JP5223540B2 - ガスバリア性シート、ガスバリア性シートの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガスバリア性シート及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ハードコート性に優れ、ガスバリア性に優れるガスバリア性シート及びその製造方法に関する。

基材フィルム上に無機物や有機物の薄膜を形成して高いガスバリア性を発現させる試みは従来から行われている。

特許文献１には、可撓性基材の片面又は両面に、基材に近い側から重合成分としてアクリル系モノマー及び／又はアクリル系重合性プレポリマーのみを含むＵＶ硬化性樹脂の硬化物からなる厚さ０．１〜１０μｍのアクリル系樹脂層及び厚さ２０〜１００ｎｍの無機バリア層が順次積層した積層構造を設けたガスバリア性フィルムが紹介されている。

同文献によれば、上記の特定のＵＶ硬化性樹脂を用いて特定の厚さのＵＶ硬化樹脂層を可撓性基材上に直接形成し、さらにその上に特定の厚さの無機バリア層を積層した場合に、良好なガスバリア性を示しながら、その製造工程においてカールの発生がほとんど起こらないガスバリア性フィルムが得られるとのことである。そして、無機バリア層に用いるセラミック材料としては、ＳｉＯ_ｘ、ＡｌＯ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＮ_ｘ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙＣ_ｚ、ＳｉＮ_ｘＣ_ｙ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙ、ＡｌＮ_ｘ、ＡｌＯ_ｘＮ_ｙＣ_ｚ、及びＡｌＮ_ｘＣ_ｙ等が例示されている。

また、特許文献２には、樹脂成形体の少なくとも片面を所定の表面処理用組成物で処理した表面処理樹脂成形体が紹介されている。そして、上記表面処理用組成物は、形成される被膜に可撓性を付与するための有機化合物（Ａ）、この有機化合物（Ａ）中のアミノ基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物（Ｂ）、所定の有機金属化合物（Ｃ）、及び溶媒（Ｄ）を含有する。具体的には、有機化合物（Ａ）としてポリエチレンイミン、化合物（Ｂ）としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、化合物（Ｃ）としてテトラメトキシシラン、溶媒（Ｄ）としてメタノールが実施例１では用いられている。
特開２００５−３１３５６０号公報（請求項１、第００１２段落、第００３９段落） 特開平８−２９５８４８号公報（請求項１，７、第０００８段落、第００１１段落、第００１５段落、第００３０段落）

特許文献１においては、特定の厚さのアクリル系樹脂膜と、無機材料からなる特定の厚さのガスバリア膜とを組み合わせることにより、ガスバリア性シートのガスバリア性とカールの発生の抑制とを両立している。

しかしながら、同文献に記載のガスバリア性シートにおいては、多層の積層構造を作製することやアニール処理を行うこと等を目的として製造の後工程においてより厳しい条件で熱処理を行った場合に、アクリル系樹脂膜が加熱されて黄変しやすくなる。そして、アクリル系樹脂膜の黄変によってガスバリア性シートが着色することになるため、同文献に記載のガスバリア性シートは、より厳しい基準でみた場合に、耐熱性に課題を残すものとなっている。

また、特許文献２における、樹脂成形体の少なくとも片面を所定の表面処理用組成物で処理された表面処理樹脂成形体（以下、表面処理樹脂成形体を「ガスバリア性シート」という。）は、ガスバリア性、透明性、耐熱性、及びカールの発生の抑制に未だ課題を有するものであることが判明した。

すなわち、ガスバリア性シートの用途として、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等を考慮した場合、通常、水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）以下で、酸素透過率が０．１ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ・ａｔｍ（ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下の高いガスバリア性を有することが求められる。しかしながら、特許文献２の実施例に示されるとおり、特許文献２のガスバリア性シートではこうした高いガスバリア性を達成することができない。

また、ガスバリア性シートの用途として、有機ＥＬディスプレイ等を考慮した場合、ガスバリア性シートの透明性を高くすることが望まれる。しかしながら、特許文献２においては、形成される皮膜に可撓性を付与するために有機化合物（Ａ）を用いているため、皮膜中に有機官能基が多くなり可視光領域に光吸収を持ちやすくなる。その結果、ガスバリア性シートの透明性が低下しやすい。このため、透明性にも課題がある。

さらに、有機化合物（Ａ）により皮膜中に有機官能基が多く存在するために、温度負荷によってガスバリア性シートが着色しやすく、耐熱性にも課題がある。

加えて、ガスバリア性シートの用途として、有機ＥＬディスプレイ等を考慮した場合、作製工程上、高温下での保持におけるガスバリア性シートの変形（カール）を抑制することが望まれる。しかしながら、特許文献２においては、形成される皮膜に可撓性を付与するために有機化合物（Ａ）を用いているため、皮膜中に有機官能基が多くなって膜応力も強くなるので湾曲が発生しやすい傾向となる。このため、カール抑制の観点からも課題がある。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ガスバリア性に優れるガスバリア性シートを提供することにある。さらに、ハードコート性にも優れるガスバリア性シートを提供することにある。特に、有機ＥＬディスプレイ等の耐久試験として行われるヒートサイクル試験後においても、カールの発生が抑制され、ガスバリア性能も維持されるガスバリア性シートを提供することにある。

本発明者は、アンカー膜にポリシロキサン重合体を用い、このポリシロキサン重合体の構造を制御することにより、耐熱性が高く、透明性もすぐれ、所定の堅さを有するガスバリア性シートを得ることができることを見出した。ガスバリア性シートに適度の堅さを付与することができるので温度負荷があってもカールがしにくく、ハードコート性も良好にしやすくなる。そして、このアンカー膜の上に所定の組成の酸窒化珪素のガスバリア膜を設けることにより、アンカー膜とガスバリア膜との２層でガスバリア機能を確保することができるようになって、高いレベルのガスバリア性が達成できることを見出した。さらに、基材、アンカー膜、及びガスバリア膜がそれぞれ接して設けられた場合には、ガスバリア膜のＳｉとアンカー膜中のＳｉとの親和性が高くなり、かつ、Ｓｉ−Ｃ結合が基材との接着性を高めるために、基材、アンカー膜、及びガスバリア膜の接着性を高くすることができることを見出した。特に、有機ＥＬディスプレイに求められる高いガスバリア性を有し、有機ＥＬディスプレイの耐久試験として行われるヒートサイクル試験を経てもカールの発生が抑制されるとともにガスバリア性能も維持されるガスバリア性シートが得られることを見出した。

上記課題を解決するための本発明のガスバリア性シートは、基材と、該基材の一方の面の側に設けられたアンカー膜と、該アンカー膜の上に設けられたガスバリア膜と、を有するガスバリア性シートにおいて、前記アンカー膜が、シロキサン化合物と、重合時に該シロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａと、から構成されるポリシロキサン重合体を含有し、前記ガスバリア膜が、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜（ただし、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．１５〜１）であることを特徴とする。

この発明によれば、アンカー膜が、シロキサン化合物と、重合時にこのシロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａと、から構成されるポリシロキサン重合体を含有し、ガスバリア膜が、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜（ただし、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．１５〜１）であるので、ポリシロキサン重合体の構造を制御してアンカー膜の透明性、耐熱性、及び堅さを制御し、アンカー膜とガスバリア膜との２層でガスバリア性を確保することができ、さらに、基材、アンカー膜、及びガスバリア膜がそれぞれ接して設けられた場合には、アンカー膜中のＳｉとガスバリア膜中のＳｉとによりアンカー膜とガスバリア膜との相互作用が高まるとともに、アンカー膜中のＳｉ−Ｃ結合が基材との相互作用を良好にする。その結果、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ハードコート性に優れ、ガスバリア性に優れ、加えて接着性にも優れるガスバリア性シートを提供することができる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい態様においては、前記ポリシロキサン重合体が、７０ｍｏｌ％〜９９ｍｏｌ％の前記シロキサン化合物と、１ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％の前記化合物Ａと、で構成される。

この発明によれば、ポリシロキサン重合体が、７０ｍｏｌ％〜９９ｍｏｌ％のシロキサン化合物と、１ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％の化合物Ａと、で構成されるので、ポリシロキサン重合体の構造を制御してアンカー膜の透明性、耐熱性、及び堅さをより精密に調整することができるようになり、その結果、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ハードコート性に優れるガスバリア性シートをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、前記アンカー膜の消衰係数が０．００００１〜０．０１である。

この発明によれば、アンカー膜の消衰係数が０．００００１〜０．０１であるので、アンカー膜の透明性が確保しやすくなるので、その結果、透明性に優れるガスバリア性シートをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、前記ガスバリア膜の消衰係数が０．０００００１〜０．０１である。

この発明によれば、ガスバリア膜の消衰係数が０．０００００１〜０．０１であるので、ガスバリア膜の透明性が確保しやすくなるので、その結果、透明性に優れるガスバリア性シートをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、前記基材の他方の面の側にも前記アンカー膜を設け、該アンカー膜の上に前記ガスバリア膜を設ける。

この発明によれば、基材の他方の面の側にもアンカー膜（第２のアンカー膜）を設け、このアンカー膜の上にガスバリア膜（第２のガスバリア膜）を設けるので、基材の両面にアンカー膜及びガスバリア膜が設けられることになって、ガスバリア性や堅さをより高くすることができ、その結果、カールがしにくく、ハードコート性に優れ、ガスバリア性に優れるガスバリア性シートをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、前記ガスバリア膜の上に透明導電膜を有する。

この発明によれば、ガスバリア膜の上に透明導電膜を有するので、この透明導電膜を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シートに付与することができるので、透明導電膜を設けることにより、有機ＥＬディスプレイの生産性や寿命を向上させやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、前記ガスバリア性シートの少なくとも片面にハードコート膜を設ける。

この発明によれば、ガスバリア性シートの少なくとも片面にハードコート膜を設けるので、ガスバリア性シートがハードコート膜により保護されるようになり、その結果、傷が付きにくいガスバリア性シートをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、二次粒子の凝集により前記ガスバリア膜が形成され、前記二次粒子の粒径が３００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下である。

この発明によれば、二次粒子の凝集によりガスバリア膜が形成され、二次粒子の粒径が３００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であるので、隣接する二次粒子が十分に凝集するため、その結果、基材の柔軟性を保持しつつ、生産性を落とすことなくガスバリア性を確保することができる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、隣接する前記二次粒子間の距離が１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である。

この発明によれば、隣接する二次粒子間の距離が１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であるので、隣接する二次粒子同士の凝集が促されるため、その結果、基材の柔軟性をより保持しやすいガスバリア性シートを提供することができる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、水分を吸脱着することができ、水分を吸着した場合においても固体状態を維持できる材料Ｂで形成される吸湿膜をさらに設ける。

この発明によれば、水分を吸脱着することができ、水分を吸着した場合においても固体状態を維持できる材料Ｂで形成される吸湿膜をさらに設けるので、吸湿が可逆的な吸湿膜となり、その結果、本発明のガスバリア性シートに対して、使用前に加熱工程を施すことにより吸湿性能を最大限とすることが可能なガスバリア性シートを提供することができる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、前記材料Ｂがアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物である。

この発明によれば、材料Ｂがアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物であるので、良好な吸湿特性を有する材料Ｂを吸湿膜に用いることになり、その結果、吸湿特性の高い吸湿膜を有するガスバリア性シートを提供することができる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、前記吸湿膜の消衰係数が１×１０^−６〜１×１０^−３である。

この発明によれば、吸湿膜の消衰係数が１×１０^−６〜１×１０^−３であるので、吸湿膜の透明性が確保しやすくなるので、その結果、透明性に優れるガスバリア性シートをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの好ましい他の態様においては、放熱性ガスバリア膜をさらに設ける。

この発明によれば、放熱性ガスバリア膜をさらに設けるので、本発明のガスバリア性シートで封止する被封止物が発熱性のものである場合にもその放熱を良好に行うことができるようになり、その結果、ガスバリア性に優れるようになるのみならず放熱性にも優れるガスバリア性シートを提供しやすくなる。

上記課題を解決するための本発明のガスバリア性シートの製造方法は、シロキサン化合物と、重合時に該シロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａと、を重合させて得たポリシロキサン重合体を用いてアンカー膜を成膜するアンカー膜成膜工程と、ガスバリア膜を成膜するガスバリア膜成膜工程と、を有することを特徴とする。

この発明によれば、シロキサン化合物と、重合時にこのシロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａと、を重合させて得たポリシロキサン重合体を用いてアンカー膜を成膜するアンカー膜成膜工程と、ガスバリア膜を成膜するガスバリア膜成膜工程と、を有するので、本発明のガスバリア性シートを良好に製造することができ、その結果、ガスバリア性等の各種特性に優れるガスバリア性シートの製造方法を提供することができる。

本発明のガスバリア性シートによれば、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ガスバリア性に優れるガスバリア性シートを提供することができる。さらに、ハードコート性にも優れるガスバリア性シートを提供することができる。

本発明のガスバリア性シートの製造方法によれば、上記各種の特性に優れる本発明のガスバリア性シートを良好に製造することが可能なガスバリア性シートの製造方法を提供することができる。

次に、本発明の実施の形態について詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。

図１は本発明のガスバリア性シートの一例を示す模式的な断面図であり、図２は本発明のガスバリア性シートの他の一例を示す模式的な断面図であり、図３は本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図であり、図４は本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。そして、図６は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図であり、図７は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。図８は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。図９は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。図１０は、本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。

本発明のガスバリア性シート１は、図１に示すように、基材２と、基材２の一方の面１１の側に設けられたアンカー膜９Ａと、アンカー膜９Ａの上に設けられたガスバリア膜３Ａと、を有するガスバリア性シート１Ａの形態を有している。詳細は後述するが、ガスバリア性シート１Ａの形態を用いることにより、ポリシロキサン重合体の構造を制御してアンカー膜９Ａの透明性、耐熱性、及び堅さを制御し、アンカー膜９Ａとガスバリア膜３Ａとの２層でガスバリア性を確保することができるようになる。さらに、基材２、アンカー膜９Ａ、及びガスバリア膜３Ａがそれぞれ接して設けられているので、アンカー膜９Ａ中のＳｉとガスバリア膜３Ａ中のＳｉとによりアンカー膜９Ａとガスバリア膜３Ａとの相互作用が高まるとともに、アンカー膜９Ａ中のＳｉ−Ｃ結合が基材２との相互作用を良好にする。その結果、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ハードコート性に優れ、ガスバリア性に優れ、加えて接着性にも優れるガスバリア性シート１Ａを提供することができるようになる。

本発明のガスバリア性シート１は、図２に示すように、基材２と、基材２の一方の面１１の側に設けられたアンカー膜９Ａと、アンカー膜９Ａの上に設けられたガスバリア膜３Ａと、ガスバリア膜３Ａの上に設けられた透明導電膜４と、を有するガスバリア性シート１Ｂの形態を有することもできる。詳細は後述するが、これにより、透明導電膜４を有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｂに付与することができるので、透明導電膜４を設けることにより、有機ＥＬディスプレイの生産性や寿命を向上させやすくなる。

本発明のガスバリア性シート１は、図３に示すように、ガスバリア性シート１Ｃの少なくとも片面にハードコート膜５を設けた形態を有することもできる。より具体的には、ガスバリア性シート１Ｃは、基材２の一方の面１１の上にアンカー膜９Ａとガスバリア膜３Ａとをこの順に有し、基材２の他方の面１２、すなわち、基材２の両面のうちアンカー膜９Ａが形成された面との反対側の面にハードコート膜５が設けられている。詳細は後述するが、これにより、ガスバリア性シート１Ｃの少なくとも片面にハードコート膜５を設けるので、ガスバリア性シート１Ｃがハードコート膜５により保護されるようになり、その結果、傷が付きにくいガスバリア性シート１Ｃをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シート１は、図４に示すように、基材２の他方の面１２の側にもアンカー膜９Ｂ（第２のアンカー膜）を設け、アンカー膜９Ｂの上にガスバリア膜３Ｂ（第２のガスバリア膜）を設ける、ガスバリア性シート１Ｄの形態を有することもできる。基材２を挟むようにアンカー膜９Ａ，９Ｂ及びガスバリア膜３Ａ，３Ｂを設けるので、基材の両面にアンカー膜９Ａ，９Ｂ及びガスバリア膜３Ａ，３Ｂが設けられることになる。このため、ガスバリア性や堅さをより高くすることができ、その結果、カールがしにくく、ハードコート性に優れ、ガスバリア性に優れるガスバリア性シート１Ｄをより提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シート１は、図６に示すように、基材の他方の面１２の側にガスバリア膜３Ｃを設け、ガスバリア膜３Ｃの上に透明導電膜４を設ける、ガスバリア性シート１Ｅ形態を有することもできる。より具体的には、ガスバリア性シート１Ｅは、基材２の一方の面１１の側にアンカー膜９Ｂを設け、アンカー膜９Ｂの上にガスバリア膜３Ｂを設け、基材の他方の面１２の側にガスバリア膜３Ｃを設け、ガスバリア膜３Ｃの上に透明導電膜４を設けている。

本発明のガスバリア性シート１は、図７に示すように、ガスバリア性シート１Ｂの基材２の両面のうち、アンカー膜９Ａ、ガスバリア膜３Ａ、及び透明導電膜４が設けられていない方の面にガスバリア膜３Ｄを設ける、ガスバリア性シート１Ｆの形態を有することもできる。より具体的には、ガスバリア性シート１Ｆは、基材２の一方の面の側に、アンカー膜９Ａ、ガスバリア膜３Ａ、及び透明導電膜４をこの順に設け、基材２の他方の面にガスバリア膜３Ｄを設けている。

本発明のガスバリア性シート１は、図８に示すように、ガスバリア性シート１Ａにおいて、水分を吸脱着することができ、水分を吸着した場合においても固体状態を維持できる材料Ｂで形成される吸湿膜１３をさらに設けた、ガスバリア性シート１Ｇの形態を有することもできる。詳細は後述するが、これにより、吸湿が可逆的な吸湿膜１３となり、その結果、ガスバリア性シート１Ｇに対して、使用前に加熱工程を施すことにより吸湿性能を最大限とすることが可能なガスバリア性シート１Ｇを提供することができる。

本発明のガスバリア性シート１は、図９に示すように、ガスバリア性シート１Ｇにおいて、放熱性ガスバリア膜１４をさらに設けた、ガスバリア性シート１Ｈの形態を有することもできる。より具体的には、ガスバリア性シート１Ｈは、放熱性ガスバリア膜１４を、ガスバリア膜３Ａと吸湿膜１３との間に設けたものである。ガスバリア性シート１Ｈを用いることにより、ガスバリア性シート１Ｈで封止する被封止物が発熱性のものである場合に、放熱性ガスバリア膜１４を被封止物から近い位置に配置することが可能となる。詳細は後述するが、これにより、ガスバリア性シート１Ｈで封止する被封止物が発熱性のものである場合にもその放熱を良好に行うことができるようになり、その結果、ガスバリア性に優れるようになるのみならず放熱性にも優れるガスバリア性シート１Ｈを提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シート１は、図１０に示すように、ガスバリア性シート１Ｇにおいて、放熱性ガスバリア膜１４をさらに設けた、ガスバリア性シート１Ｉの形態を有することもできる。より具体的には、ガスバリア性シート１Ｉは、放熱性ガスバリア膜１４を、基材２とアンカー膜９Ａとの間に設けたものである。詳細は後述するが、これにより、ガスバリア性シート１Ｉで封止する被封止物が発熱性のものである場合にもその放熱を良好に行うことができるようになり、その結果、ガスバリア性に優れるようになるのみならず放熱性にも優れるガスバリア性シート１Ｉを提供しやすくなる。

本発明のガスバリア性シートの層構成は上記説明した内容に限られるものではない。例えば、ハードコート膜の代わりにガスバリア膜を形成してもよい。また、基材及びアンカー膜、アンカー膜及びガスバリア膜は、必ずしも接触させる必要はなく、場合によっては、基材とアンカー膜との間（例えば、図１０のガスバリア性シート１Ｉを参照）、アンカー膜とガスバリア膜との間に他の膜を適宜挿入してもよい。さらに、各膜の積層の順番も本発明の要旨の範囲内において適宜変更可能である。こうした膜の積層に関するバリエーションは、本発明の要旨の範囲内において適宜行うことができる。

（基材）
基材２としては、各種の基材を用いることができ、主にはシート状やフィルム状、巻き取りロール状のものが用いられるが、具体的な用途や目的等に応じて、非フレキシブル基板やフレキシブル基板を用いることができる。例えば、ガラス基板、硬質樹脂基板、ウエハ、プリント基板、様々なカード、樹脂シート等の非フレキシブル基板を用いてもよいし、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、ポリシルセスキオキサン、ポリノルボルネン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、非晶質シクロポリオレフィン、セルローストリアセテート等のフレキシブル基板を用いてもよい。基材２が樹脂製である場合、用いる樹脂としては上記例示した樹脂を適宜混合して用いてもよい。また、基材２が樹脂製である場合、好ましくは１００℃以上、特に好ましくは１５０℃以上の耐熱性を有するものが適当である。

こうした樹脂製の基材２としては、具体的には、非晶質シクロポリオレフィン樹脂フィルム（例えば、日本ゼオン株式会社のゼオネックス（登録商標）やゼオノア（登録商標）、ＪＳＲ株式会社のＡＲＴＯＮ等）、ポリカーボネートフィルム（例えば、帝人化成株式会社のピュアエース等）、ポリエチレンテレフタレートフィルム（例えば、帝人化成株式会社製のもの等）、セルローストリアセテートフィルム（例えば、コニカミノルタオプト株式会社のコニカタックＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＸ等）、ポリエチレンナフタレートフィルム（例えば、帝人デュポンフィルム株式会社のテオネックス（登録商標）等）の市販品を挙げることができる。

基材２の厚さは、可撓性及び形態保持性の観点から、通常１０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、また、通常２００μｍ以下、好ましくは１５０μｍ以下とする。

基材２を、透明性が必要とされる有機ＥＬディスプレイ等の発光素子の基板として用いる場合には、基材２は無色透明であることが好ましい。基材２とともにガスバリア膜３等の他の膜を無色透明とすることにより、ガスバリア性シート１を透明とすることが可能となる。より具体的には、例えば４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内での基材２の平均光透過度が８０％以上の透明性を有するように構成することが好ましい。こうした光透過度は基材２の材質と厚さに影響されるので両者を考慮して構成される。

基材２の表面は、平滑であることが好ましい。具体的には、基材２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、通常０．３ｎｍ以上とする。この範囲とすれば、基材２に適度な表面粗さを付与することができ、基材２を巻き取りロールとした際に互いに接触する基材２同士の接触面に滑りが生じにくくなる。また、基材２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、通常１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下とする。この範囲とすれば、基材２の平滑性が向上し、有機ＥＬディスプレイ等の表示素子を作製する際に発生することのある短絡を抑制できる利点が発揮されやすくなる。なお、算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−２００１（ＩＳＯ４２８７−１９９７準拠）に従って測定すればよい。

基材２は、熱に対して変形しにくいことが好ましい。ガスバリア性シート１が有機ＥＬディスプレイに適用される場合には、ヒートサイクル試験のような加熱・冷却のストレスに対してもガスバリア性シート１が変形しないことが求められるからである。具体的には、基材２の線膨張係数は、通常５ｐｐｍ／℃以上、また、通常８０ｐｐｍ／℃以下、好ましくは５０ｐｐｍ／℃以下とする。線膨張係数の測定は、従来公知の方法を用いて行えばよく、例えばＴＭＡ法（熱機械分析法）を挙げることができる。ＴＭＡ法に用いる測定装置としては、例えば、示差膨張方式熱機械分析装置であるリガク 製 ＣＮ８０９８Ｆ１を用いることができる。

基材２として樹脂製のものを用いる場合には、その製造方法も従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。また、樹脂製の基材２を用いる場合には、延伸フィルムを用いてもよい。延伸の方法も従来公知の一般的な方法を用いればよい。延伸倍率は、基材２の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍とすることが好ましい。

基材２の表面は、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、加熱処理、薬品処理、ＵＶ照射処理、大気圧プラズマ処理、易接着化処理等の表面処理を行ってもよい。こうした表面処理の具体的な方法は従来公知のものを適宜用いることができる。

（アンカー膜）
アンカー膜９は、シロキサン化合物と、重合時にこのシロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａと、から構成されるポリシロキサン重合体を含有する。より具体的には、ポリシロキサン重合体は、シロキサン化合物と化合物Ａとを重合させることによって得られるものである。これにより、ポリシロキサン重合体の構造を制御してアンカー膜９の透明性、耐熱性、及び堅さを制御することができ、その結果、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ハードコート性に優れるガスバリア性シート１を提供することができる。より具体的には、シロキサン化合物の重合度や架橋度を化合物Ａによって制御したポリシロキサン重合体を得ることができる。このため、ポリシロキサン重合体が有するＳｉ−Ｏ結合の比率を調整してアンカー膜９の透明性、耐熱性、及び堅さを制御することができる。シロキサン化合物と化合物Ａとの重合は、シロキサン化合物が水酸基を有する場合には、この水酸基を化合物Ａの官能基とを反応させることによって行われる。シロキサン化合物が水酸基を有するものでない場合には、シロキサン化合物をアルコール溶液等中に存在させることで置換基交換を行い、シロキサン化合物に形成される水酸基を利用する。このように、少なくとも重合時にはシロキサン化合物は水酸基を有することとなるので、この水酸基を化合物Ａの官能基と反応させて重合を進行させればよい。すなわち、「シロキサン化合物が有する水酸基」とは、シロキサン化合物が元々有する水酸基か、又は重合時にシロキサン化合物に形成される水酸基のことと考えればよい。

アンカー膜９においては、さらに、アンカー膜９中のＳｉ−Ｃ結合が基材２との相互作用を良好にする。特に基材２に樹脂を用いる場合に、基材２とアンカー膜９とを接して設けることにより、これら樹脂とアンカー膜９中のＳｉ−Ｃ結合との親和性が高くなる。より具体的には、基材２にポリエステル樹脂を用いる場合に、ポリエステル樹脂のＣ−Ｃ結合とアンカー膜９中のＳｉ−Ｃ結合との相互作用が特に高くなる。その結果、接着性に優れるガスバリア性シート１を提供することができる。

シロキサン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類、またこれらの錯体化合物、メチルトリアセトキシシラン、トリメチルシラノール等、またはこれらの化合物を含む高分子有機化合物類が挙げられる。

上記のシロキサン化合物のうち、重合の際の反応性を制御する観点から、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、及びテトラブトキシシランの少なくとも１つを用いるのが好ましく、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシランの少なくとも１つを用いるのがより好ましい。

重合時にシロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａは、上記シロキサン化合物の重合度を制御するために用いられるものである。化合物Ａを用いることにより、アンカー膜９の透明性を確保しつつ、アンカー膜９の堅さを制御することができるので、アンカー膜９ひいてはガスバリア性シート１のカール発生が抑制されやすくなる。また、ガスバリア性シート１へのハードコート性を確保しやすくなる。

こうした化合物Ａとしては、重合時にシロキサン化合物中の水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物であれば特に限定されない。こうした官能基としては、例えば、エポキシ基、カルボキシル基、イソシアネート基、オキサゾリニル基、これら官能基から誘導される基等を挙げることができる。

化合物Ａとしては、例えば、蟻酸メチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、酪酸メチル、吉草酸メチル、蓚酸ジメチル、マロン酸ジメチル、琥珀酸ジメチル、蟻酸エチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、吉草酸エチル、蓚酸ジエチル、マロン酸ジエチル、及び琥珀酸ジエチル等を挙げることができる。これら化合物Ａのうち、ポリシロキサン重合体を含有する塗布液を用いてアンカー膜９を形成する方法を用いる場合に、反応進行に伴って発生する塗布液の塗布性の不良を抑制する観点から、蟻酸メチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、マロン酸ジメチル、及び蓚酸ジメチルの少なくとも１つを用いるのが好ましく、蟻酸メチル、酢酸メチル、マロン酸ジメチル、及び蓚酸ジメチルの少なくとも１つを用いるのがより好ましい。

ポリシロキサン重合体は、シロキサン化合物と化合物Ａとの重合比を制御することにより、所望の透明性、耐熱性、堅さを得やすくなる。より具体的には、ポリシロキサン重合体が、７０ｍｏｌ％〜９９ｍｏｌ％のシロキサン化合物と、１ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％の化合物Ａと、で構成されることが好ましい。これにより、ポリシロキサン重合体の構造を制御してアンカー膜９の透明性、耐熱性、及び堅さをより精密に調整することができるようになり、その結果、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ハードコート性に優れるガスバリア性シート１をより提供しやすくなる。特に、アンカー膜９の堅さを制御することにより、カールしにくく、ハードコート性に優れるガスバリア性シート１を得やすくなる。

シロキサン化合物の重合比は、通常５０ｍｏｌ％以上とするが、好ましくは上述のとおり７０ｍｏｌ％以上とし、ガスバリア膜３との密着性を向上させる観点から、より好ましくは７５ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは８０ｍｏｌ％以上とする。一方、シロキサン化合物の重合比は、上述のとおり９９ｍｏｌ％以下とすることが好ましいが、膜応力を低減する観点から、より好ましくは９５ｍｏｌ％以下、さらに好ましくは９０ｍｏｌ％以下とする。

化合物Ａの重合比は、上述のとおり１ｍｏｌ％以上とすることが好ましいが、反応性を上げる観点から、より好ましくは５ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは１０ｍｏｌ％以上とする。一方、化合物Ａの重合比は、通常５０ｍｏｌ％以下とするが、好ましくは上述のとおり３０ｍｏｌ％以下とし、ポリシロキサン重合体を含有する塗布液を用いてアンカー膜９を形成する方法を用いる場合に、塗布液の保存性能を維持する観点から、より好ましくは２５ｍｏｌ％以下、さらに好ましくは２０ｍｏｌ％以下とする。

アンカー膜９には、ポリシロキサン重合体以外の材料を適宜含有させてもよい。例えば、ポリシロキサン重合体を含有する塗布液を用いてアンカー膜９を形成する方法を用いる場合に、この塗布液の分散性を向上・確保する観点から、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ポリビニルアルコール、及びポリエチレングリコール等の界面活性剤をさらに含有させてもよい。ポリシロキサン重合体以外の材料を含有させる場合には、その含有量は、通常、３重量％以上、１５重量％以下とする。

アンカー膜９の消衰係数は、０．００００１以上、０．０１以下とすることが好ましい。消衰係数は、より好ましくは０．００００５以上、さらに好ましくは０．０００１以上、また、より好ましくは０．００５以下、さらに好ましくは０．００３以下とする。消衰係数を上記範囲とすることにより、アンカー膜９の透明性を確保しやすくなるので、その結果、透明性の高いガスバリア性シート１を得やすくなる。

アンカー膜９における消衰係数の測定は、従来公知の方法を用いることができ、例えば、エリプソメーターを用いることができる。本発明においては、消衰係数をＪＯＢＩＮ ＹＶＯＮ社製のＵＶＩＳＥＬＴＭにより測定している。そして、測定は、キセノンランプを光源とし、入射角度を−６０°、検出角度を６０°、測定範囲を１．５ｅＶ〜５．０ｅＶの条件で行っている。

アンカー膜９の厚さは、通常０．１μｍ以上、好ましくは０．３μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上とする。アンカー膜９の厚さを上記範囲とすれば、アンカー膜９の厚さを十分に確保してガスバリア性シート１を硬くすることによりハードコート性を確保しやすくなる。また、アンカー膜９の厚さは、通常１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下、より好ましくは３μｍ以下とする。アンカー膜９の厚さを上記範囲とすれば、ハードコート性を確保しつつも所定の柔軟性をガスバリア性シート１に付与しやすくなる。

アンカー膜９の形成方法は、適宜選択することができる。こうした方法としては、例えば、ポリシロキサン重合体等を含有する塗布液を基材２上に塗布した後、これを乾燥させることにより得る方法を挙げることができる。

ポリシロキサン重合体の塗布液は、通常、適当な溶媒を調整して、その溶媒中にシロキサン化合物と化合物Ａと所定の割合で投入しポリシロキサン重合体を重合し、さらに必要に応じてポリシロキサン重合体以外の材料を添加することによって得ることができる。溶媒は１種類であってもよいし、２種類以上の混合溶媒であってもよい。混合溶媒を用いる場合には、主溶媒として、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及びｔ−ブタノール等を用いることができる。そして、塗布面の均一性を上げる観点から、副溶媒として、例えば、蟻酸等の低沸点溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、及びジメチルスルホキシド等の高沸点溶媒を１種類以上用いることができる。混合溶媒における主溶媒の含有量は、通常６０重量％以上、９０重量％以下とする。但し、基材２の表面形状及び親疎水性によって、溶媒の配合は調整される。例えば、接触角が高角度である撥水性の基材２に対しては、疎水基を多く有するエーテル及び飽和炭化水素を主溶媒とする場合もある。

シロキサン化合物と化合物Ａとを重合する際には、シロキサン化合物及び化合物Ａの投入比率、投入方法、温度、雰囲気等を適宜制御すればよい。具体的には、投入比率は、シロキサン化合物及び化合物Ａにおいて、上述した所望の重合比を考慮して適宜制御すればよい。また投入方法は、ポリシロキサン重合体をスムースに重合するために、シロキサン化合物及び化合物Ａを一度に投入せずに、投入量を制御して徐々に投入することが好ましい。さらに温度も、通常−２０℃以上、６０℃以下とすればよい。そして、重合の際の雰囲気は、酸化等を防止するために不活性雰囲気下で行うことが好ましい。不活性雰囲気としては、例えば、アルゴン雰囲気や窒素雰囲気を挙げることができる。このほか、所望のポリシロキサン重合体を得るために従来公知の制御を適宜行ってもよい。

また、ポリシロキサン重合体を重合した後に、アンカー膜９の厚さを制御する観点から、追加で溶媒を添加して固形分濃度を調整してもよい。このときの溶媒の少なくとも一部は重合時と同様の溶媒を用いることが好ましく、例えば混合溶媒を用いた場合には主溶媒と同様の溶媒を少なくとも用いることが好ましい。

こうして得たポリシロキサン重合体の塗布液を、例えば、スクリーン印刷法、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法、スピンコート法、及びダイコート法等を用いて基材２上に塗布し、乾燥させることによりアンカー膜９を得ることができる。上記塗布方法のうち、工業生産性や厚さ制御の容易性から、ダイコート法を用いることが好ましい。また、乾燥は、用いる溶媒の沸点を考慮して乾燥温度・時間の制御を適宜行えばよい。

得られたアンカー膜９が所望のポリシロキサン重合体を含有しているか否かは、従来公知の分析法を用いて分析することができる。こうした分析法としては、例えば、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分析装置）法を挙げることができる。本発明においては、ＸＰＳの測定は、ＸＰＳ（ＶＧ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製ＥＳＣＡ ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ装置）により測定している。Ｘ線源としては、Ａｇ−３ｄ−５／２ピーク強度が３００Ｋｃｐｓ〜１ＭｃｐｓとなるＸ線源であるＭｇＫα線を用い、直径約１ｍｍのスリットを使用している。測定は、測定に供した試料面の法線上に検出器をセットした状態で行い、適正な帯電補正を行っている。測定後の解析は、上述のＸＰＳ装置に付属されたソフトウエアＥｃｌｉｐｓｅバージョン２．１を使用し、Ｓｉ：２ｐ、Ｃ：１ｓのバインディングエネルギーに相当するピークを用いて行っている。このとき、Ｃ：１ｓのピークのうち、炭化水素に該当するピークを基準として、各ピークシフトを修正し、ピークの結合状態を帰属させる。そして、炭化水素ピーク位置の他にみられるカルボニル結合等のピークを化合物Ａ、Ｓｉのピークをシロキサン化合物とし、各ピークに対して、シャーリーのバックグラウンド除去を行い、ピーク面積に各元素の感度係数補正（Ｃ＝１．０に対して、Ｓｉ＝０．８７）を行い、原子数比を求めている。また、ポリシロキサン重合体におけるシロキサン化合物と化合物Ａとの重合比は、上記測定方法を用いた組成分析におけるＳｉの原子数比とカルボニル結合等の原子数比とから見積もることができる。

（ガスバリア膜）
ガスバリア膜３においては、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜（ただし、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．１５〜１）を用いる。

上記のガスバリア膜３を用いることにより、単位厚さあたりのＳｉ−Ｎ結合の量を増やすことができるとともにガスバリア膜３の密度も高くしてガスバリア膜３のガスバリア性を高くしやすくするとともに、所定量の酸素の導入により膜応力を低減させることでカールも発生しにくくなる。特に、有機ＥＬディスプレイ等の耐久試験として行われるヒートサイクル試験後においても、カールの発生が抑制され、ガスバリア性能も維持されるガスバリア性シート１を提供することができる。

さらに、ガスバリア性シート１においては、アンカー膜９とガスバリア膜３との２層でガスバリア性を確保することができる。その結果、ガスバリア性に特に優れるガスバリア性シート１を提供することができる。さらに、ガスバリア膜３とアンカー膜９とを接して設ける場合には、ガスバリア膜３を上記酸窒化珪素膜とすることにより、ガスバリア膜３及びアンカー膜９のいずれにもＳｉが存在することになり、ガスバリア膜３とアンカー膜９との相互作用が高まる。その結果、接着性に優れるガスバリア性シート１を提供することができる。

ガスバリア膜３としては、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜（ただし、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．１５〜１）を用いる。ガスバリアを目的として従来用いられていたＳｉＮ_ａＯ_ｂ膜は、ａ＝０．５、ｂ＝１．５又はａ＝１．４、ｂ＝０．１のものであったが、本願発明においては、上記所定のＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜とすることにより、ガスバリア性に寄与するＳｉ−Ｎ結合の量を確保するとともに、ガスバリア膜３に柔軟性を付与するための適当な酸素量を確保することができるので、ガスバリア性を高くして、カール発生を抑制しやすくなる。

ガスバリア膜３のＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜におけるｘは、０．５以上、好ましくは０．７以上、また、１．５以下、好ましくは１．３以下、とする。上記範囲とすれば、ガスバリア膜３中のＳｉ−Ｎ結合の量を確保して、ガスバリア膜３のガスバリア性を向上させやすくなる。一方、ｙは、０．１５以上、好ましくは０．２５以上、より好ましくは０．３以上、また、１以下、好ましくは０．７以下、とする。上記範囲とすれば、ガスバリア膜３中の酸素の含有量を確保して、ガスバリア膜３に柔軟性を付与しやすくなる。なお、本発明の要旨の範囲内であれば、ガスバリア膜３は、不純物や添加剤としてＳｉ、Ｎ、Ｏ以外の元素や物質を含有してもよい。

ガスバリア膜３が、所定のＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜となっているか否かは、例えば、Ｓｉ、Ｎ、Ｏの原子数比を求めることにより確認することができる。こうした原子数比を求める方法としては、従来公知の方法を用いることができ、例えば、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分析装置）等の分析装置で得られた結果で評価できる。本発明においては、ＸＰＳの測定は、ＸＰＳ（ＶＧ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製ＥＳＣＡ ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ）により測定している。Ｘ線源としては、Ａｇ−３ｄ−５／２ピーク強度が３００Ｋｃｐｓ〜１ＭｃｐｓとなるＸ線源であるＭｇＫα線を用い、直径約１ｍｍのスリットを使用している。測定は、測定に供した試料面の法線上に検出器をセットした状態で行い、適正な帯電補正を行っている。測定後の解析は、上述のＸＰＳ装置に付属されたソフトウエアＥｃｌｉｐｓｅバージョン２．１を使用し、Ｓｉ：２ｐ、Ｃ：１ｓ、Ｎ：１ｓ、Ｏ：１ｓのバインディングエネルギーに相当するピークを用いて行っている。このとき、Ｃ：１ｓのピークのうち、炭化水素に該当するピークを基準として、各ピークシフトを修正し、ピークの結合状態を帰属させる。そして、各ピークに対して、シャーリーのバックグラウンド除去を行い、ピーク面積に各元素の感度係数補正（Ｃ＝１．０に対して、Ｓｉ＝０．８７、Ｎ＝１．７７、Ｏ＝２．８５）を行い、原子数比を求めている。得られた原子数比について、Ｓｉ原子数を１とし、他の成分であるＮとＯの原子数を算出して成分割合としている。

ガスバリア膜３の厚さは、通常１０ｎｍ以上、好ましくは３０ｎｍ以上、また、通常２００ｎｍ以下、好ましくは１５０ｎｍ以下とする。ガスバリア膜３の厚さを上記範囲とすれば、ガスバリア膜３のガスバリア性を高くしつつ、カールの発生も抑制しやすくなる。

ガスバリア膜３を、透明性が必要とされる有機ＥＬディスプレイ等の発光素子のガスバリア膜として用いる場合には、ガスバリア膜３は透明であることが好ましい。ガスバリア膜３とともに基材２等の他の膜を透明とすることにより、ガスバリア性シート１を透明とすることが可能となる。より具体的には、例えば４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内でのガスバリア膜３の平均光透過度が７５％以上の透明性を有するように構成することが好ましい。こうした光透過度はガスバリア膜３の組成や厚さに影響されるので両者を考慮して構成される。

ガスバリア膜３の透明性を確保するために、ガスバリア膜３の消衰係数を、０．０００００１以上、０．０１以下とすることが好ましい。消衰係数は、より好ましくは０．０００００５以上、さらに好ましくは０．００００１以上、また、より好ましくは０．００５以下とする。消衰係数を上記範囲とすることにより、ガスバリア膜３の透明性を確保しやすくなるので、その結果、透明性の高いガスバリア性シート１を得やすくなる。

ガスバリア膜３における消衰係数の測定は、従来公知の方法を用いることができ、例えば、エリプソメーターを用いることができる。本発明においては、消衰係数をＪＯＢＩＮ ＹＶＯＮ社製のＵＶＩＳＥＬＴＭにより測定している。そして、測定は、キセノンランプを光源とし、入射角度を−６０°、検出角度を６０°、測定範囲を１．５ｅＶ〜５．０ｅＶの条件で行っている。

ガスバリア膜３は、二次粒子の凝集により形成され、この二次粒子の粒径が３００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが好ましい。これにより、隣接する二次粒子が十分に凝集するため、その結果、基材の柔軟性を保持しつつ、生産性を落とすことなくガスバリア性を確保することができる。なお、測定方法の詳細は後述するが、二次粒子の粒径は、ガスバリア膜３の表面を観察し、当該表面で観察される二次粒子の粒径を測定したものである。

ガスバリア膜３は、通常、二次粒子が凝集することによって形成される。ここで、ガスバリア性を究極的に向上させる観点からは、粒子同士の境界が観察されずガスバリア膜３が連続的に形成されている状態が理想的である。しかしながら、こうした状態を作り出すことは容易ではない。例えば、高温焼成が可能な基材２（例えばガラス）を用いて、基材２上に形成（成膜）されたガスバリア膜３を高温焼成した場合であっても、二次粒子同士の粒子界面を完全になくすことは難しいとともに、硬質な薄膜が形成され、柔軟性に欠け、亀裂が発生しやすくなる。但し、高温焼成をして得られるガスバリア膜３は、隣接する二次粒子同時の凝集がより進む結果、焼成前よりもガスバリア性が向上する。一方で、基材２としては、上述のとおり樹脂製等種々の材料を用いることが求められ、高温焼成に耐えうる程の耐熱性を有しないものを用いる場合もある。このため、成膜後のガスバリア膜３を高温焼成することは工業的には行いにくい。また、こうした焼成工程を新たに行うことは、生産効率の確保という点からも行いにくい。さらに、高温焼成によりガスバリア膜３の柔軟性が損なわれるのであれば、樹脂製の基材２を用いた場合に奏される特徴であるフレキシビリティが得にくくなる。そこで、ガスバリア膜３が成膜された状態で、柔軟性を損なうことなく高温焼成をしたガスバリア膜３が有する程度のガスバリア性を付与することが望まれる。

ガスバリア膜３の状態につき、本発明者が検討を重ねた結果、後述するイオンプレーティング法を用いてガスバリア膜の形成（成膜）を行えば、プラズマが熱の代わりとして作用して、成膜直後においても高温焼成と類似の反応性を得ることができるために、ガスバリア性を確保しやすくなることがわかった。よって、硬質な薄膜ではない柔軟性のあるガスバリア膜３が得られ、基材２の柔軟性を確保したまま、ガスバリア性に優れたガスバリア性シート１を得やすくなる。具体的には、イオンプレーティング法を用いることにより、二次粒子の凝集が起こり、二次粒子の粒径が３００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下となりやすく、柔軟性を損なうことなくガスバリア性がより確保されやすくなることがわかった。ガスバリア性をより確保する観点からは、二次粒子の粒径を、より好ましくは３３０ｎｍ以上、さらに好ましくは４００ｎｍ以上、また、より好ましくは１０００ｎｍ以下とする。

ガスバリア膜３の二次粒子径は、上述のとおり、イオンプレーティング法を用いることにより制御することができるが、この他、アンカー膜９の状態によっても制御することができる。具体的には、アンカー膜９上にガスバリア膜３を接して設けることにより、二次粒子径を上記粒径範囲に制御しやすくなる。

ガスバリア膜３においては、隣接する二次粒子間の距離が１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下であることが好ましい。これにより、隣接する二次粒子同士の凝集が促されるため、その結果、基材の柔軟性をより保持しやすいガスバリア性シート１を提供することができる。隣接する二次粒子間の距離は、隣接する二次粒子をそれぞれ円近似して得られた粒子の端部間の距離を測定することによって求めることができる。なお、測定方法の詳細は後述するが、二次粒子間の距離は、ガスバリア膜３の表面を観察し、当該表面で観察される隣接する二次粒子同士の端部間の距離を測定したものである。

ガスバリア膜３を構成する二次粒子径や、隣接する粒子間の距離の測定は、従来公知の方法を適宜用いればよく、例えば、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を用いて測定することができる。具体的には、セイコーインスツルメンツ社製のＮａｎｏｐｉｃｓ−１０００を用い、観察モードがコンタクトモード、スキャン範囲を４μｍ角、走査速度は９０秒／フレームの測定条件にて測定を行えばよい。続いて、パソコン等にインストールされた解析ソフト上で、任意の３０個の点をトラックボール操作で設定する。そして、その点に対して最小自乗法円近似を行い、その平均値を二次粒子径とする。また、隣接する粒子間の距離は、前述の円近似で算出した粒子の端部間の平均値を算出して求める。なお、トラックボールの代わりに、マウスやキーボード等の他の入力装置を適宜用いてもよい。

ガスバリア膜３の製造方法は特に制限はないが、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、Ｃａｔ−ＣＶＤ法やプラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマＣＶＤ法等を用いればよい。こうした製造方法は、成膜材料の種類、成膜のしやすさ、工程効率等を考慮して選択すればよい。こうした製造方法のいくつかにつき以下説明する。

真空蒸着法とは、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子線やイオンビーム等のビーム加熱等により、るつぼに入った材料を加熱、蒸発させて基材２に付着させ、ガスバリア膜３を得る方法である。その際、ガスバリア膜３の組成等により加熱温度、加熱方法を変化させることができ、成膜時に酸化反応等を起こさせる反応性蒸着法も使用できる。

スパッタリング法とは、真空チャンバー内にターゲットを設置し、高電圧をかけてイオン化した希ガス元素（通常はアルゴン）をターゲットに衝突させて、ターゲット表面の原子をはじき出し、アンカー膜９に付着させ、ガスバリア膜３を得る方法である。このとき、チャンバー内に窒素ガスや酸素ガスを流すことにより、ターゲットからはじき出された元素と、窒素や酸素とを反応させてガスバリア膜３を形成する、反応性スパッタリング法を用いてもよい。スパッタリング法としては、例えば、ＤＣ２極スパッタリング、ＲＦ２極スパッタリング、３極・４極スパッタリング、ＥＣＲスパッタリング、イオンビームスパッタリング、及びマグネトロンスパッタリング等を挙げることができるが、工業的にはマグネトロンスパッタリングを用いることが好ましい。

イオンプレーティング法とは、真空蒸着とプラズマの複合技術であり、原則としてガスプラズマを利用して、蒸発粒子の一部をイオンもしくは励起粒子とし、活性化して薄膜を形成する方法である。イオンプレーティング法においては、反応ガスのプラズマを利用して蒸発粒子と結合させ、化合物膜を合成させる反応性イオンプレーティングが有効である。プラズマ中の操作であるため、安定なプラズマを得るのが第１条件であり、低ガス圧の領域での弱電離プラズマによる低温プラズマを用いる場合が多い。このため、混合物や複合酸化物を形成する場合に好ましく用いられる。放電を起こす手段から、直流励起型と高周波励起型に大別されるが、ほかに蒸発機構にホローカソード、イオンビームを用いる場合もある。

プラズマＣＶＤ法とは、化学気相成長法の一種である。プラズマＣＶＤ法においては、プラズマ放電中に原料を気化して供給し、系内のガスを衝突により相互に活性化してラジカル化するため、熱的励起のみによっては不可能な低温下での反応が可能となる。基材２は背後からヒータによって加熱され、電極間の放電中での反応により膜が形成される。プラズマの発生に用いる周波数により、ＨＦ（数十〜数百ｋＨｚ）、ＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）、及びマイクロ波（２．４５ＧＨｚ）に分類される。マイクロ波を用いる場合は、反応ガスを励起し、アフターグロー中で成膜する方法と、ＥＣＲ条件を満たす磁場（８７５Ｇａｕｓｓ）中にマイクロ波導入するＥＣＲプラズマＣＶＤに大別される。また、プラズマ発生方法で分類すると、容量結合方式（平行平板型）と誘導結合方式（コイル方式）に分類される。

ガスバリア膜３は、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜（ただし、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．１５〜１）とされるが、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜の組成の制御は、上記紹介した製造方法を適宜用いつつ、製造条件を適宜変化させることにより行うことができる。

（透明導電膜）
透明導電膜４は、ガスバリア膜３上に設けられる。より具体的には、図２に示すように、ガスバリア性シート１Ｂにおいて、透明導電膜４がガスバリア膜３Ａの上に設けられている。透明導電膜４は、有機ＥＬディスプレイの陽極として利用する、又は放熱機能及び帯電防止機能をガスバリア性シート１Ｂに付与することができるので、透明導電膜４を設けることにより、有機ＥＬディスプレイの生産性や寿命を向上させることができる。

透明導電膜４は、有機ＥＬディスプレイに陽極がすでに設けられている場合には、帯電防止性能と放熱機能をガスバリア性シート１Ｂに付与する目的で設けられることもある。具体的には、ガスバリア性シート１Ｂで有機ＥＬディスプレイを内包（封止）する場合には、透明導電膜４により有機ＥＬディスプレイで発生するジュール熱を放熱させる、フィルム上で帯電する外部電荷を逃がすというような機能を付与することができる。例えば、有機ＥＬディスプレイの課題である発熱による素子劣化を抑制するために透明導電膜４を設けることができるのである。但し、透明導電膜４を用いて帯電防止機能や放熱機能を付与する場合、透明導電膜４は、有機ＥＬディスプレイの電極に接する場合がある。この場合、電極から電流がリークしないように、導電率を適切に制御することが好ましい。具体的には、透明導電膜４の表面抵抗値を１０^４Ω／□以上、１０^６Ω／□以下に制御することが好ましい。一方、接着剤の層等を間に介することにより透明導電膜４と有機ＥＬディスプレイの電極とが絶縁される場合には、導電率の制御の自由度が増す。具体的には、この場合、透明導電膜４の表面抵抗値を１０^４Ω／□以上、１０^１２Ω／□以下に制御することができる。また、熱伝導性確保の観点から、透明導電膜４の熱伝導率は、通常０．５Ｗ／ｍＫ以上、好ましくは１Ｗ／ｍＫ以上、また、通常１０Ｗ／ｍＫ以下、好ましくは８Ｗ／ｍＫ以下に制御される。

透明導電膜４の表面抵抗値は、従来公知の方法で測定することができ、本発明においては、表面抵抗値を、株式会社ダイアインスツルメンツ製の高抵抗率計であるハイレスタＵＰ（ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いて測定している。また、透明導電膜４の熱伝導率も、従来公知の方法で測定することができ、本発明においては、アルバック理工社製の定常法熱伝導率測定装置ＧＨシリーズを用いて測定を行っている。

透明導電膜４には導電性を付与することが好ましい。こうした観点から、透明導電膜４は、金属アルコキシド等の加水分解物、透明導電粒子と金属アルコキシド等の加水分解物を塗布して形成される無機酸化物を主成分とするコーティング膜としてもよい。

また、透明導電膜４は、導電性を付与する観点から、抵抗加熱蒸着法、誘導加熱蒸着法、ＥＢ蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、熱ＣＶＤ法、及びプラズマＣＶＤ法等の真空成膜法によって形成される膜であってもよい。透明導電膜４は、抵抗値が低くでき、表面処理が可能な装置構成が可能となることから、ＥＢ蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を用いて形成することが好ましい。こうした形成方法を用いる場合の透明導電膜４の材料は、例えば、インジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）、インジウム−錫−亜鉛系酸化物（ＩＴＺＯ）、ＺｎＯ_２等の酸化亜鉛系、ＣｄＯ系、及びＳｎＯ_２（酸化錫）系、酸化インジウム、インジウム−亜鉛系酸化物（ＩＺＯ）、アルミ添加酸化亜鉛、ガリウム添加酸化亜鉛、アンチモン添加酸化錫等の酸化物；金、銀、銅、アルミニウム、パラジウム等の金属；酸化物と金属の積層体を挙げることができる。こうした材料を適宜選択して使用すればよいが、上記材料のうち、透明性及び導電性が優れている点でインジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）が好ましい。また、透明導電膜４に放熱機能を付与する場合には、放熱効果を高める観点から透明導電膜４として赤外光を吸収する材料を用いることが好ましいが、こうした観点からもインジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）を用いることが好ましい。インジウム−錫系酸化物（ＩＴＯ）を用いる場合には、錫の含有量が５〜１５モル％であるものを用いることが特に好ましい。

透明導電膜４の厚さは、通常１０ｎｍ以上、好ましくは６０ｎｍ以上、より好ましくは１００ｎｍ以上とする。上記範囲とすれば、透明導電膜４の導電性・放熱性を確保しやすくなる。また、透明導電膜４の厚さは、通常１０００ｎｍ以下、好ましくは４５０ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下とする。上記範囲とすれば、透明導電膜４の透明性を確保しやすく、耐屈曲性も良好となりやすい。

（ハードコート膜）
ハードコート膜５は、図３に示すように、ガスバリア性シート１Ｃの少なくとも片面に設けられる。より具体的には、ハードコート膜５は、基材２の他方の面１２、すなわち、基材２の両面のうちアンカー膜９Ａが形成された面との反対側の面に設けられている。これにより、ガスバリア性シート１Ｃがハードコート膜５により保護されるので、その結果、傷が付きにくいガスバリア性シート１Ｃをより提供しやすくなる。

ハードコート膜５としては、従来公知のものを適宜用いることができる。具体的には、ハードコート膜５の材料としては、電離放射線硬化型樹脂であるアクリレート系の官能基を有するもの、すなわち、アクリル骨格を有するもの、エポキシ骨格を有するものが適当であり、ハードコート膜５の硬度や耐熱性、耐溶剤性、耐擦傷性を考慮すると、高い架橋密度の構造とすることが好ましい。こうした構造を得るための材料としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の２官能以上のアクリレートモノマーを挙げることができる。なお、上記において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタアクリレートの両者を意味する。

ハードコート膜５の材料として、上記の電離放射線硬化型樹脂を用いる場合、公知の光重合開始剤や光増感剤を併用することができる。こうした光重合開始剤や光増感剤は、紫外線を照射して電離放射線硬化型樹脂を硬化させる場合に好ましく用いられる。なぜなら、電子線を照射する場合には電離放射線硬化型樹脂は十分硬化する傾向を有するからである。光重合開始剤や光増感剤の添加量は、一般に、電離放射線硬化型樹脂１００重量部に対して、０．１重量部以上、１０重量部以下とする。こうした材料の他、溶媒、硬化触媒、濡れ性改良剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤等の無機、有機系の各種添加剤を必要に応じて添加することができる。

ハードコート膜５は、上記の材料を塗布液として基材２上に塗布し硬化させることによって形成することができる。ここで塗布液の塗布量としては、固形分として、通常、０．５ｇ／ｍ^２以上、１５ｇ／ｍ^２以下が適当である。なお、硬化に用いる紫外線源としては、例えば、超高圧水銀灯等を挙げることができる。紫外線の波長としては、通常、１９０ｎｍ以上、３８０ｎｍ以下の波長域を使用することができ、また、電子線源としては、例えばコッククロフトワルト型等の各種電子線加速器を用いることができる。

ハードコート膜５の厚さは、通常１μｍ以上、好ましくは３μｍ以上、また、通常１０μｍ以下、好ましくは８μｍ以下とする。この範囲とすれば、ガスバリア性シート１Ｃの透明性を損ないにくく、かつ、耐擦傷性も良好となりやすい。

（吸湿膜）
吸湿膜１３は、図８〜１０に示すように、ガスバリア性シート１Ｇ，１Ｈ，１Ｉの少なくとも片面に設けられる。吸湿膜１３は、水分を吸脱着することができ、水分を吸着した場合においても固体状態を維持できる材料Ｂで形成される。これにより、吸湿が可逆的な吸湿膜１３となり、その結果、ガスバリア性シート１Ｇ，１Ｈ，１Ｉに対して、使用前に加熱工程を施すことにより吸湿性能を最大限とすることが可能なガスバリア性シート１Ｇ，１Ｈ，１Ｉを提供することができる。

より具体的には、ガスバリア性シート１を、有機ＥＬディスプレイ用の封止フィルムとして用いる場合には、被封止物たる有機ＥＬディスプレイが水分の吸着によりダークスポットを形成するために、水分を確実に遮断できるガスバリア性の高いガスバリア性シート１を用いることが望まれる。この場合に、アンカー膜９及びガスバリア膜３では、確実な水蒸気遮断が難しい場合も想定される。そこで、被封止物を封止する側の面に吸湿膜１３を設けたガスバリア性シート１Ｇ，１Ｈ，１Ｉを用いることにより、水分の遮断性（水蒸気遮断性）をより高くすることができ、有機ＥＬディスプレイの耐久性をより向上させやすくなる。また、吸湿膜１３に材料Ｂを用いることにより、可逆反応で水分を吸着、或いは水和水とすることができるようになり、有機ＥＬディスプレイ素子を封止する前に加熱や赤外線照射を行うことにより、吸湿膜１３に吸着した水分をほぼ除去できるので、吸湿性能を最大限とした有機ＥＬディスプレイの製造が可能となる。

材料Ｂとしては、上述のとおり、水分を吸脱着することができ、水分を吸着した場合においても固体状態を維持できるものを用いればよい。ここで、水分の吸着には、例えば、水が物理吸着する場合や化学吸着する場合が含まれる。そして、水分が化学吸着する場合としては、水分が材料Ｂとの水和物を形成する場合、水分が水酸化物となって材料Ｂに化学結合する場合等を挙げることができる。但し、材料Ｂが水分を吸脱着できるといっても、本発明においては、水分吸着しやすいが脱離しにくい性質の材料を材料Ｂとして用いる。なぜなら、水分を脱離しやすい材料では、吸湿膜１３が吸湿性を有する膜としての性能を十分に発揮できない傾向となるからである。すなわち、吸湿膜１３の吸湿が可逆的ではあるとはいっても、吸湿膜１３は基本的には吸湿が主となり、水分の脱離は、吸湿膜１３を高温で処理して初めて行われるものとなる。例えば、水分が水酸化物となって化学結合する材料を材料Ｂに用いる場合には、水酸化物として一度吸着した水分は、高温（例えば６００℃程度）で処理しなければ脱離されないのである。

材料Ｂは、特に制限はないものの、上記説明した観点から、アルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物であることが好ましい。これにより、良好な吸湿特性を有する材料Ｂを吸湿膜１３に用いることになり、その結果、吸湿特性の高い吸湿膜１３を有するガスバリア性シート１Ｇ，１Ｈ，１Ｉを提供することができる。例えば、材料Ｂに金属を用いた場合には、被封止物を有機ＥＬディスプレイとした場合において、開口部が狭くなって高解像度が得られにくい場合がある。

アルカリ金属酸化物としては、特に制限はないが、安定性、吸湿性能等の観点から、ナトリウム酸化物（酸化ナトリウム）、カリウム酸化物（酸化カリウム）を用いることが好ましい。また、アルカリ土類金属酸化物としては、特に制限はないが、安定性、吸湿性能等の観点から、カルシウム酸化物（酸化カルシウム）、ストロンチウム酸化物（酸化ストロンチウム）、バリウム酸化物（酸化バリウム）を用いることが好ましい。

吸湿膜１３中には、所望する特性に応じて材料Ｂ以外の材料を含有させてもよい。

吸湿膜１３の消衰係数は、１×１０^−６以上、１×１０^−３以下とすることが好ましい。消衰係数は、より好ましくは１×１０^−５以上、さらに好ましくは２×１０^−５以上、特に好ましくは３×１０^−５以上、また、より好ましくは５×１０^−４以下、さらに好ましくは１×１０^−４以下とする。消衰係数を上記範囲とすることにより、吸湿膜１３の透明性を確保しやすくなるので、その結果、透明性に優れるガスバリア性シート１Ｇ，１Ｈ，１Ｉを得やすくなる。

吸湿膜１３における消衰係数の測定は、アンカー膜９やガスバリア膜３と同様の測定方法を用いることができる。

吸湿膜１３の厚さは、通常１０ｎｍ以上、好ましくは３０ｎｍ以上、より好ましくは５０ｎｍ以上とする。吸湿膜１３の厚さを上記範囲とすれば、吸湿膜１３の厚さを十分に確保して水分の吸収を確保しやすくなり、ガスバリア性を向上させやすくなる。また、吸湿膜１３の厚さは、通常１０００ｎｍ以下、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下とする。吸湿膜１３の厚さを上記範囲とすれば、水分の吸収性を確保しつつも所定の透明性や柔軟性をガスバリア性シート１Ｇ，１Ｈ，１Ｉに付与しやすくなる。

吸湿膜１３の形成方法は、適宜選択することができる。こうした方法としては、例えば、材料Ｂとしてアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物を用いる場合には、真空成膜で吸湿膜１３を形成すればよい。真空成膜の方法としては、ガスバリア膜３で説明したものと同様の方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、Ｃａｔ−ＣＶＤ法やプラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマＣＶＤ法）を適宜用いることができる。

（放熱性ガスバリア膜）
ガスバリア性シート１Ｈ，１Ｉでは、図９，１０に示すように、放熱性ガスバリア膜１４をさらに設けている。これにより、ガスバリア性シート１Ｈ，１Ｉで封止する被封止物が発熱性のものである場合にもその放熱を良好に行うことができるようになり、その結果、ガスバリア性に優れるようになるのみならず放熱性にも優れるガスバリア性シート１Ｈ，１Ｉを提供しやすくなる。特に、ガスバリア性シート１Ｈでは、封止する被封止物が発熱性のものである場合に、放熱性ガスバリア膜１４を被封止物から近い位置に配置することができることとなる。

放熱性ガスバリア膜１４に用いる材料は、所望のガスバリア性及び放熱性を有するものであればよいが、放熱性が確保しやすくなるという観点から、金属化合物やダイヤモンドライクカーボンを用いることが好ましい。金属化合物としては、例えば、窒化アルミ、窒化チタン、酸化亜鉛、アルミナ、及び窒化硼素等を挙げることができ、好ましくは窒化アルミ、窒化チタンを挙げることができる。放熱性ガスバリア膜１４の透明性を確保しやすくなるという観点からは、ダイヤモンドライクカーボンを用いることが好ましい。

放熱性ガスバリア膜１４の材料として用いるダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）とは、ダイヤモンドに類似した炭素材料のことをいい、ダイヤモンドとグラファイトとの中間的な結晶構造を持つものである。より具体的には、炭素を主成分としつつ若干の水素を含み、ダイヤモンド結合（ＳＰ３結合）とグラファイト結合（ＳＰ２結合）の両方の結合が混在しているアモルファス構造をとる。ダイヤモンドライクカーボンは、所定のガスバリア性と所定の放熱性とを発揮する材料である他、電気絶縁性を有する。このため、ダイヤモンドライクカーボンを用いることにより、ガスバリア性シート１Ｈ，１Ｉをディスプレイ用基板や、有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイ用の封止フィルムとして用いた場合に、ディスプレイが有する陰極と陽極との短絡を抑制しやすくなる。

放熱性ガスバリア膜１４の熱伝導率は、通常２０Ｗ／ｍＫ以上とするが、好ましくは３０Ｗ／ｍＫ以上とする。熱伝導率を上記範囲とすることにより、ガスバリア性シート１Ｈ，１Ｉの放熱性がより確保されやすくなる。熱伝導率は、高ければ高いほど放熱性に優れるので好ましいが、通常２０００Ｗ／ｍＫ以下となる。

放熱性ガスバリア膜１４の熱伝導率は、光交流法を用いて測定することができる。より具体的には、本発明においては、アルバック理工社製の光交流法熱拡散率測定装置 ＬａｓｅｒＰＩＴ−１を用い、熱源にダイオードレーザ、測定環境を大気圧（２０℃）として熱伝導率を測定することができる。

放熱性ガスバリア膜１４の厚さは、通常２ｎｍ以上、好ましくは５ｎｍ以上、また、通常７０ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以下とする。上記範囲とすれば、ガスバリア性と放熱性とのバランスを取りつつ、無色透明でクラックが入りにくく生産性を高くしやすくなる。

放熱性ガスバリア膜１４の形成方法は、適宜選択することができる。こうした方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、及びプラズマＣＶＤ法等を挙げることができる。こうした製造方法は、成膜材料の種類、成膜のしやすさ、工程効率等を考慮して選択すればよい。

（その他の膜）
上記説明した、基材２、アンカー膜９、ガスバリア膜３、透明導電膜４、ハードコート膜５、吸湿膜１３、及び放熱性ガスバリア膜１４以外にも、必要に応じて他の膜を用いることもできる。こうしたものとしては、例えば、反射防止膜、帯電防止膜、防汚膜、防眩膜、カラーフィルタ及び平滑化膜を挙げることができる。これらのうち、反射防止膜、帯電防止膜、防汚膜、防眩膜、カラーフィルタは、光学粘着剤を介して本発明のガスバリア性シートと貼り合わせることで、所望の機能を得てもよい。

反射防止膜は外光の映り込みを抑制する機能をもつものであり、帯電防止膜は塵や埃が付着することを防止する機能をもち、防汚膜は指紋等の油脂の付着を阻害するものであり、従来公知のものを適宜用いればよいが、いずれもハードコート膜５の表面に形成されることが多い。但し、反射防止機能や透明導電機能をハードコート膜５に付加することもできる。平滑化膜は、表面を平坦化するために用いられるものであり、例えば、基材２の表面やガスバリア膜３の表面に形成されることがある。反射防止膜は、外光の映り込みを抑制する機能を有すれば、特に限定するものではないが、光学干渉による光学多層膜、微粒子による光散乱効果を用いた防眩膜、マイクロレンズアレイ、モスアイ構造などが挙げられる。

平滑化膜としては、従来公知のものを適宜用いればよい。平滑化膜の材料としては、例えば、ゾル−ゲル材料、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、及びフォトレジスト材料等を挙げることができる。

平滑化膜をガスバリア膜３の表面に形成する場合においては、ガスバリア機能を保持させつつ膜の形成を容易にする観点から、平滑化膜の材料として電離放射線硬化型樹脂を用いることが好ましい。より具体的には、エポキシ基をもつ反応性のプレポリマー、オリゴマー、及び／又は単量体を適宜混合したものである電離放射線硬化型樹脂や、電離放射線硬化型樹脂に必要に応じてウレタン系、ポリエステル系、アクリル系、ブチラール系、ビニル系等の熱可塑性樹脂を混合して液状となした液状組成物のような、分子中に重合性不飽和結合を有し、紫外線（ＵＶ）や電子線（ＥＢ）を照射することにより、架橋重合反応を起こして３次元の高分子構造に変化する樹脂が好ましい。平滑化膜は、こうした樹脂を、例えば、ロールコート法、ミヤバーコート法、及びグラビアコート法等の従来公知の塗布方法で塗布・乾燥・硬化させることにより形成することができる。平滑化膜は、ハードコート膜５と同様の方法で形成してもよい。

また、平滑化膜をガスバリア膜３の表面に形成する場合においては、ガスバリア膜３との良好な密着性を確保する観点から、平滑化膜の材料としてガスバリア膜３と同材料系の塗膜を形成できるゾルーゲル法を用いたゾル−ゲル材料を用いることも好ましい。ゾル−ゲル法とは、有機官能基と加水分解基を有するシランカップリング剤と、このシランカップリング剤が有する有機官能基と反応する有機官能基を有する架橋性化合物とを少なくとも原料として構成された塗料組成物の塗工方法、及び塗膜のことをいう。有機官能基と加水分解基を有するシランカップリング剤としては、従来公知のものを適宜用いることができ、例えば、特開２００１−２０７１３０号公報に開示されるアミノアルキルジアルコキシシランやアミノアルキルトリアルコキシシランを用いればよい。また、シランカップリング剤が有する有機官能基と反応する有機官能基を有する架橋性化合物としては、例えば、グリシジル基、カルボキシル基、イソシアネート基、及びオキサゾリン基等のアミノ基と反応しうる官能基を有するものを挙げることができる。こうした材料も従来公知のものを適宜用いることができる。さらに、上記の塗料組成物には、例えば、溶媒、硬化触媒、濡れ性改良剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤等の無機・有機系の各種添加剤を必要に応じて添加することができる。

さらに、平滑化膜の材料としては、従来公知のカルドポリマーを含有させることも好ましい。

平滑化膜の厚さは、通常０．０５μｍ以上、好ましくは０．１μｍ以上、また、通常１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下とする。

（ガスバリア性シート）
以上説明した、基材２、アンカー膜９、ガスバリア膜３、透明導電膜４、ハードコート膜５、吸湿膜１３、放熱性ガスバリア膜１４、及び必要に応じてその他の膜を有することによって、ガスバリア性シート１が形成される。ガスバリア性シート１は、アンカー膜９に所定のポリシロキサン重合体を含有させ、かつガスバリア膜３を所定の組成とすることにより、ポリシロキサン重合体の構造を制御してアンカー膜９の透明性、耐熱性、及び堅さを制御し、アンカー膜９とガスバリア膜３との２層でガスバリア性を確保することができ、さらに、基材２、アンカー膜９、及びガスバリア膜３がそれぞれ接して設けられた場合には、アンカー膜９中のＳｉとガスバリア膜３中のＳｉとによりアンカー膜９とガスバリア膜３との相互作用が高まるとともに、アンカー膜９中のＳｉ−Ｃ結合が基材２との相互作用を良好にする。その結果、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ハードコート性に優れ、ガスバリア性に優れ、加えて接着性にも優れるガスバリア性シート１を提供することができる。

ガスバリア性シート１は、通常、水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ（ｇ／ｍ^２・ｄａｙ）以下で、酸素透過率が０．１ｃｃ／ｍ^２／ｄａｙ・ａｔｍ（ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下の高いガスバリア性を示す。

ガスバリア性シート１を、透明性が必要とされる有機ＥＬディスプレイ等の発光素子のガスバリア性シートとして用いる場合には、ガスバリア性シート１は透明であることが好ましい。この場合、具体的には、全光線透過率は、好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上とする。また、色味（ＹＩ）は、好ましくは５以下、より好ましくは３以下とする。ＹＩが高いほどガスバリア性シート１が黄色く見えるため、外観上ＹＩを上記範囲に制御することが好ましい。なお、全光線透過率及びＹＩの測定は、例えば、分光測色計を用いて測定することができる。本発明においては、全光線透過率及びＹＩの測定は、ＳＭカラーコンピューターＳＭ−Ｃ（スガ試験機製）を使用して測定している。そして、測定は、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して実施している。

ガスバリア性シート１は、所定のアンカー膜９と所定のガスバリア膜３との組み合わせによりカールの発生が抑制される。図５は、ガスバリア性シートのカールの度合いを測定する方法を示す模式的な断面図である。まず、ガスバリアシート１を所定の大きさに切り出し、ガスバリア性シートサンプル１０を準備する。そして、ガスバリア性シートサンプル１０をステンレス鋼製の基板６上に置き、ガスバリア性シートサンプル１０の頂点８とステンレス鋼製の基板６との直交距離Ｌを測定する。そして、直交距離Ｌの大きさに応じて、所定の評価基準を用い、ガスバリア性シートのカールの発生度合いを評価すればよい。

さらに、ガスバリア性シートサンプル１０に対して耐熱試験（ヒートサイクル試験）を実施し、ヒートサイクル試験後に直交距離Ｌを再度測定することにより、ヒートサイクル試験後のガスバリア性シート１のカール度合いの評価を行うこともできる。具体的には、ガスバリア性シートサンプル１０を、１５０℃のオーブンで３時間保持する操作を繰り返し５回行うことによりヒートサイクル試験を実施する。そして、ヒートサイクル試験後のガスバリア性シートサンプル１０を、再度ステンレス鋼製の基板６上に置き、ガスバリア性シートサンプル１０の頂点とステンレス鋼製の基板６との直交距離Ｌを測定する。そして、直交距離Ｌの大きさに応じて、所定の評価基準を用い、ガスバリア性シート１のカールの発生度合いを評価すればよい。こうした方法で評価される直交距離Ｌは、ヒートサイクル試験の前後において、通常３ｍｍ以下となるように制御される。より高性能のガスバリア性シート１を得る観点から、直交距離Ｌは、１ｍｍ以下となるように制御することが好ましい。

ガスバリア性シート１は、所定のアンカー膜９と所定のガスバリア膜３との組み合わせにより、基材２、アンカー膜９、及びガスバリア膜３がそれぞれ接して設けられた場合には、基材２とアンカー膜９との接着性、及びアンカー膜９とガスバリア膜３との接着性が良好となる。また、基材２とアンカー膜９との間、アンカー膜９とガスバリア膜３との間に所定の膜を挿入することにより接着性が確保できる場合もある。こうしたガスバリア膜３、アンカー膜９、基材２等の接着性の程度を見積もる方法として、例えば、クロスカット試験による評価を挙げることができる。本発明においては、クロスカット試験をＪＩＳ−Ｋ５４００の８．５．１の記載に準拠して行っている。具体的には、隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて、ガスバリア膜３を貫通して基材２等に達する切り傷を縦横につけて、１００個のマス目状とし、セロハン粘着テープ（ニチバン社製４０５番 ２４ｍｍ幅）をマス状の切り傷面に張り付け、消しゴムでこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がす。そして、剥離後の面を目視により観察し、１００個のマス目における層残留率（マス目の一部分でも剥がれたものも剥がれた個数として扱う）を接着性の尺度とし、接着性（％）＝（１−（剥がれたマス目／１００マス））×１００を算出して評価する。

上記のクロスカット試験を、ガスバリア性シート製造直後と、耐湿熱試験後と、の両方で行えば、製造後の状態におけるガスバリア膜３、アンカー膜９、基材２等の接着性だけでなく、この接着性の持続性を評価することもできる。そして、耐湿熱試験の方法としては、例えば、温度６０℃／湿度９５％ＲＨの環境に調整した恒温恒湿器を用い、この恒温恒湿器内に１０００時間ガスバリア性シートを保持することによって行うことができる。

本発明のガスバリア性シートは、フィルム状の形態で用いられることが好ましい。フィルム状とすることにより、有機ＥＬディスプレイ等の用途に適用しやすくなる。また、本発明のガスバリア性シートは、巻き取りロール状の形態で用いることも可能であり、有機ＥＬディスプレイ等の製造の後工程に合わせて適宜用いればよい。なお、本発明のガスバリア性シートは、有機ＥＬディスプレイ等の基板として用いることができるだけでなく、封止用の硝子や缶の代替となる封止用フィルムとしても適用が可能である。

（ガスバリア性シートの製造方法）
ガスバリア性シート１の製造方法は、シロキサン化合物と、重合時にこのシロキサン化合物が有する水酸基と反応しうる官能基を分子内に有する化合物Ａと、を重合させて得たポリシロキサン重合体を用いてアンカー膜９を成膜（形成）するアンカー膜成膜工程と、ガスバリア膜３を成膜（形成）するガスバリア膜成膜工程と、を有する。これにより、ガスバリア性シート１を良好に製造することができ、その結果、ガスバリア性等の各種特性に優れるガスバリア性シート１の製造方法を提供することができる。

アンカー膜９の形成方法（アンカー膜成膜工程）の詳細については、上記アンカー膜９についての詳細な説明ですでに説明したとおりである。また、ガスバリア膜３の形成方法（ガスバリア膜成膜工程）についても、上記ガスバリア膜３についての詳細な説明ですでに説明したとおりである。そこで、説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。

ガスバリア性シート１の製造方法では、上記各工程以外の工程を適宜行っても良い。こうした他の工程としては、例えば、基材２を準備する基材準備工程、透明導電膜４を形成する透明導電膜成膜工程、ハードコート膜５を形成するハードコート膜成膜工程、吸湿膜１３を形成する吸湿膜成膜工程、及び放熱性ガスバリア膜１４を形成する放熱性ガスバリア膜成膜工程を挙げることができる。そして、基材２の準備方法（基材準備工程）は上記基材２についての詳細な説明で、樹脂製の基材２を用いる場合を例にとって説明したとおりである。同様に、透明導電膜４の形成方法（透明導電膜成膜工程）は上記透明導電膜４についての詳細な説明ですでに説明したとおりである。また、ハードコート膜５の形成方法（ハードコート膜成膜工程）は上記ハードコート膜５についての詳細な説明ですでに説明したとおりである。さらに、吸湿膜１３の形成方法（吸湿膜成膜工程）は上記吸湿膜１３についての詳細な説明ですでに説明したとおりである。そして、放熱性ガスバリア膜１４の形成方法（放熱性ガスバリア膜成膜工程）は上記放熱性ガスバリア膜１４についての詳細な説明ですでに説明したとおりである。そこで、各工程については説明の重複を避けるため、ここでの説明は省略する。

以上説明したように、本発明のガスバリア性シートの製造方法によれば、透明性に優れ、耐熱性が高く、カールがしにくく、ガスバリア性等に優れるガスバリア性シートを製造することができる。

次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。

［実施例１］
（ガスバリア性シートの製造）
基材として、厚さ１００μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（テオネックス（登録商標）Ｑ６５Ｆ、帝人デュポンフィルム株式会社製）を用いた。

＜アンカー膜成膜工程＞
ポリシロキサン重合体の塗布液は、以下のようにして製造した。まず、エタノール６１．１６ｇの攪拌下に蟻酸１０．０１ｇを少量ずつ添加して、蟻酸のエタノール溶液を調製した。次いで、この溶液を窒素雰囲気下で４０℃に加熱し、還流下でテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）２０．８３ｇと、蓚酸ジメチル（化合物Ａ）３．０３ｇと、を滴下して、ＴＥＯＳと化合物Ａとを重合させた。滴下後、室温まで放冷してポリシロキサン重合体の塗布液を調製した。そして、この塗布液に、エタノール：メタノール＝２：１の混合溶液を添加し、重量比が１：１（固形分濃度５重量％）となるように希釈した。

この塗布液をダイコート法にて基材上に塗布し、約１μｍの塗膜を形成し、予備加熱が６０℃／１分、熱硬化条件が１２０℃／３分として、アンカー膜を形成した。

＜ガスバリア膜成膜工程＞
次いで、このアンカー膜上に、イオンプレーティグ法にて厚さ４０ｎｍのＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜を形成した。イオンプレーティング法の際の条件は下記の通りである。

成膜条件：
印加電力 ５．１ｋＷ
蒸着材料 窒化珪素
アルゴン流量 １５ｓｃｃｍ
酸素流量 ５ｓｃｃｍ

以上のようにして準備したガスバリア膜を有するガスバリア性シートの特性を以下の方法で評価した。

（組成の分析：アンカー膜）
アンカー膜の組成（ポリシロキサン重合体の構成や重合比）は、ＸＰＳ（ＶＧ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製ＥＳＣＡ ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ装置）により測定した。Ｘ線源としては、Ａｇ−３ｄ−５／２ピーク強度が３００Ｋｃｐｓ〜１ＭｃｐｓとなるＸ線源であるＭｇＫα線を用い、直径約１ｍｍのスリットを使用した。測定は、測定に供した試料面の法線上に検出器をセットした状態で行い、適正な帯電補正を行った。測定後の解析は、上述のＸＰＳ装置に付属されたソフトウエアＥｃｌｉｐｓｅバージョン２．１を使用し、Ｓｉ：２ｐ、Ｃ：１ｓのバインディングエネルギーに相当するピークを用いて行った。このとき、Ｃ：１ｓのピークのうち、炭化水素に該当するピークを基準として、各ピークシフトを修正し、ピークの結合状態を帰属させた。そして、炭化水素ピーク位置の他にみられるカルボニル結合のピークを化合物Ａ、Ｓｉのピークをシロキサン化合物とし、各ピークに対して、シャーリーのバックグラウンド除去を行い、ピーク面積に各元素の感度係数補正（Ｃ＝１．０に対して、Ｓｉ＝０．８７）を行い、原子数比を求めた。その結果、Ｓｉの原子数比が５０％、カルボニル結合の原子数比が１０％であった。このため、ポリシロキサン重合体が、ＴＥＯＳ（シロキサン化合物）と、蓚酸ジメチル（化合物Ａ）とから構成されることがわかった。また、上記の測定結果から、ＴＥＯＳと蓚酸ジメチルとの重合比は、ＴＥＯＳが５０ｍｏｌ％、蓚酸ジメチルが５ｍｏｌ％となっていると考えることができる。

（組成の分析：ガスバリア膜）
ガスバリア膜の組成（ＳｉＮ_ｘＯ_ｙにおけるｘ、ｙの値）、より具体的にはＳｉ、Ｎ、Ｏの原子数比は、ＸＰＳ（ＶＧ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製ＥＳＣＡ ＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ）により測定した。Ｘ線源としては、Ａｇ−３ｄ−５／２ピーク強度が３００Ｋｃｐｓ〜１ＭｃｐｓとなるＸ線源であるＭｇＫα線を用い、直径約１ｍｍのスリットを使用した。測定は、測定に供した試料面の法線上に検出器をセットした状態で行い、適正な帯電補正を行った。測定後の解析は、上述のＸＰＳ装置に付属されたソフトウエアＥｃｌｉｐｓｅバージョン２．１を使用し、Ｓｉ：２ｐ、Ｎ：１ｓ、Ｏ：１ｓのバインディングエネルギーに相当するピークを用いて行った。このとき、各ピークに対して、シャーリーのバックグラウンド除去を行い、ピーク面積に各元素の感度係数補正（Ｃ＝１．０に対して、Ｓｉ＝０．８７、Ｎ＝１．７７、Ｏ＝２．８５）を行い、原子数比を求めた。得られた原子数比について、Ｓｉ原子数を１とし、他の成分であるＮとＯの原子数を算出して成分割合とした。その結果、ｘ＝１．１０、ｙ＝０．２０であった。

（水蒸気透過率の測定）
水蒸気透過率は、測定温度３７．８℃、湿度１００％Ｒｈの条件下で、水蒸気透過率測定装置（米国ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ ３／３１：商品名）を用いて測定した。なお、測定に用いた水蒸気透過率測定装置の検出限界は、０．０５ｇ／ｍ^２・ｄａｙであるが、水蒸気透過率の測定を行ったところ、検出限界以下であった。

（酸素透過率の測定）
酸素透過率は、測定温度２３℃、湿度９０％Ｒｈの条件下で、酸素ガス透過率測定装置（米国ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２０：商品名）を用いて測定した。なお、測定に用いた酸素ガス透過率測定装置の検出限界は、０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍであるが、酸素透過率を測定したところ検出限界以下であった。

（全光線透過率と色味（ＹＩ）の測定）
ガスバリア性シートの全光線透過率とＹＩは、ＳＭカラーコンピューターＳＭ−Ｃ（スガ試験機製）を使用して測定した。測定は、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して実施した。その結果、全光線透過率は８５．６％、Ｙ１は０．６であった。

（カールの評価）
カールの発生度合いの評価は、以下のようにして行った。すなわち、作製したガスバリア性シートを１５ｃｍ×１５ｃｍに切り出して、図５に示すガスバリア性シートサンプル１０を得た。そして、同図に示すように、ガスバリア性シートサンプル１０をステンレス鋼製の基板６上に置き、ガスバリア性シートサンプル１０の頂点８とステンレス鋼製の基板６との直交距離Ｌを測定した。そして、直交距離Ｌの大きさに応じて、下記評価基準でガスバリア性シートのカールの発生度合いを評価した。その結果、「○」の評価となった。

○：直交距離が１ｍｍ以下
△：直交距離が１〜３ｍｍ
×：直交距離が３ｍｍより大きい

次に、ガスバリア性シートサンプル１０に対してヒートサイクル試験を実施し、ヒートサイクル試験後に直交距離Ｌを再度測定した。ヒートサイクル試験は、ガスバリア性シートサンプル１０を、１５０℃のオーブンで３時間保持した後室温まで冷却する操作を繰り返し５回行うことにより実施した。そして、ヒートサイクル試験後のガスバリア性シートサンプル１０を、再度ステンレス鋼製の基板６上に置き、ガスバリア性シートサンプル１０の頂点とステンレス鋼製の基板６との直交距離Ｌを測定し、直交距離Ｌの大きさに応じ上記評価基準でガスバリア性シートのカールの発生度合いを評価した。その結果、「○」の評価となった。

（消衰係数の評価）
消衰係数を、ＪＯＢＩＮ ＹＶＯＮ社製のＵＶＩＳＥＬＴＭにより測定した。そして、測定は、キセノンランプを光源とし、入射角度を−６０°、検出角度を６０°、測定範囲を１．５ｅＶ〜５．０ｅＶの条件で行った。その結果、アンカー膜の消衰係数は０．０００１、ガスバリア膜の消衰係数は０．００８であった。

（接着性の評価）
ガスバリア性シートの接着性をクロスカット試験によって評価した。具体的には、ＪＩＳ−Ｋ５４００の８．５．１の記載に準拠して評価を行った。すなわち、隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて、ガスバリア膜を貫通して基材に達する切り傷を縦横につけて、１００個のマス目状とし、セロハン粘着テープ（ニチバン社製４０５番 ２４ｍｍ幅）をマス状の切り傷面に張り付け、消しゴムでこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がした。そして、剥離後の面を目視により観察し、１００個のマス目における層残留率（マス目の一部分でも剥がれたものも剥がれた個数として扱う）を接着性の尺度とし、接着性（％）＝（１−（剥がれたマス目／１００マス））×１００を算出して評価した。

上記のクロスカット試験を、ガスバリア性シート製造直後と、耐湿熱試験後と、の両方で行った。耐湿熱試験は、エスペック社製のデジタル恒温恒湿器ＰＲ−３Ｋを用い、温度６０℃／湿度９５％ＲＨの環境下で１０００時間ガスバリア性シートを保持することによって行った。

その結果、ガスバリア性シート製造直後の接着性は１００％、耐湿熱試験後の接着性も１００％であった。

（二次粒子の粒径と二次粒子間の距離の測定）
ガスバリア膜を形成する二次粒子の粒径と二次粒子間の距離を測定した。具体的には、セイコーインスツルメンツ社製のＮａｎｏｐｉｃｓ−１０００を用い、観察モードがコンタクトモード、スキャン範囲を４μｍ角、走査速度は９０秒／フレームの測定条件にて測定を行った。続いて、パソコン等にインストールされた解析ソフト上で、任意の３０個の点をトラックボール操作で設定した。そして、その点に対して最小自乗法円近似を行い、その平均値を二次粒子径とした。また、隣接する粒子間の距離は、円近似で算出した粒子の端部間の平均値を算出して求めた。その結果、二次粒子の粒径は４５０ｎｍであり、二次粒子間の距離は２１０ｎｍであった。

［比較例１］
ガスバリア膜を設けなかったこと、以外は実施例１と同様にしてガスバリア性シートを製造した。そして、実施例１で行った評価のうち、水蒸気透過率の測定、酸素透過率の測定、及び全光線透過率と色味（ＹＩ）の測定を行った。その結果、水蒸気透過率は１．２ｇ／ｍ^２・ｄａｙ、酸素透過率は３．４ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ、全光線透過率は８６．３％、ＹＩは−０．４（青色）となった。

［比較例２］
アンカー膜を設けなかったこと、以外は実施例１と同様にしてガスバリア性シートを製造した。そして、実施例１で行った評価のうち、接着性の評価を行った。その結果、ガスバリア性シート製造直後の接着性は１００％、耐湿熱試験後の接着性は９５％であった。

［比較例３］
アンカー膜をアクリル系樹脂で形成したこと、及びアンカー膜の厚さを３μｍとしたこと、以外は実施例１と同様にしてガスバリア性シートを製造した。具体的には、下記樹脂組成物をワイヤーバー＃１０にて塗工した後、紫外線を３００ｍＪ照射し、アンカー膜を形成した。
＜ＵＶ硬化型樹脂組成物＞
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート ５０部
光重合開始剤（イルガキュアー１８４：チバガイギー社製） ５部
溶媒（トルエン） ５０部

そして、実施例１で行った評価のうち、水蒸気透過率の測定、酸素透過率の測定、及び全光線透過率と色味（ＹＩ）の測定を行った。その結果、水蒸気透過率は検出限界以下、酸素透過率は検出限界以下、全光線透過率は８０．６％、ＹＩは５．４となった。ＹＩの値からわかるように、ガスバリア性シートは黄色に着色していた。これは、アクリル系樹脂のアンカー膜が製造時の熱処理によって不飽和結合が増加し、可視光内の青色成分が吸収され、黄変したためである。

［実施例２］
実施例１のガスバリア性シートを用い、基材の両面のうち、アンカー膜及びガスバリア膜（ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜）が形成されていない側の面に、イオンプレーティング法にて、厚さ４０ｎｍの裏面側ガスバリア膜（ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜）、及び厚さ３０ｎｍの透明導電膜をさらに設けてガスバリア性シートを製造した。イオンプレーティング法の条件は下記の通りである。

裏面側ガスバリア膜の成膜条件：
印加電力 ５．１ｋＷ
蒸着材料 ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ（ｘ＝０．１、ｙ＝１．０）
アルゴン流量 １５ｓｃｃｍ
酸素流量 ５ｓｃｃｍ

透明導電膜の成膜条件：
材料：ＩＴＯ粒（１５％Ｓｎ）
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：１０ｓｃｃｍ、酸素流量：１０ｓｃｃｍ
印加電力：４．０ｋＷ

得られた透明導電膜の表面抵抗値と熱伝導率を測定したところ、それぞれ１．５×１０^４Ω／□、４Ｗ／ｍＫであった。なお、表面抵抗値は、株式会社ダイアインスツルメンツ製の高抵抗率計であるハイレスタＵＰ（ＭＣＰ−ＨＴ４５０）を用いて測定した。また、透明導電膜の熱伝導率は、アルバック理工社製の定常法熱伝導率測定装置ＧＨシリーズを用いて測定を行った。

以上のようにして準備したガスバリア性シートの特性を実施例１と同様にして評価した。なお、水蒸気透過率の測定は、実施例１とは異なり、より高い測定限界（０．５ｍｇ／ｍ^２／ｄａｙ）まで測定できる装置を用いた。その結果、裏面側ガスバリア膜の組成は、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙにおいてｘ＝１．０、ｙ＝０．１５であった。その他の特性は以下の通りである。

水蒸気透過率：０．００１５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ
酸素透過率：０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
全光線透過率：７８．５％
ＹＩ：３．８
カールの評価：ヒートサイクル試験前後でいずれも「○」
裏面側ガスバリア膜の消衰係数：０．００５
接着性の評価：製造直後１００％、耐湿熱試験後１００％

［実施例３］
透明導電膜をイオンプレーティング法にて成膜する際の条件を以下のようにしたこと以外は、実施例２と同様にしてガスバリア性シートを製造した。

透明導電膜の成膜条件：
材料：ＩＴＯ粒（２０％Ｓｎ）
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：１０ｓｃｃｍ、酸素流量：２０ｓｃｃｍ
印加電力：４．０ｋＷ

得られた透明導電膜の表面抵抗値と熱伝導率を測定したところ、それぞれ４．３×１０^５Ω／□、８Ｗ／ｍＫであった。

以上のようにして準備したガスバリア性シートにつき、アンカー膜、ガスバリア膜、及び裏面側ガスバリア膜は実施例２と同様のものを用いた。このため、裏面側ガスバリア膜の消衰係数は実施例２と同様の値となるため、これ以外の特性を実施例２と同様にして評価した。水蒸気透過率についても、実施例２と同様にして測定した。結果を以下に示す。

水蒸気透過率：０．００２１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ
酸素透過率：０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
全光線透過率：７８．１％
ＹＩ：３．７
カールの評価：ヒートサイクル試験前後でいずれも「○」
接着性の評価：製造直後１００％、耐湿熱試験後１００％

［比較例４］
アンカー膜を、化合物Ａを用いずＴＥＯＳのみから構成されるポリシロキサン重合体で形成したこと以外は実施例１と同様にしてガスバリア性シートの製造を試みた。具体的には、メタノール３２．０４ｇに純水１８．０１ｇを加えた溶液を調製した。次いで、この溶液を窒素雰囲気下で８０℃に加熱し、還流下でＴＥＯＳ２０．８３ｇを滴下して１時間攪拌して、塗布液を調製した。この塗布液を用いてスピンコート法にて基材上へ塗膜形成を試みたが、重合剤が含まれていないために水分による自然重合となって塗工面に粒子が発生したり膜厚むらが生じたりし、ガスバリア性シートを製造することができなかった。

［実施例４］
アンカー膜を、ＴＥＯＳ：７６．９ｍｏｌ％及びマロン酸ジメチル（化合物Ａ）：２３．１ｍｏｌ％から構成されるポリシロキサン重合体で形成したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性シートの製造を試みた。以下に、ガスバリア性シートの製造方法につき、実施例１との相違点について説明する。

具体的には、ポリシロキサン重合体の塗布液を、以下のようにして製造した。まず、エタノール６１．１６ｇの攪拌下に蟻酸１０．０１ｇを少量ずつ添加して、蟻酸のエタノール溶液を調製した。次いで、この溶液を窒素雰囲気下で４０℃に加熱し、還流下でＴＥＯＳ２０．８３ｇと、マロン酸ジメチル（化合物Ａ）３．３９ｇと、を滴下して、ＴＥＯＳとマロン酸ジメチルとを重合させた。滴下後、室温まで放冷してポリシロキサン重合体の塗布液を調製した。そして、この塗布液に、エタノール：メタノール＝１：１の混合溶液を添加し、重量比が１：１（固形分濃度５重量％）となるように希釈した。

この塗布液をダイコート法にて基材上に塗布し、約１μｍの塗膜を形成し、予備加熱が６０℃／１分、熱硬化条件が１５０℃／１５分として、アンカー膜を形成した。

以上のようにして得たガスバリア性シートにつき、まず、ガスバリア膜の二次粒子径と二次粒子間の距離とを実施例１と同様にして測定した。その結果、二次粒子の粒径は３５０ｎｍであり、二次粒子間の距離は１４０ｎｍであった。次いで、各種の特定につき、実施例１と同様の評価を行った。なお、水蒸気透過率については、実施例２と同様にして測定した。結果を以下に示す。

水蒸気透過率：０．００６５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ
酸素透過率：０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
全光線透過率：８５．０％
ＹＩ：１．５
カールの評価：ヒートサイクル試験前後でいずれも「○」
アンカー膜の消衰係数：０．０１
接着性の評価：製造直後１００％、耐湿熱試験後９５％

［実施例５］
実施例１のガスバリア性シートを用い、基材の両面のうち、アンカー膜及びガスバリア膜（ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜）が形成された面に、イオンプレーティング法にて、厚さ３０ｎｍの透明導電膜をさらに設けてガスバリア性シートを製造した。イオンプレーティング法の条件は下記の通りである。

透明導電膜の成膜条件：
材料：ＩＴＯ粒（１５％Ｓｎ）
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：１０ｓｃｃｍ、酸素流量：１０ｓｃｃｍ
印加電力：４．０ｋＷ

得られた透明導電膜の表面抵抗値と熱伝導率を実施例２と同様にして測定したところ、それぞれ１．５×１０^４Ω／□、４Ｗ／ｍＫであった。

以上のようにして準備したガスバリア性シートの特性を実施例１と同様にして評価した。なお、水蒸気透過率については、実施例２と同様にして測定した。各種の特性を以下に示す。

水蒸気透過率：０．０００８ｇ／ｍ^２・ｄａｙ
酸素透過率：０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
全光線透過率：７９．６％
ＹＩ：３．２
カールの評価：ヒートサイクル試験前後でいずれも「○」
接着性の評価：製造直後１００％、耐湿熱試験後１００％

［実施例６］
実施例１のガスバリア性シートを用い、ガスバリア膜上に、イオンプレーティング法にて、酸化ストロンチウムから形成される厚さ１００ｎｍの吸湿膜をさらに設けてガスバリア性シートを製造した。イオンプレーティング法の条件は下記の通りである。

吸湿膜の成膜条件：
材料：酸化ストロンチウム粒
成膜時圧力：０．３Ｐａ
Ａｒ流量：２０ｓｃｃｍ、酸素流量：５ｓｃｃｍ
印加電力：５．０ｋＷ

以上のようにして準備したガスバリア性シートの特性を実施例１と同様にして評価した。吸湿膜の消衰係数の評価についても、実施例１でアンカー膜及びガスバリア膜の消衰係数を評価した方法と同様の方法で行った。各種の特性を以下に示す。

水蒸気透過率：０．０５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ
酸素透過率：０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
全光線透過率：９０．１％
ＹＩ：０．２
カールの評価：ヒートサイクル試験前後でいずれも「○」
吸湿膜の消衰係数：１×１０^−５
接着性の評価：製造直後１００％

［実施例７］
実施例１のガスバリア性シートを用い、ガスバリア膜上に、イオンプレーティング法にて、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）から形成される厚さ５０ｎｍの放熱性ガスバリア膜を設け、さらに放熱性ガスバリア膜の上に、イオンプレーティング法にて、酸化ストロンチウムから形成される厚さ１００ｎｍの吸湿膜を設けてガスバリア性シートを製造した。放熱性ガスバリア膜の成膜条件は下記の通りである。吸湿膜の成膜条件は実施例６と同様とした。

放熱性ガスバリア膜の成膜条件：
材料：エチレンガス
成膜時圧力：０．１Ｐａ
Ａｒ流量：２０ｓｃｃｍ、エチレン流量：１５ｓｃｃｍ
印加電力：５．０ｋＷ

なお、ガスバリア性シートの製造途中で放熱性ガスバリア膜を成膜したところで、放熱性ガスバリア膜の熱伝導率を測定した。その結果、３５Ｗ／ｍＫであった。放熱性ガスバリア膜の熱伝導率の測定は、アルバック理工社製の光交流法熱拡散率測定装置 ＬａｓｅｒＰＩＴ−１を用い、熱源にダイオードレーザ、測定環境を大気圧（２０℃）として熱伝導率を測定した。

以上のようにして準備したガスバリア性シートの特性を実施例１と同様にして評価した（吸湿膜の消衰係数は実施例６と同様の値となった）。各種の特性を以下に示す。

水蒸気透過率：０．０５ｇ／ｍ^２・ｄａｙ
酸素透過率：０．０５ｃｃ／ｍ^２・ｄａｙ・ａｔｍ
全光線透過率：８９．８％
ＹＩ：０．３
カールの評価：ヒートサイクル試験前後でいずれも「○」
接着性の評価：製造直後１００％

本発明のガスバリア性シートの一例を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートの他の一例を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。 ガスバリア性シートのカールの度合いを測定する方法を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。 本発明のガスバリア性シートのさらに他の一例を示す模式的な断面図である。

符号の説明

１，１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ，１Ｆ，１Ｇ，１Ｈ，１Ｉ ガスバリア性シート
２ 基材
３，３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ ガスバリア膜
４ 透明導電膜
５ ハードコート膜
６ ステンレス鋼製の基板
８ 頂点
９，９Ａ，９Ｂ アンカー膜
１０ ガスバリア性シートサンプル
１１ 一方の面
１２ 他方の面
１３ 吸湿膜
１４ 放熱性ガスバリア膜

Claims (14)

1. 基材と、該基材の一方の面の側に設けられたアンカー膜と、該アンカー膜の上に設けられたガスバリア膜と、を有するガスバリア性シートにおいて、
   前記アンカー膜が、シロキサン化合物と、蟻酸メチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、酪酸メチル、吉草酸メチル、蓚酸ジメチル、マロン酸ジメチル、琥珀酸ジメチル、蟻酸エチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、吉草酸エチル、蓚酸ジエチル、マロン酸ジエチル、及び琥珀酸ジエチルのうちの少なくとも１つである化合物Ａと、から構成されるポリシロキサン重合体を含有し、
   前記ガスバリア膜が、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜（ただし、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．１５〜１）であることを特徴とするガスバリア性シート。
2. 前記ポリシロキサン重合体が、７０ｍｏｌ％〜９９ｍｏｌ％の前記シロキサン化合物と、１ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％の前記化合物Ａと、で構成される、請求項１に記載のガスバリア性シート。
3. 前記アンカー膜の消衰係数が０．００００１〜０．０１である、請求項１又は２に記載のガスバリア性シート。
4. 前記ガスバリア膜の消衰係数が０．０００００１〜０．０１である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガスバリア性シート。
5. 前記基材の他方の面の側にも前記アンカー膜を設け、該アンカー膜の上に前記ガスバリア膜を設ける、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガスバリア性シート。
6. 前記ガスバリア膜の上に透明導電膜を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載のガスバリア性シート。
7. 前記ガスバリア性シートの少なくとも片面にハードコート膜を設ける、請求項１〜６のいずれか１項に記載のガスバリア性シート。
8. 二次粒子の凝集により前記ガスバリア膜が形成され、前記二次粒子の粒径が３００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載のガスバリア性シート。
9. 隣接する前記二次粒子間の距離が１００ｎｍ以上、３００ｎｍ以下である、請求項８に記載のガスバリア性シート。
10. 水分を吸脱着することができ、水分を吸着した場合においても固体状態を維持できる材料Ｂで形成される吸湿膜をさらに設ける、請求項１〜９のいずれか１項に記載のガスバリア性シート。
11. 前記材料Ｂがアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物である、請求項１０に記載のガスバリア性シート。
12. 前記吸湿膜の消衰係数が１×１０^−６〜１×１０^−３である、請求項１０又は１１に記載のガスバリア性シート。
13. 放熱性ガスバリア膜をさらに設ける、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のガスバリア性シート。
14. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載のガスバリア性シートの製造方法であって、
    シロキサン化合物と、蟻酸メチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、酪酸メチル、吉草酸メチル、蓚酸ジメチル、マロン酸ジメチル、琥珀酸ジメチル、蟻酸エチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、吉草酸エチル、蓚酸ジエチル、マロン酸ジエチル、及び琥珀酸ジエチルのうちの少なくとも１つである化合物Ａと、を重合させて得たポリシロキサン重合体を用いてアンカー膜を成膜するアンカー膜成膜工程と、
    ガスバリア膜を成膜するガスバリア膜成膜工程と、
    を有することを特徴とするガスバリア性シートの製造方法。
    

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