JP4480024B2 - Optical pulse pattern generator - Google Patents
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Description
本発明は、バースト状の光パルス列を発生させる光パルスパターン生成器の技術分野に関するものである。 The present invention relates to a technical field of an optical pulse pattern generator for generating a burst-like optical pulse train.
UWB(Ultra WideBand)技術に基づく無線通信では、信号の広帯域性により他の通信システム(例えば、電波天文、衛星通信、放送等に係る通信システム)に対する与干渉や、同一の通信システム内で生じる被干渉等を低減できる信号波形を検討することが重要な課題となっている。 In wireless communication based on UWB (Ultra WideBand) technology, interference with other communication systems (for example, communication systems related to radio astronomy, satellite communication, broadcasting, etc.) due to the wide bandwidth of the signal, or interference caused in the same communication system. It is an important issue to examine signal waveforms that can reduce interference and the like.
特に最近では、他の通信システムへの与干渉の低減化を図ることを目的に、従来から用いられているガウシアン型パルス等の単純なパルス波形ではなく、ユーザ間で互いに直交するパルス波形や、スペクトル整形が施されたパルス波形等といった種々の信号波形の検討がなされている。 In particular, recently, for the purpose of reducing interference with other communication systems, not simple pulse waveforms such as Gaussian pulses conventionally used, but pulse waveforms orthogonal to each other between users, Various signal waveforms such as a pulse waveform subjected to spectrum shaping have been studied.
さらに、パルス幅が数ns以下といった条件下で、パルス波形の形状を調節・変調するためのデータをユーザID等に応じて微妙に変化させる技術や、アンテナ等の伝送デバイスの影響を予めキャンセルできるパルス波形を用意し、これを電波として放出する際に所望の波形に整形する技術、等の多くの変調(波形整形)技術が近年注目を集めている。 Furthermore, under the condition that the pulse width is several ns or less, it is possible to cancel in advance the effect of the transmission device such as an antenna or the like, and a technique for finely changing the data for adjusting and modulating the shape of the pulse waveform according to the user ID and the like. Many modulation (waveform shaping) techniques such as a technique for preparing a pulse waveform and shaping it into a desired waveform when it is emitted as a radio wave have attracted attention in recent years.
このような変調技術の中には、光信号に対してデータ変調を施し、その後これを電気信号に変換する方式がある。このような変調技術を用いるためには、光パルス列などの光信号をバースト状に発生させる技術が必要となる。 Among such modulation techniques, there is a method of performing data modulation on an optical signal and then converting it to an electrical signal. In order to use such a modulation technique, a technique for generating an optical signal such as an optical pulse train in a burst form is required.
従来においては、例えば特許文献1に見られるように、図9に示す構成の超短光パルス変調回路を用いて光パルス列を生成する方法がある。この方法では、半導体レーザ102で連続的に光パルスを発生させた後、光スイッチ(マルチプレクサモジュール106)や遅延回路105などを複数組合せることにより、バースト状の光パルス列を生成している。
Conventionally, as seen in
図9に示す超短光パルス変調回路を用いて光パルス列が形成されるまでの波形整形過程を図10に示す。同図より、パルスパターン発生器101の信号をもとに、光パルス列が形成されるまでに、多段階の波形整形を行う必要があることがわかる。
FIG. 10 shows a waveform shaping process until an optical pulse train is formed using the ultrashort optical pulse modulation circuit shown in FIG. From the figure, it can be seen that it is necessary to perform multi-stage waveform shaping until an optical pulse train is formed based on the signal of the
一方、光パルスの発生方法として、半導体レーザに時間軸の短い電気パルスを入力し、半導体レーザの緩和振動を利用したゲインスイッチにより、光パルスを発生させる方法がある。半導体レーザを用いた、ゲインスイッチによる光パルス発生方法の概略構成を図11に示す。 On the other hand, as a method for generating an optical pulse, there is a method in which an electrical pulse having a short time axis is input to a semiconductor laser and an optical pulse is generated by a gain switch using relaxation oscillation of the semiconductor laser. FIG. 11 shows a schematic configuration of an optical pulse generation method using a gain switch using a semiconductor laser.
上記のゲインスイッチによる光パルス発生方法では、電気パルス発生部111で生成された電気パルスを、光パルス発生部112に備えられた半導体レーザ113に入力することで光パルスを発生させることができる。この方法によれば、図11に示すような非常に簡易な構成でパルス幅の短い光パルスを得ることができる。
しかしながら特許文献1の方法では、バースト状の光パルス列を生成するには、図9に示すような遅延回路105や光スイッチ(マルチプレクサモジュール106)などの部品を複数組み合わせて装置を構成する必要がある。このように、装置の構成が非常に複雑となるだけでなく、図10に示すように、所望の光パルス列を生成するまでの各過程における制御も極めて複雑になるという問題があった。
However, in the method of
また、図11に示すゲインスイッチにより光パルスを発生させる方法では、バースト状に光パルス列を発生させるために、電気パルス列をバースト状に半導体レーザ113に入力すると、図12に示すように、電気パルス列114の入力に対して、光パルス列115を一定のパワーで出力させることができない。
Further, in the method of generating optical pulses by the gain switch shown in FIG. 11, in order to generate the optical pulse train in a burst shape, when the electric pulse train is input to the
すなわち、先頭の1または複数の電気パルスに対しては、所定のパワーの光パルスを発生させることができない。ゲインスイッチによる光パルス発生方法を用いることで、簡易な構成で光パルスを生成できるものの、バースト状の光パルス列を発生させようとすると、光パルス列のパワーが一定にならないという問題があった。 In other words, an optical pulse with a predetermined power cannot be generated for the first electric pulse or a plurality of electric pulses. Although an optical pulse can be generated with a simple configuration by using an optical pulse generation method using a gain switch, there is a problem in that the power of the optical pulse train is not constant when generating a burst-like optical pulse train.
そこで、本発明はこれらの問題を解決するためになされたものであり、ゲインスイッチによる光パルス発生方法を利用して、簡易な構成で安定したバースト状光パルス列を生成する光パルスパターン生成器を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention has been made to solve these problems, and an optical pulse pattern generator that generates a stable burst-like optical pulse train with a simple configuration using an optical pulse generation method using a gain switch is provided. The purpose is to provide.
この発明の光パルスパターン生成器の第1の態様は、所定の信号パターンに基づき電気パルスを生成する電気パルス発生部と、前記電気パルス発生部で生成された電気パルスを半導体レーザに入力して光パルスを生成する光パルス発生部とを備えた光パルスパターン生成器であって、前記所定の信号パターンは、バースト状パルスパターンとアイドリングパターンとからなり、前記光パルス発生部は、前記バースト状パルスパターンに基づき前記電気パルス発生部で生成された電気パルスを入力したときに光パルスを生成し、前記アイドリングパターンに基づき前記電気パルス発生部で生成された電気パルスを入力したときは光パルスを生成しない範囲で前記半導体レーザ中にキャリアを生成することを特徴とする光パルスパターン生成器である。 According to a first aspect of the optical pulse pattern generator of the present invention, an electric pulse generator that generates an electric pulse based on a predetermined signal pattern, and the electric pulse generated by the electric pulse generator is input to a semiconductor laser. An optical pulse pattern generator comprising an optical pulse generator for generating an optical pulse, wherein the predetermined signal pattern comprises a burst pulse pattern and an idling pattern, and the optical pulse generator When an electric pulse generated by the electric pulse generator based on the pulse pattern is input, an optical pulse is generated. When an electric pulse generated by the electric pulse generator based on the idling pattern is input, the optical pulse is generated. An optical pulse pattern generator characterized in that carriers are generated in the semiconductor laser within a range not to be generated. That.
第2の態様は、前記電気パルス発生部が、前記所定の信号パターンを設定するパターン設定手段を備えることを特徴とする光パルスパターン生成器である。 A second aspect is an optical pulse pattern generator, wherein the electric pulse generator includes pattern setting means for setting the predetermined signal pattern.
第3の態様は、前記電気パルス発生部が、前記バースト状パルスパターンに基づき電気パルスを生成する第一の電気パルス発生手段と、前記アイドリングパターンに基づき電気パルスを生成する第二の電気パルス発生手段と、外部同期信号に従って前記第一の電気パルス発生手段と前記第二の電気パルス発生手段のいずれかを選択する電気パルス選択手段とからなることを特徴とする光パルスパターン生成器である。 According to a third aspect, the electric pulse generator generates a first electric pulse generating means for generating an electric pulse based on the burst pulse pattern, and a second electric pulse generating for generating an electric pulse based on the idling pattern And an electric pulse selection means for selecting one of the first electric pulse generation means and the second electric pulse generation means in accordance with an external synchronization signal.
第4の態様は、前記パターン設定手段が、前記バースト状パルスパターンを生成する第一のパターン生成手段と、前記アイドリングパターンを生成する第二のパターン生成手段と、前記外部同期信号に従って前記第一のパターン生成手段と前記第二のパターン生成手段のいずれかを選択するパターン選択手段とからなることを特徴とする光パルスパターン生成器である。 According to a fourth aspect, the pattern setting unit includes a first pattern generation unit that generates the burst pulse pattern, a second pattern generation unit that generates the idling pattern, and the first synchronization unit according to the external synchronization signal. An optical pulse pattern generator comprising: a pattern selection unit for selecting one of the pattern generation unit and a pattern selection unit for selecting one of the second pattern generation units.
第5の態様は、前記アイドリングパターンが、前記バースト状パルスパターンの周期よりも長いパルス周期からなることを特徴とする光パルスパターン生成器である。 A fifth aspect is an optical pulse pattern generator, wherein the idling pattern has a pulse period longer than the period of the burst pulse pattern.
第6の態様は、前記アイドリングパターンが、前記バースト状パルスパターンの周期の1.5倍以上かつ3倍以下のパルス周期からなることを特徴とする光パルスパターン生成器である。 A sixth aspect is an optical pulse pattern generator, wherein the idling pattern has a pulse period not less than 1.5 times and not more than 3 times the period of the burst-like pulse pattern.
第7の態様は、前記アイドリングパターンが、所定の一定値のバイアス信号であることを特徴とする光パルスパターン生成器である。 A seventh aspect is an optical pulse pattern generator, wherein the idling pattern is a bias signal having a predetermined constant value.
第8の態様は、前記アイドリングパターンが、前記半導体レーザのキャリアライフタイムよりも長いパルス周期からなることを特徴とする光パルスパターン生成器である。 An eighth aspect is an optical pulse pattern generator, wherein the idling pattern has a pulse period longer than a carrier lifetime of the semiconductor laser.
以上説明したように本発明によれば、ゲインスイッチによる光パルス発生方法を利用した簡易な構成にて、パワーが一定の安定したバースト状の光パルス列を生成することが可能となる。 As described above, according to the present invention, it is possible to generate a stable burst-like optical pulse train having a constant power with a simple configuration using an optical pulse generation method using a gain switch.
また本発明によれば、光スイッチや遅延回路などの複数部品を組み合わせる必要がないため、低コストでかつ制御の容易な光パルスパターン生成器を実現することができる。 Further, according to the present invention, since it is not necessary to combine a plurality of components such as an optical switch and a delay circuit, an optical pulse pattern generator that is inexpensive and easy to control can be realized.
図面を参照して本発明の好ましい実施の形態における光パルスパターン生成器の構成について詳細に説明する。なお、同一機能を有する各構成部については、図示及び説明簡略化のため、同一符号を付して示す。 A configuration of an optical pulse pattern generator according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, about each structural part which has the same function, the same code | symbol is attached | subjected and shown for simplification of illustration and description.
本発明の第一の実施形態に係る光パルスパターン生成器の概略の構成を図2に示す。本実施形態の光パルスパターン生成器1は、パターン生成部4と電気パルス生成部5とを備えた電気パルス発生部2、及び半導体レーザ6を備えた光パルス発生部3から構成されている。
FIG. 2 shows a schematic configuration of the optical pulse pattern generator according to the first embodiment of the present invention. The optical
パターン生成部4は、予め設定された所定のパターンに基づいて電気パルス生成部5にパルス要求信号を出力する。電気パルス生成部5は、前記パルス要求信号を入力すると所定の電気パルスを生成して、これを半導体レーザ6に出力する。半導体レーザ6は、入力した前記電気パルスによって所定の光パルスを発生させる。
The
本実施形態の光パルスパターン生成器1で生成される光パルスパターンの一実施例を図1に示す。同図において、パターン信号11は、パターン生成部4にて生成されるパルス要求信号であり、電気パルス列12は、パターン信号11に従って電気パルス発生部2から出力され、半導体レーザ6に入力される電気信号であり、光パルス列13は、電気パルス列12に基づいて半導体レーザ6から出力される光信号である。
An example of an optical pulse pattern generated by the optical
電気パルス発生部2から出力される電気パルス列12は、所定のパルスをバースト発生させるための、バースト状パルスパターン11aによるバースト状電気パルス12aと、その間に散発的に電気パルスを生成するための、アイドリングパルスパターン11bによるアイドリング電気パルス12bからなっている。バースト状電気パルス12aは、所望のバースト発生の光パルス列13を発生させるために半導体レーザ6に入力される電気信号である。
The
これに対し、アイドリング電気パルス12bは、光パルス列13を発生させない間(以下ではアイドリング期間という)に、半導体レーザ6に電気パルスを入力するものである。本発明の光パルスパターン生成器1は、光パルス列13を発生させない前記アイドリング期間にも、アイドリング電気パルス12bに基づき、半導体レーザ6に電気パルスを入力することを特徴としている。
On the other hand, the idling
半導体レーザのキャリアライフタイムは約10nsec(100MHz)程度であり、これより長い時間半導体レーザが励起されない場合には、次に電気パルスが印加されて励起されても、光パルスの発生には数nsec程度の立ち上がり時間を要することになる。ここでの立ち上り時間とは、電気パルスが印加されてから、光パルス列のパワーが所望のパワーに到達するまでの時間のことである。 The carrier lifetime of the semiconductor laser is about 10 nsec (100 MHz). If the semiconductor laser is not excited for a longer time than this, even if it is excited by applying an electric pulse next, it will take several nsec to generate an optical pulse. A rise time of about a degree is required. The rise time here is the time from when the electric pulse is applied until the power of the optical pulse train reaches the desired power.
図1に示す光パルスパターンの一実施例では、バースト発生のバースト状電気パルス12aのパルス周期を2nsec(500MHz)、前記アイドリング期間の時間間隔を12nsecとしている。この場合、前記アイドリング期間の時間間隔は、前記キャリアライフタイムの1.2倍程度となる。
In one embodiment of the optical pulse pattern shown in FIG. 1, the pulse period of the burst-like
上記実施例において、例えば図12に示す電気パルス列114のように前記アイドリング期間に電気パルスの入力が全く無い場合には、次にバースト状電気パルス12aが半導体レーザ6に印加されても、直ちに光パルスを発生させることはできず、前記の立ち上り時間を要してしまう。その結果、生成される光パルス列は、図12の光パルス列115のようにパワーが一定とはならない。
In the above embodiment, when no electric pulse is input during the idling period as in the
そこで、本発明の光パルスパターン生成器1では、上記の立ち上り時間を解消するために、前記アイドリング期間にも光パルスが発生しない程度の電気パルス列を半導体レーザ6に入力している。このようにすることで、半導体レーザ6には、常にキャリアが存在するようにしている。
Therefore, in the optical
上記のように、半導体レーザ6に常にキャリアが存在するようにすることにより、次にバースト状電気パルス12aが半導体レーザ6に印加された場合には、図1の光パルス列13のように直ちに所定のパワーの光パルスを発生させることが可能となる。
As described above, by making the
本発明の光パルスパターン生成器1では、アイドリング電気パルス12bを半導体レーザ6に入力しても光パルスを発生させないようにする必要がある。そのためには、アイドリング電気パルス12bのパルス周期を少なくともバースト状電気パルス12aのパルス周期よりも長い周期とする必要がある。
In the optical
好ましくは、アイドリング電気パルス12bのパルス周期を、バースト状電気パルス12aのパルス周期の1.5倍以上で、かつ3倍以下とするのがよい。1.5倍より小さいと、アイドリング電気パルス12bを半導体レーザ6に入力すると、光パルスを発生させてしまう。また、3倍より大きいと本発明の効果である、光パルス列の立ち上がり時間を解消する効果が得られない。また、前記アイドリング期間は、半導体レーザ6のキャリアライフタイムよりも長い期間を有することが必要である。
Preferably, the pulse period of the idling
前記アイドリング期間中、半導体レーザ6に入力する電気信号として、図1に示すアイドリング電気パルス12bを用いる代わりに、一定のバイアス信号を半導体レーザ6に入力し続けるようにしてもよい。この場合、前記バイアス信号の大きさは、アイドリング電気パルス12bの振幅よりも小さく、半導体レーザから光が出ない程度の適切な値を設定する。
During the idling period, instead of using the idling
本実施形態の光パルスパターン生成器1の効果を確認するため、図3に示す実験装置を用いてバースト状の光パルス列を発生させる実験をおこなった。図3に示す実験装置は、パルスパターンジェネレータ21を用いて電気パルス列を生成し、これを半導体レーザ22に入力してバースト状の光パルス列を発生させるようにしたものである。
In order to confirm the effect of the optical
図3に示す実験装置を用いて実施した実験結果を図4に示す。図4の左側に示す従来の実施例では、バースト状電気パルス23のみからなる電気パルス列を半導体レーザ22に入力している。これに対し、図4の右側に示す本発明の実施例では、バースト状電気パルス23に加えて、アイドリング電気パルス24を付加した電気パルス列を半導体レーザ22に入力している。
FIG. 4 shows the results of an experiment conducted using the experimental apparatus shown in FIG. In the conventional embodiment shown on the left side of FIG. 4, an electric pulse train consisting only of burst-like
図4の下段に示す実験結果から、以下のことが確認できる。すなわち、従来の実施例では、バースト状電気パルス23の最初のパルスに対しては光パルスがほとんど発生しておらず、その後光パルスのパワーが所定値まで段階的に増加している。
From the experimental results shown in the lower part of FIG. 4, the following can be confirmed. That is, in the conventional example, almost no optical pulse is generated with respect to the first pulse of the burst-like
これに対し本発明の実施例では、バースト状電気パルス23に対してパワーのそろった光パルス列が発生している一方、アイドリング電気パルス24に対しては、光パルスは発生していない。
On the other hand, in the embodiment of the present invention, an optical pulse train with uniform power is generated for the burst-like
本発明の光パルスパターン生成器の第二の実施形態を、図5を用いて以下に説明する。図5は、本発明の第二の実施形態に係る光パルスパターン生成器31の概略構成を示す図である。本実施形態では、図2に示す第一の実施形態が備えていたパターン生成部4に対して、パルスパターンを設定するためのパターン設定手段32が備えられている。このパターン設定手段には、例えばCPUなどを用いる。
A second embodiment of the optical pulse pattern generator of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of an optical
図2に示す第一の実施形態では、電気パルス生成部5はパターン生成部4からの前記パルス要求信号に基づいて電気パルス列12を生成していた。すなわち、電気パルス列12は、パターン生成部4に事前に設定されているパターン情報に基づいて生成されるものに限定されていた。
In the first embodiment shown in FIG. 2, the
しかしながら、生成したい光パルスパターンのパルス数、パルス周期、バースト周期に応じて、バースト状パルスパターンのパルス数、パルス周期、バースト周期等を任意に設定できることが望ましい。さらに、バースト状パルスパターンの条件が変わると、それに伴ってアイドリングパルスパターンの条件も変更する必要がある。 However, it is desirable that the number of pulses in the burst pulse pattern, the pulse period, the burst period, and the like can be arbitrarily set according to the number of pulses, the pulse period, and the burst period of the optical pulse pattern to be generated. Further, when the conditions of the burst pulse pattern change, it is necessary to change the conditions of the idling pulse pattern accordingly.
そこで、本実施形態では、バースト状パルスパターン及びアイドリングパルスパターンを任意に変更できるよう、パターン生成部4に対して、パルスパターンを任意に設定するためのパターン設定手段32を設けている。
Therefore, in the present embodiment, pattern setting means 32 for arbitrarily setting the pulse pattern is provided to the
パターン設定手段32には、図示しない入出力部を介して外部からパルスパターンの諸条件を設定できるようにしている。すなわち、バースト状パルスパターンに関しては、バースト周期、パルス周期、及びパルス数をパターン設定手段32を通じて、パターン生成部4に設定できるようにすると共に、アイドリングパルスパターンに関しても、パルス周期及びパルス数等を設定できるようにしている。
The pattern setting means 32 can set various conditions of the pulse pattern from the outside via an input / output unit (not shown). That is, regarding the burst pulse pattern, the burst period, the pulse period, and the number of pulses can be set in the
前記パルスパターンの諸条件がパターン設定手段32を通じて、パターン生成部4に設定されると、パターン生成部4では設定された諸条件を満たすパルス要求信号を作成する。該パルス要求信号を電気パルス生成部5に出力することで、前記諸条件を満たす電気パルス列を発生させる。
When the conditions of the pulse pattern are set in the
上記の通り、本発明の第二の実施形態によれば、パターン設定手段32を通じて所望のパルスパターンの諸条件を設定することが可能となり、光パルスパターン生成器31は任意の光パルスパターンを生成することが可能となる。
As described above, according to the second embodiment of the present invention, it becomes possible to set various conditions of a desired pulse pattern through the pattern setting means 32, and the optical
本発明の光パルスパターン生成器の第三の実施形態を、図6を用いて以下に説明する。図6は、本発明の第三の実施形態に係る光パルスパターン生成器41の概略構成を示す図である。
A third embodiment of the optical pulse pattern generator of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of an optical
本実施形態の電気パルス発生部42は、バースト状パルス部43と、アイドリングパルス部44、及び切替部45とから構成されている。バースト状パルス部43は、予め設定された所定のバースト状パターンに基づいてバースト状電気パルスを生成する。同様に、アイドリングパルス部44は、予め設定された所定のアイドリングパターンに基づいてアイドリング電気パルスを生成する。
The
一方、切替部45は外部同期信号46を取りこみ、外部同期信号46に同期してバースト状パルス部43で発生されたバースト状電気パルスと、アイドリングパルス部44で発生されたアイドリング電気パルスとを切り替えて光パルス発生部3に出力する。これにより、外部同期信号に同期したバースト状の光パルス列を生成することができる。
On the other hand, the switching
なお、外部同期信号46は、例えばバースト状光パルス列を発生させたいときのみ、所定の同期信号が出力されるものとすることができる。この場合、切替部45は、前記所定の同期信号が出力された場合にバースト状パルス部43からの出力を選択し、前記所定の同期信号が出力されていない場合にはアイドリングパルス部44からの出力を選択するようにすればよい。
As the
図6に示す第三の実施形態では、バースト状パルス部43とアイドリングパルス部44において、それぞれ所定の電気パルスを発生させるものとしたが、本発明の光パルスパターン生成器の別の実施形態として、バースト状パルス部43とアイドリングパルス部44は、それぞれ所定のパルスパターンを作成するのみとしてもよい。
In the third embodiment shown in FIG. 6, a predetermined electric pulse is generated in each of the
本発明の光パルスパターン生成器を上記のように構成したときの概略構成図を図7に示す。同図に示すように、本実施形態ではパターン生成部4を、バースト状パルス部43、アイドリングパルス部44、及び切替部45にて構成している。バースト状パルス部43では、所定のバースト状パルスパターンを生成し、アイドリングパルス部44では、所定のアイドリングパルスパターンを生成する。
FIG. 7 shows a schematic configuration diagram when the optical pulse pattern generator of the present invention is configured as described above. As shown in the figure, in the present embodiment, the
切替部45は、外部同期信号46に同期してバースト状パルス部43で作成されたバースト状パルスパターンか、アイドリングパルス部44で作成されたアイドリングパターンかのいずれかを選択し、選択したパターン信号を電気パルス生成部5に出力する。
The switching
本発明の光パルスパターン生成器の更に別の実施形態を、図8を用いて以下に説明する。図8は、本実施形態に係る光パルスパターン生成器61の概略構成を示す図である。
Still another embodiment of the optical pulse pattern generator of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of the optical
本実施形態の光パルスパターン生成器61は、図5に示す第2の実施形態の光パルスパターン生成器31と、図7に示す第4の実施形態の光パルスパターン生成器51とを組み合わせて構成したものである。
The optical
すなわち、本実施形態の光パルスパターン生成器61では、バースト状パルス部43で発生されるパルスパターンの諸条件を、パターン設定手段32を介して任意に設定できるようにしている。同様に、アイドリングパルスパターン部44で発生されるパルスパターンの諸条件についても、パターン設定手段32を介して任意に設定できるようにしている。
That is, in the optical
本実施形態の光パルスパターン生成器61を上記のように構成することにより、任意に設定したバースト状パルスパターンとアイドリングパルスパターンを、外部同期信号46に同期させて光パルス発生部3に出力させるようにすることが可能となる。
By configuring the optical
なお、本実施の形態における記述は、本発明に係る光伝送システムの一例を示すものであり、これに限定されるものではない。本実施の形態における光伝送システム1の細部構成及び詳細な動作等に関しては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
Note that the description in the present embodiment shows an example of the optical transmission system according to the present invention, and the present invention is not limited to this. The detailed configuration and detailed operation of the
1、31、41、51、61・・・光パルスパターン生成器
2、111・・・電気パルス発生部
3、112・・・光パルス発生部
4・・・パターン生成部
5、42・・・電気パルス生成部
6、22、113・・・半導体レーザ
11・・・パターン信号
12、114・・・電気パルス列
13、115・・・光パルス列
21・・・パルスパターンジェネレータ
23・・・バースト状電気パルス
24・・・アイドリング電気パルス
32・・・パターン設定手段
43・・・バースト状パルス部
44・・・アイドリングパルス部
45・・・切替部
46・・・外部同期信号
101・・・パルスパターン発生器
102・・・半導体レーザ
103・・・外部変調器
104・・・1/2分周期
105・・・遅延回路
106・・・マルチプレクサモジュール
111・・・電気パルス発生部
1, 31, 41, 51, 61 ... optical
Claims (4)
前記所定の信号パターンは、バースト状パルスパターンとアイドリングパターンとからなり、
前記バースト状パルスパターンに基づき前記電気パルス発生部で生成された電気パルスを入力したときに前記半導体レーザから光パルスが生成し、前記アイドリングパターンに基づき前記電気パルス発生部で生成された電気パルスを入力したときは光パルスが生成することなく前記半導体レーザ中にキャリアが生成するように、前記バースト状パルスパターンのパルス周期及び前記アイドリングパターンのパルス周期が設定されていて、
前記アイドリングパターンは、前記バースト状パルスパターンのパルス周期よりも長く、かつ、前記半導体レーザのキャリアライフタイムよりも長いパルス周期のパルス列からなる、
ことを特徴とする光パルスパターン生成器。 A gain comprising: an electric pulse generator that generates an electric pulse based on a predetermined signal pattern; and an optical pulse generator that generates an optical pulse by inputting the electric pulse generated by the electric pulse generator into a semiconductor laser. An optical pulse pattern generator using a switch ,
The predetermined signal pattern includes a burst pulse pattern and an idling pattern,
When an electric pulse generated by the electric pulse generator based on the burst pulse pattern is input, an optical pulse is generated from the semiconductor laser , and an electric pulse generated by the electric pulse generator based on the idling pattern is generated. when type carriers generated in said semiconductor laser without an optical pulse generated by the pulse period and the pulse period of said idling pattern of the burst-like pulse pattern is set,
The idling pattern is composed of a pulse train having a pulse period longer than a pulse period of the burst pulse pattern and longer than a carrier lifetime of the semiconductor laser.
An optical pulse pattern generator.
ことを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン生成器。 The optical pulse pattern generator according to claim 1, wherein the electric pulse generator includes a pattern setting unit that sets the predetermined signal pattern.
ことを特徴とする請求項1に記載の光パルスパターン生成器。 The electric pulse generation unit includes a first electric pulse generation unit that generates an electric pulse based on the burst pulse pattern, a second electric pulse generation unit that generates an electric pulse based on the idling pattern, and an external synchronization signal. 2. The optical pulse pattern generator according to claim 1, further comprising: an electric pulse selecting unit that selects one of the first electric pulse generating unit and the second electric pulse generating unit according to the above.
ことを特徴とする請求項2に記載の光パルスパターン生成器。 The pattern setting means includes a first pattern generation means for generating the burst pulse pattern, a second pattern generation means for generating the idling pattern, the first pattern generation means according to the external synchronization signal, and the The optical pulse pattern generator according to claim 2, further comprising a pattern selection unit that selects any one of the second pattern generation units.
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