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JP4506466B2 - 光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 - Google Patents

光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法 Download PDF

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Description

本発明は、露光光源からの光をフォトレジストが塗布された光記録媒体原盤上に照射することにより記録情報に対応するパターン露光を行う光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法に関する。
CD(Compact Disc)、MD(Mini Disc)、DVD(Digital Versatile Disc)等の各種光ディスク、光磁気ディスクなどの光記録媒体を製造する際の光記録媒体原盤は、例えば円盤状の原盤用基板上にフォトレジストが被着され、その表面に記録情報に対応する凹凸パターンが露光及び現像により形成され、即ちいわゆるカッティングされて形成される。
このカッティングを行うマスタリング装置、すなわち光記録媒体原盤露光装置は、露光光源から出射される波長が400nm前後のレーザ光、例えばKrレーザ(λ=413nm)やArレーザ(λ=351nm)等の紫外波長域の連続発振固体レーザ光源を用いて対物レンズを介してレジストが塗布された原盤上に回折限界の微小スポットに絞り込んで照射することによって露光処理を行っている。
上述したような各種の光記録媒体は、その記録容量を高めるための高密度化に伴ってピットまたはグルーブの加工寸法を微細化することが求められている。ところが、このピットの加工寸法として0.25μm以下の寸法が要求されるようになると、上述した光記録媒体原盤露光装置で使用する気体レーザの波長では集光レンズの開口数NAを1に近いレンズにしてもレーザ光を十分に絞り込むことができなくなる。このため、現状では光記録媒体原盤の作成において0.25μm以下の寸法に精度良く加工することが極めて困難である。
例えば、微細パターンを加工する技術として、波長532nmの半導体レーザ励起高出力グリーンレーザを励起光源として外部共振器構造の第2高調波発生装置を用いて波長266nmの紫外レーザ光を発生し、ビームスポットサイズとしては開口数NA=0.9の無収差対物レンズを用いて0.36μmのエアリースポットを得た例が報告されている(例えば、特許文献1参照。)。
近年、光ディスクの高密度化の傾向はさらに加速し、現在はより微小なピットの形成、例えば、0.2μm以下が必須となり、より短波長の光源が求められている。光記録媒体原盤露光装置に利用可能な安定性、低ノイズ、ビーム品質を有する連続発振のレーザ光源としては、アルゴンガスレーザの共振器内にBaB(BBO)等の非線形光学結晶が設置されたDeep UV発振水冷アルゴンガスレーザ(波長229nmで出力40mW、波長238nmで出力100mWが得られる)が市販されている。しかしながら、波長比は229/266=0.86であり、0.2μm以下の分解能を得る為には、より高NAの対物レンズなどを併用する必要がある。かつ、多量の冷却水を用いることから、組み込みの機器内での振動を回避する対策を要する不便さもある。
さらに高NAの光学系として、NA>1のソリッドイマージョンレンズ(SIL)を用いたニアフィールド光学系を利用する手段の技術検討がなされている。しかしながら、ワーキングディスタンスは100nm以下、例えば数10nmと非常に狭く、埃や塵の混入や、光記録媒体原盤の表面平滑性等に十分に注意しなければならず、光記録媒体原盤の回転数もあまり高く上げることができないという問題がある。
別の高分解能化の手段として最近では電子ビーム露光装置を用いた微小ピット加工法が提案されている(例えば、特許文献2参照。)。
しかしながら電子ビームを用いる方法では、真空装置を必要とし、ガラス原盤の高精度高回転機構を真空中で有するなど大掛かりな装置になる。
一方、近年、負の群速度分散を有するチャープ補正誘電体ミラーが開発されたことから、プリズムペアやグレーティングペアを用いることなく、非常にコンパクトな構成でカーレンズモードロック方式の高繰り返し周波数を実現したTi:Sapphire(チタニウム・サファイア)よりなる超短パルスレーザ光源がいくつか実用化されている。
この超短パルスレーザ光源の繰り返し周波数Rは共振器長Lで決まり、定在波型(例えばZ字型の光路の場合)ではR=c/2L(c:光速)、また進行波型(例えばリング型の光路の場合)ではR=c/Lで与えられる。
一例として、2GHzの高繰り返し周波数での発振器が実用化された例が報告されている。例えば2GHzの繰り返し周波数を得たい時には、リング型の場合で共振器長Lは15cmとなる(例えば河田聡編、日本分光学会測定法シリーズ38「超解像の光学」、学会出版センター、1999年3月20日、第79頁参照。)。
このTi:Sapphire超短パルスレーザ光源は、半導体レーザ励起高出力グリーンレーザで励起され、中心波長760nmから840nmの間、たとえば800nmでパルス発振し、平均出力1W、パルス幅(FWHM:Full Width at Half Maximum、半値全幅)が100fs(100×10−15秒)以下、例えば23fsのものが安定に得られる。ビームの横モードはTEM00でノイズも0.1%以下の優れた性能を有する。さらに、例えばSpectra Physics社のTsunamiシリーズ、Coherent社のMiraシリーズなど、繰り返し周波数80MHzでパルス幅(FWHM)100fs以下、平均出力1W以上のものが実用化されている。
またこのような超短パルスレーザ光源を用いて2光子吸収過程を発生させ、非線形光学効果を利用した超解像特性による回折限界よりも微細なパターンを形成することが報告されている(例えば、河田聡編、日本分光学会測定法シリーズ38「超解像の光学」、学会出版センター、1999年3月20日、第79頁、及びS. Kawata, et al: “Fine features for functional microdevices”, Nature, 2001, Vol.412, p.697参照。)。
上記文献においては、波長780nm、繰り返し周波数76MHz、パルス幅100fsのレーザ、開口数NA1.4の対物レンズを用いて、幅120nmのドット状パターンを形成した例が報告されている。
しかしながら、現状では光記録媒体用の記録情報の変調信号を、2光子吸収過程を利用してパターン露光によりレジスト上に形成し、光記録媒体原盤の露光に利用する技術は実現化されていない。
特開平7−98891号公報 特許第3233650号公報
本発明は、上述したような実情に鑑みてなされたものであり、微細なピットを高精度に形成でき、生産性を大幅に向上させることができる光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体の露光方法の提供を目的とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る光記録媒体原盤露光装置は、共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザよりなる露光光源と、超短パルスレーザの共振器長を制御して、超短パルスレーザの繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の周波数にモードロックし、パルス発振させる外部同期機構と、露光光源からの光に対し前記記録情報に対応して光強度変調を行う変調手段と、この変調手段で変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光する集光光学系と、を有する構成とする。
また本発明は、上述の光記録媒体原盤露光装置において、露光光源と変調手段との間に、超短パルスレーザを励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段を設ける構成とする。
また更に本発明に係る光記録媒体原盤の露光方法は、共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザよりなる露光光源を用いて、外部同期機構により超短パルスレーザの共振器長を制御して、この超短パルスレーザの繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の周波数にモードロックしてパルス発振させ、露光光源からの光に対し記録情報に対応して光強度変調を行い、変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、フォトレジストを記録情報に応じてパターン露光する。
また本発明に係る光記録媒体原盤露光装置は、録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数の超短パルスレーザよりなる露光光源と、この露光光源からの光に対し記録情報に対応して光強度変調を行う変調手段と、この変調手段で変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、フォトレジストを記録情報に応じてパターン露光する集光光学系と、を有する構成する。
更に本発明は、上述の構成において、露光光源と変調手段との間に、超短パルスレーザを励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段を設ける構成とする。
また本発明に係る光記録媒体原盤の露光方法、記録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数の超短パルスレーザよりなる露光光源を用いて、この露光光源からの光に対し記録情報に対応して光強度変調を行い、変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、フォトレジストを記録情報に応じてパターン露光する。
更にまた本発明は、上述の各光記録媒体原盤の露光方法において、露光光源から出射された光を、この露光光源を励起光源とした高次高調波発生手段によって、非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化して出射させる。
上述したように、一の本発明は、露光光源として共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザ光源を用いるとともに、その共振器長を制御して、繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍とする外部同期機構を設けるものである。
光ディスクの記録情報信号のクロック周波数は、CDの場合4.3MHz、DVDの場合26MHzである。また近年高密度ディスクとして注目され、再生光の波長λが405nm、対物レンズの開口数NAが0.85とされて開発が進められているいわゆるBlu-ray Disc(登録商標)の場合で66MHzである。例えばBlu-ray Disc(登録商標)の場合66MHzであるから、超短パルスレーザの繰り返し周波数とほぼ同程度である為、情報データ信号とレーザのパルス発振のタイミングを合わせる必要がある。
本発明においては露光光源として用いる超短パルスレーザ光源の共振器長を調整する外部同期機構を設け、これにより共振器長の調整を行い、繰り返し周波数がチャンネルクロックの1以上20以下の整数倍すなわち1倍、2倍、3倍‥‥20倍となるようにする。
このようにして同期させることによって、超短パルスレーザ光源からの光を露光光源として、CD、DVD、Blu-ray Disc(登録商標)などの各種光記録媒体に記録する情報信号に同期したパターン露光を確実に行うことができる。
一方、上述した他の本発明は、光記録媒体原盤露光装置の露光光源として超短パルスレーザ光源を用いると共に、その周波数を、記録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数とするものである。
光記録媒体の記録情報信号のクロックは、上述したようにCDの場合4.3MHz、DVDの場合26MHz、またBlu-ray Disc(登録商標)の場合で66MHzである。これら周波数の10倍程度以上の高繰り返し周波数で発振する超短パルスレーザ光を用いれば、光記録媒体の情報信号記録の際に、パルス間隔を信号の間隔に比して十分小さくすることができることから、各パルスは積分平均化され、またピット信号などのパターンのずれを再生信号に影響を与えることなく抑制することができることから、従来技術の連続発振光と同様に扱うことができ、再生時の信号ジッター値を10%以下にすることができる。
この場合、外部同期機構などによってパルスレーザ光と記録情報のクロック信号等を同期させる必要がなく、装置構成の複雑化を回避することができる。
またこのとき、繰り返し周波数を20倍以下とすることによって、超短パルスレーザ光の尖頭出力を微細なパターン露光を行うに十分な出力に保持することができて、従来に比し微細なパターン露光を精度良く行うことができる。
上述の光記録媒体のうち最も周波数の高いBlu-ray Disc(登録商標)の場合を例にとると、66×10=660MHz以上の高繰り返し周波数で発振する超短パルスレーザを用いればよいことになる。
つまり、このようにクロック周波数の10倍以上の繰り返し周波数とする場合は、非常に高い繰り返し周波数でパルス発振している為、従来方法の連続発振レーザ光を用いる場合と同様に情報記録信号の光変調器とのタイミングを精度良く調整することなく露光することが可能となるという利点を有する。
尚、光記録媒体のクロック周波数が上述のBlu-ray Disc(登録商標)よりも更に高くなる場合、超短パルスレーザの繰り返し周波数を10倍以上とすると尖頭出力が十分得られなくなる恐れがある。尖頭出力が十分でないと後述する2光子吸収過程を起こしにくくなって、目的とする微小なスポット径による露光を行い難くなる恐れもある。
この場合においては、前述したように外部同期機構を設けて、超短パルスレーザの繰り返し周波数を光記録媒体のクロック周波数の1倍以上10倍以下の整数倍として、クロック信号に同期させる構成とすることが望ましい。
また、上述の各本発明において、露光光源と変調手段との間に、高次高調波発生手段を設け、超短パルスレーザ光源を励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射させることによって、より短波長の露光光源を得ることができる。
このように本発明に係る光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤露光方法によれば、擬似的に連続光と同等にみなせる繰り返し周波数の高い超短パルスレーザ光を出射する露光光源、またはこれを励起手段とする高次高調波発生手段により短波長化された超短パルスレーザ光を出射して、光強度変調手段で変調された光を所定の集光光学系により回折限界のスポットサイズに集光してフォトレジストに照射することによって、従来と比較して微細なパターンのピットなどの凹凸パターンの露光を行うことができる。
さらに本発明は、上述の光記録媒体原盤露光装置または光記録媒体原盤の露光方法において、フォトレジストの露光を、2光子吸収過程によってなされることとする。尖頭出力(ピーク出力)が非常に高い超短パルスレーザ光源を露光光源として用い、かつ集光光学系によってビームを集光することにより、レジスト内では2光子吸収過程が非常に効率的に起こる。例えば繰り返し周波数が1GHzで、対物レンズ出射後のレーザの平均パワーが10mWである時、フォトレジストの表面上のビームスポット内の光強度は尖頭出力にして100GW/cmに及ぶ。
2光子吸収過程は非線形光学現象の一つであり、レジストの露光は、ビームスポットの強度分布の2乗で与えられることになる。レジストの2光子吸収断面積は10−46〜10−47cms/photon程度と小さな値であり、レジストの感度は低いが、数%の吸収が起こる。
このように高効率で2光子吸収を起こす為には超短パルスレーザ光の尖頭出力が高くなければならない。
本発明においては、高繰り返し周波数のパルス発振を用いると共に、そのパルス幅(FWHM)を少なくとも1ps(1×10−12秒)以下とするものであるが、このようにパルス幅を規定することによって、効率よく2光子吸収を起こすことができた。
レジストの露光の過程で、レジスト面内における光源の光の吸収分布は、通常の吸収の場合、ビーム強度分布に比例し、2光子吸収の場合はビーム強度分布の2乗に比例する。
光の吸収分布を図6に示す。図6において、Iはビーム強度分布を示し、通常の吸収の場合に相当する。I2はビーム強度分布の2乗を示し、2光子吸収の場合に対応する。エアリースポット径dは、
d=1.22λ/NA
となる。対物レンズの開口数NAが、NA=0.9、波長λ=267nmの時、スポットサイズは0.36μmであるが、2光子吸収の場合、ほぼ1/√2=0.7倍のビームスポット、即ち、波長190nmの露光光源を用いた通常の露光時のビームスポットサイズに相当する。これにより、記録線密度は1光子の(通常の)露光の場合の約1.4倍になる。
また、本発明は、上述の各光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法において、集光光学系から出射され、フォトレジストに集光されたレーザ光のスポット形状を、レーザ光の走査方向に延在する長円状とするものである。
例えばグルーブなどの線状のパターンを露光する為には、パルス間隔(繰り返し周波数の逆数)、走査速度(円盤状の光記録媒体原盤の場合線速)がレジストの感度に合わせ最適化されなければならない。ところが、パルス間隔はチャンネルクロックによって一義的に固定されているので、線状のパターンを露光するのは難しい。
上述の本発明によれば、集光光学系から出射されレジストに集光されたビームスポットをビーム走査方向に長円化していることから、照射される光量分布が拡がり平均化されて、グルーブなどの線状のパターンが容易に得られることとなる。
更にまた本発明においては、フォトレジストの吸収ピーク波長を露光光源の波長の半分以下とする。
このように、フォトレジストとして露光光源の波長域では透明で、その半分の波長において吸収を有するような材料を用いることによって、通常の吸収(1光子吸収)を効率よく抑制することができる。
2光子吸収では光子を2個同時吸収し、光子1個の持つエネルギーの2倍のエネルギーだけ上の準位にレジストの電子を遷移させる。吸収スペクトルで言えば露光光源の波長の半分の波長の光(1光子)で励起する場合に相当することから、2光子吸収用のレジストは吸収ピーク波長を露光光源の波長の半分以下とすることにより、効率よく2光子吸収を発生させ、より微細なパターン露光を行うことができる。
このように、本発明においては、超短パルスレーザを露光光源として用いて、さらに集光光学系でビームを回折限界まで絞ることから、高効率に2光子吸収を行わせることができることと、2光子吸収過程によりレジストの感光はビームスポットの強度分布の2乗で与えられることになり、非線形効果を利用した超解像特性を有することになり、回折限界よりもさらに微細なより小さなピットの記録が可能になる。
本発明によれば、微細なピットを高精度に形成でき、生産性を大幅に向上させることができる光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体の露光方法を提供することができる。
以下、本発明に係る光記録媒体原盤露光装置の一実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
図1に、本発明による光記録媒体原盤の露光装置の一例の模式的な構成図を示す。この例においては、露光光源1からの光を記録情報に対応する光強度変調を行う変調手段3と、この変調手段3で変調された光を、図示の例ではディスク状の光記録媒体原盤11上のフォトレジスト12上に集光する集光光学系9とを設けて、フォトレジスト12を記録情報に応じてパターン露光するものである。
図1に示すように、露光光源1から出射されたパルスレーザ光は、後段で詳細に説明する高次高調波発生手段2、更にチャープ補正光学系4を介してミラー1aで反射され、変調手段3を経てミラー1bで反射されて、ビームエキスパンダ5を介して集光光学系9に導かれる。この集光光学系9において、レーザ光は、後段の実施例においてその一例を詳細に説明するオートフォーカス光学系6を介して、1/4波長板7を通過し、更にミラー1cにより反射されて、電磁アクチュエータ8b及び8cにより光記録媒体原盤11からの距離を精度良く調整された対物レンズ8aを介して、光記録媒体原盤11上の例えば所定の記録トラック位置上に照射される。また、光記録媒体原盤11は、載置台10に固定される。載置台10は、この例では回転手段13により矢印aで示すように回転されて、また集光光学系9が、図示しないが例えば移動光学テーブル上に配置されることによって光記録媒体原盤11の半径方向に移動するようになされて、光記録媒体原盤上の全面にわたって、露光用光が照射され得るようになされている。
そして本発明においては、露光光源1を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の繰り返し周波数の超短パルスレーザより構成する。
この超短パルスレーザ光源によるパルス信号の模式的な波形を図2Aに、またパルス信号を上述の変調手段3によって、記録情報の信号波形Sに重畳させた状態の模式的な波形を図2B示す。図2Aに示すように、パルスPの間隔を適切に選定して、その周波数を図2Cに示す記録情報のクロック信号Cの1倍以上20倍以下の整数倍、図示の例では1倍の周波数として、図2Bに示すように、記録情報の信号Sに重畳させる。図2Bにおいては、パルス波形を破線P’として示す。これにより、記録情報と同期した露光を行って、記録情報に対応してフォトレジストのパターン露光を行うことができる。
このように、露光光源の超短パルスレーザの繰り返し周波数を記録情報のクロック周波数の整数倍に合わせるために、本発明においては例えば図3に示す外部同期機構を設ける。図3において、30は例えばTi:Sapphireを利用した超短パルスレーザ光源、50は外部同期機構を示す。
まず、超短パルスレーザ光源30には、半導体レーザ(図示せず)等の励起光Li0 がレンズ31、球面ミラー32を介してTi:Sapphire等のレーザ媒質34に入射される。レーザ媒質34から出射された光は球面ミラー33に反射され、さらに高反射ミラー35に反射された後分散補償プリズム36a及び36bに入射される。そしてスリット37を介して高反射ミラー38によって反射される。そして再びスリット37を通過して、分散補償プリズム36b及び36a、高反射ミラー35、球面ミラー33を介してレーザ媒質34に戻される。露光用光としては、レーザ媒質34から球面ミラー32に戻った光を出力窓(出力カプラー)39、ビームスプリッタ40を介して出射光Li2 として外部に取り出す。
そして本発明においては、ビームスプリッタ40で一部の出力光を高速のフォトダイオード等よりなる光検出器41で検出する。そして、この光検出器41からの出力、すなわちレーザパルス発振による電気信号と、光記録媒体に記録する情報信号出力装置のクロック信号発生器42の出力とを位相検出器43で位相比較する。ここで、クロック信号の2以上の整数倍とする場合は、クロック信号発生器42の信号の整数倍のクロック信号との位相比較を行う。そして、位相検出器43から出力した信号をPLL(Phase Lock Loop) 回路等よりなる制御部44に入力して、所定の制御量に変換した制御信号を、ピエゾ駆動部45に入力して、前述の高反射ミラー38に固定したピエゾ素子46を光軸方向に微小移動させて、レーザ共振器の共振器長を微調整することができる。なお、この例における共振器長は、球面ミラー32から高反射ミラー38にいたる光路の長さとなる。
このような構成とすることによって、記録情報のクロック信号とレーザの発振パルスとの間のジッターは1ps以下にすることができる。
そして情報記録信号の光変調器駆動信号も、クロック信号に同期して送信されるので、超短パルスレーザのパルス発振とはタイミングが取れることとなる。超短パルスレーザ光源の繰り返し周波数をクロック信号の1倍、すなわち同期させる場合、フォトレジストには例えば(1,7)変調コードを用いて記録される時は、2T最短ピットには2パルスが照射される。もしクロック信号の2倍の周波数、前述のBlu-ray Disc(登録商標)の場合132MHzに外部同期させるときは、共振器長RをR=c/2L=1136mm(cは光速)となるように超短パルスレーザ装置内の光学系を配置すればよく、2T最短ピットには4パルスが照射されることになる。
尚、超短パルスレーザの繰り返し周波数をクロック周波数の10倍以上とするときは、前述したようにジッターを10%以内に抑えられるため、外部同期機構を設けて整数倍としなくてもよいが、より確実にジッターを抑えるためには、外部同期機構を設けて整数倍としてもよいことはいうまでもない。
また用いる超短パルスレーザの出力によるが、2光子吸収等多光子吸収の発生に必要な尖頭出力値を得るためには、8倍以下の整数倍とすることが望ましい。
特に、上述のBlu-ray Disc(登録商標)、或いはそれ以上の高いクロック周波数の光記録媒体に適用する場合は、4倍以下の整数倍とすることが望ましい。
更に、クロック周波数の1〜4倍の整数倍とする場合において、1記録マーク内のパルス数が少なくなり、ジッターが問題となる恐れがある場合は、前述の図2Bにおいて示すような矩形波状の記録ではなく、1記録マーク内で部分的にレーザ出力を調整するいわゆる記録補償を行うことにより、光量の積算値の分布を微調整し、形成されるピットの形状を補正することができて、これによりタイミングジッター等の低下を抑制することができる。
また他の本発明においては、上述の図1に示す光記録媒体原盤露光装置において、露光光源1を、記録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数の超短パルスレーザより構成する。
この超短パルスレーザ光源によるパルス信号の模式的な波形を図4Aに、またパルス信号を上述の変調手段3によって、記録情報の信号波形Sに重畳させた状態の模式的な波形を図4B示す。図4Aに示すように、パルスpの間隔ptを適切に選定して、図4Cに示す記録情報のクロック信号Cの10倍以上の周波数として、図4Bに示すように、記録情報の信号に重畳させる。これにより、擬似的に連続光と見なせる露光を行って、記録情報に対応してフォトレジストのパターン露光を行うことができる。図4Aにおいてpwはパルス幅である。
なお、レーザ発振の繰り返し周波数を高くして行くと、平均出力は同じでもパルスの尖頭出力が低下してしまう為、後段の高次高調波発生やレジストの2光子吸収の効率が低下してしまうので、超短パルスレーザ光源の繰り返し周波数は、クロック信号の周波数の20倍以下とする。
また本発明は、上述の構成において、露光光源1と変調手段3との間に、図1に示すように、超短パルスレーザ光源を励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段2を設ける構成とする。
この高次高調波発生手段2の一例の模式的な構成を図5に示す。
図5において、26は第2高調波(SHG)発生部、27はディレーラインユニット、28は第3高調波(THG)発生部をそれぞれ示す。第2高調波発生部26に入射された光Liは、集光用レンズ19aを介して非線形光学結晶20に入射し、集光レンズ19bを介してハーモニックセパレータ21aで反射されてL2−1として取り出されるか、またはこのハーモニックセパレータ21aを設けない場合はディレーラインユニット27に入射される。
ディレーラインユニット27に入射された光は、ハーモニックセパレータ21bにより基本波L1と第2高調波L2−2とに分割される。基本波はミラー22a、22bにより反射されて第3高調波発生部28に入射され、第2高調波L2−2は、1/2波長板23を介してミラー22c、22d、21cにより反射されて第3高調波発生部28に入射される。
例えば、F. Rotermund, et al: “Generation of the fourth harmonic of a femtosecond Ti:Sapphire laser” Optics Letters, July 1, 1998, Vol.23, No.13, p1040にあるように、前述の中心波長が800nmのTi:Sapphire超短パルスレーザ(くり返し周波数82MHz、パルス幅85fs、平均出力1.9W)を用い、非線形光学結晶LiB(LBO)のタイプIのクリティカル位相整合を用いた第2高調波発生(SHG)装置を用いることで、中心波長が400nm、パルス幅は群速度分散により多少拡がるが例えば100fs、平均出力600mWの超短パルスレーザ光を得ることができる。
第2高調波発生においてタイプIの位相整合を用いる場合は、基本波と第2高調波の偏光面は90°回転している為、例えば図5に一例を示すように、タイプIの位相整合を用いる第2の非線形光学結晶24に入射する前に基本波L1に揃える1/2波長板23を設けることによって、第2高調波L2−2の偏光面を基本波に合わせることができる。
また、第1の非線形光学結晶20内での波長分散により、基本波L1に遅れて第2高調波L2−2が出射する為、上述のディレーラインユニット27によって、第2の非線形光学結晶24に入射する前に基本波L1を遅延させる。遅延させる手段はハーモニックセパレータ21bによって両波を分離し、基本波L1の光路長のみを遅延時間に相当する長さだけ長くして再び合波することによってなされる。(C. Rulliere ed. “Femtosecond Laser Pulses”, Springer, p.170参照)
そして図5に示すように、第3高調波発生部28において、合波を非線形光学結晶24に入射させて、和周波混合により第3次高調波L3を外部に出射させる。19c及び19dは集光レンズ、21dはミラー、25はビームストッパ、Loは不要光を示す。
なお、各レンズ19a〜19dは、結晶内でのビーム強度を高くし、変換効率を向上させる為に配置されている。
超短パルスレーザ光の場合尖頭出力は非常に高く、2次の非線形光学現象である第2高調波発生はレーザの強度に比例してその変換効率が大きくなるので、シングルパス、則ち非線形光学結晶を1回通過する光路設定でも、高い効率が得られる。但し、例えば100fs以下の超短パルスレーザを用いた高次高調波発生の場合、非線形光学結晶の群速度分散がある為、結晶が厚いと群速度不整合が生じ、有効な波長変換が行われない。例えばLBOの結晶長は、パルス幅が100fs、中心波長が800nmの場合、1.5mm以下とする必要がある。
さらに上述の第3高調波発生部28において、例えば中心波長800nmの基本波と上述の高次高調波発生手段から出射される例えば中心波長400nmの第2高調波との和周波混合(SFM)によって、中心波長267nm、パルス幅115fs、平均出力100mW程度の超短パルスレーザ光を得ることができる。この和周波混合は第2高調波発生と同様、2次の非線形光学現象であり、例えば非線形光学結晶BBOのタイプIのクリティカル位相整合を用いることができるが、その結晶長さも上述の理由により0.4mm以下とすることが必要となる。
更に和周波混合用の非線形光学結晶(BBO)を追加することによって4次高調波発生が可能であり、波長204nmの光源を得ることが可能となる。パルス幅340fs、平均出力15mWが得られている。したがって、波長としては4次高調波の光まで、十分な平均出力パワーをもって、本発明の光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体原盤の露光方法に適用して露光光源として用いることができる。
上述したように本発明においては、高繰り返し周波数のパルス発振を用いる場合、そのパルス幅(FWHM)を少なくとも1ps(1×10−12秒)以下とするものであるが、このようにパルス幅を規定することによって、効率よく2光子吸収を起こすことができた。
なお、本発明において、フォトレジストの吸収ピーク波長を露光光源の波長の半分以下とすることによって次のような効果が得られる。
すなわち、フォトレジストとして露光光源の波長域では透明で、その半分の波長において吸収を有するような材料を用いることによって、通常の吸収を効率よく抑制することができる。
そして更に、フォトレジストの全厚さにわたる露光を行う場合は、露光光源の半分の波長がフォトレジストの吸収ピークよりやや長波長側に存在することが望ましい。
例えばフォトレジストの厚さを100nm程度とするCD用等の原盤を露光する場合、吸収ピーク波長での吸収係数に対して、数%程度の吸収係数となる露光光源およびフォトレジストを選定するとレジストの表面近傍のみで2光子吸収されず、全厚さにわたる吸収を生じさせることができる。また、フォトレジストの厚さが、40nm程度とされるBlu-ray Disc(登録商標)用等の原盤では、10%程度の吸収係数となる露光光源及びフォトレジストを選定することによって、同様にレジストの全厚さにわたる吸収を生じさせ、現像後に原盤用基板の表面を露出させるパターン露光を行うことができることとなる。
なお、前述のいずれの光源を用いるにせよ注意するべき点として、超短パルスレーザ光のバンド幅(FWHM)δλは、例えばパルス幅δtが100fsで、sech2形のフーリエ変換限界パルスである場合、δλ・δt=0.315・λ2/c(c:光速)であり、δλ=6.7nmとなる。従って、NA0.5以上の高NAレンズを用いる場合、対物レンズには色消しレンズ例えば顕微鏡等で用いられるアポクロマートレンズを用いる必要がある。また、色収差は屈折系でのみ起こるもので、非球面の凹面鏡を用いた集光光学系を用いることでも上記の問題は回避することができる。
また本発明においては、集光光学系から出射されレジストに集光されたビームスポットをビーム走査方向に長円化する。これにより、照射される光量分布が拡がり平均化されて、グルーブなどの線状のパターンが容易に得られることとなる。
ビームスポットを長円状とするためには、例えば図1において説明したビームエキスパンダ5がアナモルフィックな光学系、即ち、ビームの走査方向に対し平行な方向のビーム径の方がより拡大されるものであればよい。
具体的には、シリンドリカルレンズ、シリンドリカル凹面鏡、アナモルフィックプリズムなどを用いてビーム拡大率の比を数倍程度にすることが望ましい。
また、前述の図1において説明した光強度変調用の変調手段としては、記録情報信号によって変調された圧電素子で駆動された音響光学素子内の超音波で光がブラッグ回折することを利用した音響光学効果、あるいは、記録情報信号によって変調されたポッケルス効果を利用する電気光学変調素子が適している。
前述のレンズ、波長板、光変調器など全ての光学素子は正の群速度分散を有する為、露光光源を出射した時点でパルス幅が最小になるように調整されていても、これらを通過した超短パルスレーザ光は光記録媒体原盤のフォトレジストに照射される時には必ずチャープし、パルス幅が拡がってしまう。
そこで、図1に示すチャープ補正光学系4として、負の群速度分散を有するチャープ補正光学系を用いて、露光光源出射後の超短パルス光に事前に負にチャープを与え、これを相殺することで、レジスト上で最短パルスが得られるようにする必要がある。このチャープ補正光学系4としては、分散プリズムペアやグレーティングペア、チャープミラーを用いることができる。
またパルス幅の調整の際必要なパルス幅の計測には、従来の2次高調波発生法を用いた自己相関器によって行うことができる。
〔実施例1〕
次に、本発明の光記録媒体原盤露光装置の一例について図1を参照しながら説明する。この例は、Ti:Sapphire超短パルスレーザ光源よりなる露光光源1と、この超短パルスレーザを励起光源とする高次高調波発生手段2と、これらの光から出力されたパルスが各種の光学部品を通過する際に被る正の群速度分散を予め補正する負の群速度分散を有するチャープ補正光学系4と、これからの出射光を供給されるデータに応じた電気的なパルス信号で高速にスイッチングして光強度変調を行う変調手段としての変調手段3と、この変調手段3で変調された光を回折限界のスポットサイズに集光してフォトレジスト12が塗布された光記録媒体原盤11上に照射する集光光学系9とビームエキスパンダ5が設けられている。
超短パルスレーザ光源には、繰り返し周波数が前述のBlu-ray Disc(登録商標)のクロック周波数と同じ66MHzで、中心波長816nm、パルス幅80fs、平均出力1.5WのTi:Sapphireレーザ、すなわちTi:Sapphireを図2において説明したレーザ媒質34として用いる超短パルスレーザを用いた。
そして前述の図5において説明した高次高調波発生手段3を用いて、波長408nmの第2高調波または波長272mの第3高調波を発生させた。この例では、図5に示す第2高調波発生部26の非線形光学結晶20としては、タイプIの位相整合するLBO結晶を用いた。また第3高調波発生部28の非線形光学結晶24にはタイプIのBBOを用いた。各種レンズ19a〜19dは、結晶内でのビーム強度を高くし、変換効率を向上させる為に配置されている。第2高調波光は平均出力600mW、パルス幅(FWHM)100fs、第3高調波光は平均出力120mW、パルス幅は1ps以下の120fsとして出射光を取り出すことができた。
チャープ補正光学系4としては、ブルースタープリズムペアを用いた。
図1に示すように、出射光はミラー1aで90°反射されて変調手段3に送られる。変調手段3の光強度変調器としては、信号変調帯域80MHzの電気光学素子EOMを用いた。この変調手段3には、図示しないが光記録媒体原盤に記録するデータが電気的なパルス信号を発生する、いわゆるフォーマッタからピット記録信号が供給される。このデータに応じて光が変調される。
この光変調された光がミラー1bで90°反射されビームエキスパンダ5、オートフォーカス光学系6の例えば偏光ビームスプリッタ(以下、PBSという)6aを介して1/4波長板7を通過させ、ミラー1cで90°反射させた後、高い開口率NAを有する対物レンズ8aを透過させて予めフォトレジスト12が塗布された光記録媒体原盤11に照射される。
フォトレジスト12としては、例えば、i線用レジスト(JSR(株)PFRIX1110Gなど)、Krレーザマスタリング用レジスト(日本ゼオン(株)DVR−100など)を用いることができる。
このとき、対物レンズ8aは入射光、例えば波長λ=267nm用に収差補正された高開口数NA値を有するレンズを用い、回折限界までビームを絞って照射している。この対物レンズ8aは、材質がこの波長領域の光を十分透過する合成石英や螢石等で構成された色消し対物レンズを用いた。また、光記録媒体原盤11は、スピンドルモータ等の回転手段13により矢印aで示す方向に回転する載置台10上に固定される。
一方、高次高調波発生手段2は、波長λ=272nmの第3高調波光を出射すると共に、第2高調波の波長λ=408nmの光を同時に出射している。この光の光路も上述した各光学素子を通過する光路であり、光記録媒体原盤11に照射される。
光記録媒体原盤11から反射された戻り光は、対物レンズ8a、ミラー1c、1/4波長板7を介してPBS6aに入射される。ここで、この戻り光は、1/4波長板7を2回通過しているため、PBS6aで反射されてしまう。これによって、オートフォーカス光学系6のPBS6aは、戻り光を、波長選択素子6bを介してフォーカス誤差量検出素子6cに送る。波長選択素子6bは、露光波長である第3高調波の光もPBS6aで相当量反射されるので多層干渉膜等を利用して露光波長の光を遮断するためのものである。
フォーカス誤差量検出素子6cは、例えば非点収差法等を用いて露光用の光が光記録媒体原盤11上に合焦するときのベストフォーカス位置からの位置ずれ量を光学的に検知し、この検知量を電気信号に変換する。この検出した電気信号がオートフォーカスサーボ系6の一部をなす駆動制御部6dに供給される。
ここで、上述の非点収差法では、円筒レンズを検出レンズの後方に配置する構成にして非点収差を積極的に利用して光検出器で検出する方法である。この円筒レンズは、単一方向のみのレンズ作用を有し、この単一方向と直交する方向に対して平行平板と同じ作用しか持たないので、検出レンズとこの円筒レンズの合焦位置以外では収束せず、細いビーム像が結像することによりフォーカスエラー信号を検出している。このフォーカスエラー信号をゼロにするように制御することによって対物レンズのフォーカスを最適な位置に保つようにしている。
駆動制御部6dでは、電気信号に基づいて位置ずれを補正する駆動信号を生成して対物レンズ8aを上下に微動させる電磁アクチュエータ8b、8cに出力する。電磁アクチュエータ8b、8cは、駆動信号で対物レンズ8aを矢印bで示す上下方向に、すなわちフォトレジストに近接または離間する方向に微小移動させることによって、光記録媒体原盤11の合焦位置を最適な位置に自動的に調整して損失を抑えて露光することができる。
ここで、例えばレーザ光のスポットサイズが対物レンズとして開口数NA=0.9の無収差レンズを使用した場合、エアリーディスク(airy disc)としては0.36μmまで絞ることができた。したがって、2光子吸収過程を発生させることによって、0.36×(1/√2)≒0.25(μm)のスポットサイズに相当する露光を行うことができた。
またこのとき、上述したようにビームエキスパンダ5をアナモルフィックな光学系とすることによって、ビームの走査方向に拡大して長円化されたスポット形状とすることによって、グルーブ幅は従来と比較して微細なパターンとしてグルーブパターンを露光することができた。
このように形成したレーザ光を回転手段13により光記録媒体原盤11上で回転走査させ、同時に対物レンズを含む光学系をディスク中心(原盤中心)から半径方向に移動させることにより、スパイラル状にビームを原盤上で走査させ、フォトレジストを露光して高密度にピットを形成することができる。
なお、フォトレジスト12としては、上述のi線用レジストなどのほか、g線用のポジ型レジストを用いることができる。レジストの感光はフォトンモード記録であることから高繰り返し周波数の超短パルス光の場合も単位面積当たりフォトン数の積算量で感光量は決定される。本発明によれば、連続光照射の場合と異なり、サーマルモードを介することがほとんどない。即ち、不要なレジストの温度上昇による膨張や反応速度変化を抑制することができ、より微細なピットの形成が可能になる。
上述の実施例1では、中心波長816nmの場合に関して述べたが、Ti:Sapphire超短パルスレーザは760nm程度から発振可能で、この場合、前述と同様な手段(中心設計波長は全て変更する必要有り)で、380nmの第2高調波光、253nmの第3高調波光を利用することができる。但し効率は多少低下する為、超短パルスレーザ光源のレーザ媒質を励起する励起用グリーンレーザの出力を上げる必要がある。
また、さらに和周波混合用の非線形光学結晶(例えばBBO)を追加することによって、4次高調波(波長204nm、平均出力12mW)を発生させることができた。この場合、ビームのスポットサイズとしては、開口数NA0.9の無収差対物レンズを用いて0.28μmのエアリースポットが得られた。
したがって、0.28×(1/√2)=0.2(μm)スポットサイズに相当する露光を行うことができる。
この場合、高感度のレジストとして、KrFレーザ(波長248nm)またはArFレーザ(波長192nm)用のレジストを適用することができる。
また上述の実施例1においては、高次高調波発生手段として第3高調波発生手段を例に説明したが、図5において説明した高次高調波発生手段は、第2高調波発生部と和周波混合部がそれぞれ独立に分離されているので、第2高調波を露光光源として用いることもできる。この場合第2高調波発生のほうが第3高調波発生に比べ変換効率が高く、同じ励起用のレーザパワーで高い露光パワーを得ることができるだけでなく、レーザ光の波長が可視光域に近く、多種の硝材を用いることができ、レンズ設計が容易であり、また光学素子の制限も低減する。
〔実施例2〕
次に、本発明にかかる実施例2について説明する。
この例では、光記録媒体原盤露光装置の材料、構成は上述の実施例1の場合と全く同様であるが、露光光源のレーザパワー強度を10倍程度高くして用いた。
すなわちこの例において露光光源として繰り返し周波数66MHz、中心波長816nm、パルス幅80fsであるが、平均出力は2WのTi:Sapphireをレーザ媒質とした超短パルスレーザ光源を用いた。
さらに高次高調波のレーザパワー強度を高める為に、各非線形光学結晶20、24の前後にある集光レンズ19a、19b、19c、19dの焦点距離をより短くし、結晶内におけるビームスポット径を小さくして励起光の電場強度を大きくすることで波長変換効率を高めて、第3高調波のレーザパワー強度を高くし、およそ実施例1の10倍程度のパワーを得た。但し、パルス幅は多少広くなった。
第3高調波発生部28から出射された272nm、パルス幅が130fsの超短パルス光を用いて、フォトレジストとしてArFレーザ用フォトレジストの例えばフッ素樹脂系レジストに照射した。
レジスト面上のビームスポット内の光強度は尖頭出力にして100GW/cmに及び、2光子吸収が顕著に起こり数%の吸収、即ち、レジストの露光過程である光反応を進行させることができた。そしてこの例においては、対物レンズとしてNA=0.9の無収差対物レンズを用いて0.36μmのエアリースポットを得ることができ、2光子吸収過程を生じさせることにより、0.36×(1/√2)=0.25μmのエアリースポットサイズの露光を行うことができた。
レジストの感光はビームスポットの強度分布の2乗で与えられる。上述のレジストでは通常の吸収は、波長269nmの光に対して透明であるので起こらない。2光子吸収過程のみが強度分布の高い所のみで局所的に起こる。これは、ArFレーザ(波長193nm)用レジスト(日本ゼオン(株)ZARF001など)のみならず、現在開発が進行中のF2レーザ用フッ素樹脂系レジストで代用することも可能である。
またこの場合においても、ビームエキスパンダ5をアナモルフィックな光学系とすることによって、ビームの走査方向に拡大して長円化されたスポット形状とすることによって、グルーブ幅は従来と比較して微細なパターンとしてグルーブパターンを露光することができた。
更にこの例においても、高次高調波発生手段を第2高調波発生と和周波混合部がそれぞれ独立に分離された図5に示す構成とすることによって、第2高調波(波長403nm)を露光光源として用いることもできる。この場合使用するフォトレジストは例えばArFレーザ用レジスト(日本ゼオン(株)ZARF001など)や、又は例えばKrFレーザ用レジスト(JSR(株)KRFM89Yなど)を用いるのが望ましい。
また、2光子吸収断面積は非常に小さい値であるので、レジストの感度を高める為、2光子吸収断面積の高い有機色素を増感剤としてレジストに添加したものを用いることができる。実施例1の場合と同様の長所があるほか、適用可能なフォトレジストの選択範囲も広がる。
〔実施例3〕
次に、他の本発明による光記録媒体原盤露光装置の一例について図1を参照しながら説明する。この例においても、Ti:Sapphire超短パルスレーザ光源よりなる露光光源1と、この超短パルスレーザを励起光源とする高次高調波発生手段2と、これらの光から出力されたパルスが各種の光学部品を通過する際に被る正の群速度分散を予め補正する負の群速度分散を有するチャープ補正光学系4と、これからの出射光を供給されるデータに応じた電気的なパルス信号で高速にスイッチングして光強度変調を行う変調手段としての変調手段3と、この変調手段3で変調された光を回折限界のスポットサイズに集光してフォトレジスト12が塗布された光記録媒体原盤11上に照射する集光光学系9としてビームエキスパンダ5、対物レンズ8aとを有している。
超短パルスレーザ光源には、繰り返し周波数が前述のBlu-ray Disc(登録商標)のクロック周波数(66MHz)の10倍以上の750MHz、中心波長816nm、パルス幅80fs、平均出力1.5WのTi:Sapphireレーザを用いた。
前述の図5において説明した高次高調波発生手段3を用いて、波長408nmの第2高調波または波長272mの第3高調波を発生させた。この例では、図5に示す第2高調波発生部26の非線形光学結晶20としては、タイプIの位相整合するLBO結晶を用いた。また第3高調波発生部28の非線形光学結晶24にはタイプIのBBOを用いた。各種レンズ19a〜19dは、結晶内でのビーム強度を高くし、変換効率を向上させる為に配置されている。第2高調波光は平均出力20mW、パルス幅100fs、第3高調波光は平均出力4mW、パルス幅(FWHM)は1ps以下の130fsとして出射光を取り出すことができた。
またこの例においても、図1に示すチャープ補正光学系4としては、ブルースタープリズムペアを用いた。図1に示すように、チャープ補正光学系4から出射された光は、ミラー1aで90°反射されて光強度の変調手段3に送られる。変調手段3の光強度変調器には信号変調帯域50MHzの電気光学素子EOMを用い、入力端子を介して光記録媒体原盤に記録する情報が電気的なパルス信号を発生する、いわゆるフォーマッタからピット記録信号として供給して、この記録情報に応じて光を変調させる。
この光変調された光を、上述したようにミラー1bで90°反射させビームエキスパンダ5、フォーカス検出制御系6の例えば偏光ビームスプリッタ(PBS)6a、1/4波長板7を通過させ、ミラー1cで90°反射させた後、高い開口率NAを有する対物レンズ8aを透過させて予めフォトレジスト12が塗布された光記録媒体原盤11に照射させる。
フォトレジスト12としては、例えばi線用レジスト(JSR(株)PFRIX1110Gなど)、Krレーザマスタリング用(日本ゼオン(株)DVR−100など)を用いることができる。
このとき、対物レンズ8aは入射光、例えば波長λ=272nm用に収差補正された高開口数NA値を有するレンズを用い、回折限界までビームを絞って照射している。またこの対物レンズ8aとしては、材質がこの波長領域の光を十分透過する合成石英や螢石等で構成された色消し対物レンズを用いた。
高次高調波発生手段2は、波長λ=272nmの第3高調波光を出射すると共に、第2高調波の波長λ=408nmの光を同時に出射している。この光の光路も上述した各光学素子を通過する光路であり、光記録媒体原盤11に照射される。その他の構成は、前述の実施例1と同様とした。
この例においても、レーザ光のスポットサイズは、対物レンズとして開口数NA=0.9の無収差レンズを使用した場合、エアリーディスク(airy disc)としては0.36μmまで絞ることができる。従って、0.36×(1/√2)≒0.25(μm)のスポットサイズに相当する露光を行うことができた。
このように形成したレーザ光をディスク回転機構によりディスク上で回転走査させ、同時に対物レンズを含む光学系をディスク中心から半径方向に移動させることにより、スパイラル状にビームをディスク上で走査させ、フォトレジストを露光して高密度にピットを形成することができる。フォトレジストにはg線用あるいはi線用のポジ型レジストを用いた。レジストの感光はフォトンモード記録であることから高繰り返し周波数の超短パルス光の場合も単位面積当たりフォトン数の積算量で感光量は決定される。本発明によれば、連続光照射の場合と異なり、サーマルモードを介することがほとんどない。即ち、レジストの不要な温度上昇による膨張や反応速度変化を抑制することができ、より微細なピットの形成が可能になる。
実施例3では中心波長816nmの場合に関して述べたが、Ti:Sapphire超短パルスレーザは760nm程度から発振可能で、この場合、前述と同様な手段(中心設計波長は全て変更する必要有り)で、380nmの第2高調波光、253nmの第3高調波光を利用することができる。但し効率は多少低下する為、励起用グリーンレーザの出力を上げる必要がある。
また、さらに和周波混合用の非線形光学結晶(BBO)を追加することによって、4次高調波発生(波長200nm近辺)の利用も考えられる。この場合、ビームスポットサイズとしてはNA0.9の無収差レンズを用いて0.28μmのエアリースポットが得られる。従って、0.28×(1/√2)≒0.2(μm)のスポットサイズに相当する露光を行うことができる。平均出力は数10μW程度と少し低いが、露光用光の走査速度、すなわち光記録媒体原盤の回転数を落とすことで、光源のレーザパワーが低い問題を解決することも可能である。
また、上述の実施例3においては、高次高調波発生手段として第3高調波発生手段を例に説明したが、上述の図5において説明した高次高調波発生手段は、第2高調波発生部と和周波混合部がそれぞれ独立に分離されているので、第2高調波を露光光源として用いることもできる。この場合第2高調波発生のほうが第3高調波発生に比べ変換効率が高く、同じ励起用のレーザパワーで高い露光パワーを得ることができるだけでなく、レーザ光の波長が可視光域に近く、多種の硝材を用いることができ、レンズ設計が容易であり、また光学素子の制限も低減する。
〔実施例4〕
次に、本発明に係る実施例4について説明する。
この例では、光記録媒体原盤露光装置の材料、構成は実施例3の場合と全く同様であるが、高次高調波のレーザパワー強度を高めるために、各非線形光学結晶の手前にある集光レンズの焦点距離をより短くし、ビームスポット径を小さくして波長変換効率を高めている。
この例においても露光光源1として繰り返し周波数750MHz、中心波長816nm、パルス幅80fs、平均出力1.5WのTi:Sapphire超短パルスレーザを用いた。
第3高調波発生手段から出射された波長272nm、パルス幅が1ps以下の130fsの超短パルス光を、ArFレーザ用フォトレジストの例えばフッ素系樹脂に照射した時、レジスト面上のビームスポット内の光強度は尖頭出力にして100GW/cmに及ぶため、2光子吸収が顕著に起こり数%の吸収、即ちレジストの露光過程である光反応が進行する。この例においては、対物レンズとしてNA=0.9の無収差レンズを用いて0.36μmのエアリースポットを得ることができ、0.36×(1/√2)=0.25μmのエアリースポットサイズの露光を行うことができた。
上述したようにレジストの感光はビームスポットの強度分布の2乗で与えられる。すなわちこの場合もレジストでは通常の吸収は、波長272nmの光に対して透明であるので起こらず、2光子吸収過程のみが強度分布の高い所のみで局所的に起こる。そしてこの場合もArFレーザ(波長193nm)用レジスト(日本ゼオン(株)ZARF001など)のみならず、現在開発が進行中のF2レーザ用フッ素樹脂系レジストで代用することも可能である。
また、この例においても、高次高調波発生手段を第2高調波発生部と和周波混合部がそれぞれ独立に分離された図5に示す構成を用いることによって、第2高調波(波長403nm)を露光光源として用いることもできる。この場合使用するフォトレジストは例えばArFレーザ用レジスト(日本ゼオン(株)ZARF001など)、あるいはKrFレーザ用レジスト(JSR(株)KRFM89Yなど)を用いるのが望ましい。
また、この場合においても、レジストの感度を高める為、2光子吸収断面積の高い有機色素を増感剤としてレジストに添加したものを用いることができる。実施例3の場合と同様の長所があるほか、適用可能なフォトレジストの選択範囲も広がる。
上述の各実施例3及び4においては、超短パルスレーザの繰り返し周波数を、光記録媒体の記録情報のクロック周波数の10倍以上とすることによって、光記録媒体の記録情報のクロック周波数とのずれをクロックの1/10以下とし、ジッターを10%以下に抑えることができた。
また上述したように、繰り返し周波数を高くしすぎるとパルスの尖頭出力が低下してしまい、2光子吸収を発生させにくくなり、解像度の高いパターン露光を行えない。従って、上述の本発明においては、その上限として、現状で得られる超短パルスレーザ光源の最大出力や開発中の各種光記録媒体のクロック周波数を考慮して、露光を行う光記録媒体のクロック周波数の20倍程度以下に選定するものである。
また、上述の実施の形態及び各実施例においては、光源手段として、Ti:Sapphire超短パルスレーザを例にとったが、他にも様々な超短パルスレーザ光源を用いることができる。
例えばNd:Vanadete超短パルスレーザは半導体レーザ励起可能で、半導体可飽和吸収ミラー(SESAM)を採用した中心波長1064nm、パルス幅7ps、平均出力数Wで繰り返し周波数25MHzから1GHzのものが市販されている。中心波長917nmのものも入手可能である。レーザ媒質としても、Nd:YAGや、Nd:YLF等を用いることができる。また、Cr:LiSAF、Nd:Glassなどの固体レーザ媒質を用いた超短パルスレーザでは、パルス幅100fs以下、中心波長850nm、1058nmである。
また、高次高調波発生手段において、和周波混合や第2高調波発生、第4高調波発生等を含み非線形結晶光学素子には、BBOの他にKDP、KTP、LNまたこれらの周期分極反転型KTP(PPKTP)やPPLN、LBO、LiIO、CBO等がある。
さらに、これまで微小ピット及びグルーブの露光を例に説明を行ってきたが、従来方法の連続光光源と同様に扱うことができることから、微小ピット及びグルーブの形成のみならず、音響光学効果あるいはポッケルス効果を利用した光偏向器を用いてウォブリングアドレスの形成なども同様に行うことが可能である。
さらに、本発明はディスク状の光記録媒体原盤用の露光装置及び露光方法に限るものではなく、図1において示す回転手段13に代えて、高精度のリニアアクチュエータを用いたX−Y直線走査系のレーザ描画装置や、これらの回転系やX−Y直線走査系に加えz方向のスライド機構を備えた3次元微細加工装置にも適用されるものである。
本発明に係る光記録媒体原盤露光装置及び光記録媒体の露光方法では、露光光源から出力された超短パルスレーザ光またはこれを励起光源とした高次高調波発生手段から出力される短波長の超短パルスレーザ光を、光記録媒体に記録する情報信号のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍にパルスの繰り返し周波数を調節してフォトレジストの露光を行うことにより、2光子吸収過程を発生させて、従来に比し微細な0.25μm以下程度のピットを高精度に形成することができる。
また、超短パルスレーザのパルス幅を1×10−12秒以下とすることで2光子吸収過程をより効率よく発生させることができ、露光光源の波長の回折限界以下のより微細なピット形成を可能とする。
さらに、上述の本発明において、光記録媒体原盤に照射するレーザ光のビームスポットを長円状とすることによって、グルーブ等の走査方向に延在するパターンの信号も、良好な形状をもって、パターン露光することができる。
また他の本発明において、露光光源から出力された超短パルスレーザ光またはこれを励起光源とした高次高調波発生手段から出力される短波長の超短パルスレーザ光を、その繰り返し周波数を記録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下とし、光強度変調を行う変調手段で変調し集光光学系で回折限界のスポットサイズに集光してフォトレジストの露光を行うことにより、従来に比し微細なパターン露光を行うことができる。
特にこの場合、2光子吸収過程を生じさせ、更に、高次高調波発生手段によってより短波長の超短パルスレーザを用いることによって、0.25μm以下の微細なパターンを精度良く露光することができる。
更にまた上述の本発明において、超短パルスレーザのパルス幅を1×10−12秒以下とすることによって2光子吸収過程をより効率よく発生させることができ、露光光源の波長の回折限界以下のより微細なピット形成が可能となる。
また更に上述の各本発明においては、前述したような高開口数のSILを用いたニアフィールド光学系ではなく、ファーフィールド光学系を採用できる為、ワーキングディスタンスを十分広く取ることができ露光時の回転数を高くすることにより、生産性を大幅に向上させることができる。
図1は、本発明に係る光記録媒体原盤露光装置の一例の模式的構成図である。 Aは超短パルスレーザ光のパルス波形の一例の説明図、Bは情報信号の波形及び超短パルスレーザ光のパルス波形の一例の説明図、Cはクロック信号のパルス波形の一例の説明図である。 外部同期機構の説明図である。 Aは超短パルスレーザ光のパルス波形の一例の説明図、Bは情報信号の波形及び超短パルスレーザ光のパルス波形の一例の説明図、Cはクロック信号のパルス波形の一例の説明図である。 高次高調波発生手段の一例の模式的構成図である。 フォトレジストにおけるエアリースポットの吸収量を示す図である。
符号の説明
1.露光光源、1a.ミラー、1b.ミラー、1c.ミラー、2.高次高調波発生手段、3.変調手段、4.チャープ補正光学系、5.ビームエキスパンダ、6.オートフォーカス光学系、6a.偏光ビームスプリッタ、6b.波長選択素子、6c.フォーカス誤差量検出素子、6d.駆動制御部、7.1/4波長板、8a.対物レンズ、8b.電磁アクチュエータ、8c.電磁アクチュエータ、9.集光光学系、10.載置台、11.光記録媒体原盤、12.フォトレジスト、13.回転手段、19a.レンズ、19b.レンズ、19c.レンズ、19d.レンズ、20.非線形光学結晶、21a.ハーモニックセパレータ、21b.ハーモニックセパレータ、21c.ハーモニックセパレータ、21d.ハーモニックセパレータ、22a.高反射ミラー、22b.高反射ミラー、22c.高反射ミラー、22d.高反射ミラー、23.1/2波長板、24.非線形光学結晶、25.ビームストッパ、26.第2高調波発生部、27.ディレーラインユニット、28.第3高調波発生部、31.レンズ、32.球面ミラー、33.球面ミラー34.レーザ媒質、35.高反射ミラー、36a.分散補償プリズム、36b.分散補償プリズム、37.スリット、38.高反射ミラー、39.出力窓、40.ビームスプリッタ、41.光検出器、46.ピエゾ素子

Claims (14)

  1. 共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザよりなる露光光源と、
    前記超短パルスレーザの共振器長を制御して、前記超短パルスレーザの繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の周波数にモードロックし、パルス発振させる外部同期機構と、
    前記露光光源からの光に対し前記記録情報に対応して光強度変調を行う変調手段と、
    該変調手段で変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光する集光光学系と、を有する
    記録媒体原盤露光装置。
  2. 前記露光光源と前記変調手段との間に、前記超短パルスレーザを励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段が設けられる請求項1記載の光記録媒体原盤露光装置。
  3. 前記フォトレジストの露光が、2光子吸収過程によってなされる請求項1又は2に記載の光記録媒体原盤露光装置。
  4. 前記露光光源のパルス幅が1×10−12秒以下である請求項3記載の光記録媒体原盤露光装置。
  5. 前記集光光学系から出射され、前記フォトレジストに集光されたレーザ光のスポット形状が、前記レーザ光の走査方向に延在する長円状とされる請求項1〜4のいずれかに記載の光記録媒体原盤露光装置。
  6. 共振器長が可変とされるレーザ共振器を有する超短パルスレーザよりなる露光光源を用いて、
    外部同期機構により前記超短パルスレーザの共振器長を制御して、前記超短パルスレーザの繰り返し周波数を、記録情報のクロック周波数の1倍以上20倍以下の整数倍の周波数にモードロックしてパルス発振させ、
    前記露光光源からの光に対し前記記録情報に対応して光強度変調を行い、変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光す
    記録媒体原盤の露光方法。
  7. 前記露光光源から出射された光を、前記露光光源を励起光源とした高次高調波発生手段によって、非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化して出射させる請求項記載の光記録媒体原盤の露光方法。
  8. 記フォトレジストに集光されたレーザ光のスポット形状を、前記レーザ光の走査方向に延在する長円状とする請求項6又は7に記載の光記録媒体原盤の露光方法。
  9. 録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数の超短パルスレーザよりなる露光光源と、
    前記露光光源からの光に対し記録情報に対応して光強度変調を行う変調手段と、
    該変調手段で変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光する集光光学系と、を有する
    記録媒体原盤露光装置。
  10. 前記露光光源と前記変調手段との間に、前記超短パルスレーザを励起光源として非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化された光を出射する高次高調波発生手段が設けられる請求項記載の光記録媒体原盤露光装置。
  11. 前記フォトレジストの露光が、2光子吸収過程によってなされる請求項9又は10に記載の光記録媒体原盤露光装置。
  12. 前記露光光源のパルス幅が1×10−12秒以下である請求項11記載の光記録媒体原盤露光装置。
  13. 録情報のクロック周波数の10倍以上20倍以下の繰り返し周波数の超短パルスレーザよりなる露光光源を用いて、
    前記露光光源からの光に対し前記記録情報に対応して光強度変調を行い、変調された光を光記録媒体原盤上のフォトレジスト上に集光して、前記フォトレジストを前記記録情報に応じてパターン露光す
    記録媒体原盤の露光方法。
  14. 前記露光光源から出射された光を、前記露光光源を励起光源とした高次高調波発生手段によって、非線形光学素子を用いた波長変換によって短波長化して出射させる請求項13記載の光記録媒体原盤の露光方法。
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