Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP3932389B2 - Mass flow controller self-diagnosis method - Google Patents

Mass flow controller self-diagnosis method Download PDF

Info

Publication number
JP3932389B2
JP3932389B2 JP757998A JP757998A JP3932389B2 JP 3932389 B2 JP3932389 B2 JP 3932389B2 JP 757998 A JP757998 A JP 757998A JP 757998 A JP757998 A JP 757998A JP 3932389 B2 JP3932389 B2 JP 3932389B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
valve
mass flow
shut
self
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP757998A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH11202945A (en
Inventor
龍 堀内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SMC Corp
Original Assignee
SMC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SMC Corp filed Critical SMC Corp
Priority to JP757998A priority Critical patent/JP3932389B2/en
Priority to US09/231,773 priority patent/US6125869A/en
Publication of JPH11202945A publication Critical patent/JPH11202945A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3932389B2 publication Critical patent/JP3932389B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K37/00—Special means in or on valves or other cut-off apparatus for indicating or recording operation thereof, or for enabling an alarm to be given
    • F16K37/0075—For recording or indicating the functioning of a valve in combination with test equipment
    • F16K37/0091—For recording or indicating the functioning of a valve in combination with test equipment by measuring fluid parameters
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D7/00—Control of flow
    • G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
    • G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
    • G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/0318—Processes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
    • Y10T137/7758—Pilot or servo controlled
    • Y10T137/7759—Responsive to change in rate of fluid flow

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Flow Control (AREA)
  • Testing And Monitoring For Control Systems (AREA)

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はマスフローコントローラの自己診断方法に関し、さらに詳細にはシステム中に組み込んだ状態でマスフローコントローラにおけるガス流量の変化状態を診断することができるマスフローコントローラの自己診断方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体の製造プロセスにおける薄膜生成装置、乾式エッチング装置などにおいてプロセス機器へ送出するプロセスガスの流量を精密に制御することが要求される。このために、プロセスガスの流量制御のためにプロセス機器へプロセスガスを供給する管路中にマスフローコントローラが挿入されて、マスフローコントローラを構成する制御弁に印加する制御電圧を調整することによってガス流量設定が行われている。
【０００３】
しかし、マスフローコントローラはガス流量のコントロールを目的としているためにマスフローコントローラ内部にオリフィスなどの細管部を有しており、プロセスガスが固形物を析出するようなガスの場合、プロセスガスの通過により経時的に管路中、あるいはマスフローコントローラ中において固形物が析出されてマスフローコントローラ中の管路の有効断面積を実質的に減少させることが生ずる。
【０００４】
このような場合にマスフローコントローラに印加する制御電圧に対応するガス流量の関係は変化して、制御電圧を変更しなくてもマスフローコントローラを通過するガス流量が変化して、プロセスガスの状態に変化を発生させることになる。
【０００５】
さらに、マスフローコントローラ中の管路の有効断面積が減少した状態で制御を継続すれば固形物に基づくパーティクルがプロセスガスと共にプロセス機器へ流出することになって、プロセス機器にとって不都合が生ずる。
【０００６】
このために、マスフローコントローラの流量の測定が望まれ、例えば、特開平７−２８１７６０号公報に開示されているように、マスフローコントローラの絶対流量検定のときに、プロセスガス供給源から遮断弁を介してプロセスガスを計測用タンクに導き、計測用タンクに導かれたプロセスガスをマスフローコントローラを通してプロセス機器へ供給するように構成すると共に、マスフローコントローラの入力端の圧力を計測する圧力センサを設けて、遮断弁を閉止することによってプロセスガスの計測用タンクへの導入を遮断して計測用タンクに蓄積されたプロセスガスをマスフローコントローラに流し、同時に圧力センサによりマスフローコントローラの流入側の圧力を検出し、圧力センサによる検出圧力が所定値まで低下する時間を計測し、計測された時間と計測用タンクの容積とに基づいてマスフローコントローラの絶対流量を検定することが知られている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来の検定方法によるときは通常操作のためのマスフローコントロールシステム構成のほかに検定のための計測用タンク、圧力センサ、遮断弁などを必要とするという問題点があった。
【０００８】
本発明はこのような問題点を解消するためになされたものであって、自己診断のために新たに付加するハードウエアを不要としたマスフローコントローラの自己診断方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法は、圧力制御もしくは流量制御をする制御弁と、前記制御弁の流入側を開閉する第１の遮断弁と、前記制御弁の流出側に設けた固定絞りと、前記固定絞りの流入側圧力を検出する圧力センサと、前記固定絞りの流出側を開閉する第２の遮断弁とを備えたマスフローコントローラの自己診断方法であって、前記制御弁の流入側を前記第１の遮断弁によって開放すると共に前記固定絞りの流出側を前記第２の遮断弁によって閉止して前記第１の遮断弁から前記第２の遮断弁に至る管路内に前記第１の遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスを充填し、次いで前記制御弁を開放状態にし、前記第１の遮断弁によって前記制御弁の流入側を閉止すると共に前記第２の遮断弁によって前記固定絞りの流出側を開放して管路内に充填されたガスを流出させ、この流出による前記圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間と、前記所定圧力と前記予め定めた検出圧力とから定められる基準時間とを比較することにより前記固定絞りの状態の診断を行うことを特徴とする。
【００１０】
本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法は、自己診断のときに制御弁の流入側が第１の遮断弁によって開放されると共に固定絞りの流出側が第２の遮断弁によって閉止されて第１の遮断弁から第２の遮断弁に至る管路内に第１の遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスが充填される。この充填に続いて制御弁を開放状態にし第１の遮断弁によって制御弁の流入側が閉止されると共に第２の遮断弁によって固定絞りの流出側が開放されて管路内に充填されたガスが流出させられる。この流出による圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が計時されて、計時された時間と、所定圧力と予め定めた検出圧力とから定められる基準時間とを比較することにより固定絞りの状態の診断がなされる。
【００１１】
この場合に、第１の遮断弁および第２の遮断弁はマスフローコントローラを取り替えなどのときに管路から取り外すために通常設けられているものであって、通常運転状態のときにおける必要構成機器から自己診断のために特にハードウエアを付加することも、除去することも不要である。
【００１２】
本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間を超過しているときその旨表示すること、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間未満のときその旨表示することによって、表示に基づき自己診断結果が判ることになる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法を実施の形態によって説明する。
【００１４】
図１は本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの構成例を示すブロック図である。
【００１５】
図１に示すマスフローコントロールシステム１は、プロセスガス源２から送出されるプロセスガスを入力側の例えば電磁駆動の遮断弁４を介してマスフローコントローラ５へ選択的に導入し、マスフローコントローラ５を通って流出するプロセスガスを出力側の例えば電磁駆動の遮断弁６を通してプロセス機器７へ導出するように構成されている。
【００１６】
ここで、入力側の遮断弁４および出力側の遮断弁６は、通常、マスフローコントローラ５を取り替えるときに共に遮断状態に制御して、プロセスガス源２からのプロセスガスのマスフローコントローラ５への流入を遮断することによってプロセスガスの放出を防止し、かつプロセス機器７側への不純ガスの流入を防止するために設けられている。
【００１７】
なお、遮断弁４の流入口に例えば電磁駆動の３方切替弁３が設けられていて、遮断弁４および遮断弁６の閉止に先だって３方切替弁３によってプロセスガス源２からマスフローコントローラ５へのプロセスガスの流入を遮断すると共に、不活性ガス源８からの不活性ガス、例えば窒素ガスを遮断弁４を通過する方向に切り替えて、３方切替弁３からプロセス機器７に至る配管内、マスフローコントローラ５内およびプロセス機器７の窒素ガスによるパージを行うが、かかる点についてはここでは触れない。
【００１８】
マスフローコントローラ５は圧力制御方式のマスフローコントローラであって、電気信号によって開度が制御される圧力制御弁５１と、圧力制御弁５１の出力側の圧力を検出する圧力センサ５２と、圧力制御弁５１から送出されるプロセスガスを通過させて圧力制御弁５１の出力側圧力を確立させるためのオリフィス５３と、後記する制御装置１４からの出力信号と圧力センサ５２からの圧力出力信号とを比較してその差である偏差を求め、求めた偏差に基づいて圧力制御弁５１の出力側の圧力が制御装置１４からの出力信号に基づく圧力になるように圧力制御弁５１の開度を制御する偏差演算制御器５４とを備え、オリフィス５３を通過したプロセスガスを遮断弁６を介してプロセス機器７へ導出させる。
【００１９】
ここで、オリフィス５３が設けられている理由について説明する。半導体の製造プロセスにおける薄膜生成装置、乾式エッチング装置などのプロセス機器７側は通常負圧で使用される。したがって、固定絞りであるオリフィス５３を設けて、オリフィス５３により圧力制御弁５１の出力圧力を確立させるのである。
【００２０】
一方、制御装置１４はマイクロコンピュータからなり通常運転制御を行う通常運転制御部１４１と自己診断を行う自己診断制御部１４２とを機能的に備えており、圧力センサ５２からの圧力出力信号、圧力制御弁５１の出力側圧力を設定するための圧力設定器１１の出力信号、通常運転指示を行う通常運転指示キースイッチ１２の指示信号および自己診断指示キースイッチ１３の指示信号が供給されて、圧力制御弁５１の出力側圧力を圧力設定器１１による設定圧力に制御するための制御信号または圧力制御弁５１を開放状態に制御するための制御信号を選択的に偏差演算制御器５４へ送出すると共に、３方切替弁３、遮断弁４、圧力制御弁５１、遮断弁６の切り替えおよび開閉を制御する。
【００２１】
また、制御装置１４は自己診断指示がなされているとき、マスフローコントローラ５を継続使用可能か、取り替えが必要かを表示する表示器１５へ表示信号を送出する。
【００２２】
上記の構成において、通常運転指示キースイッチ１２によって通常運転指示がなされているときは、制御装置１４中の通常運転制御部１４１の制御のもとに、３方切替弁３はプロセスガス源２からのプロセスガスを遮断弁４の方向に通過させる状態に切り替えられ、遮断弁４および遮断弁６は開放状態に切り替えられ、かつ圧力制御弁５１はその出力側圧力を圧力設定器１１による設定圧力にするべく偏差演算制御器５４の出力信号によって開度が制御されて、プロセス機器７へ圧力設定器１１に設定した圧力に基づく流量のプロセスガスが流出される。
【００２３】
この場合、予め求めた圧力制御弁５１の出力側圧力すなわちオリフィス５３の１次側圧力とオリフィス５３に流れるフロセスガスの流量との関係に基づいて、圧力設定器１１における設定圧力は希望流量に対応するオリフィス５３の１次側圧力に設定する。このように設定することによって設定圧力にオリフィス５３の１次側圧力が制御されて、オリフィス５３を通過するプロセスガスの流量が前記希望流量に制御される。すなわち、圧力制御弁５１の出力圧力を制御することによってオリフィス５３を通して流れる流体の流量制御が行われる。
【００２４】
一方、所定処理が終了して半導体ウエハなどの被処理体が取り替えられる直前には、図示しない不活性ガスパージ指示がなされて、この指示に基づいて３方切替弁３はプロセスガス源２からのプロセスガスを遮断し、不活性ガス源８からの不活性ガスを遮断弁４の方向に通過させる状態に切り替えられ、遮断弁４および遮断弁６は開放状態に切り替えられ、かつ圧力制御弁５１は開放状態に制御されて、プロセス機器７へ不活性ガスがパージさせられる。
【００２５】
自己診断指示キースイッチ１３によって自己診断指示がなされたときの作用を図２〜図４にて示すフローチャートにしたがって説明する。
【００２６】
自己診断指示がなされると制御装置１４の自己診断制御部１４２の制御のもとに、遮断弁４が閉止状態に制御され（ステップＳ１）、続いて遮断弁６が開放状態に制御され（ステップＳ２）、続いて圧力制御弁５１が開放状態に制御される（ステップＳ３）。この状態は遮断弁４からプロセス機器７までの配管内をプロセス機器７側の圧力にさせることを意味する。
【００２７】
ステップＳ３の実行に続き圧力センサ５２からの圧力出力信号を読み込み（ステップＳ４）、所定期間経過するのを待つ（ステップＳ５）。ステップＳ５において所定期間経過したとき、圧力センサ５２からの圧力出力信号を読み込み（ステップＳ６）、ステップＳ４において読み込んだ圧力出力信号とステップＳ６において読み込んだ圧力出力信号とが等しいか否かがチェックされる（ステップＳ７）。ステップＳ７において等しいと判別されないときは、ステップＳ７に続いて再びステップＳ４から実行される。
【００２８】
ステップＳ７において等しいと判別されたときは、遮断弁４からプロセス機器７までの配管内の圧力がプロセス機器７側の圧力に等しくなったことを示している。
【００２９】
ステップＳ７において等しいと判別されたときは、ステップＳ７に続いて遮断弁４が開放状態にされ（ステップＳ８）、次いで遮断弁６が閉止状態にされる（ステップＳ９）。ステップＳ９に続いて圧力センサ５２からの圧力出力信号が読み込まれ（ステップＳ１０）、次いで所定期間経過するのを待つ（ステップＳ１１）。ステップＳ１１における所定期間は下記の（１）式に示す充填時定数ｔｎの５倍の期間に選択してある。これは５倍の充填時定数ｔｎの時間でプロセスガス源２から遮断弁６までの管路がプロセスガス源２からのプロセスガス圧力にほぼ充填されるためである。
【００３０】
【数１】

Figure 0003932389
【００３１】
（１）式において、ｔｎは充填時定数（ｓ）、Ｖはプロセスガス源２から遮断弁６までの管路の容積（リッタ）、κは断熱指数（＝１．４）、Ｓはオリフィス５３の有効断面積（ｍｍ2 ）、Ｔは絶対温度（Ｋ）である。
【００３２】
ステップＳ１１に次いで、圧力センサ５２からの圧力出力信号が読み込まれ（ステップＳ１２）、ステップＳ１０において読み込んだ圧力センサ５２からの圧力出力信号とステップＳ１２において読み込んだ圧力センサ５２からの圧力出力信号が等しいか否かがチェックされる（ステップＳ１３）。ステップＳ１３において等しくないと判別されたときはステップＳ１３に続いて再びステップＳ１０から実行される。ステップＳ１１が実行されているためにステップＳ１３においては通常等しいと判別される。
【００３３】
ステップＳ１３において等しいと判別されたときは、プロセスガス源２から遮断弁６までの管路が、プロセスガス源２からのプロセスガス圧力に充填されたことを示している。これは、プロセスガス源２から遮断弁６までの管路が自己診断のための計測用タンクとして作用することを示している。
【００３４】
ステップＳ１３において等しいと判別されたときは、遮断弁４は閉止状態にされ（ステップＳ１４）、続いて遮断弁６が開放状態に制御され（ステップＳ１５）、続いて計時が開始され（ステップＳ１６）、圧力センサ５２からの圧力出力信号が読み込まれる（ステップＳ１７）。ステップＳ１７に続いて圧力センサ５２からの圧力出力信号が予め定められた設定圧力にまで低下したか否かがチェックされ（ステップＳ１８）、予め定められた設定圧力にまで低下したと判別されないときは再びステップＳ１７から実行される。ステップＳ１８において予め定められた設定圧力にまで低下したと判別されたときは計時が終了させられる（ステップＳ１９）。
【００３５】
したがって、プロセスガス源２からのプロセスガス圧力に充填されたプロセスガス源２から遮断弁６までの管路の圧力が、ステップＳ１５〜ステップＳ１９の実行によって、予め定められた設定圧力にまで低下するのに要した時間が計時されることになる。
【００３６】
この場合、予め定められた設定圧力と基準時間との関係は下記の（２）式に基づいて定める。
【００３７】
【数２】
Figure 0003932389
【００３８】
（２）式において、ｔｎは充填時定数（ｓ）、ＰH はプロセスガス源２から遮断弁６までの管路のプロセスガス圧力の初期値（ＭＰａＧ）、Ｐは前記管路開放後のプロセスガス源２から遮断弁６までの管路のガス圧力であって上記の予め定められた設定圧力（ＭＰａＧ）、ｔｄは前記管路開放後のプロセスガス源２から遮断弁６までの管路のガス圧力が上記の予め定められた設定圧力に低下するまでの基準時間（ｓ）、κは断熱指数（＝１．４）である。
【００３９】
ステップＳ１９の実行に続いて、計時終了時における計時時間が予め定められた基準時間（ｔｄ）を超過しているか否かがチェックされる（ステップＳ２０）。ステップＳ２０において基準時間ｔｄを超過していると判別されたときは、プロセスガスの通過による固形物の析出などによってオリフィス５３の有効断面積が減少していて、遮断弁６の開放後のプロセスガス源２から遮断弁６までの管路のガス圧力が予め定められた設定圧力に低下するまでの時間がオリフィスの有効断面積か変化していないときの基準時間ｔｄより長いためであって、表示器１５にマスフローコントローラ５の取り替えを指示する取替指示表示がなされて（ステップＳ２１）、自己診断は終了する。
【００４０】
ステップＳ２０において基準時間ｔｄを超過していないと判別されたときは、オリフィス５３の有効断面積がまだ取り替えるまでには減少しておらず、開放後のプロセスガス源２から遮断弁６までの管路のガス圧力が予め定められた設定圧力に低下するまでの時間が基準時間がより短いためであって、表示器１５にマスフローコントローラ５を継続使用してもよいことを示す継続使用可の表示がなされて（ステップＳ２２）、自己診断が終了する。
【００４１】
この場合、プロセス機器７側の圧力は前記のように負圧である。しかるに、プロセスガス源２のプロセスガス圧力に充填された管路内の圧力は０．１ＭＰａＧ以上であり、遮断弁６を開放したときにおけるオリフィス５３の前後差圧は臨界差圧以上となり、オリフィス５３に流れる流体の流速は音速となって、オリフィス５３の通過流量はオリフィス５３の有効断面積に比例する。
【００４２】
本発明の実施の一形態では、この関係を利用して、プロセスガス源２から遮断弁６までの管路を自己診断のための計測用タンクとし、前記管路によって形成された計測用タンクにプロセスガス源２からプロセスガスを充填し、充填したプロセスガスをオリフィス５３を介して放出させ、このオリフィス５３の通過流量に対応してプロセスガス圧力に充填された前記管路内の圧力が低下していき、この圧力低下の早さ、すなわち前記管路によって形成された計測用タンクが所定圧力に低下するまでの時間によって有効断面積の減少が、取り替えを必要とする程度に達しているか否かを判定しているのである。この自己診断のために、通常運転に必要な構成以外にハードウエアの新たな構成を必要としない。
【００４３】
また、上記において、プロセスガス自体を自己診断に用いる場合を例示したが不活性ガスをプロセスガスに代えて用いてもよく、この場合は自己診断開始時に３方切替弁３によって不活性ガスを遮断弁４へ導くように切り替えた後、自己診断を行えばよい。
【００４４】
次に、オリフィス５３がプロセスガスによって浸食される場合もある。この場合には、図４に示すように、ステップＳ１９に続いて基準時間未満か否かがチェックされ（ステップＳ２０１）、基準時間未満と判別されたときは表示器１５にマスフローコントローラ５の取り替えを指示する取替指示表示がなされて（ステップＳ２１１）、自己診断が終了する。基準時間未満でないと判別されたときは表示器１５にマスフローコントローラ５を継続使用してもよいことを示す継続使用可の表示がなされて（ステップＳ２２１）、自己診断は終了する。
【００４５】
ステップＳ２１１が実行される場合は、オリフィス５３の有効断面積が浸食によって大きくなりすぎた場合であり、ステップＳ２２１が実行される場合は、オリフィス５３の有効断面積が浸食によって大きくなったがまだ使用できる場合である。
【００４６】
次に、上記した本発明の実施の一形態にかかるマスフローコントロールシステム１の変形例について説明する。
【００４７】
図５は本発明の実施の一形態にかかるマスフローコントロールシステム１の変形例の構成を示すブロック図である。
【００４８】
本発明にかかる実施の一形態の変形例では、マスフローコントローラ５に加えて、マスフローコントローラ５ａにオリフィス５３の２次側の圧力を検出する圧力センサ５５と、圧力センサ５２からの圧力出力信号と圧力センサ５５からの圧力出力信号との差を演算する差動増幅器５６とが新たに設けてあり、差動増幅器５６の出力を圧力センサ５２からの圧力出力信号に代わって偏差演算制御器５４に供給する。なお、圧力設定器１１は流量設定器１１ａとしてガス流量を設定する。他の構成は図１に示す本発明の実施の一形態にかかるマスフローコントロールシステム１と同一の構成である。
【００４９】
本発明にかかる実施の一形態の変形例では、マスフローコントローラ５ａに圧力センサ５２、５５が設けられた２圧力センサ方式の場合であって、プロセス機器７が負圧でなくて所定の正の圧力を持っているものであっても、オリフィス５３の２次側圧力が圧力センサ５５によって検出され、差動増幅器５６でオリフィス５３による圧力損失が検出されて差動増幅器５６の出力はオリフィス５３に流れるガス流量に対応し、圧力制御弁５１は流量制御弁として作用し、通常運転制御のときにはプロセス機器７へ流入させるプロセスガスの流量を制御することができる。
【００５０】
自己診断制御のときは圧力制御弁（流量制御弁）５１は開放され、本発明にかかる実施の一形態の場合と同様に、圧力センサ５２からの圧力出力信号の所定圧力までへの低下時間によって自己診断を行うことができる。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法によれば、第１および第２の遮断弁間の管路に所定圧力のガスを充填し、該ガスを第１の遮断弁を閉止した状態で第２の遮断弁を開放して放出させ、この放出による固定絞りの流入側の圧力の所定圧力まで低下するまでの時間に基づいて自己診断することができ、この場合に、第１および第２の遮断弁間の管路が計測用タンクとして作用することになり、第１の遮断弁および第２の遮断弁はマスフローコントローラを取り替えなどのときに管路から取り外すために通常設けられているものであって、通常運転状態のときにおける必要構成機器から自己診断のために特にハードウエアを付加することも、除去することを必要としないで自己診断が行えるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの構成例を示すブロック図である。
【図２】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの作用の説明に供するフローチャートである。
【図３】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの作用の説明に供するフローチャートである。
【図４】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの作用の説明に供するフローチャートである。
【図５】本発明にかかるマスフローコントローラの自己診断方法が適用されるマスフローコントロールシステムの変形例の構成例を示すブロック図である。
【符号の説明】
１…マスフローコントロールシステム ２…プロセスガス源
３…３方切替弁 ４、６…遮断弁
５、５ａ…マスフローコントローラ ７…プロセス機器
８…不活性ガス源 １１…圧力設定器
１１ａ…流量設定器 １２…通常運転指示キースイッチ
１３…自己診断指示キースイッチ １４…制御装置
１５…表示器 ５１…圧力制御弁
５２、５５…圧力センサ ５３…オリフィス
５４…偏差演算制御器 ５６…差動増幅器
１４１…通常運転制御部 １４２…自己診断制御部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a self-diagnosis method for a mass flow controller, and more particularly to a self-diagnosis method for a mass flow controller capable of diagnosing a change state of a gas flow rate in the mass flow controller in a state of being incorporated in a system.
[0002]
[Prior art]
It is required to precisely control the flow rate of process gas delivered to process equipment in a thin film production apparatus, dry etching apparatus, etc. in a semiconductor manufacturing process. For this purpose, a mass flow controller is inserted into a pipe for supplying process gas to the process equipment to control the flow rate of the process gas, and the gas flow rate is adjusted by adjusting the control voltage applied to the control valve constituting the mass flow controller. Settings have been made.
[0003]
However, since the mass flow controller is intended to control the gas flow rate, it has a narrow tube part such as an orifice inside the mass flow controller. When the process gas is a gas that precipitates solids, the process gas passes over time. In particular, solids may be deposited in the pipe or in the mass flow controller, substantially reducing the effective cross-sectional area of the pipe in the mass flow controller.
[0004]
In such a case, the relationship of the gas flow rate corresponding to the control voltage applied to the mass flow controller changes, and even if the control voltage is not changed, the gas flow rate passing through the mass flow controller changes and changes to the process gas state. Will be generated.
[0005]
Furthermore, if the control is continued in a state where the effective cross-sectional area of the pipe line in the mass flow controller is reduced, particles based on the solid matter flow out to the process equipment together with the process gas, resulting in inconvenience for the process equipment.
[0006]
For this reason, it is desired to measure the flow rate of the mass flow controller. For example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-281760, a mass gas flow rate is verified from a process gas supply source via a shut-off valve. The process gas is guided to the measuring tank, and the process gas guided to the measuring tank is supplied to the process equipment through the mass flow controller, and a pressure sensor for measuring the pressure at the input end of the mass flow controller is provided. By closing the shut-off valve, the introduction of the process gas to the measurement tank is shut off and the process gas accumulated in the measurement tank is caused to flow to the mass flow controller. At the same time, the pressure on the inflow side of the mass flow controller is detected by the pressure sensor, The time for the pressure detected by the pressure sensor to drop to the specified value Measuring to, it is known to assay the absolute flow rate of the mass flow controller based on the volume of the measured time and the measurement tank.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional verification method described above has a problem that a measurement tank, a pressure sensor, a shut-off valve and the like are required in addition to the mass flow control system configuration for normal operation.
[0008]
The present invention has been made to solve such problems, and an object of the present invention is to provide a self-diagnosis method for a mass flow controller that does not require newly added hardware for self-diagnosis.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
Self-diagnosis method for a mass flow controller according to the present invention, a control valve for pressure control or flow control, the first shut-off valve for opening and closing the inflow side of the control valve, a fixed throttle provided on the outlet side of said control valve When the fixed throttle pressure sensor for detecting the inflow side pressure, a mass flow controller of the self-diagnostic method and a second shut-off valve for opening and closing the outflow side of the fixed throttle, the inflow side of the control valve said to said fixed throttle outflow side was closed by the second cut-off valve leading from said first shut-off valve to the second shut-off valve conduit with opening by said first shut-off valve first filling a predetermined gas at a predetermined pressure through the shut-off valve, and then the fixing by the second shut-off valve with the said control valve in an open state, closes the inflow side of the control valve by the first shut-off valve Squeezing To outflow the filled gas outlet side into the open pipe, time until the detected pressure of the pressure sensor according to this outflow is reduced to a predetermined detected pressure, the predetermined and the predetermined pressure The condition of the fixed throttle is diagnosed by comparing a reference time determined from the detected pressure.
[0010]
Self-diagnosis method for a mass flow controller according to the present invention, the outflow side of the fixed throttle with the inflow side of the control valve when the self-diagnosis is opened by the first shut-off valve is first being closed by a second shut-off valve A predetermined gas having a predetermined pressure is filled into the conduit from the shut-off valve to the second shut-off valve through the first shut-off valve. Following this filling, the control valve is opened and the inflow side of the control valve is closed by the first shutoff valve, and the outflow side of the fixed throttle is opened by the second shutoff valve so that the gas filled in the pipe flows out. Be made. Time until the detection pressure of the pressure sensor due to the outflow drops to a predetermined detection pressure is timed, and the time measured is compared with a reference time determined from a predetermined pressure and a predetermined detection pressure. Thus, the state of the fixed throttle is diagnosed.
[0011]
In this case, the first shut-off valve and the second shut-off valve are normally provided for removing the mass flow controller from the pipeline when replacing the mass flow controller, and from the necessary components in the normal operation state. There is no need to add or remove hardware, especially for self-diagnosis.
[0012]
In the self-diagnosis method of the mass flow controller according to the present invention, when the time until the detected pressure of the pressure sensor when the gas flows out falls to a predetermined detected pressure exceeds a reference time, that fact is displayed. When the time until the detected pressure of the pressure sensor when the gas flows out is reduced to a predetermined detected pressure is less than the reference time, the fact is displayed, so that the self-diagnosis result can be determined based on the display.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a self-diagnosis method for a mass flow controller according to the present invention will be described with reference to embodiments.
[0014]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of a mass flow control system to which a self-diagnosis method for a mass flow controller according to the present invention is applied.
[0015]
A mass flow control system 1 shown in FIG. 1 selectively introduces a process gas sent from a process gas source 2 into a mass flow controller 5 via, for example, an electromagnetically driven shut-off valve 4, and passes through the mass flow controller 5. The flowing process gas is led out to the process equipment 7 through, for example, an electromagnetically driven shut-off valve 6 on the output side.
[0016]
Here, the shutoff valve 4 on the input side and the shutoff valve 6 on the output side are normally controlled to be in a shutoff state when the massflow controller 5 is replaced, so that the process gas from the process gas source 2 flows into the massflow controller 5. Is provided in order to prevent the release of process gas and prevent the inflow of impure gas to the process equipment 7 side.
[0017]
For example, an electromagnetically driven three-way switching valve 3 is provided at the inlet of the shut-off valve 4, and the process gas source 2 is moved from the process gas source 2 to the mass flow controller 5 by the three-way switch valve 3 before the shut-off valve 4 and the shut-off valve 6 are closed. In the piping from the three-way switching valve 3 to the process equipment 7 by switching the inert gas from the inert gas source 8, for example, nitrogen gas, in the direction passing through the shut-off valve 4. Although purging with nitrogen gas in the mass flow controller 5 and the process equipment 7 is performed, this point is not mentioned here.
[0018]
The mass flow controller 5 is a pressure control type mass flow controller, and includes a pressure control valve 51 whose opening degree is controlled by an electric signal, a pressure sensor 52 that detects a pressure on the output side of the pressure control valve 51, and a pressure control valve 51. The orifice 53 for establishing the output side pressure of the pressure control valve 51 by passing the process gas delivered from the control gas, and the output signal from the control device 14 described later and the pressure output signal from the pressure sensor 52 are compared. Deviation calculation for obtaining a deviation which is the difference and controlling the opening degree of the pressure control valve 51 so that the pressure on the output side of the pressure control valve 51 becomes the pressure based on the output signal from the control device 14 based on the obtained deviation. And a controller 54, and the process gas that has passed through the orifice 53 is led to the process equipment 7 through the shutoff valve 6.
[0019]
Here, the reason why the orifice 53 is provided will be described. The process equipment 7 side such as a thin film production apparatus and a dry etching apparatus in a semiconductor manufacturing process is usually used at a negative pressure. Therefore, the orifice 53 which is a fixed throttle is provided, and the output pressure of the pressure control valve 51 is established by the orifice 53.
[0020]
On the other hand, the control device 14 is composed of a microcomputer and is functionally provided with a normal operation control unit 141 that performs normal operation control and a self-diagnosis control unit 142 that performs self-diagnosis, and a pressure output signal from the pressure sensor 52 and pressure control. An output signal of the pressure setter 11 for setting the output side pressure of the valve 51, an instruction signal of the normal operation instruction key switch 12 for instructing normal operation, and an instruction signal of the self-diagnosis instruction key switch 13 are supplied to control the pressure. A control signal for controlling the output side pressure of the valve 51 to a set pressure by the pressure setter 11 or a control signal for controlling the pressure control valve 51 to an open state is selectively sent to the deviation calculation controller 54, and The switching and opening / closing of the three-way switching valve 3, the shutoff valve 4, the pressure control valve 51, and the shutoff valve 6 are controlled.
[0021]
In addition, when the self-diagnosis instruction is given, the control device 14 sends a display signal to the display 15 that displays whether the mass flow controller 5 can be used continuously or needs to be replaced.
[0022]
In the above configuration, when a normal operation instruction is given by the normal operation instruction key switch 12, the three-way switching valve 3 is connected to the process gas source 2 under the control of the normal operation control unit 141 in the control device 14. The process gas is switched to a state in which it passes in the direction of the shut-off valve 4, the shut-off valve 4 and the shut-off valve 6 are switched to the open state, and the pressure control valve 51 sets the output side pressure to the set pressure by the pressure setter 11. Therefore, the opening degree is controlled by the output signal of the deviation calculation controller 54, and the process gas having a flow rate based on the pressure set in the pressure setter 11 is discharged to the process equipment 7.
[0023]
In this case, the set pressure in the pressure setting device 11 corresponds to the desired flow rate based on the relationship between the output side pressure of the pressure control valve 51 obtained in advance, that is, the primary side pressure of the orifice 53 and the flow rate of the flow gas flowing through the orifice 53. The primary pressure of the orifice 53 is set. By setting in this way, the primary pressure of the orifice 53 is controlled to the set pressure, and the flow rate of the process gas passing through the orifice 53 is controlled to the desired flow rate. That is, the flow rate of the fluid flowing through the orifice 53 is controlled by controlling the output pressure of the pressure control valve 51.
[0024]
On the other hand, an inert gas purge instruction (not shown) is made immediately before the target object such as a semiconductor wafer is replaced after completion of the predetermined process. Based on this instruction, the three-way switching valve 3 performs a process from the process gas source 2. The gas is shut off, the inert gas from the inert gas source 8 is switched to a state where it passes in the direction of the shut-off valve 4, the shut-off valve 4 and the shut-off valve 6 are switched to the open state, and the pressure control valve 51 is opened. The process equipment 7 is purged with the inert gas under the control of the state.
[0025]
The operation when a self-diagnosis instruction is given by the self-diagnosis instruction key switch 13 will be described with reference to the flowcharts shown in FIGS.
[0026]
When the self-diagnosis instruction is given, the shut-off valve 4 is controlled to be closed under the control of the self-diagnosis control unit 142 of the control device 14 (step S1), and then the shut-off valve 6 is controlled to be open (step S1). S2) Subsequently, the pressure control valve 51 is controlled to be opened (step S3). This state means that the pressure in the piping from the shutoff valve 4 to the process equipment 7 is set to the pressure on the process equipment 7 side.
[0027]
Following execution of step S3, a pressure output signal from the pressure sensor 52 is read (step S4), and a predetermined period of time elapses (step S5). When a predetermined period has elapsed in step S5, the pressure output signal from the pressure sensor 52 is read (step S6), and it is checked whether the pressure output signal read in step S4 is equal to the pressure output signal read in step S6. (Step S7). If it is not determined in step S7 that they are equal, the process is executed again from step S4 following step S7.
[0028]
If it is determined in step S7 that they are equal, it indicates that the pressure in the piping from the shutoff valve 4 to the process equipment 7 has become equal to the pressure on the process equipment 7 side.
[0029]
If it is determined in step S7 that they are equal, the shutoff valve 4 is opened (step S8) following step S7, and then the shutoff valve 6 is closed (step S9). Subsequent to step S9, the pressure output signal from the pressure sensor 52 is read (step S10), and then a waiting for a predetermined period of time elapses (step S11). The predetermined period in step S11 is selected as a period five times the filling time constant tn shown in the following equation (1). This is because the pipe line from the process gas source 2 to the shutoff valve 6 is almost filled with the process gas pressure from the process gas source 2 in a time of 5 times the filling time constant tn.
[0030]
[Expression 1]
Figure 0003932389
[0031]
In the equation (1), tn is a filling time constant (s), V is a volume (liter) of a pipe line from the process gas source 2 to the shutoff valve 6, κ is an adiabatic index (= 1.4), and S is an orifice 53. Effective area (mm 2 ), and T is the absolute temperature (K).
[0032]
Following step S11, the pressure output signal from the pressure sensor 52 is read (step S12), and the pressure output signal from the pressure sensor 52 read in step S10 is equal to the pressure output signal from the pressure sensor 52 read in step S12. Is checked (step S13). When it is determined in step S13 that they are not equal, the process is executed again from step S10 following step S13. Since step S11 is being executed, it is determined in step S13 that they are normally equal.
[0033]
When it is determined in step S13 that they are equal, it indicates that the pipeline from the process gas source 2 to the shutoff valve 6 is filled with the process gas pressure from the process gas source 2. This indicates that the pipeline from the process gas source 2 to the shutoff valve 6 acts as a measurement tank for self-diagnosis.
[0034]
When it is determined in step S13 that they are equal, the shutoff valve 4 is closed (step S14), then the shutoff valve 6 is controlled to be opened (step S15), and then time counting is started (step S16). The pressure output signal from the pressure sensor 52 is read (step S17). Subsequent to step S17, it is checked whether or not the pressure output signal from the pressure sensor 52 has decreased to a predetermined set pressure (step S18), and when it is not determined that the pressure output signal has decreased to a predetermined set pressure. The process is executed again from step S17. If it is determined in step S18 that the pressure has decreased to a predetermined set pressure, the time measurement is terminated (step S19).
[0035]
Therefore, the pressure of the pipe line from the process gas source 2 filled with the process gas pressure from the process gas source 2 to the shutoff valve 6 is reduced to a predetermined set pressure by executing steps S15 to S19. The time required for this will be timed.
[0036]
In this case, the relationship between the predetermined set pressure and the reference time is determined based on the following equation (2).
[0037]
[Expression 2]
Figure 0003932389
[0038]
In the equation (2), tn is a filling time constant (s), P H is an initial value (MPaG) of a process gas pressure in a pipeline from the process gas source 2 to the shutoff valve 6, and P is a process after the pipeline is opened. The gas pressure in the pipe line from the gas source 2 to the shutoff valve 6 and the above-mentioned predetermined set pressure (MPaG), td is the pipe pressure from the process gas source 2 to the shutoff valve 6 after the pipe is opened. Reference time (s) until the gas pressure drops to the above-mentioned predetermined set pressure, κ is the adiabatic index (= 1.4).
[0039]
Following execution of step S19, it is checked whether or not the time measured at the end of time measurement exceeds a predetermined reference time (td) (step S20). If it is determined in step S20 that the reference time td has been exceeded, the effective cross-sectional area of the orifice 53 has decreased due to precipitation of solids due to the passage of the process gas, and the process gas after the shut-off valve 6 is opened. This is because the time until the gas pressure in the pipe line from the source 2 to the shutoff valve 6 drops to a predetermined set pressure is longer than the reference time td when the effective sectional area of the orifice has not changed, and is displayed. A replacement instruction display for instructing to replace the mass flow controller 5 is made on the device 15 (step S21), and the self-diagnosis is completed.
[0040]
If it is determined in step S20 that the reference time td has not been exceeded, the effective cross-sectional area of the orifice 53 has not yet decreased until the replacement, and the pipe from the process gas source 2 after opening to the shutoff valve 6 has not been reduced. This is because the time until the gas pressure of the road is reduced to a predetermined set pressure is shorter than the reference time, and the display 15 indicates that the mass flow controller 5 may be used continuously. (Step S22), and the self-diagnosis is completed.
[0041]
In this case, the pressure on the process equipment 7 side is a negative pressure as described above. However, the pressure in the pipe line filled with the process gas pressure of the process gas source 2 is 0.1 MPaG or more, and the differential pressure across the orifice 53 when the shutoff valve 6 is opened is equal to or greater than the critical differential pressure. The flow velocity of the fluid flowing through the orifice becomes the sonic velocity, and the flow rate through the orifice 53 is proportional to the effective sectional area of the orifice 53.
[0042]
In one embodiment of the present invention, using this relationship, a pipe line from the process gas source 2 to the shutoff valve 6 is used as a measurement tank for self-diagnosis, and the measurement tank formed by the pipe line is used as a measurement tank. The process gas is filled from the process gas source 2, the filled process gas is discharged through the orifice 53, and the pressure in the pipe line filled with the process gas pressure is decreased corresponding to the flow rate of the orifice 53. Whether or not the reduction of the effective cross-sectional area has reached a level that requires replacement, depending on the speed of this pressure drop, that is, the time until the measurement tank formed by the pipe line drops to a predetermined pressure. Is determined. For this self-diagnosis, no new hardware configuration is required in addition to the configuration required for normal operation.
[0043]
In the above, the case where the process gas itself is used for the self-diagnosis is illustrated, but the inert gas may be used instead of the process gas. In this case, the three-way switching valve 3 shuts off the inert gas at the start of the self-diagnosis. After switching to lead to the valve 4, self-diagnosis may be performed.
[0044]
Next, the orifice 53 may be eroded by the process gas. In this case, as shown in FIG. 4, following step S19, it is checked whether or not it is less than the reference time (step S201), and if it is determined that the time is less than the reference time, the mass flow controller 5 is replaced on the display unit 15. A replacement instruction display for instructing is made (step S211), and the self-diagnosis ends. When it is determined that the time is not less than the reference time, a display indicating that the mass flow controller 5 may be continuously used is displayed on the display 15 (step S221), and the self-diagnosis ends.
[0045]
When step S211 is executed, the effective cross-sectional area of the orifice 53 becomes too large due to erosion. When step S221 is executed, the effective cross-sectional area of the orifice 53 becomes large due to erosion but is still used. If you can.
[0046]
Next, a modification of the mass flow control system 1 according to the embodiment of the present invention described above will be described.
[0047]
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a modified example of the mass flow control system 1 according to the embodiment of the present invention.
[0048]
In the modification of the embodiment according to the present invention, in addition to the mass flow controller 5, the mass flow controller 5 a detects the pressure on the secondary side of the orifice 53, the pressure output signal from the pressure sensor 52, and the pressure A differential amplifier 56 for calculating a difference from the pressure output signal from the sensor 55 is newly provided, and the output of the differential amplifier 56 is supplied to the deviation calculation controller 54 instead of the pressure output signal from the pressure sensor 52. To do. The pressure setter 11 sets the gas flow rate as the flow rate setter 11a. Other configurations are the same as those of the mass flow control system 1 according to the embodiment of the present invention shown in FIG.
[0049]
In a modification of the embodiment according to the present invention, the mass flow controller 5a is a two-pressure sensor system in which pressure sensors 52 and 55 are provided, and the process equipment 7 is not a negative pressure but a predetermined positive pressure. Even if it has, the secondary pressure of the orifice 53 is detected by the pressure sensor 55, the pressure loss due to the orifice 53 is detected by the differential amplifier 56, and the output of the differential amplifier 56 flows to the orifice 53. Corresponding to the gas flow rate, the pressure control valve 51 acts as a flow rate control valve, and can control the flow rate of the process gas that flows into the process equipment 7 during normal operation control.
[0050]
During the self-diagnosis control, the pressure control valve (flow rate control valve) 51 is opened, and the pressure output signal from the pressure sensor 52 is reduced to the predetermined pressure as in the case of the embodiment according to the present invention. Self-diagnosis can be performed.
[0051]
【The invention's effect】
As described above, according to the self-diagnosis method of the mass flow controller according to the present invention, the pipe line between the first and second shut-off valves is filled with a predetermined pressure gas, and the gas closes the first shut-off valve. In this state, the second shut-off valve is opened and discharged, and self-diagnosis can be performed based on the time until the pressure on the inflow side of the fixed throttle is lowered to a predetermined pressure due to the discharge. And a pipe line between the second shut-off valve will act as a measuring tank, and the first shut-off valve and the second shut-off valve are usually provided to be removed from the pipe line when the mass flow controller is replaced. In particular, adding hardware for self-diagnosis from the necessary components during normal operation is effective for self-diagnosis without requiring removal. It is.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration example of a mass flow control system to which a self-diagnosis method for a mass flow controller according to the present invention is applied.
FIG. 2 is a flowchart for explaining the operation of a mass flow control system to which a self-diagnosis method for a mass flow controller according to the present invention is applied.
FIG. 3 is a flowchart for explaining the operation of the mass flow control system to which the self-diagnosis method of the mass flow controller according to the present invention is applied.
FIG. 4 is a flowchart for explaining the operation of the mass flow control system to which the self-diagnosis method of the mass flow controller according to the present invention is applied.
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration example of a modified example of the mass flow control system to which the self-diagnosis method of the mass flow controller according to the present invention is applied.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Mass flow control system 2 ... Process gas source 3 ... Three-way switching valve 4, 6 ... Shut-off valve 5, 5a ... Mass flow controller 7 ... Process equipment 8 ... Inert gas source 11 ... Pressure setting device 11a ... Flow rate setting device 12 ... Normal operation instruction key switch 13 ... Self-diagnosis instruction key switch 14 ... Control device 15 ... Indicator 51 ... Pressure control valve 52, 55 ... Pressure sensor 53 ... Orifice 54 ... Deviation calculation controller 56 ... Differential amplifier 141 ... Normal operation control 142: Self-diagnosis control unit

Claims (3)

圧力制御もしくは流量制御をする制御弁と、前記制御弁の流入側を開閉する第１の遮断弁と、前記制御弁の流出側に設けた固定絞りと、前記固定絞りの流入側圧力を検出する圧力センサと、前記固定絞りの流出側を開閉する第２の遮断弁とを備えたマスフローコントローラの自己診断方法であって、
前記制御弁の流入側を前記第１の遮断弁によって開放すると共に前記固定絞りの流出側を前記第２の遮断弁によって閉止して前記第１の遮断弁から前記第２の遮断弁に至る管路内に前記第１の遮断弁を通して所定圧力の予め定めたガスを充填し、
次いで前記制御弁を開放状態にし、前記第１の遮断弁によって前記制御弁の流入側を閉止すると共に前記第２の遮断弁によって前記固定絞りの流出側を開放して管路内に充填されたガスを流出させ、この流出による前記圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間と、前記所定圧力と前記予め定めた検出圧力とから定められる基準時間とを比較することにより前記固定絞りの状態の診断を行うことを特徴とするマスフローコントローラの自己診断方法。Detecting a control valve for pressure control or flow control, the first shut-off valve for opening and closing the inflow side of the control valve, a fixed throttle provided on the outlet side of the control valve, the inflow-side pressure of the fixed throttle A mass flow controller self-diagnosis method comprising a pressure sensor and a second shut-off valve for opening and closing the outflow side of the fixed throttle,
Tube leading to the second shut-off valve the outflow side of the fixed throttle from the first shut-off valve closed by the second shutoff valve with the inlet side of the control valve is opened by the first shut-off valve a predetermined gas at a predetermined pressure through the first shut-off valve is filled in the road,
Then the control valve in an open state, is filled into the open to conduit the outflow side of the throttle the fixed by the second shut-off valve while closing the inlet side of the control valve by the first shut-off valve gas is the outflow time and until the detected pressure of the pressure sensor according to this outflow is reduced to a predetermined sensed pressure, by comparing the predetermined pressure and the reference time determined from the predetermined detected pressure A self-diagnosis method for a mass flow controller, characterized in that the state of the fixed throttle is diagnosed. 請求項１記載のマスフローコントローラの自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間を超過しているときその旨表示することを特徴とするマスフローコントローラの自己診断方法。  2. The self-diagnosis method for a mass flow controller according to claim 1, wherein when the time until the detected pressure of the pressure sensor decreases to a predetermined detected pressure when the gas flows out exceeds a reference time, a message to that effect is displayed. A self-diagnosis method for a mass flow controller. 請求項１記載のマスフローコントローラの自己診断方法において、ガスを流出させたときにおける圧力センサの検出圧力が予め定めた検出圧力に低下するまでの時間が基準時間未満のときその旨表示することを特徴とするマスフローコントローラの自己診断方法。  2. The self-diagnosis method for a mass flow controller according to claim 1, wherein when the time until the detected pressure of the pressure sensor drops to a predetermined detected pressure when the gas flows out is less than a reference time, that effect is displayed. A self-diagnosis method for mass flow controllers.
JP757998A 1998-01-19 1998-01-19 Mass flow controller self-diagnosis method Expired - Lifetime JP3932389B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP757998A JP3932389B2 (en) 1998-01-19 1998-01-19 Mass flow controller self-diagnosis method
US09/231,773 US6125869A (en) 1998-01-19 1999-01-15 Self-diagnosis method for mass flow controller

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP757998A JP3932389B2 (en) 1998-01-19 1998-01-19 Mass flow controller self-diagnosis method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11202945A JPH11202945A (en) 1999-07-30
JP3932389B2 true JP3932389B2 (en) 2007-06-20

Family

ID=11669734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP757998A Expired - Lifetime JP3932389B2 (en) 1998-01-19 1998-01-19 Mass flow controller self-diagnosis method

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6125869A (en)
JP (1) JP3932389B2 (en)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3522535B2 (en) * 1998-05-29 2004-04-26 忠弘 大見 Gas supply equipment equipped with pressure type flow controller
JP2001147722A (en) * 1999-11-22 2001-05-29 Ace:Kk Gas flow rate controller
US6655408B2 (en) 2001-06-13 2003-12-02 Applied Materials, Inc. Tunable ramp rate circuit for a mass flow controller
WO2003034169A1 (en) * 2001-10-18 2003-04-24 Ckd Corporation Pulse shot flow regulator and pulse shot flow regulating method
JP3872776B2 (en) * 2003-07-16 2007-01-24 東京エレクトロン株式会社 Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method
US7628861B2 (en) * 2004-12-17 2009-12-08 Mks Instruments, Inc. Pulsed mass flow delivery system and method
US7628860B2 (en) * 2004-04-12 2009-12-08 Mks Instruments, Inc. Pulsed mass flow delivery system and method
JP2007133829A (en) * 2005-11-14 2007-05-31 Hamlet Motoyama Japan:Kk Fluid control apparatus, pressure regulating valve and control method
JP4820698B2 (en) * 2006-07-03 2011-11-24 株式会社フジキン Method for detecting abnormal operation of the valve on the downstream side of the throttle mechanism of the pressure type flow control device
DE102007015783A1 (en) * 2007-03-30 2008-10-02 Robert Bosch Gmbh Method for diagnosing a shut-off valve
US8997686B2 (en) * 2010-09-29 2015-04-07 Mks Instruments, Inc. System for and method of fast pulse gas delivery
US9348339B2 (en) 2010-09-29 2016-05-24 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for multiple-channel pulse gas delivery system
JP5058358B2 (en) * 2010-09-30 2012-10-24 株式会社堀場エステック Diagnostic mechanism
US10126760B2 (en) 2011-02-25 2018-11-13 Mks Instruments, Inc. System for and method of fast pulse gas delivery
US10353408B2 (en) 2011-02-25 2019-07-16 Mks Instruments, Inc. System for and method of fast pulse gas delivery
US10031531B2 (en) 2011-02-25 2018-07-24 Mks Instruments, Inc. System for and method of multiple channel fast pulse gas delivery
US9188989B1 (en) 2011-08-20 2015-11-17 Daniel T. Mudd Flow node to deliver process gas using a remote pressure measurement device
US9958302B2 (en) 2011-08-20 2018-05-01 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US20130118609A1 (en) * 2011-11-12 2013-05-16 Thomas Neil Horsky Gas flow device
JP6224630B2 (en) * 2012-03-07 2017-11-01 イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド System and method for using decay rate measurement for real-time measurement and correction of zero offset and zero drift of mass flow controllers or mass flow meters
WO2013134147A1 (en) * 2012-03-07 2013-09-12 Illinois Tool Works Inc. System and method for providing a self validating mass flow controller and mass flow meter
EP3036510B1 (en) * 2013-03-14 2021-06-09 Christopher Max Horwitz Pressure-based gas flow controller with dynamic self-calibration
US11144075B2 (en) 2016-06-30 2021-10-12 Ichor Systems, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10679880B2 (en) 2016-09-27 2020-06-09 Ichor Systems, Inc. Method of achieving improved transient response in apparatus for controlling flow and system for accomplishing same
US10838437B2 (en) 2018-02-22 2020-11-17 Ichor Systems, Inc. Apparatus for splitting flow of process gas and method of operating same
US10303189B2 (en) 2016-06-30 2019-05-28 Reno Technologies, Inc. Flow control system, method, and apparatus
US10663337B2 (en) 2016-12-30 2020-05-26 Ichor Systems, Inc. Apparatus for controlling flow and method of calibrating same
US10920729B2 (en) * 2017-02-08 2021-02-16 Pratt & Whitney Canada Corp. Method and system for testing operation of solenoid valves
US10649471B2 (en) * 2018-02-02 2020-05-12 Mks Instruments, Inc. Method and apparatus for pulse gas delivery with isolation valves
JP7148302B2 (en) * 2018-07-17 2022-10-05 株式会社堀場エステック Flow controller
JP7398306B2 (en) * 2020-03-24 2023-12-14 東京エレクトロン株式会社 Gas inspection method, substrate processing method and substrate processing system
KR20230150309A (en) 2021-03-03 2023-10-30 아이커 시스템즈, 인크. Fluid flow control system including manifold assembly

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4672997A (en) * 1984-10-29 1987-06-16 Btu Engineering Corporation Modular, self-diagnostic mass-flow controller and system
JP2814378B2 (en) * 1988-06-20 1998-10-22 忠弘 大見 Mass flow controller
US5062446A (en) * 1991-01-07 1991-11-05 Sematech, Inc. Intelligent mass flow controller
JP2692770B2 (en) * 1992-09-30 1997-12-17 シーケーディ株式会社 Mass flow controller flow rate verification system
JP2635929B2 (en) * 1994-04-12 1997-07-30 シーケーディ株式会社 Mass flow controller absolute flow rate verification system
US5762086A (en) * 1995-12-19 1998-06-09 Veriflo Corporation Apparatus for delivering process gas for making semiconductors and method of using same
US5868159A (en) * 1996-07-12 1999-02-09 Mks Instruments, Inc. Pressure-based mass flow controller
US5744695A (en) * 1997-01-10 1998-04-28 Sony Corporation Apparatus to check calibration of mass flow controllers

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11202945A (en) 1999-07-30
US6125869A (en) 2000-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3932389B2 (en) Mass flow controller self-diagnosis method
JP5148634B2 (en) Diagnosis of valve self-leakage
JP6771772B2 (en) Pressure type flow control device and its abnormality detection method
TW200806910A (en) Method of detecting malfunction of restriction mechanism downstream side valve of pressure flow control device
JP5058358B2 (en) Diagnostic mechanism
TW201305765A (en) Pressure-based flow control device with flow monitor, fluid-supply-system anomaly detection method using same, and method for handling monitor flow anomalies
KR20120081221A (en) System and method for flow monitoring and control
KR20100114079A (en) Method and apparatus for in situ testing of gas flow controllers
JP6533740B2 (en) Gas flow rate monitoring method and gas flow rate monitoring device
JP2002519630A (en) Method and apparatus for detecting the presence of a leak in a system through which a fluid is flowing
JP2659334B2 (en) Mass flow controller flow rate verification system
JP3875596B2 (en) Functional ultrapure water production method and apparatus used therefor
JP2763081B2 (en) Inspection method of return leak in fluidic gas meter with micro flow sensor
JP3048688B2 (en) Water leak detection device in bellless furnace top charging device
JP2009543247A (en) Flow control device
JPH0198928A (en) Feed water meter with water leakage detecting function
KR200158396Y1 (en) Automatic pressure control system for nitrogen box use process of manufacturing semiconductor device
JP3378129B2 (en) Gas meter
JPH08210580A (en) Piping capacity estimating device in gas meter
JP2002062167A (en) Flow rate measurement system
JP2003177041A (en) Electromagnetic flowmeter for open channel
JP3137512B2 (en) Gas meter
JPH10292900A (en) Flow volume measuring device and method for measuring piping capacity
JPH09178527A (en) Isolation valve controller for gas meter
JP2001032247A (en) Valve control device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041209

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060308

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060919

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061117

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070104

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070130

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070228

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120330

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130330

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140330

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term