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JP4689602B2 - ウェハエキスパンド装置、部品供給装置、及びウェハシートのエキスパンド方法 - Google Patents

ウェハエキスパンド装置、部品供給装置、及びウェハシートのエキスパンド方法 Download PDF

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Description

本発明は、ウェハに対してダイシングが施されて形成された複数のウェハ供給部品が貼着されたウェハシートを保持するウェハ供給用プレートに対して、上記ウェハシートを略放射状に延伸させることでエキスパンドを行い、上記それぞれのウェハ供給部品を上記ウェハシートより供給可能とするウェハエキスパンド装置、部品供給装置、及びウェハシートのエキスパンド方法に関する。
従来、この種のウェハエキスパンド装置は、種々構造のものが知られている(例えば、特許文献1)。このような従来のウェハエキスパンド装置によるウェハのエキスパンド動作について、図28A及び図28Bに示す模式図を用いて説明する。
図28Aに示すように、ウェハ供給用プレート506は、ウェハにダイシングが施されることで形成された複数のウェハ供給部品502がその上面に貼着されたウェハシート508を保持しており、当該保持された状態においては、ウェハシート508は弛むことなく、所定の張力が付加されて略水平な状態に保たれている。なお、このようなウェハ供給部品502としては、例えば、IC部品がある。
また、図28Aに示すように、このような状態のウェハ供給用プレート506をウェハエキスパンド装置を備える部品供給装置501に供給して、プレート保持部561によりウェハ供給用プレート506をその周部にて保持する。
その後、図28Bに示すように、部品供給装置501において、プレート保持部561を下降させることで、ウェハ供給用プレート506を下降させ、その下方に配置されている略環状の部材であるエキスパンドリング563における当該環状の上端部にウェハシート508の下面に当接させ、当該当接後さらにウェハ供給用プレート506を下降させることで、ウェハシート508を略放射状に延伸させる。これにより、ウェハシート508上に貼着されているウェハのエキスパンドが行われる。
このようにエキスパンドが行われた状態にてプレート保持部561の下降が停止されて、図28Bに示すように、部品突上げ装置520によりウェハシート508の下面から突き上げることで、上記エキスパンドされた状態の一のウェハ供給部品502をウェハシート508より剥離して、吸着ヘッド等により供給可能な状態とすることができる。
ウェハ供給用プレート506からのそれぞれのウェハ供給部品502の供給が行われた後、プレート保持部561が上昇されて上記エキスパンドが解除される。しかしながら、このようなエキスパンドが施されることで、ある程度の弾性変形が可能なウェハシート508であっても、完全に元の状態に戻る訳ではなく、弛みが生じることとなる。このような弛みが残存する状態では、ウェハ供給用プレート506の搬送の際に、ウェハシート508上に残っているウェハ供給部品502に揺れや振動が伝達され、部品損傷を引き起こす可能性がある。また、ウェハシート508上のウェハ供給部品502がなくなってから、ウェハ供給用プレート506をマガジンカセット等に収納するような場合もあり、このような場合にウェハシート508に弛みが存在していれば、搬送部等にウェハシート508が引っ掛かることもあり、このような場合にあっては、円滑な部品供給が阻害されるという問題がある。
このような問題を改善すべく、従来の部品供給装置501においては、エキスパンド後に生じるウェハシート508の弛みを、加熱ブローを用いてウェハシート508を収縮させることで除去している。このような加熱ブローを行うために、部品供給装置501においては、圧縮エアーをヒータにて加熱してブローすることで上記加熱ブローを行う加熱ブロー装置530が備えられている。なお、このような加熱ブロー装置530は、エキスパンドリング563の内側よりウェハシート508の下面に対して上記加熱された圧縮エアーを吹き付けることが可能に配置されている。
特開昭62−124911号公報
このような従来の部品供給装置501においては、プレート保持部561は、エキスパンドを行うその昇降の下限高さ位置と、当該エキスパンドの解除が行われるその昇降の上限高さ位置との間で、昇降されることとなる。従って、図29に示すように、プレート保持部561が上記昇降の上限高さ位置に位置された状態において、保持されたウェハ供給用プレート506に対して、加熱ブロー装置530によるウェハシート508に生じた弛みの除去が行われることとなる。
しかしながら、上記昇降の上限高さ位置は、プレート保持部561へのウェハ供給用プレート506の供給及び排出が行われる高さ位置でもあるため、供給又は排出されるウェハ供給用プレート506とエキスパンドリング563等の部品供給装置501の構成部品との干渉を確実に防止可能な高さ位置に設定されている。そのため、図29に示すように、上記昇降の上限高さ位置に位置されたウェハ供給用プレート506のウェハシート508の下面と、エキスパンドリング563の上端部との間には、上記干渉を確実に防止すべく、大きな隙間が確保されている。このような大きな隙間が存在することにより、加熱ブロー装置530によりウェハシート508に対して加熱ブローが施されても、当該隙間より加熱空気がエキスパンドリング563の外部に漏出することとなり、ウェハシート508に対する十分な加熱を行うことができない場合が生じる。このような場合にあっては、ウェハシート508に対する加熱むらが生じることとなり、このような加熱むらはウェハシート508の収縮むらを引き起こすこととなり、図30に示すように、ウェハシート508に生じた弛みを完全に除去することができない場合が生じるという問題がある。
特に、ウェハシート508は、その中心付近よりもその周辺部の方がよく伸びる傾向にあり、上記隙間から加熱空気が漏出するような場合にあっては、周辺部の温度が中心付近よりも低下することとなり、上記収縮むらの発生がより顕著となる。
また、近年のウェハの大径化に伴って、ウェハシート508におけるそれぞれのウェハ供給部品502が貼着された面積がより拡大されているため、加熱ブロー装置530による加熱空気によるウェハシート508に伝熱された熱量が、それぞれのウェハ供給部品502より放熱されやすくなる傾向にあり、上記隙間から加熱空気が漏出されるような状況では、効率的な加熱を行うことができず、上記弛みの除去に要する時間が長くなるという問題もある。
従って、本発明の目的は、上記問題を解決することにあって、ウェハに対してダイシングが施されて形成された複数のウェハ供給部品が貼着されたウェハシートを保持するウェハ供給用プレートに対してエキスパンドを行うことにより生じる上記ウェハシートへの弛みの残存を、確実かつ効率的に除去することができるウェハエキスパンド装置、このようなウェハエキスパンド装置を備える部品供給装置、並びに、ウェハシートのエキスパンド方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
本発明の第1態様によれば、ウェハに対してダイシングが施されて形成された複数のウェハ供給部品が貼着されたウェハシートを保持するウェハ供給用プレートに対して、上記ウェハシートのエキスパンドを行い、上記それぞれのウェハ供給部品を上記ウェハシートより供給可能とするウェハエキスパンド装置において、
環状の部材であって、当該環状の上端部が上記ウェハシートの下面を相対的に押圧することで、当該ウェハシートを略放射状に延伸させて上記エキスパンドを行うエキスパンドリングと、
上記エキスパンドリングの上方に配置される上記ウェハ供給用プレートを保持可能であって、当該保持されたウェハ供給用プレートを上記エキスパンドリングに対して相対的に下降させることで上記エキスパンドを行い、相対的に上昇させることで当該エキスパンドを解除するプレート昇降装置と、
上記エキスパンドが解除された上記ウェハシートの下面に対して上記エキスパンドリングの内側より加熱ブローすることにより、当該延伸により生じた当該ウェハシートの弛みの除去を行う加熱ブロー装置とを備え、
上記プレート昇降装置は、
上記エキスパンドリングとの干渉が防止されながら当該ウェハ供給用プレートの供給及び排出が行われる第1の高さ位置と、
当該ウェハ供給プレートに対する上記エキスパンドが行われる高さ位置である第2の高さ位置と、
上記プレート供給高さ位置と上記第2の高さ位置との間の高さ位置であって、上記延伸が解除されかつ当該ウェハシートに対して上記加熱ブロー装置による上記弛みの除去が行われる高さ位置であり、当該弛みの除去が完了する際に当該ウェハシートと上記エキスパンドリングの上端部との当接が回避される高さ位置である第3の高さ位置とのそれぞれの昇降高さ位置において、上記ウェハ供給用プレートの配置を保持可能であるウェハエキスパンド装置を提供する。
本発明の第2態様によれば、上記プレート昇降装置は、上記弛み除去高さ位置において、上記弛みの除去が完了する際に上記ウェハシートと上記エキスパンドリングの上記上端部との間に、両者の当接を回避可能であって、かつ、当該ウェハシートと当該エキスパンドリングとにより略囲まれた空間内に上記加熱ブロー装置より供給される加熱空気が、上記エキスパンドリングの外部に漏出することを抑制可能に設定された隙間が生じるように、上記ウェハ供給用プレートを配置する第1態様に記載のウェハエキスパンド装置を提供する。
本発明の第3態様によれば、上記エキスパンドリングの上記環状の上端部は、上記空間内の加熱ブロー雰囲気が上記隙間を通して漏出することを抑制可能に、当該環状の内側に向けて折り曲げられた形状を有する第2態様に記載のウェハエキスパンド装置を提供する。
本発明の第4態様によれば、上記隙間は、0.2mm〜1.5mmの範囲にて設定される第2態様に記載のウェハエキスパンド装置を提供する。
本発明の第5態様によれば、上記プレート昇降装置は、
上記第1の高さ位置に配置される上記ウェハ供給用プレートをその外周部近傍における下面部より支持可能、かつ、その支持高さ位置が可変する複数の弾性支持部材と、
上記それぞれの弾性支持部材に支持された上記ウェハ供給用プレートを、上記それぞれの弾性支持部材との間で挟むように、その外周部近傍における上面側より押圧して、当該ウェハ供給用プレートの保持を行うプレート押圧体と、
上記プレート押圧体により保持された上記ウェハ供給用プレートが上記第1の高さ位置と上記第2の高さ位置との間で昇降されるように、上記プレート押圧体の昇降を行う押圧体昇降部と、
上記押圧体昇降部による上記プレート押圧体の昇降位置を上記第1の高さ位置と上記第2の高さ位置との間で選択的に規制して、上記プレート押圧体により保持された上記ウェハ供給用プレートを上記第3の高さ位置に位置させる規制部とを備える第1態様に記載のウェハエキスパンド装置を提供する。
本発明の第6態様によれば、基板に実装される複数の部品を収納するとともに、当該収納されたそれぞれの部品を部品実装可能に供給する部品供給装置において、
上記部品のうちの複数の上記ウェハ供給部品が配置された上記ウェハを載置する複数のウェハ供給用プレートと、複数のトレイ供給部品が配置された部品供給トレイを載置する複数のトレイ供給用プレートとを取り出し可能に収納するプレート収納部と、
上記それぞれのプレートのうちのいずれかの上記プレートを選択的に配置させて保持し、上記ウェハより上記それぞれのウェハ供給部品を、又は、上記部品供給トレイより上記トレイ供給部品を供給可能な状態とさせるプレート配置装置と、
上記プレートを解除可能に保持して、上記プレート収納部から取り出すとともに、上記プレート配置装置に保持可能に移動させるプレート移動装置とを備え、
上記プレート配置装置は、上記それぞれのプレートを保持してその昇降を行う第5態様に記載の上記ウェハエキスパンド装置を備え、
上記プレート配置装置は、上記トレイ供給用プレートが配置された場合に、上記規制部により上記プレート押圧体の下降位置を規制して、当該プレート押圧体により保持された上記トレイ供給用プレートを、上記第3の高さ位置に位置させて、当該トレイ供給用プレートから上記それぞれのトレイ供給部品を供給可能とさせる部品供給装置を提供する。
本発明の第7態様によれば、上記プレート収納部は、既にエキスパンドが施された状態のウェハを載置するエキスパンド済みウェハ供給用プレートを収納可能であって、
上記プレート配置装置は、上記エキスパンド済みウェハ供給用プレートが配置された場合に、上記規制部により上記プレート押圧体の下降位置を規制して、当該プレート押圧体により保持された上記エキスパンド済みウェハ供給用プレートを、上記第3の高さ位置に位置させて、当該プレートから上記それぞれのウェハ供給部品を供給可能とさせる第6態様に記載の部品供給装置を提供する。
本発明の第8態様によれば、ウェハに対してダイシングが施されて形成された複数のウェハ供給部品が貼着されたウェハシートを保持するウェハ供給用プレートを、環状の部材であるエキスパンドリングの上方の位置である第1の高さ位置に配置し、
当該ウェハ供給用プレートを上記エキスパンドリングに対して相対的に下降させて第2の高さ位置に配置し、上記ウェハシートを上記エキスパンドリングの上端部に当接させながら相対的に押圧することで、当該ウェハシートを略放射状に延伸させて、上記それぞれのウェハ供給部品を供給可能にエキスパンドを行い、
上記ウェハ供給用プレートを上記エキスパンドリングに対して相対的に上昇させて上記第1の高さ位置と第2の高さ位置との間の高さ位置である第3の高さ位置に配置して当該エキスパンドの解除を行い、
当該第3の高さ位置において、少なくとも上記エキスパンドにより上記ウェハシートに生じた弛みの除去が完了する際に、当該ウェハシートと上記エキスパンドリングの上端部との当接が回避されるように、上記ウェハシートの下面に対して上記エキスパンドリングの内側より加熱ブローすることにより当該ウェハシートの弛みの除去処理を行うウェハシートのエキスパンド方法を提供する。
本発明の第9態様によれば、上記ウェハシートの弛み除去処理において、上記第2の高さ位置にその配置が保持された上記ウェハ供給用プレートの上記ウェハシートと、上記エキスパンドリングの上端部との間に、当該ウェハ供給用プレートの上記ウェハシートと上記エキスパンドリングとにより略囲まれた空間内に供給される上記加熱ブローによる加熱空気が、上記エキスパンドリングの外部に漏出することを抑制可能に設定された隙間を生じさせることで、当該ウェハシートと当該エキスパンドリングとの当接を回避させる第8態様に記載のウェハシートのエキスパンド方法を提供する。
本発明の第10態様によれば、上記隙間は、0.2mm〜1.5mmの範囲にて設定される第9態様に記載のウェハシートのエキスパンド方法を提供する。
本発明の上記第1態様によれば、上記エキスパンドによりウェハシートに生じた弛みを加熱ブロー装置による加熱ブローにより除去する弛み除去処理の際に、上記プレート昇降装置において、上記ウェハ供給用プレートが、上記プレート供給高さ位置と上記第2の高さ位置との間の高さ位置に位置されることにより、上記エキスパンドリングの上端部と上記ウェハシートの下面との間の距離を、上記プレート供給高さ位置に位置された場合と比して、十分に小さくすることができる。従って、上記加熱ブロー装置により供給された加熱空気が、当該エキスパンリングの上端部と上記ウェハシートの下面との間より、漏出する量を低減することができ、上記ウェハシートに対する加熱効率を向上させることができ、上記弛み除去処理に要する時間を短縮化することができる。さらに、上記ウェハシートの温度を略均一な状態とすることができ、加熱むらを低減することができる。
また、少なくとも当該弛み除去処理が完了する際に当該ウェハシートと上記エキスパンドリングの上端部との当接が回避されるように、上記高さ位置が設定されていることにより、上記加熱ブローによる上記ウェハシートの収縮動作が、上記エキスパンドリングの上端部との当接により阻害されることを確実に防止することができる。従って、加熱むらや収縮むらを低減して、効率的かつ均一に上記弛み除去処理を行うことができる。
また、本発明のその他の態様によれば、上記エキスパンドリングの上端部と上記ウェハシートとの間の隙間が、上記加熱ブロー装置により供給される加熱空気の漏出の抑制を考慮して決定されることで、上記効率的かつ均一な弛み除去処理を確実に実現することができる。
また、上記エキスパンドリングの上端部が、当該環状の内側に折り曲げられた形状を有していることで、上記隙間よりの加熱空気の漏出をさらに抑制することができる。
また、上記隙間は小さければ小さい程、当該隙間よりの加熱空気の漏出を抑制して効率的な加熱を実現することができるが、上記弛み除去処理が行われている間(処理開始から完了までの間)において、上記エキスパンドリングの上端部と上記ウェハシートとが接触するような場合にあっては、加熱された上記ウェハシートから上記エキスパンドリングに熱が奪われ処理時間が長時間化する、あるいは、収縮過程にある上記ウェハシートが上記エキスパンドリングの上端部に引っ掛かり当該収縮が阻害される等の問題がある。そのため、少なくとも上記弛み除去処理が完了する際に、上記隙間として、0.2〜1.5mmの範囲の隙間、あるいはこのような範囲の隙間寸法に準ずるような隙間が設けられている。
また、このような第3の高さ位置が、上記トレイ供給用プレートよりトレイ供給部品を供給可能とする高さ位置と兼用して設定することで、上記プレート配置装置において、新たな高さ位置を設定することなく、その構成の簡素化を図りながら、上記それぞれの態様による効果を得ることができる部品供給装置を提供することができる。
本発明の記述を続ける前に、添付図面において同じ部品については同じ参照符号を付している。
以下に、本発明にかかる実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(第1実施形態)
本発明の第1の実施形態にかかる部品供給装置の一例である部品供給装置4を備え、この部品供給装置4から供給された部品を基板に実装する部品実装装置の一例である電子部品実装装置101の外観斜視図を図1に示す。部品供給装置4についての詳細な構造や動作の説明を行うに先だって、このような部品供給装置4を備える電子部品実装装置101の全体的な構成及び動作についての説明を、図1を用いて行う。
(電子部品実装装置について)
図1に示すように、電子部品実装装置101は、部品の一例であるチップ部品やベアICチップ等の電子部品2を基板に実装する実装動作を行う装置であり、大別して、複数の電子部品2を供給可能に収容する部品供給装置4と、この部品供給装置4から供給される各電子部品2を基板に実装する実装動作を行う実装部5とを備えている。
図1に示す部品供給装置4においては、基板に実装される多数の電子部品2のうちのウェハ供給部品2w(部品の一例である)が複数配置されたウェハをその上面に載置するウェハ供給用プレートと、上記多数の電子部品2のうちのトレイ供給部品2t(部品の一例である)が格子上に配列されて収容配置された部品供給トレイをその上面に複数載置するトレイ供給用プレートとを混載して上記夫々のプレートを選択的に供給可能に収納しているプレート収納部の一例であるリフター装置10が、部品供給装置4の図示Y軸方向手前側に設置されている。なお、以降の説明において、上記ウェハ供給用プレート又は上記トレイ供給用プレートを限定して用いない場合には、上記夫々のプレートとして記載するものとし、また、ウェハ供給部品2w又はトレイ供給部品2tを限定して用いない場合には、電子部品2として記載するものとする。なお、上記夫々のプレート等の構成の説明については、後述するものとする。また、ウェハ供給部品2wとしては、主にウェハがダイシングされることにより形成されるベアICチップ等があり、また、トレイ供給部品2tとしては、上記ベアICチップ及び上記ベアICチップ以外のICチップ(例えば、パッケージが施されたICチップ等)やチップ部品等がある。
また、部品供給装置4には、リフター装置10から選択的に供給される上記夫々のプレートを配置して、夫々より電子部品2を取り出し可能な状態とさせるプレート配置装置12が備えられている。なお、リフター装置10から上記ウェハ供給用プレートが供給されて、プレート配置装置12に配置されるような場合には、プレート配置装置12において、上記ウェハ供給用プレートに載置されているウェハに対してエキスパンド動作が施される。
さらに、部品供給装置4には、プレート配置装置12上に選択的に配置された上記プレート上に載置されている上記ウェハあるいは上記部品供給トレイから電子部品2を個別に吸着保持して、実装部5に向けて図示X軸方向沿いに移動させるとともに、上記吸着保持した電子部品2を上下方向に反転させる反転ヘッド装置14が備えられている。なお、このような反転ヘッド装置14を部品供給装置4が備えている場合に代えて、部品供給装置4とは別の構成の装置として、部品供給装置4とともに、電子部品実装装置101に備えられているような場合であってもよい。
また、図1に示すように、実装部5には、電子部品2を吸着保持して基板に実装する実装ヘッド部20が備えられている。また、互いに図示X軸方向沿いに配置された位置であって、反転ヘッド装置14により保持された電子部品2が実装ヘッド部20に受渡し可能な位置である部品供給位置と、基板に対する電子部品2の実装動作が行われる基板実装領域との間で、実装ヘッド部20を支持しながら、図示X軸方向に沿って進退移動させる移動装置の一例であるX軸ロボット22が、さらに実装部5に備えられている。
なお、実装ヘッド部20は、ボイスコイルモータ等の移動手段にて昇降駆動可能であり、かつ、吸着保持した電子部品2を介して、押圧エネルギーや超音波振動エネルギーや熱エネルギー等の接合エネルギーを、電子部品2と基板の接合部に付与できるように構成された保持部(図示しない)を備えており、電子部品2を基板に対して加圧しながら上記接合エネルギーを付与することが可能となっている。また、X軸ロボット22は、例えば、ボールねじ軸部とこのボールねじ軸部に螺合されたナット部とを用いた移動機構(図示しない)が備えられている。
また、図1に示すように、実装ヘッド部20及びX軸ロボット22の下方における実装部5の基台24上には、基板を図示X軸方向及びY軸方向に移動可能であって、かつ、実装ヘッド部20に対する基板上における電子部品2が実装される位置の位置決めを行うXYテーブル26が配設されている。このXYテーブル26は、図示X軸方向とY軸方向との夫々に、例えばサーボモータにて移動駆動するとともに、リニアスケールを用いてフルクローズ制御にて位置決めすることが可能となっている。また、このXYテーブル26の上面には、基板を解除可能に保持して固定する基板保持台28が設置されている。なお、図1において、X軸方向とY軸方向は、基板の表面沿いの方向であって、かつ、互いに直交する方向である。
また、図1に示すように、電子部品実装装置101には、基台24の上面における図示Y軸方向手前側の端部において、図示X軸方向左向きの方向である基板搬送方向Bに沿って基板を搬送し、基板保持台28への基板の供給及び基板保持台28からの基板の排出を行う基板搬送装置30が備えられている。基板搬送装置30は、電子部品実装装置101の図示X軸方向右側の端部からXYテーブル26上の基板保持台28にまで、基板を搬送して供給するローダ部の一例であるローダ32と、基板保持台28から電子部品実装装置101の図示X軸方向左側の端部にまで、基板を搬送して排出するアンローダ部の一例であるアンローダ34とを備えている。なお、本実施形態においては、電子部品実装装置101におけるXYテーブル26が、基板搬送装置30が備える基板保持移動装置と兼用されている例となっている。また、XYテーブル26と基板支持台28とが、基板の上記移動及び保持を行う基板保持移動装置の一例となっている。また、このように兼用されているような場合に代えて、電子部品実装装置101におけるXYテーブル26とは別に、基板保持移動装置が基板搬送装置30に備えられているような場合であってもよい。
なお、図1に示す電子部品実装装置101は、当該構成の説明の便宜を考慮して、基台24の上面全体を覆っているケーシングカバーが取り外された状態の外観斜視図となっている。
次に、このような構成を有する電子部品実装装置101における電子部品2の基板への実装動作について説明する。
図1の電子部品実装装置101において、基台24上におけるローダ32及びアンローダ34の間に位置するように、基板保持台28がXYテーブル26により移動される。それとともに、電子部品実装装置101にて夫々の電子部品2の実装が行われるべき基板が、例えば、電子部品実装装置101に隣接する他の装置等より基板搬送装置30のローダ32に供給されて、ローダ32にて基板搬送方向Bに基板が搬送されて、この基板が基板保持台28に供給されて保持される。その後、XYテーブル26が図示X軸方向又はY軸方向に移動されて、基板が上記基板実装領域に移動される。
一方、部品供給装置4にて、リフター装置10に収納されている夫々のプレートより1枚のプレートが選択されて取り出され、プレート配置装置12に配置される。その後、上記配置されたプレートより電子部品2が反転ヘッド装置14により吸着保持されて取り出されるとともに、当該電子部品2が、反転されて上記部品供給位置にまで移動される。また、実装部5にて実装ヘッド部20が、X軸ロボット22により、上記部品供給位置にまで移動されて、反転ヘッド装置14から実装ヘッド部20に電子部品2が受け渡される。その後、上記受け渡された電子部品2を吸着保持した状態の実装ヘッド部20が、X軸ロボット22により、上記基板実装領域の上方へと移動される。
その後、実装ヘッド部20により吸着保持されている電子部品2と、基板保持台28により保持されている基板における電子部品3が実装されるべき位置との位置合わせが、XYテーブル26の移動により行われる。この位置合わせの後、実装ヘッド部20の昇降動作等が行われて、電子部品2の基板への実装動作が行われる。複数の電子部品2の上記実装動作が行われるような場合にあっては、上記夫々の動作が繰り返して行うことにより、夫々の電子部品2の実装動作が行われる。
その後、夫々の電子部品2の上記実装動作が終了すると、夫々の電子部品2が実装された状態の基板が、基板保持台28とともに、XYテーブル26により、ローダ32とアンローダ34との上記間の位置にまで移動されて、基板保持台28より基板がアンローダ34に受け渡され、アンローダ34にて基板が基板搬送方向Bに沿って搬送されて、電子部品実装装置101より基板が排出される。上記排出された基板は、例えば、電子部品実装装置101に隣接して設置されている上記部品実装の次の処理等を行う他の装置に供給されたり、部品実装済みの基板として基板収納装置等に収納されたりする。
このようにして、電子部品実装装置101において、夫々の電子部品2の基板への実装動作が行われる。なお、夫々の電子部品2が実装された基板がアンローダ34により排出された後、新たな別の基板がローダ32により供給されることにより、順次供給される夫々の基板に対して夫々の電子部品2の実装が行われる。
(部品供給装置について)
次に、このような構成及び部品実装動作を行う電子部品実装装置101が備える部品供給装置4の詳細な構成について、特に、リフター装置10及びプレート配置装置12とこれらに関連する構成を中心に説明する。また、このような部品供給装置4におけるリフター装置10及びプレート配置装置12の半透過斜視図を図2に示す。
図2に示すように、部品供給装置4は、上述したリフター装置10とプレート配置装置12に加えて、さらに、リフター装置10に収納されている夫々のプレートを保持して取り出し、プレート配置装置12に配置させるように、上記プレートの移動を行うプレート移動装置40を備えている。また、プレート移動装置40は、プレート配置装置12に配置されたプレートを保持して、再びリフター装置10に収納するように、上記プレートの移動を行うことが可能となっている。
まず、リフター装置10は、複数の上記ウェハ供給用プレート及び複数の上記トレイ供給用プレートを混載して、上下方向に積層的に収納する箱体状の形状を有する収納体の一例であるマガジンカセット50と、このマガジンカセット50を支持するとともに、マガジンカセット50の昇降動作を行って、マガジンカセット50に収納されている上記夫々のプレートのうちの1枚のプレートを、プレート移動装置40により取り出し可能な昇降高さ位置に位置させる収納体昇降部の一例であるカセット昇降部51と、カセット昇降部51を取り付けられて、かつ、カセット昇降部51によるマガジンカセット50の昇降動作を案内可能な基台52とを備えている。
ここで、マガジンカセット50の拡大斜視図(半透過斜視図)を図3に示す。図3に示すように、マガジンカセット50においては、図示C方向がプレート配置装置12への上記夫々のプレートの取り出し方向(以降、プレート取出方向Cとする)となっている。また、マガジンカセット50は、プレート取出方向Cと直交する方向において、互いに対向するように側壁部50aが夫々設けられており、夫々の側壁部50aの互いに対向する側面において、プレート取出方向に沿って複数の溝部50bが形成されている。上記夫々のプレート(以降、プレート6とする)は、その互いに対向する両端部において、夫々の側壁部50aの溝部50bと係合されることにより、マガジンカセット50に保持されて収納されている。なお、夫々の側壁部50aにおいて夫々の溝部50bは一定の間隔ピッチでもって形成されており、夫々の溝部50bに係合されて保持された状態で、プレート6はその表面が略水平な状態とされている。さらに、夫々のプレート6は、夫々の溝部50bの形成方向に沿って案内されながら、プレート取出方向沿いに進退移動(すなわち、スライド移動)可能な状態とされている。また、マガジンカセット50においては、収納されている夫々のプレート6の取り出しが行われるため、上記取り出しの障害とならないように、プレート取出方向C側には側壁部が設けられておらず、常時開放された状態とされている。なお、図3においては、図示上方に収納されているプレート6がウェハ供給用プレート6wであり、図示下方に収納されているプレート6がトレイ供給用プレート6tである。
次に、ウェハ供給用プレート6wの斜視図を図4に、トレイ供給用プレート6tの斜視図を図5に示し、夫々のプレートの構造について説明する。
図4に示すように、ウェハ供給用プレート6wは、直線状の部分と曲線状の部分とが組み合わされた外周部分を有する大略円盤状の形状を有している。また、プレート取出方向Cを挟んで互いに対向される夫々の端部は、マガジンカセット50の夫々の溝部50bと係合されることが考慮されて、上記直線状の外周部分となっている。また、図4に示すように、ウェハ供給プレート6wは、伸縮性を有するシートであって、ダイシングが施されたウェハ7がその上面に貼着されて載置されたウェハシート8と、環状プレートであって、その環状の内側にウェハ7が位置されるように、ウェハシート8をその外周端部近傍において保持するウェハリング9とを備えている。このようにウェハ供給用プレート6wが形成されていることにより、ウェハシート8を放射状に延伸させることで、格子状に配置されている夫々のウェハ供給部品2wの配置位置も放射状に延伸させることができ、いわゆるエキスパンドを行うことが可能となっている。
一方、図5に示すように、トレイ供給用プレート6tは、上述したウェハ供給用プレート6wと同様な外径形状を有している。これにより、共通のマガジンカセット50に、ウェハ供給用プレート6wとトレイ供給用プレート6tとを混載して収納することが可能となっている。また、図5に示すように、トレイ供給用プレート6tは、ウェハリング9と略同じ外周形状を有するとともに、略正方形状の内周孔部を有する環状プレートであるトレイリング59と、このトレイリング59の上記内周孔部分に取り付けられて形成され、複数の部品供給トレイ57を着脱可能に載置するトレイ載置部58とを備えている。トレイ載置部58は、トレイリング59の表面よりも一段低くなるように形成されており、部品供給トレイ57が載置された場合に、その部品供給トレイ57に収納されている夫々のトレイ供給部品2tの上面高さ位置が、トレイリング59の表面高さ位置と略同じとなるように形成されている。このように形成されていることで、トレイ供給用プレート6tにおけるトレイ供給部品2tの高さ位置を、ウェハ供給用プレート6wにおけるウェハ供給部品2wの高さ位置と略同じ高さ位置とされている。なお、図5においては、略正方形状の平面形状を有する4つの部品供給トレイ57が2列に配列されて、トレイ載置部58に載置されている。なお、トレイ載置部58がトレイリング59と別に形成されて、トレイリング59の内側に取り付けられるような場合に代えて、トレイ載置部58がトレイリング59と一体的に形成されるような場合であってもよい。また、図5に示すように、トレイ供給用プレート6tにおけるトレイリング59のプレート取出方向C側の端部近傍位置が、プレート移動装置40によるトレイ供給用プレート6tの保持位置となっており、また、この部分には、トレイ供給用プレート6tを識別するための識別孔56が形成されている。なお、図4のウェハ供給用プレート6wにおいても、当該部分が上記保持位置となっているものの、上記識別のための識別孔56は設けられていない。後述するように、識別孔56の有無の相違により、トレイ供給用プレート6tとウェハ供給用プレート6wとを識別するためである。
さらに、図6に示すように、リフター装置10におけるカセット昇降部51は、その上面にマガジンカセット50を配置させて保持するカセット支持台51aが備えられている。ここでリフター装置10において取り扱われるマガジンカセット50には、複数の種類のサイズのものがあり、例えば、6インチサイズのもの、8インチサイズのもの、又は、12インチサイズのものがある。このような夫々のマガジンカセット50のサイズの相違を検出するために、カセット支持台51aの上面には、夫々の平面的な大きさの相違を検出することでもって、配置されたマガジンカセット50のサイズを検出可能な6インチカセット検出センサ53a、8インチカセット検出センサ53b、及び12インチカセット検出センサ53cが夫々設置されている。
次に、プレート配置装置12の半透過斜視図を図7に示す。図7に示すように、プレート配置装置12は、配置されるプレート6をその外周部近傍における下面側より支持可能であって、かつ、その支持高さ位置が可変する複数の弾性支持部材の一例であるプレート支持部60と、これらのプレート支持部60により支持されたプレート6を、夫々のプレート支持部60の上端との間で挟むように、その上記外周部近傍における上面側より押圧して、このプレート6の支持位置の保持を行うプレート押圧体61と、このプレート押圧体61の昇降動作を行う押圧体昇降部62とを備えている。
また、図7に示すように、プレート押圧体61は、半円状の切り欠き部分を有して、当該切り欠き部分が互いに同一平面状において対向するように配置された対称形状を有する一対の板状体となっている。また、このように上記半円状の切り欠き部分が形成されているため、夫々のプレート押圧体61は、ウェハ供給用プレート6wのウェハリング9の上面のみに、その下面が当接されて押圧することが可能となっており、またトレイ供給用プレート6tのトレイリング59の上面のみに、その下面が当接されて押圧することが可能となっている。また、プレート配置装置12においては、例えば、4本のプレート支持部60が設けられており、夫々のプレート支持部60は、夫々のプレート押圧体61のウェハリング9又はトレイリング59を押圧する部分の下方に配置されている。これにより、夫々のプレート支持部60により、ウェハリング9又はトレイリング59を夫々の下面側において支持することが可能となっている。なお、夫々のプレート支持部60は、その上部に配置されるウェハリング9又はトレイリング59の外周に沿って、大略均等な間隔にて配置されていることが望ましい。また、図7に示すように、プレート配置装置12は、夫々のプレート支持部60が配置されている円周上近傍における図示Y軸方向左側において、その上端側の先端部に、テーパ形状の傾斜端部を有し、当該傾斜端部においてプレート6の端部が当接される別の弾性支持部材の一例であるテーパ支持部65を備えている。
さらに、プレート配置装置12は、ウェハリング9が夫々のプレート支持部60に支持された状態のウェハ供給用プレート6wにおいて、ウェハ7の外周とウェハリング9の内周との間におけるウェハシート8の下面に当接可能な環状の当接部分をその上端に備えるエキスパンド部材63と、このエキスパンド部材63をその上面において固定して支持する配置フレーム64とを備えている。なお、プレート配置装置12においては、2つの押圧体昇降部62が、配置フレーム64に取り付けられて備えられており、図7において、配置フレーム64の図示X軸方向における夫々の側面に取り付けられている。また、夫々の押圧体昇降部62より、夫々のプレート押圧体61の昇降動作が一体的に行われることとなっている。
次に、このような構成のプレート配置装置12にウェハ供給用プレート6wが配置された状態の当該配置部分の拡大断面図を図8に、トレイ供給用プレート6tが配置された状態の当該配置部分の拡大断面図を図9に示す。
まず、図8に示すように、環状形状を有するエキスパンド部材63は、下部に外周方向に向けて形成されたフランジ部63bを備えており、夫々のプレート支持部60及びテーパ支持部65は、このフランジ部63bに昇降可能に取り付けられている。プレート支持部60は、その上部先端にフラット状または緩やかな隆起状の形状を有する支持端部60aを備える軸状の支持ピン60bと、フランジ部63bに対してこの支持ピン60bを常時上方に付勢するように、支持ピン60bの外周に配置された付勢バネ60cとを備えている。なお、この付勢バネ60cによる支持ピン60bの上方への付勢における上限位置は機械的に制限されている。また、図8においては、プレート支持部60は、エキスパンド部材63のフランジ部63bに取付部材66を介して取り付けられており、この取付部材66に形成されているピン孔部66aの内周面に沿って、支持ピン60bの昇降が案内可能となっている。従って、支持端部60aに下方に向けて外力が加えられることにより、付勢バネ60cが縮められて支持ピン60bが、ピン孔部66aの内周面に沿って下降され、上記外力が弱められる若しくは解除されることにより、縮められていた付勢バネ60cが伸ばされて支持ピン60bが、ピン孔部66aの内周面に沿って上昇されることになる。
また、テーパ支持部65も、その上端部分の形状を除いては、夫々のプレート支持部60と同様な考え方に基づく機構を備えており、図7、図8及び図12に示すように、支持ピン65b、付勢バネ65c、取付部材67、及びピン孔部67aを備えている。また、その上端部分は、テーパ状の形状を有する傾斜端部65aとなっており、この傾斜端部65aの傾斜面にウェハリング9の外周端部が当接されることにより、この角度抵抗を利用して、ウェハリング9の表面沿いの方向における支持位置を保持することが可能となっている。なお、図7、図8、及び図12に示すように、テーパ支持部65には、支持ピン65bの昇降を案内するガイド部65dが備えられている。また、図8に示すように、エキスパンド部材63はその上部に環状の先端部63aが形成されており、この先端部63aがウェハ7の外周部とウェハリング9の内周部との間におけるウェハシート8の下面に当接可能となっている。
このような構成において、夫々のプレート押圧体61の下面と夫々のプレート支持部60との間で挟まれて支持された状態のウェハリング9を、押圧体昇降部62による夫々のプレート押圧体61の下降動作によって下降させることにより、エキスパンド部材63の先端部63aをウェハシート8の下面に当接させながら、当該当接位置を支点として、ウェハリング9の下降とともに、ウェハシート8を放射状に延伸させることができる。これにより、ウェハシート8の上面に貼着されている夫々のウェハ供給部品2wの配置位置も放射状に延伸させられて、いわゆるウェハ7のエキスパンドを行うことができる。なお、図7に示すように、配置フレーム64の上面おける夫々のプレート押圧体61の下方には、下降される夫々のプレート押圧体61の下面と当接されることにより、その下降の下限位置を規制可能な複数のエキスパンド下限ストッパー68が取り付けられており、このように下限位置が規制されることで、当該エキスパンドにおけるウェハシート8の延伸の範囲を規制可能としている。
次に、図9は上述のような構成を有するプレート配置装置12に、トレイ供給用プレート6tが配置された状態を示している。図9に示すように、夫々のプレート押圧体61と、夫々のプレート支持部60の支持端部60aとの間で、トレイリング59を挟むようにして、トレイ供給用プレート6tが支持されている。また、テーパ支持部65の傾斜端部65aの傾斜面にトレイリング59の外周端部が当接されていることにより、角度抵抗によってトレイリング59のその表面沿いの方向の支持位置が保持されている。また、トレイリング59よりも一段下がった高さ位置に位置されているトレイ載置部58は環状のエキスパンド部材63の内側に配置されている。さらに、このトレイ供給用プレート6tの保持状態において、エキスパンド部材63の先端部63aと、その上方に位置されているトレイリング59の下面との間には、互いに接触しないような隙間が確保されている。これにより、先端部63aがトレイリング59に接触することにより、当該先端部63aが傷付けられることを防止することが可能となっている。また、このような上記隙間の確保は、夫々のプレート押圧体61の下降位置が、他の部材により規制されることにより行なわれている。この規制方法について、図10に示すプレート配置装置12の部分拡大斜視図を用いて説明する。
図10に示すように、プレート配置装置12の配置フレーム64の上面における図示手前の端部近傍には、夫々のプレート押圧体61の上記下降位置を規制する規制部の一例である中間ストッパー駆動部69が備えられている。この中間ストッパー駆動部69は、配置フレーム64の上面における図示左手前側端部近傍に配置された当接部の一例である中間ストッパー69aと、この中間ストッパー69aを当該端部に沿って移動させる当接部移動機構の一例であるストッパー移動部69bとを備えている。なお、このストッパー移動部69bは、例えば、圧縮空気の給排気でもって上下方向に駆動可能なシリンダとそのシリンダに取り付けられて、中間ストッパー69aに当該シリンダの駆動を機械的に伝達するリンク機構とにより構成されている。ここで、この中間ストッパー駆動部69の動作を説明する模式説明図を図11に示す。
図11に示すように、プレート押圧体61の下部に規制ピン61aが設けられている。この規制ピン61aはプレート押圧体61の下降によって、その下端において中間ストッパー69aの上端と当接可能に配置されている。一方、ストッパー移動部69bは、配置フレーム64の上面に沿って、規制ピン61aの下方の位置であり、中間ストッパー69aが規制ピン61aと当接可能な当接位置と、規制ピン61aが下降されても、中間ストッパー69aが規制ピン61aとの当接を退避することができる退避位置との間で、中間ストッパー69aを進退移動させることが可能となっている。従って、中間ストッパー69aを上記退避位置に位置させた状態で、夫々のプレート押圧体61を下降させることにより、図8に示すウェハ供給用プレート6wの状態を成し得、また、中間ストッパー69aを上記当接位置に位置させた状態で、夫々のプレート押圧体61を下降させることにより、中間ストッパー69aと規制ピン61aとを当接させて、夫々のプレート押圧体61の下降位置を規制して、図9に示すトレイ供給用プレート6tの状態を成し得る。すなわち、中間ストッパー69aと規制ピン61aとが当接された状態で、図9に示すように、トレイリング59とエキスパンド部材63の先端部63aとの間に上記隙間が確保されるようになっている。なお、プレート配置装置12において、夫々のプレート押圧体61の下降における下限位置を規制可能に、個別に中間ストッパー駆動部69が夫々に設けられており、夫々の中間ストッパー駆動部69は互いに同期されて駆動される。
次に、プレート移動装置40の斜視図を図13に示す。図13に示すように、プレート6を解除可能に保持する保持部の一例であるチャック部41と、チャック部41がその先端に取り付けられた平面的に略L字形状を有するアーム機構42と、アーム機構42を図示Y軸方向に進退移動させる保持部移動部の一例である移動部44とを備えている。移動部44は、図示Y軸方向に配置されたボールねじ軸部44aと、ボールねじ軸部44aに螺合されたナット部44bと、ボールねじ軸部の一端に固定されて、ボールねじ軸部44aをその軸心回りに回転させることにより、ナット部44bを図示Y軸方向に進退移動させる移動モータ44cとを備えている。また、アーム機構42のチャック部が取り付けられていない側の端部はLMブロック43aに固定されており、LMブロック43aは図示Y軸方向に配置されたLMレール43bに沿って、アーム機構42の移動を案内可能とされているとともに、LMブロック43aがナット部44bに固定されて、ナット部44bとともに移動されることにより、アーム機構42の当該移動が可能となっている。
また、図13に示すように、チャック部41に隣接して、プレート6の端部の形状に基づいて、保持されるプレート6がウェハ供給用プレート6wなのか、又は、トレイ供給用プレート6tなのかを識別するプレート識別部の一例であるプレート識別センサ41bがアーム機構42に取り付けられている。このプレート識別センサ41bは、図4におけるウェハリング9に形成されていなくて、図5におけるトレイリング59に形成されている識別孔56の有無を、透過型センサを用いて識別することでもって、上記プレート6の識別を行っている。また、チャック部41を挟んでプレート識別センサ41bと逆側には、チャック部41がプレート6を保持しているかどうかを検出するプレート有無検出センサ41aがアーム機構42に取り付けられている。このプレート有無検出センサ41aは透過型センサを用いて、ウェハリング9又はトレイリング59の端部によりセンサの光の遮光が検出されるかどうかでもって、上記プレート6の有無を検出している。なお、プレート識別センサ41bの識別結果に基づいて、プレート配置装置12における中間ストッパー駆動部69による中間ストッパー69aの移動位置が決定される。
また、図13に示すように、アーム機構42は、チャック部41を図示X軸方向における揺れを機械的に収束させながら、そのX軸方向における位置のセンタリングを自動的に行うX軸方向センタリング部42aを備えている。なお、このようなセンタリング機構は、図示X軸方向に限定されるものではなく、図示Y軸方向におけるセンタリングが行われるようなものであってもよい。さらに、アーム機構42は、図示Y軸方向奥側にアーム機構42が他の構成部材に干渉(衝突)したことを検出可能な衝突検出センサ42bを備えている。この衝突センサ42bにより上記衝突が検出された場合には、移動部44の移動を停止させて、当該衝突による装置の故障や保持している夫々の電子部品2の破損等の防止を図っている。
(部品供給装置の動作について)
次に、このような構成を有する部品供給装置4におけるマガジンカセット50より夫々のプレート6を取り出して、プレート配置装置12に夫々の電子部品2を取り出し可能に配置させるまでの動作について説明する。
まず、図2において、リフター装置10のカセット昇降部51によりマガジンカセット50を上昇又は下降させて、マガジンカセット50より取り出されるべきプレート6を、プレート移動装置40のチャック部41の高さ位置に位置させる。それとともに、プレート配置装置12において押圧体昇降部62により夫々のプレート押圧体61をその昇降の上限位置に上昇させて停止させる。
次に、プレート移動装置40における移動部44によりアーム機構44が図2の図示Y軸方向左向きに移動されて、チャック部41がマガジンカセット50内に移動される。その後、マガジンカセット50より取り出されるべきプレート6の外周端部近傍が、チャック部41に隣接して設置されているプレート有無識別検出センサ41aにより検出されると、当該外周部近傍がチャック部41により保持される。それとともに、チャック部41に隣接して設置されているプレート識別センサ41bにより、当該保持されたプレート6が、ウェハ供給用プレート6wであるか、又は、トレイ供給用プレート6tであるかが識別される。その後、移動部44によるアーム機構42の図示Y軸方向右向きの移動が開始されて、上記保持されたプレート6がマガジンカセット50の夫々の溝部50bに沿って移動されて取り出される。
その後、チャック部41により保持されたプレート6が、プレート配置装置12の夫々のプレート押圧体61と夫々のプレート支持部60との間を通過するように移動されて、夫々のプレート支持部60によりプレート6が支持可能となる位置に位置されて停止される。その後、押圧体昇降部62により夫々のプレート押圧体61が下降されて、プレート6の外周部分の上面を下方に押し下げるとともに、上記外周部分の下面を夫々のプレート支持部60の上端に当接させて、夫々のプレート押圧体61と夫々のプレート支持部60にて挟むようにしてプレート6が保持される。それとともに、チャック部41によるプレートの保持が解除されて、移動部44によりアーム機構42が図2の図示Y軸方向右側に移動されて、チャック部41とプレート6との平面的な位置の干渉がなくなる位置にて停止される。なお、このような状態におけるプレート6の高さ位置は、エキスパンド部材63の先端部63aとプレート6との干渉が確実に防止された状態で、プレート6の供給又は排出が可能な高さ位置であるプレート給排高さ位置(第1の高さ位置)となっている。
一方、プレート識別センサ41bによるプレート6の種類の識別結果を受けて、中間ストッパー駆動部69により中間ストッパー69aの移動位置が決定される。まず、当該プレート6が、ウェハ供給用プレート6wであるような場合にあっては、中間ストッパー69aが上記退避位置に移動されて、夫々の規制ピン61aと中間ストッパー69aの当接が退避された状態とされる。その後、夫々のプレート押圧体61がさらに下降されて、夫々のプレート支持部60が押し下げられて、エキスパンド部材63の先端部63aを支点として、ウェハシート8の延伸が行われて、エキスパンドが行われる。なお、下降されている夫々のプレート押圧体61は、夫々のエキスパンド下限ストッパー68に当接されてその下降における下限位置が規制され、この状態で夫々のプレート押圧体61の下降が停止される。このような状態において、ウェハ供給用プレート6wより、夫々のウェハ供給部品2wの取り出し供給が可能なり、ウェハシート8の下方より、夫々のウェハ供給部品2wを突き上げて(例えば、突き上げピンを備える部品突き上げ装置により)、突き上げられたウェハ供給部品2wを反転ヘッド装置14にて保持して取り出すことにより、夫々のウェハ供給部品2wの取り出しが行われる。なお、このようにそれぞれのエキスパンド下限ストッパー68によりその下降位置が規制された状態におけるウェハ供給用プレート6wの高さ位置が、エキスパンド高さ位置(第2の高さ位置)となっている。
一方、当該プレート6が、トレイ供給用プレート6tであるような場合にあっては、中間ストッパー69aが上記当接位置に移動されて、夫々の規制ピン61aと中間ストッパー69aの当接が可能な状態とされる。その後、夫々のプレート押圧体61がさらに下降されて、夫々のプレート支持部60が押し下げられるが、夫々の規制ピン61と夫々の中間ストッパー69aが当接されて、夫々のプレート押圧体61の下降位置が規制された状態とされる。この状態において、図9に示すように、トレイリング59の下面と、エキスパンド部材63の先端部63aとの間に互いに当接しないような隙間が確保された状態とされる。また、このような状態とされると、夫々のプレート押圧体61の下降が停止されて、トレイ供給用プレート6tより、夫々のトレイ供給部品2tが取り出し可能な状態となる。このような状態において、反転ヘッド装置14により、トレイ載置部58に載置された夫々の部品供給トレイ57より夫々のトレイ供給部品2tの保持による取り出しが行われる。また、このようにそれぞれの規制ピン61とそれぞれの中間ストッパー69aとによりそれぞれのプレート押圧体61の下降位置が規制された状態におけるトレイ供給用プレート6tの高さ位置が、トレイプレート保持高さ位置となっている。
また、上述のようにウェハ供給用プレート6w又はトレイ供給用プレート6tよりそれぞれの電子部品2の取り出しが行われた後、それぞれのプレート6は、再び、プレート給排高さ位置にまで上昇されて、上述の手順の逆を追って、プレート移動装置40によりマガジンカセット50に移動されて収納される。なお、それぞれのプレート6より一部の電子部品2の取り出ししか行われていないような場合であっても、当該プレート6より取り出されるべき電子部品2の取り出しが完了しているような場合には、当該プレート6がマガジンカセット50に移動されて収納されることとなる。
(ウェハシートへの弛み除去処理について)
また、プレート配置装置12にウェハ供給用プレート6wが配置されて、エキスパンドが施された状態にてそれぞれのウェハ供給部品2wの取り出しが行われた後、当該ウェハ供給用プレート6wを移動させてマガジンカセット50に収納させるような場合にあっては、上記エキスパンド動作により放射状に延伸されたウェハシート8に生じる弛みの除去を行う弛み除去処理が、プレート配置装置12において行われることとなる。このようなプレート配置装置12における上記弛み除去処理を行う装置構成及びその処理手順について、図14から図17に示すプレート配置装置12の模式説明図と、図18に示す当該弛み除去処理の手順を示すフローチャートを用いて説明する。
図14に示すように、プレート配置装置12においては、上記弛み除去処理として、弛みが生じたウェハシート8の下面に加熱ブローを行うことでウェハシート8を収縮させて、当該弛みの除去を行う加熱ブロー装置80が備えられている。
図14に示すように、加熱ブロー装置80は、プレート配置装置12の下部に配置された略箱体状の配置フレーム64の外側に配置されており、配置フレーム64の穴部64aを通して、ウェハシート8の下面に加熱空気を吹き付けることが可能とされている。このように、加熱ブロー装置80がプレート押圧体61により保持されたウェハ供給用プレート6wの下方をかわすように配置されているのは、この配置フレーム64の内側の空間には、ウェハシート8上に貼着されたそれぞれのウェハ供給部品2wを突き上げるための突き上げ装置(図示しない)が移動可能に配置されることより、当該突き上げ装置と加熱ブロー装置80との干渉を防止するためである。
また、加熱ブロー装置80は、供給される圧縮空気をヒータ等の加熱手段を用いて加熱し、当該加熱された圧縮空気を斜め上方に向けて吹き出すことで、ウェハシート8の下面に吹き付けることが可能に構成されている。なお、当該圧縮空気の加熱温度を制御することが可能とされており、100℃程度に加熱された圧縮空気をウェハシート8に吹き付けることで、ウェハシート8の表面温度を60℃程度となるように加温することができる。
このような加熱ブロー装置80により上記弛み除去処理を行う手順について図面を用いて説明する。
まず、図14に示すように、プレート配置装置12において、ウェハ供給用プレート6wをエキスパンド高さ位置(第2の高さ位置)H1に位置させて、エキスパンドを行う。このエキスパンドによりウェハシート8は略放射状に延伸されることとなる。また、このエキスパンドされた状態において、それぞれのウェハ供給部品2wのウェハシート8からの取り出しが行われる。
それぞれのウェハ供給部品2wの取り出しが完了すると、ウェハ供給用プレート6wをエキスパンド高さ位置H1に位置決めしているそれぞれのプレート押圧体61が、押圧体昇降部62により上昇されて、それぞれの支持ピン60bの付勢バネ60cの付勢力により、ウェハ供給用プレート6wが上昇される(図18のステップS1)。
ウェハ供給用プレート6wが、トレイプレート保持高さ位置よりも上方に位置されると、図11に示すように、中間ストッパー駆動部69の中間ストッパー69aが退避位置から当接位置へと移動される(図18のステップS2)。この移動の後、上記上方に位置されているウェハ供給用プレート6wが下降されて、それぞれの規制ピン61aと中間ストッパー69aとが当接された状態とされる。これにより、図15に示すように、ウェハ供給用プレート6wが上記トレイプレート保持高さ位置にて保持されることとなる(図18のステップS3)。なお、このように、ウェハ供給用プレート6wが上記トレイプレート保持高さ位置よりも上方に位置されて後に、中間ストッパー69aの移動動作が行われるような場合に代えて、ウェハ供給用プレート6wが上記トレイプレート保持高さ位置に位置された時に、上記中間ストッパー69aの移動動作を行い、ウェハ供給用プレート6wの高さ位置の規制を行うような場合であってもよい。
なお、このトレイプレート保持高さ位置が、ウェハシート8に生じた弛みの除去を行う弛み除去処理高さ位置(第3の高さ位置)H2となっている。図15に示すように、この弛み除去高さ位置H2に位置されたウェハ供給プレート6wは、エキスパンド部材63の先端部63aと、弛みが略存在しない状態のウェハシート8の下面との間に、互いに接触しない程度の僅かな隙間dが確保されている。このような隙間dとしては、例えば、0.2mm〜1.5mm程度の範囲にて設定することが好ましく、本実施形態においては、0.2mmに設定されている。なお、図15に示すウェハ供給用プレート6wにおいては、ウェハシート8に弛みが生じていることにより、上記隙間dの存在に関わらず、ウェハシート8の下面とエキスパンド部材63の先端部63aとが接触した状態とされている。
このようにウェハ供給用プレート6wが弛み除去処理高さ位置H2に位置された状態において、加熱ブロー装置80による加熱ブローを行う(図18のステップS4)。図15に示すように、加熱ブロー装置80より吹き出された加熱空気は、ウェハシート8の下面と略環状のエキスパンド部材63により略囲まれた空間に供給されて、ウェハシート8の下面に吹き付けられる。また、上述のように、弛み除去処理高さ位置H2においては、エキスパンド部材63の先端部63aとウェハシート8の下面との間に隙間dが確保されている(図15においては、さらに弛みの存在により両者が接触している)ことにより、上記空間に供給された加熱空気がエキスパンド部材63の外側に漏出し難い状態とされている。そのため、加熱ブローにより効率的かつ略均一にウェハシート8の加熱を行うことができる。
この加熱ブローによりウェハシート8の弛みが略除去された状態を示すのが図16である。図16に示すように、上記弛みが存在していたウェハシート8は、加熱ブローによる加熱により収縮されて上記弛みが略除去され、略水平に保たれた状態とされている。また、このように弛みが略除去された状態において、ウェハシート8の下面とエキスパンド部材63の先端部63aとは隙間dしか離間されていないため、上記空間に供給された加熱空気が隙間dを通してエキスパンド部材63の外部に漏出し難い状態が保たれている。
また、このように加熱ブローによるウェハシート8の弛みの除去、すなわち、加熱による収縮の最終段階において、ウェハシート8とエキスパンド部材63の先端部63aとが、互いに接触することなく離間されていることにより、当該接触によるウェハシート8の収縮が阻害されることなく、略均一な状態にて、ウェハシート8の収縮を実現することができ、収縮むらを生じさせることがない。
従って、少なくとも弛み除去処理が完了する際に、隙間dが確保されていることにより、上記収縮むらの発生を抑制することができ、また、隙間dは上記空間から加熱空気が漏出し難いような大きさとすることが好ましい。このような観点から、隙間d(例えば、0.2mm〜1.5mm程度の範囲)が決定されることが好ましい。
ウェハシート8の弛みが略除去されると、加熱ブロー装置80による加熱ブローが停止されて、上記弛み除去処理が完了する。その後、押圧体昇降部62によりそれぞれのプレート押圧体が上昇されて、図17に示すようにウェハ供給用プレート6wがプレート給排高さ位置H3に位置される(図18のステップS5)。さらにその後、プレート移動装置40によりウェハ供給用プレート6wがマガジンカセット50内に移動されて収納される。その後、必要に応じて、マガジンカセット50内に収納されている別のプレート6がプレート移動装置40により取り出されて、プレート配置装置12に移動されることで、プレート6の交換が行われる(図18のステップS6)。これにより弛み除去処理の実施からプレート6の交換までの一連の動作が完了する。
次に、プレート配置装置12が備える略環状形状を有するエキスパンド部材の変形例について説明する。また、このような変形例にかかるエキスパンド部材163を備えるプレート配置装置112の模式構成図を図19に示す。
図19に示すように、エキスパンド部材163は、上述のエキスパンド部材63と略同様に環状に形成されているものの、その環状の先端部163aの形状が異なっている。ここで、エキスパンド部材163の部分拡大断面図を図20に示す。
図20に示すように、エキスパンド部材163の先端部163aはその環状形状の内側に向けて折り曲げられた形状を有している。ただし、このように先端部163aが折り曲げられて形成されているような場合であっても、その先端部163aの高さ寸法は、上述のエキスパンド部材63と同様に形成されており、弛み除去処理高さ位置H2に配置されたウェハ供給用プレート6wにおけるウェハシート8との間に所定の隙間dが確保されるように形成されている。
このようにエキスパンド部材163の先端部163aが内側に折り曲げられて形成されていることにより、図19に示すように、弛み除去処理の実施中に加熱ブロー装置80より吹き出された加熱空気が、エキスパンド部材163の先端部163aとウェハシート8との間の隙間dを通して漏出する空気量をより低減することができるという効果を得ることができる。
ここで、エキスパンド動作により弛みが生じたウェハシート8に対して、弛み除去処理を完了させるのに要する時間について、弛み除去処理高さ位置を有さない従来の方式による場合と、弛み除去処理高さ位置H2にて当該処理を行う本第1実施形態の場合とを比較したグラフ形成の図を図21に示す。なお、図21においては、ウェハシート8に残存する弛み量を縦軸に示し、弛み除去処理に要する時間を横軸に示す。なお、図21の時間軸である横軸においては、図示右方向に時間が進むものとして表示しているのに対して、弛み量を示す縦軸においては、図示下方向ほどその弛み量が大きくなるものとして表示している。また、図21においては、エキスパンド動作が施されることで生じたウェハシート8の弛み量をW1とし、弛み除去処理実施後のウェハシート8に残存する許容弛み量をW2としている。また、ウェハシート8に対して加熱ブローを行うことにより、弛み量をW1からW2に減少させるために必要な加熱ブロー時間を、従来の手法においてはT2とし、本第1実施形態の手法においてはT1としている。
図21に示すように、本第1実施形態における弛み除去処理に要する時間T1は、従来の手法における弛み除去処理に要する時間T2よりも明らかに短くすることができることが判る。すなわち、本第1実施形態においては、上記弛み除去処理の際に、プレート給排高さ位置H3とエキスパンド高さ位置H1との間に設定された弛み除去処理高さ位置H2にウェハ供給用プレート6wが位置され、ウェハシート8の下面とエキスパンド部材63の先端部63aとが、加熱空気が漏出し難くなるように設定された隙間d分しか離間されていない状態とされていることにより、加熱ブロー装置80により供給された加熱空気を用いて効率的かつ略均一なウェハシート8の加熱を行うことができる。従って、弛み除去処理に要する時間を短縮化することができ、効率的な部品供給を実現することができる。例えば、従来の弛み除去処理に要する時間を、30〜50%程度も時間短縮することができる。なお、時間T1は、例えば5〜15秒程度の時間である。
なお、本第1実施形態においては、マガジンカセット50に種類の異なるプレートであるウェハ供給用プレート6wとトレイ供給用プレート6tとが混載されて収納され、ウェハ供給用プレート6w又はトレイ供給用プレート6tが選択的にマガジンカセット50から取り出されてプレート配置装置12に配置され、プレート6の種類に応じた電子部品2の供給が行われるような場合について説明したが、本実施形態はこのような場合についてのみ限定されるものではない。このような場合に代えて、例えば、マガジンカセット50にウェハ供給用プレート6wのみが収納され、プレート配置装置12にウェハ供給用プレート6wのみが配置供給されるような場合であってもよい。このような場合にあっては、プレート配置装置12は、ウェハ供給用プレート6wに対するエキスパンド動作を行うウェハエキスパンド装置としての機能、及び当該エキスパンドが施されたウェハ供給用プレート6wを用いてのウェハ供給部品2wの供給を行うウェハ供給部品の供給装置としての機能を有することとなる。
上記第1実施形態によれば、以下のような種々の効果を得ることができる。
まず、プレート配置装置12において、ウェハ供給用プレート6wのエキスパンド動作が施された後、当該エキスパンドにより生じたウェハシート8の弛みの除去を行うために加熱ブロー装置80による弛み除去処理を行う際に、ウェハ供給用プレート6が、プレート給排高さ位置H3とエキスパンド高さ位置H1との間の高さ位置である弛み除去高さ位置H2に位置されることで、ウェハシート8の下面とエキスパンド部材63の先端部63aとの間の距離を隙間d以下とすることができる。また、この隙間dは、ウェハシート8とエキスパンド部材63とにより囲まれた空間に供給される加熱空気が、当該隙間dを通してエキスパンド部材63の外部に漏出し難くなるよう設定されていることにより、上記加熱空気が保持する熱量を効率的にウェハシート8に伝達することができる。従って、弛み除去処理に要する時間を短縮化することができるとともに、ウェハシート8への加熱むらを低減して当該加熱による収縮むらを低減し、弛みを略均一に除去することができる。
また、このようなウェハシート8は、エキスパンド部材63の先端部63aと接触されて、当該先端部63aを支点としてエキスパンドが施されるため、ウェハシート8は先端部63a付近においてその延伸量が大きくなるという特徴を有するが、このように延伸量が大きい周辺付近において、隙間dより漏出する加熱空気量が低減されていることにより、より効果的に加熱することができる。
また、プレート配置装置12において、弛み除去処理高さ位置H2は、少なくとも当該弛み除去処理の完了の際に、弛みが略除去されたウェハシート8の下面とエキスパンド部材63の先端部63aとの間に、互いの接触(当接)を回避することができるような隙間dが確保されていることにより、両者の接触抵抗によりウェハシート8の収縮が阻害されるような事態が発生することを確実に防止することができ、略均一な弛み除去を行うことができる。ここで、「互いの接触(当接)を回避」されている状態とは、ウェハシート8の下面とエキスパンド部材63の先端部63aとの接触が完全に回避されている場合のみだけでなく、ウェハシート8の下面とエキスパンド部材63の先端部63aとが僅かに接触されているような場合であっても、その接触の抵抗によりウェハシート8の収縮が阻害されることがないような程度(すなわち収縮の障害とならない程度)の接触状態を含むものである。
また、プレート配置装置12において、弛み除去処理高さ位置H2とトレイプレート保持高さ位置とを同じ高さ位置とすることで、当該それぞれの高さ位置にプレート6を停止される機構を兼用することができ、装置構成の簡素化を図ることができる。
また、部品供給装置4のプレート配置装置12における夫々のプレート押圧体61の下降位置を中間ストッパー駆動部69により選択的に規制することができるため、プレート配置装置12に配置されるプレート6の種類に応じて、上記下降位置の規制を行うことにより、トレイ供給用プレート6tの保持を確実に行うことができ、上記下降位置の規制を解除することにより、ウェハ供給用プレート6wを確実に保持しながら、ウェハシート8の延伸を行ってエキスパンドを行うことができる。従って、配置供給されるプレート6の種類に応じて、適切な保持動作やエキスパンド動作を選択的にかつ自動的に行うことができ、部品供給を効率的に行うことを可能とすることができる。
また、上記プレート6の種類の識別は、マガジンカセット50に混載されている夫々のプレート6をプレート移動装置40により取り出す際に、プレート6の端部を把持するチャック部41に隣接して備えられているプレート識別センサ41bを用いて行うことができる。具体的には、プレート6の端部に、トレイ供給用プレート6tの場合にのみ識別孔56を設けて、当該識別孔56の有無をプレート識別センサ41bにより識別することにより、上記プレート6の種類の識別行うことができる。また、この識別結果に基づいて中間ストッパー駆動部69による中間ストッパー69aの移動位置を決定することにより、夫々のプレート押圧体61の下降位置の規制を選択的に行うことができる。
また、ウェハ供給用プレート6wのウェハシート8に当接されることによりエキスパンドを行うエキスパンド部材63の先端部63aが、トレイ供給用プレート6tの下面に接触しないように、上記夫々のプレート押圧体61の下降位置が規制されているため、エキスパンド部材63の先端部を傷付けることを防止することができる。
また、プレート配置装置12においては、その支持高さ位置が可変可能とされた複数のプレート支持部60が備えられていることにより、夫々のプレート6の外周部近傍において夫々のプレート6を支持することができるとともに、夫々のプレート押圧体61の昇降動作に合わせて、上記支持を行いながらその支持高さ位置を自由に可変することができ、上述の効果を達成することが可能となっている。
また、その先端に傾斜端部65aを有するテーパ支持部65が備えられていることにより、この傾斜端部65aにプレート6の端部を当接させて、角度抵抗によりプレート6の表面沿いの方向の支持位置の保持を行うことができ、確実かつ正確な保持が可能となる。
(第2実施形態)
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。例えば、本発明の第2の実施形態にかかる部品供給装置は、ウェハ供給用プレートとして2種類のプレート6が取り扱われる点において上記第1実施形態の部品供給装置4とは異なっており、それ以外の構成については上記第1実施形態と同様である。従って、この異なる構成についてのみ、以下に図面を用いて説明する。
本第2実施形態においては、上記第1実施形態の部品供給装置4がそのまま用いられる。部品供給装置4が備えるマガジンカセット50には、ウェハ供給部品2wの供給が行われるウェハ供給用プレート6wと、トレイ供給部品2tの供給が行われるトレイ供給用プレート6tとが混載して収納されており、さらに、LED等のウェハ供給部品よりなる比較的小型のウェハを、エキスパンドした状態において保持するエキスパンド済みウェハ保持リングをその上面に載置するエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fが収納されている。なお、このエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fもダイシングが施されたウェハ供給部品を供給可能に保持していることから、ウェハ供給用プレートの一例であるということができる。
ここで、このエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fの模式的な構成を示す模式斜視図を図22に示す。図22に示すように、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fは、直線状の部分と曲線状の部分とが組み合わされた外周部分を有する大略円盤状の形状を有しており、上記第1実施形態において説明したウェハ供給用プレート6wとトレイ供給用プレート6tとが組み合わせられたような形状を有している。すなわち、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fにおけるプレート取出方向Cを挟んで互いに対向されるそれぞれの端部は、マガジンカセット50のそれぞれの溝部50bと係合されることが可能とされており、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fがこのような形状を有していることにより、ウェハ供給用プレート6wとトレイ供給用プレート6tとともに共通のマガジンカセット50にエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fを取り出し可能に収納することが可能とされている。なお、このようなエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fに載置されるエキスパンド済みウェハ保持リングにおけるウェハは比較的小型のものであり、そのサイズが6インチ以下のウェハ、例えば、2インチ、3インチ、4インチ等のウェハが載置される。
図22に示すエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fから載置されているエキスパンド済みウェハ保持リングが取り出された状態におけるエキスパンド済みウェハ供給用プレート6f及びエキスパンド済みウェハ保持リングを図23に示す。
図23に示すように、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fは、ウェハリング9及びトレイリング59と略同じ外周形状を有するとともに、略正方形状の内周孔部を有する環状プレートであるリングプレート259と、このリングプレート259の上記内周孔部分に取り付けられて形成され、エキスパンド済みウェハ保持リング257を着脱可能に載置する載置部258とを備えている。載置部258は、リングプレート259よりも一段低くなるように形成されており、エキスパンド済みウェハ保持リング257が載置された場合に、そのエキスパンド済みウェハ保持リング257に配置されているウェハ供給部品2fの上面の高さ位置が、リングプレート259の表面高さ位置と略同じとなるように形成されている。このように形成されることで、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fにおけるウェハ供給部品2fの高さ位置を、トレイ供給用プレート6tにおけるトレイ供給部品2tの高さ位置、及びウェハ供給用プレート6wにおけるウェハ供給部品2wの高さ位置と略同じ高さ位置とすることができる。なお、リングプレート259と載置部258とは別々に形成されて、リングプレート259の内側に載置部258が取り付けられるような場合にのみ限られるものではなく、リングプレート259と載置部258とが互いに一体的な状態にて形成されるような場合であってもよい。
また、図23に示すように、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fにおける載置部258の中心付近には、配置されるエキスパンド済みウェハ保持リング257のウェハ207の配置及び大きさに合致するように孔部258aが形成されている。この孔部は、エキスパンド済みウェハ保持リング257が配置されたエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fが、プレート配置装置12に供給されて部品供給が行われる際に、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fの下方よりそれぞれのウェハ供給部品2fを突き上げ可能とするためのものである。
また、図23に示すように、エキスパンド済みウェハ保持リング257は、その上面にダイシングが施された状態のウェハ207を配置して備えており、さらに、ウェハ207は当該配置された状態にてエキスパンドが施された状態が保たれている。また、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fにおけるリングプレート259のプレート取出方向C側の端部近傍位置が、プレート移動装置40によるエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fの保持位置となっており、また、この部分にはエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fを他の種類のプレート6から識別するための識別孔256が形成されている。なお、識別孔256は、トレイ供給用プレート6tに設けられている識別孔56とは異なる位置に形成されている。
また、図23に示すように、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fの載置部258には、配置されたエキスパンド済みウェハ保持リング257の配置位置を保持するための複数の保持部材が取り付けられている。上記それぞれの保持部材としては、2種類の保持部材が設けられており、一方はエキスパンド済みウェハ保持リング257の端部と当接されかつ係合されることで、エキスパンド済みウェハ保持リング257の配置位置をエキスパンド済みウェハ保持リング257の表面沿いの方向であってかつ上記当接の方向に固定する固定側保持部材281であり、もう一方は固定側保持部材281に向けてエキスパンド済みウェハ保持リング257を付勢しながらエキスパンド済みウェハ保持リング257の端部を保持する保持部材であって、との保持位置が弾性部材により支持されながらスライド可能とされたスライド側保持部材280である。なお、エキスパンド済みウェハ保持リング257が略円形状であるため、3点以上にて保持可能なように固定側保持部材281は2個設けられている。
ここで、スライド側保持部材280の拡大平面図を図24Aに示し、その側面図を図24Bに示す。図24A及び図24Bに示すように、スライド側保持部材280は、エキスパンド済みウェハ保持リング257の端部と当接され、かつ、その当接位置がスライド移動されるスライド部280aと、このスライド部280aを弾性部材280bを介して保持するスライド受部280cとを備えている。また、エキスパンド済みウェハ保持リング257の端部と当接された状態のスライド部280aは図示右側にスライド移動され、当該状態において弾性部材280bにより上記端部を図示左側方向に向けて付勢することが可能とされている。
また、このようなエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fは、上述した構成のみに限られるものではなく、様々な構成を取り得る。上述したような構成に代えて、例えば、図25及び図26に示すように、リングプレート359を載置部358を支持する本体部359aと、プレート取出方向cに沿って配置されたそれぞれの端部358bという構成に分けて形成されるような場合であってもよい。このような場合において、マガジンカセット50において支持されるそれぞれの端部358bを樹脂、例えばPEEK樹脂にて形成し、本体部359aをアルミニウムにて形成することにより、汎用性が求められるマガジンカセットを特殊な仕様とすることなく、通常アルミニウムにて形成されるマガジンカセットの溝部と、樹脂で形成されたリングプレート359の端部358bとの互いの接触摩耗による切粉等の発生量を低減させることができるという効果を得ることが可能となる。
次に、このような構成を有するエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fよりそれぞれのウェハ供給部品2fが供給される手順について説明する。
まず、マガジンカセット50に収納されているそれぞれのプレート6の中から、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fが選択されるとともに、プレート移動装置40によりこのエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fが取り出されて、プレート配置装置12に搬送される。
プレート配置装置12に配置されたエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fは、プレート給排高さ位置H3にて、それぞれのプレート支持部60及びプレート押圧体61により支持される。その後、押圧体昇降部62によりそれぞれのプレート押圧体61が下降されるとともに、当接位置に配置された中間ストッパー69dによりその下降高さ位置が規制されて、図27に示すように、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fが、トレイプレート保持高さ位置、すなわち、弛み除去処理高さ位置H2に位置される。
図27に示すように、このような高さ位置に保持されることで、突き上げ装置280により、エキスパンド済みウェハ保持リング257上に配置されているウェハ供給部品2fが突き上げられることで、ウェハ供給部品2fの供給が行われる。
なお、部品供給が完了した後、エキスパンド済みウェハ供給用プレート6fはプレート給排高さ位置H3に上昇されて、マガジンカセット50に収納される。
上記第2実施形態によれば、ウェハ供給用プレート6w及びトレイ供給用プレート6tという部品の供給形態に、さらにエキスパンド済みウェハ供給用プレート6fによる部品の供給形態が加えられるような場合であっても、プレート配置装置12における3つのプレート支持高さ位置、すなわち、プレート給排高さ位置H3、弛み除去処理高さ位置(トレイプレート保持高さ位置)H2、及びエキスパンド高さ位置H1を選択的に使い分けることで、それぞれのプレート6の見合った部品供給形態を確実かつ効率的に実現することができる。さらに、このような供給形態においても、ウェハ供給用プレート6wのウェハシート8に対する弛み除去処理を確実かつ効率的に実施することができ、効率的な部品供給を実現することができる。
なお、上記様々な実施形態のうちの任意の実施形態を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。
本発明は、添付図面を参照しながら好ましい実施形態に関連して充分に記載されているが、この技術の熟練した人々にとっては種々の変形や修正は明白である。そのような変形や修正は、添付した請求の範囲による本発明の範囲から外れない限りにおいて、その中に含まれると理解されるべきである。
2004年5月24日に出願された日本国特許出願No.2004−153242号の明細書、図面、及び特許請求の範囲の開示内容は、全体として参照されて本明細書の中に取り入れられるものである。
本発明の第1実施形態にかかる電子部品実装装置の斜視図である。 図1の電子部品実装装置が備える部品供給装置の拡大半透過斜視図である。 上記部品供給装置のリフター装置におけるマガジンカセットの半透過斜視図である。 上記部品供給装置にて取り扱われるウェハ供給用プレートの斜視図である。 上記部品供給装置にて取り扱われるトレイ供給用プレートの斜視図である。 上記リフター装置におけるカセット昇降部の斜視図である。 上記部品供給装置のプレート配置装置の斜視図である。 上記プレート配置装置に上記ウェハ供給用プレートが配置された状態の断面図である。 上記プレート配置装置に上記トレイ供給用プレートが配置された状態の断面図である。 上記プレート配置装置の部分拡大斜視図である。 上記プレート配置装置における中間ストッパー駆動部の模式説明図である。 テーパ支持部の拡大側面図である。 上記部品供給装置におけるプレート移動装置の斜視図である。 プレート配置装置において、ウェハ供給用プレートがエキスパンド高さ位置に位置された状態を示す模式説明図である。 プレート配置装置において、ウェハ供給用プレートが弛み除去処理高さ位置に位置された状態であって、弛み除去処理開始直後の状態を示す模式説明図である。 プレート配置装置において、ウェハ供給用プレートが弛み除去処理高さ位置に位置された状態であって、弛み除去処理完了直前の状態を示す模式説明図である。 プレート配置装置において、ウェハ供給用プレートがプレート給排高さ位置に位置された状態を示す模式説明図である。 ウェハ供給用プレートに対するエキスパンド実施後、弛み除去処理を実施する手順を示すフローチャートである。 上記第1実施形態の変形例にかかるエキスパンド部材を用いて、弛み除去処理が行われている状態を示す模式説明図である。 図19のエキスパンド部材の部分拡大図である。 ウェハシートの弛み量と弛み除去処理に要する時間との関係を示すグラフであって、上記第1実施形態の弛み除去処理と従来の処理とを比較する図である。 本発明の第2実施形態にかかる部品供給装置において取り扱われるエキスパンド済みウェハ供給用プレートの模式斜視図である。 図22のエキスパンド済みウェハ供給用プレートにおいて、エキスパンド済みウェハ保持リングが取り外された状態を示す模式斜視図である。 エキスパンド済みウェハ供給用プレートが備えるスライド側保持部材の模式拡大平面図である。 図24Aのスライド側保持部材の模式拡大側面図である。 上記第2実施形態の変形例にかかるエキスパンド済みウェハ供給用プレートの模式斜視図である。 図25のエキスパンド済みウェハ供給用プレートにおいて、エキスパンド済みウェハ保持リングを取り外した状態を示す模式斜視図である。 プレート配置装置において、エキスパンド済みウェハ供給用プレートよりウェハ供給部品の供給が行われている状態を示す模式説明図である。 従来のウェハに対するエキスパンド動作を示す模式説明図であって、エキスパンド開始前の状態を示す図である。 従来のウェハに対するエキスパンド動作を示す模式説明図であって、エキスパンド中の状態の図である。 従来において、エキスパンドが施されたウェハシートに対して、弛み除去処理が開始された状態を示す模式説明図である。 従来の弛み除去処理が施されたウェハシートに弛みが残存している状態を示す模式説明図である。

Claims (10)

  1. ウェハ(7)に対してダイシングが施されて形成された複数のウェハ供給部品(2w)が貼着されたウェハシート(8)を保持するウェハ供給用プレート(6w)に対して、上記ウェハシートのエキスパンドを行い、上記それぞれのウェハ供給部品を上記ウェハシートより供給可能とするウェハエキスパンド装置(12)において、
    環状の部材であって、当該環状の上端部(63a)が上記ウェハシートの下面を相対的に押圧することで、当該ウェハシートを略放射状に延伸させて上記エキスパンドを行うエキスパンドリング(63)と、
    上記エキスパンドリングの上方に配置される上記ウェハ供給用プレートを保持可能であって、当該保持されたウェハ供給用プレートを上記エキスパンドリングに対して相対的に下降させることで上記エキスパンドを行い、相対的に上昇させることで当該エキスパンドを解除するプレート昇降装置(61,60、62、及び65)と、
    上記エキスパンドが解除された上記ウェハシートの下面に対して上記エキスパンドリングの内側より加熱ブローすることにより、当該延伸により生じた当該ウェハシートの弛みの除去を行う加熱ブロー装置(80)とを備え、
    上記プレート昇降装置は、
    上記エキスパンドリングとの干渉が防止されながら当該ウェハ供給用プレートの供給及び排出が行われる第1の高さ位置(H3)と、
    当該ウェハ供給プレートに対する上記エキスパンドが行われる高さ位置である第2の高さ位置(H1)と、
    上記プレート供給高さ位置と上記第2の高さ位置との間の高さ位置であって、上記延伸が解除されかつ当該ウェハシートに対して上記加熱ブロー装置による上記弛みの除去が行われる高さ位置であり、当該弛みの除去が完了する際に当該ウェハシートと上記エキスパンドリングの上端部との当接が回避される高さ位置である第3の高さ位置(H2)とのそれぞれの昇降高さ位置において、上記ウェハ供給用プレートの配置を保持可能であるウェハエキスパンド装置。
  2. 上記プレート昇降装置は、上記弛み除去高さ位置において、上記弛みの除去が完了する際に上記ウェハシートと上記エキスパンドリングの上記上端部との間に、両者の当接を回避可能であって、かつ、当該ウェハシートと当該エキスパンドリングとにより略囲まれた空間内に上記加熱ブロー装置より供給される加熱空気が、上記エキスパンドリングの外部に漏出することを抑制可能に設定された隙間(d)が生じるように、上記ウェハ供給用プレートを配置する請求項1に記載のウェハエキスパンド装置。
  3. 上記エキスパンドリングの上記環状の上端部(163a)は、上記空間内の加熱ブロー雰囲気が上記隙間を通して漏出することを抑制可能に、当該環状の内側に向けて折り曲げられた形状を有する請求項2に記載のウェハエキスパンド装置。
  4. 上記隙間は、0.2mm〜1.5mmの範囲にて設定される請求項2に記載のウェハエキスパンド装置。
  5. 上記プレート昇降装置は、
    上記第1の高さ位置に配置される上記ウェハ供給用プレートをその外周部近傍における下面部より支持可能、かつ、その支持高さ位置が可変する複数の弾性支持部材(60、65)と、
    上記それぞれの弾性支持部材に支持された上記ウェハ供給用プレートを、上記それぞれの弾性支持部材との間で挟むように、その外周部近傍における上面側より押圧して、当該ウェハ供給用プレートの保持を行うプレート押圧体(61)と、
    上記プレート押圧体により保持された上記ウェハ供給用プレートが上記第1の高さ位置と上記第2の高さ位置との間で昇降されるように、上記プレート押圧体の昇降を行う押圧体昇降部(62)と、
    上記押圧体昇降部による上記プレート押圧体の昇降位置を上記第1の高さ位置と上記第2の高さ位置との間で選択的に規制して、上記プレート押圧体により保持された上記ウェハ供給用プレートを上記第3の高さ位置に位置させる規制部(69)とを備える請求項1に記載のウェハエキスパンド装置。
  6. 基板に実装される複数の部品を収納するとともに、当該収納されたそれぞれの部品を部品実装可能に供給する部品供給装置(4)において、
    上記部品のうちの複数の上記ウェハ供給部品が配置された上記ウェハを載置する複数のウェハ供給用プレートと、複数のトレイ供給部品(2t)が配置された部品供給トレイ(57)を載置する複数のトレイ供給用プレート(6t)とを取り出し可能に収納するプレート収納部(50)と、
    上記それぞれのプレートのうちのいずれかの上記プレートを選択的に配置させて保持し、上記ウェハより上記それぞれのウェハ供給部品を、又は、上記部品供給トレイより上記トレイ供給部品を供給可能な状態とさせるプレート配置装置(12)と、
    上記プレートを解除可能に保持して、上記プレート収納部から取り出すとともに、上記プレート配置装置に保持可能に移動させるプレート移動装置(40)とを備え、
    上記プレート配置装置は、上記それぞれのプレートを保持してその昇降を行う請求項5に記載の上記ウェハエキスパンド装置を備え、
    上記プレート配置装置は、上記トレイ供給用プレートが配置された場合に、上記規制部により上記プレート押圧体の下降位置を規制して、当該プレート押圧体により保持された上記トレイ供給用プレートを、上記第3の高さ位置に位置させて、当該トレイ供給用プレートから上記それぞれのトレイ供給部品を供給可能とさせる部品供給装置。
  7. 上記プレート収納部は、既にエキスパンドが施された状態のウェハ(207)を載置するエキスパンド済みウェハ供給用プレート(6f)を収納可能であって、
    上記プレート配置装置は、上記エキスパンド済みウェハ供給用プレートが配置された場合に、上記規制部により上記プレート押圧体の下降位置を規制して、当該プレート押圧体により保持された上記エキスパンド済みウェハ供給用プレートを、上記第3の高さ位置に位置させて、当該プレートから上記それぞれのウェハ供給部品(2f)を供給可能とさせる請求項6に記載の部品供給装置。
  8. ウェハ(7)に対してダイシングが施されて形成された複数のウェハ供給部品(2w)が貼着されたウェハシート(8)を保持するウェハ供給用プレート(6w)を、環状の部材であるエキスパンドリング(63)の上方の位置である第1の高さ位置(H3)に配置し、
    当該ウェハ供給用プレートを上記エキスパンドリングに対して相対的に下降させて第2の高さ位置(H1)に配置し、上記ウェハシートを上記エキスパンドリングの上端部(63a)に当接させながら相対的に押圧することで、当該ウェハシートを略放射状に延伸させて、上記それぞれのウェハ供給部品を供給可能にエキスパンドを行い、
    上記ウェハ供給用プレートを上記エキスパンドリングに対して相対的に上昇させて上記第1の高さ位置と第2の高さ位置との間の高さ位置である第3の高さ位置(H2)に配置して当該エキスパンドの解除を行い、
    当該第3の高さ位置において、少なくとも上記エキスパンドにより上記ウェハシートに生じた弛みの除去が完了する際に、当該ウェハシートと上記エキスパンドリングの上端部との当接が回避されるように、上記ウェハシートの下面に対して上記エキスパンドリングの内側より加熱ブローすることにより当該ウェハシートの弛みの除去処理を行うウェハシートのエキスパンド方法。
  9. 上記ウェハシートの弛み除去処理において、上記第2の高さ位置にその配置が保持された上記ウェハ供給用プレートの上記ウェハシートと、上記エキスパンドリングの上端部との間に、当該ウェハ供給用プレートの上記ウェハシートと上記エキスパンドリングとにより略囲まれた空間内に供給される上記加熱ブローによる加熱空気が、上記エキスパンドリングの外部に漏出することを抑制可能に設定された隙間(d)を生じさせることで、当該ウェハシートと当該エキスパンドリングとの当接を回避させる請求項8に記載のウェハシートのエキスパンド方法。
  10. 上記隙間は、0.2mm〜1.5mmの範囲にて設定される請求項9に記載のウェハシートのエキスパンド方法。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4632313B2 (ja) * 2006-05-18 2011-02-16 リンテック株式会社 貼替装置および貼替方法
CN101842000B (zh) * 2009-03-19 2014-04-30 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 贴附装置及使用该贴附装置的贴附方法
JP5542583B2 (ja) * 2010-08-26 2014-07-09 リンテック株式会社 シート貼付装置および貼付方法
JP2012059749A (ja) * 2010-09-06 2012-03-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板用の保持治具
JP5013148B1 (ja) * 2011-02-16 2012-08-29 株式会社東京精密 ワーク分割装置及びワーク分割方法
JP5472275B2 (ja) * 2011-12-14 2014-04-16 株式会社村田製作所 エキスパンド装置及び部品の製造方法
JP5981154B2 (ja) * 2012-02-02 2016-08-31 三菱電機株式会社 半導体装置の製造方法
CN104600010A (zh) * 2015-01-22 2015-05-06 佛山市南海区联合广东新光源产业创新中心 扩晶机的顶膜结构
US11211266B2 (en) * 2016-09-21 2021-12-28 Texas Instruments Incorporated Universal load port for ultraviolet radiation semiconductor wafer processing machine
KR102374393B1 (ko) * 2021-07-09 2022-03-15 주식회사 기가레인 웨이퍼 트레이 조립 장치 및 웨이퍼 트레이 조립 방법
JPWO2023042259A1 (ja) * 2021-09-14 2023-03-23

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02231740A (ja) * 1989-03-06 1990-09-13 Toshiba Corp ウエハーシートの延伸装置,ウエハーシートの延伸方法,半導体ペレット取出し方法,半導体ペレット取出し装置,インナーリードボンディング装置,インナーリードボンディング方法
JPH0463459A (ja) * 1990-07-03 1992-02-28 Rohm Co Ltd ウエハ用シートのエキスパンション装置
JPH07321070A (ja) * 1994-05-26 1995-12-08 Rohm Co Ltd ウェハのエキスパンド方法
JPH1145865A (ja) * 1997-07-28 1999-02-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd ダイシングシートのエキスパンド方法およびその装置
JP2002334853A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Disco Abrasive Syst Ltd 被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置
JP2004146727A (ja) * 2002-10-28 2004-05-20 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハの搬送方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62124911A (ja) 1985-11-26 1987-06-06 日本電気株式会社 半導体ペレツトの分割方法
MY118036A (en) * 1996-01-22 2004-08-30 Lintec Corp Wafer dicing/bonding sheet and process for producing semiconductor device
US6514795B1 (en) * 2001-10-10 2003-02-04 Micron Technology, Inc. Packaged stacked semiconductor die and method of preparing same
JP4288392B2 (ja) * 2003-09-29 2009-07-01 株式会社東京精密 エキスパンド方法
US20060012020A1 (en) * 2004-07-14 2006-01-19 Gilleo Kenneth B Wafer-level assembly method for semiconductor devices

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02231740A (ja) * 1989-03-06 1990-09-13 Toshiba Corp ウエハーシートの延伸装置,ウエハーシートの延伸方法,半導体ペレット取出し方法,半導体ペレット取出し装置,インナーリードボンディング装置,インナーリードボンディング方法
JPH0463459A (ja) * 1990-07-03 1992-02-28 Rohm Co Ltd ウエハ用シートのエキスパンション装置
JPH07321070A (ja) * 1994-05-26 1995-12-08 Rohm Co Ltd ウェハのエキスパンド方法
JPH1145865A (ja) * 1997-07-28 1999-02-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd ダイシングシートのエキスパンド方法およびその装置
JP2002334853A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Disco Abrasive Syst Ltd 被加工物の分割処理方法および分割処理方法に用いるチップ間隔拡張装置
JP2004146727A (ja) * 2002-10-28 2004-05-20 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハの搬送方法

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