Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP4758405B2 - Sensor element and physical sensor device - Google Patents

Sensor element and physical sensor device Download PDF

Info

Publication number
JP4758405B2
JP4758405B2 JP2007254822A JP2007254822A JP4758405B2 JP 4758405 B2 JP4758405 B2 JP 4758405B2 JP 2007254822 A JP2007254822 A JP 2007254822A JP 2007254822 A JP2007254822 A JP 2007254822A JP 4758405 B2 JP4758405 B2 JP 4758405B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
movable
change
comb
unit
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007254822A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009085729A (en
Inventor
原 橋口
隆 今野
賢治郎 綾野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Aoi Electronics Co Ltd
Original Assignee
Aoi Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Aoi Electronics Co Ltd filed Critical Aoi Electronics Co Ltd
Priority to JP2007254822A priority Critical patent/JP4758405B2/en
Publication of JP2009085729A publication Critical patent/JP2009085729A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4758405B2 publication Critical patent/JP4758405B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)

Description

本発明は、センサ素子、および、そのセンサ素子を備えた物理センサ装置に関する。   The present invention relates to a sensor element and a physical sensor device including the sensor element.

従来、この種の装置としては、探針を有するプローブを櫛歯電極アクチュエータにより振動させ、原子間力を検出する原子間力顕微鏡装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この顕微鏡装置では、櫛歯電極アクチュエータの振動状態が一定に保たれるようにプローブをz方向に駆動し、その駆動量データから試料表面の凹凸情報を得るようにしている。   Conventionally, as this type of device, an atomic force microscope device that detects an atomic force by vibrating a probe having a probe by a comb electrode actuator is known (for example, see Patent Document 1). In this microscope apparatus, the probe is driven in the z direction so that the vibration state of the comb electrode actuator is kept constant, and unevenness information on the sample surface is obtained from the drive amount data.

特開2007−93231号公報JP 2007-93231 A

しかしながら、上述した櫛歯電極アクチュエータで振動するプローブで、液中の試料を検出するような使い方をした場合、液体の抵抗によりプローブの振動が制限され、試料に接触したときの検出感度が低下してしまうという欠点があった。   However, if the probe that vibrates with the above-described comb electrode actuator is used to detect a sample in the liquid, the vibration of the probe is limited by the resistance of the liquid, and the detection sensitivity when contacting the sample decreases. There was a drawback that it would.

請求項1の発明によるセンサ素子は、互いに逆向きに形成された第1および第2の櫛歯電極を有し、ベース部に弾性的に支持されるとともに櫛歯の凹凸方向に振動する振動部と、第1の櫛歯電極と噛合する第3の櫛歯電極を有し、ベース部に固定された固定部と、第2の櫛歯電極と噛合する第4の櫛歯電極を有し、ベース部に弾性的に支持されて外力の作用により櫛歯の凹凸方向に変位する可動部とを備えたことを特徴とする。
請求項2の発明は、請求項1に記載のセンサ素子において、固定部、振動部および可動部を、フォトリソグラフィー法によりSOIウエハ上に一体に形成したものである。
請求項3の発明による物理センサ装置は、請求項1または2に記載のセンサ素子と、振動部を振動駆動するための電圧を、第3の櫛歯電極と第4の櫛歯電極との間に印加する駆動部と、振動部の振動状態の変化に基づいて可動部の変位を検出する検出部とを備えたことを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項3に記載の物理センサ装置において、検出部は、振動状態の変化によるセンサ素子および駆動部を含む系のイミタンスの変化に基づいて、可動部の変位を検出するようにしたものである。
請求項5の発明は、請求項3に記載の物理センサ装置において、駆動部は、センサ素子が有する電気的等価回路を帰還回路として用いることにより自励発振させ、その自励発振により振動部を振動させる増幅器を備える。
請求項6の発明は、請求項5に記載の物理センサ装置において、振動状態の変化としての振動周波数の変化に基づいて、可動部の変位を検出するようにしたものである。
The sensor element according to the first aspect of the present invention has first and second comb electrodes formed in opposite directions, and is a vibration portion that is elastically supported by the base portion and vibrates in the direction of the concave and convex portions of the comb teeth. And a third comb electrode that meshes with the first comb electrode, a fixed portion fixed to the base portion, and a fourth comb electrode that meshes with the second comb electrode, And a movable portion that is elastically supported by the base portion and is displaced in the concave-convex direction of the comb teeth by the action of an external force.
According to a second aspect of the present invention, in the sensor element according to the first aspect, the fixed portion, the vibrating portion, and the movable portion are integrally formed on the SOI wafer by a photolithography method.
According to a third aspect of the present invention, there is provided a physical sensor device comprising: the sensor element according to the first or second aspect; and a voltage for driving the vibration unit to vibrate between the third comb electrode and the fourth comb electrode. And a detection unit that detects the displacement of the movable unit based on a change in the vibration state of the vibration unit.
According to a fourth aspect of the present invention, in the physical sensor device according to the third aspect, the detection unit detects the displacement of the movable unit based on a change in immittance of the system including the sensor element and the drive unit due to a change in the vibration state. It is what I did.
According to a fifth aspect of the present invention, in the physical sensor device according to the third aspect, the drive unit causes self-excited oscillation by using an electrical equivalent circuit of the sensor element as a feedback circuit, and the vibration unit is caused by the self-excited oscillation. An amplifier to be oscillated is provided.
According to a sixth aspect of the present invention, in the physical sensor device according to the fifth aspect, the displacement of the movable portion is detected based on a change in vibration frequency as a change in vibration state.

本発明によれば、可動部の変位を検出する際の検出感度を、より向上させることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the detection sensitivity at the time of detecting the displacement of a movable part can be improved more.

以下、図を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。図1は本発明に係るセンサ素子を用いた原子間力顕微鏡装置(以下、AFM装置と呼ぶ)の概略構成を示す図である。AFM装置100は、センサ1と、センサ1が固定される支持部4と、支持部4をz方向に変位させるピエゾアクチュエータ5と、試料Sをxy方向に移動するステージ6と、センサ1を振動駆動する駆動部7と、制御装置8と、ステージ駆動制御部9と、モニタ10とを備えている。駆動部7には、直流電源71および交流電源72が設けられている。制御装置8には、アドミッタンス検出器81と、各種演算を行うとともに装置全体の制御を行う制御演算部82が設けられている。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an atomic force microscope apparatus (hereinafter referred to as an AFM apparatus) using a sensor element according to the present invention. The AFM apparatus 100 vibrates the sensor 1, the support 4 to which the sensor 1 is fixed, the piezo actuator 5 that displaces the support 4 in the z direction, the stage 6 that moves the sample S in the xy direction, and the sensor 1. A drive unit 7 for driving, a control device 8, a stage drive control unit 9, and a monitor 10 are provided. The drive unit 7 is provided with a DC power supply 71 and an AC power supply 72. The control device 8 is provided with an admittance detector 81 and a control calculation unit 82 that performs various calculations and controls the entire apparatus.

図2はセンサ1の構成を示す斜視図である。センサ1は、基台14と、基台14上に形成された固定部11と、第1の可動部12と、第2の可動部13とを備えている。可動部12は、基台14との間に形成された4本の梁121により弾性的に支持されている。同様に、可動部13は、基台14との間に形成された4本の梁131により弾性的に支持されている。そのため、可動部12,13はz方向に変位可能な構造となっている。   FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the sensor 1. The sensor 1 includes a base 14, a fixed part 11 formed on the base 14, a first movable part 12, and a second movable part 13. The movable portion 12 is elastically supported by four beams 121 formed between the movable portion 12 and the base 14. Similarly, the movable part 13 is elastically supported by four beams 131 formed between the movable part 13 and the base 14. Therefore, the movable parts 12 and 13 have a structure that can be displaced in the z direction.

図2に示すセンサ1は、絶縁層を挟んだ上下2つのシリコン層からなる3層構造の基板、例えばSOI(Silicon on Insulator)ウエハを用いて、半導体微細加工技術により一体で製作される。SOIウエハは、絶縁層のSiO層を2つのSi層で挟んだ3層構造の基板である。センサ1の基台14は厚く形成された下部Si層により形成され、固定部11、可動部12,13、梁121,131は、下部Si層よりも薄い上部Si層により形成される。SiO層は、基台14と固定部11との間、および、梁121,131の接続部121a,131aと基台14との間に介在するように残存している。 The sensor 1 shown in FIG. 2 is integrally manufactured by a semiconductor microfabrication technique using a substrate having a three-layer structure composed of two upper and lower silicon layers sandwiching an insulating layer, for example, an SOI (Silicon on Insulator) wafer. The SOI wafer is a substrate having a three-layer structure in which an insulating SiO 2 layer is sandwiched between two Si layers. The base 14 of the sensor 1 is formed by a thick lower Si layer, and the fixed portion 11, the movable portions 12, 13, and the beams 121, 131 are formed by an upper Si layer that is thinner than the lower Si layer. The SiO 2 layer remains so as to be interposed between the base 14 and the fixed portion 11 and between the connection portions 121a and 131a of the beams 121 and 131 and the base 14.

固定部11および可動部13の互いに対向する部分は、櫛歯状の凹凸形状をしている。そして、固定部11および可動部13の凹凸形状部分は、固定部11の凸部112が可動部13の凹133に入り込むとともに、可動部13の凸部132が固定部11の凹部113に入り込むように、隙間を有して噛合している。同様に、可動部12および可動部13の対向部分も櫛歯状の凹凸形状をしており、可動部12の凸部122が可動部13の凹135に入り込むとともに、可動部13の凸部134が可動部12の凹部123に入り込むように、隙間を有して噛合している。可動部12にはx方向に突出したプローブ124が形成されており、プローブ124の先端には探針125が形成されている。この探針で試料Sの表面をAFM観察することで、試料Sの表面形状を計測することができる。   The portions of the fixed portion 11 and the movable portion 13 that face each other have a comb-like uneven shape. The concave and convex portions of the fixed portion 11 and the movable portion 13 are such that the convex portion 112 of the fixed portion 11 enters the concave portion 133 of the movable portion 13 and the convex portion 132 of the movable portion 13 enters the concave portion 113 of the fixed portion 11. And meshing with a gap. Similarly, the opposing part of the movable part 12 and the movable part 13 has a comb-like uneven shape, and the convex part 122 of the movable part 12 enters the concave part 135 of the movable part 13 and the convex part 134 of the movable part 13. Is engaged with a gap so that the material enters the recess 123 of the movable portion 12. A probe 124 protruding in the x direction is formed on the movable portion 12, and a probe 125 is formed at the tip of the probe 124. By observing the surface of the sample S with this probe by AFM, the surface shape of the sample S can be measured.

駆動部7の直流電源71および交流電源72は直列接続されており、固定部11と可動部12との間には、直流電圧Eに交流電圧eを重畳した電圧が印加される。そのため、固定部11と可動部13との櫛歯形状部の隙間空間および、可動部12と可動部13との櫛歯形状部の隙間空間に電界が形成され、交流電圧eの角周波数ωに応じて可動部12,13が振動することになる。センサ1は印加電圧を変えることで可動部12,13を駆動することができる静電アクチュエータを構成しており、可動部12,13の質量,バネ定数などの変化、すなわち機械系の変化を、電気的なアドミッタンスの変化として計測することが可能となる。なお、従来の櫛歯アクチュエータと区別するために、本願の静電アクチュエータを連成櫛歯アクチュエータと呼ぶことにする。 A DC power supply 71 and an AC power supply 72 of the drive unit 7 are connected in series, and a voltage obtained by superimposing the AC voltage e on the DC voltage E 0 is applied between the fixed unit 11 and the movable unit 12. Therefore, an electric field is formed in the gap space of the comb-shaped portion between the fixed portion 11 and the movable portion 13 and in the gap space of the comb-shaped portion between the movable portion 12 and the movable portion 13, and the angular frequency ω of the AC voltage e is increased. Accordingly, the movable parts 12 and 13 vibrate. The sensor 1 constitutes an electrostatic actuator capable of driving the movable parts 12 and 13 by changing the applied voltage, and changes in the masses and spring constants of the movable parts 12 and 13, that is, changes in the mechanical system, It can be measured as a change in electrical admittance. In addition, in order to distinguish from the conventional comb-tooth actuator, the electrostatic actuator of this application will be called a coupled comb-tooth actuator.

本実施の形態では、可動部12のバネ定数を可動部13のバネ定数よりも小さく設定し、可動部13の共振周波数あるいはその近傍で可動部13を励振する。可動部13は、直流的にはフローティングの状態になっている。一方、可動部12は、共振周波数が駆動周波数から離れているので励振されず、外力によって静的あるいは準静的な変位を行う。   In the present embodiment, the spring constant of the movable part 12 is set to be smaller than the spring constant of the movable part 13, and the movable part 13 is excited at or near the resonance frequency of the movable part 13. The movable part 13 is in a floating state in terms of direct current. On the other hand, the movable portion 12 is not excited because the resonance frequency is away from the driving frequency, and is displaced statically or quasi-statically by an external force.

図1のアドミッタンス検出器81は電気・機械結合系のアドミッタンスを検出するものであり、検出データは制御演算部82へ入力される。探針125で試料表面を走査すると、探針125と試料表面原子との原子間力により探針125が試料表面に引き寄せられ、可動部12がx方向に変位する。この可動部12の変位は、アドミッタンスの変化としてアドミッタンス検出器81により検出される。   The admittance detector 81 shown in FIG. 1 detects the admittance of the electrical / mechanical coupling system, and the detection data is input to the control calculation unit 82. When the sample surface is scanned with the probe 125, the probe 125 is attracted to the sample surface by the atomic force between the probe 125 and the sample surface atoms, and the movable portion 12 is displaced in the x direction. The displacement of the movable portion 12 is detected by an admittance detector 81 as a change in admittance.

制御演算部82は、アドミッタンスの変化がゼロとなるように、すなわち可動部12の変位がゼロとなるようにピエゾアクチュエータ5をx方向に駆動する。そして、このような制御を行いながら、ステージ6により試料Sをxy方向に移動する。このときの制御信号は試料Sの表面状態(凹凸の様子)を表しており、制御信号に基づいて観察画像をモニタ10に表示する。   The control calculation unit 82 drives the piezo actuator 5 in the x direction so that the change in admittance is zero, that is, the displacement of the movable unit 12 is zero. Then, the sample S is moved in the xy direction by the stage 6 while performing such control. The control signal at this time represents the surface state (unevenness) of the sample S, and an observation image is displayed on the monitor 10 based on the control signal.

図3は、センサ1の解析モデルを示す図である。上述したように、電圧は固定部11と可動部12との間に印加され、可動部13は直流的にフローティングの状態になっている。なお、図3において、m,mはそれぞれ可動部12,13の質量であり、k,kは可動部12,13のバネ定数、r,rは可動部12,13の機械抵抗(振動に伴う流体抵抗も含む)である。また、Xは固定部11と可動部13との間の櫛歯の初期重なり量であり、Xは可動部12と可動部13との間の櫛歯の初期重なり量である。ωは、交流電圧eの角周波数である。 FIG. 3 is a diagram illustrating an analysis model of the sensor 1. As described above, the voltage is applied between the fixed portion 11 and the movable portion 12, and the movable portion 13 is in a DC floating state. In FIG. 3, m 1 and m 2 are the masses of the movable parts 12 and 13, respectively, k 1 and k 2 are the spring constants of the movable parts 12 and 13, and r 1 and r 2 are the masses of the movable parts 12 and 13, respectively. Mechanical resistance (including fluid resistance associated with vibration). Moreover, X 1 is the initial amount of overlap comb between the fixed portion 11 and movable portion 13, X 2 is the initial amount of overlap comb between the movable portion 12 and the movable portion 13. ω is the angular frequency of the AC voltage e.

図3に示すような電気・機械結合系のラグランジアンLおよび散逸関数Fは、それぞれ次式(1),(2)のように表される。式(1)において、x,xは可動部12,13のx方向の変位を表している。C(x,x)は、固定部11と可動部13との間の静電容量C(x,x)と、可動部12,13間の静電容量C(x,x)とを合わせた合成容量であり、式(3)で表される。式(2)のRは電気系の抵抗である。また、式(3)において、nは凸部の総数、bは図3に示す櫛歯間のy方向隙間寸法、dは櫛歯のz方向厚さ寸法(図2参照)、εは真空の誘電率である。なお、浮遊容量Cstrayに関しては、Cstray=0と仮定して説明をする。

Figure 0004758405
The Lagrangian L and the dissipation function F of the electromechanical coupling system as shown in FIG. 3 are expressed as the following equations (1) and (2), respectively. In Expression (1), x 1 and x 2 represent displacements of the movable parts 12 and 13 in the x direction. C (x 1 , x 2 ) is a capacitance C 1 (x 1 , x 2 ) between the fixed portion 11 and the movable portion 13 and a capacitance C 2 (x 1 ) between the movable portions 12 and 13. , x 2 ) and the combined capacity, which is expressed by the equation (3). R in the formula (2) is an electric resistance. In equation (3), n is the total number of protrusions, b is the y-direction gap dimension between the comb teeth shown in FIG. 3, d is the z-direction thickness dimension of the comb teeth (see FIG. 2), and ε 0 is a vacuum. Is the dielectric constant. The stray capacitance C stray will be described assuming that C stray = 0.
Figure 0004758405

上述したラグランジアンLおよび散逸関数Fから、(4),(5),(6)に示すような機械系の外力f,f2および電気系の交流電圧eに関するラグランジュ方程式を導出する。式(4),(5)はそれぞれ可動部12と可動部13に関する式であり、式(6)は電気回路に関する式である。なお、F、F2は、直流バイアス電圧Eによる力を示す。

Figure 0004758405
From the Lagrangian L and the dissipation function F described above, Lagrangian equations relating to the external forces f 1 and f 2 of the mechanical system and the AC voltage e of the electrical system as shown in (4), (5) and (6) are derived. Expressions (4) and (5) are expressions relating to the movable part 12 and the movable part 13, respectively, and Expression (6) is an expression relating to the electric circuit. F 1 and F 2 indicate forces due to the DC bias voltage E 0 .
Figure 0004758405

ここで、角周波数ωの交流電圧eの大きさがバイアス電圧Eに対して十分小さく、かつ、R≒0であると仮定すると、式(4)〜(6)は式(7)で示すような線形近似基本方程式で表される。なお、式(7)では、3つの方程式を行列を用いて表現した。また、C,C,Cは、変移量x、xがゼロの場合における静電容量であり、次式で表される。破線で囲んだ外力fの式の第2項および外力fの式の第1項のいずれにも、(1/C−1/C)という因数が含まれており、このことから、可動部12と可動部13とは電界を介して相互にカップリングしていることがわかる。

Figure 0004758405
Here, assuming that the magnitude of the AC voltage e at the angular frequency ω is sufficiently small with respect to the bias voltage E 0 and R≈0, Expressions (4) to (6) are expressed by Expression (7). It is expressed by the linear approximation basic equation. In Equation (7), three equations are expressed using a matrix. Further, C 0 , C 1 , and C 2 are capacitances when the shift amounts x 1 and x 2 are zero, and are expressed by the following equations. Both the second term of the external force f 1 expression and the first term of the external force f 2 expression enclosed by the broken line include a factor of (1 / C 1 −1 / C 2 ). It can be seen that the movable part 12 and the movable part 13 are coupled to each other via an electric field.
Figure 0004758405

式(7)に関して、外力f、fをゼロとし、Cramerの公式を用いて電圧eを求めると次式(8)のようになる。なお、式(8)を求める際には、機械抵抗r,rをゼロとみなして計算を行っている。この電圧eの式を用いることにより、インピーダンスZは式(9)のように表される。なお、式(8)の分母に現れる|H|は、式(7)の右辺の行列に関する行列式である。

Figure 0004758405
Regarding the expression (7), when the external forces f 1 and f 2 are set to zero and the voltage e is obtained using the Cramer formula, the following expression (8) is obtained. Note that when obtaining the equation (8), the calculation is performed by regarding the mechanical resistances r 1 and r 2 as zero. By using the equation of voltage e, impedance Z is expressed as equation (9). Note that | H | appearing in the denominator of Expression (8) is a determinant relating to the matrix on the right side of Expression (7).
Figure 0004758405

また、アドミッタンスYは、式(10)のように表される。なお、式(8)〜(10)において、定数A,B,D,Gは以下の通りであり、ω =k/m、ω =k/mである。

Figure 0004758405
Further, the admittance Y is expressed as in Expression (10). In the equations (8) to (10), the constants A, B, D, and G are as follows, and ω 1 2 = k 1 / m 1 and ω 2 2 = k 2 / m 2 .
Figure 0004758405

このように、センサ1の振動状態の変化、すなわち振動系の変化は電気系のインピーダンスZまたはアドミッタンスYの変化(より一般的にはイミタンスの変化)を計測することにより検出することができる。アドミッタンスYの絶対値は、インピーダンスアナライザーによって直接に計測することができる。なお、アドミッタンスの検出方法については、特開2007−93231号公報に詳細に記載されており、ここでは説明を省略する。   As described above, a change in the vibration state of the sensor 1, that is, a change in the vibration system can be detected by measuring a change in the impedance Z or admittance Y of the electric system (more generally, a change in immittance). The absolute value of admittance Y can be directly measured by an impedance analyzer. Note that the admittance detection method is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-93231, and the description thereof is omitted here.

前述したように、本実施の形態では、可動部12のバネ定数は可動部13のバネ定数よりも小さく設定されている。そのため、可動部13が共振周波数あるいはその近傍で励振されても、可動部12は可動部13の振動には追従せず、外力が加わらない限りほぼ静止した状態となる。そして、外力によって可動部12が変位すると、可動部12と可動部13との間のカップリングの強さが変化するので、その変化が電気系の変化として現れる。この電気的な変動を電子回路で例えばアドミッタンス変化として検出することにより、可動部12の変位を検出することができる。   As described above, in this embodiment, the spring constant of the movable part 12 is set smaller than the spring constant of the movable part 13. For this reason, even when the movable portion 13 is excited at or near the resonance frequency, the movable portion 12 does not follow the vibration of the movable portion 13 and remains almost stationary unless an external force is applied. When the movable part 12 is displaced by an external force, the strength of the coupling between the movable part 12 and the movable part 13 changes, and the change appears as a change in the electrical system. By detecting this electrical fluctuation as an admittance change by an electronic circuit, for example, the displacement of the movable portion 12 can be detected.

可動部12のバネ定数が小さくて可動部12が振動しない場合、v=0としてラグランジアンLおよび散逸関数Fを立てる。それぞれ、式(11),(12)のようになる。そして、ラグランジアンLおよび散逸関数Fをx1,v2,eについて解くと、式(13)で与えられるような可動部12(f)、可動部13(f)、電気回路系(i)のそれぞれの系に対応した行列が得られる。

Figure 0004758405
When the spring constant of the movable part 12 is small and the movable part 12 does not vibrate, the Lagrangian L and the dissipation function F are established with v x = 0. Equations (11) and (12) are obtained, respectively. Then, when the Lagrangian L and the dissipation function F are solved for x1, v2, and e, the movable part 12 (f 1 ), the movable part 13 (f 2 ), and the electric circuit system (i) as given by the equation (13) A matrix corresponding to each system is obtained.
Figure 0004758405

この場合も、前述した場合と同様に、式(13)に関して、外力f、fをゼロとし、Cramerの公式を用いて電圧eを求めると次式(14)のようになる。この電圧eの式を用いることにより、インピーダンスZは式(15)のように表される。

Figure 0004758405
In this case as well, as in the case described above, regarding the equation (13), when the external forces f 1 and f 2 are set to zero and the voltage e is obtained using the Cramer formula, the following equation (14) is obtained. By using the equation of voltage e, impedance Z is expressed as equation (15).
Figure 0004758405

図4は実験データを示したものであり、(a)は図2の連成櫛歯アクチュエータの部分を従来の櫛歯アクチュエータで置き換えた場合のデータを示し、(b)は連成櫛歯アクチュエータを用いたセンサ1の場合を示す。この実験データは、櫛歯アクチュエータを駆動部7により励振させた状態で、探針125をSi基板に接触させない場合と、探針125を基板方向に押し込んで可動部12を変位させた場合とを示す。なお、図4(a)に示す従来の櫛歯アクチュエータの場合は、駆動周波数とインピーダンスアナライザーで計測されるアドミッタンス値|Y|との関係を示し、図4(b)の場合には、駆動周波数とロックインアンプで計測される電流値との関係を示す。   FIG. 4 shows experimental data, (a) shows data when the portion of the coupled comb actuator of FIG. 2 is replaced with a conventional comb actuator, and (b) shows the coupled comb actuator. The case of the sensor 1 using this is shown. This experimental data shows that the probe 125 is not brought into contact with the Si substrate while the comb actuator is excited by the drive unit 7 and the movable unit 12 is displaced by pushing the probe 125 toward the substrate. Show. 4A shows the relationship between the drive frequency and the admittance value | Y | measured by the impedance analyzer. In the case of FIG. 4B, the drive frequency And the current value measured by the lock-in amplifier.

図4(a)に示す従来の櫛歯アクチュエータの場合、探針125を接触させないフリー状態(曲線a)では、典型的なアドミッタンスカーブが得られるが、探針125が基板に接触して可動部12に変位が生じると、曲線b〜dのようにピーク部分の波形が潰れたような形状となる。これは、探針125が基板に接触すると櫛歯アクチュエータの可動部の振動が制限されるために生じるものであり、押し込み量が大きくなるほど波形の潰れが顕著になる。そのため、変位測定の感度が低下するという欠点があった。   In the case of the conventional comb-shaped actuator shown in FIG. 4A, a typical admittance curve is obtained in a free state (curve a) in which the probe 125 is not brought into contact. When displacement occurs in 12, the shape of the waveform of the peak portion is crushed as shown by curves b to d. This occurs because the vibration of the movable portion of the comb-shaped actuator is restricted when the probe 125 comes into contact with the substrate. The larger the amount of pressing, the more the waveform collapses. Therefore, there has been a drawback that the sensitivity of displacement measurement is reduced.

一方、図4(b)に示す計測結果では、探針125が基板に接触して可動部12が変位した状態(b〜d)でも波形の潰れは計測されず、接触量(=変位量)を変えたときの容量の変化が波形に明確に現れている。そのため、可動部13の変位を感度良く計測することができる。なお、接触量は押し込み量と同じ内容のものである。図4(b)に示すデータでは、f=10.8kHz〜11kHzの周波数範囲においては接触量の変化に対して電流値が大きく変化している。そのため、この周波数範囲(例えば、10.9kHz)で可動部13を励振し、電流値の変化量から可動部12の変位量を高精度に推定することができる。もちろん、変位量と可動部12に付加される外力との対応関係を予めテーブルとして用意し、変位量とテーブルとから外力の大きさを求めるようにしても良い。   On the other hand, in the measurement result shown in FIG. 4B, even when the probe 125 is in contact with the substrate and the movable portion 12 is displaced (b to d), the waveform collapse is not measured, and the contact amount (= displacement amount). The change in capacitance when changing is clearly shown in the waveform. Therefore, the displacement of the movable part 13 can be measured with high sensitivity. The contact amount is the same as the push amount. In the data shown in FIG. 4B, the current value greatly changes with respect to the change in the contact amount in the frequency range of f = 10.8 kHz to 11 kHz. Therefore, the movable part 13 is excited in this frequency range (for example, 10.9 kHz), and the displacement amount of the movable part 12 can be estimated with high accuracy from the amount of change in the current value. Of course, the correspondence relationship between the displacement amount and the external force applied to the movable portion 12 may be prepared in advance as a table, and the magnitude of the external force may be obtained from the displacement amount and the table.

また、図5はセンサ1をタッチセンサに適用した場合を示す図である。図5(a)は従来の櫛歯アクチュエータをタッチセンサに用いた場合を示す図であり、図5(b)はセンサ1を接触検出用センサに適用した場合を示す。図5(a)に示す場合には、接触を検出するためのアーム138が、振動している可動部13に形成されている。アーム138が試料50に接触すると可動部13の振動状態が変化し、その振動状態の変化をアドミタンス変化として計測することにより、試料50への接触を検出することができる。   FIG. 5 is a diagram showing a case where the sensor 1 is applied to a touch sensor. FIG. 5A is a diagram showing a case where a conventional comb actuator is used as a touch sensor, and FIG. 5B shows a case where the sensor 1 is applied as a contact detection sensor. In the case shown in FIG. 5A, an arm 138 for detecting contact is formed on the movable portion 13 that is vibrating. When the arm 138 comes into contact with the sample 50, the vibration state of the movable portion 13 changes. By measuring the change in the vibration state as an admittance change, the contact with the sample 50 can be detected.

一方、図5(b)に示す連成櫛がアクチュエータを用いる場合には、静止状態の可動部12に接触用のアーム128が形成されている。そして、アーム128が試料50に接触して可動部12が可動部13方向へ変位すると、電極部のカップリング強度が変化する。その結果、可動部13の振動状態が変化し、アーム128が試料50に接触したことを検出することができる。   On the other hand, when the coupled comb shown in FIG. 5B uses an actuator, a contact arm 128 is formed on the movable portion 12 in a stationary state. When the arm 128 comes into contact with the sample 50 and the movable part 12 is displaced in the direction of the movable part 13, the coupling strength of the electrode part changes. As a result, it is possible to detect that the vibration state of the movable portion 13 has changed and the arm 128 has contacted the sample 50.

しかしながら、水中にある試料50を計測する場合、図5(a)に示す例では、アーム138の一部が水中に侵入したときに水の粘性抵抗により、可動部13の振動状態が変化する。そのため、アドミッタンス変化が、振動する可動部13が静的に変位したことに起因するのか、粘性抵抗に起因するのかを判別し難くい。さらに、粘性抵抗により振動が制限されるため、検出感度も低下してしまう。   However, when measuring the sample 50 in water, in the example shown in FIG. 5A, the vibration state of the movable portion 13 changes due to the viscous resistance of water when a part of the arm 138 enters the water. For this reason, it is difficult to determine whether the change in admittance is caused by static displacement of the vibrating movable portion 13 or by viscous resistance. Furthermore, since the vibration is limited by the viscous resistance, the detection sensitivity is also lowered.

一方、図5(b)に示す例では、可動部12は振動していないので、アーム128の一部が水中に入った場合でも可動部13の振動状態は変化しない。そして、アーム128が試料50に接触して可動部12が図示左側に変位すると、電極部のカップリング強度が変化してアドミッタンス変化として計測される。そのため、アーム128が水中にある場合でも大気中にある場合でも、同様の検出精度で接触を検知することができる。   On the other hand, in the example shown in FIG. 5B, since the movable portion 12 is not vibrating, the vibration state of the movable portion 13 does not change even when a part of the arm 128 enters the water. When the arm 128 comes into contact with the sample 50 and the movable part 12 is displaced to the left in the figure, the coupling strength of the electrode part changes and is measured as an admittance change. Therefore, even when the arm 128 is in water or in the atmosphere, contact can be detected with the same detection accuracy.

なお、センサ1を物理センサとして用いる他の例としては、メンブレン方式の圧力センサがある。この場合、可動部12をメンブレンに密着するように設け、圧力によるメンブレンの変形を可動部12の変位として検出するように構成する。   Another example of using the sensor 1 as a physical sensor is a membrane type pressure sensor. In this case, the movable part 12 is provided so as to be in close contact with the membrane, and the deformation of the membrane due to pressure is detected as the displacement of the movable part 12.

[変形例]
図6は本実施の形態の変形例を示す図であり、センサ1および駆動部7を示すブロック図である。上述した実施の形態では、駆動部7に交流電源72を設けて可動部13を励振させたが、変形例では、センサ1の連成櫛歯アクチュエータ(静電アクチュエータ)を共振回路とし、その出力を増幅器23を介してフィードバックすることにより、自励発振させるようにした。そして、自励発振するセンサ1の振動状態の変化を、例えば周波数変化として検出することにより、可動部12の変位を検出することができる。
[Modification]
FIG. 6 is a diagram showing a modification of the present embodiment, and is a block diagram showing the sensor 1 and the drive unit 7. In the above-described embodiment, the drive unit 7 is provided with the AC power source 72 to excite the movable unit 13. However, in the modification, the coupled comb actuator (electrostatic actuator) of the sensor 1 is a resonance circuit, and its output Is fed back via an amplifier 23 to cause self-oscillation. And the displacement of the movable part 12 is detectable by detecting the change of the vibration state of the sensor 1 which carries out self-oscillation as a frequency change, for example.

図6では、センサ1は、それが本来的に有しているL,C,R共振回路に基づいて描いてある。すなわち、センサ1を受動2端子素子とみなして示した。駆動部7は、センサ1を帰還回路として有する増幅器73と、センサ1に対して直流バイアス電圧Eを印加する直流電源71とを備えている。 In FIG. 6, the sensor 1 is drawn based on the L, C, R resonance circuit that it inherently has. That is, the sensor 1 is shown as a passive two-terminal element. The drive unit 7 includes an amplifier 73 having the sensor 1 as a feedback circuit and a DC power source 71 that applies a DC bias voltage E 0 to the sensor 1.

なお、直流バイアス電圧Eを印加する直流電源71の内部抵抗は非常に小さいので、帰還信号が直流電源71側を通過しないようにする必要がある。そこで、本実施の形態では、高抵抗Rhighを直流電源71と直列に挿入してある。このことにより、直流電源71が帰還パスに影響を与えないようにしている。また、直流電源71が、増幅器73を含んだ回路系統からDC回路としてフローティング状態とされる同時に、増幅器73の端子(出力端子&入力端子)に直流電圧が直接印加されないよう、ブロッキング・コンデンサCを挿入してある。 The internal resistance of the DC power source 71 for applying a DC bias voltage E 0 is so small, it is necessary to prevent the feedback signal does not pass through the DC power supply 71 side. Therefore, in the present embodiment, the high resistance R high is inserted in series with the DC power supply 71. This prevents the DC power supply 71 from affecting the feedback path. Further, at the same time that the DC power supply 71 is brought into a floating state as a DC circuit from the circuit system including the amplifier 73, the blocking capacitor C B is prevented so that a DC voltage is not directly applied to the terminal (output terminal & input terminal) of the amplifier 73. Is inserted.

増幅器73とセンサ(静電アクチュエータ)1とで発振回路を構成することにより、センサ1に電圧を印加すると、可動部13は共振周波数で自励振動することになる。外力により可動部12に変位が生じると、等価回路のR,C,Lが変化して振動の振幅および周波数が変化する。増幅器73からの出力信号は、振動状態の変化を周波数変化として検出する検出部60に入力される。検出部60には、例えば、周波数コンパレータが設けられ、増幅器23から出力される信号の周波数を周波数コンパレータによりモニタする。   By configuring an oscillation circuit with the amplifier 73 and the sensor (electrostatic actuator) 1, when a voltage is applied to the sensor 1, the movable portion 13 is self-excited at a resonance frequency. When a displacement occurs in the movable part 12 due to an external force, R, C, and L of the equivalent circuit change, and the amplitude and frequency of vibration change. An output signal from the amplifier 73 is input to a detection unit 60 that detects a change in vibration state as a frequency change. For example, the detection unit 60 is provided with a frequency comparator, and the frequency of the signal output from the amplifier 23 is monitored by the frequency comparator.

なお、上述した実施の形態では、振動状態の変化をアドミッタンスの変化として検出したが、図4(b)で示したように電流値の変化として検出するようにしても良い。以上説明した実施の形態と特許請求の範囲の要素との対応において、可動部12は可動部を、可動部13は振動部を、基台14はベース部をそれぞれ構成する。また、以上の説明はあくまでも一例であり、本発明の特徴を損なわない限り、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではない。   In the embodiment described above, the change in the vibration state is detected as a change in admittance, but it may be detected as a change in current value as shown in FIG. In the correspondence between the embodiment described above and the elements of the claims, the movable portion 12 constitutes a movable portion, the movable portion 13 constitutes a vibrating portion, and the base 14 constitutes a base portion. The above description is merely an example, and the present invention is not limited to the above embodiment as long as the characteristics of the present invention are not impaired.

本発明に係るセンサ素子を用いた原子間力顕微鏡装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the atomic force microscope apparatus using the sensor element which concerns on this invention. センサ1の構成を示す斜視図である。1 is a perspective view showing a configuration of a sensor 1. FIG. センサ1(連成櫛歯アクチュエータ)の解析モデルを示す図である。It is a figure which shows the analysis model of the sensor 1 (coupled comb-tooth actuator). 実験データを示す図であり、(a)は従来の櫛歯アクチュエータを用いたセンサの場合を示し、(b)は連成櫛歯アクチュエータを用いたセンサ1の場合を示す。It is a figure which shows experimental data, (a) shows the case of the sensor using the conventional comb-tooth actuator, (b) shows the case of the sensor 1 using a compound comb-tooth actuator. センサ1をタッチセンサに適用した場合を示す図であり、(a)は従来の櫛歯アクチュエータを用いた場合を示す、(b)はセンサ1をタッチセンサに適用した場合を示す。It is a figure which shows the case where the sensor 1 is applied to a touch sensor, (a) shows the case where the conventional comb-tooth actuator is used, (b) shows the case where the sensor 1 is applied to a touch sensor. 変形例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows a modification.

符号の説明Explanation of symbols

1:センサ、5:ピエゾアクチュエータ、6:ステージ、7:駆動部、8:制御部、9:ステージ駆動制御部、11:固定部、12,13:可動部、14:基台、50:試料、60:検出部、71:直流電源、72:交流電源、73増幅器、81:アドミッタンス検出器、82:制御演算部、121,131:梁、128,138:アーム   1: sensor, 5: piezo actuator, 6: stage, 7: drive unit, 8: control unit, 9: stage drive control unit, 11: fixed unit, 12, 13: movable unit, 14: base, 50: sample , 60: detection unit, 71: DC power supply, 72: AC power supply, 73 amplifier, 81: admittance detector, 82: control calculation unit, 121, 131: beam, 128, 138: arm

Claims (6)

互いに逆向きに形成された第1および第2の櫛歯電極を有し、ベース部に弾性的に支持されるとともに櫛歯の凹凸方向に振動する振動部と、
前記第1の櫛歯電極と噛合する第3の櫛歯電極を有し、前記ベース部に固定された固定部と、
前記第2の櫛歯電極と噛合する第4の櫛歯電極を有し、前記ベース部に弾性的に支持されて外力の作用により櫛歯の凹凸方向に変位する可動部とを備えたことを特徴とするセンサ素子。
A vibrating portion having first and second comb electrodes formed in opposite directions, elastically supported by the base portion and vibrating in the uneven direction of the comb teeth;
A third comb electrode that meshes with the first comb electrode, and a fixed portion fixed to the base portion;
A fourth comb electrode that meshes with the second comb electrode, and a movable portion that is elastically supported by the base portion and is displaced in the concave and convex direction of the comb tooth by the action of an external force. A characteristic sensor element.
請求項1に記載のセンサ素子において、
前記固定部、前記振動部および前記可動部を、フォトリソグラフィー法によりSOIウエハ上に一体に形成したことを特徴とするセンサ素子。
The sensor element according to claim 1, wherein
A sensor element, wherein the fixed portion, the vibrating portion, and the movable portion are integrally formed on an SOI wafer by a photolithography method.
請求項1または2に記載のセンサ素子と、
前記振動部を振動駆動するための電圧を、前記第3の櫛歯電極と前記第4の櫛歯電極との間に印加する駆動部と、
前記振動部の振動状態の変化に基づいて前記可動部の変位を検出する検出部とを備えたことを特徴とする物理センサ装置。
The sensor element according to claim 1 or 2,
A drive unit that applies a voltage for driving the vibration unit to vibrate between the third comb electrode and the fourth comb electrode;
A physical sensor device comprising: a detection unit that detects a displacement of the movable unit based on a change in a vibration state of the vibration unit.
請求項3に記載の物理センサ装置において、
前記検出部は、前記振動状態の変化による前記センサ素子および前記駆動部を含む系のイミタンスの変化に基づいて、前記可動部の変位を検出することを特徴とする物理センサ装置。
The physical sensor device according to claim 3,
The detection unit detects a displacement of the movable unit based on a change in immittance of a system including the sensor element and the drive unit due to a change in the vibration state.
請求項3に記載の物理センサ装置において、
前記駆動部は、前記センサ素子が有する電気的等価回路を帰還回路として用いることにより自励発振させ、その自励発振により前記振動部を振動させる増幅器を備えることを特徴とする物理センサ装置。
The physical sensor device according to claim 3,
The physical sensor device, wherein the driving unit includes an amplifier that causes self-excited oscillation by using an electrical equivalent circuit of the sensor element as a feedback circuit and vibrates the vibrating unit by the self-excited oscillation.
請求項5に記載の物理センサ装置において、
前記検出部は、前記振動状態の変化としての振動周波数の変化に基づいて、前記可動部の変位を検出することを特徴とする物理センサ装置。
The physical sensor device according to claim 5,
The detection unit detects a displacement of the movable unit based on a change in vibration frequency as a change in the vibration state.
JP2007254822A 2007-09-28 2007-09-28 Sensor element and physical sensor device Expired - Fee Related JP4758405B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007254822A JP4758405B2 (en) 2007-09-28 2007-09-28 Sensor element and physical sensor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007254822A JP4758405B2 (en) 2007-09-28 2007-09-28 Sensor element and physical sensor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009085729A JP2009085729A (en) 2009-04-23
JP4758405B2 true JP4758405B2 (en) 2011-08-31

Family

ID=40659345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007254822A Expired - Fee Related JP4758405B2 (en) 2007-09-28 2007-09-28 Sensor element and physical sensor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4758405B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101065981B1 (en) 2009-05-20 2011-09-19 인하대학교 산학협력단 Mechanically-coupled vibrating tuning fork-scanning probe system
JP5205352B2 (en) * 2009-09-11 2013-06-05 アオイ電子株式会社 Booster circuit
EP2926111B1 (en) * 2012-11-28 2022-07-27 Bruker Nano, Inc. Micromachined comb drive for quantitative nanoindentation
CN111220309B (en) * 2020-03-27 2020-07-21 广东省计量科学研究院(华南国家计量测试中心) Force source device for micro-nano force measurement and implementation method thereof

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0515287A (en) * 1991-07-09 1993-01-26 Yamamoto Sangyo:Kk Method for controlling wandering insect pests in culturing mushrooms
JP2986280B2 (en) * 1992-03-09 1999-12-06 科学技術振興事業団 Tunnel current sensing micro device
JP3076467B2 (en) * 1992-12-25 2000-08-14 キヤノン株式会社 Surface matching method and tunnel microscope and recording / reproducing apparatus using the same
JP2004276200A (en) * 2003-03-18 2004-10-07 Seiko Epson Corp Micro structure and method of manufacturing the same
JP2005074561A (en) * 2003-08-29 2005-03-24 Matsushita Electric Works Ltd Electrostatic micro-actuator and optical switch
JP2005134896A (en) * 2003-10-10 2005-05-26 Japan Aviation Electronics Industry Ltd Fine movable device
JP4378532B2 (en) * 2005-09-27 2009-12-09 アオイ電子株式会社 Comb-shaped probe driving apparatus, atomic force microscope apparatus, and displacement measuring method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009085729A (en) 2009-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7260980B2 (en) Liquid cell and passivated probe for atomic force microscopy and chemical sensing
US9038443B1 (en) Microfabricated resonant fluid density and viscosity sensor
US8115367B2 (en) Piezoelectric actuator provided with a displacement meter, piezoelectric element, and positioning device
JP5024803B2 (en) Detection sensor
Su et al. A bimorph based dilatometer for field induced strain measurement in soft and thin free standing polymer films
US9535086B2 (en) Interface of a microfabricated scanning force sensor for combined force and position sensing
KR20150071428A (en) Magnetic field sensor and sensing apparatus using thereof
JP2006258429A (en) Scanning probe microscope
JP4758405B2 (en) Sensor element and physical sensor device
US6424165B1 (en) Electrostatic apparatus for measurement of microfracture strength
JP6397424B2 (en) Microfabricated comb drive mechanism for quantitative nanoindentation
JP5164743B2 (en) Cantilever, cantilever system, probe microscope and adsorption mass sensor
US20060267596A1 (en) Spring constant calibration device
Kursu et al. Piezoelectric bimorph charge mode force sensor
JP4378532B2 (en) Comb-shaped probe driving apparatus, atomic force microscope apparatus, and displacement measuring method
US7116115B2 (en) Micromachined probe apparatus and methods for making and using same to characterize liquid in a fluidic channel and map embedded charge in a sample on a substrate
JPH06258072A (en) Piezoelectric element thin film evaluating apparatus, interatomic force microscope
JP2001108605A (en) Cantilever for scanning-type probe microscope and its manufacturing method, and scaning-type probe microscope and surface charge-measuring microscope
JP2008241619A (en) Cantilever, biosensor and probe microscope
JP5193541B2 (en) Angular velocity detector
RU2425356C1 (en) Device for measuring physical and mechanical properties of materials
JP2007327919A (en) Surface potential measuring device
JPH09257606A (en) Device for measuring precision shear stress
JPH06323845A (en) Thin film force detection probe for scanning force microscope
JP2009036534A (en) Scanning probe microscope, and method of measuring film thickness distribution using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090715

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090723

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110425

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110517

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110602

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140610

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees