JP4661967B2

JP4661967B2 - 液晶表示素子の製造方法

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Publication number: JP4661967B2
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Inventors: 則博荒井; 亮太水迫
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Description

この発明は、一対の基板の互いに対向する内面それぞれに形成された配向膜を平行な方向にラビング処理し、液晶層の液晶分子を、分子長軸を配向膜のラビング方向に揃えて配向させた非ツイスト配向型の液晶表示素子の製造方法に関する。

液晶表示素子は、予め定めた間隙を設けて対向配置され、枠状のシール材を介して接合された一対の基板と、一対の基板間の間隙のシール材で囲まれた領域に封入された液晶層と、一対の基板の互いに対向する内面の少なくとも一方に、複数の画素を形成するための予め定めた複数の単位領域にそれぞれ対応させて設けられ、電圧の印加により液晶層の液晶分子の分子長軸の向きを変化させる電界を生成する電極と、一対の基板の内面それぞれに設けられ、それぞれが予め定めた方向にラビング処理された配向膜とからなっている。

液晶表示素子の製造において、一対の基板を接合するためのシール材は、一対の基板の内面にそれぞれ形成された配向膜をラビング処理した後に、いずれか一方の基板の内面上に、非印刷領域をマスクするスクリーンとスクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージとを用いるスクリーン印刷により印刷されるが、このシール材の印刷中に、配向膜のラビング処理された面が部分的にスクリーンにより擦られる。

そのため、一対の基板の内面に形成された配向膜をそれぞれ予め定めた角度で交差する方向にラビング処理し、液晶層の液晶分子を一対の基板間においてツイスト配向させたＴＮ型やＳＴＮ型等の液晶表示素子の製造においては、シール材のスクリーン印刷を、シール材を印刷する基板に形成された配向膜のラビング方向に対して９０°より大きい角度で交差する方向にスキージを移動させて行い、配向膜のラビング処理された面が部分的にスクリーンにより擦られても、液晶分子のツイスト配向に影響しないようにしている（特許文献１参照）。

特許第２７７４７１４号公報

しかし、上記のように配向膜のラビング方向に対して９０°より大きい角度で交差する方向にスキージを移動させてシール材を印刷する従来の製造方法は、液晶分子をツイスト配向させた液晶表示素子の製造には有効であるが、一対の基板の互いに対向する内面それぞれに形成された配向膜を平行な方向にラビング処理し、液晶層の液晶分子を、分子長軸を配向膜のラビング方向に揃えて配向させた非ツイスト配向型の液晶表示素子を製造する場合は、配向膜のラビング方向とスクリーンにより擦られた方向との違いが液晶分子の配向に影響し、液晶分子の配向に乱れが生じる。

この発明は、一対の基板の互いに対向する内面それぞれに形成された配向膜を平行な方向にラビング処理し、液晶層の液晶分子を、分子長軸を配向膜のラビング方向に揃えて配向させた非ツイスト配向型の液晶表示素子を、液晶分子の配向に乱れを生じることを抑制することができる液晶表示素子の製造方法を提供することを目的としたものである。

この発明の請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法は、
第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程は、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の始点側から終点側に移動させて印刷することを特徴とする。

請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法において、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成された第１の電極と、前記第１の電極と前記一方の基板との間に介在するように前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の前記一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成する第２の電極とが設けられ、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする。

請求項３に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法において、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、第１の電極と第２の電極とが設けられ、前記第１の電極は、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成され、前記第２の電極は、前記一方の基板との間に前記第１の電極が介在するように前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の前記一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成し、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする。

請求項４に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法において、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに逆向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の前記一の面と平行に配向した非ツイストのホモジニアス配向型液晶表示素子であることを特徴とする。

請求項５に記載の発明は、前記請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法において、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに同じ向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一対の基板間においてスプレイ配向したベンド配向型液晶表示素子であることを特徴とする。

請求項６に記載の発明は、第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、前記複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成された第１の電極と、前記第１の電極よりも前記一方の基板側に前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の内面と平行な方向に変化させる横電界を生成する第２の電極とが設けられ、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする。

請求項７に記載の発明は、第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、第１の電極と第２の電極とが設けられ、前記第１の電極は、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成され、前記第２の電極は、前記一方の基板との間に前記第１の電極が介在するように前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の前記一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成し、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする。

請求項８に記載の発明は、第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、前記複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに逆向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の前記一の面と平行に配向した非ツイストのホモジニアス配向型液晶表示素子であることを特徴とする。

請求項９に記載の発明は、第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、前記複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに逆向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の前記一の面と平行に配向した非ツイストのホモジニアス配向型液晶表示素子であることを特徴とする。
造方法。

請求項１０に記載の発明は、前記請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶表示素子の製造方法において、前記基板接合工程の後に、前記第１の基板及び前記第２の基板のうちいずれか一方の基板における前記シール材の外側に張出した部分と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち他方のうち、複数の走査線端子及び信号線端子が設けられた端子配列部の外側に張出した部分とを切り落とす基板切断工程を、更に含むことを特徴とする。

請求項１１に記載の発明は、前記請求項１０に記載の液晶表示素子の製造方法において、前記基板接合工程の後に、シール材の一部に予め形成しておいた液晶注入口から前記第１の基板及び前記第２の基板との間の間隙における前記シール材で囲まれた領域に液晶を注入し、その後、液晶注入口を封止する液晶封入工程を、更に含むことを特徴とする。

この発明の液晶表示素子の製造方法によれば、一対の基板の互いに対向する内面それぞれに形成された配向膜を平行な方向にラビング処理し、液晶層の液晶分子を、分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて配向させた非ツイスト配向型の液晶表示素子を、前記液晶分子の配向に乱れを生じることを抑制することができる。

この発明の第１の実施形態を示す、製造する液晶表示素子の平面図。第１の実施形態に係る液晶表示素子のうち図３のII-II切断線に沿った矢視断面図。第１の実施形態に係る液晶表示素子の一方の基板の一部分の拡大平面図。第１の実施形態に係る液晶表示素子の１つの画素を形成する第１と第２の電極の形状及び液晶分子の配向状態を示す拡大平面図。第１の実施形態に係る液晶表示素子の製造工程図。第１の実施形態に係る液晶表示素子のシール材の印刷方法を示す図。この発明の第２実施形態に係る液晶表示素子のシール材の印刷方法を示す図。

（第１の実施形態）
図１〜図６はこの発明の第１の実施形態を示しており、図１は製造する液晶表示素子の平面図、図２は第１の実施形態に係る液晶表示素子のうち図３のII-II切断線に沿った矢視断面図、図３は第１の実施形態に係る液晶表示素子の一方の基板の一部分の拡大平面図、図４は第１の実施形態に係る液晶表示素子の１つの画素を形成する第１と第２の電極の形状及び液晶分子の配向状態を示す拡大平面図、図５は第１の実施形態に係る液晶表示素子の製造工程図、図６は第１の実施形態に係る液晶表示素子のシール材の印刷方法を示す図である。

まず、製造する液晶表示素子について説明する。本実施形態に係る液晶表示素子１は、非ツイスト配向型の液晶表示素子であり、図１〜図４のように、予め定めた間隙を設けて対向配置され、枠状のシール材４を介して接合された透明である一対の基板２，３と、一対の基板２，３間の間隙におけるシール材４で囲まれた領域に封入された液晶層５と、一対の基板２，３の互いに対向する内面の少なくとも一方に、複数の画素３０を形成するための予め定めた複数の単位領域にそれぞれ対応させて設けられ、電圧の印加により液晶層５の液晶分子５ａの分子長軸の向きを変化させる電界を生成する電極６，９と、一対の基板２，３の内面それぞれに形成され、それぞれが平行な方向にラビング処理された配向膜２２，２３とからなっている。

なお、本実施形態に係る液晶表示素子１は、横電界制御型液晶表示素子であり、一対の基板２，３のうちの一方の基板、例えば観察側とは反対側の基板（第１の基板。以下、後基板という）３の内面に、複数の画素３０を形成するための予め定めた複数の単位領域にそれぞれ対応させて配置され、細長形状の複数の細長電極部７が間隔を設けて並列に形成された第１の電極６と、第１の電極６よりも後基板３側に第１の電極６と絶縁して配置され、第１の電極６との間への電圧の印加により、第１の電極６の複数の細長電極部７上に、液晶分子の分子長軸の向きを一対の基板２，３の内面と平行な方向に変化させる横電界を生成する第２の電極９とが設けられている。

また、本実施形態に係る液晶表示素子１は、アクティブマトリックス表示素子であり、後基板３の内面に互いに絶縁して設けられた第１と第２の電極６，９のうち、複数の細長電極部７が並列に形成された第１の電極６は、行方向（複数の画素３０がマトリックス状に配列した画面エリアのうち左右方向と平行な方向）及び列方向（同様に、画面エリアのうち上下方向と平行な方向）にマトリックス状に配列させて配置された複数の画素電極であり、第２の電極９は、各行毎に、その行の各画素電極６に対応させて配置された対向電極である。

そして、後基板２の内面には、複数の画素電極６と対向電極９とが対応する領域からなる複数の画素３０にそれぞれ対応させて配置された複数の能動素子１１と、行方向に配列された複数の画素３０からなる各画素行毎に配置された複数の走査線１７と、列方向に配列された複数の画素３０からなる各画素列毎に配置された複数の信号線１８とが設けられている。

能動素子１１は、例えばＴＦＴ（薄膜トランジスタ）であり、後基板３の内面上に形成されたゲート電極１２と、ゲート電極１２を覆って後基板３の略全面に形成された透明なゲート絶縁膜１３と、このゲート絶縁膜１３の上にゲート電極１２と対向させて形成されたｉ型半導体膜１４と、ｉ型半導体膜１４の両側部の上に図示しないｎ型半導体膜を介してそれぞれ設けられたドレイン電極１５及びソース電極１６とからなっている。

複数の走査線１７は、後基板３の内面上に、各画素行の一側（図３において下側）に沿わせて画素行と平行に形成され、各行のＴＦＴ１１のゲート電極１２にそれぞれ接続されており、複数の信号線１８は、ゲート絶縁膜１３の上に、各画素列の一側（図３において左側）に沿わせて画素列と平行に形成され、各列のＴＦＴ１１のドレイン電極１５にそれぞれ接続されている。

なお、後基板３の縁部には、観察側の基板（第２の基板。以下、前基板という）２の外方に張出す端子配列部３ａ（図１参照）が形成されており、複数の走査線１７及び複数の信号線１８は、端子配列部３ａに設けられた図示しない複数の走査線端子及び信号線端子に接続されている。

そして、複数の画素電極６は、複数のＴＦＴ１１及び複数の信号線１８を覆って後基板３の略全面に形成された透明な第１の層間絶縁膜１９１の上に形成されており、対向電極９は、ゲート絶縁膜１３の上に形成されている。すなわち、対向電極９は、複数の画素電極６よりも後基板３側に、第１の層間絶縁膜１９１により複数の画素電極６と絶縁して配置されている。

複数の画素電極６は、それぞれ、１つの画素３０を形成するための予め定めた単位領域、例えば画面エリアのうち上下方向に沿う縦幅が、画面エリアのうち左右方向に沿う横幅よりも大きい縦長の矩形形状の領域に、単位領域の縦幅方向（画面エリアのうち上下方向と平行な方向）の略全長にわたる長さを有する複数の細長電極部７が間隔を設けて単位領域の横幅方向（画面エリアのうち左右方向と平行な方向）に揃えて並列に形成された第１の透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）６ａからなっている。

複数の画素電極６の複数の細長電極部７はそれぞれ、図３及び図４のように、各画素３０における単位領域の縦幅方向の中央部に一端部が配置され、単位領域の縦幅方向の一端側に他端部が配置されて形成された略直線状の細長部７ａと、単位領域の縦幅方向の中央部に一端部が配置され、単位領域の縦幅方向の他端側に他端部が配置されて形成された略直線状の細長部７ｂとを有する。そして、細長部７ａ及び細長部７ｂの各他端部はそれぞれ、単位領域の横幅方向において、２つの細長部７ａ，７ｂの各一端部に対して同じ側に配置されている。これにより、２つの細長部７ａ，７ｂはそれぞれ、単位領域の縦幅方向に対して１°〜２０°（好ましくは５°）の角度で傾いて形成されている。

さらに、各細長電極部７の長さ方向の中央部、つまり２つの細長部７ａ，７ｂの各一端部の間には、各画素３０における単位領域の縦幅方向の中央部に一端部が配置され、一方の細長部７ａの一端部に繋がる部分に他端部が配置されて形成された略直線状の屈曲部７ｃと、単位領域の縦幅方向の中央部に一端部が配置され、他方の細長部７ｂの一端部に繋がる部分に他端部が配置されて形成された略直線状の屈曲部７ｄとが形成されている。屈曲部７ｃ，７ｄはそれぞれ、細長部７ａ，７ｂに対して単位領域の縦幅方向に対する傾き角が大きくなるように形成されている。ここで、細長電極部７の長さ方向は、画面エリアの上下方向と平行な方向である。また、細長部７ａ，７ｂと屈曲部７ｃ，７ｄとが繋がる部分はそれぞれ、細長部７ａと屈曲部７ｃの両側縁同士、及び細長部７ｂと屈曲部７ｂの両側縁同士がそれぞれ滑らかに連続する円弧状に形成されている。さらに、屈曲部７ｃと屈曲部７ｄとが繋がる部分は、屈曲部７ｃ，７ｄの両側縁同士が滑らかに連続する円弧状に形成されている。

また、各細長電極部７はその両端部にそれぞれ、端部屈曲部７ｅ，７ｆを有する。端部屈曲部７ｅ，７ｆはそれぞれ、細長部７ａ，７ｂに対して単位領域の縦幅方向に対する傾き角が大きくなるように形成されており、これらの端部屈曲部７ｅ，７ｆと細長部７ａ，７ｂとが繋がる部分はそれぞれ、端部屈曲部７ｅと細長部７ａとの両側縁同士、及び端部屈曲部７ｆと細長部７ｂとの両側縁同士がそれぞれ滑らかに連続する円弧状に形成されている。

なお、各画素電極６の複数の細長電極部７は、第１の導電膜６ａに複数のスリットを設けることにより形成されており、これら複数の細長電極部７は、それぞれの両端において、第１の導電膜６ａの両端縁に形成された共通接続部８ａ，８ｂに接続されている。

そして、第１の導電膜６ａの一端縁（図３において下端縁）の共通接続部８ｂの一端側は、ＴＦＴ１１のソース電極１６上に第１の層間絶縁膜１９１を介して重なっており、第１の層間絶縁膜１９１に設けられたコンタクト孔１９１ａにおいてソース電極１６に接続されている。

また、対向電極９は、第２の層間絶縁膜１９２の上面全体に形成された第２の透明導電膜（例えばＩＴＯ膜）９ａを、複数の画素３０に対応する形状にパターニングすることにより形成されている。本実施形態の液晶表示素子１では、図３のように、各画素行の複数の画素３０の形状にそれぞれ対応し且つ縦長の矩形状である複数の縦長矩形状部１０ａと、複数の縦長矩形状部１０ａのうち各画素行において互いに隣接するもの同士を接続する複数の共通接続部１０ｂとが形成されるように、第２の透明導電膜９ａをパターニングして対向電極９を形成している。この場合、複数の共通接続部１０ｂは、対向電極９の一端側（走査線１７が設けられた側とは反対側）に配置されている。複数の共通接続部１０ｂは、複数の信号線１８の上を横切って形成されており、複数の共通接続部１０ｂと複数の信号線１８との各交差部は、複数の信号線１８を覆って設けられた層間絶縁膜１９２により絶縁されている。

また、互いに接続された複数の縦長矩形状部１０ａ及び複数の共通接続部１０ｂからなる組が、各画素行のそれぞれに対応して複数組形成され、複数の組のうち互いに隣接するもの同士は、画面エリアのうち一端側であって且つその外側において、図示しない導通接続部により互いに接続されている。そして、導通接続部は、後基板３の端子配列部３ａに設けられた対向電極端子に接続されている（図示せず）。

対向電極９は、複数の画素電極６との間への電圧の印加により、各画素電極６の複数の細長電極部７との間に電界を生成する。このとき生成される電界は、各画素電極６の上方の液晶層５内に、液晶層５の液晶分子５ａのうち各画素電極６と重畳する領域に存在する液晶分子５ａの分子長軸の向きを基板２，３の内面と平行な方向に変化させる横電界を含むものである。

一方、前基板（観察側の基板）２の内面には、複数の画素３０のうち互いに隣接するもの同士の間の領域及び複数のＴＦＴ１１と重畳するように遮光膜２０が形成されている。また、遮光膜２０の上に、複数の画素３０にそれぞれ対応させて、赤、緑、青の３色のカラーフィルタ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂが設けられている。

また、基板２の内面には、カラーフィルタ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂ上（基板２に対して液晶層５が存在する側）に配向膜２２が形成され、基板３の内面には、複数の画素電極６上及び第１の層間絶縁膜２３上（基板３に対して液晶層５が存在する側）に配向膜２３がそれぞれ形成されている。配向膜２２，２３は、液晶層５の液晶分子５ａを、その分子長軸が基板２，３の内面と平行な方向を向くように配向させる配向性を有するポリイミド膜等の水平配向膜である。前基板２の内面の配向膜２２は、複数の画素３０が行方向及び列方向にマトリックス状に配列した画面エリアに対応する領域全体に、カラーフィルタ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂを覆って形成され、後基板３の内面の配向膜２２は、配向膜２２と同様、画面エリアに対応する領域全体に、複数の画素電極６を覆って形成されている。

そして、配向膜２２，２３は、それぞれの膜面を、各画素電極６の複数の細長電極部７の長さ方向に沿った方向、つまり画面エリアの上下方向と平行な方向にラビング処理されている。図１、図３及び図４において、矢線２２ａは前基板２の内面の配向膜２２のラビング方向、矢線２３ａは後基板３の内面の配向膜２３のラビング方向を示している。

また、一対の基板２，３間の間隙における枠状のシール材４で囲まれた領域に封入された液晶層５は、誘電異方性が正のネマティック液晶からなる。液晶分子５ａは、図４に示したように、分子長軸を一対の基板２，３の内面にそれぞれ形成された配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａに揃え、基板２，３の各内面と平行に配向している。この場合、液晶分子５ａの分子長軸は、後基板３の内面に対して、後基板３の内面の配向膜２３のラビング方向２３ａの始点側（図４における上側）よりも終点側（図４における下側）の方が後基板３から離れる方向にプレチルトした状態であり、前基板２の内面に対して、前基板２の内面の配向膜２２のラビング方向２２ａの始点側（図４における下側）よりも終点側（図４における上側）の方が前基板２から離れる方向にプレチルトした状態となっている。

なお、図１及び図２では省略しているが、この液晶表示素子１は、一対の基板２，３の外面にそれぞれ配置された一対の偏光板を備えており、これらの偏光板は、その一方の偏光板の透過軸を、配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａと平行にするか或いは直交させ、他方の偏光板の透過軸を一方の偏光板の透過軸に対して直交させるか或いは平行にして配置されている。

液晶表示素子１は、複数の画素３０の各画素電極６と対向電極９との間に、表示データに対応した駆動電圧を印加することにより、各画素電極６の複数の細長電極部７と対向電極９との間に電界を生成する。このとき生成される電界は、各画素電極６の上方であって各画素電極６と重畳する領域に存在する液晶層５内に、液晶層５の液晶分子５ａのうち各画素電極６の上方に存在する液晶分子５ａの分子長軸の向きを基板２，３の内面と平行な方向に変化させる横電界を含むものである。液晶表示素子１は、この横電界によって各画素３０に対応する液晶分子５ａの分子長軸の向きを、基板２，３の内面と平行な面内において制御して、画面エリアに画像を表示する。

複数の画素電極６と対向電極９との間に印加する駆動電圧は、表示データに応じて、上述の横電界を生成しない電圧である０Ｖを最小値とし、各画素電極６の各細長電極部７の細長部７ａ，７ｂを含む領域と重畳する領域に存在する液晶分子５ａを、基板２，３の内面と平行な面内において、配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａに対して４５°の方向に分子長軸を向けて配向させる強さの横電界を生成する電圧を最大値とする範囲内で制御される。

そして、例えば前基板２の外面の一対の偏光板を、それぞれの透過軸を直交させて配置した無電界暗表示（ノーマリーブラック）モードの液晶表示素子１では、複数の画素電極６と対向電極９との間に横電界を生成しない無電界時に、液晶分子５ａが、図４のように、配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａに分子長軸を揃えて配向し、その画素３０の表示が黒の暗表示になり、複数の画素電極６と対向電極９との間に、各画素電極６の各細長電極部７の細長部７ａ，７ｂを含む領域と重畳する領域に存在する液晶分子５ａを、基板２，３の内面と平行な面内において、配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａに対して４５°の方向に分子長軸を向けて配向させる強さの横電界を生成したときに、その画素３０の表示が最も明るい明表示になる。

なお、上記液晶表示素子１は、液晶層５を誘電異方性が正のネマティック液晶により形成したものであるが、液晶層５は、誘電異方性が負のネマティック液晶により形成してもよく、その場合は、配向膜２２，２３それぞれの膜面を、各画素電極６の複数の細長電極部７の長さ方向に沿った方向に対して直交する方向（画面エリアのうち左右方向と平行な方向）にラビング処理し、誘電異方性が負のネマティック液晶の液晶分子を、各画素電極６の複数の細長電極部７の長さ方向に沿った方向に対して直交する方向に分子長軸を揃えた配向状態に配向させればよい。

次に、液晶表示素子１の製造工程図である図５を参照して、液晶表示素子１の製造方法を説明する。まず、一の面に遮光膜２０とカラーフィルタ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂが設けられた前基板２と、一の面に複数の画素電極６及び対向電極９とＴＦＴ１１が設けられた後基板３とを準備する（ステップＳ１：基板準備工程）。次いで、前基板２の一の面（前基板２の内面）と後基板３の一の面（後基板３の内面）とにそれぞれ配向膜２２，２３を形成し（ステップＳ２：配向膜形成工程）、次いで、これらの配向膜２２，２３の全体を平行な方向にラビング処理する（ステップＳ３：ラビング工程）。次いで、一対の基板２，３のいずれか一方の内面上に、画面エリアに対応する領域を囲んでシール材４を印刷し（ステップＳ４：シール材印刷工程）、次いで、一対の基板２，３を、前基板２の一の面と後基板３の一の面とが互いに対向した状態で重ね合わせて、一対の基板２，３がシール材４を介して貼り合わされた状態でシール材４を硬化させることにより、一対の基板２，３をシール材４を介して接合する（ステップＳ５：基板接合工程）。次いで、前基板２のうちシール材４の外側に張出した部分と、後基板の端子配列部３ａの外側に張出した部分とを切り落とす（ステップＳ６：基板切断工程）。次いで、シール材の一部に予め形成しておいた液晶注入口（図示せず）から一対の基板２，３間の間隙におけるシール材４で囲まれた領域に液晶を注入し、その後、液晶注入口を封止する（ステップＳ７：液晶封入工程）。

上述の製造方法において、シール材４は、図６に示したように、一対の基板２，３のいずれか一方、例えば後基板３の内面上に、非印刷領域をマスクするスクリーン３１とスクリーン３１上に当接されて一定方向に移動されるスキージ３６とを用いるスクリーン印刷により、スキージ３６を後基板３の内面に形成された配向膜２３のラビング方向２３ａと平行な方向に移動させて印刷する。

なお、スクリーン３１は、ステンレス鋼線からなる縦糸３２と横糸３３を網状に織ったメッシュスクリーンであり、緊張状態で外周全体を図示しない支持枠に固定され、後基板３に対向する面に、乳剤の塗布により、シール材４の印刷パターンに対応する開口部３５が形成されたマスク層３４が設けられている。

後基板３上へのシール材４のスクリーン印刷においては、まず、後基板３上に予め定めた間隔を設けて、且つ配向膜２３のラビング方向２３ａに対して平行な方向の始点側及び終点側にそれぞれ端部が配置されるようにスクリーン３１を配置するとともに、始点側及び終点側に配置された各端部のうち一方の端部側、例えば、ラビング方向２３ａの始点側の端部側の上に、熱硬化性樹脂からなるシール材４を供給する。次いで、スクリーン３１の一方の端部側の上に、スキージ３６の先端を、スクリーン３１を適度な圧力で押付けるように当接させた後、このスキージ３６を配向膜２３のラビング方向２３ａの始点側から終点側に（図１及び図６に示した矢印３６ａの向き）に一定速度で移動させることにより行う。

このように、スクリーン３１上に、スキージ３６の先端を、スクリーン３１を適度な圧力で押付けるように当接させ、このスキージ３６を一定方向に移動させると、スクリーン３１の上に供給されたシール材４が、マスク層３４の開口部３５から押し出されて後基板３上に印刷される。

このシール材４のスクリーン印刷において、スクリーン３１は、スキージ３６の移動に伴って、図６（ａ）のようにスキージ３６の移動方向３６ａへ引っ張られ、その引っ張力よりもスクリーン３１の緊張力Ｆのうちのスキージ３６の移動方向３６ａとは反対方向の緊張力Ｆが大きくなったときに、その緊張力Ｆによって、図６（ｂ）のようにスキージ３６の移動方向３６ａとは逆方向へ引っ張られる。

また、スキージ３６は、一定な押付け力でスクリーン３１に当接されてスクリーン３１上を移動されるため、スクリーン３１の縦糸３２と横糸３３との重なり部に対応する部分が、スキージ３６により後基板３の内面に形成された配向膜２３に押付けられる。

そのため、スキージ３６の移動に伴って、スクリーン３１がスキージ３６の移動方向３６ａへ引っ張られたときに、配向膜２３のラビング処理された面のうちのスクリーン３１が押付けられた部分が、スクリーン３１により、スキージ３６の移動方向３６ａと同じ向き３７ａに擦られる（図６（ａ）参照）。また、スキージ３６の移動に伴って、スキージ３６の移動方向３６ａとは反対方向の緊張力Ｆによりスキージ３６の移動方向３６ａとは逆方向へ引っ張られたときに、スキージ３６の移動方向３６ａとは逆向き３７ｂに擦られる（図６（ｂ）参照）。

この製造方法では、後基板３上へのシール材４のスクリーン印刷を、スキージ３６を配向膜２３のラビング方向２３ａと平行な方向に移動させることにより行うため、配向膜２３がスクリーン３１により擦られる方向３７ａ，３７ｂは、配向膜２３のラビング方向２３ａと平行であり、したがって、配向膜２３のスクリーン３１により擦られた部分は、液晶分子５ａを配向膜２３のラビング方向２３ａと平行な方向に分子長軸を向けて配向させる配向性をもつ。

なお、配向膜２３がスクリーン３１により擦られる方向は、スクリーン３１がスキージ３６の移動方向３６ａへ引っ張られたときと、スクリーン３１がスキージ３６の移動方向３６ａとは逆方向へ引っ張られ引っ張られたときとで、互いに逆向きである。そして、１回目の擦り（スキージ３６の移動方向３６ａと同じ向きの擦り）による配向性は、２回目の擦り（スキージ３６の移動方向３６ａとは逆向きの擦り）によりほとんど打ち消されるため、配向膜２３のスクリーン３１により擦られた部分は、２回目の擦りによる配向性（液晶分子５ａを、配向膜２３のラビング方向２３ａとは逆方向にプレチルトした状態でラビング方向２３ａと平行な方向に配向させる配向性）をもつ。

そのため、一対の基板２，３をシール材４を介して接合した後に一対の基板２，３間の間隙に封入された液晶層５の液晶分子５ａは、液晶層５の全域において、分子長軸を一対の基板２，３の内面にそれぞれ形成された配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａに揃えた非ツイストの配向状態に配向する。

したがって、この製造方法によれば、一対の基板２，３の互いに対向する内面それぞれに形成された配向膜２２，２３を平行な方向にラビング処理し、液晶層５の液晶分子５ａを、分子長軸を配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａに揃えて配向させた液晶表示素子１を、液晶分子５ａの配向に乱れが生じることを抑制することができる。

この製造方法において、シール材４のスクリーン印刷におけるスキージ３６の移動方向３６ａは、シール材４を印刷する一方の基板（本実施形態では後基板）３の内面に形成された配向膜２３のラビング方向２３ａに対するずれ角が±１０°以内の範囲の方向であればよく、この範囲の方向にスキージ３６を移動させてシール材４を印刷することにより、液晶分子５ａの配向に乱れを生じることを抑制しながら、液晶表示素子１を製造することができる。

そして、本実施形態の製造方法により製造された液晶表示素子１は、液晶分子５ａの配向に乱れが生じることが抑制され、液晶分子５ａの分子長軸が配向膜２２，２３のラビング方向２２ａ，２３ａに揃えて配向しているため、良好なコントラストの表示が得られる。

すなわち、シール材４を、一方の基板３の内面に形成された配向膜２３のラビング方向２３ａに対して９０°の方向にスキージ３６を移動させて印刷する方法で製造された液晶表示素子（以下、表示素子Ａという）と、シール材４を、配向膜２３のラビング方向２３ａに対して０°の方向にスキージ３６を移動させて印刷する方法で製造された比較例の液晶表示素子（以下、表示素子Ｂという）と、シール材４を、配向膜２３のラビング方向２３ａに対して１０°の方向にスキージ３６を移動させて印刷する方法で製造された液晶表示素子（以下、表示素子Ｃという）のそれぞれのコントラスト値（Ｃｒ）は、
表示素子ＡＣｒ_Ａ＝５７０
表示素子ＢＣｒ_Ｂ＝９００
表示素子ＣＣｒ_Ｃ＝１０２０
である。

これらの表示素子Ａ，Ｂ，Ｃを比較すると、表示素子Ａは、スクリーンの縦糸と横糸との重なり部に対応する部分が配向膜を擦る方向が配向膜のラビング方向と直交しているため、その部分の液晶分子がラビング方向に対して直行する方向に配列して配向不良が発生し、その部分から光が漏れるためにコントラストが低下する。

これに対して、本実施形態の製造方法で製造された表示素子Ｂ及び表示素子Ｃは、スクリーンの縦糸と横糸との重なり部に対応する部分が配向膜を擦ることになっても、その方向が配向膜のラビング方向と平行であるから、液晶分子の配向方向にムラが生じることが無い。そのため、液晶分子が均一に配向するので、比較例の表示素子Ａに比べて、表示のコントラストがはるかに高い。

（第２の実施形態）
なお、上記第１の実施形態の製造方法では、シール材４を、スキージ３６を一方の基板３の内面に形成された配向膜２３のラビング方向２３ａと同じ向きに移動させて印刷しているが、シール材４は、スキージ３６を上記第１の実施形態とは逆向きに移動させて印刷してもよい。

図７はこの発明の第２の実施形態によるシール材の印刷方法を示す図であり、この実施形態では、シール材４のスクリーン印刷を、スキージ３６を一方の基板３の内面に形成された配向膜２３のラビング方向２３ａと平行で且つ逆向きに移動させて印刷する。

なお、このシール材印刷方法は、スキージ３６の移動方向３６ａを、上記第１の実施形態によるシール材印刷方法とは逆向きにしただけのものであるから、重複する説明は図に同符号を付して省略する。

この実施形態の製造方法によれば、シール材４を、スキージ３６を上記第１の実施形態とは逆向きに移動させて印刷しているため、配向膜２３のスクリーン３１により擦られた部分が、液晶分子５ａを配向膜２３のラビング方向２３ａと同じ方向にプレチルトした状態でラビング方向２３ａと平行な方向に配向させる配向性をもつ。これにより、液晶分子５ａの配向に乱れを生じることを抑制しながら、液晶表示素子１を製造することができる。

（他の実施形態）
なお、上述の液晶表示素子の製造方法は、上述の液晶表示素子１の製造に限らず、他の横電界制御型液晶表示素子の製造にも適用することができる。例えば、一対の基板のうちの一方の基板である後基板（第１の基板）の一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成された第１の電極と、第１の電極よりも後基板側とは反対側に第１の電極と絶縁して配置され、第１の電極との間への電圧の印加により、第１の電極の複数の細長電極部との間に、液晶層のうち第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを後基板の一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成する第２の電極とが設けられ、一対の配向膜が、第１の電極の複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を配向膜のラビング方向に揃えて後基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子に適用することができる。

また、上述の液晶表示素子の製造方法は、横電界制御型である上述の液晶表示素子１の製造に限らず、他の非ツイスト配向型液晶表示素子の製造にも適用することができる。例えば、一対の基板のうちの一方の基板である後基板（第１の基板）の一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた複数の単位領域にそれぞれ対応させて、画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、一対の基板のうちの他方の基板である前基板（第２の基板）の一の面に、複数の画素電極と対向し、複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、複数の画素電極それぞれとの間に、液晶層のうち第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに逆向きにラビング処理され、液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を配向膜のラビング方向に揃えて後基板の一の面と平行に配向した非ツイストのホモジニアス配向型液晶表示素子の製造に適用することができる。

さらに、上述の液晶表示素子の製造方法は、一対の基板のうちの一方の基板である後基板（第１の基板）の内面に、複数の画素を形成するための予め定めた複数の単位領域にそれぞれ対応させて、画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、一対の基板のうちの他方の基板である前基板（第２の基板）の内面に、複数の画素電極と対向し、複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、複数の画素電極それぞれとの間に、液晶層のうち第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに同じ向きにラビング処理され、液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を配向膜のラビング方向に揃えて一対の基板間においてスプレイ配向したベンド配向型液晶表示素子の製造にも適用することができる。

なお、上述のいずれの実施形態においても、遮光膜２０とカラーフィルタ２１Ｒ，２１Ｇ，２１Ｂを後基板３に設け、複数の画素電極６及び対向電極９とＴＦＴ１１を前基板２に設けるようにしてもよい。

１…液晶表示素子、２…基板（第２の基板）、３…基板（第１の基板）、４…シール材、５…液晶層、５ａ…液晶分子、６…第１の電極（画素電極）、７…細長電極部、９…第２の電極（対向電極）、２２，２３…配向膜、２２ａ，２３ａ…ラビング方向、３０…画素、３１…スクリーン、Ｆ…緊張力、３６…スキージ、３６ａ…スキージの移動方向、３７ａ，３７ｂ…スクリーンによる配向膜の擦られ方向

Claims

第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程は、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の始点側から終点側に移動させて印刷することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成された第１の電極と、前記第１の電極と前記一方の基板との間に介在するように前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の前記一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成する第２の電極とが設けられ、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、第１の電極と第２の電極とが設けられ、前記第１の電極は、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成され、前記第２の電極は、前記一方の基板との間に前記第１の電極が介在するように前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の前記一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成し、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに逆向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の前記一の面と平行に配向した非ツイストのホモジニアス配向型液晶表示素子であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに同じ向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一対の基板間においてスプレイ配向したベンド配向型液晶表示素子であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成された第１の電極と、前記第１の電極と前記一方の基板との間に介在するように前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の前記一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成する第２の電極とが設けられ、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、第１の電極と第２の電極とが設けられ、前記第１の電極は、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、細長形状である複数の細長電極部が間隔を設けて並列に形成され、前記第２の電極は、前記一方の基板との間に前記第１の電極が介在するように前記第１の電極と絶縁して配置され、前記第１の電極との間への電圧の印加により、前記第１の電極の前記複数の細長電極部との間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記一方の基板の前記一の面と平行な方向に変化させる横電界を生成し、前記一対の配向膜が、前記第１の電極の前記複数の細長電極部の長さ方向に平行な方向、又は前記長さ方向に対して直交する方向のうちのいずれか一方の方向にラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の一の面と平行に配向した横電界制御型液晶表示素子であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに逆向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一方の基板の前記一の面と平行に配向した非ツイストのホモジニアス配向型液晶表示素子であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
第１の基板及び第２の基板を準備する基板準備工程と、
次いで、前記第１の基板の一の面と前記第２の基板の一の面とにそれぞれ配向膜を形成する配向膜形成工程と、
次いで、前記各配向膜の表面をラビング処理するラビング工程と、
次いで、前記第１の基板の前記一の面上に、表示領域を囲むようにシール材をスクリーン印刷するシール材印刷工程と、
次いで、前記第１の基板及び前記第２の基板を、前記第１の基板の前記配向膜のラビング方向と前記第２の基板の前記配向膜のラビング方向とが互いに平行になるように、前記第１の基板の前記一の面と前記第２の基板の前記一の面とが対向した状態で重ね合わせて、前記第１の基板及び前記第２の基板が前記シール材を介して貼り合わされた状態で前記シール材を硬化させることにより、前記第１の基板及び前記第２の基板を前記シール材を介して接合する基板接合工程と、を含み、
前記シール材印刷工程において、スクリーン上に当接されて一定方向に移動されるスキージを前記第１の基板の前記一の面に形成された前記配向膜のラビング方向に対するずれ角が±１０°以内の範囲であって且つ前記ラビング方向の終点側から始点側に移動させて印刷し、
製造する前記液晶表示素子は、前記第１の基板又は前記第２の基板のうちいずれか一方の基板の前記一の面に、複数の画素を形成するための予め定めた前記複数の単位領域にそれぞれ対応させて、前記画素の形状に形成された複数の画素電極が設けられ、前記第１の基板又は前記第２の基板のうち他方の基板の前記一の面に、前記複数の画素電極と対向し、前記複数の画素電極それぞれとの間への電圧の印加により、前記複数の画素電極それぞれとの間に、前記液晶層のうち前記第１の電極と重畳する領域に存在する液晶分子の分子長軸の向きを前記液晶層の厚さ方向に変化させる電界を生成する対向電極が設けられ、前記一対の基板の各一の面の配向膜が、予め定めた方向に、平行に且つ互いに同じ向きにラビング処理され、前記液晶分子が、該液晶分子の分子長軸を前記配向膜のラビング方向に揃えて前記一対の基板間においてスプレイ配向したベンド配向型液晶表示素子であることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
前記基板接合工程の後に、前記第１の基板及び前記第２の基板のうちいずれか一方の基板における前記シール材の外側に張出した部分と、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち他方のうち、複数の走査線端子及び信号線端子が設けられた端子配列部の外側に張出した部分とを切り落とす基板切断工程を、更に含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の液晶表示素子の製造方法。
前記基板接合工程の後に、シール材の一部に予め形成しておいた液晶注入口から前記第１の基板及び前記第２の基板との間の間隙における前記シール材で囲まれた領域に液晶を注入し、その後、液晶注入口を封止する液晶封入工程を、更に含むことを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示素子の製造方法。