JP4064741B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)、MOSトランジスタ(MOSFET)等の半導体素子により大電流を出力するのに好適に用いられる半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、半導体装置としては、例えばバッテリ等の直流電源を交流に変換し、電動モータ等を交流電流によって駆動する3相交流式のインバータ装置が知られている(例えば、特開平10−229680号公報等)。
【0003】
この種の従来技術によるインバータ装置は、例えば3相交流の各相(U相、V相、W相)が高電圧側の回路ユニットと低電圧側の回路ユニットとによってそれぞれ構成され、これらの回路ユニットは、複数の半導体素子を並列に接続することによって構成されている。
【0004】
この場合、例えば高電圧側の回路ユニットは、その本体部分となるベース板上にU字状の金属フィンが垂直に立設され、各半導体素子は、例えばねじ止め等の手段により金属フィンに対して垂直に立てた状態で取付けられている。また、3相の各相を構成する高電圧側の回路ユニットは、バッテリ等のプラス電極に接続される略L字状の高電圧端子板を用いて互いに並列に接続されている。
【0005】
また、低電圧側の回路ユニットも同様に、各半導体素子がベース板上の金属フィンに立てた状態で取付けられ、各相の回路ユニットは、バッテリ等のマイナス電極に接続される略L字状の低電圧端子板を用いて互いに並列に接続されている。また、高電圧側と低電圧側の回路ユニットの間には、両者間を接続する略L字状の接続板が設けられている。
【0006】
ここで、各半導体素子は、逆さに立てた状態で金属フィンに取付けられ、ソース、ゲート等の端子が上向きに突出している。このため、接続板は、その一端側が高電圧側の各半導体素子を覆う位置でソースに接続されると共に、他端側が下向きに略L字状をなして屈曲し、低電圧側の回路ユニットと接続されている。また、低電圧側の各半導体素子も同様に、上向きに突出したソース等が他の接続板に接続され、この接続板は下向きに屈曲して低電圧端子板と接続されている。
【0007】
また、高電圧端子板と低電圧端子板とは、例えば各回路ユニットのベース板の裏面側に沿って延びる金属板等により形成され、これらの端子板と接続板とは各半導体素子を上,下で挟むように配置されている。また、各端子板の一端側は、ベース板の裏面側から上向きに略L字状をなして屈曲し、インバータ装置に設けられた電源コンデンサ等の上面側に引出されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来技術では、ベース板上に金属フィンを立設し、各半導体素子を逆さに立てた状態で金属フィンに取付ける構成としている。しかし、この場合には、例えば低電圧側の各半導体素子のソース等を接続板と低電圧端子板とによって半導体素子の上側から下側へと略コ字状に引回す必要がある。
【0009】
このため、従来技術では、接続板と低電圧端子板とを含めた低電圧側の配線構造が複雑化して長くなり、その寄生インダクタンスが大きくなるため、インバータ装置の作動時には、例えば低電圧側の配線に大きなサージ電圧等が発生して装置の動作が不安定となることがあり、信頼性が低下するという問題がある。
【0010】
また、従来技術のインバータ装置にあっては、高電圧側と低電圧側の半導体素子間を接続する接続板や、低電圧端子板、高電圧端子板等もL字状に屈曲して形成されているため、これらの部位でも配線が複雑化して長尺となり、配線の寄生インダクタンスが増大してサージ電圧が発生し易くなる。
【0011】
本発明は上述した従来技術の問題に鑑みなされたもので、本発明の目的は、例えば多数の半導体素子を実装する場合でも、装置全体の配線構造を簡略化して寄生インダクタンスを小さく抑制でき、半導体素子を安定的に作動させることができると共に、信頼性を向上できるようにした半導体装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために請求項1の発明は、電源の低電圧側に接続される低電圧端子が設けられた第1の金属板と、該第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され前記電源の高電圧側に接続される高電圧端子が設けられた第2の金属板と、該第2の金属板と異なる位置で前記第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され外部に電流を出力する出力端子が設けられた第3の金属板と、表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第2の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第3の金属板と接続された複数の高電圧側素子と、表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第3の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第1の金属板と接続された複数の低電圧側素子と、前記各高電圧側素子と各低電圧側素子の通電状態を制御する制御回路基板とにより構成し、前記第1の金属板上で第2の金属板に配置された複数の高電圧側素子と前記第3の金属板に配置された複数の低電圧側素子とを互いに並行な位置関係をもって並べてなる構成を採用している。
【0013】
このように構成することにより、例えば各金属板の幅寸法等を大きく形成して各高電圧側素子と低電圧側素子とを幅方向に並べて並行に配置でき、高電圧側と低電圧側の素子を近接させることができる。この結果、各金属板を流れる電流の経路を幅広に形成でき、第1の金属板による低電圧側の電流経路と、第2の金属板による高電圧側の電流経路とを上,下に積層することができる。
【0014】
これにより、各金属板の幅寸法や、高電圧側素子と低電圧側素子との距離等に応じて寄生インダクタンスを低減でき、寄生インダクタンスにより大きなサージ電圧等が発生して素子が損傷するのを防止することができる。また、個々の素子に通電される電流量を均等に分散して均一化できるから、半導体装置に大電流を制御する場合でも、各素子を電流の集中等による損傷から保護でき、また電流許容量の大きな装置を実現することができる。さらに、各金属板を積層して素子を実装できるから、その配線構造を簡略化して装置全体をコンパクトに形成できると共に、素子の放熱性を高めることができる。
【0015】
また、請求項2の発明によると、低電圧端子は第1の金属板と一体に形成し、高電圧端子は第2の金属板と一体に形成し、出力端子は第3の金属板と一体に形成する構成としている。
【0016】
これにより、第1,第2,第3の金属板と一緒に個々の端子を容易に形成でき、半導体装置の部品点数を削減することができる。また、平板状の端子を半導体装置の側面から引出すことができるので、例えば各端子を装置の上面側から引出すためにL字状に屈曲させる必要がなくなり、寄生インダクタンスの低減を促進することができる。
【0017】
また、請求項3の発明では、電源の高電圧側に接続される高電圧端子が設けられた第1の金属板と、該第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され前記電源の低電圧側に接続される低電圧端子が設けられた第2の金属板と、該第2の金属板と異なる位置で前記第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され外部に電流を出力する出力端子が設けられた第3の金属板と、表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第1の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第3の金属板と接続された複数の高電圧側素子と、表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第3の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第2の金属板と接続された複数の低電圧側素子と、前記各高電圧側素子と各低電圧側素子の通電状態を制御する制御回路基板とにより構成し、前記第1の金属板に配置された複数の高電圧側素子と前記第1の金属板上で第3の金属板に配置された複数の低電圧側素子とを互いに並行な位置関係をもって並べる構成としている。
【0018】
これにより、例えば金属板の幅寸法等を大きく形成して高電圧側と低電圧側の各素子を幅方向に並べて並行に配置でき、これらの素子を寄生インダクタンスによるサージ電圧や電流集中による損傷等から保護することができる。また、装置全体をコンパクトに形成でき、素子の放熱性を高めることができる。
【0019】
また、電源の低電圧側に接続する第2の金属板をより一層小さな面積に形成できるから、低電圧側の電流経路の寄生インダクタンスをより小さく低減することができる。これにより、第2の金属板側に生じるサージ電圧をさらに小さくすることができる。このため、例えば第2の金属板の電位を制御回路基板の基準電位として用いる場合でも、制御回路基板を安定的に作動させることができる。
【0020】
また、請求項4の発明によると、高電圧端子は第1の金属板と一体に形成し、低電圧端子は第2の金属板と一体に形成し、出力端子は第3の金属板と接続する構成としている。
【0021】
これにより、第1,第2の金属板を個々の端子と一緒に形成して部品点数を削減することができる。また、平板状の端子を半導体装置の側面から引出すことができるので、寄生インダクタンスの低減を促進することができる。
【0022】
また、請求項5の発明によると、第2,第3の金属板のうち少なくとも一方の金属板は絶縁性のセラミックス層に固着された金属層によって形成し、前記セラミックス層と金属層とはセラミックス基板として構成している。これにより、汎用的なセラミックス基板を用いて半導体装置を構成できるから、絶縁材等の部品点数を削減して組立作業を効率よく行うことができる。
【0023】
また、請求項6の発明によると、高電圧側素子と低電圧側素子とは電気機械のハウジング内に電動モータと一緒に配置され前記電動モータを交流電流により駆動するインバータ装置を構成している。
【0024】
これにより、第1ないし第3の金属板を用いてインバータ装置をコンパクトに形成でき、電動モータを大きな電流で安定的に駆動することができる。また、インバータ装置の低電圧端子、高電圧端子、出力端子等を装置の側面から金属板と平行に引出すことができるので、これらの端子を電気機械のハウジングの外側へと容易に延ばすことができる。
【0025】
さらに、請求項7の発明によると、高電圧側素子と低電圧側素子とは絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ、MOSトランジスタまたはバイポーラトランジスタにより構成している。これにより、半導体素子は、IGBT、MOSFET、バイポーラトランジスタ等の半導体素子により大電流を制御することができる。
【0026】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態による半導体装置を、添付図面に従って詳細に説明する。
【0027】
ここで、図1ないし図6は第1の実施の形態を示し、本実施の形態では、半導体装置としてインバータ装置を例に挙げて述べる。
【0028】
1は後述の負荷17を駆動するインバータ装置で、該インバータ装置1は、後述のベース金属板2、樹脂ケース4、積層金属板5,8、IGBT10,12、ダイオード11,13、制御回路基板14等を含んで構成されている。
【0029】
また、インバータ装置1は、後述の図4に示す3相交流式のインバータ回路15において、例えばU相、V相、W相からなる3相のうち1相分の回路を構成しているものである。
【0030】
2はインバータ装置1を構成する第1の金属板としてのベース金属板で、該ベース金属板2は略四角形状の平板として形成され、図2中の左,右方向(X軸方向)及び前,後方向(Y軸方向)に延びている。
【0031】
3はベース金属板2と一体に形成された低電圧端子で、該低電圧端子3は、ベース金属板2から張出した平板状の端子として形成され、例えばインバータ装置1の左側面から突出すると共に、その突出端側は後述するバッテリ16のマイナス極側に接続されるものである。この場合、低電圧端子3と後述の高電圧端子7、出力端子9とは、インバータ装置1の側面のうちベース金属板2に近い裏面側の部位から外部に引出され、金属板2等とほぼ平行に延びている。
【0032】
4は例えば接着、樹脂モールド等の手段を用いてベース金属板2の表面側に固着された絶縁性の樹脂ケースで、該樹脂ケース4は、積層金属板5,8、制御回路基板14等を取囲む枠状体として形成され、蓋板(図示せず)等によって閉塞されるものである。
【0033】
5はベース金属板2に絶縁材6を介して積層された第2の金属板としての高電圧側の積層金属板で、該積層金属板5は、図2、図3に示す如く、ベース金属板2よりも小さな略四角形状の平板として形成され、例えばベース金属板2のX軸方向一側(左側)に配置されると共に、Y軸方向の幅寸法W1を有している。
【0034】
7は高電圧側の積層金属板5と一体に形成された高電圧端子で、該高電圧端子7は、積層金属板5から張出した平板状の端子として形成され、例えば樹脂ケース4の左側面から低電圧端子3と同じ向きに突出すると共に、低電圧端子3と重なり合わない位置に配置されている。そして、高電圧端子7はバッテリ16のプラス極側に接続されるものである。
【0035】
8はベース金属板2に絶縁材6を介して積層された第3の金属板としての出力側の積層金属板で、該積層金属板8は、図2に示す如く、積層金属板5とほぼ同様に、Y軸方向の幅寸法W2をもつ略四角形状の平板として形成されている。また、積層金属板8は、例えばベース金属板2のX軸方向他側(右側)に配置され、積層金属板5とX軸方向の隙間を挟んで対向している。
【0036】
9は出力側の積層金属板8と一体に形成された出力端子で、該出力端子9は、積層金属板8から張出した平板状の端子として形成され、例えば樹脂ケース4の右側面から端子3,7と逆向きに突出している。そして、出力端子9は、後述の負荷17に接続されるものである。
【0037】
10は高電圧側の積層金属板5に面実装された例えば3個の高電圧側素子としてのIGBTで、該各IGBT10は、例えば四角形の平板状をなすベアチップ型の半導体素子等からなり、後述のダイオード11と共にY軸方向に一定のピッチ(間隔)をもって直線状に並んでいる。
【0038】
また、各IGBT10の表面側には、図4に示す如く、表面電極としてのエミッタEと通電制御用のゲートGとが設けられ、IGBT10の裏面側には、裏面電極としてのコレクタCが配置されている。そして、IGBT10は半田等を用いて積層金属板5に固着され、コレクタCが積層金属板5の高電圧端子7と接続されている。また、IGBT10のエミッタEは、例えばワイヤボンディング等の手段により金属線10A,10Bを用いて出力側の積層金属板8と接続され、ゲートGは、他の金属線10Cを用いて後述の制御回路基板14と接続されている。
【0039】
11はIGBT10と共に高電圧側素子を構成する例えば3個のダイオードで、該各ダイオード11は積層金属板5に面実装され、金属線10A等を用いて各IGBT10のコレクタCとエミッタEとの間にそれぞれ並列に接続されている。
【0040】
12は出力側の積層金属板8に面実装された例えば3個の低電圧側素子としてのIGBTで、該各IGBT12は、IGBT10とほぼ同様の半導体素子からなり、そのコレクタCは積層金属板8と接続されている。また、IGBT12のエミッタEは、金属線12Aを用いて低電圧側のベース金属板2と接続され、金属線12Bを用いて後述のダイオード13と接続されると共に、ゲートGは金属線12Cを用いて制御回路基板14と接続されている。
【0041】
13はIGBT12と共に低電圧側素子を構成する例えば3個のダイオードで、該各ダイオード13は積層金属板8に面実装され、金属線12B等を用いて各IGBT12のコレクタCとエミッタEとの間にそれぞれ並列に接続されている。
【0042】
ここで、インバータ装置1は、高電圧側のIGBT10と低電圧側のIGBT12とをそれぞれ3個ずつ並列に接続することにより、これら全体として通電可能な電流量を増大し、また各IGBT10,12の内部抵抗等による損失を小さく抑える構成となっている。
【0043】
この場合、高電圧側と低電圧側のIGBT10,12は、互いにほぼ等しいピッチでY軸方向に沿って列設され、積層金属板5,8の幅寸法W1,W2のほぼ全長にわたって互いに並行な位置関係をもつように並べて配置されると共に、個々のIGBT10,12がX軸方向の間隔をもってそれぞれ対向している。また、高電圧側と低電圧側の各ダイオード11,13も同様に、互いに並行な位置関係をもつように並べて配置されている。
【0044】
これにより、インバータ装置1は、高電圧側の各IGBT10を介して積層金属板5,8間に大電流が流れるとき、または低電圧側の各IGBT12を介してベース金属板2と積層金属板8との間に大電流が流れるときに、これらの電流経路が金属板2,5,8のほぼ全幅にわたって均等に形成され、高電圧側と低電圧側の電流経路が金属板2,5,8等によって上,下に積層された状態となる。即ち、高電圧側と低電圧側の電流経路を幅広に形成してIGBT10,12の直ぐ近くまで延ばすことができ、かつこれらの電流経路を電流の方向が互いに逆向きとなるように積層することができる。従って、本実施の形態では、金属板2,5,8等の寄生インダクタンスを幅寸法W1,W2等に応じて小さく抑制でき、また大電流を個々のIGBT10,12に安定的に分散できる構成となっている。
【0045】
14は樹脂ケース4内に取付けられた制御回路基板で、該制御回路基板14は、図3に示す如く、金属板2,5,8の上側に隙間をもって配置されている。また、制御回路基板14には、各IGBT10,12の通電状態を制御する制御回路(図示せず)が設けられ、この制御回路は、基板14の端部近傍で各金属線10C,12Cを用いて個々のIGBT10,12と接続されている。
【0046】
そして、インバータ装置1は、制御回路基板14を用いて各IGBT10,12をON,OFF制御することにより、バッテリ16等の直流電源を交流に変換する。この場合、インバータ装置1は、図4に示す如く、例えばインバータ装置1とほぼ同様に構成された他のインバータ装置1′,1″と一緒にバッテリ16に対して並列に接続され、これらのインバータ装置1,1′,1″をU相,V相,W相とする3相交流式のインバータ回路15を構成する。そして、インバータ回路15の各出力端子9,9′,9″は、例えば3相交流の電流を出力して電動モータ等の負荷17を駆動するものである。
【0047】
本実施の形態によるインバータ装置1は上述の如き構成を有するもので、次にその作動について説明する。
【0048】
まず、各IGBT10,12がON,OFFされると、高電圧側の積層金属板5と出力側の積層金属板8との間には、各IGBT10を介して大電流がX軸方向に流れ、また低電圧側のベース金属板2と積層金属板8との間にも、各IGBT12を介して大電流がX軸方向に流れる。
【0049】
この場合、各IGBT10,12は、互いに並行な位置関係をもって対向するように積層金属板5,8の幅寸法W1,W2にわたって並べて配置されているため、これらの大電流の電流経路は積層金属板5,8のほぼ全幅にわたって均等に形成され、高電圧側と低電圧側の電流経路が上,下に積層された状態となる。
【0050】
そして、金属板2,5の電流経路は幅広で電流の方向が互いに逆向きとなり、金属板5,8の電流経路も幅広で互いに逆向きとなるから、金属板2,5,8に生じる寄生インダクタンスを小さくすることができる。これにより、金属板2,5,8の寄生インダクタンスを幅寸法W1,W2等に応じて低減することができる。
【0051】
また、各IGBT10,12では、高電圧端子7からIGBT10を介して出力端子9に至る電流経路の長さ、及び出力端子9からIGBT12を介して低電圧端子3に至る電流経路の長さが個々のIGBT10,12間でほぼ同程度になる。従って、各IGBTのうち電流経路が短い一部のIGBTの電流密度が大きくなり、このIGBT等に電流が集中するのを防止することができる。即ち、大電流が個々のIGBT10,12にほぼ均等に分散して通電されるようになるため、一部のIGBT10,12が電流の集中等によって損傷するのを防止することができる。
【0052】
また、IGBT10,12の通電時には、その電流量に応じて多量の熱が発生する。しかし、各IGBT10,12は積層金属板5,8に面実装され、これらの金属板5,8はベース金属板2に広い面積をもって積層されているため、IGBT10,12の熱を金属板2,5,8を介して効率よく逃すことができる。
【0053】
かくして、本実施の形態では、ベース金属板2に積層金属板5,8を積層し、これらの積層金属板5,8には、高電圧側と低電圧側のIGBT10,12を互いに並行に並べて実装する構成としたので、金属板2,5,8のほぼ全幅にわたって均等な電流経路を形成でき、この電流経路を可能な限り幅広に形成しつつ、高電圧側の電流経路と低電圧側の電流経路とを上,下に積層することができる。
【0054】
この場合、単に金属板を用いて複数のIGBT等を平面的に配置しようとしても、金属板の面積を大きくしてインバータ装置を大型化しない限りは、各IGBT間に幅広で均等な電流経路を形成したり、高電圧側と低電圧側のIGBT間の接続距離を短くするのが難しい。
【0055】
しかし、本実施の形態では、金属板2,5,8を積層することにより、ベース金属板2をIGBT10,12の実装に必要な最低限の大きさに形成しつつ、これらの幅寸法W1,W2等を確保して寄生インダクタンスを容易に低減させることができる。また、高電圧側と低電圧側のIGBT10,12を近接させて両者間の寄生インダクタンスも減少させることができ、通電時に発生するサージ電圧等を小さく抑制することができる。このため、サージ電圧等によってIGBT10,12が損傷したり、インバータ装置1の動作が不安定となるのを確実に防止することができる。
【0056】
また、個々のIGBT10,12に通電される電流量を均等に分散して小さく抑えることができるから、インバータ装置1により大電流を制御する場合でも、IGBT10,12を電流の集中等による損傷から保護でき、また電流許容量の大きなインバータ装置1を実現することができる。
【0057】
さらに、従来技術のようにL字状に屈曲した接続板、端子板等を用いる必要がなくなるから、インバータ装置1を薄型でコンパクトに形成できると共に、寄生インダクタンスをより確実に低減させることができる。また、積層金属板5,8とベース金属板2との間に広い接触面積を確保できるから、IGBT10,12の放熱性を高めることができる。
【0058】
従って、本実施の形態によれば、金属板2,5,8を用いて装置全体の配線構造を簡略化でき、IGBT10,12等の動作を安定化できると共に、インバータ装置1の性能や信頼性を向上させることができる。また、例えば4個以上の多数のIGBT10,12等をインバータ装置1に実装する場合でも、金属板2,5,8の幅寸法W1,W2等をIGBT10,12の個数に対応して広くするだけで容易に対応でき、設計自由度を高めることができる。
【0059】
また、低電圧端子3、高電圧端子7、出力端子9を金属板2,5,8とそれぞれ一体に形成したので、これらの端子3,7,9を容易に形成でき、インバータ装置1の部品点数を削減することができる。この場合、平板状の端子3,7,9をインバータ装置1の側面から引出すことができるので、例えば各端子を樹脂ケース4の上面側から引出すためにL字状に屈曲させる必要がなくなり、寄生インダクタンスの低減を促進することができる。
【0060】
また、制御回路基板14を金属板2,5,8の上側に隙間をもって配置したので、例えば金属板2,5,8と同じ平面上に基板14を設ける必要がなくなり、インバータ装置1をコンパクトに形成できると共に、高電圧側と低電圧側のIGBT10,12を容易に近接させることができる。
【0061】
この場合、各IGBT10,12のゲートGをワイヤボンディング等の手段によって制御回路基板14と接続したので、従来技術のように半導体素子の端子等を制御回路基板の貫通孔に挿通する場合と比較して、制御回路基板14を各IGBT10,12に高い精度で位置合わせする必要がなくなり、これらの組立や接続作業を効率よく行うことができる。
【0062】
また、本実施の形態では、高電圧側の各IGBT10と低電圧側の各IGBT12とが互いに並行になるように配置し、かつIGBT10,12間に端子3,7,9(バスバ電極)の取付部位を設けていない。このため、複数個のIGBT10と複数個のIGBT12とを互いに同程度の短い距離で接続でき、これらの接続部位の寄生インピーダンスを十分に低減することができる。
【0063】
これにより、IGBT10,12が切換動作を行うときには、例えば金属板2,5,8等の寄生インダクタンスによって負のサージ電圧や電圧のリンギング等が発生し、ベース金属板2の電位がグランド電位よりもマイナス側に変動するのを防止でき、例えばベース金属板2の電位を制御回路基板14の基準電位として用いる場合でも、制御回路基板14を安定的に作動させることができる。
【0064】
ここで、図5に示すインバータ装置1の等価回路を参照しつつ、IGBT10,12の切換動作により発生する負のサージ電圧について説明する。この場合、図5中のL1は高電圧側の積層金属板5等の寄生インダクタンスを示し、L2,L3は出力側の積層金属板8等の寄生インダクタンス、L4は低電圧側のベース金属板2等の寄生インダクタンスをそれぞれ示している。
【0065】
そして、まず最初に、高電圧側のIGBT10がON状態となり、低電圧側のIGBT12がOFF状態となっているときには、バッテリ16からIGBT10を介して負荷17に負荷電流Iaが流れている。
【0066】
次に、IGBT10がONからOFFに切換わると、この負荷電流Iaは、負荷17に蓄えられたエネルギにより瞬間的に遷移し、低電圧側のダイオード13を介して流れる遷移電流Ibに変化する。そして、このときの電流変化率(di/dt)は大きな値となるため、例えば金属板2,8等の寄生インダクタンスL4,L3が微小であっても、低電圧端子3と出力端子9との間には、例えば(L3+L4)×di/dtとして定められる大きな逆起電力が発生する。
【0067】
また、低電圧端子3と出力端子9との間には、IGBT10がOFFしたことによる電圧降下も生じるため、これらの電圧降下と逆起電力とが加算されることにより、低電圧端子3と出力端子9との端子間電圧Vには、図6に示す如く、グランド電位よりもマイナス側に変動する負のサージ電圧Vsが発生することがある。
【0068】
しかし、本実施の形態では、金属板2,5,8等の面積を小さくして寄生インダクタンスL1〜L4を低減できるので、負のサージ電圧Vsを小さく抑えることができ、例えばベース金属板2の電位を制御回路基板14の基準電位として使用できると共に、制御回路基板14が負のサージ電圧Vsや電圧のリンギング等によって誤動作するのを防止することができる。
【0069】
次に、図7及び図8は本発明による第2の実施の形態を示し、本実施の形態の特徴は、第1の金属板に高電圧端子を設け、第2の金属板に低電圧端子を設ける構成としたことにある。なお、本実施の形態では、第1の実施の形態と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
【0070】
21はインバータ装置で、該インバータ装置21は、後述のベース金属板22、樹脂ケース24、積層金属板25,28、IGBT30,32、ダイオード31,33、制御回路基板34等を含んで構成され、例えば3相交流式のインバータ回路のうち1相分の回路を構成しているものである。
【0071】
22はインバータ装置21を構成する第1の金属板としてのベース金属板で、該ベース金属板22は、略四角形状の平板として形成され、図7中のX軸方向及びY軸方向に延びている。また、ベース金属板22には平板状の高電圧端子23が一体に形成され、該高電圧端子23は、例えばインバータ装置21の右側面のうちベース金属板22に近い裏面側の部位から突出している。
【0072】
ここで、インバータ装置21は、ベース金属板22が高電圧端子23を介してバッテリ16のプラス極側に接続され、後述の積層金属板25が低電圧端子27を介してバッテリ16のマイナス極側に接続される構成となっている。これにより、インバータ装置21は、第1の実施の形態と比較して低電圧側(積層金属板25)の導体面積が小さく形成されている。
【0073】
24はベース金属板22の表面側に固着された絶縁性の樹脂ケースで、該樹脂ケース24は、第1の実施の形態とほぼ同様に、積層金属板25,28、制御回路基板34等を取囲む枠状体として形成されている。
【0074】
25はベース金属板22に絶縁材26を介して積層された第2の金属板としての低電圧側の積層金属板で、該積層金属板25は、図7、図8に示す如く、ベース金属板22よりも小さな略四角形状の平板として形成されている。また、積層金属板25には平板状の低電圧端子27が一体に形成され、該低電圧端子27は、例えば樹脂ケース24の右側面から突出している。
【0075】
28はベース金属板22に絶縁材26を介して積層された第3の金属板としての出力側の積層金属板で、該積層金属板28は、ベース金属板22よりも小さな略四角形状の平板として形成されている。
【0076】
ここで、積層金属板28は、ベース金属板22のX軸方向の中央近傍に配置されている。そして、ベース金属板22には、積層金属板28のX軸方向一側(左側)に後述のIGBT30、ダイオード31が配置され、積層金属板28のX軸方向他側(右側)に低電圧側の積層金属板25が配置されている。
【0077】
29は金属線29Aを用いて出力側の積層金属板28に接続して設けられた平板状の出力端子で、該出力端子29は細長い金属片等によって形成され、例えば樹脂モールド等の手段により樹脂ケース24の左側面に取付けられると共に、樹脂ケース24の内,外に突出している。そして、出力端子29は、電動モータ等の負荷17に接続されるものである。
【0078】
30は例えば3個の高電圧側素子としてのIGBTで、該各IGBT30は、第1の実施の形態とほぼ同様に、例えばベアチップ型の半導体素子等からなり、ダイオード31と一緒にベース金属板22に面実装されると共に、Y軸方向に沿って一定のピッチで直線状に並んでいる。
【0079】
そして、各IGBT30は、裏面電極としてのコレクタCが高電圧側のベース金属板22と接続され、表面電極としてのエミッタEが金属線30A,30Bを用いて出力側の積層金属板28と接続されると共に、ゲートGが他の金属線30Cを用いて後述の制御回路基板34と接続されている。また、各ダイオード31は、各IGBT30と一緒に列設され、金属線30A等を用いて各IGBT30のコレクタCとエミッタEとの間にそれぞれ並列に接続されている。
【0080】
32は例えば3個の低電圧側素子としてのIGBTで、該各IGBT32は、ダイオード33と一緒に出力側の積層金属板28に面実装され、コレクタCが積層金属板28と接続されている。また、IGBT32のエミッタEは、金属線32Aを用いて低電圧側の積層金属板25と接続され、金属線32Bを用いてダイオード33と接続されると共に、ゲートGは金属線32Cを用いて制御回路基板34と接続されている。また、ダイオード33は、各IGBT32のコレクタCとエミッタEとの間に並列に接続されている。
【0081】
ここで、高電圧側と低電圧側の各IGBT30,32は、第1の実施の形態とほぼ同様に、互いにほぼ等しいピッチでY軸方向に沿って列設され、個々のIGBT30,32がX軸方向の間隔をもってそれぞれ対向すると共に、積層金属板25,28のほぼ全幅にわたって並行に並んでいる。また、高電圧側と低電圧側の各ダイオード31,33も同様に、互いに並行に並べて配置されている。
【0082】
これにより、インバータ装置21は、高電圧側の各IGBT30を介してベース金属板22と積層金属板28との間に大電流がX軸方向に流れるとき、または低電圧側の各IGBT32を介して積層金属板25,28間に大電流がX軸方向に流れるときに、金属板22,25,28のY軸方向のほぼ全幅にわたって幅広な電流経路を形成し、高電圧側と低電圧側の電流経路が金属板22,25によって上,下に積層された状態となる。従って、本実施の形態では、金属板22,25,28等の寄生インダクタンスをこれらの幅寸法に応じて小さく抑制でき、また大電流を個々のIGBT30,32に安定的に分散できるものである。
【0083】
34は樹脂ケース24内に取付けられた制御回路基板で、該制御回路基板34は、第1の実施の形態とほぼ同様に、金属板22,25,28の上側に隙間をもって配置され、各金属線30C,32Cを用いて個々のIGBT30,32と接続されている。
【0084】
かくして、このように構成される本実施の形態でも、前記第1の実施の形態とほぼ同様の作用効果を得ることができる。そして、特に本実施の形態では、ベース金属板22に高電圧端子23を設け、積層金属板25に低電圧端子27を設ける構成としたので、積層金属板25からなる低電圧側の導体面積を小さく形成でき、低電圧側の寄生インダクタンスをより低減することができる。
【0085】
これにより、IGBT30,32が切換動作を行うときには、積層金属板25側の寄生インダクタンスによって負のサージ電圧や電圧のリンギング等が発生し、積層金属板25の電位がグランド電位よりもマイナス側に変動するのを防止でき、例えば積層金属板25の電位を制御回路基板34の基準電位として用いる場合でも、制御回路基板34を安定的に作動させることができる。
【0086】
ここで、第1の実施の形態で図5、図6を用いて説明した場合と同様に、IGBT30,32の切換動作により発生する負のサージ電圧について説明する。この場合、まず最初に、高電圧側のIGBT30がON状態となり、低電圧側のIGBT32がOFF状態となっているときには、バッテリ16からIGBT30を介して負荷17に負荷電流Iaが流れている。
【0087】
次に、IGBT30がONからOFFに切換わると、この負荷電流Iaは、負荷17に蓄えられたエネルギにより瞬間的に遷移し、低電圧側のダイオード33を介して流れる遷移電流Ibに変化する。そして、このときの電流変化率(di/dt)は大きな値となるため、例えば積層金属板25,28の寄生インダクタンスL4,L3が微小であっても、低電圧端子27と出力端子29との間には、例えば(L3+L4)×di/dtとして定められる大きな逆起電力が発生する。
【0088】
また、低電圧端子27と出力端子29との間には、IGBT30がOFFしたことによる電圧降下も生じるため、これらの電圧降下と逆起電力とが加算されることにより、低電圧端子27と出力端子29との端子間電圧Vには、グランド電位よりもマイナス側に変動する負のサージ電圧Vsが発生することがある。
【0089】
しかし、本実施の形態では、積層金属板25の面積をより小さくして低電圧側の寄生インダクタンスL4を低減できるので、負のサージ電圧Vsを小さく抑えることができ、例えば積層金属板25の電位を制御回路基板34の基準電位として使用できると共に、制御回路基板34が負のサージ電圧Vsや電圧のリンギング等によって誤動作するのを防止することができる。
【0090】
次に、図9は本発明による第3の実施の形態を示し、本実施の形態の特徴は、前記第1の実施の形態にセラミックス基板を用いる構成としたことにある。なお、本実施の形態では、第1の実施の形態と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
【0091】
41はインバータ装置で、該インバータ装置41は、第1の実施の形態とほぼ同様に、ベース金属板2、樹脂ケース4、IGBT10,12、ダイオード11,13、制御回路基板14と、後述の積層金属板43,46等とを含んで構成されている。しかし、積層金属板43,46は、後述するセラミックス基板42,45の一部として構成されている。
【0092】
42は例えば半田付け、接着等の手段によりベース金属板2上に設けられたセラミックス基板で、該セラミックス基板42は、例えば汎用的な積層基板等により構成され、第1の実施の形態における高電圧側の積層金属板5と絶縁材6とに代えて用いられるものである。そして、セラミックス基板42は、絶縁材となるセラミックス層42Aの両面側に金属層42Bが積層されている。
【0093】
43はセラミックス基板42の表面側の金属層42Bを用いて形成された第2の金属板としての積層金属板で、該積層金属板43には、高電圧側のIGBT10とダイオード11とが実装されている。また、積層金属板43には、例えば半田付け、超音波接合等の手段により高電圧端子44が接合され、該高電圧端子44は樹脂ケース4の外部に突出している。
【0094】
45はベース金属板2上に設けられた他のセラミックス基板で、該セラミックス基板45は、セラミックス基板42とほぼ同様の汎用的な積層基板等からなり、第1の実施の形態における出力側の積層金属板8と絶縁材6とに代えて用いられるものである。そして、セラミックス基板45は、絶縁材となるセラミックス層45Aの両面側に金属層45Bが積層されている。
【0095】
46はセラミックス基板45の表面側の金属層45Bを用いて形成された第3の金属板としての積層金属板で、該積層金属板46には、低電圧側のIGBT12とダイオード13とが実装され、出力端子47が接合されている。
【0096】
かくして、このように構成される本実施の形態でも、第1の実施の形態とほぼ同様の作用効果を得ることができる。そして、特に本実施の形態では、汎用的なセラミックス基板42,45を用いてインバータ装置41を構成できるから、絶縁材6等の部品点数を削減して組立作業を効率よく行うことができる。
【0097】
次に、図10は本発明による第4の実施の形態を示し、本実施の形態の特徴は、前記第2の実施の形態にセラミックス基板を用いる構成としたことにある。なお、本実施の形態では、第2の実施の形態と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
【0098】
51はインバータ装置で、該インバータ装置51は、第2の実施の形態とほぼ同様に、ベース金属板22、樹脂ケース24、IGBT30,32、ダイオード31,33、制御回路基板34と、後述の積層金属板54,57等とを含んで構成されている。しかし、積層金属板54,57は、後述するセラミックス基板53,56の一部として構成されている。
【0099】
52は例えば半田付け、接着等の手段によりベース金属板22上に設けられた第1のセラミックス基板で、該セラミックス基板52は、前記第3の実施の形態とほぼ同様に、例えば汎用的な積層基板等により構成され、絶縁性のセラミックス層52Aの両面側に金属層52Bが積層されている。そして、高電圧側のIGBT30とダイオード31とは、セラミックス基板52を介してベース金属板22上に実装され、IGBT30のコレクタCは、金属線52Cを用いてベース金属板22と接続されている。
【0100】
53はベース金属板22上に設けられた第2のセラミックス基板で、該セラミックス基板53は、第2の実施の形態における低電圧側の積層金属板25と絶縁材26とに代えて用いられ、絶縁材となるセラミックス層53Aの両面側に金属層53Bが積層されている。
【0101】
54はセラミックス基板53の表面側の金属層53Bを用いて形成された第2の金属板としての積層金属板で、該積層金属板54には、例えば半田付け、超音波接合等の手段により低電圧端子55が接合され、該低電圧端子55は樹脂ケース24の外部に突出している。
【0102】
56はベース金属板22上に設けられた第3のセラミックス基板で、該セラミックス基板56は、第2の実施の形態における出力側の積層金属板28と絶縁材26とに代えて用いられ、絶縁材となるセラミックス層56Aの両面側に金属層56Bが積層されている。
【0103】
57はセラミックス基板56の表面側の金属層56Bを用いて形成された第3の金属板としての積層金属板で、該積層金属板57には、低電圧側のIGBT32とダイオード33とが実装され、金属線58A等を用いて出力端子58が接合されている。
【0104】
かくして、このように構成される本実施の形態でも、第2,第3の実施の形態とほぼ同様の作用効果を得ることができる。
【0105】
次に、図11は本発明による第5の実施の形態を示し、本実施の形態の特徴は、制御回路基板を複数の基板によって構成したことにある。なお、本実施の形態では、前記第1の実施の形態と同一の構成要素に同一の符号を付し、その説明を省略するものとする。
【0106】
61はインバータ装置で、該インバータ装置61は、第1の実施の形態とほぼ同様に、ベース金属板2、樹脂ケース4、積層金属板5,8、IGBT10,12、ダイオード11,13と、後述の制御回路基板62等とを含んで構成されている。
【0107】
62は樹脂ケース4内に取付けられた制御回路基板で、該制御回路基板62は、第1の実施の形態とほぼ同様に、金属板2,5,8の上側に隙間をもって配置され、各IGBT10,12の通電状態を制御する制御回路(図示せず)が設けられている。
【0108】
また、制御回路基板62は、例えば3個の基板63,64,65により構成されている。そして、基板63〜65のうち最も大きく形成された上側の基板63は、下側の基板64,65と上,下方向で重なり合うように配置され、これらの基板63〜65は金属線62A等を用いて互いに接続されている。また、各IGBT10,12のゲートGは、金属線62B等を用いて下側の基板64,65に接続されている。
【0109】
かくして、このように構成される本実施の形態でも、第1の実施の形態とほぼ同様の作用効果を得ることができる。そして、特に本実施の形態では、制御回路基板62を、金属板2,5,8に対して垂直な方向に離間した基板63,64,65により構成したので、制御回路基板62の面積を全体として大きく形成することができる。特に、上側の基板63には、ベース金属板2と同程度の大きな面積を確保できるので、インバータ装置61の設計自由度を高めることができる。
【0110】
次に、図12は本発明による第6の実施の形態を示し、本実施の形態の特徴は、インバータ装置を電気機械に適用する構成としたことにある。
【0111】
71は例えば自動車等の車両に搭載されるインバータ付き電気機械で、該インバータ付き電気機械71は、その外郭となる段付き筒状のハウジング72を有し、該ハウジング72は、後述の電動モータ75を収容する筒状のモータケース72Aと、自動変速機73を収容する変速機ケース72Bと、これらのケース72A,72B間を仕切る仕切板72Cとにより大略構成されている。
【0112】
73はハウジング72の変速機ケース72B内に収容された自動変速機で、該自動変速機73は、車両のエンジン側に連結された入力軸74と、車輪側に連結された出力軸(図示せず)との間に設けられ、例えば運転者の変速操作等に応じてエンジンの回転を変速しつつ、変速した回転を出力軸に伝達するものである。
【0113】
75はハウジング72のモータケース72A内に設けられた多相交流式の電動モータで、該電動モータ75は、モータケース72A内に固定された環状のステータ75Aと、入力軸74の外周側に固着されたマグネット等からなるロータ75Bとにより構成されている。そして、電動モータ75は、後述のインバータ装置76から給電されることによって入力軸74を回転駆動し、例えばエンジンと協働して車両を走行させるものである。
【0114】
76はハウジング72のモータケース72A内に設けられたインバータ装置で、該インバータ装置76は、前記第1ないし第5の実施の形態で用いたインバータ装置1,21,41,51,61のいずれかによって構成され、ベース金属板77、高電圧端子78、低電圧端子79、出力端子80等を有している。
【0115】
ここで、インバータ装置76は、例えばベース金属板77が熱伝導性の高い絶縁材(図示せず)等を介してハウジング72の仕切板72Cに取付けられている。また、高電圧端子78と低電圧端子79とは、モータケース72Aの開口端に設けられた切欠き溝81等を介してハウジング72の外部に引出され、これらは車両のバッテリ等に接続されている。この場合、モータケース72Aの切欠き溝81には、ケースの内,外をシールするシール部材82が設けられている。
【0116】
そして、インバータ装置76は、その出力端子80がモータケース72A内で電動モータ75と接続され、バッテリ等の電力を用いて電動モータ75を交流電流により駆動するものである。
【0117】
かくして、このように構成される本実施の形態でも、前記第1ないし第5の実施の形態とほぼ同様の作用効果を得ることができる。そして、特に本実施の形態では、インバータ装置76の裏面側に位置するベース金属板77をハウジング72の仕切板72Cに取付ける構成としている。
【0118】
この場合、インバータ装置76は、その側面のうちベース金属板77に近い部位から高電圧端子78と低電圧端子79とが突出しているので、モータケース72Aの開口端に切欠き溝81を形成するだけで、これらの端子78,79を仕切板72Cに沿ってハウジング72の外部へと容易に引出すことができる。これにより、従来のモータケース72Aに対して貫通孔等を形成する必要がなくなり、簡単な溝加工を施すだけで、インバータ装置76をハウジング72内に容易に配置できると共に、シール部材82等の装着も円滑に行うことができる。
【0119】
また、例えば42V程度の高電圧を有するバッテリ等を車両に搭載する場合でも、インバータ装置76のベース金属板77とハウジング72の仕切板72Cとの間に絶縁材等を介在させることにより、サージ電圧等に対する絶縁対策を確実に行うことができ、高電圧仕様の車両にも容易に適用することができる。
【0120】
なお、前記各実施の形態では、高電圧側素子として3個のIGBT10,30及びダイオード11,31を実装し、低電圧側素子として3個のIGBT12,32及びダイオード13,33を実装した場合を例に挙げて述べた。しかし、本発明は、高電圧側素子と低電圧側素子の個数が実施例に限定されるものではなく、例えば2個の高電圧側素子と2個の低電圧側素子とを並行に並べる構成としてもよく、また4個以上の高電圧側素子と4個以上の低電圧側素子とを並行に並べる構成としてもよい。
【0121】
また、実施の形態では、高電圧側素子と低電圧側素子とをIGBT10,12,30,32、ダイオード11,13,31,33等により構成した。しかし、本発明はこれに限らず、例えば高電圧側素子や低電圧側素子としてMOSFET等を用いる構成としてもよい。
【0122】
特に、高電圧側素子及び低電圧側素子としてMOSFETを用い、これらのMOSFET内に存在する寄生ダイオードをダイオード11,13,31,33に代えて利用することにより、ダイオード11,13,31,33を廃止することができ、このような回路構成によっても、第1ないし第6の実施の形態で述べた作用効果を得ることができる。
【0123】
また、実施の形態では、金属板2,5,8,22,25,28,43,46,54,57,77と、端子3,7,9,23,27,29,44,47,55,58,78,79,80の一部を必要に応じて一体に形成した。しかし、本発明はこれに限らず、これら全ての金属板と端子とを別個の金属部品として形成したり、一部の金属板と端子とを別個の金属部品として形成し、両者を半田付け、ワイヤボンディング等の手段により接続する構成としてもよい。これにより、外部から端子に応力等が加わる場合でも、この応力がインバータ装置内に伝わるのを防止でき、外力等による装置の損傷を防止することができる。
【0124】
さらに、実施の形態では、半導体装置としてインバータ装置1,21,41,51,61,76を例に挙げて述べた。しかし、本発明はこれに限らず、大電流を通電する各種の半導体装置に適用できるのは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態によるインバータ装置を示す斜視図である。
【図2】図1中の矢示II−II方向からみたインバータ装置の断面図である。
【図3】図2中の矢示III-III方向からみたインバータ装置の断面図である。
【図4】インバータ装置を含めたインバータ回路全体を示す回路図である。
【図5】インバータ装置の金属板等により生じる寄生インダクタンスを示す等価回路図である。
【図6】低電圧側の寄生インダクタンスにより負のサージ電圧が発生する状態を示す特性線図である。
【図7】本発明の第2の実施の形態によるインバータ装置を示す断面図である。
【図8】図7中の矢示VIII−VIII方向からみたインバータ装置の断面図である。
【図9】本発明の第3の実施の形態によるインバータ装置を示す断面図である。
【図10】本発明の第4の実施の形態によるインバータ装置を示す断面図である。
【図11】本発明の第5の実施の形態によるインバータ装置を示す断面図である。
【図12】本発明の第6の実施の形態によるインバータ装置を電気機械に搭載した状態を示す断面図である。
【符号の説明】
1,1′,1″,21,41,51,61,76 インバータ装置(半導体装置)
2,22,77 ベース金属板(第1の金属板)
3,27,55,79 低電圧端子
4,24 樹脂ケース
5,25,43,54 積層金属板(第2の金属板)
6,26 絶縁材
7,23,44,78 高電圧端子
8,28,46,57 積層金属板(第3の金属板)
9,9′,9″,29,47,58,80 出力端子
10,30 IGBT(高電圧側素子)
11,31 ダイオード(高電圧側素子)
12,32 IGBT(低電圧側素子)
13,33 ダイオード(低電圧側素子)
14,34,62 制御回路基板
16 バッテリ(電源)
42,45,52,53,56 セラミックス基板
42A,45A,52A,53A,56A セラミックス層(絶縁材)
42B,45B,52B,53B,56B 金属層
63,64,65 基板
71 インバータ付き電気機械
72 ハウジング
75 電動モータ
E エミッタ(表面電極)
C コレクタ(裏面電極)[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device suitably used for outputting a large current by a semiconductor element such as an insulated gate bipolar transistor (IGBT) or a MOS transistor (MOSFET).
[0002]
[Prior art]
Generally, as a semiconductor device, for example, a three-phase AC type inverter device that converts a DC power source such as a battery into AC and drives an electric motor or the like with an AC current is known (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 10-229680). etc).
[0003]
In this type of conventional inverter device, for example, each phase (U phase, V phase, W phase) of three-phase alternating current is constituted by a high voltage side circuit unit and a low voltage side circuit unit, respectively. The unit is configured by connecting a plurality of semiconductor elements in parallel.
[0004]
In this case, for example, in the circuit unit on the high voltage side, a U-shaped metal fin is erected vertically on a base plate that is a main body portion, and each semiconductor element is attached to the metal fin by means such as screwing. And installed vertically. Further, the high voltage side circuit units constituting each of the three phases are connected in parallel to each other using a substantially L-shaped high voltage terminal plate connected to a plus electrode such as a battery.
[0005]
Similarly, the circuit unit on the low voltage side is mounted with each semiconductor element standing on the metal fin on the base plate, and each phase circuit unit is substantially L-shaped connected to the negative electrode of a battery or the like. Are connected in parallel with each other using a low voltage terminal plate. In addition, a substantially L-shaped connection plate is provided between the high voltage side and low voltage side circuit units to connect the two.
[0006]
Here, each semiconductor element is attached to the metal fin in an upside-down state, and terminals such as a source and a gate protrude upward. For this reason, the connecting plate is connected to the source at a position where one end side covers each semiconductor element on the high voltage side, and the other end side is bent downward in a substantially L shape, and the circuit unit on the low voltage side It is connected. Similarly, each semiconductor element on the low voltage side has a source or the like protruding upward connected to another connection plate, and this connection plate is bent downward and connected to the low voltage terminal plate.
[0007]
In addition, the high voltage terminal plate and the low voltage terminal plate are formed by, for example, a metal plate extending along the back side of the base plate of each circuit unit. It is arranged so that it is pinched below. Further, one end side of each terminal plate is bent upward in a substantially L shape from the back side of the base plate, and is led out to the upper surface side of a power supply capacitor or the like provided in the inverter device.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in the prior art mentioned above, it is set as the structure which attaches to a metal fin in the state which erected the metal fin on the base board and stood each semiconductor element upside down. However, in this case, for example, the source of each semiconductor element on the low voltage side needs to be routed in a substantially U shape from the upper side to the lower side of the semiconductor element by the connection plate and the low voltage terminal plate.
[0009]
For this reason, in the prior art, the wiring structure on the low voltage side including the connection plate and the low voltage terminal plate is complicated and long, and the parasitic inductance is increased. There is a problem that a large surge voltage or the like is generated in the wiring and the operation of the apparatus becomes unstable, and the reliability is lowered.
[0010]
Further, in the inverter device of the prior art, a connection plate for connecting the semiconductor elements on the high voltage side and the low voltage side, a low voltage terminal plate, a high voltage terminal plate, and the like are also bent in an L shape. Therefore, the wiring becomes complicated and long even in these portions, the parasitic inductance of the wiring increases, and a surge voltage is easily generated.
[0011]
The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to simplify the wiring structure of the entire device even when a large number of semiconductor elements are mounted, for example. An object of the present invention is to provide a semiconductor device in which elements can be stably operated and reliability can be improved.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above-described problem, the invention of
[0013]
By configuring in this manner, for example, the width dimension of each metal plate can be formed large, and each high voltage side element and low voltage side element can be arranged in parallel in the width direction, and the high voltage side and low voltage side elements can be arranged in parallel. Elements can be brought close together. As a result, the current path flowing through each metal plate can be formed wide, and the current path on the low voltage side by the first metal plate and the current path on the high voltage side by the second metal plate are stacked above and below. can do.
[0014]
As a result, the parasitic inductance can be reduced according to the width dimension of each metal plate, the distance between the high-voltage side element and the low-voltage side element, etc., and a large surge voltage or the like is generated due to the parasitic inductance. Can be prevented. In addition, since the amount of current applied to each element can be evenly distributed and uniform, even when a large current is controlled in the semiconductor device, each element can be protected from damage due to current concentration, etc. Can be realized. Further, since the elements can be mounted by laminating the respective metal plates, the wiring structure can be simplified, the entire apparatus can be formed compactly, and the heat dissipation of the elements can be enhanced.
[0015]
According to the invention of
[0016]
Thereby, individual terminals can be easily formed together with the first, second, and third metal plates, and the number of parts of the semiconductor device can be reduced. Further, since the flat terminals can be drawn out from the side surface of the semiconductor device, for example, it is not necessary to bend in an L shape in order to pull out each terminal from the upper surface side of the device, and the reduction of parasitic inductance can be promoted. .
[0017]
In the invention of
[0018]
As a result, for example, the width dimension of the metal plate can be increased and the elements on the high voltage side and the low voltage side can be arranged side by side in the width direction, and these elements can be arranged in parallel due to surge voltage due to parasitic inductance or damage due to current concentration Can be protected from. Moreover, the whole apparatus can be formed compactly and the heat dissipation of an element can be improved.
[0019]
In addition, since the second metal plate connected to the low voltage side of the power supply can be formed in a smaller area, the parasitic inductance of the current path on the low voltage side can be further reduced. Thereby, the surge voltage generated on the second metal plate side can be further reduced. For this reason, for example, even when the potential of the second metal plate is used as the reference potential of the control circuit board, the control circuit board can be stably operated.
[0020]
According to the invention of
[0021]
Thereby, the first and second metal plates can be formed together with the individual terminals to reduce the number of parts. In addition, since the flat terminal can be drawn from the side surface of the semiconductor device, reduction of parasitic inductance can be promoted.
[0022]
According to the invention of
[0023]
According to the invention of
[0024]
Thus, the inverter device can be formed compactly using the first to third metal plates, and the electric motor can be stably driven with a large current. Moreover, since the low voltage terminal, the high voltage terminal, the output terminal, etc. of the inverter device can be drawn out in parallel to the metal plate from the side surface of the device, these terminals can be easily extended to the outside of the housing of the electric machine. .
[0025]
Further, according to the invention of
[0026]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a semiconductor device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0027]
1 to 6 show a first embodiment. In this embodiment, an inverter device is described as an example of a semiconductor device.
[0028]
[0029]
Further, the
[0030]
[0031]
[0032]
4 is an insulating resin case fixed to the surface side of the
[0033]
[0034]
[0035]
8 is a laminated metal plate on the output side as a third metal plate laminated on the
[0036]
[0037]
[0038]
Further, as shown in FIG. 4, an emitter E as a front electrode and a gate G for energization control are provided on the front side of each
[0039]
[0040]
[0041]
[0042]
Here, the
[0043]
In this case, the high-voltage side and low-
[0044]
As a result, the
[0045]
[0046]
And the
[0047]
The
[0048]
First, when the
[0049]
In this case, the
[0050]
Since the current paths of the
[0051]
In each
[0052]
Further, when the
[0053]
Thus, in the present embodiment, the
[0054]
In this case, even if a plurality of IGBTs are simply arranged in a plane using a metal plate, a wide and uniform current path is provided between the IGBTs unless the area of the metal plate is increased to increase the size of the inverter device. It is difficult to form or shorten the connection distance between IGBTs on the high voltage side and the low voltage side.
[0055]
However, in the present embodiment, by laminating the
[0056]
In addition, since the amount of current supplied to the
[0057]
Furthermore, since there is no need to use a connection plate, a terminal plate or the like bent in an L shape as in the prior art, the
[0058]
Therefore, according to the present embodiment, the wiring structure of the entire apparatus can be simplified by using the
[0059]
In addition, since the
[0060]
Further, since the
[0061]
In this case, since the gates G of the
[0062]
In the present embodiment, the high
[0063]
Thereby, when the
[0064]
Here, the negative surge voltage generated by the switching operation of the
[0065]
First, when the high
[0066]
Next, when the
[0067]
In addition, since a voltage drop due to the
[0068]
However, in the present embodiment, since the parasitic inductances L1 to L4 can be reduced by reducing the area of the
[0069]
Next, FIGS. 7 and 8 show a second embodiment according to the present invention. The feature of this embodiment is that a high voltage terminal is provided on the first metal plate, and a low voltage terminal is provided on the second metal plate. It is that it was set as the structure which provides. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0070]
An
[0071]
[0072]
Here, in the
[0073]
[0074]
[0075]
[0076]
Here, the
[0077]
[0078]
[0079]
In each
[0080]
[0081]
Here, the
[0082]
As a result, the
[0083]
[0084]
Thus, in the present embodiment configured as described above, it is possible to obtain substantially the same operational effects as those of the first embodiment. In particular, in the present embodiment, since the
[0085]
Thereby, when the
[0086]
Here, as in the case described with reference to FIGS. 5 and 6 in the first embodiment, the negative surge voltage generated by the switching operation of the
[0087]
Next, when the
[0088]
In addition, since a voltage drop due to the
[0089]
However, in the present embodiment, since the area of the
[0090]
Next, FIG. 9 shows a third embodiment according to the present invention. The feature of this embodiment is that a ceramic substrate is used in the first embodiment. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0091]
[0092]
[0093]
[0094]
[0095]
[0096]
Thus, in the present embodiment configured as described above, it is possible to obtain substantially the same operational effects as those of the first embodiment. In particular, in the present embodiment, since the
[0097]
Next, FIG. 10 shows a fourth embodiment according to the present invention. The feature of this embodiment is that a ceramic substrate is used in the second embodiment. In the present embodiment, the same components as those in the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0098]
[0099]
[0100]
53 is a second ceramic substrate provided on the
[0101]
[0102]
[0103]
[0104]
Thus, in the present embodiment configured as described above, it is possible to obtain substantially the same operational effects as those of the second and third embodiments.
[0105]
Next, FIG. 11 shows a fifth embodiment according to the present invention. The feature of this embodiment is that the control circuit board is constituted by a plurality of boards. In the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
[0106]
[0107]
[0108]
Further, the
[0109]
Thus, in the present embodiment configured as described above, it is possible to obtain substantially the same operational effects as those of the first embodiment. In particular, in the present embodiment, the
[0110]
Next, FIG. 12 shows a sixth embodiment according to the present invention. The feature of this embodiment is that the inverter device is applied to an electric machine.
[0111]
[0112]
73 is an automatic transmission housed in a
[0113]
[0114]
[0115]
Here, in the
[0116]
The
[0117]
Thus, in the present embodiment configured as described above, it is possible to obtain substantially the same operational effects as those of the first to fifth embodiments. In particular, in the present embodiment, a
[0118]
In this case, since the
[0119]
Further, even when a battery having a high voltage of, for example, about 42 V is mounted on a vehicle, a surge voltage can be obtained by interposing an insulating material between the
[0120]
In each of the above embodiments, the three
[0121]
In the embodiment, the high-voltage side element and the low-voltage side element are constituted by the
[0122]
In particular, by using MOSFETs as the high-voltage side element and the low-voltage side element and using parasitic diodes existing in these MOSFETs instead of the
[0123]
In the embodiment, the
[0124]
Further, in the embodiment, the
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an inverter device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view of the inverter device as viewed from the direction of arrows II-II in FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view of the inverter device viewed from the direction of arrows III-III in FIG.
FIG. 4 is a circuit diagram showing an entire inverter circuit including an inverter device.
FIG. 5 is an equivalent circuit diagram showing parasitic inductance caused by a metal plate or the like of the inverter device.
FIG. 6 is a characteristic diagram showing a state in which a negative surge voltage is generated due to parasitic inductance on the low voltage side.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing an inverter device according to a second embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view of the inverter device viewed from the direction of arrows VIII-VIII in FIG.
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an inverter device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a cross-sectional view showing an inverter device according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 11 is a cross-sectional view showing an inverter device according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state where an inverter device according to a sixth embodiment of the present invention is mounted on an electric machine.
[Explanation of symbols]
1, 1 ', 1 ", 21, 41, 51, 61, 76 Inverter device (semiconductor device)
2,22,77 Base metal plate (first metal plate)
3,27,55,79 Low voltage terminal
4,24 Resin case
5, 25, 43, 54 Laminated metal plate (second metal plate)
6,26 Insulation material
7,23,44,78 High voltage terminal
8, 28, 46, 57 Laminated metal plate (third metal plate)
9, 9 ', 9 ", 29, 47, 58, 80 Output terminal
10,30 IGBT (High-voltage side element)
11,31 Diode (High-voltage side element)
12, 32 IGBT (Low-voltage side element)
13,33 Diode (Low-voltage side element)
14, 34, 62 Control circuit board
16 Battery (Power)
42, 45, 52, 53, 56 Ceramic substrate
42A, 45A, 52A, 53A, 56A Ceramic layer (insulating material)
42B, 45B, 52B, 53B, 56B Metal layer
63, 64, 65 substrate
71 Electric machine with inverter
72 Housing
75 Electric motor
E Emitter (surface electrode)
C collector (back electrode)
Claims (7)
該第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され前記電源の高電圧側に接続される高電圧端子が設けられた第2の金属板と、
該第2の金属板と異なる位置で前記第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され外部に電流を出力する出力端子が設けられた第3の金属板と、
表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第2の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第3の金属板と接続された複数の高電圧側素子と、
表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第3の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第1の金属板と接続された複数の低電圧側素子と、
前記各高電圧側素子と各低電圧側素子の通電状態を制御する制御回路基板とにより構成し、
前記第1の金属板上で第2の金属板に配置された複数の高電圧側素子と前記第3の金属板に配置された複数の低電圧側素子とを互いに並行な位置関係をもって並べる構成としてなる半導体装置。A first metal plate provided with a low voltage terminal connected to the low voltage side of the power supply;
A second metal plate provided on the surface side of the first metal plate via an insulating material and provided with a high voltage terminal connected to the high voltage side of the power source;
A third metal plate provided with an output terminal that is stacked via an insulating material on the surface side of the first metal plate at a position different from the second metal plate and outputs an electric current to the outside;
A plurality of high-voltage side elements formed of a semiconductor element having a front electrode and a back electrode, wherein the back electrode is arranged side by side on the second metal plate and the front electrode is connected to the third metal plate When,
A plurality of low-voltage side elements formed of a semiconductor element having a front electrode and a back electrode, wherein the back electrode is arranged side by side on the third metal plate and the front electrode is connected to the first metal plate When,
A control circuit board that controls the energization state of each high-voltage side element and each low-voltage side element,
A configuration in which a plurality of high voltage side elements arranged on the second metal plate and a plurality of low voltage side elements arranged on the third metal plate are arranged in parallel with each other on the first metal plate. A semiconductor device.
該第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され前記電源の低電圧側に接続される低電圧端子が設けられた第2の金属板と、
該第2の金属板と異なる位置で前記第1の金属板の表面側に絶縁材を介して積層され外部に電流を出力する出力端子が設けられた第3の金属板と、
表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第1の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第3の金属板と接続された複数の高電圧側素子と、
表面電極と裏面電極とを有する半導体素子により形成され前記裏面電極が前記第3の金属板上に並べて配置されると共に前記表面電極が前記第2の金属板と接続された複数の低電圧側素子と、
前記各高電圧側素子と各低電圧側素子の通電状態を制御する制御回路基板とにより構成し、
前記第1の金属板に配置された複数の高電圧側素子と前記第1の金属板上で第3の金属板に配置された複数の低電圧側素子とを互いに並行な位置関係をもって並べる構成としてなる半導体装置。A first metal plate provided with a high voltage terminal connected to the high voltage side of the power supply;
A second metal plate provided on the surface side of the first metal plate via an insulating material and provided with a low voltage terminal connected to the low voltage side of the power source;
A third metal plate provided with an output terminal that is stacked via an insulating material on the surface side of the first metal plate at a position different from the second metal plate and outputs an electric current to the outside;
A plurality of high-voltage side elements formed by a semiconductor element having a front electrode and a back electrode, wherein the back electrode is arranged side by side on the first metal plate and the front electrode is connected to the third metal plate When,
A plurality of low voltage side elements formed by a semiconductor element having a front electrode and a back electrode, wherein the back electrode is arranged on the third metal plate and the front electrode is connected to the second metal plate When,
A control circuit board that controls the energization state of each high-voltage side element and each low-voltage side element,
A configuration in which a plurality of high-voltage side elements arranged on the first metal plate and a plurality of low-voltage side elements arranged on a third metal plate on the first metal plate are arranged in parallel with each other. A semiconductor device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002185040A JP4064741B2 (en) | 2002-06-25 | 2002-06-25 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002185040A JP4064741B2 (en) | 2002-06-25 | 2002-06-25 | Semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004031590A JP2004031590A (en) | 2004-01-29 |
JP4064741B2 true JP4064741B2 (en) | 2008-03-19 |
Family
ID=31180802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
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---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004018469B3 (en) | 2004-04-16 | 2005-10-06 | eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH | Power semiconductor circuit |
DE102004027185B4 (en) | 2004-06-03 | 2008-08-28 | Infineon Technologies Ag | Low-inductance semiconductor device with half-bridge configuration |
WO2007142038A1 (en) * | 2006-06-09 | 2007-12-13 | Honda Motor Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP4969388B2 (en) * | 2007-09-27 | 2012-07-04 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | Circuit module |
JP6147256B2 (en) * | 2012-07-19 | 2017-06-14 | 三菱電機株式会社 | Power semiconductor module |
KR101614669B1 (en) | 2012-08-27 | 2016-04-21 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | Electric power semiconductor device |
JP5835166B2 (en) * | 2012-09-07 | 2015-12-24 | 三菱電機株式会社 | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device |
JP6124810B2 (en) * | 2014-01-16 | 2017-05-10 | 三菱電機株式会社 | Power module |
JP6327105B2 (en) * | 2014-10-17 | 2018-05-23 | 三菱電機株式会社 | Semiconductor device |
CN107210291B (en) * | 2015-01-30 | 2019-07-16 | 三菱电机株式会社 | Semiconductor device |
JP7447480B2 (en) | 2019-12-23 | 2024-03-12 | 富士電機株式会社 | Electronic circuits, semiconductor modules and semiconductor devices |
CN112635407A (en) * | 2020-11-06 | 2021-04-09 | 赛晶亚太半导体科技(浙江)有限公司 | IGBT chip arrangement structure |
-
2002
- 2002-06-25 JP JP2002185040A patent/JP4064741B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004031590A (en) | 2004-01-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20041217 |
|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |