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JP4496766B2 - Method for forming protective layer and method for manufacturing optical information medium - Google Patents

Method for forming protective layer and method for manufacturing optical information medium Download PDF

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JP4496766B2 JP2003393480A JP2003393480A JP4496766B2 JP 4496766 B2 JP4496766 B2 JP 4496766B2 JP 2003393480 A JP2003393480 A JP 2003393480A JP 2003393480 A JP2003393480 A JP 2003393480A JP 4496766 B2 JP4496766 B2 JP 4496766B2
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Description

本発明は、表面の防汚性及び潤滑性を必要とする各種物体の分野において、これら諸性能を具備する保護層の形成方法に関する。前記保護層は、各種物体表面に耐擦傷性及び耐摩耗性をも付与するために、通常は適度な硬度を有するハードコート層として形成されることが多い。   The present invention relates to a method for forming a protective layer having these various performances in the field of various objects requiring antifouling properties and lubricity of the surface. The protective layer is usually formed as a hard coat layer having an appropriate hardness in order to impart scratch resistance and abrasion resistance to various object surfaces.

特に、本発明は、再生専用光ディスク、光記録ディスク、光磁気記録ディスク等の光情報媒体の製造方法に関し、より詳しくは、記録及び/又は再生ビーム入射側表面にハードコート層を有し、前記表面の防汚性及び潤滑性に優れると共に耐擦傷性及び耐摩耗性にも優れる光情報媒体の製造方法に関する。   In particular, the present invention relates to a method for producing an optical information medium such as a read-only optical disc, an optical recording disc, or a magneto-optical recording disc, and more specifically, has a hard coat layer on the recording and / or reproducing beam incident side surface, The present invention relates to a method for producing an optical information medium having excellent antifouling properties and lubricity on the surface, and excellent scratch resistance and wear resistance.

表面の防汚性及び潤滑性を必要とされる各種の物体、例えば、CD(Compact Disk)、DVD(Digital Versatile Disk)、 Blu-ray Disc などの光情報媒体、光学レンズ、光学フィルター、反射防止膜、及び液晶ディスプレー、CRTディスプレー、プラズマディスプレー、ELディスプレー等の各種表示素子の表面には、通常保護層(ハードコート層)が付与されている。   Various objects that require antifouling and lubrication on the surface, such as optical information media such as CD (Compact Disk), DVD (Digital Versatile Disk), Blu-ray Disc, optical lens, optical filter, antireflection A protective layer (hard coat layer) is usually provided on the surface of various display elements such as a film and a liquid crystal display, a CRT display, a plasma display, an EL display and the like.

これら各種物体の表面には、その使用に際して各種汚染物質による汚染や指紋の付着が起こる。これら汚染や指紋の付着は好ましいことではなく、物体表面に、防汚性の改善、指紋付着性の減少、又は指紋除去性の向上のために適切な表面処理が施されることもある。特に、光情報媒体表面への汚染や指紋の付着は記録/再生特性に悪影響を及ぼすことがあり、好ましくない。そのため、例えば、光情報媒体表面に種々の撥水・撥油処理を施すことが検討されている。   On the surfaces of these various objects, contamination by various contaminants and adhesion of fingerprints occur during use. Such contamination and adhesion of fingerprints are not preferable, and an appropriate surface treatment may be applied to the surface of the object in order to improve antifouling properties, reduce fingerprint adhesion, or improve fingerprint removability. In particular, contamination or fingerprint attachment on the surface of an optical information medium may adversely affect recording / reproducing characteristics, which is not preferable. For this reason, for example, various water and oil repellent treatments have been studied on the surface of optical information media.

また、光情報媒体の表面の耐擦傷性を向上させるために、透明で且つ耐擦傷性を有するハードコートを媒体の記録及び/又は再生ビーム入射側表面に形成することが一般的に行われている。ハードコートの形成は、分子中に(メタ)アクリロイル基等の重合性官能基を2個以上有する活性エネルギー線重合硬化性化合物を媒体表面に塗布し、これを紫外線等の活性エネルギー線の照射により硬化させることにより行われる。しかしながら、このようなハードコートは耐擦傷性の向上のみを目的とするため、塵埃や大気中のオイルミスト、又は指紋汚れ等の汚染物質に対する防汚効果を期待することはできない。   Further, in order to improve the scratch resistance of the surface of the optical information medium, it is generally performed to form a transparent and scratch-resistant hard coat on the recording and / or reproducing beam incident side surface of the medium. Yes. The hard coat is formed by applying an active energy ray polymerization curable compound having two or more polymerizable functional groups such as (meth) acryloyl groups in the molecule to the surface of the medium, and irradiating it with active energy rays such as ultraviolet rays. This is done by curing. However, since such a hard coat is intended only to improve the scratch resistance, it cannot be expected to have an antifouling effect against contaminants such as dust, oil mist in the atmosphere, or fingerprint stains.

有機汚れに対する防汚性を有するハードコートとしては、例えば、特開平10−110118号公報に、ハードコート剤中に非架橋型のフッ素系界面活性剤を練り込むことが提案されている。非架橋型フッ素系界面活性剤は重合性二重結合を有さずハードコート剤のベース樹脂とは架橋しない。   As a hard coat having an antifouling property against organic stains, for example, JP-A-10-110118 proposes kneading a non-crosslinked fluorosurfactant into a hard coat agent. The non-crosslinked fluorosurfactant has no polymerizable double bond and does not crosslink with the base resin of the hard coat agent.

また、特開平11−293159号公報には、ハードコート剤中に非架橋型フッ素系界面活性剤と架橋型フッ素系界面活性剤の両者を練り込むことが提案されている。架橋型フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート等のフッ素化アルキル(メタ)アクリレートが挙げられている。このような架橋型フッ素系界面活性剤は重合性二重結合を有しハードコート剤のベース樹脂と架橋し固定される。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-293159 proposes to incorporate both a non-crosslinked fluorine-based surfactant and a crosslinked fluorine-based surfactant into a hard coat agent. Examples of the crosslinkable fluorosurfactant include fluorinated alkyl (meth) acrylates such as perfluorooctylethyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, and octafluoropentyl (meth) acrylate. Such a cross-linkable fluorosurfactant has a polymerizable double bond and is cross-linked and fixed to the base resin of the hard coat agent.

特開平11−213444号公報には、従来のポリカーボネート等の光ディスク基板表面にフッ素系ポリマーを塗布することが開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-213444 discloses that a fluoropolymer is applied to the surface of a conventional optical disk substrate such as polycarbonate.

特開2002−190136号公報には、ハードコート中にシリカ微粒子等の金属カルコゲナイド微粒子を含有させ、ハードコートの耐擦傷性を向上させ、さらにハードコート上に、撥水性又は撥油性基を含むシランカップリング剤の膜を設け、光情報媒体表面の防汚性を向上させることが開示されている。   In JP-A-2002-190136, metal chalcogenide fine particles such as silica fine particles are contained in a hard coat to improve the scratch resistance of the hard coat, and further, a silane containing a water repellent or oil repellent group on the hard coat. It is disclosed that a film of a coupling agent is provided to improve the antifouling property on the surface of the optical information medium.

ところで、光情報媒体表面を低摩擦係数化すると、硬い突起物が接触した際の衝撃を滑らせて逃がすことができるため、擦過傷の発生を抑制することができる。従って、ハードコート表面を低摩擦係数化して、耐擦傷性をより向上させることが望まれる。特に、最近、記録/再生レーザ光を集束するための対物レンズの開口数(NA)を0.85程度まで大きくすると共に、記録/再生レーザー光の波長λを400nm程度まで短くすることによってレーザー光の集光スポット径を小さくし、これによりDVDの4倍以上の記録容量を達成した Blu-ray Disc が製品化された。このように高NA化を図ると、対物レンズと光情報媒体の表面との作動距離(ワーキング・ディスタンス)が小さくなり(例えば、NA=0.85程度に設定した場合、ワーキング・ディスタンスは100μm程度と従来に比べて著しく狭くなる)、光情報媒体の回転中に、光情報媒体の表面と対物レンズやこれを支持する支持体とが接触を起こす可能性が非常に高くなる。従って、ハードコート表面の耐摩耗性を高めると同時に、低摩擦係数化することが求められる。   By the way, when the surface of the optical information medium is made to have a low friction coefficient, it is possible to slide and release an impact when a hard projection comes into contact, and thus it is possible to suppress the occurrence of scratches. Accordingly, it is desired to improve the scratch resistance by reducing the friction coefficient of the hard coat surface. In particular, recently, by increasing the numerical aperture (NA) of the objective lens for focusing the recording / reproducing laser beam to about 0.85 and reducing the wavelength λ of the recording / reproducing laser beam to about 400 nm, the laser beam Blu-ray Disc has been commercialized, which has a smaller condensing spot diameter and achieves a recording capacity more than four times that of DVD. When the NA is increased in this way, the working distance (working distance) between the objective lens and the surface of the optical information medium is reduced (for example, when NA = 0.85 is set, the working distance is about 100 μm). In this case, there is a very high possibility that the surface of the optical information medium and the objective lens and the support that supports the optical information medium come into contact with each other during the rotation of the optical information medium. Therefore, it is required to increase the wear resistance of the hard coat surface and at the same time reduce the friction coefficient.

特開2002−245672号公報には、基板、記録層、保護層及びハードコート層がこの順に積層された光ディスクであって、ハードコート層が、コロイダルシリカ微粒子及び有機シラン化合物の加水分解生成物を縮合反応して得られる有機被覆シリカ、エチレン性不飽和化合物、スリップ剤、及び光重合開始剤を含む組成物の硬化物層である光ディスクが開示されている。ハードコート層の硬化は、紫外線照射により行われている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-245672 discloses an optical disc in which a substrate, a recording layer, a protective layer, and a hard coat layer are laminated in this order, and the hard coat layer contains colloidal silica fine particles and a hydrolysis product of an organosilane compound. An optical disc is disclosed which is a cured layer of a composition comprising an organic coated silica obtained by a condensation reaction, an ethylenically unsaturated compound, a slip agent, and a photopolymerization initiator. The hard coat layer is cured by ultraviolet irradiation.

特開平10−110118号公報JP-A-10-110118 特開平11−293159号公報JP-A-11-293159 特開平11−213444号公報JP 11-213444 A 特開2002−190136号公報JP 2002-190136 A 特開2002−245672号公報JP 2002-245672 A

しかしながら、上記の従来技術では、ハードコートの防汚性の耐久性が低いこと、硬度が低いこと等の物性的な問題点や、製造コストが高くなる問題点があった。   However, the above-described conventional techniques have problems with physical properties such as low antifouling durability of the hard coat and low hardness, and high manufacturing costs.

そこで、本発明の目的は、記録及び/又は再生ビーム入射側表面の防汚性及び潤滑性に優れると共に耐擦傷性及び耐摩耗性にも優れる光情報媒体の製造方法を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing an optical information medium that is excellent in antifouling properties and lubricity on the recording and / or reproducing beam incident side surface, and also excellent in scratch resistance and wear resistance.

また、本発明の目的は、各種物体表面の防汚性及び潤滑性に優れる保護層ないしはハードコート層の形成方法にも関する。   The object of the present invention also relates to a method for forming a protective layer or a hard coat layer having excellent antifouling properties and lubricity on the surfaces of various objects.

本発明者らは、鋭意検討した結果、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、前記(A)以外の活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含む未硬化のハードコート層を、紫外線照射及びその後の電子線照射によって硬化させることによって、硬度を維持しつつ防汚性及び潤滑性に優れ、特に防汚性の耐久性に優れるハードコート層が得られることを見いだした。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that an active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) and an active energy ray-curable compound (B) other than the above (A) are not contained. By curing the cured hard coat layer by ultraviolet irradiation and subsequent electron beam irradiation, it is possible to obtain a hard coat layer having excellent antifouling properties and lubricity while maintaining hardness, and particularly excellent antifouling durability. I found out.

本発明には、以下の発明が含まれる。
(1) 保護層を付与すべき対象物体上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、前記(A)以外の活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含む保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程と、
未硬化の保護層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化した保護層を形成する硬化工程とを含む、対象物体上に保護層を形成する方法であって、
前記保護層用組成物は、前記組成物中の不揮発分100重量部に対して、前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)0.01重量部以上3重量部以下を含むものであり、
前記保護層用組成物に含まれる前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)は、シリコーン系基及び/又はフッ素系基を有する部位と、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基とを有し、且つ、分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものであり、
前記保護層用組成物に含まれる活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基を有するものである、対象物体上に保護層を形成する方法。
(2) 前記保護層用組成物は、さらに、平均粒子径5nm以上100nm以下の無機微粒子(C)を含む、(1) に記載の対象物体上に保護層を形成する方法。
(3) 前記保護層用組成物は、前記活性エネルギー線硬化性化合物(B)100重量部に対して、前記無機微粒子(C)5重量部以上500重量部以下を含む、(2) に記載の対象物体上に保護層を形成する方法。
(4) 前記保護層用組成物は非反応性有機溶剤をさらに含むものであり、
前記保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程の後、前記非反応性有機溶剤を加熱乾燥により除去する工程を行い、その後、硬化工程を行う、(1) 〜(3) のうちのいずれかに記載の対象物体上に保護層を形成する方法。
(5) 硬化工程において、電子線照射における電子線の加速電圧は20〜100kVである、(1) 〜(4) のうちのいずれかに記載の対象物体上に保護層を形成する方法。
(6) 硬化後の保護層は、厚さ0.5μm以上5μm以下である、(1) 〜(5) のうちのいずれかに記載の対象物体上に保護層を形成する方法。
The present invention includes the following inventions.
(1) An active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) and an active energy ray-curable compound (B) other than the above (A) on a target object to which a protective layer is to be applied; An application step of forming an uncured protective layer by applying a protective layer composition comprising:
A method of forming a protective layer on a target object, comprising: irradiating an uncured protective layer with ultraviolet light, and then irradiating an electron beam to form a cured protective layer ;
The composition for a protective layer contains 0.01 part by weight or more and 3 parts by weight or less of the silicone compound and / or the fluorine compound (A) with respect to 100 parts by weight of the nonvolatile content in the composition. Yes,
The silicone compound and / or the fluorine compound (A) contained in the protective layer composition comprises a silicone group and / or a fluorine group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and a mercapto group. Having at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of, and having two or more active energy ray reactive groups in the molecule,
The active energy ray-curable compound (B) contained in the protective layer composition has at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a vinyl group and a mercapto group. A method for forming a protective layer on a target object.
(2) The method for forming a protective layer on the target object according to (1), wherein the composition for a protective layer further contains inorganic fine particles (C) having an average particle diameter of 5 nm to 100 nm.
(3) The composition for a protective layer contains 5 to 500 parts by weight of the inorganic fine particles (C) with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable compound (B). A method for forming a protective layer on a target object.
(4) The protective layer composition further comprises a non-reactive organic solvent,
After the coating step of applying the protective layer composition to form an uncured protective layer, performing a step of removing the non-reactive organic solvent by heating and drying, and then performing a curing step, (1) to (3) A method for forming a protective layer on a target object according to any one of (3).
(5) The method for forming a protective layer on the target object according to any one of (1) to (4), wherein in the curing step, the acceleration voltage of the electron beam in electron beam irradiation is 20 to 100 kV.
(6) The method for forming a protective layer on the target object according to any one of (1) to (5), wherein the protective layer after curing has a thickness of 0.5 μm or more and 5 μm or less.

(7) 支持基体上に少なくとも情報層を含む1層又は複数層から構成される膜体を有し、前記支持基体側及び前記膜体側のうちの記録及び/又は再生ビーム入射側とされる側の上に保護層を有する光情報媒体の製造方法であって、
前記支持基体側及び前記膜体側のうちの記録及び/又は再生ビーム入射側とされる側の上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、前記(A)以外の活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含む保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程と、
未硬化の保護層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化した保護層を形成する硬化工程とを含み、
前記保護層用組成物は、前記組成物中の不揮発分100重量部に対して、前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)0.01重量部以上3重量部以下を含むものであり、
前記保護層用組成物に含まれる前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)は、シリコーン系基及び/又はフッ素系基を有する部位と、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基とを有し、且つ、分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものであり、
前記保護層用組成物に含まれる活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基を有するものである、光情報媒体の製造方法。
光情報媒体における保護層は、いわゆるハードコート層を意味する。
(7) A film body composed of one or more layers including at least an information layer on a support substrate, and the side to be used as a recording and / or reproduction beam incident side of the support substrate side and the film body side A method for producing an optical information medium having a protective layer thereon,
An active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) on the support substrate side and the film body side on the recording and / or reproduction beam incident side, and (A ) Other than the active energy ray-curable compound (B), a coating step of coating a protective layer composition to form an uncured protective layer;
Irradiating ultraviolet radiation on a protective layer of uncured, then irradiated with an electron beam, viewed contains a curing step to form a cured protective layer,
The composition for a protective layer contains 0.01 part by weight or more and 3 parts by weight or less of the silicone compound and / or the fluorine compound (A) with respect to 100 parts by weight of the nonvolatile content in the composition. Yes,
The silicone compound and / or the fluorine compound (A) contained in the protective layer composition comprises a silicone group and / or a fluorine group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and a mercapto group. Having at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of, and having two or more active energy ray reactive groups in the molecule,
The active energy ray-curable compound (B) contained in the protective layer composition has at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a vinyl group and a mercapto group. A method of manufacturing an optical information medium.
The protective layer in the optical information medium means a so-called hard coat layer.

(8) 前記保護層用組成物は、さらに、平均粒子径5nm以上100nm以下の無機微粒子(C)を含む、(7) に記載の光情報媒体の製造方法。 (8) The method for producing an optical information medium according to (7) , wherein the protective layer composition further comprises inorganic fine particles (C) having an average particle diameter of 5 nm to 100 nm.

(9) 前記保護層用組成物は、前記活性エネルギー線硬化性化合物(B)100重量部に対して、前記無機微粒子(C)5重量部以上500重量部以下を含む、(8) に記載の光情報媒体の製造方法。
(10) 前記保護層用組成物は非反応性有機溶剤をさらに含むものであり、
前記保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程の後、前記非反応性有機溶剤を加熱乾燥により除去する工程を行い、その後、硬化工程を行う、(7) 〜(9) のうちのいずれかに記載の光情報媒体の製造方法。
(9) The protective layer composition to the active energy ray-curable compound (B) 100 parts by weight, including the inorganic fine particles (C) 5 parts by weight to 500 parts by weight or less, according to (8) Manufacturing method of optical information medium.
(10) The protective layer composition further comprises a non-reactive organic solvent,
After the coating step of applying the protective layer composition to form an uncured protective layer, performing a step of removing the non-reactive organic solvent by heating and drying, and then performing a curing step, (7) to (9) The method for producing an optical information medium according to any one of (9).

(11) 硬化工程において、電子線照射における電子線の加速電圧は20〜100kVである、(7) 〜(10)のうちのいずれかに記載の光情報媒体の製造方法。 (11) The method for producing an optical information medium according to any one of (7) to (10) , wherein in the curing step, an acceleration voltage of the electron beam in electron beam irradiation is 20 to 100 kV.

(12) 硬化後の保護層は、厚さ0.5μm以上5μm以下である、(7) 〜(11)のうちのいずれかに記載の光情報媒体の製造方法。 (12) The method for producing an optical information medium according to any one of (7) to (11) , wherein the protective layer after curing has a thickness of 0.5 μm to 5 μm.

本発明の光情報媒体の製造方法は、光情報媒体の層構成によって、以下の形態を含んでいる。   The optical information medium manufacturing method of the present invention includes the following modes depending on the layer structure of the optical information medium.

1.支持基体上に少なくとも情報層、光透過層及びハードコート層(保護層)をこの順で有する光情報媒体の製造方法であって、
支持基体上に、情報層を形成する工程と、
情報層上に、光透過層を形成する工程と、
光透過層上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含むハードコート層用組成物を塗布して未硬化のハードコート層を形成する塗布工程と、
未硬化のハードコート層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化したハードコート層を形成する硬化工程とを含む、光情報媒体の製造方法。
この光情報媒体は、ハードコート層及び光透過層側が記録及び/又は再生ビーム入射側とされる。
1. A method for producing an optical information medium having at least an information layer, a light transmission layer, and a hard coat layer (protective layer) in this order on a support substrate,
Forming an information layer on a support substrate;
Forming a light transmission layer on the information layer;
On the light-transmitting layer, a hard coat layer composition containing an active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) and an active energy ray-curable compound (B) is applied and uncured. An application process for forming a hard coat layer of
A curing step of irradiating an uncured hard coat layer with ultraviolet light and then irradiating an electron beam to form a cured hard coat layer.
In this optical information medium, the hard coat layer and the light transmission layer side are the recording and / or reproduction beam incident side.

2.光透過性支持基体の一方の面上に少なくとも情報層及び樹脂層をこの順で有し、支持基体の他方の面上にハードコート層(保護層)を有する光情報媒体の製造方法であって、
支持基体の一方の面上に、情報層を形成する工程と、
情報層上に、樹脂層を形成する工程と、
支持基体の他方の面上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含むハードコート層用組成物を塗布して未硬化のハードコート層を形成する塗布工程と、
未硬化のハードコート層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化したハードコート層を形成する硬化工程とを含む、光情報媒体の製造方法。
この光情報媒体は、ハードコート層及び支持基体側が記録及び/又は再生ビーム入射側とされる。
2. A method for producing an optical information medium having at least an information layer and a resin layer in this order on one surface of a light-transmitting support substrate, and having a hard coat layer (protective layer) on the other surface of the support substrate. ,
Forming an information layer on one side of the support substrate;
Forming a resin layer on the information layer;
On the other surface of the support substrate, a hard coat layer composition containing an active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) and an active energy ray curable compound (B) is applied. And an application process for forming an uncured hard coat layer,
A curing step of irradiating an uncured hard coat layer with ultraviolet light and then irradiating an electron beam to form a cured hard coat layer.
In this optical information medium, the hard coat layer and the supporting substrate side are the recording and / or reproducing beam incident side.

本発明によれば、記録及び/又は再生ビーム入射側表面の防汚性及び潤滑性に優れると共に耐擦傷性及び耐摩耗性にも優れる光情報媒体、特に記録及び/又は再生ビーム入射側表面の防汚性の耐久性に優れる光情報媒体が製造される。   According to the present invention, an optical information medium excellent in antifouling property and lubricity on the recording and / or reproducing beam incident side surface and excellent in scratch resistance and wear resistance, particularly on the recording and / or reproducing beam incident side surface. An optical information medium excellent in antifouling durability is produced.

また、本発明によれば、各種物体表面に、防汚性及び潤滑性に優れる保護層ないしはハードコート層が形成される。   Further, according to the present invention, a protective layer or a hard coat layer having excellent antifouling properties and lubricity is formed on the surfaces of various objects.

図面を参照して、本発明の光情報媒体(以下、光ディスクと略記することがある)の製造方法について説明する。   A method for producing an optical information medium (hereinafter sometimes abbreviated as “optical disk”) of the present invention will be described with reference to the drawings.

1.ハードコート層及び光透過層側が記録/再生ビーム入射側とされる光情報媒体の製造方法:
図1は、本発明において製造される光ディスクの層構成の一例を示す概略断面図である。この光ディスクは記録媒体であり、比較的剛性の高い支持基体(20)上に情報層としての記録層(4) を有し、記録層(4) 上に光透過層(7) を有し、光透過層(7) 上に光透過性ハードコート層(8) を有する。ハードコート層(8) が記録/再生ビーム入射側とされ、記録又は再生のためのレーザービームはハードコート層(8) 及び光透過層(7) を通して記録層(4) に入射する。光透過層(7) の厚さは、好ましくは10〜300μm、より好ましくは70〜150μmである。このような光ディスクは、例えば Blu-ray Disc である。光ディスクとしてハードコート層(8) は、鉛筆硬度試験でH以上の硬さを有することが好ましい。
1. Manufacturing method of optical information medium in which hard coat layer and light transmission layer side are recording / reproducing beam incident side:
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a layer structure of an optical disc manufactured in the present invention. This optical disk is a recording medium, and has a recording layer (4) as an information layer on a support base (20) having a relatively high rigidity, and a light transmission layer (7) on the recording layer (4). A light-transmitting hard coat layer (8) is provided on the light-transmitting layer (7). The hard coat layer (8) is the recording / reproducing beam incident side, and a laser beam for recording or reproducing is incident on the recording layer (4) through the hard coat layer (8) and the light transmission layer (7). The thickness of the light transmission layer (7) is preferably 10 to 300 μm, more preferably 70 to 150 μm. Such an optical disc is, for example, a Blu-ray Disc. As the optical disc, the hard coat layer (8) preferably has a hardness of H or more in a pencil hardness test.

なお、図示されていないが、記録層(4) の上にスペーサー層を介して更に記録層が設けられ、2層以上の記録層を有する光ディスクも、本発明に含まれる。この場合には、光ディスクは、支持基体(20)から最も遠い記録層の上に、光透過層(7) 及びハードコート層(8) を有する。   Although not shown, an optical disc having two or more recording layers in which a recording layer is further provided on the recording layer (4) via a spacer layer is also included in the present invention. In this case, the optical disc has a light transmission layer (7) and a hard coat layer (8) on the recording layer farthest from the support base (20).

本発明は、記録層の種類によらず適用できる。すなわち、例えば、相変化型記録媒体であっても、ピット形成タイプの記録媒体であっても、光磁気記録媒体であっても適用できる。なお、通常は、記録層の少なくとも一方の側に、記録層の保護や光学的効果を目的として誘電体層や反射層が設けられるが、図1では図示が省略されている。本発明において、情報層とは、少なくとも記録層を含み、必要に応じて形成される誘電体層や反射層をも含む意味である。また、本発明は、図示するような記録可能タイプに限らず、再生専用タイプにも適用可能である。その場合、支持基体(20)と一体的にピット列が形成され、そのピット列を被覆する反射層(金属層又は誘電体多層膜)が、情報層を構成する。   The present invention can be applied regardless of the type of the recording layer. That is, for example, it can be applied to a phase change recording medium, a pit formation type recording medium, and a magneto-optical recording medium. Normally, a dielectric layer and a reflective layer are provided on at least one side of the recording layer for the purpose of protecting the recording layer and optical effects, but the illustration is omitted in FIG. In the present invention, the information layer means that it includes at least a recording layer and also includes a dielectric layer and a reflective layer formed as necessary. Further, the present invention is not limited to the recordable type as shown in the figure, but can be applied to a reproduction-only type. In that case, a pit row is formed integrally with the support substrate (20), and a reflective layer (metal layer or dielectric multilayer film) covering the pit row forms an information layer.

本発明において、相変化型記録媒体の場合の光情報媒体、及びその製造方法について説明する。
図2は、本発明において製造される光ディスクの層構成の一例を示す概略断面図である。図2において、光ディスクは、支持基体(20)の情報ピットやグルーブ等の微細凹凸が形成されている側の面上に、反射層(3) 、第2誘電体層(52)、相変化記録材料層(4) 及び第1誘電体層(51)をこの順で有し、第1誘電体層(51)上に光透過層(7) を有し、光透過層(7) 上にハードコート層(8) を有する。この例では、反射層(3) 、第2誘電体層(52)、相変化記録材料層(4) 及び第1誘電体層(51)が情報層を構成する。また、前記情報層及び光透過層(7) が、記録又は再生のために必要な膜体を構成する。この光ディスクは、ハードコート層(8) 及び光透過層(7) を通して、すなわち、膜体側から、記録又は再生のためのレーザービームが入射するように使用される。
In the present invention, an optical information medium in the case of a phase change recording medium and a manufacturing method thereof will be described.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the optical disk manufactured in the present invention. In FIG. 2, the optical disk has a reflective layer (3), a second dielectric layer (52), and phase change recording on the surface of the support base (20) on which fine irregularities such as information pits and grooves are formed. It has a material layer (4) and a first dielectric layer (51) in this order, a light transmission layer (7) on the first dielectric layer (51), and a hard layer on the light transmission layer (7). It has a coat layer (8). In this example, the reflective layer (3), the second dielectric layer (52), the phase change recording material layer (4) and the first dielectric layer (51) constitute an information layer. The information layer and the light transmission layer (7) constitute a film body necessary for recording or reproduction. This optical disk is used so that a laser beam for recording or reproduction enters through the hard coat layer (8) and the light transmission layer (7), that is, from the film body side.

支持基体(20)は、厚さ0.3〜1.6mm、好ましくは厚さ0.4〜1.3mmであり、記録層(4) が形成される側の面に、情報ピットやグルーブ等の微細な凹凸が形成されている。   The support base (20) has a thickness of 0.3 to 1.6 mm, preferably 0.4 to 1.3 mm. On the surface on which the recording layer (4) is formed, information pits, grooves, etc. The fine irregularities are formed.

支持基体(20)としては、上記のようにハードコート層(8) 及び光透過層(7) を通してレーザー光が入射するように使用されるので光学的に透明である必要はないが、透明な材料としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂、ポリオレフィン樹脂等の各種プラスチック材料等が使用できる。あるいは、ガラス、セラミックス、金属等を用いても良い。凹凸パターンは、プラスチック材料を用いる場合には、射出成形することにより作成されることが多く、プラスチック材料以外の場合には、フォトポリマー法(2P法)によって成形される。   The support substrate (20) is used so that the laser beam is incident through the hard coat layer (8) and the light transmission layer (7) as described above, but it is not necessary to be optically transparent. As the material, polycarbonate resin, acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), various plastic materials such as polyolefin resin, and the like can be used. Alternatively, glass, ceramics, metal, or the like may be used. In the case of using a plastic material, the concavo-convex pattern is often created by injection molding, and in the case of other than the plastic material, it is formed by a photopolymer method (2P method).

支持基体(20)上に情報層を形成する。図2の例では、支持基体(20)上に、反射層(3) 、第2誘電体層(52)、相変化記録材料層(4) 及び第1誘電体層(51)から構成される情報層を形成する。反射層(3) を設けないこともある。   An information layer is formed on the support substrate (20). In the example of FIG. 2, a reflective layer (3), a second dielectric layer (52), a phase change recording material layer (4), and a first dielectric layer (51) are formed on a support base (20). An information layer is formed. The reflective layer (3) may not be provided.

支持基体(20)上には、通常、反射層(3) をスパッタリング法により形成する。反射層の材料としては、金属元素、半金属元素、半導体元素又はそれらの化合物を単独あるいは複合させて用いる。具体的には、例えばAu、Ag、Cu、Al、Pd等の周知の反射層材料から選択すればよい。反射層は、厚さ20〜200nmの薄膜として形成することが好ましい。   On the support substrate (20), the reflective layer (3) is usually formed by sputtering. As a material for the reflective layer, a metal element, a metalloid element, a semiconductor element, or a compound thereof is used alone or in combination. Specifically, for example, a known reflective layer material such as Au, Ag, Cu, Al, or Pd may be selected. The reflective layer is preferably formed as a thin film having a thickness of 20 to 200 nm.

反射層(3) 上に、あるいは反射層のない場合には支持基体(20)上に直接、第2誘電体層(52)、相変化記録材料層(4) 、第1誘電体層(51)をこの順でスパッタリング法により形成する。   The second dielectric layer (52), the phase change recording material layer (4), the first dielectric layer (51) directly on the reflective layer (3) or directly on the support base (20) when there is no reflective layer. ) In this order by sputtering.

相変化記録材料層(4) は、レーザー光照射によって結晶状態とアモルファス状態とに可逆的に変化し、両状態の間で光学特性が異なる材料により形成される。例えば、Ge−Sb−Te、In−Sb−Te、Sn−Se−Te、Ge−Te−Sn、In−Se−Tl、In−Sb−Te等が挙げられる。さらに、これらの材料に、Co、Pt、Pd、Au、Ag、Ir、Nb、Ta、V、W、Ti、Cr、Zr、Bi、In等から選ばれる金属のうちの少なくとも1種を微量に添加してもよく、窒素等の還元性ガスを微量に添加してもよい。記録材料層(4) の厚さは、特に限定されることなく、例えば、3〜50nm程度である。   The phase change recording material layer (4) is reversibly changed between a crystalline state and an amorphous state by laser light irradiation, and is formed of a material having different optical characteristics between the two states. For example, Ge—Sb—Te, In—Sb—Te, Sn—Se—Te, Ge—Te—Sn, In—Se—Tl, In—Sb—Te, and the like can be given. Further, these materials contain a trace amount of at least one of metals selected from Co, Pt, Pd, Au, Ag, Ir, Nb, Ta, V, W, Ti, Cr, Zr, Bi, In, and the like. It may be added, or a reducing gas such as nitrogen may be added in a trace amount. The thickness of the recording material layer (4) is not particularly limited and is, for example, about 3 to 50 nm.

第2誘電体層(52)及び第1誘電体層(51)は、記録材料層(4) の上下両面側にこれを挟んで形成される。第2誘電体層(52)及び第1誘電体層(51)は、記録材料層(4) の機械的、化学的保護の機能と共に、光学特性を調整する干渉層としての機能を有する。第2誘電体層(52)及び第1誘電体層(51)はそれぞれ、単層からなっていてもよく、複数層からなっていてもよい。   The second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) are formed on both sides of the upper and lower surfaces of the recording material layer (4). The second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) have a function as an interference layer for adjusting optical characteristics as well as a mechanical and chemical protection function of the recording material layer (4). Each of the second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) may be composed of a single layer or a plurality of layers.

第2誘電体層(52)及び第1誘電体層(51)はそれぞれ、Si、Zn、Al、Ta、Ti、Co、Zr、Pb、Ag、Zn、Sn、Ca、Ce、V、Cu、Fe、Mgから選ばれる金属のうちの少なくとも1種を含む酸化物、窒化物、硫化物、フッ化物、あるいはこれらの複合物から形成されることが好ましい。また、第2誘電体層(52)及び第1誘電体層(51)のそれぞれの消衰係数kは、0.1以下であることが好ましい。   The second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) are respectively Si, Zn, Al, Ta, Ti, Co, Zr, Pb, Ag, Zn, Sn, Ca, Ce, V, Cu, It is preferably formed from an oxide, nitride, sulfide, fluoride, or a composite thereof containing at least one of metals selected from Fe and Mg. The extinction coefficient k of each of the second dielectric layer (52) and the first dielectric layer (51) is preferably 0.1 or less.

第2誘電体層(52)の厚さは、特に限定されることなく、例えば、20〜150nm程度が好ましい。第1誘電体層(51)の厚さは、特に限定されることなく、例えば、20〜200nm程度が好ましい。両誘電体層(52)(51)の厚さをこのような範囲で選択することにより、反射の調整ができる。   The thickness of the second dielectric layer (52) is not particularly limited, and is preferably about 20 to 150 nm, for example. The thickness of the first dielectric layer (51) is not particularly limited, and is preferably about 20 to 200 nm, for example. The reflection can be adjusted by selecting the thicknesses of the two dielectric layers (52) and (51) within such a range.

情報層上、すなわち第1誘電体層(51)上に、光透過層(7) を活性エネルギー線硬化性材料を用いて、あるいはポリカーボネートシート等の光透過性シートを用いて形成する。   On the information layer, that is, on the first dielectric layer (51), the light transmission layer (7) is formed using an active energy ray curable material or a light transmission sheet such as a polycarbonate sheet.

光透過層(7) に用いる活性エネルギー線硬化性材料としては、光学的に透明で、使用されるレーザー波長領域での光学吸収や反射が少なく、複屈折が小さいことを条件として、紫外線硬化性材料及び電子線硬化性材料から選択する。   The active energy ray-curable material used for the light transmissive layer (7) is UV curable on the condition that it is optically transparent, has little optical absorption and reflection in the used laser wavelength region, and has low birefringence. Select from materials and electron beam curable materials.

具体的には、活性エネルギー線硬化性材料は、紫外線(電子線)硬化性化合物やその重合用組成物から構成されることが好ましい。このようなものとしては、アクリル酸やメタクリル酸のエステル化合物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートのようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の紫外線照射によって架橋あるいは重合する基を分子中に含有又は導入したモノマー、オリゴマー及びポリマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に3官能以上であることが好ましく、1種のみ用いても2種以上併用してもよい。また、単官能のものを必要に応じて用いてもよい。   Specifically, the active energy ray curable material is preferably composed of an ultraviolet ray (electron beam) curable compound or a composition for polymerization thereof. Examples of such compounds include ester compounds of acrylic acid and methacrylic acid, acrylic double bonds such as epoxy acrylate and urethane acrylate, allyl double bonds such as diallyl phthalate, and unsaturated double bonds such as maleic acid derivatives. Mention may be made of monomers, oligomers, polymers, etc. containing or introduced in the molecule a group which is crosslinked or polymerized by ultraviolet irradiation such as bonding. These are preferably polyfunctional, particularly trifunctional or more, and may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use a monofunctional thing as needed.

紫外線硬化性モノマーとしては、分子量2000未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量2000〜10000のものが好適である。これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ) アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ) アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ) アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ) アクリレート、フェノールエチレンオキシド付加物の(メタ) アクリレート等が挙げられる。この他、紫外線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体等が挙げられる。   As the UV curable monomer, a compound having a molecular weight of less than 2000 is preferable, and as the oligomer, a molecular weight of 2000 to 10,000 is preferable. Examples of these include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, and the like. Examples thereof include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, (meth) acrylate of phenol ethylene oxide adduct, and the like. . In addition, examples of the ultraviolet curable oligomer include oligoester acrylate and an acrylic modified product of urethane elastomer.

紫外線(電子線)硬化性材料は、公知の光重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤は、活性エネルギー線として電子線を用いる場合には特に必要はないが、紫外線を用いる場合には必要となる。光重合開始剤は、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。光重合開始剤のうち、光ラジカル開始剤としては、例えば、ダロキュア1173、イルガキュア651 、イルガキュア184 、イルガキュア907 (いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製)が挙げられる。光重合開始剤の含有量は、例えば、前記紫外線(電子線)硬化性成分に対して、0.5〜5重量%程度である。   The ultraviolet (electron beam) curable material may contain a known photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly required when an electron beam is used as the active energy ray, but is required when ultraviolet rays are used. The photopolymerization initiator may be appropriately selected from ordinary ones such as acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. Among the photopolymerization initiators, examples of the photo radical initiator include Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, and Irgacure 907 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals). The content of the photopolymerization initiator is, for example, about 0.5 to 5% by weight with respect to the ultraviolet (electron beam) curable component.

また、紫外線硬化性材料としては、エポキシ化合物及び光カチオン重合触媒を含有する組成物も好適に使用される。エポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物が好ましく、特に、分子内に2個以上のエポキシ基を有するものが好ましい。脂環式エポキシ化合物としては、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス−(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の1種以上が好ましい。脂環式エポキシ化合物のエポキシ当量に特に制限はないが、良好な硬化性が得られることから、60〜300、特に100〜200であることが好ましい。   Moreover, as an ultraviolet curable material, the composition containing an epoxy compound and a photocationic polymerization catalyst is also used suitably. As the epoxy compound, an alicyclic epoxy compound is preferable, and an epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule is particularly preferable. Examples of alicyclic epoxy compounds include 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis- (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis- (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, One or more of 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, vinylcyclohexene dioxide and the like are preferable. . Although there is no restriction | limiting in particular in the epoxy equivalent of an alicyclic epoxy compound, Since favorable sclerosis | hardenability is obtained, it is preferable that it is 60-300, especially 100-200.

光カチオン重合触媒は、公知のいずれのものを用いてもよく、特に制限はない。例えば、1種以上の金属フルオロホウ酸塩及び三フッ化ホウ素の錯体、ビス(ペルフルオロアルキルスルホニル)メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、6A族元素の芳香族オニウム塩、5A族元素の芳香族オニウム塩、3A族〜5A族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、MF6 アニオン(ただしMは、P、As又はSb)を有する6A族元素、トリアリールスルホニウム錯塩、芳香族イオドニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩等を用いることができ、特に、ポリアリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウム塩又はイオドニウム塩、3A族元素、5A族元素及び6A族元素の芳香族オニウム塩の1種以上を用いることが好ましい。光カチオン重合触媒の含有量は、例えば、前記紫外線硬化性成分に対して、0.5〜5重量%程度である。   Any known photocationic polymerization catalyst may be used without any particular limitation. For example, one or more metal fluoroborate and boron trifluoride complexes, bis (perfluoroalkylsulfonyl) methane metal salts, aryldiazonium compounds, 6A group aromatic onium salts, 5A group aromatic onium salts, A dicarbonyl chelate, a thiopyrylium salt, an MF6 anion (where M is P, As or Sb), a triarylsulfonium complex salt, an aromatic iodonium complex salt, an aromatic sulfonium complex salt, etc. In particular, it is preferable to use one or more of polyarylsulfonium complex salts, aromatic sulfonium salts or iodonium salts of halogen-containing complex ions, aromatic onium salts of 3A group elements, 5A group elements, and 6A group elements. Content of a photocationic polymerization catalyst is about 0.5 to 5 weight% with respect to the said ultraviolet curable component, for example.

この光透過層に用いる活性エネルギー線硬化性材料としては、1,000 〜10,000cpの粘度(25℃)を有するものが好ましい。   As the active energy ray-curable material used for the light transmission layer, a material having a viscosity of 1,000 to 10,000 cp (25 ° C.) is preferable.

光透過層(7) の形成において、第1誘電体層(51)上への活性エネルギー線硬化性材料の塗布はスピンコーティング法により行うとよい。塗布後の硬化性材料に紫外線を照射して、硬化させるとよい。硬化に用いる活性エネルギー線としては、紫外線の他にも、電子線、可視光などがあるが、紫外線が好ましい。この際の紫外線照射を複数回に分けて行ってもよい。また、活性エネルギー線硬化性材料の塗布操作を複数回に分けて行ってもよく、各塗布操作の後に紫外線照射を行ってもよい。紫外線照射を複数回に分けて行い樹脂を段階的に硬化させることで、一度にディスクにたまる硬化収縮による応力を小さくすることが可能となり、最終的にディスクにたまる応力が小さくなる。その結果、光透過層(7) の厚さが上記のように厚い場合であっても、機械特性に優れたディスクを作成することができるので好ましい。   In the formation of the light transmission layer (7), the application of the active energy ray-curable material on the first dielectric layer (51) may be performed by a spin coating method. The curable material after application may be cured by irradiating with ultraviolet rays. Active energy rays used for curing include electron beams and visible light in addition to ultraviolet rays, but ultraviolet rays are preferred. The ultraviolet irradiation at this time may be performed in a plurality of times. In addition, the application operation of the active energy ray-curable material may be performed in a plurality of times, and ultraviolet irradiation may be performed after each application operation. By curing the resin stepwise by performing ultraviolet irradiation in a plurality of times, it is possible to reduce the stress due to curing shrinkage that accumulates on the disk at one time, and finally the stress that accumulates on the disk is reduced. As a result, even when the light transmission layer (7) is thick as described above, a disk having excellent mechanical properties can be produced, which is preferable.

あるいは、本発明において、光透過性樹脂シートを用いて光透過層を形成することもできる。この場合には、第1誘電体層(51)上に、光透過層用と同様の活性エネルギー線硬化性材料を塗布し、未硬化の樹脂材料層を形成する。未硬化の樹脂材料層上に、光透過層(7) としての光透過性シートを載置し、その後、紫外線等の活性エネルギー線を照射して樹脂材料層を硬化することにより、光透過性シートを接着し光透過層(7) とする。この樹脂材料層に用いる活性エネルギー線硬化性材料としては、3〜500cpの粘度(25℃)を有するものが好ましい。樹脂材料層の塗布はスピンコーティング法により行うとよい。樹脂材料層の厚さは、例えば、硬化後において、1〜50μm程度とするとよい。   Or in this invention, a light transmissive layer can also be formed using a light transmissive resin sheet. In this case, an active energy ray-curable material similar to that for the light transmission layer is applied on the first dielectric layer (51) to form an uncured resin material layer. A light transmissive sheet as a light transmissive layer (7) is placed on the uncured resin material layer, and then the resin material layer is cured by irradiating with active energy rays such as ultraviolet rays. The sheet is adhered to form a light transmission layer (7). As the active energy ray-curable material used for the resin material layer, a material having a viscosity (25 ° C.) of 3 to 500 cp is preferable. The resin material layer may be applied by a spin coating method. The thickness of the resin material layer is preferably about 1 to 50 μm after curing, for example.

光透過性シートとしては、例えば、30〜150μmから選ばれる所望の厚さを有するポリカーボネートシートが用いられる。光透過層(7) の形成は、より具体的には、真空中(0.1気圧以下)において、所望厚さのポリカーボネートシートを、未硬化の樹脂材料層上に載置し、次いで、大気圧雰囲気に戻し、紫外線を照射して樹脂材料層を硬化させる。   As the light transmissive sheet, for example, a polycarbonate sheet having a desired thickness selected from 30 to 150 μm is used. More specifically, the light transmitting layer (7) is formed by placing a polycarbonate sheet having a desired thickness on an uncured resin material layer in a vacuum (0.1 atm or less), The atmosphere is returned to atmospheric pressure, and the resin material layer is cured by irradiating with ultraviolet rays.

光透過層(7) 上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、前記(A)以外の活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含むハードコート層用組成物を塗布して未硬化のハードコート層を形成し、未硬化のハードコート層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化したハードコート層(8) を形成する。ハードコート層用組成物の各成分について説明する。   A hard coat layer containing an active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) and an active energy ray-curable compound (B) other than the above (A) on the light transmission layer (7) The composition for coating is applied to form an uncured hard coat layer, the uncured hard coat layer is irradiated with ultraviolet rays, and then irradiated with an electron beam to form a cured hard coat layer (8). Each component of the composition for hard coat layers will be described.

ハードコート層用組成物に含まれる活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、ハードコート層用組成物における硬化性成分の主成分であり、硬化後に得られるハードコート層のマトリックスを形成するものである。活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、シリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)以外のものであり、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基の中から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線重合性基を有する化合物であれば、特にその構造は限定されない。活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、ハードコートとして十分な硬度を得るため、1つの分子内に2つ以上、好ましくは3つ以上の重合性基を含む多官能モノマーもしくはオリゴマーを含んでいることが好ましい。   The active energy ray-curable compound (B) contained in the hard coat layer composition is a main component of the curable component in the hard coat layer composition, and forms a matrix of the hard coat layer obtained after curing. is there. The active energy ray-curable compound (B) is other than the silicone compound and / or the fluorine compound (A) and has at least one activity selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and a mercapto group. The structure is not particularly limited as long as it is a compound having an energy beam polymerizable group. The active energy ray-curable compound (B) contains a polyfunctional monomer or oligomer containing two or more, preferably three or more polymerizable groups in one molecule in order to obtain sufficient hardness as a hard coat. It is preferable.

このような活性エネルギー線硬化性化合物(B)のうち、(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、3-(メタ)アクリロイルオキシグリセリンモノ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、エステルアクリレート等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   Among such active energy ray-curable compounds (B), examples of the compound having a (meth) acryloyl group include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and ethylene. Oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meta) ) Acrylate, 3- (meth) acryloyloxyglycerin mono (meth) acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, ester acrylate, etc. Not intended to be.

また、ビニル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   Examples of the compound having a vinyl group include ethylene glycol divinyl ether, pentaerythritol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, trimethylolpropane divinyl ether, ethylene oxide-modified hydroquinone divinyl ether, and ethylene oxide-modified bisphenol A diester. Examples include vinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, ditrimethylolpropane polyvinyl ether, and the like, but are not necessarily limited thereto.

また、メルカプト基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールビス(チオグリコレート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(チオグリコレート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   Examples of the compound having a mercapto group include ethylene glycol bis (thioglycolate), ethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (thioglycolate), trimethylolpropane tris (3- Mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), and the like, but are not necessarily limited thereto.

ハードコート層用組成物に含まれる活性エネルギー線硬化性化合物(B)としては、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As an active energy ray hardening compound (B) contained in the composition for hard-coat layers, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)は、ハードコート層表面に防汚性(撥水性及び/又は撥油性)及び/又は潤滑性を賦与するために用いられる。防汚性及び/又は潤滑性を賦与するための基として、シリコーン系基やフッ素系基が挙げられる。また、活性エネルギー線反応性基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基等の活性エネルギー線ラジカル重合性反応性基や、環状エーテル基及びビニルエーテル基等の活性エネルギー線カチオン重合性反応性基が挙げられる。化合物(A)が活性エネルギー線反応性基を有することによって、ハードコートを硬化させる際の活性エネルギー線照射によって、化合物(A)同士間での架橋反応や、活性エネルギー線硬化性化合物(B)との架橋反応が起こり、ハードコート層中への固定化が向上する。従って、化合物(A)として、このようなラジカル重合性反応性基又はカチオン重合性反応性基を有するシリコーン系化合物、又はフッ素系化合物を用いることができる。活性エネルギー線反応性基としては、反応性の観点から、ラジカル重合性反応性基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。   The active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) is used to impart antifouling properties (water repellency and / or oil repellency) and / or lubricity to the surface of the hard coat layer. Examples of the group for imparting antifouling properties and / or lubricity include a silicone group and a fluorine group. Active energy ray reactive groups include active energy ray radical polymerizable reactive groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group and mercapto group, and active energy ray cationic polymerizable reactions such as cyclic ether group and vinyl ether group. Sex groups. When the compound (A) has an active energy ray-reactive group, a crosslinking reaction between the compounds (A) or an active energy ray-curable compound (B) is caused by active energy ray irradiation when the hard coat is cured. Cross-linking reaction occurs, and immobilization in the hard coat layer is improved. Accordingly, a silicone compound or a fluorine compound having such a radical polymerizable reactive group or a cationic polymerizable reactive group can be used as the compound (A). The active energy ray reactive group is preferably a radical polymerizable reactive group, more preferably a (meth) acryloyl group from the viewpoint of reactivity.

シリコーン系化合物としては、シリコーン系基を有する部位と、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、メルカプト基、環状エーテル基及びビニルエーテル基の中から選択される少なくとも1つの反応性基とを有する反応性シリコーン化合物が挙げられ、より詳細には、例えば下記式(1)から(3)に示す化合物が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   The silicone compound includes a reactive silicone having a silicone group and at least one reactive group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a mercapto group, a cyclic ether group, and a vinyl ether group. More specifically, examples include compounds represented by the following formulas (1) to (3), but are not necessarily limited thereto.

R−[Si(CH3)2O]n−R (1)
R−[Si(CH3)2O]n−Si(CH3)3 (2)
(CH3)3SiO −[Si(CH3)20]n−[Si(CH3)(R)O]m−Si(CH3)3 (3)
ここで、Rは、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、メルカプト基、環状エーテル基及びビニルエーテル基の中から選択される少なくとも1つの反応性基を含む置換基であり、n、mはそれぞれ重合度であり、nは5〜1000、mは2〜100である。
R- [Si (CH 3) 2 O] n-R (1)
R- [Si (CH 3) 2 O] n-Si (CH 3) 3 (2)
(CH 3) 3 SiO - [ Si (CH 3) 2 0] n- [Si (CH 3) (R) O] m-Si (CH 3) 3 (3)
Here, R is a substituent containing at least one reactive group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a mercapto group, a cyclic ether group and a vinyl ether group, and n and m are polymerization degrees, respectively. N is 5 to 1000, and m is 2 to 100.

シリコーン系化合物(A)としては、分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものを用いる。分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものは、ハードコート層中への固定化が向上し、防汚性及び潤滑性も向上するので好ましい。 As a silicone type compound (A), what has two or more active energy ray reactive groups in a molecule | numerator is used. Those having two or more active energy ray reactive groups in the molecule are preferable because immobilization in the hard coat layer is improved and antifouling properties and lubricity are also improved.

また、シリコーン系化合物(A)の平均分子量は1.0×102 以上1.5×104 以下であることが好ましい。平均分子量が1.0×102 未満では、上記の潤滑性賦与の性能が発現しにくく、平均分子量が1.5×104 を超えると、ハードコート層用組成物中における相溶性が低下し均一な塗布が困難となる傾向がある。 The average molecular weight of the silicone compound (A) is preferably 1.0 × 10 2 or more and 1.5 × 10 4 or less. When the average molecular weight is less than 1.0 × 10 2 , the above-described lubricity-imparting performance is hardly exhibited, and when the average molecular weight exceeds 1.5 × 10 4 , the compatibility in the composition for the hard coat layer decreases. There is a tendency that uniform application becomes difficult.

シリコーン系化合物(A)の具体例としては、X−22−164A、X−22−164B、X−22−164C(いずれも二官能シリコーンメタアクリレート;信越化学工業(株)製)、L7001(日本ユニカー(株)製)等が挙げられる。   Specific examples of the silicone-based compound (A) include X-22-164A, X-22-164B, and X-22-164C (both are bifunctional silicone methacrylates; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), L7001 (Japan) Unicar Co., Ltd.).

ハードコート層用組成物に含まれる化合物(A)としては、上記のシリコーン系化合物の1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As a compound (A) contained in the composition for hard-coat layers, only 1 type of said silicone type compound may be used, and 2 or more types may be used together.

フッ素系化合物としては、フッ素含有基を有する部位と、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、メルカプト基、環状エーテル基及びビニルエーテル基の中から選択される少なくとも1つの反応性基とを有する化合物が挙げられる。   Examples of the fluorine compound include a compound having a moiety having a fluorine-containing group and at least one reactive group selected from a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a mercapto group, a cyclic ether group, and a vinyl ether group. It is done.

フッ素系化合物として、例えば、フッ素含有(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。具体的には、例えば、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、3-(パーフルオロ-5- メチルヘキシル)-2- ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート、3-パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロ−9−メチルオクチル)エチル(メタ)アクリレート、3-(パーフルオロ−7−メチルオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロ−9−メチルデシル)エチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H−ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート等のフッ化アクリレートが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。   As a fluorine-type compound, a fluorine-containing (meth) acrylate compound is mentioned, for example. Specifically, for example, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (Meth) acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl (meth) acrylate, 3- (perfluoro-5-methylhexyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-9-methyloctyl) ethyl (meth) acrylate, 3- (perfluoro -7-methyloctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl (meth) acrylate, 1H, 1H, 9H-hexade Fluorinated acrylates such as fluoro nonyl (meth) acrylate, and the like, but not necessarily limited thereto.

フッ素系化合物として、例えば、(メタ)アクリレート基が導入されたパーフルオロポリエーテルなどの高分子化合物、あるいは(メタ)アクリレート基の代わりにビニル基又はメルカプト基を有するフッ素系化合物等も好ましく用いることができる。Fombrin Z DOL (アルコール変性パーフルオロポリエーテル(アウジモント社製))のジアクリレート、フルオライトART3、フルオライトART4(共栄社化学)が具体例として挙げられる。   As the fluorine compound, for example, a polymer compound such as perfluoropolyether having a (meth) acrylate group introduced therein, or a fluorine compound having a vinyl group or a mercapto group in place of the (meth) acrylate group is preferably used. Can do. Specific examples include Fombrin Z DOL (alcohol-modified perfluoropolyether (Audimont)) diacrylate, fluorite ART3, and fluorite ART4 (Kyoeisha Chemical).

フッ素系化合物(A)としては、分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものを用いる。分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものは、ハードコート層中への固定化が向上し、防汚性及び潤滑性も向上するので好ましい。 As the fluorine-based compound (A), one having two or more active energy ray reactive groups in the molecule is used. Those having two or more active energy ray reactive groups in the molecule are preferable because immobilization in the hard coat layer is improved and antifouling properties and lubricity are also improved.

ハードコート層用組成物に含まれる化合物(A)としては、上記のフッ素系化合物の1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As a compound (A) contained in the composition for hard-coat layers, only 1 type of said fluorine type compound may be used, and 2 or more types may be used together.

本発明において、ハードコート層用組成物は、組成物中の不揮発分100重量部に対して、シリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)の合計量として0.01重量部以上3重量部以下を含むものであり、0.05重量部以上1重量部以下を含むことが好ましい。化合物(A)を3重量部よりも多く含有させると、潤滑性は向上するがハードコート層の硬さが低くなりやすく、一方、0.01重量部未満では、潤滑性向上効果が弱い。ここで、不揮発分は、硬化後のハードコート層中に残存する成分であり、化合物(A)及び硬化性化合物(B)の他、単官能モノマー、後述する無機微粒子(C)、光重合開始剤、各種添加剤等の成分が含まれる。 In the present invention, the hard coat layer composition is 0.01 parts by weight or more and 3 parts by weight as the total amount of the silicone compound and / or the fluorine compound (A) with respect to 100 parts by weight of the nonvolatile content in the composition. It is intended to include the following, favorable preferable to contain less than 1 part by weight or more 0.05 part by weight. When the compound (A) is contained in an amount of more than 3 parts by weight, the lubricity is improved, but the hardness of the hard coat layer tends to be low. On the other hand, when it is less than 0.01 parts by weight, the effect of improving the lubricity is weak. Here, the non-volatile content is a component remaining in the hard coat layer after curing, and in addition to the compound (A) and the curable compound (B), a monofunctional monomer, inorganic fine particles (C) described later, and photopolymerization start Ingredients such as additives and various additives are included.

本発明において、ハードコート層用組成物は、平均粒子径100nm以下の無機微粒子(C)を含むことが好ましい。無機微粒子(C)の平均粒子径は、ハードコート層の透明性を確保するために平均粒子径100nm以下、好ましくは20nm以下であり、コロイド溶液製造上の制約から、好ましくは5nm以上である。   In the present invention, the hard coat layer composition preferably contains inorganic fine particles (C) having an average particle size of 100 nm or less. The average particle size of the inorganic fine particles (C) is 100 nm or less, preferably 20 nm or less in order to ensure the transparency of the hard coat layer, and is preferably 5 nm or more due to restrictions on the production of the colloidal solution.

無機微粒子(C)は、例えば、金属(又は半金属)酸化物の微粒子、又は金属(又は半金属)硫化物の微粒子である。無機微粒子の金属又は半金属としては、例えば、Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sb等が挙げられる。また、酸化物、硫化物の他に、Se化物、Te化物、窒化物、炭化物を用いることもできる。無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア等の微粒子が挙げられ、シリカ微粒子が好ましい。このような無機微粒子をハードコート層用組成物に添加しておくことにより、ハードコート層の耐摩耗性をより高めることができる。   The inorganic fine particles (C) are, for example, fine particles of metal (or metalloid) oxide or fine particles of metal (or metalloid) sulfide. Examples of the metal or semimetal of the inorganic fine particles include Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, and Sb. In addition to oxides and sulfides, Se, Te, nitrides, and carbides can also be used. Examples of the inorganic fine particles include fine particles of silica, alumina, zirconia, titania and the like, and silica fine particles are preferable. By adding such inorganic fine particles to the hard coat layer composition, the wear resistance of the hard coat layer can be further improved.

前記シリカ微粒子の中でも、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物によって表面修飾されたものが好ましく用いられる。このような反応性シリカ微粒子は、ハードコートを硬化させる際の活性エネルギー線照射によって、架橋反応を起こし、ポリマーマトリックス中に固定される。このような反応性シリカ微粒子として、例えば特開平9−100111号公報に記載された反応性シリカ粒子があり、本発明において好ましく用いることができる。   Among the silica fine particles, those having a surface modified with a hydrolyzable silane compound having an active energy ray reactive group are preferably used. Such reactive silica fine particles undergo a crosslinking reaction by irradiation with active energy rays at the time of curing the hard coat, and are fixed in the polymer matrix. Examples of such reactive silica fine particles include reactive silica particles described in JP-A-9-100111, and can be preferably used in the present invention.

本発明において、ハードコート層用組成物において、無機微粒子(C)を用いる場合には、硬化性化合物(B)100重量部に対して、無機微粒子(C)5重量部以上500重量部以下を含むことが好ましく、無機微粒子(C)20重量部以上200重量部以下を含むことがより好ましい。無機微粒子(C)を500重量部よりも多く含有させると、ハードコート層の膜強度が弱くなりやすく、一方、5重量部未満では、無機微粒子(C)添加によるハードコート層の耐摩耗性向上効果が弱い。   In the present invention, when the inorganic fine particles (C) are used in the hard coat layer composition, the inorganic fine particles (C) are used in an amount of 5 parts by weight to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the curable compound (B). The inorganic fine particles (C) are preferably contained in an amount of 20 parts by weight or more and 200 parts by weight or less. If the inorganic fine particles (C) are contained in an amount of more than 500 parts by weight, the film strength of the hard coat layer tends to be weak, whereas if it is less than 5 parts by weight, the wear resistance of the hard coat layer is improved by adding the inorganic fine particles (C). The effect is weak.

本発明において、ハードコート層用組成物は、公知の光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、活性エネルギー線として電子線を用いる硬化には特に必要はないが、紫外線を用いる硬化には必要となる。光重合開始剤は、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すればよい。光重合開始剤のうち、光ラジカル開始剤としては、例えば、ダロキュア1173、イルガキュア651 、イルガキュア184 、イルガキュア907 (いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製)が挙げられる。光重合開始剤の含有量は、例えば、ハードコート層用組成物中において、前記(A)、(B)及び(C)の総和に対して、0.5〜5重量%程度である。   In the present invention, the hard coat layer composition contains a known photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is not particularly necessary for curing using an electron beam as an active energy ray, but is necessary for curing using ultraviolet rays. The photopolymerization initiator may be appropriately selected from ordinary ones such as acetophenone, benzoin, benzophenone, and thioxanthone. Among the photopolymerization initiators, examples of the photo radical initiator include Darocur 1173, Irgacure 651, Irgacure 184, and Irgacure 907 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals). Content of a photoinitiator is about 0.5 to 5 weight% with respect to the sum total of said (A), (B), and (C), for example in the composition for hard-coat layers.

また、化合物(A)及び/又は化合物(B)として、環状エーテル基又はビニルエーテル基を反応性基として有するものを用いる場合には、前述した光カチオン重合触媒を用いる。光カチオン重合触媒の含有量は、例えば、ハードコート層用組成物中において、前記(A)、(B)及び(C)の総和に対して、0.5〜5重量%程度である。   Moreover, when using what has a cyclic ether group or a vinyl ether group as a reactive group as a compound (A) and / or a compound (B), the photocationic polymerization catalyst mentioned above is used. Content of a photocationic polymerization catalyst is about 0.5 to 5 weight% with respect to the sum total of said (A), (B), and (C), for example in the composition for hard-coat layers.

また、本発明のハードコート層用組成物はさらに、必要に応じて、非重合性の希釈溶剤、有機フィラー、重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、消泡剤、レベリング剤、顔料、ケイ素化合物などを含んでいても差し支えない。   Further, the composition for a hard coat layer of the present invention may further comprise a non-polymerizable diluent solvent, an organic filler, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antifoaming agent, and a leveling as necessary. An agent, a pigment, a silicon compound, etc. may be included.

ハードコート層用組成物は、上記の各成分を常法により混合して製造することができる。ハードコート層用組成物は塗布に適した粘度に調整するとよい。以上のようにして、本発明で用いられるハードコート層用組成物が構成される。   The composition for hard coat layers can be produced by mixing the above-mentioned components by a conventional method. The hard coat layer composition may be adjusted to a viscosity suitable for coating. As described above, the hard coat layer composition used in the present invention is constituted.

光透過層(7) 上に、上記のハードコート層用組成物を塗布して未硬化のハードコート層を形成する。ハードコート層用組成物の塗布方法は、限定されることなく、スピンコート法、ディップコート法、グラビアコート法等の各種塗布方法を用いるとよい。ハードコート層用組成物の塗布の際には、光透過層(7) は完全に硬化されている状態よりも、表面近傍は半硬化の状態の方が、光透過層(7) とハードコート層(8) との密着性がより高くなるので好ましい。   On the light transmission layer (7), the above-mentioned composition for hard coat layer is applied to form an uncured hard coat layer. The coating method of the hard coat layer composition is not limited, and various coating methods such as spin coating, dip coating, and gravure coating may be used. When the hard coat layer composition is applied, the light transmission layer (7) and the hard coat layer are more semi-cured near the surface than the light transmission layer (7) is completely cured. This is preferable because the adhesiveness to the layer (8) becomes higher.

前記ハードコート層用組成物が非反応性希釈有機溶剤を含んでいる場合には、前記ハードコート層用組成物を塗布して未硬化のハードコート層を形成した後、非反応性有機溶剤を加熱乾燥により除去し、その後、活性エネルギー線を照射して未硬化層を硬化して、ハードコート層(8) とする。希釈有機溶剤を用いてハードコート層用組成物を塗布して、有機溶剤を加熱乾燥により除去することにより、化合物(A)が未硬化のハードコート層の表面近傍により多く集まりやすくなり、硬化後のハードコート層(8) の表面近傍により多く化合物(A)が存在することになり、シリコーン基及び/又はフッ素含有基によって、より大きな潤滑性向上効果が得られ易い。この際の加熱乾燥の温度としては、例えば、温度40℃以上100℃以下が好ましい。加熱乾燥の時間としては、例えば30秒以上8分以下、好ましくは1分以上5分以下、より好ましくは3分以上5分以下とする。非反応性希釈有機溶剤としては、特に限定されないが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロピルアルコール等が用いられる。   When the hard coat layer composition contains a non-reactive diluted organic solvent, the hard coat layer composition is applied to form an uncured hard coat layer, and then the non-reactive organic solvent is added. After removing by heat drying, the active energy ray is irradiated to cure the uncured layer to form a hard coat layer (8). By applying the composition for a hard coat layer using a diluted organic solvent and removing the organic solvent by heating and drying, the compound (A) is more likely to gather near the surface of the uncured hard coat layer, and after curing. More compound (A) is present in the vicinity of the surface of the hard coat layer (8), and a greater lubricity improving effect is easily obtained by the silicone group and / or fluorine-containing group. In this case, the heat drying temperature is preferably 40 ° C. or more and 100 ° C. or less, for example. The heat drying time is, for example, 30 seconds to 8 minutes, preferably 1 minute to 5 minutes, more preferably 3 minutes to 5 minutes. The non-reactive diluted organic solvent is not particularly limited, and propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropyl alcohol and the like are used.

本発明においては、未硬化のハードコート層にまず紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、ハードコート層を硬化させる。この活性エネルギー線照射順序の硬化工程を行うことにより、硬化後のハードコート層(8) の表面近傍により多くの化合物(A)が固定化され、表面の防汚耐久性に非常に優れるハードコート層(8) が形成される。この詳細な理由は明らかではないが、次のように考えられる。   In the present invention, the uncured hard coat layer is first irradiated with ultraviolet rays, and then irradiated with an electron beam to cure the hard coat layer. By performing the curing process in the order of irradiation of active energy rays, a hard coat having a very excellent antifouling durability on the surface is obtained by immobilizing more compound (A) near the surface of the hard coat layer (8) after curing. Layer (8) is formed. Although the detailed reason is not clear, it is considered as follows.

ハードコート層表面に防汚性及び/又は潤滑性を賦与する化合物(A)は、マトリックスとなる硬化性化合物(B)に比べ紫外線照射によっては硬化されにくく、電子線照射によって硬化されやすい。未硬化のハードコート層にまず紫外線を照射すると、前記ハードコート層の表面近傍よりも内部の方において、硬化性化合物(B)はより速く硬化されやすく、また、紫外線照射によって前記ハードコート層が加熱される。そうすると、紫外線照射過程において、前記ハードコート層の加熱により、界面活性的性質を有する化合物(A)は表面近傍に集まりやすくなり、表面近傍の硬化性化合物(B)は未だ硬化されていないために、さらに化合物(A)は表面近傍に集まりやすい環境となっている。このようにして、紫外線照射後には、化合物(A)が表面近傍により多く集まった状態となっている。この状態で電子線を照射することにより、化合物(A)は表面近傍により多く固定化される。化合物(A)がハードコート層(8) の表面近傍により多く固定化されることにより、ハードコート層表面のより大きな防汚性及び潤滑性向上効果が得られ、特に防汚性及び潤滑性の高耐久性が得られる。   The compound (A) that imparts antifouling properties and / or lubricity to the surface of the hard coat layer is harder to be cured by ultraviolet irradiation than the curable compound (B) to be a matrix, and is easily cured by electron beam irradiation. When the uncured hard coat layer is first irradiated with ultraviolet rays, the curable compound (B) is more easily cured in the inner part than in the vicinity of the surface of the hard coat layer. Heated. Then, in the process of ultraviolet irradiation, the hard coat layer is heated, whereby the compound (A) having surface active properties is likely to gather near the surface, and the curable compound (B) near the surface is not yet cured. Furthermore, the compound (A) is in an environment that tends to gather near the surface. In this way, the compound (A) is more concentrated in the vicinity of the surface after the ultraviolet irradiation. By irradiation with an electron beam in this state, the compound (A) is more immobilized near the surface. By immobilizing more compound (A) near the surface of the hard coat layer (8), a greater antifouling property and lubricity improving effect on the hard coat layer surface can be obtained. High durability is obtained.

この際、紫外線の照射量は、ハードコート層(8) の厚さにもよるが、さらに活性エネルギー線硬化性材料を用いた光透過層(7) が半硬化状態の場合には光透過層(7) の厚さにもよるが、例えば500〜5000mJ/cm2 、好ましくは1000〜4000mJ/cm2 とするとよい。光透過層(7) が半硬化状態の場合には、光透過層(7) を完全に硬化させるために、より多くの紫外線の照射量が必要となる。
At this time, the irradiation amount of ultraviolet rays depends on the thickness of the hard coat layer (8), but when the light transmission layer (7) using the active energy ray- curable material is semi-cured, the light transmission layer depending on the thickness of the (7), for example 500~5000mJ / cm 2, may preferably be a 1000~4000mJ / cm 2. When the light transmission layer (7) is in a semi-cured state, a larger amount of UV irradiation is required to completely cure the light transmission layer (7).

紫外線照射後の電子線の照射量は、例えば5〜500kGy、好ましくは10〜100kGyとするとよい。また、電子線の加速電圧は、例えば20〜100kV、好ましくは30〜70kVとするとよい。この程度の電子線照射量及び加速電圧で、化合物(A)の硬化・固定化を効率良く行うことができ、さらに、情報層への電子線によるダメージが起こらないようにすることができる。電子線の加速電圧が100kVを超えると、情報層のダメージが懸念される。   The irradiation amount of the electron beam after the ultraviolet irradiation is, for example, 5 to 500 kGy, preferably 10 to 100 kGy. The acceleration voltage of the electron beam is, for example, 20 to 100 kV, preferably 30 to 70 kV. With this amount of electron beam irradiation and acceleration voltage, the compound (A) can be efficiently cured and fixed, and further, the information layer can be prevented from being damaged by the electron beam. If the acceleration voltage of the electron beam exceeds 100 kV, the information layer may be damaged.

また、紫外線照射及び電子線照射の際には、雰囲気中の酸素濃度が500ppm以下、好ましくは200ppm以下、より好ましくは10ppm以下となるように、窒素などの不活性ガスによるパージを行うことが好ましい。これは、照射雰囲気中で生じる酸素ラジカルに起因する表面の硬化阻害を抑制するためである。あるいは、照射雰囲気中の酸素濃度を制御する代わりに、ハードコート層用組成物中に、従来公知の各種酸素阻害抑制剤を添加しておいてもよい。このような酸素阻害抑制剤としては、例えば、特開2000−109828号公報、特開2000−109828号公報及び特開2000−144011号公報に記載されている酸素阻害抑制剤を用いることができる。いうまでもなく、上記酸素阻害抑制剤と、照射雰囲気中の酸素濃度制御とを併用しても差し支えない。   In addition, it is preferable to perform purging with an inert gas such as nitrogen so that the oxygen concentration in the atmosphere is 500 ppm or less, preferably 200 ppm or less, more preferably 10 ppm or less during ultraviolet irradiation and electron beam irradiation. . This is in order to suppress surface hardening inhibition caused by oxygen radicals generated in the irradiation atmosphere. Alternatively, instead of controlling the oxygen concentration in the irradiation atmosphere, various conventionally known oxygen inhibition inhibitors may be added to the hard coat layer composition. As such an oxygen inhibition inhibitor, for example, oxygen inhibition inhibitors described in JP2000-109828A, JP2000-109828A, and JP2000-144011A can be used. Needless to say, the oxygen inhibition inhibitor and oxygen concentration control in the irradiation atmosphere may be used in combination.

硬化後のハードコート層(8) の膜厚は、0.5〜5μm程度とするとよい。膜厚が5μmよりも厚いと、ハードコート層にクラックが生じ易くなり、一方、膜厚が0.5μmよりも薄いと、ハードコート層の耐摩耗性が低くなる傾向にある。   The film thickness of the hard coat layer (8) after curing is preferably about 0.5 to 5 μm. If the film thickness is greater than 5 μm, cracks are likely to occur in the hard coat layer, while if the film thickness is less than 0.5 μm, the wear resistance of the hard coat layer tends to be low.

あるいは、光透過層(7) として光透過性シートを使用する場合、長尺状の光透過性シート原反に予め上記と同様の方法でハードコート層(8) を形成しておき、この原反をディスク形状に打ち抜いた後、前記のように未硬化の樹脂材料層上に載置し樹脂材料層を硬化させてもよい。   Alternatively, when a light-transmitting sheet is used as the light-transmitting layer (7), a hard coat layer (8) is formed in advance on the long light-transmitting sheet original fabric in the same manner as described above, and this original After punching the substrate into a disc shape, it may be placed on an uncured resin material layer as described above to cure the resin material layer.

以上のように、ハードコート層及び光透過層側が記録/再生ビーム入射側表面とされる光情報媒体として、図2に例示する相変化型光記録ディスクが得られる。   As described above, the phase change type optical recording disk illustrated in FIG. 2 is obtained as an optical information medium in which the hard coat layer and the light transmission layer side are the recording / reproducing beam incident side surface.

2.ハードコート層及び支持基体側が記録/再生ビーム入射側とされる光情報媒体の製造方法:
図3は、本発明において製造される光ディスクの他の層構成例を示す概略断面図である。図3に例示する光ディスクは、光透過性支持基体(20)の一方の面上に情報層(4) と、情報層(4) 上の樹脂層(6) とを有し、支持基体(20)の他方の面上に光透過性ハードコート層(8) を有する。ハードコート層(8) が記録/再生ビーム入射側とされ、記録又は再生のためのレーザービームはハードコート層(8) 及び支持基体(20)を通して記録層(4) に入射する。
2. Manufacturing method of optical information medium in which hard coat layer and supporting substrate side are recording / reproducing beam incident side:
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing another layer configuration example of the optical disc manufactured in the present invention. The optical disk illustrated in FIG. 3 has an information layer (4) on one surface of a light-transmissive support base (20) and a resin layer (6) on the information layer (4). ) On the other surface is provided with a light-transmitting hard coat layer (8). The hard coat layer (8) is on the recording / reproducing beam incident side, and a laser beam for recording or reproducing is incident on the recording layer (4) through the hard coat layer (8) and the support substrate (20).

図4は、本発明において製造される光ディスクの他の層構成例を示す概略断面図である。図4に例示する光記録ディスクは、光透過性支持基体(20)の一方の面上に、有機色素層(4) と、色素層(4) 上の反射層(3) と、反射層(3) 上に樹脂層(61)を介して貼り合わされた支持基体(21)とを有し、支持基体(20)の他方の面上に光透過性ハードコート層(8) を有し、ハードコート層(8) が記録/再生ビーム入射側とされる。この例では、色素層(4) 及び反射層(3) が情報層を構成する。このような光ディスクとして、追記型のDVD−Rがある。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing another layer configuration example of the optical disc manufactured in the present invention. The optical recording disk illustrated in FIG. 4 includes an organic dye layer (4), a reflective layer (3) on the dye layer (4), and a reflective layer (1) on one surface of a light-transmitting support substrate (20). 3) a support base (21) bonded via a resin layer (61) on top, and a light-transmitting hard coat layer (8) on the other surface of the support base (20). The coating layer (8) is the recording / reproducing beam incident side. In this example, the dye layer (4) and the reflective layer (3) constitute an information layer. As such an optical disk, there is a write-once type DVD-R.

図4に例示した追記型のDVD−Rの他にも、再生専用型のDVD−ROM、書換え可能型のDVD−RAM、DVD−RW等、種々のものが商品化されている。再生専用型のDVDとしては、DVD−VideoやDVD−ROM等があるが、これらの光ディスクでは、光透過性支持基体の形成の際に、情報信号が記録されたピットと呼ばれる凹凸が形成され、その上にAlなどの金属反射層が形成され、さらに樹脂層が形成される。樹脂層を介して別の支持基体が貼り合わされて、最終的な光ディスクとなる。書換え可能型のDVDの場合には、前記1.の相変化型記録媒体について説明したのと同様に、情報層を構成すれば良い。   In addition to the write-once type DVD-R illustrated in FIG. 4, various types such as a read-only type DVD-ROM, a rewritable type DVD-RAM, and a DVD-RW have been commercialized. As read-only DVDs, there are DVD-Video, DVD-ROM, and the like, but in these optical discs, irregularities called pits on which information signals are recorded are formed when a light-transmissive support base is formed, A metal reflective layer such as Al is formed thereon, and a resin layer is further formed. Another support substrate is bonded through the resin layer to form a final optical disc. In the case of a rewritable DVD, the above 1. The information layer may be configured in the same manner as described for the phase change recording medium.

支持基体(20)としては、光透過性の基板が用いられる。光透過性支持基体(20)は従来、ポリカーボネート樹脂を射出成形し、その表面に種々の情報、例えばプレピットやプレグルーブ等を形成しているが、用いる材料はこれに限定されるものでなく、ポリオレフィン樹脂等の樹脂等も好ましく用いられる。あるいは、ガラス平板に2P法によりプレピットやグルーブを形成することによっても得られる。   As the support base (20), a light transmissive substrate is used. Conventionally, the light transmissive support substrate (20) is formed by injection-molding polycarbonate resin, and various information such as pre-pits and pre-grooves are formed on the surface thereof, but the material used is not limited to this, Resins such as polyolefin resins are also preferably used. Alternatively, it can be obtained by forming prepits or grooves on a glass flat plate by the 2P method.

支持基体(20)上に、スピンコート法により溶剤に溶解した有機色素を塗布し、乾燥することで目的の膜厚の有機色素層(4) を形成する。有機色素としては、種々のシアニン色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等から選択する。色素層形成の方法はスピンコート法以外にスプレー法やスクリーン印刷法、さらには蒸着法等も適用可能で、形成する膜厚は用いる色素によって適宜、選択される。   On the support substrate (20), an organic dye dissolved in a solvent is applied by spin coating, and dried to form an organic dye layer (4) having a desired film thickness. The organic dye is selected from various cyanine dyes, azo dyes, phthalocyanine dyes, and the like. As a method for forming the dye layer, a spray method, a screen printing method, and a vapor deposition method can be applied in addition to the spin coating method, and the film thickness to be formed is appropriately selected depending on the dye to be used.

スピンコート法を適用する場合、色素成分を溶媒に溶解して有機色素溶液として使用するが、溶媒としては、色素を十分溶解することができ、また透過性基板に悪影響を及ぼさないものを選択して用いる。濃度は0.01〜10重量%程度が好ましい。   When applying the spin coating method, the dye component is dissolved in a solvent and used as an organic dye solution. Select a solvent that can sufficiently dissolve the dye and does not adversely affect the transparent substrate. Use. The concentration is preferably about 0.01 to 10% by weight.

溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフルオロプロパノール等のアルコール系;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン等の脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒;トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒;四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタン、ジブロモエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル系溶媒;3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、乳酸メチル等のエステル系溶媒;水などが挙げられ、これらの中から基板材料を侵さないものを用いることができる。これらは単独で用いてもよく、あるいは2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, tetrafluoropropanol; hexane, heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as dimethylcyclohexane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and benzene; halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane and dibromoethane; diethyl Ether solvents such as ether, dibutyl ether, diisopropyl ether, dioxane; ketone solvents such as 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; ethyl acetate, methyl lactate Ester-based solvents; water and the like, can be used from among these does not attack the substrate material. These may be used singly or in combination of two or more.

有機色素層の膜厚は、特に限定するものでないが、10〜300nm程度が好ましく、特には60〜250nm程度である。   The thickness of the organic dye layer is not particularly limited, but is preferably about 10 to 300 nm, and particularly about 60 to 250 nm.

有機色素層(4) 上に反射層(3) を設ける。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の充分高いもの、例えばAu、Ag、Cu、Al、Ni、Pd、Cr、Pt等の元素を単独または合金として用いる。また上記以外でも下記のものを含んでいてもよい。例えばMg、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属および半金属等を挙げることができる。   A reflective layer (3) is provided on the organic dye layer (4). As a material for the reflective layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, an element such as Au, Ag, Cu, Al, Ni, Pd, Cr, or Pt is used alone or as an alloy. In addition to the above, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, etc. A metal, a semimetal, etc. can be mentioned.

反射層の形成は、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられるが、これら例示に限定されるものでない。また、基板の上や反射層の下に反射率の向上や記録特性の改善のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けてもよい。反射層の膜厚は特に限定されるものでないが、10〜300nm程度が好ましく、特には80〜200nm程度である。   Examples of the formation of the reflective layer include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, and the like, but are not limited to these examples. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or under the reflective layer in order to improve reflectivity or improve recording characteristics. The thickness of the reflective layer is not particularly limited, but is preferably about 10 to 300 nm, and particularly about 80 to 200 nm.

反射層(3) の上には通常、樹脂層(61)を介して支持基体(21)が貼り合わされる。支持基体(21)は、前記支持基体(20)と同様のものが用いられる。樹脂層(61)の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定されるものでなく、公知の有機物質又は無機物質を用いることができる。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、SiO2 、SiN4 、MgF2 、SnO2 等が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂は、そのまま若しくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させることによって形成することができる。紫外線硬化性樹脂としては、例えばウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート樹脂を用いることができる。これらの材料は単独で、あるいは混合して用いてもよいし、1層だけでなく多層膜にして用いてもよい。樹脂層(61)が、両支持基体(20)及び(21)を接着するための接着剤層としての役割を果たしていてもよい。 On the reflective layer (3), a support substrate (21) is usually bonded via a resin layer (61). The support base (21) is the same as the support base (20). The material of the resin layer (61) is not particularly limited as long as it can protect the reflective layer from external force, and a known organic substance or inorganic substance can be used. Examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable resin. Examples of inorganic substances include SiO 2 , SiN 4 , MgF 2 , SnO 2 and the like. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, etc. can be formed by dissolving in an appropriate solvent, applying a coating solution, and drying. The ultraviolet curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving in an appropriate solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiating with ultraviolet rays. As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or in combination, and may be used as a multilayer film as well as a single layer. The resin layer (61) may serve as an adhesive layer for bonding the supporting substrates (20) and (21).

樹脂層(61)の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法などの塗布方法や、スパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられる。   As the method for forming the resin layer (61), as with the recording layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a method such as a sputtering method or a chemical vapor deposition method is used.

また、樹脂層(61)の上に接着剤層を形成してもよい。接着剤としては、ホットメルト接着剤、紫外線硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、粘着型接着剤などが用いられ、それぞれに適する方法、例えば、ロールコーター法や、スクリーン印刷法、スピンコート法などによって接着剤層が形成される。DVD−Rの場合、作業性や生産性、ディスク特性などから総合的に判断して紫外線硬化型接着剤を用い、スクリーン印刷法やスピンコート法が用いられる。   An adhesive layer may be formed on the resin layer (61). As the adhesive, a hot melt adhesive, an ultraviolet curable adhesive, a heat curable adhesive, a pressure sensitive adhesive, and the like are used. For example, a roll coater method, a screen printing method, a spin coating method. Etc., an adhesive layer is formed. In the case of DVD-R, a screen printing method or a spin coating method is used using an ultraviolet curable adhesive comprehensively determined from workability, productivity, and disk characteristics.

一方、支持基体(20)の他方の面上に光透過性ハードコート層(8) を形成する。ハードコート層(8) の材料及び形成方法は、1.において述べたのと同様である。硬化後のハードコート層(8) の表面近傍により多くの化合物(A)が固定化され、表面の防汚耐久性に非常に優れるハードコート層(8) が形成される。ハードコート層(8) が記録/再生ビーム入射側とされる。記録/再生ビームとしては、650nmや660nmの波長のレーザービームが用いられる。また、青色レーザービームが用いられる。   On the other hand, a light-transmitting hard coat layer (8) is formed on the other surface of the support substrate (20). The material and forming method of the hard coat layer (8) are as follows. This is the same as described in. More compound (A) is fixed in the vicinity of the surface of the hard coat layer (8) after curing, and a hard coat layer (8) having excellent surface antifouling durability is formed. The hard coat layer (8) is the recording / reproducing beam incident side. As the recording / reproducing beam, a laser beam having a wavelength of 650 nm or 660 nm is used. A blue laser beam is also used.

以上のように、ハードコート層及び支持基体側が記録/再生ビーム入射側とされる光情報媒体として、図4に例示するDVD−Rが得られる。   As described above, the DVD-R illustrated in FIG. 4 is obtained as an optical information medium in which the hard coat layer and the supporting substrate side are the recording / reproducing beam incident side.

以上では、光情報媒体の表面上へのハードコート層形成について説明した。本発明において、光情報媒体以外の他の各種物体表面上へのハードコート層形成も、上記と同様のハードコート層用組成物を用いて、適宜塗布方法による塗布工程、及び紫外線照射後の電子線照射による硬化工程を行うことによって実施することができる。   The hard coat layer formation on the surface of the optical information medium has been described above. In the present invention, the hard coat layer is formed on the surface of various objects other than the optical information medium, using the same hard coat layer composition as described above, as appropriate, with an application step by an application method, and an electron after ultraviolet irradiation. It can carry out by performing the hardening process by a beam irradiation.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

[実施例1]
図2に示す層構成の光記録ディスクサンプルを次のように作製した。
情報記録のためにグルーブが形成されたディスク状支持基体(20)(ポリカーボネート製、直径120mm、厚さ1.1mm)のグルーブが形成された面上に、Al98Pd1 Cu1 (原子比)からなる厚さ100nmの反射層(3) をスパッタリング法により形成した。前記グルーブの深さは、波長λ=405nmにおける光路長で表してλ/6とした。グルーブ記録方式における記録トラックピッチは、0.32μmとした。
[Example 1]
An optical recording disk sample having the layer structure shown in FIG. 2 was produced as follows.
Al 98 Pd 1 Cu 1 (atomic ratio) is formed on the surface of the disk-shaped support base (20) (made of polycarbonate, diameter 120 mm, thickness 1.1 mm) on which grooves are formed for information recording. A reflective layer (3) having a thickness of 100 nm was formed by sputtering. The depth of the groove was λ / 6 expressed by the optical path length at the wavelength λ = 405 nm. The recording track pitch in the groove recording system was 0.32 μm.

次いで、反射層(3) 表面に、Al2 3 ターゲットを用いてスパッタリング法により、厚さ20nmの第2誘電体層(52)を形成した。第2誘電体層(52)表面に、相変化材料からなる合金ターゲットを用いてスパッタリング法により、厚さ12nmの記録層(4) を形成した。記録層(4) の組成(原子比)は、Sb74Te18(Ge7 In1 )とした。記録層(4) 表面に、ZnS(80モル%)−SiO2 (20モル%)ターゲットを用いてスパッタリング法により、厚さ130nmの第1誘電体層(51)を形成した。 Next, a second dielectric layer (52) having a thickness of 20 nm was formed on the surface of the reflective layer (3) by sputtering using an Al 2 O 3 target. A recording layer (4) having a thickness of 12 nm was formed on the surface of the second dielectric layer (52) by sputtering using an alloy target made of a phase change material. The composition (atomic ratio) of the recording layer (4) was Sb 74 Te 18 (Ge 7 In 1 ). The recording layer (4) surface, ZnS (80 mol%) - by SiO 2 (20 mol%) sputtering method using a target, thereby forming a first dielectric layer having a thickness of 130 nm (51).

次いで、第1誘電体層(51)表面に、下記組成のラジカル重合性の紫外線硬化性材料をスピンコート法により塗布して、照射強度160W/cm、ランプとの距離11cm、積算光量200mJ/cm2 にて紫外線を照射して、硬化後の厚さ98μmとなるように光透過層(7) を形成した。光透過層(7) の表面近傍は半硬化状態であった。 Next, a radical polymerizable ultraviolet curable material having the following composition was applied to the surface of the first dielectric layer (51) by spin coating, the irradiation intensity was 160 W / cm, the distance from the lamp was 11 cm, and the integrated light quantity was 200 mJ / cm. The light transmitting layer (7) was formed by irradiating ultraviolet rays at 2 so that the thickness after curing was 98 μm. The vicinity of the surface of the light transmission layer (7) was in a semi-cured state.

(光透過層:紫外線硬化性材料の組成)
ウレタンアクリレートオリゴマー 50重量部
(三菱レイヨン(株)製、ダイヤビームUK6035)
イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート 10重量部
(東亜合成(株)製、アロニックスM315)
イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート 5重量部
(東亜合成(株)製、アロニックスM215)
テトラヒドロフルフリルアクリレート 25重量部
光重合開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン) 3重量部
(Light transmission layer: Composition of UV curable material)
50 parts by weight of urethane acrylate oligomer (Made by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Diabeam UK6035)
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate 10 parts by weight (Aronix M315, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.)
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate 5 parts by weight (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., Aronix M215)
Tetrahydrofurfuryl acrylate 25 parts by weight Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 3 parts by weight

次いで、光透過層(7) 上に、下記組成の紫外線/電子線硬化型ハードコート剤をスピンコート法により塗布して被膜とし、大気中で80℃で3分間加熱することにより被膜内部の希釈溶剤を除去し、未硬化のハードコート層を形成した。   Next, an ultraviolet / electron beam curable hard coating agent having the following composition is applied onto the light transmission layer (7) by a spin coating method to form a film, which is then heated in air at 80 ° C. for 3 minutes to dilute the inside of the film. The solvent was removed to form an uncured hard coat layer.

(ハードコート剤の組成)
反応性基修飾コロイダルシリカ(分散媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、不揮発分:40重量%) 100重量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 48重量部
テトラヒドロフルフリルアクリレート 12重量部
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 40重量部
(非反応性希釈溶剤)
光重合開始剤(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン) 5重量部
X−22−164C(信越化学工業(株)製、ポリジメチルシロキサンの両末端がメタクリル変性されたもの) 0.40重量部
(Composition of hard coating agent)
Reactive group-modified colloidal silica (dispersion medium: propylene glycol monomethyl ether acetate, nonvolatile content: 40% by weight) 100 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate 48 parts by weight tetrahydrofurfuryl acrylate 12 parts by weight propylene glycol monomethyl ether acetate 40 parts by weight ( Non-reactive diluent solvent)
Photopolymerization initiator (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone) 5 parts by weight X-22-164C (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., dimethyl-modified polydimethylsiloxane) 0.40 parts by weight

ハードコート層の硬化工程:
未硬化のハードコート層に、窒素気流下で照射強度280W/cm、ランプとの距離11cm、積算光量3000mJ/cm2 にて紫外線を照射して、その後さらに、窒素気流下で電子線を照射して、光透過層(7) 及びハードコート層(8) を完全に硬化させた。電子線照射装置Min−EB(東洋インキ製造(株)製)を用い、電子線加速電圧を50kV、照射線量を10kGyとした。紫外線照射及び電子線照射雰囲気の酸素濃度は80ppmであった。硬化後のハードコート層(8) の厚さは2μmであった。
Hard coat layer curing process:
The uncured hard coat layer was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 280 W / cm, a distance from the lamp of 11 cm and an integrated light quantity of 3000 mJ / cm 2 under a nitrogen stream, and then further irradiated with an electron beam under a nitrogen stream. Thus, the light transmission layer (7) and the hard coat layer (8) were completely cured. An electron beam irradiation apparatus Min-EB (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) was used, the electron beam acceleration voltage was 50 kV, and the irradiation dose was 10 kGy. The oxygen concentration in the ultraviolet irradiation and electron beam irradiation atmosphere was 80 ppm. The thickness of the hard coat layer (8) after curing was 2 μm.

以上のようにしてディスクサンプルを作製した。   A disk sample was produced as described above.

[実施例2]
ハードコート層の硬化工程において、電子線照射線量を20kGyとした以外は、実施例1と同様にしてディスクサンプルを作製した。
[Example 2]
A disk sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation dose was 20 kGy in the hard coat layer curing step.

[実施例3]
ハードコート層の硬化工程において、電子線照射線量を40kGyとした以外は、実施例1と同様にしてディスクサンプルを作製した。
[Example 3]
A disk sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation dose was 40 kGy in the hard coat layer curing step.

[実施例4]
ハードコート層の硬化工程において、電子線照射線量を100kGyとした以外は、実施例1と同様にしてディスクサンプルを作製した。
[Example 4]
A disk sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation dose was set to 100 kGy in the hard coat layer curing step.

[比較例1]
ハードコート層の硬化工程において、紫外線照射後の電子線照射を行わなかった以外は、実施例1と同様にしてディスクサンプルを作製した。
[Comparative Example 1]
A disk sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation after ultraviolet irradiation was not performed in the hard coat layer curing step.

[比較例2]
ハードコート層の硬化工程を次のように行った以外は、実施例1と同様にしてディスクサンプルを作製した。
未硬化のハードコート層に、窒素気流下で電子線を照射した。電子線照射装置Min−EB(東洋インキ製造(株)製)を用い、電子線加速電圧を50kV、照射線量を20kGyとした。その後さらに、窒素気流下で照射強度280W/cm、ランプとの距離11cm、積算光量3000mJ/cm2 にて紫外線を照射して、光透過層(7) 及びハードコート層(8) を完全に硬化させた。紫外線照射及び電子線照射雰囲気の酸素濃度は80ppmであった。硬化後のハードコート層(8) の厚さは2μmであった。
[Comparative Example 2]
A disk sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer curing step was performed as follows.
The uncured hard coat layer was irradiated with an electron beam under a nitrogen stream. Using an electron beam irradiation apparatus Min-EB (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), the electron beam acceleration voltage was 50 kV, and the irradiation dose was 20 kGy. Thereafter, the light transmitting layer (7) and the hard coat layer (8) are completely cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 280 W / cm, a distance from the lamp of 11 cm, and an integrated light quantity of 3000 mJ / cm 2 under a nitrogen stream. I let you. The oxygen concentration in the ultraviolet irradiation and electron beam irradiation atmosphere was 80 ppm. The thickness of the hard coat layer (8) after curing was 2 μm.

[比較例3]
ハードコート層の硬化工程を次のように行った以外は、実施例1と同様にしてディスクサンプルを作製した。
未硬化のハードコート層に、窒素気流下で電子線を照射した。電子線照射装置Min−EB(東洋インキ製造(株)製)を用い、電子線加速電圧を50kV、照射線量を100kGyとした。その後さらに、窒素気流下で照射強度280W/cm、ランプとの距離11cm、積算光量3000mJ/cm2 にて紫外線を照射して、光透過層(7) 及びハードコート層(8) を完全に硬化させた。紫外線照射及び電子線照射雰囲気の酸素濃度は80ppmであった。硬化後のハードコート層(8) の厚さは2μmであった。
[Comparative Example 3]
A disk sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer curing step was performed as follows.
The uncured hard coat layer was irradiated with an electron beam under a nitrogen stream. Using an electron beam irradiation apparatus Min-EB (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), the electron beam acceleration voltage was 50 kV and the irradiation dose was 100 kGy. Thereafter, the light transmitting layer (7) and the hard coat layer (8) are completely cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 280 W / cm, a distance from the lamp of 11 cm, and an integrated light quantity of 3000 mJ / cm 2 under a nitrogen stream. I let you. The oxygen concentration in the ultraviolet irradiation and electron beam irradiation atmosphere was 80 ppm. The thickness of the hard coat layer (8) after curing was 2 μm.

[比較例4]
ハードコート層の硬化工程を次のように行った以外は、実施例1と同様にしてディスクサンプルを作製した。
未硬化のハードコート層に、窒素気流下で電子線を照射した。電子線照射装置Min−EB(東洋インキ製造(株)製)を用い、電子線加速電圧を50kV、照射線量を100kGyとした。電子線照射雰囲気の酸素濃度は80ppmであった。
[Comparative Example 4]
A disk sample was produced in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer curing step was performed as follows.
The uncured hard coat layer was irradiated with an electron beam under a nitrogen stream. Using an electron beam irradiation apparatus Min-EB (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.), the electron beam acceleration voltage was 50 kV and the irradiation dose was 100 kGy. The oxygen concentration in the electron beam irradiation atmosphere was 80 ppm.

[電子線照射線量の測定方法]
上記各実施例及び比較例に先立って、電子線照射装置Min−EBを用いた場合の電子線照射線量を予め、次のようにして求めておいた。
電子線照射線量の測定は、米国 FAR WEST Technology社の RADIACHROMIC READER (RCD)を用いて、同社製のRCDフィルム,品番FWT60−810,フィルム厚10μmを用いて行った。このフィルムは、電子線照射線量測定用フィルムとして一般的なものであり、フィルムの着色量より電子線吸収線量を計るものである。操作手順は、以下の通りである。この操作手順は、”超低エネルギー電子線照射とその特性”,放射線と産業,77号(1998)に記載されている。
[Measurement method of electron beam irradiation dose]
Prior to each of the above examples and comparative examples, the electron beam irradiation dose in the case of using the electron beam irradiation apparatus Min-EB was obtained in advance as follows.
The electron beam irradiation dose was measured using a RADIACHROMIC READER (RCD) manufactured by FAR WEST Technology, USA, using an RCD film manufactured by the same company, product number FWT60-810, and a film thickness of 10 μm. This film is generally used as an electron beam irradiation dose measuring film, and measures an electron beam absorbed dose from the amount of coloring of the film. The operation procedure is as follows. This operation procedure is described in “Ultra-low energy electron beam irradiation and its characteristics”, Radiation and Industry, 77 (1998).

・測定する前にRCDの電源を入れ、RCDが安定するまで所定の時間(15〜60分間程度)をおく。
・RCDの波長ダイヤルを600nm(フィルム厚10μm用)にセットする。
・RCDのセル(ホルダー)を全光透過状態とし、0点補正を行う。
・RCDのセル(ホルダー)を全光不透過状態とし、100%補正を行う。
・未照射フィルムを1cm×1cmの正方形に切断し、セルに入れ、リーダーにセットして測定を行う。これをブランク値とする。
・電子線照射装置Min−EBを用いて照射された照射済み測定用フィルムを1cm×1cmの正方形に切断し、セルに入れ、リーダーにセットして測定を行う。これによりOD値(吸光度)を得る。
・フィルムの電子線吸収線量は、以下により求められる。
吸収線量=0.333×(t/0.01)1.219
ここで、t=(OD値)−(ブランク値)
-Turn on the RCD before measurement and allow a predetermined time (about 15 to 60 minutes) until the RCD stabilizes.
Set the RCD wavelength dial to 600 nm (for film thickness 10 μm).
・ Set the RCD cell (holder) to the full light transmission state and perform zero point correction.
• Make the RCD cell (holder) opaque and make 100% correction.
-Cut an unirradiated film into a 1 cm x 1 cm square, put it in a cell, and set it in a reader to perform measurement. This is the blank value.
The irradiated measurement film irradiated using the electron beam irradiation apparatus Min-EB is cut into a 1 cm × 1 cm square, put into a cell, and set in a reader for measurement. Thereby, an OD value (absorbance) is obtained.
-The electron beam absorbed dose of the film is obtained by the following.
Absorbed dose = 0.333 × (t / 0.01) 1.219
Where t = (OD value) − (blank value)

[ディスクサンプルの評価]
実施例1〜4及び比較例1〜4で作製した各ディスクサンプルについて、以下に示す性能試験を行った。
[Evaluation of disk sample]
The performance test shown below was performed on each disk sample produced in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-4.

(防汚性及びその耐久性の評価)
各ディスクサンプルのハードコート表面の接触角を測定した。各ディスクサンプルのハードコート表面に、温度25℃、相対湿度50%の雰囲気中で純水を滴下し、協和界面科学(株)製の接触角計CA−D(商品名)を用いて、JIS R3257−1999に定められた静滴法にしたがって、純水の静止接触角を測定した。まず、初期の接触角(a) を測定した。
(Evaluation of antifouling properties and durability)
The contact angle of the hard coat surface of each disk sample was measured. Pure water is dropped onto the hard coat surface of each disk sample in an atmosphere of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 50%, and a contact angle meter CA-D (trade name) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. is used. The static contact angle of pure water was measured according to the sessile drop method defined in R3257-1999. First, the initial contact angle (a) was measured.

次に、防汚耐久性の評価として、アセトンラビング(rubbing) 後の接触角(b) を測定した。アセトンラビング後の接触角(b) については、不織布(旭化成工業(株)製、ベンコットリントフリーCT−8)にアセトンを含浸させ、これを荷重9.8N/cm2 にて各ディスクサンプルのハードコート表面に押し付けて100往復摺動させることにより擦った。その後に、上記と同条件で接触角を測定した。 Next, as an evaluation of antifouling durability, the contact angle (b) after acetone rubbing was measured. Regarding the contact angle (b) after acetone rubbing, a nonwoven fabric (Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd., Bencott Lint Free CT-8) was impregnated with acetone, and this was hardened for each disk sample at a load of 9.8 N / cm 2 . The surface was rubbed by pressing against the coat surface and sliding 100 times. Thereafter, the contact angle was measured under the same conditions as described above.

このアセトン含浸不織布による擦り試験は、ディスクサンプルのハードコート表面に存在する潤滑性物質(A)の固定化を確かめるための過酷な試験である。アセトンラビング後の接触角(b) が初期の接触角(a) から低下していなければ、そのディスクサンプルは、長時間にわたって繰り返し使用された場合においても、信頼性が非常に高いものである。   This rubbing test with an acetone-impregnated nonwoven fabric is a severe test for confirming the fixation of the lubricating substance (A) present on the hard coat surface of the disk sample. If the contact angle (b) after acetone rubbing is not lowered from the initial contact angle (a), the disc sample is very reliable even when used repeatedly over a long period of time.

(摩擦係数)
図5に概略を示す方法に従って、ディスクサンプル(初期のもの)のハードコート表面の摩擦係数の測定を行った。図5を参照して、光ディスクサンプル(1) をスピンドルモータ(21)上にハードコート(8) 面が上になるように載置した。幅20mm、長さ100mmの短冊状に切断された不織布(22)(旭化成工業(株)製、ベンコットリントフリーCT−8)を、光ディスクのハードコート(8) 表面に載せ、次いで、不織布(22)の一方の端部(22a) に、直径20mmの円形底面を有し重さ30gの分銅(24)を載せて0.1N/cm2 の荷重をかけた。この際、分銅(24)の位置がディスクの中心から半径方向に約40mmの位置になるようにして、不織布(22)の長手方向が、ディスク中心と分銅(24)の位置とを結ぶ半径方向と垂直となるようにセッティングした。不織布(22)の他方の端部(22b) をトランスデューサ(23)に固定し、この状態で光ディスク(1) を670rpmの回転数で回転させた。不織布(22)に生じる摩擦力をトランスデューサ(23)で検知し、摩擦係数を測定した。
(Coefficient of friction)
The friction coefficient of the hard coat surface of the disk sample (initial one) was measured according to the method schematically shown in FIG. Referring to FIG. 5, the optical disk sample (1) was placed on the spindle motor (21) so that the hard coat (8) surface was up. A non-woven fabric (22) (Bencott Lint Free CT-8, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) cut into a strip shape having a width of 20 mm and a length of 100 mm was placed on the hard coat (8) surface of the optical disc, and then the non-woven fabric (22 On one end (22a), a weight (30) having a circular bottom with a diameter of 20 mm and a weight of 30 g was placed and a load of 0.1 N / cm 2 was applied. At this time, the length of the nonwoven fabric (22) is the radial direction connecting the center of the disk and the position of the weight (24) so that the position of the weight (24) is about 40 mm in the radial direction from the center of the disk. And set to be vertical. The other end (22b) of the nonwoven fabric (22) was fixed to the transducer (23), and the optical disk (1) was rotated at a rotational speed of 670 rpm in this state. The friction force generated in the nonwoven fabric (22) was detected by the transducer (23), and the friction coefficient was measured.

以上の測定結果を表1に示す。表1の硬化工程において、UVとは紫外線照射を表し、EBとは電子線照射を表す。   The above measurement results are shown in Table 1. In the curing step of Table 1, UV represents ultraviolet irradiation, and EB represents electron beam irradiation.

Figure 0004496766
Figure 0004496766

表1から、実施例1〜4のディスクサンプルはいずれも、防汚性及びその耐久性に非常に優れていた。比較例1〜4のディスクサンプルはいずれも、実施例1〜4に比べ、アセトンラビング後の接触角(b) が初期の接触角(a) から低下していた。実施例2及び比較例2では、同じ紫外線照射量及び同じ電子線照射量であったにも係わらず、接触角(b) の低下に大きな違いが認められた。   From Table 1, all of the disk samples of Examples 1 to 4 were very excellent in antifouling property and durability. In all of the disk samples of Comparative Examples 1 to 4, the contact angle (b) after acetone rubbing was lower than the initial contact angle (a) as compared with Examples 1 to 4. In Example 2 and Comparative Example 2, a large difference was observed in the decrease in the contact angle (b) despite the same ultraviolet ray irradiation amount and the same electron beam irradiation amount.

上記実施例では、相変化型光ディスクの製造例を示した。しかしながら、本発明は、記録層が相変化型の光ディスクのみならず、再生専用型光ディスクや、追記型光ディスクにも適用される。さらに、本発明は、光ディスクのみならず、その他の種々の物体表面への保護層ないしはハードコート層の付与にも適用される。そのため、前述の実施例はあらゆる点で単なる例示にすぎず、限定的に解釈してはならない。さらに、特許請求の範囲の均等範囲に属する変更は、すべて本発明の範囲内のものである。   In the above embodiment, an example of manufacturing a phase change optical disk has been shown. However, the present invention is applied not only to a phase change type optical disc but also to a read-only optical disc and a write once optical disc. Further, the present invention is applied not only to the optical disc but also to the application of a protective layer or hard coat layer to various other object surfaces. For this reason, the above-described embodiment is merely an example in all respects and should not be interpreted in a limited manner. Further, all modifications belonging to the equivalent scope of the claims are within the scope of the present invention.

本発明において製造される光ディスクの層構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the laminated constitution of the optical disk manufactured in this invention. 本発明において製造される光ディスクの層構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the laminated constitution of the optical disk manufactured in this invention. 本発明において製造される光ディスクの他の層構成例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other layer structural example of the optical disk manufactured in this invention. 本発明において製造される光ディスクの他の層構成例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other layer structural example of the optical disk manufactured in this invention. 光ディスクの摩擦係数の測定方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the measuring method of the friction coefficient of an optical disk.

符号の説明Explanation of symbols

(20):支持基体
(3) :反射層
(52):第2誘電体層
(4) :記録層
(51):第1誘電体層
(7) :光透過層
(8) :保護層(ハードコート層)
(20): Support base
(3): Reflective layer
(52): Second dielectric layer
(4): Recording layer
(51): First dielectric layer
(7): Light transmission layer
(8): Protective layer (hard coat layer)

Claims (12)

保護層を付与すべき対象物体上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、前記(A)以外の活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含む保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程と、
未硬化の保護層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化した保護層を形成する硬化工程とを含む、対象物体上に保護層を形成する方法であって、
前記保護層用組成物は、前記組成物中の不揮発分100重量部に対して、前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)0.01重量部以上3重量部以下を含むものであり、
前記保護層用組成物に含まれる前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)は、シリコーン系基及び/又はフッ素系基を有する部位と、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基とを有し、且つ、分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものであり、
前記保護層用組成物に含まれる活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基を有するものである、対象物体上に保護層を形成する方法。
Protection containing an active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) and an active energy ray-curable compound (B) other than the above (A) on a target object to which a protective layer is to be applied. An application step of applying a layer composition to form an uncured protective layer;
A method of forming a protective layer on a target object, comprising: irradiating an uncured protective layer with ultraviolet light, and then irradiating an electron beam to form a cured protective layer ;
The composition for a protective layer contains 0.01 part by weight or more and 3 parts by weight or less of the silicone compound and / or the fluorine compound (A) with respect to 100 parts by weight of the nonvolatile content in the composition. Yes,
The silicone compound and / or the fluorine compound (A) contained in the protective layer composition comprises a silicone group and / or a fluorine group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and a mercapto group. Having at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of, and having two or more active energy ray reactive groups in the molecule,
The active energy ray-curable compound (B) contained in the protective layer composition has at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a vinyl group and a mercapto group. A method for forming a protective layer on a target object.
前記保護層用組成物は、さらに、平均粒子径5nm以上100nm以下の無機微粒子(C)を含む、請求項1に記載の対象物体上に保護層を形成する方法。The method for forming a protective layer on a target object according to claim 1, wherein the protective layer composition further comprises inorganic fine particles (C) having an average particle diameter of 5 nm to 100 nm. 前記保護層用組成物は、前記活性エネルギー線硬化性化合物(B)100重量部に対して、前記無機微粒子(C)5重量部以上500重量部以下を含む、請求項2に記載の対象物体上に保護層を形成する方法。The target object according to claim 2, wherein the composition for a protective layer contains 5 parts by weight or more and 500 parts by weight or less of the inorganic fine particles (C) with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable compound (B). A method for forming a protective layer thereon. 前記保護層用組成物は非反応性有機溶剤をさらに含むものであり、The protective layer composition further comprises a non-reactive organic solvent,
前記保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程の後、前記非反応性有機溶剤を加熱乾燥により除去する工程を行い、その後、硬化工程を行う、請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載の対象物体上に保護層を形成する方法。The coating step of applying the protective layer composition to form an uncured protective layer is followed by a step of removing the non-reactive organic solvent by heating and drying, followed by a curing step. 4. A method for forming a protective layer on a target object according to any one of 3 above.
硬化工程において、電子線照射における電子線の加速電圧は20〜100kVである、請求項1〜4のうちのいずれか1項に記載の対象物体上に保護層を形成する方法。The method for forming a protective layer on a target object according to any one of claims 1 to 4, wherein in the curing step, an acceleration voltage of the electron beam in electron beam irradiation is 20 to 100 kV. 硬化後の保護層は、厚さ0.5μm以上5μm以下である、請求項1〜5のうちのいずれか1項に記載の対象物体上に保護層を形成する方法。The method for forming a protective layer on a target object according to claim 1, wherein the protective layer after curing has a thickness of 0.5 μm or more and 5 μm or less. 支持基体上に少なくとも情報層を含む1層又は複数層から構成される膜体を有し、前記支持基体側及び前記膜体側のうちの記録及び/又は再生ビーム入射側とされる側の上に保護層を有する光情報媒体の製造方法であって、
前記支持基体側及び前記膜体側のうちの記録及び/又は再生ビーム入射側とされる側の上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、前記(A)以外の活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含む保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程と、
未硬化の保護層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化した保護層を形成する硬化工程とを含み、
前記保護層用組成物は、前記組成物中の不揮発分100重量部に対して、前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)0.01重量部以上3重量部以下を含むものであり、
前記保護層用組成物に含まれる前記シリコーン系化合物及び/又は前記フッ素系化合物(A)は、シリコーン系基及び/又はフッ素系基を有する部位と、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基とを有し、且つ、分子内に2つ以上の活性エネルギー線反応性基を有するものであり、
前記保護層用組成物に含まれる活性エネルギー線硬化性化合物(B)は、(メタ)アクリロイル基、ビニル基及びメルカプト基からなる群から選択される少なくとも1つの活性エネルギー線反応性基を有するものである、光情報媒体の製造方法。
On the support substrate, there is a film body composed of one or more layers including at least an information layer, and on the support substrate side and the film body side on the recording and / or reproduction beam incident side A method for producing an optical information medium having a protective layer, comprising:
An active energy ray-reactive silicone compound and / or fluorine compound (A) on the support substrate side and the film body side on the recording and / or reproduction beam incident side, and (A ) Other than the active energy ray-curable compound (B), a coating step of coating a protective layer composition to form an uncured protective layer;
Irradiating ultraviolet radiation on a protective layer of uncured, then irradiated with an electron beam, viewed contains a curing step to form a cured protective layer,
The composition for a protective layer contains 0.01 part by weight or more and 3 parts by weight or less of the silicone compound and / or the fluorine compound (A) with respect to 100 parts by weight of the nonvolatile content in the composition. Yes,
The silicone compound and / or the fluorine compound (A) contained in the protective layer composition comprises a silicone group and / or a fluorine group, a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and a mercapto group. Having at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of, and having two or more active energy ray reactive groups in the molecule,
The active energy ray-curable compound (B) contained in the protective layer composition has at least one active energy ray reactive group selected from the group consisting of a (meth) acryloyl group, a vinyl group and a mercapto group. A method of manufacturing an optical information medium.
前記保護層用組成物は、さらに、平均粒子径5nm以上100nm以下の無機微粒子(C)を含む、請求項に記載の光情報媒体の製造方法。 The method for producing an optical information medium according to claim 7 , wherein the protective layer composition further comprises inorganic fine particles (C) having an average particle diameter of 5 nm to 100 nm. 前記保護層用組成物は、前記活性エネルギー線硬化性化合物(B)100重量部に対して、前記無機微粒子(C)5重量部以上500重量部以下を含む、請求項に記載の光情報媒体の製造方法。 The protective layer composition, relative to the active energy ray-curable compound (B) 100 parts by weight, including the inorganic fine particles (C) 5 parts by weight to 500 parts by weight or less, the optical information according to claim 8 A method for manufacturing a medium. 前記保護層用組成物は非反応性有機溶剤をさらに含むものであり、The protective layer composition further comprises a non-reactive organic solvent,
前記保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程の後、前記非反応性有機溶剤を加熱乾燥により除去する工程を行い、その後、硬化工程を行う、請求項7〜9のうちのいずれか1項に記載の光情報媒体の製造方法。The coating step of applying the protective layer composition to form an uncured protective layer is followed by a step of removing the non-reactive organic solvent by heating and drying, followed by a curing step. The method for manufacturing an optical information medium according to any one of 9.
硬化工程において、電子線照射における電子線の加速電圧は20〜100kVである、請求項7〜10のうちのいずれか1項に記載の光情報媒体の製造方法。 The method for producing an optical information medium according to any one of claims 7 to 10 , wherein in the curing step, an acceleration voltage of the electron beam in the electron beam irradiation is 20 to 100 kV. 硬化後の保護層は、厚さ0.5μm以上5μm以下である、請求項7〜11のうちのいずれか1項に記載の光情報媒体の製造方法。 The method for producing an optical information medium according to any one of claims 7 to 11 , wherein the protective layer after curing has a thickness of 0.5 µm or more and 5 µm or less.
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