JP5293997B2 - Semiconductive vulcanized rubber composition, semiconductive vulcanized rubber molded product, and semiconductive rubber roll - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導電性加硫ゴム用組成物、半導電性加硫ゴム成形体、及びこれらを用いた感光体を備える電子写真複写機、プリンター等に用いられる半導電性ゴムロールに関する。 The present invention relates to a composition for a semiconductive vulcanized rubber, a semiconductive vulcanized rubber molded article, and a semiconductive rubber roll used in an electrophotographic copying machine, a printer or the like provided with a photoreceptor using these.
近年、接触型帯電式方式に用いられる帯電ロールや転写ロールなどの感光体に直接接触するロールにおいて、高画質や高速化等の要求から、基材部分でゴム材料のさらなる物性向上が求められている。 In recent years, in rolls that are in direct contact with a photoreceptor such as charging rolls and transfer rolls used in contact-type charging systems, there has been a demand for further improvements in the physical properties of rubber materials at the base material due to demands for high image quality and high speed. Yes.
特に電子写真複写機のゴム帯電ロール、およびゴム転写ロール等の半導電性ゴム材料(半導電性加硫ゴム)は下記(1)〜(7)の条件をみたすことが要求される。
(1)体積抵抗率106〜1010Ω・cm程度の導電性を有すること。
(2)低温低湿下、高温高湿下においても印刷特性が変わらないことが好ましいため、体積抵抗率の環境依存性が小さいこと。
(3)ロールを上記用途に用いる場合、ロールの両端部に荷重をかけて使用するため、長期にわたって、荷重変形が繰り返されることが多くゴムのへたりが問題となるため、圧縮永久歪性に優れていること。
(4)ロールの駆動トルクを低減させるため、また感光体表面に均一に帯電させるための軟質なゴム材料であること。
(5)加工、成型時に早期加硫がおこりにくいこと。
(6)加工、成型時における早期加硫を防止するために用いられる成分が、ゴム材料(加硫ゴム)よりブルームして、感光体表面に付着しないこと。
(7)ゴム材料(加硫ゴム)の研磨加工性が良いこと。
In particular, a semiconductive rubber material (semiconductive vulcanized rubber) such as a rubber charging roll and a rubber transfer roll of an electrophotographic copying machine is required to satisfy the following conditions (1) to (7).
(1) It has conductivity of about 10 6 to 10 10 Ω · cm in volume resistivity.
(2) Since it is preferable that the printing characteristics do not change even under low temperature and low humidity and high temperature and high humidity, the environmental dependency of volume resistivity is small.
(3) When a roll is used for the above-mentioned use, since both ends of the roll are loaded and used, load deformation is often repeated over a long period of time. Be excellent.
(4) A soft rubber material for reducing the driving torque of the roll and for uniformly charging the surface of the photoreceptor.
(5) Premature vulcanization is difficult to occur during processing and molding.
(6) The component used to prevent early vulcanization during processing and molding should bloom from the rubber material (vulcanized rubber) and not adhere to the surface of the photoreceptor.
(7) The rubber material (vulcanized rubber) has good polishing processability.
前記圧縮永久歪み性が優れた半導電性ゴム材料を得る方法として、2,3−ジメルカプトキノキサリン誘導体を用いた方法が開示されている(特許文献1参照)。前記2,3−ジメルカプトキノキサリン誘導体を用いる場合に、良好な加硫速度を得るため、加硫促進剤として、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7またはその弱酸塩を用いることが好ましい態様であるが、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等を添加することにより、これらを用いた加硫ゴム用組成物は、貯蔵中や、加硫工程以前の混練中、加工作業中に早期加硫を起こしやすいので、加硫遅延効果を得るために、通常、公知の加硫遅延剤であるN-シクロヘキシルチオフタルイミドが用いられる。 As a method for obtaining a semiconductive rubber material having excellent compression set, a method using a 2,3-dimercaptoquinoxaline derivative is disclosed (see Patent Document 1). When using the 2,3-dimercaptoquinoxaline derivative, in order to obtain a good vulcanization rate, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 or a weak acid salt thereof is used as a vulcanization accelerator. However, by adding 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 or the like, the composition for vulcanized rubber using them can be used during storage or before the vulcanization step. In order to obtain a vulcanization retarding effect, N-cyclohexylthiophthalimide, which is a known vulcanization retarder, is usually used during the kneading process.
前記N-シクロへキシルチオフタルイミドを加硫遅延剤として用いた場合、N-シクロへキシルチオフタルイミドは非常に優れた加硫遅延効果を示すが、一方、高温での加工作業中に、それ自体が昇華するため、臭気の問題や、昇華したN-シクロへキシルチオフタルイミドが工程設備表面に結晶化し、設備のメンテナンス頻度が増加するなどの問題があった。 When N-cyclohexylthiophthalimide is used as a vulcanization retarder, N-cyclohexylthiophthalimide exhibits a very good vulcanization retarding effect. As a result of sublimation, there were problems such as odor and sublimated N-cyclohexylthiophthalimide crystallized on the surface of the process equipment, increasing the maintenance frequency of the equipment.
更に、N-シクロへキシルチオフタルイミドには、エピハロヒドリンゴムとの相溶性の悪さの問題から、前記ゴム表面に移行し結晶化する、いわゆるブルーム現象が起こりやすい。そのため、特に帯電ローラ等に前記ゴムを使用する場合、感光体表面を汚染するという問題があった。 Furthermore, N-cyclohexylthiophthalimide is prone to a so-called Bloom phenomenon in which it migrates to the rubber surface and crystallizes due to the incompatibility with epihalohydrin rubber. Therefore, there is a problem that the surface of the photoreceptor is contaminated particularly when the rubber is used for a charging roller or the like.
また、早期加硫を防止するため、前記N−シクロヘキシルチオフタルイミドと併せて、有機亜鉛塩を用いる方法が開示されている(特許文献2参照)。 Moreover, in order to prevent premature vulcanization, a method using an organic zinc salt in combination with the N-cyclohexylthiophthalimide is disclosed (see Patent Document 2).
しかし、この場合も前記同様、前記N−シクロヘキシルチオフタルイミドを添加することにより、半導電性材料用途に用いられる帯電ローラ等において、ブルームの問題を解消することはできなかった。 However, in this case as well, as described above, the addition of the N-cyclohexylthiophthalimide could not solve the bloom problem in the charging roller used for the semiconductive material.
そこで、本発明者らは、上記(a)〜(e)を特定量含有する半導電性加硫ゴム用組成物を用いることにより、(1)半導電性、(2)環境依存性、(3)圧縮永久歪み性、(4)低硬度、(5)貯蔵安定性、(6)感光体非汚染性(半導電性加硫ゴム成形体表面へのブルームの抑制)、及び(7)半導電性加硫ゴム成形体の研磨加工性に優れた半導電性加硫ゴム成形体及びそれを用いた半導電性ゴムロールを提供することを目的とする。特に、通常、加硫遅延剤として使用されるN-シクロヘキシルチオフタルイミドを含有せずに、半導電性加硫ゴム成形体表面へのブルームを抑制できる半導電性加硫ゴム用組成物を提供することを目的とする。 Therefore, the present inventors have used (1) semiconductivity, (2) environment dependency, and (2) environment dependence by using a composition for semiconductive vulcanized rubber containing a specific amount of the above (a) to (e). 3) compression set, (4) low hardness, (5) storage stability, (6) non-contamination of photoreceptor (inhibition of bloom on the surface of semiconductive vulcanized rubber), and (7) semi It is an object of the present invention to provide a semiconductive vulcanized rubber molded article excellent in polishing processability of a conductive vulcanized rubber molded article and a semiconductive rubber roll using the same. In particular, the present invention provides a composition for semiconductive vulcanized rubber that can suppress bloom on the surface of a semiconductive vulcanized rubber molded article without containing N-cyclohexylthiophthalimide that is usually used as a vulcanization retarder. For the purpose.
すなわち、本発明の半導電性加硫ゴム用組成物は、(a)エピハロヒドリン系ゴム100重量部に対して、
(b)有機亜鉛化合物を0.1〜5重量部、
(c)1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7及び/又はその弱酸塩を0.1〜5重量部、
(d)キノキサリン系加硫剤を0.1〜10重量部、
(e)金属酸化物、金属水酸化物、及び無機マイクロポーラス・クリスタル類からなる群より選択される少なくとも1種である受酸剤を1〜10重量部を含有することを特徴とする。
That is, the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention is based on (a) 100 parts by weight of epihalohydrin rubber.
(B) 0.1 to 5 parts by weight of an organic zinc compound,
(C) 0.1 to 5 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and / or its weak acid salt,
(D) 0.1 to 10 parts by weight of a quinoxaline vulcanizing agent,
(E) It contains 1 to 10 parts by weight of an acid acceptor which is at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal hydroxides, and inorganic microporous crystals.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物においては、(b)有機亜鉛化合物が、ベンゾイミダゾール類、チオフェノール類、ジチオカルバミン酸類、及びカルボン酸類の亜鉛塩からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。 In the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention, (b) at least one organic zinc compound is selected from the group consisting of benzimidazoles, thiophenols, dithiocarbamic acids, and zinc salts of carboxylic acids. It is preferable that
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物においては、(c)1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7及び/又はその塩と、(b)有機亜鉛化合物の重量比が、0.15≦(c)/(b)≦0.7であることが好ましい。 In the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention, the weight ratio of (c) 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and / or a salt thereof and (b) an organic zinc compound is 0.15 ≦ (c) / (b) ≦ 0.7.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物においては、(d)キノキサリン系加硫剤が、6−メチルキノキサリン−2,3−ジチオカーボネートであることが好ましい。 In the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention, it is preferable that (d) the quinoxaline vulcanizing agent is 6-methylquinoxaline-2,3-dithiocarbonate.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物においては、前記無機マイクロポーラス・クリスタルが、合成ハイドロタルサイト、Li−Al包摂化合物、及び合成ゼオライトからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。 In the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention, the inorganic microporous crystal is at least one selected from the group consisting of synthetic hydrotalcite, Li-Al inclusion compound, and synthetic zeolite. Is preferred.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物においては、更に、(f)硫黄および/または活性硫黄放出型有機加硫促進剤を含有することが好ましい。 The semiconductive vulcanized rubber composition of the present invention preferably further contains (f) sulfur and / or active sulfur releasing organic vulcanization accelerator.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物においては、前記活性硫黄放出型有機加硫促進剤が、チウラム系化合物であることが好ましい。 In the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention, the active sulfur releasing organic vulcanization accelerator is preferably a thiuram compound.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物においては、前記チウラム系化合物が、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドであることが好ましい。 In the semiconductive vulcanized rubber composition of the present invention, the thiuram compound is preferably dipentamethylene thiuram tetrasulfide.
本発明の半導電性加硫ゴム成形体は、前記半導電性加硫ゴム用組成物を加硫してなることが好ましい。 The semiconductive vulcanized rubber molded article of the present invention is preferably formed by vulcanizing the composition for semiconductive vulcanized rubber.
本発明の半導電性ゴムロールは、前記半導電性加硫ゴム成形体からなり、感光体を備える電子写真用プロセスに使用されることが好ましい。 The semiconductive rubber roll of the present invention is preferably made of the semiconductive vulcanized rubber molded body and used in an electrophotographic process including a photoreceptor.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物は、上記(a)〜(e)を特定量含有し、通常、加硫遅延剤として使用されるN-シクロヘキシルチオフタルイミドを含有しないため、これを用いた半導電性加硫ゴム成形体や、更にこれを用いた電子写真複写機に用いられる帯電ロールや転写ロールなどの感光体に直接接触する半導電性ゴムロールに求められる(1)半導電性、(2)環境依存性、(3)圧縮永久歪み性、(4)低硬度、(5)貯蔵安定性、(6)半導電性加硫ゴム成形体表面へのブルームの抑制、及び(7)半導電性加硫ゴム成形体の研磨加工性の要件を充足するため、非常に有用である。 The composition for a semiconductive vulcanized rubber of the present invention contains a specific amount of the above (a) to (e) and does not contain N-cyclohexylthiophthalimide which is usually used as a vulcanization retarder. (1) Semiconductivity is required for semiconductive vulcanized rubber moldings used, and semiconductive rubber rolls that are in direct contact with a photoreceptor such as a charging roll or transfer roll used in an electrophotographic copying machine using the same. , (2) environmental dependence, (3) compression set, (4) low hardness, (5) storage stability, (6) suppression of bloom on the surface of the semiconductive vulcanized rubber molding, and (7 ) It is very useful because it satisfies the requirements for polishing processability of the semiconductive vulcanized rubber molding.
更に、特定の有機亜鉛化合物として、具体的にはベンゾイミダゾール類、チオフェノール類、ジチオカルバミン酸類、及びカルボン酸類の亜鉛塩からなる群より選択される少なくとも1種を用いた場合に、本発明の半導電性加硫ゴム成形体において、ブルームを抑制することができ、感光体表面を汚染すること防止できるため、電子写真複写機等に用いられる半導電性ゴム成形体(材料)として、非常に有用である。また、本発明は、キノキサリン系加硫剤と、前記特定の有機亜鉛化合物を組み合わせた場合に、加硫遅延効果を発揮でき、更にブルームを抑制できることが確認できた。 Furthermore, when at least one selected from the group consisting of zinc salts of benzimidazoles, thiophenols, dithiocarbamic acids, and carboxylic acids is used as the specific organic zinc compound, the half of the present invention is used. It is very useful as a semiconductive rubber molding (material) used in electrophotographic copying machines because it can suppress bloom in the conductive vulcanized rubber molding and prevent contamination of the photoreceptor surface. It is. Moreover, this invention has confirmed that when a quinoxaline type | system | group vulcanizing agent and the said specific organozinc compound were combined, a vulcanization delay effect can be exhibited and a bloom can be suppressed.
以下、本発明の構成について詳細に説明する。 Hereinafter, the configuration of the present invention will be described in detail.
本発明に使用される(a)エピハロヒドリン系ゴムとしては、エピハロヒドリン単独共重合体又はエピハロヒドリンと共重合可能なその他のエポキシド、例えばエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、アリルグリシジルエーテル等の共重合体をいう。これらを例示すると、エピクロルヒドリン単独重合体、エピブロムヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体、エピブロムヒドリン−エチレンオキサイド共重合体、エピクロルヒドリン−プロピレンオキサイド共重合体、エピブロムヒドリン−プロピレンオキサイド共重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体、エピブロムヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル四元共重合体、エピブロムヒドリン−エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル四元共重合体等を挙げることができる。これらの単独重合体又は共重合体を1種又は2種以上併用して使用することができる。 The (a) epihalohydrin rubber used in the present invention refers to an epihalohydrin homopolymer or other epoxide copolymerizable with epihalohydrin, such as ethylene oxide, propylene oxide, allyl glycidyl ether, and the like. Examples of these are epichlorohydrin homopolymer, epibromohydrin homopolymer, epichlorohydrin-ethylene oxide copolymer, epibromohydrin-ethylene oxide copolymer, epichlorohydrin-propylene oxide copolymer, epibromohydrin- Propylene oxide copolymer, epichlorohydrin-ethylene oxide-allyl glycidyl ether ternary copolymer, epibromohydrin-ethylene oxide-allyl glycidyl ether terpolymer, epichlorohydrin-ethylene oxide-propylene oxide-allyl glycidyl ether quaternary Examples thereof include a copolymer and an epibromohydrin-ethylene oxide-propylene oxide-allyl glycidyl ether quaternary copolymer. These homopolymers or copolymers can be used alone or in combination of two or more.
前記(a)エピハロヒドリン系ゴムとしては、好ましくはエピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体であり、更に好ましくはエピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体である。 The (a) epihalohydrin rubber is preferably an epichlorohydrin homopolymer, epichlorohydrin-ethylene oxide copolymer, epichlorohydrin-ethylene oxide-allyl glycidyl ether terpolymer, and more preferably epichlorohydrin-ethylene oxide-allyl. It is a glycidyl ether terpolymer.
これら単独重合体または共重合体の分子量は、通常ムーニー粘度表示でML1+4(100℃)=30〜150程度のものがそのまま用いられる。 As for the molecular weight of these homopolymers or copolymers, those having a Mooney viscosity display of about ML 1 + 4 (100 ° C.) = 30 to 150 are usually used as they are.
本発明における(b)有機亜鉛化合物は、半導電性加硫ゴム用組成物の早期加硫性を改善するため、加硫遅延剤として使用され、更に感光体非汚染性を向上させるために加えられている。通常、公知の加硫遅延剤であるN-シクロヘキシルチオフタルイミドを使用して、早期加硫性を改善するが、N-シクロヘキシルチオフタルイミドを配合することにより、ブルームの問題が生じるため、(b)成分と共に、下記に具体的に説明する(d)キノキサリン系加硫剤を併用することにより、早期加硫性の改善及び感光体非汚染性を向上させることができる。 The (b) organozinc compound in the present invention is used as a vulcanization retarder in order to improve the early vulcanization property of the semiconductive vulcanized rubber composition, and is added in order to further improve the photoreceptor non-contamination property. It has been. Usually, N-cyclohexylthiophthalimide, which is a known vulcanization retarder, is used to improve early vulcanizability. However, the incorporation of N-cyclohexylthiophthalimide causes a bloom problem. By using together with the component (d) a quinoxaline-based vulcanizing agent, which will be described in detail below, it is possible to improve early vulcanization and non-contamination of the photoreceptor.
(b)成分の配合量は、(a)エピハロヒドリン系ゴム100重量部に対して、0.1〜5重量部であり、好ましくは、0.5〜2重量部である。配合量が0.1重量部未満であると、加硫遅延効果を充分に発揮することができず、5重量部を越えると、経済的でなく、好ましくない。 The amount of component (b) is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.5 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of (a) epihalohydrin rubber. If the blending amount is less than 0.1 parts by weight, the effect of delaying vulcanization cannot be sufficiently exhibited, and if it exceeds 5 parts by weight, it is not economical and not preferred.
前記(b)成分として、例えば、ベンゾイミダゾール類、チアゾール類、ジチオカルバミン酸類、キサントゲン酸類、ジチオリン酸類、カルボン酸類、チオール類およびチオフェノール類の亜鉛塩等が挙げられる。感光体非汚染性に関してベンゾイミダゾール類、チオフェノール類、ジチオカルバミン酸類、カルボン酸類の亜鉛塩が好ましく、ベンゾイミダゾール類、カルボン酸類の亜鉛塩が特に好ましい。 Examples of the component (b) include benzimidazoles, thiazoles, dithiocarbamic acids, xanthogenic acids, dithiophosphoric acids, carboxylic acids, thiols, and zinc salts of thiophenols. Benzimidazoles, thiophenols, dithiocarbamic acids, and zinc salts of carboxylic acids are preferable, and benzimidazoles and zinc salts of carboxylic acids are particularly preferable in terms of non-contamination of the photoreceptor.
更に、前記(b)成分の具体例としては、2-メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、2−メルカプトベンゾチアゾールの塩、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ペンタメチレンジチオカルバミン酸亜鉛、ジアミルジチオカルバミン酸亜鉛、ブチルキサントゲン酸亜鉛、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛、o,o’−ジイソプロピルジチオリン酸亜鉛、o,o’−ジブチルジチオリン酸亜鉛、2−ベンズアミドチオフェノールの亜鉛塩、ステアリン酸亜鉛などが挙げられる。またこれら亜鉛化合物は、本発明の効果を損なわない限り、単独で用いても、2種以上併用しても問題は無い。 Specific examples of the component (b) include 2-mercaptobenzimidazole zinc salt, 2-mercaptobenzothiazole salt, zinc dibenzyldithiocarbamate, zinc dibutyldithiocarbamate, zinc pentamethylenedithiocarbamate, diamyldithiocarbamine. Zinc acid, zinc butylxanthate, zinc isopropylxanthate, zinc o, o'-diisopropyldithiophosphate, zinc o, o'-dibutyldithiophosphate, zinc salt of 2-benzamidothiophenol, zinc stearate and the like. These zinc compounds may be used alone or in combination of two or more, as long as the effects of the present invention are not impaired.
本発明に用いられる(c)加硫促進剤は、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(DBU)及び/又はその弱酸塩を用いられるが、その取り扱い面から、炭酸塩、カルボン酸塩、フェノール塩、チオール塩等の弱酸塩として、使用することもできる。これらDBUの塩の代表的なものとしては、例えば、DBU-炭酸塩、DBU-ステアリン酸塩、DBU-2−エチルヘキシル酸塩、DBU-安息香酸塩、DBU-サリチル酸塩、DBU-3−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸塩、DBU-フェノール樹脂塩、DBU-2−メルカプトベンゾチアゾール塩、DBU-2−メルカプトベンゾイミダゾール塩等を挙げることができる。 As the vulcanization accelerator (c) used in the present invention, 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 (DBU) and / or its weak acid salt is used. , Carboxylate, phenol salt, thiol salt and other weak acid salts can be used. Representative examples of these DBU salts include, for example, DBU-carbonate, DBU-stearate, DBU-2-ethylhexylate, DBU-benzoate, DBU-salicylate, DBU-3-hydroxy- Examples thereof include 2-naphthoate, DBU-phenol resin salt, DBU-2-mercaptobenzothiazole salt, DBU-2-mercaptobenzimidazole salt and the like.
前記(c)成分の配合量は、(a)エピハロヒドリン系ゴム100重量部に対して、0.1〜5重量部であり、好ましくは、0.25〜2重量部である。配合量が0.1重量部未満であると、充分に加硫が進行せず優れた圧縮永久歪性が得られない。一方、配合量が5重量部を越えるとエピハロヒドリン系ゴムの加硫速度が速くなりすぎて、加工上の問題を生じる恐れがある。 The amount of component (c) is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.25 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of (a) epihalohydrin rubber. When the blending amount is less than 0.1 parts by weight, vulcanization does not proceed sufficiently and excellent compression set cannot be obtained. On the other hand, if the blending amount exceeds 5 parts by weight, the vulcanization rate of the epihalohydrin rubber becomes too fast, which may cause a processing problem.
更に早期加硫防止効果に関しては、(c) 成分と(b)成分との重量比を0.15≦(c)/(b)≦0.7に設定するのが好ましく、さらに、0.30≦(c)/(b)≦0.7に設定するのが特に好ましい。 Further, regarding the effect of preventing early vulcanization, the weight ratio of the component (c) and the component (b) is preferably set to 0.15 ≦ (c) / (b) ≦ 0.7, and further 0.30 It is particularly preferable to set ≦ (c) / (b) ≦ 0.7.
本発明において、(d)キノキサリン系加硫剤は、本発明の半導電性加硫ゴム用組成物を加硫するために用いられ、その配合量は、(a)エピハロヒドリン系ゴム100重量部に対して、0.1〜10重量部であり、好ましくは、0.5〜5重量部である。前記配合量が0.1重量部未満であると、加硫が不十分となり、10重量部を越えると、加硫の進行が過多となり、得られるゴム材料(加硫ゴム)が剛直になりすぎて、通常、エピハロヒドリン系ゴム(加硫ゴム)として期待される物性が得られなくなる。 In the present invention, (d) the quinoxaline-based vulcanizing agent is used for vulcanizing the semiconductive vulcanized rubber composition of the present invention, and the blending amount thereof is (a) 100 parts by weight of epihalohydrin-based rubber. On the other hand, it is 0.1-10 weight part, Preferably, it is 0.5-5 weight part. When the blending amount is less than 0.1 parts by weight, vulcanization is insufficient, and when it exceeds 10 parts by weight, the progress of vulcanization becomes excessive, and the resulting rubber material (vulcanized rubber) becomes too rigid. In general, the physical properties expected as an epihalohydrin rubber (vulcanized rubber) cannot be obtained.
前記(d)成分の例としては、キノキサリン−2,3−ジチオカーボネート、6―メチルキノキサリン−2,3−ジチオカーボネート、6−イソプロピルキノキサリン−2,3−ジチオカーボネート、5,8−ジメチルキノキサリン−2,3−ジチオカーボネート等が挙げられる。特に6−メチルキノキサリン−2,3−ジチオカーボネートを用いることが好ましい態様であり、その配合量が0.5〜5重量部の場合が、更に好ましい。 Examples of the component (d) include quinoxaline-2,3-dithiocarbonate, 6-methylquinoxaline-2,3-dithiocarbonate, 6-isopropylquinoxaline-2,3-dithiocarbonate, 5,8-dimethylquinoxaline- 2,3-dithiocarbonate and the like can be mentioned. In particular, it is preferable to use 6-methylquinoxaline-2,3-dithiocarbonate, and it is more preferable that the blending amount is 0.5 to 5 parts by weight.
本発明で用いられる(e)受酸剤としては、金属酸化物、金属水酸化物、及び無機マイクロポーラス・クリスタル類からなる群より選択される少なくとも1種が、加硫剤に応じて使用され、好ましくは無機マイクロポーラス・クリスタル、又は無機マイクロポーラス・クリスタル及び金属化合物であり、特に好ましくは、無機マイクロポーラス・クリスタルが挙げられる。 As the (e) acid acceptor used in the present invention, at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal hydroxides, and inorganic microporous crystals is used depending on the vulcanizing agent. Inorganic microporous crystals or inorganic microporous crystals and metal compounds are preferable, and inorganic microporous crystals are particularly preferable.
前記無機マイクロポーラス・クリスタル類とは、結晶性の多孔体をいい、無定型の多孔体、例えばシリカゲル、アルミナ等とは明瞭に区別できるものである。このような無機マイクロポーラス・クリスタルの例としては、ゼオライト類、アルミノホスフェート型モレキュラーシーブ、層状ケイ酸塩、合成ハイドロタルサイト、チタン酸アルカリ金属塩等が挙げられる。より好ましい受酸剤としては、ゼオライト類および合成ハイドロタルサイトが挙げられ、特に好ましくは、合成ハイドロタルサイトが挙げられる。 The inorganic microporous crystal refers to a crystalline porous body, and can be clearly distinguished from an amorphous porous body such as silica gel and alumina. Examples of such inorganic microporous crystals include zeolites, aluminophosphate type molecular sieves, layered silicates, synthetic hydrotalcites, alkali metal titanates and the like. More preferred acid-accepting agents include zeolites and synthetic hydrotalcite, and particularly preferred is synthetic hydrotalcite.
前記ゼオライト類は、天然ゼオライトのほか、A型、X型、Y型の合成ゼオライト、ソーダライト類、天然ないしは合成モルデナイト、ZSM−5などの各種ゼオライトおよびこれらの金属置換体であり、これらは単独で用いても2種以上の組み合わせで用いても良い。また金属置換体の金属はナトリウムであることが多い。ゼオライト類としては酸受容能が大きいものが好ましく、A型ゼオライトが好ましい。 The zeolites are natural zeolites, A type, X type, Y type synthetic zeolites, sodalites, natural or synthetic mordenites, various zeolites such as ZSM-5, and metal substitutes thereof. It may be used in combination of two or more. Further, the metal of the metal substitution product is often sodium. As the zeolite, those having a large acid-accepting ability are preferable, and A-type zeolite is preferable.
前記合成ハイドロタルサイトは、下記一般式(1)で表される。
MgXZnYAlZ(OH)2(X+Y)+3Z−2CO3・wH2O (1)
[式中、xとy は0〜10の実数、但しx+yは1〜10、zは1〜5の実数、wは0〜10の実数をそれぞれ示す]で表わされる。一般式(1)で表されるハイドロタルサイト類の例として、Mg4.5Al2(OH)13CO3・3.5H2O、Mg4.5Al2(OH)13CO3、Mg4Al2(OH)12CO3・3.5H2O、Mg6Al2(OH)16CO3・4H2O、Mg5Al2(OH)14CO3・4H2O、Mg3Al2(OH)10CO3・1.7H2O、Mg3ZnAl2(OH)12CO3・wH2O、Mg3ZnAl2(OH)12CO3 、等を挙げることができる。
The synthetic hydrotalcite is represented by the following general formula (1).
Mg X Zn Y Al Z (OH ) 2 (X + Y) + 3Z-2 CO 3 · wH 2 O (1)
[Wherein x and y are real numbers of 0 to 10, where x + y is 1 to 10, z is a real number of 1 to 5, and w is a real number of 0 to 10, respectively]. Examples of hydrotalcites represented by the general formula (1) include Mg 4.5 Al 2 (OH) 13 CO 3 .3.5H 2 O, Mg 4.5 Al 2 (OH) 13 CO 3 , Mg 4 Al 2 (OH) 12 CO 3 .3.5H 2 O, Mg 6 Al 2 (OH) 16 CO 3 .4H 2 O, Mg 5 Al 2 (OH) 14 CO 3 .4H 2 O, Mg 3 Al 2 (OH) 10 CO 3 · 1.7H 2 O, Mg 3 ZnAl 2 (OH) 12 CO 3 · wH 2 O, Mg 3 ZnAl 2 (OH) 12 CO 3, and the like.
前記無機マイクロポーラス・クリスタル類の中で、特に良好な圧縮永久歪み性が得られる受酸剤としては、好ましくは、合成ハイドロタルサイト、Li−Al包摂化合物、合成ゼオライト、またはこれらと金属酸化物を併用したものが挙げられ、特に好ましくは合成ハイドロタルサイトまたは、合成ハイドロタルサイトと金属酸化物との併用したものが挙げられる。 Among the inorganic microporous crystals, the acid acceptor capable of obtaining particularly good compression set is preferably synthetic hydrotalcite, Li-Al inclusion compound, synthetic zeolite, or a metal oxide thereof. In particular, a synthetic hydrotalcite or a combination of a synthetic hydrotalcite and a metal oxide is particularly preferable.
前記無機マイクロポーラス・クリスタル類以外の受酸剤としては、金属酸化物及び金属水酸化物が用いられるが、本発明の効果を損なわない限りにおいて、その他の金属化合物を使用することができる。例としては、周期表第II族(2族および12族)金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩、ケイ酸塩、ホウ酸塩、亜リン酸塩、周期表III族(3族および13族)金属の酸化物、水酸化物、カルボン酸塩、ケイ酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、周期表第IV族(4族および14族)金属の酸化物、塩基性炭酸塩、塩基性カルボン酸塩、塩基性亜リン酸塩、塩基性亜硫酸塩、三塩基性硫酸塩等の金属化合物が挙げられる。特に、金属酸化物および金属水酸化物を使用することが好ましい態様である。 As the acid acceptor other than the inorganic microporous crystals, metal oxides and metal hydroxides are used, but other metal compounds can be used as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples include Periodic Table Group II (Group 2 and Group 12) metal oxides, hydroxides, carbonates, carboxylates, silicates, borates, phosphites, Periodic Table Group III ( Group 3 and Group 13) Metal oxides, hydroxides, carboxylates, silicates, sulfates, nitrates, phosphates, Group IV (Groups 4 and 14) metal oxides, bases Metal compounds such as basic carbonate, basic carboxylate, basic phosphite, basic sulfite, and tribasic sulfate. In particular, it is preferable to use a metal oxide and a metal hydroxide.
更に、前記金属酸化物、金属水酸化物及びその他の金属化合物の具体例として、マグネシア、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、生石灰、消石灰、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、フタル酸カルシウム、亜リン酸カルシウム、亜鉛華、酸化錫、リサージ、鉛丹、鉛白、二塩基性フタル酸鉛、二塩基性炭酸鉛、ステアリン酸錫、塩基性亜リン酸鉛、塩基性亜リン酸錫、塩基性亜硫酸鉛、三塩基性硫酸鉛等を挙げることができる。 Further, specific examples of the metal oxide, metal hydroxide and other metal compounds include magnesia, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, barium hydroxide, magnesium carbonate, barium carbonate, quicklime, slaked lime, calcium carbonate, silicic acid. Calcium, calcium stearate, calcium phthalate, calcium phosphite, zinc white, tin oxide, lisage, red lead, lead white, dibasic lead phthalate, dibasic lead carbonate, tin stearate, basic lead phosphite, Examples thereof include basic tin phosphite, basic lead sulfite, and tribasic lead sulfate.
前記(e)成分の配合量は、(a)エピハロヒドリン系ゴム100重量部に対して1〜10重量部が好ましく、1.5〜5重量部が更に好ましい。前記配合量が1重量部未満の場合、架橋が不十分となり、一方前記配合量が10重量部を超えると、加硫物(加硫ゴム)が剛直になりすぎて、通常、エピハロヒドリン系ゴム(加硫ゴム)として期待される物性が得られなくなる。 The amount of the component (e) is preferably 1 to 10 parts by weight, more preferably 1.5 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (a) epihalohydrin rubber. When the blending amount is less than 1 part by weight, crosslinking is insufficient. On the other hand, when the blending amount exceeds 10 parts by weight, the vulcanizate (vulcanized rubber) becomes too rigid, and usually an epihalohydrin rubber ( The physical properties expected as vulcanized rubber) cannot be obtained.
本発明に用いられる(f)硫黄および/または活性硫黄放出型有機加硫促進剤としては、本発明組成物を加硫せしめたゴム材料(加硫ゴム)の研磨加工性を改良するために加えられ、その配合量は、(a)エピハロヒドリン系ゴム100重量部に対して、0.05〜10重量部が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量部である。前記配合量が0.05重量部未満であると、研磨加工性を向上させる効果が期待できず、10重量部を越えるとゴム材料(加硫ゴム)が剛直となり、好ましくない。 The (f) sulfur and / or active sulfur releasing type organic vulcanization accelerator used in the present invention is added to improve the polishing processability of a rubber material (vulcanized rubber) obtained by vulcanizing the composition of the present invention. The blending amount is preferably 0.05 to 10 parts by weight, and more preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of (a) epihalohydrin rubber. If the blending amount is less than 0.05 parts by weight, the effect of improving the polishing processability cannot be expected, and if it exceeds 10 parts by weight, the rubber material (vulcanized rubber) becomes rigid, which is not preferable.
前記(f)成分の具体例としては、硫黄やテトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムモノスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、N,N′−ジメチル−N,N′−ジフェニルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムモノスルフィド、ジペンタメチレンチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、ジペンタメチレンチウラムヘキサスルフィド等の活性硫黄放出型有機加硫促進剤の化合物が挙げられる。特にジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドを用いることが好ましい態様であり、その配合量が0.1〜0.5重量部の場合が、更に好ましい。 Specific examples of the component (f) include sulfur, tetramethylthiuram monosulfide, tetramethylthiuram disulfide, tetraethylthiuram disulfide, tetrabutylthiuram monosulfide, tetrabutylthiuram disulfide, N, N′-dimethyl-N, N ′. -Active sulfur-releasing organic vulcanization accelerator compounds such as diphenylthiuram disulfide, dipentamethylene thiuram monosulfide, dipentamethylene thiuram disulfide, dipentamethylene thiuram tetrasulfide, dipentamethylene thiuram hexasulfide. In particular, it is preferable to use dipentamethylene thiuram tetrasulfide, and it is more preferable that the blending amount is 0.1 to 0.5 parts by weight.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物には、上記の他に当該技術分野で行われる各種の老化防止剤、充填剤、補強剤、可塑剤、加工助剤、顔料、難燃剤、加硫促進剤、加硫遅延剤等を任意に配合することができる。さらに本発明の特性が失われない範囲で、当該技術分野で通常行われているゴムや、樹脂を少量ブレンドすることもできる。 In addition to the above, the composition for a semiconductive vulcanized rubber of the present invention includes various anti-aging agents, fillers, reinforcing agents, plasticizers, processing aids, pigments, flame retardants, additives, which are used in the technical field. Sulfur accelerators, vulcanization retarders, and the like can be arbitrarily blended. Furthermore, a rubber or resin usually used in the art can be blended in a small amount as long as the characteristics of the present invention are not lost.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物の配合方法としては、従来ポリマー加工の分野において利用されている任意の手段を用いることができ、例えばミキシングロール、バンバリーミキサー、各種ニーダー類等を利用する事ができる。本発明の半導電性加硫ゴム成形体は、本発明の半導電性加硫ゴム用組成物を通常100〜200℃に加熱する事で得られ、加硫時間は温度により異なるが、0.5〜300分の間で行われるのが通常である。加硫成型の方法としては、金型による圧縮成型、射出成型、スチーム缶、エアーバス、赤外線或いはマイクロウェーブによる加熱等任意の方法を用いることが出来る。 As a method of blending the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention, any means conventionally used in the field of polymer processing can be used, for example, using a mixing roll, a Banbury mixer, various kneaders, etc. I can do it. The semiconductive vulcanized rubber molded product of the present invention can be obtained by heating the semiconductive vulcanized rubber composition of the present invention to 100 to 200 ° C., and the vulcanization time varies depending on the temperature. Usually between 5 and 300 minutes. As a method of vulcanization molding, any method such as compression molding using a mold, injection molding, a steam can, an air bath, infrared rays, or heating by microwaves can be used.
以下、本発明を実施例、及び比較例により、具体的に説明する。なお、本発明はその要旨に逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In addition, this invention is not limited to a following example, unless it deviates from the summary.
<実施例1〜11、比較例1〜3>
まず、表1、及び表2に示す各配合剤を120℃の加圧式ニーダーにて混練し、A練りコンパウンドを作製した。このA練りコンパウンドをオープンロールにて混練りし、B練りコンパウンドを作製した。なお、表中のAとは、A練りコンパウンドの原料であり、Bとは、B練りコンパウンドを作成する際に、A練りコンパウンドに更に配合する原料を示すものである。
<Examples 1-11, Comparative Examples 1-3>
First, each compounding agent shown in Tables 1 and 2 was kneaded with a pressure kneader at 120 ° C. to prepare an A-kneaded compound. This A kneaded compound was kneaded with an open roll to prepare a B kneaded compound. In addition, A in a table | surface is a raw material of A kneading compound, B shows the raw material further mix | blended with A kneading compound, when producing B kneading compound.
以下に実施例、比較例で用いた配合剤を示す。
※1 ダイソー株式会社製、エピクロロヒドリン−エチレンオキシド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体、「エピクロマーDG」
※2 協和化学工業株式会社製、DHT−4A(合成ハイドロタルサイト)
※3 ダイソー株式会社製、P−152(1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7のフェノール樹脂塩:DBU塩)
※4 白石カルシウム株式会社製、軽微性炭酸カルシウム赤玉
The compounding agents used in Examples and Comparative Examples are shown below.
* 1 Epichlorohydrin-ethylene oxide-allyl glycidyl ether terpolymer made by Daiso Corporation, "Epichromer DG"
* 2 DHT-4A (synthetic hydrotalcite) manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.
* 3 P-152 manufactured by Daiso Corporation (1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 phenol resin salt: DBU salt)
* 4 Light calcium carbonate akadama made by Shiraishi Calcium Co., Ltd.
<ムーニースコーチ試験>
L型ロータ(径38.1mm)を用いてJIS K6300に基づき測定した。各表中、Vmは最低粘度、t5はJIS K6300のムーニースコーチ試験に定めるムーニースコーチ時間を表す。
<Mooney scorch test>
Measurement was performed based on JIS K6300 using an L-shaped rotor (diameter 38.1 mm). In each table, Vm is the minimum viscosity, and t5 is the Mooney scorch time defined in the Mooney scorch test of JIS K6300.
<貯蔵安定性試験>
全ての添加剤を混練したコンパウンドを35℃、相対湿度75%の条件に設定した恒温恒湿槽中で4日間静置した後、ムーニースコーチ試験をJIS K6300−1に基づき実施し、貯蔵安定性を測定した。なお、初期および4日湿熱保存後(35℃×75%相対湿度)において、Vmおよびt5を測定することにより、未加硫の半導電性加硫ゴム用組成物の初期安定性および貯蔵安定性について評価を行った。なお、各表中のΔVmは、初期及び上記4日間湿熱保存(35℃、相対湿度75%)後におけるVmの差であり、貯蔵(保存)安定性を評価する値を示す。
<Storage stability test>
A compound in which all additives were kneaded was allowed to stand for 4 days in a constant temperature and humidity chamber set at 35 ° C. and a relative humidity of 75%, and then the Mooney scorch test was carried out based on JIS K6300-1, and storage stability Was measured. The initial stability and storage stability of the unvulcanized semiconductive vulcanized rubber composition were measured by measuring Vm and t5 at the initial stage and after storage for 4 days with moist heat (35 ° C. × 75% relative humidity). Was evaluated. In addition, (DELTA) Vm in each table | surface is a difference of Vm after an initial stage and the said 4-day wet heat storage (35 degreeC, relative humidity 75%), and shows the value which evaluates storage (preservation) stability.
<引張特性>
前記で作製したB練りコンパウンドをシート化したものを混練直後に金型に入れ、170℃で15分間プレス加硫し、加硫ゴム成形体(150mm×150mm×2mm)を成形した。さらに、150℃のエアオーブンで1時間2次加硫をおこなった。得られた2次加硫ゴム成形体より、JIS K6251に示されるダンベル状3号形試験片を、打ち抜き型を用いて打ち抜き、JIS K6251に準拠して、引張応力、引張強度、破断伸びを測定した。なお、各表中のM100は、JIS K6251の引張試験に定める100%伸び時の引張応力、M300はJIS K6251の引張試験に定める300%伸び時の引張応力、TBはJIS K6251の引張試験に定める引張強度、EBはJIS K6251の引張試験に定める破断伸びを示す。
<Tensile properties>
The B-kneaded compound prepared as described above was made into a sheet immediately after kneading and was press-vulcanized at 170 ° C. for 15 minutes to form a vulcanized rubber molded product (150 mm × 150 mm × 2 mm). Further, secondary vulcanization was performed in an air oven at 150 ° C. for 1 hour. From the obtained secondary vulcanized rubber molding, a dumbbell-shaped No. 3 test piece shown in JIS K6251 is punched out using a punching die, and tensile stress, tensile strength, and elongation at break are measured according to JIS K6251. did. In the tables, M100 is the tensile stress at 100% elongation defined in the tensile test of JIS K6251, M300 is the tensile stress at 300% elongation defined in the tensile test of JIS K6251, and TB is defined in the tensile test of JIS K6251. Tensile strength, EB, indicates elongation at break as defined in JIS K6251 tensile test.
<硬度>
加硫物硬度はJIS K6253に準拠して測定し、A硬度が50以下であれば、低硬度(軟質)であり、本発明の目的に適当であると判断した。各表中のHsはJIS K6253の硬さ試験に定める硬さをそれぞれ意味する。
<Hardness>
The vulcanizate hardness was measured according to JIS K6253. If the A hardness was 50 or less, it was judged to be low hardness (soft) and suitable for the purpose of the present invention. Hs in each table means the hardness specified in the hardness test of JIS K6253.
<圧縮永久歪み試験>
JIS K6262に基づき測定した。すなわち、前記B練りシートを、試験片作製用金型を用いて170℃で20分間プレス加硫し、円柱状加硫ゴム試験片(厚さ約12.5mm×直径約29mm)を得た。さらに、150℃のエアオーブンで1時間2次加硫をおこなった。得られた2次加硫ゴム試験片を用いて、測定した。
<Compression set test>
It measured based on JIS K6262. That is, the B kneaded sheet was press vulcanized at 170 ° C. for 20 minutes using a test piece preparation mold to obtain a cylindrical vulcanized rubber test piece (thickness: about 12.5 mm × diameter: about 29 mm). Further, secondary vulcanization was performed in an air oven at 150 ° C. for 1 hour. It measured using the obtained secondary vulcanized rubber test piece.
<体積固有抵抗率>
JIS K6271に基づき測定した。すなわち、加硫したシート及び絶縁抵抗計(三菱油化(株)製絶縁抵抗計ハイレスタHP)を23℃、相対湿度50%の条件に設定した恒温恒湿槽中で24時間以上静置した後、10Vを印加し、1分後の値を読みとった。
<Volume specific resistivity>
It measured based on JIS K6271. That is, after leaving a vulcanized sheet and an insulation resistance meter (insulation resistance meter Hiresta HP, manufactured by Mitsubishi Yuka Co., Ltd.) in a constant temperature and humidity chamber set at 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 24 hours or more. 10V was applied and the value after 1 minute was read.
<ブルーム試験>
加硫したシートを35℃、75%相対湿度の条件に設定した恒温恒湿槽中で10日間静置した後、加硫シート表面を目視にて確認した。
〇:加硫シートの表面に変化無し
△:加硫シート表面に薄く汚れが確認される
×:加硫シート表面に汚れが確認される
<Broom test>
The vulcanized sheet was allowed to stand in a constant temperature and humidity chamber set at 35 ° C. and 75% relative humidity for 10 days, and then the surface of the vulcanized sheet was visually confirmed.
○: No change on the surface of the vulcanized sheet △: Dirt is confirmed on the surface of the vulcanized sheet ×: Dirt is confirmed on the surface of the vulcanized sheet
各試験方法より得られた実施例および比較例の試験結果を表3、表4に示す。 Tables 3 and 4 show the test results of Examples and Comparative Examples obtained from each test method.
表3、表4の実施例1〜11が示すように、公知の加硫遅延剤であるN−シクロヘキシルチオフタルイミドを用いずに、有機亜鉛化合物により加硫遅延効果が得られた。またN−シクロヘキシルチオフタルイミドを用いた比較例1と比較すると、有機亜鉛化合物を用いた実施例ではブルームを抑制し、特に実施例1と4〜11ではまったく認められなかった。また、加硫促進剤を多く添加した比較例2では、得られた加硫ゴムを成型することができず、加硫促進剤を添加しない比較例3では、加硫自体が進行せず、評価することができなかった。 As shown in Examples 1 to 11 in Tables 3 and 4, a vulcanization delay effect was obtained with an organic zinc compound without using N-cyclohexylthiophthalimide, which is a known vulcanization retarder. Moreover, compared with Comparative Example 1 using N-cyclohexylthiophthalimide, Bloom was suppressed in Examples using organozinc compounds, and in Examples 1 and 4 to 11 in particular, no bloom was observed. Further, in Comparative Example 2 in which a large amount of the vulcanization accelerator was added, the obtained vulcanized rubber could not be molded, and in Comparative Example 3 in which no vulcanization accelerator was added, the vulcanization itself did not proceed and evaluation was performed. I couldn't.
本発明の半導電性加硫ゴム用組成物を加硫して得られる半導電性加硫ゴム成形体は、(1)半導電性、(2)環境依存性、(3)圧縮永久歪み性、(4)低硬度、(5)貯蔵安定性、(6)感光体非汚染性(半導電性加硫ゴム成形体表面へのブルームの抑制)、及び(7)半導電性加硫ゴム成形体の研磨加工性に優れたものとなっており、電子写真複写機、プリンター等に用いられる半導電性ゴムロール等の用途に極めて有効である。 The semiconductive vulcanized rubber molded product obtained by vulcanizing the composition for semiconductive vulcanized rubber of the present invention has (1) semiconductivity, (2) environment dependency, and (3) compression set. , (4) low hardness, (5) storage stability, (6) photoreceptor non-contaminating (inhibition of bloom on the surface of the semiconductive vulcanized rubber molding), and (7) semiconductive vulcanized rubber molding It has excellent body grindability and is extremely effective for applications such as semiconductive rubber rolls used in electrophotographic copying machines and printers.
Claims (9)
(b)ベンゾイミダゾール類の亜鉛塩、及びカルボン酸類の亜鉛塩からなる群より選択される少なくとも1種である有機亜鉛化合物を0.1〜5重量部、
(c)1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7及び/又はその弱酸塩を0.1〜2重量部、
(d)キノキサリン系加硫剤を0.1〜10重量部、
(e)金属酸化物、金属水酸化物、及び無機マイクロポーラス・クリスタル類からなる群より選択される少なくとも1種である受酸剤を1〜10重量部を含有し、N−シクロヘキシルチオフタルイミドを含有しないことを特徴とする電子写真用プロセス用半導電性加硫ゴム用組成物。 (A) For 100 parts by weight of epihalohydrin rubber,
(B) 0.1 to 5 parts by weight of an organic zinc compound that is at least one selected from the group consisting of zinc salts of benzimidazoles and zinc salts of carboxylic acids ;
(C) 0.1 to 2 parts by weight of 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7 and / or its weak acid salt,
(D) 0.1 to 10 parts by weight of a quinoxaline vulcanizing agent,
(E) containing 1 to 10 parts by weight of an acid acceptor which is at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal hydroxides, and inorganic microporous crystals, and N-cyclohexylthiophthalimide A composition for a semiconductive vulcanized rubber for an electrophotographic process, which is not contained .
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