Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP4476467B2 - コンタクタの組立装置及び組立方法 - Google Patents

コンタクタの組立装置及び組立方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4476467B2
JP4476467B2 JP2000336901A JP2000336901A JP4476467B2 JP 4476467 B2 JP4476467 B2 JP 4476467B2 JP 2000336901 A JP2000336901 A JP 2000336901A JP 2000336901 A JP2000336901 A JP 2000336901A JP 4476467 B2 JP4476467 B2 JP 4476467B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contactor
base substrate
unit
substrate
tile
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000336901A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002141379A (ja
Inventor
伸治 飯野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2000336901A priority Critical patent/JP4476467B2/ja
Priority to TW090127042A priority patent/TW521372B/zh
Priority to US09/985,358 priority patent/US6747467B2/en
Priority to KR1020010068549A priority patent/KR100718418B1/ko
Publication of JP2002141379A publication Critical patent/JP2002141379A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4476467B2 publication Critical patent/JP4476467B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/073Multiple probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2887Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被検査体の電気的特性検査を行う際に用いられるコンタクタを組み立てる装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体装置は製造工程で複数回の電気的特性検査が行われている。例えば、ウエハレベルではプローブ装置を用いたプローブ検査が行われる。プローブ検査を行う時には、ウエハに形成されたデバイスとコンタクタを接触させている。ところが、ウエハの超高集積化、大口径化に伴い、検査時間が長くなるため、検査コストが益々高くなる傾向にある。検査時間短縮のためにデバイスの同測数(同時に検査するデバイスの数)を増やした、いわゆる多マルチ化対応のコンタクタが種々開発されつつある。
【0003】
プロービング部は、通常、デバイスの電極パッドに対応するプローブを有するコンタクタ部と、テスタ側とのインターフェースを取るインターフェース部とを有している。コンタクタ部は例えば多数のプローブが表面に形成された円板状の配線基板によって形成されている。また、インターフェース部はコンタクタ部とテスタ側とを接続するインターフェース基板として形成されている。
【0004】
ところで、プロービング部を作製するに当たり、一般にコンタクタ部とインターフェース部は別々に作製されているため、これら両者を接続する必要がある。そこで、従来の接続方式としては、エラストマ、スプリングピン等の接続部材を介してこれら両者を接続するインターフェース方式が採用されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のインターフェース方式によってプロービング部を組み立てると、接続部材自体の価格がコンタクタ価格に加算されるため、コンタクタコストの低減、ひいては検査コスト低減の妨げになっている。また、接続部材の配線長が伝送ラインとして加わり、このことから伝送信号の減衰を引き起こすだけでなく、ラインインピーダンスの整合を難しくしているため、高速信号伝送が制限されることになる。例えば、ラムバスメモリでは配線長による遅延を10ピコ秒以内に押さえたいとの要求があるため、インピーダンス整合ラインを用いたとしても線長差を1mm以内に抑制する必要がある。
【0006】
一方、多マルチ用のコンタクタは現在のところ一つのタイルで作製されているため、タイル内の相対精度が問題になることはないが、今後の更なる高集積化に伴って多マルチ化が進みタイルサイズが大型化した場合のタイルの熱膨張、価格、メンテナンス性等が問題になる。また、多マルチ化によりコンタクタが大型化すると、一つのデバイスに対する接触不良等を起こすプローブが一本でも存在すればコンタクタ自体が不良品になり、生産性が悪くなるという課題があった。
【0007】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、多マルチ化に対応したコンタクタを高精度に組み立てることができ、しかもコンタクタを効率良く低コストで生産することができるコンタクタの組立装置及び組立方法を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に記載のコンタクタの組立装置は、被検査体の電気的特性検査を行う際に用いられるコンタクタを単位コンタクタとベース基板から組み立てる装置であって、コンタクタ配列基板を載置して移動する載置機構と、この載置機構上のコンタクタ配列基板の所定位置へ上記単位コンタクタを搬送し引き渡す第1の搬送機構と、この第1の搬送機構とは別の場所に移動可能に配置され且つ上記ベース基板を搬送する第2の搬送機構と、この第2の搬送機構との間で上記ベース基板を授受する際に上記ベース基板を保持する保持機構と、上記単位コンタクタ、上記コンタクタ配列基板及び上記ベース基板間の位置合わせを行う位置合わせ機構と、この位置合わせ機構を介して位置合わせされた上記単位コンタクタと上記ベース基板を加熱してこれら両者を電気的に接続してコンタクタを形成する加熱機構とを備えたことを特徴とするものである。
【0009】
また、本発明の請求項2に記載のコンタクタの組立装置は、請求項1に記載の発明において、上記押圧機構及び上記加熱機構を上記保持機構に設けたことを特徴とするものである。
【0010】
また、本発明の請求項3に記載のコンタクタの組立装置は、請求項1または請求項2に記載の発明において、上記載置機構及び上記押圧機構に上記加熱機構を設けたことを特徴とするものである。
【0011】
また、本発明の請求項4に記載のコンタクタの組立装置は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明において、上記コンタクタ配列基板を搬送する第3の搬送機構を設けたことを特徴とするものである。
【0012】
また、本発明の請求項5に記載のコンタクタの組立装置は、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の発明において、上記コンタクタ配列基板は、上記単位コンタクタのプローブを位置決めする溝を有することを特徴とするものである。
【0013】
また、本発明の請求項6に記載のコンタクタの組立方法は、被検査体の電気的特性検査を行う際に用いられるコンタクタを単位コンタクタとベース基板から組み立てる方法であって、位置合わせ機構を介して載置機構に載置されたコンタクタ配列基板と第1の搬送機構を介して搬送する単位コンタクタの位置合わせを行う工程と、位置合わせされた上記単位コンタクタを上記コンタクタ配列基板の所定位置へ配置する工程と、第2の搬送機構を介してベース基板を保持機構まで搬送する工程と、上記保持機構を介して上記ベース基板を保持する工程と、上記位置合わせ機構を介して上記単位コンタクタと上記ベース基板の位置合わせを行う工程と、上記載置機構を移動させて上記単位コンタクタと上記ベース基板とを接触させる工程と、上記単位コンタクタと上記ベース基板を加熱機構を介して電気的に接続してコンタクタを形成する工程とを備えたことを特徴とするものである。
【0014】
また、本発明の請求項7に記載のコンタクタの組立方法は、請求項6に記載の発明において、上記単位コンタクタと上記ベース基板とを接触させる工程では上記押圧機構を介して上記単位コンタクタと上記ベース基板を弾接させることを特徴とするものである。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、図1〜図9に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。
本実施形態のコンタクタの組立装置(以下、単に「組立装置」と称す。)は、ウエハ(図示せず)の電気的特性検査を行う際に用いられるコンタクタ1を単位コンタクタ(以下、「タイル」と称す。)1Aとベース基板1Bから組み立てる装置である。ここで、単位コンタクタとは、ウエハの少なくとも一つのデバイスと電気的に接触するコンタクタ部のことを云う。この組立装置は、例えば図1の(a)、(b)に示すように、コンタクタ配列基板(以下、「アライメント基板」と称す。)2を載置してX、Y、Z方向へ移動する載置機構3と、この載置機構3上のアライメント基板2の所定位置へタイル1Aを搬送する第1の搬送機構(以下、「タイル搬送機構」と称す。)4と、このタイル搬送機構4とは別の場所にY方向へ移動可能に配置され且つタイル1Aと電気的に接続されるベース基板1Bを搬送する第2の搬送機構(以下、「ベース基板搬送機構」と称す。)5とを備え、ハウジング6内に収納されている。
【0016】
上記タイル1A及びアライメント基板2について概説する。タイル1Aは、例えば図3の(a)、(b)に示すように、ガラス基板Gと、このガラス基板Gの一方の面に取り付けられたカンチレバータイプのプローブNと、ガラス基板Gの他方の面に形成された接続パッドPとを有し、例えば一つのデバイスの検査に対応するように形成されている。プローブNの先端はピラミッド状に形成されている。また、アライメント基板2は、例えば図4の(a)、(b)に示すように、タイル1AのプローブNの配列に合わせて逆ピラミッド状に形成され且つマトリックス状に配列された複数の溝2Aと、これらの溝2Aの配列の間に形成された筋状の突起2Bとを有し、例えばシリコンウエハによって形成されている。タイル1Aをアライメント基板2に配置すると、タイル1Aのプローブ先端(ピラミッド部)がアライメント基板2の溝2Aに填り込み、タイル1Aのガラス基板Gが突起2Bと接触してプローブNの損傷を防止する。
【0017】
タイル1Aは作製するコンタクタ1の種類に応じて必要な数だけアライメント基板2上に配列される。例えば、ウエハに形成されたデバイスを一つずつ検査するコンタクタ1を作製する場合には一つのタイル1Aをアライメント基板2の中央部に配置し、多マルチ用のコンタクタ1を作製する場合にはデバイスの同測数に即したタイル1Aをアライメント基板2に配列し、また、ウエハの全デバイスに一括接触させる場合にはアライメント基板2全面にタイル1Aを配列する。そして、後述するようにアライメント基板2上に配列されたタイル1Aとベース基板1Bとを位置合わせした後、これら両者1A、1Bを加熱して電気的に接続する。尚、ベース基板1Bはタイル1Aと同一の材料またはタイル1Aのガラス基板Gと熱膨張率が近似した材料によって形成されている。
【0018】
而して、上記載置機構3は、図1の(a)、(b)に示すように、Xステージ3A、Yステージ3B及び載置台3Cを備えている。Xステージ3AはX方向に沿って配設された一対のXガイドレール3D、3Dに従って移動し、Yステージ3BはXステージ3A上にY方向に沿って配設された一対のYガイドレール3E、3Eに従って移動する。また、載置台3Cはアライメント基板2を載置した状態で同図の(b)に一点鎖線で示すようにZ方向に昇降する。そして、Xガイドレール3D、3Dの左方には保持機構7が配設されている。
【0019】
上記タイル搬送機構4は、図1の(a)及び図2に示すように、関節を介して屈伸可能なアーム4Aと、このアーム4Aの基端部に連結された旋回駆動機構4B及び昇降機構4Cと、アーム4Aの先端部に取り付けられた吸着パッド4Dとを備え、旋回駆動機構4B及び関節を介して駆動し、置き台8上のタイル1Aを吸着パッド4Dで吸着保持して載置台3C上のアライメント基板2の所定の位置まで搬送し、吸着を解除して配置する。タイル搬送機構4は位置合わせ機構9を介してタイル1Aとアライメント基板2を位置合わせした時の位置データに基づいてタイル1Aを正確に所定の位置へ配置する。
【0020】
上記ベース基板搬送機構5は、図1の(a)、図5に示すように、ベース基板1Bを載置する載置ガイド5Aと、この載置ガイド5Aを保持機構7まで案内する一対のYガイドレール5B、5Bと、これらのYガイドレール5B、5Bに従って載置ガイド5Aを移動させる駆動機構5Cとを備え、ベース基板1Bを載置ガイド5Aを介して保持機構7まで搬送し、保持機構7へベース基板1Bを引き渡す。駆動機構5Cとしては従来公知の機構を適宜使用することができる。駆動機構5Cは、例えば図5に示すように、モータ5D、ボールネジ5E及びナット5Fを有している。
【0021】
上記保持機構7は、図1に示すように、載置機構3の左方に配設されている。この保持機構7は、図6及び図7の(a)、(b)に示すように、ハウジング6の上面を形成するヘッドプレート6Aに固定された断面L字状の保持具を主体に構成されている。従って、以下では必要に応じて保持機構を保持具とも称する。この保持具7は上述したベース基板搬送機構5の一対のYガイドレール5B、5Bの延長上に配置されている。従って、ベース基板搬送機構5を介してベース基板1Bを搬送すると、ベース基板1Bは自動的に一対の保持具7に案内され、図示しない突起を介してY方向の所定位置で止まって保持される。また、保持機構5には後述の押圧機構10及び加熱機構11が設けられている。
【0022】
上記押圧機構10は、ヘッドプレート6A上に配設された扁平なキャップ状に形成された支持体10Aと、この支持体10A内の下方に配設された押圧体10Bと、この押圧体10Bを下方へ付勢する複数のスプリング10Cとを備えている。ベース基板搬送機構5を介してY方向の所定位置(保持機構7の中心)で保持されたベース基板1Bに対して載置機構3のZ昇降機構によってアライメント基板2上のタイル1Aを一括してベース基板1Bへ押圧する。従って、保持機構7でベース基板1Bを保持すると、保持機構7と押圧体10Bとでベース基板1B及びタイル1Aを一括して弾力的に保持する。また、後述のようにベース基板1Bにタイル1Aを組み付ける時には、アライメント基板2が押圧機構10の付勢力に抗して保持具7、7内に進入する。
【0023】
上記加熱機構11は二箇所に配設されたヒータ11A、11Bを有し、タイル1Aとベース基板1Bを電気的に接続する場合にタイル1A側及びベース基板1B側の双方から加熱する。一方のヒータ11Aは載置機構3の載置台3Cに内蔵され、他方のヒータ11Bは押圧機構10の押圧体10Bに内蔵されている。即ち、載置機構3の載置台3Cが保持機構7の真下からZ方向に上昇すると、載置台3C上のアライメント基板2に配列されたタイル1Aを押圧機構10のスプリング10Cに抗してベース基板1Bに押し付ける。この状態で加熱機構11が作動すると、ベース基板1Bの接続パッドP1に塗布した半田あるいはろう材Hを介してタイル1Aの対応する接続パッドPに接合され、両者1A、1Bが電気的に接続される(図7の(c)参照)。タイル1Aとベース基板1Bは熱膨張率がほぼ等しいか近似しているため、対応する接続パッド同士が位置ズレする虞がなく、コンタクタ1として高精度に組み立てることができる。
【0024】
また、本実施形態では、位置合わせ機構9を用いて上記タイル1Aとベース基板1Bを高精度に接続するようにしてある。この位置合わせ機構9は、図1の(a)、(b)に示すように、下CCDカメラ9Aと、上CCDカメラ9Bとを備えている。下CCDカメラ9Aは例えば載置機構3の載置台3Cに固定され、タイル搬送機構4を介して搬送されて来るタイル1AのプローブNの先端ピラミッドを下方から撮像し、その時の載置台3Cの位置座標に基づいてピラミッドの位置座標を図示しない制御装置を介して算出する。上CCDカメラ9Bは例えばアライメントブリッジ9Cの中央に固定されている。アライメントブリッジ9Cは載置機構3のXガイドレール3D、3Dに沿ってこれらの上方でベース基板搬送機構5のYガイドレール5Bの下方に配設された一対のガイドレール9D、9Dに従って移動する。上CCDカメラ9Bはアライメントブリッジ9Cを介して載置機構3の載置台3Cの上方の基準位置まで移動し、載置台3C上のアライメント基板2の溝2Aを上方から撮像し、この時の載置台3Cの位置座標に基づいて溝2Aの座標を算出する。上下のCCDカメラ9A、9Bは載置台3C上のタイル1Aを保持機構7によって保持されたベース基板1Bに接続する場合にも用いられる。即ち、下CCDカメラ9Aでベース基板1Bの接続パッドP1を撮像してその位置座標を算出し、上CCDカメラ9Bで載置台3C上のタイル1Aの接続パッドPを撮像してその位置座標を算出する。
【0025】
また、上記ハウジング6内にはアライメント基板2を搬送する搬送機構13が第3の搬送機構として配設されている。この搬送機構13は、アライメント基板2を先端部に載せて搬送するアーム13Aと、このアーム13Aの基端部に連結された旋回駆動機構13Bと、図示しない昇降駆動機構とを備え、外部から受け取ったアライメント基板2を載置台3C上へ搬送し、載置する。尚、図示してないが、搬送機構13の近傍にアライメント機構がアライメント基板2を予め所定の向きに位置合わせするようにしてある。
【0026】
次に、上記組立装置を用いた本発明のコンタクタの組立方法について説明する。組立装置の置き台8にタイル1Aを載置すると共に搬送機構13のアーム13Aにアライメント基板2を載置する。次いで、制御装置の制御下で組立装置が駆動する。
【0027】
即ち、搬送機構13が駆動して所定の向きに位置合わせされたアライメント基板2を搬送し、載置機構3の載置台3C上に載置する。載置台3CはX、Y方向へ移動して基準位置で停止すると共に、位置合わせ機構9のアライメントブリッジ9Cがガイドレール9D、9Dに従って基準位置まで移動して停止する。そして、載置台3Cが移動する間に上CCDカメラ9Bで載置台3C上のアライメント基板2の基準となる溝2Aを複数箇所で撮像した後、載置台3Cの基準位置からの移動量に基づいて各溝2Aの位置座標を算出し、記憶して基準位置へ戻る。次いで、タイル搬送機構4が駆動し、載置台3Cに付帯する下カメラ9Aでタイル1Aの基準となるプローブNを撮像し、各プローブNの先端(ピラミッド)と対応するアライメント基板2の溝2Aとの位置合わせを行う。引き続き、タイル搬送機構4が駆動してタイル1Aを所定の位置へ搬送した後、吸着パッド4Dが下降し、位置決めされた場所へタイル1Aを載置し、吸着パッド4Dを解放する。更に、タイル搬送機構4が駆動し、次のタイル1Aを置き台8からアライメント基板2の次の溝2Aへタイル1Aを載置し、所定の数だけタイル1Aをアライメント基板2上に配列する。
【0028】
タイル1Aをアライメント基板2上に配列している間にベース基板搬送機構5が駆動してベース基板1Bを保持機構7まで搬送し、保持機構7へベース基板1Bを引き渡し、保持機構7でベース基板1Bを保持する。更に、載置機構3の載置台3CがX方向へ移動し、保持機構7の下方へ到達する。そして、下カメラ9Aで保持機構7で保持されたベース基板1Bの接続パッドP1を撮像する。また、アライメントブリッジ9Cが載置台3C上のタイル1Aの接続パッドPを撮像する。これら両画像に基づいてタイル1Aの接続パッドPとベース基板1Bの接続パッドP1の位置合わせを行う。次いで、載置台3Cが上昇しタイル1Aとベース基板1Bを接触させる。この時点でタイル1Aの接続パッドPと対応するベース基板1Bの接続パッドP1の位置が高精度で一致しているため、これら両者は確実に接触する。載置台3Cが押圧機構10のスプリング力に抗して上昇し停止すると、接続パッドP、P1は互いに弾接する。この時点で加熱機構11を介してタイル1A、ベース基板1Bが加熱されているため、接続パッドP、P1は接合されタイル1Aとベース基板1Bはそれぞれの接続パッドP、P1を介して電気的に接続されてコンタクタ1として一体化する。コンタクタ1として一体化した後、載置台3Cがアライメント基板2を載せた状態で下降し、元の場所へ戻る。これと並行してベース基板搬送機構5が駆動して保持機構7からコンタクタ1を受け取り、元の場所へ戻る。これらの一連の動作によってタイル1Aとベース基板1Bのコンタクタ1への組立を終了する。引き続き、次のコンタクタ1の組立を行う。
【0029】
以上説明したように本実施形態によれば、本実施形態の組立装置を用いることによりタイル1Aとベース基板1Bをコンタクタ1として高精度に組み立てることができる。また、本実施形態では、タイル1Aとして良品のみを使用することができるため、コンタクタ1中に不良タイル1Aを含まないため、コンタクタ1としての不良品の発生率が格段に低減し、コンタクタ1の生産効率を高め、コンタクタ1の製造コストの低減、ひいては検査コストの低減に寄与することができる。また、タイル1A自体のサイズを小型化することができ、タイル1Aの製造コストも低減することができる。更に、基本となるタイル1Aの配列により複数種のコンタクタ1を組み立てることができるため、従来コンタクタ1毎に必要であったマスク等の部品が不要になり、更なるコストダウンを図ることができる。
【0030】
尚、本発明は上記実施形態に何等制限されるものではなく、必要に応じて各搬送機構のレイアウトを適宜変更することができる。更に、上述と同様の手法によりベース基板とインターフェース部についても一体化することができる。また、本発明は、コンタクタに限らず、ベース基板上に微小部品を精度良く組み立てる用途、例えばMCM(マルチチップモジュール)等を組み立てる場合等に同様の組立装置を広く利用することができる。
【0031】
【発明の効果】
本発明の請求項1〜請求項7に記載の発明によれば、多マルチ化に対応したコンタクタを高精度に組み立てることができ、しかもコンタクタを効率良く低コストで生産することができるコンタクタの組立装置及び組立方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の組立装置の一実施形態を示す図で、(a)はその平面図、(b)はその断面図である。
【図2】図1に示すタイル搬送機構を拡大して示す図で、タイルを搬送している状態を示す断面図である。
【図3】図1に示すタイルを拡大して示す図で、(a)はその接続パッド側を示す平面図、(b)はその断面図である。
【図4】図1に示すアライメント基板を拡大して示す図で、(a)はその平面図、(b)はその断面図である。
【図5】図1に示すベース基板搬送機構を示す図で、(a)はその平面図、(b)はその横方向の断面図である。
【図6】図1に示す保持機構を拡大して示す断面図である。
【図7】図1に示す保持機構においてタイルとベース基板を接続する状態の要部を示す図で、(a)はその全体の断面図、(b)は(a)の○で囲んだ部分を拡大して示す断面図である。
【符号の説明】
1 コンタクタ
1A タイル(単位コンタクタ)
1B ベース基板
2 アライメント基板(コンタクタ配列基板)
2A 溝
2B 突起
3 載置機構
4 タイル搬送機構(第1の搬送機構)
5 ベース基板搬送機構(第2の搬送機構)
7 保持機構
9 位置合わせ機構
10 押圧機構
11 加熱機構

Claims (7)

  1. 被検査体の電気的特性検査を行う際に用いられるコンタクタを単位コンタクタとベース基板から組み立てる装置であって、コンタクタ配列基板を載置して移動する載置機構と、この載置機構上のコンタクタ配列基板の所定位置へ上記単位コンタクタを搬送し引き渡す第1の搬送機構と、この第1の搬送機構とは別の場所に移動可能に配置され且つ上記ベース基板を搬送する第2の搬送機構と、この第2の搬送機構との間で上記ベース基板を授受する際に上記ベース基板を保持する保持機構と、上記単位コンタクタ、上記コンタクタ配列基板及び上記ベース基板間の位置合わせを行う位置合わせ機構と、この位置合わせ機構を介して位置合わせされた上記単位コンタクタと上記ベース基板を加熱してこれら両者を電気的に接続してコンタクタを形成する加熱機構とを備えたことを特徴とするコンタクタの組立装置。
  2. 上記単位コンタクタと上記ベース基板を弾力的に接触させる押圧機構を設けたことを特徴とする請求項1に記載のコンタクタの組立装置。
  3. 上記載置機構及び上記押圧機構に上記加熱機構を設けたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のコンタクタの組立装置。
  4. 上記コンタクタ配列基板を搬送する第3の搬送機構を設けたことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のコンタクタの組立装置。
  5. 上記コンタクタ配列基板は、上記単位コンタクタのプローブを位置決めする溝を有することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のコンタクタの組立装置。
  6. 被検査体の電気的特性検査を行う際に用いられるコンタクタを単位コンタクタとベース基板から組み立てる方法であって、位置合わせ機構を介して載置機構に載置されたコンタクタ配列基板と第1の搬送機構を介して搬送する単位コンタクタの位置合わせを行う工程と、位置合わせされた上記単位コンタクタを上記コンタクタ配列基板の所定位置へ配置する工程と、第2の搬送機構を介してベース基板を保持機構まで搬送する工程と、上記保持機構を介して上記ベース基板を保持する工程と、上記位置合わせ機構を介して上記単位コンタクタと上記ベース基板の位置合わせを行う工程と、上記載置機構を移動させて上記単位コンタクタと上記ベース基板とを接触させる工程と、上記単位コンタクタと上記ベース基板を加熱機構を介して電気的に接続してコンタクタを形成する工程とを備えたことを特徴とするコンタクタの組立方法。
  7. 上記単位コンタクタと上記ベース基板とを接触させる工程では上記押圧機構を介して上記単位コンタクタと上記ベース基板を弾接させることを特徴とする請求項5に記載のコンタクタの組立装置。
JP2000336901A 2000-11-06 2000-11-06 コンタクタの組立装置及び組立方法 Expired - Fee Related JP4476467B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000336901A JP4476467B2 (ja) 2000-11-06 2000-11-06 コンタクタの組立装置及び組立方法
TW090127042A TW521372B (en) 2000-11-06 2001-10-31 Contactor and assembly apparatus, assembly method and manufacture method of the same, and alignment substrate
US09/985,358 US6747467B2 (en) 2000-11-06 2001-11-02 Assembly apparatus and method of contactor
KR1020010068549A KR100718418B1 (ko) 2000-11-06 2001-11-05 컨택터 조립 장치 및 조립 방법, 컨택터, 조정용 기판 및 조립 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000336901A JP4476467B2 (ja) 2000-11-06 2000-11-06 コンタクタの組立装置及び組立方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002141379A JP2002141379A (ja) 2002-05-17
JP4476467B2 true JP4476467B2 (ja) 2010-06-09

Family

ID=18812372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000336901A Expired - Fee Related JP4476467B2 (ja) 2000-11-06 2000-11-06 コンタクタの組立装置及び組立方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6747467B2 (ja)
JP (1) JP4476467B2 (ja)
KR (1) KR100718418B1 (ja)
TW (1) TW521372B (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6201402B1 (en) * 1997-04-08 2001-03-13 Celadon Systems, Inc. Probe tile and platform for large area wafer probing
US6586954B2 (en) * 1998-02-10 2003-07-01 Celadon Systems, Inc. Probe tile for probing semiconductor wafer
JP4727948B2 (ja) 2004-05-24 2011-07-20 東京エレクトロン株式会社 プローブカードに用いられる積層基板
US20090045829A1 (en) * 2005-08-04 2009-02-19 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Wafer holder for wafer prober and wafer prober equipped with same
KR100674440B1 (ko) 2005-08-12 2007-01-25 주식회사 파이컴 프로브 카드 제조 방법 및 장치
US7728609B2 (en) 2007-05-25 2010-06-01 Celadon Systems, Inc. Replaceable probe apparatus for probing semiconductor wafer
ITMI20072399A1 (it) 2007-12-20 2009-06-21 St Microelectronics Srl Scheda sonde migliorata per collaudare circuiti integrati
JP5079890B2 (ja) * 2011-01-05 2012-11-21 東京エレクトロン株式会社 積層基板及びプローブカード
CN104569728B (zh) * 2015-01-23 2017-09-29 先进光电器材(深圳)有限公司 Led基板自动检测装置
CN107340016A (zh) * 2017-06-27 2017-11-10 贵州天义电器有限责任公司 一种便携式接触器产品参数检测装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06151532A (ja) * 1992-11-13 1994-05-31 Tokyo Electron Yamanashi Kk プローブ装置
US5559446A (en) * 1993-07-19 1996-09-24 Tokyo Electron Kabushiki Kaisha Probing method and device
US5806181A (en) 1993-11-16 1998-09-15 Formfactor, Inc. Contact carriers (tiles) for populating larger substrates with spring contacts
US5828225A (en) * 1995-07-05 1998-10-27 Tokyo Electron Limited Semiconductor wafer probing apparatus
JPH09330960A (ja) * 1996-06-08 1997-12-22 Tokyo Electron Ltd 検査装置
US5828226A (en) 1996-11-06 1998-10-27 Cerprobe Corporation Probe card assembly for high density integrated circuits
TW480645B (en) * 1997-02-24 2002-03-21 Tokyo Electron Ltd Method and apparatus for inspecting semiconductor integrated circuits, and contactor incorporated in the apparatus
US6111421A (en) * 1997-10-20 2000-08-29 Tokyo Electron Limited Probe method and apparatus for inspecting an object
JP3123483B2 (ja) * 1997-10-28 2001-01-09 日本電気株式会社 プローブカード及びプローブカード形成方法
JPH11163066A (ja) * 1997-11-29 1999-06-18 Tokyo Electron Ltd ウエハ試験装置

Also Published As

Publication number Publication date
US6747467B2 (en) 2004-06-08
US20020053922A1 (en) 2002-05-09
JP2002141379A (ja) 2002-05-17
KR20020035453A (ko) 2002-05-11
TW521372B (en) 2003-02-21
KR100718418B1 (ko) 2007-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100624244B1 (ko) 프로브 핀의 영점 검출 방법 및 프로브 장치
JP2821046B2 (ja) 半導体素子用特性検査装置
US5174021A (en) Device manipulation apparatus and method
US7592565B2 (en) Probe positioning and bonding device and probe bonding method
JP4476467B2 (ja) コンタクタの組立装置及び組立方法
KR100910217B1 (ko) 프로브 본딩장치 및 방법
KR100639149B1 (ko) 반도체 칩 플립 어셈블리 및 이를 이용한 반도체 칩 본딩장치
KR100703044B1 (ko) 검사용 프로브 카드 및 그 제조 방법
KR101399537B1 (ko) 프로브 카드 제조방법
JP6625847B2 (ja) プローブ、プローブ組立体の製造方法およびプローブ組立体
CN116699368A (zh) 一种垂直探针卡及其制作工艺
JP4045687B2 (ja) Icデバイスのテスト用キャリアボード
KR20210058641A (ko) 프로브 어레이 및 그를 이용한 프로브 카드의 프로브 헤드 제조 방법
KR100674440B1 (ko) 프로브 카드 제조 방법 및 장치
JPH05218150A (ja) プローブカード
JP2002181887A (ja) 電子部品試験装置
JP3839347B2 (ja) 半導体装置の製造方法
US11573266B2 (en) Electronic device temperature test on strip film frames
KR100911408B1 (ko) 캔틸레버 프로브 이송 장치
JP2648371B2 (ja) Tabディバイスの検査方法及びそれに用いるtabディバイス用キャリア並びに測定モジュール及びインサート装置
JP3080845B2 (ja) 検査装置及びその方法
JP2005332839A (ja) 試験装置
JPH0854442A (ja) 検査装置
KR20240009651A (ko) 프로브 본딩장치
KR100825861B1 (ko) 탐침 본딩 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071106

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100212

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100309

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100310

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160319

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees