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JP4660182B2 - Activated energy ray-curable silicone composition and negative pattern forming method using the same - Google Patents

Activated energy ray-curable silicone composition and negative pattern forming method using the same Download PDF

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JP4660182B2
JP4660182B2 JP2004368052A JP2004368052A JP4660182B2 JP 4660182 B2 JP4660182 B2 JP 4660182B2 JP 2004368052 A JP2004368052 A JP 2004368052A JP 2004368052 A JP2004368052 A JP 2004368052A JP 4660182 B2 JP4660182 B2 JP 4660182B2
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志成 張原
守 立川
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DuPont Toray Specialty Materials KK
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Dow Corning Toray Co Ltd
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Description

本発明は、ヒドロシリル化反応により硬化可能な硬化性シリコーン組成物に関し、詳しくは、調製が簡便であり、パターニング特性、塗布性及び安定性が共に優れ、光導波路の製造並びにプリント配線基板及び半導体チップ製造の際のパターン形成に有用である感光性を有する硬化性シリコーン組成物に関する。また、本発明は、前記硬化性シリコーン組成物を用いるネガ型のパターン形成方法にも関する。   The present invention relates to a curable silicone composition that can be cured by a hydrosilylation reaction. Specifically, it is easy to prepare and has excellent patterning characteristics, coating properties, and stability, manufacturing of an optical waveguide, a printed wiring board, and a semiconductor chip. The present invention relates to a curable silicone composition having photosensitivity that is useful for pattern formation during production. The present invention also relates to a negative pattern forming method using the curable silicone composition.

近年、微細なパターンを高精度で形成するフォトレジストの開発を目的として、オルガノポリシロキサンを用いたレジストに関する研究が活発に行われている。例えば、シリコーンに直結したメチル基及びシラノール基を有するアルカリ可溶性オルガノポリシロキサン(特許文献1参照)、及び、光酸発生剤などの添加によってアルカリ可溶性となるフェノール誘導体を有するオルガノポリシロキサン(特許文献2参照)が提案されている。   In recent years, research on resists using organopolysiloxane has been actively conducted for the purpose of developing photoresists that form fine patterns with high precision. For example, an alkali-soluble organopolysiloxane having a methyl group and a silanol group directly bonded to silicone (see Patent Document 1), and an organopolysiloxane having a phenol derivative that becomes alkali-soluble by the addition of a photoacid generator (Patent Document 2) Have been proposed).

しかし、これらのオルガノポリシロキサンに感光性を付与するためには、感光性有機官能基或いは酸又は塩基で容易に分解する有機官能基を導入しなくてはならず、合成が複雑である。更に、これらのオルガノポリシロキサンを用いたパターン形成には、基板上でのレジスト層の形成、酸素又はフッ素反応性イオンエッチング及びレジスト層の除去等の工程が必要であり、パターン形成効率の改善が求められていた。   However, in order to impart photosensitivity to these organopolysiloxanes, a photosensitive organic functional group or an organic functional group that can be easily decomposed with an acid or a base must be introduced, and the synthesis is complicated. Furthermore, pattern formation using these organopolysiloxanes requires steps such as resist layer formation on the substrate, oxygen or fluorine reactive ion etching, and resist layer removal, which improves pattern formation efficiency. It was sought after.

また、既知の多くの感光性オルガノポリシロキサンの硬化物は、耐熱性及び機械的特性が悪く、基板材料としては不適であった。特に有機官能基を多く含むことによる光伝達の損失が大きく、光学材料として用いることは困難であった。   In addition, many known cured organopolysiloxanes have poor heat resistance and mechanical properties, and are unsuitable as substrate materials. In particular, the loss of light transmission due to containing many organic functional groups is large, and it has been difficult to use as an optical material.

一方、熱硬化型シリコーンエラストマー組成物において有機過酸化物及び白金触媒を用いることは、米国特許第4,329,275号、米国特許第4,375,523号、米国特許第4,487,906号により既知であり、過酸化物を光触媒で用いることも米国特許第4,451,634号により知られている。特に、米国特許第4,375,523号には、剥離コーティング用組成物ではあるが、有機過酸化物と白金触媒を含む光硬化性組成物が記載されている。
特開平10−246960号公報 特開2001−154366号公報 米国特許第4329275号明細書 米国特許第4375523号明細書 米国特許第4487906号明細書 米国特許第4451634号明細書
On the other hand, the use of an organic peroxide and a platinum catalyst in a thermosetting silicone elastomer composition is disclosed in U.S. Pat. No. 4,329,275, U.S. Pat. No. 4,375,523, U.S. Pat. No. 4,487,906. No. 4,451,634, and the use of peroxides in photocatalysts is also known. In particular, US Pat. No. 4,375,523 describes a photocurable composition comprising an organic peroxide and a platinum catalyst, although it is a release coating composition.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-246960 JP 2001-154366 A U.S. Pat. No. 4,329,275 U.S. Pat. No. 4,375,523 U.S. Pat. No. 4,487,906 U.S. Pat. No. 4,451,634

本発明は、ヒドロシリル化反応及びラジカル反応により架橋を形成して硬化する硬化性シリコーン組成物であって、調製が容易であり、パターニング特性、塗布性及び安定性が共に優れ、活性エネルギー線照射によりヒドロシリル化触媒が活性化されて硬化反応が促進されて耐熱性、機械的特性及び光学特性に優れた硬化物を与える硬化性シリコーン組成物を提供することを第1の目的とし、更に、当該組成物の照射部分と非照射部分との間の溶解度差を利用し、これにより高精度のネガ型のパターン形成を効率良く行うことを第2の目的とする。   The present invention is a curable silicone composition that forms a crosslink by a hydrosilylation reaction and a radical reaction and is cured, is easy to prepare, has excellent patterning characteristics, applicability and stability, and is irradiated with active energy rays. It is a first object of the present invention to provide a curable silicone composition in which a hydrosilylation catalyst is activated to accelerate a curing reaction to give a cured product having excellent heat resistance, mechanical properties, and optical properties. A second object is to efficiently perform negative pattern formation with high accuracy by utilizing the difference in solubility between the irradiated portion and the non-irradiated portion of the object.

本発明の第1の目的は、
(1)下記:
(a)ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、及び、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも2個有するオルガノヒドロジェンポリシロキサン若しくはヒドロシラン化合物又はこれらの混合物、及び、
(b)ケイ素原子と結合したアルケニル基及びケイ素原子と結合した水素原子を同一分子内に有するオルガノポリシロキサン
からなる群から選択される少なくとも一つ、
(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒、
(3)白金系触媒用反応抑制剤、及び、
(4)有機過酸化物
を含む活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物によって達成される。
The first object of the present invention is to
(1) The following:
(A) an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and an organohydrogenpolysiloxane or hydrosilane compound having at least two hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule; A mixture of these, and
(B) at least one selected from the group consisting of an organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom and a hydrogen atom bonded to a silicon atom in the same molecule;
(2) platinum catalyst for promoting hydrosilylation reaction,
(3) a reaction inhibitor for platinum catalyst, and
(4) Achieved by an activated energy ray-curable silicone composition containing an organic peroxide.

前記有機過酸化物は、
(A)一般式:
COOCR
(式中、
、R、R、R、R及びRは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表す)
で示される過酸化物、
(B)一般式:
COO−X−OOCR101112
〔式中、
、R、R、R10、R11及びR12は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表し、
Xは、−(CR'R")−、−(CR'R")−CR'""=CR"""−(CR'"R"")−、−(CR'R")−C≡C−(CR'"R"")−及び−(CR'R")−Ar−(CR'"R"")
(式中、
kは1以上の整数であり、
l、m、n、o、p及びqは、それぞれ独立して、0又は1以上の整数であり、
R'、R"、R'"、R""、R'""及びR"""は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表すか、或いは、隣接する炭素原子と一緒に置換基を有する又は有しない5又は6員環を形成し、
Arは置換基を有する又は有しないアリーレン基を表す)
からなる群から選択される2価の有機基を表す〕
で示される過酸化物、
及び、
(C)一般式:
171819SiOOSiR202122
(式中、
17、R18、R19、R20、R21及びR22は、同一又は異なって、炭素数1〜30の有機基を表す)
で示される過酸化物
からなる群から選ばれることが好ましい。
The organic peroxide is
(A) General formula:
R 1 R 2 R 3 COOCR 4 R 5 R 6
(Where
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms)
Peroxides, indicated by
(B) General formula:
R 7 R 8 R 9 COO-X-OOCR 10 R 11 R 12
[Where,
R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms,
X is-(CR'R ") k -,-(CR'R") l -CR '"" = CR """-(CR'" R "") m -,-(CR'R ") n -C≡C- (CR '"R"") o - and - (CR'R") p -Ar- ( CR'"R"") q -
(Where
k is an integer greater than or equal to 1,
l, m, n, o, p and q are each independently 0 or an integer of 1 or more,
R ', R ", R'", R "", R '"" and R """are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, or adjacent carbons. Form a 5- or 6-membered ring with or without substituents with the atoms;
Ar represents an arylene group with or without a substituent)
Represents a divalent organic group selected from the group consisting of
Peroxides, indicated by
as well as,
(C) General formula:
R 17 R 18 R 19 SiOOSiR 20 R 21 R 22
(Where
R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 and R 22 are the same or different and represent an organic group having 1 to 30 carbon atoms)
Is preferably selected from the group consisting of peroxides.

より好ましくは、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11及びR12、並びに、R'、R"、R'"、R""、R'""及びR"""は、同一又は異なって、炭素数1〜30の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数5〜12の脂環式炭化水素基、及び、炭素数7〜12のアラルキル基からなる群から選ばれ、また、R17、R18、R19、R20、R21及びR22は、同一又は異なって、炭素数1〜30の飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数5〜12の脂環式炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、及び、炭素数6〜30の芳香族炭化水素基からなる群から選ばれる。 More preferably, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 , and R ′, R ″, R ′. ", R"", R '""andR""" are the same or different and are each a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 and R 22 are the same or different and are selected from the group consisting of aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms, and are saturated or unsaturated with 1 to 30 carbon atoms. It is selected from the group consisting of a saturated aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.

本発明の活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物は活性化エネルギー線を吸収してヒドロシリル化反応促進用白金系触媒を活性化する光増感剤を更に含有することが好ましい。前記光増感剤としては、多環式芳香族化合物又はケトン発色団を有する芳香族化合物を好適に使用することができる。   The activated energy ray-curable silicone composition of the present invention preferably further contains a photosensitizer that absorbs the activated energy rays and activates the platinum catalyst for promoting the hydrosilylation reaction. As the photosensitizer, a polycyclic aromatic compound or an aromatic compound having a ketone chromophore can be preferably used.

本発明の第2の目的は、前記活性化エネルギー線硬化性シリコーン組成物を基板上に塗布してシリコーン層を形成し、当該シリコーン層に活性化エネルギー線を選択的に照射し、非照射部分を除去するネガ型パターン形成方法によって達成される。パターン形成後に加熱することにより形成されたパターンの強度を向上させることが好ましい。   The second object of the present invention is to apply the activated energy ray-curable silicone composition onto a substrate to form a silicone layer, selectively irradiate the silicone layer with an activated energy ray, and This is achieved by a negative pattern forming method for removing the film. It is preferable to improve the strength of the pattern formed by heating after pattern formation.

本発明のシリコーン組成物は、汎用のポリシロキサンを使用するので製造が容易であり、また、パターニング特性、塗布性及び安定性に優れ、且つ、ネガ型の感光性を有するのでプリント配線基板及び半導体チップ製造の際のパターン形成、特にネガ型パターンの形成に有用である。   The silicone composition of the present invention is easy to manufacture because it uses a general-purpose polysiloxane, and has excellent patterning characteristics, applicability and stability, and has negative photosensitivity, so that it can be used for printed wiring boards and semiconductors. This is useful for forming a pattern during chip manufacture, particularly for forming a negative pattern.

更に、本発明のパターン形成方法は基板上でのパターン形成に長い複雑な工程が不要であり、耐熱性、機械的特性及び光学特性に優れたシリコーン硬化物のパターンを直接形成することが可能である。特に、このシリコーン硬化物は光伝達の損失が少なく、光学材料、例えば光導波路などに好適である。   Furthermore, the pattern formation method of the present invention does not require a long and complicated process for pattern formation on the substrate, and can directly form a pattern of a cured silicone product having excellent heat resistance, mechanical properties and optical properties. is there. In particular, the cured silicone has little loss of light transmission and is suitable for optical materials such as optical waveguides.

以下に、本発明を詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

((1a)成分の一方:ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン)   (One of the components (1a): organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom)

本発明の(1a)成分の一方であるオルガノポリシロキサンは、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個有することが必要である。アルケニル基の含量はオルガノポリシロキサンの0.1〜10重量%が好ましく、1〜6重量%がより好ましい。   The organopolysiloxane which is one of the components (1a) of the present invention needs to have at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule. The content of the alkenyl group is preferably 0.1 to 10% by weight of the organopolysiloxane, more preferably 1 to 6% by weight.

このオルガノポリシロキサンは少量の水酸基又はアルコキシ基を含んでもよい。このオルガノポリシロキサンの化学構造は、直線構造、環状構造、網状構造又は三次元構造のいずれを含んでもよく、また、このオルガノポリシロキサンは単一重合体又は共重合体もしくは2種類以上の重合体の混合物でもよい。このオルガノポリシロキサンの分子量及び粘度は特に限定されず、液状から粘度の非常に高い生ゴム状又は固体の形態のものを使用することができるが、通常は、25℃における粘度が10〜100000cpのものが使用される。   The organopolysiloxane may contain a small amount of hydroxyl groups or alkoxy groups. The chemical structure of the organopolysiloxane may include any of a linear structure, a cyclic structure, a network structure, or a three-dimensional structure, and the organopolysiloxane may be a single polymer or a copolymer or two or more types of polymers. It may be a mixture. The molecular weight and viscosity of the organopolysiloxane are not particularly limited, and can be used in the form of raw rubber or solid having a very high viscosity, but usually has a viscosity at 25 ° C. of 10 to 100000 cp. Is used.

このようなオルガノポリシロキサンとしては以下のようなものが挙げられる:
両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルシロキサン・ジメチルシロキサンの共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ封鎖メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体、CH2=CH(CH3)2SiO1/2単位と(CH3)3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるポリシロキサン、RSiO3/2単位とR3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、RSiO3/2単位とR2SiO2/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R3SiO1/2とRSiO3/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R3SiO1/2とR2SiO2/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R3SiO1/2単位とR1SiO3/2単位とR2SiO2/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R3SiO1/2単位とR1SiO3/2単位とR2SiO2/2とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、RSiO3/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン(ここに、Rはそれぞれ独立にアルキル、アリール、フルオロアルキル又はアルケニルであり、1分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有する)。
Such organopolysiloxanes include the following:
Copolymers of methylvinylsiloxane / dimethylsiloxane blocked with trimethylsiloxy groups at both ends, dimethylpolysiloxane blocked with dimethylvinylsiloxy groups blocked at both ends, dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymers blocked with dimethylvinylsiloxy groups at both ends, dimethylvinylsiloxy at both ends Base-blocked dimethylsiloxane / diphenylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, both ends trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, both ends dimethylvinylsiloxy-blocked methyl (3,3,3-trifluoropropyl) poly Siloxane, dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane methyl (3,3,3-trifluoropropyl) siloxane copolymer, CH 2 = CH (CH 3 ) 2 SiO 1/2 units and (CH 3 ) 3 SiO 1/2 unit and S Polysiloxane consisting of iO 4/2 units, Organopolysiloxane consisting of RSiO 3/2 units, R 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units, RSiO 3/2 units and R 2 SiO 2/2 units Organopolysiloxane, organopolysiloxane composed of R 3 SiO 1/2 and RSiO 3/2 units, organopolysiloxane composed of R 3 SiO 1/2 and R 2 SiO 2/2 units, R 3 SiO 1/2 units and Organopolysiloxane consisting of R 1 SiO 3/2 units and R 2 SiO 2/2 units, R 3 SiO 1/2 units, R 1 SiO 3/2 units, R 2 SiO 2/2 and SiO 4/2 units Organopolysiloxane composed of RSiO 3/2 units and SiO 4/2 units, Organopolysiloxane composed of R 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units (where R is independently alkyl , Aryl, fluoroalkyl or alkenyl having at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule).

((1a)成分の他方:オルガノヒドロジェンポリシロキサン若しくはシラン化合物又はこれらの混合物)   (Other component (1a): organohydrogenpolysiloxane or silane compound or a mixture thereof)

本発明の(1a)成分の他方であるオルガノヒドロジェンポリシロキサン若しくはシラン化合物又はこれらの混合物は、同じく(1a)成分である上記のオルガノポリシロキサンの架橋剤であり、後述する(2)成分の触媒作用により、ケイ素原子に結合した水素原子が上記のオルガノポリシロキサンの低級アルケニル基と付加反応して架橋する。したがって、オルガノヒドロジェンポリシロキサン及びシラン化合物はケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも(平均で)2個有することが必要である。水素の含量はオルガノヒドロジェンポリシロキサンの0.1〜10重量%が好ましく、0.5〜2重量%がより好ましい。水素原子以外にケイ素原子に共有結合する有機基としては、前記オルガノポリシロキサンの場合と同様のものが使用可能である。この有機基は1種類のみでなく、2種類以上が混在してもよい。前記オルガノヒドロジェンポリシロキサンの化学構造は直線構造、環状構造、網状構造又は三次元構造のいずれを含んでもよく、また、このオルガノヒドロジェンポリシロキサンは単一重合体又は共重合体又は2種類以上の重合体の混合物でもよい。   The organohydrogenpolysiloxane or silane compound, which is the other of the component (1a) of the present invention, or a mixture thereof is a cross-linking agent for the above organopolysiloxane, which is also the component (1a). Due to the catalytic action, hydrogen atoms bonded to silicon atoms undergo an addition reaction with the lower alkenyl group of the organopolysiloxane and crosslink. Therefore, the organohydrogenpolysiloxane and the silane compound are required to have at least (on average) two hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule. The content of hydrogen is preferably 0.1 to 10% by weight of the organohydrogenpolysiloxane, more preferably 0.5 to 2% by weight. As the organic group covalently bonded to the silicon atom other than the hydrogen atom, the same organic group as in the case of the organopolysiloxane can be used. The organic group is not limited to one type, and two or more types may be mixed. The chemical structure of the organohydrogenpolysiloxane may include any of a linear structure, a cyclic structure, a network structure, or a three-dimensional structure, and the organohydrogenpolysiloxane may be a single polymer or a copolymer, or two or more types. It may be a mixture of polymers.

本成分のオルガノヒドロジェンポリシロキサンの具体例としては、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルヒドロジェンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルヒドロジェンポリシロキサン共重合体、ジメチルシロキサン・メチルヒドロジェンシロキサン環状共重合体、(CH3)3SiO1/2単位、(CH3)2HSiO1/2単位及びSiO4/2単位からなる共重合体、(CH3)2HSiO1/2単位及びRSiO3/2単位からなる共重合体、R'SiO3/2単位とR'3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R'SiO3/2単位とR'2SiO2/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R'3SiO1/2とR'SiO3/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R'3SiO1/2単位とR'2SiO2/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R'3SiO1/2単位とR'1SiO3/2単位とR'2SiO2/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R'3SiO1/2単位とR'1SiO3/2単位とR'2SiO2/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R'SiO3/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R'3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサンが挙げられる(ここに、R'は水素原子、アルキル、アリール又はフルオロアルキルであり、1分子中に少なくとも2個のケイ素と結合した水素原子を有する)。本成分のシラン化合物の具体例としては、フェニルシラン、ジフェニルシランの他に、例えば、同一分子内に水素原子が直接結合するケイ素原子が複数存在するカルボシラン化合物が挙げられ、具体的には、1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン、ビス(p−ジメチルシリルフェニル)エーテル、1、2−ビス(ジメチルジシリル)エタン、1,3,5−トリス(ジメチルシリル)ベンゼンなどが挙げられる。 Specific examples of the organohydrogenpolysiloxane of this component include trimethylsiloxy group-capped methylhydrogen polysiloxanes at both ends, trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogenpolysiloxane copolymers, dimethylsiloxane / methylhydrogens. Siloxane cyclic copolymer, a copolymer comprising (CH 3 ) 3 SiO 1/2 units, (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 units and SiO 4/2 units, (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 units and RSiO 3/2 copolymer, R'SiO 3/2 unit and R ' 3 SiO 1/2 unit and SiO 4/2 unit organopolysiloxane, R'SiO 3/2 unit and R' 2 Organopolysiloxane composed of SiO 2/2 units, Organopolysiloxane composed of R ' 3 SiO 1/2 and R'SiO 3/2 units, R' 3 SiO 1/2 units and R ' 2 SiO 2/2 units from consisting organopolysiloxane, R '3 SiO 1/2 units and R' 1 SiO 3/2 units and R '2 SiO 2/2 units That the organopolysiloxane, R '3 SiO 1/2 units and R' 1 SiO 3/2 units and R '2 SiO 2/2 units and an organopolysiloxane consisting of SiO 4/2 units, R'SiO 3/2 units And organopolysiloxanes composed of R 4 SiO 2/2 units and R ′ 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units (where R ′ is a hydrogen atom, alkyl, aryl or fluoroalkyl). And having at least two silicon-bonded hydrogen atoms in one molecule). Specific examples of the silane compound of this component include, in addition to phenylsilane and diphenylsilane, for example, carbosilane compounds in which a plurality of silicon atoms to which hydrogen atoms are directly bonded exist in the same molecule. , 4-bis (dimethylsilyl) benzene, bis (p-dimethylsilylphenyl) ether, 1,2-bis (dimethyldisilyl) ethane, 1,3,5-tris (dimethylsilyl) benzene, and the like.

上記オルガノヒドロジェンポリシロキサン若しくはシラン化合物の分子量は特に限定しないが、(1a)成分の一方である上記オルガノポリシロキサンとの相溶性を良好にするためには、このオルガノヒドロジェンポリシロキサン若しくはシラン化合物又はこれらの混合物の粘度は、通常25℃において0.5〜100000cp、好ましくは1〜10000cpである。   The molecular weight of the organohydrogenpolysiloxane or silane compound is not particularly limited. In order to improve the compatibility with the organopolysiloxane which is one of the components (1a), the organohydrogenpolysiloxane or silane compound is used. Or the viscosity of these mixtures is 0.5-100,000 cp normally at 25 degreeC, Preferably it is 1-10000 cp.

(1a)成分の配合量は特に限定されるものではないが、上記オルガノヒドロジェンポリシロキサン若しくはシラン化合物のケイ素原子に結合した水素原子の合計数と上記オルガノポリシロキサンのケイ素原子に結合したアルケニル基の合計数とのモル比が0.5:10〜10:1の範囲となる量が好ましい。このモル比が0.5:10より小さいか、あるいは、10:1より大きい場合、硬化物の物性に悪影響を及ぼすおそれがある。   The compounding amount of the component (1a) is not particularly limited, but the total number of hydrogen atoms bonded to the silicon atom of the organohydrogenpolysiloxane or silane compound and the alkenyl group bonded to the silicon atom of the organopolysiloxane. An amount in which the molar ratio to the total number of the components is in the range of 0.5: 10 to 10: 1 is preferable. If this molar ratio is less than 0.5: 10 or greater than 10: 1, the physical properties of the cured product may be adversely affected.

(1b)ケイ素原子と結合したアルケニル基及びケイ素原子と結合した水素原子を同一分子内に有するオルガノポリシロキサン   (1b) Organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom and a hydrogen atom bonded to a silicon atom in the same molecule

(1a)成分に代えて、或いは、(1a)成分と共に、(1b)ケイ素に結合したアルケニル基と同じくケイ素に結合した水素を同一分子内に有するオルガノポリシロキサンを使用することもできる。アルケニル基の含量はオルガノポリシロキサンの0.1〜30重量%が好ましく、水素の含量はオルガノポリシロキサンの0.1〜10重量%が好ましい。   Instead of the component (1a), or together with the component (1a), (1b) organopolysiloxane having hydrogen bonded to silicon in the same molecule as the alkenyl group bonded to silicon can be used. The alkenyl group content is preferably 0.1 to 30% by weight of the organopolysiloxane, and the hydrogen content is preferably 0.1 to 10% by weight of the organopolysiloxane.

(1b)成分のオルガノポリシロキサンは、1分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基とケイ素原子に結合した水素原子の両方を有することが必要である。このオルガノポリシロキサンは、後述する(2)成分の触媒作用により、あるオルガノポリシロキサンのケイ素原子に結合したアルケニル基が他のオルガノポリシロキサンのケイ素原子に結合した水素原子と付加反応して架橋する。このオルガノポリシロキサンは、直鎖状、分岐状、環状又はかご状のいずれの形状をもとることが可能である。また、分子量も特に限定されず、液体から固体までのいずれの性状のものをも使用することができる。   The organopolysiloxane of component (1b) needs to have both alkenyl groups bonded to silicon atoms and hydrogen atoms bonded to silicon atoms in one molecule. In this organopolysiloxane, the alkenyl group bonded to the silicon atom of one organopolysiloxane undergoes an addition reaction with the hydrogen atom bonded to the silicon atom of another organopolysiloxane due to the catalytic action of the component (2) described later to crosslink. . This organopolysiloxane can take any of a linear, branched, cyclic or cage shape. Further, the molecular weight is not particularly limited, and any property from liquid to solid can be used.

このようなオルガノポリシロキサンとしては、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルビニルシロキサン・メチルハイドロジェン・ジメチルシロキサンの共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェン・ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェン・ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェン・ジメチルシロキサン・ジフェニルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェン・メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)ポリシロキサン、両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェン・ジメチルシロキサン・メチル(3,3,3−トリフルオロプロピル)シロキサン共重合体、CH2=CH(CH3)2SiO1/2単位とH(CH3)2SiO1/2単位と(CH3)3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、CH2=CHSiO3/2単位とH(CH3)2SiO1/2単位からなるオルガノポリシロキサン等を例示することができる。さらに、R''SiO3/2単位とR''2SiO2/2単位;R''3SiO1/2単位とR''SiO3/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R''3SiO1/2単位とR''SiO3/2単位とR''2SiO2/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R''3SiO1/2単位とR''SiO3/2単位とR''2SiO2/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R''SiO3/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン、R''3SiO1/2単位とSiO4/2単位からなるオルガノポリシロキサン(R''は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基又はフルオロアルキル基を表し、1分子中にケイ素原子結合アルケニル基およびケイ素原子結合水素原子を有する)を使用することもできる。 Examples of such an organopolysiloxane include a copolymer of trimethylsiloxy group-capped methylvinylsiloxane / methylhydrogen / dimethylsiloxane, a dimethylvinylsiloxy group-capped methylhydrogen / dimethylpolysiloxane, and dimethylvinylsiloxy at both ends. Group-blocked methylhydrogen / dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, both ends dimethylvinylsiloxy group-blocked methylhydrogen / dimethylsiloxane / diphenylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, both ends dimethylvinylsiloxy group-blocked methylhydrogen・ Methyl (3,3,3-trifluoropropyl) polysiloxane, dimethylvinylsiloxy group-blocked methylhydrogen, dimethylsiloxane, methyl (both ends) , 3,3-trifluoropropyl) siloxane copolymers, CH 2 = CH (CH 3 ) 2 SiO 1/2 units and H (CH 3) 2 SiO 1/2 units and (CH 3) 3 SiO 1/2 Examples thereof include organopolysiloxanes composed of units and SiO 4/2 units, and organopolysiloxanes composed of CH 2 = CHSiO 3/2 units and H (CH 3 ) 2 SiO 1/2 units. In addition, R''SiO 3/2 units and R '' 2 SiO 2/2 units; organopolysiloxanes consisting of R '' 3 SiO 1/2 units and R''SiO 3/2 units, R '' 3 SiO Organopolysiloxane consisting of 1/2 units, R''SiO 3/2 units and R '' 2 SiO 2/2 units, R '' 3 SiO 1/2 units, R''SiO 3/2 units and R ''Organopolysiloxane composed of 2 SiO 2/2 units and SiO 4/2 units, R''SiO 3/2 units and organopolysiloxane composed of SiO 4/2 units, R'' 3 SiO 1/2 units and SiO Organopolysiloxane consisting of 4/2 units (R ″ represents an alkenyl group, a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a fluoroalkyl group, and has a silicon atom-bonded alkenyl group and a silicon atom-bonded hydrogen atom in one molecule. ) Can also be used.

(1a)成分と(1b)成分の混合物を使用する場合、(1a)成分と(1b)成分の混合比率は特に制限されるものではなく、段落[0023]で記載されているケイ素原子に結合した水素原子とケイ素原子に結合したアルケニル基とのモル比の範囲内になるように混合されればよい。   When a mixture of the component (1a) and the component (1b) is used, the mixing ratio of the component (1a) and the component (1b) is not particularly limited, and is bonded to the silicon atom described in paragraph [0023]. It may be mixed so that the molar ratio of the hydrogen atom and the alkenyl group bonded to the silicon atom is within the range.

((2)成分:ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒)   ((2) component: platinum catalyst for promoting hydrosilylation reaction)

(2)のヒドロシリル化反応促進用触媒は、(1a)及び/又は(1b)成分のケイ素原子に結合したアルケニル基とケイ素原子に結合した水素原子との付加反応を促進する任意の白金触媒である。具体的には、塩化白金酸、アルコ−ル変性塩化白金酸、白金オレフィン錯体、白金ケトン錯体(Pt(II)ビス(2,4-ペンタンジオエート)、Pt(II)ビス(2,4-ヘキサンジオエート)、Pt(II)ビス(1-フェニル-1,3-ブタンジオエート)、Pt(II)ビス(1,1,1,5,5,5-ヘキサフルオロ-2,4-ペンタンジオエート))、シクロペンタジエン及びその誘導体からなる白金錯体(シクロペンタジエニルトリフェニル白金、シクロペンタジエニルトリメチル白金、シクロペンタジエニルトリエチル白金)あるいは1,5-シクロオクタジエンの白金錯体、白金とビニルシロキサンとの錯体、アルミナ、シリカ及びカーボンブラックなどで担持された白金などが例示される。   The catalyst for promoting the hydrosilylation reaction of (2) is an arbitrary platinum catalyst that promotes the addition reaction between the alkenyl group bonded to the silicon atom of component (1a) and / or (1b) and the hydrogen atom bonded to the silicon atom. is there. Specifically, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, platinum olefin complexes, platinum ketone complexes (Pt (II) bis (2,4-pentanedioate), Pt (II) bis (2,4- Hexanedioate), Pt (II) bis (1-phenyl-1,3-butanedioate), Pt (II) bis (1,1,1,5,5,5-hexafluoro-2,4-pentane Geoate)), platinum complexes consisting of cyclopentadiene and its derivatives (cyclopentadienyltriphenylplatinum, cyclopentadienyltrimethylplatinum, cyclopentadienyltriethylplatinum) or platinum complexes of 1,5-cyclooctadiene, platinum And platinum supported on alumina, silica, carbon black, and the like.

中でも触媒活性の高さから、例えば次の化学式で示される白金とビニルシロキサンとの錯体が好ましい。この白金触媒については米国特許第3419593号及び米国特許第5175325号に記載されており、米国特許第3775452号にはこの触媒の安定性の改善について述べられている。   Among these, from the viewpoint of high catalytic activity, for example, a complex of platinum and vinylsiloxane represented by the following chemical formula is preferable. This platinum catalyst is described in US Pat. No. 3,419,593 and US Pat. No. 5,175,325, and US Pat. No. 3,775,452 describes improvements in the stability of this catalyst.

Figure 0004660182
Figure 0004660182

本成分の添加量は(1)成分の100万重量部に対して、白金金属として0.1〜1000重量部、好ましくは10〜200重量部の範囲内が好ましい。0.1重量部未満の添加量では、通常の硬化条件で十分な架橋形成が進行せず硬化不良或いはパターンの解像度の低下をきたし、逆に1000重量部を越える添加量では、本発明の組成物の硬化物の耐候性や、保存安定性が低下する可能性がある。   The addition amount of this component is 0.1 to 1000 parts by weight, preferably 10 to 200 parts by weight, as platinum metal with respect to 1 million parts by weight of component (1). If the addition amount is less than 0.1 parts by weight, sufficient crosslinking cannot be formed under normal curing conditions, resulting in poor curing or a decrease in pattern resolution. Conversely, if the addition amount exceeds 1000 parts by weight, the composition of the present invention. There is a possibility that the weather resistance and storage stability of the cured product may be lowered.

((3)白金系触媒用反応抑制剤) ((3) Reaction inhibitor for platinum catalyst)

従来、付加反応硬化型のオルガノポリシロキサン組成物を硬化させる場合、硬化速度及び保存性を調整する目的で様々な硬化抑制剤が使用されている。このような制御剤として既に多くの化合物が提案され、例えば米国特許第3188300号には有機燐化合物、米国特許第3445420号(特公昭44−31476号公報)と特願平10−358619号にはアセチレンアルコール類、米国特許第3882083号(特公昭55−41626号公報)にはトリアリルイソシアヌレート、米国特許第4061609号(特公昭57−20340号公報)にはハイドロキシパーオキサイド、米国特許第3699073号(特公昭48−10947号公報)、米国特許第3923705号(特公昭63−56563号公報)には高ビニルシロキサンが開示されている。   Conventionally, when curing an addition reaction curable organopolysiloxane composition, various curing inhibitors have been used for the purpose of adjusting the curing speed and storage stability. Many compounds have already been proposed as such control agents. For example, U.S. Pat. No. 3,188,300 discloses organophosphorus compounds, U.S. Pat. No. 3,445,420 (Japanese Patent Publication No. 44-31476) and Japanese Patent Application No. 10-358619. Acetylene alcohols, triallyl isocyanurate for US Pat. No. 3,882,083 (Japanese Patent Publication No. 55-41626), hydroxyperoxide for US Pat. No. 4,061,609 (Japanese Patent Publication No. 57-20340), US Pat. (Japanese Patent Publication No. 48-10947) and U.S. Pat. No. 3,923,705 (Japanese Patent Publication No. 63-56563) disclose high vinyl siloxanes.

本発明の硬化性シリコーン組成物では、保存及び塗布工程中に好ましくない硬化が起こることを防ぐために、白金系触媒用反応抑制剤を配合する。白金系触媒用反応抑制剤としては炭素−炭素三重結合を有する化合物、特にエチニル基を有する化合物が好ましい。エチニル基を有する化合物としては、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、3,5−ジメチル−1‐ヘキシン−3‐オール,2‐フェニル−3−ブチン−2‐オール、メチル−トリス(3−メチル−1‐ブチン−3‐オキソ)シラン、メチル−ビニルビス(3−メチル−1‐ブチン−3−オキソ)シランなどが例示できる。   In the curable silicone composition of the present invention, a platinum-based catalyst reaction inhibitor is blended in order to prevent undesirable curing during the storage and coating process. As a reaction inhibitor for a platinum-based catalyst, a compound having a carbon-carbon triple bond, particularly a compound having an ethynyl group is preferred. Examples of the compound having an ethynyl group include 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2-phenyl-3-butyn-2-ol, methyl-tris (3-methyl Examples include 1-butyne-3-oxo) silane and methyl-vinylbis (3-methyl-1-butyne-3-oxo) silane.

本成分の添加量は特に制限されないが、典型的には、使用する白金金属に対して1〜1000倍であり、好ましくは10〜1000倍である。   Although the addition amount of this component is not particularly limited, it is typically 1 to 1000 times, preferably 10 to 1000 times that of platinum metal to be used.

((4)有機過酸化物) ((4) Organic peroxide)

本発明の硬化性シリコーン組成物は更に有機過酸化物を必須に含む。有機過酸化物としては、
(A)一般式:
COOCR
(式中、
、R、R、R、R及びRは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表す)
で示される過酸化物
(B)一般式:
COO−X−OOCR101112
〔式中、
、R、R、R10、R11及びR12は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表し、
Xは、−(CR'R")−、−(CR'R")−CR'""=CR"""−(CR'"R"")−、−(CR'R")−C≡C−(CR'"R"")−及び−(CR'R")−Ar−(CR'"R"")
(式中、
kは1以上の整数であり、
l、m、n、o、p及びqは、それぞれ独立して、0又は1以上の整数であり、
R'、R"、R'"、R""、R'""及びR"""は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表すか、或いは、隣接する炭素原子と一緒に置換基を有する又は有しない5又は6員環を形成し、
Arは置換基を有する又は有しないアリーレン基を表す)
からなる群から選択される2価の有機基を表す〕
で示される過酸化物、
及び/又は、
(C)一般式:
171819SiOOSiR202122
(式中、
17、R18、R19、R20、R21及びR22は、同一又は異なって、炭素数1〜30の有機基を表す)
で示される過酸化物
が好適に使用可能である。
The curable silicone composition of the present invention further contains an organic peroxide. As organic peroxide,
(A) General formula:
R 1 R 2 R 3 COOCR 4 R 5 R 6
(Where
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms)
Peroxide (B) represented by the general formula:
R 7 R 8 R 9 COO-X-OOCR 10 R 11 R 12
[Where,
R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms,
X is-(CR'R ") k -,-(CR'R") l -CR '"" = CR """-(CR'" R "") m -,-(CR'R ") n -C≡C- (CR '"R"") o - and - (CR'R") p -Ar- ( CR'"R"") q -
(Where
k is an integer greater than or equal to 1,
l, m, n, o, p and q are each independently 0 or an integer of 1 or more,
R ', R ", R'", R "", R '"" and R """are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, or adjacent carbons. Form a 5- or 6-membered ring with or without substituents with the atoms;
Ar represents an arylene group with or without a substituent)
Represents a divalent organic group selected from the group consisting of
Peroxides, indicated by
And / or
(C) General formula:
R 17 R 18 R 19 SiOOSiR 20 R 21 R 22
(Where
R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 and R 22 are the same or different and represent an organic group having 1 to 30 carbon atoms)
The peroxide shown by can be used suitably.

、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、R11及びR12、並びに、R'、R"、R'"、R""、R'""及びR"""は、同一又は異なって、炭素数1〜30の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数5〜12の脂環式炭化水素基、及び、炭素数7〜12のアラルキル基からなる群から選ばれることができる。 R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 , and R ′, R ″, R ′ ″, R ″ ", R '""andR""" are the same or different and each represents a saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, and 7 to 7 carbon atoms. It can be selected from the group consisting of 12 aralkyl groups.

炭素数1〜30の飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。炭素数5〜12の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。炭素数7〜12のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。   Examples of the saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, and pentyl. And alkyl groups such as a hexyl group. Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms include benzyl group and phenethyl group.

また、R17、R18、R19、R20、R21及びR22は、同一又は異なって、炭素数1〜30の飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基、炭素数5〜12の脂環式炭化水素基、炭素数1〜12のアルコキシ基、及び、炭素数6〜30の芳香族炭化水素基からなる群から選ばれることができる。 Moreover, R <17> , R <18> , R <19> , R <20> , R <21> and R < 22 > are the same or different and are a C1-C30 saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group, C5-C12 alicyclic ring It can be selected from the group consisting of a formula hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.

炭素数1〜30の飽和又は不飽和脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、i-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基、並びに、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基等のアルケニル基、及び、エチニル基、プロピニル基、ブチニル基等のアルキニル基が挙げられる。炭素数5〜12の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。炭素数6〜30の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。   Examples of the saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, i-propyl group, butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, and t-butyl. Group, alkyl group such as pentyl group and hexyl group, alkenyl group such as vinyl group, allyl group and isopropenyl group, and alkynyl group such as ethynyl group, propynyl group and butynyl group. Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms include a phenyl group and a naphthyl group.

一般式(B)の定義中のArとしては、例えば、1つ以上の上記アルキル基で置換された又は置換されていないフェニレン基が挙げられる。また、一般式(B)の定義中の5又は6員環としては、例えば、1つ以上の上記アルキル基で置換された又は置換されていないシクロペンタン又はシクロヘキサンが挙げられる。   Ar in the definition of the general formula (B) includes, for example, a phenylene group substituted or unsubstituted with one or more of the above alkyl groups. In addition, examples of the 5- or 6-membered ring in the definition of the general formula (B) include cyclopentane or cyclohexane substituted or unsubstituted with one or more of the above alkyl groups.

より具体的には、1,1―ビス(t‐ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1―ビス(t‐ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1―ビス(t‐ブチルパーオキシ)−2−メチルシクロヘキサン、1,1―ビス(t‐ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2―ビス(t‐ブチルパーオキシ)ブタンに代表されるパーオキシケタール化合物、並びに、ビス(t‐ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5-(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジ-t-ブチルパーオキシド、t−ブチルクミルパーオキシド、2,5−ジメチル−2,5-ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3に代表されるジアルキルパーオキシド系化合物が挙げられ、また、シリルパーオキシド化合物としては、ビストリメチルシリルパーオキシド、ビスジメチルフェニルシリルパーオキシドなどが挙げられる。このような過酸化物は、1種類を単独で使用するか、あるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。   More specifically, 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, Pers such as 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane and 2,2-bis (t-butylperoxy) butane Oxyketal compounds, bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5- (t-butylperoxy) hexane, di-t-butyl peroxide, t -Dialkyl peroxide compounds represented by butylcumyl peroxide and 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3 It can be mentioned, and as the silyl peroxide compounds, bis trimethylsilyl peroxide, and the like bis dimethylphenylsilyl peroxide. Such a peroxide can be used individually by 1 type, or can be used in combination of 2 or more type.

(4)成分の有機過酸化物の量は特に制限されないが、(1)成分の100重量部に対して0.00001〜0.1重量部が好ましい。(4)成分の添加量が0.00001重量部未満となると光硬化性に与える効果が低下し、充分な光パターン化が得られないおそれがある。一方、0.1重量部を越えると、得られる硬化物の耐候性や熱安定性が低下するおそれがある。組成物の硬化性と、得られる硬化物の耐候性や熱安定性などのバランスに鑑みると、有機過酸化物の添加量は0.0001〜0.01重量部が好ましい。   The amount of the organic peroxide as the component (4) is not particularly limited, but is preferably 0.00001-0.1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the component (1). (4) When the added amount of the component is less than 0.00001 part by weight, the effect on photocurability is lowered, and sufficient photopatterning may not be obtained. On the other hand, if it exceeds 0.1 parts by weight, the weather resistance and thermal stability of the resulting cured product may be reduced. In view of the balance between the curability of the composition and the weather resistance and thermal stability of the resulting cured product, the amount of organic peroxide added is preferably 0.0001 to 0.01 part by weight.

理論に拘束されるものではないが、本発明の硬化性シリコーン組成物では、(3)白金系触媒用反応抑制剤によって(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒の触媒作用が抑制されているが、一定の活性化エネルギー線の照射によって、当該抑制が失われ、(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒の触媒作用が回復するものと考えられる。具体的には、一定の活性化エネルギー線の照射によって、(3)白金系触媒用反応抑制剤と(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒との相互作用が失われ、或いは、(3)白金系触媒用反応抑制剤と(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒との錯体が分解されることにより、高活性の白金系触媒が生成し、これが(1)成分のヒドロシリル化反応を促進し、(1)成分の架橋を進行させ、また、同時に(4)有機過酸化物が光照射により分解し、ラジカル活性種を生み出し、ビニル基とSiH基のラジカル重合が進行すると思われる。   Although not bound by theory, in the curable silicone composition of the present invention, (3) the catalytic action of the platinum-based catalyst for promoting the hydrosilylation reaction is suppressed by (3) the platinum-based catalyst reaction inhibitor. However, it is considered that the suppression is lost by irradiation with a certain activation energy ray, and (2) the catalytic action of the platinum catalyst for promoting the hydrosilylation reaction is recovered. Specifically, the interaction between the (3) platinum-based catalyst reaction inhibitor and (2) the hydrosilylation-promoting platinum-based catalyst is lost by irradiation with a certain activation energy ray, or (3) The complex of the platinum-based catalyst reaction inhibitor and (2) the platinum catalyst for promoting the hydrosilylation reaction is decomposed to produce a highly active platinum-based catalyst, which promotes the hydrosilylation reaction of component (1). However, (1) the crosslinking of the component proceeds, and at the same time, (4) the organic peroxide is decomposed by light irradiation to generate radical active species, and the radical polymerization of vinyl group and SiH group proceeds.

本発明の組成物の硬化に使用される活性化エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、電子線及びγ線などが挙げられるが、特に可視光および紫外線が好ましい。活性化エネルギー線を照射する手段については特に制限されず、種々の一般的手段を利用することができる。例えば光源としては高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプなどの光源ランプを用いることができる。具体的には、波長150〜800nm、好ましくは200〜460nm、照度1〜500mW/cm2の条件下で所定時間照射することにより、照射量を10〜5000mJ/cm2とすることが好ましい。 Examples of the activation energy rays used for curing the composition of the present invention include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, electron rays and γ rays, and particularly visible light and ultraviolet rays. Is preferred. The means for irradiating the activation energy ray is not particularly limited, and various general means can be used. For example, a light source lamp such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or an excimer lamp can be used as the light source. Specifically, the wavelength 150~800Nm, preferably 200~460Nm, by irradiating a predetermined time under the conditions of illuminance of 1 to 500 mW / cm 2, it is preferable that the 10~5000mJ / cm 2 irradiation amount.

本発明の硬化性シリコーン組成物は、上記(1)〜(4)の必須成分に加えて、必要に応じて、光増感剤、シリカ粒子(無機充填剤)、高分子添加剤及び/又は有機溶剤を更に含むことができる。   In addition to the essential components (1) to (4) described above, the curable silicone composition of the present invention may include a photosensitizer, silica particles (inorganic filler), a polymer additive, and / or as required. An organic solvent can be further included.

(光増感剤)
光増感剤は、活性化エネルギー線、特に紫外線または可視光線を吸収し、吸収したエネルギーを(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒及び/又は(3)白金系触媒用反応抑制剤に伝達し、(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒を活性化する。
(Photosensitizer)
The photosensitizer absorbs activation energy rays, particularly ultraviolet rays or visible rays, and transmits the absorbed energy to (2) a platinum-based catalyst for promoting hydrosilylation reaction and / or (3) a reaction inhibitor for platinum-based catalyst. And (2) activating the platinum catalyst for promoting the hydrosilylation reaction.

光増感剤としては、活性化エネルギー線を吸収して(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒を活性化する作用を有する任意の物質を使用することが可能であるが、多環式芳香族化合物又はケトン発色団を有する芳香族化合物が好ましい。多環式芳香族化合物としては、例えばアントラセン及びその誘導体、ピレン及びその誘導体、ペリレン及びその誘導体が挙げられる。ケトン発色団を有する芳香族化合物としては、例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン及びチオキサントン誘導体;アントラキノン、ブロモアントラキノン及びアントラキノン誘導体;アントラセン、ブロモアントラセン及びアントラセン誘導体;ペリレン及びペリレン誘導体;キサンテン、チオキサンテン及びチオキサンテン誘導体;クマリン及びケトクマリンなどを挙げることができる。より好ましい光増感剤は、ジエチルチオキサントン及びブロモアントラセンである。   As the photosensitizer, any substance having an action of absorbing the activation energy rays and activating the platinum catalyst for promoting the hydrosilylation reaction (2) can be used. Preferred are aromatic compounds or aromatic compounds having a ketone chromophore. Examples of the polycyclic aromatic compound include anthracene and derivatives thereof, pyrene and derivatives thereof, and perylene and derivatives thereof. Examples of aromatic compounds having a ketone chromophore include acetophenone, benzophenone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone and thioxanthone derivatives; anthraquinone, bromoanthraquinone and anthraquinone derivatives; anthracene, bromoanthracene and anthracene derivatives; perylene and perylene derivatives; Examples include thioxanthene and thioxanthene derivatives; coumarin and ketocoumarin. More preferred photosensitizers are diethyl thioxanthone and bromoanthracene.

光増感剤の配合量は本発明の目的や効果を損なわない限り任意の範囲とすることができるが、典型的には、組成物全体の0.001〜5重量%、特に0.01〜1重量%の範囲である。   The blending amount of the photosensitizer can be set in an arbitrary range as long as the object and effect of the present invention are not impaired. Typically, it is 0.001 to 5% by weight of the entire composition, particularly 0.01 to It is in the range of 1% by weight.

(シリカ粒子)
シリカ粒子は、シリカを主成分とする粒子であればよく、シリカ以外の成分を含んでいてもよい。シリカ以外の成分としてはアルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物及びTi、Zr、Al、B、Sn、Pなどの酸化物を挙げることができる。更に、シリカ粒子の形状も特に制限されないが、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状及び不定形状の群から選ばれる少なくとも1種類の形状であることが好ましい。ただし、分散性をより良好とするために、球状のシリカ粒子を使用することが好ましい。シリカ粒子の平均粒子径は0.001〜20μmが好ましいが、特に透明な硬化膜が形成される点から、平均粒子径は0.001〜0.2μmが好ましく、より好ましくは0.001〜0.01μmである。
(Silica particles)
The silica particle should just be a particle | grains which have a silica as a main component, and may contain components other than a silica. Examples of components other than silica include alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, and oxides such as Ti, Zr, Al, B, Sn, and P. Further, the shape of the silica particles is not particularly limited, but is preferably at least one shape selected from the group consisting of a spherical shape, a hollow shape, a porous shape, a rod shape, a plate shape, a fiber shape, and an indefinite shape. However, in order to make the dispersibility better, it is preferable to use spherical silica particles. The average particle size of the silica particles is preferably 0.001 to 20 μm, but the average particle size is preferably 0.001 to 0.2 μm, more preferably 0.001 to 0, particularly from the viewpoint of forming a transparent cured film. 0.01 μm.

シリカ粒子の使用形態も特に制限されるものではなく、例えば、乾燥状態でも、或いは、水もしくは有機溶媒中に分散した状態でも使用することもできる。特に、コロイダルシリカとして知られている微粒子状のシリカ粒子の分散液を直接用いることもでき、特に高い透明性が得られることから、コロイダルシリカの使用が好ましい。コロイダルシリカの分散媒が水の場合、pH2〜13であることが好ましく、3〜7であることがより好ましい。コロイダルシリカの分散媒が有機溶媒の場合、有機溶媒としてメタノール、イソプロピルアルコ−ル、エチレングリコール、ブタノール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド(DMF)などを使用することができる。好ましい有機溶媒はメタノール、イソプロピルアルコ−ル、メチルエチルケトン、キシレンなどである。なお、コロイダルシリカの分散媒として、均一系を形成する有機溶媒又は水との混合溶媒を用いてもよい。   The usage form of the silica particles is not particularly limited. For example, the silica particles can be used in a dry state or a state dispersed in water or an organic solvent. In particular, a dispersion of finely divided silica particles known as colloidal silica can be used directly, and since particularly high transparency is obtained, the use of colloidal silica is preferred. When the colloidal silica dispersion medium is water, the pH is preferably 2 to 13, and more preferably 3 to 7. When the colloidal silica dispersion medium is an organic solvent, the organic solvent is methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, butanol, ethylene glycol monopropyl ether, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, dimethylformamide (DMF) Etc. can be used. Preferred organic solvents are methanol, isopropyl alcohol, methyl ethyl ketone, xylene and the like. In addition, you may use the organic solvent which forms a homogeneous system, or a mixed solvent with water as a dispersion medium of colloidal silica.

シリカ粒子を配合することにより、シリコーン組成物の硬化により得られる膜の収縮を低減することができる。シリカ粒子の配合量は特に制限されないが、例えば(1)〜(4)の成分の100重量部に対して10〜250重量部が好ましく、特に20〜200重量部、さらに30〜150重量部が好ましい。   By blending the silica particles, shrinkage of the film obtained by curing the silicone composition can be reduced. The blending amount of the silica particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 250 parts by weight, for example, 20 to 200 parts by weight, and more preferably 30 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the components (1) to (4). preferable.

(有機溶媒)
本発明の硬化性シリコーン組成物には、必要によって特定の有機溶媒を配合することが好ましい。特定の有機溶媒を配合することにより、硬化性シリコーン組成物の保存安定性が向上すると共に、適当な粘度を得ることができ、均一な厚さを有するパターン化した膜を形成することができる。また、有機溶剤は活性化エネルギー線照射後の現像液として用いることが出来る。
(Organic solvent)
The curable silicone composition of the present invention preferably contains a specific organic solvent if necessary. By blending a specific organic solvent, the storage stability of the curable silicone composition is improved, an appropriate viscosity can be obtained, and a patterned film having a uniform thickness can be formed. Further, the organic solvent can be used as a developer after irradiation with activation energy rays.

有機溶媒として、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、炭化水素系有機溶媒、アルコ−ル系有機溶媒、含窒素系溶媒、含硫系溶媒、及び、シロキサン系有機溶媒からなる群から少なくとも1つ選ぶことができるが、通常、大気圧下での沸点が50〜200℃であり、各成分を均一に溶解する有機溶媒が好ましい。   As an organic solvent, an ether organic solvent, an ester organic solvent, a ketone organic solvent, a hydrocarbon organic solvent, an alcohol organic solvent, a nitrogen-containing solvent, a sulfur-containing solvent, and a siloxane organic solvent are used. Although at least one can be selected from the group, usually an organic solvent having a boiling point of 50 to 200 ° C. under atmospheric pressure and capable of uniformly dissolving each component is preferable.

そのような有機溶媒としては、具体的には、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、2,2,4−トリメチルペンタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、n−アミルナフタレン、トリメチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、n−プロパノール、フェノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコ−ル、メチルフェニルカルビノール、ジアセトンアルコ−ル、クレゾールなどのモノアルコ−ル系溶媒;エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリンなどの多価アルコ−ル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フェンチョンなどのケトン系溶媒;エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチレンオキシド、1,4−ジオキサン、ジメチルジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、2−メチルテトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒;ジエチルカーボネート、酢酸メチル、γ−ブチロラクトン、酢酸n−プロピル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエステル、シュウ酸ジエチル、乳酸メチル、乳酸エチル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチルなどのエステル系溶媒;N−メチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルピロリドンなどの含窒素系溶媒;硫化ジメチル、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランなどの含硫系溶媒;オクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、1,3−ジビニルジメチルフェニルジシロキサン、1,5−ジビニルテトラメチルジフェニルトリシロキサン、フェニルトリス(ジメチルビニルシロキシ)シラン、(PhSiO3/2)および(Me2ViSiO1/2)からなるメチルビニルフェニルシロキサンオリゴマーなどのシロキサン系有機溶媒の1種類単独あるいは2種類以上の組み合わせを挙げることができる。 Specific examples of such organic solvents include aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane, 2,2,4-trimethylpentane, octane, cyclohexane, and methylcyclohexane; benzene, toluene, xylene Aromatic hydrocarbon solvents such as ethylbenzene, n-amylnaphthalene, trimethylbenzene; methanol, ethanol, n-propanol, phenol, cyclohexanol, benzyl alcohol, methylphenylcarbinol, diacetone alcohol, cresol, etc. Monoalcohol solvents: polyhydric alcohol solvents such as ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, diethylene glycol, glycerin; acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone, methyl amyl Tone, trimethylnonanone, cyclohexanone, acetonylacetone, acetophenone, fenchon and other ketone solvents; ethyl ether, isopropyl ether, ethylene oxide, 1,4-dioxane, dimethyldioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, Ether solvents such as diethylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tetrahydrofuran (THF), 2-methyltetrahydrofuran; diethyl carbonate, methyl acetate, γ-butyrolactone, n-propyl acetate, ethyl acetoacetate, ethylene glycol monomethyl ester, Diethyl oxalate, methyl lactate, ethyl lactate, diethyl malonate, dimethyl phthalate, phthalic acid Ester solvents such as diethyl; nitrogen-containing solvents such as N-methylformamide, acetamide and N-methylpyrrolidone; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfide, thiophene, tetrahydrothiophene, dimethyl sulfoxide (DMSO) and sulfolane; octamethylcyclo Tetrasiloxane, hexamethyldisiloxane, 1,3-divinyldimethylphenyldisiloxane, 1,5-divinyltetramethyldiphenyltrisiloxane, phenyltris (dimethylvinylsiloxy) silane, (PhSiO 3/2 ) and (Me 2 ViSiO 1 One or a combination of two or more siloxane-based organic solvents such as methyl vinyl phenyl siloxane oligomer consisting of / 2 ).

有機溶媒の種類は、硬化性シリコーン組成物の塗布方法を考慮して選択してもよい。例えば、均一な厚さを有する薄膜が容易に得られることからスピンコート法を用いる場合は、使用する有機溶媒としては、エチレングリコールモノエチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;乳酸エチル及び2−ヒドロキシプロピオン酸エチルなどのエステル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル及びジエチレングリコールエチルメチルエーテルなどのジエチレングリコール類;メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン及びメチルアミルケトンなどのケトン類が好ましく、特にエチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メチルイソブチルケトン及びメチルアミルケトンが好ましい。   The type of the organic solvent may be selected in consideration of the application method of the curable silicone composition. For example, when a spin coating method is used because a thin film having a uniform thickness can be easily obtained, examples of the organic solvent used include glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether; ethyl cellosolve acetate Ethylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol ethyl ether acetate; esters such as ethyl lactate and ethyl 2-hydroxypropionate; diethylene glycols such as diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol ethyl methyl ether Methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, cyclohexanone and me Ketones are preferred, such as Ruamiruketon, especially ethyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, methyl isobutyl ketone and methyl amyl ketone preferred.

有機溶媒の配合量は本発明の目的や効果を損なわない限り任意の範囲とすることができるが、典型的には、溶媒を含む組成物全体の80重量%以下で使用される。   The amount of the organic solvent can be set in an arbitrary range as long as the object and effect of the present invention are not impaired.

本発明の硬化性シリコーン組成物は、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、上記の光増感剤、シリカ粒子(無機充填剤)、高分子添加剤及び/又は有機溶剤に加えて、或いは、それらに代えて、反応性希釈剤、酸化チタン、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、及び、シランカップリング剤などの添加剤を含有することができる。   In addition to the photosensitizer, silica particles (inorganic filler), polymer additive and / or organic solvent, the curable silicone composition of the present invention is within the range that does not impair the purpose and effect of the present invention. Alternatively, reactive diluents, titanium oxide, leveling agents, wettability improvers, surfactants, plasticizers, ultraviolet absorbers, antioxidants, antistatic agents, silane coupling agents, etc. Additives can be included.

本発明の硬化性シリコーン組成物は、上記(1)〜(4)の必須成分、更に必要に応じて上記の任意成分を、当該分野で慣用の手段を用いて混合することにより製造することができる。   The curable silicone composition of the present invention can be produced by mixing the essential components (1) to (4) above and, if necessary, the optional components described above using conventional means in the art. it can.

本発明の硬化性シリコーン組成物は活性化エネルギー線の照射により硬化する性質を有する。したがって、本発明の硬化性シリコーン組成物をネガ型の感光性組成物として使用することにより各種のネガ型パターンを形成することができる。   The curable silicone composition of the present invention has a property of being cured by irradiation with activation energy rays. Therefore, various negative patterns can be formed by using the curable silicone composition of the present invention as a negative photosensitive composition.

ネガ型パターンは、基板上に本発明の硬化性シリコーン組成物を塗布してシリコーン層を形成し、当該シリコーン層に活性化エネルギー線を選択的に照射し、当該シリコーン層の非照射部分を除去することにより形成することができる。   The negative pattern is formed by applying the curable silicone composition of the present invention on a substrate to form a silicone layer, selectively irradiating the silicone layer with activation energy rays, and removing non-irradiated portions of the silicone layer. Can be formed.

基板としては、目的とする用途に必要な強度、耐久性、可撓性などの特性を有するものであれば、任意のものを使用することができる。   As the substrate, any substrate can be used as long as it has properties such as strength, durability and flexibility necessary for the intended application.

基板としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、ステンレス、鉄等の各種金属に代表される導体;シリコン、ガリウムヒ素化合物等に代表される半導体;ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエチレン等の合成樹脂又はガラスに代表される絶縁体;合成樹脂を溶融塗布あるいは合成樹脂溶液を塗布した紙;合成樹脂フィルム又はガラスに導体層又は半導体層を真空蒸着、ラミネート等の技術により設けた多層基板などが挙げられる。これらのうち、シリコン及びガラスからなる基板が好ましい。   Examples of the substrate include conductors represented by various metals such as aluminum, zinc, copper, stainless steel, and iron; semiconductors represented by silicon, gallium arsenide compounds, etc .; synthetic resins such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyvinyl acetal, and polyethylene Or an insulator typified by glass; a paper in which a synthetic resin is melt-coated or a synthetic resin solution is applied; a multilayer substrate in which a conductor layer or a semiconductor layer is provided on a synthetic resin film or glass by a technique such as vacuum deposition or lamination It is done. Of these, a substrate made of silicon and glass is preferable.

基板は、シリコーン層との密着性向上等の目的のために表面処理されてもよい。そのような表面処理としては、基板の材質にもよるが、例えば、ブラシ研磨法、ボール研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体ホーニング、サンドブラスト等の粗面化処理、およびこれらの組み合わせが挙げられる。   The substrate may be surface-treated for the purpose of improving adhesion to the silicone layer. Such surface treatment depends on the material of the substrate, but examples thereof include brush polishing, ball polishing, electrolytic etching, chemical etching, surface roughening such as liquid honing, sandblasting, and combinations thereof. It is done.

本発明の硬化性シリコーン組成物を基板上に塗布する手段としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、クラビヤ印刷法、シルクスリーン法又はインクジェット法などを用いることができる。これらのうち、均一な厚さを有する塗膜が得られることから、スピンコート法を用いることが好ましい。スピンの速度、時間及び有機溶媒等を用いた硬化性シリコーン組成物の粘度調整などにより、塗膜の厚さを0.1〜200μmにすることができる。次に、この塗膜を40〜120℃で乾燥させ、必要に応じて温度を上下させることにより、0〜5分間加熱してシリコーン層を形成する。   As a means for applying the curable silicone composition of the present invention on a substrate, a spin coating method, a dipping method, a spray method, a bar coating method, a roll coating method, a curtain coating method, a clavier printing method, a silk screen method, or an ink jet method. Etc. can be used. Among these, it is preferable to use a spin coating method because a coating film having a uniform thickness can be obtained. The thickness of the coating film can be adjusted to 0.1 to 200 μm by adjusting the viscosity of the curable silicone composition using the spin speed, time, organic solvent, and the like. Next, this coating film is dried at 40 to 120 ° C., and the temperature is increased or decreased as necessary, thereby heating for 0 to 5 minutes to form a silicone layer.

シリコーン層に活性化エネルギー線を選択的に照射する方法としては、例えば、所定のパターンに対応する部分のみに透過性を有するフォトマスクを介して活性化エネルギー線をシリコーン層に照射するか、または、例えば、レーザーを用いてシリコーン層の所定のパターン形成部分にのみ活性化エネルギー線を直接照射する方法が挙げられる。   As a method of selectively irradiating the activation energy rays to the silicone layer, for example, the activation energy rays are irradiated to the silicone layer through a photomask having transparency only to a portion corresponding to a predetermined pattern, or For example, a method of directly irradiating activation energy rays only on a predetermined pattern forming portion of the silicone layer using a laser can be mentioned.

所定のパターンに沿った活性化エネルギー線の照射によりシリコーン層に形成された潜像は当該シリコーン層の非照射部分を除去することにより現像することができる。非照射部分の除去には各種の現像剤を使用することが可能であるが、既述したような有機溶媒により非照射部分の未硬化シリコーン層を溶解除去することが好ましい。   The latent image formed on the silicone layer by irradiation with activation energy rays along a predetermined pattern can be developed by removing the non-irradiated portion of the silicone layer. Various developers can be used to remove the non-irradiated portion, but it is preferable to dissolve and remove the uncured silicone layer of the non-irradiated portion with an organic solvent as described above.

なお、現像後に、前記シリコーン層を40〜250℃で、必要に応じて温度をさらに上げ、1〜30分間加熱することにより、形成されたパターンの強度を向上させることが好ましい。   In addition, it is preferable to raise the intensity | strength of the formed pattern by raising the temperature further as needed at 40-250 degreeC after image development, and heating for 1 to 30 minutes.

以下、実施例及び比較例により、本発明をさらに詳細に説明する。以下において、表中の使用成分の構造又は特性は、それぞれ次のとおりである。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. Below, the structure or characteristic of the use component in a table | surface is as follows, respectively.

(1a)成分:ケイ素原子に結合したアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン
1)シロキサンポリマー1:ビニル含量1.2w%
ViMe2Si(Me2SiO)145(ViMeSiO)3SiMe2Vi
2)シロキサンポリマー2:ビニル含量1.8w%
(SiO2)58(Me3SiO1/2)35(HO1/2)3(ViMe2SiO1/2)5
3)シロキサンポリマー3:ビニル含量5.15w%
(ViMe2SiO1/2)25(PhSiO3/2)75
(1a) Component: Organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom 1) Siloxane polymer 1: Vinyl content 1.2 w%
ViMe 2 Si (Me 2 SiO) 145 (ViMeSiO) 3 SiMe 2 Vi
2) Siloxane polymer 2: vinyl content 1.8w%
(SiO 2 ) 58 (Me 3 SiO 1/2 ) 35 (HO 1/2 ) 3 (ViMe 2 SiO 1/2 ) 5
3) Siloxane polymer 3: vinyl content 5.15w%
(ViMe 2 SiO 1/2 ) 25 (PhSiO 3/2 ) 75

(1a)成分:ケイ素原子に結合した水素原子を有するオルガノヒドロジェンポリシロキサン
1)架橋剤1:水素含量1.05w%、25℃での粘度30cst
(Me3SiO)(MeHSiO)39(Me2SiO)16.2(SiMe3)
2)架橋剤2:水素含量0.12w%、25℃での粘度135cst
(Me3SiO)(Me2SiO)103(MeHSiO)9.5(SiMe3)
3)架橋剤3:水素含量0.76w%、25℃での粘度5cst
(Me3SiO)(Me2SiO)3(MeHSiO)5(SiMe3)
4)架橋剤4:水素含量0.54w%、25℃での粘度70cst
(Me2HSiO1/2)0.53(PhSiO3/2)0.47
(1a) Component: Organohydrogenpolysiloxane having a hydrogen atom bonded to a silicon atom 1) Crosslinking agent 1: Hydrogen content 1.05 w%, viscosity at 25 ° C. 30 cst
(Me 3 SiO) (MeHSiO) 39 (Me 2 SiO) 16.2 (SiMe 3 )
2) Crosslinker 2: Hydrogen content 0.12 w%, viscosity 135 cst at 25 ° C.
(Me 3 SiO) (Me 2 SiO) 103 (MeHSiO) 9.5 (SiMe 3 )
3) Crosslinking agent 3: Hydrogen content 0.76 w%, viscosity at 25 ° C. 5 cst
(Me 3 SiO) (Me 2 SiO) 3 (MeHSiO) 5 (SiMe 3 )
4) Crosslinking agent 4: Hydrogen content 0.54 w%, viscosity at 25 ° C. 70 cst
(Me 2 HSiO 1/2 ) 0.53 (PhSiO 3/2 ) 0.47

(1b)成分:ケイ素原子に結合したアルケニル基とケイ素原子に結合した水素原子とを有するオルガノポリシロキサン
1)シロキサンポリマー4:水素含量0.32w%、ビニル含量26.6w%
(Me2HSiO1/2)25(ViSiO3/2)75
(1b) Component: Organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom and a hydrogen atom bonded to a silicon atom 1) Siloxane polymer 4: Hydrogen content 0.32 w%, vinyl content 26.6 w%
(Me 2 HSiO 1/2 ) 25 (ViSiO 3/2 ) 75

(2)成分:ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒
1)Pt:米国特許第5175325号記載の製造方法にて、ジビニルテトラメチルジシロキサンと塩化白金(II)との錯化合物のトルエンで希釈した白金金属として1.9w%溶液
(2) Component: Platinum catalyst for promoting hydrosilylation reaction 1) Pt: Platinum diluted with toluene as a complex compound of divinyltetramethyldisiloxane and platinum (II) chloride by the production method described in US Pat. No. 5,175,325 1.9w% solution as metal

(3)成分:白金系触媒用反応抑制剤
反応抑制剤1:1−エチニル−1−シクロヘキサノール。
反応抑制剤2:メチル−トリス(3−メチル−1‐ブチン−3‐オキソ)シラン
(3) Component: Reaction inhibitor for platinum catalyst Reaction inhibitor 1: 1-ethynyl-1-cyclohexanol.
Reaction inhibitor 2: Methyl-tris (3-methyl-1-butyne-3-oxo) silane

(4)成分:有機過酸化物
1):(C6H5(CH3)2COOC(CH3)2C6H5)の構造を有するジクミルパーオキシドのアルコ−ル溶液(固形分20重量%)
2)(CH3)3COOC(CH3)2CC(CH3)2COOC(CH3)3)の構造を有する2,5‐ジメチル‐2,5‐ビス(t‐ブチルパオキシ)ヘキシン‐3のアルコ−ル溶液(固形分20重量%)
(4) Component: Organic peroxide 1): An alcohol solution of dicumyl peroxide having a structure of (C 6 H 5 (CH 3 ) 2 COOC (CH 3 ) 2 C 6 H 5 ) (solid content 20 weight%)
2) of 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylpaoxy) hexyne-3 having the structure of (CH 3 ) 3 COOC (CH 3 ) 2 CC (CH 3 ) 2 COOC (CH 3 ) 3 ) Alcohol solution (solid content 20% by weight)

溶媒:トルエン Solvent: Toluene

光増感剤:アントラセン Photosensitizer: Anthracene

(実施例1〜7)
(1a)成分に相当するシロキサンポリマー1〜3、架橋剤1〜4、(1b)成分に相当するシロキサンポリマー4、(2)成分に相当するPt、(3)成分に相当する反応抑制剤1〜2、(4)成分に相当する過酸化物1〜2、また、光増感剤、溶媒をそれぞれ下記表1記載の割合で混合して実施例1〜7の硬化性シリコーン組成物を調製した。
(Examples 1-7)
(1a) Siloxane polymers 1 to 3 corresponding to component, crosslinking agents 1 to 4, (1b) Siloxane polymer 4 corresponding to component, (2) Pt corresponding to component, Reaction inhibitor 1 corresponding to (3) component The curable silicone compositions of Examples 1 to 7 were prepared by mixing the peroxides 1 to 2 corresponding to the components (2) and (4), the photosensitizer and the solvent in the proportions shown in Table 1 below. did.

(比較例1〜2)
比較例1として、反応抑制剤1を含まないこと以外は実施例1と同一の硬化性シリコーン組成物を調製した。更に、比較例2として、過酸化物1を含まないこと以外は実施例1と同一の硬化性シリコーン組成物を調製した。
(Comparative Examples 1-2)
As Comparative Example 1, the same curable silicone composition as in Example 1 was prepared except that the reaction inhibitor 1 was not included. Furthermore, as Comparative Example 2, a curable silicone composition identical to that of Example 1 was prepared except that peroxide 1 was not included.

Figure 0004660182
Figure 0004660182

比較例1の組成物は室温において保存安定性が悪く、30分以内で硬化が進行した。これに対して実施例1―7の組成物は、室温下で3時間以上の保存安定性を示した。   The composition of Comparative Example 1 had poor storage stability at room temperature, and curing proceeded within 30 minutes. On the other hand, the composition of Example 1-7 showed storage stability of 3 hours or more at room temperature.

(パターン形成)
直径10.2cmのシリコンウェハ上に500rpmで10秒、且つ、2000rpmで30秒間スピンコートを行って実施例1−7及び比較例1−2の組成物のそれぞれの塗布膜を得た。次に、線幅 10−200μmのパターンを有するフォトマスクを適用して、低圧水銀ランプを用いて(波長254〜360nmの紫外線)表2に示す線量でパターン照射し、さらに表2に示す温度・時間で後加熱した。その後、トルエン溶液で非照射部分を除去して現像を行い、ネガ型のパターン化膜を得た。実施例3〜7については前記パターン照射前に表2に示す温度・時間で前加熱を行った。得られたパターン線幅の結果を表2に併せて示す。
(Pattern formation)
Spin coating was performed on a silicon wafer having a diameter of 10.2 cm at 500 rpm for 10 seconds and at 2000 rpm for 30 seconds to obtain respective coating films of the compositions of Example 1-7 and Comparative Example 1-2. Next, a photomask having a pattern with a line width of 10 to 200 μm was applied, and a pattern was irradiated using a low-pressure mercury lamp (ultraviolet light having a wavelength of 254 to 360 nm) at the dose shown in Table 2, and the temperature After-heating with time. Thereafter, the non-irradiated portion was removed with a toluene solution and development was performed to obtain a negative patterned film. In Examples 3 to 7, preheating was performed at the temperature and time shown in Table 2 before the pattern irradiation. The obtained pattern line width results are also shown in Table 2.

Figure 0004660182
Figure 0004660182

表2から明らかなように、実施例1−7では精度の良いパターンを得ることができた。なお、実施例4においては、使用した組成物が光増感剤を含むので、光増感剤を含まない組成物3と比べ、必要とする光量が少なくても精度の良いパターンを得ることができた。   As is clear from Table 2, in Example 1-7, a highly accurate pattern could be obtained. In Example 4, since the used composition contains a photosensitizer, a highly accurate pattern can be obtained even if the amount of light required is small compared to the composition 3 that does not contain a photosensitizer. did it.

実施例1に比して反応抑制剤1及び過酸化物1をそれぞれ欠く比較例1及び2では精度の良いパターンは得られなかった。


In Comparative Examples 1 and 2, which lacked the reaction inhibitor 1 and the peroxide 1 as compared with Example 1, a highly accurate pattern was not obtained.


Claims (5)

(1)下記:
(a)ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、及び、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に少なくとも2個有するオルガノヒドロジェンポリシロキサン若しくはヒドロシラン化合物又はこれらの混合物、及び、
(b)ケイ素原子と結合したアルケニル基及びケイ素原子と結合した水素原子を同一分子内に有するオルガノポリシロキサン
からなる群から選択される少なくとも一つ、
(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒、
(3)白金系触媒用反応抑制剤、及び、
(4)(A)一般式:
COOCR
(式中、
、R、R、R、R及びRは、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表す)
で示される過酸化物、(B)一般式:
COO−X−OOCR101112
〔式中、
、R、R、R10、R11及びR12は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表し、
Xは、−(CR'R")−、−(CR'R")−CR'""=CR"""−(CR'"R"")−、−(CR'R")−C≡C−(CR'"R"")−及び−(CR'R")−Ar−(CR'"R"")
(式中、
kは1以上の整数であり
l、m、n、o、p及びqは、それぞれ独立して、0又は1以上の整数であり、
R'、R"、R'"、R""、R'""及びR"""は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜30の有機基を表すか、或いは、隣接する炭素原子と一緒に置換基を有する又は有しない5又は6員環を形成し、
Arは置換基を有する又は有しないアリーレン基を表す)
からなる群から選択される2価の有機基を表す〕
で示される過酸化物、及び、(C)一般式:
171819SiOOSiR202122
(式中、
17、R18、R19、R20、R21及びR22は、同一又は異なって、炭素数1〜30の有機基を表す)で示される過酸化物からなる群から選ばれる有機過酸化物
を含む紫外線、X線、α線、β線、電子線又はγ線硬化性シリコーン組成物。
(1) The following:
(A) an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and an organohydrogenpolysiloxane or hydrosilane compound having at least two hydrogen atoms bonded to a silicon atom in one molecule; A mixture of these, and
(B) at least one selected from the group consisting of an organopolysiloxane having an alkenyl group bonded to a silicon atom and a hydrogen atom bonded to a silicon atom in the same molecule;
(2) platinum catalyst for promoting hydrosilylation reaction,
(3) a reaction inhibitor for platinum catalyst, and
(4) (A) General formula:
R 1 R 2 R 3 COOCR 4 R 5 R 6
(Where
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms)
(B) General formula:
R 7 R 8 R 9 COO-X-OOCR 10 R 11 R 12
[Where,
R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 and R 12 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms,
X is-(CR'R ") k -,-(CR'R") l -CR '"" = CR """-(CR'" R "") m -,-(CR'R ") n -C≡C- (CR '"R"") o - and - (CR'R") p -Ar- ( CR'"R"") q -
(Where
k is an integer of 1 or more, and l, m, n, o, p, and q are each independently 0 or an integer of 1 or more,
R ', R ", R'", R "", R '"" and R """are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, or adjacent carbons. Form a 5- or 6-membered ring with or without substituents with the atoms;
Ar represents an arylene group with or without a substituent)
Represents a divalent organic group selected from the group consisting of
And (C) the general formula:
R 17 R 18 R 19 SiOOSiR 20 R 21 R 22
(Where
R 17 , R 18 , R 19 , R 20 , R 21 and R 22 are the same or different and each represents an organic group having 1 to 30 carbon atoms). Ultraviolet ray, X-ray, α-ray, β-ray, electron beam or γ-ray curable silicone composition containing a product.
紫外線、X線、α線、β線、電子線又はγ線を吸収して(2)ヒドロシリル化反応促進用白金系触媒を活性化する光増感剤を更に含有する請求項1記載硬化性シリコーン組成物。 The curability according to claim 1, further comprising a photosensitizer that absorbs ultraviolet rays, X-rays, α-rays, β-rays, electron rays or γ-rays and activates (2) a platinum catalyst for promoting hydrosilylation reaction. Silicone composition. 前記光増感剤が、多環式芳香族化合物又はケトン発色団を有する芳香族化合物である、請求項2記載硬化性シリコーン組成物。 The curable silicone composition according to claim 2, wherein the photosensitizer is a polycyclic aromatic compound or an aromatic compound having a ketone chromophore. 基板上に請求項1乃至3のいずれかに記載の硬化性シリコーン組成物を塗布してシリコーン層を形成し、
前記シリコーン層に紫外線、X線、α線、β線、電子線又はγ線を選択的に照射し、
前記シリコーン層の非照射部分を除去する
ことからなるネガ型パターン形成方法。
A curable silicone composition according to any one of claims 1 to 3 is applied on a substrate to form a silicone layer,
The silicone layer is selectively irradiated with ultraviolet rays, X rays, α rays, β rays, electron rays or γ rays ,
A negative pattern forming method comprising removing a non-irradiated portion of the silicone layer.
前記シリコーン層の非照射部分を除去後、更に加熱することにより、形成されたパターンの強度を向上させる、請求項4記載のネガ型パターン形成方法。   The negative pattern formation method of Claim 4 which improves the intensity | strength of the formed pattern by further heating after removing the non-irradiation part of the said silicone layer.
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