JP5306041B2 - 撮像装置及びその方法 - Google Patents
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Description
測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、該被検査物の断層画像を取得する撮像装置であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光を検出する第1の検出手段と、
前記第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する調整手段と、
前記第1の光束径から該第1の光束径より大きい第2の光束径に変更する光束径変更手段と、
前記第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光と前記参照光とを合波した光を検出する第2の検出手段と、
を有することを特徴とする。
測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、該被検査物の断層画像を取得する撮像方法であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光を検出する工程と、
前記第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する工程と、
前記第1の光束径から該第1の光束径より大きい第2の光束径に変更する工程と、
前記第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光と前記参照光とを合波した光を検出する工程と、
を有することを特徴とする。
上述の撮像方法の各工程をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納したことを特徴とする。
上述の撮像方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とする。
測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像装置であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する調整手段と、
前記調整手段が前記合焦位置を調整した後に、前記第1の光束径より大きい第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光を検出する検出手段と、
を有することを特徴とする。
また、別の本発明に係る撮像方法は、
測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像方法であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する工程と、
前記合焦位置が調整された後に、前記第1の光束径より大きい第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光を検出する工程と、
を有することを特徴とする。
前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された参照光とを用い、前記被測定対象の断層画像を撮像する光断層画像撮像装置が、前記測定光の光束径を調整する光束径調整手段を備える。
前記戻り光を分割する分割部で分割された第1と第2の戻り光のうち、第1の戻り光による強度を、第1の検出手段によって検出し、
前記検出された光の強度に基づいて、前記測定光を前記被検査物に集光させる集光手段の位置を調整する。
前記戻り光の分割手段で分割された前記第2の戻り光と前記参照ミラーによって反射された前記参照光の反射光とが合成された合成光による強度を、第2の検出手段によって検出し、
前記検出された光の強度に基づいて、前記参照光の光路長を光路長調整手段によって調整する。
前記検出された光の強度に基づいて前記測定光を前記被検査物に集光させる集光手段の位置を調整する。
前記検出された光の強度に基づいて前記参照光の光路長を光路長調整手段によって調整する。
別の本実施形態に係る光干渉断層情報取得装置について、図7を用いて説明する。
ここで、個々の被検眼が有する光学特性(主に乱視などの収差)によって、高コントラストな断層画像の取得に時間を要するという問題がある。この問題を解決するために、更に以下の構成を有することが望ましい。ただし、本発明はこれらに限定されない。
実施例1に係るOCT装置(あるいは光干渉断層情報取得装置)について説明する。
但し、本発明はこのようなTD−OCTに限定されるものではなく、FD−OCT(Fourier Domain OCT)にも適用することができることは言うまでもない。
図1に、本実施例におけるOCT装置の光学系全体の概略構成について説明する図を示す。
すなわち、光源101、ビームスプリッタ103−1から103−3、シングルモードファイバー110−1から110−4である。また、レンズ111−1から111−4及び120−1から120−2、ミラー114−1から114−5、分散補償用ガラス115−1から115−3、音響光学変調素子116−1と116−2及び該音響光学変調素子のコントローラ116−3である。さらに、電動ステージ117−1と117−2、XYスキャナ119、バランスドディテクター122、アンプ123、フィルター124、パソコン125、可変ビームエキスパンダー136、ディテクター138である。
さらに、126は角膜、127は網膜を示している。
ここで、115−1〜115−2は分散補償用ガラスである。分散補償用ガラス115−1の長さはL1であり、一般的な眼の奥行きの長さ(直径)の2倍と等しいことが望ましい。
ここでは、日本人の平均的な眼球の直径とされる23mmの2倍のL1=46mmとする。さらに、117−1は電動ステージであり、矢印で図示している方向に移動することができ、参照光105の光路長を、調整・制御することができる。
ここで、分散補償ガラス115−3は音響光学変調素子116−1、116−2の分散を補償するものである。
ここで、可変ビームエキスパンダー136は、例えば、図5に示すような屈折力が正のレンズ(例えば、凸レンズ)と屈折力が負のレンズ(例えば、凹レンズ)を含み構成される。なお、屈折力とは、レンズの焦点距離の逆数で定義される物理量である。
ここでは、簡単のため、XYスキャナ119は一つのミラーとして記したが、実際にはXスキャン用ミラーとYスキャン用ミラーとの2枚のミラーが近接して配置され、網膜127上を光軸に垂直な方向にラスタースキャンするものである。また、測定光106の中心はXYスキャナ119のミラーの回転中心と一致するように調整されている。
ここで、レンズ120−2は、電動ステージ117−2を用いて、位置を調整することで、各被険者の眼107が屈折異常を有していても、測定光106を網膜127に集光し、OCT装置100が断層画像を取得することが可能になる。
ここでは、測定光106が網膜127に集光する位置を調整する位置を調整するために、レンズ120−2を用いたが、レンズの代わりに球面ミラーを用いることもできる。また、眼107自体が移動することによっても達成できる。
ここで、参照光105と戻り光108−2とはビームスプリッタ103−2の後方で合波されるように調整される。
ここでは、上記説明したように参照光105は周波数1MHzのシフトを受けている。
そのため、上記得られる電圧信号は1MHzのビート信号となり、戻り光108−2は通常微弱であるが、参照光105は大きいので、検出感度を増大させることができる。
ここでは、図2(b)に示すように、該光束径がΦ1mmなので、合焦範囲137は2mm程度となっている。
ここでは、図3を用いて網膜127の断層画像(光軸に平行な面)の取得方法について説明する。
ここでは、光源101のバンド幅が広く、コヒーレンス長が短いために、参照光路の光路長と測定光路の光路長とが略等しい場合のみに、バランスドディテクター122にて、干渉信号が検出できる。
実施例2においては、実施例1で示した光路のいずれかを光ファイバーによって構成した構成例について説明する。
図4には、図1に示した実施例1の構成と同一または対応する構成には同一の符号が付されているから、重複する構成についての説明は省略する。
図4において、200はOCT装置である。OCT装置200は、シングルモードファイバー130−1から130−10、光カプラー131−1から131−3などによって構成されている。
光ファイバーを用いていることを除けば、実施例1と基本的構成において差異のない構成を備えている。
図4において、測定光106は観察対象である眼107によって反射や散乱により戻り光108−2となって戻された後、光カプラー131−2によって、参照光105と合波される。
参照光105と戻り光108−2とは合波されるとともに、分割され、バランスドディテクター122に入射される。
バランスドディテクター122にて得られた光強度を用いて、眼107の断層画像が構成される。
光源101自体は実施例1と同様である。光源101から出射された光はシングルモードファイバー130−1を通して、光カプラー131−1に導かれ、強度比90:10で分割され、それぞれ測定光106、参照光105となる。
参照光105は光カプラー131−1にて分割された後、シングルモードファイバー130−2を通して、レンズ135−1に導かれ、ビーム径4mmの平行光になるよう、調整される。
電動ステージ117−1及びそれに付帯するミラー114−1、114−2、分散補償用ガラス115−1は実施例1と同様なので説明は省略する。
参照光105は分散補償用ガラス115−2を通った後、レンズ135−2を用いてシングルモードファイバー130−6に導かれる。
ここで音響光学変調素子133−1は光ファイバー用のものであり、コントローラ133−2を用いて、1MHzの周波数シフトを行うことができる。
従って、ここで得られる参照光105は実施例1と同様である。
光カプラー131−1によって分割された測定光106はシングルモードファイバー130−3を通って光カプラー131−3に入射される。
その後、シングルモードファイバー130−4を通って、レンズ135−3に導かれ、ビーム径4mmの平行光になるよう、調整される。
ここでは、測定光106が分散補償ガラス115−3を往復するため、分散補償ガラス115−3の厚さは音響光学変調素子133−1のガラスの半分の厚みになっている。
測定光106が眼107に入射すると、網膜127からの反射や散乱により戻り光108となる。
OCT装置200はマッハツェンダー干渉系による干渉信号の強度から構成される断層画像(OCT像)を取得することができる。
その測定系について説明する。網膜127にて反射や散乱された光である戻り光108の一方である戻り光108−2は、光カプラー131−2によって、参照光105と合波され、さらに50:50に分割される。
参照光105と戻り光108−2とが合波された光の強度が電圧に変換される。得られた電圧信号はアンプ123にて増幅され、フィルター124にて必要な周波数成分を取り出し、パソコン125にて復調及びデータ処理を行い断層画像を形成する。
OCT装置200は、2つの電動ステージ117−1、117−2とXYスキャナ119とを制御することで、網膜127の所望の部位の断層画像を取得することができる。
断層画像の取得方法の詳細は、実施例1と同様であるため、説明を省略する。
本実施例は、実施例1あるいは2に係るOCT装置の構成において、実施例1あるいは2に係る断層画像を取得する前の調整方法を行った後、断層画像を撮像している時に光束径を調整して測定するものである。これにより、個々の被検眼が有する光学特性(主に乱視などの収差)によらず、高コントラストな断層画像を取得することができる。
実施例4においては、実施例3と比較して光束径のみならず光束形状および被検眼の瞳上を通過する位置も調整して測定するものである。
OCT装置の構成、及び取得前の調整方法については実施例1、2および3と同様であるので、その説明は省略する。
12 被検査物
13 測定光
14 参照部
15 参照光
16 戻り光
17 合成光
18 合成光検出部
19 戻り光検出部
20 光学部(レンズ)
21 光束径可変部(可変ビームエキスパンダー)
22 調整部
23 分割・合成部
24 光学系の光軸方向
25 第1のビーム径
26 第2のビーム径
Claims (27)
- 測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、該被検査物の断層画像を取得する撮像装置であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光を検出する第1の検出手段と、
前記第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する調整手段と、
前記第1の光束径から該第1の光束径より大きい第2の光束径に変更する光束径変更手段と、
前記第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光と前記参照光とを合波した光を検出する第2の検出手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 前記調整手段が前記合焦位置を調整した後に、前記光束径変更手段が前記第1の光束径から前記第2の光束径に変更することを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。
- 前記光束径変更手段は、前記第2の戻り光の強度が所定値以上になるように、前記第2の光束径から該第2の光束径より小さい第3の光束径に変更することを特徴とする請求項1あるいは2に記載の撮像装置。
- 前記戻り光を前記第1の検出手段の光路と前記第2の検出手段の光路とに分割する戻り光分割手段を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像装置であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する調整手段と、
前記調整手段が前記合焦位置を調整した後に、前記第1の光束径より大きい第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光を検出する検出手段と、
を有することを特徴とする撮像装置。 - 前記調整手段が、前記合焦位置を調整した後に、前記第2の戻り光に基づいて前記被検査物における前記第2の光束径の測定光の合焦位置を調整することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記調整手段が前記合焦位置を調整した後に、前記第1の戻り光に基づいて、前記測定光の光路長と該測定光に対応する参照光の光路長との差を調整する光路長調整手段と、
前記光路長調整手段が前記差を調整した後に、前記第2の戻り光と前記参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する断層画像取得手段と、
を有することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記光路長調整手段が、前記第1の戻り光に基づいて前記差を調整した後に、前記第2の戻り光に基づいて前記差を調整することを特徴とする請求項7に記載の撮像装置。
- 前記測定光の光路に設けられ且つ該測定光を遮断可能な遮断手段と、
前記測定光を照射した前記遮断手段からの戻り光の強度が所定の条件を満たしている場合に、前記遮断手段を前記測定光の光路から外す制御手段と、
を有することを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記被検査物は、被検眼であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記被検眼の光学特性に基づいて、前記測定光の光束状態を変更する光束状態変更手段を有することを特徴とする請求項10に記載の撮像装置。
- 前記変更された光束状態の測定光を照射した前記被検眼からの戻り光と該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、該被検眼の断層画像を取得する断層画像取得手段を有することを特徴とする請求項11に記載の撮像装置。
- 前記光束状態変更手段は、前記測定光の光束径と、前記測定光の形状と、前記測定光の照射位置とのうち少なくとも一つを変更することを特徴とする請求項11あるいは12に記載の撮像装置。
- 前記光束状態変更手段は、複数のレンズを含み、
前記複数のレンズのいずれかのレンズに前記測定光を選択的に入射可能であることを特徴とする請求項11乃至13のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記光束状態変更手段は、前記測定光の光路に配置された円板と、該円板に設けられた複数の開口部とを備え、
前記円板を回転することで前記複数の開口部のいずれかの開口部に前記測定光を選択的に入射可能であることを特徴とする請求項11乃至14のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記戻り光の強度と前記測定光の光束径との関係を表示手段に表示させる表示制御手段を有することを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 測定光を照射した被検査物からの戻り光と、該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、該被検査物の断層画像を取得する撮像方法であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光を検出する工程と、
前記第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する工程と、
前記第1の光束径から該第1の光束径より大きい第2の光束径に変更する工程と、
前記第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光と前記参照光とを合波した光を検出する工程と、
を有することを特徴とする撮像方法。 - 前記合焦位置が調整された後に、前記光束径変更手段が前記第1の光束径から前記第2の光束径に変更することを特徴とする請求項17に記載の撮像方法。
- 測定光を照射した被検査物からの戻り光に基づいて、該被検査物の画像を取得する撮像方法であって、
第1の光束径の測定光に対応する第1の戻り光に基づいて、前記被検査物における前記第1の光束径の測定光の合焦位置を調整する工程と、
前記合焦位置が調整された後に、前記第1の光束径より大きい第2の光束径の測定光に対応する第2の戻り光を検出する工程と、
を有することを特徴とする撮像方法。 - 前記第2の戻り光に基づいて前記被検査物における前記第2の光束径の測定光の合焦位置を調整する工程を有することを特徴とする請求項17乃至19のいずれか1項に記載の撮像方法。
- 前記合焦位置が調整された後に、前記第1の戻り光に基づいて、前記測定光の光路長と該測定光に対応する参照光の光路長との差を調整する工程と、
前記差が調整された後に、前記第2の戻り光と前記参照光とを合波した光に基づいて、前記被検査物の断層画像を取得する工程と、
を有することを特徴とする請求項17乃至20のいずれか1項に記載の撮像方法。 - 前記第1の戻り光に基づいて前記差を調整した後に、前記第2の戻り光に基づいて前記差を調整する工程を有することを特徴とする請求項21に記載の撮像方法。
- 前記被検査物は、被検眼であることを特徴とする請求項17乃至22のいずれか1項に記載の撮像方法。
- 前記被検眼の光学特性に基づいて、前記測定光の光束状態を変更する工程を有することを特徴とする請求項23に記載の撮像方法。
- 前記変更された光束状態の測定光を照射した前記被検眼からの戻り光と該測定光に対応する参照光とを合波した光に基づいて、該被検眼の断層画像を取得する工程を有することを特徴とする請求項24に記載の撮像方法。
- 前記戻り光の強度と前記測定光の光束径との関係を表示手段に表示させる工程を有することを特徴とする請求項17乃至25のいずれか1項に記載の撮像方法。
- 請求項17乃至26のいずれか1項に記載の撮像方法の各工程をコンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
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