JP4506466B2 - 光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 - Google Patents
光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4506466B2 JP4506466B2 JP2004544947A JP2004544947A JP4506466B2 JP 4506466 B2 JP4506466 B2 JP 4506466B2 JP 2004544947 A JP2004544947 A JP 2004544947A JP 2004544947 A JP2004544947 A JP 2004544947A JP 4506466 B2 JP4506466 B2 JP 4506466B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- light source
- recording medium
- optical recording
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 210
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 44
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 62
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 61
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 13
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 7
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 description 20
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 15
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 14
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 14
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 11
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 11
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 10
- 230000009021 linear effect Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 230000005697 Pockels effect Effects 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/125—Optical beam sources therefor, e.g. laser control circuitry specially adapted for optical storage devices; Modulators, e.g. means for controlling the size or intensity of optical spots or optical traces
- G11B7/128—Modulators
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/125—Optical beam sources therefor, e.g. laser control circuitry specially adapted for optical storage devices; Modulators, e.g. means for controlling the size or intensity of optical spots or optical traces
- G11B7/126—Circuits, methods or arrangements for laser control or stabilisation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1372—Lenses
- G11B7/1378—Separate aberration correction lenses; Cylindrical lenses to generate astigmatism; Beam expanders
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/12—Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
- G11B7/135—Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
- G11B7/1398—Means for shaping the cross-section of the beam, e.g. into circular or elliptical cross-section
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
このカッティングを行うマスタリング装置、すなわち光記録媒体原盤露光装置は、露光光源から出射される波長が400nm前後のレーザ光、例えばKrレーザ(λ=413nm)やArレーザ(λ=351nm)等の紫外波長域の連続発振固体レーザ光源を用いて対物レンズを介してレジストが塗布された原盤上に回折限界の微小スポットに絞り込んで照射することによって露光処理を行っている。
別の高分解能化の手段として最近では電子ビーム露光装置を用いた微小ピット加工法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。
しかしながら電子ビームを用いる方法では、真空装置を必要とし、ガラス原盤の高精度高回転機構を真空中で有するなど大掛かりな装置になる。
この超短パルスレーザ光源の繰り返し周波数Rは共振器長Lで決まり、定在波型(例えばZ字型の光路の場合)ではR=c/2L(c:光速)、また進行波型(例えばリング型の光路の場合)ではR=c/Lで与えられる。
一例として、2GHzの高繰り返し周波数での発振器が実用化された例が報告されている。例えば2GHzの繰り返し周波数を得たい時には、リング型の場合で共振器長Lは15cmとなる(例えば河田聡編、日本分光学会測定法シリーズ38「超解像の光学」、学会出版センター、1999年3月20日、第79頁参照。)。
上記文献においては、波長780nm、繰り返し周波数76MHz、パルス幅100fsのレーザ、開口数NA1.4の対物レンズを用いて、幅120nmのドット状パターンを形成した例が報告されている。
しかしながら、現状では光記録媒体用の記録情報の変調信号を、2光子吸収過程を利用してパターン露光によりレジスト上に形成し、光記録媒体原盤の露光に利用する技術は実現化されていない。
また更に本発明に係る光記録媒体原盤の露光方法は、共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザよりなる露光光源を用いて、外部同期機構により超短パルスレーザの共振器長を制御して、この超短パルスレーザの繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の周波数にモードロックしてパルス発振させ、露光光源からの光に対し記録情報に対応して光強度変調を行い、変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、フォトレジストを記録情報に応じてパターン露光する。
更に本発明は、上述の構成において、露光光源と変調手段との間に、超短パルスレーザを励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段を設ける構成とする。
更にまた本発明は、上述の各光記録媒体原盤の露光方法において、露光光源から出射された光を、この露光光源を励起光源とした高次高調波発生手段によって、非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化して出射させる。
光ディスクの記録情報信号のクロック周波数は、CDの場合4.3MHz、DVDの場合26MHzである。また近年高密度ディスクとして注目され、再生光の波長λが405nm、対物レンズの開口数NAが0.85とされて開発が進められているいわゆるBlu-ray Disc(登録商標)の場合で66MHzである。例えばBlu-ray Disc(登録商標)の場合66MHzであるから、超短パルスレーザの繰り返し周波数とほぼ同程度である為、情報データ信号とレーザのパルス発振のタイミングを合わせる必要がある。
このようにして同期させることによって、超短パルスレーザ光源からの光を露光光源として、CD、DVD、Blu-ray Disc(登録商標)などの各種光記録媒体に記録する情報信号に同期したパターン露光を確実に行うことができる。
光記録媒体の記録情報信号のクロックは、上述したようにCDの場合4.3MHz、DVDの場合26MHz、またBlu-ray Disc(登録商標)の場合で66MHzである。これら周波数の10倍程度以上の高繰り返し周波数で発振する超短パルスレーザ光を用いれば、光記録媒体の情報信号記録の際に、パルス間隔を信号の間隔に比して十分小さくすることができることから、各パルスは積分平均化され、またピット信号などのパターンのずれを再生信号に影響を与えることなく抑制することができることから、従来技術の連続発振光と同様に扱うことができ、再生時の信号ジッター値を10%以下にすることができる。
またこのとき、繰り返し周波数を20倍以下とすることによって、超短パルスレーザ光の尖頭出力を微細なパターン露光を行うに十分な出力に保持することができて、従来に比し微細なパターン露光を精度良く行うことができる。
上述の光記録媒体のうち最も周波数の高いBlu-ray Disc(登録商標)の場合を例にとると、66×10=660MHz以上の高繰り返し周波数で発振する超短パルスレーザを用いればよいことになる。
つまり、このようにクロック周波数の10倍以上の繰り返し周波数とする場合は、非常に高い繰り返し周波数でパルス発振している為、従来方法の連続発振レーザ光を用いる場合と同様に情報記録信号の光変調器とのタイミングを精度良く調整することなく露光することが可能となるという利点を有する。
この場合においては、前述したように外部同期機構を設けて、超短パルスレーザの繰り返し周波数を光記録媒体のクロック周波数の1倍以上10倍以下の整数倍として、クロック信号に同期させる構成とすることが望ましい。
このように本発明に係る光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤露光方法によれば、擬似的に連続光と同等にみなせる繰り返し周波数の高い超短パルスレーザ光を出射する露光光源、またはこれを励起手段とする高次高調波発生手段により短波長化された超短パルスレーザ光を出射して、光強度変調手段で変調された光を所定の集光光学系により回折限界のスポットサイズに集光してフォトレジストに照射することによって、従来と比較して微細なパターンのピットなどの凹凸パターンの露光を行うことができる。
2光子吸収過程は非線形光学現象の一つであり、レジストの露光は、ビームスポットの強度分布の2乗で与えられることになる。レジストの2光子吸収断面積は10−46〜10−47cm4s/photon程度と小さな値であり、レジストの感度は低いが、数%の吸収が起こる。
このように高効率で2光子吸収を起こす為には超短パルスレーザ光の尖頭出力が高くなければならない。
レジストの露光の過程で、レジスト面内における光源の光の吸収分布は、通常の吸収の場合、ビーム強度分布に比例し、2光子吸収の場合はビーム強度分布の2乗に比例する。
光の吸収分布を図6に示す。図6において、Iはビーム強度分布を示し、通常の吸収の場合に相当する。I2はビーム強度分布の2乗を示し、2光子吸収の場合に対応する。エアリースポット径dは、
d=1.22λ/NA
となる。対物レンズの開口数NAが、NA=0.9、波長λ=267nmの時、スポットサイズは0.36μmであるが、2光子吸収の場合、ほぼ1/√2=0.7倍のビームスポット、即ち、波長190nmの露光光源を用いた通常の露光時のビームスポットサイズに相当する。これにより、記録線密度は1光子の(通常の)露光の場合の約1.4倍になる。
例えばグルーブなどの線状のパターンを露光する為には、パルス間隔(繰り返し周波数の逆数)、走査速度(円盤状の光記録媒体原盤の場合線速)がレジストの感度に合わせ最適化されなければならない。ところが、パルス間隔はチャンネルクロックによって一義的に固定されているので、線状のパターンを露光するのは難しい。
上述の本発明によれば、集光光学系から出射されレジストに集光されたビームスポットをビーム走査方向に長円化していることから、照射される光量分布が拡がり平均化されて、グルーブなどの線状のパターンが容易に得られることとなる。
このように、フォトレジストとして露光光源の波長域では透明で、その半分の波長において吸収を有するような材料を用いることによって、通常の吸収(1光子吸収)を効率よく抑制することができる。
2光子吸収では光子を2個同時吸収し、光子1個の持つエネルギーの2倍のエネルギーだけ上の準位にレジストの電子を遷移させる。吸収スペクトルで言えば露光光源の波長の半分の波長の光(1光子)で励起する場合に相当することから、2光子吸収用のレジストは吸収ピーク波長を露光光源の波長の半分以下とすることにより、効率よく2光子吸収を発生させ、より微細なパターン露光を行うことができる。
図1に、本発明による光記録媒体原盤の露光装置の一例の模式的な構成図を示す。この例においては、露光光源1からの光を記録情報に対応する光強度変調を行う変調手段3と、この変調手段3で変調された光を、図示の例ではディスク状の光記録媒体原盤11上のフォトレジスト12上に集光する集光光学系9とを設けて、フォトレジスト12を記録情報に応じてパターン露光するものである。
この超短パルスレーザ光源によるパルス信号の模式的な波形を図2Aに、またパルス信号を上述の変調手段3によって、記録情報の信号波形Sに重畳させた状態の模式的な波形を図2Bに示す。図2Aに示すように、パルスPの間隔を適切に選定して、その周波数を図2Cに示す記録情報のクロック信号Cの1倍以上20倍以下の整数倍、図示の例では1倍の周波数として、図2Bに示すように、記録情報の信号Sに重畳させる。図2Bにおいては、パルス波形を破線P’として示す。これにより、記録情報と同期した露光を行って、記録情報に対応してフォトレジストのパターン露光を行うことができる。
まず、超短パルスレーザ光源30には、半導体レーザ(図示せず)等の励起光Li0 がレンズ31、球面ミラー32を介してTi:Sapphire等のレーザ媒質34に入射される。レーザ媒質34から出射された光は球面ミラー33に反射され、さらに高反射ミラー35に反射された後分散補償プリズム36a及び36bに入射される。そしてスリット37を介して高反射ミラー38によって反射される。そして再びスリット37を通過して、分散補償プリズム36b及び36a、高反射ミラー35、球面ミラー33を介してレーザ媒質34に戻される。露光用光としては、レーザ媒質34から球面ミラー32に戻った光を出力窓(出力カプラー)39、ビームスプリッタ40を介して出射光Li2 として外部に取り出す。
そして情報記録信号の光変調器駆動信号も、クロック信号に同期して送信されるので、超短パルスレーザのパルス発振とはタイミングが取れることとなる。超短パルスレーザ光源の繰り返し周波数をクロック信号の1倍、すなわち同期させる場合、フォトレジストには例えば(1,7)変調コードを用いて記録される時は、2T最短ピットには2パルスが照射される。もしクロック信号の2倍の周波数、前述のBlu-ray Disc(登録商標)の場合132MHzに外部同期させるときは、共振器長RをR=c/2L=1136mm(cは光速)となるように超短パルスレーザ装置内の光学系を配置すればよく、2T最短ピットには4パルスが照射されることになる。
また用いる超短パルスレーザの出力によるが、2光子吸収等多光子吸収の発生に必要な尖頭出力値を得るためには、8倍以下の整数倍とすることが望ましい。
特に、上述のBlu-ray Disc(登録商標)、或いはそれ以上の高いクロック周波数の光記録媒体に適用する場合は、4倍以下の整数倍とすることが望ましい。
更に、クロック周波数の1〜4倍の整数倍とする場合において、1記録マーク内のパルス数が少なくなり、ジッターが問題となる恐れがある場合は、前述の図2Bにおいて示すような矩形波状の記録ではなく、1記録マーク内で部分的にレーザ出力を調整するいわゆる記録補償を行うことにより、光量の積算値の分布を微調整し、形成されるピットの形状を補正することができて、これによりタイミングジッター等の低下を抑制することができる。
この超短パルスレーザ光源によるパルス信号の模式的な波形を図4Aに、またパルス信号を上述の変調手段3によって、記録情報の信号波形Sに重畳させた状態の模式的な波形を図4Bに示す。図4Aに示すように、パルスpの間隔ptを適切に選定して、図4Cに示す記録情報のクロック信号Cの10倍以上の周波数として、図4Bに示すように、記録情報の信号に重畳させる。これにより、擬似的に連続光と見なせる露光を行って、記録情報に対応してフォトレジストのパターン露光を行うことができる。図4Aにおいてpwはパルス幅である。
この高次高調波発生手段2の一例の模式的な構成を図5に示す。
図5において、26は第2高調波(SHG)発生部、27はディレーラインユニット、28は第3高調波(THG)発生部をそれぞれ示す。第2高調波発生部26に入射された光Liは、集光用レンズ19aを介して非線形光学結晶20に入射し、集光レンズ19bを介してハーモニックセパレータ21aで反射されてL2−1として取り出されるか、またはこのハーモニックセパレータ21aを設けない場合はディレーラインユニット27に入射される。
ディレーラインユニット27に入射された光は、ハーモニックセパレータ21bにより基本波L1と第2高調波L2−2とに分割される。基本波はミラー22a、22bにより反射されて第3高調波発生部28に入射され、第2高調波L2−2は、1/2波長板23を介してミラー22c、22d、21cにより反射されて第3高調波発生部28に入射される。
第2高調波発生においてタイプIの位相整合を用いる場合は、基本波と第2高調波の偏光面は90°回転している為、例えば図5に一例を示すように、タイプIの位相整合を用いる第2の非線形光学結晶24に入射する前に基本波L1に揃える1/2波長板23を設けることによって、第2高調波L2−2の偏光面を基本波に合わせることができる。
なお、各レンズ19a〜19dは、結晶内でのビーム強度を高くし、変換効率を向上させる為に配置されている。
すなわち、フォトレジストとして露光光源の波長域では透明で、その半分の波長において吸収を有するような材料を用いることによって、通常の吸収を効率よく抑制することができる。
そして更に、フォトレジストの全厚さにわたる露光を行う場合は、露光光源の半分の波長がフォトレジストの吸収ピークよりやや長波長側に存在することが望ましい。
ビームスポットを長円状とするためには、例えば図1において説明したビームエキスパンダ5がアナモルフィックな光学系、即ち、ビームの走査方向に対し平行な方向のビーム径の方がより拡大されるものであればよい。
具体的には、シリンドリカルレンズ、シリンドリカル凹面鏡、アナモルフィックプリズムなどを用いてビーム拡大率の比を数倍程度にすることが望ましい。
前述のレンズ、波長板、光変調器など全ての光学素子は正の群速度分散を有する為、露光光源を出射した時点でパルス幅が最小になるように調整されていても、これらを通過した超短パルスレーザ光は光記録媒体原盤のフォトレジストに照射される時には必ずチャープし、パルス幅が拡がってしまう。
またパルス幅の調整の際必要なパルス幅の計測には、従来の2次高調波発生法を用いた自己相関器によって行うことができる。
次に、本発明の光記録媒体原盤露光装置の一例について図1を参照しながら説明する。この例は、Ti:Sapphire超短パルスレーザ光源よりなる露光光源1と、この超短パルスレーザを励起光源とする高次高調波発生手段2と、これらの光から出力されたパルスが各種の光学部品を通過する際に被る正の群速度分散を予め補正する負の群速度分散を有するチャープ補正光学系4と、これからの出射光を供給されるデータに応じた電気的なパルス信号で高速にスイッチングして光強度変調を行う変調手段としての変調手段3と、この変調手段3で変調された光を回折限界のスポットサイズに集光してフォトレジスト12が塗布された光記録媒体原盤11上に照射する集光光学系9とビームエキスパンダ5が設けられている。
そして前述の図5において説明した高次高調波発生手段3を用いて、波長408nmの第2高調波または波長272mの第3高調波を発生させた。この例では、図5に示す第2高調波発生部26の非線形光学結晶20としては、タイプIの位相整合するLBO結晶を用いた。また第3高調波発生部28の非線形光学結晶24にはタイプIのBBOを用いた。各種レンズ19a〜19dは、結晶内でのビーム強度を高くし、変換効率を向上させる為に配置されている。第2高調波光は平均出力600mW、パルス幅(FWHM)100fs、第3高調波光は平均出力120mW、パルス幅は1ps以下の120fsとして出射光を取り出すことができた。
チャープ補正光学系4としては、ブルースタープリズムペアを用いた。
この光変調された光がミラー1bで90°反射されビームエキスパンダ5、オートフォーカス光学系6の例えば偏光ビームスプリッタ(以下、PBSという)6aを介して1/4波長板7を通過させ、ミラー1cで90°反射させた後、高い開口率NAを有する対物レンズ8aを透過させて予めフォトレジスト12が塗布された光記録媒体原盤11に照射される。
フォトレジスト12としては、例えば、i線用レジスト(JSR(株)PFRIX1110Gなど)、Krレーザマスタリング用レジスト(日本ゼオン(株)DVR−100など)を用いることができる。
一方、高次高調波発生手段2は、波長λ=272nmの第3高調波光を出射すると共に、第2高調波の波長λ=408nmの光を同時に出射している。この光の光路も上述した各光学素子を通過する光路であり、光記録媒体原盤11に照射される。
フォーカス誤差量検出素子6cは、例えば非点収差法等を用いて露光用の光が光記録媒体原盤11上に合焦するときのベストフォーカス位置からの位置ずれ量を光学的に検知し、この検知量を電気信号に変換する。この検出した電気信号がオートフォーカスサーボ系6の一部をなす駆動制御部6dに供給される。
またこのとき、上述したようにビームエキスパンダ5をアナモルフィックな光学系とすることによって、ビームの走査方向に拡大して長円化されたスポット形状とすることによって、グルーブ幅は従来と比較して微細なパターンとしてグルーブパターンを露光することができた。
なお、フォトレジスト12としては、上述のi線用レジストなどのほか、g線用のポジ型レジストを用いることができる。レジストの感光はフォトンモード記録であることから高繰り返し周波数の超短パルス光の場合も単位面積当たりフォトン数の積算量で感光量は決定される。本発明によれば、連続光照射の場合と異なり、サーマルモードを介することがほとんどない。即ち、不要なレジストの温度上昇による膨張や反応速度変化を抑制することができ、より微細なピットの形成が可能になる。
また、さらに和周波混合用の非線形光学結晶(例えばBBO)を追加することによって、4次高調波(波長204nm、平均出力12mW)を発生させることができた。この場合、ビームのスポットサイズとしては、開口数NA0.9の無収差対物レンズを用いて0.28μmのエアリースポットが得られた。
したがって、0.28×(1/√2)=0.2(μm)スポットサイズに相当する露光を行うことができる。
この場合、高感度のレジストとして、KrFレーザ(波長248nm)またはArFレーザ(波長192nm)用のレジストを適用することができる。
次に、本発明にかかる実施例2について説明する。
この例では、光記録媒体原盤露光装置の材料、構成は上述の実施例1の場合と全く同様であるが、露光光源のレーザパワー強度を10倍程度高くして用いた。
すなわちこの例において露光光源として繰り返し周波数66MHz、中心波長816nm、パルス幅80fsであるが、平均出力は2WのTi:Sapphireをレーザ媒質とした超短パルスレーザ光源を用いた。
さらに高次高調波のレーザパワー強度を高める為に、各非線形光学結晶20、24の前後にある集光レンズ19a、19b、19c、19dの焦点距離をより短くし、結晶内におけるビームスポット径を小さくして励起光の電場強度を大きくすることで波長変換効率を高めて、第3高調波のレーザパワー強度を高くし、およそ実施例1の10倍程度のパワーを得た。但し、パルス幅は多少広くなった。
レジスト面上のビームスポット内の光強度は尖頭出力にして100GW/cm2に及び、2光子吸収が顕著に起こり数%の吸収、即ち、レジストの露光過程である光反応を進行させることができた。そしてこの例においては、対物レンズとしてNA=0.9の無収差対物レンズを用いて0.36μmのエアリースポットを得ることができ、2光子吸収過程を生じさせることにより、0.36×(1/√2)=0.25μmのエアリースポットサイズの露光を行うことができた。
またこの場合においても、ビームエキスパンダ5をアナモルフィックな光学系とすることによって、ビームの走査方向に拡大して長円化されたスポット形状とすることによって、グルーブ幅は従来と比較して微細なパターンとしてグルーブパターンを露光することができた。
また、2光子吸収断面積は非常に小さい値であるので、レジストの感度を高める為、2光子吸収断面積の高い有機色素を増感剤としてレジストに添加したものを用いることができる。実施例1の場合と同様の長所があるほか、適用可能なフォトレジストの選択範囲も広がる。
次に、他の本発明による光記録媒体原盤露光装置の一例について図1を参照しながら説明する。この例においても、Ti:Sapphire超短パルスレーザ光源よりなる露光光源1と、この超短パルスレーザを励起光源とする高次高調波発生手段2と、これらの光から出力されたパルスが各種の光学部品を通過する際に被る正の群速度分散を予め補正する負の群速度分散を有するチャープ補正光学系4と、これからの出射光を供給されるデータに応じた電気的なパルス信号で高速にスイッチングして光強度変調を行う変調手段としての変調手段3と、この変調手段3で変調された光を回折限界のスポットサイズに集光してフォトレジスト12が塗布された光記録媒体原盤11上に照射する集光光学系9としてビームエキスパンダ5、対物レンズ8aとを有している。
前述の図5において説明した高次高調波発生手段3を用いて、波長408nmの第2高調波または波長272mの第3高調波を発生させた。この例では、図5に示す第2高調波発生部26の非線形光学結晶20としては、タイプIの位相整合するLBO結晶を用いた。また第3高調波発生部28の非線形光学結晶24にはタイプIのBBOを用いた。各種レンズ19a〜19dは、結晶内でのビーム強度を高くし、変換効率を向上させる為に配置されている。第2高調波光は平均出力20mW、パルス幅100fs、第3高調波光は平均出力4mW、パルス幅(FWHM)は1ps以下の130fsとして出射光を取り出すことができた。
フォトレジスト12としては、例えばi線用レジスト(JSR(株)PFRIX1110Gなど)、Krレーザマスタリング用(日本ゼオン(株)DVR−100など)を用いることができる。
高次高調波発生手段2は、波長λ=272nmの第3高調波光を出射すると共に、第2高調波の波長λ=408nmの光を同時に出射している。この光の光路も上述した各光学素子を通過する光路であり、光記録媒体原盤11に照射される。その他の構成は、前述の実施例1と同様とした。
このように形成したレーザ光をディスク回転機構によりディスク上で回転走査させ、同時に対物レンズを含む光学系をディスク中心から半径方向に移動させることにより、スパイラル状にビームをディスク上で走査させ、フォトレジストを露光して高密度にピットを形成することができる。フォトレジストにはg線用あるいはi線用のポジ型レジストを用いた。レジストの感光はフォトンモード記録であることから高繰り返し周波数の超短パルス光の場合も単位面積当たりフォトン数の積算量で感光量は決定される。本発明によれば、連続光照射の場合と異なり、サーマルモードを介することがほとんどない。即ち、レジストの不要な温度上昇による膨張や反応速度変化を抑制することができ、より微細なピットの形成が可能になる。
また、さらに和周波混合用の非線形光学結晶(BBO)を追加することによって、4次高調波発生(波長200nm近辺)の利用も考えられる。この場合、ビームスポットサイズとしてはNA0.9の無収差レンズを用いて0.28μmのエアリースポットが得られる。従って、0.28×(1/√2)≒0.2(μm)のスポットサイズに相当する露光を行うことができる。平均出力は数10μW程度と少し低いが、露光用光の走査速度、すなわち光記録媒体原盤の回転数を落とすことで、光源のレーザパワーが低い問題を解決することも可能である。
次に、本発明に係る実施例4について説明する。
この例では、光記録媒体原盤露光装置の材料、構成は実施例3の場合と全く同様であるが、高次高調波のレーザパワー強度を高めるために、各非線形光学結晶の手前にある集光レンズの焦点距離をより短くし、ビームスポット径を小さくして波長変換効率を高めている。
この例においても露光光源1として繰り返し周波数750MHz、中心波長816nm、パルス幅80fs、平均出力1.5WのTi:Sapphire超短パルスレーザを用いた。
また、この場合においても、レジストの感度を高める為、2光子吸収断面積の高い有機色素を増感剤としてレジストに添加したものを用いることができる。実施例3の場合と同様の長所があるほか、適用可能なフォトレジストの選択範囲も広がる。
また上述したように、繰り返し周波数を高くしすぎるとパルスの尖頭出力が低下してしまい、2光子吸収を発生させにくくなり、解像度の高いパターン露光を行えない。従って、上述の本発明においては、その上限として、現状で得られる超短パルスレーザ光源の最大出力や開発中の各種光記録媒体のクロック周波数を考慮して、露光を行う光記録媒体のクロック周波数の20倍程度以下に選定するものである。
また、上述の実施の形態及び各実施例においては、光源手段として、Ti:Sapphire超短パルスレーザを例にとったが、他にも様々な超短パルスレーザ光源を用いることができる。
また、高次高調波発生手段において、和周波混合や第2高調波発生、第4高調波発生等を含み非線形結晶光学素子には、BBOの他にKDP、KTP、LNまたこれらの周期分極反転型KTP(PPKTP)やPPLN、LBO、LiIO3、CBO等がある。
さらに、これまで微小ピット及びグルーブの露光を例に説明を行ってきたが、従来方法の連続光光源と同様に扱うことができることから、微小ピット及びグルーブの形成のみならず、音響光学効果あるいはポッケルス効果を利用した光偏向器を用いてウォブリングアドレスの形成なども同様に行うことが可能である。
さらに、上述の本発明において、光記録媒体原盤に照射するレーザ光のビームスポットを長円状とすることによって、グルーブ等の走査方向に延在するパターンの信号も、良好な形状をもって、パターン露光することができる。
特にこの場合、2光子吸収過程を生じさせ、更に、高次高調波発生手段によってより短波長の超短パルスレーザを用いることによって、0.25μm以下の微細なパターンを精度良く露光することができる。
また更に上述の各本発明においては、前述したような高開口数のSILを用いたニアフィールド光学系ではなく、ファーフィールド光学系を採用できる為、ワーキングディスタンスを十分広く取ることができ露光時の回転数を高くすることにより、生産性を大幅に向上させることができる。
Claims (14)
- 共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザよりなる露光光源と、
前記超短パルスレーザの共振器長を制御して、前記超短パルスレーザの繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の周波数にモードロックし、パルス発振させる外部同期機構と、
前記露光光源からの光に対し前記記録情報に対応して光強度変調を行う変調手段と、
該変調手段で変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光する集光光学系と、を有する
光記録媒体原盤露光装置。 - 前記露光光源と前記変調手段との間に、前記超短パルスレーザを励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段が設けられる請求項1記載の光記録媒体原盤露光装置。
- 前記フォトレジストの露光が、2光子吸収過程によってなされる請求項1又は2に記載の光記録媒体原盤露光装置。
- 前記露光光源のパルス幅が1×10−12秒以下である請求項3記載の光記録媒体原盤露光装置。
- 前記集光光学系から出射され、前記フォトレジストに集光されたレーザ光のスポット形状が、前記レーザ光の走査方向に延在する長円状とされる請求項1〜4のいずれかに記載の光記録媒体原盤露光装置。
- 共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザよりなる露光光源を用いて、
外部同期機構により前記超短パルスレーザの共振器長を制御して、前記超短パルスレーザの繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の周波数にモードロックしてパルス発振させ、
前記露光光源からの光に対し前記記録情報に対応して光強度変調を行い、変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光する
光記録媒体原盤の露光方法。 - 前記露光光源から出射された光を、前記露光光源を励起光源とした高次高調波発生手段によって、非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化して出射させる請求項6記載の光記録媒体原盤の露光方法。
- 前記フォトレジストに集光されたレーザ光のスポット形状を、前記レーザ光の走査方向に延在する長円状とする請求項6又は7に記載の光記録媒体原盤の露光方法。
- 記録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数の超短パルスレーザよりなる露光光源と、
前記露光光源からの光に対し記録情報に対応して光強度変調を行う変調手段と、
該変調手段で変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光する集光光学系と、を有する
光記録媒体原盤露光装置。 - 前記露光光源と前記変調手段との間に、前記超短パルスレーザを励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段が設けられる請求項9記載の光記録媒体原盤露光装置。
- 前記フォトレジストの露光が、2光子吸収過程によってなされる請求項9又は10に記載の光記録媒体原盤露光装置。
- 前記露光光源のパルス幅が1×10−12秒以下である請求項11記載の光記録媒体原盤露光装置。
- 記録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数の超短パルスレーザよりなる露光光源を用いて、
前記露光光源からの光に対し前記記録情報に対応して光強度変調を行い、変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光する
光記録媒体原盤の露光方法。 - 前記露光光源から出射された光を、前記露光光源を励起光源とした高次高調波発生手段によって、非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化して出射させる請求項13記載の光記録媒体原盤の露光方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002300840 | 2002-10-15 | ||
JP2002300839 | 2002-10-15 | ||
JP2002300840 | 2002-10-15 | ||
JP2002300839 | 2002-10-15 | ||
PCT/JP2003/013130 WO2004036565A1 (ja) | 2002-10-15 | 2003-10-14 | 光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2004036565A1 JPWO2004036565A1 (ja) | 2006-02-16 |
JP4506466B2 true JP4506466B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=32109455
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004544947A Expired - Fee Related JP4506466B2 (ja) | 2002-10-15 | 2003-10-14 | 光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7551537B2 (ja) |
EP (1) | EP1553573A4 (ja) |
JP (1) | JP4506466B2 (ja) |
KR (1) | KR20050047502A (ja) |
CN (1) | CN1324586C (ja) |
TW (1) | TWI264718B (ja) |
WO (1) | WO2004036565A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7450307B2 (en) * | 2003-09-09 | 2008-11-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method for manufacturing semiconductor device |
JP4222296B2 (ja) * | 2004-11-22 | 2009-02-12 | 住友電気工業株式会社 | レーザ加工方法とレーザ加工装置 |
JP4822737B2 (ja) | 2005-04-22 | 2011-11-24 | ミヤチテクノス株式会社 | レーザ溶接方法及びレーザ溶接装置 |
KR20090084930A (ko) * | 2006-11-10 | 2009-08-05 | 휴렛-팩커드 디벨롭먼트 컴퍼니, 엘.피. | 아포크로매틱 렌즈 및 광 분리 수단을 사용하는 매체 상에서의 광학 데이터 기록 및 이미지화 |
CN101536099A (zh) * | 2006-11-10 | 2009-09-16 | 惠普开发有限公司 | 使用复消色差透镜在介质上的光学数据记录和成像 |
AT506455B1 (de) * | 2008-02-18 | 2011-10-15 | Femtolasers Produktions Gmbh | Laserkristalleinrichtung |
JP2009238285A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Sony Corp | 光記録方法及び光記録装置 |
JP4605236B2 (ja) * | 2008-03-26 | 2011-01-05 | ソニー株式会社 | 光記録再生装置および光記録再生方法 |
JP2009245536A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 光記録ディスクの記録・再生方法、情報が記録された光記録ディスクの製造方法および光記録ディスクの記録装置 |
JP2010211844A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Fujifilm Corp | 2光子吸収記録媒体記録再生装置 |
JP2010258120A (ja) * | 2009-04-23 | 2010-11-11 | Fujifilm Corp | 超短波パルス光源およびそれを備えた2光子吸収記録媒体記録装置 |
JP2011204914A (ja) | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Sony Corp | 光発振装置及び記録装置 |
JP5870509B2 (ja) * | 2011-05-30 | 2016-03-01 | ソニー株式会社 | 光源装置、光学ピックアップ、記録装置 |
CN102551884B (zh) * | 2012-02-10 | 2014-12-17 | 北京天助畅运医疗技术股份有限公司 | 超声显像微波治疗仪 |
JP2014142978A (ja) * | 2013-01-22 | 2014-08-07 | Sony Corp | 制御装置および制御方法、ならびに原盤作製装置 |
EP2762261A1 (de) * | 2013-02-01 | 2014-08-06 | Bystronic Laser AG | Schneidoptik für eine Laserschneidanlage, mit Korrektur oder gezielten Beeinflussung der chromatischen Aberration ; Laserschneidanlage mit solcher Optik |
WO2015107669A1 (ja) * | 2014-01-17 | 2015-07-23 | 株式会社日立製作所 | 情報記録装置及び情報記録方法 |
US9265284B2 (en) | 2014-01-17 | 2016-02-23 | R.J. Reynolds Tobacco Company | Process for producing flavorants and related materials |
FR3053155B1 (fr) * | 2016-06-27 | 2019-09-06 | Universite d'Aix-Marseille (AMU) | Procedes et systemes de fonctionnalisation optique d'un echantillon en materiau semi-conducteur |
CN113985707B (zh) * | 2021-10-25 | 2023-08-04 | 之江实验室 | 一种可控脉冲展宽与延时的超分辨激光直写装置及方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11258645A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-24 | Sony Corp | 波長変換装置 |
JP2002312936A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光記録媒体の記録方法および情報が記録された光記録媒体 |
JP2003181678A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-02 | Ricoh Co Ltd | 立体構造体の加工方法、立体形状品の製造方法、立体構造体の加工装置及び立体構造体 |
JP2003245784A (ja) * | 2002-02-21 | 2003-09-02 | Ricoh Co Ltd | レーザ加工方法、レーザ加工装置及び立体構造体 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3153682B2 (ja) | 1993-08-26 | 2001-04-09 | 松下電工株式会社 | 回路板の製造方法 |
JPH0798891A (ja) | 1993-09-29 | 1995-04-11 | Sony Corp | 光ディスク原盤露光装置 |
JPH09128818A (ja) * | 1995-11-02 | 1997-05-16 | Sony Corp | 露光装置 |
JPH10289475A (ja) * | 1997-04-16 | 1998-10-27 | Sony Corp | 露光装置 |
JPH10334503A (ja) * | 1997-05-28 | 1998-12-18 | Sony Corp | 光ディスク原盤の露光装置 |
JP2000033487A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Sony Corp | レーザカッティング装置 |
US6285002B1 (en) | 1999-05-10 | 2001-09-04 | Bryan Kok Ann Ngoi | Three dimensional micro machining with a modulated ultra-short laser pulse |
JP4081702B2 (ja) * | 1999-07-29 | 2008-04-30 | ソニー株式会社 | 露光装置及び露光方法 |
WO2001018802A1 (fr) * | 1999-09-08 | 2001-03-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Disque compact reinscriptible et son procede de fabrication |
EP1154414B1 (en) * | 2000-05-10 | 2007-11-21 | Sony Corporation | Optical recording medium, master disc for the preparation of the optical recording medium and optical recording and/or reproducing apparatus |
JP2002216395A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Sony Corp | 光記録媒体、光記録媒体用原盤、光記録媒体原盤の製造装置、光記録再生装置 |
JP4024047B2 (ja) * | 2001-01-29 | 2007-12-19 | ソニー株式会社 | 光記録媒体及び光記録媒体製造用原盤 |
JP2004039011A (ja) * | 2002-06-28 | 2004-02-05 | Sony Corp | 光記録媒体、光記録媒体製造用原盤、記録再生装置および記録再生方法 |
TWI251233B (en) * | 2002-11-19 | 2006-03-11 | Hitachi Maxell | Optical information recording medium and method of manufacturing the same |
-
2003
- 2003-10-14 KR KR1020047009177A patent/KR20050047502A/ko not_active Application Discontinuation
- 2003-10-14 EP EP03808900A patent/EP1553573A4/en not_active Withdrawn
- 2003-10-14 CN CNB2003801001425A patent/CN1324586C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-14 WO PCT/JP2003/013130 patent/WO2004036565A1/ja active Application Filing
- 2003-10-14 JP JP2004544947A patent/JP4506466B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-14 US US10/498,693 patent/US7551537B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-10-15 TW TW092128570A patent/TWI264718B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11258645A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-24 | Sony Corp | 波長変換装置 |
JP2002312936A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光記録媒体の記録方法および情報が記録された光記録媒体 |
JP2003181678A (ja) * | 2001-12-18 | 2003-07-02 | Ricoh Co Ltd | 立体構造体の加工方法、立体形状品の製造方法、立体構造体の加工装置及び立体構造体 |
JP2003245784A (ja) * | 2002-02-21 | 2003-09-02 | Ricoh Co Ltd | レーザ加工方法、レーザ加工装置及び立体構造体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1324586C (zh) | 2007-07-04 |
KR20050047502A (ko) | 2005-05-20 |
TW200423116A (en) | 2004-11-01 |
EP1553573A4 (en) | 2008-10-08 |
EP1553573A1 (en) | 2005-07-13 |
CN1685406A (zh) | 2005-10-19 |
US20050180302A1 (en) | 2005-08-18 |
WO2004036565A1 (ja) | 2004-04-29 |
JPWO2004036565A1 (ja) | 2006-02-16 |
TWI264718B (en) | 2006-10-21 |
US7551537B2 (en) | 2009-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4506466B2 (ja) | 光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 | |
EP1100079B1 (en) | Optical disk and method of manufacture thereof | |
JP4124417B2 (ja) | ピコ秒レーザーによるホログラムの製造方法 | |
JP4196634B2 (ja) | 光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 | |
KR20090102685A (ko) | 광기록 방법 및 광기록 장치 | |
JP2009238285A (ja) | 光記録方法及び光記録装置 | |
KR20060083896A (ko) | 원반 제조 장치, 원반 제조 방법 및 광기록 매체 | |
WO2010038681A1 (ja) | 短パルス光源、レーザ光出射方法、光学装置、光ディスク装置及び光ピックアップ | |
Takeda et al. | Deep UV mastering using an all-solid-state 266 nm laser for an over 20 Gbytes/layer capacity disk | |
JP2000033487A (ja) | レーザカッティング装置 | |
JPH08203134A (ja) | 光ディスク原盤記録装置 | |
JP2002312936A (ja) | 光記録媒体の記録方法および情報が記録された光記録媒体 | |
US6418103B1 (en) | Initializing a phase-changing optical recording medium using a laser including a high speed shutter | |
JPH08124226A (ja) | 光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置 | |
JP3406338B2 (ja) | 円盤状記録媒体の製造装置 | |
JPH0798891A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
JPH04177226A (ja) | 第2高調波発生装置 | |
JP2001195791A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法及び光ディスク原盤の現像装置 | |
JPH06124474A (ja) | 光学的情報記録装置 | |
JP2001319383A (ja) | 光記録媒体製造用原盤の製造方法及び製造装置、並びに、光記録媒体製造用原盤、光記録媒体 | |
JP2005182923A (ja) | 光軸修正装置及び光ディスク用原盤露光装置 | |
JP2003059088A (ja) | 光ディスク原盤露光装置 | |
JPH07129998A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法 | |
JPH09231623A (ja) | 光学式ディスクの製造方法及び製造装置 | |
JPH08279167A (ja) | 光記録再生装置及びレーザ光照射装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060704 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060704 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090721 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100406 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100419 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |