Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP4821152B2 - Process for producing cured conductive resin and composition for cured conductive resin - Google Patents

Process for producing cured conductive resin and composition for cured conductive resin Download PDF

Info

Publication number
JP4821152B2
JP4821152B2 JP2005090989A JP2005090989A JP4821152B2 JP 4821152 B2 JP4821152 B2 JP 4821152B2 JP 2005090989 A JP2005090989 A JP 2005090989A JP 2005090989 A JP2005090989 A JP 2005090989A JP 4821152 B2 JP4821152 B2 JP 4821152B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cured
group
conductive resin
resin
hydrophilic group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2005090989A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005314671A (en
Inventor
俊夫 吉原
美貴子 北條
伊藤  潔
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2005090989A priority Critical patent/JP4821152B2/en
Publication of JP2005314671A publication Critical patent/JP2005314671A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4821152B2 publication Critical patent/JP4821152B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/12Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/0427Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/043Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/044Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/046Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/056Forming hydrophilic coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2400/00Characterised by the use of unspecified polymers
    • C08J2400/12Polymers characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • C08K3/013Fillers, pigments or reinforcing additives

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

本発明は、導電性樹脂硬化物の製造方法及び導電性樹脂硬化物用組成物に関し、更に詳しくは、親水性基含有高分子化合物を含む導電性樹脂硬化物の製造方法等に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a cured conductive resin and a composition for a cured conductive resin, and more particularly relates to a method for producing a cured conductive resin containing a hydrophilic group-containing polymer compound.

各種ディスプレイ装置等を構成する光学素子等の成形体は、絶縁性を示すプラスチックやガラスで形成されているので、帯電し易く埃が付着し易いという問題がある。例えば、ディスプレイ装置を構成する反射防止シート等のプラスチック製の光学素子は、加工工程やディスプレイ装置の組立工程等において、帯電して埃が付着すると、ディスプレイ装置の画像表示機能に悪影響を及ぼすことがあった。こうした問題に対する手段として、プラスチックやガラスで形成された成形体(以下、基材ということもある。)の表面に導電性膜を形成して帯電防止を図る技術が提案されている。   Since molded bodies such as optical elements constituting various display devices are formed of insulating plastic or glass, there is a problem in that they are easily charged and dust easily adheres to them. For example, an optical element made of plastic such as an antireflection sheet constituting a display device may adversely affect the image display function of the display device when charged and dust is deposited in a processing process or an assembly process of the display device. there were. As means for solving such a problem, a technique for preventing charging by forming a conductive film on the surface of a molded body (hereinafter also referred to as a base material) formed of plastic or glass has been proposed.

導電性膜としては、蒸着法やスパッタリング法により製膜された金属膜や金属酸化物膜又はゾルゲル法により製膜された金属酸化物膜が用いられている。しかし、蒸着法やスパッタリング法により金属膜等を製膜する際には、例えば基材がプラスチック製の光学シート等である場合に、製造コストを抑える観点からその後に必要な大きさに裁断される大面積のプラスチックシートに金属膜等を製膜する必要があるので、大型の蒸着装置やスパッタ装置を要し、設備費が増大するという問題があった。また、ゾルゲル法により金属酸化物膜を製膜する際には、200℃程度の加熱工程が必要となるので、基材やその基材に設けられている導電性膜以外の他の層が熱による損傷を受けてしまうという問題があった。   As the conductive film, a metal film, a metal oxide film formed by an evaporation method or a sputtering method, or a metal oxide film formed by a sol-gel method is used. However, when a metal film or the like is formed by a vapor deposition method or a sputtering method, for example, when the base material is a plastic optical sheet or the like, it is cut into a necessary size from the viewpoint of reducing the manufacturing cost. Since it is necessary to form a metal film or the like on a large-area plastic sheet, a large-scale vapor deposition apparatus or sputtering apparatus is required, resulting in an increase in equipment costs. In addition, when a metal oxide film is formed by the sol-gel method, a heating step of about 200 ° C. is required, and therefore the base material and other layers other than the conductive film provided on the base material are heated. There was a problem of being damaged by.

上記の問題を解決するために、導電性材料を含有させたバインダー樹脂からなる導電性膜が考えられている。このような導電性膜は、導電性膜用樹脂組成物を塗工等することにより形成されるので、大面積のプラスチックシートにも容易に製膜され、また、その製膜の際に基材等に損傷を与えるような加熱工程が必要とされない。   In order to solve the above problem, a conductive film made of a binder resin containing a conductive material has been considered. Since such a conductive film is formed by coating a resin composition for a conductive film, it can be easily formed even on a large area plastic sheet. No heating process that damages the like is required.

そのような導電性膜を構成する導電性材料としては、空気中の水を吸着することによりイオン伝導型の導電性を発現する材料が提案されており、そのようなイオン伝導型の導電性材料として界面活性剤が広く用いられている。しかし、界面活性剤は、バインダー樹脂との相溶性が低く、また、膜中で動き易い低分子化合物であるので、導電性膜の表面にブリードアウトしてしまうという問題があった。導電性膜の表面に界面活性剤がブリードアウトした場合には、導電性膜の基材となる成形体の表面が白く曇ったり、導電性膜の帯電防止性が時間の経過と共に失われたり、導電性膜とその導電性膜に隣接している基材や他の層との密着性が低下してしまうことがある。   As a conductive material constituting such a conductive film, a material that exhibits ion conductivity type conductivity by adsorbing water in the air has been proposed, and such ion conductivity type conductive material is proposed. As a surfactant, it is widely used. However, the surfactant has a low compatibility with the binder resin and is a low-molecular compound that easily moves in the film, so that it has a problem of bleeding out on the surface of the conductive film. When the surfactant bleeds out on the surface of the conductive film, the surface of the molded body that becomes the base material of the conductive film becomes cloudy white, the antistatic property of the conductive film is lost over time, The adhesion between the conductive film and the substrate or other layer adjacent to the conductive film may be reduced.

このブリードアウトの問題を解決するために、導電性材料として複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物を用いる研究がなされている。親水性基含有高分子化合物としては、親水性基が空気中の水分を吸着して発現されるイオン伝導型を示すもの、又は、親水性基がπ共役系化合物にドープして発現される電子伝導型の導電性を示すもの(例えば、特許文献1及び2を参照。)がある。このような親水性基含有高分子化合物は、膜中で動き難いので導電性膜表面にブリードアウトし難い。
特開平9−78000号公報(請求項1) 特開2001−270999号公報(請求項1)
In order to solve this bleed-out problem, studies have been made on the use of hydrophilic group-containing polymer compounds having a plurality of hydrophilic groups as conductive materials. Examples of the hydrophilic group-containing polymer compound are those that exhibit an ionic conductivity type in which the hydrophilic group is expressed by adsorbing moisture in the air, or electrons that are expressed by doping the hydrophilic group into a π-conjugated compound. Some have conductivity type conductivity (see, for example, Patent Documents 1 and 2). Such a hydrophilic group-containing polymer compound is difficult to move in the film, and therefore is difficult to bleed out on the surface of the conductive film.
JP-A-9-78000 (Claim 1) JP 2001-270999 A (Claim 1)

上述した親水性基含有高分子化合物は、複数の親水性基を持つので水又は水を含む混合溶剤に溶解又は分散し易い。したがって、親水性基含有高分子化合物を含む導電性膜を形成する際には、溶媒として水又は水を多量に含む混合溶剤を用い、バインダー樹脂として水溶性又は水分散性の樹脂を用いた樹脂組成物が調製されていた。なお、親水性基含有高分子化合物は、その化合物の持つ親水性基の作用により、有機溶剤に溶解又は分散し難く且つ親水性基を持たない樹脂との相溶性も低いので、上記の親水性基含有高分子化合物を含む導電性膜の形成の際には、有機溶剤を溶媒とした樹脂組成物及び溶媒を含まない樹脂組成物(本明細書においては「無溶剤型の樹脂組成物」という。)は用いられていない。   Since the hydrophilic group-containing polymer compound described above has a plurality of hydrophilic groups, it is easily dissolved or dispersed in water or a mixed solvent containing water. Therefore, when forming a conductive film containing a hydrophilic group-containing polymer compound, a resin using water or a mixed solvent containing a large amount of water as a solvent and a water-soluble or water-dispersible resin as a binder resin A composition was prepared. The hydrophilic group-containing polymer compound has the above hydrophilicity because it is difficult to dissolve or disperse in an organic solvent and has low compatibility with a resin having no hydrophilic group due to the action of the hydrophilic group of the compound. In forming a conductive film containing a group-containing polymer compound, a resin composition containing an organic solvent as a solvent and a resin composition containing no solvent (referred to as “solvent-free resin composition” in this specification) .) Is not used.

しかしながら、導電性膜の形成に水又は多量の水を含む混合溶剤を溶媒とする樹脂組成物を用いた場合には、以下の弊害が生じてしまう。   However, when a resin composition using water or a mixed solvent containing a large amount of water as a solvent is used for forming the conductive film, the following adverse effects occur.

まず、このような水を多量に含む樹脂組成物で形成された導電性膜には、溶媒の乾燥工程を経ても水分が残存し易いという問題があった。導電性膜に水分が残存していると、その水分が導電性膜の表面に滲み出し易く、導電性膜とその導電製膜に隣接して設けられている基材又は他の層との密着性が低下してしまうことがある。また、ディスプレイ装置の製造に、このような導電性膜が設けられた部材と共に水を嫌う素子を用いる場合には、導電性膜の表面に滲み出した水分によりその素子の性能が低下してしまうことがある。   First, the conductive film formed of the resin composition containing a large amount of water has a problem that moisture easily remains even after a solvent drying step. If moisture remains in the conductive film, the moisture easily oozes out to the surface of the conductive film, and the conductive film and the substrate or other layer provided adjacent to the conductive film are in close contact with each other. May deteriorate. In addition, when an element that dislikes water is used together with a member provided with such a conductive film in the manufacture of a display device, the performance of the element deteriorates due to moisture that has oozed out on the surface of the conductive film. Sometimes.

また、水又は水を多量に含む混合溶剤を溶媒として使用する樹脂組成物においては、バインダー樹脂として親水性基を持つ水溶性又は水分散性の樹脂を選択する必要があるので、使用できるバインダー樹脂の選択の幅が狭くなってしまうという問題があった。特に、最近では、製造工程の簡略化の観点から、基材の傷付きを防止するハードコート層等の機能性膜やプラスチック製の成形体に導電性を持たせることがあるが、水等を溶媒とする樹脂組成物で導電性を有する機能性膜や成形体を形成する場合に、機能性膜や成形体の機能に合ったバインダー樹脂を選択し難かった。例えば、ハードコート層は、高い硬度や耐擦傷性が要求されるので、バインダー樹脂として電離放射線硬化性樹脂が用いられることがあるが、通常用いられている電離放射線硬化性樹脂の多くは水又は水を多量に含む混合溶剤に溶解又は分散し難い。したがって上述の親水性基含有高分子化合物を用いてハードコート層に導電性を付与する場合には、このような通常用いられている電離放射線硬化性樹脂を選択できなくなってしまう。   In addition, in a resin composition that uses water or a mixed solvent containing a large amount of water as a solvent, it is necessary to select a water-soluble or water-dispersible resin having a hydrophilic group as the binder resin. There was a problem that the range of selection of was narrowed. In particular, recently, from the viewpoint of simplifying the production process, functional films such as hard coat layers that prevent the substrate from being scratched and plastic molded articles may be made conductive, but water or the like may be added. When forming a functional film or a molded body having conductivity with a resin composition as a solvent, it is difficult to select a binder resin suitable for the function of the functional film or the molded body. For example, since a hard coat layer is required to have high hardness and scratch resistance, an ionizing radiation curable resin may be used as a binder resin, but most commonly used ionizing radiation curable resins are water or It is difficult to dissolve or disperse in a mixed solvent containing a large amount of water. Therefore, when imparting conductivity to the hard coat layer using the above-described hydrophilic group-containing polymer compound, it is impossible to select such a commonly used ionizing radiation curable resin.

本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、その第1の目的は、隣接して設けられた基材や層との密着性が向上し、水を嫌う素子が含まれた装置内で使用されてもその素子の性能を低下させ難く、且つ、構成材料であるバインダー樹脂を多様な有機溶剤溶解型又は無溶剤型の樹脂から選択できる導電性樹脂硬化物の製造方法を提供することにある。第2の目的は、隣接して設けられた基材や層との密着性が向上し、水を嫌う素子が含まれた装置内で使用されてもその素子の性能を低下させ難く、且つ、構成材料であるバインダー樹脂を多様な有機溶剤溶解型又は無溶剤型の樹脂から選択できる導電性樹脂硬化物を形成するための導電性樹脂硬化物用組成物を提供することにある。ここで、本明細書において、「有機溶剤溶解型の樹脂」とは有機溶剤に溶解又は分散する樹脂をいい、「無溶剤型の樹脂」とは溶媒(有機溶剤及び水)を含まない樹脂組成物を構成する樹脂をいうものとする。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and its first object is to include an element that improves adhesion with a substrate or layer provided adjacently and dislikes water. A method for producing a cured cured cured resin, in which the performance of the element is difficult to deteriorate even when used in a device, and the binder resin as a constituent material can be selected from various organic solvent-soluble or solvent-free resins Is to provide. The second purpose is to improve the adhesion with the substrate and layer provided adjacent to each other, and even if used in an apparatus containing an element that dislikes water, it is difficult to lower the performance of the element, and An object of the present invention is to provide a composition for a cured cured resin, which can form a cured cured resin in which a binder resin as a constituent material can be selected from various organic solvent-soluble or solventless resins. In this specification, “organic solvent-soluble resin” refers to a resin that dissolves or disperses in an organic solvent, and “solvent-free resin” refers to a resin composition that does not include a solvent (organic solvent and water). It shall refer to the resin constituting the product.

上記課題を解決するための本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法は、複数の親水性基を持つと共に当該複数の親水性基の少なくとも一部に親油性基が結合している親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のうち少なくとも一方の樹脂と、有機溶剤とを含む導電性樹脂硬化物用組成物を調製する調製工程と、前記導電性樹脂硬化物用組成物で塗膜又は成形体を形成する形成工程と、前記塗膜又は前記成形体に含まれる前記有機溶剤を乾燥させる乾燥工程と、前記塗膜又は前記成形体を硬化させる硬化工程とを含むことを特徴とする(以下、この製造方法を「製造方法I」という。)。   The method for producing a cured conductive resin according to the first aspect of the present invention for solving the above-described problem has a plurality of hydrophilic groups and a lipophilic group bonded to at least a part of the plurality of hydrophilic groups. A preparation step for preparing a composition for a cured cured resin containing a hydrophilic group-containing polymer compound, at least one of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin, and an organic solvent; A forming step of forming a coating film or a molded body with the composition for cured conductive resin, a drying step of drying the organic solvent contained in the coating film or the molded body, and the coating film or the molded body. And a curing step for curing (hereinafter, this production method is referred to as “production method I”).

この発明によれば、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基に親油性基が結合していることから、親水性基含有高分子化合物が有機溶剤に溶解又は均一に分散し易くなるので、有機溶剤により導電性樹脂硬化物用組成物を調製できる。したがって、得られる導電性樹脂硬化物に水分が含まれ難いので、導電性樹脂硬化物の表面に水分が滲み出し難く、導電性樹脂硬化物とそれに隣接して設けられる基材や層との密着性が向上し、また、水を嫌う素子が含まれた装置内で使用されてもその素子の性能が低下し難くなる。また、この発明によれば、溶媒として有機溶剤を用いるので、有機溶剤に溶解又は分散する多様な樹脂をバインダー樹脂として選択することができる。更に、この発明によれば、乾燥工程(加熱工程)及び/又は硬化工程(電離放射線の照射工程又は加熱工程)により親水性基に結合していた親油性基を解離させることができるので、親水性基含有高分子化合物の親水性基が露出することにより、導電性樹脂硬化物の導電性が発現し帯電防止性が発揮される。なお、導電性樹脂硬化物用組成物に含まれた親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の一部にのみ親油性基が結合している場合には、乾燥工程及び硬化工程において親油性基が解離しなくても、得られる導電性樹脂硬化物は導電性を発現することがある。   According to this invention, since the lipophilic group is bonded to the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound, the hydrophilic group-containing polymer compound is easily dissolved or uniformly dispersed in the organic solvent. The composition for cured conductive resin can be prepared with an organic solvent. Therefore, since the obtained conductive resin cured product is unlikely to contain moisture, it is difficult for the moisture to ooze out on the surface of the conductive resin cured product, and adhesion between the conductive resin cured product and the substrate or layer provided adjacent thereto Even if the device is used in an apparatus including an element that dislikes water, the performance of the element is hardly lowered. Moreover, according to this invention, since the organic solvent is used as the solvent, various resins that can be dissolved or dispersed in the organic solvent can be selected as the binder resin. Furthermore, according to the present invention, the lipophilic group bonded to the hydrophilic group can be dissociated by the drying process (heating process) and / or the curing process (ionizing radiation irradiation process or heating process). When the hydrophilic group of the functional group-containing polymer compound is exposed, the conductivity of the cured conductive resin is exhibited and the antistatic property is exhibited. In addition, when the lipophilic group is bonded to only part of the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound contained in the composition for cured conductive resin, the parent step is used in the drying step and the curing step. Even if the oily group is not dissociated, the obtained conductive resin cured product may develop conductivity.

上記課題を解決するための本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法は、複数の親水性基を持つと共に当該複数の親水性基の少なくとも一部に親油性基が結合している親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のうち少なくとも一方の樹脂とを含む無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製する調製工程と、前記導電性樹脂硬化物用組成物で塗膜又は成形体を形成する形成工程と、前記塗膜又は前記成形体を硬化させる硬化工程とを含むことを特徴とする。   The method for producing a cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention for solving the above-described problem has a plurality of hydrophilic groups and a lipophilic group bonded to at least a part of the plurality of hydrophilic groups. A preparation process for preparing a solventless conductive resin cured composition comprising a hydrophilic group-containing polymer compound and at least one of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin; It includes a forming step of forming a coating film or a molded body with the composition for cured conductive resin, and a curing step of curing the coating film or the molded body.

この発明によれば、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基に親油性基が結合していることから、親水性基含有高分子化合物とバインダー樹脂との相溶性が向上するので、無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製できる。したがって、得られる導電性樹脂硬化物に水分が含まれ難いので、導電性樹脂硬化物に水分が含まれることによる弊害を防止することができる。また、この発明によれば、無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製できるので、バインダー樹脂として多様な無溶剤型樹脂を選択することができる。更に、この発明によれば、硬化工程により親水性基に結合していた親油性基を解離させることができるので、親水性基含有高分子化合物の親水性基が露出することにより、導電性樹脂硬化物の導電性が発現し帯電防止性が発揮される。なお、導電性樹脂硬化物用組成物に含まれた親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の一部にのみ親油性基が結合している場合には、硬化工程において親油性基が解離しなくても、得られる導電性樹脂硬化物は導電性を発現することがある。   According to this invention, since the lipophilic group is bonded to the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound, the compatibility between the hydrophilic group-containing polymer compound and the binder resin is improved. A solvent-type composition for a cured conductive resin can be prepared. Therefore, since it is difficult for moisture to be contained in the obtained cured conductive resin, it is possible to prevent adverse effects caused by moisture contained in the cured conductive resin. Moreover, according to this invention, since a solventless type composition for conductive resin cured products can be prepared, various solventless resins can be selected as the binder resin. Furthermore, according to this invention, since the lipophilic group bonded to the hydrophilic group can be dissociated by the curing step, the conductive group is exposed by exposing the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound. The cured product exhibits electrical conductivity and exhibits antistatic properties. In addition, when the lipophilic group is bonded only to a part of the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound contained in the composition for cured conductive resin, the lipophilic group is not present in the curing step. Even if it does not dissociate, the obtained conductive resin cured product may exhibit conductivity.

本発明の導電性樹脂硬化物の製造方法は、上記の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法において、前記乾燥工程及び前記硬化工程の少なくとも一方の工程において、前記親水性基含有高分子化合物が持つ親油性基の少なくとも一部を前記親水性基から解離させることが好ましい。   The method for producing a cured conductive resin according to the present invention is the method for producing a cured cured resin according to the first aspect, wherein the hydrophilic group-containing material is contained in at least one of the drying step and the curing step. It is preferable to dissociate at least part of the lipophilic group of the polymer compound from the hydrophilic group.

この発明によれば、乾燥工程における加熱又は硬化工程における電離放射線の照射や加熱により、親油性基の少なくとも一部を親水性基から解離させるので、得られる導電性樹脂硬化物の導電性が向上する。   According to this invention, at least part of the lipophilic group is dissociated from the hydrophilic group by irradiation with ionizing radiation or heating in the drying process or the curing process, so that the conductivity of the obtained conductive resin cured product is improved. To do.

本発明の導電性樹脂硬化物の製造方法は、上記の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法において、前記硬化工程において、前記親水性基含有高分子化合物が持つ親油性基の少なくとも一部を前記親水性基から解離させることが好ましい。   The method for producing a cured cured resin according to the present invention is the method for producing a cured cured resin according to the second aspect, wherein the hydrophilic group-containing polymer compound has a lipophilic group in the curing step. It is preferable to dissociate at least a part from the hydrophilic group.

本発明の導電性樹脂硬化物の製造方法は、上記の導電性樹脂硬化物の製造方法において、前記硬化工程の後に、前記親水性基含有高分子化合物が持つ親油性基の少なくとも一部を前記親水性基から解離させる解離工程を更に含むことが好ましい。   The method for producing a cured cured resin according to the present invention is the method for producing a cured cured resin, wherein at least a part of the lipophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is added after the curing step. It is preferable to further include a dissociation step for dissociating from the hydrophilic group.

この発明によれば、前記硬化工程の後に親水性基から親油性基を解離させる解離工程が含まれているので、得られる導電性樹脂硬化物の導電性を向上させることができる。   According to this invention, since the dissociation process which dissociates a lipophilic group from a hydrophilic group is included after the said hardening process, the electroconductivity of the obtained conductive resin hardened | cured material can be improved.

本発明の導電性樹脂硬化物の製造方法は、上記の導電性樹脂硬化物の製造方法において、前記導電性樹脂硬化物用組成物がπ共役系高分子化合物を更に含むことが好ましい。   In the method for producing a cured conductive resin according to the present invention, in the above-described method for producing a cured cured resin, it is preferable that the composition for a cured cured resin further includes a π-conjugated polymer compound.

この発明によれば、導電性樹脂硬化物用組成物がπ共役系高分子化合物を更に含むので、得られる導電性樹脂硬化物において、親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物がπ共役系高分子化合物に対してドーパントとして機能する。したがって、得られる導電性樹脂硬化物は、電子伝導型の導電性を示すので、湿度に依存せず安定で且つ高い導電性を有する。その結果、帯電防止だけでなく、例えば電磁波シールドの用途にも使用される導電性樹脂硬化物を得ることができる。   According to this invention, since the composition for a cured conductive resin further includes a π-conjugated polymer compound, in the obtained conductive resin cured product, the hydrophilic group-containing polymer compound having a hydrophilic group is π-conjugated. It functions as a dopant with respect to the polymer compound. Therefore, since the obtained conductive resin cured product exhibits electron conductivity type conductivity, it is stable and has high conductivity without depending on humidity. As a result, it is possible to obtain a cured conductive resin that is used not only for antistatic purposes but also for electromagnetic wave shielding, for example.

本発明の導電性樹脂硬化物の製造方法は、上記の導電性樹脂硬化物の製造方法において、前記π共役系高分子化合物がポリチオフェン又はその誘導体であることが好ましく、更に、前記親水性基が、スルホン基、カルボキシル基及びリン酸基の群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。   In the method for producing a cured conductive resin according to the present invention, in the method for producing a cured conductive resin, the π-conjugated polymer compound is preferably polythiophene or a derivative thereof, and further, the hydrophilic group is It is preferably at least one selected from the group consisting of a sulfone group, a carboxyl group and a phosphate group.

本発明の導電性樹脂硬化物の製造方法は、上記の導電性樹脂硬化物の製造方法において、前記導電性樹脂硬化物用組成物が充填剤を更に含むことが好ましい。   In the method for producing a cured conductive resin of the present invention, in the above-described method for producing a cured cured resin, it is preferable that the composition for a cured cured resin further includes a filler.

上記課題を解決するための本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物は、複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方の樹脂と、有機溶剤とを含み、前記複数の親水性基の少なくとも一部に親油性基が結合していることを特徴とする。   A composition for cured conductive resin according to the first embodiment of the present invention for solving the above-described problem is a hydrophilic group-containing polymer compound having a plurality of hydrophilic groups, an ionizing radiation curable resin, and thermosetting. It includes at least one resin of a hydrophilic resin and an organic solvent, and a lipophilic group is bonded to at least a part of the plurality of hydrophilic groups.

上記課題を解決するための本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物は、複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方の樹脂とを含む無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物であって、前記複数の親水性基の少なくとも一部に親油性基が結合していることを特徴とする。   A composition for a cured conductive resin according to a second embodiment of the present invention for solving the above problems includes a hydrophilic group-containing polymer compound having a plurality of hydrophilic groups, an ionizing radiation curable resin, and thermosetting. Solvent-free composition for cured cured resin, comprising at least one of the hydrophilic resins, wherein a lipophilic group is bonded to at least a part of the plurality of hydrophilic groups. .

本発明の導電性樹脂硬化物用組成物は、上記の導電性樹脂硬化物用組成物において、π共役系高分子化合物が更に含まれていることが好ましい。   The composition for cured conductive resin of the present invention preferably further includes a π-conjugated polymer compound in the composition for cured cured resin.

本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法によれば、溶媒として水ではなく有機溶剤を用いて導電性樹脂硬化物用組成物を調製するので、得られる導電性樹脂硬化物に水分が含まれ難い。その結果、得られる導電性樹脂硬化物は、隣接して設けられた基材や層との密着性が向上し、また、水を嫌う素子が含まれた装置内でも好ましく使用される。また、本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法によれば、有機溶剤を用いて導電性樹脂硬化物用組成物を調製するので、バインダー樹脂として有機溶剤に溶解又は分散する多様な樹脂を選択することができる。更に、本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法によれば、乾燥工程及び/又は硬化工程により親水性基に結合していた親油性基を解離させることができるので、親水性基含有高分子化合物の親水性基が露出することにより、導電性樹脂硬化物の導電性が発現する。   According to the method for producing a cured conductive resin according to the first aspect of the present invention, the composition for cured conductive resin is prepared using an organic solvent instead of water as a solvent. It is hard for moisture to be contained in things. As a result, the obtained cured cured resin is preferably used even in an apparatus including an element that dislikes water because the adhesion with a substrate or layer provided adjacently is improved. Moreover, according to the manufacturing method of the cured conductive resin according to the first embodiment of the present invention, the composition for cured conductive resin is prepared using an organic solvent, so that it is dissolved or dispersed in an organic solvent as a binder resin. Various resins can be selected. Furthermore, according to the method for producing a cured conductive resin according to the first embodiment of the present invention, the lipophilic group bonded to the hydrophilic group can be dissociated by the drying step and / or the curing step. By exposing the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound, the conductivity of the cured conductive resin is manifested.

本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法によれば、無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製するので、得られる導電性樹脂硬化物に水分が含まれ難い。その結果、導電性樹脂硬化物に水分が含まれることによる弊害を防止することができる。また、本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法によれば、無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製するので、バインダー樹脂として多様な無溶剤型の樹脂を選択することができる。更に、本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法によれば、硬化工程により親水性基に結合していた親油性基を解離させることができるので、親水性基含有高分子化合物の親水性基が露出することにより、導電性樹脂硬化物の導電性が発現する。   According to the method for producing a cured conductive resin according to the second aspect of the present invention, since the solvent-free composition for cured cured resin is prepared, moisture is contained in the obtained cured cured resin. hard. As a result, it is possible to prevent harmful effects caused by moisture contained in the cured conductive resin. In addition, according to the method for producing a cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention, a solvent-free composition for a cured cured conductive resin is prepared. Can be selected. Furthermore, according to the method for producing a cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention, since the lipophilic group bonded to the hydrophilic group can be dissociated by the curing step, the hydrophilic group-containing high content can be obtained. By exposing the hydrophilic group of the molecular compound, the conductivity of the cured conductive resin is manifested.

本発明の第1又は第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物によれば、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基に親油性基が結合しているので、水を溶媒として用いなくても親水性基含有高分子化合物が溶解、分散又は相溶する。したがって、この導電性樹脂硬化物用組成物により得られる導電性樹脂硬化物に水分が含まれ難いので、導電性樹脂硬化物に水分が残存することによる弊害を防止することができる。また、本発明の第1又は第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物によれば、バインダー樹脂として多様な有機溶剤溶解型又は無溶剤型の樹脂を選択することができる。   According to the composition for a cured conductive resin according to the first or second embodiment of the present invention, since the lipophilic group is bonded to the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound, water is used as a solvent. Even if not used, the hydrophilic group-containing polymer compound is dissolved, dispersed or compatible. Therefore, since it is difficult for moisture to be contained in the conductive resin cured product obtained by the composition for cured conductive resin, it is possible to prevent harmful effects caused by remaining moisture in the cured conductive resin. Moreover, according to the composition for conductive resin cured products according to the first or second embodiment of the present invention, various organic solvent-soluble or solvent-free resins can be selected as the binder resin.

以下、本発明の導電性樹脂硬化物用組成物、導電性樹脂硬化物及びその製造方法について説明する。   Hereinafter, the composition for a cured conductive resin, the cured conductive resin, and a method for producing the same according to the present invention will be described.

[導電性樹脂硬化物の製造方法]
(1)第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法:
本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法は、本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物を調製する調製工程と、導電性樹脂硬化物用組成物の塗膜又は成形体を形成する形成工程と、塗膜又は成形体に含まれる有機溶剤を乾燥させる乾燥工程と、塗膜又は成形体を硬化させる硬化工程を含むことを特徴としている。また、本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法は、硬化工程後に解離工程が更に含まれていてもよい。ここで、塗膜として形成された導電性樹脂硬化物を「導電性樹脂硬化膜」といい、成形体として形成された導電性樹脂硬化物を「導電性樹脂硬化成形体」というものとする。
[Method for producing cured conductive resin]
(1) Method for producing a cured cured resin according to the first embodiment:
The manufacturing method of the cured conductive resin according to the first aspect of the present invention includes a preparation step for preparing the composition for cured conductive resin according to the first aspect of the present invention, and a composition for cured conductive resin. It includes a forming step for forming a coating film or a molded body of a product, a drying step for drying an organic solvent contained in the coating film or the molded body, and a curing step for curing the coating film or the molded body. The method for producing a cured conductive resin according to the first embodiment of the present invention may further include a dissociation step after the curing step. Here, the cured conductive resin formed as a coating film is referred to as “conductive resin cured film”, and the cured conductive resin formed as a molded body is referred to as “conductive resin cured molded body”.

(調製工程)
本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法における調製工程は、本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物を調製する工程、すなわち、複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のうち少なくとも一方の樹脂(以下、バインダー樹脂ということもある)と、有機溶剤とを含み、その複数の親水性基の少なくとも一部に親油性基が結合している導電性樹脂硬化物用組成物を調製する工程である。
(Preparation process)
The preparation step in the method for producing a cured conductive resin according to the first aspect of the present invention is a step of preparing the composition for cured conductive resin according to the first aspect of the present invention, that is, a plurality of hydrophilic properties. A hydrophilic group-containing polymer compound having a group, at least one of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin (hereinafter sometimes referred to as a binder resin), and an organic solvent, and a plurality of hydrophilic groups It is a step of preparing a composition for a cured conductive resin in which a lipophilic group is bonded to at least a part of the functional group.

本発明の導電性樹脂硬化物用組成物に含まれる親水性基含有高分子化合物は、親水性基に親油性基が結合しているので、有機溶剤に溶解又は分散し易くなる。したがって、導電性樹脂硬化物用組成物の溶媒として有機溶剤を用いることができるので、得られる導電性樹脂硬化物に水分が含まれ難い。その結果、導電性樹脂硬化物の表面に水分が滲み出し難いので、導電性樹脂硬化物とそれに隣接して設けられる基材や層との密着性が向上する。また、導電性硬化物の表面に水分が滲み出し難いことから、水を嫌う素子が含まれた装置内で使用されてもその素子の性能が低下し難くなる。   Since the hydrophilic group-containing polymer compound contained in the composition for cured conductive resin of the present invention has a lipophilic group bonded to a hydrophilic group, it is easily dissolved or dispersed in an organic solvent. Therefore, since an organic solvent can be used as a solvent for the composition for a cured conductive resin, it is difficult for moisture to be contained in the obtained cured cured resin. As a result, since moisture hardly oozes out on the surface of the cured conductive resin, the adhesion between the cured conductive resin and the substrate or layer provided adjacent thereto is improved. In addition, since it is difficult for moisture to ooze out on the surface of the conductive cured product, the performance of the element is unlikely to deteriorate even when used in an apparatus including an element that dislikes water.

親水性基含有高分子化合物は、導電性樹脂硬化物の導電性を発現させるために含有される。導電性樹脂硬化物が発現する導電性としては、イオン伝導型又は電子伝導型の導電性がある。イオン伝導型の導電性は、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基に空気中の水分が吸着し、その水分中をイオンが移動することにより発現する。電子伝導型の導電性は、電子伝導性を持つπ共役系結合化合物に対して親水性基がドーパントとして機能することにより発現し、本発明においては、親水性基含有高分子化合物自体が主鎖にπ共役系結合を持つ場合又は導電性樹脂硬化物用組成物に更にπ共役系高分子化合物が含有されている場合に発現する。以下、主鎖にπ共役系結合を持つ親水性基含有高分子化合物により発現する電子伝導型の導電性を、「自己ドープ電子伝導型の導電性」ということがある。電子伝導型の導電性は、イオン伝導型の導電性と比較して、導電性が高くまた空気の湿度に影響されない。   The hydrophilic group-containing polymer compound is contained in order to develop the conductivity of the conductive resin cured product. Examples of the conductivity exhibited by the cured cured resin include ion conduction type and electron conduction type conductivity. The ion conductivity type conductivity is manifested by adsorption of moisture in the air to the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound and movement of ions in the moisture. Electron conductivity type conductivity is manifested when a hydrophilic group functions as a dopant for a π-conjugated bond compound having electron conductivity. In the present invention, the hydrophilic group-containing polymer compound itself is the main chain. This occurs when the resin has a π-conjugated bond, or when the composition for a cured conductive resin further contains a π-conjugated polymer compound. Hereinafter, the conductivity of the electron conduction type expressed by the hydrophilic group-containing polymer compound having a π-conjugated bond in the main chain may be referred to as “self-doped electron conduction type conductivity”. The electron conductivity type conductivity is higher than the ion conductivity type conductivity and is not affected by the humidity of the air.

親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基としては、例えば、スルホン基、カルボキシル基、リン酸基等のアニオン性基、又は、第1〜4級アミノ基、アミド基等のカチオン性基が挙げられる。   Examples of the hydrophilic group possessed by the hydrophilic group-containing polymer compound include an anionic group such as a sulfone group, a carboxyl group, and a phosphate group, or a cationic group such as a primary to quaternary amino group and an amide group. Can be mentioned.

アニオン性基を持つ親水性基含有高分子化合物の例としては、スチレンスルホン酸等のスルホン酸基を持つモノマー、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基を持つモノマー、リン酸2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のリン酸基を持つモノマーの群から選択されたモノマーを繰り返し単位とする重合体又は共重合体が挙げられる。また、カチオン性基を持つ親水性基含有高分子化合物の例としては、ビニルアミン、アクリルアミン等のアミノ基を持つモノマー、アクリルアミド等のアミド基を持つモノマーの群から選択されたモノマーを繰り返し単位とする重合体又は共重合体が挙げられる。   Examples of hydrophilic group-containing polymer compounds having an anionic group include monomers having a sulfonic acid group such as styrene sulfonic acid, monomers having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, 2-hydroxyethyl phosphate (meta ) A polymer or copolymer having a repeating unit of a monomer selected from the group of monomers having a phosphate group such as acrylate. Examples of the hydrophilic group-containing polymer compound having a cationic group include a monomer selected from the group of monomers having amino groups such as vinylamine and acrylamine, and monomers having amide groups such as acrylamide as repeating units. And a polymer or copolymer.

親水性基含有高分子化合物は、主鎖にπ共役系結合を持つことが好ましい。このような親水性基含有高分子化合物は、その化合物が持つ親水性基がπ共役系結合に対してドーパントとして機能するので、得られる導電性樹脂硬化物は前述したように自己ドープ電子伝導型の導電性を示す。したがって、親水性基含有高分子化合物が主鎖にπ共役系結合を持つ場合には、湿度に依存しない高い導電性を発現する導電性樹脂硬化物を得ることができる。したがって、このような導電性樹脂硬化物は、帯電防止性よりも高いレベルの導電性が要求される場合(例えば電磁波シールド性が要求される場合)に特に有用である。なお、このような親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基のうちドーパントとして機能しない親水性基は、イオン伝導型の導電性に寄与する。   The hydrophilic group-containing polymer compound preferably has a π-conjugated bond in the main chain. In such a hydrophilic group-containing polymer compound, since the hydrophilic group of the compound functions as a dopant for the π-conjugated bond, the obtained conductive resin cured product is a self-doped electron conduction type as described above. Conductivity. Therefore, when the hydrophilic group-containing polymer compound has a π-conjugated bond in the main chain, a cured conductive resin that exhibits high conductivity independent of humidity can be obtained. Accordingly, such a cured conductive resin is particularly useful when a higher level of conductivity than antistatic properties is required (for example, when electromagnetic shielding properties are required). In addition, the hydrophilic group which does not function as a dopant among the hydrophilic groups which such a hydrophilic group containing high molecular compound has contributes to electroconductivity of ion conduction type.

主鎖にπ共役系結合を持つ親水性基含有高分子化合物は、主鎖にπ共役系結合を持つ高分子化合物に親水性基を導入することにより得られ、具体的には重合の際に親水性基を持つπ共役系モノマーを用いること等により得られる。主鎖にπ共役系結合を持つ高分子化合物としては、正孔輸送型高分子化合物と電子輸送型高分子化合物とがある。正孔輸送型高分子化合物としては、ピラゾリン、アリールアミン、スチルベン、トリフェニルジアミン等のモノマーの高分子量体又はその高分子量体の誘導体が挙げられる。また、電子輸送型高分子化合物としては、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェンビニレン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリチエノ(3,4−チオフェン)、ポリジチエノ(3,4−、3’,4’−チオフェン)、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリアセン及び/又はこれらのの誘導体のほか、オキサジアゾール、アントラキノジメタン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、テトラシアノアンスラジノキメタン、フルオレノン、ジフェニルジシアノエチレン、ジフェノキノン、8−ヒドロキシキノリン等のモノマーの高分子量体、それらの高分子量体の誘導体又はそれらの高分子量体の金属錯体が挙げられる。   A hydrophilic group-containing polymer compound having a π-conjugated bond in the main chain can be obtained by introducing a hydrophilic group into a polymer compound having a π-conjugated bond in the main chain. It can be obtained by using a π-conjugated monomer having a hydrophilic group. Examples of the polymer compound having a π-conjugated bond in the main chain include a hole transport polymer compound and an electron transport polymer compound. Examples of the hole transport polymer compound include a high molecular weight monomer such as pyrazoline, arylamine, stilbene, and triphenyldiamine, or a derivative of the high molecular weight. Examples of the electron transport polymer compound include polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, polyparaphenylene, polyparaphenylene vinylene, polythiophene vinylene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polythieno (3,4-thiophene), In addition to polydithieno (3,4,3 ', 4'-thiophene), polyfluorene, polyaniline, polyacene and / or derivatives thereof, oxadiazole, anthraquinodimethane, benzoquinone, naphthoquinone, anthraquinone, tetracyanoanthra Examples include high molecular weight monomers of monomers such as dinomethane, fluorenone, diphenyldicyanoethylene, diphenoquinone, and 8-hydroxyquinoline, derivatives of these high molecular weight materials, and metal complexes of these high molecular weight materials.

親水性基含有高分子化合物において親水性基を持つモノマーの重合割合は、10モル%以上であることが好ましい。親水性基を持つモノマーの重合割合が10モル%未満である場合には、導電性樹脂硬化物の導電性が低下してしまい帯電防止性が得られない。なお、親水性基含有高分子化合物を構成する総てのモノマーが親水性基を持っていてもよい。   The polymerization ratio of the monomer having a hydrophilic group in the hydrophilic group-containing polymer compound is preferably 10 mol% or more. When the polymerization ratio of the monomer having a hydrophilic group is less than 10 mol%, the conductivity of the cured conductive resin is lowered and the antistatic property cannot be obtained. In addition, all the monomers which comprise a hydrophilic group containing high molecular compound may have a hydrophilic group.

親水性基含有高分子化合物の重量平均分子量の上限は、有機溶剤に対する溶解性又は分散性の観点から、親水性基含有高分子化合物の構造により異なる。例えば、主鎖にπ共役系結合を持たない親水性基含有高分子化合物は、重量平均分子量の上限が100万程度である。また、主鎖にπ共役系結合を持つ親水性基含有高分子化合物は、重量平均分子量の上限が50万程度である。それぞれの親水性基含有高分子化合物の重量平均分子量が上記の上限を超える場合には、親水性基に親油性基を結合させても有機溶剤に溶解又は分散し難くなる。   The upper limit of the weight average molecular weight of the hydrophilic group-containing polymer compound varies depending on the structure of the hydrophilic group-containing polymer compound from the viewpoint of solubility or dispersibility in an organic solvent. For example, the upper limit of the weight average molecular weight of a hydrophilic group-containing polymer compound having no π-conjugated bond in the main chain is about 1 million. Further, the upper limit of the weight average molecular weight of the hydrophilic group-containing polymer compound having a π-conjugated bond in the main chain is about 500,000. When the weight average molecular weight of each hydrophilic group-containing polymer exceeds the above upper limit, it becomes difficult to dissolve or disperse in an organic solvent even if a lipophilic group is bonded to the hydrophilic group.

また、親水性基含有高分子化合物の重量平均分子量の下限は、3千程度である。親水性基含有高分子化合物の重量平均分子量が3千未満である場合には、親水性基含有高分子化合物の分子量が低すぎて導電性樹脂硬化物の強度が弱くなってしまう。ここで、本明細書における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ分析(GPC)を用いて測定したポリエチレングリコール換算値である。   The lower limit of the weight average molecular weight of the hydrophilic group-containing polymer compound is about 3,000. When the weight average molecular weight of the hydrophilic group-containing polymer compound is less than 3,000, the molecular weight of the hydrophilic group-containing polymer compound is too low, and the strength of the cured conductive resin becomes weak. Here, the weight average molecular weight in this specification is a polyethylene glycol equivalent value measured using gel permeation chromatographic analysis (GPC).

本発明において、親水性基含有高分子化合物の親水性基には親油性基が結合している。その結果、この親水性基含有高分子化合物は有機溶剤に溶解又は分散し易くなり、導電性樹脂硬化物用組成物の溶媒として有機溶剤を使用することができるので、水分を含有しない導電性樹脂硬化物を得ることができる。また、親水性基に結合した親油性基をその後の硬化工程等で解離させることができるので、親水性基を露出させることができ、導電性の高い導電性樹脂硬化物を得ることができる。   In the present invention, a lipophilic group is bonded to the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound. As a result, the hydrophilic group-containing polymer compound is easily dissolved or dispersed in an organic solvent, and an organic solvent can be used as a solvent for the composition for a cured conductive resin. A cured product can be obtained. Moreover, since the lipophilic group couple | bonded with the hydrophilic group can be dissociated by a subsequent hardening process etc., a hydrophilic group can be exposed and a conductive resin hardened | cured material with high electroconductivity can be obtained.

親水性基に結合している親油性基としては、炭素数1〜20のアルキル基が挙げられる。このアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれでもよい。アルキル基の炭素数が20を超える場合には、親水性基含有化合物が有機溶剤に溶解又は分散し難くなってしまう。また、他の親油性基としては、バインダー樹脂成分の硬化性基と反応性のある官能基が結合したアルキル基を挙げることができる。このような親油性基が結合された親水性基含有高分子化合物はバインダー樹脂成分と架橋するので、得られる導電性樹脂硬化物の強度が向上する。ただし、このような親油性基は、バインダー樹脂成分の硬化性基と架橋反応した場合に親水性基から解離しないので、得られる導電性樹脂硬化物に要求される導電性が確保できる程度に親水性基に結合されていることが好ましい。   Examples of the lipophilic group bonded to the hydrophilic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. This alkyl group may be linear, branched or cyclic. When the carbon number of the alkyl group exceeds 20, the hydrophilic group-containing compound is difficult to dissolve or disperse in the organic solvent. Moreover, as another lipophilic group, the alkyl group which the functional group reactive with the sclerosing | hardenable group of a binder resin component can be mentioned. Since the hydrophilic group-containing polymer compound to which such a lipophilic group is bonded crosslinks with the binder resin component, the strength of the obtained conductive resin cured product is improved. However, since such a lipophilic group does not dissociate from the hydrophilic group when it crosslinks with the curable group of the binder resin component, it is hydrophilic to the extent that the conductivity required for the obtained cured conductive resin can be ensured. It is preferable that it is couple | bonded with the sex group.

親油性基は、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の総てに結合している必要はなく、親水性基含有高分子化合物が導電性樹脂硬化物用組成物に使用される有機溶剤に溶解又は分散する程度に結合していればよい。具体的な親油性基の結合量は、用いる有機溶剤に応じて適宜決定される。なお、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の一部にのみ親油性基が結合している場合には、乾燥工程及び硬化工程において親油性基が解離しなくても、得られる導電性樹脂硬化物は導電性を発現することがある。   The lipophilic group does not need to be bonded to all the hydrophilic groups of the hydrophilic group-containing polymer compound, and the hydrophilic group-containing polymer compound is an organic material used in the composition for a cured conductive resin. What is necessary is just to couple | bond together to such an extent that it melt | dissolves or disperses in a solvent. The specific binding amount of the lipophilic group is appropriately determined according to the organic solvent used. In addition, when the lipophilic group is bonded to only a part of the hydrophilic group possessed by the hydrophilic group-containing polymer compound, the conductivity obtained even if the lipophilic group does not dissociate in the drying step and the curing step. The cured resin may exhibit conductivity.

親水性基に親油性基を結合させる方法としては、親水性基をエステル化、エーテル化、アセチル化、トシル化、トリチル化、アルキルシリル化、アルキルカルボニル化等する方法が挙げられ、なかでもエステル化又はエーテル化する方法が好ましく挙げられる。エステル化又はエーテル化による親水性基及び親油性基の結合は酸素を介しているので結合エネルギーが弱く、親油性基が後の解離工程等により親水性基から解離し易くなる。エステル化により親水性基に親油性基を結合させるには、例えば、親水性基含有高分子化合物の親水性基を五塩化リンや塩化チオニル等の塩素化剤により塩素化し、その後、メタノールやエタノール等のアルコールによりエステル化するとよい。   Examples of the method for binding a lipophilic group to a hydrophilic group include methods for esterifying, etherifying, acetylating, tosylating, tritylating, alkylsilylating, alkylcarbonylating, etc. The method of making or etherifying is preferred. Since the bond between the hydrophilic group and the lipophilic group by esterification or etherification is via oxygen, the bond energy is weak, and the lipophilic group is easily dissociated from the hydrophilic group by a subsequent dissociation step or the like. In order to bond a lipophilic group to a hydrophilic group by esterification, for example, the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is chlorinated with a chlorinating agent such as phosphorus pentachloride or thionyl chloride, and then methanol or ethanol Esterification with an alcohol such as

導電性樹脂硬化物用組成物における親水性基含有高分子化合物の配合割合の下限は、親水性基含有高分子化合物が寄与する導電性の種類により異なる。例えばイオン伝導型の導電性に寄与する親水性基含有高分子化合物の配合割合の下限は、バインダー樹脂成分100重量部に対して、3重量部程度であることが好ましい。また、自己ドープ電子伝導型の導電性に寄与する親水性基含有高分子化合物の配合割合の下限は、バインダー樹脂成分100重量部に対して、3重量部程度であることが好ましい。親水性基含有高分子化合物の配合割合がそれぞれ上記の下限未満である場合には、得られる導電性樹脂硬化物の導電性が低くなり、帯電防止性が低下してしまう。ここで、特に、自己ドープ電子伝導型の導電性に寄与する親水性基含有高分子化合物の配合割合が10重量部以上である場合には、帯電防止性より高いレベル(例えば電磁波シールド性)の導電性を発現する導電性樹脂硬化物を得ることができる。   The lower limit of the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound in the composition for cured conductive resin varies depending on the type of conductivity to which the hydrophilic group-containing polymer compound contributes. For example, the lower limit of the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound that contributes to ion conductivity type conductivity is preferably about 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin component. Moreover, it is preferable that the minimum of the mixture ratio of the hydrophilic group containing high molecular compound which contributes to electroconductivity of self-doping electron conduction type is about 3 weight part with respect to 100 weight part of binder resin components. When the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound is less than the above lower limit, the conductivity of the obtained conductive resin cured product is lowered and the antistatic property is lowered. Here, particularly when the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound contributing to the conductivity of the self-doped electron conduction type is 10 parts by weight or more, the level is higher than the antistatic property (for example, electromagnetic wave shielding property). A cured conductive resin that exhibits electrical conductivity can be obtained.

親水性基含有高分子化合物の配合割合の上限は、90重量部程度であることが好ましい。親水性基含有高分子化合物の配合割合が90重量部を超える場合には、得られる導電性樹脂硬化物の強度が極端に低下してしまう。なお、導電性樹脂硬化物用組成物に更にπ共役系高分子化合物が含まれている場合にドーパントとして機能する親水性基含有高分子化合物の配合割合については、後述する。   The upper limit of the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound is preferably about 90 parts by weight. When the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound exceeds 90 parts by weight, the strength of the obtained conductive resin cured product is extremely lowered. In addition, the mixture ratio of the hydrophilic group containing high molecular compound which functions as a dopant when the (pi) conjugated polymer compound is further contained in the composition for cured conductive resins will be described later.

電離放射線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂は、バインダー樹脂として導電性樹脂硬化物用組成物に含有されている。これらの樹脂は、単独で用いられてもよく、また、混合して用いられてもよい。バインダー樹脂として用いられる樹脂は、得られる導電性樹脂硬化物の用途に応じて適宜選択される。例えば、得られる導電性樹脂硬化物が透明性が要求される光学シートやその被覆膜として用いられる場合には、導電性樹脂硬化物の全光線透過率が85%以上になるような樹脂がバインダー樹脂として選択される。   The ionizing radiation curable resin or thermosetting resin is contained in the composition for cured conductive resin as a binder resin. These resins may be used alone or as a mixture. Resin used as binder resin is suitably selected according to the use of the conductive resin hardened material obtained. For example, when the obtained conductive resin cured product is used as an optical sheet that requires transparency or a coating film thereof, a resin whose total light transmittance of the conductive resin cured product is 85% or more is used. Selected as a binder resin.

本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物は溶媒として有機溶剤が使用されているので、有機溶剤に溶解又は分散する多様な樹脂をバインダー樹脂として選択できる。なお、バインダー樹脂として選択できる樹脂には、主鎖にケイ素等の金属が含まれた所謂有機−無機ハイブリッドポリマーも含まれる。   Since the organic solvent is used as the solvent in the composition for cured conductive resin according to the first embodiment of the present invention, various resins that can be dissolved or dispersed in the organic solvent can be selected as the binder resin. The resin that can be selected as the binder resin includes so-called organic-inorganic hybrid polymers in which a metal such as silicon is contained in the main chain.

電離放射線硬化性樹脂は、電離放射線の照射により、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合等の重合反応又は架橋反応が進行する官能基(以下、電離放射線硬化性基という。)を持つ樹脂であり、導電性樹脂硬化物用組成物には電離放射線硬化性基を有するモノマーやオリゴマーとして含まれている。ここで「電離放射線」とは、分子を重合又は架橋できるエネルギー量子を有した紫外線、可視光線、電子線、β線、X線、γ線、α線等であり、通常は紫外線又は電子線が用いられる。   The ionizing radiation curable resin is a resin having a functional group (hereinafter referred to as an ionizing radiation curable group) that undergoes a polymerization reaction such as photo radical polymerization, photo cation polymerization, or photo anion polymerization or a crosslinking reaction upon irradiation with ionizing radiation. In the composition for cured conductive resin, it is contained as a monomer or oligomer having an ionizing radiation curable group. Here, “ionizing radiation” refers to ultraviolet rays, visible rays, electron beams, β rays, X rays, γ rays, α rays, etc. having energy quanta capable of polymerizing or crosslinking molecules. Used.

電離放射線硬化性基としては、アクリル基、ビニル基等のエチレン性不飽和結合、又は、エポキシ基、ビニルエーテル基若しくはオキセタニル基等の環状エーテル結合が好ましく挙げられる。このような電離放射線硬化性基を持つモノマーやオリゴマーは、電離放射線の照射により容易に光ラジカル重合又は光カチオン重合する。   Preferred examples of the ionizing radiation curable group include an ethylenically unsaturated bond such as an acrylic group and a vinyl group, or a cyclic ether bond such as an epoxy group, a vinyl ether group, and an oxetanyl group. Monomers and oligomers having such ionizing radiation curable groups readily undergo photoradical polymerization or photocationic polymerization upon irradiation with ionizing radiation.

エチレン性不飽和結合を持つオリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等を挙げることができる。なお、(メタ)アクリレートとは、メタクリレート又はアクリレートの意味である。   Examples of the oligomer having an ethylenically unsaturated bond include urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, triazine (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate. Can do. In addition, (meth) acrylate means a methacrylate or an acrylate.

エチレン性不飽和結合を持つ単官能モノマーとしては、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクトン、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン若しくはスチレン等のビニル系モノマー、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、パラクミルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジルメタクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリル系モノマーを挙げることができる。   Monofunctional monomers having an ethylenically unsaturated bond include vinyl monomers such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactone, vinylimidazole, vinylpyridine or styrene, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, butoxyethyl. (Meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl acrylate, paracumylphenoxyethyl (meth) acrylate , Nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, isoborni Examples include (meth) acrylic monomers such as (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl methacrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, and acryloylmorpholine. it can.

エチレン性不飽和結合を持つ多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。   Examples of polyfunctional monomers having an ethylenically unsaturated bond include ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.

環状エーテル結合を持つオリゴマーとしては、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ化合物等のエポキシ系オリゴマー、脂肪酸系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテル等のビニルエーテル系オリゴマー等を挙げることができる。   Examples of the oligomer having a cyclic ether bond include epoxy oligomers such as bisphenol type epoxy resins and novolak type epoxy compounds, vinyl ether type oligomers such as fatty acid type vinyl ethers and aromatic vinyl ethers.

環状エーテル結合を持つモノマーとしては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、1,2,8,9−ジエポキシリモネン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル、3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート等のエポキシ系モノマー、又は、下記化学式1〜3に示すオキセタン系モノマー等を挙げることができる。   Examples of the monomer having a cyclic ether bond include ethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, vinylcyclohexene dioxide, 1,2,8,9-diepoxy limonene, 3,4-epoxycyclohexyl methyl, 3 ′, 4 ′. -Epoxy monomers such as epoxycyclohexanecarboxylate and bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, or oxetane monomers represented by the following chemical formulas 1 to 3 can be exemplified.

Figure 0004821152
Figure 0004821152

(式中、R1は水素、フッ素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基又はフリル基を表し、mは1〜4の整数を表し、Zは酸素又は硫黄を表し、R2はmの値に応じて1〜4価の有機基を表し、nは1〜5の整数を表し、pは0〜2の整数を表し、R3は水素又は不活性な1価の有機基を表し、R4は加水分解可能な官能基を表す。) (Wherein R1 represents hydrogen, fluorine, alkyl group, fluoroalkyl group, allyl group, aryl group or furyl group, m represents an integer of 1 to 4, Z represents oxygen or sulfur, and R2 represents m Depending on the value, it represents a 1 to 4 valent organic group, n represents an integer of 1 to 5, p represents an integer of 0 to 2, R3 represents hydrogen or an inert monovalent organic group, R4 Represents a hydrolyzable functional group.)

上記化学式1〜3に示すオキセタン系モノマーにおいて、R1となるアルキル基又はフルオロアルキル基は、その炭素数が通常1〜6程度であり、そのようなアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロキル基、ブチル基等が挙げられる。また、上記化学式1〜3に示すオキセタン系モノマーにおいて、R1となるアリール基は、通常フェニル基又はナフチル基等であり、これらのアリール基はアルキル基等の置換基で置換されていてもよい。また、上記化学式1に示すオキセタン系モノマーおいて、R2で表される有機基としては、例えば、mが1の場合はアルキル基又はフェニル基等が挙げられ、mが2又は3の場合は炭素数1〜12の直鎖状若しくは分枝状のアルキレン基又は直鎖状若しくは分枝状のポリアルキレンオキシ基等が挙げられ、mが4の場合はメチル基又はmが2若しくは3の場合に適用される有機基と類似の多価官能基が挙げられる。   In the oxetane monomers represented by the above chemical formulas 1 to 3, the alkyl group or fluoroalkyl group to be R1 usually has about 1 to 6 carbon atoms. Examples of such an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and a prokyl group. Group, butyl group and the like. In the oxetane monomers represented by the above chemical formulas 1 to 3, the aryl group to be R1 is usually a phenyl group or a naphthyl group, and these aryl groups may be substituted with a substituent such as an alkyl group. In the oxetane-based monomer represented by the above chemical formula 1, the organic group represented by R2 includes, for example, an alkyl group or a phenyl group when m is 1, and a carbon when m is 2 or 3. Examples include a linear or branched alkylene group of 1 to 12 or a linear or branched polyalkyleneoxy group. When m is 4, a methyl group or when m is 2 or 3 The polyfunctional group similar to the applied organic group is mentioned.

また、環状エーテル結合を持つポリマーとしては、特開平7−247313号公報に記載された末端に下記式3に示すエポキシ含有基を持つエポキシ系マクロモノマーや、特開平7−309856号公報に記載された末端に下記式4に示すオキセタン含有基を持つオキセタン系マクロモノマーや、市販品としてSANBO AR−G(商品名:株式会社三宝化学研究所)、E−154等の各種エポキシ樹脂(商品名:ジャパンエポキシ株式会社)、エポフレンド(商品名:ダイセル化学工業株式会社)が挙げられる。   Examples of the polymer having a cyclic ether bond include an epoxy macromonomer having an epoxy-containing group represented by the following formula 3 at the terminal described in JP-A-7-247313 and JP-A-7-309856. In addition, oxetane-based macromonomers having an oxetane-containing group represented by the following formula 4 at the terminal, and various epoxy resins such as SANBO AR-G (trade name: Sanpo Chemical Laboratory Co., Ltd.) and E-154 as commercial products (trade names: Japan Epoxy Co., Ltd.) and Epofriend (trade name: Daicel Chemical Industries, Ltd.).

Figure 0004821152
Figure 0004821152

(但し、式4及び5において、Aは、水素原子、フッ素原子及び炭素数1〜6のアルキル基から選ばれる1種の置換基である。pは0又は1である。pが0の場合、qは1〜8の整数を示し、rは0又は1である。pが1の場合、qは1〜5の整数を示し、rは1〜4の整数を示す。−C2q−は、直鎖状アルキレン基又は分枝状アルキレン基を示す。) (However, in Formulas 4 and 5, A is one type of substituent selected from a hydrogen atom, a fluorine atom, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. P is 0 or 1. When p is 0. , Q represents an integer of 1 to 8, and r is 0 or 1. When p is 1, q represents an integer of 1 to 5, and r represents an integer of 1 to 4. -C p H 2q -Represents a linear alkylene group or a branched alkylene group.

電離放射線として紫外線を用いる場合には、導電性樹脂硬化物用組成物に光重合開始剤を添加する。   When ultraviolet rays are used as the ionizing radiation, a photopolymerization initiator is added to the composition for a cured conductive resin.

電離放射線硬化性基がエチレン性不飽和結合である場合の光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物等が用いられる。このような光重合開始剤の具体的な例としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケトン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン等が挙げられ、これらのうち、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、又は、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンを好ましく挙げることができる。特に、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン又は2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンは、添加量が少量でも紫外線の照射による重合反応が開始し促進されるので好ましい。これらの光重合開始剤は、単独で用いられてもよく、また、複数種が組み合わされて用いられてもよい。市販されている光ラジカル重合開始剤の好ましい例として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンであるチバスペシャリティーケミカルズ株式会社製のイルガキュアー184(商品名)を挙げることができる。なお、光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性樹脂成分100重量部に対して、通常3〜15重量部である。   As the photopolymerization initiator when the ionizing radiation curable group is an ethylenically unsaturated bond, acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldiones Compounds, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoroamine compounds and the like are used. Specific examples of such photopolymerization initiators include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, benzyl Dimethyl ketone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, benzophenone, etc., among which 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone or 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl]- A preferred example is 2-morpholinopropan-1-one. In particular, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone or 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one starts a polymerization reaction by irradiation with ultraviolet rays even in a small amount. It is preferable because it is promoted. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Preferable examples of commercially available photo radical polymerization initiators include Irgacure 184 (trade name) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., which is 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone. In addition, the addition amount of a photoinitiator is 3-15 weight part normally with respect to 100 weight part of ionizing radiation curable resin components.

電離放射線硬化性基が環状エーテル結合である場合の光重合開始剤としては、化学式ArN2+で示されるジアゾニウム塩、化学式Rで示されるスルホニウム塩、化学式Rで示されるヨードニウム塩等のオニウム塩が好ましく用いられる。ただし、式中、Arはアリール基を表し、Rはアリール基又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、Zは非塩基性で且つ非求核性の陰イオンを表す。上記オニウム塩において、Ar又はRで表されるアリール基は、通常フェニル基やナフチル基であり、これらのアリール基はアルキル基等の置換基で置換されていてもよい。また、分子内にRが複数ある場合には、それぞれ同一でもよく、また、異なっていてもよい。また、上記オニウム塩において、Zで表される陰イオンとしては、テトラフルオロボレートイオン(BF )、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン(B(C )、ヘキサフルオロホスフェートイオン(PF )、ヘキサフルオロアーセネートイオン(AsF )、ヘキサフルオロアンチモネートイオン(SbF )、ヘキサクロロアンチモネートイオン(SbCl )、硫酸水素イオン(HSO )、過塩素酸イオン(ClO )等が挙げられる。市販されている好ましいジアゾニウム塩としてはダウケミカル日本株式会社製のサイラキュアUVI−6990(商品名)が挙げられ、市販されている好ましいスルホニウム塩としては旭電化工業株式会社製のアデカオプトマーSP−150(商品名)やアデカオプトマーSP−170(商品名)が挙げられ、市販されている好ましいヨードニウム塩としてはローディアジャパン株式会社製のRHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074(商品名)等が挙げられる。なお、この光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性樹脂成分100重量部に対して、通常0.1〜20重量部である。 Examples of the photopolymerization initiator when the ionizing radiation curable group is a cyclic ether bond include a diazonium salt represented by the chemical formula ArN 2+ Z , a sulfonium salt represented by the chemical formula R 3 S + Z , and a chemical formula R 2 I + Z - onium salts such as iodonium salts represented by is preferably used. In the formula, Ar represents an aryl group, R represents an aryl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and Z represents a non-basic and non-nucleophilic anion. In the onium salt, the aryl group represented by Ar or R is usually a phenyl group or a naphthyl group, and these aryl groups may be substituted with a substituent such as an alkyl group. Further, when there are a plurality of R in the molecule, they may be the same or different. In the onium salt, the anion represented by Z includes tetrafluoroborate ion (BF 4 ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 ), hexafluoro Phosphate ion (PF 6 ), hexafluoroarsenate ion (AsF 6 ), hexafluoroantimonate ion (SbF 6 ), hexachloroantimonate ion (SbCl 6 ), hydrogen sulfate ion (HSO 4 ), peroxy Examples include chlorate ions (ClO 4 ). A preferred commercially available diazonium salt is Syracure UVI-6990 (trade name) manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd., and a preferred sulfonium salt commercially available is Adekaoptomer SP-150 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. (Trade name) and Adeka optomer SP-170 (trade name) are listed, and examples of a commercially available iodonium salt include RHODROSIL PHOTOINITITOR 2074 (trade name) manufactured by Rhodia Japan. In addition, the addition amount of this photoinitiator is 0.1-20 weight part normally with respect to 100 weight part of ionizing radiation curable resin components.

熱硬化性樹脂は、加熱により同種又は他種の官能基との間で重合反応や架橋反応が進行する官能基(以下、熱硬化性基という)を持つ樹脂であり、導電性樹脂硬化物用組成物にはモノマーやオリゴマーとして含まれている。   A thermosetting resin is a resin having a functional group (hereinafter referred to as a thermosetting group) that undergoes a polymerization reaction or a cross-linking reaction with the same or other types of functional groups by heating. The composition contains monomers and oligomers.

熱硬化性樹脂のモノマー又はオリゴマーとしては、アルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアナート基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、ビニル基、シアノ基、メチロール基又は活性メチレン基等の熱硬化性基を持つモノマー又はオリゴマーが挙げられる。なお、熱硬化性基は、ブロックイソシアナート基のように、反応性を有する官能基にブロック剤が結合しており、加熱されるとブロック剤の分解反応が進行して重合性及び架橋性を示す官能基でもよい。また、熱硬化性樹脂のモノマーとしては、通常カップリング剤として用いられる有機ケイ素化合物(ケイ素のアルコキシド又はシランカップリング剤)、有機チタン化合物(チタネートカップリング剤)又は有機アルミニウム化合物等の有機金属化合物を用いることもできる。   As a thermosetting resin monomer or oligomer, alkoxy group, hydroxyl group, carboxyl group, amino group, epoxy group, isocyanate group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, vinyl group, cyano group, Examples thereof include monomers or oligomers having a thermosetting group such as a methylol group or an active methylene group. In addition, the thermosetting group has a blocking agent bonded to a reactive functional group such as a block isocyanate group, and when heated, the decomposition reaction of the blocking agent proceeds to increase the polymerizability and crosslinkability. The functional group shown may be sufficient. In addition, as a thermosetting resin monomer, an organometallic compound such as an organosilicon compound (silicon alkoxide or silane coupling agent), an organotitanium compound (titanate coupling agent), or an organoaluminum compound that is usually used as a coupling agent. Can also be used.

有機ケイ素化合物としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−シアノエチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。また、アルキル基が2つ置換している有機ケイ素化合物としては、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランを挙げることができる。これらの有機ケイ素化合物のうち反応性基を有する有機ケイ素化合物は、他のモノマーやオリゴマーと硬化反応して強固に結合し易いので、得られる導電性樹脂硬化物の強度が向上する。市販されている好ましい有機ケイ素化合物としては、荒川化学工業株式会社製のコンポセラン(商品名)やユリアーノ(商品名)を挙げることができる。   Examples of organosilicon compounds include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxy Silane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltriacetoxy Silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrieth Sisilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3- Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxy Silane, 3-acryloyloxypropyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxy Silane, can be cited 3-cyanoethyl triethoxysilane. Examples of the organosilicon compound in which two alkyl groups are substituted include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, and 3-glycidyl. Oxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, 3-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, 3-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3 -Methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane , 3-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, 3-aminopropyl methyl dimethoxy silane, 3-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane. Among these organosilicon compounds, an organosilicon compound having a reactive group is easily cured and strongly bonded to other monomers and oligomers, so that the strength of the obtained conductive resin cured product is improved. Preferred examples of commercially available organosilicon compounds include Composeran (trade name) and Juliano (trade name) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.

有機チタン化合物としては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−n−プロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラ−sec−ブトキシチタン、テトラ−tert−ブトキシチタン等を挙げることができる。市販されている好ましい有機チタン化合物としては、味の素株式会社製のプレンアクトKR−TTS、KR−46B、KR−55、KR−41B、KR−38S、KR−138S、KR−238S、338X、KR−44、KR−9SA、KR−ET(それぞれ商品名)等を挙げることができる。   Examples of the organic titanium compound include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, tetra-tert-butoxy titanium, and the like. Can do. Preferred organic titanium compounds that are commercially available include Anomoto Co., Ltd. Preneact KR-TTS, KR-46B, KR-55, KR-41B, KR-38S, KR-138S, KR-238S, 338X, KR-44. , KR-9SA, KR-ET (trade names) and the like.

上記に例示した熱硬化性基を持つモノマーやオリゴマーは、反応性を有するものが組み合わされて、導電性樹脂硬化物用組成物に含有される。このようなモノマーやオリゴマーを組み合わせて得られる熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、有機−無機ハイブリッドポリマー等を挙げることができる。   The monomers and oligomers having the thermosetting groups exemplified above are combined in the reactive ones and contained in the composition for cured conductive resin. Examples of thermosetting resins obtained by combining such monomers and oligomers include phenol resins, epoxy resins, urea resins, melamine resins, and organic-inorganic hybrid polymers.

本発明の導電性樹脂硬化物用組成物には、π共役系高分子化合物が更に含まれていることが好ましい。   The composition for cured conductive resin of the present invention preferably further contains a π-conjugated polymer compound.

π共役系高分子化合物とは、主鎖にπ共役系構造を有する電子伝導型の導電性を発現する高分子化合物であり、電子又は正孔がドープされると高い導電性を示す。導電性樹脂硬化物用組成物にこのようなπ共役系高分子化合物が含まれている場合には、親水性基含有高分子化合物の親水性基がπ共役系高分子化合物に対してドーパントとして機能するので、得られる導電性樹脂硬化物の導電性を向上させることができる。そのため、このようにして得られる導電性樹脂硬化物は、帯電防止性よりも高いレベルの導電性が要求される場合(例えば電磁波シールド性が要求される場合)に特に有用である。以下、π共役系高分子化合物とそのπ共役系高分子化合物にドープする親水性基含有高分子化合物とを「電子伝導性材料」という。   The π-conjugated polymer compound is a polymer compound that exhibits electron conductivity type conductivity having a π-conjugated structure in the main chain, and exhibits high conductivity when doped with electrons or holes. When such a π-conjugated polymer compound is contained in the composition for cured conductive resin, the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound serves as a dopant for the π-conjugated polymer compound. Since it functions, the electroconductivity of the obtained conductive resin cured | curing material can be improved. Therefore, the cured conductive resin thus obtained is particularly useful when a level of conductivity higher than the antistatic property is required (for example, when electromagnetic shielding properties are required). Hereinafter, the π-conjugated polymer compound and the hydrophilic group-containing polymer compound doped into the π-conjugated polymer compound are referred to as “electron conductive material”.

π共役系高分子化合物としては、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリパラフェニレン、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリアセン等の化合物又はそれらの化合物の誘導体等が挙げられ、なかでもポリチオフェン又はその誘導体を用いることが好ましい。ポリチオフェンやその誘導体は、他のπ共役系高分子化合物と比較して結合エネルギーが高いので、乾燥工程や硬化工程における加熱や電離放射線の照射等により分解し難いという利点がある。ポリチオフェン誘導体としては、ポリチオフェンビニレン、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリチエノ(3,4−チオフェン)、ポリジチエノ(3,4−、3’,4’−チオフェン)等が挙げられる。ポリチオフェンをπ共役系高分子化合物として用いる場合には、親水性基含有高分子化合物の親水性基が、スルホン基、カルボキシル基又はりん酸基等のアニオン性基であることが好ましい。電子伝導性材料を構成するπ共役系高分子化合物と親水性基含有高分子化合物との好ましい組合せとしては、ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との組合せが挙げられる。   Examples of the π-conjugated polymer compound include compounds such as polythiophene, polyacetylene, polypyrrole, polyparaphenylene, polyfluorene, polyaniline, and polyacene, and derivatives of these compounds. Among them, polythiophene or a derivative thereof is preferably used. . Since polythiophene and its derivatives have higher binding energy than other π-conjugated polymer compounds, there is an advantage that they are difficult to be decomposed by heating in the drying process or curing process, irradiation with ionizing radiation, and the like. Examples of the polythiophene derivative include polythiophene vinylene, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), polythieno (3,4-thiophene), polydithieno (3,4,3 ', 4'-thiophene) and the like. When polythiophene is used as the π-conjugated polymer compound, the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is preferably an anionic group such as a sulfone group, a carboxyl group, or a phosphate group. A preferable combination of the π-conjugated polymer compound and the hydrophilic group-containing polymer compound constituting the electron conductive material includes a combination of polythiophene and polystyrene sulfonic acid.

π共役系高分子化合物は、重量平均分子量が500〜100万であることが好ましい。重量平均分子量が100万を超える場合には、π共役系高分子化合物が有機溶剤に溶解又は分散し難くなってしまう。また、重量平均分子量が500未満である場合には、得られる導電性樹脂硬化物の強度が低下してしまう。   The π-conjugated polymer compound preferably has a weight average molecular weight of 500 to 1,000,000. When the weight average molecular weight exceeds 1,000,000, it becomes difficult for the π-conjugated polymer compound to be dissolved or dispersed in the organic solvent. Moreover, when a weight average molecular weight is less than 500, the intensity | strength of the obtained conductive resin hardened | cured material will fall.

電子伝導性材料中のπ共役系高分子化合物に対する親水性基含有高分子化合物の配合割合は、π共役系高分子化合物100重量部に対して、1〜150重量部であることが好ましく、10〜100重量部であることがより好ましい。親水性基含有高分子化合物の配合割合が150重量部を超える場合には、湿度の変化に弱いというイオン伝導性が支配的になるという不具合がある。また、親水性基含有高分子化合物の配合割合が1重量部未満である場合には、親水性基含有高分子化合物がドーパントとして十分に機能せず、所望の導電性が得られないという不具合がある。   The blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound to the π-conjugated polymer compound in the electron conductive material is preferably 1 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the π-conjugated polymer compound. More preferably, it is -100 weight part. When the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound exceeds 150 parts by weight, there is a problem that ion conductivity that is weak against changes in humidity becomes dominant. In addition, when the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound is less than 1 part by weight, there is a problem that the hydrophilic group-containing polymer compound does not sufficiently function as a dopant and desired conductivity cannot be obtained. is there.

電子伝導性材料の配合割合は、得られる導電性樹脂硬化物を帯電防止の用途に用いる場合に、バインダー樹脂成分100重量部に対して、1重量部以上であることが好ましく、10重量部以上であることが更に好ましい。また、得られる導電性樹脂硬化物を電磁波シールドの用途に用いる場合に、バインダー樹脂成分100重量部に対して、5重量部以上であることが好ましく、15重量部以上であることが更に好ましい。なお、電子伝導性材料の配合割合の上限は、バインダー樹脂成分100重量部に対して、通常200重量部程度であり、150重量部程度であることが好ましく、100重量部程度であることが更に好ましい。電子伝導性材料の配合割合が200重量部を超える場合には、得られる導電性樹脂硬化物の強度が極端に低下してしまう。   The blending ratio of the electron conductive material is preferably 1 part by weight or more with respect to 100 parts by weight of the binder resin component when the obtained conductive resin cured product is used for antistatic use. More preferably. Moreover, when using the obtained conductive resin hardened | cured material for the use of an electromagnetic wave shield, it is preferable that it is 5 weight part or more with respect to 100 weight part of binder resin components, and it is still more preferable that it is 15 weight part or more. In addition, the upper limit of the blending ratio of the electron conductive material is usually about 200 parts by weight, preferably about 150 parts by weight, more preferably about 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin component. preferable. When the blending ratio of the electron conductive material exceeds 200 parts by weight, the strength of the obtained conductive resin cured product is extremely lowered.

本発明の第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物には、溶媒として多様な有機溶剤を含有させることができる。   The composition for cured conductive resin according to the first embodiment of the present invention can contain various organic solvents as a solvent.

本発明においては、溶媒として水又は水を大量に含んだ混合溶剤を使用しないので、得られる導電性樹脂硬化物に水が含有することによる弊害が生じないという効果がある。また、特に、この導電性樹脂硬化物用組成物を用いて導電性樹脂硬化膜を形成する場合には、導電性樹脂硬化膜の下地となる基材や他の層を膨潤させる有機溶剤を溶媒として選択し易くなり、導電性樹脂硬化膜とその下地となる基材や他の層との密着性を向上させることができる。これに対し、従来の導電性膜用の樹脂組成物では、溶媒に水又は水を含む混合溶剤を用いるので、下地となる基材等を膨潤させることができず、このような密着性向上の効果は得られなかった。   In the present invention, since water or a mixed solvent containing a large amount of water is not used as a solvent, there is an effect that no adverse effect due to the water contained in the obtained conductive resin cured product occurs. In particular, when a conductive resin cured film is formed using this composition for a cured conductive resin, an organic solvent that swells the base material and other layers as the base of the conductive resin cured film is used as a solvent. As a result, the adhesion between the cured conductive resin film and the base material or other layer serving as the base can be improved. On the other hand, in the conventional resin composition for conductive films, water or a mixed solvent containing water is used as a solvent. The effect was not obtained.

有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;又はこれらの混合溶剤等を用いることができる。なお、有機溶剤には、導電性樹脂硬化物と基材等との密着性又は導電性樹脂硬化物が用いられる装置の性能に影響を及ぼさない範囲で微量の水が含まれていてもよい。例えば、有機溶剤に含まれる水の含有量が3重量%以下である場合には、上記の密着性は低下しない。ただし、微量の水分でも性能が低下してしまう装置(例えば有機エレクトロルミネッセンス装置等)に導電性樹脂硬化物が使用される場合には、水を全く含まない有機溶剤で導電性樹脂硬化物用組成物を調整することが好ましい。   Examples of the organic solvent include alcohols such as isopropyl alcohol, methanol, and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; halogenated hydrocarbons; toluene, xylene, and the like Aromatic hydrocarbons; or a mixed solvent thereof can be used. The organic solvent may contain a small amount of water as long as it does not affect the adhesion between the cured conductive resin and the substrate or the performance of the apparatus in which the cured conductive resin is used. For example, when the content of water contained in the organic solvent is 3% by weight or less, the above adhesion does not decrease. However, when a cured conductive resin is used in a device (for example, an organic electroluminescence device) whose performance deteriorates even with a small amount of moisture, the composition for the cured cured resin with an organic solvent that does not contain water at all. It is preferable to adjust things.

有機溶剤の沸点は、120℃以下であることが好ましい。有機溶剤の沸点が120℃を超える場合には、導電性樹脂硬化物用組成物を取り扱い難くなってしまい、また、特に導電性樹脂硬化物用組成物で塗膜を形成する場合に乾燥工程において基材に悪影響を及ぼすおそれがある。   The boiling point of the organic solvent is preferably 120 ° C. or lower. When the boiling point of the organic solvent exceeds 120 ° C., it becomes difficult to handle the composition for a cured conductive resin, and particularly in the drying step when a coating film is formed with the composition for a cured cured resin. May adversely affect the substrate.

また、有機溶剤の配合割合は、固形分を均一に溶解又は分散させることができ、調製後の導電性樹脂硬化物用組成物を保存等した場合に固形分が凝集せず、且つ、導電性樹脂硬化物用組成物の粘度が形成工程において塗膜又は成形体に形成され易い程度になるように、適宜決定される。具体的な有機溶剤の配合割合は、有機溶剤と固形分との合計量を100重量部とした場合に、通常50〜95.5重量部であり、好ましくは70〜90重量部である。ここで、固形分には、親水性基含有高分子化合物、バインダー樹脂成分及び各種添加剤が含まれ、導電性樹脂硬化物用組成物にπ共役系高分子化合物が含有されている場合には更にπ共役系高分子化合物が含まれる。   Further, the blending ratio of the organic solvent can uniformly dissolve or disperse the solid content, and the solid content does not aggregate when the composition for a cured cured resin is prepared. The viscosity of the composition for cured resin is appropriately determined so as to be easily formed into a coating film or a molded body in the forming step. The specific blending ratio of the organic solvent is usually 50 to 95.5 parts by weight, preferably 70 to 90 parts by weight when the total amount of the organic solvent and the solid content is 100 parts by weight. Here, the solid content includes a hydrophilic group-containing polymer compound, a binder resin component and various additives, and when the π-conjugated polymer compound is contained in the composition for cured conductive resin Further, a π-conjugated polymer compound is included.

本発明の導電性樹脂硬化物を耐擦傷性、強度等の性能を向上させる目的で使用する、所謂「ハードコート層」(JIS 5600−5−4:1999で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものをいう。)として使用する場合は、バインダー成分としては、先に挙げた電離放射線硬化型樹脂組成物を使用して形成することが好まい。ハードコート層としての硬化時の膜厚は、0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、ハードコート層としての機能を十分に発揮することができる。   The so-called “hard coat layer” (JIS 5600-5-4: 1999) is used to improve the performance such as scratch resistance and strength of the cured conductive resin of the present invention. When it is used as a binder component, it is preferable that the binder component is formed using the ionizing radiation curable resin composition mentioned above. The film thickness upon curing as the hard coat layer is preferably in the range of 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. When the film thickness is in this range, the function as the hard coat layer can be sufficiently exhibited.

本発明の導電性樹脂硬化物用組成物には、得られる導電性樹脂硬化物の導電性を損なわない範囲で、充填剤又は樹脂ビーズ等が更に含まれていることが好ましい。また、本発明の導電性樹脂硬化物用組成物には、必要に応じて、着色剤、硬化剤、架橋剤、紫外線遮蔽剤、紫外線吸収剤、表面調整剤(レベリング剤)等の各種添加剤が含まれていてもよい。   It is preferable that the composition for cured conductive resin of the present invention further contains a filler, resin beads, or the like as long as the conductivity of the obtained cured cured resin is not impaired. In addition, various additives such as a colorant, a curing agent, a crosslinking agent, an ultraviolet shielding agent, an ultraviolet absorber, and a surface conditioner (leveling agent) are added to the composition for cured conductive resin of the present invention as necessary. May be included.

充填剤としては、無機微粒子又は有機微粒子を挙げることができる。導電性樹脂硬化物用組成物に充填剤として無機微粒子が含まれている場合には、得られる導電性樹脂硬化物の強度が向上し、導電性樹脂硬化物用組成物に充填剤として有機微粒子が含まれている場合には、得られる導電性樹脂硬化物の弾性が向上する。例えば、充填剤として無機微粒子が含まれている場合には、導電性を有するハードコート層として好ましく用いられる導電性樹脂硬化物を得ることができる。   Examples of the filler include inorganic fine particles or organic fine particles. When inorganic fine particles are contained as a filler in the composition for a cured conductive resin, the strength of the resulting cured conductive resin is improved, and the organic fine particles are used as a filler in the composition for a cured cured resin. When is contained, the elasticity of the obtained conductive resin cured product is improved. For example, when inorganic fine particles are included as a filler, a cured conductive resin that is preferably used as a hard coat layer having conductivity can be obtained.

無機微粒子は、金属若しくはその酸化物、その窒化物、その硫化物又はそのハロゲン化物等の無機化合物等で形成されている。無機微粒子を形成する無機化合物は、2種以上の金属を含むものでもよい。そのような無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、ジルコニア、セリア、酸化亜鉛、酸化インジウム錫(ITO)、酸化アンチモン錫(ATO)、酸化亜鉛錫(AZO)、フッ素ドープ酸化インジウム錫(FTO)、金、銀、白金、銅等の微粒子等が用いられる。これらのなかでも、得られる導電性樹脂硬化物の屈折率を調整する観点からは、チタニア、ジルコニア、セリア、酸化亜鉛の微粒子を用いることが好ましく、また、得られる導電性樹脂硬化物の導電性を向上させる観点からは、酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、錫ドープ酸化アンチモン、酸化アンチモン、錫ドープ酸化亜鉛、金、銀、白金、銅の導電性微粒子を用いることが好ましい。   The inorganic fine particles are formed of an inorganic compound such as a metal or an oxide thereof, a nitride thereof, a sulfide thereof or a halide thereof. The inorganic compound forming the inorganic fine particles may contain two or more kinds of metals. Examples of such inorganic fine particles include silica, alumina, zirconia, titania, zirconia, ceria, zinc oxide, indium tin oxide (ITO), antimony tin oxide (ATO), zinc tin oxide (AZO), fluorine-doped indium tin oxide ( FTO), fine particles such as gold, silver, platinum and copper are used. Among these, from the viewpoint of adjusting the refractive index of the resulting cured cured resin, it is preferable to use fine particles of titania, zirconia, ceria, zinc oxide, and the conductivity of the obtained cured cured resin. From the viewpoint of improving the above, it is preferable to use conductive fine particles of tin oxide, tin-doped indium oxide, tin-doped antimony oxide, antimony oxide, tin-doped zinc oxide, gold, silver, platinum, or copper.

これら無機微粒子は、導電性樹脂硬化物の屈折率を調整する必要がある際にも好ましく用いられる。屈折率を低下させるためには、屈折率が1.55以下の無機微粒子が好ましく用いられる。そうした無機微粒子としては、例えば、アルミナAl23(屈折率1.53)、シリカSiO2(屈折率1.46)、フッ化マグネシウムMgF2(屈折率1.38)、フッ化カルシウムCaF2(屈折率1.36)等を例示することができ、これらの中から上記したように、溶剤又はモノマー及び/又はオリゴマー中にコロイド状分散可能なものを選択して用いるのが好ましい。特に低い屈折率が要求される場合には、上記例示の無機微粒子のなかでも、コロイダルシリカ(SiO2)微粒子を用いるのが好ましい。また、塗膜に充分な硬度を付与することが優先される場合には、アルミナ(Al23)微粒子を用いるのが好ましい。 These inorganic fine particles are also preferably used when it is necessary to adjust the refractive index of the cured conductive resin. In order to reduce the refractive index, inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or less are preferably used. Examples of such inorganic fine particles include alumina Al 2 O 3 (refractive index 1.53), silica SiO 2 (refractive index 1.46), magnesium fluoride MgF 2 (refractive index 1.38), calcium fluoride CaF 2. (Refractive index 1.36) and the like can be exemplified. Among them, as described above, it is preferable to select and use a colloidally dispersible solvent or monomer and / or oligomer. When a particularly low refractive index is required, it is preferable to use colloidal silica (SiO 2 ) fine particles among the inorganic fine particles exemplified above. In addition, when priority is given to imparting sufficient hardness to the coating film, it is preferable to use alumina (Al 2 O 3 ) fine particles.

無機微粒子として、外殻層を有し、内部が多孔質又は空洞となっている無機微粒子が好ましく使用される。こうした無機微粒子は、内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造であるので、その気体が屈折率1.0の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の空気の占有率に比例して屈折率が低下している。こうした無機微粒子の具体的としては、市販品である日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中の多孔質シリカ微粒子の集合体、また、日産化学工業株式会社製で、シリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)、また、触媒化成工業株式会社製の中空コロイダルシリカを挙げることができ、それらの中から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。   As the inorganic fine particles, inorganic fine particles having an outer shell layer and porous or hollow inside are preferably used. Such inorganic fine particles have a structure in which a gas is filled and / or a porous structure containing a gas. Therefore, when the gas is air having a refractive index of 1.0, the fine particles are contained in the fine particles in comparison with the original refractive index of the fine particles. The refractive index decreases in proportion to the air occupation ratio. Specific examples of such inorganic fine particles include aggregates of porous silica fine particles in the product name Nipsil and Nipgel manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd., which are commercially available products, and manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Colloidal silica UP series (trade name) having a structure connected in a shape, and hollow colloidal silica manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd. can be exemplified, and among them, those within the preferred particle diameter range of the present invention Can be used.

屈折率を向上させるためには、屈折率が1.46〜2.00の範囲内の無機微粒子で調整することができる。用いる無機微粒子の粒子径は、100nm以下であることが好ましい。このような無機微粒子の具体例(かっこ内は屈折率を示す)としては、酸化亜鉛(1.90)、チタニア(2.3〜2.7)、セリア(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95)、アンチモンドープ酸化スズ(1.80)、イットリア(1.87)、ジルコニア(2.0)等が挙げられる。   In order to improve the refractive index, the refractive index can be adjusted with inorganic fine particles in the range of 1.46 to 2.00. The particle diameter of the inorganic fine particles used is preferably 100 nm or less. Specific examples of such inorganic fine particles (in parentheses indicate refractive index) include zinc oxide (1.90), titania (2.3 to 2.7), ceria (1.95), tin-doped indium oxide ( 1.95), antimony-doped tin oxide (1.80), yttria (1.87), zirconia (2.0) and the like.

有機微粒子としては、ポリオレフィン類、フッ素系ポリマー類、ポリスルホン類、ポリエステル類、ポリビニルアセタール類、ポリビニルアルコール類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリアクリル類、ポリスチレン類、ポリケトン類、シリコーン類、ポリ乳酸類、セルロース類等の重合物やこれらの共重合物等からなる微粒子が挙げられる。有機微粒子は、導電性樹脂硬化物の導電性を向上させる観点から、導電性無機物の塗膜又はその有機微粒子よりも粒径の小さい上記の導電性無機微粒子で被覆されていることが好ましい。   Organic fine particles include polyolefins, fluoropolymers, polysulfones, polyesters, polyvinyl acetals, polyvinyl alcohols, polyamides, polyimides, polyurethanes, polyacryls, polystyrenes, polyketones, silicones, poly Fine particles composed of a polymer such as lactic acid or cellulose, or a copolymer thereof. From the viewpoint of improving the conductivity of the cured conductive resin, the organic fine particles are preferably coated with a conductive inorganic coating film or the above-described conductive inorganic fine particles having a particle diameter smaller than that of the organic fine particles.

充填剤としては、導電性樹脂硬化物の導電性を向上させる観点から、導電性微粒子を用いることが好ましい。導電性微粒子としては、上述した酸化錫、酸化アンチモン、ITO、ATO、AZO、FTO、金、銀、白金、銅の導電性無機微粒子、又は、導電性を付与するための表面処理が施された有機微粒子が挙げられる。導電性を付与するための表面処理としては、酸化錫、酸化アンチモン、ITO、ATO、AZO、FTO等を上記した有機微粒子に被覆させる処理や、上記した親水性基含有化合物の親水性基として例示した親水性基等の導電性に寄与する官能基を上記した有機微粒子に吸着又は結合させる処理等が挙げられる。   As the filler, it is preferable to use conductive fine particles from the viewpoint of improving the conductivity of the cured conductive resin. As the conductive fine particles, the above-described tin oxide, antimony oxide, ITO, ATO, AZO, FTO, gold, silver, platinum, copper conductive inorganic fine particles, or surface treatment for imparting conductivity was performed. Organic fine particles are mentioned. Examples of the surface treatment for imparting conductivity include a treatment for coating tin oxide, antimony oxide, ITO, ATO, AZO, FTO, etc. on the above-mentioned organic fine particles, and a hydrophilic group of the above-mentioned hydrophilic group-containing compound. For example, a treatment of adsorbing or binding a functional group that contributes to conductivity, such as a hydrophilic group, to the organic fine particles described above.

また、充填剤としては、導電性樹脂硬化物の強度を向上させる観点から、表面に重合性官能基を持つ微粒子を用いることが好ましい。このような微粒子としては、カップリング剤、有機低分子化合物若しくはポリマー等が表面に吸着若しくは結合した無機微粒子若しくは有機微粒子、又は、重合性官能基を持つモノマーを使用して製造された有機微粒子等が挙げられる。また、充填剤として無機微粒子を用いる場合は、バインダー樹脂との相溶性を向上させる観点から、プラズマ放電処理やコロナ放電処理等の表面処理を施すことが好ましい。   Further, as the filler, it is preferable to use fine particles having a polymerizable functional group on the surface from the viewpoint of improving the strength of the cured conductive resin. Examples of such fine particles include inorganic fine particles or organic fine particles in which a coupling agent, a low molecular weight organic compound or a polymer is adsorbed or bonded to the surface, or organic fine particles produced using a monomer having a polymerizable functional group, etc. Is mentioned. When inorganic fine particles are used as the filler, it is preferable to perform surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment from the viewpoint of improving compatibility with the binder resin.

導電性樹脂硬化物に透明性が要求される場合には、充填剤に使用される微粒子の平均粒子径が5〜300nmであることが好ましい。充填剤の配合割合は、バインダー樹脂等の固形分に対して、0.1〜300重量%であることが好ましく、0.3重量%以上200重量%以下であることが特に好ましい。   When transparency is required for the cured conductive resin, the average particle size of the fine particles used for the filler is preferably 5 to 300 nm. The blending ratio of the filler is preferably 0.1 to 300% by weight, particularly preferably 0.3 to 200% by weight, based on the solid content of the binder resin or the like.

樹脂ビーズは、得られる導電性樹脂硬化物が透明である場合に、その導電性樹脂硬化物の導電性を損なわない範囲で導電性樹脂硬化物用組成物に含まれていることが好ましい。導電性樹脂硬化物用組成物に樹脂ビーズが含まれていると、得られる導電性樹脂硬化物は、入射した光を反射し難くなるので、例えば導電性を有する防眩層として好ましく用いられる導電性樹脂硬化物を得ることができる。   When the obtained cured resin resin is transparent, the resin beads are preferably contained in the composition for cured resin resin as long as the conductivity of the cured resin resin is not impaired. When the resin bead is contained in the composition for cured conductive resin, the resulting cured conductive resin is less likely to reflect incident light. Therefore, for example, a conductive layer preferably used as an antiglare layer having conductivity. Can be obtained.

防眩層として使用する充填剤は、球状、例えば真球状、楕円状等のビーズであればよく、好ましくは真球状のビーズが挙げられる。充填剤としては、防眩性を発揮するものであれば、無機系のビーズでも有機系のビーズでもよいが、好ましくは透明性のものがよい。充填剤の具体例としては、無機ビーズとしてはシリカビーズ等が挙げられ、有機ビーズとしては樹脂ビーズが挙げられる。充填剤の屈折率は、1.40〜1.60の範囲内の値を有するものが好ましい。その理由としては、導電性樹脂硬化物の屈折率が通常1.45〜1.55の値を示すことから、充填剤の屈折率を電離放射線硬化型樹脂の屈折率に近似するものを採用することにより、導電性樹脂硬化物の透明性を維持しつつ、防眩性を付与することが可能となるからである。   The filler used as the antiglare layer may be spherical, for example, a spherical or elliptical bead, and preferably a spherical bead. The filler may be an inorganic bead or an organic bead as long as it exhibits antiglare properties, but a transparent one is preferable. Specific examples of the filler include silica beads as inorganic beads, and resin beads as organic beads. The filler preferably has a refractive index in the range of 1.40 to 1.60. The reason is that the refractive index of the cured conductive resin usually shows a value of 1.45 to 1.55, so that the refractive index of the filler approximates the refractive index of the ionizing radiation curable resin. This is because it is possible to impart antiglare properties while maintaining the transparency of the cured conductive resin.

このような範囲内(1.40〜1.60)にある屈折率を持つ樹脂ビーズとしては、例えば、シリカビーズ(屈折率:1.46)、ポリメチルメタクリレートビーズ(屈折率:1.49)、ポリカーボネートビーズ(屈折率:1.58)、ポリスチレンビーズ(屈折率:1.50)、ポリアクリルスチレンビーズ(屈折率:1.57)、ポリ塩化ビニルビーズ(屈折率:1.54)等を挙げることができる。   Examples of resin beads having a refractive index within such a range (1.40 to 1.60) include silica beads (refractive index: 1.46) and polymethyl methacrylate beads (refractive index: 1.49). Polycarbonate beads (refractive index: 1.58), polystyrene beads (refractive index: 1.50), polyacryl styrene beads (refractive index: 1.57), polyvinyl chloride beads (refractive index: 1.54), etc. Can be mentioned.

樹脂ビーズの粒径は、3〜8μmであることが好ましい。また、樹脂ビーズの配合割合は、バインダー樹脂100重量部に対して、通常2〜30重量部であり、10〜25重量部程度であることが好ましい。   The particle size of the resin beads is preferably 3 to 8 μm. The blending ratio of the resin beads is usually 2 to 30 parts by weight and preferably about 10 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin.

導電性樹脂硬化物用組成物には、樹脂ビーズと共に沈降防止剤を含有させることが好ましい。このような沈降防止剤が樹脂ビーズと共に組成物に含有されている場合には、導電性樹脂硬化物用組成物中で樹脂ビーズが沈降し難くなり、成形工程において塗膜や成形体を形成し易くなる。一方、導電性樹脂硬化物溶組成物に沈降剤を含有させない場合には、導電性樹脂硬化物用組成物中で樹脂ビーズが沈殿してしまうので、成形工程において、樹脂ビーズが均一に分散するように攪拌しながら塗膜や成形体を形成する必要がある。   The composition for cured conductive resin preferably contains an anti-settling agent together with the resin beads. When such an anti-settling agent is contained in the composition together with the resin beads, the resin beads are difficult to settle in the composition for a cured conductive resin, and a coating film or a molded body is formed in the molding process. It becomes easy. On the other hand, when the precipitant is not included in the conductive resin cured product-soluble composition, the resin beads are uniformly dispersed in the molding process because the resin beads are precipitated in the conductive resin cured composition. Thus, it is necessary to form a coating film or a molded body while stirring.

沈降防止剤としては、粒径0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μmのシリカビーズを用いることができる。沈降防止剤の配合割合は、バインダー樹脂100重量部に対して、0.01〜0.1重量部であることが好ましい。沈降防止剤の配合割合が0.1重量部を超える場合には、導電性樹脂硬化物の透明性が低下してしまい、沈降防止剤の配合割合が0.01重量部未満である場合には、樹脂ビーズの沈降を防止することができない。   As an anti-settling agent, silica beads having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 0.1 to 0.25 μm can be used. The blending ratio of the anti-settling agent is preferably 0.01 to 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin. When the blending ratio of the anti-settling agent exceeds 0.1 parts by weight, the transparency of the conductive resin cured product decreases, and when the blending ratio of the anti-settling agent is less than 0.01 parts by weight. The sedimentation of the resin beads cannot be prevented.

なお、導電性樹脂硬化物を防眩層として使用する場合は、硬化時の膜厚は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲内にあることが好ましい。硬化時の膜厚がこの範囲内にあることにより、防眩層としての機能を十分に発揮することができる。   In addition, when using electroconductive resin hardened | cured material as an anti-glare layer, it is preferable that the film thickness at the time of hardening exists in the range of 0.1-100 micrometers, Preferably it is 0.8-20 micrometers. When the film thickness at the time of curing is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.

防眩層の好ましい形状は、微粒子の平均粒径をR(μm)とし、防眩層の凹凸の十点平均粗さをRz(μm)とし、防眩層の凹凸の平均間隔をSm(μm)とし、凹凸部の平均傾斜角をθaとした場合に、30≦Sm≦200、0.90≦Rz≦1.60、1.3≦θa≦2.5、0.3≦R≦10、を同時に満たすものが好ましい。なお、十点平均粗さRzは、JIS B 0601−1994に準じた。   The preferred shape of the antiglare layer is that the average particle size of the fine particles is R (μm), the ten-point average roughness of the unevenness of the antiglare layer is Rz (μm), and the average interval of the unevenness of the antiglare layer is Sm (μm). ), And when the average inclination angle of the concavo-convex part is θa, 30 ≦ Sm ≦ 200, 0.90 ≦ Rz ≦ 1.60, 1.3 ≦ θa ≦ 2.5, 0.3 ≦ R ≦ 10, Those satisfying the above are preferred. The ten-point average roughness Rz conformed to JIS B 0601-1994.

また、防眩層の別の好ましい態様としては、微粒子と導電性樹脂硬化物の屈折率をそれぞれ、n1、n2とした場合に、Δn=│n1−n2│<0.1、の式を満たすものであり、かつ、防眩層内部のヘイズ値が55%以下である防眩層が好ましい。   Further, as another preferred embodiment of the antiglare layer, Δn = | n1-n2 | <0.1 is satisfied when the refractive indexes of the fine particles and the cured conductive resin are n1 and n2, respectively. An antiglare layer having a haze value of 55% or less inside the antiglare layer is preferable.

導電性樹脂硬化組成物を先に述べたようにハードコート層や防眩層として使用したものをディスプレイの表面に貼付けて使用する場合、その視認性を向上させるために、その表面に、屈折率が1.20〜1.45の範囲の低屈折率層を反射防止層として形成したり、屈折率が1.46〜2.00の範囲の高屈折率層と先の低屈折率層との積層体を反射防止層として形成することもできる。   When the conductive resin cured composition used as a hard coat layer or an antiglare layer is applied to the surface of the display as described above, the refractive index is increased on the surface in order to improve the visibility. A low refractive index layer having a refractive index in the range of 1.20 to 1.45 is formed as an antireflection layer, or a high refractive index layer having a refractive index in the range of 1.46 to 2.00 and the above low refractive index layer. The laminate can also be formed as an antireflection layer.

また、ディスプレイの表面にハードコート層や防眩層を別途設ける場合、導電性樹脂硬化物を、硬化後の膜厚が0.1〜5μmの範囲となるようにして、ディスプレイ基材とハードコート層や防眩層との間、及び/又は、ハードコート層や防眩層上に形成することもできる。導電性樹脂硬化物からなる層を、ハードコート層上や防眩層上に形成させる場合、帯電防止樹脂硬化物の屈折率を無機微粒子等により1.20〜1.45の範囲で調節すれば、反射防止機能を有する低屈折率層となり、帯電防止樹脂硬化物の屈折率を1.46〜2.00の範囲で調節すれば、反射防止機能を有する高屈折率層として使用することができる。   When a hard coat layer or an antiglare layer is separately provided on the surface of the display, the display substrate and the hard coat are made so that the cured resin is in a range of 0.1 to 5 μm after curing. It can also be formed between the layers and the antiglare layer and / or on the hard coat layer and the antiglare layer. When a layer made of a cured conductive resin is formed on a hard coat layer or an antiglare layer, the refractive index of the cured antistatic resin can be adjusted in the range of 1.20 to 1.45 with inorganic fine particles. When the refractive index of the antistatic resin cured product is adjusted in the range of 1.46 to 2.00, it can be used as a high refractive index layer having an antireflection function. .

(形成工程)
形成工程は、調製工程で調製された導電性樹脂硬化物用組成物により塗膜又は成形体を形成する工程である。塗膜の形成は、所望の基材に導電性樹脂硬化物用組成物を塗工又は印刷することにより行われる。また、成形体の形成は、導電性樹脂硬化物用組成物を所望の形状に成形することにより行われる。ここで、導電性樹脂硬化物用組成物により形成された塗膜は導電性樹脂硬化膜となり、導電性樹脂硬化物用組成物により形成された成形体は導電性樹脂硬化成形体となる。
(Formation process)
A formation process is a process of forming a coating film or a molded object with the composition for conductive resin hardened | cured materials prepared at the preparation process. The coating film is formed by coating or printing the composition for a cured conductive resin on a desired substrate. Moreover, formation of a molded object is performed by shape | molding the composition for conductive resin hardened | cured materials in a desired shape. Here, the coating film formed of the composition for cured conductive resin becomes a conductive resin cured film, and the molded body formed of the composition for cured conductive resin becomes a conductive resin cured molded body.

基材としては、材質や形状は特に限定されず、ガラス又はプラスチック等からなるシート状又は板状等の成形体を挙げることができる。プラスチックとしては、トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂;ポリウレタン系樹脂;ポリエステル;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテル;トリメチルペンテン;ポリエーテルケトン;(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。具体的な基材としては、例えば反射防止シート、防眩シート等の帯電防止性能の付与が必要な各種光学フィルムや、LCD用フィルム基板、有機ELフィルム基材等のフィルム基材等を挙げることができる。基材が光学シートである場合に、その厚さは、通常25μm〜1000μm程度である。   As a base material, a material and a shape are not specifically limited, Molded objects, such as a sheet form which consists of glass or a plastic, or plate shape, can be mentioned. Examples of the plastic include triacetate cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyethersulfone, acrylic resin; polyurethane resin; polyester; polycarbonate; polysulfone; polyether; trimethylpentene; Ether ketone; (meth) acrylonitrile and the like. Specific examples of the base material include various optical films that need to be provided with antistatic performance such as an antireflection sheet and an antiglare sheet, and film base materials such as a film substrate for LCD and an organic EL film base material. Can do. When the substrate is an optical sheet, the thickness is usually about 25 μm to 1000 μm.

塗工方法としては、例えば、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、メニスカスコート法、ビードコーター法等が挙げられる。また、印刷方法としては、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等が挙げられ、印刷方法を用いる場合には所定パターンを有する塗膜を形成することができる。なお、導電性樹脂硬化物用組成物の塗膜は、光学シートの光学特性が導電性樹脂硬化膜により妨げられないように、その機能面とは反対側の面に設けられることが好ましい。   Examples of the coating method include spin coating, dip coating, spray coating, slide coating, bar coating, roll coating, meniscus coating, and bead coater. In addition, examples of the printing method include a flexographic printing method and a screen printing method. When the printing method is used, a coating film having a predetermined pattern can be formed. In addition, it is preferable that the coating film of the composition for conductive resin cured | curing material is provided in the surface on the opposite side to the functional surface so that the optical characteristic of an optical sheet may not be prevented by the conductive resin cured film.

塗膜の厚さは、塗膜が形成される基材、又は、得られる導電性樹脂硬化膜が機能性膜として用いられる場合にはその機能等に応じて異なる。例えば導電性樹脂硬化膜がハードコート層として用いられる場合の塗膜の厚さは、硬化後の厚さで、通常0.1〜100μmであり、好ましくは0.8〜20μmである。塗膜の厚さが硬化後の厚さで0.1μm未満である場合には、充分なハードコート性能が得られず、また、塗膜の厚さが硬化後の厚さで100μmを超える場合には、ハードコート層が外部からの衝撃により割れ易くなってしまう。   The thickness of the coating film varies depending on the function or the like when the substrate on which the coating film is formed or the obtained conductive resin cured film is used as a functional film. For example, when the conductive resin cured film is used as a hard coat layer, the thickness of the coating film is a thickness after curing, and is usually 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. When the thickness of the coating film is less than 0.1 μm after curing, sufficient hard coat performance cannot be obtained, and when the thickness of the coating film exceeds 100 μm after curing In this case, the hard coat layer is easily broken by an impact from the outside.

導電性樹脂硬化物用組成物の成形法は、成形体の形状等に応じて適宜選択され、例えば、押出成形、パイプ成形技術、フィルム・シート成形法(インフレーションフィルム成形法、Tダイフィルム成形法)、延伸フィルム成形法(テンター法、ロール法、チューブラー同時二軸延伸法)、押出複合成形(複合フィルム・シート成形法)、ブロー成形(押出ブロー、アキュムレーター式ブロー成形法、インジェクションブロー成形法、多層ブロー成形法、射出成形法等が挙げられる。成形体の形状は、得られる導電性樹脂硬化成形体の用途に応じて適宜決定され、例えば、シート状、板状、円盤状、筒状、球状等の形状が挙げられる。   The molding method of the composition for a cured conductive resin is appropriately selected according to the shape of the molded body, for example, extrusion molding, pipe molding technology, film / sheet molding method (inflation film molding method, T-die film molding method). ), Stretched film molding method (tenter method, roll method, tubular simultaneous biaxial stretching method), extrusion composite molding (composite film / sheet molding method), blow molding (extrusion blow, accumulator blow molding method, injection blow molding) Method, multilayer blow molding method, injection molding method, etc. The shape of the molded body is appropriately determined according to the intended use of the obtained conductive resin cured molded body, for example, a sheet shape, a plate shape, a disk shape, a cylinder Shape, spherical shape and the like.

(乾燥工程)
乾燥工程は、形成工程において形成された塗膜又は成形体に含まれる有機溶剤を乾燥させる工程であり、形成された塗膜又は成形体を加熱することにより行われる。乾燥工程においては、塗膜等を加熱することにより、塗膜等に含まれる親水性基含有高分子化合物の親水性基から親油性基が解離することがあり、親油性基が解離すると親水性基が露出し、得られる導電性樹脂硬化物の導電性が発現する。
(Drying process)
A drying process is a process of drying the organic solvent contained in the coating film or molded object formed in the formation process, and is performed by heating the formed coating film or molded object. In the drying step, the lipophilic group may be dissociated from the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound contained in the coating film, etc. by heating the coating film, etc., and hydrophilic when the lipophilic group is dissociated. The group is exposed and the conductivity of the resulting cured conductive resin is manifested.

乾燥工程における加熱条件は、用いられている有機溶剤の種類に応じて異なるが、通常、加熱温度が40〜200℃であり、加熱時間が10秒〜120分間である。   Although the heating conditions in a drying process differ according to the kind of organic solvent used, heating temperature is 40-200 degreeC normally, and heating time is 10 second-120 minutes.

(硬化工程)
硬化工程は、上記のようにして形成された導電性樹脂硬化物用組成物の塗膜又は成形体を硬化する工程である。すなわち、導電性樹脂硬化物用組成物のバインダー樹脂に熱硬化性樹脂が用いられている場合の硬化工程は、塗膜又は成形体を加熱する工程であり、導電性樹脂硬化物用組成物のバインダー樹脂に電離放射線硬化性樹脂が用いられている場合の硬化工程は、塗膜又は成形体に電離放射線を照射する工程である。なお、硬化工程の後には、硬化反応を促進させる観点から、導電性樹脂硬化物用組成物の塗膜又は成形体に60℃以上の温度下でエイジング処理を施してもよい。
(Curing process)
A hardening process is a process of hardening the coating film or molded object of the composition for conductive resin hardened | cured materials formed as mentioned above. That is, the curing step when a thermosetting resin is used as the binder resin of the conductive resin cured product composition is a step of heating the coating film or the molded body, and the conductive resin cured product composition The curing step when an ionizing radiation curable resin is used as the binder resin is a step of irradiating the coating film or the molded body with ionizing radiation. In addition, after a hardening process, you may perform an aging process at the temperature of 60 degreeC or more to the coating film or molded object of the composition for conductive resin hardened | cured materials from a viewpoint of accelerating hardening reaction.

硬化工程においては、塗膜又は成形体が硬化して導電性樹脂硬化物になる。また、硬化工程における加熱又は電離放射線の照射により、塗膜又は成形体に含まれる親水性基含有高分子化合物の親水性基に結合した親油性基が解離する。例えば、親油性基がエステル結合により親水性基に結合している場合には、加熱等されることによりエステル結合が切断されて親油性基が解離する。その結果、得られる導電性樹脂硬化物は、親水性基含有高分子化合物の親水性基が露出するので導電性が発現する。なお、上述の乾燥工程及び硬化工程における加熱等によっても親水性基に結合していた親油性基が解離しないこともあるが、導電性樹脂硬化物用組成物に含まれた親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の一部に親油性基が結合している場合には、調整工程の欄で説明したように、得られる導電性樹脂硬化物が導電性を発現することがある。   In the curing step, the coating film or the molded body is cured to become a conductive resin cured product. Moreover, the lipophilic group couple | bonded with the hydrophilic group of the hydrophilic group containing polymer compound contained in a coating film or a molded object dissociates by the heating in a hardening process, or irradiation of ionizing radiation. For example, when the lipophilic group is bonded to the hydrophilic group by an ester bond, the ester bond is cleaved by heating or the like, and the lipophilic group is dissociated. As a result, the obtained conductive resin cured product exhibits conductivity because the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is exposed. In addition, although the lipophilic group which couple | bonded with the hydrophilic group may not dissociate also by the heating in the above-mentioned drying process and the curing process, the hydrophilic group-containing high content contained in the composition for a cured conductive resin is not sufficient. When a lipophilic group is bonded to a part of the hydrophilic group of the molecular compound, the obtained conductive resin cured product may develop conductivity as described in the adjustment step.

バインダー樹脂である熱硬化性樹脂を硬化させるための加熱条件は、用いられている熱硬化性樹脂の種類により異なるが、通常、加熱温度が80〜200℃で、加熱時間が10秒〜12時間である。バインダー樹脂である紫外線硬化性樹脂を硬化させるための紫外線の照射条件は、用いられている紫外線硬化性樹脂の種類により異なるが、波長が100〜350nmで、照射エネルギー(積算光量)が50〜1000mJ/cmである。バインダー樹脂である電子線硬化性樹脂を硬化させるための電子線の照射条件は、用いられている電子線硬化性樹脂の種類により異なるが、照射エネルギー(積算エネルギー量)が10〜1000kV以上である。 The heating conditions for curing the thermosetting resin that is the binder resin vary depending on the type of the thermosetting resin used, but usually the heating temperature is 80 to 200 ° C. and the heating time is 10 seconds to 12 hours. It is. The ultraviolet irradiation conditions for curing the ultraviolet curable resin as the binder resin vary depending on the type of the ultraviolet curable resin used, but the wavelength is 100 to 350 nm and the irradiation energy (integrated light amount) is 50 to 1000 mJ. / Cm 2 . The irradiation condition of the electron beam for curing the electron beam curable resin as the binder resin varies depending on the type of the electron beam curable resin used, but the irradiation energy (integrated energy amount) is 10 to 1000 kV or more. .

硬化工程においては、加熱温度や電離放射線の照射エネルギーを実際に硬化に必要な加熱温度等よりも高めに設定したり、加熱時間や電離放射線の照射時間を実際に硬化に必要な加熱時間等よりも高めに設定したりすることにより、親油性基を積極的に解離させることが好ましい。このようにすることにより、親水性基がより多く露出するので、得られる導電性樹脂硬化物の導電性が向上する。   In the curing process, the heating temperature and irradiation energy of ionizing radiation are set higher than the heating temperature actually required for curing, or the heating time and irradiation time of ionizing radiation are actually determined from the heating time necessary for curing, etc. It is preferable to positively dissociate the lipophilic group by setting it to a higher value. By doing in this way, since more hydrophilic groups are exposed, the electroconductivity of the obtained conductive resin cured product is improved.

(解離工程)
解離工程は、硬化工程において親水性基含有高分子化合物の親水性基から解離しなかった親油性基を解離させるための任意の工程であり、この工程により得られる導電性樹脂硬化物の導電性が更に向上する。解離工程は、硬化工程後に、導電性樹脂硬化物を加熱し又は導電性樹脂硬化物に電離放射線を照射することにより行われる。解離工程は硬化工程と連続して行われてもよく、この場合は、硬化工程と解離工程とが明確に区別され難くなる。
(Dissociation process)
The dissociation step is an optional step for dissociating the lipophilic group that has not been dissociated from the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound in the curing step, and the conductivity of the cured conductive resin obtained in this step Is further improved. The dissociation step is performed by heating the cured conductive resin or irradiating the cured cured resin with ionizing radiation after the curing step. The dissociation process may be performed continuously with the curing process, and in this case, it is difficult to clearly distinguish the curing process and the dissociation process.

親水性基から親油性基を解離させるための加熱条件は、親水性基と親油性基の結合の種類により異なるが、通常、加熱温度が80〜200℃で、加熱時間が60〜120分間である。親水性基から親油性基を解離させるための紫外線の照射条件は、波長が100〜350nmで、照射エネルギー(積算光量)が80〜250mJ/cmである。親水性基から親油性基を解離させるための電子線の照射条件は、照射エネルギー(積算エネルギー量)が80〜500kVである。 The heating conditions for dissociating the lipophilic group from the hydrophilic group vary depending on the type of bond between the hydrophilic group and the lipophilic group, but usually the heating temperature is 80 to 200 ° C. and the heating time is 60 to 120 minutes. is there. The ultraviolet irradiation conditions for dissociating the lipophilic group from the hydrophilic group are a wavelength of 100 to 350 nm and an irradiation energy (integrated light amount) of 80 to 250 mJ / cm 2 . As for the irradiation condition of the electron beam for dissociating the lipophilic group from the hydrophilic group, the irradiation energy (integrated energy amount) is 80 to 500 kV.

また、解離工程は、導電性樹脂硬化物を酸性又は塩基性の雰囲気下におくことにより行われてもよい。具体的には、酸性溶液や塩基性溶液に導電性樹脂硬化物を浸漬したり、光や熱の作用により酸又は塩基を発生する光酸発生剤又は光塩基発生剤を用いたりすることにより親油性基を解離させることができる。このような手法には、室温でほとんど総ての親油性基を解離させることができるという利点がある。   In addition, the dissociation step may be performed by placing the conductive resin cured product in an acidic or basic atmosphere. Specifically, the parent resin can be obtained by immersing the cured conductive resin in an acidic solution or a basic solution, or by using a photoacid generator or a photobase generator that generates an acid or a base by the action of light or heat. Oily groups can be dissociated. Such an approach has the advantage that almost all lipophilic groups can be dissociated at room temperature.

(2)第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法:
本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法は、本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物を調製する調製工程と、導電性樹脂硬化物用組成物の塗膜又は成形体を形成する形成工程と、塗膜又は成形体を硬化させる硬化工程を含むことを特徴としている。また、本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法は、硬化工程後に解離工程が更に含まれていてもよい。以下、第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法に含まれる調整工程について説明する。なお、第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法に含まれる形成工程、硬化工程及び解離工程については、第1の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法と同様であるので、ここでの説明は省略する。
(2) Method for producing a cured conductive resin according to the second embodiment:
The method for producing a cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention includes a preparation step for preparing a composition for cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention, and a composition for cured conductive resin. It is characterized by including the formation process which forms the coating film or molded object of a thing, and the hardening process which hardens a coating film or a molded object. The method for producing a cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention may further include a dissociation step after the curing step. Hereinafter, the adjustment process included in the manufacturing method of the cured conductive resin according to the second embodiment will be described. In addition, since the formation process, the curing process, and the dissociation process included in the manufacturing method of the cured conductive resin according to the second embodiment are the same as the manufacturing method of the cured conductive resin according to the first embodiment, The description here is omitted.

本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物の製造方法における調製工程は、本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物を調製する工程、すなわち、複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のうち少なくとも一方の樹脂(以下、バインダー樹脂ということもある。)とを含み、その複数の親水性基の少なくとも一部に親油性基が結合している無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製する工程である。   The preparation step in the method for producing a cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention is a step of preparing the composition for cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention, that is, a plurality of hydrophilic properties. A hydrophilic group-containing polymer compound having a group and at least one resin (hereinafter sometimes referred to as a binder resin) of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin, This is a step of preparing a solvent-free composition for a cured cured resin, in which at least a part of the lipophilic group is bonded.

本発明の導電性樹脂硬化物用組成物に含まれる親水性基含有高分子化合物は、複数の親水性基を有し、その複数の親水性基の少なくとも一部に親油性基が結合しているので、無溶剤型のバインダー樹脂との相溶性が向上する。したがって、無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製でき、導電性樹脂硬化物用組成物に水を使用しないので、得られる導電性樹脂硬化物には水分が含まれ難い。その結果、導電性樹脂硬化物の表面に水分が滲み出し難いので、隣接して設けられる基材や層との密着性が向上する。また、導電性硬化物の表面に水分が滲み出し難いことから、水を嫌う素子が含まれた装置内で使用されてもその素子の性能が低下し難くなる。   The hydrophilic group-containing polymer compound contained in the composition for cured conductive resin of the present invention has a plurality of hydrophilic groups, and a lipophilic group is bonded to at least a part of the plurality of hydrophilic groups. Therefore, the compatibility with the solventless binder resin is improved. Therefore, a solvent-free composition for a cured cured resin resin can be prepared, and water is not used in the composition for a cured cured resin resin, so that the obtained cured cured resin resin hardly contains moisture. As a result, since moisture hardly oozes out on the surface of the cured conductive resin, the adhesion with the adjacent base material or layer is improved. In addition, since it is difficult for moisture to ooze out on the surface of the conductive cured product, the performance of the element is unlikely to deteriorate even when used in an apparatus including an element that dislikes water.

親水性基含有高分子化合物及び親水性基に結合している親油性基としては、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様のものが用いられる。また、親水性基に親油性基を結合させる方法、親水性基含有高分子化合物における親水性基を持つモノマーの好ましい重合割合、並びに、親水性基含有高分子化合物の重量平均分子量の上限及び下限についても、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様である。   As the hydrophilic group-containing polymer compound and the lipophilic group bonded to the hydrophilic group, those similar to the above-described composition for a cured cured resin resin according to the first embodiment are used. Further, a method for bonding a lipophilic group to a hydrophilic group, a preferable polymerization ratio of a monomer having a hydrophilic group in the hydrophilic group-containing polymer compound, and an upper limit and a lower limit of the weight average molecular weight of the hydrophilic group-containing polymer compound Is the same as the above-described composition for cured conductive resin according to the first embodiment.

親油性基は、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の総てに結合している必要はなく、親水性基含有高分子化合物がバインダー樹脂に相溶する程度に結合していればよい。具体的な親油性基の結合量は、用いるバインダー樹脂に応じて適宜決定される。なお、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様に、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の一部にのみ親油性基が結合している場合には、乾燥工程及び硬化工程において親油性基が解離しなくても、得られる導電性樹脂硬化物は導電性を発現することがある。   The lipophilic group does not need to be bonded to all the hydrophilic groups of the hydrophilic group-containing polymer compound, and only needs to be bonded to such an extent that the hydrophilic group-containing polymer compound is compatible with the binder resin. Good. The specific binding amount of the lipophilic group is appropriately determined according to the binder resin used. In the case where the lipophilic group is bonded only to a part of the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound, similarly to the above-described composition for a cured conductive resin according to the first embodiment. Even if the lipophilic group does not dissociate in the drying step and the curing step, the obtained conductive resin cured product may exhibit conductivity.

バインダー樹脂としては、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様の電離放射線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いることができ、導電性樹脂硬化物用組成物には液状のモノマー又はプレポリマーとして含まれている。なお、第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物は、含有されるモノマーの量により粘度が調整される。   As the binder resin, the same ionizing radiation curable resin or thermosetting resin as the conductive resin cured product composition according to the first embodiment described above can be used. For the conductive resin cured composition, It is included as a liquid monomer or prepolymer. In addition, as for the composition for conductive resin hardened | cured materials which concerns on a 2nd form, a viscosity is adjusted with the quantity of the monomer contained.

バインダー樹脂としては、得られる導電性樹脂硬化物が機能性膜又はプラスチック成形体として用いられる場合に、その機能性膜等に要求される機能等に応じた樹脂が適宜選択される。特に、本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物は無溶剤型であるので、バインダー樹脂として、無溶剤で用いられる多様な樹脂を選択できる。   As the binder resin, when the obtained conductive resin cured product is used as a functional film or a plastic molded body, a resin corresponding to the function required for the functional film or the like is appropriately selected. In particular, since the composition for cured conductive resin according to the second embodiment of the present invention is a solventless type, a variety of resins used without solvent can be selected as the binder resin.

本発明の第2の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物には、第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様に、π共役系高分子化合物、充填剤又は樹脂ビーズが更に含まれていることが好ましい。また、この導電性樹脂硬化物用組成物には、必要に応じて、着色剤、粘度調整剤等の添加剤が含まれていてもよい。   The composition for cured conductive resin according to the second aspect of the present invention includes a π-conjugated polymer compound, a filler, or resin beads, similarly to the composition for cured conductive resin according to the first aspect. Is preferably further included. Moreover, additives, such as a coloring agent and a viscosity modifier, may be contained in this composition for conductive resin cured | curing material as needed.

π共役系高分子化合物としては、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様のものが用いられ、得られる効果についても上記した第1の形態に係る製造方法の欄で説明したのと同様である。また、電子伝導性材料を構成するπ共役系高分子化合物と親水性基含有高分子化合物との好ましい組合せ、π共役系高分子化合物の重量平均分子量の上限及び下限、電子伝導性材料中のπ共役系高分子化合物に対する親水性基含有高分子化合物の好ましい配合割合についても、上記した第1の形態に係る製造方法の欄で説明したのと同様である。更に、親水性基含有高分子化合物のバインダー樹脂に対する配合割合、電子伝導性材料中のπ共役系高分子化合物に対する親水性基含有高分子化合物の配合割合及び電子伝導性材料のバインダー樹脂に対する配合割合についても、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様である。   As the π-conjugated polymer compound, the same composition as that for the cured conductive resin according to the first embodiment described above is used, and the obtained effect is also described in the column of the manufacturing method according to the first embodiment. This is the same as described in. Further, a preferred combination of a π-conjugated polymer compound and a hydrophilic group-containing polymer compound constituting the electron conductive material, upper and lower limits of the weight average molecular weight of the π-conjugated polymer compound, π in the electron conductive material The preferable blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound to the conjugated polymer compound is also the same as that described in the column of the production method according to the first embodiment. Furthermore, the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound to the binder resin, the blending ratio of the hydrophilic group-containing polymer compound to the π-conjugated polymer compound in the electron conductive material, and the blending ratio of the electron conductive material to the binder resin Is the same as the above-described composition for cured conductive resin according to the first embodiment.

充填剤や樹脂ビーズとしては、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物と同様のものが用いられ、得られる効果についても上記した第1の形態に係る製造方法の欄で説明したのと同様である。また、充填剤や樹脂ビーズの配合割合についても、上記した第1の形態に係る導電性樹脂硬化物用組成物の場合と同様である。   As the filler and resin beads, the same material as the composition for cured conductive resin according to the first embodiment described above is used, and the obtained effect is also described in the column of the manufacturing method according to the first embodiment described above. It is the same as described. Further, the blending ratio of the filler and the resin beads is the same as in the case of the conductive resin cured product composition according to the first embodiment.

[導電性樹脂硬化物]
上述したように、本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、溶媒として水を用いない導電性樹脂硬化物用組成物により製造されるので水分を含み難い。その結果、この導電性樹脂硬化物は、表面から水が滲み出し難いので、隣接して設けられている基材や層との密着性が向上し、また、水を嫌う素子が含まれた装置内で好ましく使用される。ここで、この導電性樹脂硬化物には、水が全く含まれないか、又は、導電性樹脂硬化物に隣接する基材等との密着性や水を嫌う素子の性能を低下させない程度の微量な水が含まれてもよい。なお、本発明の導電性樹脂硬化物は、上記のような製造方法により得られるので、親水性基含有高分子化合物の親水性基の一部に親油性基が結合していることがある。
[Hardened conductive resin]
As described above, since the cured conductive resin obtained by the production method of the present invention is produced by the composition for cured conductive resin that does not use water as a solvent, it hardly contains moisture. As a result, the cured conductive resin is less likely to seep out of water from the surface, so that the adhesion with the adjacent substrate or layer is improved, and the device includes elements that dislike water. Are preferably used. Here, the cured conductive resin does not contain water at all, or it is a trace amount that does not deteriorate the adhesion to the substrate adjacent to the cured conductive resin or the performance of the element that dislikes water. Fresh water may be included. In addition, since the cured conductive resin of the present invention is obtained by the production method as described above, a lipophilic group may be bonded to a part of the hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound.

本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物と有機溶剤溶解型又は無溶剤型のバインダー樹脂とを含み、その親水性基含有高分子化合物がバインダー樹脂に分散しているものである。すなわち、本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、水溶性ではないバインダー樹脂中に親水性基含有高分子化合物が凝集せずに分散している。   The cured conductive resin obtained by the production method of the present invention includes a hydrophilic group-containing polymer compound having a plurality of hydrophilic groups and an organic solvent-soluble or solventless binder resin, and the hydrophilic groups The contained polymer compound is dispersed in the binder resin. That is, in the cured conductive resin obtained by the production method of the present invention, the hydrophilic group-containing polymer compound is dispersed without being aggregated in the binder resin that is not water-soluble.

本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物がバインダー樹脂に分散しているので、透明性が高いという効果がある。具体的に、この導電性樹脂硬化物は、光透過率で50%以上の透明性を確保することができる。導電性樹脂硬化物が光学シートや光学シートに形成される機能性膜等の用途に用いられる場合には、光透過率が80%以上であることが好ましい。   The conductive resin cured product obtained by the production method of the present invention has an effect of high transparency because the hydrophilic group-containing polymer compound having a hydrophilic group is dispersed in the binder resin. Specifically, this conductive resin cured product can ensure transparency of 50% or more in terms of light transmittance. When the conductive resin cured product is used for an application such as an optical sheet or a functional film formed on the optical sheet, the light transmittance is preferably 80% or more.

また、本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物がバインダー樹脂に分散しているので、強度が高いという効果がある。具体的に、この導電性樹脂硬化物は、鉛筆硬度でH〜6Hの強度を確保することができる。ここで、鉛筆硬度は、JIS K5600−5−4:1999に規定される「引っかき硬度(鉛筆法)」により測定される。   Moreover, the conductive resin cured product obtained by the production method of the present invention has an effect of high strength because the hydrophilic group-containing polymer compound having a hydrophilic group is dispersed in the binder resin. Specifically, this conductive resin cured product can ensure strength of H to 6H in pencil hardness. Here, the pencil hardness is measured by “scratch hardness (pencil method)” defined in JIS K5600-5-4: 1999.

更に、本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物がバインダー樹脂に分散しているので、導電性樹脂硬化物の内部で導電性が変化し難く均一であるという効果がある。   Furthermore, since the hydrophilic group-containing polymer compound having a hydrophilic group is dispersed in the binder resin, the conductive resin cured product obtained by the production method of the present invention is electrically conductive inside the conductive resin cured product. Has the effect of being uniform and difficult to change.

本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、帯電防止や電磁波シールド等の用途に用いられる導電性樹脂硬化膜又は導電性樹脂硬化成形体として利用される。   The conductive resin cured product obtained by the production method of the present invention is used as a conductive resin cured film or a conductive resin cured molded body used for applications such as antistatic and electromagnetic wave shielding.

導電性樹脂硬化膜は、反射防止シートや防眩シート等の光学シート等に設けられて、帯電防止膜や電磁波シールド膜として用いられる。また、ハードコート性、防眩性若しくは反射防止性等の他の機能を併せ持つ帯電防止膜や電磁波シールド膜としても用いられる。   The conductive resin cured film is provided on an optical sheet such as an antireflection sheet or an antiglare sheet, and is used as an antistatic film or an electromagnetic wave shielding film. Further, it is also used as an antistatic film or an electromagnetic wave shielding film having other functions such as hard coat property, antiglare property or antireflection property.

また、導電性樹脂硬化成形体としては、帯電防止性や電磁波シールド性を有する各種光学シート(例えば、反射防止シート、防眩シート、光散乱シート、レンズシート、熱線反射シート、紫外線反射シート、熱線吸収シート、紫外線吸収シート、偏光フィルム、偏光子フィルム,高視野角フィルム、位相差フィルム,光学補償フィルム,輝度向上フィルム,導光板,プリズムシート,LCD用フィルム基板,有機ELフィルム基材、OHPフィルム、蓄光フィルム、ホログラム等)等を挙げることができる。   In addition, as the conductive resin cured molded body, various optical sheets having antistatic properties and electromagnetic wave shielding properties (for example, antireflection sheets, antiglare sheets, light scattering sheets, lens sheets, heat ray reflecting sheets, ultraviolet ray reflecting sheets, heat rays, etc.) Absorption sheet, ultraviolet absorption sheet, polarizing film, polarizer film, high viewing angle film, retardation film, optical compensation film, brightness enhancement film, light guide plate, prism sheet, LCD film substrate, organic EL film substrate, OHP film , Phosphorescent film, hologram, etc.).

本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、帯電防止の用途に用いられる場合には、導電性が、表面抵抗値で1013Ω/cm以下であることが好ましい。また、本発明の導電性樹脂硬化物は、電磁波シールドの用途に用いられる場合に、導電性が、表面抵抗値で10Ω/cm以下であることが好ましい。導電性樹脂硬化物の導電性は、用いる親水性基含有高分子化合物の種類、親水性基含有高分子化合物の配合量、親水性基含有高分子化合物の持つ親水性基の露出量、又は、π共役系高分子化合物の添加等により適宜調整される。 When the conductive resin cured product obtained by the production method of the present invention is used for antistatic applications, the conductivity is preferably 10 13 Ω / cm 2 or less in terms of surface resistance. Moreover, when the conductive resin cured product of the present invention is used for electromagnetic wave shielding, the conductivity is preferably 10 8 Ω / cm 2 or less in terms of surface resistance. The conductivity of the cured conductive resin is determined depending on the type of the hydrophilic group-containing polymer compound used, the blending amount of the hydrophilic group-containing polymer compound, the exposure amount of the hydrophilic group possessed by the hydrophilic group-containing polymer compound, or It is appropriately adjusted by adding a π-conjugated polymer compound.

本発明の製造方法により得られた導電性樹脂硬化物は、ハードコート層として用いられる場合に、ディスプレイ装置の作製時や使用時に傷付き難い程度の耐擦傷性を有することが好ましい。具体的には、導電性樹脂硬化物の耐擦傷性は、下記の耐擦傷性試験において、ヘイズ値の変化が認められる最低荷重量が100g以上であることが好ましい。この耐擦傷性試験は、#0000番のスチールウールにより導電性樹脂硬化物の表面を10往復摩擦し、その後に測定されたヘイズ値と摩擦前のヘイズ値との間に1%以上の変化が認められる場合の最低荷重量の大きさにより、耐擦傷性を評価する試験であり、最低荷重量が大きいほど耐擦傷性に優れている。   When the conductive resin cured product obtained by the production method of the present invention is used as a hard coat layer, it preferably has scratch resistance that is difficult to be damaged when a display device is produced or used. Specifically, the scratch resistance of the cured conductive resin is preferably such that the minimum load at which a change in haze value is observed is 100 g or more in the following scratch resistance test. In this abrasion resistance test, the surface of the cured conductive resin was rubbed 10 times with # 0000 steel wool, and a change of 1% or more was observed between the haze value measured thereafter and the haze value before friction. This is a test for evaluating the scratch resistance according to the size of the minimum load when it is recognized. The larger the minimum load, the better the scratch resistance.

以下、本発明を実施例と比較例に基づいて更に詳しく説明する。なお、実施例1〜16及び比較例1,2では、導電性樹脂硬化物としてハードコート性を有する導電性樹脂硬化膜を作製した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples and comparative examples. In Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 and 2, conductive resin cured films having hard coat properties were produced as the cured conductive resin.

(実施例1)
ポリスチレンスルホン酸(アルドリッチ社製;商品番号:56,122−3;18重量%水分散液)を用い、超遠心分離器(ベックマンコールター社製、型番:OptimaXL−100K)を用いて、20℃、回転数90,000rpm、5時間の条件の下、固形分を分離した。次に、その固形分をフィルターにより濾別し、得られた固形分を150℃で1時間乾燥させた後、メノウ乳鉢により粉砕した。その後、粉砕した固形分を減圧下で150℃・12時間乾燥させることにより、粉末状の親水性基含有高分子材料を得た。
Example 1
Using polystyrene sulfonic acid (manufactured by Aldrich; product number: 56,122-3; 18 wt% aqueous dispersion), using an ultracentrifuge (manufactured by Beckman Coulter, model number: OptimaXL-100K) at 20 ° C. The solid content was separated under the condition of 90,000 rpm for 5 hours. Next, the solid content was filtered off with a filter, and the obtained solid content was dried at 150 ° C. for 1 hour and then pulverized with an agate mortar. Thereafter, the pulverized solid content was dried under reduced pressure at 150 ° C. for 12 hours to obtain a powdery hydrophilic group-containing polymer material.

次に、上記の粉末状の親水性基含有材料100重量部と五塩化リン50重量部の混合物を、170℃で10時間還流煮沸し、その後蒸留した。得られた蒸留物をテトラヒドロフランに添加した後濾過し、その濾液にエタノール200重量部、ピリジン60重量部を加え、24時間攪拌しながら還流することによりエステル化反応させた。その後、得られた反応混合物を濾過し、その濾液から溶剤を留去し、粉末状の有機高分子材料80重量部を得た。この有機高分子材料について、100質量倍の有機溶剤(トルエン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール)に対する溶解性を調べた。その結果、この有機高分子材料材料は、いずれの有機溶剤に対しても良く溶けた。また、エステル化反応前の電子伝導性材料についても同様にして有機溶剤に対する溶解性を調べたところ、いずれの有機溶剤に対しても溶けなかった。   Next, a mixture of 100 parts by weight of the above powdery hydrophilic group-containing material and 50 parts by weight of phosphorus pentachloride was boiled at 170 ° C. for 10 hours, and then distilled. The obtained distillate was added to tetrahydrofuran and filtered, and 200 parts by weight of ethanol and 60 parts by weight of pyridine were added to the filtrate, and the mixture was refluxed with stirring for 24 hours for esterification. Thereafter, the obtained reaction mixture was filtered, and the solvent was distilled off from the filtrate to obtain 80 parts by weight of a powdery organic polymer material. About this organic polymer material, the solubility with respect to 100 mass times organic solvent (toluene, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol) was investigated. As a result, the organic polymer material was well dissolved in any organic solvent. Further, the electron conductive material before the esterification reaction was examined for solubility in an organic solvent in the same manner, and it was not soluble in any organic solvent.

上記のようにして得られた有機溶剤に可溶の親水性基含有高分子化合物1.0重量部と、バインダー樹脂としてのペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)9.0重量部と、光重合開始剤としてのチバスペシャリティーケミカルズ製のイルガキュア184(商品名)0.4重量部とを、有機溶剤メチルエチルケトン90重量部で希釈して、導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。   1.0 part by weight of a hydrophilic group-containing polymer compound soluble in an organic solvent obtained as described above, 9.0 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (PETA) as a binder resin, and a photopolymerization initiator As a result, 0.4 part by weight of Irgacure 184 (trade name) manufactured by Ciba Specialty Chemicals was diluted with 90 parts by weight of an organic solvent methyl ethyl ketone to prepare a composition for a cured cured resin.

基材としてトリアセテートセルロース(TAC)からなるシートを用い、その基材に、上記の導電性樹脂硬化物用組成物をバーコート法により塗工して塗膜を形成し、40℃・1分間加熱することにより有機溶剤を乾燥させて除去した。   A sheet made of triacetate cellulose (TAC) is used as a base material, and the above-mentioned composition for a cured conductive resin is applied to the base material by a bar coating method to form a coating film, which is heated at 40 ° C. for 1 minute. As a result, the organic solvent was removed by drying.

次に、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社製、光源:Hバルブ)を用い、照射線量を200mJ/cmとして、紫外線を照射することにより塗膜を硬化させて、実施例1の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。 Next, the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source: H bulb). Resin cured film (thickness: 3 μm) was obtained.

(実施例2)
実施例1の導電性樹脂硬化膜の作製において得られた有機溶剤に可溶の親水性基含有高分子化合物1.0重量部と、バインダー樹脂としての荒川化学工業株式会社製のコンポセランE102(商品名、固形分:48.6重量%)18.5重量部とを、有機溶剤メチルエチルケトン80.5重量部で希釈して、導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。
(Example 2)
1.0 part by weight of a hydrophilic group-containing polymer compound soluble in an organic solvent obtained in the production of the cured conductive resin film of Example 1, and Composeran E102 (product of Arakawa Chemical Industries, Ltd.) as a binder resin Name, solid content: 48.6 wt%) 18.5 parts by weight were diluted with 80.5 parts by weight of the organic solvent methyl ethyl ketone to prepare a composition for a cured conductive resin.

基材としてトリアセテートセルロース(TAC)からなるシートを用い、その基材に、上記の導電性樹脂硬化物用組成物をバーコート法により塗工して塗膜を形成し、40℃・1分間加熱することにより有機溶剤を乾燥させて除去した。   A sheet made of triacetate cellulose (TAC) is used as a base material, and the above-mentioned composition for a cured conductive resin is applied to the base material by a bar coating method to form a coating film, which is heated at 40 ° C. for 1 minute. As a result, the organic solvent was removed by drying.

次に、120℃で1時間加熱することにより塗膜を硬化させて、実施例2の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。   Next, the coating film was cured by heating at 120 ° C. for 1 hour to obtain a conductive resin cured film (thickness: 3 μm) of Example 2.

(実施例3)
親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物とπ共役系高分子化合物との混合物(π共役系導電性材料)として、ポリスチレンスルホネートとポリ(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシンとの水分散液(シグマアルドリッチ社製、製品番号:48,309−5)を用い、エステル化反応によりその親水性基に親油性基を結合させた。
(Example 3)
As a mixture of a hydrophilic group-containing polymer compound having a hydrophilic group and a π-conjugated polymer compound (π-conjugated conductive material), polystyrene sulfonate and poly (2,3-dihydrothieno [3,4-b]- Using an aqueous dispersion with 1,4-dioxin (manufactured by Sigma Aldrich, product number: 48,309-5), a lipophilic group was bonded to the hydrophilic group by an esterification reaction.

まず、上記の水分散液を、超遠心分離器(ベックマンコールター社製、型番:OptimaXL−100K)を用いて、20℃、回転数90,000rpm、5時間の条件の下、固形分を分離した。次に、その固形分をフィルターにより濾別し、得られた固形分を150℃で1時間乾燥させた後、メノウ乳鉢により粉砕した。その後、粉砕した固形分を減圧下で150℃12時間乾燥させることにより、粉末状の電子伝導性材料を得た。   First, the above-mentioned aqueous dispersion was separated into solids using an ultracentrifuge (Beckman Coulter, model number: OptimaXL-100K) under the conditions of 20 ° C., 90,000 rpm, and 5 hours. . Next, the solid content was filtered off with a filter, and the obtained solid content was dried at 150 ° C. for 1 hour and then pulverized with an agate mortar. Thereafter, the pulverized solid was dried at 150 ° C. for 12 hours under reduced pressure to obtain a powdery electron conductive material.

次に、上記の粉末状の電子伝導性材料100重量部と五塩化リン38重量部の混合物を、170℃で10時間還流煮沸し、その後蒸留した。得られた蒸留物をテトラヒドロフランに添加した後濾過し、その濾液にエタノール48重量部、ピリジン30重量部を加え、24時間攪拌しながら還流することによりエステル化反応させた。その後、得られた反応混合物を濾過し、その濾液から溶剤を留去し、粉末状の電子伝導性材料63重量部を得た。この電子伝導性材料について、100質量倍の有機溶剤(トルエン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール)に対する溶解性を調べた。その結果、この電子伝導性材料は、いずれの有機溶剤に対しても良く溶けた。また、エステル化反応前の電子伝導性材料についても同様にして有機溶剤に対する溶解性を調べたところ、いずれの有機溶剤に対しても溶けなかった。   Next, a mixture of 100 parts by weight of the above powdered electron conductive material and 38 parts by weight of phosphorus pentachloride was boiled at 170 ° C. for 10 hours and then distilled. The obtained distillate was added to tetrahydrofuran and filtered, and 48 parts by weight of ethanol and 30 parts by weight of pyridine were added to the filtrate, and the mixture was refluxed with stirring for 24 hours for esterification. Thereafter, the obtained reaction mixture was filtered, and the solvent was distilled off from the filtrate to obtain 63 parts by weight of a powdery electron conductive material. About this electron conductive material, the solubility with respect to 100 mass times organic solvent (toluene, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol) was investigated. As a result, this electron conductive material was well dissolved in any organic solvent. Further, the electron conductive material before the esterification reaction was examined for solubility in an organic solvent in the same manner, and it was not soluble in any organic solvent.

上記のようにして得られた有機溶剤に可溶の電子伝導性材料1.0重量部と、バインダー樹脂としてのペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)9.0重量部と、光重合開始剤としてのチバスペシャリティーケミカルズ製のイルガキュア184(商品名)0.4重量部とを、有機溶剤メチルエチルケトン90.0重量部で希釈して、導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。   1.0 parts by weight of an electron conductive material soluble in an organic solvent obtained as described above, 9.0 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (PETA) as a binder resin, and Ciba as a photopolymerization initiator. 0.4 parts by weight of Irgacure 184 (trade name) manufactured by Specialty Chemicals was diluted with 90.0 parts by weight of an organic solvent methyl ethyl ketone to prepare a composition for a cured cured resin.

基材としてトリアセテートセルロース(TAC)からなるシートを用い、その基材に、上記の導電性樹脂硬化物用組成物をバーコート法により塗工して塗膜を形成し、40℃・1分間加熱することにより有機溶剤を乾燥させて除去した。   A sheet made of triacetate cellulose (TAC) is used as a base material, and the above-mentioned composition for a cured conductive resin is applied to the base material by a bar coating method to form a coating film, which is heated at 40 ° C. for 1 minute. As a result, the organic solvent was removed by drying.

次に、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社製、光源:Hバルブ)を用い、照射線量を200mJ/cmとして、紫外線を照射することにより塗膜を硬化させて、実施例3の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。 Next, the coating film was cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source: H bulb). Resin cured film (thickness: 3 μm) was obtained.

(実施例4)
実施例3の導電性樹脂硬化膜の作製において得られた有機溶剤に可溶の電子伝導性材料1.0重量部と、バインダー樹脂としての荒川化学工業株式会社製のコンポセランE102(商品名、固形分:48.6重量%)18.5重量部とを、有機溶剤メチルエチルケトン90.0重量部で希釈して、導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。
Example 4
1.0 part by weight of an electron conductive material soluble in an organic solvent obtained in the production of the cured conductive resin film of Example 3 and COMPOSELAN E102 (trade name, solid, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) as a binder resin (18.6 parts by weight: 48.6% by weight) was diluted with 90.0 parts by weight of an organic solvent methyl ethyl ketone to prepare a composition for a cured cured resin.

基材として易接着処理が施されたポリエチレンテレフタレート(PET)のシートを用い、その基材に、上記の導電性樹脂硬化物用組成物をバーコート法により塗工して塗膜を形成し、40℃・1分間加熱することにより有機溶剤を乾燥させて除去した。   Using a sheet of polyethylene terephthalate (PET) that has been subjected to easy adhesion treatment as a base material, a coating film is formed on the base material by applying the above-mentioned composition for a cured conductive resin by a bar coating method, The organic solvent was dried and removed by heating at 40 ° C. for 1 minute.

次に、120℃で1時間加熱することにより塗膜を硬化させて、実施例4の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。   Next, the coating film was cured by heating at 120 ° C. for 1 hour to obtain a cured conductive resin film (thickness: 3 μm) of Example 4.

(実施例5)
実施例3の導電性樹脂硬化膜の作製において、導電性樹脂硬化物用組成物の調製の際、バインダー樹脂10重量部に対して、充填剤としてのコロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名:MEK−ST、平均粒径:15nm、固形分20重量%)を50重量部含有させた以外は、実施例3と同様にして、実施例5の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 5)
In the production of the cured conductive resin film of Example 3, colloidal silica as a filler (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. Name: MEK-ST, average particle size: 15 nm, solid content 20% by weight) The conductive resin cured film of Example 5 (thickness: 3 μm) is the same as Example 3 except that 50 parts by weight is contained. )

(実施例6)
実施例4の導電性樹脂硬化膜の作製において、導電性樹脂硬化物用組成物の調製の際、バインダー樹脂210重量部に対して、コロイダルシリカ(日産化学工業株式会社製、商品名:MEK−ST、平均粒径:15nm、固形分20重量%)を50重量部含有させた以外は、実施例4と同様にして、実施例6の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 6)
In preparation of the cured conductive resin film of Example 4, colloidal silica (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name: MEK-) with respect to 210 parts by weight of the binder resin when preparing the composition for cured conductive resin. A cured conductive resin film (thickness: 3 μm) of Example 6 was obtained in the same manner as Example 4 except that 50 parts by weight of ST, average particle diameter: 15 nm, solid content 20% by weight) was contained. .

(実施例7)
実施例3の導電性樹脂硬化膜の作製において、導電性樹脂硬化物用組成物の調製の際、バインダー樹脂10重量部に対して、表面処理されたアンチモンドープ酸化錫微粒子のメチルエチルケトン分散液を10重量部含有させた以外は、実施例3と同様にして、実施例7の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 7)
In the preparation of the cured conductive resin film of Example 3, when preparing the composition for a cured conductive resin, 10 parts by weight of a methyl ethyl ketone dispersion of antimony-doped tin oxide fine particles surface-treated with respect to 10 parts by weight of the binder resin. A conductive resin cured film (thickness: 3 μm) of Example 7 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the content was by weight.

なお、上記の表面処理されたアンチモンドープ酸化錫微粒子のメチルエチルケトン分散液は、酸化錫微粒子(石原産業株式会社製、商品名SN−100P、1次粒子径20nm、固形分20重量%)20重量部をメチルエチルケトン80重量部に分散させながら、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量部添加し、50℃で1時間加熱することにより得られた。この表面処理された酸化錫微粒子は、表面に重合性基であるメタクリロキシ基が付加されている。   The surface-treated antimony-doped tin oxide fine particle-methyl ethyl ketone dispersion is composed of 20 parts by weight of tin oxide fine particles (manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name SN-100P, primary particle size 20 nm, solid content 20% by weight). Was dispersed in 80 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 5 parts by weight of 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane was added, followed by heating at 50 ° C. for 1 hour. The surface-treated tin oxide fine particles have a methacryloxy group, which is a polymerizable group, added to the surface.

(実施例8)
実施例1の導電性樹脂硬化膜の作製において得られた有機溶剤に可溶の親水性基含有高分子化合物1.0重量部と、バインダー樹脂としてオキセタニル基を有するシルセスキオキサンOX−SQ(商品名:東亞合成株式会社製)9.0重量部と、光重合開始剤としてTPS−103(商品名:ミドリ化学株式会社製)0.3重量部とを、有機溶剤イソプロパノール90重量部で希釈して、導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。トリアセテートセルロース(TAC)上への導電性樹脂硬化膜の形成は実施例1と同様にして、実施例8の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 8)
1.0 part by weight of a hydrophilic group-containing polymer compound soluble in an organic solvent obtained in the preparation of the cured conductive resin film of Example 1, and a silsesquioxane OX-SQ having an oxetanyl group as a binder resin ( (Product name: Toagosei Co., Ltd.) 9.0 parts by weight and TPS-103 (trade name: Midori Chemical Co., Ltd.) 0.3 parts by weight as a photopolymerization initiator diluted with 90 parts by weight of organic solvent isopropanol And the composition for conductive resin hardened | cured materials was prepared. The conductive resin cured film was formed on triacetate cellulose (TAC) in the same manner as in Example 1 to obtain a conductive resin cured film (thickness: 3 μm) of Example 8.

(実施例9)
実施例3の導電性樹脂硬化膜の作製において得られた有機溶剤に可溶の電子伝導性材料1.0重量部と、バインダー樹脂としてオキセタニル基を有するシルセスキオキサンOX−SQ(商品名:東亞合成株式会社製)9.0重量部と、光重合開始剤としてTPS−103(商品名:ミドリ化学株式会社製)0.3重量部とを、有機溶剤イソプロパノール90重量部で希釈して、導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。トリアセテートセルロース(TAC)上への導電性樹脂硬化膜の形成は実施例3と同様にして、実施例9の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
Example 9
1.0 part by weight of an electron conductive material soluble in an organic solvent obtained in the production of the cured conductive resin film of Example 3, and silsesquioxane OX-SQ having an oxetanyl group as a binder resin (trade name: 9.0 parts by weight of Toagosei Co., Ltd.) and 0.3 parts by weight of TPS-103 (trade name: Midori Chemical Co., Ltd.) as a photopolymerization initiator were diluted with 90 parts by weight of an organic solvent isopropanol, A composition for cured conductive resin was prepared. Formation of the cured conductive resin film on triacetate cellulose (TAC) was carried out in the same manner as in Example 3 to obtain the cured conductive resin film (thickness: 3 μm) of Example 9.

(実施例10)
実施例5の充填剤に使用したコロイダルシリカ(固形分20重量%)のメチルエチルケトン分散液100重量%に、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量%添加し、50℃で1時間加熱処理することにより、表面処理された中空シリカ微粒子20重量%のメチルエチルケトン分散液を得た。この表面処理コロイダルシリカを用いて実施例5と同様にして、実施例10の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 10)
5% by weight of 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane is added to 100% by weight of a methyl ethyl ketone dispersion of colloidal silica (solid content: 20% by weight) used in the filler of Example 5, and heat-treated at 50 ° C. for 1 hour. As a result, a surface-treated hollow silica fine particle 20 wt% methyl ethyl ketone dispersion was obtained. Using this surface-treated colloidal silica, a cured conductive resin film (thickness: 3 μm) of Example 10 was obtained in the same manner as Example 5.

(実施例11)
American Dye Source, Inc.社製の自己ドープ型ポリチオフェン(商品名:ADS2010P、粉状の固体)0.5重量部をメノウ乳鉢にて粉砕した後、100mlのナスフラスコ中に入れ、テトラヒドロフラン(THF)50.0重量部を加えて攪拌した。そこへジブチル硫酸1.5重量部を加え、室温にて5日間攪拌したところ、THFが茶色に着色した溶液となった。その後、反応液をろ過して未反応物や不純物を除去して得られた溶液をロータリーエバポレーターでテトラヒドロフランを除去し、固形物を得た。これをヘキサンにより洗浄して残留するジブチル硫酸を除去し、真空乾燥後、ブチルエステル化された有機高分子材料を得た。この有機高分子材料は100質量倍のトルエンに可溶で、ブチルエステル化処理前の固体は不溶であった。これを用いて、実施例3と同様の手法で導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。トリアセテートセルロース(TAC)上への導電性樹脂硬化膜の形成は実施例3と同様にして、実施例11の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 11)
After 0.5 parts by weight of self-doped polythiophene (trade name: ADS2010P, powdered solid) manufactured by American Dye Source, Inc. was ground in an agate mortar, it was placed in a 100 ml eggplant flask and tetrahydrofuran (THF) 50.0 parts by weight were added and stirred. When 1.5 parts by weight of dibutyl sulfate was added thereto and stirred at room temperature for 5 days, a solution in which THF was colored brown was obtained. Thereafter, the reaction solution was filtered to remove unreacted substances and impurities, and tetrahydrofuran was removed from the solution by a rotary evaporator to obtain a solid. This was washed with hexane to remove the remaining dibutyl sulfate, and after vacuum drying, a butyl esterified organic polymer material was obtained. This organic polymer material was soluble in 100 mass times toluene, and the solid before the butyl esterification treatment was insoluble. Using this, a composition for a cured conductive resin was prepared in the same manner as in Example 3. Formation of the cured conductive resin film on triacetate cellulose (TAC) was carried out in the same manner as in Example 3 to obtain the cured conductive resin film (thickness: 3 μm) of Example 11.

(実施例12)
実施例11で得られた有機高分子材料を用いた以外は実施例8と同様の手法で導電性樹脂硬化物用組成物、及び実施例12の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 12)
A conductive resin cured composition and a conductive resin cured film (thickness: 3 μm) of Example 12 were prepared in the same manner as in Example 8 except that the organic polymer material obtained in Example 11 was used. Obtained.

(実施例13)
実施例11で得られた有機高分子材料を用いた以外は実施例2と同様の手法で導電性樹脂硬化物用組成物、及び実施例13の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Example 13)
The composition for cured conductive resin and the cured cured conductive resin film of Example 13 (thickness: 3 μm) were prepared in the same manner as in Example 2 except that the organic polymer material obtained in Example 11 was used. Obtained.

(実施例14)
実施例3で得られた導電性樹脂硬化用組成物100.0重量部をロータリーエバポレーターを用いて有機溶剤メチルエチルケトンを除去し、10.0重量部の電子伝導性材料とバインダー樹脂とからなる導電性樹脂硬化物用組成物を調製した。これを0.5mmのテフロン(登録商標)シート上に上記の導電性樹脂硬化物用組成物をバーコート法により塗工した後、紫外線照射装置を用いて照射線量500mJ/cmの紫外線を照射することにより塗膜を硬化させ、その後、テフロン(登録商標)シートから剥がすことにより、実施例14の導電性樹脂硬化フィルム(厚さ:100μm、No.14-1)を得た。得られた導電性樹脂硬化フィルムに含まれる電子伝導性材料の親水性基量を増やすことを目的として、更に紫外線を500mJ/cm照射したフィルム(厚さ:100μm、No.14-2)と、1規定の水酸化ナトリウム水溶液に40℃で30秒浸漬したフィルム(厚さ:100μm、No.14-3)も同時に作製した。
(Example 14)
100.0 parts by weight of the composition for curing a conductive resin obtained in Example 3 was removed by using a rotary evaporator to remove the organic solvent methyl ethyl ketone, and a conductive material comprising 10.0 parts by weight of an electron conductive material and a binder resin. A composition for cured resin was prepared. After coating this composition for a cured conductive resin on a 0.5 mm Teflon (registered trademark) sheet by the bar coating method, the composition is irradiated with ultraviolet rays with an irradiation dose of 500 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device. Then, the coating film was cured, and then peeled off from the Teflon (registered trademark) sheet, to obtain a conductive resin cured film of Example 14 (thickness: 100 μm, No. 14-1). A film (thickness: 100 μm, No. 14-2) irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 for the purpose of increasing the hydrophilic group amount of the electron conductive material contained in the obtained conductive resin cured film; A film (thickness: 100 μm, No. 14-3) immersed in a 1N aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 30 seconds was also produced.

(実施例15)
ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚さ:100μm)を用意し、この表面に実施例3で得られた導電性樹脂硬化用組成物をバーコート法により塗工した。その後、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社、光源Hバルブ)を用いて、照射線量108mJ/mで紫外線照射を行い、硬化させて、実施例15の導電性樹脂硬化膜(厚さ:5μm)を得た。
(Example 15)
A polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 100 μm) was prepared, and the conductive resin curing composition obtained in Example 3 was applied to the surface by a bar coating method. Then, after removing the solvent by drying, using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb), ultraviolet irradiation was performed at an irradiation dose of 108 mJ / m 2 , and curing was performed. Resin cured film (thickness: 5 μm) was obtained.

次に、導電性樹脂硬化膜の表面に、下記割合で配合した低屈折率層組成物をバーコート法により塗工し、乾燥により溶剤分を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社、光源Hバルブ)を用いて、照射線量192mJ/mで紫外線照射を行い硬化させて、光学積層体を得た。膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近になるように調製した。 Next, a low refractive index layer composition blended at the following ratio was applied to the surface of the cured conductive resin film by the bar coating method, and after removing the solvent by drying, an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd.) By using a company, a light source H bulb), an ultraviolet ray was irradiated at an irradiation dose of 192 mJ / m 2 and cured to obtain an optical laminate. The film thickness was adjusted so that the minimum value of the reflectance was around 550 nm.

低屈折率層用組成物;フッ素原子含有バインダー樹脂(商品名:オプツールAR100、ダイキン工業社製)13重量部/コロイダルシリカ(商品名:MEK−ST、日産化学工業製)5重量部/光硬化性樹脂:PET30(商品名:日本化薬社製)2重量部/光重合開始剤:イルガキュア907(商品名:チバスペシャリティーケミカルズ製)0.3重量部/メチルイソブチルケトン85.3重量部   Composition for low refractive index layer: Fluorine atom-containing binder resin (trade name: Optool AR100, manufactured by Daikin Industries) 13 parts by weight / colloidal silica (trade name: MEK-ST, manufactured by Nissan Chemical Industries) 5 parts by weight / photocuring Resin: PET30 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 2 parts by weight / photopolymerization initiator: Irgacure 907 (trade name: manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.3 part by weight / methyl isobutyl ketone 85.3 parts by weight

反射率の測定;島津製作所株式会社製の分光光度計(UV−3100PC:商品名)を用いてフィルムの最表面の絶対反射率を測定した。   Measurement of reflectance: The absolute reflectance of the outermost surface of the film was measured using a spectrophotometer (UV-3100PC: trade name) manufactured by Shimadzu Corporation.

(実施例16)
実施例14で得られた導電性樹脂硬化フィルム(No.14-1、No.14-2、No.14-3)上に、夫々下記割合で配合したハードコート用組成物をバーコート法により塗工した。その後、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社、光源Hバルブ)を用いて、照射線量108mJ/mで紫外線照射を行い、硬化させて、実施例16の導電性樹脂硬化膜(厚さ:5μm、No.16-1、No.16-2、No.16-3の3種類)を得た。
(Example 16)
The composition for hard coats blended in the following proportions on the conductive resin cured films (No. 14-1, No. 14-2, No. 14-3) obtained in Example 14 by the bar coat method. Coated. Then, after removing the solvent by drying, using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., light source H bulb), ultraviolet irradiation was performed at an irradiation dose of 108 mJ / m 2 , and curing was performed. Resin cured films (thickness: 5 μm, No. 16-1, No. 16-2, No. 16-3) were obtained.

次に、導電性樹脂硬化膜の表面に、実施例15と同様の低屈折率層組成物をバーコート法により塗工し、乾燥により溶剤分を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン株式会社、光源Hバルブ)を用いて、照射線量192mJ/mで紫外線照射を行い硬化させて、光学積層体を得た。膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近になるように調製した。 Next, the same low refractive index layer composition as in Example 15 was applied to the surface of the cured conductive resin film by the bar coating method, and after removing the solvent by drying, an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan) Using a light source H bulb, Inc., an ultraviolet ray was irradiated at an irradiation dose of 192 mJ / m 2 and cured to obtain an optical laminate. The film thickness was adjusted so that the minimum value of the reflectance was around 550 nm.

ハードコート用組成物;光硬化性樹脂:PET30(商品名:日本化薬社製)100重量部/光開始剤:イルガキュア184(商品名:チバスペシャリティーケミカルズ製)4重量部/イソプロピルアルコール100重量部   Hard coat composition; photocurable resin: PET30 (trade name: manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 100 parts by weight / photoinitiator: Irgacure 184 (trade name: manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 4 parts by weight / 100 parts by weight of isopropyl alcohol Part

(比較例1)
ポリスチレンスルホン酸(アルドリッチ社製;商品番号:56,122−3;18重量%水分散液))5.6重量部とペンタエリスリトールアクリレート9.0重量部とを、水85.4重量部を用いて導電性樹脂硬化物用組成物を調製したが、バインダー樹脂が水に溶解せず均一な溶液又は分散液が得られなかった。
(Comparative Example 1)
5.6 parts by weight of polystyrene sulfonic acid (manufactured by Aldrich; product number: 56,122-3; 18% by weight aqueous dispersion)) and 9.0 parts by weight of pentaerythritol acrylate were used with 85.4 parts by weight of water. Thus, a composition for cured conductive resin was prepared, but the binder resin was not dissolved in water, and a uniform solution or dispersion was not obtained.

(比較例2)
実施例1の導電性樹脂硬化膜の作製において、導電性樹脂硬化物用組成物として、ポリスチレンスルホン酸(アルドリッチ社製;商品番号:56,122−3;18重量%水分散液))5.6重量部と紫外線硬化型水分散ポリマー(新中村化学工業株式会社製、商品名:NKポリマーRP116−EH、30重量%水分散液)30重量部とを、水64.4重量部に溶解させることにより調製された導電性樹脂硬化物用組成物を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例2の導電性樹脂硬化膜(厚さ:3μm)を得た。
(Comparative Example 2)
4. In the production of the cured conductive resin film of Example 1, polystyrene sulfonic acid (manufactured by Aldrich; product number: 56,122-3; 18 wt% aqueous dispersion) is used as the composition for cured conductive resin. 6 parts by weight and 30 parts by weight of an ultraviolet curable water-dispersing polymer (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK polymer RP116-EH, 30% by weight aqueous dispersion) are dissolved in 64.4 parts by weight of water. A cured conductive resin film (thickness: 3 μm) of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition for cured cured resin resin was used.

(導電性の評価)
得られた導電性樹脂硬化膜の表面抵抗値を測定することにより導電性を評価した。表面抵抗値は、導電性樹脂硬化膜を25℃、湿度30%の環境に12時間放置した後、JIS K7194「導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法」の規定に準拠して、表面抵抗測定装置(株式会社ダイアインスツルメンツ社製、ロレスターEP(測定レンジ10−2〜10Ω))及び表面抵抗測定装置(株式会社ダイアインスツルメンツ社製、ハイレスターUP(測定レンジ10〜1013Ω))を用いて測定した。その結果を表1に示した。
(Evaluation of conductivity)
The conductivity was evaluated by measuring the surface resistance value of the obtained conductive resin cured film. The surface resistance value is determined in accordance with the provisions of JIS K7194 “Resistivity test method using 4-probe method of conductive plastic” after leaving the cured conductive resin film in an environment of 25 ° C. and 30% humidity for 12 hours. Surface resistance measuring device (manufactured by Dia Instruments Co., Ltd., Lorester EP (measuring range 10 −2 to 10 6 Ω)) and surface resistance measuring device (manufactured by Dia Instruments Co., Ltd., Hirestar UP (measuring range 10 4 to 10 13) Ω)). The results are shown in Table 1.

(含水率の評価)
得られた導電性樹脂硬化膜の含水率を以下のようにして評価した。乾燥させた滴定フラスコに脱水メタノール(微量水分滴定用)25mlを採り、カール・フィッシャー試薬(三菱化学株式会社製、商品名;SS低水分試料用)を終点まで滴下して無水状態とした。次に、1辺5mmの正方形に切り取った導電性樹脂硬化膜1.0gを速やかに滴定フラスコに移し、15分かき混ぜて水分を溶剤に完全に抽出させた。その後、滴定フラスコに上記と同様のカール・フィッシャー試薬を滴下し、無水状態になった時点までの試薬量から含まれる水分量を、カールフィッシャー測定装置(京都電子工業株式会社製、型番;MKA−210)を用いて測定し、その水分量により含水率を算出した。その結果を表1に示した。なお、この評価に用いた導電性樹脂硬化膜としては、各実施例及び比較例の塗工工程において、導電性樹脂硬化物用組成物を湿度25%以下、室温25℃の条件下でテフロン(登録商標)製のシート上に塗工したものを使用した。
(Evaluation of moisture content)
The moisture content of the obtained conductive resin cured film was evaluated as follows. 25 ml of dehydrated methanol (for trace moisture titration) was taken into the dried titration flask, and Karl Fischer reagent (trade name; for SS low moisture sample) was dropped to the end point to make it anhydrous. Next, 1.0 g of the cured conductive resin film cut into a square with a side of 5 mm was quickly transferred to a titration flask and stirred for 15 minutes to completely extract moisture into the solvent. Thereafter, the same Karl Fischer reagent as described above was dropped into the titration flask, and the water content contained from the amount of the reagent up to the point of time when the water became anhydrous was measured using a Karl Fischer measuring device (manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd., model number; MKA- 210), and the water content was calculated from the water content. The results are shown in Table 1. In addition, as the conductive resin cured film used for this evaluation, in the coating process of each Example and Comparative Example, the composition for a cured conductive resin was Teflon (under 25% humidity and room temperature 25 ° C.). The one coated on a (registered trademark) sheet was used.

(基材との密着性の評価)
得られた導電性樹脂硬化膜と基材との密着性を、JIS K5600−5−6:1999「付着性(クロスカット法)」に準拠して評価した。その結果を表1に示した。表1において、基材から完全に剥れるものを×、部分的に剥れるものを△、剥れなかったものを○とした。
(Evaluation of adhesion to substrate)
The adhesion between the obtained cured conductive resin film and the substrate was evaluated in accordance with JIS K5600-5-6: 1999 “Adhesiveness (cross-cut method)”. The results are shown in Table 1. In Table 1, what peeled completely from the base material was set to x, what peeled partially was set to (triangle | delta), and what did not peel was set to (circle).

(光透過性の評価)
得られた導電性樹脂硬化膜の光透過性を、測定装置として分光光度計(島津製作所株式会社製、商品名:UV−3100PC)を用いて全光線透過率を測定した。その結果を表1に示した。
(Evaluation of light transmission)
The light transmittance of the obtained conductive resin cured film was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: UV-3100PC) as a measuring device. The results are shown in Table 1.

(硬度の評価)
得られた導電性樹脂硬化膜の硬度をJIS K5600−5−4:1999に規定される「引っかき硬度(鉛筆法)」により測定した。その結果を表1に示した。
(Evaluation of hardness)
The hardness of the obtained conductive resin cured film was measured by “scratch hardness (pencil method)” defined in JIS K5600-5-4: 1999. The results are shown in Table 1.

(耐擦傷性の評価)
得られた導電性樹脂硬化膜の表面を、#0000番のスチールウールを用い、所定の摩擦荷重で10往復摩擦し、その後のヘイズ値を測定した。ヘイズ値の測定は、摩擦荷重を200〜1000gの範囲内で200g毎に変化させて行った。ヘイズ値の測定にはヘイズメーター(日本電色工業社製、型番:NDH2000)を用いた。そして、摩擦前の導電性樹脂硬化膜のヘイズ値と比較して1%以上の変化が認められた場合の最低荷重を調べることにより、導電性樹脂硬化膜の耐擦傷性を評価した。その結果を表1に示した。
(Evaluation of scratch resistance)
The surface of the obtained conductive resin cured film was subjected to 10 reciprocal frictions with a predetermined friction load using # 0000 steel wool, and the haze value thereafter was measured. The haze value was measured by changing the friction load every 200 g within a range of 200 to 1000 g. A haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., model number: NDH2000) was used for the measurement of the haze value. Then, the scratch resistance of the conductive resin cured film was evaluated by examining the minimum load when a change of 1% or more was observed compared with the haze value of the conductive resin cured film before friction. The results are shown in Table 1.

(評価結果)
実施例1〜16の導電性樹脂硬化膜は含水率が低く密着性が良好であったのに対し、比較例2の導電性樹脂硬化膜は含水率が高く密着性に劣るものであった。また、実施例1〜16の導電性樹脂硬化膜は、導電性、光透過性及び硬度のいずれもが高いものであった。
(Evaluation results)
The conductive resin cured films of Examples 1 to 16 had low moisture content and good adhesion, whereas the conductive resin cured film of Comparative Example 2 had high moisture content and poor adhesion. Moreover, the electroconductive resin cured film of Examples 1-16 was a thing with high all of electroconductivity, light transmittance, and hardness.

Figure 0004821152
Figure 0004821152

Claims (11)

親水性基含有高分子化合物が有する親水性基をエステル化又はエーテル化して該親水性基に前記親油性基を結合させることにより、複数の親水性基を持つと共に当該複数の親水性基の一部に親油性基が結合している親水性基含有高分子化合物を得る工程と、
前記親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のうち少なくとも一方の樹脂と、有機溶剤とを含む導電性樹脂硬化物用組成物を調製する調製工程と、
前記導電性樹脂硬化物用組成物で塗膜又は成形体を形成する形成工程と、
前記塗膜又は前記成形体に含まれる前記有機溶剤を乾燥させる乾燥工程と、
前記塗膜又は前記成形体を硬化させる硬化工程とを含むことを特徴とする導電性樹脂硬化物の製造方法。
The hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is esterified or etherified to bond the lipophilic group to the hydrophilic group, thereby having a plurality of hydrophilic groups and one of the plurality of hydrophilic groups. Obtaining a hydrophilic group-containing polymer compound having a lipophilic group bonded to a part thereof ;
A preparation step for preparing a composition for a cured cured resin comprising the hydrophilic group-containing polymer, at least one of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin, and an organic solvent;
A forming step of forming a coating film or a molded body with the composition for cured conductive resin,
A drying step of drying the organic solvent contained in the coating film or the molded body;
A method for producing a cured conductive resin, comprising: a curing step of curing the coating film or the molded body.
親水性基含有高分子化合物が有する親水性基をエステル化又はエーテル化して該親水性基に前記親油性基を結合させることにより、複数の親水性基を持つと共に当該複数の親水性基の一部に親油性基が結合している親水性基含有高分子化合物を得る工程と、
前記親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のうち少なくとも一方の樹脂とを含む無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物を調製する調製工程と、
前記導電性樹脂硬化物用組成物で塗膜又は成形体を形成する形成工程と、
前記塗膜又は前記成形体を硬化させる硬化工程とを含むことを特徴とする導電性樹脂硬化物の製造方法。
The hydrophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is esterified or etherified to bond the lipophilic group to the hydrophilic group, thereby having a plurality of hydrophilic groups and one of the plurality of hydrophilic groups. Obtaining a hydrophilic group-containing polymer compound having a lipophilic group bonded to a part thereof ;
A preparation step of preparing a solvent-free conductive resin cured composition containing the hydrophilic group-containing polymer compound and at least one of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin;
A forming step of forming a coating film or a molded body with the composition for cured conductive resin,
A method for producing a cured conductive resin, comprising: a curing step of curing the coating film or the molded body.
前記乾燥工程及び前記硬化工程のうち少なくとも一方の工程において、前記親水性基含有高分子化合物が持つ前記親油性基の少なくとも一部を前記親水性基から解離させることを特徴とする請求項1に記載の導電性樹脂硬化物の製造方法。   2. The method according to claim 1, wherein in at least one of the drying step and the curing step, at least a part of the lipophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is dissociated from the hydrophilic group. The manufacturing method of electroconductive resin hardened | cured material of description. 前記硬化工程において、前記親水性基含有高分子化合物が持つ前記親油性基の少なくとも一部を前記親水性基から解離させることを特徴とする請求項2に記載の導電性樹脂硬化物の製造方法。   3. The method for producing a cured conductive resin according to claim 2, wherein in the curing step, at least a part of the lipophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound is dissociated from the hydrophilic group. . 前記硬化工程の後に、前記親水性基含有高分子化合物が持つ前記親油性基の少なくとも一部を前記親水性基から解離させる解離工程を更に含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性樹脂硬化物の製造方法。   5. The method according to claim 1, further comprising a dissociation step of dissociating at least part of the lipophilic group of the hydrophilic group-containing polymer compound from the hydrophilic group after the curing step. The manufacturing method of the electroconductive resin hardened | cured material of 1 item | term. 前記導電性樹脂硬化物用組成物がπ共役系高分子化合物を更に含み、又は前記親水性基含有高分子化合物の主鎖にπ共役系結合を持つ、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の導電性樹脂硬化物の製造方法。 Claim 1, wherein the conductive resin cured composition is further seen contains a π-conjugated polymer compound, or with the main chain π conjugated bonds of the hydrophilic group-containing polymer compound, wherein the 6. The method for producing a cured conductive resin according to any one of 5 above. 前記π共役系高分子化合物を更に含む場合において、該π共役系高分子化合物がポリチオフェン又はポリチオフェン誘導体であることを特徴とする請求項6に記載の導電性樹脂硬化物の製造方法。 The method for producing a cured conductive resin according to claim 6 , wherein the π-conjugated polymer compound is polythiophene or a polythiophene derivative when the π-conjugated polymer compound is further included . 前記親水性基が、スルホン基、カルボキシル基及びリン酸基の群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1〜7に記載の導電性樹脂硬化物の製造方法。 Wherein the hydrophilic group is a sulfonic group, method for producing a conductive resin cured product according to claim 1-7, characterized in that at least one member selected from the group consisting of carboxyl group and phosphoric acid group. 前記導電性樹脂硬化物用組成物が充填剤を更に含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の導電性樹脂硬化物の製造方法。   The method for producing a cured conductive resin according to claim 1, wherein the composition for cured conductive resin further includes a filler. 複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方の樹脂と、有機溶剤とを含み、前記複数の親水性基の一部がエステル化又はエーテル化されて該親水性基に親油性基が結合しているとともに、π共役系高分子化合物が更に含まれ又は前記親水性基含有高分子化合物の主鎖にπ共役系結合を持つ、ことを特徴とする導電性樹脂硬化物用組成物。 A hydrophilic group-containing polymer compound having a plurality of hydrophilic groups, at least one of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin, and an organic solvent, wherein a part of the plurality of hydrophilic groups is an ester Or a lipophilic group bonded to the hydrophilic group and further containing a π-conjugated polymer compound or having a π-conjugated bond in the main chain of the hydrophilic group-containing polymer compound The composition for hardened | cured conductive resin characterized by the above-mentioned. 複数の親水性基を持つ親水性基含有高分子化合物と、電離放射線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂の少なくとも一方の樹脂とを含む無溶剤型の導電性樹脂硬化物用組成物であって、前記複数の親水性基の一部がエステル化又はエーテル化されて該親水性基に親油性基が結合しているとともに、π共役系高分子化合物が更に含まれ又は前記親水性基含有高分子化合物の主鎖にπ共役系結合を持つ、ことを特徴とする導電性樹脂硬化物用組成物。 A composition for a cured solvent-free conductive resin comprising a hydrophilic group-containing polymer compound having a plurality of hydrophilic groups and at least one of an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin, A part of the plurality of hydrophilic groups is esterified or etherified, and a lipophilic group is bonded to the hydrophilic group , and a π-conjugated polymer compound is further included, or the hydrophilic group-containing polymer A composition for cured conductive resin, characterized by having a π-conjugated bond in the main chain of the compound .
JP2005090989A 2004-04-02 2005-03-28 Process for producing cured conductive resin and composition for cured conductive resin Expired - Fee Related JP4821152B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005090989A JP4821152B2 (en) 2004-04-02 2005-03-28 Process for producing cured conductive resin and composition for cured conductive resin

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004110401 2004-04-02
JP2004110401 2004-04-02
JP2005090989A JP4821152B2 (en) 2004-04-02 2005-03-28 Process for producing cured conductive resin and composition for cured conductive resin

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005314671A JP2005314671A (en) 2005-11-10
JP4821152B2 true JP4821152B2 (en) 2011-11-24

Family

ID=35442414

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005090989A Expired - Fee Related JP4821152B2 (en) 2004-04-02 2005-03-28 Process for producing cured conductive resin and composition for cured conductive resin

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4821152B2 (en)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2057699B1 (en) * 2006-08-21 2018-10-17 Agfa-Gevaert Uv-photopolymerizable composition for producing organic conductive layers, patterns or prints
JP5297633B2 (en) * 2006-11-22 2013-09-25 富士フイルム株式会社 Method for producing antireflection film
JP5612814B2 (en) * 2008-09-22 2014-10-22 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer solution, conductive coating film and input device
JP5594455B2 (en) * 2008-09-30 2014-09-24 ナガセケムテックス株式会社 Low temperature thermosetting conductive coating composition
JP5391932B2 (en) * 2009-08-31 2014-01-15 コニカミノルタ株式会社 Transparent electrode, method for producing transparent electrode, and organic electroluminescence element
JP2011116860A (en) * 2009-12-03 2011-06-16 Shin Etsu Polymer Co Ltd Conductive coating, method for producing the same and conductive molded product
JP5312627B2 (en) * 2011-03-01 2013-10-09 富士フイルム株式会社 Optical film having antistatic layer, and antireflection film, polarizing plate and image display device using the same
JP5984054B2 (en) * 2011-08-17 2016-09-06 ナガセケムテックス株式会社 Organic conductive film
CN102952423B (en) * 2011-08-17 2017-05-10 长濑化成株式会社 Organic conductive film
JP6217353B2 (en) * 2013-11-29 2017-10-25 住友大阪セメント株式会社 Transparent resin composition, coating film and heat ray shielding film
JP6096727B2 (en) * 2014-09-12 2017-03-15 東ソー有機化学株式会社 Conductive polymer coating film and method for producing the same
JP7631810B2 (en) * 2021-01-05 2025-02-19 東ソー株式会社 Conductive polymer composition and its uses

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0690544B2 (en) * 1986-02-24 1994-11-14 富士写真フイルム株式会社 Electrophotographic lithographic printing plate
JPH03137121A (en) * 1989-06-19 1991-06-11 Showa Denko Kk Bonding material made of electrically conductive resin
JPH04214775A (en) * 1990-11-30 1992-08-05 Kao Corp Electrically conductive paste and electrically conductive coating film
JPH09134010A (en) * 1995-11-09 1997-05-20 Nippon Kayaku Co Ltd Resin composition and its cured body
JP3972353B2 (en) * 2000-04-25 2007-09-05 Jsr株式会社 Radiation-sensitive resin composition for forming partition of EL display element, partition and EL display element
JP2002229204A (en) * 2001-02-02 2002-08-14 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive resin composition
JP4390590B2 (en) * 2003-02-26 2009-12-24 大日本印刷株式会社 Thin film laminate and light emitting device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005314671A (en) 2005-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102093950B1 (en) Anti-reflective film and preparation method of the same
KR101889956B1 (en) Anti-reflective film
TWI522642B (en) Optical film, polarizer, display panel and display
WO2005098481A1 (en) Antistatic antireflective film capable of preventing occurrence of interference fringe
US20090207492A1 (en) Optical layered body, polarizer, and image display device
KR101519497B1 (en) Anti-reflective film having improved scratch-resistant and manufacturing method thereof
KR20170019329A (en) Photosesitive coating compositoin, low reflection film, and anti-reflective film
EP3677426B1 (en) Anti-reflective film, polarizing plate and display device
JP4821152B2 (en) Process for producing cured conductive resin and composition for cured conductive resin
JP5312627B2 (en) Optical film having antistatic layer, and antireflection film, polarizing plate and image display device using the same
KR20110025146A (en) Optical laminated body, polarizing plate and display device using same
KR102389324B1 (en) Photocurable coating composition for forming low refractive layer
KR20160117165A (en) Transparent conductive film
KR20190108969A (en) Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus
KR20180090453A (en) Hard coating film and flexible display window including a touch semsor using the same
JP5380211B2 (en) Optical film having antistatic layer, antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2010174201A (en) Antistatic hard coat film and ultraviolet-curable resin material composition
KR20170106803A (en) Photosesitive coating compositoin, low reflection film, and anti-reflective film
JP5254118B2 (en) Resin composition, antiglare layer-forming coating, antiglare film and display device using the same
CN117157559A (en) Antistatic hard coating and curable composition
JP5211510B2 (en) Antistatic cured film forming coating, antistatic cured film, plastic substrate with antistatic cured film, and method for producing antistatic cured film
JP2006199781A (en) Electroconductive coating composition and formed product
TWI389798B (en) An anti-reflectance film
JP4358145B2 (en) Method for producing transparent conductor
JP4247182B2 (en) Transparent conductor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071112

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100625

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100906

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110809

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110822

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4821152

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees