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JP4766961B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

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JP4766961B2
JP4766961B2 JP2005255189A JP2005255189A JP4766961B2 JP 4766961 B2 JP4766961 B2 JP 4766961B2 JP 2005255189 A JP2005255189 A JP 2005255189A JP 2005255189 A JP2005255189 A JP 2005255189A JP 4766961 B2 JP4766961 B2 JP 4766961B2
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Description

この発明は半導体記憶装置に関し、さらに詳しくは、置換前にアクセス可能な冗長行および列を有する半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having redundant rows and columns accessible before replacement.

半導体記憶装置の製造歩留りを向上させる技術として、冗長技術が知られている。この冗長技術は、半導体チップ上に形成された多結晶ポリシリコンのヒューズ素子をレーザビームなどで溶断することにより特定アドレスを冗長回路にプログラムし、これにより通常メモリセルを冗長メモリセルに置換するものである。   A redundancy technique is known as a technique for improving the manufacturing yield of a semiconductor memory device. This redundancy technology is to program a specific address into a redundancy circuit by fusing a polycrystalline polysilicon fuse element formed on a semiconductor chip with a laser beam, etc., thereby replacing a normal memory cell with a redundancy memory cell. It is.

しかしながら、近年の高集積化に伴って、置換されるべき冗長メモリセルの中に不良が存在するため、製造された半導体記憶装置を良品として救済することができないという問題が発生するようになった。このような問題を解決する方法として、たとえば特公平4−68719号公報には救済処理に先立って予め予備のメモリセルの検査が可能な半導体記憶装置の一例が開示されている。   However, with the recent high integration, there is a problem that the manufactured semiconductor memory device cannot be remedied as a non-defective product because a defect exists in the redundant memory cell to be replaced. . As a method for solving such a problem, for example, Japanese Patent Publication No. 4-68719 discloses an example of a semiconductor memory device in which a spare memory cell can be inspected in advance prior to a repair process.

図31は、上記公報に開示された半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。図31を参照して、この半導体記憶装置は、複数のメモリセルを含む本体メモリ1と、行アドレスARに応答してワード線WLの1つを選択する行デコーダ3と、列アドレスACに応答してビット線BLの1つを選択する列デコーダ5と、本体メモリ1から読出されたデータを増幅するセンスアンプ6と、出力バッファ7とを備える。この半導体記憶装置はさらに、複数の予備のメモリセルを含む予備メモリ2と、予備行イネーブル信号SPE1〜SPE4またはテスト信号TEST1′〜TEST4′に応答して予備メモリワード線SWLの1つを選択する予備デコーダ40と、置換アドレスがプログラム可能であって行アドレスARがそのプログラムされた置換アドレスに一致するとき上記予備行イネーブル信号SPE1〜SPE4を発生する不良アドレス検知回路80とを備える。 FIG. 31 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor memory device disclosed in the above publication. Referring to FIG. 31, this semiconductor memory device is responsive to a main memory 1 including a plurality of memory cells, a row decoder 3 for selecting one of word lines WL in response to a row address AR, and a column address AC. A column decoder 5 for selecting one of the bit lines BL, a sense amplifier 6 for amplifying data read from the main body memory 1, and an output buffer 7 are provided. This semiconductor memory device further selects spare memory 2 including a plurality of spare memory cells and one of spare memory word lines SWL in response to spare row enable signals SPE1 to SPE4 or test signals TEST1 'to TEST4'. A spare decoder 40 and a defective address detection circuit 80 that generates the spare row enable signals SPE1 to SPE4 when the replacement address is programmable and the row address AR matches the programmed replacement address.

通常動作では、外部から与えられる行アドレスARに応答して行デコーダ3がワード線WLの1つを選択する。これによりそのワード線に接続されたメモリセルからデータがビット線BL上に読出される。次いで外部から与えられた列アドレスACに応答して列デコーダ5がビット線BLの1つを選択する。これによりそのビット線上のデータがセンスアンプ6によって増幅され、さらに出力バッファ7を介して外部に出力される。このような通常動作では、不良アドレス検知回路80は不活性状態にあり、予備デコーダ40もまた不活性状態にある。したがって、予備メモリワード線SWLは非選択状態にある。   In normal operation, the row decoder 3 selects one of the word lines WL in response to a row address AR given from the outside. As a result, data is read onto the bit line BL from the memory cell connected to the word line. Next, in response to a column address AC given from the outside, the column decoder 5 selects one of the bit lines BL. As a result, the data on the bit line is amplified by the sense amplifier 6 and further output to the outside via the output buffer 7. In such normal operation, the defective address detection circuit 80 is in an inactive state, and the spare decoder 40 is also in an inactive state. Therefore, spare memory word line SWL is in a non-selected state.

一方、予備メモリセルのアクセス動作では、不良メモリセルのアドレスがヒューズ素子を含む基本回路81に予めプログラムされている。このような不良アドレスが検知されたとき、基本回路81からの予備行イネーブル信号SPE1〜SPE4がHレベルとなり、これにより予備デコーダ40が活性化される。また、これと同時に行デコーダ3は不活性化される。活性化された予備デコーダ40は予備メモリワード線SWLの1つを選択する。これによりその予備メモリワード線SWLに接続された予備メモリセルからデータがビット線BL上に読出される。次いで通常動作と同様に、外部から与えられた列アドレスACに応答して列デコーダ5がビット線BLの1つを選択し、その選択されたビット線BL上のデータがセンスアンプ6によって増幅され、さらに出力バッファ7を介して外部に出力される。   On the other hand, in the access operation of the spare memory cell, the address of the defective memory cell is programmed in advance in the basic circuit 81 including the fuse element. When such a defective address is detected, the spare row enable signals SPE1 to SPE4 from the basic circuit 81 become H level, and thereby the spare decoder 40 is activated. At the same time, the row decoder 3 is inactivated. The activated spare decoder 40 selects one of the spare memory word lines SWL. As a result, data is read onto bit line BL from the spare memory cell connected to spare memory word line SWL. Next, as in the normal operation, the column decoder 5 selects one of the bit lines BL in response to a column address AC given from the outside, and the data on the selected bit line BL is amplified by the sense amplifier 6. Further, it is output to the outside via the output buffer 7.

次に、この半導体記憶装置による予備メモリ2の検査方法について説明する。図32は、この半導体記憶装置に用いられるテストモード検知回路を示す。このテストモード検知回路は、アドレス信号が与えられる入力パッドPDと、入力パッドPDに与えられた信号を反転して内部アドレスバッファに供給するインバータ36と、内部テスト信号生成用のインバータ37とを備える。このインバータ37は、負荷用のPチャネルMOSトランジスタ38と、駆動用のNチャネルフィールドトランジスタ39とから構成される。Nチャネルフィールドトランジスタ39のしきい値電圧は電源電圧Vccよりも高い値(9V程度)に設定されている。 Next, an inspection method of the spare memory 2 by this semiconductor memory device will be described. FIG. 32 shows a test mode detection circuit used in this semiconductor memory device. The test mode detection circuit includes an input pad PD to which an address signal is applied, an inverter 36 that inverts the signal applied to the input pad PD and supplies the inverted signal to an internal address buffer , and an inverter 37 for generating an internal test signal. . The inverter 37 includes a load P-channel MOS transistor 38 and a drive N-channel field transistor 39. The threshold voltage of N channel field transistor 39 is set to a value (about 9 V) higher than power supply voltage Vcc.

図33は、内部テスト信号TESTと行アドレス信号の相補信号A0,/A0,A1,/A1に応答して内部テスト信号TEST1′〜TEST4′を発生するテスト信号デコーダ回路を示す。このような4つの相補信号A0,/A0,A1,/A1の組合せに従って4つの予備メモリワード線SWL1〜SWL4が選択的に駆動される。   FIG. 33 shows a test signal decoder circuit for generating internal test signals TEST1 'to TEST4' in response to internal test signal TEST and complementary signals A0, / A0, A1, and / A1 of the row address signal. Four spare memory word lines SWL1 to SWL4 are selectively driven in accordance with such a combination of four complementary signals A0, / A0, A1, and / A1.

図34は、図31中の基本回路81の構成を示す。この基本回路81は、互いに並列に接続された複数のNチャネルMOSトランジスタ12〜16と、各々が対応するNチャネルMOSトランジスタと直列に接続された複数のヒューズ素子18〜22と、これらヒューズ素子18〜22と共通に接続されたPチャネルMOSトランジスタ17とを備える。   FIG. 34 shows a configuration of the basic circuit 81 in FIG. The basic circuit 81 includes a plurality of N channel MOS transistors 12 to 16 connected in parallel to each other, a plurality of fuse elements 18 to 22 connected in series with the corresponding N channel MOS transistors, and the fuse elements 18. To P-channel MOS transistor 17 connected in common.

予備メモリのテスト動作では、Nチャネルフィールドトランジスタ39のしきい値電圧よりも高い電圧(たとえば10V)が入力パッドPDに与えられる。これにより、インバータ37の出力信号(内部テスト信号/TEST)は低電位になる。この反転信号TESTがテスト信号デコーダ回路に与えられ、これによりアドレス信号A0,A1に応答してテスト信号TEST1′〜TEST4′のうち1つが活性化される。   In the test operation of the spare memory, a voltage (for example, 10 V) higher than the threshold voltage of N channel field transistor 39 is applied to input pad PD. As a result, the output signal (internal test signal / TEST) of the inverter 37 becomes a low potential. Inverted signal TEST is applied to the test signal decoder circuit, whereby one of test signals TEST1 'to TEST4' is activated in response to address signals A0 and A1.

たとえば(A0,A1)=(1,1)のときは、テスト信号TEST1′がHレベルとなり、他のテスト信号TEST2′〜TEST4′はLレベルのまま維持される。したがって、このような内部テスト信号TEST1′〜TEST4′に応答して1つの予備メモリワード線SWL1が選択される。また、この内部テスト信号TEST1′〜TEST4′に応答して通常の行デコーダ3は不活性化される。これ以降の動作は、予備のメモリセルがアクセスされた場合と同様である。そのため、このような半導体記憶装置によれば、ヒューズ素子を溶断することなく、予備のメモリセルをテストすることができる。
特公平4−68719号公報
For example, when (A0, A1) = (1, 1), the test signal TEST1 ′ is at the H level, and the other test signals TEST2 ′ to TEST4 ′ are maintained at the L level. Therefore, one spare memory word line SWL1 is selected in response to such internal test signals TEST1 'to TEST4'. In response to the internal test signals TEST1 'to TEST4', the normal row decoder 3 is inactivated. The subsequent operation is the same as when a spare memory cell is accessed. Therefore, according to such a semiconductor memory device, a spare memory cell can be tested without fusing the fuse element.
Japanese Examined Patent Publication No. 4-68719

しかしながら、上述した従来の半導体記憶装置では、1つの予備メモリワード線を選択する1つのORゲート41に対して1つの内部テスト信号が必要であるため、そのための信号線が多数必要である。したがって、その信号線のために広い領域が必要とされるので、チップサイズが大きくなるという問題がある。   However, since the conventional semiconductor memory device described above requires one internal test signal for one OR gate 41 for selecting one spare memory word line, a large number of signal lines are required. Therefore, since a wide area is required for the signal line, there is a problem that the chip size is increased.

また、予備行イネーブル信号SPE1〜SPE4および内部テスト信号TEST1′〜TEST4′が与えられるNORゲート82のサイズが大きくなるという問題がある。仮にこのNORゲート82を分割したとしても、選択されるべき予備のメモリセルが増加するに従って論理ゲートの数が多くなるので、やはりチップサイズが大きくなるという問題が生じる。   Further, there is a problem that the size of the NOR gate 82 to which the spare row enable signals SPE1 to SPE4 and the internal test signals TEST1 ′ to TEST4 ′ are applied increases. Even if the NOR gate 82 is divided, the number of logic gates increases as the number of spare memory cells to be selected increases, so that there is still a problem that the chip size increases.

また、近年の高集積化された半導体記憶装置(たとえば16MビットのダイナミックRAM)では、予備のメモリセルが行方向だけでなく列方向にも多数配置されているので、このような構成では置換に先立って単純に行および列の両方をアクセスすることはできない。   In recent highly integrated semiconductor memory devices (for example, 16 Mbit dynamic RAM), a large number of spare memory cells are arranged not only in the row direction but also in the column direction. You cannot simply access both rows and columns in advance.

特に、行および列の両方向に予備のメモリセルが設けられている場合は、冗長行および冗長列を同時に置き換えるために冗長行および冗長列の交点に位置する予備のメモリセルをテストする必要があるが、このような構成ではそのようなテストを行なうことができない。   In particular, if spare memory cells are provided in both row and column directions, it is necessary to test spare memory cells located at the intersection of the redundant row and redundant column in order to replace the redundant row and redundant column at the same time. However, such a test cannot be performed in such a configuration.

また、図32のテストモード検知回路では、予備メモリのテストモード中の全期間にわたって入力パッドPDに高電圧を与え続けなければならない。そのため、入力パッドPDは予備のメモリセルを選択するために使用するアドレスピンを使用できず、予備のメモリセルに対して個別に設けられる必要がある。   In the test mode detection circuit of FIG. 32, a high voltage must be continuously applied to the input pad PD over the entire period during the test mode of the spare memory. For this reason, the input pad PD cannot use an address pin used for selecting a spare memory cell, and must be provided individually for the spare memory cell.

分割動作が可能な半導体記憶装置において各メモリアレイブロックに上述した不良アドレス検知回路80が配置されたとすると、動作させるためのメモリアレイブロックを選択するアドレスをも用いて予備のメモリセルのための機能テストを行なわなければならない。そのため、ブロック選択のために使用するアドレスと予備のメモリセルのためのアドレスとの関係を考慮する必要がある。 Assuming that the defective address detection circuit 80 described above is arranged in each memory array block in a semiconductor memory device capable of division operation, a function for a spare memory cell also using an address for selecting a memory array block to be operated A test must be done. Therefore, it is necessary to consider the relationship between the address used for block selection and the address for the spare memory cell.

それゆえに、この発明の目的は、置換に先立ってアクセス可能な冗長行および冗長列を有する半導体記憶装置を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having redundant rows and redundant columns that can be accessed prior to replacement.

この発明の他の目的は、制御信号の特殊な組合せに応答して冗長行および冗長列をテストするモードを有する半導体記憶装置を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a mode for testing redundant rows and redundant columns in response to a special combination of control signals.

この発明のさらに他の目的は、マルチビットテストの可能な冗長行および冗長列を有する半導体記憶装置を提供することである。   Still another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having redundant rows and redundant columns capable of multi-bit testing.

置換に先立ってアクセス可能な冗長行を有する半導体記憶装置をチップ面積の増大を抑えて実現することである。   A semiconductor memory device having a redundant row that can be accessed prior to replacement is realized while suppressing an increase in chip area.

この発明のさらに他の目的は、置換に先立ってアクセス可能な冗長列を有する半導体記憶装置をチップ面積の増大を抑えて実現することである。   Still another object of the present invention is to realize a semiconductor memory device having a redundant column accessible prior to replacement while suppressing an increase in chip area.

この発明による半導体記憶装置は、(a)複数のワード線、(b)上記ワード線に交差して配置される複数の通常ビット線対、(c)上記ワード線と上記通常ビット線対との交点に対応して配置される複数の通常メモリセル、(d)上記通常ビット線対に対応して設けられ、各々が対応する通常ビット線対に接続される複数の通常列選択ゲート対、(e)上記ワード線に交差して配置される第1および第2の冗長ビット線対、(f)上記ワード線と上記第1および第2の冗長ビット線対との交点に対応して配置される複数の冗長メモリセル、(g)上記第1の冗長ビット線対に接続される第1の冗長列選択ゲート対、および(h)上記第2の冗長ビット線対に接続される第2の冗長列選択ゲート対をそれぞれ含む複数のブロック、上記複数の通常列選択ゲート対に対応して設けられ、各々が対応する複数のブロックにおける通常列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される複数の通常列選択線、上記複数のブロックにおける第1の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される第1の冗長列選択線、上記複数のブロックにおける第2の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される第2の冗長列選択線、外部から与えられる列アドレス信号に応答して上記通常列選択線のいずれかを選択する通常列選択手段、第1の列置換アドレスがプログラム可能であって外部から与えられる列アドレス信号が上記第1の列置換アドレスに一致するとき第1の一致信号を発生する第1のプログラム手段、上記第1のプログラム手段から与えられる第1の一致信号に応答して第1の冗長列活性化信号を発生する第1の検知手段、第2の列置換アドレスがプログラム可能であって上記列アドレス信号が上記第2の列置換アドレスに一致するとき第2の一致信号を発生する第2のプログラム手段、上記第2のプログラム手段から与えられる第2の一致信号に応答して第2の冗長列活性化信号を発生する第2の検知手段、第1の冗長列活性化信号に応答して上記第1の冗長列選択線を選択し、上記第2の冗長列活性化信号に応答して上記第2の冗長列選択線を選択する冗長列選択手段、および上記第1および第2の一致信号のいずれかに応答して上記通常列選択手段を不活性化する不活性化手段を備え、上記第1のプログラム手段は、上記複数のブロックのいずれの通常ビット線対とも上記第1の冗長ビット線対と置き換え可能であり、上記第2のプログラム手段は、上記複数のブロックのいずれの通常ビット線対とも上記第2の冗長ビット線対と置き換え可能であり、上記第1のプログラム手段は、上記第1の列置換アドレスとともに第1の行置換アドレスの一部がプログラム可能であり、上記列アドレス信号が上記第1の列置換アドレスに一致し、かつ外部から与えられる行アドレス信号の一部が上記第1の行置換アドレスの一部に一致するとき上記第1の一致信号を発生し、上記第2のプログラム手段は、上記第2の列置換アドレスとともに第2の行置換アドレスの一部がプログラム可能であり、上記列アドレス信号が上記第2の列置換アドレスに一致し、かつ上記行アドレス信号の一部が上記第2の行置換アドレスの一部に一致するとき上記第2の一致信号を発生する。 The semiconductor memory device according to the present invention includes: (a) a plurality of word lines; (b) a plurality of normal bit line pairs arranged to intersect the word lines; and (c) a pair of the word lines and the normal bit line pairs. A plurality of normal memory cells arranged corresponding to the intersection; (d) a plurality of normal column selection gate pairs provided corresponding to the normal bit line pairs, each connected to a corresponding normal bit line pair; e) first and second redundant bit line pairs arranged crossing the word line, and (f) arranged corresponding to the intersection of the word line and the first and second redundant bit line pairs. A plurality of redundant memory cells; (g) a first redundant column selection gate pair connected to the first redundant bit line pair; and (h) a second redundant bit connected to the second redundant bit line pair. A plurality of blocks each including a redundant column selection gate pair, the plurality of blocks A plurality of normal column selection lines provided corresponding to the normal column selection gate pairs, each connected to the respective control electrodes of the normal column selection gate pairs in the corresponding plurality of blocks, the first redundancy in the plurality of blocks A first redundant column selection line connected to each control electrode of the column selection gate pair, and a second redundant column selection line connected to each control electrode of the second redundant column selection gate pair in the plurality of blocks Normal column selecting means for selecting one of the normal column selection lines in response to a column address signal supplied from the outside, and a column address signal supplied from the outside with a programmable first column replacement address. First program means for generating a first coincidence signal when it coincides with one column replacement address, and a first redundant column in response to a first coincidence signal provided from the first program means A first detecting means for generating a sexifying signal; a second for generating a second match signal when the second column replacement address is programmable and the column address signal matches the second column replacement address; Program means, second detection means for generating a second redundant column activation signal in response to a second coincidence signal provided from the second program means, and responding to the first redundant column activation signal Redundant column selection means for selecting the first redundant column selection line and selecting the second redundant column selection line in response to the second redundant column activation signal, and the first and second Deactivating means for deactivating the normal column selecting means in response to one of the coincidence signals, and the first program means includes the first bit line pair of the plurality of blocks for the first bit line pair. Can be replaced with redundant bit line pairs The second program means can replace any of the normal bit line pairs of the plurality of blocks with the second redundant bit line pair, and the first program means can be used together with the first column replacement address. A part of the first row replacement address is programmable, the column address signal matches the first column replacement address, and a part of the row address signal supplied from the outside is the first row replacement address. The first match signal is generated when a part of the second row replacement address is programmable together with the second column replacement address, and the second column replacement address is programmable. address signal coincides with the second column replacement addresses, and that occur with the second coincidence signal when a portion of the row address signal coincides with the portion of the second row replacement address .

上記半導体記憶装置は、3つのテストモードを有する。第1のテストモードでは、行テスト信号に応答して通常行選択手段が不活性化されるとともに冗長行選択手段が活性化されるので、置換に先立って冗長行メモリセルのアクセスが可能である。第2のテストモードでは、列テスト信号に応答して通常列選択手段が不活性化されるとともに冗長列選択手段が活性化されるので、置換に先立って冗長列メモリセルのアクセスが可能である。第3のテストモードでは、行テスト信号に応答して通常行選択手段が不活性化されるとともに冗長行選択手段が活性化され、かつ列テスト信号に応答して通常列選択手段が不活性化されるとともに冗長列選択手段が活性化されるので、置換に先立って冗長行列メモリセルのアクセスが可能である。   The semiconductor memory device has three test modes. In the first test mode, the normal row selection unit is deactivated and the redundant row selection unit is activated in response to the row test signal, so that the redundant row memory cell can be accessed prior to replacement. . In the second test mode, the normal column selecting means is inactivated and the redundant column selecting means is activated in response to the column test signal, so that the redundant column memory cell can be accessed prior to replacement. . In the third test mode, the normal row selection unit is deactivated in response to the row test signal, the redundant row selection unit is activated, and the normal column selection unit is deactivated in response to the column test signal. At the same time, the redundant column selection means is activated, so that the redundant matrix memory cells can be accessed prior to replacement.

好ましくは、半導体記憶装置は、上記の構成に加えて、外部から与えられる制御信号に応答して上記行テスト信号および/または上記列テスト信号を発生するテスト信号発生手段をさらに備える。   Preferably, the semiconductor memory device further includes test signal generating means for generating the row test signal and / or the column test signal in response to a control signal applied from the outside in addition to the above configuration.

上記半導体記憶装置においては、上記請求項1の作用に加えて、行アドレスストローブ信号、列アドレスストローブ信号、書込イネーブル信号、アドレスキー信号などの制御信号に応答して行テスト信号および列テスト信号の一方または双方が内部的に生成されるので、モールドされた半導体記憶装置であっも冗長行および冗長列の機能テストが可能である。   In the semiconductor memory device, in addition to the operation of claim 1, a row test signal and a column test signal are responsive to control signals such as a row address strobe signal, a column address strobe signal, a write enable signal, and an address key signal. Since one or both of them are generated internally, it is possible to test the function of redundant rows and columns even in a molded semiconductor memory device.

さらに好ましくは、半導体記憶装置は、上記の構成に加えて、1つの行アドレス信号と1つの列アドレス信号に応答して、上記通常メモリセルのいずれかから複数のデータを複数のデータを並列的に読出す並列読出手段、および予め定められたマルチビットテスト信号に応答して上記並列読出手段によって読出されたデータのすべてが互いに一致するか否かを検出し、上記データのすべてが互いに一致するとき第1の値を示し上記データの1つが他のデータと一致しないとき上記第1の値と異なる第2の値を示す一致/不一致検出信号を発生する一致/不一致検出手段をさらに備え、上記テスト信号発生手段はさらに、外部から与えられる制御信号に応答して上記マルチビットテスト信号を発生する。   More preferably, in addition to the above-described configuration, the semiconductor memory device responds to one row address signal and one column address signal, and a plurality of data from one of the normal memory cells is parallelized. The parallel reading means for reading the data and the data read by the parallel reading means in response to a predetermined multi-bit test signal are detected to match each other. And a match / mismatch detection means for generating a match / mismatch detection signal indicating a first value and a second value different from the first value when one of the data does not match the other data, The test signal generating means further generates the multi-bit test signal in response to a control signal given from the outside.

上記半導体記憶装置においては、上記請求項2の作用に加えて、1つの行アドレス信号と1つの列アドレス信号に応答して複数のデータが並列的に読出され、さらにその読出されたデータのすべてが互いに一致するか否かが検出されるので、冗長行および冗長列のマルチビットテストが可能である。   In the semiconductor memory device, in addition to the operation of claim 2, a plurality of data are read in parallel in response to one row address signal and one column address signal, and all of the read data is also read. Are detected, it is possible to perform a multi-bit test of redundant rows and columns.

この発明の他の構成による半導体記憶装置は、複数のブロック、通常ワード線選択手段、第1のプログラム手段、第1の検知手段、第1の行置換制御手段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、第2の行置換制御手段、冗長ワード線選択手段、および不活性化手段を備える。上記複数のブロックの各々は、複数の通常ワード線、複数の通常行デコーダ、第1および第2の冗長ワード線、冗長行デコーダ、複数のビット線対、複数の通常メモリセル、ならびに複数の冗長メモリセルを含む。複数の通常行デコーダの各々は、上記複数の通常ワード線のうち第1の数の通常ワード線に対応して設けられ、対応する第1の数の通常ワード線に対応して与えられる第1の数の通常ワード線駆動信号に応答して対応する第1の数の通常ワード線を選択的に駆動する。上記冗長行デコーダ、上記第1および第2の冗長ワード線に対応して設けられ、第1の冗長ワード線駆動信号に応答して第1の冗長ワード線を駆動し、第2の冗長ワード線駆動信号に応答して第2の冗長ワード線を駆動する。上記複数のビット線対は上記複数の通常ワード線と上記第1および第2の冗長ワード線とに交差して配置される。上記複数の通常メモリセルは、上記通常ワード線と上記ビット線対との交点に対応して配置される。複数の冗長メモリセルは上記第1および第2の冗長ワード線と上記ビット線対との交点に対応して配置される。上記通常ワード線選択手段は、外部から与えられ行アドレス信号に応答して上記複数のブロックにおける通常行デコーダの各々に上記第1の数の通常ワード線駆動信号を供給する。上記第のプログラム手段には第1の行置換アドレスがプログラム可能である。上記第1の検知手段は、上記行アドレス信号が上記第1のプログラム手段にプログラムされた上記第1の行置換アドレスに一致するか否かを検知し、一致するとき第1の冗長行活性化信号を発生する。上記第1の行置換制御手段は、予め定められた行テスト信号と上記行アドレス信号とに応答して上記第1の冗長行活性化信号を発生するよう上記第1の検知手段を強制的に制御する。上記第2のプログラム手段には第2の行置換アドレスがプログラム可能である。上記第2の検知手段は、上記行アドレス信号が上記第2のプログラム手段にプログラムされた上記第2の行置換アドレスに一致するか否かを検知し、一致するとき第2の冗長行活性化信号を発生する。上記第2の行置換制御手段は、上記行テスト信号と上記行アドレス信号とに応答して上記第2の冗長行活性化信号を発生するよう上記第2の検知手段を強制的に制御する。冗長ワード線選択手段は、上記第1の検知手段から与えられる上記第1の冗長行活性化信号に応答して上記複数のブロックにおける冗長行デコーダの各々に上記第1の冗長ワード線駆動信号を供給し、上記第2の検知手段から与えられる上記第2の冗長行活性化信号に応答して上記複数のブロックにおける冗長行デコーダの各々に上記第2の冗長ワード線駆動信号を供給する。上記不活性化手段は、上記第1および第2の冗長行活性化信号のいずれかに応答して上記通常ワード線選択手段を不活性化する。   A semiconductor memory device according to another configuration of the present invention includes a plurality of blocks, a normal word line selection unit, a first program unit, a first detection unit, a first row replacement control unit, a second program unit, and a second program unit. Detection means, second row replacement control means, redundant word line selection means, and inactivation means. Each of the plurality of blocks includes a plurality of normal word lines, a plurality of normal row decoders, first and second redundant word lines, a redundant row decoder, a plurality of bit line pairs, a plurality of normal memory cells, and a plurality of redundancy Includes memory cells. Each of the plurality of normal row decoders is provided corresponding to the first number of normal word lines among the plurality of normal word lines, and is provided corresponding to the corresponding first number of normal word lines. The corresponding first number of normal word lines are selectively driven in response to the number of normal word line driving signals. A second redundant word line provided corresponding to the redundant row decoder and the first and second redundant word lines, driving the first redundant word line in response to a first redundant word line drive signal; The second redundant word line is driven in response to the drive signal. The plurality of bit line pairs are arranged to intersect the plurality of normal word lines and the first and second redundant word lines. The plurality of normal memory cells are arranged corresponding to the intersections of the normal word line and the bit line pair. A plurality of redundant memory cells are arranged corresponding to the intersections of the first and second redundant word lines and the bit line pair. The normal word line selection means supplies the first number of normal word line drive signals to each of the normal row decoders in the plurality of blocks in response to a row address signal given from the outside. The first program means can be programmed with a first row replacement address. The first detection means detects whether or not the row address signal matches the first row replacement address programmed in the first program means, and activates the first redundant row when they match. Generate a signal. The first row replacement control means forces the first detection means to generate the first redundant row activation signal in response to a predetermined row test signal and the row address signal. Control. The second program means can be programmed with a second row replacement address. The second detecting means detects whether or not the row address signal matches the second row replacement address programmed in the second program means, and activates a second redundant row when they match. Generate a signal. The second row replacement control means forcibly controls the second detection means so as to generate the second redundant row activation signal in response to the row test signal and the row address signal. The redundant word line selection means sends the first redundant word line drive signal to each of the redundant row decoders in the plurality of blocks in response to the first redundant row activation signal given from the first detection means. The second redundant word line drive signal is supplied to each of the redundant row decoders in the plurality of blocks in response to the second redundant row activation signal supplied from the second detecting means. The inactivation means inactivates the normal word line selection means in response to one of the first and second redundant row activation signals.

上記半導体記憶装置においては、行テスト信号と行アドレス信号とに応答して第1または第2の冗長行活性化信号が生成され、これにより通常ワード線選択手段が不活性化されるとともに第1および第2の冗長ワード線が選択的に駆動される。このように冗長行は2系統に集約され、かつプログラムされている行アドレスに応答して通常行と置換されるので、多数の信号線が必要とされず、チップ面積の増大が抑えられる。   In the semiconductor memory device, the first or second redundant row activation signal is generated in response to the row test signal and the row address signal, thereby inactivating the normal word line selection means and the first. And the second redundant word line is selectively driven. In this way, redundant rows are integrated into two systems and replaced with normal rows in response to programmed row addresses, so that a large number of signal lines are not required, and an increase in chip area is suppressed.

この発明の他の構成による半導体記憶装置は、複数のブロック、複数の通常列選択線、第1の冗長列選択線、第2の冗長列選択線、通常列選択手段、第1のプログラム手段、第1の検知手段、第1の列置換制御手段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、第2の列置換制御手段、冗長列選択手段、および不活性化手段を備える。上記複数のブロックの各々は、複数のワード線、複数の通常ビット線対、複数の通常メモリセル、複数の通常列選択ゲート対、第1および第2の冗長ビット線対、複数の冗長メモリセル、第1の冗長列選択ゲート対、および第2の冗長列選択ゲート対を含む。上記複数の通常ビット線対は上記ワード線に交差して配置される。上記複数の通常メモリセルは上記ワード線と上記通常ビット線対との交点に対応して配置される。上記複数の通常の列選択ゲート対は上記通常ビット線対に対応して設けられる。通常列選択ゲート対の各々は対応する通常ビット線対に接続される。上記第1および第2の冗長ビット線対は上記ワード線に交差して配置される。上記複数の冗長メモリセルは上記ワード線と上記第1および第2の冗長ビット線対との交点に対応して配置される。上記第1の冗長列選択ゲート対は上記第1の冗長ビット線対に接続される。上記第2の冗長列選択ゲート対は上記第2の冗長ビット線対に接続される。上記複数の通常列選択線は上記複数の通常列選択ゲート対に対応して設けられる。通常列選択線の各々は対応する複数のブロックにおける通常列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される。上記第1の冗長列選択線は上記複数のブロックにおける第1の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される。上記第2の冗長列選択線は上記複数のブロックにおける第2の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される。通常列選択手段は外部から与えられる列アドレス信号に応答して上記通常列選択線のいずれかを選択する。上記第1のプログラム手段には第1の列置換アドレスがプログラム可能である。上記第1のプログラム手段は外部から与えられる列アドレス信号が上記第1の列置換アドレスに一致するとき第1の一致信号を発生する。上記第1の検知手段は上記第1のプログラム手段から与えられる第1の一致信号に応答して第1の冗長列活性化信号を発生する。上記第1の列置換制御手段は、予め定められた列テスト信号と上記列アドレス信号とに応答して上記第1の冗長列活性化信号を発生するよう上記第1の検知手段を強制的に制御する。上記第2のプログラム手段には第2の列置換アドレスがプログラム可能である。上記第2のプログラム手段は、上記列アドレス信号が上記第2の列置換アドレスに一致するとき第2の一致信号を発生する。上記第2の検知手段は、上記第2のプログラム手段から与えられる第2の一致信号に応答して第2の冗長列活性化信号を発生する。第2の列置換制御手段は、上記列テスト信号と上記列アドレス信号とに応答して上記第2の冗長列活性化信号を発生するよう上記第2の検知手段を強制的に制御する。上記冗長列選択手段は、上記第1の検知手段から与えられる第1の冗長列活性化信号に応答して上記第1の冗長列選択線を選択し、上記第2の検知手段から与えられる第2の冗長列活性化信号に応答して上記第2の冗列選択線を選択する。活性化手段は、上記第1および第2の一致信号ならびに上記列テスト信号のいずれかに応答して上記通常列選択手段を不活性化する。   A semiconductor memory device according to another configuration of the present invention includes a plurality of blocks, a plurality of normal column selection lines, a first redundant column selection line, a second redundant column selection line, a normal column selection means, a first program means, First detection means, first column replacement control means, second program means, second detection means, second column replacement control means, redundant column selection means, and inactivation means are provided. Each of the plurality of blocks includes a plurality of word lines, a plurality of normal bit line pairs, a plurality of normal memory cells, a plurality of normal column selection gate pairs, first and second redundant bit line pairs, and a plurality of redundant memory cells. , A first redundant column selection gate pair, and a second redundant column selection gate pair. The plurality of normal bit line pairs are arranged to cross the word line. The plurality of normal memory cells are arranged corresponding to the intersections of the word line and the normal bit line pair. The plurality of normal column selection gate pairs are provided corresponding to the normal bit line pairs. Each normal column selection gate pair is connected to a corresponding normal bit line pair. The first and second redundant bit line pairs are arranged to cross the word line. The plurality of redundant memory cells are arranged corresponding to the intersections of the word lines and the first and second redundant bit line pairs. The first redundant column selection gate pair is connected to the first redundant bit line pair. The second redundant column selection gate pair is connected to the second redundant bit line pair. The plurality of normal column selection lines are provided corresponding to the plurality of normal column selection gate pairs. Each of the normal column selection lines is connected to each control electrode of the normal column selection gate pair in the corresponding plurality of blocks. The first redundant column selection line is connected to each control electrode of the first redundant column selection gate pair in the plurality of blocks. The second redundant column selection line is connected to each control electrode of the second redundant column selection gate pair in the plurality of blocks. The normal column selection means selects one of the normal column selection lines in response to a column address signal given from the outside. The first column means can be programmed with a first column replacement address. The first program means generates a first coincidence signal when an externally applied column address signal coincides with the first column replacement address. The first detecting means generates a first redundant column activation signal in response to a first coincidence signal supplied from the first program means. The first column replacement control means forces the first detection means to generate the first redundant column activation signal in response to a predetermined column test signal and the column address signal. Control. The second column means can be programmed with a second column replacement address. The second program means generates a second coincidence signal when the column address signal coincides with the second column replacement address. The second detection means generates a second redundant column activation signal in response to the second coincidence signal supplied from the second program means. The second column replacement control means forcibly controls the second detection means to generate the second redundant column activation signal in response to the column test signal and the column address signal. The redundant column selection means selects the first redundant column selection line in response to the first redundant column activation signal given from the first detection means, and the second detection means given from the second detection means. The second redundant column selection line is selected in response to the second redundant column activation signal. The activating means deactivates the normal column selecting means in response to any of the first and second coincidence signals and the column test signal.

上記半導体記憶装置においては、列テスト信号と列アドレス信号とに応答して第1または第2の冗長列活性化信号が生成され、これにより通常列選択手段が不活性化されるとともに第1または第2の冗長列選択線が選択される。このように冗長列が2系統に集約され、かつプログラムされている列アドレスに応答して通常列と置換されるので、多数の信号線が必要とされず、チップ面積の増大が抑えられる。   In the semiconductor memory device, the first or second redundant column activation signal is generated in response to the column test signal and the column address signal, thereby inactivating the normal column selection unit and the first or second column activation signal. The second redundant column selection line is selected. In this way, redundant columns are integrated into two systems and replaced with normal columns in response to programmed column addresses, so that a large number of signal lines are not required, and an increase in chip area is suppressed.

この発明の他の構成による半導体記憶装置は、複数のブロック、通常ワード線選択手段、切換パッド、第1のプログラム手段、第1の検知手段、第1の行置換制御手段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、第2の行置換制御手段、冗長ワード線選択手段、および不活性化手段を備える。上記複数のブロックの各々は上記請求項4と同様に構成される。上記通常ワード線選択手段、第1のプログラム手段第1の検知手段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、冗長ワード線選択手段、および活性化手段もまた、上記請求項4と同様の機能を有する。ただし、上記第1の行置換制御手段は、予め定められた行テスト信号と上記切換パッドの第1の電位とに応答して上記第1の冗長行活性化信号を発生するよう上記第1の検知手段を強制的に制御する。上記第2行置換制御手段は、上記行テスト信号と上記切換パッドの上記第1の電位と異なる第2の電位とに応答して上記第2の冗長行活性化信号を発生するよう上記第2の検知手段を強制的に制御する。   A semiconductor memory device according to another configuration of the present invention includes a plurality of blocks, normal word line selection means, switching pads, first program means, first detection means, first row replacement control means, and second program means. , Second detection means, second row replacement control means, redundant word line selection means, and inactivation means. Each of the plurality of blocks is configured in the same manner as in the fourth aspect. The normal word line selection means, the first program means, the first detection means, the second program means, the second detection means, the redundant word line selection means, and the activation means are also the same as in the fourth aspect. It has a function. However, the first row replacement control means generates the first redundant row activation signal in response to a predetermined row test signal and the first potential of the switching pad. The detection means is forcibly controlled. The second row replacement control means generates the second redundant row activation signal in response to the row test signal and a second potential different from the first potential of the switching pad. The detection means is forcibly controlled.

上記半導体記憶装置においては、行テスト信号と切換パッドの電位とに応答して第1または第2の冗長行活性化信号が生成され、これにより通常ワード線選択手段が不活性化されるとともに第1および第2の冗長ワード線が選択的に駆動される。したがって、チップ面積の増大が抑えられるとともに、切換パッドによって冗長行が通常行と置換され得る。   In the semiconductor memory device, the first or second redundant row activation signal is generated in response to the row test signal and the potential of the switching pad, thereby inactivating the normal word line selection means and the first. The first and second redundant word lines are selectively driven. Therefore, an increase in chip area can be suppressed, and a redundant row can be replaced with a normal row by the switching pad.

この発明の他の構成による半導体記憶装置は、複数のブロック、複数の通常列選択線、第1の冗長列選択線、第2の冗長列選択線、通常列選択手段、切換パッド、第1のプログラム手段、第1の検知手段、第1の列置換制御手段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、第2の列置換制御手段、冗長列選択手段、および不活性化手段を備える。ブロックの各々は上記請求項5と同様に構成される。上記複数の通常列選択線、第1の冗長列選択線、第2の冗長列選択線、通常列選択手段、第1のプログラム手段、第1検知手段、第2のプログラム手段、第2の検知手段、冗長列選択手段、および不活性化手段は、上記請求項5と同様の機能を有する。ただし、上記第1の列置換制御手段は、予め定められた列テスト信号と上記切換パッドの第1の電位とに応答して上記第1の冗長列活性化信号を発生するよう上記第1の検知手段を強制的に制御する。上記第2の列置換制御手段は、上記列テスト信号と上記切換パッドの上記第1の電位と異なる第2の電位とに応答して上記第2の冗長列活性化信号を発生するよう上記第2の検知手段を強制的に制御する。   A semiconductor memory device according to another configuration of the present invention includes a plurality of blocks, a plurality of normal column selection lines, a first redundant column selection line, a second redundant column selection line, a normal column selection means, a switching pad, a first pad Program means, first detection means, first column replacement control means, second program means, second detection means, second column replacement control means, redundant column selection means, and inactivation means are provided. Each of the blocks is configured in the same manner as in the fifth aspect. The plurality of normal column selection lines, the first redundant column selection line, the second redundant column selection line, the normal column selection means, the first program means, the first detection means, the second program means, and the second detection The means, the redundant column selection means, and the inactivation means have the same functions as in the fifth aspect. However, the first column replacement control means generates the first redundant column activation signal in response to a predetermined column test signal and the first potential of the switching pad. The detection means is forcibly controlled. The second column replacement control means generates the second redundant column activation signal in response to the column test signal and a second potential different from the first potential of the switching pad. The two detection means are forcibly controlled.

上記半導体記憶装置においては、列テスト信号と切換パッドとの電位とに応答して第1または第2の冗長列活性化信号が生成され、これにより通常列選択手段が不活性化されるとともに第1または第2の冗長列選択線が選択される。したがって、チップ面積の増大が抑えられるとともに、切換パッドによって冗長列が通常列と置換され得る。   In the semiconductor memory device, the first or second redundant column activation signal is generated in response to the column test signal and the potential of the switching pad, thereby inactivating the normal column selection means and the first. The first or second redundant column selection line is selected. Therefore, an increase in the chip area can be suppressed, and the redundant column can be replaced with the normal column by the switching pad.

本発明に係る半導体記憶装置によれば、予め定められた行テスト信号に応答して冗長行選択手段が活性化され、また予め定められた列テスト信号に応答して冗長列選択手段が活性化されるため、欠陥を伴なう通常行を冗長行と置換する前にその冗長行の良否判別テストを行なうことができるとともに、欠陥をともなう通常列を冗長列と置換する前にその冗長列の良否判別テストを行なうことができる。したがって、通常行を冗長行に、または通常列を冗長列に置換することにより確実にその半導体記憶装置を救済することができるため、製造歩留りをさらに向上させることができる。   According to the semiconductor memory device of the present invention, the redundant row selection means is activated in response to a predetermined row test signal, and the redundant column selection means is activated in response to a predetermined column test signal. Therefore, it is possible to perform a pass / fail judgment test for a redundant row before replacing a normal row with a defect with a redundant row, and before replacing a normal column with a defect with a redundant column, A pass / fail judgment test can be performed. Therefore, by replacing the normal row with the redundant row or the normal column with the redundant column, the semiconductor memory device can be reliably relieved, so that the manufacturing yield can be further improved.

さらに、外部から与えられる制御信号に応答して行テスト信号および列テスト信号の一方または双方が内部的に生成されるため、この半導体記憶装置を樹脂モールドによりパッケージングした後であっても冗長行および冗長列の良否判別テストを行なうことができる。   Further, one or both of the row test signal and the column test signal are internally generated in response to an externally applied control signal. Therefore, even after the semiconductor memory device is packaged by a resin mold, a redundant row is generated. In addition, it is possible to perform a pass / fail judgment test for redundant columns.

さらに、冗長行および冗長列から読出されたデータのマルチビットテストを行なうことができるため、上記のような良否判別テストの所要時間が短縮される。   Further, since the multi-bit test can be performed on the data read from the redundant row and the redundant column, the time required for the quality determination test as described above is shortened.

本発明に係る半導体記憶装置によれば、予め定められた行テスト信号と行アドレス信号とに応答して第1および第2の冗長ワード線が選択的に駆動されるため、通常ワード線を冗長ワード線と置換する前にその冗長ワード線の良否判別テストを行なうことができる。しかも複数の冗長ワード線が2系統に集約され、複数の冗長ワード線を個別的に駆動していないため、テスト時に冗長ワード線を駆動するための信号線によってチップ面積が増大することはない。   According to the semiconductor memory device of the present invention, since the first and second redundant word lines are selectively driven in response to a predetermined row test signal and row address signal, the normal word line is made redundant. A pass / fail judgment test of the redundant word line can be performed before replacement with the word line. In addition, since the plurality of redundant word lines are integrated into two systems and the plurality of redundant word lines are not individually driven, the chip area is not increased by the signal lines for driving the redundant word lines during the test.

また、本発明に係る半導体記憶装置によれば、予め定められた列テスト信号と列アドレス信号とに応答して第1および第2の冗長列選択線が選択的に駆動されるため、通常ビット線対を冗長ビット線対と置換する前にその冗長ビット線対の良否判別テストを行なうことができる。しかも複数の冗長ビット線対を選択するための信号が2系統に集約されているため、そのための信号線によってチップ面積が増大することはない。   Further, according to the semiconductor memory device of the present invention, the first and second redundant column selection lines are selectively driven in response to a predetermined column test signal and column address signal. Before the line pair is replaced with the redundant bit line pair, a pass / fail judgment test of the redundant bit line pair can be performed. In addition, since signals for selecting a plurality of redundant bit line pairs are concentrated in two systems, the chip area is not increased by the signal lines for that purpose.

あるいは、本発明に係る半導体記憶装置によれば、予め定められた行テスト信号と切換パッドの電位とに応答して第1および第2の冗長ワード線が選択的に駆動されるため、通常ワード線を冗長ワード線と置換する前にその冗長ワード線の良否判別テストを行なうことができる。しかも複数の冗長ワード線の選択が2系統に集約され、かつ外部アドレス信号を与えることで切換パッドの電圧を制御することによってその2系統を選択できるため、そのような選択のための信号線によるチップ面積の増大が抑えられるとともに、良否判別テストがさらに容易となる。   Alternatively, according to the semiconductor memory device of the present invention, the first and second redundant word lines are selectively driven in response to a predetermined row test signal and the potential of the switching pad. Prior to replacing a line with a redundant word line, a pass / fail judgment test of the redundant word line can be performed. In addition, the selection of a plurality of redundant word lines is integrated into two systems, and the two systems can be selected by controlling the voltage of the switching pad by applying an external address signal. An increase in the chip area is suppressed, and a pass / fail discrimination test is further facilitated.

また、本発明に係る半導体記憶装置によれば、予め定められた列テスト信号と切換パッドの電位とに応答して第1および第2の冗長列選択線が選択的に駆動されるため、通常ビット線対を冗長ビット線対と置換する前にその冗長ビット線対の良否判別テストを行なうことができる。しかも複数の冗長ビット線対は2系統に集約され、かつ切換パッドの電圧を制御することによって、2系統に切換えられるため、冗長ビット線対を駆動するための信号線によるチップ面積の増大が抑えられ、かつそのような良否判別テストがさらに容易となる。   According to the semiconductor memory device of the present invention, the first and second redundant column selection lines are selectively driven in response to a predetermined column test signal and the potential of the switching pad. Before the bit line pair is replaced with the redundant bit line pair, a pass / fail judgment test of the redundant bit line pair can be performed. In addition, since a plurality of redundant bit line pairs are integrated into two systems and are switched to two systems by controlling the voltage of the switching pad, an increase in chip area due to signal lines for driving the redundant bit line pairs is suppressed. And such a quality determination test is further facilitated.

以下、この発明の実施の形態を図面を参照して詳しく説明する。なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

[実施の形態1]
(1) 半導体記憶装置の全体構成(図1)
図1は、この発明の実施の形態1による半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。図1を参照して、この半導体記憶装置は、複数の通常メモリセル(以下、単に「メモリセル」というときは「通常メモリセル」を表わす)を含む通常メモリセルアレイ(以下、単に「メモリセルアレイ」というときは「通常メモリセルアレイ」を表わす)100と、複数の冗長ロウメモリセルを含む冗長ロウメモリセルアレイ101と、複数の冗長カラムメモリセルを含む冗長カラムメモリセルアレイ102と、複数の冗長カラムロウメモリセルを含む冗長カラムロウメモリセルアレイ103とを備える。また、メモリセルアレイ100および冗長カラムメモリセルアレイ102にわたって複数の通常ワード線(以下、単に「ワード線」というときは「通常ワード線」を表わす)WL0〜WLnが配置され、冗長ロウメモリセルアレイ101および冗長カラムロウメモリセルアレイ103にわたって複数の冗長ワード線SWL0〜SWLmが配置されている。他方、メモリセルアレイ100および冗長ロウメモリセルアレイ101にわたって複数のカラム選択線CSL0〜CSLjが配置され、冗長カラムメモリセルアレイ102および冗長カラムロウメモリセルアレイ103にわたって複数の冗長カラム選択線SCSL0〜SCSLiが配置されている。
[Embodiment 1]
(1) Overall configuration of semiconductor memory device (FIG. 1)
1 is a block diagram showing an overall configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, this semiconductor memory device includes a normal memory cell array (hereinafter simply referred to as “memory cell array”) including a plurality of normal memory cells (hereinafter simply referred to as “normal memory cells”). (Referred to as “normal memory cell array”), a redundant row memory cell array 101 including a plurality of redundant row memory cells, a redundant column memory cell array 102 including a plurality of redundant column memory cells, and a plurality of redundant column row memories. A redundant column row memory cell array 103 including cells. A plurality of normal word lines (hereinafter simply referred to as “normal word lines” WL0 to WLn) WL0 to WLn are arranged across the memory cell array 100 and the redundant column memory cell array 102. A plurality of redundant word lines SWL0 to SWLm are arranged across the column row memory cell array 103. On the other hand, a plurality of column select lines CSL0 to CSLj are arranged across the memory cell array 100 and the redundant row memory cell array 101, and a plurality of redundant column select lines SCSL0 to SCSLi are arranged across the redundant column memory cell array 102 and the redundant column row memory cell array 103. Yes.

この半導体記憶装置はさらに、メモリセルアレイ100および冗長ロウメモリセルアレイ101から読出されたデータを増幅するとともにデータの入出力を制御するセンスリフレッシュアンプ入出力制御回路104と、冗長カラムメモリセルアレイ102および冗長カラムロウメモリセルアレイ103から読出されたデータを増幅するとともにデータの入出力を制御する冗長センスリフレッシュアンプ入出力制御回路105とを備える。   The semiconductor memory device further includes a sense refresh amplifier input / output control circuit 104 that amplifies data read from the memory cell array 100 and the redundant row memory cell array 101 and controls input / output of data, and a redundant column memory cell array 102 and redundant column. A redundant sense refresh amplifier input / output control circuit 105 that amplifies data read from the row memory cell array 103 and controls data input / output is provided.

この半導体記憶装置はさらに、内部ロウアドレス信号RA0〜RApおよびその相補的な信号/RA0〜/RApに応答してワード線WL0〜WLnのうちいずれかを選択するロウデコーダ106と、ワード線WL0〜WLnのいずれかに不良が存在するときかあるいは冗長ロウの機能がテストされるときかに冗長ワード線SWL0〜SWLmのうちいずれかを選択する冗長ロウデコーダ107を備える。   This semiconductor memory device further includes a row decoder 106 for selecting one of word lines WL0 to WLn in response to internal row address signals RA0 to RAp and complementary signals / RA0 to / RAp, and word lines WL0 to WL0. A redundant row decoder 107 is provided to select one of the redundant word lines SWL0 to SWLm when a defect exists in any of WLn or when the function of the redundant row is tested.

この半導体記憶装置はさらに、内部カラムアドレス信号CA0〜CAqおよびその相補的な信号/CA0〜/CAqに応答してカラム選択線CSL0〜CSLjのうちいずれかを選択するカラムデコーダ108と、カラム選択線CSL0〜CSLjのいずれかに不良が存在するときかあるいは冗長カラムの機能がテストされるときかに冗長カラム選択線SCSL0〜SCSLiのいずれかを選択する冗長カラムデコーダ109とを備える。   This semiconductor memory device further includes a column decoder 108 for selecting one of column selection lines CSL0-CSLj in response to internal column address signals CA0-CAq and its complementary signals / CA0- / CAq, and a column selection line A redundant column decoder 109 is provided for selecting one of the redundant column selection lines SCSL0 to SCSLi when a defect exists in any of CSL0 to CSLj or when the function of the redundant column is tested.

この半導体記憶装置はさらに、外部から与えられたアドレス信号A0〜Apに応答して内部ロウアドレス信号RA0〜RAp,/RA0〜/RApをロウデコーダ106および冗長ロウデコーダ107に供給するとともに、内部カラムアドレス信号CA0〜CAq,/CA0〜/CAqをカラムデコーダ108および冗長カラムデコーダ109に供給するロウおよびカラムアドレスバッファ110と、ロウアドレスストローブ信号/RASおよびカラムアドレスストローブ信号/CASに応答して種々の内部制御信号を発生するクロック発生回路111と、書込イネーブル信号/WEを受ける論理ゲート117と、この論理ゲート117の出力信号に応答して外部から与えられたデータDQ0〜DQrをセンスリフレッシュアンプ入出力制御回路104および冗長センスリフレッシュアンプ入出力制御回路105に供給する入力バッファ114と、この論理ゲート117の出力信号および出力イネーブル信号/OEに応答してセンスリフレッシュアンプ入出力制御回路104および冗長センスリフレッシュアンプ入出力制御回路105から外部にデータを出力する出力バッファ115と、JEDEC標準のマルチビットテストを行なうためのデータ縮退回路116とを備える。   The semiconductor memory device further supplies internal row address signals RA0 to RAp, / RA0 to / RAp to row decoder 106 and redundant row decoder 107 in response to externally applied address signals A0 to Ap, and also to an internal column. A row and column address buffer 110 that supplies address signals CA0 to CAq, / CA0 to / CAq to column decoder 108 and redundant column decoder 109, and various responses in response to row address strobe signal / RAS and column address strobe signal / CAS A clock generation circuit 111 for generating an internal control signal, a logic gate 117 for receiving a write enable signal / WE, and data DQ0 to DQr externally applied in response to an output signal of the logic gate 117 are input to a sense refresh amplifier. Output control Input buffer 114 supplied to path 104 and redundant sense refresh amplifier input / output control circuit 105, and sense refresh amplifier input / output control circuit 104 and redundant sense refresh amplifier in response to the output signal and output enable signal / OE of logic gate 117 An output buffer 115 for outputting data from the input / output control circuit 105 to the outside, and a data degeneration circuit 116 for performing a JEDEC standard multi-bit test are provided.

そしてこの発明の特徴として、この半導体記憶装置はさらに、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS、書込イネーブル信号/WE、外部アドレス信号A1,A2、およびテスト用のアドレスキー信号TA3〜TA5に応答して、冗長ロウテスト活性化信号TEST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2、およびマルチビットテスト活性化信号TMBを選択的に発生するテストモード制御回路112と、冗長ロウテスト活性化信号TEST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2、補助ロウアドレス信号RAs1,RAs2、および補助カラムアドレス信号CAs1,CAs2に応答して、冗長ロウデコーダ活性化信号SRF0,SRF1、冗長カラムデコーダ活性化信号SCE0〜SCEiを発生する冗長メモリ制御回路113とを備える。ここで、外部アドレス信号A1およびA2は直接テストモード制御回路112に与えられる。また、ロウおよびカラムアドレスバッファ110は、外部アドレス信号A3〜A5(図示せず)に応答してテストモードを選択するためのアドレスキー信号TA3〜TA5をテストモード制御回路112に供給する。冗長メモリ制御回路113は、従来通り置換アドレスがプログラム可能なプログラム回路およびそのアドレス検知回路を含むとともに、新たに冗長ロウテスト活性化信号TEST1が与えられたとき補助ロウアドレス信号RAs1,RAs2に応答して冗長ロウデコーダ活性化信号SRF0およびSRF1を選択的に活性化し、さらに冗長カラムテスト活性化信号/TEST2が与えられたとき補助カラムアドレス信号CAs1,CAs2に応答して冗長カラムデコーダ活性化信号SCE0〜SCEiを選択的に活性化する。   As a feature of the present invention, the semiconductor memory device further includes a row address strobe signal / RAS, a column address strobe signal / CAS, a write enable signal / WE, external address signals A1 and A2, and a test address key signal TA3. In response to .about.TA5, test mode control circuit 112 for selectively generating redundant row test activation signal TEST1, redundant column test activation signal / TEST2, and multi-bit test activation signal TMB, and redundant row test activation signal TEST1. In response to redundant column test activation signal / TEST2, auxiliary row address signals RAs1 and RAs2, and auxiliary column address signals CAs1 and CAs2, redundant row decoder activation signals SRF0 and SRF1 and redundant column decoder activation signals SCE0 to SCE0. And a redundant memory control circuit 113 for generating ei. Here, external address signals A 1 and A 2 are directly applied to test mode control circuit 112. The row and column address buffer 110 supplies address key signals TA3 to TA5 for selecting a test mode to the test mode control circuit 112 in response to external address signals A3 to A5 (not shown). Redundant memory control circuit 113 includes a program circuit in which a replacement address can be programmed and its address detection circuit as usual, and in response to auxiliary row address signals RAs1 and RAs2 when a new redundant row test activation signal TEST1 is applied. Redundant row decoder activation signals SRF0 and SRF1 are selectively activated, and redundant column decoder activation signals SCE0 to SCEi in response to auxiliary column address signals CAs1 and CAs2 when redundant column test activation signal / TEST2 is applied. Is selectively activated.

(2) テストモード制御回路(図2)
図2は、図1中のテストモード制御回路112の構成を示すブロック図である。図2を参照して、このテストモード制御回路112は、外部から与えられたロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS、および書込イネーブル信号/WEの所定タイミングを検出し、テストモード活性化信号FE、アドレスキーラッチ制御信号FSE、およびテストモードリセット信号/FRを発生する外部クロック検出回路122と、これらの信号FE、FSEおよび/FRに応答してアドレスピンA1およびA2の状態を検出し、特殊テストグループ信号/TGAおよび/TGBを発生するテストグループ検出回路120と、信号FSEおよび/FRに応答してアドレスキー信号TA3〜TA5をラッチするアドレスキーラッチ回路121と、そのラッチされた信号LV3,LV4,HV3,HV4をプリデコードするアドレスキープリデコーダ123と、特殊テストグループ信号/TGA,/TGB、アドレスキープリデコーダ123からのアドレスキープリデコード信号H3H4,H3L4,L3H4,L3L4、およびアドレスキーラッチ回路121にラッチされた信号HV5をデコードし、これにより冗長ロウテスト活性化信号TEST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2、およびマルチビットテスト活性化信号TMBを発生する特殊テストモードクロックデコーダ128とを備える。
(2) Test mode control circuit (Figure 2)
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of test mode control circuit 112 in FIG. Referring to FIG. 2, test mode control circuit 112 detects predetermined timings of externally applied row address strobe signal / RAS, column address strobe signal / CAS, and write enable signal / WE, and provides a test mode. External clock detection circuit 122 for generating activation signal FE, address key latch control signal FSE, and test mode reset signal / FR, and states of address pins A1 and A2 in response to these signals FE, FSE and / FR A test group detection circuit 120 for detecting and generating special test group signals / TGA and / TGB, an address key latch circuit 121 for latching address key signals TA3 to TA5 in response to signals FSE and / FR, and latched Signals LV3, LV4, HV3, HV4 Address key predecoder 123 to predecode, special test group signals / TGA, / TGB, address key predecode signals H3H4, H3L4, L3H4, L3L4 from address key predecoder 123, and address key latch circuit 121 latched A special test mode clock decoder 128 which decodes signal HV5 and thereby generates redundant row test activation signal TEST1, redundant column test activation signal / TEST2, and multi-bit test activation signal TMB is provided.

ここで、テストグループ検出回路120は、アドレスピンA1,A2に与えられる電圧がHレベルであるか、Lレベルであるか、あるいはスーパーHレベル(スーパーHレベルは通常のHレベルよりも高い)であるかを検知し、これによりテストグループ信号/TGAおよび/TGBを出力する。アドレスキーラッチ回路121は、アドレスキー信号TA3〜TA5に対応するアドレスピンに与えられる電圧がHレベルであるか、あるいはLレベルであるかを検知し、その電圧がHレベルであるときHレベルのアドレスキーラッチ信号HV3〜HV5を出力するとともに、その電圧がLレベルであるときHレベルのアドレスキーラッチ信号LV3〜LV5を出力する。アドレスキープリデコーダ123は4つのNORゲート124〜127を備え、アドレスキーラッチ信号HV3,HV4,LV3,LV4に応答してアドレスキープリデコード信号H3H4,H3L4,L3H4,L3L4を出力する。たとえばプリデコード信号H3H4は、アドレスキーラッチ信号HV3がHレベルでありかつアドレスキーラッチ信号HV4がHレベルであるときHレベルとなる。アドレスキープリデコーダ123では相補的なアドレスキーラッチ信号LV3,HV3またはLV4,HV4が使用されているので、1つのNORゲートが1つのプリデコード信号を生成する。   Here, in the test group detection circuit 120, the voltage applied to the address pins A1 and A2 is at the H level, the L level, or the super H level (the super H level is higher than the normal H level). It detects whether it exists, and outputs test group signals / TGA and / TGB. Address key latch circuit 121 detects whether the voltage applied to the address pins corresponding to address key signals TA3 to TA5 is at the H level or the L level. When the voltage is at the H level, the address key latch circuit 121 is at the H level. Address key latch signals HV3 to HV5 are output, and when the voltage is at L level, H level address key latch signals LV3 to LV5 are output. Address key predecoder 123 includes four NOR gates 124 to 127, and outputs address key predecode signals H3H4, H3L4, L3H4, and L3L4 in response to address key latch signals HV3, HV4, LV3, and LV4. For example, predecode signal H3H4 is at H level when address key latch signal HV3 is at H level and address key latch signal HV4 is at H level. Since the address key predecoder 123 uses complementary address key latch signals LV3, HV3 or LV4, HV4, one NOR gate generates one predecode signal.

(2.1) 外部クロック検出回路(図3)
図3は、図2中の外部クロック検出回路の構成を示す回路図である。この外部クロック検出回路122は、マルチビットテストモードのセットタイミングであるWCBR(/WE,/CASビフォア/RAS)タイミングと、リセットタイミングであるROR(/RASオンリリフレッシュ)またはCBR(/CASビフォア/RAS)リフレッシュタイミングを検出する。
(2.1) External clock detection circuit (Fig. 3)
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of the external clock detection circuit in FIG. The external clock detection circuit 122 includes a WCBR (/ WE, / CAS before / RAS) timing which is a set timing in a multi-bit test mode, and an ROR (/ RAS only refresh) or CBR (/ CAS before / RAS) which is a reset timing. ) Detect refresh timing.

図3を参照して、この外部クロック検出回路122は、遅延回路1221aと、論理ゲート1221ba、インバータ1221bbおよび1221bcを有するクロックトインバータ制御回路1221bと、WBR(/WEビフォア/RAS)検出回路1221cとを備える。遅延回路1221aは、ロウアドレスストローブ信号/RASの遅延信号D/RASを出力する。クロックトインバータ制御回路1221bは、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルに立下がってから、遅延信号D/RASがロウアドレスストローブ信号/RASから遅れてレベルに立ちがるまでレベルとなるクロックトインバータ制御信号CLCおよびその反転信号/CLCを出力する。論理ゲート1221baは、ロウアドレスストローブ信号/RASおよび遅延信号D/RASがともにレベルになるとレベルの信号を出力する。WBR検出回路1221cは、書込イネーブル信号/WE、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCを受け、書込イネーブル信号/WEが先にLレベルとなって、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルになるとLレベルとなるWBR検出信号/WBRを出力する。このWBR検出回路1221cは、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCがそれぞれHレベルおよびLレベルのとき、WBR検出信号/WBRを書込イネーブル信号/WEと同じ論理とし、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCがそれぞれLレベルおよびHレベルになると、その時点でのWBR検出信号/WBRを保持する。 Referring to FIG. 3, external clock detection circuit 122 includes delay circuit 1221a, clocked inverter control circuit 1221b having logic gate 1221ba, inverters 1221bb and 1221bc, WBR (/ WE before / RAS) detection circuit 1221c, Is provided. Delay circuit 1221a outputs delayed signal D / RAS of row address strobe signal / RAS. Clocked inverter control circuit 1221b is the row address strobe signal / RAS is the fall to L level, the H level to want under stood L level with the delay of the delay signal D / RAS is the row address strobe signal / RAS Clocked inverter control signal CLC and its inverted signal / CLC are output. Logic gate 1221ba outputs an H level signal when both row address strobe signal / RAS and delayed signal D / RAS attain an L level. WBR detection circuit 1221c receives write enable signal / WE and clocked inverter control signals CLC and / CLC, write enable signal / WE first goes to L level, and row address strobe signal / RAS goes to L level. Then, the WBR detection signal / WBR which becomes L level is output. The WBR detection circuit 1221c sets the WBR detection signal / WBR to the same logic as the write enable signal / WE when the clocked inverter control signals CLC and / CLC are at the H level and the L level, respectively. When / CLC becomes L level and H level, respectively, the WBR detection signal / WBR at that time is held.

この外部クロック検出回路122はさらに、ラムアドレスストローブ信号/CAS、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCを受け、ラムアドレスストローブ信号/CASが先にLレベルとなって、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルになるとLレベルとなるCBR検出信号/CBRを出力するCBR検出回路1221dを備える。このCBR検出回路1221dは、クロックトインバータ1221da、インバータ1221dbおよびクロックトインバータ1221dcを有する。このCBR検出回路1221dは、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCがそれぞれHレベルおよびLレベルのとき、CBR検出信号/CBRをカラムアドレスストローブ信号/CASと同じ論理とし、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCがそれぞれLレベルおよびHレベルになると、その時点でのCBR検出信号/CBRを保持する。 The external clock detecting circuit 122 further includes column address strobe signal / CAS, receives the clocked inverter control signals CLC and / CLC, column address strobe signal / CAS becomes earlier and L level, the row address strobe signal / A CBR detection circuit 1221d that outputs a CBR detection signal / CBR that becomes L level when RAS becomes L level is provided. The CBR detection circuit 1221d includes a clocked inverter 1221da, an inverter 1221db, and a clocked inverter 1221dc. The CBR detection circuit 1221d sets the CBR detection signal / CBR to the same logic as the column address strobe signal / CAS when the clocked inverter control signals CLC and / CLC are at the H level and the L level, respectively. When / CLC becomes L level and H level, respectively, the CBR detection signal / CBR at that time is held.

この外部クロック検出回路122はさらに、ロウアドレスストローブ信号/RAS、その遅延信号D/RAS、WBR検出信号/WBRおよびCBR検出信号/CBRを受け、WCBRタイミング検出信号WCBRを出力するWCBRタイミング検出回路1221eを備える。このWCBRタイミング検出回路1221eは、ロウアドレスストローブ信号/RASおよびその遅延信号D/RASが共にLレベルのときHレベルの信号を出力するNORゲート1221eaと、インバータ1221ebと、NANDゲート1221ecと、NORゲート1221edとを有する。したがって、このWCBRタイミング検出回路1221eは、WBR検出回路/WBRおよびCBR検出信号/CBRがLレベル、つまりロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがWCBRタイミングで入力されると、遅延信号D/RASがロウアドレスストローブ信号/RASに続いてLレベルになったのに応じてHレベルにセットされ、ロウアドレスストローブ信号/RASがHレベルに立上がるとLレベルにリセットされるWCBRタイミング検出信号WCBRを出力する。   The external clock detection circuit 122 further receives a row address strobe signal / RAS, a delay signal D / RAS thereof, a WBR detection signal / WBR and a CBR detection signal / CBR, and outputs a WCBR timing detection signal WCBR, and outputs a WCBR timing detection circuit 1221e. Is provided. This WCBR timing detection circuit 1221e includes a NOR gate 1221ea that outputs an H level signal when the row address strobe signal / RAS and its delay signal D / RAS are both at L level, an inverter 1221eb, a NAND gate 1221ec, and a NOR gate. 1221ed. Therefore, in WCBR timing detection circuit 1221e, WBR detection circuit / WBR and CBR detection signal / CBR are at L level, that is, row address strobe signal / RAS, column address strobe signal / CAS and write enable signal / WE are at WCBR timing. When input, delay signal D / RAS is set to H level in response to L level following row address strobe signal / RAS, and is set to L level when row address strobe signal / RAS rises to H level. The WCBR timing detection signal WCBR which is reset to is output.

この外部クロック検出回路122はさらに、ロウアドレスストローブ信号/RAS、その遅延信号D/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CAS、WBR検出信号/WBRおよびCBR検出信号/CBRを受け、リセットタイミング検出信号/RSTを出力するリセットタイミング検出回路1221fを備える。このリセットタイミング検出信号/RSTは、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがCBRリフレッシュタイミングで入力されてWBR検出信号/WBRがHレベルでかつCBR検出信号/CBRがLレベルになるか、またはロウアドレスストローブ信号/RASおよびカラムアドレスストローブ信号/CASがROタイミングで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/RASがHレベルに立上がってから所定期間Lレベルとなる。 External clock detection circuit 122 further receives row address strobe signal / RAS, its delay signal D / RAS, column address strobe signal / CAS, WBR detection signal / WBR and CBR detection signal / CBR, and receives reset timing detection signal / RST. Is provided with a reset timing detection circuit 1221f. This reset timing detection signal / RST includes a row address strobe signal / RAS, a column address strobe signal / CAS, and a write enable signal / WE that are input at the CBR refresh timing, so that the WBR detection signal / WBR is at the H level and the CBR detection signal / or CBR becomes L level, or when the row address strobe signal / RAS and column address strobe signal / CAS are input at RO R timing, a row address strobe signal / RAS is a predetermined time period from the rise to the H level L Become a level.

このリセットタイミング検出回路1221fは、ロウアドレスストローブ信号/RAS、その遅延信号D/RAS、WBR検出信号/WBRおよびCBR検出信号/CBRを受け、CBRリフレッシュタイミング検出信号CBRRを出力するCBRリフレッシュタイミング検出回路1221gを有する。このCBRリフレッシュタイミング検出信号CBRRは、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがCBRリフレッシュタイミングで入力されてWBR検出信号/WBRがHレベルでかつCBR検出信号/CBRがLレベルになると、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルに立下がってから所定期間Hレベルになる。このCBRリフレッシュタイミング検出回路1221gは、インバータ1221ga、NORゲート1221gb、インバータ1221gc、NORゲート1221gd、NORゲート1221ge、NORゲート1221gfおよびNORゲート1221ggを有する。NORゲート1221geおよび1221gfはフリップフロップ回路を構成する。   The reset timing detection circuit 1221f receives a row address strobe signal / RAS, its delay signal D / RAS, a WBR detection signal / WBR and a CBR detection signal / CBR, and outputs a CBR refresh timing detection signal CBRR. 1221 g. The CBR refresh timing detection signal CBRR includes a row address strobe signal / RAS, a column address strobe signal / CAS and a write enable signal / WE inputted at the CBR refresh timing, the WBR detection signal / WBR is at the H level, and the CBR detection signal When / CBR goes to L level, the row address strobe signal / RAS goes to L level and then goes to H level for a predetermined period. The CBR refresh timing detection circuit 1221g includes an inverter 1221ga, a NOR gate 1221gb, an inverter 1221gc, a NOR gate 1221gd, a NOR gate 1221ge, a NOR gate 1221gf, and a NOR gate 1221gg. NOR gates 1221ge and 1221gf form a flip-flop circuit.

このリセットタイミング検出回路1221fはさらに、RORリフレッシュタイミング検出回路1221hと、NORゲート1221faとを有する。このRORリフレッシュタイミング検出回路1221hは、インバータ1221ha、NANDゲート1221hb、NORゲート1221hc、NORゲート1221hd、NORゲート1221he、インバータ1221hfおよびNORゲート1221hgを有する。NORゲート1221hdおよび1221heはフリップフロップ回路を構成する。RORリフレッシュタイミング検出回路1221hは、ロウアドレスストローブ信号/RAS、その遅延信号D/RASおよびカラムアドレスストローブ信号/CASを受け、RORタイミング検出信号RORを出力する。このRORタイミング検出信号RORは、ロウアドレスストローブ信号/RASおよびカラムアドレスストローブ信号/CASがRORタイミングで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/RASがHレベルに立上がってから所定期間Hレベルになる。また、NORゲート1221faは、CBRリフレッシュタイミング検出信号CBRRおよびRORタイミング検出信号RORを受け、リセットタイミング検出信号/RSTを出力する。このリセットタイミング検出信号/RSTは、CBRリフレッシュタイミング検出信号CBRRおよびRORタイミング検出信号RORのうち少なくとも一方がHレベルであると、Lレベルとなる。   The reset timing detection circuit 1221f further includes an ROR refresh timing detection circuit 1221h and a NOR gate 1221fa. The ROR refresh timing detection circuit 1221h includes an inverter 1221ha, a NAND gate 1221hb, a NOR gate 1221hc, a NOR gate 1221hd, a NOR gate 1221he, an inverter 1221hf, and a NOR gate 1221hg. NOR gates 1221hd and 1221he constitute a flip-flop circuit. ROR refresh timing detection circuit 1221h receives row address strobe signal / RAS, delay signal D / RAS and column address strobe signal / CAS, and outputs ROR timing detection signal ROR. When the row address strobe signal / RAS and the column address strobe signal / CAS are input at the ROR timing, the ROR timing detection signal ROR is at the H level for a predetermined period after the row address strobe signal / RAS rises to the H level. . The NOR gate 1221fa receives the CBR refresh timing detection signal CBRR and the ROR timing detection signal ROR and outputs a reset timing detection signal / RST. This reset timing detection signal / RST is at L level when at least one of CBR refresh timing detection signal CBRR and ROR timing detection signal ROR is at H level.

この外部クロック検出回路122はさらに、WCBRタイミング検出信号WCBRおよびリセットタイミング検出信号/RSTを受け、タイミング検出信号TDAを出力するセット/リセット回路1221iを備える。このセット/リセット回路1221iは、インバータ1221ia、NANDゲート1221ibおよびNANDゲート1221icを有する。NANDゲート1221ibおよび1221icはフリップフロップ回路を構成する。したがって、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがWCBRタイミングで入力されてWCBRタイミング検出信号WCBRがHレベルでリセットタイミング検出信号/RSTがHレベルになると、タイミング検出信号TDAはHレベルにセットされる。他方、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがCBRリフレッシュタイミングまたはRORタイミングで入力されて、ロウアドレスストローブ信号/RASのHレベルへの立上がりでWCBRタイミング検出信号WCBRがLレベルでリセットタイミング検出信号/RSTがLレベルになると、タイミング検出信号TDAはLレベルにリセットされる。   The external clock detection circuit 122 further includes a set / reset circuit 1221i that receives the WCBR timing detection signal WCBR and the reset timing detection signal / RST and outputs the timing detection signal TDA. The set / reset circuit 1221i includes an inverter 1221ia, a NAND gate 1221ib, and a NAND gate 1221ic. NAND gates 1221ib and 1221ic constitute a flip-flop circuit. Therefore, when row address strobe signal / RAS, column address strobe signal / CAS and write enable signal / WE are input at WCBR timing, WCBR timing detection signal WCBR is at H level and reset timing detection signal / RST is at H level. The timing detection signal TDA is set to H level. On the other hand, the row address strobe signal / RAS, the column address strobe signal / CAS and the write enable signal / WE are input at the CBR refresh timing or the ROR timing, and the WCBR timing is detected when the row address strobe signal / RAS rises to the H level. When signal WCBR is at L level and reset timing detection signal / RST is at L level, timing detection signal TDA is reset to L level.

この外部クロック検出回路122はさらに、タイミング検出信号TDA、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCを受け、タイミング検出ラッチ信号LTDAを出力するタイミング検出信号ラッチ回路1221jを備える。このタイミング検出ラッチ回路1221jは、クロックトインバータ1221ja、インバータ1221jbおよびクロックトインバータ1221jcを有する。したがって、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCがそれぞれHレベルおよびLレベルのとき、タイミング検出ラッチ信号LTDAはタイミング検出信号TDAと同じ論理となる。他方、クロックトインバータ制御信号CLCおよび/CLCがそれぞれLレベルおよびHレベルになると、その時点でのタイミング検出ラッチ信号LTDAが保持される。   The external clock detection circuit 122 further includes a timing detection signal latch circuit 1221j that receives the timing detection signal TDA and the clocked inverter control signals CLC and / CLC and outputs the timing detection latch signal LTDA. The timing detection latch circuit 1221j includes a clocked inverter 1221ja, an inverter 1221jb, and a clocked inverter 1221jc. Therefore, when clocked inverter control signals CLC and / CLC are at the H level and L level, respectively, timing detection latch signal LTDA has the same logic as timing detection signal TDA. On the other hand, when clocked inverter control signals CLC and / CLC attain L level and H level, respectively, timing detection latch signal LTDA at that time is held.

この外部クロック検出回路122はさらに、ロウアドレスストローブ信号/RASを受け、パルス信号/FSEXを出力するパルス発生回路1221kを備える。このパルス発生回路1221kは、遅延回路1221ka、インバータ1221kb、遅延回路1221kcおよびNANDゲート1221kdを有する。したがって、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルに立下がってから所定時間経過後、パルス信号/FSEXは所定時間だけLレベルに立下がる。   The external clock detection circuit 122 further includes a pulse generation circuit 1221k that receives the row address strobe signal / RAS and outputs a pulse signal / FSEX. The pulse generation circuit 1221k includes a delay circuit 1221ka, an inverter 1221kb, a delay circuit 1221kc, and a NAND gate 1221kb. Therefore, after a predetermined time elapses after row address strobe signal / RAS falls to L level, pulse signal / FSEX falls to L level for a predetermined time.

この外部クロック検出回路122はさらに、タイミング検出信号TDA、タイミング検出ラッチ信号LTDAおよびパルス信号/FSEXを受け、テストモードリセット信号/FR、アドレスキーラッチ制御信号FSEおよびテストモード活性化信号FEを出力するタイミング検出信号発生回路1221mを備える。このタイミング検出信号発生回路1221mは、インバータ1221ma、1221mb、NANDゲート1221mc、インバータ1221md、1221meおよび1221mfを有する。したがって、テストモードリセット信号/FRは、タイミング検出信号TDAの反転信号である。アドレスキーラッチ制御信号FSEは、タイミング検出信号TDAがHレベル、パルス信号/FSEXがLレベル、タイミング検出ラッチ信号LTDAがLレベルであると、Hレベルとなる。テストモード活性化信号FEは、タイミング検出ラッチ信号LTDAと同じ論理である。   External clock detection circuit 122 further receives timing detection signal TDA, timing detection latch signal LTDA and pulse signal / FSEX, and outputs test mode reset signal / FR, address key latch control signal FSE and test mode activation signal FE. A timing detection signal generation circuit 1221m is provided. The timing detection signal generation circuit 1221m includes inverters 1221ma and 1221mb, a NAND gate 1221mc, and inverters 1221md, 1221me, and 1221mf. Therefore, test mode reset signal / FR is an inverted signal of timing detection signal TDA. Address key latch control signal FSE is at H level when timing detection signal TDA is at H level, pulse signal / FSEX is at L level, and timing detection latch signal LTDA is at L level. Test mode activation signal FE has the same logic as timing detection latch signal LTDA.

図4は、WCBRタイミングでの外部クロック検出回路122のセット動作を示すタイミングチャートである。図5は、CBRリフレッシュタイミングまたはRORタイミングでの外部クロック検出回路122のリセット動作を示すタイミングチャートである。図4に示されるように、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがWCBRタイミングで入力されると、テストモードリセット信号/FRはLレベルにセットされる。他方、図5に示されるように、これらの信号/RAS、/CASおよび/WEがCBRリフレッシュタイミングまたはRORタイミングで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/RASのHレベルへの立上がりに応じて、テストモードリセット信号/FRはHレベルにリセットされる。   FIG. 4 is a timing chart showing the setting operation of the external clock detection circuit 122 at the WCBR timing. FIG. 5 is a timing chart showing the reset operation of the external clock detection circuit 122 at the CBR refresh timing or ROR timing. As shown in FIG. 4, when row address strobe signal / RAS, column address strobe signal / CAS and write enable signal / WE are input at the WCBR timing, test mode reset signal / FR is set to L level. . On the other hand, as shown in FIG. 5, when these signals / RAS, / CAS and / WE are input at the CBR refresh timing or ROR timing, in response to the rise of row address strobe signal / RAS to the H level, Test mode reset signal / FR is reset to H level.

また、図4に示されるように、これらの信号/RAS、/CASおよび/WEがWCBRタイミングで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルに立下がってから所定時間経過後に、アドレスキーラッチ制御信号FSEが所定期間だけHレベルとなる。   As shown in FIG. 4, when these signals / RAS, / CAS and / WE are input at the WCBR timing, the address is changed after a predetermined time has elapsed since the row address strobe signal / RAS fell to the L level. The key latch control signal FSE becomes H level for a predetermined period.

また、図4に示されるように、これらの信号/RAS、/CASおよび/WEがWCBRタイミングで入力されると、テストモード活性化信号FEは、ロウアドレスストローブ信号/RASのHレベルへの立上がりに応答してHレベルとなる。他方、図5に示されるように、これらの信号/RAS、/CASおよび/WEがCBRリフレッシュタイミングまたはRORタイミングで入力されると、ロウアドレスストローブ信号/RASのHレベルへの立上がりに応じて、テストモード活性化信号FEはLレベルとなる。   As shown in FIG. 4, when these signals / RAS, / CAS and / WE are input at the WCBR timing, test mode activation signal FE rises to the H level of row address strobe signal / RAS. In response to H level. On the other hand, as shown in FIG. 5, when these signals / RAS, / CAS and / WE are input at the CBR refresh timing or ROR timing, in response to the rise of row address strobe signal / RAS to the H level, Test mode activation signal FE is at L level.

(2.2) テストグループ検出回路(図6)
図6は、図2中のテストグループ検出回路120の構成を示すブロック図である。図6を参照して、このテストグループ検出回路120は、高電圧検出回路130および132と、ロウアドレスバッファ131および133と、テストグループデコーダ134とを備える。高電圧検出回路130は、アドレスピンA1の電圧がスーパーHレベル以上であるか否かを検出し、その電圧がスーパーHレベル以上であるときHレベルの高電圧検知信号SV1Fを出力する。高電圧検出回路132も、この高電圧検出回路130と同様に動作する。ロウアドレスバッファ131はアドレス信号A1を受け、出力信号/RA1FAを出力する。ロウアドレスバッファ133も、このロウアドレスバッファ131と同様に動作する。テストグループデコーダ134は、アドレスラッチ制御信号FSEがHレベルのとき高電圧検知信号SV1FおよびSV2Fを取込み、特殊テストグループ信号/TGAおよび/TGBを出力する。
(2.2) Test group detection circuit (Fig. 6)
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration of the test group detection circuit 120 in FIG. Referring to FIG. 6, test group detection circuit 120 includes high voltage detection circuits 130 and 132, row address buffers 131 and 133, and a test group decoder 134. The high voltage detection circuit 130 detects whether or not the voltage of the address pin A1 is higher than the super H level, and outputs the high voltage detection signal SV1F of H level when the voltage is higher than the super H level. The high voltage detection circuit 132 operates in the same manner as the high voltage detection circuit 130. Row address buffer 131 receives address signal A1 and outputs output signal / RA1FA. The row address buffer 133 operates in the same manner as the row address buffer 131. Test group decoder 134 takes in high voltage detection signals SV1F and SV2F when address latch control signal FSE is at H level, and outputs special test group signals / TGA and / TGB.

(2.2.1) 高電圧検出回路(図7)
図7は、図6中の高電圧検出回路130の一例を示す回路図である。図7を参照して、この高電圧検出回路130は、ダイオード接合されたn個のNチャネルMOSトランジスタ1301と、NチャネルMOSトランジスタ1302とを備える。NチャネルMOSトランジスタ1301はしきい値Vtを有する。したがって、アドレスピンA1に電源電圧Vccよりもn×Vtだけ高い電圧(スーパーHレベル)が与えられると、高電圧検知信号SV1Fが通常のHレベルとなる。
(2.2.1) High voltage detection circuit (Fig. 7)
FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of the high voltage detection circuit 130 in FIG. Referring to FIG. 7, high voltage detection circuit 130 includes n N-channel MOS transistors 1301 and N-channel MOS transistors 1302 that are diode-junctioned. N channel MOS transistor 1301 has a threshold value Vt. Therefore, when a voltage (super H level) higher than power supply voltage Vcc by n × Vt is applied to address pin A1, high voltage detection signal SV1F becomes a normal H level.

(2.2.2) テストグループデコーダ(図8)
図8は、図6中のテストグループデコーダ134の構成を示す回路図である。図8を参照して、このテストグループデコーダ134は、インバータ1341、1345、1347、1353、1355、クロックトインバータ1342、1343、1350、1351、NORゲート1344、1346、1352、1354、ANDゲート1348、1349、NANDゲート1356および1357を備える。NORゲート1344およびインバータ1345、NORゲート1346およびインバータ1347、NORゲート1352およびインバータ1353、ならびにNORゲート1354およびインバータ1355は、それぞれラッチ回路を構成する。
(2.2.2) Test group decoder (Fig. 8)
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of test group decoder 134 in FIG. Referring to FIG. 8, this test group decoder 134 includes inverters 1341, 1345, 1347, 1353, 1355, clocked inverters 1342, 1343, 1350, 1351, NOR gates 1344 , 1346, 1352 , 1354, AND gate 1348. , 1349 , NAND gates 1356 and 1357. NOR gate 1344 and inverter 1345, NOR gate 1346 and inverter 1347, NOR gate 1352 and inverter 1353, and NOR gate 1354 and inverter 1355 constitute a latch circuit, respectively.

Hレベルのアドレスラッチ制御信号FSEに応答してクロックトインバータ1342、1343、1350および1351が動作する。これにより、高電圧検知信号SV1FがHレベルのときアドレスキーラッチ信号SV1がHレベルとなり、高電圧検知信号SV2FがHレベルのときアドレスキーラッチ信号SV2がHレベルとなる。また、ロウアドレスバッファ131の出力信号/RA1FAがHレベルのときアドレスキーラッチ信号HV1がHレベルとなり、ロウアドレスバッファ133の出力信号/RA2FAがHレベルのときアドレスキーラッチ信号HV2がHレベルとなる。したがって、アドレスキーラッチ信号SV1,SV2,HV1,HV2の組合せによって、アドレスピンに与えられる電圧の3つの状態が検知され得る。たとえばアドレスキーラッチ信号SVn(n=1,2)がHレベルでかつアドレスキーラッチ信号HVn(n=1,2)がLレベルのとき、アドレスピンの電圧はスーパーHレベルである。また、アドレスキーラッチ信号SVnがLレベルでかつアドレスキーラッチ信号HVnがHレベルのとき、アドレスピンの電圧は通常のHレベルである。さらに、アドレスキーラッチ信号SVnがLレベルでかつアドレスキーラッチ信号HVnがLレベルのとき、アドレスピンの電圧はLレベルである。なお、アドレスキーラッチ信号SVnおよびHVnが同時にHレベルとなることはない。   Clocked inverters 1342, 1343, 1350 and 1351 operate in response to the address latch control signal FSE at the H level. Thus, when the high voltage detection signal SV1F is at H level, the address key latch signal SV1 is at H level, and when the high voltage detection signal SV2F is at H level, the address key latch signal SV2 is at H level. When the output signal / RA1FA of the row address buffer 131 is at H level, the address key latch signal HV1 is at H level, and when the output signal / RA2FA of the row address buffer 133 is at H level, the address key latch signal HV2 is at H level. . Therefore, the three states of the voltage applied to the address pins can be detected by the combination of the address key latch signals SV1, SV2, HV1, and HV2. For example, when address key latch signal SVn (n = 1, 2) is at H level and address key latch signal HVn (n = 1, 2) is at L level, the voltage at the address pin is at super H level. When the address key latch signal SVn is at the L level and the address key latch signal HVn is at the H level, the voltage at the address pin is a normal H level. Further, when address key latch signal SVn is at L level and address key latch signal HVn is at L level, the voltage at the address pin is at L level. Note that address key latch signals SVn and HVn do not simultaneously become H level.

特殊テストグループ信号/TGAおよび/TGBは、これらのアドレスキーラッチ信号SVn,HVnの組合せに従って生成される。特殊テストグループ信号/TGAは、テストモード活性化信号FE、アドレスキーラッチ信号SV1およびHV2がすべてHレベルのとき、Lレベルとなる。特殊テストグループ信号/TGBは、テストモード活性化信号FE、アドレスキーラッチ信号SV2およびHV1がすべてHレベルのとき、Lレベルとなる。   Special test group signals / TGA and / TGB are generated according to a combination of address key latch signals SVn and HVn. Special test group signal / TGA is at L level when test mode activation signal FE and address key latch signals SV1 and HV2 are all at H level. Special test group signal / TGB is at L level when test mode activation signal FE and address key latch signals SV2 and HV1 are all at H level.

したがって、特殊テストグループ信号/TGA,/TGBは、2つのアドレスピンに2種類の電圧が与えられたとき活性化される。このうち1種類の電圧が通常の使用範囲内のLレベルであればもう1種類の電圧がスーパーHレベルであっても、特殊テストグループ信号/TGA,/TGBは活性化されない。さらに、1種類の電圧だけが印加される場合は、いかなるレベルであっても特殊テストグループ信号/TGA,/TGBは活性化されない。そのため、アドレスピンに間違って高い電圧が印加されてもこの半導体記憶装置は特殊テストモードに入ることはない。   Therefore, special test group signals / TGA, / TGB are activated when two kinds of voltages are applied to two address pins. If one of the voltages is L level within the normal use range, the special test group signals / TGA and / TGB are not activated even if the other voltage is super H level. Furthermore, when only one type of voltage is applied, special test group signals / TGA, / TGB are not activated at any level. Therefore, even if a high voltage is applied to the address pins by mistake, the semiconductor memory device does not enter the special test mode.

(2.3) アドレスキーラッチ回路(図9)
図9は、図2中のアドレスキーラッチ回路121の構成を示す回路図である。図9を参照して、このアドレスキーラッチ回路121は、インバータ1211、1216、1218、1220、1221〜1223、クロックトインバータ1212〜1214、NORゲート1215、1217および1219を備える。NORゲート1215およびインバータ1216、NORゲート1217およびインバータ1218、ならびにNORゲート1219およびインバータ1220は、それぞれラッチ回路を構成する。
(2.3) Address key latch circuit (Fig. 9)
FIG. 9 is a circuit diagram showing a configuration of address key latch circuit 121 in FIG. Referring to FIG. 9, address key latch circuit 121 includes inverters 1211, 1216, 1218, 1220, 1221 to 1223, clocked inverters 1212 to 1214, and NOR gates 1215, 1217 and 1219. NOR gate 1215 and inverter 1216, NOR gate 1217 and inverter 1218, and NOR gate 1219 and inverter 1220 constitute a latch circuit, respectively.

このアドレスキーラッチ回路121はさらに、アドレスキー信号TA3〜TA5をそれぞれ受け、その反転信号/RA3FA〜/RA5FAをそれぞれ出力する3つのロウアドレスバッファ(図示せず)を備える。   Address key latch circuit 121 further includes three row address buffers (not shown) that receive address key signals TA3 to TA5 and output inverted signals / RA3FA to / RA5FA, respectively.

アドレスラッチ制御信号FSEがHレベルにある間、アドレスバッファの出力信号/RA3FA〜/RA5FAがそれぞれ取込まれ、これによりアドレスキーラッチ信号HV3〜HV5,LV3〜LV5がラッチされる。これらの信号は、テストモードリセット信号/FRがHレベルになるまでラッチされ続ける。また、ロウアドレスバッファの出力信号/RAnFA(N=3,4,5)は、アドレスピンにHレベルが与えられるとLレベルとなり、アドレスピンにLレベルが与えられるとHレベルとなる。したがって、アドレスピンにHレベルが与えられると、アドレスキーラッチ信号HVnはHレベルとなり、アドレスキーラッチ信号LVnはLレベルとなる。他方、アドレスピンにLレベルが与えられると、アドレスキーラッチ信号HVnはLレベルとなり、アドレスキーラッチ信号LVnはHレベルとなる。   While the address latch control signal FSE is at the H level, the output signals / RA3FA to / RA5FA of the address buffer are taken in, respectively, whereby the address key latch signals HV3 to HV5 and LV3 to LV5 are latched. These signals continue to be latched until the test mode reset signal / FR becomes H level. Further, the output signal / RAnFA (N = 3, 4, 5) of the row address buffer becomes L level when an H level is applied to the address pin, and becomes H level when an L level is applied to the address pin. Therefore, when the H level is applied to the address pin, the address key latch signal HVn becomes H level and the address key latch signal LVn becomes L level. On the other hand, when L level is applied to the address pin, the address key latch signal HVn becomes L level, and the address key latch signal LVn becomes H level.

(2.4) 特殊テストモードクロックデコーダ(図10)
図10は、図2中の特殊テストモードクロックデコーダ128の構成を示す回路図である。図10を参照して、この特殊テストモードクロックデコーダ128は、マルチビットテスト活性化信号TMBを発生する回路と、冗長ロウテスト活性化信号TEST1および冗長カラムテスト活性化信号/TEST2を発生する回路とを備える。このマルチビットテスト活性化信号発生回路は、インバータ1281、1284、1288、1289、NANDゲート1282、1286、1287、ANDゲート1285およびNORゲート1283とを備える。他方、この冗長ロウおよび冗長カラムテスト活性化信号発生回路は、NORゲート1290、1291、1292、1293、インバータ1294、1295および1296を備える。
(2.4) Special test mode clock decoder (Figure 10)
FIG. 10 is a circuit diagram showing a configuration of special test mode clock decoder 128 in FIG. Referring to FIG. 10, special test mode clock decoder 128 includes a circuit for generating multi-bit test activation signal TMB and a circuit for generating redundant row test activation signal TEST1 and redundant column test activation signal / TEST2. Prepare. This multi-bit test activation signal generating circuit includes inverters 1281, 1284, 1288, 1289, NAND gates 1282 , 1 286, 1287, an AND gate 1285, and a NOR gate 1283. On the other hand, the redundant row and a redundant column test activation signal generating circuit comprises a NOR gate 1290,1291,1292,1293, inverters 1294,12 95 and 1296.

アドレスピンA1,A2に通常の範囲内のLレベルの電圧とスーパーHレベルとが与えられ、かつ信号/RAS,/CAS,/WEがWCBRタイミングで入力されると、マルチビットテスト活性化信号TMBは必ずHレベルに活性化され、この半導体記憶装置が特殊テストモードに入ることはない。また、特殊テストモードでこの半導体記憶装置の特性評価を行なう場合に、マルチビットテストモードでこの半導体記憶装置のマージン評価を行なえば、テスト時間が大幅に短縮される。したがって、特殊テストモードでもマルチビットテストを可能とするために、アドレスキーによってもマルチビットテストモードが設定可能とされている。この実施の形態では、アドレスピンA1,A2,A5の電圧がそれぞれスーパーHレベル、HレベルおよびHレベルであるか、またはHレベル、スーパーHレベルおよびHレベルであるとき、マルチビットテストが可能となる。   When address pins A1 and A2 are supplied with L level voltage and super H level within the normal range and signals / RAS, / CAS, / WE are input at WCBR timing, multi-bit test activation signal TMB Is always activated to H level, and this semiconductor memory device does not enter the special test mode. In addition, when evaluating the characteristics of the semiconductor memory device in the special test mode, if the margin evaluation of the semiconductor memory device is performed in the multi-bit test mode, the test time is greatly shortened. Accordingly, in order to enable a multi-bit test even in the special test mode, the multi-bit test mode can be set also by an address key. In this embodiment, when the voltages of the address pins A1, A2 and A5 are super H level, H level and H level, respectively, or when they are H level, super H level and H level, a multi-bit test is possible. Become.

図11は、WCBRタイミングにより冗長ロウ活性化信号TEST1、冗長カラム活性化信号/TEFT2およびマルチビットテスト活性化信号TMBのすべてが活性状態となるテストモード制御回路のセット動作を示すタイミングチャートである。図11(d)〜(h)に示されるように、アドレスピンA1にスーパーHレベル(図11ではSで示される)が与えられ、かつアドレスピンA2〜A5にHレベルの電圧がそれぞれ与えられている場合において、図11(a)〜(c)に示されるように、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがWCBRタイミングで入力されると、アドレスキーラッチ信号SV1はHレベルとなり、アドレスキーラッチ信号HV1がLレベルとなり、アドレスキーラッチ信号SV2はLレベルとなり、アドレスキーラッチ信号HV2はHレベルとなり、アドレスキーラッチ信号HV3はHレベルとなり、アドレスキーラッチ信号LV3はLレベルとなり、アドレスキーラッチ信号HV4はHレベルとなり、アドレスキーラッチ信号LV4はLレベルとなり、アドレスキーラッチ信号HV5はHレベルとなり、さらにアドレスキーラッチ信号LV5はLレベルとなる。これにより、特殊テストグループ信号/TGAが活性状態となる準備が整う。   FIG. 11 is a timing chart showing the set operation of the test mode control circuit in which redundant row activation signal TEST1, redundant column activation signal / TEFT2 and multi-bit test activation signal TMB are all activated by WCBR timing. As shown in FIGS. 11D to 11H, a super H level (indicated by S in FIG. 11) is applied to the address pin A1, and an H level voltage is applied to the address pins A2 to A5, respectively. 11A to 11C, when the row address strobe signal / RAS, the column address strobe signal / CAS and the write enable signal / WE are input at the WCBR timing, as shown in FIGS. The key latch signal SV1 becomes H level, the address key latch signal HV1 becomes L level, the address key latch signal SV2 becomes L level, the address key latch signal HV2 becomes H level, the address key latch signal HV3 becomes H level, and the address The key latch signal LV3 becomes L level, and the address key latch signal H 4 becomes H level, the address key latch signal LV4 becomes L level, the address key latch signal HV5 becomes H level, further address key latch signal LV5 has an L level. As a result, the special test group signal / TGA is ready to be activated.

これらのアドレスキーラッチ信号はアドレスキープリデコーダ123によってプリデコードされ、さらに特殊モードクロックデコーダ128によってデコードされる。そして、ロウアドレスストローブ信号/RASの立上りに応答してテストモード活性化信号FEが立上ると、特殊テストグループ信号/TGAが活性状態(Lレベル)となり、これにより冗長ロウテスト活性化信号TEST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2およびマルチビットテスト活性化信号TMBが順次活性状態となる。   These address key latch signals are predecoded by the address key predecoder 123 and further decoded by the special mode clock decoder 128. Then, when test mode activation signal FE rises in response to the rise of row address strobe signal / RAS, special test group signal / TGA becomes active (L level), thereby causing redundant row test activation signal TEST1, redundant test signal RED. Column test activation signal / TEST2 and multi-bit test activation signal TMB are sequentially activated.

図12は、RORまたはCBRリフレッシュタイミングにより冗長ロウテスト活性化信号TEST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2およびマルチビットテスト活性化信号TMBのすべてが不活性状態となるテストモード制御回路のリセット動作を示すタイミングチャートである。図12(a)〜(c)に示されるように、ロウアドレスストローブ信号/RAS、カラムアドレスストローブ信号/CASおよび書込イネーブル信号/WEがRORまたはCBRリフレッシュタイミングで入力され、その後ロウアドレスストローブ信号/RASが立上ると、テストモードリセット信号/FRが図12(d)に示されるようにHレベルとなる。テストモードリセット信号/FRがHレベルになると、すべてのアドレスキーラッチ信号がLレベルとなるので、図12(e)に示されるようにテストモード活性化信号FEもLレベルとなる。したがって、図12(f)〜(h)に示されるように、冗長ロウテスト活性化信号TEST1、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2およびマルチビットテスト活性化信号TMBのすべてが不活性状態となる。   FIG. 12 shows the reset operation of the test mode control circuit in which redundant row test activation signal TEST1, redundant column test activation signal / TEST2, and multi-bit test activation signal TMB are all inactivated by ROR or CBR refresh timing. It is a timing chart. As shown in FIGS. 12A to 12C, the row address strobe signal / RAS, the column address strobe signal / CAS and the write enable signal / WE are input at the ROR or CBR refresh timing, and then the row address strobe signal. When / RAS rises, test mode reset signal / FR becomes H level as shown in FIG. When test mode reset signal / FR goes to H level, all address key latch signals go to L level, so test mode activation signal FE also goes to L level as shown in FIG. Therefore, as shown in FIGS. 12F to 12H, all of redundant row test activation signal TEST1, redundant column test activation signal / TEST2, and multi-bit test activation signal TMB are inactivated.

以上の説明をまとめると、テストモード制御回路112のデコード表は次の表1のとおりである。表1中、SはスーパーHレベルを示し、Hは通常のH(論理ハイ)レベルを示し、LがL(論理ロウ)レベルを示す。   To summarize the above description, the decoding table of the test mode control circuit 112 is as shown in Table 1 below. In Table 1, S indicates a super H level, H indicates a normal H (logic high) level, and L indicates an L (logic low) level.

Figure 0004766961
Figure 0004766961

なお、この実施の形態では特殊テストグループ信号/TGBで設定可能な特殊テストモードはマルチビットテストモードだけであるが、これ以外の特殊テストモードが設定可能であっても構わない。また、アドレスキーの組合せは任意に設定可能であることは言うまでもない。   In this embodiment, the special test mode that can be set by the special test group signal / TGB is only the multi-bit test mode. However, other special test modes may be set. Needless to say, any combination of address keys can be set.

(3) メモリセルアレイおよびその周辺回路(図13,図14)
図13は、図1中のメモリセルアレイ100〜103およびその周辺回路の構成を詳細に示すブロック図である。図13を参照して、図1中のメモリセルアレイ100および冗長ロウメモリセルアレイ101は、16個のメモリセルアレイブロックMCA1〜MCA16に分割されている。図1中の冗長カラムメモリセルアレイ102および冗長カラムロウメモリセルアレイ103は、16個の冗長カラムメモリセルアレイブロックSMCA1〜SMCA16に分割されている。図1中のセンスリフレッシュアンプ入出力制御回路104は、17個のセンスリフレッシュアンプ入出力制御回路ブロックSA1A〜SA17Aに分割されている。図1中の冗長センスリフレッシュアンプ入出力制御回路105は、17個の冗長センスリフレッシュアンプ入出力制御回路ブロックSSA1A〜SSA17Aに分割されている。
(3) Memory cell array and its peripheral circuits (FIGS. 13 and 14)
FIG. 13 is a block diagram showing in detail the configuration of memory cell arrays 100 to 103 and their peripheral circuits in FIG. Referring to FIG. 13, memory cell array 100 and redundant row memory cell array 101 in FIG. 1 are divided into 16 memory cell array blocks MCA1 to MCA16. The redundant column memory cell array 102 and the redundant column row memory cell array 103 in FIG. 1 are divided into 16 redundant column memory cell array blocks SMCA1 to SMCA16. The sense refresh amplifier input / output control circuit 104 in FIG. 1 is divided into 17 sense refresh amplifier input / output control circuit blocks SA1A to SA17A. The redundant sense refresh amplifier input / output control circuit 105 in FIG. 1 is divided into 17 redundant sense refresh amplifier input / output control circuit blocks SSA1A to SSA17A.

図1中のロウデコーダ106は、16個のロウデコーダRDC1〜RDC16と、16個のレベル変換回路LC1〜LC16とを備える。図1中の冗長ロウデコーダ107は、16個の冗長ロウデコーダSRDC1〜SRDC16と、16個の冗長レベル変換回路SLC1〜SLC16とを備える。ロウデコーダRDC1〜RDC16および冗長ロウデコーダSRDC1〜SRDC16は、メモリセルアレイMCA1〜MCA16に対応して配置される。ロウデコーダRDC1〜RDC16の各々は4つの通常ワード線WLiと接続され、ワード線駆動信号RX0〜RX3に応答してその4つの通常ワード線のうち1つを駆動する。冗長ロウデコーダSRDC1〜SRDC16の各々は2本の冗長ワード線SWLjと接続され、冗長ワード線駆動信号SRX0,SRX1に応答してその2つの冗長ワード線のうち1つを駆動する。   The row decoder 106 in FIG. 1 includes 16 row decoders RDC1 to RDC16 and 16 level conversion circuits LC1 to LC16. The redundant row decoder 107 in FIG. 1 includes 16 redundant row decoders SRDC1 to SRDC16 and 16 redundant level conversion circuits SLC1 to SLC16. Row decoders RDC1 to RDC16 and redundant row decoders SRDC1 to SRDC16 are arranged corresponding to memory cell arrays MCA1 to MCA16. Each of row decoders RDC1 to RDC16 is connected to four normal word lines WLi, and drives one of the four normal word lines in response to word line drive signals RX0 to RX3. Each of redundant row decoders SRDC1 to SRDC16 is connected to two redundant word lines SWLj, and drives one of the two redundant word lines in response to redundant word line drive signals SRX0 and SRX1.

レベル変換回路LC1〜LC16の各々は電源電圧レベルのワード線駆動信号RXF0〜RXF3を昇圧電圧レベルのワード線駆動信号RX0〜RX3に変換し、それらを対応するロウデコーダに供給する。冗長レベル変換回路SLC1〜SLC16の各々は、電源電圧レベルの冗長ワード線駆動信号SRF0,SRF1を昇圧電圧レベルの冗長ワード線駆動信号SRX0,SRX1に変換し、それらを対応する冗長ロウデコーダに供給する。   Each of level conversion circuits LC1-LC16 converts word line drive signals RXF0-RXF3 at the power supply voltage level into word line drive signals RX0-RX3 at the boosted voltage level, and supplies them to the corresponding row decoder. Each of redundancy level conversion circuits SLC1-SLC16 converts redundant word line drive signals SRF0 and SRF1 at the power supply voltage level into redundant word line drive signals SRX0 and SRX1 at the boosted voltage level, and supplies them to the corresponding redundant row decoder. .

ワード線駆動信号RXF0〜RXF3は図13に示されたRXデコーダ142によって生成される。冗長ワード線駆動信号SRF0,SRF1は図13に示された冗長RXデコーダ143によって生成される。RXデコーダ142は、RXデコーダ活性化信号/RXTに応答して活性化され、これにより相補ロウアドレス信号RAD0,/RAD0およびRAD1,/RAD1に従って1つのワード線駆動信号を生成する。ここで、RCデコーダ活性化信号/RXTは、ロウアドレスストローブ信号/RASを遅延させることにより生成される。また、冗長RXデコーダ143は、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBに従って1つの冗長ワード線駆動信号を生成する。   The word line drive signals RXF0 to RXF3 are generated by the RX decoder 142 shown in FIG. The redundant word line drive signals SRF0 and SRF1 are generated by the redundant RX decoder 143 shown in FIG. RX decoder 142 is activated in response to RX decoder activation signal / RXT, thereby generating one word line drive signal according to complementary row address signals RAD0, / RAD0 and RAD1, / RAD1. Here, RC decoder activation signal / RXT is generated by delaying row address strobe signal / RAS. Redundant RX decoder 143 generates one redundant word line drive signal in accordance with redundant row address detection signals SRA and SRB.

図1中のカラムデコーダ108は、図13に示されたY上位プリデコーダ140と、Y下位プリデコーダ141と、カラムデコーダCDCを含む。Y下位プリデコーダ141は、相補カラムアドレス信号CDA2,/CDA2〜CAD6,/CAD6をプリデコードすることによりプリデコード信号Y4〜Y15を生成する。Y上位プリデコーダ140は、カラムデコーダ活性化信号CDE、通常カラム活性化信号NCEAおよびNCEBに応答して活性化され、さらに相補カラムアドレス信号CAD7,/CAD7およびCAD8,/CAD8をプリデコードすることによりプリデコード信号Y16〜Y23を生成する。カラムデコーダCDCは、これらのプリデコード信号Y4〜Y23に応答してカラム選択線CSLiのうちいずれか1つを活性化する。   The column decoder 108 in FIG. 1 includes the Y upper predecoder 140, the Y lower predecoder 141, and the column decoder CDC shown in FIG. The Y lower predecoder 141 generates predecode signals Y4 to Y15 by predecoding complementary column address signals CDA2, / CDA2 to CAD6, / CAD6. Y upper predecoder 140 is activated in response to column decoder activation signal CDE and normal column activation signals NCEA and NCEB, and further predecodes complementary column address signals CAD7, / CAD7 and CAD8, / CAD8. Predecode signals Y16 to Y23 are generated. The column decoder CDC activates any one of the column selection lines CSLi in response to these predecode signals Y4 to Y23.

冗長カラムデコーダSCDCは4つの冗長カラム選択線SCSLA,SCSLB,SCSLCおよびSCSLDと接続され、4つの冗長カラム活性化信号SCEA,SCEB,SCECおよびSCEDに応答して2つの冗長カラム選択線を活性化する。ここでは、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECは同時にHレベルとなるので、対応する冗長カラム選択線SCSLAおよびSCSLCが同時に活性化される。また、冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDは同時にHレベルとなるので、対応する冗長カラム選択線SCSLBおよびSCSLDが同時に活性化される。   Redundant column decoder SCDC is connected to four redundant column selection lines SCSLA, SSCLB, SCSLC and SCSLD, and activates two redundant column selection lines in response to four redundant column activation signals SCEA, SCEB, SCEC and SCED. . Here, since redundant column activation signals SCEA and SCEC simultaneously become H level, corresponding redundant column selection lines SCSLA and SCSLC are simultaneously activated. Redundant column activation signals SCEB and SCED are simultaneously at the H level, and corresponding redundant column selection lines SSCLB and SCSLD are simultaneously activated.

図14は、図13中のブロックMCA1,SMCA1,SA1A,SSA1A〜MCA16,SMCA16,SA17A,SSA17Aのうち1つのブロックを示す配線図である。図14を参照して、複数のワード線WL0〜WL8および4つの冗長ワード線SWL0〜SWL3と交差して複数のビット線対BL,/BLが配置されている。   FIG. 14 is a wiring diagram showing one of the blocks MCA1, SMCA1, SA1A, SSA1A to MCA16, SMCA16, SA17A, and SSA17A in FIG. Referring to FIG. 14, a plurality of bit line pairs BL, / BL are arranged crossing a plurality of word lines WL0 to WL8 and four redundant word lines SWL0 to SWL3.

通常ビット線対BL,/BLと通常ワード線WL0〜WL8の交点に対応して複数の通常メモリセルMCが配置されている。通常メモリセルMCはハッチングのない○で表わされる。また、通常ビット線対BL,/BLと冗長ワード線SWL0〜SWL3との交点に対応して複数の冗長ロウメモリセルRMCが配置されている。冗長ロウメモリセルRMCは水平方向にハッチングされた○で表わされる。また、冗長ビット線対BL/BLと通常ワード線WL0〜WL8との交点に対応して複数の冗長カラムメモリセルCMCが配置されている。冗長カラムメモリセルCMCは垂直方向にハッチングされた○で表わされる。さらに、冗長ビット線対BL,/BLと冗長ワード線SWL0〜SWL3との交点に対応して複数の冗長ロウカラムメモリセルRCMCが配置されている。冗長ロウカラムメモリセルRCMCは水平および垂直方向にハッチングされた○で表わされる。   A plurality of normal memory cells MC are arranged corresponding to the intersections of the normal bit line pair BL, / BL and the normal word lines WL0 to WL8. Normally, the memory cell MC is represented by a circle without hatching. A plurality of redundant row memory cells RMC are arranged corresponding to the intersections between the normal bit line pair BL, / BL and the redundant word lines SWL0 to SWL3. The redundant row memory cell RMC is represented by a circle hatched in the horizontal direction. A plurality of redundant column memory cells CMC are arranged corresponding to the intersections between the redundant bit line pair BL / BL and the normal word lines WL0 to WL8. The redundant column memory cell CMC is represented by a circle hatched in the vertical direction. Further, a plurality of redundant row column memory cells RCMC are arranged corresponding to the intersections between the redundant bit line pair BL, / BL and the redundant word lines SWL0 to SWL3. The redundant row column memory cell RCMC is represented by a circle hatched in the horizontal and vertical directions.

また、複数の通常ビット線対BL,/BLに対応して複数の通常センスリフレッシュアンプSA0〜SA3が配置されている。また、冗長ビット線対BL,/BLに対応して複数の冗長センスリフレッシュアンプSSA0〜SSA3が配置されている。   A plurality of normal sense refresh amplifiers SA0-SA3 are arranged corresponding to the plurality of normal bit line pairs BL, / BL. A plurality of redundant sense refresh amplifiers SSA0 to SSA3 are arranged corresponding to the redundant bit line pairs BL and / BL.

このようなメモリセルアレイの一方側には2つのローカル入出力線対LIO1,/LIO1およびLIO3,/LIO3が配置され、その他方には2つのローカル入出力線対LIO0,/LIO0およびLIO2,/LIO2が配置されている。通常センスリフレッシュアンプSA0〜SA3の各々に対応して2つのカラム選択ゲートCSが配置されている。また、冗長センスリフレッシュアンプSSA0〜SSA3の各々に対応して2つの冗長カラム選択ゲートCSが配置されている。   Two local input / output line pairs LIO1, / LIO1 and LIO3, / LIO3 are arranged on one side of such a memory cell array, and two local input / output line pairs LIO0, / LIO0 and LIO2, / LIO2 are arranged on the other side. Is arranged. Two column select gates CS are arranged corresponding to each of the normal sense refresh amplifiers SA0 to SA3. Two redundant column selection gates CS are arranged corresponding to each of redundant sense refresh amplifiers SSA0 to SSA3.

また、4つの通常センスリフレッシュアンプSA0〜SA3に対応して1つの通常カラム選択線CSL255が配置され、4つの冗長センスリフレッシュアンプSSA0〜SSA3に対応して1つの冗長カラム選択線SCSL1が配置されている。   One normal column selection line CSL255 is arranged corresponding to the four normal sense refresh amplifiers SA0 to SA3, and one redundant column selection line SCSL1 is arranged corresponding to the four redundant sense refresh amplifiers SSA0 to SSA3. Yes.

なお、ワード線WL0に沿って形状ダミーワード線dmyが配置され、冗長ワード線SWL3に沿って形状ダミーワード線dmyが配置されている。   A shape dummy word line dmy is arranged along the word line WL0, and a shape dummy word line dmy is arranged along the redundant word line SWL3.

(4) ロウ系回路
(4.1) ロウデコーダ(図15)
図15は、図13中のロウデコーダRDC1〜RDC16の1つの構成を示す回路図である。図15を参照して、1つのロウデコーダは、対応する4つのワード線WL0〜WL3とそれぞれ接続される4つの駆動回路150と、NチャネルMOSトランジスタ152〜155,158と、PチャネルMOSトランジスタ151,156,157とを備える。各駆動回路150は、NチャネルMOSトランジスタ159〜161を備える。PチャネルMOSトランジスタ151のゲート電極にはロウデコーダプリチャージ信号/RDPが与えられる。NチャネルMOSトランジスタ155のゲート電極にはブロックセレクト信号RBSが与えられる。NチャネルMOSトランジスタ152〜154のゲート電極にはそれぞれXプリデコード信号XC,XA,XBが与えられる。
(4) Row system circuit (4.1) Row decoder (FIG. 15)
FIG. 15 is a circuit diagram showing one configuration of row decoders RDC1 to RDC16 in FIG. Referring to FIG. 15, one row decoder includes four drive circuits 150 connected to corresponding four word lines WL0 to WL3, N channel MOS transistors 152 to 155, 158, and P channel MOS transistor 151, respectively. , 156, 157. Each drive circuit 150 includes N channel MOS transistors 159 to 161. Row decoder precharge signal / RDP is applied to the gate electrode of P channel MOS transistor 151. Block select signal RBS is applied to the gate electrode of N channel MOS transistor 155. X predecode signals XC, XA, and XB are applied to the gate electrodes of N channel MOS transistors 152 to 154, respectively.

ここで、ロウデコーダプリチャージ信号/RDPがロウ系のプリチャージ期間にLレベルになると、ノードNAは昇圧電圧Vppレベルにプリチャージされる。これによりすべてのワード線WL0〜WL3は不活性状態となる。次いでロウアドレスストローブ信号/RASがLレベルになると、ロウデコーダプリチャージ信号/RDPがHレベルとなるので、ブロックセレクト信号RBS、およびXプリデコード信号XA〜XCの組合せに応じて特定のロウデコーダが選択される。そして、選択的に供給されるワード線活性化信号RX0〜RX3に応じて対応する1つのワード線が選択される。たとえばワード線駆動信号RX0が供給されたときは、対応するワード線WL0の電圧が昇圧電圧Vppレベルまで上昇する。   Here, when row decoder precharge signal / RDP becomes L level during the row-related precharge period, node NA is precharged to boosted voltage Vpp level. As a result, all the word lines WL0 to WL3 are inactivated. Next, when the row address strobe signal / RAS goes to L level, the row decoder precharge signal / RDP goes to H level, so that a specific row decoder depends on the combination of the block select signal RBS and the X predecode signals XA to XC. Selected. Then, a corresponding one word line is selected according to the selectively supplied word line activation signals RX0 to RX3. For example, when word line drive signal RX0 is supplied, the voltage of corresponding word line WL0 rises to the boosted voltage Vpp level.

(4.2)冗長ロウデコーダ(図16)
図16は、図13中の冗長ロウデコーダSRDC1〜SRDC16の1つの構成を示す回路図である。図16を参照して、この1つの冗長ロウデコーダは、対応する2つの冗長ワード線SWL0およびSWL1にそれぞれ接続される2つの駆動回路162と、NチャネルMOSトランジスタ167,168,171と、PチャネルMOSトランジスタ166,169,170とを備える。各駆動回路162は、NチャネルMOSトランジスタ163〜165を備える。ここで、NチャネルMOSトランジスタ167のゲート電極には、偶数または奇数を示す信号RADE0が与えられる。冗長ロウデコーダSRDC1〜SRDC16は、通常のデコーダRDC1〜RDC16とほぼ同様に動作する。通常ワード線を選択する場合は、冗長ワード線駆動信号SRX0およびSRX1がともにLレベルのまま維持されるので、冗長ワード線SWL0,SWL1が活性化されることはない。しかしながら、後述する冗長ロウアドレス検知回路が外部から与えられたロウアドレス信号とプログラムされた置換アドレスとの一致を検知すると、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBのいずれかがHレベルになるとともに、RXデコーダ142が不活性化される。したがって、通常ワード線駆動信号RXF0〜RXF3はすべてLレベルとなる。他方、冗長ロウアドレス検知信号SRAがHレベルになると、対応する冗長ワード線駆動信号SRF0がHレベルとなり、冗長ロウアドレス検知信号SRBがHレベルになると、対応する冗長ワード線駆動信号SRF1がHレベルとなる。したがって、選択されたメモリセルアレイブロック内の4つの冗長ワード線が信号RADE0に応答して2つずつ活性化される。
(4.2) Redundant row decoder (FIG. 16)
FIG. 16 is a circuit diagram showing one configuration of redundant row decoders SRDC1 to SRDC16 in FIG. Referring to FIG. 16, one redundant row decoder includes two drive circuits 162 connected to corresponding two redundant word lines SWL0 and SWL1, respectively, N channel MOS transistors 167, 168, 171 and P channel. MOS transistors 166, 169, and 170 are provided. Each drive circuit 162 includes N channel MOS transistors 163 to 165. Here, a signal RADE0 indicating even or odd number is applied to the gate electrode of N channel MOS transistor 167. Redundant row decoders SRDC1 to SRDC16 operate in substantially the same manner as normal decoders RDC1 to RDC16. When a normal word line is selected, redundant word line drive signals SRX0 and SRX1 are both maintained at the L level, so that redundant word lines SWL0 and SWL1 are not activated. However, when a later-described redundant row address detection circuit detects a match between an externally applied row address signal and a programmed replacement address, one of redundant row address detection signals SRA and SRB becomes H level, and RX The decoder 142 is inactivated. Accordingly, the normal word line drive signals RXF0 to RXF3 are all at the L level. On the other hand, when redundant row address detection signal SRA becomes H level, corresponding redundant word line drive signal SRF0 becomes H level, and when redundant row address detection signal SRB becomes H level, corresponding redundant word line drive signal SRF1 becomes H level. It becomes. Therefore, four redundant word lines in the selected memory cell array block are activated two by two in response to signal RADE0.

(4.3) RXデコーダおよび冗長RXデコーダ(図17)
図17は、図13中のRXデコーダ142および冗長RXデコーダ143の構成を示す回路図である。図17を参照して、RXデコーダ142は、NANDゲート1421〜1424,1429〜1432、NORゲート1425〜428、およびインバータ1433〜1436を備える。NANDゲート1429〜1432の一方入力ノードには、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBを受けるNORゲート1437が接続される。
(4.3) RX decoder and redundant RX decoder (FIG. 17)
FIG. 17 is a circuit diagram showing a configuration of RX decoder 142 and redundant RX decoder 143 in FIG. Referring to FIG. 17, RX decoder 142 includes NAND gates 1421 to 1424, 1429 to 1432, NOR gates 1425 to 1 428, and inverters 1433 to 1436. One input node of NAND gates 1429 to 1432 is connected to NOR gate 1437 receiving redundant row address detection signals SRA and SRB.

したがって、このRXデコーダ142は、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBがともにLレベルのとき活性化される。そして、RXデコーダ活性化信号/RXTがLレベルに立下ると、NANDゲート1421〜1424にそれぞれ与えられるロウアドレス信号/RAD0,/RAD1、RAD0,/RAD1、/RAD0,RAD1およびRAD0,RAD1に従ってワード線駆動信号RXF0〜RXF3のいずれか1つがHレベルに活性化される。   Therefore, RX decoder 142 is activated when redundant row address detection signals SRA and SRB are both at the L level. When RX decoder activation signal / RXT falls to the L level, the word address is applied according to row address signals / RAD0, / RAD1, RAD0, / RAD1, / RAD0, RAD1 and RAD0, RAD1 applied to NAND gates 1421-1424, respectively. Any one of the line drive signals RXF0 to RXF3 is activated to H level.

また、冗長RXデコーダ143は、インバータ1438,1441,1442、およびNANDゲート1439,1440を備える。したがって、冗長ロウアドレス検知信号SRAがHレベルになると、RXデコーダ活性化信号/RXTに応答して対応する冗長ワード線駆動信号SRF0がHレベルに活性化される。このHレベルの冗長ロウアドレス検知信号SRAはNORゲート1437にも与えられるので、RXデコーダ142は不活性化される。他方、冗長ロウアドレス検知信号SRBがHレベルになると、RXデコーダ活性化信号/RXTに応答して対応する冗長ワード線駆動信号SRF1がHレベルに活性化される。このHレベルの冗長ロウアドレス検知信号SRPはNORゲート1437にも与えられるので、RXデコーダ142は不活性化される。   The redundant RX decoder 143 includes inverters 1438, 1441, 1442, and NAND gates 1439, 1440. Therefore, when redundant row address detection signal SRA becomes H level, corresponding redundant word line drive signal SRF0 is activated to H level in response to RX decoder activation signal / RXT. Since this H level redundant row address detection signal SRA is also applied to NOR gate 1437, RX decoder 142 is inactivated. On the other hand, when redundant row address detection signal SRB becomes H level, corresponding redundant word line drive signal SRF1 is activated to H level in response to RX decoder activation signal / RXT. Since this H level redundant row address detection signal SRP is also applied to NOR gate 1437, RX decoder 142 is inactivated.

(4.4) 冗長ロウアドレスプログラム回路および冗長ロウアドレス検知回路(図18〜図20)
図18は、図1の冗長メモリ制御回路113に含まれる冗長ロウアドレスプログラム回路の構成を示す回路図である。図18を参照して、この冗長ロウアドレスプログラム回路は、8つのプログラム部180を備える。プログラム部180の各々は、1つのリンク信号のための信号線と共通に接続された14個のヒューズ素子181と、各々が対応するヒューズ素子181と直列に接続された14個のNチャネルMOSトランジスタ182とを備える。これらNチャネルMOSトランジスタ182のゲート電極には、ロウアドレス信号RAD1,/RAD1〜RAD7,/RAD7がそれぞれ与えられる。
(4.4) Redundant row address program circuit and redundant row address detection circuit (FIGS. 18 to 20)
FIG. 18 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant row address program circuit included in redundant memory control circuit 113 of FIG. Referring to FIG. 18, the redundant row address program circuit includes eight program units 180. Each of the program units 180 includes 14 fuse elements 181 commonly connected to a signal line for one link signal, and 14 N-channel MOS transistors each connected in series with the corresponding fuse element 181. 182. Row address signals RAD1, / RAD1 to RAD7, / RAD7 are applied to the gate electrodes of these N channel MOS transistors 182, respectively.

各リンク信号線と接地ノードとの間には3つのNチャネルMOSトランジスタ183または184、185または186、および187または188が接続されている。NチャネルMOSトランジスタ183の各々のゲート電極にはロウアドレス信号/RAD8が与えられる。NチャネルMOSトランジスタ184の各々のゲート電極にはロウアドレス信号RAD8が与えられる。リンク信号INK0,LINK1に対応するNチャネルMOSトランジスタ185および186のゲート電極にはロウアドレス信号/RAD9が与えられる。リンク信号LINK0,LINK1に対応するNチャネルMOSトランジスタ187および188のゲート電極にはロウアドレス信号/RAD10が与えられる。リンク信号LINK2,LINK3に対応するNチャネルMOSトランジスタ185および186のゲート電極にはロウアドレス信号RAD9が与えられる。リンク信号LINK2,LINK3に対応するNチャネルMOSトランジスタ187および188のゲート電極にはロウアドレス信号/RAD10が与えられる。リンク信号LINK4,LINK5に対応するNチャネルMOSトランジスタ185および186のゲート電極にはロウアドレス信号/RAD9が与えられる。リンク信号LINK4,LINK5に対応するNチャネルMOSトランジスタ187および188のゲート電極にはロウアドレス信号RAD10が与えられる。リンク信号LINK6,LINK7に対応するNチャネルMOSトランジスタ185および186のゲート電極にはロウアドレス信号RAD9が与えられる。リンク信号LINK6,LINK7に対応するNチャネルMOSトランジスタ187および188のゲート電極にはロウアドレス信号RAD10が与えられる。 Three N channel MOS transistors 183 or 184, 185 or 186, and 187 or 188 are connected between each link signal line and the ground node. A row address signal / RAD8 is applied to each gate electrode of N channel MOS transistor 183. A row address signal RAD8 is applied to each gate electrode of N channel MOS transistor 184. The row address signal / RAD9 is applied to a gate electrode of the N-channel MOS transistors 185 and 186 corresponding to the link signal L INK0, LINK1. Row address signal / RAD10 is applied to the gate electrodes of N channel MOS transistors 187 and 188 corresponding to link signals LINK0 and LINK1. Row address signal RAD9 is applied to the gate electrodes of N-channel MOS transistors 185 and 186 corresponding to link signals LINK2 and LINK3. Row address signal / RAD10 is applied to the gate electrodes of N channel MOS transistors 187 and 188 corresponding to link signals LINK2 and LINK3. Row address signal / RAD9 is applied to the gate electrodes of N channel MOS transistors 185 and 186 corresponding to link signals LINK4 and LINK5. Row address signal RAD10 is applied to the gate electrodes of N-channel MOS transistors 187 and 188 corresponding to link signals LINK4 and LINK5. Row address signal RAD9 is applied to the gate electrodes of N-channel MOS transistors 185 and 186 corresponding to link signals LINK6 and LINK7. Row address signal RAD10 is applied to the gate electrodes of N-channel MOS transistors 187 and 188 corresponding to link signals LINK6 and LINK7.

図19は、図1の冗長メモリ制御回路113に含まれる第1の冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。この冗長ロウアドレス検知回路は、図18に示された冗長ロウアドレスプログラム回路に対応して設けられる。図19を参照して、この冗長ロウアドレス検知回路は、2つの検知部190を備える。検知部190の各々は、PチャネルMOSトランジスタ1901,1902、インバータ1903およびNORゲート1904を備える。この冗長ロウアドレス検知回路はさらに、NANDゲート191、インバータ192,194、およびNORゲート193を備える。NANDゲート191にはロウアドレス信号RAD6,/RAD7が与えられ、インバータ192には冗長ロウテスト活性化信号TEST1が与えられる。   FIG. 19 is a circuit diagram showing a configuration of a first redundant row address detection circuit included in redundant memory control circuit 113 of FIG. This redundant row address detection circuit is provided corresponding to the redundant row address program circuit shown in FIG. Referring to FIG. 19, this redundant row address detection circuit includes two detection units 190. Each of detection units 190 includes P-channel MOS transistors 1901, 1902, an inverter 1903, and a NOR gate 1904. The redundant row address detection circuit further includes a NAND gate 191, inverters 192 and 194, and a NOR gate 193. Row address signals RAD6 and / RAD7 are applied to NAND gate 191 and redundant row test activation signal TEST1 is applied to inverter 192.

この冗長ロウアドレス検知回路はさらに、2つのNORゲート1904の出力およびインバータ194の出力を受けるNANDゲート195を備える。このNANDゲート195は冗長ロウアドレス検知信号SRAを出力する。   This redundant row address detection circuit further includes a NAND gate 195 that receives the outputs of two NOR gates 1904 and the output of inverter 194. This NAND gate 195 outputs a redundant row address detection signal SRA.

図20は、図1の冗長メモリ制御回路113に含まれる第2の冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。この冗長ロウアドレス検知回路は、冗長メモリ制御回路113に含まれるもう1つの冗長ロウアドレスプログラム回路に対応して設けられる。図20を参照して、この第2の冗長ロウアドレス検知回路は、図19に示された第1の冗長ロウアドレス検知回路とほぼ同様に構成される。但し、NANDゲート191にはロウアドレス信号/RAD6およびRAD7が与えられる。また、NANDゲート195は、冗長ロウアドレス検知信号SRBを出力する。   FIG. 20 is a circuit diagram showing a configuration of a second redundant row address detection circuit included in redundant memory control circuit 113 of FIG. This redundant row address detection circuit is provided corresponding to another redundant row address program circuit included in redundant memory control circuit 113. Referring to FIG. 20, the second redundant row address detection circuit is configured in substantially the same manner as the first redundant row address detection circuit shown in FIG. However, row address signals / RAD6 and RAD7 are applied to NAND gate 191. The NAND gate 195 outputs a redundant row address detection signal SRB.

図19および図20に示された冗長ロウプリチャージ信号SRPCは、ロウアドレスストローブ信号/RASの立上りに応答してLレベルとなり、これによりすべてのリンク信号LINK0〜LINK7のための信号線が電源電圧Vccレベルにプリチャージされる。そのため、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBはともにHレベルとなる。   The redundant row precharge signal SRPC shown in FIG. 19 and FIG. 20 becomes L level in response to the rise of the row address strobe signal / RAS, whereby the signal lines for all the link signals LINK0 to LINK7 are supplied with the power supply voltage. Precharged to Vcc level. Therefore, redundant row address detection signals SRA and SRB are both at the H level.

図18に示されたヒューズ素子181のすべてが溶断されていない状態、つまり置換アドレスが全くプログラムされていない状態では、どのようなアドレス信号が与えられてもリンク信号LINK0〜LINK7はすべてLレベルとなる。他方、相補ロウアドレス信号RAD1,/RAD1〜RAD7,/RAD7の各々の一方に対応するヒューズ素子181が溶断されている状態、つまり置換アドレスがプログラムされている状態では、プログラムされていないアドレスが与えられたときはすべてのリンク信号LINK0〜LINK7がLレベルとなるが、プログラムされているアドレスが与えられるとリンク信号LINK0〜LINK7はHレベルのまま維持される。それは、ヒューズ素子181が溶断されていると、そのヒューズ素子181に対応するNチャネルMOSトランジスタ182がオン状態となってもリンク信号のための信号線が放電されることがないからである。   In a state where all of fuse elements 181 shown in FIG. 18 are not blown, that is, in a state where no replacement address is programmed, link signals LINK0 to LINK7 are all set to the L level regardless of which address signal is applied. Become. On the other hand, when the fuse element 181 corresponding to one of the complementary row address signals RAD1, / RAD1 to RAD7, / RAD7 is blown, that is, when the replacement address is programmed, an unprogrammed address is given. When this is done, all the link signals LINK0 to LINK7 are at the L level. However, when the programmed address is given, the link signals LINK0 to LINK7 are maintained at the H level. This is because if the fuse element 181 is blown, the signal line for the link signal is not discharged even if the N-channel MOS transistor 182 corresponding to the fuse element 181 is turned on.

以上のように、冗長ロウテストモードに設定されていない場合(冗長ロウテスト活性化信号TEST1がLレベルの場合)は、リンク信号LINK0〜LINK7に応じて冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBの一方が活性化され、他方が不活性化される。したがって、プログラムされていないアドレス信号が与えられると、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBの一方がLレベルとなり、他方、プログラムされているアドレス信号が与えられると冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBの一方がHレベルのまま維持される。   As described above, when the redundant row test mode is not set (when the redundant row test activation signal TEST1 is at L level), one of the redundant row address detection signals SRA and SRB is activated according to the link signals LINK0 to LINK7. And the other is inactivated. Therefore, when an unprogrammed address signal is applied, one of redundant row address detection signals SRA and SRB becomes L level, and when a programmed address signal is applied, one of redundant row address detection signals SRA and SRB is applied. Is maintained at the H level.

次に、冗長ロウテストモードに設定されている場合(冗長ロウテスト活性化信号TEST1がHレベルの場合)の動作について説明する。この場合は、リンク信号LINK0〜LINK7に関係なく、図19中のNANDゲート191に与えられるロウアドレス信号/RAD7およびRAD6がともにHレベルならば冗長ロウアドレス検知信号SRAがHレベルに活性化される。このとき、図20中のNANDゲート191にはともにLレベルのロウアドレス信号RAD7および/RAD6が与えられるので、冗長ロウアドレス検知信号SRBはLレベルに不活性化される。   Next, the operation when the redundant row test mode is set (when the redundant row test activation signal TEST1 is at the H level) will be described. In this case, redundant row address detection signal SRA is activated to H level if both row address signals / RAD7 and RAD6 applied to NAND gate 191 in FIG. 19 are at H level regardless of link signals LINK0 to LINK7. . At this time, since L level row address signals RAD7 and / RAD6 are both applied to NAND gate 191 in FIG. 20, redundant row address detection signal SRB is inactivated to L level.

一方、図20中のNANDゲート191に与えられるロウアドレス信号RAD7および/RAD6がともにHレベルならば冗長ロウアドレス検知信号SRBはHレベルに活性化される。このとき、図19中のNANDゲート191にはともにLレベルのロウアドレス信号/RAD7およびRAD6が与えられるので、冗長ロウアドレス検知信号SRAはLレベルに不活性化される。   On the other hand, if row address signals RAD7 and / RAD6 applied to NAND gate 191 in FIG. 20 are both at H level, redundant row address detection signal SRB is activated to H level. At this time, since L level row address signals / RAD7 and RAD6 are both applied to NAND gate 191 in FIG. 19, redundant row address detection signal SRA is inactivated to L level.

ここで、プログラム部180に使用している相補ロウアドレス信号RAD6,/RAD6およびRAD7,/RAD7をこのような冗長ロウテストモードの検知にも使用しているのは、冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBを強制的に活性化することによりプログラムすべきアドレスが不要となるからである。したがって、この不要となるアドレスに応じて冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBを選択する冗長RXデコーダ143が設けられているため、外部から与えられるアドレスの組合せによって冗長ロウと冗長カラムとの交点に位置する冗長ロウメモリセルを除いたすべての冗長ロウメモリセルの機能テストを行なうことができる。   Here, the complementary row address signals RAD6, / RAD6 and RAD7, / RAD7 used in the program unit 180 are also used for detecting such a redundant row test mode. This is because the address to be programmed becomes unnecessary by forcibly activating the SRB. Therefore, since redundant RX decoder 143 is provided to select redundant row address detection signals SRA and SRB in accordance with the unnecessary address, it is located at the intersection of the redundant row and the redundant column depending on the combination of externally applied addresses. It is possible to perform a functional test on all the redundant row memory cells except the redundant row memory cell.

この実施の形態では、2つの冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBを使用する場合について説明したが、ここでは7つのプログラム用ロウアドレスRAD1〜RAD7が用いられているので、これらの外部から与えられたアドレスに応じて27 個の冗長ロウアドレス検知信号を選択的に活性化することができる。但し、冗長ロウデコーダに与えられる主クロックに等しい数の冗長ロウアドレス検知信号を用いた構成が最適である。このような構成が新たな制御信号の追加を必要とせず、しかもロウデコーダ、冗長ロウデコーダ、カラムデコーダ、冗長カラムデコーダなどといったレイアウト面積の制約が最も多い繰返し回路に対しても面積の増大をもたらさないからである。 In this embodiment, the case where two redundant row address detection signals SRA and SRB are used has been described. Here, since seven program row addresses RAD1 to RAD7 are used, they are given from the outside. 2 seven redundant row address sense signal can be selectively activated in accordance with the address. However, the configuration using the number of redundant row address detection signals equal to the number of main clocks supplied to the redundant row decoder is optimal. Such a configuration does not require the addition of a new control signal, and also increases the area even for repetitive circuits having the largest layout area constraints, such as row decoders, redundant row decoders, column decoders, and redundant column decoders. Because there is no.

(5) カラム系回路
(5.1) Y下位プリデコーダ(図21)
図21は、図13中のY下位プリデコーダ141の構成を示す回路図である。図21を参照して、このY下位プリデコーダ141は、6つのプリデコード部200,201を備える。プリデコード部200の各々は、NANDゲート2001,2002、およびインバータ2003〜2008を備える。プリデコード部201の各々は、NANDゲート2011,2012、およびインバータ2013〜2018を備える。したがって、このY下位プリデコーダ141は、相補カラムアドレス信号CAD2,/CAD2〜CAD6,/CAD6に応答してプリデコード信号Y4〜Y15を生成する。
(5) Column circuit (5.1) Y low order predecoder (FIG. 21)
FIG. 21 is a circuit diagram showing a configuration of Y lower predecoder 141 in FIG. Referring to FIG. 21, this Y lower predecoder 141 includes six predecode units 200 and 201. Each of the predecode units 200 includes NAND gates 2001 and 2002 and inverters 2003 to 2008. Each of the predecode units 201 includes NAND gates 2011 and 2012 and inverters 2013 to 2018. Therefore, this Y lower predecoder 141 generates predecode signals Y4 to Y15 in response to complementary column address signals CAD2, / CAD2 to CAD6, / CAD6.

(5.2) Y上位プリデコーダ(図22)
図22は、図13中のY上位プリデコーダ140の構成を示す回路図である。図22を参照して、このY上位プリデコーダ140は、2つのプリデコード部202を備える。プリデコード部202の各々は、NANDゲート2021〜2024,2029〜2032、およびインバータ2025〜2028,2033〜2036を備える。これらのプリデコード部202はともに、ロウアドレスストローブ信号RASが遅延させられたカラムデコード活性化信号CDEに応答して活性化される。また、プリデコード部202の一方は、冗長ロウアドレスの未検知時に生成される通常カラム活性化信号NCEAに応答して活性化され、他方のプリデコード部202は、通常カラム活性化信号NCEBに応答して活性化される。したがって、このY上位プリデコーダ140は、カラムデコード活性化信号CDE、通常カラム活性化信号NCEAおよびNCEBがHレベルのとき、与えられた相補カラムアドレス信号CAD7,/CAD7〜CAD9,/CAD9に応答してプリデコード信号Y16〜Y23を生成する。後述する冗長カラムアドレス検知回路が後述する冗長カラムアドレスプログラム回路にプログラムされた置換アドレスを検知すると、通常カラム活性化信号NCEAまたはNCEBがLレベルとなり、これによりプリデコード信号Y16〜Y19またはY20〜Y23がLレベルとなる。
(5.2) Y upper predecoder (FIG. 22)
FIG. 22 is a circuit diagram showing a configuration of Y upper predecoder 140 in FIG. Referring to FIG. 22, this Y upper predecoder 140 includes two predecoding units 202. Each of the predecode units 202 includes NAND gates 2021 to 2024 and 2029 to 2032 and inverters 2025 to 2028 and 2033 to 2036. Both of these predecode units 202 are activated in response to a column decode activation signal CDE obtained by delaying row address strobe signal RAS. One of the predecode units 202 is activated in response to a normal column activation signal NCEA generated when a redundant row address is not detected, and the other predecode unit 202 is responsive to a normal column activation signal NCEB. Activated. Therefore, Y upper predecoder 140 responds to applied complementary column address signals CAD7, / CAD7 to CAD9, / CAD9 when column decode activation signal CDE and normal column activation signals NCEA and NCEB are at the H level. Thus, predecode signals Y16 to Y23 are generated. When a later-described redundant column address detection circuit detects a replacement address programmed in a later-described redundant column address program circuit, the normal column activation signal NCEA or NCEB goes to L level, thereby predecoding signals Y16 to Y19 or Y20 to Y23. Becomes L level.

(5.3) 冗長カラムアドレス検知回路および冗長カラムアドレスプログラム回路(図23,図24)
図23は、図1の冗長メモリ制御回路113に含まれる冗長カラムアドレス検知回路の構成を示す回路図である。図23を参照して、この冗長カラムアドレス検知回路は、NANDゲート2041,2042,2046〜2051、インバータ2044,2045,2052〜2054、およびNORゲート2043を備える。この冗長カラムアドレス検知回路では、後述する冗長カラムアドレスプログラム回路から与えられる不良カラムアドレス検知信号/SCEA0,/SCEA1,/SCEB0,/SCEB1および冗長カラムテスト活性化信号/TEST2に応答して通常カラム活性化信号NCEが生成される。また、不良カラムアドレス検知信号/SCEA0,/SCEA1,/SCEB0,/SCEB1、相補カラムアドレス信号CAD7,/CAD7,CAD8,/CAD8および冗長カラムテスト活性化信号/TEST2に応答して冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCEBが生成される。
(5.3) Redundant column address detection circuit and redundant column address program circuit (FIGS. 23 and 24)
FIG. 23 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant column address detection circuit included in redundant memory control circuit 113 of FIG. Referring to FIG. 23, the redundant column address detection circuit includes NAND gates 2041, 2042, 2046 to 2051, inverters 2044, 2045, 2052 to 2054, and a NOR gate 2043. In this redundant column address detection circuit, normal column activation is performed in response to defective column address detection signals / SCEA0, / SCEA1, / SCEB0, / SCEB1 and redundant column test activation signal / TEST2 provided from a redundant column address program circuit described later. An NCE signal NCE is generated. Redundant column activation signals in response to defective column address detection signals / SCEA0, / SCEA1, / SCEB0, / SCEB1, complementary column address signals CAD7, / CAD7, CAD8, / CAD8 and redundant column test activation signal / TEST2 SCEA and SCEB are generated.

図24は、図1の冗長メモリ制御回路113に含まれる冗長カラムアドレスプログラム回路の構成を示す回路図である。図24を参照して、冗長カラムアドレスプログラム回路は、3つの検知部206を備える。検知部206の各々は、2つのプログラム部207、およびNORゲート2061を備える。プログラム部の各々は、PチャネルMOSトラン
ジスタ2071,2075,2079、NチャネルMOSトランジスタ2072,2073,2076,2077、およびヒューズ素子2074,2078を備える。この冗長カラムアドレスプログラム回路はさらに、PチャネルMOSトランジスタ2081,2091,2094,2098、ヒューズ素子2082,2085,2087,2089,2097、NチャネルMOSトランジスタ2083,2084,2086,2088,2090,2095,2096、インバータ2092,2093、プログラム部207、NORゲート2099、およびNANDゲート2100を備える。PチャネルMOSトランジスタ2081およびNチャネルMOSトランジスタ2084のゲート電極には冗長カラムプリチャージ信号/SCPCが与えられる。プログラムされるアドレスは、相補カラムアドレス信号CAD2,/CAD2〜CAD9,/CAD9および相補ロウアドレス信号RAD8,/RAD8,RAD9,/RAD9に応答して生成されるプリデコード信号X24〜X27から構成される。これは、プリデコード信号X24〜X27に応答して1つの冗長カラム選択線に接続される冗長カラムメモリセルを4つに分割して使用することに相当する。センスリフレッシュアンプ帯によって挟まれたメモリセルアレイブロックを越えて同一のYラインで不良が生じる確率は低いので、ランダムなYラインには自由度が多い分だけ歩留り向上には有利である。また、プリデコード信号X24〜X27に対応するヒューズ素子2082,2085,2087,2089を同時に溶断すればカラムデコーダの不良にも対処可能である。冗長カラムテストモードでない場合において、置換アドレスがプログラムされていない場合または置換アドレスとは異なるアドレスが与えられたとき、不良カラムアドレス検知信号/SCEがすべてHレベルとなり、さらにNANDゲート2046の出力信号/TACおよびNANDゲート2047の出力信号/TBDはともにHレベルとなる。したがって、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCEBはともにLレベルとなる。このとき、通常カラム活性化信号NCEはHレベルのまま活性化されている。
FIG. 24 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant column address program circuit included in redundant memory control circuit 113 of FIG. Referring to FIG. 24, the redundant column address program circuit includes three detection units 206. Each of the detection units 206 includes two program units 207 and a NOR gate 2061. Each program unit includes P channel MOS transistors 2071, 2075, 2079, N channel MOS transistors 2072, 2073, 2076, 2077, and fuse elements 2074, 2078. This redundant column address program circuit further includes P channel MOS transistors 2081, 2091, 2094, 2098, fuse elements 2082, 2085, 2087, 2089, 2097, N channel MOS transistors 2083, 2084, 2086, 2088, 2090, 2095, 2096. Inverters 2092 and 2093, a program unit 207, a NOR gate 2099, and a NAND gate 2100. Redundant column precharge signal / SCPC is applied to the gate electrodes of P channel MOS transistor 2081 and N channel MOS transistor 2084. Addresses to be programmed are composed of complementary column address signals CAD2, / CAD2 to CAD9, / CAD9 and predecode signals X24 to X27 generated in response to complementary row address signals RAD8, / RAD8, RAD9, / RAD9. . This corresponds to dividing the redundant column memory cell connected to one redundant column selection line into four in response to the predecode signals X24 to X27. Since there is a low probability that a defect occurs in the same Y line beyond the memory cell array block sandwiched between the sense refresh amplifier bands, the random Y line is advantageous in improving the yield by the degree of freedom. It is also possible address the failure of the column decoder if blown fuse element 2082,2085,2087,20 89 corresponding to the predecode signal X24~X27 simultaneously. When not in the redundant column test mode, when the replacement address is not programmed or when an address different from the replacement address is given, all the defective column address detection signals / SCE become H level, and the output signal / NAND of the NAND gate 2046 Both TAC and output signal / TBD of NAND gate 2047 attain H level. Therefore, redundant column activation signals SCEA and SCEB are both at L level. At this time, the normal column activation signal NCE is activated with the H level.

冗長カラムテストモードでない場合(冗長カラムテスト活性化信号/TEST2がHレベルの場合)は、与えられたアドレス信号がプログラムされたアドレスと一致したとき、不良カラムアドレス検知信号/SCEがLレベルとなる。これにより冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCEBのいずれか1つがHレベルに活性化される。   When not in the redundant column test mode (when the redundant column test activation signal / TEST2 is at the H level), the defective column address detection signal / SCE is at the L level when the applied address signal matches the programmed address. . As a result, one of redundant column activation signals SCEA and SCEB is activated to H level.

次に、冗長カラムテストモードの場合(冗長カラムテスト活性化信号/TEST2がLレベルの場合)について説明する。この場合は、カラムアドレス信号/CAD7およびCAD8がともにHレベルのとき、NANDゲート2046の出力信号/TACがLレベルとなり、これにより冗長カラム活性化信号SCEAがHレベルに活性化される。他方、カラムアドレス信号CAD7および/CAD8がともにHレベルのとき、NANDゲート2047の出力信号/TBDがLレベルとなり、これにより冗長カラム活性化信号SCEBがHレベルに活性化される。これと同時に、通常カラム活性化信号NCEはLレベルとなり、これにより通常カラム選択線CSLiは非選択状態となる。   Next, the case of redundant column test mode (when redundant column test activation signal / TEST2 is at L level) will be described. In this case, when both column address signals / CAD7 and CAD8 are at H level, output signal / TAC of NAND gate 2046 is at L level, and redundant column activation signal SCEA is thereby activated to H level. On the other hand, when column address signals CAD7 and / CAD8 are both at the H level, output signal / TBD of NAND gate 2047 attains the L level, whereby redundant column activation signal SCEB is activated to the H level. At the same time, the normal column activation signal NCE becomes L level, and the normal column selection line CSLi is thereby unselected.

ここで、相補カラムアドレスCAD7,/CAD7,CAD8,/CAD8を使用する理由は上述した冗長ロウテストモードと同様である。冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCEBを強制的に活性化することによりプログラムすべきアドレスは不要となる。したがって、不要となるアドレスによって冗長カラム活性化信号SCEA,SCEBを選択するデコード回路を備えることによって外部から与えられるアドレス信号の組合せのみによって冗長ロウと冗長カラムとの交点に位置する冗長カラムメモリセルを除くすべての冗長カラムメモリセルの機能テストを行なうことができる。また、ここでは、冗長カラム活性化信号SCEA,SCEBおよびSCEC,SCEDによって選択されるメモリセルアレイブロックは互いに異なるメモリプレーンに属するので、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECが同時に強制的に活性化されても選択されたメモリセルアレイブロックが競合することはない。ここで、メモリプレーンは、図24に示されたPチャネルMOSトランジスタ2094およびNチャネルMOSトランジスタ2096のゲート電極に与えられるカラムアドレス信号CAD9または/CAD9によって切換えられる。また、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECと同様に、冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDが同時に強制的に活性化されても何ら支障はない。 Here, the reason for using the complementary column addresses CAD7, / CAD7, CAD8, / CAD8 is the same as in the redundant row test mode described above. By forcibly activating redundant column activation signals SCEA and SCEB, the address to be programmed becomes unnecessary. Therefore, by providing a decoding circuit that selects redundant column activation signals SCEA and SCEB according to unnecessary addresses, redundant column memory cells located at the intersections of redundant rows and redundant columns can be obtained only by a combination of externally applied address signals. It is possible to perform a function test on all the redundant column memory cells except for the above. Here, since the memory cell array blocks selected by redundant column activation signals SCEA, SCEB and SCEC, SCED belong to different memory planes, redundant column activation signals SCEA and SCEC are forcibly activated simultaneously. The selected memory cell array block does not compete. Here, the memory plane is switched by column address signal CAD9 or / CAD9 applied to the gate electrodes of P channel MOS transistor 2094 and N channel MOS transistor 2096 shown in FIG. Similarly to redundant column activation signals SCEA and SCEC, there is no problem even if redundant column activation signals SCEB and SCED are simultaneously activated forcibly.

このように、冗長ロウテスト活性化信号/TEST2がLレベルになると、不良カラムアドレス検知信号/SCEA0,/SCEA1、SCEB0,/SCEB1と関係なく、通常カラム活性化信号NCEが強制的にLレベルとなる。また、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2がLレベルになると、不良カラムアドレス検知信号/SCEA0,/SCEA1,/SCEB0,/SCEB1と関係なく、相補カラムアドレス信号CAD7,/CAD7,CAD8,/CAD8に従って冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCEBが選択的に活性化される。   Thus, when the redundant row test activation signal / TEST2 becomes L level, the normal column activation signal NCE is forcibly set to L level regardless of the defective column address detection signals / SCEA0, / SCEA1, SCEB0, / SCEB1. . When redundant column test activation signal / TEST2 becomes L level, the complementary column address signals CAD7, / CAD7, CAD8, / CAD8 are used regardless of the defective column address detection signals / SCEA0, / SCEA1, / SCEB0, / SCEB1. Redundant column activation signals SCEA and SCEB are selectively activated.

ここでは、冗長カラム活性化信号SCEA〜SCEDが4つの場合について説明したが、ここでは7つのプログラム用アドレスCAD2,/CAD2〜CAD8,/CAD8が使用されているので、外部から与えられるアドレス信号に従って27 個の冗長カラム活性化信号が選択可能である。但し、冗長カラムデコーダSCDCに与えられる冗長カラム活性化信号の数に等しい数のカラムアドレス信号を用いた構成が最適である。また、上記のように異なるカラムのプレーンに対応する組合せとして冗長カラム活性化信号が存在しているのならばそのプレーンの数をNとすると1/N個の冗長カラム活性化信号を用いる構成が可能となる。このように冗長カラム活性化信号の数を最適化すれば新たな制御信号の追加が必要とされず、それによりカラムデコーダ面積の増大を抑えることができる。 Here, the case where there are four redundant column activation signals SCEA to SCED has been described. However, since seven program addresses CAD2, / CAD2 to CAD8, / CAD8 are used here, according to the address signal given from the outside 2 7 redundant column activation signals can be selected. However, the configuration using the number of column address signals equal to the number of redundant column activation signals given to the redundant column decoder SCDC is optimal. Further, as described above, if there are redundant column activation signals as combinations corresponding to different column planes, assuming that the number of the planes is N, a configuration using 1 / N redundant column activation signals is provided. It becomes possible. If the number of redundant column activation signals is optimized in this way, it is not necessary to add a new control signal, thereby suppressing an increase in the area of the column decoder.

(5.4) カラムデコーダおよび冗長カラムデコーダ(図25,図26)
図25は、1つのカラムデコーダの構成を示す回路図である。このカラムデコーダはNANDゲート210およびインバータ211を備える。したがって、3つのYプリデコード信号Y,Yj,Ykに応答して対応するカラム選択線CSLが活性化される。
(5.4) Column decoder and redundant column decoder (FIGS. 25 and 26)
FIG. 25 is a circuit diagram showing a configuration of one column decoder. This column decoder includes a NAND gate 210 and an inverter 211. Therefore, the corresponding column selection line CSL is activated in response to the three Y predecode signals Y i , Yj, Yk.

図26は、図3中の冗長カラムデコーダSCDCの構成を示す回路図である。図26を参照して、冗長カラムデコーダSCDCは、8つのインバータ212,213を備える。したがって、冗長カラム活性化信号SCEA〜SCEDのいずれかが活性化されると、冗長カラム選択線SCSLA〜SCSLDのうちその活性化された冗長カラム活性化信号に対応する冗長カラム選択線が活性化される。図13および図14に示された冗長ロウメモリセルRMCは、同じメモリセルアレイブロック内で通常メモリセルMCと置換されるので、いずれのメモリセルからのデータも同じローカル入出力線対を通して入出力される。これと同様に、冗長カラムメモリセルCMCもまた同一のメモリセルアレイブロック内で通常メモリセルMCと置換されるので、いずれのメモリセルからのデータも同じローカル入出力線対を通して入出力される。したがって、これ以降のデータの階層構成に関係なく、つまりたとえこれらローカル入出力線対がグローバル入出力線に接続されていても、通常メモリセル、冗長メモリセル、リード系およびライト系のいずれも構成の変更を全く必要としない。そのため、JEDC標準となっているマルチビットテストをする場合にも容易にデータの縮退を行なうことが可能であるので、3通りの冗長メモリセルテスト(冗長ロウメモリセルテスト、冗長カラムメモリセルテスト、冗長ロウカラムメモリセルテスト)のいずれにもマルチビットテストの適用が可能である。 Figure 26 is a circuit diagram showing the configuration of a redundant column decoder SCDC in FIG 3. Referring to FIG. 26, redundant column decoder SCDC includes eight inverters 212 and 213. Therefore, when one of redundant column activation signals SCEA-SCED is activated, a redundant column selection line corresponding to the activated redundant column activation signal is activated among redundant column selection lines SCSLA-SCSLD. The Since redundant row memory cell RMC shown in FIGS. 13 and 14 is replaced with normal memory cell MC in the same memory cell array block, data from any memory cell is input / output through the same local input / output line pair. The Similarly, since redundant column memory cell CMC is also replaced with normal memory cell MC in the same memory cell array block, data from any memory cell is input / output through the same local input / output line pair. Therefore, regardless of the hierarchical structure of the subsequent data, that is, even if these local input / output line pairs are connected to the global input / output lines, all of normal memory cells, redundant memory cells, read systems and write systems are configured. No changes are required. For this reason, even when a multi-bit test, which is a JEDC standard, data can be easily degenerated, three types of redundant memory cell tests (redundant row memory cell test, redundant column memory cell test, The multi-bit test can be applied to any of the redundant row column memory cell tests.

(6) 冗長メモリセルの機能テスト方法
以下、ダイソートテストにおける冗長メモリセルの機能テスト方法について×8ビット構成で2Kリフレッシュサイクルの16MDRAMを例にとって説明する。またここでは、冗長ロウは2系統の冗長ロウアドレス検知信号SRAおよびSRBによって制御され、冗長カラムは4系統の冗長カラム活性化信号SCEA〜SCEDによって制御されている。そして、冗長カラム活性化信号SCEA,SCEBと冗長カラム活性化信号SCEC,SCEDは互いに異なったカラムアドレス空間に対応する。すなわち、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECを同時に強制的に活性化しても、これらの信号は互いに異なったカラムアドレス空間を制御するので何らの問題も生じない。これと同様に、冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDを同時に強制的に活性化しても、これらの信号は互いに異なったカラムアドレス空間を制御するので何らの問題も生じない。したがって、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECを組合せるとともに、冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDを組合せ、これにより冗長カラムを2系統に集約しても差支えない。
(6) Redundant Memory Cell Functional Test Method Hereinafter, a redundant memory cell functional test method in the die sort test will be described taking a 16M DRAM of 2K refresh cycle in a × 8 bit configuration as an example. Here, the redundant row is controlled by two redundant row address detection signals SRA and SRB, and the redundant column is controlled by four redundant column activation signals SCEA to SCED. Redundant column activation signals SCEA and SCEB and redundant column activation signals SCEC and SCED correspond to different column address spaces. That is, even if the redundant column activation signals SCEA and SCEC are forcibly activated at the same time, these signals control different column address spaces, so that no problem occurs. Similarly, even if the redundant column activation signals SCEB and SCED are forcibly activated at the same time, these signals control different column address spaces, so that no problem occurs. Therefore, it is possible to combine redundant column activation signals SCEA and SCEC and redundant column activation signals SCEB and SCED, thereby integrating redundant columns into two systems.

(6.1)まず、冗長メモリセルのテスト方法について説明する。
(6.1.1) WCBRタイミングでアドレスピンA1〜A5にそれぞれスーパーHレベル、Hレベル、Hレベル、Lレベル、Lレベルを入力し、冗長ロウメモリテストモードにセットする。
(6.1) First, a redundant memory cell test method will be described.
(6.1.1) Super H level, H level, H level, L level, and L level are input to address pins A1 to A5 at WCBR timing, respectively, and the redundant row memory test mode is set.

(6.1.2) 次いで、冗長ロウアドレス検知信号SRAによって制御される冗長メモリセルをテストする。ここでは、プログラムに使用するアドレス以外を使用するので、ロウアドレス信号RA0,RA8,RA9,RA10,RA11をLレベルとし、ロウアドレス信号RA6をHレベルとする。またここでは、すべてのカラムアドレスCA0〜CA9を使用する。このような限定されたアドレス空間で通常のHレベルおよびLレベルを用いて機能テストを行なう。このとき、冗長ロウメモリセルに不良があればその不良となったロウアドレスをメモリする。たとえば、この不良アドレスをXA1とする。   (6.1.2) Next, the redundant memory cell controlled by the redundant row address detection signal SRA is tested. Here, since addresses other than those used for the program are used, the row address signals RA0, RA8, RA9, RA10 and RA11 are set to L level and the row address signal RA6 is set to H level. Here, all column addresses CA0 to CA9 are used. A functional test is performed using the normal H level and L level in such a limited address space. At this time, if there is a defect in the redundant row memory cell, the defective row address is stored in memory. For example, let this defective address be XA1.

(6.1.3) 次いで、冗長ロウアドレス検知信号SRBによって制御される冗長メモリセルがテストされる。上記(6.1.2)で説明した全アドレス空間にわたる機能テストの終了後、ロウアドレス信号RA7をHレベルとし、ロウアドレス信号RA6をLレベルとし、さらにその他のロウアドレスRA0,RA8,RA9,RA10およびすべてのカラムアドレスCA0〜CA9を用いて機能テストを行なう。このとき不良があれば、その不良となったロウアドレスをメモリする。たとえばこの不良アドレスをXB1とする。   (6.1.3) Next, the redundant memory cell controlled by the redundant row address detection signal SRB is tested. After the functional test over the entire address space described in (6.1.2) above is completed, the row address signal RA7 is set to H level, the row address signal RA6 is set to L level, and other row addresses RA0, RA8, RA9, A functional test is performed using RA10 and all column addresses CA0 to CA9. If there is a defect at this time, the defective row address is stored in memory. For example, let this defective address be XB1.

(6.1.4) 冗長ロウテストモードをリセットする。RORタイミングまたはCBRタイミングを入力する。   (6.1.4) Reset the redundant row test mode. Input ROR timing or CBR timing.

(6.2) 次に、冗長カラムメモリセルのテスト方法について説明する。
(6.2.1) まず、冗長カラムテストモードにセットする。WCBRタイミングでアドレスピンA1〜A5にそれぞれスーパHレベル、通常のHレベル、Lレベルを入力する。このアドレスキーによって冗長カラムメモリテストモードにセットされる。
(6.2) Next, a test method for redundant column memory cells will be described.
(6.2.1) First, the redundant column test mode is set. At the WCBR timing, a super H level, a normal H level, and an L level are input to address pins A1 to A5, respectively. This address key sets the redundant column memory test mode.

(6.2.2) 次いで、冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCEDによって制御される冗長カラムメモリセルをテストする。プログラムに使用するアドレス以外を使用するので、カラムアドレスCA8をHレベルとし、カラムアドレスCA7をLレベルとし、さらにカラムアドレスCA0,CA1,CA9を使用するとともに、すべてのロウアドレスRA0〜RA10を使用する。このような限定されたアドレス空間で通常のHレベルおよびLレベルを使用して機能テストを行なう。このとき不良があれば、その不良となったカラムアドレスをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X25,XAC1)とする。   (6.2.2) Next, redundant column memory cells controlled by redundant column activation signals SCEA and SCED are tested. Since addresses other than those used for the program are used, the column address CA8 is set to the H level, the column address CA7 is set to the L level, the column addresses CA0, CA1, and CA9 are used, and all the row addresses RA0 to RA10 are used. . A functional test is performed using the normal H level and L level in such a limited address space. If there is a defect at this time, the defective column address is stored in memory. For example, assume that this defective address is (X25, XAC1).

(6.2.3) 次いで、冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDによって制御される冗長カラムメモリセルをテストする。上記(6.2.2)で説明した全アドレス空間にわたる機能テストの終了後、カラムアドレスCA8をLレベルとし、カラムアドレスCA7をHレベルとし、さらにカラムアドレスCA0,CA1,CA9と、すべてのロウアドレスRA0〜RA10を用いて機能テストを行なう。このとき不良があれば、その不良となったカラムアドレスをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X26,XBD1)とする。   (6.2.3) Then, redundant column memory cells controlled by redundant column activation signals SCEB and SCED are tested. After completion of the functional test over the entire address space described in (6.2.2) above, the column address CA8 is set to the L level, the column address CA7 is set to the H level, and the column addresses CA0, CA1, CA9 and all the row addresses are set. A function test is performed using addresses RA0 to RA10. If there is a defect at this time, the defective column address is stored in memory. For example, assume that this defective address is (X26, XBD1).

(6.2.4) 最後に、RORタイミングまたはCBRタイミングを入力することによって冗長カラムテストモードをリセットする。   (6.2.4) Finally, the redundant column test mode is reset by inputting the ROR timing or the CBR timing.

(6.3) 次に、冗長ロウおよび冗長カラムの交点に位置するメモリセルのテスト方法について説明する。   (6.3) Next, a method for testing a memory cell located at the intersection of a redundant row and a redundant column will be described.

(6.3.1) まず、冗長ロウテストモードと冗長カラムテストモードとを同時にセットする。WCBRタイミングでアドレスピンA1〜A5にそれぞれスーパHレベル、通常のHレベル、通常のHレベル、通常のHレベル、Lレベルを入力する。このアドレスキーによって冗長ロウテストモードと冗長カラムテストモードとを同時にセットすることができる。   (6.3.1) First, the redundant row test mode and the redundant column test mode are set simultaneously. At the WCBR timing, a super H level, a normal H level, a normal H level, a normal H level, and an L level are input to the address pins A1 to A5, respectively. With this address key, the redundant row test mode and the redundant column test mode can be set simultaneously.

(6.3.2) 冗長ロウアドレス検知信号SRAによって制御されるメモリセルのうち冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECで制御される交点メモリセルをテストする。この場合、上記(6.1.2)および(6.2.3)で説明したアドレス空間のアンドと選択アドレス(RA8,RA7,CA8,CA7)が使用するアドレス空間である。ロウアドレスRA7はLレベルとし、ロウアドレスRA6はHレベルとし、さらにロウアドレスRA0,RA8,RA9,RA10を使用する。また、カラムアドレスCA8はHレベルとし、カラムアドレスCA7はLレベルとし、さらにカラムアドレスCA0,CA1,CA9を使用する。このような限定されたアドレス空間で通常のHレベルおよびLレベルを使用して機能テストを行なう。このとき不良アドレスがあれば、その不良となったロウアドレスとカラムアドレスとをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X*A1,Y*AC1)とする。   (6.3.2) Test the intersection memory cells controlled by redundant column activation signals SCEA and SCEC among the memory cells controlled by redundant row address detection signal SRA. In this case, the address space used by AND and the selected address (RA8, RA7, CA8, CA7) described in (6.1.2) and (6.2.3) above. The row address RA7 is set to the L level, the row address RA6 is set to the H level, and the row addresses RA0, RA8, RA9, and RA10 are used. The column address CA8 is set to the H level, the column address CA7 is set to the L level, and the column addresses CA0, CA1, and CA9 are used. A functional test is performed using the normal H level and L level in such a limited address space. If there is a defective address at this time, the defective row address and column address are stored in memory. For example, let this defective address be (X * A1, Y * AC1).

(6.3.3) 次いで、冗長ロウアドレス検知信号によって制御されるメモリセルのうち冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDによって制御される交点メモリセルをテストする。上記(6.3.2)で記載した全アドレス空間にわたる機能テストの終了後、ロウアドレスRA7をLレベルとし、ロウアドレスRA6をHレベルとし、さらにロウアドレスRA0,RA8,RA9,RA10を使用するとともに、カラムアドレスCA8をLレベルとし、カラムアドレスCA7をHレベルとし、カラムアドレスCA0,CA1,CA9のすべての空間について機能テストを行なう。このとき不良があれば、その不良となったロウアドレスとカラムアドレスとをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X*A2,Y*BD1)とする。   (6.3.3) Next, among the memory cells controlled by the redundant row address detection signal, the intersection memory cells controlled by the redundant column activation signals SCEB and SCED are tested. After the functional test over the entire address space described in (6.3.2) is completed, the row address RA7 is set to L level, the row address RA6 is set to H level, and the row addresses RA0, RA8, RA9, and RA10 are used. At the same time, the column address CA8 is set to the L level, the column address CA7 is set to the H level, and the functional test is performed on all the spaces of the column addresses CA0, CA1, and CA9. If there is a defect at this time, the defective row address and column address are stored in memory. For example, assume that this defective address is (X * A2, Y * BD1).

(6.3.4) 次いで、冗長ロウアドレス検知信号SRBによって制御されるメモリセルのうち冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECによって制御される交点メモリセルをテストする。上記(6.3.3)で説明した全空間に対する機能テストの終了後、ロウアドレスRA7をHレベルとし、ロウアドレスRA6をLレベルとし、ロウアドレスRA0,RA8,RA9,RA10を使用するとともに、カラムアドレスCA8をHレベルとし、カラムアドレスCA7をLレベルとし、さらにカラムアドレスCA0,CA1,CA9の全空間について機能テストを行なう。このとき不良があれば、その不良となったロウアドレスとカラムアドレスをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X*B1,Y*AC2)とする。   (6.3.4) Next, among the memory cells controlled by the redundant row address detection signal SRB, the intersection memory cells controlled by the redundant column activation signals SCEA and SCEC are tested. After completion of the function test for the entire space described in (6.3.3) above, the row address RA7 is set to the H level, the row address RA6 is set to the L level, the row addresses RA0, RA8, RA9, and RA10 are used. The column address CA8 is set to the H level, the column address CA7 is set to the L level, and a function test is performed on the entire space of the column addresses CA0, CA1, and CA9. If there is a defect at this time, the defective row address and column address are stored in memory. For example, let this defective address be (X * B1, Y * AC2).

(6.3.5) 次いで、冗長ロウアドレス検知信号SRBによって制御されるメモリセルのうち冗長カラム活性化信号SCEBおよびSCEDによって制御される交点メモリセルをテストする。上記(6.3.4)で説明した全空間にわたる機能テストの終了後、ロウアドレスRA7をHレベルとし、ロウアドレスRA6をLレベルとし、さらにロウアドレスRA0,RA8,RA9,RA10を使用するとともに、カラムアドレスCA8をLレベルとし、カラムアドレスCA7をHレベルとし、さらにカラムアドレスCA0,CA1,CA9を使用することによりすべてのアドレス空間について機能テストを行なう。このとき不良があれば、その不良となったロウアドレスとカラムアドレスとをメモリする。たとえばこの不良アドレスを(X*B2,Y*BD2)とする。   (6.3.5) Next, among the memory cells controlled by redundant row address detection signal SRB, the intersection memory cells controlled by redundant column activation signals SCEB and SCED are tested. After the functional test over the entire space described in (6.3.4) is completed, the row address RA7 is set to the H level, the row address RA6 is set to the L level, and the row addresses RA0, RA8, RA9, and RA10 are used. The column address CA8 is set to the L level, the column address CA7 is set to the H level, and the column addresses CA0, CA1, and CA9 are used to perform the function test on all address spaces. If there is a defect at this time, the defective row address and column address are stored in memory. For example, assume that this defective address is (X * B2, Y * BD2).

(6.3.6) 最後に、RORタイミングまたはCBRタイミングを入力することにより、冗長ロウテストモードと冗長カラムテストモードとをリセットする。   (6.3.6) Finally, the redundant row test mode and the redundant column test mode are reset by inputting the ROR timing or the CBR timing.

(6.3.7) 次に、得られた不良アドレス情報に従って使用可能な冗長ロウおよび冗長カラムを決定する。   (6.3.7) Next, usable redundant rows and redundant columns are determined according to the obtained defective address information.

(6.3.8) 次いで、通常メモリセルの全アドレス空間で機能テストを行なう。このとき不良があれば、その不良となったアドレスをXライン不良、Y
ライン不良とし、そのアドレス情報をメモリする。たとえばこのXライン不良を/X1,/X2,(X25,/Y1),(X26,/Y2)とする。
(6.3.8) Next, a function test is performed in the entire address space of the normal memory cell. If there is a defect at this time, the defective address is designated as an X line defect, Y
The line is defective and the address information is stored in memory. For example, let this X line defect be / X1, / X2, (X25, / Y1), (X26, / Y2).

(6.3.9) 次いで、使用可能な冗長ロウと冗長カラムの範囲内で上記(6.3.8)の結果を解析する。そして、救済可能ならば救済コードを出力する。   (6.3.9) Next, the result of (6.3.8) above is analyzed within the range of usable redundant rows and redundant columns. If the repair is possible, a repair code is output.

(6.3.10) 次いで、出力された救済コードに従ってレーザトリマによってプログラムする。   (6.3.10) Next, the laser trimmer is programmed in accordance with the output relief code.

(6.3.11) 最後に、全チップに対して機能テストを実施し、良品、不良品の判別を行なう。   (6.3.11) Finally, a functional test is performed on all the chips to discriminate between good and defective products.

(6.3.12) 上述した手順は一例であって、マルチビットテストモードにて機能テストを実施することもできる。このマルチビットテストモードを使用すれば、テスト時間が短縮されるので、非常に効果的である。また、各種のテストモードの順番はどのような順番であっても構わない。   (6.3.12) The above-described procedure is an example, and the function test can be performed in the multi-bit test mode. If this multi-bit test mode is used, the test time is shortened, which is very effective. The order of the various test modes may be any order.

(7) 実施の形態1による効果
(7.1) 特殊テストモードの設定は、アドレスキーをラッチすることによって行なわれる。それぞれの特殊テストモード活性化信号をラッチ回路を使用して保持するので、出力論理ゲートの最終で組めばそれだけ大きなサイズの論理ゲートが必要になる(立上がりおよび立下がり速度も考慮にいれる)。ところが、最も前段に近いところでラッチ回路を使用しているので、小さなサイズの論理ゲートですみ、面積を小さくすることができる。
(7) Effects of First Embodiment (7.1) The special test mode is set by latching the address key. Since each special test mode activation signal is held using a latch circuit, a logic gate having a larger size is required if it is assembled at the end of the output logic gate (rising and falling speeds are taken into consideration). However, since the latch circuit is used in the closest position to the previous stage, only a small logic gate can be used, and the area can be reduced.

(7.2) さらに、最終的に活性化信号を出力させるのは、ロウアドレスストローブ信号/RASの立上がりによって出力されるテストモード活性化信号FEであるので、それまでに活性化すべき特殊テストモード主クロック信号の出力準備がされているので、誤設定されにくい。   (7.2) Furthermore, since it is test mode activation signal FE output at the rise of row address strobe signal / RAS that finally outputs the activation signal, special test mode to be activated up to that time Since the output of the main clock signal is prepared, it is difficult to make an erroneous setting.

(7.3) JEDEC標準のマルチビットテストの設定はWCBRのみだけではなくアドレスキー入力による設定も可能としたので、マルチビットテストとの複合特殊テストモードも容易に実現することができる。   (7.3) Since the setting of the JEDEC standard multi-bit test is possible not only by the WCBR but also by the address key input, the composite special test mode with the multi-bit test can be easily realized.

(7.4) 特殊テストモードにおけるテストグループ信号は2つの通常Hレベル、すなわち通常のHレベルとスーパHレベルによって活性化されるので、実装されたときにデバイスの出力バッファ信号とアドレス発生回路などの他のドライバのレベルの違いによる誤設定はされにくい。   (7.4) Since the test group signal in the special test mode is activated by two normal H levels, that is, a normal H level and a super H level, the output buffer signal of the device and the address generation circuit when mounted. Misconfiguration due to differences in the levels of other drivers is unlikely.

(7.5) 冗長ロウテストモードと冗長カラムテストモードとを備え、さらにこの2つのモードを同時に設定することができるので、冗長ロウと冗長カラムの交点メモリセルの機能テストを実現することができる。したがって、すべての冗長メモリセルの機能テストを行なうことができるので、ダイソートテスト時に救済処理前(ヒューズ素子の溶断前)に予めすべてのメモリセルの機能チェックを行なうことができる。そのため、確実に歩留りを上げることができる。   (7.5) Since a redundant row test mode and a redundant column test mode are provided, and these two modes can be set simultaneously, it is possible to realize a functional test of the memory cell at the intersection of the redundant row and the redundant column. . Therefore, since the function test of all the redundant memory cells can be performed, the function check of all the memory cells can be performed in advance before the relief process (before the fuse element is blown) during the die sort test. As a result, the yield can be reliably increased.

(7.6) センスリフレッシュアンプ帯に挟まれたメモリセルアレイブロック中に冗長ロウメモリセルと冗長カラムメモリセルとが存在し、冗長ロウデコーダ、冗長カラムデコーダ、冗長センスリフレッシュアンプ帯を備え、通常メモリセルと冗長ロウメモリセルは同一のビット線上に存在し、通常メモリセルと冗長カラムメモリセルとは同一のワード線上に存在し、メモリセルのデータは同一のローカル入出力線対を通して入出力されるので、マルチビットテストによって冗長メモリセルの機能テストを容易に行なうことが可能である。   (7.6) A redundant row memory cell and a redundant column memory cell exist in a memory cell array block sandwiched between sense refresh amplifier bands, and includes a redundant row decoder, a redundant column decoder, and a redundant sense refresh amplifier band. The cell and the redundant row memory cell exist on the same bit line, the normal memory cell and the redundant column memory cell exist on the same word line, and the memory cell data is input / output through the same local input / output line pair. Therefore, it is possible to easily perform the function test of the redundant memory cell by the multi-bit test.

(7.7) 冗長ロウを選択するのに冗長ワード線駆動信号を利用して選択し、さらに2つの系統に集約し、この2つの系統の選択を、使用する必要のないプログラムアドレス信号の組合せで行なうようにしたので、切換用の信号を多数使用する必要がない。また、配線を増大させることもない。   (7.7) A redundant row is selected using a redundant word line drive signal and is further consolidated into two systems, and the selection of these two systems is a combination of program address signals that need not be used. Therefore, it is not necessary to use a large number of switching signals. Further, the wiring is not increased.

(7.8) 冗長カラムを選択するのに冗長カラム活性化信号を利用して選択するようにし、さらに4系統の信号を同一メモリセルアレイブロックを担当しない、つまり競合しない信号を同時に選択するようにし、2系統に集約した。さらに、この2系統の選択を使用する必要のないプログラムアドレス信号の組合せで行なうようにしたので、切換用の信号を多数使用する必要がない。また、配線を増加させることもない。   (7.8) A redundant column activation signal is used to select a redundant column, and four signals are not assigned to the same memory cell array block, that is, non-conflicting signals are selected simultaneously. Aggregated into two systems. Further, since the selection of the two systems is performed by a combination of program address signals that do not need to be used, it is not necessary to use a large number of switching signals. Further, the wiring is not increased.

(7.9) テストモードの判定、リセット、選択、切換もすべて外部の信号/RAS,/CAS,/WEと、アドレスピンの状態によって行なうので、たとえモールド品であっても機能テストを行なうことができる。この場合は、冗長メモリセルのアクセスを特に調べたり、メモリセルアレイの端にある冗長メモリセルを調べることによって後工程のモールドなどによるチップの影響を調べることができる。したがって、製造マージンを向上させることができる。   (7.9) Test mode determination, reset, selection, and switching are all performed according to the external signals / RAS, / CAS, / WE and the state of the address pins, so even if it is a molded product, a function test should be performed. Can do. In this case, it is possible to examine the influence of the chip due to subsequent molding or the like by particularly examining the access of the redundant memory cell or examining the redundant memory cell at the end of the memory cell array. Therefore, the manufacturing margin can be improved.

(7.10) 外部のピンと接続するクロックピンとアドレスピンを利用し、他のパッドを利用しないので、多ビット品など、パッドがチップの増大にすぐに結びつくようなものにはチップ面積の増大を抑えることが可能である。   (7.10) Since clock pins and address pins connected to external pins are used and other pads are not used, the chip area must be increased for pads where the pads are immediately connected to an increase in the chip, such as multi-bit products. It is possible to suppress.

[実施の形態2]
図27は、この発明の実施の形態2による半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。図1の実施の形態1と異なりこの実施の形態2では、冗長ワード線駆動信号SRF0およびSRF1を選択するためのアドレス信号RAs1およびRAs2の代わりに外部パッド214に切換用の電圧PRが与えられている。したがって、2系統の冗長ロウは、この外部パッド214の電圧PRに応じて切換えられる。また、冗長カラム活性化信号SCE0〜SCEiを選択するためのアドレス信号CAs1およびCAs2の代わりに外部パッド215に切換用の電圧PCが与えられている。したがって、この外部パッド215の電圧PCに応じて2系統の冗長カラムが切換えられる。
[Embodiment 2]
FIG. 27 is a block diagram showing an overall configuration of a semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. Unlike Embodiment 1 of FIG. 1, in Embodiment 2, switching voltage PR is applied to external pad 214 instead of address signals RAs1 and RAs2 for selecting redundant word line drive signals SRF0 and SRF1. Yes. Therefore, the two redundant rows are switched according to the voltage PR of the external pad 214. Further, switching voltage PC is applied to external pad 215 instead of address signals CAs1 and CAs2 for selecting redundant column activation signals SCE0 to SCEi. Therefore, the two redundant columns are switched according to the voltage PC of the external pad 215.

図28は、図19に示された実施の形態1の冗長ロウアドレス検知回路の代わりに用いられる冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。図19の実施の形態1と異なりこの実施の形態2では、外部パッド214と、外部パッド214とノードPRRとの間に接続される抵抗216と、外部電源電圧EVccが与えられるノードとノードPRRとの間に接続されるPチャネルMOSトランジスタ217と、ノードPRRの電圧と冗長ロウテスト活性化信号TEST1とを受けるNANDゲート218とを備える。このPチャネルMOSトランジスタのサイズは小さく、そのソース電極には外部電源電圧EVccが与えられ、そのゲート電極には接地電圧が与えられる。したがって、トランジスタ217は、パッド214がフローティング状態のときにノードPRRの電圧をHレベルにつり上げている。NANDゲート218の出力信号はNANDゲート195の1つの入力ノードに与えられる。   FIG. 28 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant row address detection circuit used in place of the redundant row address detection circuit of the first embodiment shown in FIG. Unlike Embodiment 1 of FIG. 19, in Embodiment 2, an external pad 214, a resistor 216 connected between external pad 214 and node PRR, a node to which external power supply voltage EVcc is applied, and node PRR are provided. P channel MOS transistor 217 connected between and NAND gate 218 receiving node PRR voltage and redundant row test activation signal TEST1. The size of this P channel MOS transistor is small, external power supply voltage EVcc is applied to its source electrode, and ground voltage is applied to its gate electrode. Therefore, the transistor 217 raises the voltage of the node PRR to the H level when the pad 214 is in a floating state. The output signal of NAND gate 218 is applied to one input node of NAND gate 195.

このような半導体記憶装置において、冗長ロウテストモードに入っていないとき、冗長ロウテスト活性化信号TEST1はLレベルとなっているので、NANDゲート218の出力信号はHレベルとなる。したがって、与えられたアドレスがプログラムされた置換アドレスと一致すれば、冗長ロウアドレス検知信号SRBがHレベルに活性化される。他方、与えられたアドレスがプログラムされた置換アドレスと一致しないか、または置換アドレスがプログラムされていないときは、冗長ロウアドレス検知信号SRBはLレベルに不活性化される。   In such a semiconductor memory device, when the redundant row test mode is not entered, since the redundant row test activation signal TEST1 is at the L level, the output signal of the NAND gate 218 is at the H level. Therefore, if the applied address matches the programmed replacement address, redundant row address detection signal SRB is activated to H level. On the other hand, when the given address does not match the programmed replacement address or the replacement address is not programmed, redundant row address detection signal SRB is inactivated to L level.

図29は、図19に示された実施の形態1の冗長ロウアドレス検知回路の代わりに用いられる冗長ロウアドレス検知回路の全体構成を示す回路図である。図19に示された冗長ロウアドレス検知回路と異なり、この実施の形態2の冗長ロウアドレス検知回路はインバータ219とNANDゲート220とを備える。図29に示されたノードPRRの電圧はインバータ219を介してNANDゲート220の一方入力ノードに与えられる。冗長ロウテスト活性化信号TEST1はNANDゲート220の他方入力ノードに与えられる。NANDゲート220の出力信号はNANDゲート195の1つの入力ノードに与えられる。したがって、冗長ロウテストモードに入っていないとき、この図29に示された冗長ロウアドレス検知回路は図28に示された冗長ロウアドレス検知回路と同様に動作する。   FIG. 29 is a circuit diagram showing an overall configuration of a redundant row address detection circuit used in place of the redundant row address detection circuit of the first embodiment shown in FIG. Unlike the redundant row address detection circuit shown in FIG. 19, the redundant row address detection circuit according to the second embodiment includes an inverter 219 and a NAND gate 220. The voltage at node PRR shown in FIG. 29 is applied to one input node of NAND gate 220 through inverter 219. Redundant row test activation signal TEST 1 is applied to the other input node of NAND gate 220. The output signal of NAND gate 220 is applied to one input node of NAND gate 195. Therefore, when the redundant row test mode is not entered, the redundant row address detection circuit shown in FIG. 29 operates in the same manner as the redundant row address detection circuit shown in FIG.

次いで、冗長ロウテストモードに入ると、冗長ロウテスト活性化信号TEST1がHレベルとなる。外部パッド214がフローティング状態か、あるいは外部パッド214にHレベルが与えられると、冗長ロウアドレス検知信号SRBがHレベルに活性化され、他方、冗長ロウアドレス検知信号SRAはLレベルのまま不活性化されている。次に、外部パッド214にLレベルが与えられると、冗長ロウアドレス検知信号SRAがHレベルに活性化され、冗長ロウアドレス検知信号SRBはLレベルに不活性化される。したがって、このような回路構成を採用しても2系統の冗長ロウアドレス検知信号SRA,SRBを強制的に切換えることが可能である。このようにして2系統の冗長ロウアドレス検知信号SRA,SRBを外部パッド214によって切換え、さらに外部からアドレス信号を入力することにより冗長カラムとの交点以外のすべての冗長ロウメモリセルの機能テストが可能となる。   Next, when the redundant row test mode is entered, the redundant row test activation signal TEST1 becomes H level. When external pad 214 is in a floating state or H level is applied to external pad 214, redundant row address detection signal SRB is activated to H level, while redundant row address detection signal SRA remains inactive at L level. Has been. Next, when L level is applied to external pad 214, redundant row address detection signal SRA is activated to H level, and redundant row address detection signal SRB is inactivated to L level. Therefore, even if such a circuit configuration is adopted, the two redundant row address detection signals SRA and SRB can be forcibly switched. In this way, it is possible to test the function of all redundant row memory cells other than the intersection with the redundant column by switching the redundant row address detection signals SRA and SRB of the two systems by the external pad 214 and inputting the address signal from the outside. It becomes.

図30は、図23に示された冗長カラムアドレス検知回路の代わりに用いられる冗長カラムアドレス検知回路の構成を示す回路図である。図23の実施の形態1と異なり、この実施の形態2の冗長カラムアドレス検知回路は、外部パッド215、インバータ2222,2225、PチャネルMOSトランジスタ2223、抵抗2224、およびNANDゲート2226,2227を備える。外部パッド215の電圧PCは抵抗2224を介してNANDゲート2226の一方入力ノードに与えられ、かつインバータ2225を介してNANDゲート2227の一方入力ノードにも与えられる。PチャネルMOSトランジスタ2223のサイズは小さく、そのソース電極には外部電源電圧EVccが与えられ、そのゲート電極には接地電圧が与えられている。したがって、外部パッド215がフローティング状態のとき、このPチャネルMOSトランジスタはノードPCCの電圧をHレベルにつり上げる。   FIG. 30 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant column address detection circuit used in place of the redundant column address detection circuit shown in FIG. Unlike the first embodiment of FIG. 23, the redundant column address detection circuit of the second embodiment includes an external pad 215, inverters 2222 and 2225, a P-channel MOS transistor 2223, a resistor 2224, and NAND gates 2226 and 2227. Voltage PC of external pad 215 is applied to one input node of NAND gate 2226 through resistor 2224 and also applied to one input node of NAND gate 2227 through inverter 2225. The size of P channel MOS transistor 2223 is small, its source electrode is supplied with external power supply voltage EVcc, and its gate electrode is supplied with a ground voltage. Therefore, when external pad 215 is in a floating state, this P channel MOS transistor raises the voltage of node PCC to the H level.

冗長カラムテストモードに入ると、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2がLレベルとなり、これによりNANDゲート2226および2227はともに活性化される。このとき、外部パッド215がフローティング状態か、あるいは外部パッド215にHレベルが与えられると、NANDゲート2226の出力信号/TACがLレベルとなる。したがって、カラムデコード活性化信号CDEがHレベルになると、冗長カラム活性化信号SCEAがHレベルに活性化される。他方、外部パッド215にLレベルが与えられると、NANDゲート2226の出力信号/TACがHレベルとなりかつNANDゲートの出力信号/TBDがLレベルとなる。したがって、カラムデコード活性化信号CDEがHレベルになると、冗長カラム活性化信号SCEBがHレベルに活性化される。また、冗長カラムテスト活性化信号/TEST2がLレベルになると、冗長カラム活性化信号NCEは直ちにLレベルとなる。   When the redundant column test mode is entered, redundant column test activation signal / TEST2 becomes L level, whereby NAND gates 2226 and 2227 are both activated. At this time, if external pad 215 is in a floating state or H level is applied to external pad 215, output signal / TAC of NAND gate 2226 goes to L level. Therefore, when column decode activation signal CDE becomes H level, redundant column activation signal SCEA is activated to H level. On the other hand, when L level is applied to external pad 215, output signal / TAC from NAND gate 2226 goes to H level and output signal / TBD from the NAND gate goes to L level. Therefore, when column decode activation signal CDE becomes H level, redundant column activation signal SCEB is activated to H level. When redundant column test activation signal / TEST2 becomes L level, redundant column activation signal NCE immediately becomes L level.

このようにして2系統の冗長カラム活性化信号SCEAおよびSCECと、冗長カラム活性化信号SECBおよびSCEDとが外部パッド215によって切換えられるので、外部からアドレスを与えれば冗長ロウとの交点以外のすべての冗長カラムメモリセルの機能テストを行なうことができる。   In this way, the redundant column activation signals SCEA and SCEC of the two systems and the redundant column activation signals SECB and SCED are switched by the external pad 215. Therefore, if an address is given from the outside, all the points other than the intersection with the redundant row can be obtained. A functional test of the redundant column memory cell can be performed.

さらに冗長ロウテストモードと冗長カラムテストモードとに同時に入った場合に、外部パッド214および215の印加電圧PRおよびPCを変化させ、さらにメモリセルアレイブロックの選択に必要なアドレスおよび下位アドレスを入力することにより冗長ロウおよび冗長カラムの交点に位置する冗長メモリセルの機能テストを行なうことができる。   Further, when the redundant row test mode and the redundant column test mode are entered at the same time, the applied voltages PR and PC of the external pads 214 and 215 are changed, and the addresses and lower addresses necessary for selecting the memory cell array block are input. Thus, it is possible to perform a function test of the redundant memory cell located at the intersection of the redundant row and the redundant column.

この実施の形態2では冗長ロウテストモードと冗長カラムテストモードとのどちらにも外部パッド214および215による切換が可能な構成を説明したが、冗長ロウテストモードは外部パッドによって切換可能とし、冗長カラムテストモードは実施の形態1のように外部から与えられるアドレスによって切換可能としても、上記実施の形態1および2と同様にすべての冗長メモリセルをテストすることができる。   In the second embodiment, a configuration has been described in which the redundant pad test mode and the redundant column test mode can be switched by the external pads 214 and 215. However, the redundant row test mode can be switched by an external pad, Even if the test mode can be switched by an externally applied address as in the first embodiment, all redundant memory cells can be tested in the same manner as in the first and second embodiments.

また、冗長ロウテストモードは外部から与えられるアドレスによって切換可能とし、冗長カラムテストモードは外部パッドによって切換可能としても、上記実施の形態1および2と同様にすべての冗長メモリセルをテストすることができる。この実施の形態2による半導体記憶装置によれば、上述した実施の形態1による効果(7.1)〜(7.8)と同様の効果を奏する以外に、冗長ロウおよび冗長カラムの各系統の切換用外部パッドに直接プローブなどをあてることによりダイソートテスト時に冗長メモリセルの機能テストを行なうことができる。したがって、より簡単でかつ確実な冗長系統の切換が可能となる。   Also, even if the redundant row test mode can be switched by an externally applied address and the redundant column test mode can be switched by an external pad, all redundant memory cells can be tested in the same manner as in the first and second embodiments. it can. According to the semiconductor memory device of the second embodiment, in addition to the same effects as the effects (7.1) to (7.8) of the first embodiment described above, each of the redundant row and redundant column systems By directly applying a probe or the like to the switching external pad, it is possible to perform a function test of the redundant memory cell during the die sort test. Therefore, it is possible to switch the redundant system more easily and reliably.

この発明の実施の形態1による半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an overall configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. 図1中のテストモード制御回路の構成を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a test mode control circuit in FIG. 1. 図2中の外部クロック検出回路の構成を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of an external clock detection circuit in FIG. 2. 図3の外部クロック検出回路122のWCBRによるセット動作を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart showing a set operation by WCBR of an external clock detection circuit 122 of FIG. 3. 図3の外部クロック検出回路のRORまたはCBRによるリセット動作を示すタイミングチャートである。4 is a timing chart showing a reset operation by ROR or CBR of the external clock detection circuit of FIG. 3. 図2中のテストグループ検出回路の構成を示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a test group detection circuit in FIG. 2. 図6中の高電圧検出回路の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the high voltage detection circuit in FIG. 図6中のテストグループデコーダの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the test group decoder in FIG. 図2中のアドレスキーラッチ回路の構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of an address key latch circuit in FIG. 2. 図2中の特殊テストモードクロックデコーダの構成を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a special test mode clock decoder in FIG. 2. 図2のテストモード制御回路によるセット動作を示すタイミングチャートである。3 is a timing chart showing a set operation by the test mode control circuit of FIG. 2. 図2のテストモード制御回路によるリセット動作を示すタイミングチャートである。3 is a timing chart showing a reset operation by the test mode control circuit of FIG. 2. 図1中のメモリセルアレイ、冗長ロウメモリセルアレイ、冗長カラムメモリセルアレイ、および冗長カラムロウメモリセルアレイならびにその周辺回路の構成を示すブロック図である。2 is a block diagram showing a configuration of a memory cell array, a redundant row memory cell array, a redundant column memory cell array, a redundant column row memory cell array, and peripheral circuits thereof in FIG. 図13中のメモリセルアレイブロックの各々の構成を示す配線図である。FIG. 14 is a wiring diagram showing a configuration of each memory cell array block in FIG. 13. 図13中の各ロウデコーダの構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of each row decoder in FIG. 図13中の各冗長ロウデコーダの構成を示す回路図である。FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of each redundant row decoder in FIG. 13. 図13中のRXデコーダおよび冗長RXデコーダの構成を示す回路図である。FIG. 14 is a circuit diagram illustrating configurations of an RX decoder and a redundant RX decoder in FIG. 13. 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗長ロウアドレスプログラム回路の構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant row address program circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 1. 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant row address detection circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 1. 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれるもう1つの冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of another redundant row address detection circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 1. 図13中のY下位プリデコーダの構成を示す回路図である。FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of a Y lower predecoder in FIG. 13. 図13中のY上位プリデコーダの構成を示す回路図である。FIG. 14 is a circuit diagram showing a configuration of a Y upper predecoder in FIG. 13. 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗長カラムアドレス検知回路の構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant column address detection circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 1. 図1中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗長カラムアドレスプログラム回路の構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant column address program circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 1. 図1中のカラムデコーダの一部を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows a part of column decoder in FIG. 図1中の冗長カラムデコーダの構成を示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant column decoder in FIG. 1. この発明の実施の形態2による半導体記憶装置の全体構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the whole structure of the semiconductor memory device by Embodiment 2 of this invention. 図27中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。FIG. 28 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant row address detection circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 27. 図27中の冗長メモリ制御回路に含まれるもう1つの冗長ロウアドレス検知回路の構成を示す回路図である。FIG. 28 is a circuit diagram showing a configuration of another redundant row address detection circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 27. 図27中の冗長メモリ制御回路に含まれる冗長カラムアドレス検知回路の構成を示す回路図である。FIG. 28 is a circuit diagram showing a configuration of a redundant column address detection circuit included in the redundant memory control circuit in FIG. 27. 置換前に予備メモリの良否判別テストが可能な従来の半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。FIG. 10 is a block diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device capable of performing a pass / fail judgment test of a spare memory before replacement. 図31の半導体記憶装置に使用されるテストモード検知回路の構成を示す回路図である。FIG. 32 is a circuit diagram showing a configuration of a test mode detection circuit used in the semiconductor memory device of FIG. 31. 図31の半導体記憶装置に使用されるテスト信号デコーダ回路の構成を示す回路図である。FIG. 32 is a circuit diagram showing a configuration of a test signal decoder circuit used in the semiconductor memory device of FIG. 31. 図31中の1つの基本回路の構成を示す回路図である。FIG. 32 is a circuit diagram showing a configuration of one basic circuit in FIG. 31.

符号の説明Explanation of symbols

100 通常メモリセルアレイ、101 冗長ロウメモリセルアレイ、102 冗長カラムメモリセルアレイ、103 冗長カラムロウメモリセルアレイ、106,RDC1〜RDC16 ロウデコーダ、107,SRDC1〜SRDC16 冗長ロウデコーダ、108,CDC スペースカラムデコーダ、109,SCDC 冗長カラムデコーダ、WL0〜WLn ワード線、SWL0〜SWLm 冗長ワード線、CSL0〜CSLj カラム選択線、SCSL0〜SCSLi,SCSLA,SCSLB,SCSLC,SCSLD 冗長カラム選択線、112 テストモード制御回路、113 冗長メモリ制御回路、BL,/BL ビット線対、SA1〜SA3 センスリフレッシュアンプ、SS0〜SSA3 冗長センスリフレッシュアンプ、CS カラム選択ゲート、MC メモリセル、RMC 冗長ロウメモリセル、CMC 冗長カラムメモリセル、RCMC 冗長ロウカラムメモリセル、180,207 プログラム部、190,206 検知部、214,215 外部パッド、TEST1 冗長ロウテスト活性化信号、/TEST2 冗長カラムテスト活性化信号、TMB マルチビットテスト活性化信号、SRA,SRB 冗長ロウアドレス検知信号、SCEA,SCEB,SCEC,SCED 冗長カラム活性化信号、RXF0,RXF1 通常ワード線駆動信号、SRXF0,SRXF1 冗長ワード線駆動信号。   100 normal memory cell array, 101 redundant row memory cell array, 102 redundant column memory cell array, 103 redundant column row memory cell array, 106, RDC1 to RDC16 row decoder, 107, SRDC1 to SRDC16 redundant row decoder, 108, CDC space column decoder, 109, SCDC redundant column decoder, WL0 to WLn word line, SWL0 to SWLm redundant word line, CSL0 to CSLj column selection line, SCSL0 to SCSLi, SCSLA, SSCLB, SCSLC, SCSLD redundant column selection line, 112 test mode control circuit, 113 redundant memory Control circuit, BL, / BL bit line pair, SA1 to SA3 sense refresh amplifier, SS0 to SSA3 redundant sense refresh amplifier, CS RAM selection gate, MC memory cell, RMC redundant row memory cell, CMC redundant column memory cell, RCMC redundant row column memory cell, 180,207 program unit, 190,206 detection unit, 214,215 external pad, TEST1 redundant row test activation Signal, / TEST2 redundant column test activation signal, TMB multi-bit test activation signal, SRA, SRB redundant row address detection signal, SCEA, SCEB, SCEC, SCED redundant column activation signal, RXF0, RXF1 normal word line drive signal, SRXF0, SRXF1 Redundant word line drive signal.

Claims (2)

(a)複数のワード線、
(b)前記ワード線に交差して配置される複数の通常ビット線対、
(c)前記ワード線と前記通常ビット線対との交点に対応して配置される複数の通常メモリセル、
(d)前記通常ビット線対に対応して設けられ、各々が対応する通常ビット線対に接続される複数の通常列選択ゲート対、
(e)前記ワード線に交差して配置される第1および第2の冗長ビット線対、
(f)前記ワード線と前記第1および第2の冗長ビット線対との交点に対応して配置される複数の冗長メモリセル、
(g)前記第1の冗長ビット線対に接続される第1の冗長列選択ゲート対、および
(h)前記第2の冗長ビット線対に接続される第2の冗長列選択ゲート対をそれぞれ含む
複数のブロック、
前記複数の通常列選択ゲート対に対応して設けられ、各々が対応する複数のブロックにおける通常列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される複数の通常列選択線、
前記複数のブロックにおける第1の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される第1の冗長列選択線、
前記複数のブロックにおける第2の冗長列選択ゲート対の各々の制御電極に接続される第2の冗長列選択線、
外部から与えられる列アドレス信号に応答して前記通常列選択線のいずれかを選択する通常列選択手段、
第1の列置換アドレスがプログラム可能であって外部から与えられる列アドレス信号が前記第1の列置換アドレスに一致するとき第1の一致信号を発生する第1のプログラム手段、
前記第1のプログラム手段から与えられる第1の一致信号に応答して第1の冗長列活性化信号を発生する第1の検知手段、
第2の列置換アドレスがプログラム可能であって前記列アドレス信号が前記第2の列置換アドレスに一致するとき第2の一致信号を発生する第2のプログラム手段、
前記第2のプログラム手段から与えられる第2の一致信号に応答して第2の冗長列活性化信号を発生する第2の検知手段、
第1の冗長列活性化信号に応答して前記第1の冗長列選択線を選択し、前記第2の冗長列活性化信号に応答して前記第2の冗長列選択線を選択する冗長列選択手段、および
前記第1および第2の一致信号のいずれかに応答して前記通常列選択手段を不活性化する不活性化手段を備え、
前記第1のプログラム手段は、前記複数のブロックのいずれの通常ビット線対とも前記第1の冗長ビット線対と置き換え可能であり、
前記第2のプログラム手段は、前記複数のブロックのいずれの通常ビット線対とも前記第2の冗長ビット線対と置き換え可能であり、
前記第1のプログラム手段は、前記第1の列置換アドレスとともに第1の行置換アドレスの一部がプログラム可能であり、前記列アドレス信号が前記第1の列置換アドレスに一致し、かつ外部から与えられる行アドレス信号の一部が前記第1の行置換アドレスの一部に一致するとき前記第1の一致信号を発生し、
前記第2のプログラム手段は、前記第2の列置換アドレスとともに第2の行置換アドレスの一部がプログラム可能であり、前記列アドレス信号が前記第2の列置換アドレスに一致し、かつ前記行アドレス信号の一部が前記第2の行置換アドレスの一部に一致するとき前記第2の一致信号を発生する、半導体記憶装置。
(A) a plurality of word lines;
(B) a plurality of normal bit line pairs arranged crossing the word line;
(C) a plurality of normal memory cells arranged corresponding to the intersections of the word lines and the normal bit line pairs;
(D) a plurality of normal column selection gate pairs provided corresponding to the normal bit line pairs, each connected to a corresponding normal bit line pair;
(E) first and second redundant bit line pairs disposed across the word line;
(F) a plurality of redundant memory cells arranged corresponding to the intersections of the word line and the first and second redundant bit line pairs;
(G) a first redundant column selection gate pair connected to the first redundant bit line pair; and (h) a second redundant column selection gate pair connected to the second redundant bit line pair. Contains multiple blocks,
A plurality of normal column selection lines provided corresponding to the plurality of normal column selection gate pairs, each connected to a control electrode of each of the normal column selection gate pairs in the corresponding plurality of blocks;
A first redundant column selection line connected to each control electrode of the first redundant column selection gate pair in the plurality of blocks;
A second redundant column selection line connected to each control electrode of the second redundant column selection gate pair in the plurality of blocks;
Normal column selecting means for selecting one of the normal column selection lines in response to a column address signal given from the outside;
First program means for generating a first coincidence signal when a first column substitution address is programmable and a column address signal applied from the outside coincides with the first column substitution address;
First detection means for generating a first redundant column activation signal in response to a first coincidence signal provided from the first program means;
Second program means for generating a second match signal when a second column replacement address is programmable and the column address signal matches the second column replacement address;
Second detection means for generating a second redundant column activation signal in response to a second coincidence signal provided from the second program means;
A redundant column that selects the first redundant column selection line in response to a first redundant column activation signal and selects the second redundant column selection line in response to the second redundant column activation signal Selecting means, and inactivating means for inactivating the normal column selecting means in response to any of the first and second coincidence signals,
The first program means can replace any of the normal bit line pairs of the plurality of blocks with the first redundant bit line pair,
The second program means, Ri can der replaced with the plurality of any of the normal bit line pair both said second redundant bit line pairs of the block,
The first program means can program a part of the first row replacement address together with the first column replacement address, the column address signal matches the first column replacement address, and externally Generating a first match signal when a portion of a given row address signal matches a portion of the first row replacement address;
The second program means can program a part of a second row replacement address together with the second column replacement address, the column address signal matches the second column replacement address, and the row that occur the second coincidence signal when a portion of the address signal coincides with a part of the second row replacement address, the semiconductor memory device.
前記複数のブロックは前記通常ビット線対の延伸方向に整列して配置され、The plurality of blocks are arranged in alignment with the extending direction of the normal bit line pair,
前記複数の通常列選択線、前記第1の冗長列選択線、および前記第2の冗長列選択線は、前記複数のブロックに対して共通に前記通常ビット線対の延伸方向に沿って配置され、The plurality of normal column selection lines, the first redundant column selection line, and the second redundant column selection line are arranged along the extending direction of the normal bit line pair in common with respect to the plurality of blocks. ,
前記半導体記憶装置は、さらに、The semiconductor memory device further includes:
前記ブロックに対応して設けられ、前記通常ビット線対の延伸方向において対応の前記ブロックにおける前記複数の通常メモリセルを挟むように配置され、対応の前記ブロックにおける前記複数の通常メモリセルから読出されたデータを増幅する複数の通常センスリフレッシュアンプ入出力制御回路と、Provided corresponding to the block, arranged so as to sandwich the plurality of normal memory cells in the corresponding block in the extending direction of the pair of normal bit lines, and read from the plurality of normal memory cells in the corresponding block A plurality of normal sense refresh amplifier input / output control circuits for amplifying the received data;
前記ブロックに対応して設けられ、前記通常ビット線対の延伸方向において対応の前記ブロックにおける前記複数の冗長メモリセルを挟むように配置され、対応の前記ブロックにおける前記複数の冗長メモリセルから読出されたデータを増幅する複数の冗長センスリフレッシュアンプ入出力制御回路とを備える、請求項1に記載の半導体記憶装置。Provided corresponding to the block, arranged so as to sandwich the plurality of redundant memory cells in the corresponding block in the extending direction of the normal bit line pair, and read from the plurality of redundant memory cells in the corresponding block 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a plurality of redundant sense refresh amplifier input / output control circuits that amplify the data.
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