JP4861747B2 - 座標補正方法および観察装置 - Google Patents
座標補正方法および観察装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4861747B2 JP4861747B2 JP2006146042A JP2006146042A JP4861747B2 JP 4861747 B2 JP4861747 B2 JP 4861747B2 JP 2006146042 A JP2006146042 A JP 2006146042A JP 2006146042 A JP2006146042 A JP 2006146042A JP 4861747 B2 JP4861747 B2 JP 4861747B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coordinate correction
- coordinate
- observation
- defect
- correction table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2884—Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
図1は、本発明の一実施形態であるSEM式欠陥レビュー装置(観察装置)の構成を示す断面図である。図1に示すSEM式欠陥レビュー装置は、電子銃101、レンズ102、偏向器103、対物レンズ104、試料105、ステージ106、二次粒子検出器109、電子光学系制御部110、A/D変換部111、ステージ制御部112、全体制御部113、画像処理部114、ディスプレイ115、キーボード116、記憶装置117、マウス118等で構成されている。
上述のように、第1の実施形態の観察装置によれば、検査装置の検査モードに対応して静的に座標補正テーブルを選択するようにしている。つまり、検査装置と検査モードが決まれば一意に座標補正テーブルが決まる。
Claims (11)
- 予め欠陥が検出された座標に、試料ステージを移動して試料を観察する観察装置であって、
前記欠陥を検出した装置と前記装置において欠陥の検出に用いられた条件である検査モード情報との組合せを特定する特定手段と、
前記欠陥を検出した装置と前記検査モード情報の組合せに対応して設けられた複数の座標補正テーブルと、
前記特定手段によって特定された前記装置と前記検査モード情報の組合せに基づき、前記座標補正テーブルを選択するテーブル選択手段と、
前記テーブル選択手段によって選択された前記座標補正テーブルによって、前記欠陥を検出した装置によって検出された前記欠陥の座標値を補正する座標補正手段と、を備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項1に記載された観察装置であって、
前記テーブル選択手段は、前記欠陥を検出した装置と前記検査モード情報の組合せに一致する座標補正テーブルが無い場合には、前記装置と前記検査モード情報のうち何れか1つが一致する座標補正テーブルを選択することを特徴とする観察装置。 - 請求項1に記載された観察装置であって、さらに
前記複数の座標補正テーブルの補正精度を評価する座標補正テーブル評価手段と、
前記座標補正テーブル評価手段による評価結果に基づいて、前記複数の座標補正テーブルを切り換えるテーブル切換手段と、
前記テーブル切換手段によって切り換えられ、選択された座標補正テーブルを用いて前記検出された欠陥の座標値を補正する座標補正手段と、
を備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項3に記載された観察装置であって、
前記座標補正テーブル評価手段は、各座標補正テーブルによって補正された座標値と前記観察装置が検出した座標値とのズレを算出することにより、前記複数の座標補正テーブルの補正精度を評価することを特徴とする観察装置。 - 請求項3に記載された観察装置であって、
前記座標補正テーブル評価手段は、前記予め欠陥が検出された座標が複数ある場合に、各座標補正テーブルによって複数の点について補正された座標値と前記観察装置が検出した複数の座標値とのズレをそれぞれ算出し、得られたズレ量に対して重み付けをすることにより前記複数の座標補正テーブルの補正精度を評価することを特徴とする観察装置。 - 請求項3に記載された観察装置であって、さらに、
前記座標補正テーブル評価手段による前記補正精度の評価結果が最良の座標補正テーブルを次回の観察における初期補正テーブルとして設定する初期補正テーブル設定手段を備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項3に記載された観察装置であって、
予め欠陥が検出された座標値と前記観察装置が検出した座標値とのズレを評価する評価手段と、
前記ズレの傾向と前記欠陥を検出した装置と前記装置において欠陥の検出に用いられた条件である検査モード情報と試料が視野から外れないために必要な倍率と試料が視野から外れないために必要な視野の大きさのうち、複数を組合せて表示する表示手段と、
を備えることを特徴とする観察装置。 - 請求項7に記載された観察装置であって、さらに、
前記ズレの傾向が設定した基準値以上に変化した場合に、前記欠陥を検出した装置、又は前記欠陥を検出した装置を管理するシステムに対して、前記ズレの傾向を通知する通知手段を備えることを特徴とする観察装置。 - 試料上の欠陥を検出する検査装置と、試料ステージを移動して前記試料を観察する観察装置とを有する観察システムであって、
前記検査装置は、前記検出した欠陥の座標値を前記観察装置に送信する手段を備え、
前記観察装置は、前記検査装置と前記検査装置において前記欠陥の検出に用いられた条件である検査モード情報との組み合わせを特定する特定手段と、前記検査装置と前記検査モード情報の組み合わせに対応して設けられた複数の座標補正テーブルと、前記特定手段によって特定した前記検査装置と前記検査モード情報の組み合わせに基づき、前記座標補正テーブルを選択するテーブル選択手段と、前記テーブル選択手段によって選択された座標補正テーブルによって、前記検査装置によって検出された前記欠陥の座標値を補正する座標補正手段と、
を備えることを特徴とする観察システム。 - 予め欠陥が検出された座標に、試料ステージを移動して試料を観察する観察装置を制御する制御方法であって、
前記欠陥を検出した装置と前記装置において欠陥の検出に用いられた条件である検査モード情報との組み合わせを特定する特定工程と、
前記特定工程で特定された前記装置と前記検査モード情報との組み合わせに基づき、前記装置と前記検査モード情報との組み合わせに対応して設けられた複数の座標補正テーブルのうち一つの座標補正テーブルを選択するテーブル選択工程と、
前記テーブル選択工程において選択された座標補正テーブルによって、前記欠陥を検出した装置によって検出された前記欠陥の座標値を補正する座標補正工程と、
を備えることを特徴とする制御方法。 - コンピュータを請求項1乃至8の何れか1項に記載の観察装置として機能させるためのプログラム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006146042A JP4861747B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 座標補正方法および観察装置 |
US11/753,966 US7752001B2 (en) | 2006-05-26 | 2007-05-25 | Method of correcting coordinates, and defect review apparatus |
US12/792,795 US8036845B2 (en) | 2006-05-26 | 2010-06-03 | Method of correcting coordinates, and defect review apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006146042A JP4861747B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 座標補正方法および観察装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007317508A JP2007317508A (ja) | 2007-12-06 |
JP4861747B2 true JP4861747B2 (ja) | 2012-01-25 |
Family
ID=38750591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006146042A Active JP4861747B2 (ja) | 2006-05-26 | 2006-05-26 | 座標補正方法および観察装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7752001B2 (ja) |
JP (1) | JP4861747B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4861747B2 (ja) * | 2006-05-26 | 2012-01-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 座標補正方法および観察装置 |
US8467595B2 (en) | 2008-08-01 | 2013-06-18 | Hitachi High-Technologies Corporation | Defect review system and method, and program |
JP5492405B2 (ja) * | 2008-12-02 | 2014-05-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5583962B2 (ja) * | 2009-12-02 | 2014-09-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US20190377945A1 (en) * | 2017-02-28 | 2019-12-12 | Optim Corporation | System, method, and program for detecting abnormality |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2564359B2 (ja) * | 1988-05-23 | 1996-12-18 | 株式会社日立製作所 | パタ−ン検査方法及びパタ−ン測長方法並びに検査装置 |
JP2903356B2 (ja) * | 1993-04-08 | 1999-06-07 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | Lsiチップの座標ズレ修正方法 |
EP0910123B1 (en) * | 1996-03-19 | 2008-09-10 | Hitachi, Ltd. | Process control system |
US6259960B1 (en) * | 1996-11-01 | 2001-07-10 | Joel Ltd. | Part-inspecting system |
JPH11149893A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-02 | Sony Corp | 電子ビーム描画装置および描画方法並びに半導体装置 |
JPH11167893A (ja) * | 1997-12-05 | 1999-06-22 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP4235284B2 (ja) * | 1998-08-25 | 2009-03-11 | 株式会社日立製作所 | パターン検査装置およびその方法 |
JP2000106389A (ja) * | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Hitachi Ltd | ウェーハ/マスク検査装置 |
JP2000215839A (ja) * | 1999-01-25 | 2000-08-04 | Jeol Ltd | ウエハsemにおける光学式検査装置との位置ずれ補正方法 |
JP3934854B2 (ja) * | 2000-05-29 | 2007-06-20 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
JP2002100660A (ja) * | 2000-07-18 | 2002-04-05 | Hitachi Ltd | 欠陥検出方法と欠陥観察方法及び欠陥検出装置 |
JP2006147592A (ja) * | 2005-12-28 | 2006-06-08 | Shimadzu Corp | ビーム位置補正装置およびビーム条件とビーム位置補正量との関係を求める方法 |
JP4861747B2 (ja) * | 2006-05-26 | 2012-01-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 座標補正方法および観察装置 |
-
2006
- 2006-05-26 JP JP2006146042A patent/JP4861747B2/ja active Active
-
2007
- 2007-05-25 US US11/753,966 patent/US7752001B2/en active Active
-
2010
- 2010-06-03 US US12/792,795 patent/US8036845B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8036845B2 (en) | 2011-10-11 |
US20070276620A1 (en) | 2007-11-29 |
JP2007317508A (ja) | 2007-12-06 |
US20100241386A1 (en) | 2010-09-23 |
US7752001B2 (en) | 2010-07-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5525421B2 (ja) | 画像撮像装置および画像撮像方法 | |
JP5500871B2 (ja) | テンプレートマッチング用テンプレート作成方法、及びテンプレート作成装置 | |
JP5957378B2 (ja) | 欠陥観察方法および欠陥観察装置 | |
JP4365854B2 (ja) | Sem装置又はsemシステム及びその撮像レシピ及び計測レシピ生成方法 | |
JP5164598B2 (ja) | レビュー方法、およびレビュー装置 | |
JP5230740B2 (ja) | 欠陥レビュー装置および方法、並びにプログラム | |
JP5255319B2 (ja) | 欠陥観察装置、および欠陥観察方法 | |
US20070047800A1 (en) | Method and apparatus for inspecting defects of circuit patterns | |
JP2007003212A (ja) | 走査型電子顕微鏡用撮像レシピ作成装置及びその方法並びに半導体パターンの形状評価装置 | |
JP4861747B2 (ja) | 座標補正方法および観察装置 | |
US11670528B2 (en) | Wafer observation apparatus and wafer observation method | |
JP2010087070A (ja) | 走査電子顕微鏡に用いられるレシピの診断装置 | |
JP2002071594A (ja) | 電子顕微鏡 | |
US11195694B2 (en) | Charged particle beam system, method for determining range for automatically searching for focal point position in charged particle beam device, and non-transitory storage medium recording program for causing computer system to determine range for automatically searching for focal position in charged particle beam device | |
JP2008159574A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP4677701B2 (ja) | パターン検査方法及び検査結果確認装置 | |
JP7162734B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5491817B2 (ja) | 電子顕微鏡における薄膜試料位置認識装置 | |
JP2017003305A (ja) | 欠陥画像分類装置 | |
JP2007019270A (ja) | 顕微鏡を用いた欠陥観察方法および観察装置 | |
JP7390851B2 (ja) | 欠陥分類装置、欠陥分類プログラム | |
JP2008147176A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JP5163731B2 (ja) | 欠陥候補の画像表示方法 | |
JP2015008059A (ja) | 荷電粒子線装置および画像蓄積方法 | |
JP2020067779A (ja) | ウェーハに形成されたパターンの欠陥を検出する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081002 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110316 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111101 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4861747 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |