JP4780608B2

JP4780608B2 - Calibration standard sample and manufacturing method thereof, spectrophotometer calibration method, and mask blank manufacturing method

Info

Publication number: JP4780608B2
Application number: JP2006043405A
Authority: JP
Inventors: 修鈴木; 直純石橋
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 2005-02-23
Filing date: 2006-02-21
Publication date: 2011-09-28
Anticipated expiration: 2026-02-21
Also published as: JP2006267091A

Description

本発明は、２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料及びその製造方法、該較正用標準試料を用いて２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計の較正方法、並びにマスクブランク及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 200 nm or less, a method for manufacturing the same, and the transmittance of light having a wavelength of 200 nm or less using the calibration standard sample. The present invention relates to a calibration method for a spectrophotometer that measures the above, a mask blank, and a manufacturing method thereof.

マスクブランクにおいては、遮光膜の透過率保証が望まれている。遮光膜の透過率は、光学濃度（ＯｐｔｉｃａｌＤｅｎｓｉｔｙ：Ｏ．Ｄ．）で３〜４（例えば３．５）程度と極めて低いため、透過率保証のためには、非常に高精度の測定が必要になる。そのため、遮光膜の透過率は、国際基準の較正用標準試料を用いて較正された分光光度計（例えば、非特許文献１参照）等を用いて測定される。 In the mask blank, it is desired to guarantee the transmittance of the light shielding film. The transmittance of the light-shielding film is very low at about 3 to 4 (for example, 3.5) in optical density (Optical Density: OD). Therefore, in order to guarantee the transmittance, measurement with very high accuracy is required. become. Therefore, the transmittance of the light shielding film is measured using a spectrophotometer (for example, see Non-Patent Document 1) calibrated using an international standard calibration standard sample.

また、半導体デバイスの微細化要求に伴い、露光プロセスで用いられる露光光は年々短波長化している。近年では、露光光の光源として、ＡｒＦエキシマレーザ（露光波長１９３ｎｍ）が用いられている。
インターネット、ＵＲＬ：ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｈｉｔａｃｈｉ−ｈｉｔｅｃ．ｃｏｍ／ｓｃｉｅｎｃｅ／ｕｖ／ｕ４１００．ｈｔｍｌ In addition, with the demand for miniaturization of semiconductor devices, the exposure light used in the exposure process has been shortened year by year. In recent years, an ArF excimer laser (exposure wavelength: 193 nm) is used as a light source for exposure light.
Internet, URL: http: // www. hitachi-hitec. com / science / uv / u4100. html

しかし、露光波長１９３ｎｍの光について、分光光度計を較正するための国際基準の較正用標準試料は提供されていない。そのため、露光波長１９３ｎｍの光の透過率について、マスクブランクの遮光膜の透過率をどのように保証すべきかが問題となっていた。また、更に露光波長の短い光の透過率についても、同様の問題が生じるおそれがあった。 However, an international standard calibration standard for calibrating a spectrophotometer is not provided for light having an exposure wavelength of 193 nm. Therefore, it has been a problem how to ensure the transmittance of the light shielding film of the mask blank with respect to the transmittance of light having an exposure wavelength of 193 nm. Further, the same problem may occur with respect to the transmittance of light having a shorter exposure wavelength.

そこで、本発明は、上記の課題を解決できる、較正用標準試料及びその製造方法、該較正用標準試料を用いて分光光度計を較正する分光光度計の較正方法、並びにマスクブランク及びその製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention can solve the above-described problems, a calibration standard sample and a manufacturing method thereof, a spectrophotometer calibration method for calibrating a spectrophotometer using the calibration standard sample, and a mask blank and a manufacturing method thereof. The purpose is to provide.

上記の課題を解決するために、本発明は、以下の構成を有する。
（構成１）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料であって、測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に薄膜が形成されており、前記薄膜は、該薄膜が形成された前記透明体表面の面内において、前記透明体との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域をもつ。
このように構成すれば、透明体上に形成された薄膜における複数の異なる透過率に基づき、分光光度計を較正できる。このように構成すれば、分光光度計を較正するための較正用標準試料を提供することができる。 In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration.
(Configuration 1) A calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 200 nm or less, and a thin film on a transparent body capable of transmitting light of the wavelength to be measured The thin film has regions having a plurality of different transmittances that can be measured by comparison with the transparent body within the surface of the transparent body on which the thin film is formed.
If comprised in this way, a spectrophotometer can be calibrated based on the several different transmittance | permeability in the thin film formed on the transparent body. If comprised in this way, the standard sample for a calibration for calibrating a spectrophotometer can be provided.

（構成２）複数の異なる透過率を有する領域は、薄膜の膜厚で調整されている。
このように構成すれば、簡単に透明体表面の面内において、透明体との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域を形成することができる。複数の異なる透過率を有するには、薄膜の膜厚が整数倍となるように薄膜を形成しても良い。 (Configuration 2) A plurality of regions having different transmittances are adjusted by the thickness of the thin film.
If comprised in this way, the area | region which has several different transmittance | permeability which can be measured by the comparison with a transparent body can be easily formed in the surface of a transparent body surface. In order to have a plurality of different transmittances, the thin film may be formed so that the thickness of the thin film is an integral multiple.

（構成３）薄膜における少なくとも２箇所以上の複数の異なる透過率を有する領域は、１％〜２０％の透過率を有する。
このように構成すれば、位相シフト量測定装置で測定可能な透過率を有することになる。例えば、波長１９３ｎｍの光について、位相シフトマスクブランクの位相シフト膜の位相シフト量と透過率を測定することができ、事実上の業界標準として用いられている位相シフト量測定装置（レーザーテック社製ＭＰＭ１９３（登録商標））を用いることにより、較正用標準試料の複数の異なる透過率を、広く用いられている装置の測定値と対応づけることができるため、較正用標準試料としての適正をより高めることができる。 (Configuration 3) At least two or more regions having different transmittances in the thin film have a transmittance of 1% to 20%.
If comprised in this way, it will have the transmittance | permeability which can be measured with a phase shift amount measuring apparatus. For example, a phase shift amount measuring device (MPM193 manufactured by Lasertec Corporation) that can measure the phase shift amount and transmittance of the phase shift film of the phase shift mask blank can be measured for light having a wavelength of 193 nm. (Registered trademark)), it is possible to correlate a plurality of different transmittances of the calibration standard sample with the measured values of the widely used apparatus, so that the suitability as a calibration standard sample is further increased. Can do.

（構成４）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料であって、測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に、該透明体との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜が形成されている。 (Configuration 4) A calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 200 nm or less, on a transparent body capable of transmitting light of the wavelength to be measured, A multilayer film is formed by laminating a single layer film having a transmittance that can be measured by comparison with the transparent body.

このように構成した場合、例えば、多層膜を構成する各単層膜を形成するのと同時に、各単層膜をそれぞれ別途形成しておけば、各単層膜単独での透過率を測定することができる。そして、測定された単層膜の透過率に基づき、多層膜の透過率を算出することができる。この場合、多層膜の透過率が既知になるので、この多層膜の透過率に基づき、分光光度計を較正できる。このように構成すれば、分光光度計を較正するための較正用標準試料を提供することができる。 When configured in this way, for example, if each single layer film is formed separately at the same time as forming each single layer film constituting the multilayer film, the transmittance of each single layer film alone is measured. be able to. Based on the measured transmittance of the single layer film, the transmittance of the multilayer film can be calculated. In this case, since the transmittance of the multilayer film is known, the spectrophotometer can be calibrated based on the transmittance of the multilayer film. If comprised in this way, the standard sample for a calibration for calibrating a spectrophotometer can be provided.

多層膜を構成する各単層膜の透過率は、６％程度（例えば、１〜２０％、好ましくは２〜１５％、より好ましくは３〜１０％）である。この場合、多層膜を構成する各単層膜をそれぞれ独立して形成しておけば、これらの単層膜の透過率を、透明体との比較により高い精度で測定できる。また、上記の透過率の各単層膜を例えば２〜１０層、より好ましくは、３〜５層積層することにより、多層膜の透過率を適切に設定できる。
多層膜は、マスクブランクの遮光膜と同程度の透過率を有するのが好ましい。このように構成すれば、分光光度計を高い精度で較正できる。多層膜の透過率は、例えば、光学濃度（Ｏ．Ｄ．）で１．８〜５、より好ましくは２〜４、更に好ましくは、２〜３程度である。
多層膜は、例えば、単層膜の積層数がそれぞれ異なる複数の部分を有してよい。この場合、多層膜は、積層数に応じて、部分毎に異なる複数の透過率を有する。 The transmittance of each single layer film constituting the multilayer film is about 6% (for example, 1 to 20%, preferably 2 to 15%, more preferably 3 to 10%). In this case, if each single-layer film constituting the multilayer film is formed independently, the transmittance of these single-layer films can be measured with high accuracy by comparison with a transparent body. Moreover, the transmittance | permeability of a multilayer film can be set appropriately by laminating | stacking each single layer film of said transmittance | permeability 2-10 layers, for example, More preferably, 3-5 layers.
The multilayer film preferably has a transmittance comparable to that of the light shielding film of the mask blank. If comprised in this way, a spectrophotometer can be calibrated with high precision. The transmittance of the multilayer film is, for example, 1.8 to 5, more preferably 2 to 4, more preferably about 2 to 3 in terms of optical density (OD).
The multilayer film may have, for example, a plurality of portions in which the number of stacked single-layer films is different. In this case, the multilayer film has a plurality of transmittances that are different for each portion depending on the number of stacked layers.

（構成５）多層膜を構成する各単層膜は、それぞれ単独して、透明体上の多層膜が形成されていない領域にも形成されている。
このように構成すれば、単層膜の透過率を適切に測定できる。また、測定された単層膜の透過率に基づき、多層膜の透過率を適切に算出できる。 (Configuration 5) Each single layer film constituting the multilayer film is independently formed in a region where the multilayer film on the transparent body is not formed.
If comprised in this way, the transmittance | permeability of a single layer film can be measured appropriately. Further, the transmittance of the multilayer film can be appropriately calculated based on the measured transmittance of the single layer film.

（構成６）多層膜を構成する各単層膜の透過率は、１％〜２０％とする。
このように構成すれば、多層膜を構成する各単層膜は、位相シフト量測定装置で測定可能な透過率をそれぞれ有することになる。
位相シフト量測定装置によれば、例えば、１〜２０％程度の透過率を有する透過率を、透明体との比較により適切に測定できる。そのため、多層膜を構成する単層膜をそれぞれ別途形成しておけば、これらの単層膜の透過率を適切に測定し、多層膜の透過率を算出できる。
また、位相シフト量測定装置については、例えば波長１９３ｎｍの光についてのレーザーテック社製ＭＰＭ１９３（登録商標）のような、事実上の業界標準として用いられている測定器がある。そのため、このような位相シフト量測定装置を用いることにより、較正用標準試料の多層膜の透過率を、広く用いられている装置の測定値と対応づけることができる。また、これにより、較正用標準試料としての適正をより高めることができる。 (Configuration 6) The transmittance of each single layer film constituting the multilayer film is 1% to 20%.
If comprised in this way, each single layer film which comprises a multilayer film will each have the transmittance | permeability which can be measured with a phase shift amount measuring apparatus.
According to the phase shift amount measuring apparatus, for example, a transmittance having a transmittance of about 1 to 20% can be appropriately measured by comparison with a transparent body. Therefore, if the single-layer films constituting the multilayer film are separately formed, the transmittance of these single-layer films can be measured appropriately, and the transmittance of the multilayer film can be calculated.
As for the phase shift amount measuring device, for example, there is a measuring instrument used as a de facto industry standard such as MPM193 (registered trademark) manufactured by Lasertec Corporation for light having a wavelength of 193 nm. Therefore, by using such a phase shift amount measuring device, the transmittance of the multilayer film of the calibration standard sample can be associated with the measured value of a widely used device. Thereby, the suitability as a calibration standard sample can be further increased.

（構成７）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を較正するための較正用標準試料の製造方法であって、測定対象の波長の光を透過することが可能な透明体上に、該透明体との比較により測定可能な透過率を有する薄膜を積層させた多層膜と、多層膜が形成されていない領域に多層膜を構成する薄膜をそれぞれ単独で形成した複数の単層膜とを形成する成膜工程と、複数の単層膜それぞれの透過率を、透明体との比較により測定する単層膜透過率測定工程と、それぞれの単層膜について測定された透過率に基づき、多層膜の透過率を算出する多層膜透過率算出工程と、を有する。このようにすれば、構成４と同様の効果を得ることができる。
尚、多層膜は、例えば、単層膜の積層数がそれぞれ異なる複数の部分を有してよい。この場合、多層膜は、積層数に応じて、部分毎に異なる複数の透過率を有する。 (Configuration 7) A method for producing a calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 200 nm or less, and a transparent body capable of transmitting light having a wavelength to be measured On top of that, a multilayer film in which a thin film having a transmittance that can be measured by comparison with the transparent body is laminated, and a plurality of single films in which a thin film constituting the multilayer film is independently formed in a region where the multilayer film is not formed. A film forming step for forming a layer film, a single layer film transmittance measuring step for measuring the transmittance of each of a plurality of single layer films by comparison with a transparent body, and a transmittance measured for each single layer film And a multilayer film transmittance calculating step for calculating the transmittance of the multilayer film. In this way, the same effect as in configuration 4 can be obtained.
Note that the multilayer film may have, for example, a plurality of portions each having a different number of single-layer films. In this case, the multilayer film has a plurality of transmittances that are different for each portion depending on the number of stacked layers.

（構成８）複数の単層膜それぞれの透過率を、位相シフト量測定装置で測定する。このようにすれば、構成６と同様の効果を得ることができる。 (Configuration 8) The transmittance of each of the plurality of single layer films is measured with a phase shift measuring device. In this way, the same effect as in configuration 6 can be obtained.

（構成９）２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を測定する分光光度計を、上記構成１乃至６の何れかの較正用標準試料を用いて較正する。
このように構成すれば、マスクブランクのような光リソグラフィーに利用される部材における２００ｎｍ以下の波長の光の透過率を、分光光度計により適切に保証することができる。 (Configuration 9) A spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 200 nm or less is calibrated using the calibration standard sample of any of the above configurations 1 to 6.
If comprised in this way, the transmittance | permeability of the light of the wavelength of 200 nm or less in the member utilized for optical lithography like a mask blank can be ensured appropriately with a spectrophotometer.

（構成１０）透光性基板の表面上に遮光膜が形成されたマスクブランクであって、遮光膜が形成されていない表面上に、遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための、透光性基板との比較により測定可能な複数の異なる透過率を有する領域をもつように較正用薄膜が形成が形成されている。このように構成すれば、マスクブランクの製造者や、マスクブランクの使用者は、分光光度計の較正用標準試料を別途用意することなく、遮光膜の透過率を確認することができる。 (Configuration 10) In order to calibrate a spectrophotometer for measuring the transmittance of a light shielding film on a surface where a light shielding film is formed on the surface of the light-transmitting substrate and the light shielding film is not formed The calibration thin film is formed so as to have a plurality of regions having different transmittances that can be measured by comparison with the light-transmitting substrate. If comprised in this way, the manufacturer of a mask blank and the user of a mask blank can confirm the transmittance | permeability of a light shielding film, without preparing the standard sample for calibration of a spectrophotometer separately.

（構成１１）透光性基板の表面上に遮光膜が形成されたマスクブランクであって、遮光膜が形成されていない表面上に、遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための、透光性基板との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜が形成されている。このように構成すれば、マスクブランクの製造者や、マスクブランクの使用者は、分光光度計の較正用標準試料を別途用意することなく、遮光膜の透過率を確認することができる。
尚、多層膜は、例えば、単層膜の積層数がそれぞれ異なる複数の部分を有してよい。この場合、多層膜は、積層数に応じて、部分毎に異なる複数の透過率を有する。 (Configuration 11) In order to calibrate a spectrophotometer that measures the transmittance of a light shielding film on a surface that is a mask blank having a light shielding film formed on the surface of the light transmissive substrate and on which the light shielding film is not formed. A multilayer film is formed by laminating single-layer films having transmittance that can be measured by comparison with a light-transmitting substrate. If comprised in this way, the manufacturer of a mask blank and the user of a mask blank can confirm the transmittance | permeability of a light shielding film, without preparing the standard sample for calibration of a spectrophotometer separately.
Note that the multilayer film may have, for example, a plurality of portions each having a different number of single-layer films. In this case, the multilayer film has a plurality of transmittances that are different for each portion depending on the number of stacked layers.

（構成１２）多層膜を構成する各単層膜は、それぞれ独立して、透光性基板上の多層膜が形成されていない表面上にも形成されている。このように構成すれば、単層膜の透過率を適切に測定できる。また、測定された単層膜の透過率に基づき、多層膜の透過率を適切に算出できる。 (Structure 12) Each single layer film constituting the multilayer film is independently formed on the surface of the translucent substrate where the multilayer film is not formed. If comprised in this way, the transmittance | permeability of a single layer film can be measured appropriately. Further, the transmittance of the multilayer film can be appropriately calculated based on the measured transmittance of the single layer film.

（構成１３）遮光膜は単層膜を含む複数の層で構成されている。このように構成すれば、別途多層膜を形成するための材料を用意する必要がない。また、遮光膜を形成する過程で、多層膜を形成することができる。 (Structure 13) The light shielding film is composed of a plurality of layers including a single layer film. If comprised in this way, it is not necessary to prepare the material for forming a multilayer film separately. Further, a multilayer film can be formed in the process of forming the light shielding film.

（構成１４）透光性基板の表面上に所定の透過率を有する遮光膜が形成されたマスクブランクを製造するマスクブランクの製造方法であって、遮光膜を透光性基板上に形成した後、構成１乃至６の何れかに記載の較正用標準試料を用いて較正された分光光度計により遮光膜の透過率を測定し、測定された透過率が、仕様に合うか否かを検査する検査工程を有する。このように構成すれば、透過率が適切に保証されたマスクブランクを提供することができる。 (Configuration 14) A mask blank manufacturing method for manufacturing a mask blank in which a light-shielding film having a predetermined transmittance is formed on the surface of a light-transmitting substrate, after the light-shielding film is formed on the light-transmitting substrate The transmittance of the light-shielding film is measured by a spectrophotometer calibrated using the calibration standard sample according to any one of configurations 1 to 6, and whether or not the measured transmittance meets the specifications is checked. It has an inspection process. If comprised in this way, the mask blank by which the transmittance | permeability was ensured appropriately can be provided.

本発明によれば、例えば、マスクブランクの遮光膜の透過率を測定する分光光度計を較正するための適切な較正用標準試料を提供することができる。 According to the present invention, for example, it is possible to provide an appropriate calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of a light shielding film of a mask blank.

以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る較正用標準試料３０を用いた分光光度計１０の構成の一例を示す。較正用標準試料３０は、透過率が既知の多層膜３４を透光性基板３２上に有する基準プレートであり、分光光度計１０の装置較正に用いられる。較正用標準試料３０は、例えば、透過率の基準を定めるための対照試料として用いられる。 Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows an example of the configuration of a spectrophotometer 10 using a calibration standard sample 30 according to an embodiment of the present invention. The calibration standard sample 30 is a reference plate having a multilayer film 34 with a known transmittance on the translucent substrate 32, and is used for apparatus calibration of the spectrophotometer 10. The calibration standard sample 30 is used, for example, as a control sample for determining a transmittance standard.

本例において、較正用標準試料３０は、ＡｒＦエキシマレーザ露光波長（波長１９３ｎｍ）の光の透過率について分光光度計の較正に用いられる。較正用標準試料３０の多層膜３４は、マスクブランク２０の遮光膜２４と同程度の透過率を有しており、遮光膜２４の透過率を測定するための測定条件の較正に用いられる。尚、マスクブランク２０は、バイナリマスク用のマスクブランクであり、透光性基板２２上に遮光膜２４を有している。遮光膜２４は、例えば、クロム（Ｃｒ）膜やクロムの窒化膜、クロムの炭化膜、クロムの酸化膜、それらの複合膜からなる積層膜等である。 In this example, the calibration standard sample 30 is used for calibration of a spectrophotometer with respect to the transmittance of light having an ArF excimer laser exposure wavelength (wavelength 193 nm). The multilayer film 34 of the calibration standard sample 30 has the same transmittance as that of the light shielding film 24 of the mask blank 20, and is used for calibration of measurement conditions for measuring the transmittance of the light shielding film 24. The mask blank 20 is a mask blank for a binary mask, and has a light shielding film 24 on a translucent substrate 22. The light shielding film 24 is, for example, a chromium (Cr) film, a chromium nitride film, a chromium carbide film, a chromium oxide film, a laminated film made of a composite film thereof, or the like.

分光光度計１０は、光源４０及び光検出器５０を有する。本例において、光源４０は、重水素（Ｄ２）ランプからの光を分光して得られた中心波長が１９３ｎｍの光を発生する。また、光検出器５０は、較正用標準試料３０及びマスクブランク２０の透過光の強度を検出する検出器である。較正時において、光検出器５０は、較正用標準試料３０の多層膜３４の透過光強度を検出する。また、測定時において、光検出器５０は、マスクブランク２０の遮光膜２４の透過光強度を検出する。このように構成すれば、多層膜３４の透過率の測定値に基づき、分光光度計１０を適切に較正できる。また、較正された測定条件によ
り、マスクブランク２０の遮光膜２４の透過率を適切に測定できる。 The spectrophotometer 10 includes a light source 40 and a photodetector 50. In this example, the light source 40 generates light having a central wavelength of 193 nm obtained by spectrally dividing light from a deuterium (D2) lamp. The photodetector 50 is a detector that detects the intensity of transmitted light of the calibration standard sample 30 and the mask blank 20. At the time of calibration, the photodetector 50 detects the transmitted light intensity of the multilayer film 34 of the calibration standard sample 30. At the time of measurement, the photodetector 50 detects the transmitted light intensity of the light shielding film 24 of the mask blank 20. If comprised in this way, based on the measured value of the transmittance | permeability of the multilayer film 34, the spectrophotometer 10 can be calibrated appropriately. Further, the transmittance of the light shielding film 24 of the mask blank 20 can be appropriately measured under the calibrated measurement conditions.

また、この測定により、マスクブランク２０の遮光膜２４について、例えば、分光光度計１０により測定した場合の透過率を保証できる。このようにすれば、マスクブランクの品質を適切に保証できる。また、透過率が保証されたマスクブランク２０を提供できる。 Moreover, this measurement can guarantee the transmittance when the light shielding film 24 of the mask blank 20 is measured by the spectrophotometer 10, for example. In this way, the quality of the mask blank can be appropriately ensured. Moreover, the mask blank 20 with which the transmittance | permeability was ensured can be provided.

尚、同様の方法により、透光性基板２２と遮光膜２４の間にハーフトーン膜を更に有するハーフトーンマスク用のマスクブランクの透過率を保証してもよい。この場合、例えば遮光膜単独での透過率を保証してもよく、遮光膜及びハーフトーン膜の両方を合わせた透過率を保証してもよい。 Note that the transmittance of a mask blank for a halftone mask that further includes a halftone film between the translucent substrate 22 and the light shielding film 24 may be guaranteed by the same method. In this case, for example, the transmittance of the light shielding film alone may be guaranteed, or the transmittance of both the light shielding film and the halftone film may be guaranteed.

図２は、較正用標準試料３０の構成の第１の例を詳細に示す。本例において、較正用標準試料３０は、透光性基板３２、多層膜３４、及び複数の単層膜３６を有する。図示された複数の単層膜３６は、透光性基板３２の表面に個々に分散して配置されている。透光性基板３２は、分光光度計１０（図１参照）の測定対象の波長である１９３ｎｍの光に対して透明な基板である。多層膜３４は、複数の層（単層膜）１０２、１０４、１０６、１０８が積層された膜であり、透光性基板３２の主表面の一部に形成されている。ここで、単層膜３６は、基準透過率膜としての機能を持ち、他方、多層膜３４は、測定対象膜としての機能を有している。 FIG. 2 shows in detail a first example of the configuration of the calibration standard sample 30. In this example, the calibration standard sample 30 includes a translucent substrate 32, a multilayer film 34, and a plurality of single layer films 36. The illustrated single layer films 36 are individually dispersed on the surface of the translucent substrate 32. The translucent substrate 32 is a substrate that is transparent to 193 nm light, which is the wavelength to be measured by the spectrophotometer 10 (see FIG. 1). The multilayer film 34 is a film in which a plurality of layers (single layer films) 102, 104, 106, and 108 are stacked, and is formed on a part of the main surface of the translucent substrate 32. Here, the single layer film 36 has a function as a reference transmittance film, while the multilayer film 34 has a function as a measurement target film.

本例において、多層膜３４の各層１０２、１０４、１０６、１０８は、窒化されたモリブデン及びシリコンからなる膜（ＭｏＳｉＮ膜）である。このＭｏＳｉＮ膜は、波長１９３ｎｍ向けハーフトーン型位相シフトマスク用マスクブランクに用いられるハーフトーン膜と同一又は同様の膜である。また、多層膜３４は、１層１０２のみから成る部分、２層１０２、１０４のみから成る部分、３層１０２、１０４、１０６のみから成る部分をそれぞれ有している。尚、各層１０２、１０４、１０６、１０８は、それぞれ異なる材質の膜であってもよい。これらの層の一部又は全部は、上述の材料に限定されない。例えば、酸化された金属及びシリコンからなる膜、酸化窒化された金属及びシリコンからなる膜、酸化窒化炭化された金属及びシリコンからなる膜であってもよい。この場合における上記金属は、モリブデン、タングステン、タンタル、チタン、クロムを用いることができる。また、クロムやクロムの酸化物、窒化物、炭化物や、それらを含むクロム化合物の膜であってもよい。 In this example, each layer 102, 104, 106, 108 of the multilayer film 34 is a film (MoSiN film) made of nitrided molybdenum and silicon. This MoSiN film is the same as or similar to the halftone film used for the mask blank for a halftone phase shift mask for a wavelength of 193 nm. In addition, the multilayer film 34 has a portion consisting of only one layer 102, a portion consisting only of two layers 102 and 104, and a portion consisting only of three layers 102, 104 and 106, respectively. Each layer 102, 104, 106, 108 may be a film made of a different material. Some or all of these layers are not limited to the materials described above. For example, a film made of oxidized metal and silicon, a film made of oxynitrided metal and silicon, or a film made of oxynitrided and carbonized metal and silicon may be used. In this case, molybdenum, tungsten, tantalum, titanium, or chromium can be used as the metal. Further, it may be a film of chromium, a chromium oxide, a nitride, a carbide, or a chromium compound containing them.

複数の単層膜３６は、多層膜３４の各層をそれぞれ単独で形成した膜であり、透光性基板３２の主表面における多層膜３４が形成されていない領域に形成されている。本例において、較正用標準試料３０には、４つの単層膜３６が形成されている。４つの単層膜３６のそれぞれは、多層膜３４の各層と同じ層１０２、１０４、１０６、１０８によりそれぞれ形成されている。そのため、単層膜３６は、波長１９３ｎｍ向けのハーフトーン膜と同一又は同様の膜であり、６％程度（例えば１〜２０、好ましくは２〜１５％）の透過率を有している。 The plurality of single-layer films 36 is a film in which each layer of the multilayer film 34 is formed independently, and is formed in a region where the multilayer film 34 is not formed on the main surface of the translucent substrate 32. In this example, four single layer films 36 are formed on the calibration standard sample 30. Each of the four single-layer films 36 is formed of the same layers 102, 104, 106, and 108 as the respective layers of the multilayer film 34. Therefore, the single layer film 36 is the same as or similar to the halftone film for the wavelength of 193 nm, and has a transmittance of about 6% (for example, 1 to 20, preferably 2 to 15%).

尚、６％程度の透過率は、透明体との比較により、例えば位相シフト量測定装置を用いて測定可能である。透明体とは、例えば、単層膜３６と比べて十分に大きな透過率を有する物体である。本例においては、例えば、透光性基板３２において多層膜３４及び単層膜３６のいずれも形成されていない透明部分３８を透明体として用いることができる。 Note that a transmittance of about 6% can be measured by using, for example, a phase shift amount measuring device by comparison with a transparent body. The transparent body is an object having a sufficiently large transmittance as compared with the single layer film 36, for example. In this example, for example, a transparent portion 38 in which neither the multilayer film 34 nor the single layer film 36 is formed on the translucent substrate 32 can be used as a transparent body.

以下、較正用標準試料３０の製造方法について説明する。本例において、較正用標準試料３０の製造方法は、成膜工程、単層膜透過率測定工程、及び多層膜透過率算出工程を備える。 Hereinafter, a method for manufacturing the calibration standard sample 30 will be described. In this example, the method for manufacturing the calibration standard sample 30 includes a film forming step, a single layer film transmittance measuring step, and a multilayer film transmittance calculating step.

成膜工程は、複数の層１０２、１０４、１０６、１０８を順次形成する工程であり、フォトリソグラフィー技術等により各層を適宜パターニングする方法や、形成したくない領域を遮蔽すること等により、多層膜３４と、複数の単層膜３６とを形成する。このパターニングすることにより多層膜３４、複数の単層膜３６を形成する場合は、各層１０２、１０４、１０６、１０８の透過率に影響を与えないよう、層表面にダメージを与えないように行うのが好ましい。 The film formation step is a step of sequentially forming a plurality of layers 102, 104, 106, and 108. A multilayer film is formed by a method of appropriately patterning each layer by a photolithography technique or the like, or by shielding a region that is not desired to be formed. 34 and a plurality of single layer films 36 are formed. When the multilayer film 34 and the plurality of single layer films 36 are formed by this patterning, the layer surface is not damaged so as not to affect the transmittance of each layer 102, 104, 106, 108. Is preferred.

単層膜透過率測定工程は、複数の単層膜３６のそれぞれの透過率を測定する工程である。単層膜透過率測定工程は、例えば、透過率の比較対象の透明体として透光性基板３２の主表面における透明部分３８を用い、例えば位相シフト量測定装置により、この測定を行う。このようにすれば、各単層膜３６の透過率を、適切に測定できる。 The single layer film transmittance measuring step is a step of measuring the transmittance of each of the plurality of single layer films 36. In the single-layer film transmittance measuring step, for example, the transparent portion 38 on the main surface of the light-transmitting substrate 32 is used as a transparent body to be compared with the transmittance, and this measurement is performed by, for example, a phase shift amount measuring device. In this way, the transmittance of each single layer film 36 can be measured appropriately.

多層膜透過率算出工程は、それぞれの単層膜３６について測定された透過率に基づき、多層膜３４の透過率を算出する工程である。本例において、多層膜透過率算出工程は、多層膜３４における各層１０２、１０４、１０６、１０８のそれぞれに対応する単層膜３６の透過率を乗じることにより、多層膜３４の透過率を算出する。これにより、多層膜３４の透過率が既知となるため、較正用標準試料３０により分光光度計１０を較正できることとなる。 The multilayer film transmittance calculation step is a step of calculating the transmittance of the multilayer film 34 based on the transmittance measured for each single layer film 36. In this example, in the multilayer film transmittance calculation step, the transmittance of the multilayer film 34 is calculated by multiplying the transmittance of the single layer film 36 corresponding to each of the layers 102, 104, 106, and 108 in the multilayer film 34. . Thereby, since the transmittance of the multilayer film 34 becomes known, the spectrophotometer 10 can be calibrated with the calibration standard sample 30.

このように、本例によれば、例えば光学濃度で１．８〜５と極めて低い透過率を測定する場合に用いる較正用標準試料３０を提供できる。本例の較正用標準試料３０を用いた較正を行えば、分光光度計１０の測定範囲は、マスクブランクの遮光膜の製品保証に必要な透過率範囲を十分にカバーできる。そのため、国際基準の較正用標準試料がない１９３ｎｍにおいても、マスクブランクの遮光膜について、適切な透過率保証を行うことができる。 As described above, according to this example, it is possible to provide the calibration standard sample 30 used when measuring an extremely low transmittance of 1.8 to 5 in optical density, for example. If calibration is performed using the calibration standard sample 30 of this example, the measurement range of the spectrophotometer 10 can sufficiently cover the transmittance range necessary for product guarantee of the light-shielding film of the mask blank. Therefore, even at 193 nm where there is no international standard calibration standard sample, appropriate transmittance guarantee can be performed for the light shielding film of the mask blank.

尚、単層膜３６は、例えば多層膜３４とは別の透光性基板上に形成されていてもよい。この場合も、多層膜３４の各層と、対応する単層膜３６とを同時に成膜すれば、単層膜３６の透過率を測定することにより多層膜３４の透過率を算出できる。そのため、このように構成した場合も、極めて低い透過率を測定する場合に用いる較正用標準試料３０を提供できる。 The single layer film 36 may be formed on a light-transmitting substrate different from the multilayer film 34, for example. Also in this case, if each layer of the multilayer film 34 and the corresponding single layer film 36 are simultaneously formed, the transmittance of the multilayer film 34 can be calculated by measuring the transmittance of the single layer film 36. Therefore, even in such a configuration, it is possible to provide the calibration standard sample 30 used when measuring extremely low transmittance.

図３は、較正用標準試料３０の実施例１〜３における多層膜３４の透過率を示す。本実施例において、多層膜３４の各層１０２、１０４、１０６、１０８、及び単層膜３６は、波長１９３ｎｍ向けのハーフトーン膜と同一のＭｏＳｉＮ膜である。また、単層膜３６の透過率測定は、ハーフトーン膜の透過率測定等に広く用いられているレーザーテック社製ＭＰＭ１９３（登録商標）により行った。 FIG. 3 shows the transmittance of the multilayer film 34 in Examples 1 to 3 of the calibration standard sample 30. In this embodiment, each layer 102, 104, 106, 108 and single layer film 36 of the multilayer film 34 is the same MoSiN film as a halftone film for a wavelength of 193 nm. Further, the transmittance of the single layer film 36 was measured by MPM193 (registered trademark) manufactured by Lasertec, which is widely used for measuring the transmittance of a halftone film.

図３（ａ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示す。この計算値は、多層膜３４における積層数１〜４の各部の透過率を位相シフト量測定装置（レーザーテック社製ＭＰＭ１９３）によって測定し、測定された各単層膜３６の透過率を乗じて算出した光学濃度の値である。尚、多層膜３４における積層数１の部分とは、１層１０２のみから成る部分である。また、積層数２、３の部分とは、２層１０２、１０４のみから成る部分、及び３層１０２、１０４、１０６のみからなる部分である。積層数４の部分とは、すべての層１０２、１０４、１０６、１０８が重なっている部分である。また、光学濃度の測定値は、実施例１〜３と同様に製造された較正用標準試料３０を用いて分光光度計１０（日立ハイテクノロジーズ社製：Ｕ４１００）により測定した積層数１〜４の各部の透過率である。 FIG. 3A shows the calculated value of the optical density calculated from the transmittance obtained by measurement with the phase shift amount measuring device and the measured value of the optical density measured with the spectrophotometer. This calculated value is calculated by measuring the transmittance of each part of the multilayer film 34 having 1 to 4 layers with a phase shift measuring device (MPM193 manufactured by Lasertec Corporation) and multiplying the measured transmittance of each single layer film 36. The optical density value. Note that the portion of the multilayer film 34 having the number of stacked layers 1 is a portion formed of only one layer 102. Also, the number of layers 2 and 3 is a portion consisting only of the two layers 102 and 104 and a portion consisting only of the three layers 102, 104 and 106. The portion with the number of stacked layers 4 is a portion where all the layers 102, 104, 106, 108 overlap. Moreover, the measured value of an optical density is the number of lamination | stacking 1-4 measured by the spectrophotometer 10 (Hitachi High-Technologies company make: U4100) using the calibration standard sample 30 manufactured similarly to Examples 1-3. It is the transmittance of each part.

図３（ｂ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示すグラフである。最小二乗近似直線は、ｙ＝０．８５０３ｘ＋０．１５６４、Ｒ２＝０．９８７６となり、積層数１〜４いずれの部分についても、計算値と測定値とがよく一致していることがわかる。これにより、単層膜３６の透過率の測定値に基づいて多層膜３４の透過率を高い精度で算出できることが確認できた。尚、積層数１〜３までの計算値及び測定値についての最小二乗近似直線（図示せず）は、ｙ＝０．８７０９ｘ＋０．１１４３、Ｒ２＝０．９９９８となり、多層膜３４の透過率が更に高い精度で算出されていることが確認できる。 FIG. 3B is a graph showing a calculated value of the optical density calculated from the transmittance obtained by measurement with the phase shift amount measuring apparatus and a measured value of the optical density measured with the spectrophotometer. The least square approximation line is y = 0.8503x + 0.1564, R2 = 0.9876, and it can be seen that the calculated value and the measured value are in good agreement for any part of the number of layers 1 to 4. Accordingly, it was confirmed that the transmittance of the multilayer film 34 can be calculated with high accuracy based on the measured value of the transmittance of the single layer film 36. Note that the least squares approximation line (not shown) for the calculated values and the measured values for the number of stacked layers 1 to 3 is y = 0.8709x + 0.1143, R2 = 0.9998, and the transmittance of the multilayer film 34 is further increased. It can be confirmed that the calculation is performed with high accuracy.

図４は、較正用標準試料３０の構成の第２の例を示す上面図である。尚、以下に説明する点を除き、図１〜３における構成と同じ符号を付した構成は、図１〜３における構成と同一又は同様である。本例において、多層膜３４及び単層膜３６は、透光性基板３２の主表面中央部の略正方形領域に並べて配置される。 FIG. 4 is a top view showing a second example of the configuration of the calibration standard sample 30. In addition, except the point demonstrated below, the structure which attached | subjected the same code | symbol as the structure in FIGS. 1-3 is the same as that of the structure in FIGS. In this example, the multilayer film 34 and the single layer film 36 are arranged side by side in a substantially square region at the center of the main surface of the translucent substrate 32.

この略正方形領域は縦横に９分割されており、四隅の４領域に、層１０２、１０４、１０６、１０８の単層膜３６がそれぞれ形成されている。また、２個の単層膜３６に挟まれた領域には、層１０２の単層膜と、積層数２〜４の多層膜が形成されている。積層数２の多層膜は、２層１０２、１０４のみから成る多層膜である。積層数３の多層膜は、３層１０２、１０４、１０６のみから成る多層膜である。また、積層数４の多層膜は、４層１０２、１０４、１０６、１０８から成る多層膜３４である。 This substantially square region is divided into nine vertically and horizontally, and single layer films 36 of layers 102, 104, 106, and 108 are formed in four regions at four corners, respectively. In a region sandwiched between the two single layer films 36, a single layer film of the layer 102 and a multilayer film having 2 to 4 layers are formed. The multilayer film having two layers is a multilayer film composed of only two layers 102 and 104. The multilayer film having the number of stacked layers 3 is a multilayer film including only three layers 102, 104, and 106. In addition, the multilayer film having four stacked layers is a multilayer film 34 including four layers 102, 104, 106, and 108.

また、略正方形領域の中央には、透光性基板３２の主表面が露出した透明部分３８が残される。この透明部分３８は、単層膜３６の透過率を測定する場合に透過率の基準として用いられる。このように構成した場合も、較正用標準試料３０を適切に形成することができる。 Further, a transparent portion 38 where the main surface of the translucent substrate 32 is exposed is left at the center of the substantially square region. The transparent portion 38 is used as a reference for transmittance when measuring the transmittance of the single layer film 36. Also when comprised in this way, the calibration standard sample 30 can be formed appropriately.

尚、上述の例では、較正用標準試料３０として、透光性基板３２、多層膜３４、及び複数の単層膜３６を有する構成を挙げて説明したがこれに限られない。多層膜３４の代わりに、成膜時間を異ならせることによって複数箇所で膜厚が違うことによる複数の異なる透過率を有する領域をもつようにしてもかまわない。その場合、複数箇所で膜厚が異なる領域における最小単位膜厚の透過率を測定し、その透過率測定結果に基づいて、最小単位膜厚の成膜時間と、その他の膜厚が異なる領域における成膜時間から、透過率が異なる複数箇所の透過率を算出しても良い。具体的には、最小単位膜厚を基準としたときに、複数箇所の領域における膜厚は、基準膜厚、基準膜厚の２倍、３倍、…となるように設定すると良い。 In the above example, the calibration standard sample 30 is described as having the configuration including the translucent substrate 32, the multilayer film 34, and the plurality of single layer films 36, but is not limited thereto. Instead of the multilayer film 34, it may be possible to have a plurality of regions having different transmittances due to different film thicknesses at a plurality of locations by varying the film formation time. In that case, the transmittance of the minimum unit film thickness is measured in a region where the film thickness is different at a plurality of locations, and the film formation time of the minimum unit film thickness and other regions where the film thickness is different based on the transmittance measurement result. From the film formation time, the transmittance at a plurality of locations with different transmittances may be calculated. Specifically, when the minimum unit film thickness is used as a reference, the film thickness in a plurality of regions may be set to be the reference film thickness, twice, three times the reference film thickness,.

また、上記単層膜の透過率や、上記最小単位膜厚の透過率は、位相シフト量測定装置や、分光光度計の測定精度に応じて設定すると良い。単層膜や最小単位膜厚の透過率の下限値は、位相シフト量測定装置の測定精度以上の透過率であって、且つ、上記単層膜を２層以上積層した多層膜や、上記最小単位膜厚を数倍（１より大）以上膜厚が厚い領域における透過率が、分光光度計の測定精度が維持できるように設定するのが良い。具体的には、位相シフト量測定装置における透過率の測定が１％まで精度良く測定でき、また、分光光度計における光学濃度の測定が４まで精度良く測定できる場合、上記単層膜の透過率や、最小単位膜厚の透過率は１％以上とすることが望ましい。 The transmittance of the single layer film and the transmittance of the minimum unit film thickness may be set according to the measurement accuracy of a phase shift amount measuring device or a spectrophotometer. The lower limit of the transmittance of the single layer film or the minimum unit film thickness is a transmittance that is equal to or higher than the measurement accuracy of the phase shift amount measuring device, and is a multilayer film in which two or more single layer films are stacked, or the minimum The transmittance in a region where the unit film thickness is several times (greater than 1) or thicker is preferably set so that the measurement accuracy of the spectrophotometer can be maintained. Specifically, when the transmittance measurement in the phase shift amount measuring apparatus can be accurately measured up to 1% and the optical density measurement in the spectrophotometer can be accurately measured up to 4, the transmittance of the single-layer film can be measured. In addition, the transmittance of the minimum unit film thickness is desirably 1% or more.

図５は、マスクブランク２０の構成の一例を示す図である。尚、以下に説明する点を除き、図１〜３又は図４における構成と同じ符号を付した構成は、図１〜３又は図４における構成と同一又は同様である。 FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the configuration of the mask blank 20. Except for the points described below, the configurations denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 3 or 4 are the same as or similar to the configurations in FIGS.

本例において、マスクブランク２０は、透光性基板２２、遮光膜２４、及び多層膜３４を有する。マスクブランク２０は、多層膜３４の各層に対応する単層膜を更に有してもよい。遮光膜２４は、透光性基板２２の主表面において、周縁部を除いた領域に形成される。また、多層膜３４は、透光性基板２２の主表面において、遮光膜２４が形成されていない周縁部の領域に形成される。このように構成すれば、マスクブランク２０の透過率を測定する分光光度計を較正する較正用標準試料を別途用意する必要がない。 In this example, the mask blank 20 includes a translucent substrate 22, a light shielding film 24, and a multilayer film 34. The mask blank 20 may further include a single layer film corresponding to each layer of the multilayer film 34. The light shielding film 24 is formed in a region excluding the peripheral portion on the main surface of the translucent substrate 22. In addition, the multilayer film 34 is formed in the peripheral region where the light shielding film 24 is not formed on the main surface of the translucent substrate 22. If comprised in this way, it is not necessary to prepare the calibration standard sample which calibrates the spectrophotometer which measures the transmittance | permeability of the mask blank 20 separately.

（実施例）
精密研磨された主表面を有する透光性基板上に、クロムの窒化膜、クロムの炭化膜、クロムの酸化窒化膜をこの順に、スパッタリング法により積層して遮光膜を形成し、ＡｒＦエキシマレーザー露光用のフォトマスクブランクを作製した。
得られたフォトマスクブランクにおける遮光膜を、上記図２の第１の例に示した較正用標準試料を用いて較正した分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製：Ｕ４１００）を用いて、上記遮光膜の透過率を測定したところ、光学濃度で３．３であった。この値は、波長１９３ｎｍにおける光学特性（透過率や位相シフト量）の測定として、マスクブランク業界標準で用いられている位相シフト量測定装置（レーザーテック社製：ＭＰＭ１９３）と対応づけられた値であり、このマスクブランクを用いて作製されたマスクの遮光膜における透過率を適切に保証することができた。 (Example)
A light-shielding film is formed by laminating a chromium nitride film, a chromium carbide film, and a chromium oxynitride film in this order on a light-transmitting substrate having a precision-polished main surface by sputtering, and ArF excimer laser exposure. A photomask blank was prepared.
Using the spectrophotometer (Hitachi High-Technologies U4100) which calibrated the light shielding film in the obtained photomask blank using the calibration standard sample shown in the first example of FIG. As a result, the optical density was 3.3. This value is a value associated with a phase shift amount measuring device (Lasertec Corporation: MPM193) used in the mask blank industry standard as a measurement of optical characteristics (transmittance and phase shift amount) at a wavelength of 193 nm. The transmittance of the mask produced using this mask blank in the light-shielding film could be appropriately ensured.

以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記の実施形態では、一枚の透光性基板上に、透光性基板との比較により測定可能な透過率を有する単層膜を積層させた多層膜や、膜厚が異なる複数の透過率を有する領域を形成した較正用標準試料を挙げて本発明を説明したが、複数の透光性基板に対して各々透過率が異なる薄膜（単層膜、該単層膜を積層した積層膜や、最小単位膜厚、該最小単位膜厚に対して数倍（１より大）以上膜厚が厚い薄膜）を形成したものを較正用標準試料とし、分光光度計を較正しても良い。
上記実施形態に、多様な変更又は改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更又は改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 As mentioned above, although this invention was demonstrated using embodiment, the technical scope of this invention is not limited to the range as described in the said embodiment. In the above-described embodiment, a multi-layer film in which a single-layer film having a transmissivity that can be measured by comparison with a translucent substrate is laminated on a single translucent substrate, or a plurality of transmissivities with different film thicknesses Although the present invention has been described with reference to a standard sample for calibration in which a region having a thickness is formed, a thin film (single layer film, laminated film in which the single layer film is laminated, The spectrophotometer may be calibrated by using a standard unit sample for calibration that has a minimum unit film thickness and a thin film that is several times (greater than 1) thicker than the minimum unit film thickness.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications or improvements can be added to the above embodiment. It is apparent from the description of the scope of claims that embodiments with such changes or improvements can be included in the technical scope of the present invention.

本発明は、例えば、分光光度計を較正するための較正用標準試料に利用できる。 The present invention can be used, for example, as a calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer.

本発明の一実施形態に係る較正用標準試料３０を用いた分光光度計１０の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the spectrophotometer 10 using the calibration standard sample 30 which concerns on one Embodiment of this invention. 較正用標準試料３０の詳細な構成の第１の例を示す図である。3 is a diagram illustrating a first example of a detailed configuration of a calibration standard sample 30. FIG. 較正用標準試料３０の実施例１〜３における多層膜３４の透過率を示す図である。図３（ａ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示す。図３（ｂ）は、位相シフト量測定装置にて測定して得られた透過率から算出した光学濃度の計算値、及び分光光度計により測定した光学濃度の測定値を示すグラフである。It is a figure which shows the transmittance | permeability of the multilayer film in Examples 1-3 of the calibration standard sample. FIG. 3A shows the calculated value of the optical density calculated from the transmittance obtained by measurement with the phase shift amount measuring device and the measured value of the optical density measured with the spectrophotometer. FIG. 3B is a graph showing a calculated value of the optical density calculated from the transmittance obtained by measurement with the phase shift amount measuring apparatus and a measured value of the optical density measured with the spectrophotometer. 較正用標準試料３０の構成の第２の例を示す図である。It is a figure which shows the 2nd example of a structure of the standard sample 30 for calibration. マスクブランク２０の構成の一例を示す図である。2 is a diagram illustrating an example of a configuration of a mask blank 20. FIG.

Explanation of symbols

１０・・・分光光度計、２０・・・マスクブランク、２２・・・透光性基板、２４・・・遮光膜、３０・・・較正用標準試料、３２・・・透光性基板、３４・・・多層膜、３６・・・単層膜、３８・・・透明部分、４０・・・光源、５０・・・光検出器、１０２・・・層、１０４・・・層、１０６・・・層、１０８・・・層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Spectrophotometer, 20 ... Mask blank, 22 ... Translucent substrate, 24 ... Light shielding film, 30 ... Standard sample for calibration, 32 ... Translucent substrate, 34 ... Multilayer film 36 ... Single layer film 38 ... Transparent portion 40 ... Light source 50 ... Photo detector 102 ... Layer 104 ... Layer 106 .Layer, 108 ... layer

Claims

A calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 193 nm ,
A multilayer film formed by laminating a plurality of single layer films is provided in a partial region of the main surface of the translucent substrate, and is a region where the multilayer film of the main surface of the translucent substrate is not formed; and Each of the plurality of single-layer films is provided independently in different regions,
Each of the plurality of single layer films has a transmittance of 2% or more for light having a wavelength of 193 nm,
The multilayer film has an optical density of 2.0 or more with respect to light having a wavelength of 193 nm,
The calibration standard sample , wherein the single-layer film provided independently and the corresponding single-layer film in the multilayer film are formed under the same conditions .

2. The calibration standard sample according to claim 1, wherein the single-layer film provided independently and the corresponding single-layer film in the multilayer film are formed simultaneously.

3. The calibration standard sample according to claim 1, further comprising a transparent portion on which a single-layer film and a multilayer film are not formed on a main surface of the translucent substrate.

4. The calibration standard sample according to claim 1, wherein the transmittance of each of the plurality of single layer films is a transmittance that can be measured by a phase shift amount measuring device. 5.

The multilayer film has a portion having a structure in which three or more single-layer films are stacked as a portion where the optical density with respect to light having a wavelength of 193 nm is 2.0 or more, and the multilayer film has two single-layer films. The calibration standard sample according to any one of claims 1 to 4, further comprising at least a portion in which only one layer is laminated and a portion in which three or more single-layer films are laminated.

The calibration standard sample according to claim 1, wherein the translucent substrate is made of a material that can transmit light having a wavelength of 193 nm.

A method for producing a calibration standard sample for calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 193 nm , comprising:
Forming a multilayer film formed by laminating a plurality of single-layer films on a partial region of the main surface of the translucent substrate, wherein the multi-layer film is not formed on the main surface of the translucent substrate; and A film forming step of independently forming each of the plurality of single layer films in different regions ;
A single layer film transmittance measuring step of measuring the transmittance of each of the plurality of single layer films with a phase shift amount measuring device ;
A multilayer film transmittance calculating step of calculating the transmittance of the multilayer film by multiplying the measured transmittances of the plurality of single layer films;
I have a,
Each of the plurality of single layer films has a transmittance of 2% or more for light having a wavelength of 193 nm,
The multilayer film, the manufacturing method of the calibration standard samples, characterized in der Rukoto optical density of 2.0 or more with respect to light having a wavelength of 193 nm.

8. The calibration standard sample according to claim 7, wherein the film forming step forms a single layer film provided alone and a corresponding single layer film in the multilayer film under the same conditions. Production method.

8. The method of manufacturing a calibration standard sample according to claim 7, wherein the single layer film provided independently and the corresponding single layer film in the multilayer film are formed simultaneously.

9. The production of a calibration standard sample according to claim 7, wherein a transparent portion on which neither the single layer film nor the multilayer film is formed is provided on the main surface of the translucent substrate. Method.

The multilayer film has a portion having a structure in which three or more single-layer films are stacked as a portion where the optical density with respect to light having a wavelength of 193 nm is 2.0 or more, and the multilayer film has two single-layer films. The method for producing a calibration standard sample according to any one of claims 7 to 10, comprising at least a portion in which only one layer is laminated and a portion in which three or more monolayer films are laminated.

The method for producing a calibration standard sample according to claim 7, wherein the translucent substrate is made of a material that can transmit light having a wavelength of 193 nm.

A method for calibrating a spectrophotometer, comprising: calibrating a spectrophotometer that measures the transmittance of light having a wavelength of 193 nm using the calibration standard sample according to claim 1.

A mask blank manufacturing method for manufacturing a mask blank in which a light-shielding film having a predetermined transmittance is formed on the surface of a light-transmitting substrate,
After forming the light-shielding film on the translucent substrate, the transmittance of the light-shielding film is measured with a spectrophotometer calibrated using the calibration standard sample according to any one of claims 1 to 6, A mask blank manufacturing method comprising an inspection step of inspecting whether or not the measured transmittance meets a specification.