JP4562598B2

JP4562598B2 - Polishing cloth

Info

Publication number: JP4562598B2
Application number: JP2005194683A
Authority: JP
Inventors: 大介高橋; 正孝高木
Original assignee: Fujibo Holdins Inc
Current assignee: Fujibo Holdins Inc
Priority date: 2005-07-04
Filing date: 2005-07-04
Publication date: 2010-10-13
Anticipated expiration: 2025-07-04
Also published as: JP2007007824A

Description

本発明は、研磨布に係り、特に、一面側に被研磨物を研磨するための研磨層を有し他面側が定盤に装着される研磨布に関する。 The present invention relates to an abrasive cloth, and more particularly, to an abrasive cloth having a polishing layer for polishing an object to be polished on one surface side and mounted on a surface plate on the other surface side.

従来、レンズ、平行平面板、反射ミラー等の光学材料、ハードディスク用基板、半導体ウエハ（シリコンウエハ）、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の材料（被研磨物）では、高精度な平坦性が要求されるため、研磨布を使用した研磨加工が行われている。通常、研磨加工には、被研磨物の両面を同時に研磨する両面研磨機、又は、片面を研磨する片面研磨機が使用されている。両面研磨機では、表面が平坦な上下定盤にそれぞれ研磨布を装着し研磨粒子等を含む研磨液を供給しながら被研磨物の両面が研磨加工される。一方、片面研磨機では、表面が平坦な保持定盤に被研磨物の一面側を保持させ、表面が平坦な研磨定盤に研磨布を装着し研磨液を供給しながら被研磨物の他面（加工表面）側が研磨加工される。 Conventionally, optical materials such as lenses, plane-parallel plates, and reflecting mirrors, hard disk substrates, semiconductor wafers (silicon wafers), and glass substrates for liquid crystal displays (objects to be polished) require high-precision flatness. Therefore, polishing using a polishing cloth is performed. Usually, in the polishing process, a double-side polishing machine that simultaneously polishes both surfaces of an object to be polished or a single-side polishing machine that polishes one side is used. In a double-side polishing machine, both surfaces of an object to be polished are polished while attaching polishing cloths to upper and lower surface plates with flat surfaces and supplying a polishing liquid containing abrasive particles and the like. On the other hand, in a single-side polishing machine, one side of the object to be polished is held on a holding surface plate having a flat surface, and the other surface of the object to be polished is mounted while a polishing cloth is attached to the polishing surface plate having a flat surface and supplying polishing liquid The (processed surface) side is polished.

一般に、研磨布には、ポリウレタン等の樹脂を含浸した不織布等の繊維シート、ポリウレタン等の樹脂を湿式成膜した軟質発泡シート、樹脂を乾式成形後にシート状に切断した硬質発泡シート、無発泡の樹脂シート等が使用されている。これらのシートは、被研磨物の表面を研磨するための研磨層を有しており、その表面性状や研磨加工時に供給される研磨液中の研磨粒子の保持性等が異なることから、被研磨物の性質や研磨加工方法に合わせて選択される。このような研磨布で研磨加工するときには、通常、接着剤を使用して定盤に研磨布が装着される。例えば、研磨布の定盤側の面に接着剤を塗布しておき、そのまま定盤に装着する技術（特許文献１参照）やポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略記する。）等の基材の両面に接着剤を塗着した両面テープで装着する技術（特許文献２参照）が開示されている。 Generally, a polishing cloth includes a fiber sheet such as a nonwoven fabric impregnated with a resin such as polyurethane, a soft foamed sheet obtained by wet-forming a resin such as polyurethane, a hard foamed sheet obtained by dry-molding the resin into a sheet, and a non-foamed sheet. A resin sheet or the like is used. These sheets have a polishing layer for polishing the surface of the object to be polished, and have different surface properties and retention of abrasive particles in the polishing liquid supplied during polishing processing. It is selected according to the properties of the object and the polishing method. When polishing with such an abrasive cloth, the abrasive cloth is usually attached to the surface plate using an adhesive. For example, adhesive is applied to the surface of the polishing cloth on the surface plate side, and the substrate is mounted on the surface plate as it is (refer to Patent Document 1) or polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET). A technique (see Patent Document 2) of mounting with a double-sided tape coated with an adhesive is disclosed.

ところが、定盤に研磨布を装着するときに両面テープ等の接着剤を使用すると、研磨布及び定盤間にエアの咬み込みを生じることがあり、エア抜きができずに研磨布及び定盤間にエアが貯留する。エアが貯留したまま研磨加工を行うと、エアの貯留部分で被研磨物にかかる圧力が大きくなるため、当該部分の加工表面が大きく研磨加工され（エア貯留部分が被研磨物に転写され）て平坦性を損なうこととなる。このため、研磨布の貼り直しが必要となるが、両面テープで一度貼付した研磨布を剥離すると、却ってしわ等が発生する。特に、大型の研磨布ではエアの咬み込みが生じやすいため、定盤への装着には熟練を要する。研磨布の装着時にエアの咬み込みを防止するために、研磨布にドリル等で上下に貫通する孔を形成した研磨布が開示されている（例えば、特許文献３参照）。 However, if an adhesive such as double-sided tape is used when attaching the polishing cloth to the surface plate, air may be caught between the polishing cloth and the surface plate, and the air can not be vented. Air accumulates between them. If the polishing process is performed while air is stored, the pressure applied to the object to be polished increases in the air storage part, so that the processing surface of the part is greatly polished (the air storage part is transferred to the object to be polished). Flatness will be impaired. For this reason, it is necessary to re-apply the polishing cloth, but when the polishing cloth once applied with the double-sided tape is peeled off, wrinkles and the like are generated. In particular, since a large abrasive cloth tends to bite air, it requires skill to attach to a surface plate. In order to prevent air from being caught when the polishing cloth is attached, a polishing cloth is disclosed in which a hole penetrating vertically with a drill or the like is formed in the polishing cloth (see, for example, Patent Document 3).

また、研磨布の寿命等で定盤から研磨布を剥離すると、両面テープ等の接着剤が定盤に付着したまま残る糊残りが生じる。糊残りが生じたまま新しい研磨布を装着すると、糊残りが生じた部分が盛り上がり平坦性を損なうため、研磨布の交換時には毎回、定盤に付着している接着剤（糊）等を剥がし取る清掃作業が必要となる。接着剤を剥がし取る手間を軽減するために、両面テープの基材を易接着タイプとすることで定盤への糊残りを生じ難くする技術が開示されている（例えば、特許文献４参照）。 Further, when the polishing cloth is peeled off from the surface plate due to the life of the polishing cloth or the like, an adhesive residue such as an adhesive such as a double-sided tape remains on the surface plate. If a new abrasive cloth is attached with adhesive residue, the adhesive residue will rise and impair flatness. Therefore, each time the abrasive cloth is replaced, the adhesive (glue) attached to the surface plate is peeled off. Cleaning work is required. In order to reduce the trouble of peeling off the adhesive, a technique for making it difficult for adhesive residue to occur on the surface plate by disposing the base material of the double-sided tape as an easy adhesion type is disclosed (for example, see Patent Document 4).

特開平８−２９３４７７号公報JP-A-8-293477 特開２０００−７７３６６号公報JP 2000-77366 A 特開２００１−２１９３６２号公報JP 2001-219362 A 特開２００５−８１４８６号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-81486

しかしながら、特許文献３の技術では、研磨布に上下に貫通する孔が形成されているため、エアの咬み込みを解消することはできるものの、定盤への装着には両面テープが使用されるため、研磨布を剥離するときや貼り直すときには、定盤に糊残りが生じる。このため、新しい研磨布を装着するには清掃作業が必要となり研磨布の装着の作業性が低下する。また、特許文献４の技術では、両面テープの基材が易接着タイプのため、基材及び定盤間の接着剤の基材に対する接着力が定盤に対する接着力より大きくなることから、研磨布を剥離するときに接着剤を研磨布と共に剥がし易くはなるものの、定盤に対する糊残りを防止するには不十分である。 However, in the technique of Patent Document 3, since a hole penetrating up and down is formed in the polishing cloth, air biting can be eliminated, but double-sided tape is used for mounting on a surface plate. When the polishing cloth is peeled off or reapplied, an adhesive residue is generated on the surface plate. For this reason, cleaning work is required to attach a new polishing cloth, and workability of attaching the polishing cloth is reduced. Moreover, in the technique of patent document 4, since the base material of a double-sided tape is an easily bonding type, since the adhesive force with respect to the base material of the adhesive between a base material and a surface plate becomes larger than the adhesive force with respect to a surface plate, it is abrasive cloth. Although it becomes easy to peel off the adhesive together with the polishing cloth when peeling off, it is insufficient to prevent the adhesive residue on the surface plate.

本発明は上記事案に鑑み、定盤に容易に装着可能で装着の作業性を向上させることができる研磨布を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a polishing cloth that can be easily mounted on a surface plate and can improve the mounting workability.

上記課題を解決するために、本発明は、一面側に被研磨物を研磨するための研磨層を有し他面側が定盤に装着される研磨布において、前記研磨布は、前記研磨層を有する研磨シート及び湿式成膜により形成されたスキン層を有する軟質プラスチックシートの背面同士が貼り合わされており、前記スキン層の表面側で前記定盤に装着されることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a polishing cloth having a polishing layer for polishing an object to be polished on one surface side and mounted on a surface plate on the other surface side, wherein the polishing cloth includes the polishing layer. are bonded is back to back of the soft plastic sheet having a skin layer formed by the abrasive sheet and a wet film formation with, it is mounted on the plate on the surface side of the skin layer and wherein the Rukoto.

本発明の研磨布では、研磨層を有する研磨シート及びスキン層を有する軟質プラスチックシートの背面同士が貼り合わされているため、定盤に装着する側に軟質プラスチックシートのスキン層が位置することから、該スキン層に水等の液体を含ませることでスキン層の微多孔に浸入した液体の表面張力が作用するので、水等の液体のみで定盤に研磨布を容易に装着することができ、定盤への装着の作業性を向上させることができる。また、研磨布を交換するときには、従来の両面テープ等の接着剤を使用する場合と比較して、定盤に接着剤が残留しないので、再装着に手間がかからない。 In the polishing cloth of the present invention, since the back surfaces of the polishing sheet having the polishing layer and the soft plastic sheet having the skin layer are bonded together, the skin layer of the soft plastic sheet is located on the side to be attached to the surface plate. since the surface tension of the liquid which has entered the microporous skin layer by including a liquid such as water to the skin layer acts, it is possible to easily attach the polishing pad platen only a liquid such as water, The workability of mounting on the surface plate can be improved. Further, when changing the polishing cloth, the adhesive does not remain on the surface plate as compared with the case where an adhesive such as a conventional double-sided tape is used, so that it does not take time to reattach.

この場合において、研磨シート及び軟質プラスチックシートの背面同士が、基材と該基材の両面に配された粘着剤とを有する接着部材で貼り合わされていれば、研磨シート及び軟質プラスチックシートを個別に接着部材と貼り合わせることができ、貼り合わせ作業を容易に行うことができる。また、軟質プラスチックシートが、スキン層の内側に発泡層を有していれば、発泡層が弾性を有するので、定盤の表面に若干の歪みが生じていても研磨層側の表面を平坦にすることができる。更に、孔形成剤により、湿式成膜時に軟質プラスチックシートのスキン層の表面に多孔が更に形成されており、該多孔が発泡層に形成された発泡と連通していれば、定盤への装着時にエアの咬み込みが生じても多孔を通じて発泡層の発泡にエアが吸い込まれるので、エアの貯留を防止することができる。また、研磨シート及び軟質プラスチックシートのうち、少なくとも軟質プラスチックシートの背面側が、厚さが一様となるようにバフ処理されていれば、スキン層及び研磨層を損なうことなく研磨布の厚さを略均一とすることができ、スキン層側で定盤に平坦に装着することができる。また、研磨シートが、研磨層の内側に研磨布に弾性を付与する弾性層を有していてもよい。 In this case, if the back surfaces of the polishing sheet and the soft plastic sheet are bonded together with an adhesive member having a base material and an adhesive disposed on both surfaces of the base material, the polishing sheet and the soft plastic sheet are individually attached. It can be bonded to the adhesive member, and the bonding operation can be easily performed. Also, flat flexible plastic sheet is, if it has a foamed layer on the inner side of the skin layer, since the foam layer has elasticity, even if occurred some distortion on the surface of the platen surface of the polishing layer side Can be. In addition, the pore-forming agent, at a wet film formation on the surface of the skin layer of the soft plastic sheet multi-hole are further formed, if communication foam and the porous formed on the foamed layer, to the surface plate Even if air bites occur during mounting, air is sucked into the foam layer through the perforations, so that air can be prevented from being stored. Moreover, if at least the back side of the soft plastic sheet is buffed so that the thickness is uniform among the polishing sheet and the soft plastic sheet, the thickness of the polishing cloth can be reduced without damaging the skin layer and the polishing layer. It can be made substantially uniform and can be mounted flat on the surface plate on the skin layer side. Moreover, the polishing sheet may have an elastic layer that imparts elasticity to the polishing cloth inside the polishing layer.

本発明によれば、研磨布が、研磨層を有する研磨シート及びスキン層を有する軟質プラスチックシートの背面同士が貼り合わされているため、定盤に装着する側に軟質プラスチックシートのスキン層が位置することから、該スキン層に水等の液体を含ませることでスキン層の微多孔に浸入した液体の表面張力が作用するので、水等の液体のみで定盤に研磨布を容易に装着することができ、定盤への装着の作業性を向上させることができる、という効果を得ることができる。
According to the present invention, the polishing cloth, because the rear ends of flexible plastic sheet having an abrasive sheet and the skin layer is bonded with an abrasive layer, located skin layer of the soft plastic sheet on the side attached to the base since, the surface tension of the liquid which has entered the microporous skin layer by including a liquid such as water to the skin layer is applied, to be easily mounted to the polishing cloth surface plate only a liquid such as water And the workability of mounting on the surface plate can be improved.

以下、図面を参照して、本発明を適用した仕上げ研磨加工用の研磨パッドの実施の形態について説明する。 Embodiments of a polishing pad for finish polishing to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings.

（研磨パッド）
図１に示すように、研磨パッド１は、ポリウレタン樹脂で形成された軟質プラスチックシートとしてのポリウレタンシート２と、ポリウレタン樹脂で形成された研磨シートとしてのポリウレタンシート６とを有している。ポリウレタンシート２は、研磨定盤に装着するための装着面Ｑ側にスキン層（表面層）２ａを有しており、スキン層２ａの内側（ポリウレタンシート２の内部）にナップ層（発泡層）２ｂを有している。ポリウレタンシート６は、研磨加工時に研磨粒子を含む研磨液を介して被研磨物に当接可能な研磨面Ｐ側にスキン層６ａを有しており、スキン層６ａの内側（ポリウレタンシート６の内部）にナップ層６ｂを有している。ポリウレタンシート２の装着面Ｑの背面と、ポリウレタンシート６の研磨面Ｐの背面とが、両面テープ３（接着部材）を介して貼り合わされている。両面テープ３は、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略記する。）製フィルムの基材４の両面に粘着剤５が塗着されている。研磨面Ｐの背面側及び装着面Ｑの背面側は、それぞれポリウレタンシート２、６の厚さ（図１の縦方向の長さ）が一様となるようにバフ処理されている（詳細後述）。このため、研磨パッド１を装着面Ｑ側で研磨定盤に装着することで研磨面Ｐが略平坦となる。 (Polishing pad)
As shown in FIG. 1, the polishing pad 1 has a polyurethane sheet 2 as a soft plastic sheet formed of a polyurethane resin, and a polyurethane sheet 6 as a polishing sheet formed of a polyurethane resin. The polyurethane sheet 2 has a skin layer (surface layer) 2a on the mounting surface Q side for mounting on a polishing surface plate, and a nap layer (foamed layer) inside the skin layer 2a (inside the polyurethane sheet 2). 2b. The polyurethane sheet 6 has a skin layer 6a on the polishing surface P side that can come into contact with an object to be polished via a polishing liquid containing abrasive particles during polishing, and the inside of the skin layer 6a (inside of the polyurethane sheet 6) ) Has a nap layer 6b. The back surface of the mounting surface Q of the polyurethane sheet 2 and the back surface of the polishing surface P of the polyurethane sheet 6 are bonded together via a double-sided tape 3 (adhesive member). The double-sided tape 3 has an adhesive 5 coated on both sides of a base material 4 made of polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET). The back surface side of the polishing surface P and the back surface side of the mounting surface Q are buffed so that the thicknesses of the polyurethane sheets 2 and 6 (length in the vertical direction in FIG. 1) are uniform (details will be described later). . For this reason, the polishing surface P becomes substantially flat by mounting the polishing pad 1 on the polishing surface plate on the mounting surface Q side.

ポリウレタンシート２のスキン層２ａには、図示を省略した緻密な微多孔が形成されている。ナップ層２ｂには、ポリウレタンシート２の厚さ方向に沿って丸みを帯びた断面略三角状の発泡７が形成されている。発泡７は、装着面Ｑ側の孔径が装着面Ｑの背面側より小さく形成されている。発泡７同士の間のポリウレタン樹脂中には、スキン層２ａに形成された微多孔より孔径が大きくナップ層２ｂに形成された発泡７より孔径が小さな図示しない発泡が形成されている。発泡７及び図示しない発泡は、不図示の連通孔で立体網目状につながっている。 In the skin layer 2a of the polyurethane sheet 2, dense micropores (not shown) are formed. In the nap layer 2b, a foam 7 having a substantially triangular cross section rounded along the thickness direction of the polyurethane sheet 2 is formed. The foam 7 is formed so that the hole diameter on the mounting surface Q side is smaller than the back surface side of the mounting surface Q. In the polyurethane resin between the foams 7, foam (not shown) having a pore diameter larger than that of the micropore formed in the skin layer 2 a and smaller than that of the foam 7 formed in the nap layer 2 b is formed. The foam 7 and the foam (not shown) are connected in a three-dimensional network via communication holes (not shown).

ポリウレタンシート２の装着面Ｑ（スキン層２ａの表面）には、ナップ層２ｂに形成された発泡７と連通した多孔８が更に形成されている。多孔８の孔径は、スキン層２ａに形成された微多孔より大きく、ナップ層２ｂに形成された発泡７より小さく形成されている。多孔８及び発泡７を連通する連通孔の孔径は、スキン層２ａの微多孔の孔径より大きく形成されている。この多孔８は、後述するポリウレタンシート２の成膜時にポリウレタン樹脂溶液に添加された孔形成剤で形成される。 On the mounting surface Q of the polyurethane sheet 2 (surface of the skin layer 2a), a porous 8 communicating with the foam 7 formed in the nap layer 2b is further formed. The pore diameter of the pore 8 is larger than the micropore formed in the skin layer 2a and smaller than the foam 7 formed in the nap layer 2b. The hole diameter of the communication hole that communicates the pore 8 and the foam 7 is formed larger than the diameter of the microporous hole of the skin layer 2a. The pores 8 are formed by a pore forming agent added to the polyurethane resin solution when the polyurethane sheet 2 described later is formed.

ポリウレタンシート６のスキン層６ａには、図示を省略した緻密な微多孔が形成されている。ナップ層６ｂには、ポリウレタンシート６の厚さ方向に沿って丸みを帯びた断面略三角状の発泡７が形成されている。発泡７は、研磨面Ｐ側の孔径が研磨面Ｐの背面側より小さく形成されている。発泡７同士の間のポリウレタン樹脂中には、スキン層６ａに形成された微多孔より孔径が大きくナップ層６ｂに形成された発泡７より孔径が小さな図示しない発泡が形成されている。発泡７及び図示しない発泡は、不図示の連通孔で立体網目状につながっている。ポリウレタンシート６の研磨面Ｐ側で、スキン層６ａと、ナップ層６ｂの一部とを含む研磨加工に使用可能な厚さ分が研磨層を構成している。 In the skin layer 6a of the polyurethane sheet 6, dense micropores (not shown) are formed. The nap layer 6 b is formed with a foam 7 having a substantially triangular cross section rounded along the thickness direction of the polyurethane sheet 6. The foam 7 is formed such that the pore diameter on the polishing surface P side is smaller than the back surface side of the polishing surface P. In the polyurethane resin between the foams 7, foam (not shown) having a pore diameter larger than that of the fine pores formed in the skin layer 6 a and smaller than that of the foam 7 formed in the nap layer 6 b is formed. The foam 7 and the foam (not shown) are connected in a three-dimensional network via communication holes (not shown). On the polishing surface P side of the polyurethane sheet 6, the thickness that can be used for polishing including the skin layer 6 a and a part of the nap layer 6 b constitutes the polishing layer.

（研磨パッドの製造）
研磨パッド１は、図２に示す各工程に従い、ポリウレタンシート２、６をそれぞれ作製した後、背面同士を貼り合わせることで製造される。 (Manufacture of polishing pad)
The polishing pad 1 is manufactured by bonding the back surfaces together after producing the polyurethane sheets 2 and 6 according to the steps shown in FIG.

ポリウレタンシート２の作製では、まず、準備工程で、ポリウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂を溶解可能な水混和性の有機溶媒のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略記する。）、添加剤及び孔形成剤を混合してポリウレタン樹脂を溶解させる。ポリウレタン樹脂には、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系等の樹脂から選択して用い、例えば、ポリウレタン樹脂が３０％となるようにＤＭＦに溶解させる。添加剤としては、発泡７の大きさや量（個数）を制御するカーボンブラック等の顔料、発泡を促進させる親水性活性剤及びポリウレタン樹脂の凝固再生を安定化させる疎水性活性剤等を用いることができる。 In the preparation of the polyurethane sheet 2, first, in the preparation step, the polyurethane resin, N, N-dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DMF), an additive, and pore formation, which is a water-miscible organic solvent capable of dissolving the polyurethane resin. The agent is mixed to dissolve the polyurethane resin. As the polyurethane resin, a polyester resin, a polyether resin, a polycarbonate resin, or the like is selected and used. For example, the polyurethane resin is dissolved in DMF so as to be 30%. As the additive, a pigment such as carbon black for controlling the size and amount (number) of foam 7, a hydrophilic activator for promoting foaming, a hydrophobic activator for stabilizing solidification regeneration of polyurethane resin, and the like are used. it can.

また、孔形成剤としては、ポリウレタン樹脂溶解用のＤＭＦに可溶性であり、水に難溶性又は不溶性のセルロース誘導体を所定量添加する。セルロース誘導体には、少なくともエステル系誘導体、エーテル系誘導体、エーテルエステル系誘導体及び芳香族含有誘導体から選択される１種を使用することができる。エステル系誘導体には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースバレレート、セルロースアセテートブチレート等を挙げることができる。エーテル系誘導体には、エチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等を挙げることができる。エーテルエステル系誘導体には、アセチルエチルセルロース、アセトキシプロピルセルロース等を挙げることができる。このセルロース誘導体の添加量は、スキン層２ａの表面での多孔８の孔径に合わせて設定する。得られた溶液を濾過することで凝集塊等を除去した後、真空下で脱泡してポリウレタン樹脂溶液を得る。 As the pore-forming agent, a predetermined amount of a cellulose derivative that is soluble in DMF for dissolving polyurethane resin and hardly soluble or insoluble in water is added. As the cellulose derivative, at least one selected from ester derivatives, ether derivatives, ether ester derivatives, and aromatic-containing derivatives can be used. Examples of ester derivatives include cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose valerate, and cellulose acetate butyrate. Examples of ether derivatives include ethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose. Examples of ether ester derivatives include acetylethyl cellulose and acetoxypropyl cellulose. The addition amount of this cellulose derivative is set according to the pore diameter of the porous 8 on the surface of the skin layer 2a. The obtained solution is filtered to remove aggregates and the like, and then defoamed under vacuum to obtain a polyurethane resin solution.

塗布工程、凝固再生工程及び洗浄・乾燥工程では、準備工程で得られたポリウレタン樹脂溶液を成膜基材に連続的に塗布し、水系凝固液に浸漬することでポリウレタン樹脂を凝固再生させ、洗浄後乾燥させてポリウレタンシートを得る。塗布工程、凝固再生工程及び洗浄・乾燥工程は、図３に示す成膜装置で連続して実行される。 In the coating process, coagulation regeneration process, and washing / drying process, the polyurethane resin solution obtained in the preparation process is continuously applied to the film-forming substrate and immersed in an aqueous coagulation liquid to coagulate and regenerate the polyurethane resin, followed by washing. After drying, a polyurethane sheet is obtained. The coating process, the coagulation regeneration process, and the cleaning / drying process are continuously executed by the film forming apparatus shown in FIG.

図３に示すように、成膜装置６０は、成膜基材の不織布や織布を前処理するための水又はＤＭＦ水溶液（ＤＭＦと水との混合液）等の前処理液１５が満たされた前処理槽１０、ポリウレタン樹脂を凝固再生させるための、ポリウレタン樹脂に対して貧溶媒である水を主成分とする凝固液２５が満たされた凝固槽２０、凝固再生後のポリウレタン樹脂を洗浄するための水等の洗浄液３５が満たされた洗浄槽３０及びポリウレタン樹脂を乾燥させるためのシリンダ乾燥機５０を連続して備えている。 As shown in FIG. 3, the film forming apparatus 60 is filled with a pretreatment liquid 15 such as water or a DMF aqueous solution (mixed liquid of DMF and water) for pretreating a nonwoven fabric or a woven fabric of a film forming substrate. In addition, the pretreatment tank 10, the coagulation tank 20 filled with a coagulation liquid 25 whose main component is water which is a poor solvent for the polyurethane resin for coagulating and regenerating the polyurethane resin, and the polyurethane resin after the coagulation regeneration are washed. A cleaning tank 30 filled with a cleaning liquid 35 such as water and a cylinder dryer 50 for drying the polyurethane resin are continuously provided.

前処理槽１０の上流側には、成膜基材４３を供給する基材供給ローラ４１が配置されている。前処理槽１０には、成膜基材４３の搬送方向と同じ長手方向の略中央部の内側下部に一対のガイドローラ対１３が配置されている。前処理槽１０の上方で、基材供給ローラ４１側にはガイドローラ１１、１２が配設されており、凝固槽２０側には前処理した成膜基材４３に含まれる過剰な前処理液１５を除去するマングルローラ１８が配置されている。マングルローラ１８の下流側には、成膜基材４３にポリウレタン樹脂溶液４５を略均一に塗布するナイフコータ４６が配置されている。ナイフコータ４６の下流側で凝固槽２０の上方にはガイドローラ２１が配置されている。 On the upstream side of the pretreatment tank 10, a substrate supply roller 41 that supplies a film forming substrate 43 is disposed. In the pretreatment tank 10, a pair of guide rollers 13 is disposed at a lower portion inside the substantially central portion in the same longitudinal direction as the film forming substrate 43 is conveyed. Above the pretreatment tank 10, guide rollers 11 and 12 are disposed on the substrate supply roller 41 side, and an excessive pretreatment liquid contained in the pretreated film forming substrate 43 is disposed on the coagulation tank 20 side. A mangle roller 18 for removing 15 is disposed. On the downstream side of the mangle roller 18, a knife coater 46 for applying the polyurethane resin solution 45 to the film forming substrate 43 substantially uniformly is disposed. A guide roller 21 is disposed on the downstream side of the knife coater 46 and above the coagulation tank 20.

凝固槽２０には、洗浄槽３０側の内側下部にガイドローラ２３が配置されている。凝固槽２０の上方で洗浄槽３０側には凝固再生後のポリウレタン樹脂を脱水処理するマングルローラ２８が配置されている。マングルローラ２８の下流側で洗浄槽３０の上方にはガイドローラ３１が配置されている。洗浄槽３０には、成膜基材４３の搬送方向と同じ長手方向で上部に４本、下部に５本のガイドローラ３３が上下交互となるように配設されている。洗浄槽３０の上方でシリンダ乾燥機５０側には、洗浄後のポリウレタン樹脂を脱水処理するマングルローラ３８が配置されている。シリンダ乾燥機５０には、内部に熱源を有する４本のシリンダが上下４段に配設されている。シリンダ乾燥機５０の下流側には、乾燥後のポリウレタン樹脂を（成膜基材４３と共に）巻き取る巻取ローラ４２が配置されている。なお、マングルローラ１８、２８、３８、シリンダ乾燥機５０及び巻取ローラ４２は、図示を省略した回転駆動モータに接続されており、これらの回転駆動力により成膜基材４３が基材供給ローラ４１から巻取ローラ４２まで搬送される。 In the coagulation tank 20, a guide roller 23 is disposed at the inner lower part on the cleaning tank 30 side. A mangle roller 28 is disposed on the washing tank 30 side above the coagulation tank 20 for dehydrating the polyurethane resin after coagulation regeneration. A guide roller 31 is disposed on the downstream side of the mangle roller 28 and above the cleaning tank 30. In the cleaning tank 30, four guide rollers 33 at the upper part and five guide rollers 33 at the lower part are arranged alternately in the vertical direction in the same longitudinal direction as the transport direction of the film forming substrate 43. A mangle roller 38 for dehydrating the washed polyurethane resin is disposed on the cylinder dryer 50 side above the cleaning tank 30. In the cylinder dryer 50, four cylinders having heat sources inside are arranged in four stages. On the downstream side of the cylinder dryer 50, a take-up roller 42 that winds up the dried polyurethane resin (together with the film forming substrate 43) is disposed. The mangle rollers 18, 28, 38, the cylinder dryer 50 and the take-up roller 42 are connected to a rotation drive motor (not shown), and the film formation substrate 43 is made to be a substrate supply roller by these rotation drive forces. It is conveyed from 41 to the winding roller 42.

成膜基材４３に不織布又は織布を用いる場合は、成膜基材４３が基材供給ローラ４１から引き出され、ガイドローラ１１、１２を介して前処理液１５中に連続的に導入される。前処理液１５中で一対のガイドローラ１３間に成膜基材４３を通過させて前処理（目止め）を行うことにより、ポリウレタン樹脂溶液４５を塗布するときに、成膜基材４３内部へのポリウレタン樹脂溶液４５の浸透が抑制される。成膜基材４３は、前処理液１５から引き上げられた後、マングルローラ１８で加圧されて余分な前処理液１５が絞り落とされる。前処理後の成膜基材４３は、凝固槽２０方向に搬送される。なお、成膜基材４３としてＰＥＴ製等の可撓性フィルムを用いる場合は、前処理が不要のため、ガイドローラ１２から直接マングルローラ１８に送り込むようにするか、又は、前処理槽１０に前処理液１５を入れないようにしてもよい。以下、本例では、成膜基材４３をＰＥＴ製フィルムとして説明する。 When a non-woven fabric or a woven fabric is used as the film forming substrate 43, the film forming substrate 43 is pulled out from the substrate supply roller 41 and continuously introduced into the pretreatment liquid 15 through the guide rollers 11 and 12. . When the polyurethane resin solution 45 is applied by passing the film-forming substrate 43 between the pair of guide rollers 13 in the pretreatment liquid 15 and performing the pretreatment (sealing), the film-forming substrate 43 is brought into the film forming substrate 43. Of the polyurethane resin solution 45 is suppressed. After the film forming substrate 43 is pulled up from the pretreatment liquid 15, it is pressurized by the mangle roller 18 and the excess pretreatment liquid 15 is squeezed out. The pre-processed film-forming substrate 43 is conveyed in the direction of the coagulation tank 20. In the case where a flexible film made of PET or the like is used as the film forming substrate 43, pretreatment is not necessary, so that the film is directly fed from the guide roller 12 to the mangle roller 18 or in the pretreatment tank 10. The pretreatment liquid 15 may not be added. Hereinafter, in this example, the film forming substrate 43 is described as a PET film.

図２に示すように、塗布工程では、準備工程で調製したポリウレタン樹脂溶液４５が常温下でナイフコータ４６により成膜基材４３に略均一に塗布される。このとき、ナイフコータ４６と成膜基材４３の上面との間隙（クリアランス）を調整することで、ポリウレタン樹脂溶液４５の塗布厚さ（塗布量）を調整する。 As shown in FIG. 2, in the application process, the polyurethane resin solution 45 prepared in the preparation process is applied almost uniformly to the film forming substrate 43 by the knife coater 46 at room temperature. At this time, the application thickness (application amount) of the polyurethane resin solution 45 is adjusted by adjusting the gap (clearance) between the knife coater 46 and the upper surface of the film forming substrate 43.

凝固再生工程では、ナイフコータ４６でポリウレタン樹脂溶液４５が塗布された成膜基材４３が、ガイドローラ２１からガイドローラ２３へ向けて凝固液２５中に導入される。凝固液２５中では、まず、塗布されたポリウレタン樹脂溶液４５の表面でポリウレタン樹脂溶液４５のＤＭＦと凝固液２５との置換が進行して緻密な微多孔が形成される。この微多孔は厚さ数μｍ程度に形成されスキン層２ａを構成する。その後、スキン層２ａ及び成膜基材４３間のポリウレタン樹脂溶液４５中のＤＭＦと凝固液２５との置換の進行によりポリウレタン樹脂が成膜基材４３の片面に凝固再生される。ＤＭＦの脱溶媒による凝固液２５との置換に伴い、スキン層２ａの内側には発泡７、及び、発泡７を立体網目状に連通する連通孔が形成されてナップ層２ｂを構成する。スキン層２ａの厚さが数μｍ程度であることから、ポリウレタン樹脂溶液４５の塗布厚さの大部分でナップ層２ｂが形成されるため、ナップ層２ｂの厚さはスキン層２ａの厚さより大きくなる。また、脱溶媒時に、ポリウレタン樹脂溶液４５に添加されているセルロース誘導体で多孔８が形成され、多孔８及び発泡７を連通する連通孔が形成される。発泡７は、ＰＥＴ製フィルムの成膜基材４３が水を浸透させないため、ポリウレタン樹脂溶液４５の表面側（スキン層２ａ側）で脱溶媒が生じて成膜基材４３側が表面側より大きく形成される。 In the coagulation regeneration process, the film forming substrate 43 coated with the polyurethane resin solution 45 by the knife coater 46 is introduced into the coagulation liquid 25 from the guide roller 21 toward the guide roller 23. In the coagulating liquid 25, first, substitution of DMF of the polyurethane resin solution 45 and the coagulating liquid 25 proceeds on the surface of the applied polyurethane resin solution 45 to form dense micropores. The micropores are formed to a thickness of about several μm and constitute the skin layer 2a. Thereafter, the polyurethane resin is coagulated and regenerated on one surface of the film forming substrate 43 by the progress of substitution of the DMF in the polyurethane resin solution 45 and the coagulating liquid 25 between the skin layer 2 a and the film forming substrate 43. Along with the replacement of the coagulating liquid 25 by the removal of DMF, the foam layer 7 and communication holes that connect the foam layer 7 in a three-dimensional network shape are formed inside the skin layer 2a to constitute the nap layer 2b. Since the thickness of the skin layer 2a is about several μm, the nap layer 2b is formed in the majority of the coating thickness of the polyurethane resin solution 45. Therefore, the thickness of the nap layer 2b is larger than the thickness of the skin layer 2a. Become. Further, at the time of solvent removal, the porous 8 is formed by the cellulose derivative added to the polyurethane resin solution 45, and a communication hole that connects the porous 8 and the foam 7 is formed. Foam 7 does not allow water to permeate the film-forming substrate 43 of the PET film, so that desolvation occurs on the surface side (skin layer 2a side) of the polyurethane resin solution 45 and the film-forming substrate 43 side is formed larger than the surface side. Is done.

ここで、多孔８の形成について説明すると、ポリウレタン樹脂溶液４５中では、セルロース誘導体及びポリウレタン樹脂の相溶性が乏しいため、２相分離していると考えられる。その上、ポリウレタン樹脂の凝固再生時には、セルロース誘導体及びポリウレタン樹脂の凝固液２５中での凝固特性が異なるため、収縮量に差が生じ、また、相溶性が乏しいことから、セルロース誘導体及びポリウレタン樹脂間の界面接合力が小さくなり脱離的現象も生じるので、多孔８が形成されると考えられる。このため、多孔８はスキン層２ａの微多孔より大きくナップ層２ｂの発泡７より小さくなり、多孔８及び発泡７を連通する連通孔の孔径は微多孔の孔径より大きくなる。 Here, the formation of the porous 8 will be described. In the polyurethane resin solution 45, it is considered that the cellulose derivative and the polyurethane resin are poorly compatible, so that the two phases are separated. In addition, when the polyurethane resin is coagulated and regenerated, the coagulation characteristics of the cellulose derivative and the polyurethane resin in the coagulation liquid 25 are different, so that there is a difference in shrinkage, and the compatibility between the cellulose derivative and the polyurethane resin is poor. Since the interfacial bonding force is reduced and a desorption phenomenon occurs, it is considered that the porous 8 is formed. For this reason, the pore 8 is larger than the micropore of the skin layer 2a and smaller than the foam 7 of the nap layer 2b, and the pore diameter of the communication hole connecting the pore 8 and the foam 7 is larger than the pore diameter of the micropore.

ポリウレタン樹脂の凝固再生は、ポリウレタン樹脂溶液４５が塗布された成膜基材４３が凝固液２５中に進入してからガイドローラ２３に到る間に完了する。凝固再生したポリウレタン樹脂は、凝固液２５から引き上げられ、マングルローラ２８で余分な凝固液２５が絞り落とされた後、ガイドローラ３１を介して洗浄槽３０に搬送され洗浄液３５中に導入される。 The solidification regeneration of the polyurethane resin is completed while the film-forming substrate 43 coated with the polyurethane resin solution 45 enters the coagulating liquid 25 and reaches the guide roller 23. The coagulated and regenerated polyurethane resin is pulled up from the coagulating liquid 25, and after the excess coagulating liquid 25 is squeezed out by the mangle roller 28, the polyurethane resin is conveyed to the cleaning tank 30 via the guide roller 31 and introduced into the cleaning liquid 35.

洗浄・乾燥工程では、洗浄液３５中に導入されたポリウレタン樹脂をガイドローラ３３に上下交互に通過させることによりポリウレタン樹脂が洗浄される。洗浄後、ポリウレタン樹脂は洗浄液３５から引き上げられ、マングルローラ３８で余分な洗浄液３５が絞り落とされる。その後、ポリウレタン樹脂を、シリンダ乾燥機５０の４本のシリンダ間を交互（図３の矢印方向）に、シリンダの周面に沿って通過させることで乾燥させる。乾燥後のポリウレタン樹脂は、成膜基材４３と共に巻取ローラ４２に巻き取られる。 In the cleaning / drying step, the polyurethane resin introduced into the cleaning liquid 35 is passed through the guide roller 33 alternately up and down to clean the polyurethane resin. After the cleaning, the polyurethane resin is pulled up from the cleaning liquid 35 and the excess cleaning liquid 35 is squeezed out by the mangle roller 38. Thereafter, the polyurethane resin is dried by passing along the circumferential surface of the cylinder alternately between the four cylinders of the cylinder dryer 50 (in the direction of the arrow in FIG. 3). The dried polyurethane resin is wound around the winding roller 42 together with the film forming substrate 43.

裏面バフ処理工程では、乾燥後のポリウレタンシートの装着面Ｑの背面（裏面）側にバフ処理が施される。図４（Ａ）に示すように、巻取ローラ４２に巻き取られたポリウレタンシート２は成膜基材４３のＰＥＴ製フィルム上に形成されている。成膜時にはポリウレタンシート２の厚さにバラツキが生じるため、装着面Ｑには凹凸が形成されている。成膜基材４３を剥離した後、図４（Ｂ）に示すように、装着面Ｑの表面に、表面が平坦な圧接ローラ６５の表面を圧接することで、装着面Ｑが平坦となり、装着面Ｑの背面Ｎ側に凹凸が出現する。背面Ｎ側に出現した凹凸がバフ処理で除去される。本例では、連続的に製造されたポリウレタンシート２が帯状のため、装着面Ｑに圧接ローラ６５を圧接しながら、背面Ｎ側を連続的にバフ処理する。これにより、図４（Ｃ）に示すように、背面Ｎ側がバフ処理されて平坦な背面Ｎ’が形成されたポリウレタンシート２は、厚さのバラツキが解消される。なお、図４（Ｃ）では説明をわかりやすくするために装着面Ｑ及び背面Ｎ’を平坦に示しているが、ポリウレタンシート２の単体では両面共にポリウレタンシート２の厚さが一様となる凹凸を呈している。 In the back surface buffing step, buffing is performed on the back surface (back surface) side of the mounting surface Q of the polyurethane sheet after drying. As shown in FIG. 4A, the polyurethane sheet 2 wound up by the winding roller 42 is formed on a PET film of the film forming substrate 43. Since the thickness of the polyurethane sheet 2 varies during film formation, the mounting surface Q is uneven. After the film-forming substrate 43 is peeled off, as shown in FIG. 4 (B), the surface of the pressure roller 65 having a flat surface is pressed against the surface of the mounting surface Q, so that the mounting surface Q becomes flat. Unevenness appears on the back N side of the surface Q. Unevenness appearing on the back N side is removed by buffing. In this example, since the continuously manufactured polyurethane sheet 2 has a band shape, the back surface N side is continuously buffed while the pressure roller 65 is pressed against the mounting surface Q. As a result, as shown in FIG. 4C, the thickness variation of the polyurethane sheet 2 in which the back surface N side is buffed to form a flat back surface N ′ is eliminated. In FIG. 4C, the mounting surface Q and the back surface N ′ are shown flat for easy understanding of the explanation. However, in the single body of the polyurethane sheet 2, the unevenness that makes the thickness of the polyurethane sheet 2 uniform on both surfaces. Presents.

ポリウレタンシート６の作製では、図２に示す準備工程で、孔形成剤を添加せずにポリウレタン樹脂溶液を調製する以外は、上述したポリウレタンシート２の作製と同様に、湿式成膜し（図３参照）、研磨面Ｐの背面側をバフ処理する（図４参照）。このため、ポリウレタンシート６のスキン層６ａには、多孔８は形成されない。 In the preparation of the polyurethane sheet 6, a wet film formation is performed in the same manner as the preparation of the polyurethane sheet 2 described above except that the polyurethane resin solution is prepared without adding the pore-forming agent in the preparation step shown in FIG. (See FIG. 4). The back side of the polishing surface P is buffed (see FIG. 4). For this reason, the porous 8 is not formed in the skin layer 6 a of the polyurethane sheet 6.

図２に示すように、貼り合わせ工程では、ポリウレタンシート２の装着面Ｑの背面とポリウレタンシート６の研磨面Ｐの背面とを貼り合わせる。ポリウレタンシート２、６の貼り合わせには、基材４の両面に粘着剤５が塗着された両面テープ３を使用する。このとき、両面テープ３の片面にポリウレタンシート２を貼り合わせ、両面テープ３のもう片面にポリウレタンシート６を貼り合わせる。基材４には、ＰＥＴ等の可撓性フィルムを使用することができ、使用可能な粘着剤５としては、例えば、アクリル系粘着剤等を挙げることができる。裁断工程で円形等の所望の形状、サイズに裁断した後、汚れや異物等の付着がないことを確認する等の検査を行い、研磨パッド１を完成させる。 As shown in FIG. 2, in the bonding step, the back surface of the mounting surface Q of the polyurethane sheet 2 and the back surface of the polishing surface P of the polyurethane sheet 6 are bonded together. For the bonding of the polyurethane sheets 2 and 6, a double-sided tape 3 in which an adhesive 5 is applied to both surfaces of a base material 4 is used. At this time, the polyurethane sheet 2 is bonded to one side of the double-sided tape 3, and the polyurethane sheet 6 is bonded to the other side of the double-sided tape 3. A flexible film such as PET can be used for the substrate 4, and examples of the usable pressure-sensitive adhesive 5 include an acrylic pressure-sensitive adhesive. After cutting into a desired shape and size such as a circle in the cutting step, inspection such as confirmation that there is no adhesion of dirt or foreign matter is performed, and the polishing pad 1 is completed.

被研磨物の研磨加工を行うときは、片面研磨機の研磨定盤に研磨パッド１を装着面Ｑ側で装着し、研磨面Ｐ側で被研磨物の研磨加工を行う。図５に示すように、片面研磨機７０は、下側に回転可能な研磨定盤７１、上側に被研磨物７８を押圧する加圧定盤７２を備えている。研磨定盤７１の上面及び加圧定盤７２の下面は、いずれも平坦に形成されている。研磨定盤７１の上面には研磨パッド１が装着されており、加圧定盤７２の下面には被研磨物７８を保持するための保持パッド７５が貼付されている。研磨定盤７１に研磨パッド１を装着するときは、研磨パッド１の装着面Ｑ側に適量の水を含ませて研磨定盤７１に押し付ける。装着面Ｑ側のスキン層２ａの微多孔に浸入した水の表面張力が研磨パッド１及び研磨定盤７１間に作用すると共に、ポリウレタンシート２のポリウレタン樹脂の粘着性で研磨パッド１が研磨定盤７１に装着される。研磨加工時には、被研磨物７８及び研磨パッド１間に研磨粒子を含む研磨液を供給すると共に、加圧定盤７２で被研磨物７８に圧力をかけながら研磨定盤７１を回転させることで、被研磨物７８の下面（加工表面）が研磨加工される。 When polishing an object to be polished, the polishing pad 1 is mounted on the mounting surface Q side of a polishing surface plate of a single-side polishing machine, and the object to be polished is polished on the polishing surface P side. As shown in FIG. 5, the single-side polishing machine 70 includes a polishing surface plate 71 that can rotate downward, and a pressure surface plate 72 that presses an object 78 to be polished. The upper surface of the polishing surface plate 71 and the lower surface of the pressure surface plate 72 are both formed flat. The polishing pad 1 is mounted on the upper surface of the polishing surface plate 71, and a holding pad 75 for holding the object to be polished 78 is attached to the lower surface of the pressure surface plate 72. When the polishing pad 1 is mounted on the polishing surface plate 71, an appropriate amount of water is included on the mounting surface Q side of the polishing pad 1 and pressed against the polishing surface plate 71. The surface tension of the water that has entered the micropores of the skin layer 2a on the mounting surface Q side acts between the polishing pad 1 and the polishing surface plate 71, and the polishing pad 1 is polished by the adhesiveness of the polyurethane resin of the polyurethane sheet 2. 71 is attached. During polishing, a polishing liquid containing abrasive particles is supplied between the object to be polished 78 and the polishing pad 1, and the polishing surface plate 71 is rotated while applying pressure to the object to be polished 78 by the pressure surface plate 72. The lower surface (processed surface) of the workpiece 78 is polished.

（作用等）
次に、本実施形態の研磨パッド１の作用等について説明する。 (Action etc.)
Next, the operation and the like of the polishing pad 1 of the present embodiment will be described.

本実施形態の研磨パッド１では、ポリウレタンシート２の装着面Ｑの背面と、ポリウレタンシート６の研磨面Ｐの背面とが貼り合わされている。このため、微多孔が形成されたスキン層２ａが装着面Ｑ側に位置するので、スキン層２ａの表面が研磨定盤７１に装着される。研磨定盤７１への装着では、スキン層２ａに少量の水を含ませることで微多孔に浸入した水の表面張力等が作用するので、水のみで装着を容易に行うことができる。従って、研磨定盤７１への装着時に位置ズレ、エアの咬み込み等が生じても容易に貼り直すことができるため、装着作業に熟練を要することなく大型の研磨パッドでも平坦かつ容易に装着することができる。 In the polishing pad 1 of this embodiment, the back surface of the mounting surface Q of the polyurethane sheet 2 and the back surface of the polishing surface P of the polyurethane sheet 6 are bonded together. For this reason, since the skin layer 2 a in which micropores are formed is located on the mounting surface Q side, the surface of the skin layer 2 a is mounted on the polishing surface plate 71. In mounting on the polishing surface plate 71, since a small amount of water is contained in the skin layer 2a, the surface tension of the water that has entered the micropores acts, so that the mounting can be easily performed only with water. Therefore, even if a positional shift, air bite, or the like occurs during mounting on the polishing surface plate 71, it can be easily reattached, so that even a large polishing pad can be mounted flatly and easily without requiring skill in mounting work. be able to.

また、従来の研磨パッドでは、研磨定盤への装着に両面テープ等の接着剤が使用されるため、一度装着した研磨パッドを研磨定盤から剥離するためには接着剤の接着力以上の力を要し、剥離時に研磨定盤に接着剤が残留（糊残り）することがある。接着剤が残留していると、新たな研磨パッドを装着したときに糊残り部分が盛り上がるため、研磨パッドの表面（研磨面）の平坦性が損なわれる。これを避けるため、寿命等で研磨パッドを交換するときや貼り直しをするときには、研磨定盤に残留している接着剤を完全に剥がし取る清掃作業が必要となるので、清掃作業に手間がかかり装着の作業性を低下させる。これに対して本実施形態の研磨パッド１では、水のみで研磨定盤に装着することができるため、容易に剥離することができ、更に接着剤の残留が発生しない。このため、簡単に剥離でき、剥離したときの研磨定盤７１の清掃を簡略化することができるので、手間をかけることなく研磨パッド１の脱・装着の作業性を向上させることができる。 Also, with conventional polishing pads, adhesives such as double-sided tape are used for mounting on a polishing surface plate. Therefore, in order to peel off a polishing pad once mounted from the polishing surface plate, a force exceeding the adhesive strength of the adhesive is required. In some cases, the adhesive may remain on the polishing platen (glue residue) during peeling. If the adhesive remains, the remaining adhesive portion rises when a new polishing pad is mounted, so that the flatness of the surface (polishing surface) of the polishing pad is impaired. In order to avoid this, when replacing the polishing pad or reattaching it due to its life, etc., it is necessary to perform a cleaning operation to completely remove the adhesive remaining on the polishing platen. Reduces workability of installation. In contrast, the polishing pad 1 of the present embodiment can be mounted on the polishing surface plate with only water, and therefore can be easily peeled off, and no adhesive remains. For this reason, since it can peel easily and cleaning of the polishing surface plate 71 at the time of peeling can be simplified, the workability of removal | desorption and mounting | wearing of the polishing pad 1 can be improved without taking time and effort.

更に、本実施形態の研磨パッド１では、ポリウレタンシート２、６の貼り合わせに、基材４の両面に粘着剤５を塗着した両面テープ３が使用されており、この基材４にはＰＥＴ製フィルムが用いられている。このため、ポリウレタンシート２、６を個別に両面テープ３と貼り合わせることができ、貼り合わせ作業を容易に行うことができる。また、研磨定盤７１の表面が若干の歪みを有していても発泡７が形成されたナップ層２ｂが弾性を有することから、基材４を介してポリウレタンシート２が研磨定盤７１側へ押し付けられることでナップ層２ｂが変形し研磨定盤７１の歪みを緩和することができる。更に、ポリウレタンシート６のナップ層６ｂが発泡７で弾性を有するため、研磨加工時に被研磨物に略均等に当接可能とすることができる。 Furthermore, in the polishing pad 1 of the present embodiment, a double-sided tape 3 in which an adhesive 5 is applied to both surfaces of a base material 4 is used for bonding the polyurethane sheets 2 and 6. Made films are used. For this reason, the polyurethane sheets 2 and 6 can be individually bonded to the double-sided tape 3, and the bonding operation can be easily performed. Further, even if the surface of the polishing surface plate 71 has some distortion, the nap layer 2b on which the foam 7 is formed has elasticity, so that the polyurethane sheet 2 moves toward the polishing surface plate 71 through the base material 4. By being pressed, the nap layer 2b is deformed and the distortion of the polishing surface plate 71 can be reduced. Further, since the nap layer 6b of the polyurethane sheet 6 is foamed 7 and has elasticity, it can be brought into substantially uniform contact with the object to be polished during polishing.

また更に、本実施形態の研磨パッド１では、ポリウレタンシート２の装着面Ｑの背面、及び、ポリウレタンシート６の研磨面Ｐの背面がそれぞれポリウレタンシート２、６の厚さが一様となるようにバフ処理されている。このため、研磨面Ｐを含む研磨層及びスキン層２ａを損なわずにポリウレタンシート２、６の厚さがそれぞれ均一化されるので、研磨パッド１全体の厚さが略均一となる。これにより、平坦な研磨定盤７１に装着することで研磨面Ｐが略平坦となるので、スキン層６ａを使用した仕上げ研磨加工で被研磨物７８の加工表面の平坦性を向上させることができる。 Furthermore, in the polishing pad 1 of the present embodiment, the thickness of the polyurethane sheets 2 and 6 is uniform on the back surface of the mounting surface Q of the polyurethane sheet 2 and the back surface of the polishing surface P of the polyurethane sheet 6, respectively. Buffed. For this reason, since the thickness of the polyurethane sheets 2 and 6 is made uniform without impairing the polishing layer and the skin layer 2a including the polishing surface P, the thickness of the entire polishing pad 1 becomes substantially uniform. Thereby, since the polishing surface P becomes substantially flat by mounting on the flat polishing surface plate 71, the flatness of the processed surface of the workpiece 78 can be improved by the finish polishing using the skin layer 6a. .

更にまた、本実施形態の研磨パッド１では、装着面Ｑにナップ層２ｂの発泡７と連通した多孔８が形成されている。このため、スキン層２ａに水を含ませて片面研磨機７０に装着したとき、弾性を有するポリウレタンシート２が変形しナップ層２ｂの発泡７が変形する。これにより、研磨定盤７１及び研磨パッド１間にエアの咬み込みが生じても、発泡７と連通した多孔８を通じて発泡７にエアが収容される（吸い込まれる）ので、研磨定盤７１及び研磨パッド１間でのエアの貯留を防止することができる。このとき、スキン層２ａには水を含ませているため、スキン層２ａの微多孔にはエアが入り込むことができないが、多孔８では孔径が微多孔より大きいため、エアが入り込むことができる。従って、エアが貯留しないため、研磨パッド１を略平坦に装着することができると共に、研磨パッド１の装着力を高めることができるので、被研磨物７８の加工表面を平坦に研磨加工することができる。 Furthermore, in the polishing pad 1 of the present embodiment, a porous 8 communicating with the foam 7 of the nap layer 2b is formed on the mounting surface Q. For this reason, when water is included in the skin layer 2a and attached to the single-side polishing machine 70, the elastic polyurethane sheet 2 is deformed and the foam 7 of the nap layer 2b is deformed. Thus, even if air is caught between the polishing surface plate 71 and the polishing pad 1, air is accommodated (sucked) in the foam 7 through the porous 8 communicating with the foam 7. Storage of air between the pads 1 can be prevented. At this time, since water is contained in the skin layer 2a, air cannot enter into the micropores of the skin layer 2a, but air can enter into the pores 8 because the pore diameter is larger than the micropores. Accordingly, since air does not accumulate, the polishing pad 1 can be mounted substantially flat, and the mounting force of the polishing pad 1 can be increased, so that the processing surface of the workpiece 78 can be polished flatly. it can.

また、本実施形態の研磨パッド１では、ナップ層２ｂに形成された発泡７の孔径が多孔８より大きいため、スキン層２ａ及び研磨定盤７１間に咬み込まれたエアを確実に収容することができる。更に、多孔８及び発泡７を連通する連通孔の孔径が、スキン層２ａの微多孔の孔径より大きいため、咬み込まれたエアを円滑に収容することができる。また、発泡７間は連通孔で立体網目状に連通しているため、エアの咬み込み量が大きくてもナップ層２ｂに形成された発泡７の全体でエアを収容することができる。 Moreover, in the polishing pad 1 of this embodiment, since the pore diameter of the foam 7 formed in the nap layer 2b is larger than the porous 8, the air that has been bitten between the skin layer 2a and the polishing surface plate 71 is surely accommodated. Can do. Furthermore, since the hole diameter of the communication hole which connects the porous 8 and the foam 7 is larger than the microporous hole diameter of the skin layer 2a, the bitten air can be accommodated smoothly. Further, since the foams 7 communicate with each other in a three-dimensional mesh shape through communication holes, the entire foam 7 formed in the nap layer 2b can be accommodated even if the air biting amount is large.

なお、本実施形態の研磨パッド１では、軟質プラスチックシートにポリウレタン樹脂で形成したポリウレタンシート２を例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、装着面Ｑ側にスキン層２ａを有していればよい。使用可能な樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。また、ポリウレタン樹脂を用いれば、湿式成膜法で容易にスキン層２ａを形成することができ、樹脂自体の粘着性で研磨定盤７１への装着力を高めることができる。 In the polishing pad 1 of the present embodiment, the polyurethane sheet 2 formed of polyurethane resin on the soft plastic sheet is illustrated, but the present invention is not limited to this, and the skin layer 2a is provided on the mounting surface Q side. If you do. Examples of resins that can be used include polyester resins. If a polyurethane resin is used, the skin layer 2a can be easily formed by a wet film forming method, and the mounting force on the polishing surface plate 71 can be increased by the adhesiveness of the resin itself.

また、本実施形態の研磨パッド１では、研磨シートにポリウレタン樹脂を湿式成膜したポリウレタンシート６を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。本実施形態以外で用いることができる研磨シートとしては、被研磨物の表面を研磨するための研磨層を有していればよく、例えば、ポリウレタン等の樹脂を含浸した不織布等の繊維シート、樹脂を乾式成形後にシート状に切断した硬質発泡シート、無発泡の樹脂シート等を挙げることができる。更に、ポリウレタンシート６の研磨面Ｐ側にスキン層６ａを有する例を示したが、スキン層６ａをバフ処理で除去してナップ層６ｂの発泡７を開孔させるようにしてもよい。このようにすれば、研磨液中の研磨粒子を発泡７に貯留させながら研磨加工を行うことができるので、例えば、研磨量を大きくする一次研磨加工にも使用することができる。また、硬質発泡シートを用いることで、化学的機械的研磨加工（ＣｈｅｍｉｃａｌＭｅｃｈａｎｉｃａｌＰｏｌｉｓｈｉｎｇ）に使用することができる。この場合、硬質発泡シートの研磨面の内側に形成される発泡の空隙率を調整することで、弾性を有する弾性層として機能させることができる。 Moreover, in the polishing pad 1 of the present embodiment, the polyurethane sheet 6 in which the polyurethane resin is wet-formed on the polishing sheet is exemplified, but the present invention is not limited to this. As an abrasive sheet that can be used other than the present embodiment, it is sufficient if it has a polishing layer for polishing the surface of an object to be polished. For example, a fiber sheet such as a nonwoven fabric impregnated with a resin such as polyurethane, a resin Examples thereof include a hard foamed sheet, a non-foamed resin sheet, etc. cut into a sheet after dry molding. Furthermore, although the example which has the skin layer 6a in the grinding | polishing surface P side of the polyurethane sheet 6 was shown, you may make it open the foam 7 of the nap layer 6b by removing the skin layer 6a by buffing. In this way, the polishing process can be performed while the abrasive particles in the polishing liquid are stored in the foam 7, so that the polishing process can be used for, for example, a primary polishing process for increasing the polishing amount. Moreover, it can use for a chemical mechanical polishing process (Chemical Mechanical Polishing) by using a hard foam sheet. In this case, it can function as an elastic layer having elasticity by adjusting the porosity of the foam formed inside the polished surface of the hard foam sheet.

更に、本実施形態の研磨パッド１では、ポリウレタンシート２、６の貼り合わせに、基材４の両面に粘着剤５を塗着した両面テープ３を例示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、基材４、粘着剤５をそれぞれ別に準備して貼り合わせるようにしてもよい。作業の簡便性を考慮すれば、両面テープ３を使用することが好ましい。また、基材４を使用せず粘着剤５のみで貼り合わせることも可能である。この場合、図６に示すように、研磨パッド８１は、ポリウレタンシート６の研磨面Ｐの背面と、ポリウレタンシート２の装着面Ｑの背面とが粘着剤５のみで貼り合わされる。更に、ポリウレタンシート２、６の貼り合わせる面を加熱しながら貼り合わせることで粘着剤５を使用することなく樹脂自体の粘着性で貼り合わせてもよい。加熱時の温度管理で平坦性を確保しつつ貼り合わせることが可能である。このようにすれば、基材４や粘着剤５のコスト分を削減することができる。また、本実施形態では、基材４にＰＥＴ製フィルムを例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、不織布や織布等を使用してもよい。 Furthermore, in the polishing pad 1 of the present embodiment, the double-sided tape 3 in which the adhesive 5 is applied to both surfaces of the base material 4 is illustrated for bonding the polyurethane sheets 2 and 6, but the present invention is limited to this. It is not a thing. For example, the base material 4 and the pressure-sensitive adhesive 5 may be separately prepared and bonded. Considering the convenience of work, it is preferable to use the double-sided tape 3. Moreover, it is also possible to bond only with the adhesive 5 without using the base material 4. In this case, as shown in FIG. 6, in the polishing pad 81, the back surface of the polishing surface P of the polyurethane sheet 6 and the back surface of the mounting surface Q of the polyurethane sheet 2 are bonded together only with the adhesive 5. Further, the surfaces to be bonded of the polyurethane sheets 2 and 6 may be bonded together by heating with the adhesiveness of the resin itself without using the pressure-sensitive adhesive 5. It is possible to bond together while ensuring flatness by temperature control during heating. If it does in this way, the part for the cost of the base material 4 or the adhesive 5 can be reduced. Moreover, in this embodiment, although the film made from PET was illustrated for the base material 4, this invention is not limited to this, You may use a nonwoven fabric, a woven fabric, etc.

また更に、本実施形態の研磨パッド１では、ポリウレタンシート２に多孔８を形成させる孔形成剤としてセルロース誘導体を例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ポリウレタン樹脂の溶解に使用する有機溶媒に可溶性であり、凝固液に用いられる水に難溶性又は不溶性のものであればよい。このような孔形成剤としてはセルロース誘導体以外に、例えば、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ）、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニリデン／塩化ビニル共重合体、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等の高分子化合物を挙げることができ、これらの高分子化合物や上述したセルロース誘導体の２種以上を混合して使用してもよい。また、ポリウレタン樹脂溶液４５に添加するセルロース誘導体の添加量を変えることで、多孔８の孔径を調整することができる。 Furthermore, in the polishing pad 1 of the present embodiment, the cellulose derivative is exemplified as the pore-forming agent for forming the pores 8 in the polyurethane sheet 2, but the present invention is not limited to this and is used for dissolving the polyurethane resin. As long as it is soluble in an organic solvent and hardly soluble or insoluble in water used in the coagulation liquid. In addition to cellulose derivatives, such pore formers include, for example, polyacrylonitrile (PAN), polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, vinylidene chloride / vinyl chloride copolymer, polycaprolactone (PCL), polystyrene (PS), poly Examples thereof include polymer compounds such as methyl methacrylate (PMMA), and two or more of these polymer compounds and the above-described cellulose derivatives may be used in combination. Moreover, the pore diameter of the porous 8 can be adjusted by changing the amount of the cellulose derivative added to the polyurethane resin solution 45.

更にまた、本実施形態の研磨パッド１では、裏面バフ処理工程で研磨面Ｐ、装着面Ｑに圧接ローラ６５を圧接させながら背面Ｎ側を連続的にバフ処理する例を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、バフ処理前のポリウレタンシートを所望の大きさに裁断した後、研磨面Ｐ、装着面Ｑに、平坦な表面を有する平板を圧接して背面Ｎ側をバフ処理してもよい。また、本実施形態では、成膜基材４３にＰＥＴ製フィルムを使用する例を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、不織布や織布を使用してもよい。この場合には、ポリウレタン樹脂の凝固再生後に成膜基材４３を剥離することが難しいため、成膜基材４３のポリウレタン樹脂が再生された面の反対面側をバフ処理することで、厚さを均一化してもよい。 Furthermore, in the polishing pad 1 of the present embodiment, an example in which the back surface N side is continuously buffed while the pressure roller 65 is pressed against the polishing surface P and the mounting surface Q in the back surface buffing process is shown. Is not limited to this. For example, after the polyurethane sheet before buffing is cut to a desired size, a flat plate having a flat surface may be pressed against the polishing surface P and the mounting surface Q to buff the back surface N side. Moreover, although the example which uses a film made from PET for the film-forming base material 43 was shown in this embodiment, this invention is not limited to this, For example, you may use a nonwoven fabric and a woven fabric. In this case, since it is difficult to peel off the film-forming substrate 43 after the polyurethane resin is solidified and regenerated, the thickness of the film-forming substrate 43 is reduced by buffing the surface opposite to the surface on which the polyurethane resin is regenerated. May be made uniform.

また、本実施形態では、湿式成膜したポリウレタンシート２、６は、バフ機等で研磨面Ｐの背面側、装着面Ｑの背面側がバフ処理されるが、このときのバフ処理量はポリウレタンシート２、６の厚さの範囲（最大厚さと最小厚さとの差）の２倍以上の厚みをバフ処理することが望ましい。バフ処理ではサンドペーパーやダイヤモンドバフロール等の種々のものが使用されるが、均一な処理（研削除去）ができるものであればいずれも使用することができる。このとき、バフ番手（砥粒の粗さを示す番号）を高くする程、細かな砥粒で研削でき均一なバフ処理ができる。更に、バフ処理を、１回目で低いバフ番手（粗い砥粒）で研削をし、２回目で１回目より高いバフ番手のもので研削量を小さくしてバフ仕上げ処理することで、厚み精度を更に上げることもできる。また、例えば、ポリウレタンシート６に代えて、上述した研磨シートを使用することで研磨シートの厚み精度を向上させれば、ポリウレタンシート２のみをバフ処理すればよい。更に、成膜時にポリウレタン樹脂溶液４５の塗布厚さの調整精度を高めることで、ポリウレタンシート２、６の厚み精度を向上させれば、バフ処理せずにそのまま貼り合わせることも可能である。また、基材４の一面側に湿式成膜で直接ポリウレタンシート２を形成し、他面側に上述した研磨シートを貼り合わせてもよい。更に、研磨シートについても基材を含めて作製し、これら基材面同士を接着剤、両面テープ等で貼り合わせてもよい。 Further, in this embodiment, the wet-formed polyurethane sheets 2 and 6 are buffed on the back side of the polishing surface P and the back side of the mounting surface Q with a buffing machine or the like. It is desirable to buff a thickness that is twice or more the range of thicknesses 2 and 6 (difference between the maximum thickness and the minimum thickness). Various materials such as sandpaper and diamond buffol are used in the buffing, but any can be used as long as uniform processing (grinding removal) is possible. At this time, the higher the buff count (number indicating the roughness of the abrasive grains), the more fine the abrasive grains can be ground and the uniform buffing process can be performed. Furthermore, the thickness accuracy is improved by buffing with a low buff count (rough abrasive grains) at the first time, and buffing with a buff count higher than the first time with a lower buff count. It can also be raised. Further, for example, if the polishing sheet described above is used in place of the polyurethane sheet 6 to improve the thickness accuracy of the polishing sheet, only the polyurethane sheet 2 may be buffed. Furthermore, if the thickness accuracy of the polyurethane sheets 2 and 6 is improved by increasing the adjustment accuracy of the coating thickness of the polyurethane resin solution 45 at the time of film formation, the polyurethane sheets 2 and 6 can be bonded together without being buffed. Alternatively, the polyurethane sheet 2 may be directly formed on one side of the substrate 4 by wet film formation, and the above-described polishing sheet may be bonded to the other side. Further, the abrasive sheet may be prepared including the base material, and the base material surfaces may be bonded together with an adhesive, a double-sided tape, or the like.

更に、本実施形態では、ポリウレタン樹脂溶液４５の塗布にナイフコータ４６を例示したが、例えば、リバースコータ、ロールコータ等を用いてもよく、基材４３に略均一な厚さに塗布可能であれば特に制限されるものではない。また、本実施形態では、ポリウレタン樹脂の乾燥にシリンダ乾燥機５０を例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、熱風乾燥機等を用いてもよい。 Further, in this embodiment, the knife coater 46 is exemplified for the application of the polyurethane resin solution 45. However, for example, a reverse coater, a roll coater, or the like may be used. There is no particular limitation. Moreover, in this embodiment, although the cylinder dryer 50 was illustrated for drying of a polyurethane resin, this invention is not limited to this, For example, you may use a hot air dryer etc.

以下、本実施形態に従い製造した研磨パッド１の実施例について説明する。なお、比較のために製造した比較例の研磨パッドについても併記する。 Hereinafter, examples of the polishing pad 1 manufactured according to the present embodiment will be described. A comparative polishing pad manufactured for comparison is also shown.

（実施例１）
実施例１では、ポリウレタン樹脂として、ポリエステルＭＤＩ（ジフェニルメタンジイソシアネート）ポリウレタン樹脂を用いた。粘度調整用のＤＭＦの５０部、顔料のカーボンブラックを３０％含むＤＭＦ分散液の２０部を混合した。ポリウレタンシート２の作製では、セルロース誘導体としてセルロースアセテートブチレートを、ポリウレタン樹脂を３０％含むＤＭＦ溶液１００部に対して０．２部添加した。このとき、セルロースアセテートブチレートは固形物（固体）であるので、均一に混合させるために予め少量の粘度調整用のDMFで溶解して添加した。ポリウレタン樹脂溶液４５を塗布する際に塗布装置のクリアランスを１ｍｍに設定した。洗浄工程での洗浄効果を高めるために凝固再生後の洗浄を温水で行った。得られたポリウレタンシート２、６の厚さバラツキは、標準偏差σが０．０１３ｍｍであった。裏面バフ処理工程では、バフ番手♯１８０のサンドペーパーを用い、バフ処理量を０．２５ｍｍとした。ポリウレタンシート２、６を両面テープ３で貼り合わせることで実施例１の研磨パッド１を製造した。 Example 1
In Example 1, polyester MDI (diphenylmethane diisocyanate) polyurethane resin was used as the polyurethane resin. 50 parts of DMF for viscosity adjustment and 20 parts of a DMF dispersion containing 30% pigment carbon black were mixed. In the production of the polyurethane sheet 2, 0.2 parts of cellulose acetate butyrate as a cellulose derivative was added to 100 parts of a DMF solution containing 30% polyurethane resin. At this time, since cellulose acetate butyrate is a solid (solid), it was previously dissolved in a small amount of DMF for viscosity adjustment and added in order to mix uniformly. When applying the polyurethane resin solution 45, the clearance of the coating device was set to 1 mm. In order to enhance the washing effect in the washing step, washing after coagulation regeneration was performed with warm water. As for the thickness variation of the obtained polyurethane sheets 2 and 6, standard deviation (sigma) was 0.013 mm. In the back surface buffing process, sandpaper of buff count # 180 was used and the buffing amount was 0.25 mm. The polishing pad 1 of Example 1 was manufactured by bonding the polyurethane sheets 2 and 6 with the double-sided tape 3.

（実施例２）
実施例２では、両面テープ３に代えて粘着剤５のみでポリウレタンシート２、６を貼り合わせること以外は実施例１と同様にした（図６参照）。 (Example 2)
In Example 2, it replaced with the double-sided tape 3, and it carried out similarly to Example 1 except sticking together the polyurethane sheets 2 and 6 only with the adhesive 5 (refer FIG. 6).

（比較例１）
比較例１では、ポリウレタンシート６の研磨面Ｐの背面側をバフ処理せずに両面テープ３の片面を貼り合わせることで比較例１の研磨パッドを製造した。従って、比較例１の研磨パッドは、定盤への装着に両面テープ３を使用する従来の研磨パッドである。なお、両面テープ３のもう片面には剥離紙が貼付されている。 (Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, the polishing pad of Comparative Example 1 was manufactured by bonding one side of the double-sided tape 3 without buffing the back side of the polishing surface P of the polyurethane sheet 6. Therefore, the polishing pad of Comparative Example 1 is a conventional polishing pad that uses the double-sided tape 3 for mounting on a surface plate. A release paper is affixed to the other side of the double-sided tape 3.

（評価）
次に、実施例及び比較例の研磨パッドについて、厚さ及びエア貯留の有無を測定した。厚さは、ダイヤルゲージ（最小目盛り０．０１mm）を使用し加重１００ｇ／ｃｍ^２をかけて測定した。縦１ｍ×横１ｍの研磨パッド１を縦横１０ｃｍピッチで最小目盛りの１０分の１（０．００１mm）まで読み取り、厚さの平均値、標準偏差σ、及び、最大厚さと最小厚さとの差を範囲Ｒとして求めた。エア貯留の有無は、オスカー式ガラス研磨機（加工回転数：３０〜１００ｒｐｍ、加工圧力：３０〜２００ｇｆ／ｃｍ^２）を使用し、以下の方法で測定した。実施例の研磨パッド１の装着面Ｑに水をスプレで吹き付けた後、表面の水をワイパで軽く除き、表面が略平坦な直径１０００ｍｍの下定盤（研磨定盤７１）に、少量のエアを故意に咬み込ませて装着した。比較例の研磨パッドは、剥離紙を剥がし、実施例と同様にエアを咬み込ませて研磨定盤に貼り付けた。次に、直径６７０ｍｍの上定盤（加圧定盤７２）に保持パッド７５を装着し、４７０ｍｍ×３７０ｍｍ×０．７ｍｍのガラス基板を保持させた。ガラス基板を保持させた上定盤を回転させないでそのまま下降させ、ガラス基板に１００ｇｆ／ｃｍ^２の荷重がかかるように加圧した。１分後、上定盤を上昇させ、ガラス基板の加圧部分（４７０ｍｍ×３７０ｍｍ）においてエアの貯留に伴う研磨パッド１の部分的な盛り上がり状況を目視にて判定した。厚さ及びエア貯留の測定結果を下表１に示した。なお、表１において、比較例１の研磨パッドの厚さは、両面テープの剥離紙を含めて測定し、剥離紙の厚さを減算して求めた数値を示す。 (Evaluation)
Next, the thickness and presence / absence of air retention were measured for the polishing pads of the examples and comparative examples. The thickness was measured using a dial gauge (minimum scale 0.01 mm) and applying a load of 100 g / cm ² . Read the polishing pad 1 of 1 m in length and 1 m in width to 10/10 (0.001 mm) of the minimum scale at a pitch of 10 cm in length and width, and calculate the average thickness, standard deviation σ, and the difference between the maximum thickness and the minimum thickness. The range R was obtained. The presence or absence of air storage was measured by the following method using an Oscar-type glass polishing machine (processing rotation speed: 30 to 100 rpm, processing pressure: 30 to 200 gf / cm ² ). After spraying water onto the mounting surface Q of the polishing pad 1 of the embodiment with a spray, the surface water is lightly removed with a wiper, and a small amount of air is applied to the lower surface plate (polishing surface plate 71) having a substantially flat diameter of 1000 mm. It was put on purposely biting. For the polishing pad of the comparative example, the release paper was peeled off, and air was bitten in the same manner as in the example and attached to the polishing surface plate. Next, the holding pad 75 was mounted on an upper surface plate (pressure surface plate 72) having a diameter of 670 mm, and a glass substrate of 470 mm × 370 mm × 0.7 mm was held. The upper platen holding the glass substrate was lowered as it was without rotating, and pressurized so that a load of 100 gf / cm ² was applied to the glass substrate. After 1 minute, the upper surface plate was raised, and a partial rising state of the polishing pad 1 due to air storage was visually determined in the pressurized portion (470 mm × 370 mm) of the glass substrate. The thickness and air retention measurement results are shown in Table 1 below. In Table 1, the thickness of the polishing pad of Comparative Example 1 is a value obtained by measuring including the release paper of the double-sided tape and subtracting the thickness of the release paper.

表１に示すように、バフ処理していない比較例１の研磨パッドでは、厚さの範囲Ｒが０．０４９ｍｍ、標準偏差σが０．０１２ｍｍを示しており、エア貯留も認められた。このため、比較例１の研磨パッドでは厚さバラツキが大きいため、厚いところでは研磨加工が進み被研磨物に研磨パッドの厚さバラツキが転写されるので、研磨加工後の被研磨物の高度な平坦性を期待することはできない。これに対して、研磨面Ｐの背面側、装着面Ｑの背面Ｎ側をバフ処理した実施例１及び実施例２の研磨パッド１では、厚さの範囲Ｒがいずれも比較例１のポリウレタンシートより小さい数値を示し、標準偏差σがそれぞれ０．００６ｍｍ、０．００７ｍｍを示した。このことから、背面側をバフ処理することで、研磨面Ｐ、装着面Ｑを損なうことなくポリウレタンシート２、６の厚さ精度を向上させることができ、研磨パッド１全体の厚さを均一化することができることが判明した。また、実施例１、実施例２の研磨パッド１では、定盤に装着する際に、それぞれの研磨パッド１と定盤との間でエア貯留を解消することができることが判った。両面テープ（基材に塗着された接着剤は一般的には感圧型である。）で定盤に装着する比較例１の研磨パッドでは、エアの咬み込みが生じると解消することができないため、部分的な盛り上がり（凸部）が生じた。このまま研磨加工を行うと被研磨物の平坦性を損なうため、針などで孔を空けて貯留したエアを抜くか、研磨パッドの貼り直し（剥がした研磨パッドを廃棄して新しい研磨パッドに交換する。）が必要となる。 As shown in Table 1, the polishing pad of Comparative Example 1 that was not buffed showed a thickness range R of 0.049 mm, a standard deviation σ of 0.012 mm, and air storage was also observed. For this reason, since the thickness variation of the polishing pad of Comparative Example 1 is large, the polishing process proceeds and the thickness variation of the polishing pad is transferred to the object to be polished. Flatness cannot be expected. On the other hand, in the polishing pad 1 of Example 1 and Example 2 in which the back side of the polishing surface P and the back side N of the mounting surface Q are buffed, the polyurethane sheet of Comparative Example 1 has a thickness range R. Smaller numerical values were shown, and standard deviations σ were 0.006 mm and 0.007 mm, respectively. Therefore, by buffing the back side, the thickness accuracy of the polyurethane sheets 2 and 6 can be improved without impairing the polishing surface P and the mounting surface Q, and the entire thickness of the polishing pad 1 can be made uniform. It turns out that you can. Moreover, in the polishing pad 1 of Example 1 and Example 2, when mounting on a surface plate, it turned out that air storage can be eliminated between each polishing pad 1 and a surface plate. In the polishing pad of Comparative Example 1 attached to the surface plate with a double-sided tape (the adhesive applied to the base material is generally a pressure-sensitive type), it cannot be eliminated when the air bites occur. Partial swell (convex part) occurred. If the polishing process is carried out as it is, the flatness of the object to be polished will be impaired. Therefore, the air accumulated by opening a hole with a needle or the like is removed, or the polishing pad is reapplied (the removed polishing pad is discarded and replaced with a new polishing pad). .)Is required.

また、比較例１の研磨パッドでは、定盤への装着に両面テープを用いるため、貼り直すとしわが生じてしまい、平坦に装着するのに手間がかかった。比較例１の研磨パッドを交換するときに、定盤に接着剤の残留が認められ、この残留した接着剤を剥がし取る作業にも手間を要した。これに対して、実施例１、実施例２の研磨パッド１では、装着に水のみを用いるため、貼り直しをしても容易に平坦に装着することができた。実施例１、実施例２の研磨パッド１を交換するときでも残った水分を拭き取るだけで、ほとんど手間がかからなかった。更に、実施例１、実施例２の研磨パッド１を用い、オスカー式ガラス研磨機でガラス基板の研磨加工を行った結果、研磨加工中に研磨定盤からの研磨パッド１の剥離が認められなかった。従って、ポリウレタンシート２、６を貼り合わせた研磨パッド１では、スキン層２ａに含ませた水の作用で、定盤に容易かつ確実に装着することができ、装着の作業性を向上させることができることが判明した。 Moreover, in the polishing pad of Comparative Example 1, since double-sided tape was used for mounting on the surface plate, wrinkles occurred when it was re-applied, and it took time and effort to mount it flat. When the polishing pad of Comparative Example 1 was replaced, the adhesive remained on the surface plate, and it took time and effort to peel off the remaining adhesive. On the other hand, in the polishing pad 1 of Example 1 and Example 2, since only water was used for mounting, it was possible to easily mount it flatly even if it was attached again. Even when the polishing pad 1 of Example 1 and Example 2 was replaced, only the remaining water was wiped off, and it took little effort. Furthermore, as a result of polishing the glass substrate with an Oscar type glass polishing machine using the polishing pad 1 of Example 1 and Example 2, peeling of the polishing pad 1 from the polishing surface plate was not observed during the polishing process. It was. Therefore, the polishing pad 1 to which the polyurethane sheets 2 and 6 are bonded can be easily and surely attached to the surface plate by the action of water contained in the skin layer 2a, and the workability of the attachment can be improved. It turns out that you can.

本発明は定盤に容易に装着可能で装着の作業性を向上させることができる研磨布を提供するため、研磨布の製造、販売に寄与するので、産業上の利用可能性を有する。 Since the present invention provides an abrasive cloth that can be easily attached to a surface plate and can improve the workability of the attachment, it contributes to the manufacture and sale of the abrasive cloth, and thus has industrial applicability.

本発明を適用した実施形態の研磨パッドを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the polishing pad of embodiment to which this invention is applied. 研磨パッドの製造工程を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing process of a polishing pad. 研磨パッドのポリウレタンシートの製造に用いる成膜装置の概略構成を示す正面図である。It is a front view which shows schematic structure of the film-forming apparatus used for manufacture of the polyurethane sheet of a polishing pad. 裏面バフ処理工程でのポリウレタンシートの変化を示す断面図であり、（Ａ）は成膜基材に形成されたポリウレタンシート、（Ｂ）は圧接ローラに装着面を圧接したときのポリウレタンシート、（Ｃ）は裏面バフ処理後のポリウレタンシートをそれぞれ示す。It is sectional drawing which shows the change of the polyurethane sheet in a back surface buff processing process, (A) is a polyurethane sheet formed in the film-forming base material, (B) is a polyurethane sheet when the mounting surface is pressed against the pressure roller, C) shows the polyurethane sheet after the back surface buffing. 研磨パッドを装着した片面研磨機の装着部分を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the mounting part of the single-side polisher which mounted | wore with the polishing pad. 本発明を適用した実施例２の研磨パッドを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the polishing pad of Example 2 to which this invention is applied.

Explanation of symbols

Ｐ研磨面
Ｑ装着面
１研磨パッド（研磨布）
２ポリウレタンシート（軟質プラスチックシート）
２ａスキン層（表面層）
２ｂナップ層
４ＰＥＴ製フィルム
５粘着剤
６ポリウレタンシート（研磨シート） P Polishing surface Q Mounting surface 1 Polishing pad (polishing cloth)
2 Polyurethane sheet (soft plastic sheet)
2a Skin layer (surface layer)
2b Nap layer 4 PET film 5 Adhesive 6 Polyurethane sheet (polishing sheet)

Claims

In a polishing cloth having a polishing layer for polishing an object to be polished on one side and mounted on a surface plate on the other side, the polishing cloth includes a polishing sheet having the polishing layer and a skin formed by wet film formation are bonded is back to back of the soft plastic sheet having a layer, the polishing cloth surface side of the skin layer and wherein Rukoto is mounted on the surface plate.

The polishing cloth according to claim 1, wherein the back surfaces of the polishing sheet and the soft plastic sheet are bonded to each other with an adhesive member having a base material and an adhesive disposed on both surfaces of the base material. .

The soft plastic sheet, the polishing cloth according to claim 1 or claim 2, characterized in that it has a foamed layer on the inside of the skin layer.

The soft plastic sheet is characterized in that a pore is further formed on the surface of the skin layer during wet film formation by a pore-forming agent, and the pore communicates with the foam formed in the foam layer. The abrasive cloth according to claim 3.

2. The polishing cloth according to claim 1, wherein, of the polishing sheet and the soft plastic sheet, at least a back side of the soft plastic sheet is buffed so as to have a uniform thickness.

The polishing cloth according to any one of claims 1 to 5, wherein the polishing sheet has an elastic layer that imparts elasticity to the polishing cloth inside the polishing layer.