JP4684683B2 - クリーンブースおよびそのクリーンブースを用いた作業システム - Google Patents
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Description
図7は、ある生産工程を経て運ばれてきた半導体の半製品(ウエハー)が、新たな生産工程へと移行するために、次の生産装置へと搬入される様子を示す概略工程図である。図7のクリーンルーム100はクラス1000レベルの空気の清浄度を備えており、そのクリーンルーム100の内部に設けられた生産装置103の内部はクラス1レベルの空気清浄度を備えている。
、開口部を介して前記周壁の他面に、人が出入りする出入口が形成されているので、半製品を生産装置の搬入出口へ手動で出し入れする。そしてクリーンブース内はファンフィルタユニットによって清浄な空気で満たされているので、半製品を汚染から防ぐことができる。すなわち、手動の搬送を実現することができるので、搬送経路の自由度が増し、搬送経路の変更にも素早く対応できる。また、自動搬送装置のための余分なスペースがいらないので、クリーンルーム内の限られた空間を有効に活用することができる。さらに、クリーンブース内部が生産装置の搬入出口と連通しているので、生産装置の生産排気を搬入出口を介してクリーンブース内の清浄空気を供給することができる。したがって、生産装置の排気に基づくクリーンルーム内の気流の乱れを防止することができる。そして、ブース本体の周壁の下端に床面との間に所定の間隔を空けて内部と外部とを連通する隙間が形成されているので、天面のファンフィルタユニットから流れる清浄な空気を隙間から排出するので、ほぼ垂直下方の流れを実現できる。
図4に示すように前記フレーム4の脚部材4bの下端には、アジャスタ7が設けられており、床2cと所定の間隔(隙間11)を空けるように配置されている。そのため、ファンフィルタユニット5より供給されてクリーンブース1内を流れた清浄空気は床2c付近まで垂直下向きに流れ、床2cに到達すると、前記隙間11より外部に流れ出る。なお、アジャスタ7は、例えばネジ機構などによりその高さを調整することができれば、隙間11の幅を変化させて、クリーンブース1内のエアの流れを調整することもできる。また、アジャスタ7としてキャスタなどの車輪を備えたものを用いると移動が容易となる。
1a 作業スペース
1b 出入口スペース
1c 出入口
1d 開口部
1e 作業台
2 クリーンルーム
2a 天井
2b グレーチング床
2c 床
2d HEPAフィルタ
3 生産装置
3a 搬入出口
3b パッキンあるいはコーキング材
4 フレーム
4a 枠部
4b 脚部
4c 梁部
4d 開口部
4e 肩部
5 FFU(フィルタファンユニット)
6 周壁
6a 側壁
6b 壁
6c 垂れ壁
6d 背面壁
7 アジャスタ
8 フィルタ部材
8a HEPAフィルタ
8b 金属枠
9 駆動部
9a 駆動モータ
9b ファン
10 カバー
10a 係止部
11 隙間
12 密閉容器
13 ウエハー
A クリーンブース付き生産装置
B クリーンブースを用いた作業システム
W 作業員
Claims (4)
- 液晶あるいは半導体製品の複数の生産装置を行き来しながら必要な処理を施される半製品を、前記生産装置で処理する際に蓋をはずして一枚ずつ運び込み、前記生産装置での処理が終了すると戻されて蓋をされる密閉容器で工程間搬送するクリーンルーム内に設置され、
天面と周壁とを備えたブース本体と、前記天面に配置されたファンフィルタユニットとからなり、
前記ブース本体の周壁の下端に床面との間に所定の間隔を空けて内部と外部とを連通する隙間が形成され、
前記周壁の一面には、生産装置の搬入出口側に気密に取り付ける取付部と、その取付部により搬入出口と連通する前記密閉容器を搬出入する開口部とが形成され、
前記周壁の一面のうち該開口部を含む一部を囲む作業スペースを有し、
前記周壁の他面には、人が出入りする出入口が前記開口部に対向しないよう形成され、
前記周壁の他面のうち該出入口を含む一部を囲む出入口スペースを有し、
前記密閉容器を運び入れる人が前記出入口スペースに出入りしても、前記搬入出口には人を経由した空気あるいは外部から混入した空気が流れ込まない垂直下方の空気流れを有することを特徴とするクリーンブース。 - 前記天面が枠状部材により形成され、その枠状部材に複数のファンフィルタユニットが並べて固定され、天面の略全体を清浄空気の吹き出し口としている請求項1記載のクリーンブース。
- 前記複数のファンフィルタユニットの風量が互いに異なる請求項2記載のクリーンブース。
- 粉塵の混入を嫌う製品を生産する生産装置と、
その生産装置の搬入出口側に気密に取り付けられた請求項1、2または3記載のクリーンブースと、
それらクリーンブースの間で半製品または材料を密閉状態で搬送するための密閉容器とからなるクリーンブースを用いた作業システム。
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Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2001298068A (ja) * | 2000-04-18 | 2001-10-26 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | 局所清浄化法及び局所清浄化加工処理装置 |
JP2002022227A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-23 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリーンルーム設備 |
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JP2002022227A (ja) * | 2000-07-04 | 2002-01-23 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | クリーンルーム設備 |
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