JP5187501B2 - ディップ成形用組成物及び成形体 - Google Patents
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例えば、特許文献1には、エチレン性不飽和酸単量体単位を含むアクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムのラテックスに、硫黄、酸化亜鉛およびチアゾール化合物からなる加硫促進剤を配合したディップ成形用組成物をディップ成形して得られたディップ成形体が開示されている。特許文献1のディップ成形体は、人体にアレルギー症状を引き起こすような蛋白質を含んでいないものの、300%伸張時の応力が高く、柔軟性の点では満足いくものではない。
本発明の別の好ましい実施態様では、硫黄系加硫剤が硫黄である。
本発明は、上記ディップ成形用組成物をディップ成形してなる成形体である。
合成ポリイソプレンは、イソプレンと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体を少量共重合したものであってもよい。合成ポリイソプレンのイソプレン単位の含有量は、好ましくは70質量%以上、より好ましくは90質量%以上、特に好ましくは95質量%以上である。柔軟で、引張強度に優れるディップ成形体が得られる点から、合成ポリイソプレンは、イソプレンの単独重合体であることが最も好ましい。
ブタジエン、クロロプレン、1,3−ペンタジエン等のイソプレン以外の共役ジエン単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フマロニトリル、α−クロロアクリロニトリル等のエチレン性不飽和ニトリル単量体;カルボキシル基、スルホン酸基、酸無水物基等の酸性基を含有するエチレン性不飽和酸単量体;スチレン、アルキルスチレンなどのビニル芳香族単量体;(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミドなどのエチレン性不飽和アミド単量体;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシルなどのエチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体;ジビニルベンゼン、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート等の架橋性単量体が挙げられる。
イソプレンと共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体は、単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
イソプレン単位中のシス結合単位の割合が高い合成ポリイソプレンを用いることができ、引張強度に優れるディップ成形体が得られる点から、(1)の製造方法が好ましい。
また、市販の固形の合成ポリイソプレンを用いることもできる。
有機溶媒の使用量は、合成ポリイソプレン100質量部に対して、通常、2,000質量部以下であり、好ましくは20〜1,500質量部、より好ましくは50〜1,000質量部である。
界面活性剤の使用量は、合成ポリイソプレン100質量部に対して、好ましくは0.5〜50質量部、より好ましくは0.5〜20質量部である。この量が少なすぎると、ラテックスの安定性が劣る傾向にあり、逆に多すぎると、不経済であるばかりでなく発泡しやすくなり、ディップ成形時に問題が起きる傾向がある。
なお、界面活性剤の添加方法は、特に限定されず、予め水及び/又は合成ポリイソプレンの有機溶媒溶液に添加しても、乳化操作を行っている最中に、乳化液に添加してもよく、一括添加しても、分割添加してもよい。
乳化装置としては、例えば、ホモジナイザー(IKA社製)、ポリトロン(キネマティカ社製)、TKオートホモミキサー(特殊機化工業社製)等のバッチ式乳化機;TKパイプラインホモミキサー(特殊機化工業社製)、コロイドミル(神鋼パンテック社製)、スラッシャー、トリゴナル湿式微粉砕機(三井三池化工機社製)、キャビトロン(ユーロテック社製)、マイルダー、ファインフローミル(太平洋機工社製)等の連続式乳化機;マイクロフルイダイザー(みずほ工業社製)、ナノマイザー(ナノマイザー社製)、APVガウリン(ガウリン社製)等の高圧乳化機;膜乳化機(冷化工業社製)等の膜乳化機;バイブロミキサー(冷化工業社製)等の振動式乳化機;超音波ホモジナイザー(ブランソン社製)等の超音波乳化機;等が挙げられる。
乳化操作の条件は、特に限定されず、所望の分散状態になるように、処理温度、処理時間などを適宜選定する。
合成ポリイソプレンラテックス中の合成ポリイソプレン粒子の体積平均粒子径は、好ましくは0.05〜3μm、より好ましくは0.2〜2μmである。この体積平均粒子径が小さすぎると、ラテックス粘度が高くなりすぎて取り扱い難くなる場合があり、逆に大きすぎると、合成ポリイソプレンラテックスを貯蔵した際に、ラテックス表面に皮膜が生成して取り扱い難くなる場合がある。
硫黄系加硫剤としては、例えば、粉末硫黄、硫黄華、沈降硫黄、コロイド硫黄、表面処理硫黄、不溶性硫黄等の硫黄;塩化硫黄、二塩化硫黄、モルホリン・ジスルフィド、アルキルフェノール・ジスルフィド、N,N’−ジチオ−ビス(ヘキサヒドロ−2H−アゼピノンー2)、含りんポリスルフィド、高分子多硫化物、2−(4’−モルホリノジチオ)ベンゾチアゾール等の硫黄含有化合物が挙げられる。なかでも、硫黄が好ましく使用できる。
硫黄系加硫剤の使用量は、特に限定されないが、合成ポリイソプレン100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは1〜5質量部である。この量が少なすぎても、多すぎても、ディップ成形体の引張強度が低下する傾向がある。
酸化亜鉛の使用量は、特に限定されないが、合成ポリイソプレン100質量部に対して、好ましくは0.1〜5質量部、より好ましくは0.2〜2質量部である。この量が少なすぎるとディップ成形体の引張強度が低下する傾向があり、逆に多すぎると、合成ポリイソプレンラテックス組成物の安定性が低下して凝集物が発生する場合がある。
炭素数が6以上の炭化水素基の具体例は、分岐鎖を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、ベンジル基、α位の炭素原子に結合する水素原子の一方又は両方が炭素数が1〜5のアルキル基で置換されているベンジル基である。
式(2)で示される化合物の具体例は、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジ−2−エチルヘキシルジチオカルバミン酸亜鉛、ジフェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジシクロヘキシルジチオカルバミン酸亜鉛、ジイソノニルジチオカルバミン酸亜鉛である。
式(3)で示される化合物の具体例は、テトラベンジルチウラムジスルフィド、テトラ−2−エチルヘキシルチウラムジスルフィド、テトラフェニルチウラムジスルフィド、テトラシクロヘキシルチウラムジスルフィド、テトライソノニルチウラムジスルフィドである。
合成ポリイソプレンラテックス組成物のpHは、pH7以上であることが好ましく、pH8〜12の範囲であることがより好ましい。
合成ポリイソプレンラテックス組成物の固形分濃度は、通常、15〜65質量%の範囲にある。
前加硫の温度が低いと、ディップ成形体の引張強度が極端に低下する。この温度が高いとディップ成形体の引張強度が低下する。
前加硫する時間は4〜16時間である。この時間が短すぎても長すぎてもディップ成形品の引張強度が低下する傾向にある。
前加硫した後、好ましくは40℃以下、より好ましくは30℃以下まで冷却して、ディップ成形に供されるまで10〜25℃の温度で貯蔵することが好ましい。高温のまま貯蔵すると、得られるディップ成形体の引張強度が低下する傾向にある。
ディップ成形用組成物の固形分濃度は、目的とするディップ成形体の厚みに応じて適宜調整すればよいが、通常、15〜65質量%の範囲にある。
加硫時の加熱条件は、特に限定されないが、好ましくは100〜150℃、より好ましくは100〜130℃の加熱温度で、好ましくは10〜120分の加熱時間である。
加熱の方法は、特に限定されないが、オーブンの中で温風で加熱する方法、赤外線を照射して加熱する方法などである。
各種の物性は以下のように測定された。
合成ポリイソプレンラテックスを固形分濃度で0.1質量%となるように、テトラヒドロフランに溶解した。この溶液をゲル・パーミエーション・クロマ
トグラフィー分析し、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量として算出した。
(2)合成ポリイソプレンのシス結合単位量
合成ポリイソプレンラテックスにメタノールを添加し、凝固した。得られた凝固物を乾燥した後、1H−NMR分析して、合成ポリイソプレン中の全イソプレン単位に対するシス結合単位の割合で示す。
(3)合成ポリイソプレンラテックスの体積平均粒子径
光散乱回折粒子測定装置(コールター社製:LS−230)を用いて、体積平均粒子径として求めた。
(4)ディップ成形体の引張強度
ディップ成形体の引張強度は、ASTM D412に基づいて測定された。ディップ成形フィルムをダンベル(Die−C)で打ち抜き、引張強度測定用試験片を作製した。当該試験片をテンシロン万能試験機((株)オリエンテック製RTC−1225A)で引張速度500mm/minで引っ張り、破断直前の引張強度(単位:MPa)を測定した。
上記試験片をテンシロン万能試験機((株)オリエンテック製RTC−1225A)で引張速度500mm/minで引っ張り、伸び率が300%となった時の引張応力(単位:MPa)を測定した。
合成ポリイソプレン(日本ゼオン(株)製:NIPOL IR2200L)をシクロヘキサンに溶解し、固形分濃度10質量%のポリイソプレンのシクロヘキサン溶液を調整した。当該シクロヘキサン溶液と固形分濃度1.5質量%のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液を質量比で1:1となるように混合し、攪拌した。この操作をローター・ステーター型乳化機(太平洋機工(株)製マイルダー307)により10回行い、乳化液を得た。当該乳化液から80℃、−0.01〜−0.09MPaの減圧下でシクロヘキサンを留去し、その後、連続遠心分離機(アルファラバル社製SGR509)で遠心分離を行い、固形分濃度57質量%の合成ポリイソプレンラテックスを得た。この合成ポリイソプレンラテックスの体積平均粒子径は、1.0μmであった。
合成ポリイソプレンの重量平均分子量は約1,600,000で、そのシス結合単位の割合は、98質量%であった。
製造例1で得た合成ポリイソプレンラテックスを攪拌しながら水酸化カリウムを添加して、当該ラテックスのpHを10.5に調整した。次いで、当該ラテックスを攪拌しながら、当該ラテックスの固形分100質量部に対して、固形分換算で酸化亜鉛1.5質量部、硫黄1質量部、老化防止剤(グッドイヤー社製Wingstay L)2質量部、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛(大内新興(株)製ノクセラーZTC)2質量部となるように、各配合剤の水分散液を添加し、合成ポリイソプレンラテックス組成物を得た。当該組成物を70℃で10.5時間振盪攪拌し、前加硫を行った。その後、前加硫した組成物を25℃まで冷却し、ディップ成形用組成物を得た。
合成ポリイソプレンラテックスに添加される添加剤の添加量と前加硫条件を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同じ操作を行った。結果を表1に示す。
合成ポリイソプレンラテックスに添加される添加剤の添加量と前加硫条件を表1に示すように変更する以外は、実施例1と同じ操作を行った。結果を表1に示す。
Claims (4)
- 加硫促進剤がジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛である、請求項1に記載されたディップ成形用組成物。
- 硫黄系加硫剤が硫黄である、請求項1又は2に記載されたディップ成形用組成物。
- 請求項1〜3のいずれかに記載されたディップ成形用組成物をディップ成形してなる成形体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008051918A JP5187501B2 (ja) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | ディップ成形用組成物及び成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008051918A JP5187501B2 (ja) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | ディップ成形用組成物及び成形体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009209229A JP2009209229A (ja) | 2009-09-17 |
JP5187501B2 true JP5187501B2 (ja) | 2013-04-24 |
Family
ID=41182706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008051918A Expired - Fee Related JP5187501B2 (ja) | 2008-03-03 | 2008-03-03 | ディップ成形用組成物及び成形体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5187501B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8110266B2 (en) | 2007-02-08 | 2012-02-07 | Allegiance Corporation | Glove coating and manufacturing process |
US20080306200A1 (en) | 2007-06-11 | 2008-12-11 | Seong Fong Chen | Antistatic gloves and process for making same |
NZ601272A (en) | 2008-03-14 | 2014-02-28 | Allegiance Corp | Water-based resin composition and articles made therefrom |
JP5472286B2 (ja) * | 2009-02-28 | 2014-04-16 | 日本ゼオン株式会社 | ディップ成形用組成物及びディップ成形体 |
JP2012062487A (ja) | 2011-12-27 | 2012-03-29 | Nippon Zeon Co Ltd | ディップ成形用組成物およびディップ成形体 |
SG11201506649YA (en) * | 2013-02-22 | 2015-09-29 | Zeon Corp | Latex for dip molding use, composition for dip molding use, and dip-molded article |
TWI624478B (zh) * | 2013-03-28 | 2018-05-21 | Zeon Corp | Method for producing synthetic isoprene polymer latex |
JP7141400B2 (ja) * | 2017-08-21 | 2022-09-22 | 住友精化株式会社 | ラテックス組成物及びその成形体並びに該成形体の製造方法 |
WO2019173863A1 (en) | 2018-03-10 | 2019-09-19 | Ansell Limited | Compositions for synthetic polyisoprene latex articles |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3215649A (en) * | 1961-07-14 | 1965-11-02 | Shell Oil Co | Synthetic latex |
JP2717493B2 (ja) * | 1993-01-11 | 1998-02-18 | 不二ラテックス株式会社 | 天然ゴムラテックスのアレルギー誘発物質の除去方法及び天然ゴム成形体の製造方法 |
JP3560294B2 (ja) * | 1995-04-10 | 2004-09-02 | 花王株式会社 | 脱タンパク天然ゴムラテックス成形体の製造方法 |
JP4049818B2 (ja) * | 1996-07-23 | 2008-02-20 | 日本ゼオン株式会社 | 浸漬成形用ラテックス組成物およびこれを用いた浸漬成形ゴム製品 |
US6569375B1 (en) * | 2000-04-11 | 2003-05-27 | Apex Medical Technologies, Inc. | Vulcanization of dip-molded rubber articles with molten media baths |
JP4116884B2 (ja) * | 2001-03-12 | 2008-07-09 | アレジアンス、コーポレイション | ポリイソプレン製品及びその製造プロセス |
US20030161975A1 (en) * | 2002-02-27 | 2003-08-28 | Lucas David M. | Polyisoprene condom |
JP4504654B2 (ja) * | 2003-10-14 | 2010-07-14 | 住友ゴム工業株式会社 | 配合脱蛋白天然ゴムラテックスとそれを用いた浸漬ゴム製品 |
GB0606536D0 (en) * | 2006-03-31 | 2006-05-10 | Lrc Products | Polyisoprene condom |
-
2008
- 2008-03-03 JP JP2008051918A patent/JP5187501B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009209229A (ja) | 2009-09-17 |
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---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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