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JP4935227B2 - Temperature detection circuit, operation method thereof, and semiconductor device - Google Patents

Temperature detection circuit, operation method thereof, and semiconductor device Download PDF

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JP4935227B2 JP2006210616A JP2006210616A JP4935227B2 JP 4935227 B2 JP4935227 B2 JP 4935227B2 JP 2006210616 A JP2006210616 A JP 2006210616A JP 2006210616 A JP2006210616 A JP 2006210616A JP 4935227 B2 JP4935227 B2 JP 4935227B2
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Description

本発明は、温度検出回路およびその動作方法、並びに温度検出回路を内蔵した半導体装置に関する。 The present invention relates to a temperature detection circuit, an operation method thereof, and a semiconductor device incorporating the temperature detection circuit.

半導体装置には、当該装置が置かれる環境の温度変化を検出する温度検出回路を内蔵したものがある。この種の半導体装置の製造段階においては、内蔵の温度検出回路の動作試験を行う必要がある。従来は、温度検出回路の動作試験を、温度検出回路を形成する半導体基板内の温度センサ部の近傍部分埋め込み領域を用いてヒータを形成し、当該ヒータを用いて加熱することによって行うようにしていた(例えば、特許文献1参照)。また、スイッチング素子の動作によって抵抗比を代えて擬似的な出力電圧の変化を見ることで温度検出回路の動作試験を行うようにしていた(例えば、特許文献2参照)。   Some semiconductor devices have a built-in temperature detection circuit that detects a temperature change in an environment in which the device is placed. In the manufacturing stage of this type of semiconductor device, it is necessary to perform an operation test of the built-in temperature detection circuit. Conventionally, an operation test of a temperature detection circuit is performed by forming a heater using a region embedded in the vicinity of the temperature sensor portion in the semiconductor substrate forming the temperature detection circuit, and heating the heater using the heater. (For example, see Patent Document 1). In addition, the operation test of the temperature detection circuit is performed by observing a pseudo change in the output voltage by changing the resistance ratio depending on the operation of the switching element (see, for example, Patent Document 2).

特開平10−325761号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-325761 特許第3322553号公報Japanese Patent No. 3322553

しかしながら、特許文献1記載の従来技術では、ヒータによる加熱によって温度が上昇するまでに時間がかかるために、動作試験の効率を落とすという問題がある。また、特許文献2記載の従来技術では、スイッチング素子によるつなぎかえを行うことでON抵抗が誤差分として検出結果に影響を及ぼすことになり、また温度検出の電圧試験数を増やすにはスイッチ素子をその個数分追加する必要があり、その分寄生抵抗の影響を受けやすくなっていくという問題がある。   However, the conventional technique described in Patent Document 1 has a problem that the efficiency of the operation test is lowered because it takes time until the temperature rises due to heating by the heater. In the prior art described in Patent Document 2, the ON resistance affects the detection result as an error by switching the switching element, and the switching element is used to increase the number of temperature detection voltage tests. There is a problem that it is necessary to add as many as that number, and the portion becomes more susceptible to parasitic resistance.

本発明は、電源供給回路に内蔵される温度検出回路であって、当該電源供給回路の動作試験時に、動作環境を変えることなく、かつ、短時間で動作試験を行うことが可能な温度検出回路およびその試験方法を提供することを目的とする。また、本発明は、当該温度検出回路を内蔵した半導体装置を提供することを目的とする。 The present invention is a temperature detection circuit built in a power supply circuit , and can perform an operation test in a short time without changing the operating environment during an operation test of the power supply circuit. And its test method . Another object of the present invention is to provide a semiconductor device incorporating the temperature detection circuit.

上記目的を達成するために、本発明は、半導体基板上に設けられ、当該半導体基板の外部から与えられる電源電圧を基に当該電源電圧とは電圧値が異なるローカル電圧を生成して駆動対象の回路部に供給する電源供給回路に設けられ、前記ローカル電圧の値に温度依存性を持たせるために、温度依存性のある素子を用い環境温度に依存して出力が変化する温度検出回路において、前記温度依存性のある素子に流す定電流の電流値を変化させることによって、前記出力を変化させる試験回路を内蔵する構成を採っている。
In order to achieve the above object, the present invention provides a local voltage that is provided on a semiconductor substrate and generates a local voltage having a voltage value different from the power supply voltage based on a power supply voltage applied from the outside of the semiconductor substrate. In a temperature detection circuit that is provided in a power supply circuit that supplies a circuit unit, and the temperature varies depending on the environmental temperature using an element having a temperature dependency in order to give the local voltage value temperature dependency , A configuration is adopted in which a test circuit that changes the output by changing the current value of a constant current that flows in the temperature-dependent element is adopted.

上記構成の温度検出回路において、試験回路を内蔵することで環境温度(環境条件)を変えることなく、電源供給回路の回路動作の確認が可能になる。そして、温度依存性のある素子に定電流を流すことによる動作試験であるために、電流値を決める要素として、温度依存性のある素子に対して直列に繋がるスイッチ素子の寄生抵抗や接触抵抗の影響を受けない。   In the temperature detection circuit having the above-described configuration, the circuit operation of the power supply circuit can be confirmed without changing the environmental temperature (environmental condition) by incorporating the test circuit. Since this is an operation test by passing a constant current through a temperature-dependent element, the parasitic resistance and contact resistance of the switch element connected in series to the temperature-dependent element are used as elements for determining the current value. Not affected.

本発明によれば、環境温度を変えることなく、かつ寄生抵抗による影響を受けずに、動作試験を短時間で容易に行うことができ、それに伴って動作試験の効率を上げることができるために、コストダウンを図ることができる。   According to the present invention, the operation test can be easily performed in a short time without changing the environmental temperature and without being affected by the parasitic resistance, and accordingly, the efficiency of the operation test can be increased. Cost reduction can be achieved.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

ここでは、本発明が適用される半導体装置として、例えば、被写体を経た入射光の光強度を検出する固体撮像装置を例に挙げて説明するものとする。   Here, as a semiconductor device to which the present invention is applied, for example, a solid-state imaging device that detects the light intensity of incident light that has passed through a subject will be described as an example.

図1は、本発明が適用される固体撮像装置のシステム構成の概略を示すシステム構成図である。ここでは、固体撮像装置として、例えばCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサを例に挙げて説明するものとする。   FIG. 1 is a system configuration diagram showing an outline of a system configuration of a solid-state imaging device to which the present invention is applied. Here, a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor will be described as an example of the solid-state imaging device.

図1に示すように、本適用例に係る固体撮像装置10は、半導体基板(チップ)11上に、画素アレイ部12、垂直駆動部13、カラム回路群14、水平駆動部15、水平信号線16、出力部17、制御部18およびローカル電圧供給部(電源供給回路)19などが搭載されたシステム構成となっている。   As shown in FIG. 1, a solid-state imaging device 10 according to this application example includes a pixel array unit 12, a vertical driving unit 13, a column circuit group 14, a horizontal driving unit 15, and a horizontal signal line on a semiconductor substrate (chip) 11. 16, an output unit 17, a control unit 18, a local voltage supply unit (power supply circuit) 19, and the like are mounted.

画素アレイ部12は、入射光をその光強度に応じた電荷量に光電変換する光電変換素子を含む画素20が行列状(マトリクス状)に多数2次元配置された構成となっている。画素20の具体的な回路構成については後述する。画素アレイ部12には、行列状の画素配置に対して画素行ごとに画素駆動配線121が配線され、画素列ごとに垂直信号線122が配線されている。   The pixel array unit 12 has a configuration in which a large number of pixels 20 including photoelectric conversion elements that photoelectrically convert incident light into a charge amount corresponding to the light intensity are two-dimensionally arranged in a matrix (matrix shape). A specific circuit configuration of the pixel 20 will be described later. In the pixel array unit 12, pixel drive wirings 121 are wired for each pixel row and vertical signal lines 122 are wired for each pixel column in a matrix-like pixel arrangement.

垂直駆動部13は、画素アレイ部12の各画素20を行単位で順次選択走査し、その選択行の各画素に対して画素駆動配線121を通して必要な駆動パルス(制御パルス)を供給する。ここでは、図示を省略するが、垂直駆動部13は、画素20を行単位で順に選択して当該選択行の各画素20の信号を読み出す読み出し動作を行うための読み出し走査系と、当該読み出し走査系による読み出し走査よりもシャッタ速度に対応した時間だけ前に同じ行の画素20の光電変換素子にそれまでに蓄積された電荷を捨てる(リセットする)シャッタ動作を行うためのシャッタ走査系とを有する構成となっている。   The vertical driving unit 13 sequentially selects and scans each pixel 20 of the pixel array unit 12 in units of rows, and supplies a necessary driving pulse (control pulse) to each pixel in the selected row through the pixel driving wiring 121. Here, although not shown, the vertical drive unit 13 sequentially selects the pixels 20 in units of rows and performs a read operation for reading a signal of each pixel 20 in the selected row, and the read scan. And a shutter scanning system for performing a shutter operation that discards (resets) the charges accumulated so far in the photoelectric conversion elements of the pixels 20 in the same row a time corresponding to the shutter speed before the readout scanning by the system. It has a configuration.

そして、シャッタ走査系によるシャッタ走査によって光電変換素子の不要な電荷がリセットされたタイミングから、読み出し走査系による読み出し走査によって画素20の信号が読み出されるタイミングまでの期間が、画素20における信号電荷の蓄積時間(露光時間)となる。すなわち、電子シャッタ動作とは、光電変換素子に蓄積された信号電荷をリセットし、新たに信号電荷の蓄積を開始する動作である。   The signal charge accumulation in the pixel 20 is from the timing when the unnecessary charge of the photoelectric conversion element is reset by shutter scanning by the shutter scanning system to the timing when the signal of the pixel 20 is read by readout scanning by the readout scanning system. Time (exposure time). That is, the electronic shutter operation is an operation that resets signal charges accumulated in the photoelectric conversion elements and newly starts accumulation of signal charges.

選択行の各画素20から出力される信号は、垂直信号線122の各々を通してカラム回路群14に供給される。カラム回路群14は、画素アレイ部12の例えば画素列ごとに、即ち画素列に対して1対1の対応関係をもって各カラム回路が配置され、1行分の各画素20から出力される信号を画素列ごとに受けて、その信号に対して画素固有の固定パターンノイズを除去するためのCDS(Correlated Double Sampling;相関二重サンプリング)や信号増幅などの信号処理を行う。カラム回路群14の各カラム回路に、A/D(アナログ/デジタル)変換機能を持たせた構成を採ることも可能である。   A signal output from each pixel 20 in the selected row is supplied to the column circuit group 14 through each vertical signal line 122. In the column circuit group 14, each column circuit is arranged for each pixel column of the pixel array unit 12, that is, with a one-to-one correspondence with the pixel column, and a signal output from each pixel 20 for one row is output. A signal processing such as CDS (Correlated Double Sampling) or signal amplification for removing fixed pattern noise peculiar to the pixel is performed on the signal received for each pixel column. It is also possible to adopt a configuration in which each column circuit of the column circuit group 14 has an A / D (analog / digital) conversion function.

水平駆動部15は、水平走査回路151および水平選択スイッチ群152によって構成されている。水平走査回路151は、シフトレジスタなどによって構成され、水平選択スイッチ群152の各スイッチを順に選択走査することにより、カラム回路群14の各カラム回路で信号処理後の1行分の信号を水平信号線16に順番に出力させる。   The horizontal drive unit 15 includes a horizontal scanning circuit 151 and a horizontal selection switch group 152. The horizontal scanning circuit 151 is configured by a shift register or the like, and sequentially selects and scans each switch of the horizontal selection switch group 152, whereby a signal for one row after signal processing in each column circuit of the column circuit group 14 is a horizontal signal. The lines 16 are output in order.

出力部17は、カラム回路群14の各カラム回路から水平選択スイッチ群152および水平信号線16を通して順に供給される信号に対して種々の信号処理を施して出力信号OUTとして出力する。出力部17では、例えば、バッファリング処理だけを行う場合もあるし、あるいはバッファリング処理の前に黒レベル調整、列ごとのばらつきの補正、信号増幅、色関係処理などを行う場合もある。   The output unit 17 performs various signal processing on signals sequentially supplied from each column circuit of the column circuit group 14 through the horizontal selection switch group 152 and the horizontal signal line 16 and outputs the processed signal as an output signal OUT. For example, the output unit 17 may perform only buffering processing, or may perform black level adjustment, correction of variation for each column, signal amplification, color-related processing, and the like before the buffering processing.

制御部18は、図示せぬインターフェースを介して本固体撮像装置10の動作モードなどを指令するデータを基板外部から受け取り、また本固体撮像装置10の情報を含むデータを外部に出力するとともに、垂直同期信号Vsync、水平同期信号HsyncおよびマスタークロックMCKに基づいて、垂直駆動部13、カラム回路群14および水平駆動部15などの動作の基準となるクロック信号や制御信号などを生成し、これら各回路部に対して与える。   The control unit 18 receives data for instructing the operation mode of the solid-state imaging device 10 from the outside of the substrate via an interface (not shown), outputs data including information on the solid-state imaging device 10 to the outside, and Based on the synchronization signal Vsync, the horizontal synchronization signal Hsync, and the master clock MCK, a clock signal, a control signal, and the like serving as a reference for the operation of the vertical drive unit 13, the column circuit group 14, the horizontal drive unit 15 and the like are generated. Give to the department.

ローカル電圧供給部19は、チャージポンプ回路などによって構成され、本固体撮像装置10の通常の動作電圧である、半導体基板11の外部から与えられる電源電圧Vdd−接地電圧GNDを基に、これら通常の動作電圧とは電圧値が異なる電圧(以下、「ローカル電圧」と記述する)、例えば負電圧を生成し、この生成した負電圧を垂直駆動部13に供給する。このローカル電圧供給部19は本発明の特徴とする部分であり、その詳細については後述する。   The local voltage supply unit 19 is configured by a charge pump circuit or the like, and is based on a power supply voltage Vdd-ground voltage GND given from the outside of the semiconductor substrate 11 which is a normal operating voltage of the solid-state imaging device 10. A voltage having a voltage value different from the operating voltage (hereinafter referred to as “local voltage”), for example, a negative voltage is generated, and the generated negative voltage is supplied to the vertical drive unit 13. The local voltage supply unit 19 is a feature of the present invention, and details thereof will be described later.

CMOSイメージセンサでは、例えば、暗電流の低減を目的として、画素20内の転送トランジスタがオフするときのゲート電圧を当該転送トランジスタが形成されているウェルの電圧よりもオフ側の電圧、本例では負電圧にするために負電圧生成回路が設けられている(例えば、特開2002−217397号公報参照)。この負電圧生成回路がローカル電圧供給部19に相当する。   In the CMOS image sensor, for example, for the purpose of reducing dark current, the gate voltage when the transfer transistor in the pixel 20 is turned off is set to a voltage on the off side of the voltage of the well in which the transfer transistor is formed. In order to obtain a negative voltage, a negative voltage generation circuit is provided (see, for example, JP-A-2002-217397). This negative voltage generation circuit corresponds to the local voltage supply unit 19.

(画素回路)
図2は、画素20の回路構成の一例を示す回路図である。図2に示すように、本回路例に係る画素20は、光電変換素子である埋込みフォトダイオード21に加えて、転送トランジスタ22、リセットトランジスタ23、増幅トランジスタ24および選択トランジスタ25の4つのトランジスタを有する回路構成となっている。ここでは、4つのトランジスタ22〜25として、例えばNチャネルMOSトランジスタを用いている。
(Pixel circuit)
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an example of a circuit configuration of the pixel 20. As shown in FIG. 2, the pixel 20 according to this circuit example includes four transistors of a transfer transistor 22, a reset transistor 23, an amplification transistor 24, and a selection transistor 25 in addition to the embedded photodiode 21 that is a photoelectric conversion element. It has a circuit configuration. Here, as the four transistors 22 to 25, for example, N-channel MOS transistors are used.

この画素20に対して、画素駆動配線121として、転送配線121A、リセット配線121Bおよび選択配線121Cが同一行の画素に対して共通に配線されている。   For this pixel 20, a transfer wiring 121 </ b> A, a reset wiring 121 </ b> B, and a selection wiring 121 </ b> C are commonly wired as pixels driving wiring 121 to pixels in the same row.

図2において、フォトダイオード21は、受光した光をその光強度に応じた電荷量の光電荷(ここでは、電子)に光電変換する。フォトダイオード21のカソードは、転送トランジスタ22を介して増幅トランジスタ24のゲートと電気的に接続されている。この増幅トランジスタ24のゲートと電気的に繋がったノードをFD(フローティングディフュージョン)部26と呼ぶ。このFD部26は、フォトダイオード21から転送された信号電荷を保持するとともに、当該信号電荷を電圧に変換する機能を持つ。   In FIG. 2, a photodiode 21 photoelectrically converts received light into photocharges (here, electrons) having a charge amount corresponding to the light intensity. The cathode of the photodiode 21 is electrically connected to the gate of the amplification transistor 24 through the transfer transistor 22. A node electrically connected to the gate of the amplification transistor 24 is referred to as an FD (floating diffusion) portion 26. The FD unit 26 has a function of holding the signal charge transferred from the photodiode 21 and converting the signal charge into a voltage.

転送トランジスタ22は、フォトダイオード21のカソードとFD部26との間に接続され、ゲートに転送配線121Aを介して転送パルスTRFが与えられることによってオン状態となり、フォトダイオード21で光電変換され、ここに蓄積された光電荷をFD部26に転送する。   The transfer transistor 22 is connected between the cathode of the photodiode 21 and the FD unit 26, and is turned on when a transfer pulse TRF is applied to the gate via the transfer wiring 121A. The photocharge stored in the FD unit 26 is transferred to the FD unit 26.

リセットトランジスタ23は、ドレインが電源電圧Vddの電源配線に、ソースがFD部26にそれぞれ接続され、ゲートにリセット配線121Bを介してリセットパルスRSTが与えられることによってオン状態となり、フォトダイオード21からFD部26への信号電荷の転送に先立って、FD部26の電荷を電源(Vdd)配線に捨てることによって当該FD部26をリセットする。   The reset transistor 23 is turned on when the drain is connected to the power supply wiring of the power supply voltage Vdd, the source is connected to the FD unit 26, and the gate is supplied with the reset pulse RST via the reset wiring 121B. Prior to the transfer of the signal charge to the unit 26, the FD unit 26 is reset by discarding the charge of the FD unit 26 to the power supply (Vdd) wiring.

増幅トランジスタ24は、ゲートがFD部26に、ドレインが電源配線Vddの電源配線にそれぞれ接続され、リセットトランジスタ23によってリセットされた後のFD部26の電位をリセットレベルとして出力し、さらに転送トランジスタ22によってフォトダイオード21から信号電荷が転送された後のFD部26の電位を信号レベルとして出力する。   The amplification transistor 24 has a gate connected to the FD section 26 and a drain connected to the power supply wiring of the power supply wiring Vdd, and outputs the potential of the FD section 26 after being reset by the reset transistor 23 as a reset level. Thus, the potential of the FD portion 26 after the signal charge is transferred from the photodiode 21 is output as a signal level.

選択トランジスタ25は、例えば、ドレインが増幅トランジスタ24のソースに、ソースが垂直信号線122にそれぞれ接続されている。すなわち、増幅トランジスタ24と垂直信号線122との間に、当該増幅トランジスタ24に対して直列に接続されている。この選択トランジスタ25は、ゲートに選択配線121Cを介して選択パルスSELが与えられることによってオン状態となり、画素20Aを選択状態として増幅トランジスタ24で増幅された信号を垂直信号線122に出力する。   For example, the selection transistor 25 has a drain connected to the source of the amplification transistor 24 and a source connected to the vertical signal line 122. That is, the amplifier transistor 24 and the vertical signal line 122 are connected in series with the amplifier transistor 24. The selection transistor 25 is turned on when a selection pulse SEL is applied to the gate via the selection wiring 121C, and the signal amplified by the amplification transistor 24 is output to the vertical signal line 122 with the pixel 20A selected.

本回路例では、選択トランジスタ25を増幅トランジスタ24と垂直信号線122との間に接続した構成を採っているが、選択トランジスタ25を増幅トランジスタ24と電源Vddとの間に接続する構成を採ることも可能である。   In this circuit example, the selection transistor 25 is connected between the amplification transistor 24 and the vertical signal line 122. However, the selection transistor 25 is connected between the amplification transistor 24 and the power supply Vdd. Is also possible.

また、画素20としては、転送トランジスタ22、リセットトランジスタ23、増幅トランジスタ24および選択トランジスタ25の4つのトランジスタからなる上述した回路構成のものに限られるものではなく、例えば、増幅トランジスタ24を選択トランジスタとして兼用した3つのトランジスタからなる回路構成のものなどでも良く、その構成は問わないものとする。   The pixel 20 is not limited to the above-described circuit configuration including the transfer transistor 22, the reset transistor 23, the amplification transistor 24, and the selection transistor 25. For example, the amplification transistor 24 is used as the selection transistor. A circuit configuration including three transistors that are also used may be used, and the configuration is not limited.

(垂直駆動部)
図3は、垂直駆動部13の構成の一例を示すブロック図である。図3に示すように、垂直駆動部13は、行選択回路131、マルチプレクサ132、レベルシフタ133および出力バッファ134を有する構成となっている。ここでは、グランドや電源の入力系については省略して示している。
(Vertical drive unit)
FIG. 3 is a block diagram illustrating an example of the configuration of the vertical drive unit 13. As shown in FIG. 3, the vertical drive unit 13 includes a row selection circuit 131, a multiplexer 132, a level shifter 133, and an output buffer 134. Here, the ground and power supply input systems are not shown.

行選択回路131は、シフトレジスタあるいはデコーダなどによって構成され、制御部18から供給される走査信号あるいはアドレス信号に従って画素アレイ部12の画素行を選択走査する。マルチプレクサ132は、制御部18から供給される画素駆動パルスを、行選択回路131によって選択走査された画素行に対して転送パルスTRF、リセットパルスRSTおよび選択パルスSELとして出力する。   The row selection circuit 131 includes a shift register or a decoder, and selectively scans the pixel rows of the pixel array unit 12 in accordance with a scanning signal or an address signal supplied from the control unit 18. The multiplexer 132 outputs the pixel driving pulse supplied from the control unit 18 as a transfer pulse TRF, a reset pulse RST, and a selection pulse SEL to the pixel row that is selectively scanned by the row selection circuit 131.

レベルシフタ133は、マルチプレクサ132から与えられる画素駆動パルスの高レベルおよび低レベルをそれぞれ所定のレベルにレベルシフト(レベル変換)する。レベルシフタ133でレベルシフトされた画素駆動パルス、即ち転送パルスTRF、リセットパルスRSTおよび選択パルスSELは、低インピーダンスの出力バッファ134を通して、画素駆動配線121(即ち、転送配線121A、リセット配線121Bおよび選択配線121C)に与えられる。   The level shifter 133 performs level shift (level conversion) on the high level and low level of the pixel drive pulse supplied from the multiplexer 132 to predetermined levels, respectively. The pixel drive pulse level-shifted by the level shifter 133, that is, the transfer pulse TRF, the reset pulse RST, and the selection pulse SEL are passed through the low impedance output buffer 134 to the pixel drive wiring 121 (that is, the transfer wiring 121A, the reset wiring 121B, and the selection wiring). 121C).

レベルシフタ133および出力バッファ134には、ローカル電圧供給部19からローカル電圧として例えば負電圧が供給されている。なお、レベルシフタ133および出力バッファ134は、転送パルスTRF、リセットパルスRSTおよび選択パルスSELの各々に対応して設けられることになる。   For example, a negative voltage is supplied as a local voltage from the local voltage supply unit 19 to the level shifter 133 and the output buffer 134. The level shifter 133 and the output buffer 134 are provided corresponding to each of the transfer pulse TRF, the reset pulse RST, and the selection pulse SEL.

(出力バッファ)
ここで、負電圧が供給されるレベルシフタ133および出力バッファ134のうち、例えば転送パルスTRFを扱う出力バッファ134について詳細に説明する。
(Output buffer)
Here, among the level shifter 133 and the output buffer 134 to which the negative voltage is supplied, for example, the output buffer 134 that handles the transfer pulse TRF will be described in detail.

図4に示すように、出力バッファ134は、正側電源Vddと負側電源Vssとの間に縦続接続されたPchMOSトランジスタQpとNchMOSトランジスタQnとで形成される、いわゆるCMOSインバータ回路によって構成されている。そして、負側電源Vssとして、ローカル電圧供給部19からローカル電圧である負電圧が供給される。ここでは、理解を容易にするために、出力バッファ134を1段のインバータ回路によって構成した例を示したが、複数段のインバータ回路で構成することも可能である。   As shown in FIG. 4, the output buffer 134 is configured by a so-called CMOS inverter circuit formed by a PchMOS transistor Qp and an NchMOS transistor Qn cascaded between a positive power supply Vdd and a negative power supply Vss. Yes. And the negative voltage which is a local voltage is supplied from the local voltage supply part 19 as the negative side power supply Vss. Here, in order to facilitate understanding, an example in which the output buffer 134 is configured by a single-stage inverter circuit has been described, but it is also possible to configure the output buffer 134 by a plurality of stages of inverter circuits.

このように、転送パルスTRFを扱う出力バッファ134の負側電源Vssとして、ローカル電圧供給部19から負電圧を供給するのは、先述したように、暗電流の低減を目的として、画素20内の転送トランジスタ22がオフするときのゲート電圧を当該転送トランジスタ22が形成されているウェルの電圧よりもオフ側の電圧、具体的には負電圧にするためである。   As described above, the negative voltage is supplied from the local voltage supply unit 19 as the negative power source Vss of the output buffer 134 that handles the transfer pulse TRF as described above in order to reduce the dark current. This is because the gate voltage when the transfer transistor 22 is turned off is set to a voltage on the off side of the voltage of the well in which the transfer transistor 22 is formed, specifically, a negative voltage.

すなわち、レベルシフタ133から出力バッファ134に転送パルスTRFの元となる走査パルスとして低レベルが入力されたときは、PchMOSトランジスタQpが導通状態となって転送パルスTRFとしてVddレベルを出力し、走査パルスとして高レベルが入力されたときは、NchMOSトランジスタQnが導通状態となって転送パルスTRFとしてVssレベル(負電圧)を出力する。これにより、転送トランジスタ22がオフするときのゲート電圧を当該転送トランジスタ22が形成されているウェルの電圧よりも負電圧にすることができる。   That is, when a low level is input from the level shifter 133 to the output buffer 134 as a scanning pulse that is the source of the transfer pulse TRF, the PchMOS transistor Qp is turned on to output the Vdd level as the transfer pulse TRF and as a scan pulse. When a high level is input, the Nch MOS transistor Qn becomes conductive and outputs a Vss level (negative voltage) as the transfer pulse TRF. Thereby, the gate voltage when the transfer transistor 22 is turned off can be set to a negative voltage rather than the voltage of the well in which the transfer transistor 22 is formed.

<負電圧供給による作用>
ここで、出力バッファ134の負側電源Vssとして、ローカル電圧供給部19から負電圧を供給し、転送トランジスタ22のゲートに、低レベルが負電圧の転送パルスTRFを印加することによる作用について、図5を用いて説明する。
<Operation by negative voltage supply>
Here, the operation of supplying a negative voltage from the local voltage supply unit 19 as the negative power source Vss of the output buffer 134 and applying a transfer pulse TRF having a low negative voltage to the gate of the transfer transistor 22 is shown in FIG. 5 will be described.

図5において、(A)は埋込みフォトダイオード21および転送トランジスタ22の回路構成を、(B)は埋込みフォトダイオード21および転送トランジスタ22の素子断面の構成を、(C)は転送トランジスタ22のゲートに負電圧を印加したときの電圧ポテンシャルをそれぞれ示している。   5A shows the circuit configuration of the embedded photodiode 21 and the transfer transistor 22, FIG. 5B shows the configuration of the element cross section of the embedded photodiode 21 and the transfer transistor 22, and FIG. 5C shows the gate of the transfer transistor 22. Each voltage potential when a negative voltage is applied is shown.

画素駆動時の詳細なタイミングチャートについては図示を省略するが、ここで重要なことは、電荷蓄積期間に転送トランジスタ22のゲート電位が負電位になっていることである。この転送トランジスタ22のゲート電位が負電位になると、ゲート電圧の振幅が増えるので飽和信号量が増加し、ダイナミックレンジが拡大する。   Although a detailed timing chart at the time of pixel driving is not shown, what is important here is that the gate potential of the transfer transistor 22 is a negative potential during the charge accumulation period. When the gate potential of the transfer transistor 22 becomes a negative potential, the amplitude of the gate voltage increases, so that the saturation signal amount increases and the dynamic range is expanded.

加えて、他の重要な点としては、転送トランジスタ22のゲートに印加する負電位の値が、ゲート下にチャネル(本例では、正孔のチャネル)が形成されるレベル(ここでは、−1.1V程度)であることである。転送トランジスタ22のゲート下に正孔のチャネルを形成することで暗電流を抑制することができる。   In addition, another important point is that the value of the negative potential applied to the gate of the transfer transistor 22 is such that a channel (in this example, a hole channel) is formed below the gate (here, −1). .About 1V). By forming a hole channel under the gate of the transfer transistor 22, dark current can be suppressed.

すなわち、電荷蓄積期間には光電変換された電荷と同時に暗電流がフォトダイオード21に流れ込むが、フォトダイオード21として、酸化膜との界面に当該フォトダイオード21の電荷蓄積領域(例えば、n型半導体領域)とは逆導電型の領域(例えば、p型半導体領域)を形成した、いわゆる埋込みフォトダイオードを用いた場合の主な暗電流の発生源は、ゲート下の酸化膜界面である。ここに、転送トランジスタ22のゲートを負電位として正孔のチャネルを形成することで、転送特性を劣化させることなく、暗電流を防止することができる。   That is, a dark current flows into the photodiode 21 simultaneously with the photoelectrically converted charge during the charge accumulation period. As the photodiode 21, the charge accumulation region of the photodiode 21 (for example, an n-type semiconductor region) is formed at the interface with the oxide film. ) Is a main source of dark current when a so-called embedded photodiode in which a region of a conductivity type (for example, a p-type semiconductor region) is formed is an oxide film interface under the gate. Here, by forming a hole channel with the gate of the transfer transistor 22 having a negative potential, dark current can be prevented without deteriorating transfer characteristics.

なお、転送トランジスタ22のゲートに印加する負電位の値を−1.1V程度にするのは一例に過ぎない。詳細については図示を省略するが、負電位が−0.5V程度から暗電流の低減効果が発生し、−0.8V程度以下で暗電流が略0になることが分かっており、転送トランジスタ22のゲートに印加する負電位としては、−0.5V以下、好ましくは−0.8以下にするとよい(特開2002−217397号公報、特に図9とその説明を参照)。   Note that the value of the negative potential applied to the gate of the transfer transistor 22 is about −1.1 V is merely an example. Although details are not shown in detail, it is known that a dark current reduction effect occurs when the negative potential is about −0.5 V, and the dark current becomes substantially zero when the negative potential is about −0.8 V or less. The negative potential to be applied to the gate is −0.5 V or less, preferably −0.8 or less (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-217397, particularly FIG. 9 and its description).

[ローカル電圧供給部]
続いて、本発明の特徴とするローカル電圧供給部19について、具体的な実施例を挙げて説明する。
[Local voltage supply unit]
Next, the local voltage supply unit 19 that is a feature of the present invention will be described with reference to specific examples.

(実施例1)
図6は、実施例1に係るローカル電圧供給部19Aの構成例を示す回路図である。本実施例1に係るローカル電圧供給部19Aは、スイッチド・キャパシタ型のDC−DCコンバータ、いわゆるチャージポンプ回路を利用した構成となっている。
Example 1
FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a configuration example of the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment. The local voltage supply unit 19A according to the first embodiment has a configuration using a switched capacitor type DC-DC converter, a so-called charge pump circuit.

すなわち、図6に示すように、ローカル電圧供給部19Aは、チャージポンプスイッチ群191、出力電圧設定部192、基準電圧生成部193、参照電圧生成部194、誤差増幅器195、スイッチング制御部196、周期信号生成部197および温度検出回路部198を有する構成となっている。   That is, as shown in FIG. 6, the local voltage supply unit 19A includes a charge pump switch group 191, an output voltage setting unit 192, a reference voltage generation unit 193, a reference voltage generation unit 194, an error amplifier 195, a switching control unit 196, a period The signal generation unit 197 and the temperature detection circuit unit 198 are included.

チャージポンプスイッチ群191は、4つのスイッチ1911〜1914とインバータ1915とを有し、2つの容量接続端子a,b間に接続されたポンプ容量1916および出力電圧Vout が出力される出力端子c−接地間に接続された出力容量1917と共にチャージポンプ回路を構成している。スイッチ1911〜1914は、たとえば、MOSFETやバイポーラトランジスタなどのスイッチ素子によって構成することができる。   The charge pump switch group 191 includes four switches 1911 to 1914 and an inverter 1915. The pump capacitor 1916 connected between the two capacitor connection terminals a and b and the output terminal c to ground from which the output voltage Vout is output. A charge pump circuit is configured together with an output capacitor 1917 connected therebetween. The switches 1911 to 1914 can be configured by switch elements such as MOSFETs and bipolar transistors, for example.

スイッチ1911の一方の端子は接地され、スイッチ1912の一方の端子は回路出力端子cに接続され、スイッチ1913の一方の端子は電源Vddに接続され、スイッチ1914の一方の端子は一方の回路入力端子dに接続されている。また、スイッチ1911,1912の各他方の端子は容量接続端子aに共通に接続され、スイッチ1913,1914の各他方の端子は容量接続端子bに共通に接続されている。   One terminal of the switch 1911 is grounded, one terminal of the switch 1912 is connected to the circuit output terminal c, one terminal of the switch 1913 is connected to the power supply Vdd, and one terminal of the switch 1914 is one circuit input terminal. connected to d. The other terminals of the switches 1911 and 1912 are commonly connected to the capacitor connection terminal a, and the other terminals of the switches 1913 and 1914 are commonly connected to the capacitor connection terminal b.

一方の回路入力端子dは、スイッチング制御部196の一方の制御出力端子O1に接続されている。これにより、スイッチング制御部196から回路入力端子dを介してスイッチ1914の一方の端子に、誤差増幅部195の出力電圧Vaもしくは出力電流Iaに対応した制御ループにおける動作点を示す出力電圧制御信号Sout が供給されるようになっている。   One circuit input terminal d is connected to one control output terminal O 1 of the switching control unit 196. As a result, the output voltage control signal Sout indicating the operating point in the control loop corresponding to the output voltage Va or the output current Ia of the error amplifier 195 is applied from the switching controller 196 to one terminal of the switch 1914 via the circuit input terminal d. Is to be supplied.

他方の回路入力端子eは、スイッチング制御部196の他方の制御出力端子O2に接続されている。これにより、スイッチング制御部196からスイッチング制御信号が回路入力端子eを介してスイッチ1911,1913の各制御端子に共通に与えられ、さらにインバータ1915を介してスイッチ1912,1914の各制御端子に共通に与えられるようになっている。すなわち、スイッチ1911とスイッチ1913、スイッチ1912とスイッチ1914はそれぞれ連動して制御されるようになっている。   The other circuit input terminal e is connected to the other control output terminal O2 of the switching control unit 196. As a result, a switching control signal is supplied from the switching control unit 196 to the control terminals of the switches 1911 and 1913 via the circuit input terminal e, and further to the control terminals of the switches 1912 and 1914 via the inverter 1915. It has come to be given. That is, the switch 1911 and the switch 1913 and the switch 1912 and the switch 1914 are controlled in conjunction with each other.

詳細な動作タイミングチャートについては図示を省略するが、チャージポンプスイッチ群191の上記の接続態様により、スイッチ1911,1913がオンでかつスイッチ1912,1914がオフのときには、図示しない外部電源からポンプ容量1916に電荷が転送される。これにより、ポンプ容量1916は、容量接続端子b側が正電位(電源Vdd)、容量接続端子a側が負電位(接地)に充電される。   Although a detailed operation timing chart is not shown, when the switches 1911 and 1913 are on and the switches 1912 and 1914 are off according to the connection mode of the charge pump switch group 191, a pump capacity 1916 is supplied from an external power source (not shown). The charge is transferred to. As a result, the pump capacitor 1916 is charged to the positive potential (power supply Vdd) on the side of the capacitor connection terminal b and to the negative potential (ground) on the side of the capacitor connection terminal a.

その後、スイッチ1911,1913がオフでかつスイッチ1912,1914がオンに切り替ることで、ポンプ容量1916に充電された電荷が出力容量1917に転送される。このような動作を繰り返すことにより、チャージポンプスイッチ群191の出力端子cには所定の電圧が現れ、出力容量1917から電流を負荷に供給することができるようになる。つまり、外部電源から出力容量1917に電荷が直接転送されることはない。   Thereafter, the switches 1911 and 1913 are turned off and the switches 1912 and 1914 are turned on, whereby the charge charged in the pump capacitor 1916 is transferred to the output capacitor 1917. By repeating such an operation, a predetermined voltage appears at the output terminal c of the charge pump switch group 191 and current can be supplied from the output capacitor 1917 to the load. That is, the charge is not directly transferred from the external power source to the output capacitor 1917.

本例に係るチャージポンプスイッチ群191の各スイッチ1911〜1914の接続態様では、ポンプ容量1916に充電された電荷を出力容量1917に転送する際に、容量接続端子bに誤差増幅部195の出力に対応する出力電圧制御信号Sout がスイッチ1914を介して供給されるようになっている。容量接続端子bにおいては、出力電圧制御信号Sout と電源電圧Vddとの間でのスイッチング信号CBとして現われ、出力容量1917に現れる電圧は負となり、原理的な最大出力可能電圧値は−1×Vddとなる。   In the connection mode of the switches 1911 to 1914 of the charge pump switch group 191 according to this example, when the charge charged in the pump capacitor 1916 is transferred to the output capacitor 1917, the output of the error amplifying unit 195 is connected to the capacitor connection terminal b. A corresponding output voltage control signal Sout is supplied via a switch 1914. At the capacitor connection terminal b, it appears as a switching signal CB between the output voltage control signal Sout and the power supply voltage Vdd, the voltage appearing at the output capacitor 1917 is negative, and the theoretical maximum output possible voltage value is −1 × Vdd. It becomes.

なお、チャージポンプスイッチ群191の構成は、図示した接続態様に限られたものではなく、接続態様を適宜変更することで、出力電圧値を変えることができ、たとえば、最大出力電圧として外部電源の電圧Vddの2倍を得ることもできる。   The configuration of the charge pump switch group 191 is not limited to the illustrated connection mode, and the output voltage value can be changed by appropriately changing the connection mode. For example, the maximum output voltage of the external power supply can be changed. It is also possible to obtain twice the voltage Vdd.

また、スイッチの数は、図示したチャージポンプスイッチ群191のように4個に限定されるものではなく、スイッチの数を増やし、それに応じた接続態様とすることで、出力電圧の絶対値の最大値をさらに大きくすることもできる。   Further, the number of switches is not limited to four as in the illustrated charge pump switch group 191, but the maximum number of absolute values of the output voltage can be increased by increasing the number of switches and adopting a connection mode corresponding thereto. The value can be further increased.

出力電圧設定部192は、チャージポンプ回路から出力電圧Vout が出力される出力ライン、即ちチャージポンプスイッチ群191の出力端子cと基準電圧生成部193との間に直列に接続された例えば5つの抵抗素子1921〜1925からなる抵抗分割回路と、これら抵抗素子1921〜1925の分割ノードN1とN2、N2とN3、N3とN4の間にそれぞれ接続された3つのスイッチ1926〜1928とから構成されている。   The output voltage setting unit 192 includes, for example, five resistors connected in series between the output line from which the output voltage Vout is output from the charge pump circuit, that is, the output terminal c of the charge pump switch group 191 and the reference voltage generation unit 193. A resistive divider circuit composed of elements 1921 to 1925 and three switches 1926 to 1928 connected between divided nodes N1 and N2, N2 and N3, and N3 and N4 of the resistive elements 1921 to 1925, respectively. .

この出力電圧設定部192において、抵抗素子1921,1925の各抵抗値をR2,R1とする。また、抵抗素子1922,1923,1924の各抵抗値については、その抵抗比が4R,2R,Rの関係になるように設定する。スイッチ1926〜1928は、温度検出回路部198からの制御信号によってオン/オフ制御が行われるようになっている。そして、スイッチ1926〜1928のオン/オフ状態で決まる抵抗分割回路の抵抗分割比によってチャージポンプ回路の出力電圧Vout の電圧値が設定される。   In the output voltage setting unit 192, the resistance values of the resistance elements 1921 and 1925 are R2 and R1, respectively. In addition, the resistance values of the resistance elements 1922, 1923, and 1924 are set so that the resistance ratios have a relationship of 4R, 2R, and R. The switches 1926 to 1928 are controlled to be turned on / off by a control signal from the temperature detection circuit unit 198. The voltage value of the output voltage Vout of the charge pump circuit is set according to the resistance division ratio of the resistance divider circuit determined by the on / off states of the switches 1926 to 1928.

基準電圧生成部193は、出力電圧設定部192による出力電圧設定の基準となる基準電圧Vrefoutを設定する。出力電圧設定部192と基準電圧生成部193とは、本実施例1に係るローカル電圧供給部19Aが生成した出力電圧Vout (ローカル電圧)の大きさ(電圧値)を検知する検知部を構成している。   The reference voltage generation unit 193 sets a reference voltage Vrefout that is a reference for output voltage setting by the output voltage setting unit 192. The output voltage setting unit 192 and the reference voltage generation unit 193 constitute a detection unit that detects the magnitude (voltage value) of the output voltage Vout (local voltage) generated by the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment. ing.

出力電圧設定部192を構成する抵抗素子1921〜1925は、いわゆる外付けのディスクリート部品とすることができるし、積極的に外付け部品とする対応を採ることもある。外付け部品とすることで、出力電圧値やその温度特性を外部調整できる仕様にすることができる。   The resistance elements 1921 to 1925 constituting the output voltage setting unit 192 can be so-called external discrete parts, or can be positively adopted as external parts. By using external parts, the output voltage value and its temperature characteristics can be adjusted externally.

基準電圧生成部193は、その電源電圧が変化しても、ある一定の基準電圧Vrefoutが得られるものとする。たとえば、基準電圧生成部193としては、バンドギャップ型基準電圧回路などを用いることができる。基準電圧生成部193の電源は外部電源からの電源Vddとしてもよいし、回路構成によっては、チャージポンプスイッチ群191の出力端子cにおける出力電圧Vout としてもよい。何れにしても、参照電圧生成部194で生成される参照電圧Vref0よりも高い電源電圧が要求される。なお、本例において、基準電圧Vrefoutは、安定した0以上の電圧値とする。   It is assumed that the reference voltage generation unit 193 can obtain a certain reference voltage Vrefout even if the power supply voltage changes. For example, as the reference voltage generation unit 193, a band gap type reference voltage circuit or the like can be used. The power supply of the reference voltage generation unit 193 may be the power supply Vdd from the external power supply, or may be the output voltage Vout at the output terminal c of the charge pump switch group 191 depending on the circuit configuration. In any case, a power supply voltage higher than the reference voltage Vref0 generated by the reference voltage generation unit 194 is required. In this example, the reference voltage Vrefout is a stable voltage value of 0 or more.

参照電圧生成部194は参照電圧Vref0を生成する。参照電圧生成部194としては、その電源電圧が変化しても、ある一定の参照電圧Vref0が得られるものとする。例えば、参照電圧生成部194としては、バンドギャップ型基準電圧回路などを用いることができる。参照電圧生成部194の電源は外部電源からの電源Vddとしてもよいし、回路構成によっては、チャージポンプスイッチ群191の出力端子cにおける出力電圧Vout としてもよい。何れにしても、発生する参照電圧Vref0よりも高い電源電圧が要求される。   The reference voltage generation unit 194 generates a reference voltage Vref0. It is assumed that the reference voltage generator 194 can obtain a certain reference voltage Vref0 even if the power supply voltage changes. For example, as the reference voltage generation unit 194, a band gap type reference voltage circuit or the like can be used. The power source of the reference voltage generation unit 194 may be the power source Vdd from the external power source, or may be the output voltage Vout at the output terminal c of the charge pump switch group 191 depending on the circuit configuration. In any case, a power supply voltage higher than the generated reference voltage Vref0 is required.

誤差増幅器(エラーアンプ部)195は、出力電圧設定部192により出力電圧Vout を分圧したフィードバック電圧VFBを反転入力端子(−)に受け、参照電圧生成部194からの参照電圧Vref0を非反転入力端子(+)に受け、フィードバック電圧VFBと参照電圧Vref0の差を増幅もしくは減衰する。誤差増幅部195としては、演算増幅器(オペアンプ)を使用することができる。   The error amplifier (error amplifier unit) 195 receives the feedback voltage VFB obtained by dividing the output voltage Vout by the output voltage setting unit 192 at the inverting input terminal (−), and receives the reference voltage Vref0 from the reference voltage generating unit 194 as a non-inverting input. The terminal (+) receives and amplifies or attenuates the difference between the feedback voltage VFB and the reference voltage Vref0. As the error amplifier 195, an operational amplifier (op amp) can be used.

なお、誤差増幅部195の非反転入力端子(+)と出力端子との間には、帰還回路網の安定化のための位相補償部199が設けられている。また、図示しないが、出力電圧設定部192についても、当該出力電圧設定部192の入力側(出力電圧Vout 側)と出力側(誤差増幅部195側)との間にも、帰還回路網の安定化のための位相補償部を設けることができる。   Note that a phase compensator 199 for stabilizing the feedback network is provided between the non-inverting input terminal (+) and the output terminal of the error amplifier 195. Although not shown, the output voltage setting unit 192 is also stable between the input side (output voltage Vout side) and the output side (error amplification unit 195 side) of the output voltage setting unit 192. A phase compensation unit can be provided.

スイッチング制御部196は、誤差増幅部195の出力電圧Vaあるいは出力電流Iaを一方の入力端子IN1に受けて、直接的または間接的に、チャージポンプスイッチ群191にスイッチング制御信号(オン/オフ制御信号)として供給する。   The switching control unit 196 receives the output voltage Va or the output current Ia of the error amplifying unit 195 at one input terminal IN1, and directly or indirectly sends a switching control signal (on / off control signal) to the charge pump switch group 191. ).

周期信号生成部197は、スイッチング制御部196の他方の入力端子IN2に三角波などの所定の周期信号を供給する。周期信号生成部197としては、例えば、リング発振回路、非安定マルチバイブレータ回路、ブロッキング発振回路などを利用することができる。周期信号生成部197の電源は参照電圧生成部194と同様に、外部電源からの電源Vddとしてもよいし、回路構成によっては、チャージポンプスイッチ群191の出力端子cにおける出力電圧Vout としてもよい。出力電流やポンプ容量1917の条件によっては、周期信号生成部197は、外部から与えられる電圧や外部に接続される容量値によって発振周波数を調整できるようにすることもできる。   The periodic signal generator 197 supplies a predetermined periodic signal such as a triangular wave to the other input terminal IN2 of the switching controller 196. As the periodic signal generation unit 197, for example, a ring oscillation circuit, an unstable multivibrator circuit, a blocking oscillation circuit, or the like can be used. The power source of the periodic signal generation unit 197 may be the power source Vdd from the external power source, similarly to the reference voltage generation unit 194, or may be the output voltage Vout at the output terminal c of the charge pump switch group 191 depending on the circuit configuration. Depending on the conditions of the output current and the pump capacity 1917, the periodic signal generation unit 197 can adjust the oscillation frequency according to a voltage given from the outside or a capacitance value connected to the outside.

誤差増幅部195を中心とする全体の制御アンプ構成としては、負帰還回路となっており、参照電圧Vref0と出力電圧Vout の出力電圧設定部192による分割電圧(フィードバック電圧VFB)が等しくなるように制御されることとなる。つまり、ローカル電圧供給部19Aでは、誤差増幅部195による負帰還制御ループを構成して、常時、出力電圧Vout の安定化を図っており、負荷電流変動に対してもある程度追随するようにし、ローカル電圧供給部19Aの後段に、安定化回路を別途設けることを不要にしている。安定化回路を不要化することで、無効消費電力も事実上ゼロにすることができる。   The overall control amplifier configuration centered on the error amplifier 195 is a negative feedback circuit, and the divided voltage (feedback voltage VFB) of the reference voltage Vref0 and the output voltage Vout by the output voltage setting unit 192 is equal. Will be controlled. That is, the local voltage supply unit 19A constitutes a negative feedback control loop by the error amplifying unit 195 so as to always stabilize the output voltage Vout and follow the load current fluctuation to some extent. It is unnecessary to separately provide a stabilization circuit after the voltage supply unit 19A. By eliminating the need for the stabilization circuit, the reactive power consumption can be made virtually zero.

したがって、参照電圧生成部194による参照電圧Vref0や、基準電圧生成部193による基準電圧Vrefout、あるいは出力電圧設定部192による出力電圧Vout の分割比を調整することで、出力電流供給能力や出力電圧値を変えることができる。詳細は後述するが、負電圧の設定に温度依存を持たせる手法においては、これら3つの少なくとも何れか1つに着目して、出力電圧に温度特性を持たせるようにする。   Therefore, by adjusting the division ratio of the reference voltage Vref0 by the reference voltage generation unit 194, the reference voltage Vrefout by the reference voltage generation unit 193, or the output voltage Vout by the output voltage setting unit 192, output current supply capability and output voltage value Can be changed. Although details will be described later, in the method of giving temperature dependence to the setting of the negative voltage, attention is paid to at least one of these three so that the output voltage has temperature characteristics.

なお、参照電圧Vref0、基準電圧Vrefout、あるいは出力電圧Vout の分割比の何れに温度依存を持たせるかによって、得られる効果が異なる。例えば、参照電圧Vref0に温度依存を持たせる手法を採用した場合には、基準電圧Vrefoutとしては電源電圧Vddを利用することができる。この場合、事実上、基準電圧生成部193が不要になるので、システムが簡潔になり、レイアウトを小さくできる。   Note that the effect to be obtained differs depending on which of the division ratios of the reference voltage Vref0, the reference voltage Vrefout, or the output voltage Vout has temperature dependence. For example, when a method of giving temperature dependence to the reference voltage Vref0 is adopted, the power supply voltage Vdd can be used as the reference voltage Vrefout. In this case, since the reference voltage generation unit 193 is virtually unnecessary, the system is simplified and the layout can be reduced.

また、出力電圧Vout の分割比に温度依存を持たせる際は、例えば、抵抗素子1921〜1925をICに内蔵するのではなく、積極的に外付けのディスクリート部品とすることで、出力電圧値の温度特性を外部抵抗によって自由に調整できるという効果が得られるようになる。   In addition, when the output voltage Vout division ratio is dependent on temperature, for example, the resistive elements 1921 to 1925 are not built in the IC, but are actively used as external discrete components. An effect is obtained that the temperature characteristics can be freely adjusted by an external resistance.

出力電圧Vout の分割比を決める2つの抵抗素子1921,1925に違った方向の温度特性を持つものを用いることで、両者の差を利用した温度特性の微調整ができるようにもなる。もちろん、基準電圧Vrefoutとしては電源電圧Vddを利用することができる。   By using the two resistance elements 1921 and 1925 that determine the division ratio of the output voltage Vout that have temperature characteristics in different directions, it becomes possible to finely adjust the temperature characteristics using the difference between them. Of course, the power supply voltage Vdd can be used as the reference voltage Vrefout.

また、参照電圧Vref0、基準電圧Vrefout、および出力電圧Vout の分割比の何れか複数を任意に組み合わせるとともに、それぞれに違った方向の温度特性を持たせることで、両者の差を利用した温度特性の微調整ができるようにもなる。   In addition, any combination of the division ratios of the reference voltage Vref0, the reference voltage Vrefout, and the output voltage Vout is arbitrarily combined, and each has a temperature characteristic in a different direction, so that a temperature characteristic using the difference between the two can be obtained. Fine adjustments can also be made.

なお、ここで示したチャージポンプ回路を利用したローカル電圧供給部19Aの構成は一例に過ぎず、様々な変形が可能である(たとえば、特開平6−351229号公報、特開平10−248240号公報、特開2002−171748号公報等を参照)。   The configuration of the local voltage supply unit 19A using the charge pump circuit shown here is merely an example, and various modifications are possible (for example, JP-A-6-351229 and JP-A-10-248240). And JP-A-2002-171748).

また、チャージポンプ回路を利用したローカル電圧供給部19Aは、充電電荷をポンプ容量1916に転送していわゆるn倍電圧整流に対応するn倍電圧昇圧をするもので、比較的小パワーのものに適し、チョッパ型に比べて、小型化や低消費電力化を図る上で都合がよい。   Further, the local voltage supply unit 19A using the charge pump circuit transfers the charged charge to the pump capacitor 1916 and performs n-fold voltage boosting corresponding to so-called n-fold voltage rectification. Compared to the chopper type, it is convenient in reducing the size and power consumption.

このようにしてローカル電圧供給部19Aで生成されたローカル電圧である負電圧(出力電圧Vout )は、先述したように、図4に示す出力バッファ134のNchMOSトランジスタQnのソースに供給される。この負電圧がソースに供給されるトランジスタにおいて、ゲートと基板間には、オン時に電源電圧+|負電圧|の電位差、つまり、通常の動作電圧である電源電圧よりも大きな電圧が印加されることになる。このように、通常の動作電圧以上の電圧がトランジスタに印加されることにより、ゲート酸化膜の絶縁耐圧不良の問題が起こり得る。   In this way, the negative voltage (output voltage Vout), which is the local voltage generated by the local voltage supply unit 19A, is supplied to the source of the NchMOS transistor Qn of the output buffer 134 shown in FIG. In a transistor to which this negative voltage is supplied to the source, a potential difference of the power supply voltage + | negative voltage |, that is, a voltage larger than the power supply voltage, which is a normal operating voltage, is applied between the gate and the substrate when turned on. become. As described above, when a voltage higher than the normal operating voltage is applied to the transistor, a problem of a breakdown voltage failure of the gate oxide film may occur.

ところで、先述した説明では、画素20の転送トランジスタ22のゲートに印加する負電位の値を、ゲート下にチャネルが形成されるレベルにすることで、暗電流を抑制することができると述べたが、抑制しようとする暗電流温度依存性を持っている。したがって、負電位の値を常時一定にする必要はないと考えられる。むしろ、暗電流の温度依存性に合わせて、負電位の値を調整するようにすれば、過剰な負電位を与えることがなくなるために、暗電流の温度依存性に最適化された負電位を供給しつつ、トランジスタの信頼性を向上させることができる。   In the above description, the dark current can be suppressed by setting the value of the negative potential applied to the gate of the transfer transistor 22 of the pixel 20 to a level at which a channel is formed under the gate. It has dark current temperature dependence to try to suppress. Therefore, it is considered unnecessary to always keep the negative potential value constant. Rather, if the negative potential value is adjusted in accordance with the temperature dependence of the dark current, an excessive negative potential will not be applied. Therefore, the negative potential optimized for the temperature dependence of the dark current will be reduced. The reliability of the transistor can be improved while supplying.

すなわち、白点の原因の1つとなる暗電流の発生は、温度特性に強く依存することが分かっている(例えば、特開平1−196864号公報参照)。よって、暗電流の原因となる暗電子の発生を防ぐための負電圧の印加は、トランジスタの性能劣化効果が大きくなるものの、動作温度が高いほど、その絶対値を大きくすることが重要になってくると考えられる。逆に言えば、動作温度が常温(例えば、20〜30度程度)やそれ以下のときなど動作温度が低いときには、事実上、暗電流の発生が少ないと考えてよく、高動作温度時に適合させた絶対値の大きな負電圧を低温時に供給することは、暗電流の低減に関しては過剰な状態となる一方で、トランジスタの性能劣化効果の方が強くなってしまう。また、白点の原因として転送トランジスタ22とFD部26との電界の強さも関係しており、高温での負電圧を常温で印加することは白点を悪化させることがある。   That is, it has been found that the generation of dark current, which is one of the causes of white spots, strongly depends on the temperature characteristics (see, for example, JP-A-1-196864). Therefore, the application of a negative voltage to prevent the generation of dark electrons that cause dark current increases the performance degradation effect of the transistor, but it is important to increase the absolute value as the operating temperature increases. It is thought to come. Conversely, when the operating temperature is low, such as when the operating temperature is normal temperature (for example, about 20 to 30 degrees) or lower, it may be considered that the generation of dark current is practically small, and it is adapted to the high operating temperature. If a negative voltage having a large absolute value is supplied at a low temperature, an excessive state is brought about with respect to the reduction of dark current, but the performance deterioration effect of the transistor becomes stronger. The cause of the white spot is also related to the strength of the electric field between the transfer transistor 22 and the FD unit 26, and applying a negative voltage at a high temperature at a normal temperature may deteriorate the white spot.

そこで、本実施例1に係るローカル電圧供給部19Aでは、負電圧の設定に温度依存を持たせる、つまり、暗電流の温度特性を考慮して最適化した負電圧を出力バッファ134に供給する構成を採るようにしている。具体的には、暗電流の抑制を行ない、かつゲート酸化膜などトランジスタの信頼性を向上させることを実現するために、高温時には、十分暗電流を抑制できる負電圧(例えば、特開2002−217397号公報に記載の−1.1V)を維持し、常温など、事実上、暗電流が問題とならない動作温度時には負電圧の絶対値を下げる(例えば、−0.8V)ようにする。   Therefore, in the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment, the negative voltage setting has a temperature dependency, that is, the negative voltage optimized in consideration of the temperature characteristics of the dark current is supplied to the output buffer 134. I try to adopt. Specifically, in order to suppress dark current and improve the reliability of a transistor such as a gate oxide film, a negative voltage that can sufficiently suppress dark current at a high temperature (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-217397). The absolute value of the negative voltage is lowered (for example, −0.8 V) at an operating temperature where dark current is practically not a problem, such as normal temperature.

ローカル電圧供給部19Aでは、負電圧の設定に温度依存を持たせる機能を出力電圧設定部192および温度検出回路部198に持たせている。具体的には、温度が変化したとき、その温度変化を温度検出回路部198で検出し、当該温度検出回路部198による制御によって出力電圧設定部192の抵抗分割比を変更することで出力電圧Voutの電圧値を変更するようにする。   In the local voltage supply unit 19A, the output voltage setting unit 192 and the temperature detection circuit unit 198 have a function of making the negative voltage setting dependent on temperature. Specifically, when the temperature changes, the temperature change is detected by the temperature detection circuit unit 198, and the output voltage Vout is changed by changing the resistance division ratio of the output voltage setting unit 192 under the control of the temperature detection circuit unit 198. Change the voltage value of.

図7は、温度検出回路部198の構成の一例を示すブロック図である。図7に示すように、温度検出回路部198は、温度検知部1981、閾値値電圧生成部1982、差動アンプ1983,1984、AND回路1985,1986、NOR回路1987およびラッチ回路1988〜1990を有する構成となっている。   FIG. 7 is a block diagram illustrating an example of the configuration of the temperature detection circuit unit 198. As shown in FIG. 7, the temperature detection circuit unit 198 includes a temperature detection unit 1981, a threshold value voltage generation unit 1982, a differential amplifier 1983, 1984, an AND circuit 1985, 1986, a NOR circuit 1987, and latch circuits 1988 to 1990. It has a configuration.

温度検知部1981は、温度特性の少ない理想的な定電流源と温度依存性のある素子との組み合わせにより、温度依存性のある素子の出力として、温度依存性のある電圧を得る点に特徴を有している。本例に係る温度検知部1981では、温度依存性のある素子としてダイオードを用いている。   The temperature detection unit 1981 is characterized in that a temperature-dependent voltage is obtained as an output of a temperature-dependent element by combining an ideal constant current source with low temperature characteristics and a temperature-dependent element. Have. In the temperature detection unit 1981 according to this example, a diode is used as an element having temperature dependency.

図7において、温度依存性のある素子であるダイオードD1はカソードが基準電位ノード(例えば、接地)に接続されている。理想的な定電流源I1は一端が電源Vddに接続されている。温度特性の少ない理想的な定電流源I1としては、バンドギャップリファレンス電圧と温度特性の無視できる抵抗(100Ω程度のポリシリコンなど)によって構成されるバンドギャップ型基準電圧回路によって実現可能である。   In FIG. 7, the diode D1, which is a temperature-dependent element, has a cathode connected to a reference potential node (for example, ground). One end of the ideal constant current source I1 is connected to the power supply Vdd. An ideal constant current source I1 having a small temperature characteristic can be realized by a bandgap type reference voltage circuit constituted by a bandgap reference voltage and a resistor (such as polysilicon of about 100Ω) having negligible temperature characteristics.

定電流源I1の他端とダイオードD1のアノードとの間にはスイッチSW1が接続されている。モニター端子1991とダイオードD1のアノードとの間にはスイッチSW2が接続されている。電源Vddとモニター端子1991との間には定電流源I2とスイッチSW3とが直列に接続されている。定電流源I1と定電流源I2とはカレントミラー回路を形成している。   A switch SW1 is connected between the other end of the constant current source I1 and the anode of the diode D1. A switch SW2 is connected between the monitor terminal 1991 and the anode of the diode D1. A constant current source I2 and a switch SW3 are connected in series between the power supply Vdd and the monitor terminal 1991. The constant current source I1 and the constant current source I2 form a current mirror circuit.

かかる構成の温度検知部1981は、図8に示すダイオードの温度特性を利用し、環境温度を検知する。すなわち、ダイオードD1のアノード端には、環境温度に応じて変化する順方向電圧Vtempが現れ、この順方向電圧Vtempが環境温度の検知信号として温度検知部1981から出力される。   The temperature detection unit 1981 having such a configuration detects the environmental temperature using the temperature characteristics of the diode shown in FIG. That is, a forward voltage Vtemp that changes in accordance with the environmental temperature appears at the anode end of the diode D1, and this forward voltage Vtemp is output from the temperature detector 1981 as an environmental temperature detection signal.

ここで、環境温度を検知するだけならば、温度検知部1981はダイオードD1と定電流源I1とを備えるだけで十分である。本例に係る温度検出回路部198では、当該温度検出回路部198の動作試験を行う試験機能(試験回路)を温度検知部1981に持たせたことを特徴としている。スイッチSW1〜SW3および定電流源I2は温度検出回路部198の動作試験を行う際に用いられる。   Here, if only the environmental temperature is detected, it is sufficient for the temperature detection unit 1981 to include the diode D1 and the constant current source I1. The temperature detection circuit unit 198 according to this example is characterized in that the temperature detection unit 1981 has a test function (test circuit) for performing an operation test of the temperature detection circuit unit 198. The switches SW1 to SW3 and the constant current source I2 are used when performing an operation test of the temperature detection circuit unit 198.

閾値値電圧生成部1982は、固定電位Vref と接地電位との間に直列に接続された例えば3つの抵抗素子Ra,Rb,Rcからなる抵抗分割回路によって構成され、各分割ノードに2つの分割電圧V1,V2を得る。固定電位Vref としては、バンドギャップリファレンス電圧などから生成する温度依存の少ない電圧源を用いる。   The threshold value voltage generation unit 1982 is configured by a resistance dividing circuit including, for example, three resistance elements Ra, Rb, and Rc connected in series between the fixed potential Vref and the ground potential, and two divided voltages are applied to each divided node. V1 and V2 are obtained. As the fixed potential Vref, a voltage source having a small temperature dependence generated from a band gap reference voltage or the like is used.

差動アンプ1983,1984は、閾値値電圧生成部1982から出力される分割電圧V1,V2を各反転入力(−)とし、温度検知部1981から出力される順方向電圧Vtempを非反転入力(+)とし、環境温度に応じて変化する順方向電圧Vtempを固定電位Vref に基づく分割電圧V1,V2と比較する。すなわち、順方向電圧Vtempの閾値を分割電圧V1,V2とすることによって温度範囲を設定する。   The differential amplifiers 1983 and 1984 use the divided voltages V1 and V2 output from the threshold value voltage generation unit 1982 as inverting inputs (−) and the forward voltage Vtemp output from the temperature detection unit 1981 as a non-inverting input (+). The forward voltage Vtemp that changes according to the environmental temperature is compared with the divided voltages V1 and V2 based on the fixed potential Vref. That is, the temperature range is set by setting the threshold value of the forward voltage Vtemp to the divided voltages V1 and V2.

ここでは、温度範囲を分割電圧V1,V2によって3段階に設定し、出力電圧Voutの電圧値を3段階に変化させるようにしている。だだし、温度範囲の設定は3段階に限られるものではなく、閾値値電圧生成部1982の抵抗素子および差動アンプの数を増やすことにより、温度範囲を4段階以上に設定し、出力電圧Vout の電圧値を4段階以上に変化させるようにすることも可能である。   Here, the temperature range is set in three stages by the divided voltages V1 and V2, and the voltage value of the output voltage Vout is changed in three stages. However, the setting of the temperature range is not limited to three stages. By increasing the number of resistance elements and differential amplifiers of the threshold value voltage generation unit 1982, the temperature range is set to four stages or more, and the output voltage Vout It is also possible to change the voltage value of at least four stages.

差動アンプ1983の比較出力は、AND回路1985,1986に各一方の入力として与えられ、NOR回路1987にその一方の入力(反転入力)として与えられる。差動アンプ1984の比較出力は、AND回路1985にその他方の入力として与えられ、AND回路1986にその他方の入力(反転入力)として与えられ、NOR回路1987にその他方の入力(反転入力)として与えられる。   The comparison output of the differential amplifier 1983 is given as one input to the AND circuits 1985 and 1986, and given as one input (inverted input) to the NOR circuit 1987. The comparison output of the differential amplifier 1984 is given as the other input to the AND circuit 1985, given as the other input (inverting input) to the AND circuit 1986, and as the other input (inverting input) to the NOR circuit 1987. Given.

ラッチ回路1988〜1990は、例えばD−フリップフロップによって構成され、各データ(D)入力となるAND回路1985,1986およびNOR回路1987の各出力を、インバータ1992を介してクロック(CK)入力となるフレーム同期信号XVSに同期してラッチする。フレーム同期信号XVSは、1フレーム周期で発生する信号である。ラッチ回路1988〜1990の各出力信号A〜Cは、図6に示す出力電圧設定部192の3つのスイッチ1926〜1928に各スイッチ制御信号として与えられる。ここでのフレーム同期信号XVSは、前記垂直同期信号Vsyncと同じであっても良い。   The latch circuits 1988 to 1990 are constituted by, for example, D-flip-flops, and the outputs of the AND circuits 1985 and 1986 and the NOR circuit 1987, which are input to each data (D), are input to the clock (CK) via the inverter 1992. Latching is performed in synchronization with the frame synchronization signal XVS. The frame synchronization signal XVS is a signal generated in one frame period. The output signals A to C of the latch circuits 1988 to 1990 are given as the switch control signals to the three switches 1926 to 1928 of the output voltage setting unit 192 shown in FIG. Here, the frame synchronization signal XVS may be the same as the vertical synchronization signal Vsync.

次に、上記構成の温度検出回路部198の回路動作について説明する。順方向電圧Vtempの閾値を分割電圧V1,V2とすることによって温度範囲を設定することで、温度範囲は、図9に示すように、Vtemp>V1、V2<Vtemp<V1,Vtemp<V2の3段階に設定される。この温度範囲は、差動アンプ1983,1984、AND回路1985,1986およびNOR回路1987の作用によって決定される。   Next, the circuit operation of the temperature detection circuit unit 198 having the above configuration will be described. By setting the temperature range by setting the threshold value of the forward voltage Vtemp to the divided voltages V1 and V2, as shown in FIG. 9, the temperature range is 3 of Vtemp> V1, V2 <Vtemp <V1, Vtemp <V2. Set to stage. This temperature range is determined by the action of the differential amplifier 1983, 1984, the AND circuit 1985, 1986 and the NOR circuit 1987.

そして、Vtemp>V1、V2<Vtemp<V1,Vtemp<V2のとき、ラッチ回路1988〜1990は、フレーム同期信号XVSに同期して高レベルのスイッチ制御信号A〜Cを出力する。このスイッチ制御信号A〜Cに応答して、出力電圧設定部198のスイッチ1926〜1928がオン/オフを行うことで、出力電圧設定部198の抵抗分割比を変更する。この抵抗分割比の変更により、ローカル電圧生成部19Aの出力電圧Vout の電圧値は次式(1)にしたがって変化する。   When Vtemp> V1, V2 <Vtemp <V1, Vtemp <V2, the latch circuits 1988 to 1990 output high-level switch control signals A to C in synchronization with the frame synchronization signal XVS. In response to the switch control signals A to C, the switches 1926 to 1928 of the output voltage setting unit 198 are turned on / off, thereby changing the resistance division ratio of the output voltage setting unit 198. By changing the resistance division ratio, the voltage value of the output voltage Vout of the local voltage generator 19A changes according to the following equation (1).

Vout ={(R1+R2′)/R1}
*Vref0−(R2′/R1)*Vrefout ……(1)
なお、R2′=R2+R+2Rである。ただし、このときの抵抗値R2′は、Vtemp>V1のとき、即ち出力電圧設定部198のスイッチ1926のみがオンのときの合成抵抗値である。スイッチ1926〜1928のオン/オフ制御はフレーム同期信号XVSに同期して行われるため、出力電圧Vout の変化はブランキング期間内で起こる。
Vout = {(R1 + R2 ′) / R1}
* Vref0- (R2 '/ R1) * Vrefout (1)
Note that R2 ′ = R2 + R + 2R. However, the resistance value R2 ′ at this time is a combined resistance value when Vtemp> V1, that is, when only the switch 1926 of the output voltage setting unit 198 is on. Since the on / off control of the switches 1926 to 1928 is performed in synchronization with the frame synchronization signal XVS, the change in the output voltage Vout occurs within the blanking period.

上述したように、実施例1に係るローカル電圧供給部19Aにおいて、出力電圧設定部192および温度検出回路部198に、ローカル電圧である負電圧の設定に温度依存を持たせる機能を持たせて、暗電流の温度特性を考慮して最適化した負電圧を図4に示す出力バッファ134に供給することで、暗電流や電界による白点の抑制を行ない、かつゲート酸化膜などトランジスタの信頼性を向上させることができる。   As described above, in the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment, the output voltage setting unit 192 and the temperature detection circuit unit 198 have a function of making the setting of the negative voltage, which is a local voltage, temperature dependent, By supplying a negative voltage optimized in consideration of the temperature characteristics of the dark current to the output buffer 134 shown in FIG. 4, white spots are suppressed by the dark current and the electric field, and the reliability of transistors such as a gate oxide film is improved. Can be improved.

ここで、温度検出回路部198を内蔵したローカル電圧供給部19Aを搭載した半導体装置(本実施形態では、固体撮像装置)において、当該半導体装置の製造段階で内蔵の温度検出回路部198を含むローカル電圧供給部19A全体の回路動作のテスト(確認)を行う必要があるが、実施例1に係るローカル電圧供給部19Aは、先述したように、その動作テストを行うためのテスト機能を温度検知部1981に持たせている。   Here, in a semiconductor device (in this embodiment, a solid-state imaging device) on which a local voltage supply unit 19A including a temperature detection circuit unit 198 is mounted, the local including the temperature detection circuit unit 198 included in the manufacturing stage of the semiconductor device. Although it is necessary to perform a test (confirmation) of the circuit operation of the entire voltage supply unit 19A, the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment provides a test function for performing the operation test as described above. 1981.

ローカル電圧供給部19Aの回路動作のテストを行う場合の手順について以下に説明する。先ず、テスト手順1として、図10に示すように、温度検知部1981において、スイッチSW1,SW3をオン、スイッチSW2をオフにし、定電流源I1からダイオードD1に流し込む一定電流Iconst を定電流源I1,I2からなるカレントミラー回路にて折り返して定電流源I2によってモニター用電流Itestを生成する。   The procedure for testing the circuit operation of the local voltage supply unit 19A will be described below. First, as a test procedure 1, as shown in FIG. 10, in the temperature detection unit 1981, the switches SW1 and SW3 are turned on, the switch SW2 is turned off, and a constant current Iconst flowing from the constant current source I1 to the diode D1 is supplied to the constant current source I1. , I2 is turned back by a current mirror circuit, and a monitoring current Itest is generated by a constant current source I2.

このモニター用電流Itestは、スイッチSW3を通ってモニター端子1991から、当該モニター端子1991にあらかじめ接続した電流計51に流れる。このとき、電流計51に流れるモニター用電流Itestの電流値を測定する。そして、電流値によってダイオードD1の温度特性が変動するために、モニター用電流Itestが設定値であるか否かを確認することができる。   This monitoring current Itest flows from the monitor terminal 1991 to the ammeter 51 previously connected to the monitor terminal 1991 through the switch SW3. At this time, the current value of the monitoring current Itest flowing through the ammeter 51 is measured. Since the temperature characteristic of the diode D1 varies depending on the current value, it can be confirmed whether or not the monitoring current Itest is a set value.

次に、テスト手順2として、図11に示すように、スイッチSW1,SW3をオフにして定電流源I1,I2を切り離すとともに、スイッチSW2をオンにしてダイオードD1のアノード端をモニター端子1991に接続する。一方、モニター端子1991に可変電流源52を接続しておき、当該可変電流源52からモニター端子1991を通してダイオードD1に電流Iforce を与えるようにする。   Next, as test procedure 2, as shown in FIG. 11, the switches SW1 and SW3 are turned off to disconnect the constant current sources I1 and I2, and the switch SW2 is turned on and the anode terminal of the diode D1 is connected to the monitor terminal 1991. To do. On the other hand, the variable current source 52 is connected to the monitor terminal 1991, and the current Iforce is applied from the variable current source 52 to the diode D1 through the monitor terminal 1991.

このとき、ダイオードD1のI−V特性は、次式(2)に従うため、ダイオードD1に流す電流Iforce を変化させることで、ダイオードD1の順方向電圧Vtempが変化する。
Vtemp=kT/q*ln(I/Is) ……(2)
ここで、kはボルツマン定数、Tは絶対温度、qは素電荷、Isはダイオードの逆方向飽和電流である。
At this time, since the IV characteristic of the diode D1 conforms to the following equation (2), the forward voltage Vtemp of the diode D1 changes by changing the current Iforce flowing through the diode D1.
Vtemp = kT / q * ln (I / Is) (2)
Here, k is the Boltzmann constant, T is the absolute temperature, q is the elementary charge, and Is is the reverse saturation current of the diode.

図8に示すダイオードのI−V特性から明らかなように、一定電流Iconst 下では温度が上昇すると、ダイオードの順方向電圧Vfが低下する。ここで、ダイオードD1に流す電流値を変動させることによる順方向電圧Vtempの変化を見ることによって温度変化の状況を作り出し、ローカル電圧供給部19Aの動作を確認することができる。つまり、一定電流Iconst において高温時の電圧V2を供給電流I2とすることで、常温においてもローカル電圧供給部19Aの回路動作の確認を行うことが可能になる。   As is apparent from the IV characteristics of the diode shown in FIG. 8, the forward voltage Vf of the diode decreases as the temperature increases under a constant current Iconst. Here, it is possible to create a temperature change state by observing a change in the forward voltage Vtemp caused by changing the value of the current flowing through the diode D1, and to confirm the operation of the local voltage supply unit 19A. That is, by setting the voltage V2 at the high temperature at the constant current Iconst as the supply current I2, it is possible to check the circuit operation of the local voltage supply unit 19A even at room temperature.

具体的には、Iforce >I1、I2<Iforce <I1、Iforce <I2となる適当な電流値を3回供給する。その際に、温度検出回路部198は、Vtemp>V1、V2<Vtemp<V1,Vtemp<V2として変化する回路構成であるために、このときの出力電圧Vout を測定することで、温度検出回路部198の回路動作を確認することができる。   Specifically, an appropriate current value satisfying Iforce> I1, I2 <Iforce <I1, Iforce <I2 is supplied three times. At that time, since the temperature detection circuit unit 198 has a circuit configuration that changes as Vtemp> V1, V2 <Vtemp <V1, Vtemp <V2, the temperature detection circuit unit 198 measures the output voltage Vout at this time. The circuit operation of 198 can be confirmed.

上述したテスト手順1,2を実現可能なテスト機能(テスト回路)を温度検出回路部198、具体的には温度検知部1981に組み込む(内蔵する)ことで、モニター端子1991に電流計51や可変電流源52を接続するだけで、実際に環境温度(環境条件)を変えることなく、ローカル電圧供給部19Aの回路動作のテスト(確認)を行うことができる。   By incorporating (incorporating) a test function (test circuit) capable of realizing the above-described test procedures 1 and 2 into the temperature detection circuit unit 198, specifically, the temperature detection unit 1981, the ammeter 51 and the variable can be provided at the monitor terminal 1991. By simply connecting the current source 52, it is possible to test (confirm) the circuit operation of the local voltage supply unit 19A without actually changing the environmental temperature (environmental condition).

特に、温度依存性のある素子であるダイオードD1に定電流を流すことによる動作試験であることから、特許文献2記載の従来技術にように擬似的な出力電圧を見る場合に比べて、電流値を決める要素として、ダイオードD1に対して直列に繋がるスイッチSW1,SW2等の寄生抵抗や接触抵抗の影響を受けないだけでなく、複数の電圧のテストを短時間で容易に行うことができる。そして、テスト時間の短縮によって試験の効率を上げることができるために、コストダウンを図ることができる。   In particular, since this is an operation test by passing a constant current through the diode D1, which is a temperature-dependent element, the current value is smaller than when a pseudo output voltage is viewed as in the prior art described in Patent Document 2. In addition to being not affected by the parasitic resistance and contact resistance of the switches SW1, SW2, etc. connected in series to the diode D1, a plurality of voltages can be easily tested in a short time. Since the test efficiency can be increased by shortening the test time, the cost can be reduced.

(実施例2)
図12は、実施例2に係るローカル電圧供給部19Bの構成例を示す回路図であり、図中、図6と同等部分には同一符号を付して示している。本実施例2に係るローカル電圧供給部19Bは、実施例1に係るローカル電圧供給部19Aと同様に、チャージポンプ回路を利用した構成となっている。
(Example 2)
FIG. 12 is a circuit diagram illustrating a configuration example of the local voltage supply unit 19B according to the second embodiment. In the drawing, parts equivalent to those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals. Similar to the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment, the local voltage supply unit 19B according to the second embodiment has a configuration using a charge pump circuit.

図12に示すように、本実施例2に係るローカル電圧供給部19Bは、実施例1に係るローカル電圧供給部19Aと同じ構成要素を持った構成となっているが、異なる点は、参照電圧生成部194′に環境温度の変化を検知する機能を持たせ、温度依存性のある参照電圧Vref0を得る点と、それに伴って出力電圧設定部192′が抵抗素子(抵抗値R2)1921と抵抗素子(抵抗値R1)1925とからなる抵抗分割回路からなる点にある。   As shown in FIG. 12, the local voltage supply unit 19B according to the second embodiment has the same components as the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment. The generation unit 194 ′ has a function of detecting a change in environmental temperature to obtain a temperature-dependent reference voltage Vref 0, and accordingly, the output voltage setting unit 192 ′ has a resistance element (resistance value R 2) 1921 and a resistance It is in the point which consists of a resistance division circuit which consists of element (resistance value R1) 1925.

図13は、参照電圧生成部194′の構成の一例を示す回路図である。図13に示すように、本例に係る参照電圧生成部194′は、温度検知部1941と、差動アンプ1942と、出力トランジスタ1943と、抵抗素子1944,1945とを有する構成となっている。   FIG. 13 is a circuit diagram showing an example of the configuration of the reference voltage generation unit 194 ′. As shown in FIG. 13, the reference voltage generation unit 194 ′ according to this example has a configuration including a temperature detection unit 1941, a differential amplifier 1942, an output transistor 1943, and resistance elements 1944 and 1945.

温度検知部1941は、実施例1に係るローカル電圧供給部19Aにおける温度検出回路部198の温度検知部1981と同様の構成となっている。すなわち、温度特性の少ない理想的な定電流源と温度依存性のある素子との組み合わせにより、温度依存性のある素子の出力として、温度依存性のある電圧を得る点に特徴を有している。本例に係る温度検知部1941では、温度依存性のある素子としてダイオードを用いている。   The temperature detection unit 1941 has the same configuration as the temperature detection unit 1981 of the temperature detection circuit unit 198 in the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment. In other words, it is characterized in that a temperature-dependent voltage is obtained as an output of a temperature-dependent element by combining an ideal constant current source with low temperature characteristics and a temperature-dependent element. . In the temperature detection unit 1941 according to this example, a diode is used as an element having temperature dependency.

図13において、温度依存性のある素子であるダイオードD1はカソードが接地されている。理想的な定電流源I1は一端が電源Vddに接続されている。温度特性の少ない理想的な定電流源I1としては、バンドギャップリファレンス電圧と温度特性の無視できる抵抗(100Ω程度のポリシリコンなど)によって構成されるバンドギャップ型基準電圧回路によって実現可能である。   In FIG. 13, the diode D1, which is a temperature-dependent element, has a cathode grounded. One end of the ideal constant current source I1 is connected to the power supply Vdd. An ideal constant current source I1 having a small temperature characteristic can be realized by a bandgap type reference voltage circuit constituted by a bandgap reference voltage and a resistor (such as polysilicon of about 100Ω) having negligible temperature characteristics.

定電流源I1の他端とダイオードD1のアノードとの間にはスイッチSW1が接続されている。モニター端子1946とダイオードD1のアノードとの間にはスイッチSW2が接続されている。電源Vddとモニター端子1946との間には定電流源I2とスイッチSW3とが直列に接続されている。定電流源I1と定電流源I2とはカレントミラー回路を形成している。   A switch SW1 is connected between the other end of the constant current source I1 and the anode of the diode D1. A switch SW2 is connected between the monitor terminal 1946 and the anode of the diode D1. A constant current source I2 and a switch SW3 are connected in series between the power supply Vdd and the monitor terminal 1946. The constant current source I1 and the constant current source I2 form a current mirror circuit.

かかる構成の温度検知部1941は、図8に示すダイオードの温度特性を利用し、環境温度を検知する。すなわち、ダイオードD1のアノード端には、環境温度に応じて変化する順方向電圧Vtempが現れ、この順方向電圧Vtempが環境温度の検知信号として温度検知部1941から出力される。   The temperature detection unit 1941 having such a configuration detects the environmental temperature using the temperature characteristics of the diode shown in FIG. That is, a forward voltage Vtemp that changes in accordance with the environmental temperature appears at the anode end of the diode D1, and this forward voltage Vtemp is output from the temperature detector 1941 as an environmental temperature detection signal.

差動アンプ1942は、温度検知部1941で得られたダイオードD1の順方向電圧Vtempを非反転(+)入力とし、出力トランジスタ1943のソース電位を反転入力(−)としている。出力トランジスタ1943は、ドレインが電源Vddに、ゲートがオペアンプ1942の出力端に接続されている。   In the differential amplifier 1942, the forward voltage Vtemp of the diode D1 obtained by the temperature detector 1941 is set as a non-inverted (+) input, and the source potential of the output transistor 1943 is set as an inverted input (−). The output transistor 1943 has a drain connected to the power supply Vdd and a gate connected to the output terminal of the operational amplifier 1942.

抵抗素子1944と抵抗素子1945とは、出力トランジスタ1943のソースと接地との間に直列に接続されて抵抗分割回路を形成しており、出力トランジスタ1943のソースと抵抗素子1944との接続ノードN11の電位(出力トランジスタ1943のソース電位)と接地との間の電位差を、抵抗素子1944,1945の抵抗分割比によって分割することにより、分割ノードN12に参照電圧Vref0を得る。   The resistance element 1944 and the resistance element 1945 are connected in series between the source of the output transistor 1943 and the ground to form a resistance divider circuit, and the connection node N11 between the source of the output transistor 1943 and the resistance element 1944 is connected. By dividing the potential difference between the potential (the source potential of the output transistor 1943) and the ground by the resistance division ratio of the resistance elements 1944 and 1945, the reference voltage Vref0 is obtained at the division node N12.

差動アンプ1942を中心とする全体の制御アンプ構成としては、負帰還回路となっている。そして、この負帰還回路において、ノードN11の電位が順方向電圧Vtempと等しくなるように制御が行われることで、ノードN12に温度依存性のある参照電圧Vref0が得られる。   The overall control amplifier configuration centering on the differential amplifier 1942 is a negative feedback circuit. In this negative feedback circuit, control is performed so that the potential of the node N11 becomes equal to the forward voltage Vtemp, whereby a reference voltage Vref0 having temperature dependence is obtained at the node N12.

上述したように、実施例2に係るローカル電圧供給部19Bでは、参照電圧生成部194′において温度依存性のあるダイオードD1を使用して、出力電圧Vout である負電圧の生成の基準となる参照電圧Vref0に温度特性を持たせることで、負電圧を環境温度の変化に応じて変化させることができる、即ちローカル電圧である負電圧の設定に温度依存を持たせることができる。そして、暗電流の温度特性を考慮して最適化した負電圧を図4に示す出力バッファ134に供給することで、暗電流や電界による白点の抑制を行ない、かつゲート酸化膜などトランジスタの信頼性を向上させることができる。   As described above, in the local voltage supply unit 19B according to the second embodiment, the reference voltage generation unit 194 ′ uses the temperature-dependent diode D1 as a reference for generating a negative voltage that is the output voltage Vout. By giving the voltage Vref0 temperature characteristics, the negative voltage can be changed in accordance with the change in the environmental temperature, that is, the setting of the negative voltage, which is a local voltage, can be given temperature dependence. Then, a negative voltage optimized in consideration of the dark current temperature characteristic is supplied to the output buffer 134 shown in FIG. 4 to suppress white spots due to dark current and electric field, and reliability of transistors such as a gate oxide film. Can be improved.

加えて、実施例2に係るローカル電圧供給部19Bでは、実施例1に係るローカル電圧供給部19Aの場合と同様に、温度検知部1941を内蔵した参照電圧生成部194′を含むローカル電圧供給部19B全体の回路動作のテストを行うためのテスト機能を温度検知部1941に持たせている。   In addition, in the local voltage supply unit 19B according to the second embodiment, as in the case of the local voltage supply unit 19A according to the first embodiment, a local voltage supply unit including a reference voltage generation unit 194 ′ having a built-in temperature detection unit 1941. The temperature detection unit 1941 is provided with a test function for testing the circuit operation of the entire 19B.

ローカル電圧供給部19Bの回路動作のテストを行う場合の手順について以下に説明する。先ず、テスト手順1として、図14に示すように、温度検知部1941において、スイッチSW1,SW3をオン、スイッチSW2をオフにし、定電流源I1からダイオードD1に流し込む一定電流Iconst を定電流源I1,I2からなるカレントミラー回路にて折り返して定電流源I2によってモニター用電流Itestを生成する。   A procedure for testing the circuit operation of the local voltage supply unit 19B will be described below. First, as a test procedure 1, as shown in FIG. 14, in the temperature detection unit 1941, the switches SW1 and SW3 are turned on and the switch SW2 is turned off, and a constant current Iconst flowing from the constant current source I1 to the diode D1 is supplied to the constant current source I1. , I2 is turned back by a current mirror circuit, and a monitoring current Itest is generated by a constant current source I2.

このモニター用電流Itestは、スイッチSW3を通ってモニター端子1946から、当該モニター端子1946にあらかじめ接続した電流計51に流れる。このとき、電流計51に流れるモニター用電流Itestの電流値を測定する。そして、電流値によってダイオードD1の温度特性が変動するために、モニター用電流Itestが設定値であるか否かを確認することができる。   The monitoring current Itest flows from the monitor terminal 1946 through the switch SW3 to the ammeter 51 previously connected to the monitor terminal 1946. At this time, the current value of the monitoring current Itest flowing through the ammeter 51 is measured. Since the temperature characteristic of the diode D1 varies depending on the current value, it can be confirmed whether or not the monitoring current Itest is a set value.

次に、テスト手順2として、図15に示すように、スイッチSW1,SW3をオフにして定電流源I1,I2を切り離すとともに、スイッチSW2をオンにしてダイオードD1のアノード端をモニター端子1946に接続する。一方、モニター端子1946に可変電流源52を接続しておき、当該可変電流源52からモニター端子1946を通してダイオードD1に電流Iforce を与えるようにする。このとき、先述した理由により、ダイオードD1に流す電流Iforce を変化させることで、ダイオードD1の順方向電圧Vtempが変化する。   Next, as test procedure 2, as shown in FIG. 15, the switches SW1 and SW3 are turned off to disconnect the constant current sources I1 and I2, and the switch SW2 is turned on and the anode terminal of the diode D1 is connected to the monitor terminal 1946. To do. On the other hand, the variable current source 52 is connected to the monitor terminal 1946, and the current Iforce is applied from the variable current source 52 to the diode D1 through the monitor terminal 1946. At this time, the forward voltage Vtemp of the diode D1 changes by changing the current Iforce flowing through the diode D1 for the reason described above.

図8に示すダイオードのI−V特性から明らかなように、一定電流Iconst 下では温度が上昇すると、ダイオードの順方向電圧Vfが低下する。ここで、ダイオードD1に流す電流値を変動させることによる順方向電圧Vtempの変化を見ることによって温度変化の状況を作り出し、ローカル電圧供給部19Bの動作を確認することができる。つまり、一定電流Iconst において高温時の電圧V2を供給電流I2とすることで、常温においてもローカル電圧供給部19Bの回路動作の確認を行うことが可能になる。   As is apparent from the IV characteristics of the diode shown in FIG. 8, the forward voltage Vf of the diode decreases as the temperature increases under a constant current Iconst. Here, it is possible to create a temperature change state by checking the change in the forward voltage Vtemp by changing the value of the current flowing through the diode D1, and to confirm the operation of the local voltage supply unit 19B. That is, by setting the high-temperature voltage V2 at the constant current Iconst as the supply current I2, the circuit operation of the local voltage supply unit 19B can be confirmed even at room temperature.

上述したテスト手順1,2を実現可能なテスト機能(テスト回路)を参照電圧生成部194′、具体的には温度検知部1941に組み込むことで、モニター端子1946に電流計51や可変電流源52を接続するだけで、実際に環境温度(環境条件)を変えることなく、ローカル電圧供給部19Bの回路動作のテスト(確認)を行うことができる。   By incorporating a test function (test circuit) capable of realizing the test procedures 1 and 2 described above into the reference voltage generation unit 194 ′, specifically, the temperature detection unit 1941, an ammeter 51 and a variable current source 52 are connected to the monitor terminal 1946. It is possible to perform a test (confirmation) of the circuit operation of the local voltage supply unit 19B without actually changing the environmental temperature (environmental condition) simply by connecting the.

特に、温度依存性のある素子であるダイオードD1に定電流を流すことによる動作試験であることから、特許文献2記載の従来技術に比べて、電流値を決める要素として、ダイオードD1に対して直列に繋がるスイッチSW1,SW2等の寄生抵抗や接触抵抗の影響を受けないだけでなく、複数の電圧のテストを短時間で容易に行うことができる。そして、テスト時間の短縮によって試験の効率を上げることができるために、コストダウンを図ることができる。   In particular, since this is an operation test by passing a constant current through the diode D1, which is a temperature-dependent element, as compared with the prior art described in Patent Document 2, the current value is determined in series with the diode D1. In addition to being not affected by parasitic resistances and contact resistances of the switches SW1, SW2, etc. connected to, a plurality of voltages can be easily tested in a short time. Since the test efficiency can be increased by shortening the test time, the cost can be reduced.

なお、実施例1,2では、温度依存性のある素子としてダイオードD1を用いた場合を例に挙げて説明したが、これは一例に過ぎず、ドレインとゲートとを共通に接続した、いわゆるダイオード接続のトランジスタや、不純物をドープしたポリシリコン抵抗などを用いても、同等の作用効果を得ることができる。   In the first and second embodiments, the diode D1 is used as an example of the temperature-dependent element. However, this is only an example, and a so-called diode having a drain and a gate connected in common. Even if a connected transistor, a polysilicon resistor doped with impurities, or the like is used, the same effect can be obtained.

また、実施例1,2では、定電流源I1をバンドギャップ型基準電圧回路で実現するとしたが、これに限られるものではなく、例えば、ばらつきの少ない外部抵抗を用いた電流回路で実現することも可能である。その際には、寄生抵抗を加味するために実際に流れ込む電流値を測定しておくようにする。   In the first and second embodiments, the constant current source I1 is realized by a band gap type reference voltage circuit. However, the present invention is not limited to this, and for example, realized by a current circuit using an external resistor with little variation. Is also possible. In that case, in order to take into account the parasitic resistance, the value of the current that actually flows is measured.

また、外部から電流を供給する代わりに、図16に示すように、定電流源I1,I2に加えて、複数(例えば、2つ)の定電流源I3,I4をカレントミラーミラー構成にてIC内部に搭載することも可能である。ここに、一例として、定電流源I1,I2の各電流値Iconst ,Itestを10μAとし、定電流源I3,I4の各電流値を1μA,1mAとする。このような構成によれば、カレントミラーで電流値を決定しており、定電流源I1〜I4に対して直接に接続されてスイッチSW11〜SW14のオン抵抗を無視できるために、特許文献2記載の従来技術に比べて精度の高い動作テストを実現できる。   Further, instead of supplying current from outside, as shown in FIG. 16, in addition to the constant current sources I1 and I2, a plurality (for example, two) of constant current sources I3 and I4 are integrated in a current mirror mirror configuration. It can also be installed inside. As an example, the current values Iconst and Itest of the constant current sources I1 and I2 are 10 μA, and the current values of the constant current sources I3 and I4 are 1 μA and 1 mA. According to such a configuration, the current value is determined by the current mirror and is directly connected to the constant current sources I1 to I4 so that the on-resistance of the switches SW11 to SW14 can be ignored. Compared to the conventional technology, it is possible to realize a highly accurate operation test.

なお、上記実施形態では、電源供給回路であるローカル電圧供給部19から供給されローカル電圧を負電圧としたが、ローカル電圧としては負電圧に限られるものでなく、電源電圧Vddと電圧値が異なる正電圧であってもよく、当該正電圧をローカル電圧として供給する電源供給回路にも本発明を適用することが可能であり、上記実施形態の場合と同様の作用効果を奏することができる。   In the above embodiment, the local voltage supplied from the local voltage supply unit 19 that is a power supply circuit is a negative voltage. However, the local voltage is not limited to the negative voltage, and the voltage value is different from the power supply voltage Vdd. The present invention may be applied to a power supply circuit that supplies a positive voltage as a local voltage, and the same effects as those of the above-described embodiment can be achieved.

また、上記実施形態では、半導体装置として固体撮像装置を例に挙げて説明したが、本発明は固体撮像装置への適用に限られるものではなく、半導体基板上に設けられ、当該半導体基板の外部から与えられる電源電圧を基に当該電源電圧とは電圧値が異なるローカル電圧を生成して駆動対象の回路部に供給する電源供給回路に内蔵され、温度依存性のある素子を用いて環境温度の変化を検出する温度検出回路を備えた半導体装置全般に適用可能である。   In the above-described embodiment, the solid-state imaging device is described as an example of the semiconductor device. However, the present invention is not limited to the application to the solid-state imaging device, and is provided on the semiconductor substrate and external to the semiconductor substrate. Is built in a power supply circuit that generates a local voltage having a voltage value different from that of the power supply voltage based on the power supply voltage supplied from the power supply circuit and supplies the local voltage to the circuit unit to be driven. The present invention can be applied to all semiconductor devices including a temperature detection circuit that detects a change.

本発明が適用される固体撮像装置のシステム構成の概略を示すシステム構成図である。1 is a system configuration diagram illustrating an outline of a system configuration of a solid-state imaging device to which the present invention is applied. 画素の回路構成の一例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows an example of the circuit structure of a pixel. 垂直駆動部の構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of a vertical drive part. 出力バッファの構成の一例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows an example of a structure of an output buffer. 負電圧供給による作用を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the effect | action by a negative voltage supply. 実施例1に係るローカル電圧供給部の構成例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a local voltage supply unit according to the first embodiment. 温度検出回路部の構成の一例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows an example of a structure of a temperature detection circuit part. ダイオードのI−V特性を示す簡略図である。It is a simplification figure showing the IV characteristic of a diode. ダイオードの温度特性と電圧設定範囲を示す図である。It is a figure which shows the temperature characteristic and voltage setting range of a diode. 実施例1に係るローカル電圧供給部におけるテスト手順1での温度検知部の回路接続を示す図である。It is a figure which shows the circuit connection of the temperature detection part in the test procedure 1 in the local voltage supply part which concerns on Example 1. FIG. 実施例1に係るローカル電圧供給部におけるテスト手順2での温度検知部の回路接続を示す図である。It is a figure which shows the circuit connection of the temperature detection part in the test procedure 2 in the local voltage supply part which concerns on Example 1. FIG. 実施例2に係るローカル電圧供給部の構成例を示す回路図である。6 is a circuit diagram illustrating a configuration example of a local voltage supply unit according to Embodiment 2. FIG. 参照電圧生成部の構成の一例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows an example of a structure of a reference voltage generation part. 実施例2に係るローカル電圧供給部におけるテスト手順1での温度検知部の回路接続を示す図である。It is a figure which shows the circuit connection of the temperature detection part in the test procedure 1 in the local voltage supply part which concerns on Example 2. FIG. 実施例2に係るローカル電圧供給部におけるテスト手順2での温度検知部の回路接続を示す図である。It is a figure which shows the circuit connection of the temperature detection part in the test procedure 2 in the local voltage supply part which concerns on Example 2. FIG. 内部定電流を利用したテスト回路を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the test circuit using an internal constant current.

符号の説明Explanation of symbols

10…固体撮像装置、11…半導体基板(チップ)、12…画素アレイ部、13…垂直駆動部、14…カラム回路群、15…水平駆動部、16…水平信号線、17…出力部、18…制御部、19,19A,19B…ローカル電圧供給部、20…画素、21…フォトダイオード、22…転送トランジスタ、23…リセットトランジスタ、24…増幅トランジスタ、25…選択トランジスタ、26…フローティングディフュージョン部(FD部)、191…チャーシポンプスイッチ群、192,192′…出力電圧設定部、193…基準電圧生成部、194,194′…参照電圧生成部、195…誤差増幅器、196…スイッチング制御部、197…周期信号生成部、198…温度検出回路部、1941,1981…温度検知部   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Solid-state imaging device, 11 ... Semiconductor substrate (chip), 12 ... Pixel array part, 13 ... Vertical drive part, 14 ... Column circuit group, 15 ... Horizontal drive part, 16 ... Horizontal signal line, 17 ... Output part, 18 Control unit 19, 19A, 19B ... Local voltage supply unit, 20 ... Pixel, 21 ... Photodiode, 22 ... Transfer transistor, 23 ... Reset transistor, 24 ... Amplification transistor, 25 ... Selection transistor, 26 ... Floating diffusion part ( FD unit), 191... Charsi pump switch group, 192, 192 '... output voltage setting unit, 193 ... reference voltage generation unit, 194, 194' ... reference voltage generation unit, 195 ... error amplifier, 196 ... switching control unit, 197 ... periodic signal generator, 198 ... temperature detection circuit, 1941, 1981 ... temperature detector

Claims (8)

半導体基板上に設けられ、当該半導体基板の外部から与えられる電源電圧を基に当該電源電圧とは電圧値が異なるローカル電圧を生成して駆動対象の回路部に供給する電源供給回路に設けられ、前記ローカル電圧の値に温度依存性を持たせるために、温度依存性のある素子を用い環境温度に依存して出力が変化する温度検出回路であって、
前記温度依存性のある素子に流す定電流の電流値を変化させることによって、前記出力を変化させる試験回路を内蔵す
度検出回路。
Provided on a semiconductor substrate, provided in a power supply circuit that generates a local voltage having a voltage value different from the power supply voltage based on a power supply voltage applied from the outside of the semiconductor substrate and supplies the local voltage to a circuit unit to be driven, In order to give temperature dependence to the value of the local voltage, a temperature detection circuit whose output changes depending on the environmental temperature using an element having temperature dependence ,
By changing the current value of the constant current supplied to the device with the temperature dependence, it built a test circuit for changing the output
Temperature detection circuit.
前記試験回路は、前記ローカル電圧が所定の電圧であることを確認するときに、環境温度を変化させずに前記温度依存性のある素子に流す電流値を変化させ
求項1記載の温度検出回路。
Said test circuit, said when the local voltage is confirmed to be a predetermined voltage, Ru changing the value of the current flowing to the element with the temperature dependence without changing the environmental temperature
Temperature detection circuit Motomeko 1 wherein.
前記試験回路は、前記ローカル電圧が所定の電圧であることを確認するときに、環境温度を変化させずに、前記半導体基板の外部から前記温度依存性のある素子に対して電流を供給し、その電流値を変化させ
求項2記載の温度検出回路。
The test circuit, when confirming that the local voltage is a predetermined voltage, supplies current to the temperature-dependent element from the outside of the semiconductor substrate without changing the environmental temperature , Ru to change its current value
Temperature detection circuit Motomeko 2 wherein.
前記温度検出回路は、
一端が基準電位ノードに接続された前記温度依存性のある素子と、
当該素子に一定電流を供給する第1の定電流源と
前記試験回路と
の組み合わせからなり、
前記試験回路は、
モニター端子と、
前記第1の定電流源とカレントミラーを形成する第2の定電流源と、
前記第1の定電流源と前記温度依存性のある素子の他端との間に接続された第1のスイッチと、
前記モニター端子と前記温度依存性のある素子の他端との間に接続された第2のスイッチと、
前記第2の定電流源と前記モニター端子との間に接続された第3のスイッチと
を有する
請求項1から3の何れか一項に記載の温度検出回路。
The temperature detection circuit includes:
The temperature-dependent element having one end connected to a reference potential node;
A first constant current source for supplying a constant current to the element ;
A combination of the test circuit and
The test circuit is
A monitor terminal;
A second constant current source forming a current mirror with the first constant current source;
A first switch connected between the first constant current source and the other end of the temperature-dependent element;
A second switch connected between the monitor terminal and the other end of the temperature-dependent element;
A third switch connected between the second constant current source and the monitor terminal;
The temperature detection circuit according to any one of claims 1 to 3 .
前記試験回路は、前記第1,第3のスイッチをオンとし、前記第2のスイッチをオフとしたときに、前記第2の定電流源から前記第3のスイッチおよび前記モニター端子を通して出力されるモニター電流が設定値であるか否かを確認可能な構成を有する
求項4記載の温度検出回路。
The test circuit outputs from the second constant current source through the third switch and the monitor terminal when the first and third switches are turned on and the second switch is turned off. It has a configuration that can check whether the monitor current is the set value or not
Temperature detection circuit Motomeko 4 wherein.
前記試験回路は、前記第1,第3のスイッチをオフとし、前記第2のスイッチをオンとしたときに、前記モニター端子を通して前記温度依存性のある素子に供給する電流値を変化させ、当該ダイオードの順方向電圧を変化させることにより、当該温度検出回路の前記出力を変化させることが可能である
請求項5記載の温度検出回路。
The test circuit changes a current value supplied to the temperature-dependent element through the monitor terminal when the first and third switches are turned off and the second switch is turned on. The output of the temperature detection circuit can be changed by changing the forward voltage of the diode.
The temperature detection circuit according to claim 5 .
半導体基板上に設けられ、当該半導体基板の外部から与えられる電源電圧を基に当該電源電圧とは電圧値が異なるローカル電圧を生成して駆動対象の回路部に供給する電源供給回路に設けられ、前記ローカル電圧の値に温度依存性を持たせるために、温度依存性のある素子を用い環境温度に依存して出力が変化する温度検出回路において、
前記電源供給回路の回路動作を試験するときに、前記温度依存性のある素子に流す定電流の電流値を変化させることによって、前記出力を変化させる
度検出回路の動作方法。
Provided on a semiconductor substrate, provided in a power supply circuit that generates a local voltage having a voltage value different from the power supply voltage based on a power supply voltage applied from the outside of the semiconductor substrate and supplies the local voltage to a circuit unit to be driven, In the temperature detection circuit in which the output varies depending on the environmental temperature using a temperature-dependent element in order to give the local voltage value temperature dependency ,
When the circuit operation of the power supply circuit is tested , the output is changed by changing a current value of a constant current passed through the temperature-dependent element .
Method of operating a temperature detection circuit.
半導体基板上に設けられ、当該半導体基板の外部から与えられる電源電圧を基に当該電源電圧とは電圧値が異なるローカル電圧を生成して駆動対象の回路部に供給する電源供給回路に設けられ、前記ローカル電圧の値に温度依存性を持たせるために、温度依存性のある素子を用い環境温度に依存して出力が変化する温度検出回路を備えた半導体装置であって、
前記温度検出回路は、前記温度依存性のある素子に流す定電流の電流値を変化させることによって、前記出力を変化させる試験回路を内蔵する
導体装置。
Provided on a semiconductor substrate, provided in a power supply circuit that generates a local voltage having a voltage value different from the power supply voltage based on a power supply voltage applied from the outside of the semiconductor substrate and supplies the local voltage to a circuit unit to be driven, In order to give the local voltage value temperature dependency, a semiconductor device including a temperature detection circuit whose output changes depending on the environmental temperature using an element having temperature dependency ,
The temperature detection circuit includes a test circuit that changes the output by changing a current value of a constant current that flows through the temperature-dependent element.
Semi conductor device.
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