JP4617861B2 - Liquid crystal display device - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、液晶層を透過した光を画像として表示する表示領域と、光を遮光し画像を表示しない非表示領域とが形成されている液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device in which a display region that displays light transmitted through a liquid crystal layer as an image and a non-display region that blocks light and does not display an image are formed.
液晶表示装置は、CRT(Cathode Ray Tube)よりも、薄型、軽量、低消費電力などの利点を有し、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、携帯電話などの電子機器に多く利用されている。このような液晶表示装置の表示方式として、アクティブマトリクス方式が知られている。 Liquid crystal display devices have advantages such as thinness, light weight, and low power consumption over CRT (Cathode Ray Tube), and are widely used in electronic devices such as personal computers, digital still cameras, and mobile phones. As a display method of such a liquid crystal display device, an active matrix method is known.
アクティブマトリクス方式の液晶表示装置は、表示領域にマトリクス状に形成された画素に、走査信号とデータ信号とを選択的に、順次、印加して駆動することにより、表示領域に画像を表示する。 An active matrix liquid crystal display device displays an image in a display area by selectively applying and driving a scanning signal and a data signal sequentially to pixels formed in a matrix in the display area.
しかし、アクティブマトリクス方式の液晶表示装置においては、表示領域の周囲において液晶層に印加される電位が安定化しないために、画像にシミが発生するなど画像品質が劣化する場合がある。 However, in an active matrix liquid crystal display device, the potential applied to the liquid crystal layer around the display region is not stabilized, and thus image quality may be deteriorated, for example, a spot is generated in the image.
これは、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が異なることに、主に起因する。つまり、中央部などにある画素が周囲を別の画素で囲われるのに対し、表示領域の最端部にある画素が別の画素で周囲を囲われないために、表示領域の最端部と中央部とで寄生容量が異なり、表示領域の周囲において液晶層に印加される電位が安定化しなくなって、画像品質が低下する。 This is mainly due to the difference in parasitic capacitance generated between the pixel at the extreme end of the display area and the pixel at the other central part or the like. In other words, the pixel at the center or the like is surrounded by another pixel while the pixel at the extreme end of the display area is not surrounded by another pixel. The parasitic capacitance is different from the central portion, and the potential applied to the liquid crystal layer around the display area is not stabilized, so that the image quality is deteriorated.
このような不具合を解消するために、液晶パネルの表示領域の周囲の非表示領域にダミー画素を形成する方法が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。
図5,図6,図7は、液晶表示装置601aにおいて、ダミー画素が形成された液晶パネル10aを示す図である。ここで、図5は、液晶パネル10aの構成を示す断面図である。図6は、液晶パネル10aの構成を示す平面図である。そして、図7は、液晶パネル10aの回路図である。
5, 6 and 7 are diagrams showing a
図5に示すように、液晶パネル10aは、アレイ基板11aと、対向基板21aと、液晶層31aとを含む。液晶パネル10aにおいては、アレイ基板11aと対向基板21aとが間隔を隔てるように対面し、周囲がシール材51aを用いて貼り合わされており、アレイ基板11aと対向基板21aとの間隔に挟まれるように液晶層31aが配置されている。そして、液晶パネル10aにおいては、液晶層31aを透過した光を画像として表示する表示領域Dと、光を遮光し画像を表示しない非表示領域Nとが形成されている。液晶パネル10aは、光がアレイ基板11aの側から対向基板21aの側に液晶層31aを介して透過し、表示領域Dで画像を表示する。
As shown in FIG. 5, the
各部について説明する。 Each part will be described.
アレイ基板11aには、図5と図6と図7とに示すように、表示領域Dに対応するように、画素電極101と画素スイッチング素子102と保持容量素子103と走査配線201と信号配線202と保持容量配線203とが形成されている。そして、非表示領域Nに対応するように、ダミー画素電極151とダミー画素スイッチング素子152とダミー保持容量素子153とダミー走査配線401とダミー信号配線402とダミー保持容量配線403と保持容量接続配線404とが、形成されている。ここでは、図5と図6とに示すように、複数の画素電極101が形成された表示領域Dの周囲に沿うように非表示領域Nにダミー画素電極151が形成されている。そして、保持容量配線203とダミー保持容量配線403との両者に接続している保持容量接続配線404が、そのダミー画素電極151の外部の周囲を沿うように、非表示領域Nに形成されている。
As shown in FIGS. 5, 6, and 7, the array substrate 11 a has a
一方、対向基板21には、図5と図6とに示すように、液晶層31aを介して複数の画素電極101とダミー画素電極151aとに対向するように対向電極23aが形成されている。
On the other hand, as shown in FIGS. 5 and 6, a
上記の液晶パネル10aにおいて、表示領域Dにて画像を表示する際には、ゲートドライバ301とソースドライバ302a,302bとが、走査信号とデータ信号とのそれぞれを画素スイッチング素子102に供給することによって所定の電位を画素電極101に加える。そして、これと共に、各画素に共通な共通電位を対向電極23aに加え、対向電極23aと画素電極101との間の液晶層31aに電圧を印加する。そして、CSドライバ303がCS線203を介して信号を供給して所定の電位を保持容量素子103に保持させ、液晶層31aに印加された電圧を保たせる。このような動作により、表示領域Dに対応する液晶層31aの配向方向が変化するため、液晶層31aを透過する光が変調され、表示領域Dにて画像が表示される。
In the
そして、この画像表示の際には、上記の動作の他に、ダミー走査配線401a,401bを介して、ゲートドライバ301が走査信号をダミー画素スイッチング素子152に供給すると共に、CSドライバ303がダミー信号配線402a,402bを介して所定の電位をダミー画素スイッチング素子152に供給し、対向電極23aに印加される電位と同じ電位をダミー画素電極151に印加する。これにより、対向電極23aとダミー画素電極151との間において液晶層31aに印加される電位差を無くし、液晶層31aに直流電圧が印加されることを防止している。
In this image display, in addition to the above operation, the
以上のように、上記の液晶パネル10aにおいては、ダミー画素を形成することによって、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいての寄生容量が互いに同じになるように調整し、表示領域の周囲において液晶層に印加される電位を安定化して画像品質を向上させている。
As described above, in the
また、上記の液晶パネル10aにおいては、対向電極23aとダミー画素電極151との間において液晶層31aに印加される電位差を無くすことによって、液晶層31aに直流電圧が印加されることを防止している。そして、表示領域Dと非表示領域Nとの境界で液晶層31aの配向方向を安定に制御して、焼き付きやシミなどの不具合を防止し、画像品質を向上させている。
Further, in the
しかしながら、上記のように、表示領域Dの周囲の非表示領域Nに、アレイ基板11にダミー画素を形成しているために、配線や回路のレイアウトが制限され、非表示領域Nの面積を小さくできず、装置を小型化することが困難になっていた。
However, since the dummy pixels are formed on the
したがって、本発明は、焼き付き、シミなどの発生を防止して画像品質の向上を実現すると共に、非表示領域の面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易な液晶表示装置を提供することにある。 Therefore, the present invention realizes an improvement in image quality by preventing the occurrence of burn-in, stains, etc., and the liquid crystal display device that can reduce the area of the non-display area and can be easily downsized. It is to provide.
上記目的の達成のため、本発明の液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板に間隔を隔てて配置されている第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持されている液晶層とを有し、前記液晶層を透過した光を用いて画像を表示する表示領域と、光を遮光し画像を表示しない非表示領域とが形成されている液晶表示装置であって、前記第1基板は、前記表示領域に対応するように、マトリクス状に形成された複数の画素電極と、前記複数の画素電極が形成された前記表示領域の周囲に沿うように、前記非表示領域に形成された導電体層とを含み、前記第2基板は、前記液晶層を介して前記複数の画素電極と前記導電体層とに対向するように形成された対向電極を含み、前記表示領域にて画像を表示する際には、前記対向電極と前記画素電極との間の前記液晶層に印加する電圧を制御すると共に、前記対向電極と前記導電体層との間の前記液晶層に印加する電圧が無くなるように、前記対向電極に印加する電位と同じ電位を前記導電体層に印加する。 In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate, a second substrate that is spaced apart from the first substrate, and a space between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal layer sandwiched between the liquid crystal layer, and a display region for displaying an image using light transmitted through the liquid crystal layer, and a non-display region for blocking light and displaying no image The first substrate may be provided along a plurality of pixel electrodes formed in a matrix so as to correspond to the display area and a periphery of the display area in which the plurality of pixel electrodes are formed. A conductive layer formed in the non-display region, and the second substrate includes a counter electrode formed to face the plurality of pixel electrodes and the conductive layer through the liquid crystal layer. When displaying an image in the display area, the counter electrode and the The voltage applied to the liquid crystal layer between the element electrode and the electric potential applied to the counter electrode so that the voltage applied to the liquid crystal layer between the counter electrode and the conductor layer is eliminated. The same potential is applied to the conductor layer.
本発明によれば、焼き付き、シミなどの発生を防止して画像品質の向上を実現すると共に、非表示領域の面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易な液晶表示装置を提供することができる。 According to the present invention, an image quality can be improved by preventing the occurrence of burn-in, spots, etc., and the area of the non-display area can be reduced, and the liquid crystal display device can be easily downsized. Can be provided.
以下より、本発明にかかる実施形態の一例について説明する。 Hereinafter, an example of an embodiment according to the present invention will be described.
図1,図2,図3は、本実施形態の液晶表示装置601において、液晶パネル10を示す図である。ここで、図1は、液晶パネル10の構成を示す断面図である。そして、図2は、液晶パネル10の構成を示す平面図である。そして、図3は、液晶パネル10の回路図である。
1, FIG. 2 and FIG. 3 are diagrams showing the
本実施形態の液晶表示装置601は、アクティブマトリクス方式であり、液晶表示装置601における液晶パネル10は、図1に示すように、アレイ基板11と対向基板21と液晶層31とを有する。
The liquid
液晶パネル10においては、アレイ基板11と対向基板21とが間隔を隔てるように対面し、周囲がシール材51により貼り合わされている。そして、アレイ基板11と対向基板21との間隔に挟まれるように液晶層31が配置されている。そして、液晶パネル10においては、液晶層31を透過した光を画像として表示する表示領域Dと、光を遮光し画像を表示しない非表示領域Nとが形成されている。液晶パネル10は、たとえば、透過型と反射型とを併用する併用型であり、たとえば、太陽光などの外部からの光やバックライト(図示無し)などの照明部からの光が液晶層31を介してアレイ基板11の側から対向基板21の側に透過し、その液晶層31を透過した光によって表示領域Dで画像が表示される。
In the
液晶パネル10の各部について、説明する。
Each part of the
アレイ基板11は、たとえば、光を透過する絶縁体の基板であり、石英により形成されている。アレイ基板11は、図1,図2,図3に示すように、画素電極111と、画素スイッチング素子112と、保持容量素子113と、走査配線211と、信号配線212と、保持容量配線213とが、表示領域Dに対応するように形成されている。そして、非表示領域Nに対応するように、ダミー走査配線411と保持容量接続配線414とダミー配線電極501とが形成されている。各部の詳細については、後述する。
The
対向基板21は、アレイ基板11と同様に、たとえば、光を透過する絶縁体の基板であり、石英により形成されている。そして、対向基板21には、図1と図2とに示すように、液晶層31を介して、複数の画素電極111とダミー配線電極501とに対向するように対向電極23が形成されている。対向電極23は、たとえば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いて、複数の画素電極111とダミー配線電極501とに対向する対向基板21の全面に一体的に形成されている。対向電極23は、共通電位印加部(図示無し)が接続されており、共通電位印加部から共通電位Vcomが印加される。
Similar to the
液晶層31は、アレイ基板11の画素電極111と、対向基板21の対向電極23との間に挟まれるように配置されている。液晶層31は、たとえば、ツイストネマティック型であり、アレイ基板11と対向基板21とのそれぞれに形成された配向膜(図示なし)によって、配向されている。液晶層31は、画素電極111と対向電極23とにより印加される電圧に基づいて配向状態が変化して光学特性が変わり、光を制御して画像表示を実施する。
The
アレイ基板11に形成されている各部について、順次、説明する。
Each part formed in the
画素電極111は、表示領域Dに対応するように、複数がマトリクス状にアレイ基板11に形成されている。具体的には、画素電極111は、行方向xと、その行方向xに直交する列方向yとに、複数が並ぶように間隔を隔てて形成されている。画素電極111は、たとえば、ITOを用いて形成されており、光を透過する。そして、画素電極111は、図2に示すように、互いが交差するように形成された走査配線211と信号配線212とによって区切られる領域に対応するように、行方向xにm個、列方向yにn個ずつ、形成されている。複数の画素電極111は、図3に示すように、それぞれに対応するように画素スイッチング素子112が形成されており、画素スイッチング素子112である薄膜トランジスタ(TFT)のドレイン電極に接続している。画素電極111は、走査信号が供給されオン状態となった画素スイッチング素子112を介して、信号配線212によって供給されるデータ信号による電位を液晶層31に印加する。
A plurality of
画素スイッチング素子112は、図3に示すように、複数の画素電極111のそれぞれに対応するように、複数がマトリクス状にアレイ基板11の表示領域Dに形成されており、画素電極111をスイッチング制御する。画素スイッチング素子112は、たとえば、チャネル領域が多結晶のシリコン半導体により形成されたボトムゲート型のTFTであり、行方向xにm個、列方向yにn個ずつ形成されている。そして、画素スイッチング素子112は、ゲート電極が走査配線211に接続されており、走査配線211を介してゲートドライバ311からゲート電極に入力される走査信号によって、駆動動作が制御される。また、画素スイッチング素子112は、ソース電極が信号配線212に接続されており、信号配線212を介してソースドライバ312から画素スイッチング素子112にデータ信号が供給される。また、さらに、画素スイッチング素子112は、ドレイン電極が画素電極111に接続されており、ゲートがオン状態の場合には、ソース電極から受けたデータ信号を画素電極111に印加する。
As shown in FIG. 3, a plurality of pixel switching elements 112 are formed in the display area D of the
保持容量素子113は、図3に示すように、複数の画素電極111のそれぞれに対応するように、複数がマトリクス状に表示領域Dに形成されており、画素電極111へ印加する電位を保持する。具体的には、保持容量素子113は、行方向xにm個、列方向yにn個ずつ、複数が形成されている。保持容量素子113は、誘電体膜(図示なし)を第1電極(図示なし)と第2電極(図示なし)とで挟むように構成されている。そして、保持容量素子113は、一方の電極が画素スイッチング素子112のドレイン電極に接続され、他方の電極が保持容量配線213に接続されている。保持容量素子113は、液晶層31による静電容量と並列になるように形成され、液晶層31に印加されるデータ信号による電荷を保持する。
As shown in FIG. 3, the storage capacitor element 113 is formed in a matrix in the display region D so as to correspond to each of the plurality of
走査配線211は、図3に示すように、複数の画素スイッチング素子112において行方向xに並ぶ複数の画素スイッチング素子112に沿うように行方向xに延在しており、複数が表示領域Dに形成されている。そして、複数の走査配線211のそれぞれは、行方向xに並ぶ画素スイッチング素子112のそれぞれに接続しており、その行方向xに並ぶ画素スイッチング素子112に走査信号を供給する。また、複数の走査配線211のそれぞれは、図2に示すように、表示領域Dの列方向yの一端部から他端部まで、それぞれが間隔を隔てて並ぶように形成されている。ここでは、図3に示すように、複数の走査配線211は、互いが等しい間隔になるように列方向yに並んで形成されている。具体的には、列方向yにn個並ぶ画素電極111に対応するように、n本の走査配線211が形成されており、第1走査配線211a、第2走査配線211b、・・・第n−1走査配線211n−1,第n走査配線を含む。複数の走査配線211のそれぞれは、ゲートドライバ311に接続されており、ゲートドライバ311からの走査信号を、画素電極111の行を順次選択するように画素スイッチング素子112に供給する。つまり、列方向yにおいて一端部から他端部に並ぶ画素電極111を、その一端部から他端部へ順次選択して、行方向xに並ぶ画素スイッチング素子112に、順次、走査信号を供給する。たとえば、1行目の第1走査配線211aは、第1走査配線211a自身が接続している第1行目の画素スイッチング素子112のそれぞれに、走査信号を供給して、画素スイッチング素子112に画素をスイッチング制御させる。そして、ここでは、第1走査配線211a、第2走査配線211b、・・・第n−1走査配線211n−1,第n走査配線の順のように、表示領域Dの列方向yにおける一端から他端へ、順次、走査信号を供給する。
As shown in FIG. 3, the
信号配線212は、図3に示すように、複数の画素スイッチング素子112において列方向yに並ぶ複数の画素スイッチング素子112に沿うように延在しており、複数が表示領域Dに形成されている。そして、信号配線212は、列方向yに並ぶ複数の画素スイッチング素子112のそれぞれに接続し、列方向yに並ぶ複数の画素スイッチング素子112を介して画素電極111にデータ信号を供給する。そして、信号配線212は、行方向xにm個並ぶ画素スイッチング素子112に対応するように、m本が行方向xに間隔を隔てて並んで形成されている。具体的には、信号配線212は、図3に示すように、第1信号配線212a、第2信号配線212b、・・・第m−1信号配線212m−1,第m信号配線212mを含む。そして、各信号配線212は、走査信号が供給された画素スイッチング素子112を介してデータ信号を画素電極111に供給する。
As shown in FIG. 3, the
保持容量配線213は、図3に示すように、複数の画素電極111において行方向xに並ぶ複数の画素電極111に沿うように延在しており、複数が表示領域Dに形成されている。そして、複数の保持容量配線213のそれぞれは、行方向xに並ぶ画素電極111のそれぞれに接続している。また、保持容量配線213は、列方向yにn個並ぶ保持容量素子113に対応するようにn本有し、それぞれが列方向yに間隔を隔てて並んで形成されている。具体的には、図3に示すように、保持容量配線213は、第1保持容量配線213a、第2保持容量配線213b、・・・第n−1保持容量配線213n−1,第n保持容量配線213nを含む。そして、それぞれの保持容量配線213は、保持容量接続配線414を介してCSドライバ313に接続されており、CSドライバ313からの信号に基づいて、保持容量素子113に電荷を保持させ、その行方向xに並ぶ画素電極111と対向電極23との間の電位差を保持させる。
As shown in FIG. 3, the
ダミー走査配線411は、図2に示すように、複数の走査配線211において表示領域Dの列方向yの他端部に位置する第n走査配線211nに沿って行方向xに延在するように、非表示領域Nに形成されている。そして、ダミー走査配線411は、複数の走査配線411のそれぞれに順次供給される走査信号が、第n走査配線211nの次に供給される。
As shown in FIG. 2, the
そして、ダミー走査配線411は、複数の画素スイッチング素子112および複数の画素電極111において第n走査配線211nに接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第1寄生容量C1が、第n走査配線211n以外の走査配線211に接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第2寄生容量C2と同じになるように、非表示領域Nに配置されている。複数の画素スイッチング素子112および複数の画素電極111において、第n走査配線211nに接続している画素スイッチング素子112と画素電極111とのそれぞれと、第n走査配線211nと当該ダミー走査配線411とのそれぞれとの間では、第1寄生容量C1が発生する。一方、第n走査配線211n以外のたとえば、第n−1走査配線211n−1に接続している画素スイッチング素子112と画素電極111とのそれぞれと、当該画素スイッチング素子および当該画素電極を第n−1走査配線211n−1との間で挟むように形成されている第n−2走査配線211n−2と第n−1走査配線211n−1とのそれぞれとの間では、第2寄生容量C2が発生する。このため、ダミー走査配線411は、第1寄生容量C2と第2寄生容量C2とを略同じになるように、複数の走査配線211が互いに等しい間隔になるように列方向yに並んで形成されているのと同様に、その複数の走査配線211の間と同じ間隔を第n走査配線211nから隔てるように、非表示領域Dに形成されている。
The
保持容量接続配線414は、図2に示すように、表示領域Dの周囲を沿うように非表示領域Nに帯状に一体で形成されている。そして、保持容量接続配線414は、複数の保持容量配線213に接続すると共に、その保持容量配線213を介して保持容量素子113に接続している。
As shown in FIG. 2, the storage
図4は、保持容量接続配線414が形成されている部分を拡大して示す断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a portion where the storage
図4に示すように、保持容量接続配線414は、層間絶縁層13を介してダミー配線電極501と対向するように非表示領域Dに形成されている。ここでは、保持容量接続配線414は、ダミー配線電極501とアレイ基板11との間で挟まれるように形成されている。
As shown in FIG. 4, the storage
ダミー配線電極501は、保持容量接続配線414と同様に、複数の画素電極111が形成された表示領域Dの周囲に沿うように、非表示領域Nに形成されている。ダミー配線電極501は、表示領域Dの周囲を帯状に囲うように一体で形成されている。ここでは、ダミー配線電極501は、画素電極111と同じ導電材料であるITOを用いて形成されている。そしてダミー配線電極501は、表示領域Dの周囲に沿って形成されている画素電極111の幅以下の幅になるように、表示領域Dの周囲に沿って形成されている。たとえば、ダミー配線電極501は、40μm幅で形成されている。
The
具体的には、ダミー配線電極501は、図2に示すように、第1信号配線212aと第n信号配線212nとのそれぞれに近接して平行に並んで列方向yに延在するように、帯状に非表示領域Nに形成されている。ここでは、第1信号配線212aと第n信号配線212nとのそれぞれが列方向yに延在する幅と同じ幅で、ダミー配線電極501が列方向yに延在して形成されている。また、これと共に、第1走査配211aと第n走査配線211nとのそれぞれに近接し平行に並んで行方向xに延在するように、帯状に非表示領域Nに形成されている。ここでは、第1走査配線211aと第n走査配線211nとのそれぞれが行方向xに延在する幅と同じ幅で、ダミー配線電極501が行方向xに延在して形成されている。つまり、ダミー配線電極501は、画素電極111のサイズに対応する幅で矩形形状の表示領域Dの境界を帯状に囲って矩形を作るように設けられている。なお、表示領域Dにて画像が表示される際には、ゲートドライバ311からの走査信号とソースドライバ312a,312bからのデータ信号と共通電位印加部により印加される共通電位Vcomとによって、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に印加する電圧が制御されるが、ダミー配線電極501には、対向電極23との間の液晶層23に印加する電圧が無くなるように、対向電極23に印加される共通電位Vcomと同じ電位が印加される。本実施形態においては、ダミー配線電極501は、対向電極23と同様に、共通電位印加部に接続されており、共通電位印加部によって共通電位Vcomが印加される。
Specifically, as shown in FIG. 2, the
そして、その他に、本実施形態の液晶表示装置601は、液晶パネル10の両面に偏光板(図示なし)が設けられている。そして、さらに、アレイ基板11の液晶層31が配置された側と反対側に、バックライト(図示なし)が偏光板を介して設けられている。
In addition, in the liquid
なお、上記の本実施形態において、アレイ基板11は、本発明の第1基板に相当する。また、本実施形態の対向基板21は、本発明の第2基板に相当する。また、本実施形態の対向電極23は、本発明の対向電極に相当する。また、本実施形態の液晶層31は、本発明の液晶層に相当する。また、本実施形態の画素電極111は、本発明の画素電極に相当する。また、本実施形態の画素スイッチング素子112は、本発明の画素スイッチング素子に相当する。また、本実施形態の保持容量素子113は、本発明の保持容量素子に相当する。また、本実施形態の走査配線211は、本発明の走査配線に相当する。また、本実施形態の信号配線212は、本発明の信号配線に相当する。また、本実施形態の第n走査配線211nは、本発明の第1走査配線に相当する。また、本実施形態のダミー走査配線411は、本発明のダミー走査配線に相当する。また、本実施形態の保持容量接続配線414は、本発明の保持容量接続配線に相当する。また、本実施形態のダミー配線電極501は、本発明の導電体層に相当する。また、本実施形態の液晶表示装置601は、本発明の液晶表示装置に相当する。また、本実施形態の表示領域Dは、本発明の表示領域に相当する。また、本実施形態の非表示領域Nは、本発明の非表示領域に相当する。また、本実施形態の第1寄生容量C1は、本発明の第1寄生容量に相当する。また、本実施形態の第2寄生容量C2は、本発明の第2寄生容量に相当する。
In the present embodiment, the
上記の液晶表示装置601を駆動する際の動作について説明する。
An operation when driving the liquid
上記の液晶表示装置601を駆動する際においては、走査配線211を介してゲートドライバ311が走査信号を画素スイッチング素子112に供給すると共に、信号配線212を介してソースドライバ312a,312bがデータ信号を画素スイッチング素子112に供給する。そして、この時、共通電位印加部が対向電極23に共通電位Vcomを加え、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に電位差を発生させる。これにより、液晶層31の光学特性が変化し、画像の表示が実施される。
When driving the liquid
具体的には、ゲートドライバ311が列方向yに並ぶ複数の走査配線211に、走査信号を時間分割して順次走査して供給し、画素スイッチング素子112をオン状態にする。ここでは、列方向yにおいて一端部から他端部に並ぶ画素電極111を、その一端部から他端部へ順次選択するように、列方向に並ぶ走査配線211に、順次、走査信号を供給する。たとえば、第1走査配線211a、第2走査配線211b、・・・第n−1走査配線211n−1,第n走査配線の順のように、表示領域Dの列方向yにおける一端から他端へ、順次、走査信号を供給する。また、さらに、ここでは、第n走査配線の後に、ダミー走査配線411に、走査信号を供給する。
Specifically, the
そして、この走査信号の供給のタイミングに合わせて、ソースドライバ312がデータ信号を信号配線202に供給し、オン状態の画素スイッチング素子112を介して画素電極111にデータ信号を印加する。これにより、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に電位差が発生する。つまり、液晶層31に電圧が印加されたことになる。そして、これにより、液晶層31の配向方向が変化して、光透過率などの光学特性が変わり、画像の表示が実施される。
In synchronization with the supply timing of the scanning signal, the source driver 312 supplies the data signal to the
このように、表示領域Dにて画像が表示される際には、ゲートドライバ311からの走査信号とソースドライバ312a,312bからのデータ信号と共通電位印加部により印加される共通電位Vcomとによって、対向電極23と画素電極111との間の液晶層23に印加する電圧が制御される。
As described above, when an image is displayed in the display area D, the scanning signal from the
この一方で、表示領域Dで画像を表示する際には、対向電極23に印加される共通電位Vcomと同じ電位をダミー配線電極501に印加し、ダミー配線電極501と対向電極23との間の液晶層23に印加される電位差を無くす。ここでは、共通電位印加部が対向電極23と同様な電位の共通電位を、ダミー配線電極501に印加する。
On the other hand, when displaying an image in the display area D, the same potential as the common potential Vcom applied to the
以上のように、本実施形態においては、複数の画素電極111が形成された表示領域Dの周囲に沿うように、ダミー配線電極501が非表示領域Nに形成されている。そして、表示領域Dにて画像を表示する際には、対向電極23と画素電極111との間の液晶層31に印加する電圧を制御すると共に、対向電極23に印加する電位と同じ電位をダミー配線電極501に印加し、対向電極23とダミー配線電極501との間において液晶層31に印加される電位差を無くしている。このようにして、本実施形態は、液晶層31に直流電圧が印加されることを防止し、表示領域Dと非表示領域Nとの境界で液晶層31の配向方向が安定化している。このため、画像表示時に、焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。また、前述したようなダミー画素を駆動させるためのダミースイッチング素子などを形成せずに、ダミー配線電極501で液晶層31への直流電圧の印加を防止しているために、配線や駆動回路などのレイアウトの自由度が高まるため、非表示領域が占有する面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易にできる。また、構成が単純化されるために、容易に製造することができ、製造効率を向上することができる。
As described above, in the present embodiment, the
また、本実施形態においては、ダミー配線電極501は、画素電極111と同じ導電材料によって形成されている。このため、ダミー配線電極501と画素電極111とを同じ工程で形成可能になるため、製造効率を向上することができる。
In this embodiment, the
また、本実施形態においては、ダミー配線電極501は、表示領域Dの周囲に沿って形成されている画素電極111の幅以下の幅になるように、表示領域Dの周囲に沿って形成されている。このため、表示領域Dの最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が同じになるように調整でき、画像表示時に焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。
Further, in the present embodiment, the
また、本実施形態においては、保持容量接続配線414は、層間絶縁膜13を介して、ダミー配線電極501と対向するように非表示領域Dに形成されている。このため、本実施形態は、非表示領域が占有する面積を小さくすることができ、装置を小型化することが容易にできる。また、保持容量接続配線414とダミー配線電極501との間の寄生容量によって、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が同じになるように調整でき、画像表示時に焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。
In the present embodiment, the storage
また、本実施形態においては、複数の走査配線211において表示領域Dの列方向yの他端部に位置する第n走査配線211nに沿って、行方向xに延在するようにダミー走査配線411が非表示領域Nに形成されている。そして、表示領域Dの列方向yにおける一端部から他端部に並ぶ画素電極111を、一端部から他端部へ順次選択するように、順次、走査信号を複数の走査配線211に供給すると共に、複数の走査配線に順次供給される前記走査信号が、第n走査配線211nの次にダミー走査配線411へ供給する。ここでは、ダミー走査配線411は、第n走査配線211nに接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第1寄生容量C1が、第n走査配線211n以外の、たとえば、第n−1走査配線211n−1に接続している画素スイッチング素子112および画素電極111にて発生する第2寄生容量C2と同じになるように、非表示領域Dに形成されている。このため、ダミー走査配線411によって、表示領域の最端部にある画素と、その他の中央部などにある画素とにおいて発生する寄生容量が同じになるように調整できるため、画像表示時に焼き付きやシミなどの不具合が発生することを防止し、画像品質を向上することができる。
Further, in the present embodiment, the
なお、本発明の実施に際しては、上記した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形形態を採用することができる。 In implementing the present invention, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be employed.
10:液晶パネル
11:アレイ基板(第1基板)
21:対向基板(第2基板)
23:対向電極(対向電極)
31:液晶層(液晶層)
111:画素電極(画素電極)、
112:画素スイッチング素子(画素スイッチング素子)、
113:保持容量素子(保持容量素子)、
211:走査配線(走査配線)、
212:信号配線(信号配線)、
213:保持容量配線
411:ダミー走査配線(ダミー走査配線)
414:保持容量接続配線(保持容量接続配線)、
501:ダミー配線電極(導電体層)
601:液晶表示装置(液晶表示装置)
D:表示領域(表示領域)
N:非表示領域(非表示領域)
C1:第1寄生容量(第1寄生容量))
C2:第2寄生容量第2寄生容量)
10: Liquid crystal panel 11: Array substrate (first substrate)
21: Counter substrate (second substrate)
23: Counter electrode (counter electrode)
31: Liquid crystal layer (liquid crystal layer)
111: Pixel electrode (pixel electrode),
112: Pixel switching element (pixel switching element),
113: Retention capacitive element (retention capacitive element),
211: Scanning wiring (scanning wiring)
212: signal wiring (signal wiring),
213: Retention capacitance wiring 411: Dummy scanning wiring (dummy scanning wiring)
414: Retention capacitance connection wiring (retention capacitance connection wiring),
501: Dummy wiring electrode (conductor layer)
601: Liquid crystal display device (liquid crystal display device)
D: Display area (display area)
N: non-display area (non-display area)
C1: first parasitic capacitance (first parasitic capacitance))
C2: second parasitic capacitance second parasitic capacitance)
Claims (5)
前記第1基板は、
前記表示領域に対応するように、マトリクス状に形成された複数の画素電極と、
前記複数の画素電極が形成された前記表示領域の周囲に沿うように、前記非表示領域に形成された導電体層と、
前記複数の画素電極のそれぞれに接続するように、複数がマトリクス状に前記表示領域に形成されており、前記画素電極へ印加する電位を保持する保持容量素子と、
前記複数の保持容量素子に接続する保持容量接続配線と
を含み、
前記第2基板は、
前記液晶層を介して前記複数の画素電極と前記導電体層とに対向するように形成された対向電極
を含み、
前記保持容量接続配線は、絶縁層を介して前記導電体層と対向するように前記非表示領域に形成されており、
前記表示領域にて画像を表示する際には、前記対向電極と前記画素電極との間の前記液晶層に印加する電圧を制御すると共に、前記対向電極に印加する電位と同じ電位を前記導電体層に印加する
液晶表示装置。 A first substrate; a second substrate disposed at a distance from the first substrate; and a liquid crystal layer sandwiched between the first substrate and the second substrate, wherein the liquid crystal layer A liquid crystal display device in which a display region that displays an image using light transmitted through the light source and a non-display region that blocks light and does not display an image are formed,
The first substrate is
A plurality of pixel electrodes formed in a matrix so as to correspond to the display region;
A conductor layer formed in the non-display area so as to extend around the display area in which the plurality of pixel electrodes are formed;
A plurality of storage capacitor elements that are formed in the display region in a matrix so as to be connected to each of the plurality of pixel electrodes, and that hold a potential applied to the pixel electrodes;
A storage capacitor connection wiring connected to the plurality of storage capacitor elements ,
The second substrate is
A counter electrode formed to face the plurality of pixel electrodes and the conductor layer via the liquid crystal layer,
The storage capacitor connection wiring is formed in the non-display region so as to face the conductor layer through an insulating layer,
When displaying an image in the display region, the voltage applied to the liquid crystal layer between the counter electrode and the pixel electrode is controlled, and the same potential as the potential applied to the counter electrode is controlled by the conductor. Liquid crystal display device applied to the layer.
請求項1に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the conductor layer is formed of the same conductive material as that of the pixel electrode.
請求項2に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal according to claim 2 , wherein the conductor layer is formed along the periphery of the display region so as to have a width equal to or smaller than the width of the pixel electrode formed along the periphery of the display region. Display device.
前記複数の画素電極のそれぞれに対応するように複数がマトリクス状に前記表示領域に形成され、前記画素電極をスイッチング制御する画素スイッチング素子と、
前記複数の画素スイッチング素子において行方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子に沿って延在するように前記表示領域に形成されており、前記行方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子のそれぞれに接続し、前記行方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子に走査信号を供給する複数の走査配線と、
前記複数の画素スイッチング素子において列方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子に沿って延在するように前記表示領域に形成されており、前記列方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子のそれぞれに接続し、前記列方向に並ぶ複数の画素スイッチング素子を介して前記画素電極にデータ信号を供給する複数の信号配線と、
を有し、
前記複数の走査配線は、前記列方向の一端部から他端部まで間隔を隔てて並ぶように形成されており、前記一端部から前記他端部に並ぶ前記画素電極を前記一端部から前記他端部へ順次選択するように前記走査信号を供給し、
前記複数の信号配線は、前記行方向に間隔を隔てて並ぶように形成されており、
さらに、当該第1基板の前記非表示領域には、
前記複数の走査配線において前記表示領域の前記列方向の他端部に位置する第1走査配線に沿って前記行方向に延在するようにダミー走査配線が形成されており、
前記ダミー走査配線は、前記複数の走査配線に順次供給される前記走査信号が前記第1走査配線の次に供給される
請求項3に記載の液晶表示装置。 The first substrate is
A plurality of pixel switching elements that are formed in the display region in a matrix so as to correspond to each of the plurality of pixel electrodes, and that perform switching control of the pixel electrodes;
The plurality of pixel switching elements are formed in the display region so as to extend along a plurality of pixel switching elements arranged in a row direction, and connected to each of the plurality of pixel switching elements arranged in the row direction, A plurality of scanning lines for supplying a scanning signal to a plurality of pixel switching elements arranged in a row direction;
The plurality of pixel switching elements are formed in the display region so as to extend along the plurality of pixel switching elements arranged in the column direction, and connected to each of the plurality of pixel switching elements arranged in the column direction, A plurality of signal lines for supplying data signals to the pixel electrodes via a plurality of pixel switching elements arranged in a column direction;
Have
The plurality of scanning lines are formed so as to be arranged at an interval from one end to the other end in the column direction, and the pixel electrodes arranged from the one end to the other end are arranged from the one end to the other. Supplying the scanning signal to sequentially select the end,
The plurality of signal wirings are formed so as to be arranged at intervals in the row direction,
Furthermore, in the non-display area of the first substrate,
A dummy scanning line is formed so as to extend in the row direction along a first scanning line located at the other end in the column direction of the display region in the plurality of scanning lines,
The liquid crystal display device according to claim 3 , wherein the scanning signal sequentially supplied to the plurality of scanning wirings is supplied to the dummy scanning wiring next to the first scanning wiring.
請求項4に記載の液晶表示装置。 The dummy scanning line has a first parasitic capacitance generated in the first pixel switching element and the first pixel electrode connected to the first scanning line in the plurality of pixel switching elements and the plurality of pixel electrodes, The same as the second parasitic capacitance generated in the second pixel switching element and the second pixel electrode connected to the second scanning wiring other than the first scanning wiring in the plurality of pixel switching elements and the plurality of pixel electrodes. The liquid crystal display device according to claim 4 , wherein the liquid crystal display device is formed in the non-display area.
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