt, and 2,2′-azobis A mixture of 0.8 g of isobutyronitrile was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization had progressed over 98% at the stage of reaction for a total of 20 hours. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 150 nm.
(6)高分子化合物(P−71)のポリマー微粒子水分散液の製造
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は45)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、[2−(メタクリロイルオキシ)エチル]ジメチル−(3−カルボキシエチル)アンモニウムベタイン、内塩12g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行していた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
(6) Production of polymer fine particle aqueous dispersion of polymer compound (P-71) A 1000 ml four-necked flask was subjected to a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and nitrogen gas was introduced. Then, 20 g of polyethylene glycol methyl ether methacrylate (the average repeating unit of PEGMA ethylene glycol was 45), 200 g of distilled water and 200 g of n-propanol were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, 10 g of premixed styrene (St), 50 g of acrylonitrile (AN), [2- (methacryloyloxy) ethyl] dimethyl- (3-carboxyethyl) ammonium betaine, 12 g of inner salt and 2,2′-azobisiso A mixture of 0.8 g of butyronitrile was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization had progressed over 98% at the stage of reaction for a total of 20 hours. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 150 nm.
〔実施例1〜27及び比較例1〜2:平版印刷版原版の作製及び評価〕 [Examples 1-27 and Comparative Examples 1-2: Production and evaluation of lithographic printing plate precursor]
1.平版印刷版原版(1)〜(11)の作製
(1)支持体の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質JIS A 1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミニウム表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
1. Production of lithographic printing plate precursors (1) to (11) (1) Production of support 10 mass% sodium aluminate aqueous solution for removing rolling oil on the surface of a 0.3 mm thick aluminum plate (material JIS A 1050) After degreasing at 50 ° C. for 30 seconds, three bundle-planted nylon brushes with a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension with a median diameter of 25 μm (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) were used. The aluminum surface was grained and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 .
次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave AC with a time TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. The amount of electricity in nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.
続いて、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
次に、この板に15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥して支持体(1)を作製した。
その後、非画像部の親水性を確保するため、支持体(1)に2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて60℃で10秒間、シリケート処理を施し、その後、水洗して支持体(2)を得た。Siの付着量は10mg/m2であった。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。
Subsequently, nitric acid electrolysis was performed with an aqueous solution of 0.5% by mass of hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Electrochemical surface roughening treatment was carried out in the same manner as above, followed by washing with water by spraying.
Next, the plate was provided with a direct current anodic oxide film having a current density of 15 A / dm 2 and a current density of 15 g / m 2 using 15% by mass sulfuric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) as an electrolytic solution, followed by washing with water. It dried and produced the support body (1).
Thereafter, in order to ensure the hydrophilicity of the non-image area, the support (1) was subjected to a silicate treatment at 60 ° C. for 10 seconds using an aqueous 2.5 mass% No. 3 sodium silicate solution, and then washed with water for support. Body (2) was obtained. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.
(2)下塗り層の形成
次に、上記支持体(2)上に、下記下塗り層用塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、以下の実験に用いる下塗り層を有する支持体を作製した。
(2) Formation of undercoat layer Next, the following undercoat layer coating solution (1) is applied onto the support (2) so that the dry coating amount is 20 mg / m 2 , and used in the following experiments. A support having a layer was prepared.
<下塗り層用塗布液(1)>
・下記構造の下塗り層用化合物(1) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
<Coating liquid for undercoat layer (1)>
-Undercoat layer compound (1) having the following structure: 0.18 g
・ Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.10g
・ Methanol 55.24g
・ Water 6.15g
(3)画像記録層の形成
上記のようにして形成された下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。
画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)及びミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
(3) Formation of image recording layer An image recording layer coating solution having the following composition was bar coated on the undercoat layer formed as described above, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to obtain a dry coating amount of 1.0 g. An image recording layer of / m 2 was formed.
The image recording layer coating solution (1) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microgel solution (1) immediately before coating.
<感光液(1)>
・本発明の高分子化合物(表6記載の高分子化合物) 0.240g
・赤外線吸収剤(1)〔下記構造〕 0.030g
・重合開始剤(1)〔下記構造〕 0.162g
・エチレン性不飽和重合性化合物
トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート
(NKエステルA−9300、新中村化学(株)製) 0.192g
・低分子親水性化合物
トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート 0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.050g
・感脂化剤 ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF6塩 0.018g
・感脂化剤 アンモニウム基含有ポリマー
〔下記構造、還元比粘度44cSt/g/ml〕 0.035g
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008g
・2−ブタノン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
<Photosensitive solution (1)>
-Polymer compound of the present invention (polymer compounds described in Table 6) 0.240 g
Infrared absorber (1) [the following structure] 0.030 g
・ Polymerization initiator (1) [the following structure] 0.162 g
Ethylenically unsaturated polymerizable compound Tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.192 g
・ Low molecular weight hydrophilic compound Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate 0.062g
・ Low molecular weight hydrophilic compound (1) [the following structure] 0.050 g
-Sensitizing agent Phosphonium compound (1) [the following structure] 0.055 g
・ Sensitizer Benzyl-dimethyl-octylammonium ・ PF 6 salt 0.018g
-Sensitizing agent Ammonium group-containing polymer [the following structure, reduced specific viscosity 44 cSt / g / ml] 0.035 g
・ Fluorosurfactant (1) [The following structure] 0.008g
・ 2-butanone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g
<ミクロゲル液(1)>
・ミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
<Microgel solution (1)>
・ Microgel (1) 2.640 g
・ Distilled water 2.425g
上記の、赤外線吸収剤(1)、重合開始剤(1)、ホスホニウム化合物(1)、低分子親水性化合物(1)、アンモニウム基含有ポリマー、及びフッ素系界面活性剤(1)の構造は、以下に示す通りである。 The structures of the infrared absorber (1), the polymerization initiator (1), the phosphonium compound (1), the low molecular weight hydrophilic compound (1), the ammonium group-containing polymer, and the fluorine-based surfactant (1) are as follows: It is as shown below.
−ミクロゲル(1)の合成−
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井化学ポリウレタン(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、及びパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてポリビニルアルコール((株)クラレ製、PVA−205)の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを前記ミクロゲル(1)とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
-Synthesis of microgel (1)-
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Chemical Polyurethane Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, And 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4 mass% aqueous solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA-205) was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The microgel solution thus obtained was diluted with distilled water to a solid content concentration of 15% by mass, and this was designated as the microgel (1). When the average particle size of the microgel was measured by a light scattering method, the average particle size was 0.2 μm.
(4)保護層の形成
上記画像記録層上に、更に下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版(1)〜(11)を得た。
(4) Formation of protective layer After the bar coating of the protective layer coating solution (1) having the following composition was further applied on the image recording layer, it was oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount was 0.15 g / m 2. A lithographic printing plate precursor (1) to (11) was obtained.
<保護層用塗布液(1)>
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<Coating liquid for protective layer (1)>
・ Inorganic layered compound dispersion (1) 1.5 g
-Polyvinyl alcohol (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modification,
Saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
・ Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Degree of saponification 81.5 mol%, degree of polymerization 500) 6% by weight aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710) 1% by weight aqueous solution 0.86g
・ Ion-exchanged water 6.0g
(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.
2.平版印刷版原版(12)の作製
画像記録層塗布液(1)の代わりに、下記画像記録層塗布液(2)を用いた以外は平版印刷版原版(1)の作製を繰り返すことで平版印刷版原版(12)を得た。
2. Preparation of lithographic printing plate precursor (12) Lithographic printing is performed by repeating preparation of lithographic printing plate precursor (1) except that the following image recording layer coating liquid (2) is used instead of image recording layer coating liquid (1). An original plate (12) was obtained.
<画像記録層塗布液(2)>
・高分子化合物(P−57)のポリマー微粒子水分散液 20g
・赤外線吸収剤(2)[下記構造] 0.2g
・重合開始剤 Irgacure250(チバスペシャリティケミカルズ製) 0.5g
・エチレン性不飽和重合性化合物 SR-399(サートマー社製) 1.5g
・メルカプト−3−トリアゾール 0.2g
・Byk307(Byk Chimie社製) 0.1g
・Klucel M(Hercules社製) 4.8g
・n−プロパノール 55.0g
・水 17.0g
<Image recording layer coating solution (2)>
-Polymer fine particle aqueous dispersion of polymer compound (P-57) 20 g
・ Infrared absorber (2) [the following structure] 0.2g
・ Polymerization initiator Irgacure250 (Ciba Specialty Chemicals) 0.5g
・ Ethylenically unsaturated polymerizable compound SR-399 (Sartomer) 1.5g
・ Mercapto-3-triazole 0.2g
・ Byk307 (Byk Chimie) 0.1g
・ Klucel M (Hercules) 4.8g
・ N-propanol 55.0g
・ Water 17.0g
なお、上記組成中の商品名で記載の化合物は下記の通りである。
・IRGACURE 250:(4−メトキシフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート(75質量%プロピレンカーボナート溶液)
・SR-399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
・Byk307:変性ジメチルポリシロキサン
・Klucel M:ヒドロキシプロピルセルロース
In addition, the compounds described by trade names in the above composition are as follows.
IRGACURE 250: (4-methoxyphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium = hexafluorophosphate (75% by mass propylene carbonate solution)
・ SR-399: Dipentaerythritol pentaacrylate
・ Byk307: Modified dimethylpolysiloxane ・ Klucel M: Hydroxypropyl cellulose
3.平版印刷版原版(13)〜(27)の作製
画像記録層塗布液(2)の高分子化合物(P−57)のポリマー微粒子水分散液の代わりに表6記載の各高分子化合物のポリマー微粒子水分散液を用いた他は、平版印刷版原版(11)の作製を繰り返すことで平版印刷版原版(13)〜(27)を得た。
3. Preparation of lithographic printing plate precursors (13) to (27) Polymer fine particles of each polymer compound described in Table 6 instead of polymer fine particle aqueous dispersion of polymer compound (P-57) in image recording layer coating liquid (2) The lithographic printing plate precursors (13) to (27) were obtained by repeating the production of the lithographic printing plate precursor (11) except that the aqueous dispersion was used.
4.比較例用の平版印刷版原版(28)の作製
画像記録層塗布液(2)の高分子化合物(P−57)のポリマー微粒子水分散液の代わりに、下記の比較用高分子化合物(R−1)のポリマー微粒子水分散液を用いた以外は平版印刷版原版(12)の作製を繰り返すことで比較例用平版印刷版原版(28)を得た。
4). Preparation of lithographic printing plate precursor (28) for comparative example In place of the polymer fine particle aqueous dispersion of polymer compound (P-57) in image recording layer coating liquid (2), the following comparative polymer compound (R- A lithographic printing plate precursor (28) for Comparative Example was obtained by repeating the preparation of the lithographic printing plate precursor (12) except that the polymer fine particle aqueous dispersion of 1) was used.
(比較用高分子化合物(R−1)のポリマー微粒子水分散液の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位は45)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行していた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
(Production of polymer fine particle aqueous dispersion of comparative polymer compound (R-1))
A 1000 ml four-necked flask was equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and nitrogen gas was introduced to perform deoxygenation, while polyethylene glycol methyl ether methacrylate (average of PEGMA ethylene glycol) The repeating unit was 45) 20 g, distilled water 200 g and n-propanol 200 g were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, a premixed mixture of 10 g of styrene (St), 50 g of acrylonitrile (AN), and 0.8 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization had progressed over 98% at the stage of reaction for a total of 20 hours. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 150 nm.
5.比較例用の平版印刷版原版(29)の作製
画像記録層塗布液(1)の高分子化合物(P−1)の代わりに、下記の比較用高分子化合物(R−2)を用いた以外は平版印刷版原版(1)の作製を繰り返すことで比較例用平版印刷版原版(29)を得た。
5. Preparation of lithographic printing plate precursor (29) for comparative example Except for using the following comparative polymer compound (R-2) instead of the polymer compound (P-1) in the image recording layer coating solution (1) Produced a lithographic printing plate precursor (29) for comparative examples by repeating the preparation of the lithographic printing plate precursor (1).
(比較用高分子化合物(R−2)の製造)
コンデンサー、攪拌機を取り付けた1L三口フラスコに1−メチル−2−ピロリドン、200gを入れ、窒素気流下75℃まで加熱した。ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA エチレングリコールの平均の繰返し単位数は45)20g、スチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)50g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)6g、V−601(和光純薬工業(株)製)0.8g、1−メチル−2−ピロリドン200gの溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に2時間攪拌し、V−601を0.4g添加して4時間反応させた。窒素を止め、室温まで反応溶液を冷却した後、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(MOI)25g、p−メトキシフェノール0.3g、ジブチル錫ジラウレート0.6gを入れ、60℃で加熱攪拌を行った。6時間後、メタノール50gを投入し、未反応の2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを失活させて室温まで反応溶液を冷却した。
高分子反応により二重結合が側鎖に導入されたことは1H−NMRスペクトルにより確認された。ポリアクリル酸を標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により質量平均モル質量(Mw)を測定した結果、6万であった。
(Production of Comparative Polymer Compound (R-2))
200 g of 1-methyl-2-pyrrolidone was placed in a 1 L three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer and heated to 75 ° C. under a nitrogen stream. 20 g of polyethylene glycol methyl ether methacrylate (PEGMA ethylene glycol has an average number of repeating units of 45), 10 g of styrene (St), 50 g of acrylonitrile (AN), 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), V-601 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) A solution of 0.8 g and 1-methyl-2-pyrrolidone 200 g was added dropwise over 2 hours. After completion of the dropping, the mixture was further stirred for 2 hours, 0.4 g of V-601 was added, and the mixture was reacted for 4 hours. After nitrogen was stopped and the reaction solution was cooled to room temperature, 25 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate (MOI), 0.3 g of p-methoxyphenol and 0.6 g of dibutyltin dilaurate were added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. Six hours later, 50 g of methanol was added, unreacted 2-methacryloyloxyethyl isocyanate was deactivated, and the reaction solution was cooled to room temperature.
It was confirmed by 1 H-NMR spectrum that a double bond was introduced into the side chain by the polymer reaction. It was 60,000 as a result of measuring a mass mean molar mass (Mw) by the gel permeation chromatography method (GPC) which used polyacrylic acid as the standard substance.
6.平版印刷版原版の評価
(1)機上現像性
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を100枚行った。
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。結果を表6に示す。
6). Evaluation of lithographic printing plate precursor (1) On-press developability The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to an external drum rotation speed of 1000 rpm and a laser output of 70% on a Luxel PLANETTER T-6000III manufactured by Fuji Film Co., Ltd. equipped with an infrared semiconductor laser. The exposure was performed under the condition of a resolution of 2400 dpi. The exposure image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The obtained exposed original plate was attached to a plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After dampening water and ink were supplied by the standard automatic printing start method of LITHRONE 26 and developed on the machine, 100 sheets were printed on Tokuhishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.
The number of print sheets required until the on-press development on the printing press of the unexposed portion of the image recording layer was completed and the ink was not transferred to the non-image portion was measured as on-press developability. The results are shown in Table 6.
(2)耐刷性
上述した機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしてゆくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。結果を表6に示す。
(2) Printing durability After the above-described evaluation of on-press developability, the printing was further continued. As the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. Printing durability was evaluated using the number of printed copies when the value measured by the Gretag densitometer for the 50% halftone dot area ratio of the FM screen in the printed material was 5% lower than the measured value for the 100th printed sheet. . The results are shown in Table 6.
(3)耐汚れ性
耐汚れ性は上記耐刷性評価の500枚目の印刷物において、非画像部のインキ汚れが全くないものを『〇』、『○』には劣るが実用上問題ないものを『△』、汚れが一部でも見られ実用上問題あるものを『×』として評価した。結果を表6に示す。
(3) Stain resistance In the 500th printed material of the above-mentioned printing durability evaluation, the stain resistance is not inferior to “O” or “O” but has no problem in practical use. Was evaluated as “C”, and “×” was used when there was some dirt and a problem in practical use. The results are shown in Table 6.
Claims (15)
(上式中、R1、R4、R7及びR10はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜12の置換基を表し、L1、L2、L3及びL4はそれぞれ独立に単結合又は2価の連結基を表し、X1はアルキレン基、置換アルキレン基、又はポリアルキレンオキシド基を有する2価の連結基を表し、Y1はアルキレン基又は置換アルキレン基を表し、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R11、R12及びR13はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素原子数1〜6のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。(R2、R3及びY1)、(R5、R6及びY1)、(R8、R9及びY1)、並びに(R11〜R13及びY1)の各群中の任意の2つが結合して複素環を形成していてもよい。) The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 5, wherein the polymer compound comprises at least one monomer unit selected from the following general formulas (1) to (4).
(In the above formula, R 1 , R 4 , R 7 and R 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms, and L 1 , L 2 , L 3 and L 4 are Each independently represents a single bond or a divalent linking group, X 1 represents an alkylene group, a substituted alkylene group, or a divalent linking group having a polyalkylene oxide group, and Y 1 represents an alkylene group or a substituted alkylene group. , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 8 , R 9 , R 11 , R 12 and R 13 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, Represents an alkenyl group, an alkynyl group, a cycloalkyl group or an aryl group (R 2 , R 3 and Y 1 ), (R 5 , R 6 and Y 1 ), (R 8 , R 9 and Y 1 ), and ( R 11 to R 13 and responsibility in each group Y 1) Two members to the may form a heterocyclic ring.)
(上式中、R15は水素原子、ハロゲン原子、又は炭素原子数1〜12の置換基を表し、R16は、エステル基、アミド基、シアノ基、ヒドロキシ基又はアリール基を有する基を表す。) The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 8, wherein the polymer compound comprises a monomer unit represented by the following general formula (5).
(In the above formula, R 15 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent having 1 to 12 carbon atoms, and R 16 represents a group having an ester group, an amide group, a cyano group, a hydroxy group, or an aryl group. .)
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