JP5243988B2 - 多軸力覚センサおよび加速度センサ - Google Patents
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Description
そして、第1群の歪検出用抵抗素子Sp1〜Sp4は、p型の半導体素子からなり、第2群の歪検出用抵抗素子Sn1〜Sn4は、n型の半導体素子からなる。
減衰装置9は、外力Pが入力される入力部91と、入力部91に加えられた外力Pを減衰して多軸力覚センサ1の作用部2に伝達する伝達部92と、多軸力覚センサ1を固定する固定部93と、固定部93と入力部91とを連結する減衰部94と、を備えている。
かかる構成により、多軸力覚センサ1の耐力を超えるような過大な外力Pが印加された場合であっても、適宜減衰された力が作用部2に印加されてバランス良く高精度に外力Pを検出することができる。
このように、p型の半導体素子S(Sp1〜Sp4)からなる第1群の歪検出用抵抗素子Sp1〜Sp4の出力と、n型の半導体素子S(Sn1〜Sn4)からなる第2群の歪検出用抵抗素子Sn1〜Sn4の出力とは、引張力または圧縮力が作用すると互いに逆の極性となる特性を有する。
この実施例では、n型半導体素子は、図2(c)に示すように、p型半導体基板上に形成される。また、p型半導体素子は、図2(b)に示すように、p型半導体基板上に形成されたn型半導体領域の表面領域に形成される。本実施例では、バイアス電圧は各半導体素子とその下地のpn接合について逆バイアスとなるように印加される。すなわち、各素子にGND電位と駆動電圧Vdという電圧印加がされている場合、n型半導体素子については、p型半導体基板側をGND以下の電位に、p型半導体素子については、nウェル(n型半導体領域)をp型半導体素子の駆動電圧以上の電位になるようにバイアスをかける。このようなバイアス電圧を印加することで、各半導体素子に対する基板側の電位を安定させ、デバイス動作を安定することができる。これによって、安定したセンサ出力を得ることができる。
具体的には、第1および第2のブリッジ回路群Bp1〜Bp4,Bn1〜Bn4は、電圧入力側(Vin)のハーフブリッジと、グランド側(G)のハーフブリッジと、からなり、各歪検出用抵抗素子Sp1〜Sp4,Sn1〜Sn4は、それぞれグランド側(G)のハーフブリッジに組み込まれている。
これに対して、歪発生部41(41a,41b,41c,41d)においては、引張力や圧縮力が作用する。
そして、6軸成分を含む外力Pが多軸力覚センサ1の作用部2に入力されると、各歪検出用抵抗素子Sp1〜Sp4,Sn1〜Sn4は、表1に示すように、引張力または圧縮力を受けて、抵抗値が変化する。この抵抗値の変化をそれぞれ第1および第2のブリッジ回路群Bp1〜Bp4,Bn1〜Bn4により正電圧または負電圧の出力電圧Voとして検出する。
したがって、従来技術のように、第1群の歪検出用抵抗素子Sp1〜Sp4と、第2群の歪検出用抵抗素子Sn1〜Sn4との極性を逆にしない場合には、すべての信号を同符号の正電圧(−Fzの場合にはすべて引張力が作用)として演算し、コモンモードノイズもすべて重畳されるから検出精度に悪影響を及ぼす。
例えば、前記した第1および第2実施形態においては、多軸力覚センサ1,1′に適用する場合について説明したが、多軸力覚センサに限定されるものではなく、印加された外力を加速度として検出する加速度センサであっても同様に適用することができる。
作用部200と枠部300を連結する連結部400と、この連結部400に形成され重錘体の変位により変形を発生させる変形発生部410と、変形発生部410に配設された第1群の歪検出用抵抗素子S100,S100および第2群の歪検出用抵抗素子S200,S200と、を備えて構成される。
すなわち、加速度センサ100は、第1群の歪検出用抵抗素子S100,S100の抵抗値をそれぞれ検出する第1のブリッジ回路群(不図示)および第2群の歪検出用抵抗素子S200,S200の抵抗値をそれぞれ検出する第2のブリッジ回路群(不図示)と、を備え、第1のブリッジ回路群(不図示)は、それぞれ第1群の歪検出用抵抗素子S100,S100が印加される外力(加速度)により引張力を受けた場合に正電圧を出力し、圧縮力を受けた場合に負電圧を出力するように構成し、第2のブリッジ回路群(不図示)は、それぞれ第2群の歪検出用抵抗素子S200,S200が外力により引張力を受けた場合に負電圧を出力し、圧縮力を受けた場合に正電圧を出力するように構成される。
2 作用部
3 支持部
4 連結部
9 減衰装置(外部構造体)
41(41a,41b,41c,41d) 歪発生部
100 加速度センサ
200 作用部
300 枠部
400 連結部
410 変形発生部
Bp1〜4 第1のブリッジ回路群
Bg1〜4 第2のブリッジ回路群
Sp1〜4 第1群の歪検出用抵抗素子
Sn1〜4 第2群の歪検出用抵抗素子
P 外力
S100 第1群の歪検出用抵抗素子
S200 第2群の歪検出用抵抗素子
Claims (4)
- 外力が印加される作用部と、
この作用部を支持する支持部と、
この支持部と前記作用部とを連結する連結部と、
この連結部に形成され前記外力による歪を発生させる歪発生部と、
前記歪発生部に配設された第1群の歪検出用抵抗素子および第2群の歪検出用抵抗素子と、
前記第1群の歪検出用抵抗素子の抵抗値をそれぞれ検出する第1のブリッジ回路群および前記第2群の歪検出用抵抗素子の抵抗値をそれぞれ検出する第2のブリッジ回路群と、を備えた多軸力覚センサであって、
前記歪発生部は、同一平面上で互いに直交する2軸上に形成され、
前記第1群の歪検出用抵抗素子を一方の軸上において前記作用部を挟んで対峙する位置に対向して配設し、前記第2群の歪検出用抵抗素子を他方の軸上において前記作用部を挟んで対峙する位置に対向して配設するとともに、
前記第1のブリッジ回路群は、それぞれ前記第1群の歪検出用抵抗素子が前記外力により引張力を受けた場合に正電圧を出力し、圧縮力を受けた場合に負電圧を出力するように構成し、前記第2のブリッジ回路群は、それぞれ前記第2群の歪検出用抵抗素子が前記外力により引張力を受けた場合に負電圧を出力し、圧縮力を受けた場合に正電圧を出力するように構成したこと、
を特徴とする多軸力覚センサ。 - 前記第1群の歪検出用抵抗素子は、p型の半導体歪ゲージからなり、前記第2群の歪検出用抵抗素子は、n型の半導体歪ゲージからなることを特徴とする請求項1に記載の多軸力覚センサ。
- 前記第1群の歪検出用抵抗素子は、それぞれ前記第1のブリッジ回路群におけるグランド側に組み込まれ、前記第2群の歪検出用抵抗素子は、前記第2のブリッジ回路群における電圧入力側に組み込まれていることを特徴とする請求項1に記載の多軸力覚センサ。
- 質量をもった重錘体を有する作用部と、
外部構造体に固定され前記重錘体を支持する枠部と、
前記作用部と前記枠部を連結する連結部と、
この連結部に形成され前記重錘体の変位により変形を発生させる変形発生部と、
前記変形発生部に配設された第1群の歪検出用抵抗素子および第2群の歪検出用抵抗素子と、
前記第1群の歪検出用抵抗素子の抵抗値をそれぞれ検出する第1のブリッジ回路群および前記第2群の歪検出用抵抗素子の抵抗値をそれぞれ検出する第2のブリッジ回路群と、を備えた加速度センサであって、
前記変形発生部は、同一平面上で互いに直交する2軸上に形成され、
前記第1群の歪検出用抵抗素子を一方の軸上において前記作用部を挟んで対峙する位置に対向して配設し、前記第2群の歪検出用抵抗素子を他方の軸上において前記作用部を挟んで対峙する位置に対向して配設するとともに、
前記第1のブリッジ回路群は、それぞれ前記第1群の歪検出用抵抗素子が前記外力により引張力を受けた場合に正電圧を出力し、圧縮力を受けた場合に負電圧を出力するように構成し、前記第2のブリッジ回路群は、それぞれ前記第2群の歪検出用抵抗素子が前記外力により引張力を受けた場合に負電圧を出力し、圧縮力を受けた場合に正電圧を出力するように構成したこと、を特徴とする加速度センサ。
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