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JP5074940B2 - Substrate processing method - Google Patents

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JP5074940B2 JP2008018454A JP2008018454A JP5074940B2 JP 5074940 B2 JP5074940 B2 JP 5074940B2 JP 2008018454 A JP2008018454 A JP 2008018454A JP 2008018454 A JP2008018454 A JP 2008018454A JP 5074940 B2 JP5074940 B2 JP 5074940B2
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哲史 大箭
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吉浩 稲尾
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Description

本発明は、基板と該基板を支持するサポートプレートを含む積層体および積層体を構成する基板からサポートプレートを剥離する基板の処理方法に関する。   The present invention relates to a laminate including a substrate and a support plate that supports the substrate, and a substrate processing method for peeling a support plate from a substrate constituting the laminate.

携帯電話、デジタルAV機器およびICカード等の高機能化に伴い、搭載される半導体シリコンチップ(以下、チップ)を小型化および薄板化することによって、パッケージ内にチップを高集積化する要求が高まっている。パッケージ内のチップの高集積化を実現するためには、チップの厚さを25〜150μmの範囲にまで薄くする必要がある。   As mobile phones, digital AV devices, IC cards, etc. have become more sophisticated, there is an increasing demand for higher integration of chips in packages by reducing the size and thickness of semiconductor silicon chips (hereinafter referred to as chips). ing. In order to achieve high integration of chips in the package, it is necessary to reduce the thickness of the chip to a range of 25 to 150 μm.

しかしながら、チップのベースとなる半導体ウエハ(以下、ウエハ)は、研削することにより肉薄となるため、その強度は弱くなり、ウエハにクラックまたは反りが生じやすくなる。また、薄板化することによって強度が弱くなったウエハを自動搬送することは困難であるため、人手によって搬送しなければならず、その取り扱いが煩雑であった。   However, since a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) serving as a base of a chip is thinned by grinding, its strength is weakened and the wafer is likely to be cracked or warped. Further, since it is difficult to automatically transport a wafer whose strength has been reduced by making it thin, it has to be transported manually, and the handling thereof is complicated.

そのため、研削するウエハにサポートプレートと呼ばれる、ガラス、硬質プラスチック等からなるプレートを貼り合わせることによって、ウエハの強度を保持し、クラックの発生およびウエハの反りを防止するウエハサポートシステムが開発されている。ウエハサポートシステムによりウエハの強度を維持することができるため、薄板化した半導体ウエハの搬送を自動化することができるのである。   Therefore, a wafer support system has been developed that maintains the strength of the wafer and prevents the occurrence of cracks and warpage of the wafer by bonding a plate made of glass, hard plastic, or the like, to the wafer to be ground. . Since the strength of the wafer can be maintained by the wafer support system, the conveyance of the thinned semiconductor wafer can be automated.

ウエハとサポートプレートとは、粘着テープ、熱可塑性樹脂、接着剤等を用いて貼り合わせられている。その後、ウエハをダイシングする前にサポートプレートを基板から剥離する。ウエハとサポートプレートとの貼り合わせに粘着テープを用いる場合は、ウエハをサポートプレートから引き剥がす、熱可塑性樹脂を用いる場合は樹脂を加熱して樹脂を溶解させる、接着剤を用いる場合は溶解液を用いて接着剤を溶解させること等によって、ウエハをサポートプレートから剥離する。たとえば、特許文献1には、接着剤を用いてウエハとサポートプレートとを貼り合わせ、溶解液により接着剤を溶解させてウエハをサポートプレートから剥離する技術が開示されている。   The wafer and the support plate are bonded together using an adhesive tape, a thermoplastic resin, an adhesive, or the like. Thereafter, the support plate is peeled from the substrate before dicing the wafer. When using adhesive tape to bond the wafer and the support plate, the wafer is peeled off from the support plate. When using a thermoplastic resin, the resin is heated to dissolve the resin. When using an adhesive, a solution is used. The wafer is peeled off from the support plate, for example, by dissolving the adhesive by using it. For example, Patent Document 1 discloses a technique in which a wafer and a support plate are bonded together using an adhesive, and the adhesive is dissolved using a solution to peel the wafer from the support plate.

上述のように、ウエハからサポートプレートを剥離する際には、ウエハの膜厚に応じて、ウエハの他方の面を、ダイシングテープなどの他の支持体に貼り合わせた後に剥離が行われる。これは、ウエハの膜厚が小さいため、ウエハ自体の強度が低く、クラックが生じやすいためである。つまり、ダイシングテープ、基板およびサポートプレートからなる積層体を一旦形成した後に、基板からサポートプレートが剥離されることになる。
特開2006−135272号公報(2006年5月25日公開)
As described above, when the support plate is peeled from the wafer, the peeling is performed after the other surface of the wafer is bonded to another support such as a dicing tape in accordance with the film thickness of the wafer. This is because the thickness of the wafer is small, so that the strength of the wafer itself is low and cracks are likely to occur. That is, after the laminated body which consists of a dicing tape, a board | substrate, and a support plate is once formed, a support plate will peel from a board | substrate.
JP 2006-135272 A (published May 25, 2006)

上述のように、基板からサポートプレートを剥離する前に、ダイシングテープ、基板およびサポートプレートとで構成される積層体が存在することになる。そして、サポートプレートを剥離する際には、サポートプレートがその最上に位置するよう積層体を保持し、サポートプレートの貫通孔を介して基板とサポートプレートとを貼りつけている接着剤を溶解する溶剤が供給される。   As described above, before the support plate is peeled from the substrate, there is a laminate composed of the dicing tape, the substrate, and the support plate. And when peeling off the support plate, a solvent that dissolves the adhesive that holds the laminate so that the support plate is positioned at the uppermost position and bonds the substrate and the support plate through the through holes of the support plate Is supplied.

しかしながら、上記のように溶剤の供給が行なわれると、露出しているダイシングテープにその溶剤が飛散することがある。このとき、溶剤の種類によっては、ダイシングテープが劣化してしまうおそれがあり、ダイシングテープの劣化は、基板のクラックや反りを生じさせる一因となり、その後のダイシングにも問題が生じることになる。   However, when the solvent is supplied as described above, the solvent may be scattered on the exposed dicing tape. At this time, depending on the type of the solvent, the dicing tape may be deteriorated. The deterioration of the dicing tape causes cracks and warpage of the substrate, and causes problems in subsequent dicing.

そのため、ダイシングテープを劣化させることなく、基板からサポートプレートを剥離する方法の開発が求められている。   Therefore, development of a method for peeling the support plate from the substrate without deteriorating the dicing tape is required.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ダイシングテープを劣化することなく、基板を支持するサポートプレートを基板から剥離することが可能な基板の処理方法およびこの処理に良好に供される積層体を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing method capable of peeling a support plate supporting a substrate from the substrate without deteriorating the dicing tape, and this processing. The object is to provide a laminate that is satisfactorily provided.

本発明にかかる積層体は、薄板化された基板と、サポートプレートとを含む積層体であって、
該基板の一方の面に第1接着剤を介して貼着された第1サポートプレートと、該基板の他方の面に第2接着剤を介して貼着された第2サポートプレートとを備え、
該第2接着剤は、該第1接着剤とは異なる溶解性を有していることを特徴とする。
A laminate according to the present invention is a laminate including a thinned substrate and a support plate,
A first support plate attached to one surface of the substrate via a first adhesive; and a second support plate attached to the other surface of the substrate via a second adhesive;
The second adhesive has a solubility different from that of the first adhesive.

本発明にかかる基板の処理方法は、薄板化され、第1接着剤を介して第1サポートプレートが貼着された基板から、当該第1サポートプレートを剥離する基板の処理方法であって、
該基板における該第1サポートプレートの貼着面とは反対側の面に、該第1接着剤とは異なる溶解性を有している第2接着剤を用いて第2サポートプレートを貼着する貼着工程と、
前記貼着工程の後に、前記第1接着剤を溶解して前記第1サポートプレートを基板から剥離する第1剥離工程と、を含むことを特徴とする。
The substrate processing method according to the present invention is a substrate processing method in which the first support plate is peeled off from the thinned substrate to which the first support plate is attached via the first adhesive,
The second support plate is attached to the surface of the substrate opposite to the attachment surface of the first support plate using a second adhesive having a solubility different from that of the first adhesive. A sticking process;
And a first peeling step of dissolving the first adhesive and peeling the first support plate from the substrate after the sticking step.

本発明にかかる積層体によれば、積層体から第1サポートプレートまたは第2サポートプレートを除去する際に、溶剤中に積層体を浸漬することが可能な積層体を提供する。つまり、第1サポートプレートおよび基板、第2サポートプレートおよび基板をそれぞれ貼着している接着剤の溶解性が互いに異なるために、一方のサポートプレートのみを除去したい場合、単に除去したいサポートプレートを貼り付けている接着剤が可溶な溶剤中に浸漬することのみで、除去することができる。つまり、本発明にかかる積層体によれば、積層体からサポートプレートの除去を簡易な方法で実現することができる。   According to the laminated body concerning this invention, when removing a 1st support plate or a 2nd support plate from a laminated body, the laminated body which can immerse a laminated body in a solvent is provided. In other words, since the solubility of the adhesives adhering to the first support plate and the substrate and the second support plate and the substrate are different from each other, when only one of the support plates is to be removed, the support plate to be removed is simply pasted. The adhesive can be removed only by immersing it in a soluble solvent. That is, according to the laminated body concerning this invention, the removal of a support plate from a laminated body is realizable by a simple method.

そして、第2サポートプレートは、ダイシングテープに対して不活性な溶剤によって溶解される第2接着剤を用いて基板に貼り付けられている。そのため、ダイシングテープ、基板および第2サポートプレートからなる積層構造を一旦形成した後に、基板から第2サポートプレートを剥離するとき、ダイシングテープが劣化し、ウエハにクラックを生じさせることがない。つまり、本発明によれば、薄板化された基板の強度を良好に補強しつつ、ダイシングテープを劣化させることのないよう、基板からサポートプレートを剥離する処理を実現できる積層体を提供することができる。   And the 2nd support plate is affixed on the board | substrate using the 2nd adhesive agent melt | dissolved with the solvent inactive with respect to a dicing tape. For this reason, when the laminated structure including the dicing tape, the substrate, and the second support plate is once formed, when the second support plate is peeled off from the substrate, the dicing tape is not deteriorated and the wafer is not cracked. That is, according to the present invention, it is possible to provide a laminate capable of realizing the process of peeling the support plate from the substrate so that the strength of the thinned substrate is reinforced and the dicing tape is not deteriorated. it can.

本発明にかかる基板の処理方法によれば、薄板化された基板を支持している第1サポートプレートを剥離する前に、第2接着剤を用いて基板に第2サポートプレートを貼着する工程を含む。そのため、第1サポートプレートの剥離をより簡便な方法で実現することができる。さらに、基板と第2サポートプレートとはダイシングテープに対して不活性な溶剤に溶解しえる第2接着剤を用いて貼り付けられている。そのため、第2サポートプレートを基板から剥離するときに、自由度の高い処理方法を用いて、簡便に第2接着剤の溶解を実現することができる。その結果、本発明によれば、薄板化された基板の強度を良好に維持しつつ、ダイシングテープを劣化させることのないよう、基板からサポートプレートを剥離することができる基板の処理方法を提供することができる。   According to the substrate processing method of the present invention, the step of attaching the second support plate to the substrate using the second adhesive before peeling the first support plate supporting the thinned substrate. including. Therefore, peeling of the first support plate can be realized by a simpler method. Furthermore, the board | substrate and the 2nd support plate are affixed using the 2nd adhesive agent which can melt | dissolve in an inert solvent with respect to a dicing tape. Therefore, when peeling a 2nd support plate from a board | substrate, melt | dissolution of a 2nd adhesive agent is simply realizable using a processing method with a high degree of freedom. As a result, according to the present invention, there is provided a substrate processing method capable of peeling the support plate from the substrate while maintaining the strength of the thinned substrate satisfactorily without deteriorating the dicing tape. be able to.

以下、図面を参照しつつ本実施形態について説明する。   Hereinafter, this embodiment will be described with reference to the drawings.

〔積層体〕
(第1の実施形態)
図1を参照しつつ、本実施形態にかかる基板を含む積層体について説明する。図1は、本実施形態にかかる積層体を説明する断面図である。図1に示すように、積層体20は、基板10の一方の面10aに設けられた第1サポートプレート12と、他方の面10bに設けられた第2サポートプレート14と、を含む。つまり、基板10の両面にそれぞれサポートプレートが設けられている。そして、第1サポートプレート12と基板10とは、第1接着剤(図示せず)を介して、第2サポートプレート14と基板10とは、第2接着剤(図示せず)を介して、それぞれ貼り付けられている。
[Laminate]
(First embodiment)
A laminated body including a substrate according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a laminate according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the stacked body 20 includes a first support plate 12 provided on one surface 10a of the substrate 10 and a second support plate 14 provided on the other surface 10b. That is, support plates are provided on both surfaces of the substrate 10 respectively. The first support plate 12 and the substrate 10 are connected via a first adhesive (not shown), and the second support plate 14 and the substrate 10 are connected via a second adhesive (not shown). Each is pasted.

基板10は、たとえば、薄板化された基板である。具体的には、基板10は、半導体ウエハであることが好ましい。このとき、基板10の膜厚は、10〜150μmであることができる。   The substrate 10 is, for example, a thinned substrate. Specifically, the substrate 10 is preferably a semiconductor wafer. At this time, the film thickness of the substrate 10 may be 10 to 150 μm.

第1サポートプレート12は、後述の半導体ウエハを薄板化する工程にて詳細を説明するが、基板10を支持する役割を果たす。第1サポートプレート12は、基板10の面10aと同一の大きさまたは同一以上の大きさを有することが好ましく、面10aと同一の大きさであることがより好ましい。また、第1サポートプレート12は、厚さ方向に第1サポートプレート12を貫通する貫通孔(図示せず)が設けられていることが好ましい。貫通孔は、多数設けられ、また、貫通孔は、第1サポートプレート12の全面に均一に分散して設けられていることが好ましく、貫通孔の直径は、0.3mm〜0.5mmであり、貫通孔同士のピッチは、0.5mm〜1.0mmであることが好ましい。このように、第1サポートプレート12が貫通孔を有する場合の利点については、後述する。第1サポートプレート12を形成する材料としては、ガラス、硬質プラスチックなどを挙げることができる。   The first support plate 12 will be described in detail in a process of thinning a semiconductor wafer, which will be described later, and serves to support the substrate 10. The first support plate 12 preferably has the same size as or larger than the surface 10a of the substrate 10, and more preferably has the same size as the surface 10a. Moreover, it is preferable that the 1st support plate 12 is provided with the through-hole (not shown) which penetrates the 1st support plate 12 in the thickness direction. A large number of through holes are provided, and the through holes are preferably provided uniformly distributed on the entire surface of the first support plate 12, and the diameter of the through holes is 0.3 mm to 0.5 mm. The pitch between the through holes is preferably 0.5 mm to 1.0 mm. Thus, the advantage in case the 1st support plate 12 has a through-hole is mentioned later. Examples of the material forming the first support plate 12 include glass and hard plastic.

第2サポートプレート14は、第1サポートプレート(支持板)12と同様に、基板10を支持する役割を果たす部材である。つまり、第2サポートプレート14は、基板10の面10bと接触可能な面を有し、面10bに貼り付けられることができるサポート部であるともいう。そのため、第2サポートプレート14が、単独で取り扱われるプレート(単なる板)である場合に限定されることなく、基板の他方の面10bとの接触が可能な面を有し、第2接着剤を介して基板10を貼り付けることができる限り、その態様は限定されない。   Similar to the first support plate (support plate) 12, the second support plate 14 is a member that plays a role of supporting the substrate 10. In other words, the second support plate 14 has a surface that can come into contact with the surface 10b of the substrate 10 and can be said to be a support portion that can be attached to the surface 10b. Therefore, the second support plate 14 is not limited to a plate (simple plate) that is handled alone, and has a surface that can contact the other surface 10b of the substrate, and the second adhesive is used. As long as the board | substrate 10 can be stuck through, the aspect is not limited.

第1の実施形態では、第2サポートプレート14が、単独で取り扱うことが可能な板である場合について説明する。ここで、「単独で取り扱われる板」とは、単なる板のことを意味する。このような単独で取り扱われるプレートを第2サポートプレート14として用いる場合には、積層体20が形成された後であっても積層体20の処理に対する制限が少ないという利点がある。第2サポートプレート14は、第1サポートプレート12と同様に厚さ方向に貫通孔を有するプレートであってもよい。第2サポートプレート14が貫通孔を有する場合、第2接着剤への溶剤の浸透をより迅速に行なうことができるという利点を有する。   1st Embodiment demonstrates the case where the 2nd support plate 14 is a board which can be handled independently. Here, “a board handled alone” means a simple board. In the case where such a separately handled plate is used as the second support plate 14, there is an advantage that there are few restrictions on the processing of the stacked body 20 even after the stacked body 20 is formed. The second support plate 14 may be a plate having a through hole in the thickness direction, like the first support plate 12. When the 2nd support plate 14 has a through-hole, it has the advantage that the penetration | infiltration of the solvent to a 2nd adhesive agent can be performed more rapidly.

また、第2サポートプレート14は、第1接着剤を溶解する溶剤に対して耐性を有する材料であることが好ましい。つまり、第1接着剤を溶解するときに、溶剤が第2サポートプレート14に飛散しても、第2サポートプレート14自体が損傷することがない材料である。この態様によれば、第1サポートプレート12を基板10から剥離するときの処理方法に対する制限が少なくなり、処理方法の自由度が高くなる。   Moreover, it is preferable that the 2nd support plate 14 is a material which has tolerance with respect to the solvent which melt | dissolves a 1st adhesive agent. That is, when the first adhesive is dissolved, the second support plate 14 itself is not damaged even if the solvent is scattered on the second support plate 14. According to this aspect, the restriction | limiting with respect to the processing method when peeling the 1st support plate 12 from the board | substrate 10 decreases, and the freedom degree of a processing method becomes high.

第2サポートプレート14において、基板10との接触面は、少なくとも基板10の面と同一の大きさまたは同一以上の大きさ(大径)を有することが好ましい。第2サポートプレートの接触面が、基板10の面と同一の大きさを有する場合、積層体20が基板10と同じ大きさになり、搬送器などによる搬送の自由度が高くなる。また、第2サポートプレート14は、未加工のプレート状部材、たとえば、ガラス、硬質プラスチック、SUS、セラミック、アルミなどであることができる。   In the second support plate 14, the contact surface with the substrate 10 preferably has at least the same size as the surface of the substrate 10 or the same size or larger (large diameter). When the contact surface of the second support plate has the same size as the surface of the substrate 10, the stacked body 20 becomes the same size as the substrate 10, and the degree of freedom of conveyance by a conveyer or the like increases. The second support plate 14 may be an unprocessed plate-like member, such as glass, hard plastic, SUS, ceramic, aluminum, or the like.

第1接着剤は、基板10と第1サポートプレート12とを貼り付けている。第1接着剤としては、後述の第2接着剤を溶解しない溶剤の内、少なくとも1種の溶剤に対して溶解性を示す材料であることがもとめられる。このような接着剤の例としては、例えば、有機溶剤に対して可溶性を示す接着剤が好ましく、特開2005−191550号公報に記載されているような、ノボラックタイプのフェノール樹脂あるいはアクリル系樹脂材料を含有してなる接着剤組成物、特開2007−119646号公報に記載されているような、スチレン、環式骨格含有(メタ)アクリル酸エステルモノマー、(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーとからなるアクリル系ポリマーを主成分とする接着剤組成物などを例示することができる。   The first adhesive bonds the substrate 10 and the first support plate 12 together. The first adhesive may be a material that is soluble in at least one solvent among the solvents that do not dissolve the second adhesive described below. As an example of such an adhesive, for example, an adhesive that is soluble in an organic solvent is preferable, and a novolac type phenol resin or acrylic resin material as described in JP-A-2005-191550 is used. An adhesive composition comprising styrene, a cyclic skeleton-containing (meth) acrylic acid ester monomer, and a (meth) acrylic acid alkyl ester monomer as described in JP-A-2007-119646. An adhesive composition mainly composed of an acrylic polymer can be exemplified.

第2接着剤は、基板10と第2サポートプレート14とを貼り付け、第1接着剤とは溶解性が異なる。なお、本発明において、「第1接着剤と溶解性が異なる」とは、第1接着剤を溶解する溶剤の内、少なくとも1種の溶剤に対して不溶性あるいは難溶性を示すことを意味する。また、第2接着剤は、ダイシングテープに対して不活性な溶剤によって溶解可能な接着剤であることが好ましい。   The second adhesive affixes the substrate 10 and the second support plate 14 and is different in solubility from the first adhesive. In the present invention, “different in solubility from the first adhesive” means insoluble or hardly soluble in at least one solvent among the solvents that dissolve the first adhesive. Moreover, it is preferable that a 2nd adhesive agent is an adhesive agent which can be melt | dissolved with an inert solvent with respect to a dicing tape.

具体的には、第2接着剤として、水溶性接着剤を用いることが好ましい。ここで、「水溶性」とは、水および水性溶剤に溶解しえることを意味する。水溶性接着剤の例としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体などの水溶性ポリマーを水、あるいは溶剤に溶解してなる組成物を挙げることができる。このように、第2サポートプレート14と基板10とを水溶性接着剤を介して貼り付けることにより、以下の利点がある。基板10から第1サポートプレート12を剥離した後、さらに、基板10から第2サポートプレートを剥離するが、この剥離前に基板10をダイシングテープに貼り付けることがある。ここで、上記特定の接着剤を使用していることにより、第2接着剤を溶解する溶剤がダイシングテープに飛散したとしても、ダイシングテープの劣化を抑制することができる。また、ダイシングテープへの飛散を防止しつつ溶解しなくてはならないという処理条件の制限がないため、より簡易な方法で、基板10から第2サポートプレート14を剥離することができる。   Specifically, it is preferable to use a water-soluble adhesive as the second adhesive. Here, “water-soluble” means that it can be dissolved in water and an aqueous solvent. Examples of the water-soluble adhesive include, for example, a composition obtained by dissolving a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, and acrylamide-diacetone acrylamide copolymer in water or a solvent. . Thus, there are the following advantages by adhering the second support plate 14 and the substrate 10 through the water-soluble adhesive. After the first support plate 12 is peeled from the substrate 10, the second support plate is further peeled from the substrate 10. The substrate 10 may be attached to the dicing tape before the peeling. Here, even if the solvent which melt | dissolves a 2nd adhesive splashes on a dicing tape by using the said specific adhesive agent, degradation of a dicing tape can be suppressed. Moreover, since there is no restriction | limiting of the process conditions which must melt | dissolve, preventing scattering to a dicing tape, the 2nd support plate 14 can be peeled from the board | substrate 10 by a simpler method.

本実施形態にかかる積層体20によれば、積層体20から第1サポートプレート12または第2サポートプレート14を剥離する際に、溶剤中に積層体20を浸すことが可能な積層体を提供する。つまり、第1サポートプレート12および基板10、第2サポートプレート14および基板10との間に設けられている接着剤の溶解性が互いに異なるために、一方のサポートプレートのみを除去したい場合、除去したいサポートプレートを貼り付けている接着剤が可溶な溶剤中に浸すことによって、所望のサポートプレートを除去することができる。本実施形態にかかる積層体の利点については、後述の基板の処理方法にてさらに詳細に説明する。   According to the laminate 20 according to the present embodiment, a laminate is provided in which the laminate 20 can be immersed in a solvent when the first support plate 12 or the second support plate 14 is peeled from the laminate 20. . That is, since the solubility of the adhesive provided between the first support plate 12 and the substrate 10 and the second support plate 14 and the substrate 10 is different from each other, when only one of the support plates is to be removed, the removal is desired. A desired support plate can be removed by immersing the adhesive on which the support plate is attached in a solvent that is soluble. The advantages of the laminate according to the present embodiment will be described in more detail in the substrate processing method described later.

(第2の実施形態)
図2を参照しつつ、第2の実施形態にかかる積層体30について説明する。第2の実施形態は、第2サポートプレートが第1の実施形態とは異なる例である。第2の実施形態では、第1の実施形態とは異なる点について説明する。
(Second Embodiment)
The laminated body 30 concerning 2nd Embodiment is demonstrated referring FIG. The second embodiment is an example in which the second support plate is different from the first embodiment. In the second embodiment, differences from the first embodiment will be described.

積層体30では、第2サポートプレートとして、所定の基板を搭載可能なステージ26を用いる。つまり、第2の実施形態において、第2サポートプレートの役割を果たすステージ26は、単独で取り扱われない部材であるが、基板10の他の面10bと接触しえる面を有し、第2接着剤を介して基板10を支持することができるため、第2サポートプレートとして用いることができる。第2接着剤を介して基板10と貼り付けることができる限り、ステージの材質や構造が限定されることはない。たとえば、ステージ26としては、ポーラスな材質からなるステージであることもできる。   In the stacked body 30, a stage 26 on which a predetermined substrate can be mounted is used as the second support plate. In other words, in the second embodiment, the stage 26 serving as the second support plate is a member that is not handled alone, but has a surface that can contact the other surface 10b of the substrate 10 and has the second adhesion. Since the substrate 10 can be supported via the agent, it can be used as the second support plate. The material and structure of the stage are not limited as long as it can be attached to the substrate 10 via the second adhesive. For example, the stage 26 can be a stage made of a porous material.

第2実施形態にかかる積層体30によれば、既存の装置が有するステージを第2サポートプレートとして有効利用でき、製造コストの上昇を抑制できるという利点を有する。   According to the laminated body 30 concerning 2nd Embodiment, it has the advantage that the stage which the existing apparatus has can be used effectively as a 2nd support plate, and the raise of manufacturing cost can be suppressed.

(第3の実施形態)
図3を参照しつつ、第3の実施形態にかかる積層体40について説明する。第3の実施形態は、第2サポートプレートが第1の実施形態とは異なる例である。積層体40では、第2サポートプレートは、各種処理に用いられ得る平坦な面を有するプレートを備えた処理装置のプレートである。具体的には、平坦化処理装置の押圧部材などを例示することができる。つまり、第2実施形態にて説明したステージ26が基板10の面10bを下向きにして貼り付けられるサポートプレートであるのに対して、第3の実施形態は、基板10の面10bを上向きにして、基板10の上方から貼りつけることが可能な部材である。たとえば、平坦化をするための押圧するためのプレート28を例示することができる。
(Third embodiment)
The laminated body 40 concerning 3rd Embodiment is demonstrated referring FIG. The third embodiment is an example in which the second support plate is different from the first embodiment. In the stacked body 40, the second support plate is a plate of a processing apparatus including a plate having a flat surface that can be used for various processes. Specifically, a pressing member of a planarization processing apparatus can be exemplified. That is, the stage 26 described in the second embodiment is a support plate that is attached with the surface 10b of the substrate 10 facing down, whereas the third embodiment has the surface 10b of the substrate 10 facing up. A member that can be attached from above the substrate 10. For example, the plate 28 for pressing for flattening can be illustrated.

このプレート28は、基板10の面10bと貼り付けることができる面を有している限り、形状や材質に制限はない。たとえば、基板を上方から吸着するために、貫通穴を有し、吸引手段に接続されているプレートや、基板に所定の処理液や気体など供給または吸引するために、貫通孔を有し、供給手段または吸引手段に接続されているプレートであってもよい。   As long as this plate 28 has a surface that can be attached to the surface 10 b of the substrate 10, there is no limitation on the shape and material. For example, a plate having a through hole for adsorbing the substrate from above and a through hole for supplying or sucking a predetermined processing liquid or gas to the substrate or a substrate connected to the suction means It may be a plate connected to the means or suction means.

また、プレート28としては、第1接着剤を溶解する溶剤が飛散した場合であっても劣化することのない材料によりできていることが好ましい。この態様によれば、処理方法の自由度が高くなり、簡便な処理を実現できるためである。   Further, the plate 28 is preferably made of a material that does not deteriorate even when the solvent for dissolving the first adhesive is scattered. This is because according to this aspect, the degree of freedom of the processing method is increased, and simple processing can be realized.

第3の実施形態にかかる積層体によれば、第1の実施形態にかかる積層体と同様に、基板10から第1サポートプレート12を剥離する際に、良好に実施することができる。また、既存の装置に備えられているプレートを第2サポートプレートとして有効利用でき、製造コストの上昇を抑制できるという利点がある。   According to the laminated body concerning 3rd Embodiment, when peeling the 1st support plate 12 from the board | substrate 10 similarly to the laminated body concerning 1st Embodiment, it can implement favorably. In addition, there is an advantage that a plate provided in an existing apparatus can be effectively used as the second support plate, and an increase in manufacturing cost can be suppressed.

〔基板の処理方法〕
次に、図4〜図8を参照して、本実施形態にかかる基板の処理方法について説明する。図4〜図8は、本実施形態にかかる基板処理方法を示す断面図である。この基板の処理方法は、具体的には、薄板化された基板10からサポートプレートを剥離するための処理方法であり、さらには、ダイシングテープに貼り付けられた基板10を得るための処理方法である。
[Substrate processing method]
Next, a substrate processing method according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 4 to 8 are cross-sectional views showing the substrate processing method according to the present embodiment. Specifically, this substrate processing method is a processing method for peeling the support plate from the thinned substrate 10, and further, a processing method for obtaining the substrate 10 attached to the dicing tape. is there.

1.基板薄板化工程
この工程では、まず、薄板化されたウエハ(例えば、半導体ウエハや化合物半導体ウエハなど)を形成する。具体的には、膜厚が500〜1000μmの基板11を準備し、図4に示すように、基板11の面10aに第1サポートプレート12を、第1接着剤を介して貼りつける。第1サポートプレート12としては、上述の積層体の項で説明した構成をとることができる。このとき、第1サポートプレート12は、薄板化される基板を支持する役割を果たす。第1接着剤は、後述する第2接着剤とは溶解性が異なり、当該第2接着剤を溶解しない溶剤の内、少なくとも1種の溶剤に対して溶解性を示す接着剤であることが好ましい。また基板の薄板化工程では、研磨熱により基板が過熱することを防ぐために冷却水を噴きつけながら行うことがあるが、この工程時にサポートプレートが剥がれないようにすることが必要がであり、従って第1接着剤は耐水性の材料であることが好ましい。具体的には、上述の積層体の項で説明した接着剤を用いることができる。
1. Substrate thinning step In this step, first, a thinned wafer (for example, a semiconductor wafer or a compound semiconductor wafer) is formed. Specifically, the substrate 11 having a film thickness of 500 to 1000 μm is prepared, and the first support plate 12 is attached to the surface 10a of the substrate 11 with a first adhesive as shown in FIG. As the 1st support plate 12, the structure demonstrated by the term of the above-mentioned laminated body can be taken. At this time, the first support plate 12 serves to support the substrate to be thinned. The first adhesive is preferably an adhesive that is different in solubility from the second adhesive described later, and is soluble in at least one solvent among solvents that do not dissolve the second adhesive. . Also, in the thinning process of the substrate, it may be performed while spraying cooling water to prevent the substrate from being overheated by polishing heat, but it is necessary to prevent the support plate from being peeled off during this process. The first adhesive is preferably a water resistant material. Specifically, the adhesive described in the above section of the laminate can be used.

第1接着剤として、上述したノボラックタイプのフェノール樹脂あるいはアクリル系樹脂材料を含有してなる接着剤組成物を用いることで、薄板化された基板10に成膜処理を施すなど、基板10と第1サポートプレート12とが高熱に曝されることがあっても、耐熱性があり、良好な接着力が維持されたままであることができる。特にアクリル系樹脂材料は耐熱性、接着性が良好で、剥離時に容易に剥離可能であることから好ましい。   By using the adhesive composition containing the above-described novolac type phenolic resin or acrylic resin material as the first adhesive, a film forming process is performed on the thinned substrate 10 and the like. Even if the 1 support plate 12 is exposed to high heat, it is heat resistant and can maintain good adhesive force. In particular, an acrylic resin material is preferable because it has good heat resistance and adhesiveness and can be easily peeled at the time of peeling.

このような接着剤の例としては、特願2005−315282号出願明細書に記載の、(a)スチレン、(b)環式骨格含有(メタ)アクリル酸エステルモノマー、(c)(メタ)アクリル酸アルキルエステルモノマーを繰返単位として含有するアクリル系ポリマーを主成分とする接着剤組成物、特願2006−215070号出願明細書に記載の、スチレンと、熱の作用によりエステル結合から解離する基を含む環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルと、鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルとを含む単量体組成物を共重合してなるポリマーを主成分とすることを特徴とする接着剤組成物、特願2006−243449号出願明細書に記載の、スチレンと、環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルと、鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルとを含む単量体組成物を共重合してなるポリマーを主成分とする接着剤組成物であって、上記単量体組成物が、エチレン性二重結合を有するカルボン酸をさらに含むことを特徴とする接着剤組成物。特願2006−243450号出願明細書に記載の、スチレンと、環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルと、鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルとを含む単量体組成物を共重合してなるポリマーを主成分とする接着剤組成物であって、上記単量体組成物が、二官能性モノマーをさらに含むことを特徴とする接着剤組成物。特願2006−243451号出願明細書に記載の、スチレンと、環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルと、鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルとを含む単量体組成物を共重合してなるポリマーを主成分とする接着剤組成物であって、上記単量体組成物が、スチレンマクロモノマーをさらに含むことを特徴とする接着剤組成物。特願2006−243452号出願明細書に記載の、スチレンと、環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルと、鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルとを含む単量体組成物を共重合してなるポリマーを主成分とする接着剤組成物であって、上記ポリマーがスチレンブロックセグメントを有することを特徴とする接着剤組成物。特願2006−316094号出願明細書に記載の、スチレンと、環式構造を有する(メタ)アクリル酸エステルと、鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルとを含む単量体組成物を共重合してなるポリマーを主成分とする接着剤組成物であって、上記単量体組成物が、さらに、エチレン性二重結合を有するカルボン酸、二官能性モノマー、及び、スチレンマクロモノマーを含み、上記ポリマーが、スチレンブロックセグメントを有することを特徴とする接着剤組成物、特願2006−322346号出願明細書に記載の、スチレンと、鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、脂肪族環を有する(メタ)アクリル酸エステルと、芳香族環を有する(メタ)アクリル酸エステルとを含む単量体組成物を共重合してなるポリマーを主成分とする接着剤組成物であって、上記スチレンと、上記鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、上記脂肪族環を有する(メタ)アクリル酸エステルと、上記芳香族環を有する(メタ)アクリル酸エステルとの総量を100質量部としたとき、上記スチレンの質量が40〜69質量部であり、上記鎖式構造からなる(メタ)アクリル酸アルキルエステルの質量が20〜30質量部であり、上記脂肪族環を有する(メタ)アクリル酸エステルの質量が10〜25質量部であり、上記芳香族環を有する(メタ)アクリル酸エステルの質量が1〜5質量部であることを特徴とする接着剤組成物、特願2006−335081号出願明細書に記載の、単量体組成物を重合してなる重合体を主成分とする接着剤組成物であって、接着剤組成物を被接着物から剥離するときに加えられる熱によって気化する芯物質と、芯物質を内包し、かつ、上記接着剤組成物に対して不溶であり、刺激が加えられることによって破壊される皮膜とからなるマイクロカプセルを含むことを特徴とする接着剤組成物、などを挙げることができ、特にスチレン単位を含有するアクリル系樹脂材料が好ましい。   Examples of such an adhesive include (a) styrene, (b) a cyclic skeleton-containing (meth) acrylic acid ester monomer, (c) (meth) acrylic described in Japanese Patent Application No. 2005-315282. Adhesive composition mainly composed of acrylic polymer containing acid alkyl ester monomer as repeating unit, group described in Japanese Patent Application No. 2006-2115070 application, dissociating from ester bond by action of heat The main component is a polymer obtained by copolymerization of a monomer composition containing a (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure containing benzene and a (meth) acrylic acid alkyl ester having a chain structure. Styrene, a (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure, and a chain structure described in Japanese Patent Application No. 2006-243449. An adhesive composition comprising as a main component a copolymer obtained by copolymerizing a monomer composition containing (meth) acrylic acid alkyl ester, wherein the monomer composition comprises an ethylenic double bond An adhesive composition, further comprising a carboxylic acid having A monomer composition containing styrene, (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure, and (meth) acrylic acid alkyl ester having a chain structure, as described in Japanese Patent Application No. 2006-243450. An adhesive composition comprising a copolymer as a main component, wherein the monomer composition further comprises a bifunctional monomer. A monomer composition containing styrene, a (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure, and a (meth) acrylic acid alkyl ester having a chain structure described in Japanese Patent Application No. 2006-243451. An adhesive composition comprising a copolymer as a main component, wherein the monomer composition further comprises a styrene macromonomer. A monomer composition containing styrene, (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure, and (meth) acrylic acid alkyl ester having a chain structure, as described in Japanese Patent Application No. 2006-243452. An adhesive composition comprising a copolymer as a main component, wherein the polymer has a styrene block segment. A monomer composition containing styrene, a (meth) acrylic acid ester having a cyclic structure, and a (meth) acrylic acid alkyl ester having a chain structure described in Japanese Patent Application No. 2006-316094 An adhesive composition comprising a copolymer as a main component, wherein the monomer composition further comprises a carboxylic acid having an ethylenic double bond, a bifunctional monomer, and a styrene macromonomer. An adhesive composition, wherein the polymer has a styrene block segment, styrene, and a (meth) acrylic acid alkyl ester having a chain structure described in Japanese Patent Application No. 2006-322346 A monomer composition containing a (meth) acrylic acid ester having an aliphatic ring and a (meth) acrylic acid ester having an aromatic ring An adhesive composition mainly comprising a polymer, wherein the styrene, a (meth) acrylic acid alkyl ester having a chain structure, the (meth) acrylic acid ester having an aliphatic ring, and the above When the total amount with the (meth) acrylic acid ester having an aromatic ring is 100 parts by mass, the mass of the styrene is 40 to 69 parts by mass, and the mass of the (meth) acrylic acid alkyl ester having the chain structure. Is 20-30 parts by mass, the mass of the (meth) acrylic acid ester having an aliphatic ring is 10-25 parts by mass, and the mass of the (meth) acrylic acid ester having an aromatic ring is 1-5. Adhesive composition characterized by being part by mass, an adhesive mainly comprising a polymer obtained by polymerizing a monomer composition described in Japanese Patent Application No. 2006-335081 A core material which is vaporized by heat applied when the adhesive composition is peeled off from the adherend, contains the core substance, and is insoluble in the adhesive composition An adhesive composition characterized by containing a microcapsule composed of a film that is destroyed by the addition of acrylate, and the like, and an acrylic resin material containing a styrene unit is particularly preferable.

次に、基板11を研削して、薄板化された基板10を得る。基板10の厚さは、10〜150μmであることが好ましい。これにより、図5に示すように、薄板化された基板10と、第1サポートプレート12とからなる積層構造を得る。 Next, the substrate 11 is ground to obtain a thinned substrate 10. The thickness of the substrate 10 is preferably 10 to 150 μm . Thereby, as shown in FIG. 5, a laminated structure including the thinned substrate 10 and the first support plate 12 is obtained.

2.貼着工程
次に、基板10における第1サポートプレート12の貼着面10aとは反対側の面10bに、第2接着剤を用いて第2サポートプレート14を貼着する。本実施形態では、第2サポートプレート14として、単独で取り扱われる板を用いる場合を例として説明する。第2接着剤は、上記の第1接着剤とは異なる溶解性を有している。そのため、第1サポートプレート12と第2サポートプレート14とが同時に剥離されることがない。第2接着剤としては、水溶性接着剤を使用することが好ましい。ここで、水溶性接着剤とは、水または水性溶剤に可溶な接着剤のことをいう。ここまでの工程により、積層体20が形成される。
2. Adhesion process Next, the 2nd support plate 14 is adhere | attached on the surface 10b on the opposite side to the adhesion surface 10a of the 1st support plate 12 in the board | substrate 10 using a 2nd adhesive agent. In the present embodiment, a case where a plate handled alone is used as the second support plate 14 will be described as an example. The second adhesive has a different solubility from the first adhesive. Therefore, the first support plate 12 and the second support plate 14 are not peeled off at the same time. It is preferable to use a water-soluble adhesive as the second adhesive. Here, the water-soluble adhesive refers to an adhesive that is soluble in water or an aqueous solvent. The laminated body 20 is formed by the process so far.

3.第1剥離工程
次に、第1サポートプレート12を基板10から剥離する。具体的には、第1接着剤を溶解する。この工程での処理方法は、第1接着剤を溶解することができる限り、その方法は限定されない。たとえば、図6に示すように、溶剤24が貯留された処理容器22を用いて、積層体20の全体を溶剤24に浸漬することによって第1接着剤を溶解することができる。この態様によれば、非常に簡便な方法で第1サポートプレートの剥離を行なうことができる。また、処理装置としても、特殊な装置を準備する必要がなく、製造コストの上昇を招くこともない。
3. First peeling step Next, the first support plate 12 is peeled from the substrate 10. Specifically, the first adhesive is dissolved. The processing method in this step is not limited as long as the first adhesive can be dissolved. For example, as shown in FIG. 6, the first adhesive can be dissolved by immersing the entire laminate 20 in the solvent 24 using the processing container 22 in which the solvent 24 is stored. According to this aspect, the first support plate can be peeled off by a very simple method. Moreover, it is not necessary to prepare a special apparatus as a processing apparatus, and the manufacturing cost is not increased.

従来は、面10b側にダイシングテープを貼り付けた後に、第1サポートプレート12を基板10から剥離していために、ダイシングテープの材質によっては、第1接着剤を溶解する溶剤に対して耐性を有さないこともあり、第1サポートプレート12を剥離する際に、処理対象を溶剤に浸すことができなかった。そのため、ダイシングテープに溶剤が飛散しないように、特殊な処理装置を使用したり、煩雑な処理を必要としたりすることがあった。しかしながら、本実施形態によれば、特殊な処理装置を用いることなく、第1サポートプレート12の剥離を簡便な方法で良好に行なうことができる。   Conventionally, since the first support plate 12 is peeled off from the substrate 10 after the dicing tape is applied to the surface 10b side, depending on the material of the dicing tape, resistance to a solvent that dissolves the first adhesive is obtained. In some cases, the object to be treated could not be immersed in the solvent when the first support plate 12 was peeled off. Therefore, a special processing device may be used or complicated processing may be required so that the solvent does not scatter on the dicing tape. However, according to the present embodiment, the first support plate 12 can be peeled favorably by a simple method without using a special processing apparatus.

なお、本実施形態では、第1サポートプレート12と基板10とが溶剤中で完全に分離するまで溶剤に浸漬してもよいし、または、溶剤に浸漬し、ある程度接着力が低下した後に、第1サポートプレート12および基板10とを互いに反対側の方向に引っ張ることで完全に分離させてもよい。また、貫通孔を有するサポートプレートの場合には、溶剤に浸漬することなく、第1サポートプレート12の面と直交する方向から貫通孔を介して、溶剤を供給し、第1接着剤に溶剤を浸透させることもできる。また、貫通孔を有さない場合には、第1サポートプレート12の端面方向から溶剤を供給することもできる。   In the present embodiment, the first support plate 12 and the substrate 10 may be immersed in a solvent until the first support plate 12 and the substrate 10 are completely separated in the solvent, or after being immersed in the solvent and the adhesive force is reduced to some extent, 1 The support plate 12 and the substrate 10 may be completely separated by pulling them in directions opposite to each other. In the case of a support plate having a through hole, the solvent is supplied from the direction perpendicular to the surface of the first support plate 12 without being immersed in the solvent, and the solvent is supplied to the first adhesive. It can also be infiltrated. Further, when there is no through hole, the solvent can be supplied from the end face direction of the first support plate 12.

4.ダイシングテープ貼着工程
次に、図7に示すように、基板10の面10aにダイシングテープ16を貼り付ける。ダイシングテープ16は、ダイシングフレーム18により周囲を固定されている。つまり、ダイシングフレーム18は、ダイシングテープ16が緩むことのないようその張りを維持している。
4). Dicing Tape Adhesion Step Next, as shown in FIG. 7, the dicing tape 16 is attached to the surface 10 a of the substrate 10. The periphery of the dicing tape 16 is fixed by a dicing frame 18. That is, the dicing frame 18 maintains its tension so that the dicing tape 16 does not loosen.

5.第2剥離工程
次に、図8に示すように、第2サポートプレート14を基板10から剥離する。第2サポートプレート14の剥離では、まず第2接着剤を溶解する。第2接着剤の溶解は、ダイシングテープ16に不活性な溶剤を用いて行なわれる。つまり、ダイシングテープを劣化させることのない溶剤である。このような溶剤としては、水または水性溶剤を用いることができる。水の場合には、pH値が6〜8の水であることが好ましい。処理方法としては、図6にて例示したように、全体を溶剤中に浸漬してもよいし、端面側から溶剤を供給してもよい。水性溶剤としては、たとえば、水、または水に各種添加剤(例えば、界面活性剤、酸性化合物、塩基性化合物など)を配合した水溶液を用いることができる。
5. Second Peeling Step Next, as shown in FIG. 8, the second support plate 14 is peeled from the substrate 10. In peeling off the second support plate 14, first, the second adhesive is dissolved. The second adhesive is dissolved by using an inert solvent for the dicing tape 16. That is, it is a solvent that does not deteriorate the dicing tape. As such a solvent, water or an aqueous solvent can be used. In the case of water, it is preferably water having a pH value of 6-8. As a processing method, as illustrated in FIG. 6, the whole may be immersed in a solvent, or the solvent may be supplied from the end face side. As the aqueous solvent, for example, water or an aqueous solution in which various additives (for example, a surfactant, an acidic compound, a basic compound, etc.) are mixed with water can be used.

また、第2サポートプレート14が、厚さ方向に貫通する貫通孔を有する場合には、第2サポートプレート14の上方から、貫通孔を介して溶剤を供給して第2接着剤を溶解することもできる。また、基板10の端面側から溶剤を供給し、第2接着剤を溶解することもできる。   In addition, when the second support plate 14 has a through hole penetrating in the thickness direction, the solvent is supplied from the upper side of the second support plate 14 through the through hole to dissolve the second adhesive. You can also. Moreover, a solvent can be supplied from the end surface side of the board | substrate 10, and a 2nd adhesive agent can also be melt | dissolved.

以上の工程により、ダイシングテープ16に取り付けられた基板10を得ることができる。   Through the above steps, the substrate 10 attached to the dicing tape 16 can be obtained.

本実施形態にかかる基板の処理方法によれば、薄板化された基板10からサポートプレートを、基板10を損傷させることなく剥離することができる。ダイシングテープ16と基板10とを貼りつける前に、第1サポートプレートの除去が行なわれるため、ダイシングテープ16に対して活性な、つまり、ダイシングテープ16を劣化させうる溶剤と接触することがない。そのため、ダイシングテープ16を劣化させることなく、基板10からサポートプレートを剥離することができる。   According to the substrate processing method of this embodiment, the support plate can be peeled from the thinned substrate 10 without damaging the substrate 10. Since the first support plate is removed before the dicing tape 16 and the substrate 10 are attached, the first support plate is not contacted with a solvent that is active with respect to the dicing tape 16, that is, can deteriorate the dicing tape 16. Therefore, the support plate can be peeled from the substrate 10 without deteriorating the dicing tape 16.

(第2の実施形態)
第2の実施形態にかかる基板の処理方法について図9および図10を参照しつつ説明する。図9および図10は、第2の実施形態にかかる基板の処理工程を示す断面図である。第2の実施形態にかかる基板の処理方法では、上述の積層体30中の基板10からサポートプレートを剥離する方法である。なお、以下の説明では、第1の実施形態とは異なる点について説明する。
(Second Embodiment)
A substrate processing method according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 9 and 10 are cross-sectional views illustrating the substrate processing steps according to the second embodiment. The substrate processing method according to the second embodiment is a method of peeling the support plate from the substrate 10 in the above-described laminate 30. In the following description, differences from the first embodiment will be described.

まず、第1の実施形態の基板薄板化工程と同様にして、薄板化された基板10を得る。ついで、基板10の面10bに、第2接着剤を介して、第2サポートプレートであるステージ26を貼り付ける。これにより、図2に参照されるような積層体30が得られる。   First, the thinned substrate 10 is obtained in the same manner as the substrate thinning step of the first embodiment. Next, a stage 26 as a second support plate is affixed to the surface 10b of the substrate 10 with a second adhesive. Thereby, the laminated body 30 as referred to FIG. 2 is obtained.

次に、第1サポートプレート12の剥離を行なう。ここでは、基板10および第1サポートプレート12の端面側から溶剤を供給することや、第1サポートプレート12に貫通孔(不図示)がある場合には、この貫通孔を介して、上方から溶剤を供給することにより第1接着剤を溶解すればよい。第1接着剤の接着力が低下した後に、第1サポートプレート12を上方向に引っ張ることにより、図9に示すように、第1サポートプレート12を基板10から剥離することができる。   Next, the first support plate 12 is peeled off. Here, the solvent is supplied from the end face side of the substrate 10 and the first support plate 12, or when there is a through hole (not shown) in the first support plate 12, the solvent is introduced from above through the through hole. The first adhesive may be dissolved by supplying After the adhesive force of the first adhesive is reduced, the first support plate 12 can be peeled from the substrate 10 by pulling the first support plate 12 upward as shown in FIG.

次に、図10に示すように、基板10の面10bにダイシングテープ16を貼り付ける。ついで、基板10をステージ26から剥離する(第2剥離工程)。この工程では、基板10の端面側から溶剤を供給することにより、第2接着剤を溶解する。以上の工程により、ダイシングテープ16に貼り付けられた基板10を得ることができる。   Next, as shown in FIG. 10, a dicing tape 16 is attached to the surface 10 b of the substrate 10. Next, the substrate 10 is peeled from the stage 26 (second peeling step). In this step, the second adhesive is dissolved by supplying a solvent from the end face side of the substrate 10. Through the above steps, the substrate 10 adhered to the dicing tape 16 can be obtained.

(第3の実施形態)
次に、第3の実施形態にかかる基板の処理方法について図11および図12を参照しつつ説明する。図11および図12は、第3の実施形態にかかる基板の処理工程を示す断面図である。第3の実施形態にかかる基板の処理方法では、上述の積層体40中の基板10からサポートプレートを剥離する方法である。なお、以下の説明では、第1の実施形態とは異なる点について説明する。
(Third embodiment)
Next, a substrate processing method according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 12 are cross-sectional views illustrating the substrate processing steps according to the third embodiment. The substrate processing method according to the third embodiment is a method of peeling the support plate from the substrate 10 in the above-described laminate 40. In the following description, differences from the first embodiment will be described.

まず、薄板化された基板10の面10bに第2サポートプレートであるプレート28を貼り付ける。これにより、図3に参照されるように積層体40が得られる。次に、第1サポートプレート12の剥離を行なう。ここでは、基板10と第1サポートプレート12との接着面を溶剤に浸すことなどにより、第1接着剤を溶解する方法を採用することができる。   First, the plate 28 that is the second support plate is attached to the surface 10b of the thinned substrate 10. Thereby, the laminated body 40 is obtained as referred to in FIG. Next, the first support plate 12 is peeled off. Here, a method of dissolving the first adhesive by, for example, immersing the adhesive surface between the substrate 10 and the first support plate 12 in a solvent can be employed.

次に、図11に示すように、基板10の面10bに、ダイシングテープ16を貼り付ける。ついで、基板10をプレート28から剥離する(第2剥離工程)。この工程では、図12に示すように、溶剤44が貯えられた処理容器42に、積層体40を浸す方法や、プレート28が厚さ方向に貫通する貫通孔(不図示)を有する場合には、プレート28の貫通孔を介して溶剤を基板10とプレート28との間に供給する方法によって、第2接着剤を溶解することができる。その後、プレート28を基板10から剥がし、図8に参照されるように、ダイシングテープ16に貼り付けられた基板10を得ることができる。なお、プレート28の貫通孔を介して溶剤を供給する場合には、必要に応じて、プレート28の他の貫通孔を介して溶剤を吸引しつつ行なうことが好ましい。   Next, as shown in FIG. 11, a dicing tape 16 is attached to the surface 10 b of the substrate 10. Next, the substrate 10 is peeled from the plate 28 (second peeling step). In this step, as shown in FIG. 12, when the laminated body 40 is immersed in the processing container 42 in which the solvent 44 is stored, or when the plate 28 has a through-hole (not shown) penetrating in the thickness direction. The second adhesive can be dissolved by supplying the solvent between the substrate 10 and the plate 28 through the through hole of the plate 28. Thereafter, the plate 28 is peeled off from the substrate 10 to obtain the substrate 10 affixed to the dicing tape 16 as shown in FIG. In addition, when supplying a solvent through the through-hole of the plate 28, it is preferable to carry out it, attracting | sucking a solvent through the other through-hole of the plate 28 as needed.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention.

本発明に係る基板処理方法によれば、薄板化された基板の取り扱いを容易にすることができる積層体および基板の処理方法を提供する。本発明は、たとえば、微細化された半導体装置の製造に利用することができる。   The substrate processing method according to the present invention provides a laminate and a substrate processing method capable of easily handling a thinned substrate. The present invention can be used, for example, for manufacturing a miniaturized semiconductor device.

第1の実施形態にかかる基板を含む積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body containing the board | substrate concerning 1st Embodiment. 第2の実施形態にかかる基板を含む積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body containing the board | substrate concerning 2nd Embodiment. 第3の実施形態にかかる基板を含む積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body containing the board | substrate concerning 3rd Embodiment. 第1の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 1st Embodiment. 第1の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 1st Embodiment. 第2の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 2nd Embodiment. 第2の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 2nd Embodiment. 第3の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 3rd Embodiment. 第3の実施形態にかかる基板の処理方法の一工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1 process of the processing method of the board | substrate concerning 3rd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10 基板
10a、10b 面
11 基板
12 第1サポートプレート
14 第2サポートプレート
16 ダイシングテープ
18 ダイシングフレーム
20、30、40 積層体
22、42 処理容器
24、44 溶剤
26 ステージ
28 プレート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Board | substrate 10a, 10b surface 11 Board | substrate 12 1st support plate 14 2nd support plate 16 Dicing tape 18 Dicing frame 20, 30, 40 Laminated body 22, 42 Processing container 24, 44 Solvent 26 Stage 28 Plate

Claims (5)

薄板化され、第1接着剤を介して第1サポートプレートが貼着された基板から、当該第1サポートプレートを剥離する基板の処理方法であって、
該基板における該第1サポートプレートの貼着面とは反対側の面に、該第1接着剤とは異なる溶解性を有している第2接着剤を用いて第2サポートプレートを貼着する貼着工程と、
前記貼着工程の後に、前記第1接着剤を溶解して前記第1サポートプレートを基板から剥離する第1剥離工程と、
前記第1剥離工程の後に、前記第2接着剤を溶解して、第2サポートプレートを該基板から剥離する第2剥離工程と、
前記第1剥離工程の後であり、前記第2剥離工程の前に、
前記基板において前記第1サポートプレートが除去された面が、前記基板に貼着するダイシングテープと対向するようにして、該基板と前記ダイシングテープとを貼着する工程とを含み、
前記第2接着剤は、前記ダイシングテープに対して不活性な溶剤によって溶解可能な接着剤であり、
前記第2剥離工程では、前記ダイシングテープに対して不活性な溶剤を用いることを特徴とする基板の処理方法。
A substrate processing method for peeling a first support plate from a substrate that has been thinned and has a first support plate attached thereto via a first adhesive,
The second support plate is attached to the surface of the substrate opposite to the attachment surface of the first support plate using a second adhesive having a solubility different from that of the first adhesive. A sticking process;
A first peeling step of dissolving the first adhesive and peeling the first support plate from the substrate after the sticking step;
A second peeling step of dissolving the second adhesive and peeling the second support plate from the substrate after the first peeling step;
After the first peeling step and before the second peeling step,
The surface of the substrate from which the first support plate has been removed includes a step of attaching the substrate and the dicing tape so as to face a dicing tape attached to the substrate,
The second adhesive, Ri adhesive der dissolvable by a solvent which is inert with respect to the dicing tape,
In the second separation step, the method of processing a substrate characterized by Rukoto using an inert solvent with respect to the dicing tape.
前記第1剥離工程は、前記第1サポートプレート、前記基板および前記第2サポートプレートからなる積層体を溶剤に浸漬することを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板の処理方法。   2. The substrate processing method according to claim 1, wherein the first peeling step includes immersing a laminated body including the first support plate, the substrate, and the second support plate in a solvent. 前記ダイシングテープに対して不活性な溶剤として、pH=6〜8の水または水溶液に該当するものが選択されることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板の処理方法。 The substrate processing method according to claim 1 or 2, wherein a solvent corresponding to water or an aqueous solution having a pH of 6 to 8 is selected as a solvent inert to the dicing tape . 前記第1剥離工程では、前記第2接着剤を溶解しない有機溶剤を溶剤として用いることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の基板の処理方法。 In the first separation step, the processing method of a substrate according to any one of claims 1 to 3, characterized in that an organic solvent which does not dissolve the second adhesive as a solvent. 前記有機溶剤は、PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)および2−ヘプタノンの中から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項に記載の基板の処理方法。
The organic solvent, PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) and at least Tanedea The substrate processing method as claimed in claim 4, characterized in Rukoto selected from among 2-heptanone.
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