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JP3912618B2 - Adhesive sheet, metal laminate sheet and printed wiring board - Google Patents

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JP3912618B2 JP2006105132A JP2006105132A JP3912618B2 JP 3912618 B2 JP3912618 B2 JP 3912618B2 JP 2006105132 A JP2006105132 A JP 2006105132A JP 2006105132 A JP2006105132 A JP 2006105132A JP 3912618 B2 JP3912618 B2 JP 3912618B2
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Description

本発明は電子機器、部品の小型化、軽量化をになうフレキシブルプリント配線基板などに用いられるプリント配線板などにおいて絶縁層を形成するために使用される接着シート、その接着シートに金属箔を積層した金属積層シートおよびその金属積層シートを加工したプリント配線板に関する。さらに詳しくは、半導体パッケ−ジングなどにおけるTAB、COF、PGA、BGA、CSP、LOCテープ等で利用される前記フレキシブルプリント配線基板用の接着シート、金属積層シートに関する。なおさらに詳しくは、特定性能のポリイミドフィルムをベースフィルムとし、金属積層後の金属積層シートおよび金属積層シートを加工したプリント配線板が反りやカールの少ない金属積層シートおよびプリント配線板に関する。   The present invention relates to an adhesive sheet used for forming an insulating layer in a printed wiring board or the like used for an electronic device, a flexible printed wiring board or the like for reducing the size and weight of a component, and a metal foil for the adhesive sheet. The present invention relates to a laminated metal laminated sheet and a printed wiring board obtained by processing the laminated metal sheet. More specifically, the present invention relates to an adhesive sheet and a metal laminate sheet for the flexible printed circuit board used for TAB, COF, PGA, BGA, CSP, LOC tape, etc. in semiconductor packaging and the like. More particularly, the present invention relates to a metal laminated sheet after metal lamination and a printed wiring board obtained by processing the metal laminated sheet, and a metal laminated sheet and printed wiring board with less warpage and curl.

プリント配線板などにおいて絶縁層を形成するために接着シートや接着性フィルムを使用する場合、ガラスファイバーの布に未硬化エポキシ樹脂などを含浸せしめた所謂プレプリグが使用されてきた。またガラスファイバー布の代わりにアラミド繊維の布帛を使用したものも使用されている。これらのプレプリグは布の厚みが厚く近年要求される軽少化に沿いかねるものであった。
近年、電子機器の高機能化、高性能化、小軽化が進んでおり、それらに伴って用いられる電子部品に対する小型化、軽量化が求められている。そのため、多層プリント配線板や半導体素子パッケージ方法やそれらを実装する配線材料又は配線部品も、より高密度、高機能かつ高性能なものが求められるようになっている。半導体パッケージ、COLおよびLOCパッケージ、MCMなどの高密度実装材料や多層フレキシブルプリント配線板等のFPC材料として好適に用いることのできる、耐熱性、電気信頼性、接着性、絶縁性に優れた材料が求められている。
プリント配線板などにおいて絶縁層を形成し、かつその絶縁層を形成した結果軽少(軽薄)化を達成するためにするため種々の提案がなされている。
When an adhesive sheet or an adhesive film is used to form an insulating layer in a printed wiring board or the like, a so-called prepreg in which a glass fiber cloth is impregnated with an uncured epoxy resin or the like has been used. Also, an aramid fiber fabric is used instead of the glass fiber fabric. These prepregs have a thick cloth and cannot meet the demand for lightening in recent years.
In recent years, electronic devices have been improved in functionality, performance, and size, and there is a demand for downsizing and weight reduction of electronic components used therewith. For this reason, multilayer printed wiring boards, semiconductor element packaging methods, and wiring materials or wiring components for mounting them have been required to have higher density, higher functionality, and higher performance. A material excellent in heat resistance, electrical reliability, adhesion, and insulation that can be suitably used as a high-density mounting material such as a semiconductor package, COL and LOC package, MCM, or FPC material such as a multilayer flexible printed wiring board. It has been demanded.
Various proposals have been made in order to achieve reduction in weight (lightness) as a result of forming an insulating layer on a printed wiring board or the like and forming the insulating layer.

比較的耐熱性に優れた種々のエポキシ樹脂を絶縁層として使用することが知られているが、不均一フローなどによる絶縁層の不均一性や樹脂汚染などさらに誘電正接が大きい意からの絶縁性の信頼性欠如の課題を有する。
前記課題を解決せんとして、シリコーン共重合ポリイミド樹脂とエポキシ樹脂からの樹脂を接着剤層厚みが50μmで仮支持体に設けた接着性フィルムが提案されている(特許文献1参照)。この方法においても、回路(導体)間への浸透性において優れてはいるが、前記の課題が全面的に解決しうるものではなく、絶縁層の一定厚み保障が得られるものではなく、特性インピーダンスの厳密保障が必要な高周波回路基盤などの絶縁層形成には課題を有する。
また、熱可塑性ポリイミド樹脂を使用することも提案されている(特許文献2、3、4参照)。
さらに、ポリイミドフィルムの少なくとも片面に熱可塑性ポリイミドと熱硬化性樹脂とからなる接着剤層を設けたフィルムも提案されている(特許文献5参照)。
さらに、ポリイミド長尺フィルム表裏の配向の比を所定値以下にすることで25℃におけるカールの少ないポリイミド長尺フィルムも提案されている(特許文献6参照)。
特開2003−089784号公報 特開2000−143981号公報 特開2000−144092号公報 特開2003−306649号公報 特開2003−011308号公報 特開2000−085007号公報
It is known that various epoxy resins with relatively high heat resistance are used as the insulation layer, but the insulation from the meaning that the dielectric loss tangent is larger, such as non-uniformity of the insulation layer due to non-uniform flow and resin contamination. Has the problem of lack of reliability.
In order to solve the above problem, an adhesive film in which a resin from a silicone copolymer polyimide resin and an epoxy resin is provided on a temporary support with an adhesive layer thickness of 50 μm has been proposed (see Patent Document 1). Although this method is also excellent in permeability between circuits (conductors), the above-mentioned problem cannot be solved completely, and a certain thickness of the insulating layer cannot be ensured, and characteristic impedance is not obtained. There is a problem in forming an insulating layer such as a high-frequency circuit board that requires strict security.
It has also been proposed to use a thermoplastic polyimide resin (see Patent Documents 2, 3, and 4).
Furthermore, a film in which an adhesive layer composed of a thermoplastic polyimide and a thermosetting resin is provided on at least one surface of the polyimide film has also been proposed (see Patent Document 5).
Furthermore, the polyimide long film with few curls in 25 degreeC is also proposed by making the ratio of the orientation of a polyimide long film front and back into a predetermined value or less (refer patent document 6).
JP 2003-089784 A JP 2000-143981 A JP 2000-144092 A JP 2003-306649 A JP 2003-011308 A JP 2000-085007 A

従来公知のポリイミドフィルムやポリイミドベンゾオキサゾールフィルムからなる基材フィルムの使用は、セラミックからなる基材の使用に比べて耐熱的に劣りフィルム内の物性差による電子部品化の際に反りや歪みが生じやすいといった問題があった。またフィルムの反りや歪を解消すべく、延伸下で熱処理すること等により見かけ上のフィルムの反りを軽減する方策が採られていた。しかし、見かけ上のフィルムの反り、即ち顕在化したフィルムの反り等は解消できたとしても、特に電子部品として応用される際に高温での加工が必要となるが、かかる高温処理によって潜在的に存在する歪が顕在化してカールが発生するといった問題は解決されていなかった。従って、たとえ見かけ上の反りが少ないフィルムであっても加工する際にカールが生じるフィルムは生産上の歩留まり低下につながり、また高品質な電子部品が得難い場合が多かった。   The use of a substrate film made of a conventionally known polyimide film or polyimide benzoxazole film is inferior in heat resistance compared to the use of a substrate made of ceramic, and warping and distortion occur when electronic parts are produced due to physical property differences in the film. There was a problem that it was easy. In order to eliminate the warp and distortion of the film, measures have been taken to reduce the apparent warp of the film by heat treatment under stretching. However, even if the apparent warpage of the film, that is, the manifested warpage of the film, can be eliminated, it is necessary to process at a high temperature particularly when applied as an electronic component. The problem that the existing strain becomes obvious and the curling occurs has not been solved. Therefore, even if the film has a small apparent warp, a film in which curling occurs during processing leads to a decrease in production yield, and it is often difficult to obtain high-quality electronic components.

本発明は、電子部品の基材として好適である平面性および均質性に優れ、しかも高温処理しても反りやカールの少ない耐熱性に優れたポリイミドフィルムを基材フィルムとして使用した接着シート、この接着シートに金属箔を積層した金属積層シート、およびこの金属積層シートを回路加工したプリント配線板を提供することを目的とする。   The present invention provides an adhesive sheet using a polyimide film having excellent flatness and homogeneity suitable as a base material for electronic parts, and having excellent heat resistance with little warping and curling even when subjected to high temperature treatment, It aims at providing the metal lamination sheet which laminated | stacked metal foil on the adhesive sheet, and the printed wiring board which carried out circuit processing of this metal lamination sheet.

本発明者らは鋭意検討した結果、特定の300℃でのカール度が10%以下であるポリイミドフィルムが接着シート、金属積層シート、およびFPC(フレキシブルプリント配線板)、TABテープ、COFテープフィルムなどの基材フィルムとして使用されたとき、平面維持性に優れた高品質で均一なFPC(フレキシブルプリント配線板)、TABテープ、COFテープフィルムが得られることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち本発明は、下記の構成からなる。
1.芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドフィルムであって、ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてビフェニルテトラカルボン酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてフェニレンジアミン残基を有し、乾燥工程で支持体上の塗膜の上側の雰囲気温度よりも前記反対側の雰囲気温度が1〜55℃高い条件下で塗膜を乾燥することによって得られるフィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下であるポリイミドフィルムを基材フィルムとし、当該基材フィルムの少なくとも片面に熱可塑性接着剤層が形成されてなることを特徴とする接着シート。
2.フィルムの300℃熱処理後のカール度が8%以下であることを特徴とする上記1に記載の接着シート。
3.上記1〜2のいずれかに記載の接着シートの熱可塑性接着剤層側に金属箔が積層されてなることを特徴とする金属積層シート。
4.上記3に記載の金属積層シートの金属箔を一部除去してなることを特徴とするプリント配線板。
5.上記4に記載のプリント配線板を複数枚積層してなることを特徴とする多層プリント配線板。
6.上記4又は5いずれかに記載のプリント配線板に半導体チップが実装されてなることを特徴とするプリント配線板。
7.芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドフィルムであって、ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてビフェニルテトラカルボン酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてフェニレンジアミン残基を有し、乾燥工程で支持体上の塗膜の上側の雰囲気温度よりも前記反対側の雰囲気温度が1〜55℃高い条件下で塗膜を乾燥することによって得られるフィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下であるポリイミドフィルムを基材フィルムとし、当該基材フィルムの少なくとも片面に熱可塑性接着剤層が形成されてなることを特徴とする接着シートロール。
8.300℃熱処理後のカール度が8%以下であるポリイミドフィルムを基材フィルムとすることを特徴とする上記7の接着シートロール。
9.幅238〜516mm、長さ30〜2100mであることを特徴とする上記7又は8記載の接着シートロール。
10.上記7〜9のいずれかに記載の接着シートの熱可塑性接着剤層側に金属箔が積層されてなることを特徴とする金属積層シートロール。
11.上記10に記載の金属積層シートの金属箔を一部除去してなることを特徴とするプリント配線板用ロール。
12.上記11に記載のプリント配線板を複数枚積層してなることを特徴とする多層プリント配線板用ロール。
13.上記11又は12に記載のプリント配線板に半導体チップが実装されてなることを特徴とするプリント配線板用ロール。
14.少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてのビフェニルテトラカルボン酸残基と芳香族ジアミン類の残基としてのフェニレンジアミン残基と溶媒とからなる溶液を支持体上に塗膜形成し、次いで支持体上の塗膜の上側の雰囲気温度よりも前記反対側の雰囲気温度が1〜55℃高い条件下で塗膜を乾燥し、次いで熱処理を経てポリイミドフィルムとなし、当該ポリイミドフィルムを基材フィルムとし、当該基材フィルムの少なくとも片面に熱可塑性接着剤層を形成することを特徴とする接着シートの製造方法。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that a polyimide film having a curl degree of 10% or less at a specific 300 ° C. is an adhesive sheet, a metal laminate sheet, FPC (flexible printed wiring board), TAB tape, COF tape film, etc. When it was used as a base film, it was found that a high-quality and uniform FPC (flexible printed wiring board), TAB tape, and COF tape film excellent in flatness maintenance were obtained, and the present invention was completed.
That is, this invention consists of the following structures.
1. A polyimide film obtained by reacting an aromatic diamine with an aromatic tetracarboxylic acid, wherein the polyimide is at least a residue of an aromatic tetracarboxylic acid, a biphenyltetracarboxylic acid residue, a residue of an aromatic diamine A film obtained by drying a coating film under a condition that has a phenylenediamine residue as the above and the atmospheric temperature on the opposite side is 1 to 55 ° C. higher than the atmospheric temperature on the upper side of the coating film on the support in the drying step An adhesive sheet comprising: a polyimide film having a curl degree of 10% or less after heat treatment at 300 ° C. as a base film, and a thermoplastic adhesive layer formed on at least one side of the base film.
2. 2. The adhesive sheet according to 1 above, wherein the curl degree after heat treatment at 300 ° C. of the film is 8% or less.
3. 3. A metal laminate sheet, wherein a metal foil is laminated on the thermoplastic adhesive layer side of the adhesive sheet according to any one of the above items 1 and 2.
4). A printed wiring board obtained by removing a part of the metal foil of the metal laminate sheet according to the above item 3.
5. 5. A multilayer printed wiring board comprising a plurality of the printed wiring boards according to 4 above laminated.
6). A printed wiring board comprising a semiconductor chip mounted on the printed wiring board according to any one of the above 4 or 5.
7). A polyimide film obtained by reacting an aromatic diamine with an aromatic tetracarboxylic acid, wherein the polyimide is at least a residue of an aromatic tetracarboxylic acid, a biphenyltetracarboxylic acid residue, a residue of an aromatic diamine A film obtained by drying a coating film under a condition that has a phenylenediamine residue as the above and the atmospheric temperature on the opposite side is 1 to 55 ° C. higher than the atmospheric temperature on the upper side of the coating film on the support in the drying step An adhesive sheet roll comprising: a polyimide film having a curl degree after heat treatment at 300 ° C. of 10% or less as a base film, and a thermoplastic adhesive layer formed on at least one side of the base film.
8. The adhesive sheet roll according to 7 above, wherein a polyimide film having a curl degree after heat treatment at 300 ° C. of 8% or less is used as a base film.
9. 9. The adhesive sheet roll according to 7 or 8 above, which has a width of 238 to 516 mm and a length of 30 to 2100 m.
10. A metal laminate sheet roll, wherein a metal foil is laminated on the thermoplastic adhesive layer side of the adhesive sheet according to any one of the above 7 to 9.
11. A roll for a printed wiring board, wherein a part of the metal foil of the metal laminate sheet described in 10 above is removed.
12 A roll for a multilayer printed wiring board, wherein a plurality of the printed wiring boards according to the above 11 are laminated.
13. 13. A printed wiring board roll, wherein a semiconductor chip is mounted on the printed wiring board according to 11 or 12 above.
14 A solution comprising at least a biphenyltetracarboxylic acid residue as an aromatic tetracarboxylic acid residue, a phenylenediamine residue as an aromatic diamine residue and a solvent is formed on a support, and then the support The coating film is dried under a condition that the atmospheric temperature on the opposite side is higher by 1 to 55 ° C. than the atmospheric temperature on the upper side of the upper coating film, followed by heat treatment to form a polyimide film, and the polyimide film as a base film, A method for producing an adhesive sheet, comprising forming a thermoplastic adhesive layer on at least one surface of the substrate film.

本発明におけるポリイミドフィルムを基材フィルムとして使用した接着シート、金属積層シートおよびプリント配線板は、例えばプリント配線板においては、ポリイミドフィルムの片面又は両面に、金属箔層を形成し、この金属箔層の不要部分を除去して、例えば線幅5〜30μm、線間5〜30μm、厚さが3〜40μm程度の配線パターンが形成されたものである。
この金属箔層積層時における熱処理などが基材フィルムに影響し、この各種処理時にポリイミドフィルムの表裏面の物性差、特にフィルムの300℃熱処理後のカール度が一定以下である場合には、特に高温処理に対してポリイミドフィルムが反りや歪みを殆ど生じなく、その結果、得られたプリント配線板などの品質が向上し、歩留まりも向上し、その後これらプリント配線板などが受けるアニール処理や半田処理などの高温処理に対しても平面性を維持し得て、結果これらの製品歩留まりが向上する。
この様に耐熱性フィルムとしてのポリイミドフィルムは熱に曝される場合が多く、その熱に対するフィルムの300℃熱処理後におけるカール度の低さが工業製品の基材などに使用される際に極めて重要な品質となる。
本発明の特定ポリイミドフィルムを使用した接着シート、金属積層シートおよびプリント配線板は、高温に曝される電子部品などとして使用され、その製造時に該基材の反りや歪みが発生し難く、高品質の電子部品製造や歩留まり向上が実現でき産業上極めて有意義である。
The adhesive sheet, the metal laminate sheet, and the printed wiring board using the polyimide film in the present invention as a base film, for example, in a printed wiring board, form a metal foil layer on one or both sides of the polyimide film, and this metal foil layer The wiring pattern having a line width of 5 to 30 μm, a line spacing of 5 to 30 μm, and a thickness of about 3 to 40 μm is formed.
The heat treatment at the time of laminating this metal foil layer affects the base film, and when the various physical properties difference between the front and back surfaces of the polyimide film, especially when the curl degree after 300 ° C. heat treatment of the film is below a certain level, Polyimide film is hardly warped or distorted when subjected to high-temperature processing, and as a result, the quality of the obtained printed wiring board is improved and the yield is also improved. Flatness can be maintained even for high-temperature treatment such as these, and as a result, the yield of these products is improved.
In this way, the polyimide film as a heat resistant film is often exposed to heat, and the low curl degree after 300 ° C. heat treatment of the film against the heat is extremely important when used as a base material for industrial products. Quality.
The adhesive sheet, the metal laminate sheet and the printed wiring board using the specific polyimide film of the present invention are used as electronic parts exposed to high temperatures, and the substrate is not easily warped or distorted at the time of production. This makes it possible to realize the manufacture of electronic components and improve the yield, and is extremely significant in industry.

本発明における基材フィルムは、芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドフィルムであって、ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてビフェニルテトラカルボン酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてフェニレンジアミン残基を有し、かつフィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下であることを第一の特徴とする。   The base film in the present invention is a polyimide film obtained by reacting an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic acid, and the polyimide is a biphenyltetracarboxylic acid residue as a residue of at least the aromatic tetracarboxylic acid. The first characteristic is that it has a phenylenediamine residue as a residue of aromatic diamines, and the degree of curl of the film after heat treatment at 300 ° C. is 10% or less.

本発明において、ポリイミドフィルムの300℃におけるフィルムのカール度とは、所定の熱処理を行った後のフィルムの面方向に対する厚さ方向への変形度合を意味し、具体的には、図1に示すように、50mm×50mmの試験片を、300℃で10分間熱風処理した後に、平面上に試験片を凹状となるように静置し、四隅の平面からの距離(h1、h2、h3、h4:単位mm)の平均値をカール量(mm)とし、試験片の各頂点から中心までの距離(35.36mm)に対するカール量の百分率(%)で表される値である。
試料片は、ポリイミドフィルムに対して5分の1の長さピッチで幅方向に2点(幅長の1/3と2/3の点)を試験片の中心点としてn=10の計10点をサンプリングし(取れないときは最大n点をもってサンプリングし)、測定値は10点(又はn)の平均値とする。
具体的には、次式によって算出される。
カール量(mm)=(h1+h2+h3+h4)/4
カール度(%)=100×(カール量)/35.36
本発明における基材フィルムとして使用するポリイミ度フィルムの300℃熱処理後のカール度は、より好ましくは8%以下、更に好ましくは5%以下である。
In the present invention, the degree of curl of a polyimide film at 300 ° C. means the degree of deformation in the thickness direction relative to the surface direction of the film after performing a predetermined heat treatment, and specifically, shown in FIG. As described above, after a 50 mm × 50 mm test piece was treated with hot air at 300 ° C. for 10 minutes, the test piece was left on the plane so as to be concave, and the distances from the four corner planes (h1, h2, h3, h4) : The average value of unit mm) is a curl amount (mm), and is a value expressed as a percentage (%) of the curl amount with respect to the distance (35.36 mm) from each vertex to the center of the test piece.
The sample piece had a length pitch of 1/5 with respect to the polyimide film, and 2 points in the width direction (1/3 and 2/3 points of the width length), with n = 10 in total 10 The points are sampled (when it cannot be taken, sampling is performed with a maximum of n points), and the measured value is an average value of 10 points (or n).
Specifically, it is calculated by the following formula.
Curling amount (mm) = (h1 + h2 + h3 + h4) / 4
Curling degree (%) = 100 × (curl amount) /35.36
The curl degree after 300 ° C. heat treatment of the polyiminess film used as the base film in the present invention is more preferably 8% or less, and further preferably 5% or less.

本発明において、ビフェニルテトラカルボン酸残基とは、ビフェニルテトラカルボン酸の酸および無水物、ハロゲン化物などの官能性誘導体からの芳香族ジアミンとの反応によって形成されるポリアミド酸もしくはポリイミド中での結合におけるビフェニルテトラカルボン酸由来の残基をいう。フェニレンジアミン残基とはフェニレンジアミンとその各種誘導体からの芳香族テトラカルボン酸類との反応によって形成されるポリアミド酸もしくはポリイミド中での結合におけるフェニレンジアミン由来の残基をいう。
以下本発明においては、他芳香族テトラカルボン酸残基、他芳香族ジアミン残基とも、同様の意味を表すものである。
In the present invention, a biphenyltetracarboxylic acid residue is a bond in a polyamic acid or polyimide formed by a reaction with an aromatic diamine from a functional derivative such as an acid, anhydride, or halide of biphenyltetracarboxylic acid. This is a residue derived from biphenyltetracarboxylic acid. A phenylenediamine residue refers to a residue derived from phenylenediamine in a bond in polyamic acid or polyimide formed by reaction of phenylenediamine with aromatic tetracarboxylic acids from various derivatives thereof.
Hereinafter, in the present invention, other aromatic tetracarboxylic acid residues and other aromatic diamine residues have the same meaning.

本発明の基材としてのポリイミドフィルムは、芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドからなり、かつ、ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてビフェニルテトラカルボン酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてフェニレンジアミン残基を有するものである。
上述の「反応」は、まず、溶媒中で芳香族ジアミン類と芳香族テトラカルボン酸類とを開環重付加反応などに供して芳香族ポリアミド酸溶液を得て、次いで、この芳香族ポリアミド酸溶液からグリーンフィルムを成形した後に高温熱処理もしくは脱水縮合(イミド化)することによりなされる。
The polyimide film as the base material of the present invention comprises a polyimide obtained by reacting an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic acid, and the polyimide is biphenyltetracarboxylic as a residue of at least the aromatic tetracarboxylic acid. It has a phenylenediamine residue as an acid residue or a residue of an aromatic diamine.
In the above-mentioned “reaction”, first, aromatic diamines and aromatic tetracarboxylic acids are subjected to a ring-opening polyaddition reaction or the like in a solvent to obtain an aromatic polyamic acid solution, and then the aromatic polyamic acid solution. After forming a green film from the above, it is performed by high-temperature heat treatment or dehydration condensation (imidization).

芳香族ポリアミド酸は、上記芳香族テトラカルボン酸類(酸、無水物、官能性誘導体を総称する、以下芳香族テトラカルボン酸ともいう)と芳香族ジアミン類(以下芳香族ジアミンともいう)との実質的に等モル量を好ましくは90℃以下の重合温度において1分〜数日間不活性有機溶媒中で反応・重合させることにより製造される。芳香族テトラカルボン酸と芳香族ジアミンは混合物としてそのままあるいは溶液として有機溶媒に加えてもよいしあるいは有機溶媒を上記成分に加えてもよい。有機溶媒は重合成分の一部又は全部を溶解してもよくそして好ましくはコポリアミド酸重合物を溶解するものである。
好ましい溶媒には、N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドがある。この種の溶媒のうちで他の有用な化合物はN,N−ジエチルホルムアミドおよびN,N−ジエチルアセトアミドである。用いることのできる他の溶媒はジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、N−シクロヘキシル−2−ピロリドンなどである。溶媒は単独で、お互いに組み合わせてあるいはベンゼン、ベンゾニトリル、ジオキサンなどのような貧溶媒と組み合わせて用いることができる。
溶媒の使用量は芳香族ポリアミド酸溶液の75〜90質量%の範囲にあることが好ましい、この濃度範囲は最適の分子量を与えるからである。芳香族テトラカルボン酸と芳香族ジアミン成分は絶対的に等モル量で用いる必要はない。分子量を調整するために、芳香族テトラカルボン酸:芳香族ジアミンのモル比は0.90〜1.10の範囲にある。
上述したようにして製造した芳香族ポリアミド酸溶液は5〜40質量%好ましくは10〜25質量%のポリアミド酸重合体を含有する。
The aromatic polyamic acid is a substance composed of the above aromatic tetracarboxylic acids (collectively referred to as acids, anhydrides and functional derivatives, hereinafter also referred to as aromatic tetracarboxylic acids) and aromatic diamines (hereinafter also referred to as aromatic diamines). In particular, an equimolar amount is preferably produced by reacting and polymerizing in an inert organic solvent at a polymerization temperature of 90 ° C. or less for 1 minute to several days. The aromatic tetracarboxylic acid and the aromatic diamine may be added to the organic solvent as a mixture or as a solution, or an organic solvent may be added to the above components. The organic solvent may dissolve some or all of the polymerization components and preferably dissolves the copolyamic acid polymer.
Preferred solvents include N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide. Other useful compounds of this type are N, N-diethylformamide and N, N-diethylacetamide. Other solvents that can be used are dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-cyclohexyl-2-pyrrolidone and the like. Solvents can be used alone or in combination with each other or with poor solvents such as benzene, benzonitrile, dioxane and the like.
The amount of solvent used is preferably in the range of 75-90% by weight of the aromatic polyamic acid solution, since this concentration range gives the optimum molecular weight. The aromatic tetracarboxylic acid and the aromatic diamine component need not be used in absolute equimolar amounts. In order to adjust the molecular weight, the molar ratio of aromatic tetracarboxylic acid: aromatic diamine is in the range of 0.90 to 1.10.
The aromatic polyamic acid solution produced as described above contains 5 to 40% by mass, preferably 10 to 25% by mass of the polyamic acid polymer.

本発明においては、特にこれら芳香族ジアミン類の中でフェニレンジアミンが好適なジアミンである。それらには、p−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミンなどが挙げられるが好ましくはp−フェニレンジアミンである。
好ましい態様としてこれらのフェニレンジアミンに加えて他の芳香族ジアミン類好ましく使用できる。さらにこれらの芳香族ジアミン類に加えてジアミンを適宜選択使用してもよい。
In the present invention, among these aromatic diamines, phenylenediamine is a preferred diamine. Examples thereof include p-phenylenediamine, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, and the like, preferably p-phenylenediamine.
As a preferred embodiment, other aromatic diamines can be preferably used in addition to these phenylenediamines. Furthermore, in addition to these aromatic diamines, diamines may be appropriately selected and used.

本発明においては、芳香族テトラカルボン酸類の中でビフェニルテトラカルボン酸類(ビフェニルテトラカルボン酸およびその二無水物(PMDA)ならびにそれらの低級アルコールエステル)が好ましい。中でも3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸又はその二無水物がより好ましい。
好ましい態様としてビフェニルテトラカルボン酸に加えて他の芳香族テトラカルボン酸類好ましくはピロメリット酸類が使用できる。さらにこれらの芳香族テトラカルボン酸類に加えて他の芳香族テトラカルボン酸類を適宜選択使用してもよい。
本発明において、フェニレンジアミン類は全芳香族ジアミン類に対して50〜100モル%、他の芳香族ジアミン類は全芳香族ジアミン類に対して0〜50モル%、前2者以外の他のジアミン類は全芳香族ジアミン類に対して0〜50モル%使用することが好ましい。これらのモル%比がこの範囲を超える場合、可撓性、剛直性、強度、弾性率吸水率性、吸湿膨脹係数、伸度などの耐熱性ポリイミドフィルムとしてのバランスが崩れ好ましくない。
In the present invention, among the aromatic tetracarboxylic acids, biphenyltetracarboxylic acids (biphenyltetracarboxylic acid and its dianhydride (PMDA) and their lower alcohol esters) are preferred. Among these, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid or its dianhydride is more preferable.
As a preferred embodiment, in addition to biphenyltetracarboxylic acid, other aromatic tetracarboxylic acids, preferably pyromellitic acids can be used. Furthermore, in addition to these aromatic tetracarboxylic acids, other aromatic tetracarboxylic acids may be appropriately selected and used.
In the present invention, the phenylene diamines are 50 to 100 mol% based on the wholly aromatic diamines, and the other aromatic diamines are 0 to 50 mol% based on the wholly aromatic diamines. It is preferable to use 0-50 mol% of diamines with respect to wholly aromatic diamines. When the mole% ratio exceeds this range, the balance as a heat-resistant polyimide film such as flexibility, rigidity, strength, elastic modulus water absorption, hygroscopic expansion coefficient, and elongation is lost.

本発明において、ビフェニルテトラカルボン酸は全芳香族テトラカルボン酸類に対して50〜100モル%、ピロメリット酸類は全芳香族テトラカルボン酸類に対して0〜50モル%、他の芳香族テトラカルボン酸類は全芳香族テトラカルボン酸類に対して0〜50モル%使用することが好ましい。これらのモル%比がこの範囲を超える場合、可撓性、剛直性、強度、弾性率吸水率性、吸湿膨脹係数、伸度などの耐熱性ポリイミドフィルムとしてのバランスが崩れ好ましくない。
前記の芳香族ジアミン類、芳香族テトラカルボン酸類以外に使用できるものは特に限定されないが、例えば以下に示すものである。
5−アミノ−2−(p−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、6−アミノ−2−(p−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、5−アミノ−2−(m−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、6−アミノ−2−(m−アミノフェニル)ベンゾオキサゾール、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホキシド、3,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン。
上記芳香族ジアミンにおける芳香環上の水素原子の一部もしくは全てがハロゲン原子、炭素数1〜3のアルキル基又はアルコキシル基、シアノ基、又はアルキル基又はアルコキシル基の水素原子の一部もしくは全部がハロゲン原子で置換された炭素数1〜3のハロゲン化アルキル基又はアルコキシル基で置換された芳香族ジアミン等が挙げられる。
In the present invention, biphenyltetracarboxylic acid is 50 to 100 mol% with respect to the wholly aromatic tetracarboxylic acid, pyromellitic acid is 0 to 50 mol% with respect to the wholly aromatic tetracarboxylic acid, and other aromatic tetracarboxylic acids. Is preferably used in an amount of 0 to 50 mol% with respect to the wholly aromatic tetracarboxylic acid. When the mole% ratio exceeds this range, the balance as a heat-resistant polyimide film such as flexibility, rigidity, strength, elastic modulus water absorption, hygroscopic expansion coefficient, and elongation is lost.
Although what can be used other than said aromatic diamines and aromatic tetracarboxylic acids is not specifically limited, For example, it shows as follows.
5-amino-2- (p-aminophenyl) benzoxazole, 6-amino-2- (p-aminophenyl) benzoxazole, 5-amino-2- (m-aminophenyl) benzoxazole, 6-amino-2 -(M-aminophenyl) benzoxazole, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] Sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,3′-diaminodiphenyl sulfide, 3,3′-diaminodiph Nyl sulfoxide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfoxide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfoxide, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3, 3'-diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ethane, 1,1- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,2-bis [4- ( 4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane.
Some or all of the hydrogen atoms on the aromatic ring in the aromatic diamine are halogen atoms, alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms or alkoxyl groups, cyano groups, or some or all of hydrogen atoms of alkyl groups or alkoxyl groups. An aromatic diamine substituted with a halogenated alkyl group having 1 to 3 carbon atoms substituted with a halogen atom or an alkoxyl group is exemplified.

ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン酸無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、4、4’−オキシジフタル酸無水物、3,3’,4,4’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−フランテトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルプロパン酸二無水物、4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物などである。
本発明の基材としてのポリイミドフィルムの厚さは特に限定されないが、電子基板の基材に用いることを考慮すると、通常1〜150μm、好ましくは3〜50μmである。この厚さはポリアミド酸溶液を支持体に塗布する際の塗布量や、ポリアミド酸溶液の濃度によって容易に制御し得る。
本発明の基材としてのポリイミドフィルムには、滑剤をポリイミド中に添加含有せしめるなどしてフィルム表面に微細な凹凸を付与しフィルムの滑り性を改善することが好ましい。
滑剤としては、無機や有機の0.03〜3μm程度の平均粒子径を有する微粒子が使用でき、具体例として、酸化チタン、アルミナ、シリカ、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム、燐酸水素カルシウム、ピロ燐酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、粘土鉱物などが挙げられる。
Bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 2,2-bis [4- (3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propanoic acid anhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetra Carboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene Tetracarboxylic dianhydride, 4,4′-oxydiphthalic anhydride, 3,3 ′, 4,4′-dimethyldiphenylsilanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-furantetracarboxylic acid Anhydrides, 4,4′-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) diphenylpropanoic acid dianhydride, 4,4′-hexafluoroisopropylidenediphthalic anhydride and the like.
Although the thickness of the polyimide film as a base material of the present invention is not particularly limited, it is usually 1 to 150 μm, preferably 3 to 50 μm in consideration of use for a base material of an electronic substrate. This thickness can be easily controlled by the amount of the polyamic acid solution applied to the support and the concentration of the polyamic acid solution.
In the polyimide film as the substrate of the present invention, it is preferable to impart a fine unevenness to the film surface by adding a lubricant to the polyimide, thereby improving the slipping property of the film.
As the lubricant, inorganic or organic fine particles having an average particle diameter of about 0.03 to 3 μm can be used. Specific examples include titanium oxide, alumina, silica, calcium carbonate, calcium phosphate, calcium hydrogen phosphate, calcium pyrophosphate, Examples include magnesium oxide, calcium oxide, and clay minerals.

本発明に使用する300℃熱処理後におけるカール度が10%以下であるポリイミドフィルムを製造する方法は、特に限定されるものではないが、好ましい製造例として、ポリイミド前駆体フィルム(グリーンフィルム)の一方の側(A面側)のイミド化率IMAと他一方の側(B面側)のイミド化率IMBとを下記式の関係を満たすポリイミド前駆体フィルム(グリーンフィルム)を製造し、次いで該ポリイミド前駆体フィルム(グリーンフィルム)をイミド化することが挙げられる。
式1; |IMA−IMB|≦5
本発明において、グリーンフィルムのイミド化率の測定は下記による。
<イミド化率の測定方法>
測定対象フィルムを2cm×2cmの大きさに採取し、測定対象面をATR結晶と密着させてIR測定装置にセットして下記特定波長吸光度を測定して下記の式によって、測定フィルム対象面のイミド化率を得る。
イミド特定波長として1778cm-1(付近)を採用しその波長における測定面の吸光度をλ1778とし、基準として芳香族環特定波長1478cm-1付近を採用しその波長における測定面の吸光度をλ1478とする。
装置 ;FT−IR FTS60A/896 (株式会社デジラボジャパン)
測定条件;1回反射ATRアタッチメント(SILVER GATE)
ATR結晶 Ge
入射角 45°
検出器 DTGS
分解能 4cm-1
積算回数 128回
式2 ; IM={Iλ/I(450)}×100
式2において、Iλ=(λ1778/λ1478)であり、I(450)は同一組成のポリイミド前駆体フィルムを450℃で15分間熱閉環イミド化したフィルムを同様にして測定した(λ1778/λ1478)の値である。
A面のイミド化率IMをIMAとしてB面のイミド化率IMをIMBとして式2からこれらの値を測定し得る。IMAとIMBとの差は、絶対値を持って示すものである。
測定値は、フィルムの任意の箇所における幅方向に2点(幅長の1/3と2/3の点)とし、測定値は2点の平均値とする。
The method for producing a polyimide film having a curl degree of 10% or less after 300 ° C. heat treatment used in the present invention is not particularly limited, but as a preferred production example, one of polyimide precursor films (green films) is used. to produce a side polyimide precursor and imidization IM B imidization ratio IM a and another one side (B side) satisfies the following formula (a side) film (green film), followed Examples include imidizing the polyimide precursor film (green film).
Formula 1; | IM A −IM B | ≦ 5
In the present invention, the imidation ratio of the green film is measured as follows.
<Measurement method of imidization ratio>
The film to be measured is sampled to a size of 2 cm × 2 cm, the measurement object surface is brought into close contact with the ATR crystal, set in an IR measurement apparatus, and the following specific wavelength absorbance is measured. Get a conversion rate.
Adopting 1778 cm −1 (near) as the specific wavelength of imide and the absorbance of the measurement surface at that wavelength as λ 1778 , adopting the vicinity of specific wavelength 1478 cm −1 of the aromatic ring as the reference and the absorbance of the measurement surface at that wavelength as λ 1478 To do.
Equipment: FT-IR FTS60A / 896 (Digilab Japan Co., Ltd.)
Measurement conditions: 1-time reflection ATR attachment (SILVER GATE)
ATR crystal Ge
Incident angle 45 °
Detector DTGS
Resolution 4cm -1
Accumulation count 128 times Formula 2; IM = {Iλ / I (450)} × 100
In Formula 2, Iλ = (λ 1778 / λ 1478 ), and I (450) was measured in the same manner as a film obtained by thermal ring-closing imidization of a polyimide precursor film having the same composition at 450 ° C. for 15 minutes (λ 1778 / λ 1478 ).
The imidization rate IM of surface B imidation rate IM of surface A as IM A may measure these values from equation 2 as IM B. The difference between IM A and IM B is shown with an absolute value.
The measured value is 2 points in the width direction at any point on the film (1/3 and 2/3 of the width), and the measured value is the average value of the two points.

上記の特定グリーンフィルムを製造する方法は、特に限定されるものではないが、好適な例としては下記の方法が挙げられる。
グリーンフィルムを自己支持性が出る程度にまで乾燥する際に、溶媒の揮発する方向が空気に接する面に限られるためにグリーンフィルムの空気に接している面のイミド化率が、支持体に接する面のイミド化率より小さくなる傾向にあるが、フィルム表裏の吸収比の差が0.35以下であるポリイミド長尺フィルムを得るためには、表裏面におけるイミド化率とその差が所定範囲にあるグリーンフィルムを得ることが重要であり、そのために、例えば、ポリアミド酸溶液を支持体上にコーティングし、乾燥して自己支持性となったグリーンフィルムを得る際の乾燥条件を制御する方法があり、この制御によって、グリーンフィルム表裏面のイミド化率とその差が所定範囲にあるグリーンフィルムを得ることができる。
これらのグリーンフィルムにおける表裏面のイミド化率の差は、好ましくは5以下であり、より好ましくは4以下であり、さらに好ましくは3以下である、さらにこれらのイミド化率が表裏共に1〜15の範囲に制御することがこのましい。
グリーンフィルム表裏面のイミド化率の差が5を超えるときは、潜在的に存在するフィルム内部の歪が残存し、300℃に熱処理した後にカールが発生し、製品化に不向きなポリイミド長尺フィルムとなる。
The method for producing the specific green film is not particularly limited, and preferred examples include the following methods.
When the green film is dried to such an extent that self-supporting properties are obtained, the direction of volatilization of the solvent is limited to the surface in contact with air, so the imidization ratio of the surface in contact with air of the green film is in contact with the support. Although it tends to be smaller than the imidation rate of the surface, in order to obtain a polyimide long film having a difference in absorption ratio of the film front and back of 0.35 or less, the imidization rate on the front and back surfaces and the difference are within a predetermined range. It is important to obtain a certain green film. For this purpose, for example, there is a method of controlling the drying conditions when a polyamic acid solution is coated on a support and dried to obtain a self-supporting green film. By this control, it is possible to obtain a green film in which the imidization ratio of the front and back surfaces of the green film and the difference are within a predetermined range.
The difference in the imidization rate between the front and back surfaces of these green films is preferably 5 or less, more preferably 4 or less, and even more preferably 3 or less. It is better to control to the range.
When the difference in the imidization ratio between the front and back surfaces of the green film exceeds 5, potentially existing strain inside the film remains, curls occur after heat treatment at 300 ° C., and is not suitable for commercialization. It becomes.

また、グリーンフィルムを自己支持性が出る程度に乾燥する際に、乾燥後の全質量に対する残留溶媒量を制御することにより表裏面のイミド化率とその差が所定の範囲のグリーンフィルムを得ることができる。具体的には、乾燥後の全質量に対する残留溶媒量は、好ましくは25〜50質量%であり、より好ましくは35〜50質量%とすることが肝要である。当該残留溶媒量が25質量%より低い場合は、グリーンフィルム一方の側のイミド化率が相対的に高くなりすぎ、表裏面のイミド化率の差が小さいグリーンフィルムを得ることが困難になるばかりか、分子量低下により、グリーンフィルムが脆くなりやすい。また、50質量%を超える場合は、自己支持性が不十分となり、フィルムの搬送が困難になる場合が多い。
このような条件を達成するためには熱風、熱窒素、遠赤外線、高周波誘導加熱などの乾燥装置を使用することができるが、乾燥条件として以下の温度制御が要求される。
熱風乾燥を行う場合は、グリーンフィルムを自己支持性が出る程度に乾燥する際に、グリーンフィルム表裏面のイミド化率の範囲およびその差を所定範囲にするためには、定率乾燥条件を長くし、塗膜全体から均一に溶剤が揮発するように操作することが好ましい。定率乾燥とは塗膜表面が自由液面からなり溶剤の揮発が、外界の物質移動で支配される乾燥領域である。塗膜表面が乾燥固化し、塗膜内での溶剤拡散が律速となる乾燥条件では、表裏の物性差が出やすくなる。かかる好ましい乾燥状態は、支持体の種類や厚みによっても異なってくるが、温度設定、風量設定、通常支持体上の塗膜(グリーンフィルム)の上側(塗膜面側)の雰囲気温度よりも前記反対側(塗膜面側の反対側)の雰囲気温度が1〜55℃高い条件下で塗膜を乾燥する。雰囲気温度の説明においては、塗膜から支持体へ向う方向を下方向、その逆を上方向として方向を定義する。このような上下方向の記載は着目すべき領域の位置を簡潔に表現するためになされるものであり、実際の製造における塗膜の絶対的な方向を特定するためのものではない。
In addition, when the green film is dried to such an extent that self-supporting properties are obtained, a green film having a predetermined range of imidization ratios on the front and back surfaces and the difference between them is controlled by controlling the amount of residual solvent with respect to the total mass after drying. Can do. Specifically, it is important that the amount of residual solvent with respect to the total mass after drying is preferably 25 to 50% by mass, more preferably 35 to 50% by mass. When the residual solvent amount is lower than 25% by mass, the imidization rate on one side of the green film becomes relatively high, and it becomes difficult to obtain a green film with a small difference in imidization rate between the front and back surfaces. In addition, the green film tends to become brittle due to a decrease in molecular weight. Moreover, when it exceeds 50 mass%, self-supporting property becomes inadequate and conveyance of a film becomes difficult in many cases.
In order to achieve such conditions, a drying apparatus such as hot air, hot nitrogen, far infrared rays, and high frequency induction heating can be used, but the following temperature control is required as the drying conditions.
When performing hot air drying, when drying the green film to the extent that self-supporting properties are obtained, the constant rate drying conditions should be lengthened in order to keep the imidization rate range and the difference between the green film front and back surfaces within a predetermined range. It is preferable to operate so that the solvent is uniformly volatilized from the entire coating film. Constant rate drying is a drying region in which the coating film surface is a free liquid surface and the volatilization of the solvent is governed by mass transfer in the outside world. Under the drying conditions where the coating surface is dried and solidified and the solvent diffusion within the coating is rate-limiting, the physical property difference between the front and back surfaces is likely to occur. The preferable dry state varies depending on the type and thickness of the support, but the temperature setting, the air flow setting, and the atmospheric temperature above the coating film (green film) on the support (green film side) are usually higher than those described above. The coating film is dried under conditions where the ambient temperature on the opposite side (opposite side of the coating film side) is 1 to 55 ° C. higher. In the description of the atmospheric temperature, the direction is defined with the direction from the coating film toward the support being the downward direction and the opposite being the upward direction. Such a description in the vertical direction is made for concisely expressing the position of the region to be noted, and is not for specifying the absolute direction of the coating film in actual production.

「塗膜面側の雰囲気温度」とは、塗膜の直上から塗膜面方30mmに至る領域(通常は空間部分)の温度であり、塗膜から上方向に5〜30mm離れた位置の温度を熱電対などで計測することで、塗膜面側の雰囲気温度を求めることができる。
「反対側の雰囲気温度」とは、塗膜の直下(支持体部分)から塗膜の下方30mmに至る領域(支持体および支持体の下方の部分を含むことが多い)の温度であり、塗膜から下方向に5〜30mm離れた位置の温度を熱電対などで計測することで、反対側の雰囲気温度を求めることができる。
The “atmosphere temperature on the coating film side” is a temperature in a region (usually a space) from directly above the coating film to 30 mm on the coating film side, and a temperature at a position 5 to 30 mm away from the coating film in the upward direction. By measuring with a thermocouple or the like, the ambient temperature on the coating film surface side can be determined.
The “atmospheric temperature on the opposite side” is the temperature in the region (often including the support and the lower part of the support) from directly below the coating (support part) to the lower 30 mm of the coating. By measuring the temperature at a position 5 to 30 mm downward from the membrane with a thermocouple or the like, the atmosphere temperature on the opposite side can be obtained.

乾燥時に、塗膜面側の雰囲気温度よりも前記反対面側の雰囲気温度を1〜55℃高くすれば、乾燥温度自体を高くして塗膜の乾燥速度を高めても高品質なフィルムを得ることができる。塗膜面側の雰囲気温度よりも反対面側の雰囲気温度が低いか、あるいは、塗膜面側の雰囲気温度と反対側の雰囲気温度の差が1℃未満であると、塗膜面付近が先に乾燥してフィルム化して「蓋」のようになってしまい、その後に、支持体付近から蒸発すべき溶剤の蒸散を妨げて、フィルムの内部構造に歪が生じることが懸念される。反対側の雰囲気温度が塗膜面側の雰囲気温度よりも高く、その温度差が55℃より大きくすることは、装置上、経済上に不利となり望ましくない。好ましくは、乾燥時に、塗膜面側の雰囲気温度よりも前記反対側の雰囲気温度を10〜50℃高くし、より好ましくは、15〜45℃高くする。   When drying, if the atmospheric temperature on the opposite side is higher by 1 to 55 ° C. than the atmospheric temperature on the coating film side, a high-quality film can be obtained even if the drying temperature is increased and the drying speed of the coating film is increased. be able to. If the atmospheric temperature on the opposite surface side is lower than the atmospheric temperature on the coating surface side, or if the difference between the atmospheric temperature on the coating surface side and the atmospheric temperature on the opposite side is less than 1 ° C., the vicinity of the coating surface is first There is a concern that the film may be dried into a film to form a “lid”, and thereafter, the evaporation of the solvent to be evaporated from the vicinity of the support is hindered, and the internal structure of the film is distorted. It is undesirable for the apparatus and the economy to be disadvantageous in that the atmospheric temperature on the opposite side is higher than the atmospheric temperature on the coating film side and the temperature difference is greater than 55 ° C. Preferably, at the time of drying, the ambient temperature on the opposite side is higher by 10 to 50 ° C., more preferably 15 to 45 ° C. than the ambient temperature on the coating film side.

上記のような雰囲気温度の設定は、塗膜の乾燥の全工程にわたってなされてもよいし、塗膜乾燥の一部の工程でなされてもよい。塗膜の乾燥をトンネル炉等の連続式乾燥機で行う場合、乾燥有効長の、好ましくは10〜100%、より好ましくは15〜100%の長さにおいて、上述の雰囲気温度を設定すればよい。
乾燥時間は、トータルで10〜90分、望ましくは15〜45分である。
The setting of the atmospheric temperature as described above may be performed over the entire process of drying the coating film, or may be performed in a part of the process of drying the coating film. When the coating film is dried by a continuous dryer such as a tunnel furnace, the above-mentioned atmospheric temperature may be set in the drying effective length, preferably 10 to 100%, more preferably 15 to 100%. .
The drying time is 10 to 90 minutes in total, desirably 15 to 45 minutes.

乾燥工程を経たグリーンフィルムは、次いでイミド化工程に供せられるが、インライン及びオフラインのいずれの方法でもよい。
オフラインを採用する場合はグリーンフィルムを一旦巻取るが、その際、グリーンフィルムが内側(支持体が外側)となるようにして管状物に巻き取ることによりカールの軽減を図ることができる。
いずれの場合も曲率半径が30mm以下とならないように搬送、ないし巻き取りを行うことが好ましい。
The green film that has undergone the drying step is then subjected to an imidization step, but may be either inline or off-line.
When the off-line is adopted, the green film is wound up once. At this time, curling can be reduced by winding the green film on the tubular body so that the green film is on the inner side (the support is on the outer side).
In any case, it is preferable to carry or wind the film so that the radius of curvature does not become 30 mm or less.

このような方法で得られた表裏面のイミド化率とその差が所定の範囲に制御されたグリーンフィルムを所定の条件でイミド化することで、本発明の300℃熱処理後のカール度の低いポリイミド長尺フィルムが得られる。
その具体的なイミド化方法としては、従来公知のイミド化反応を適宜用いることが可能である。例えば、閉環触媒や脱水剤を含まないポリアミド酸溶液を用いて、加熱処理に供することでイミド化反応を進行させる方法(所謂、熱閉環法)やポリアミド酸溶液に閉環触媒および脱水剤を含有させておいて、上記閉環触媒および脱水剤の作用によってイミド化反応を行わせる、化学閉環法を挙げることができるが、ポリイミド長尺フィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下のポリイミド長尺フィルムを得るためには、熱閉環法が好ましい。
The degree of curl after the 300 ° C. heat treatment of the present invention is low by imidizing a green film obtained by such a method with the imidation ratio of the front and back surfaces and the difference thereof controlled within a predetermined range under predetermined conditions. A polyimide long film is obtained.
As a specific imidization method, a conventionally known imidation reaction can be appropriately used. For example, using a polyamic acid solution that does not contain a ring-closing catalyst or a dehydrating agent, the imidization reaction proceeds by subjecting it to a heat treatment (so-called thermal ring-closing method), or the polyamic acid solution contains a ring-closing catalyst and a dehydrating agent. In particular, a chemical ring closing method in which an imidization reaction is performed by the action of the above ring closing catalyst and a dehydrating agent can be used. A polyimide long film having a curl degree of 10% or less after 300 ° C. heat treatment of a polyimide long film is included. In order to obtain a film, the thermal ring closure method is preferred.

熱閉環法の加熱最高温度は、100〜500℃が例示され、好ましくは200〜480℃である。加熱最高温度がこの範囲より低いと充分に閉環されづらくなり、またこの範囲より高いと劣化が進行し、フィルムが脆くなりやすくなる。より好ましい態様としては、150〜250℃で3〜20分間処理した後に350〜500℃で3〜20分間処理する2段階熱処理が挙げられる。
化学閉環法では、ポリアミド酸溶液を支持体に塗布した後、イミド化反応を一部進行させて自己支持性を有するフィルムを形成した後に、加熱によってイミド化を完全に行わせることができる。この場合、イミド化反応を一部進行させる条件としては、好ましくは100〜200℃による3〜20分間の熱処理であり、イミド化反応を完全に行わせるための条件は、好ましくは200〜400℃による3〜20分間の熱処理である。
100-500 degreeC is illustrated as a heating maximum temperature of a thermal ring closure method, Preferably it is 200-480 degreeC. When the maximum heating temperature is lower than this range, it is difficult to close the ring sufficiently, and when it is higher than this range, deterioration proceeds and the film tends to become brittle. A more preferable embodiment includes a two-stage heat treatment in which treatment is performed at 150 to 250 ° C. for 3 to 20 minutes and then treatment is performed at 350 to 500 ° C. for 3 to 20 minutes.
In the chemical ring closure method, after the polyamic acid solution is applied to a support, the imidization reaction is partially advanced to form a self-supporting film, and then imidization can be performed completely by heating. In this case, the condition for partially proceeding with the imidization reaction is preferably a heat treatment for 3 to 20 minutes at 100 to 200 ° C., and the condition for allowing the imidization reaction to be completely performed is preferably 200 to 400 ° C. For 3 to 20 minutes.

上述の乾燥処理及びイミド化処理はフィルム両端をピンテンターやクリップで把持して実施される。その際、フィルムの均一性を保持するためには、可能な限りフィルムの幅方向及び長手方向の張力を均一にすることが望ましい。
具体的には、フィルムをピンテンターに供する直前に、フィルム両端部をブラシで押さえ、ピンが均一にフィルムに突き刺さるような工夫を挙げることができる。ブラシは、剛直で耐熱性のある繊維状のものが望ましく、高強度高弾性率モノフィラメントを採用することができる。
上述したイミド化処理の条件(温度、時間、張力)を満たすことにより、フィルム内部(表裏や平面方向)の配向歪の発生を抑制することができる。
The above-mentioned drying treatment and imidization treatment are carried out by gripping both ends of the film with a pin tenter or clip. At that time, in order to maintain the uniformity of the film, it is desirable to make the tension in the width direction and the longitudinal direction of the film as uniform as possible.
Specifically, just before the film is subjected to a pin tenter, the both ends of the film can be pressed with a brush, and the pins can be pierced uniformly into the film. The brush is preferably a fibrous material having rigidity and heat resistance, and a high-strength, high-modulus monofilament can be adopted.
By satisfying the conditions (temperature, time, tension) of the imidization treatment described above, it is possible to suppress the occurrence of orientation strain inside the film (front and back and plane direction).

閉環触媒をポリアミド酸溶液に加えるタイミングは特に限定はなく、ポリアミド酸を得るための重合反応を行う前に予め加えておいてもよい。閉環触媒の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミンなどといった脂肪族第3級アミンや、イソキノリン、ピリジン、ベータピコリンなどといった複素環式第3級アミンなどが挙げられ、中でも、複素環式第3級アミンから選ばれる少なくとも一種のアミンが好ましい。ポリアミド酸1モルに対する閉環触媒の使用量は特に限定はないが、好ましくは0.5〜8モルである。
脱水剤をポリアミド酸溶液に加えるタイミングも特に限定はなく、ポリアミド酸を得るための重合反応を行う前に予め加えておいてもよい。脱水剤の具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸などといった脂肪族カルボン酸無水物や、無水安息香酸などといった芳香族カルボン酸無水物などが挙げられ、中でも、無水酢酸、無水安息香酸あるいはそれらの混合物が好ましい。また、ポリアミド酸1モルに対する脱水剤の使用量は特に限定はないが、好ましくは0.1〜4モルである。脱水剤を用いる場合には、アセチルアセトンなどといったゲル化遅延剤を併用してもよい。
The timing for adding the ring-closing catalyst to the polyamic acid solution is not particularly limited, and may be added in advance before the polymerization reaction for obtaining the polyamic acid. Specific examples of the ring-closing catalyst include aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylamine, and heterocyclic tertiary amines such as isoquinoline, pyridine, and betapicoline. Among them, heterocyclic tertiary amines are mentioned. At least one amine selected from is preferred. Although the usage-amount of a ring-closing catalyst with respect to 1 mol of polyamic acids does not have limitation in particular, Preferably it is 0.5-8 mol.
The timing of adding the dehydrating agent to the polyamic acid solution is not particularly limited, and may be added in advance before the polymerization reaction for obtaining the polyamic acid. Specific examples of the dehydrating agent include aliphatic carboxylic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, and aromatic carboxylic acid anhydrides such as benzoic anhydride. Among them, acetic anhydride, benzoic anhydride, etc. Acids or mixtures thereof are preferred. Moreover, the usage-amount of the dehydrating agent with respect to 1 mol of polyamic acids is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 4 mol. When a dehydrating agent is used, a gelation retarder such as acetylacetone may be used in combination.

熱閉環反応であっても、化学閉環法であっても、支持体に形成されたポリイミド長尺フィルムの前駆体(グリーンシート、フィルム)を完全にイミド化する前に支持体から剥離してもよいし、イミド化後に剥離してもよい。
ポリイミド長尺フィルムの厚さは特に限定されないが、後述するプリント配線基板用ベース基板に用いることを考慮すると、通常1〜150μm、好ましくは3〜50μmである。この厚さはポリアミド酸溶液を支持体に塗布する際の塗布量や、ポリアミド酸溶液の濃度によって容易に制御し得る。
本発明の製造方法によって得られるポリイミド長尺フィルムは、好ましくは吸収比がB面より大きい傾向にあるA面を巻内にして管状物に巻き取ることで、更にカール度の小さいポリイミド長尺フィルムを得ることができる。
更に、巻き張力は100N以上、好ましくは150N以上500N以下とすることが望ましい。
また、巻き芯の直径は75mm以上であることが望ましい。75mm未満であると、カール改善を阻害する要因となる。好ましくは75〜350mm、更に好ましくは80〜180mmである。ここに巻き芯直径は外径である。巻き芯直径がこの範囲を超えると取り扱い性が困難となる。また巻き芯直径がこの範囲を下回ると、フィルムに加わる曲げ応力が大きくなり反り、ねじれなどの平面性低下の原因となる。なおさらにこの範囲を下回った巻き芯では保管時におけるフィルムが温度湿度変化で伸縮した場合にシワが入りやすくなり、平面性ならびに品位に劣る物となりやすい。
なお、グリーンフィルムのイミド化をオフラインで行う場合には、当該グリーンフィルムが内側(支持体が外側)となるようにして巻き取る方法が採用できる。
Whether it is a thermal cyclization reaction or a chemical cyclization method, the polyimide long film precursor (green sheet, film) formed on the support may be peeled off from the support before it is completely imidized. It may be peeled off after imidation.
Although the thickness of a polyimide long film is not specifically limited, When considering using it for the base substrate for printed wiring boards mentioned later, it is 1-150 micrometers normally, Preferably it is 3-50 micrometers. This thickness can be easily controlled by the amount of the polyamic acid solution applied to the support and the concentration of the polyamic acid solution.
The polyimide long film obtained by the production method of the present invention is preferably a polyimide long film having a smaller curl degree by winding the A side in the winding with the absorption ratio tending to be larger than the B side into a tubular product. Can be obtained.
Further, the winding tension is 100N or more, preferably 150N or more and 500N or less.
The diameter of the winding core is desirably 75 mm or more. If it is less than 75 mm, it becomes a factor that inhibits curl improvement. Preferably it is 75-350 mm, More preferably, it is 80-180 mm. Here, the winding core diameter is the outer diameter. When the winding core diameter exceeds this range, handling becomes difficult. On the other hand, if the winding core diameter is less than this range, the bending stress applied to the film becomes large, causing warping and lowering of flatness such as torsion. Furthermore, if the core falls below this range, wrinkles tend to occur when the film during storage expands and contracts due to changes in temperature and humidity, and tends to be inferior in flatness and quality.
In addition, when performing imidation of a green film off-line, the method of winding up so that the said green film may become inside (a support body is outside) is employable.

なお、上述の吸収比とは、フィルム表面(又は裏面、以下同)から3μm程度の深さまでのポリイミド分子のイミド環面のフィルム面に対する配向度合を意味する。具体的には、FT−IR(測定装置:Digilab社製、FTS−60A/896等)により偏光ATR測定を、一回反射ATRアタッチメントをgolden gate MkII(SPECAC社製)、IREをダイアモンド、入射角を45°、分解能を4cm-1、積算回数128回の条件でフィルム表面について測定を行った場合の1480cm-1付近に現れるピーク(芳香環振動)における各方向の吸収係数(Kx、KyおよびKz)を求め、次式により定義されるものである。(但し、KxはMD方向、KyはTD方向、Kzは厚み方向の吸収係数をそれぞれ示す。)
吸収比=(Kx+Ky)/2×Kz
測定値は、フィルムの任意の箇所における幅方向に2点(幅長の1/3と2/3の点)とし、測定値は2点の平均値とする。
そして、本発明におけるA面とは吸収比が大きいほうの面を、B面とは吸収比が小さいほうの面をいう。
In addition, the above-mentioned absorption ratio means the degree of orientation with respect to the film surface of the imide ring surface of the polyimide molecule from the film surface (or back surface, hereinafter the same) to a depth of about 3 μm. Specifically, polarization ATR measurement is performed by FT-IR (measurement apparatus: Digilab, FTS-60A / 896, etc.), single reflection ATR attachment is golden gate MkII (SPECAC), IRE is diamond, incident angle the 45 °, the resolution 4 cm -1, the absorption coefficient in each direction at the peak appearing near 1480 cm -1 in the case of the film surface was measured at 128 cumulative conditions (aromatic ring vibration) (Kx, Ky and Kz ) And is defined by the following equation. (However, Kx is the MD direction, Ky is the TD direction, and Kz is the thickness direction absorption coefficient.)
Absorption ratio = (Kx + Ky) / 2 × Kz
The measured value is 2 points (1/3 and 2/3 points of the width length) in the width direction at any part of the film, and the measured value is the average value of the 2 points.
In the present invention, the A surface is the surface having the larger absorption ratio, and the B surface is the surface having the smaller absorption ratio.

ポリイミド長尺フィルムは、グリーンフィルムの乾燥工程やイミド化工程で熱による処理が施されている。その際、フィルムの幅方向に処理斑があると、フィルムの幅方向における物性差が生じ、カールの発生原因となる。
そこで、本発明では、乾燥機内における雰囲気温度の幅方向のムラを中心温度±5℃以内、好ましくは±3℃以内、さらに好ましくは±2℃以内に制御することが望ましい。
ここに雰囲気温度とは、支持体の表面から5mm〜30mmの等距離だけ離れた位置において、熱電対、サーモラベルなどで測定した温度をいう。また本発明では幅方向に温度検出端を8ないし64ポイント設けることが好ましい。
特に幅方向の検出端と検出端の間隔は5cm〜10cm程度にすることが好ましい。検出端としては、公知のアルメルクロメル等の熱伝対を用いれば良い。
本発明においては、塗布面側の雰囲気温度に対し、反対側の雰囲気温度を5〜55℃高く設定することができる。この場合も、支持体の各々の側での温度の中心温度から±5℃の範囲とすることが肝要である。中心温度は各検出端にて測定された摂氏温度の算術平均値であり、支持体の走行する方向と直交する幅方向における各検出端にて測定された温度が±5℃の範囲であることは、該中心値の数値に基づいて算定された範囲となる。
このような条件で製造されたポリイミド長尺フィルムは、前記の条件で測定したカール度が10%以下の極めて高温における平面性に優れたものとなる。
The polyimide long film is heat treated in the green film drying process or imidization process. At that time, if there are uneven spots in the width direction of the film, a difference in physical properties in the width direction of the film occurs, which causes curling.
Therefore, in the present invention, it is desirable to control the unevenness in the width direction of the ambient temperature in the dryer within a central temperature of ± 5 ° C., preferably within ± 3 ° C., and more preferably within ± 2 ° C.
Here, the atmospheric temperature refers to a temperature measured with a thermocouple, a thermo label, or the like at a position away from the surface of the support by an equal distance of 5 mm to 30 mm. In the present invention, it is preferable to provide 8 to 64 temperature detection ends in the width direction.
In particular, the interval between the detection end in the width direction is preferably about 5 cm to 10 cm. As the detection end, a known thermocouple such as alumel chromel may be used.
In the present invention, the ambient temperature on the opposite side can be set higher by 5 to 55 ° C. than the ambient temperature on the coated surface side. In this case as well, it is important that the temperature is within a range of ± 5 ° C. from the center temperature of the temperature on each side of the support. The center temperature is the arithmetic average value of the Celsius temperature measured at each detection end, and the temperature measured at each detection end in the width direction perpendicular to the direction in which the support travels is within ± 5 ° C. Is a range calculated based on the numerical value of the central value.
The polyimide long film manufactured under such conditions has excellent flatness at an extremely high temperature with a curl degree measured under the above conditions of 10% or less.

本発明の接着シート、金属積層シートおよびプリント配線板においては、基本的にポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてビフェニルテトラカルボン酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてフェニレンジアミン残基を有し、かつフィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下、好ましくは8%以下であるポリイミドフィルム(F)を基材として使用し、接着シートにおいてはその基材フィルムの少なくとも片面に熱硬化性接着剤層が形成積層されたものであり、金属積層シートにおいては熱硬化性接着剤層側に、金属箔が積層された金属積層シートであり、プリント配線板においては、金属積層シートの、金属箔の不要部分をエッチング除去し回路パターンを形成したプリント配線板であり、またこのプリント配線板が複数枚積層された多層プリント配線板であり、またこれらのプリント配線板に半導体チップが直接実装されたものである。
さらに本発明の接着シートは、プリント配線板間の絶縁体層形成などのためにも使用できるものである。
さらに本発明の接着シートは、プリント配線板間の絶縁体層形成などのためにも使用できるものである。
本発明の接着シートは幅238〜516mm、長さ5〜1020mのものが採用できる。接着シートの好ましくは幅256mm〜508mmであり、さらに好ましい幅は256〜460mm、なお好ましい幅は268〜386mmである。
接着シートの好ましい長さは8m〜770mであり、更に好ましくは8m〜620mであり、更に好ましくは24m〜480m、なおさらに好ましくは48m〜360mである。
接着シートの幅が所定の範囲を超えるとコーティング膜厚の均一性が得られにくくなる。また接着シートの幅が所定の範囲に満たないとコーティングが困難である。
接着シートの長さが所定の範囲を超えると、接着剤シートロールが自重により変形する可能性がある。また接着剤シートの長さが所定の範囲に満たないと、ロール化することによる連続操業性を発揮することができない。
また、本発明において、フィルム、接着シートを巻き上げる巻芯は一般に3インチ管、6インチ管と呼ばれる巻芯を用いればよい。クリーンルーム内にて扱う事を鑑みると、紙製巻芯ではなく樹脂製巻芯が好適である。本発明では内径が6インチので肉厚が5mm以上、好ましくは8mm以上のプラスチック管を用いることが好ましい。巻芯径が3インチ未満となると、フィルムに永久歪みが生じ、後工程での矯正が困難となる場合がある。
In the adhesive sheet, metal laminate sheet, and printed wiring board of the present invention, basically, polyimide is at least a biphenyltetracarboxylic acid residue as an aromatic tetracarboxylic acid residue, and a phenylenediamine residue as an aromatic diamine residue. And a polyimide film (F) having a curl degree after heat treatment at 300 ° C. of 10% or less, preferably 8% or less is used as a substrate, and the adhesive sheet has at least one surface of the substrate film. A thermosetting adhesive layer is formed and laminated, and in a metal laminated sheet, a metal laminated sheet in which a metal foil is laminated on the thermosetting adhesive layer side. In a printed wiring board, a metal laminated sheet This is a printed wiring board with a circuit pattern formed by etching away unnecessary portions of the metal foil. Line plate is a multilayer printed wiring board in which a plurality of stacked, also one in which semiconductor chips are mounted directly to these printed circuit boards.
Furthermore, the adhesive sheet of the present invention can be used for forming an insulating layer between printed wiring boards.
Furthermore, the adhesive sheet of the present invention can be used for forming an insulating layer between printed wiring boards.
As the adhesive sheet of the present invention, one having a width of 238 to 516 mm and a length of 5 to 1020 m can be adopted. The width of the adhesive sheet is preferably 256 mm to 508 mm, more preferably 256 to 460 mm, and still more preferably 268 to 386 mm.
The preferable length of the adhesive sheet is 8 m to 770 m, more preferably 8 m to 620 m, still more preferably 24 m to 480 m, and still more preferably 48 m to 360 m.
If the width of the adhesive sheet exceeds a predetermined range, it is difficult to obtain a uniform coating film thickness. Also, coating is difficult if the width of the adhesive sheet is less than the predetermined range.
If the length of the adhesive sheet exceeds a predetermined range, the adhesive sheet roll may be deformed by its own weight. Moreover, if the length of the adhesive sheet is less than the predetermined range, continuous operability by rolling cannot be exhibited.
In the present invention, the core for winding up the film and the adhesive sheet may be a core generally called a 3 inch tube or a 6 inch tube. Considering handling in a clean room, a resin core is preferable instead of a paper core. In the present invention, it is preferable to use a plastic pipe having an inner diameter of 6 inches and a thickness of 5 mm or more, preferably 8 mm or more. If the core diameter is less than 3 inches, permanent distortion may occur in the film, and correction in a subsequent process may be difficult.

本発明に用いられる熱可塑性接着剤としては、熱可塑性又は熱圧着性であって耐熱性、接着性に優れたものであれば特に限定されるものではないが、接着剤の引張弾性率が基材の引張弾性率より小さいことが好ましい。接着剤の引張弾性率/基材の引張弾性率(引張弾性率の比)は0.01〜0.5が好ましく、0.3以下がさらに好ましく、0.1以下が特に好ましい。
熱可塑性接着剤の引張弾性率が基材フィルムのそれより高いと線膨張係数の離れた基材フィルムと金属箔の応力歪みを接着剤層で緩和吸収することが出来なくなり、結果として半導体と金属箔層との接続信頼性が発現されなくなるので好ましくない。
本発明においては熱可塑性接着剤として、熱可塑性ポリイミド、ポリアミドイミド、全芳香族ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリアミド系の樹脂を用いることができる。
本発明における好ましい熱可塑性接着剤としては、耐熱性およびフィルムとの接着性などの観点から熱可塑性(熱圧着性)ポリイミド系樹脂からの接着剤が挙げられ、熱可塑性(熱圧着性)ポリイミド系樹脂としては、230〜400℃程度の温度で熱圧着できる熱可塑性のポリイミド系樹脂であればよい。かかる熱圧着性ポリイミドとしては、好ましくは、ジアミン類として、
APB :1,3−ビス(3−アミノフェノキシベンゼン)、
m−BP :4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、
DABP :3,3’−ジアミノベンゾフェノン、
DANPG:1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)−2,2−ジメチルプロパン、
から選ばれる少なくとも一種のジアミン類と、テトラカルボン酸無水物として、
PMDA :ピロメリット酸二無水物、
ODPS :3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、
BTDA :3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
BPDA :3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
α−BPDA:2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
ODPA :4,4’−オキシジフタル酸二無水物、
から選ばれる少なくとも一種のテトラカルボン酸二無水物から得られるポリイミドを用いることができる。これらは、単独又は2種以上を組み合わせて使用できる。さらにジアミン類或いはテトラカルボン酸無水物類の各々50モル%を超えない範囲で、先に例示した、その他のジアミン類あるいはテトラカルボン酸無水物類を併用することができる。
The thermoplastic adhesive used in the present invention is not particularly limited as long as it is thermoplastic or thermocompression-bonded and has excellent heat resistance and adhesiveness. It is preferable to be smaller than the tensile modulus of the material. The tensile modulus of the adhesive / the tensile modulus of the substrate (ratio of the tensile modulus) is preferably 0.01 to 0.5, more preferably 0.3 or less, and particularly preferably 0.1 or less.
If the tensile modulus of the thermoplastic adhesive is higher than that of the base film, the stress strain of the base film and the metal foil having a different linear expansion coefficient cannot be relaxed and absorbed by the adhesive layer. Since connection reliability with the foil layer is not expressed, it is not preferable.
In the present invention, thermoplastic polyimide, polyamideimide, wholly aromatic polyester, polyetherimide, or polyamide resin can be used as the thermoplastic adhesive.
Preferred thermoplastic adhesives in the present invention include adhesives from thermoplastic (thermocompression bonding) polyimide resins from the viewpoint of heat resistance and adhesion to films, and thermoplastic (thermocompression bonding) polyimide systems. The resin may be a thermoplastic polyimide resin that can be thermocompression bonded at a temperature of about 230 to 400 ° C. As such a thermocompression bonding polyimide, preferably, as diamines,
APB: 1,3-bis (3-aminophenoxybenzene),
m-BP: 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl,
DABP: 3,3′-diaminobenzophenone,
DANPG: 1,3-bis (4-aminophenoxy) -2,2-dimethylpropane,
As at least one diamine selected from: tetracarboxylic anhydride,
PMDA: pyromellitic dianhydride,
ODPS: 3,3 ′, 4,4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride,
BTDA: 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride,
BPDA: 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride α-BPDA: 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride,
ODPA: 4,4′-oxydiphthalic dianhydride,
Polyimide obtained from at least one tetracarboxylic dianhydride selected from can be used. These can be used alone or in combination of two or more. Further, other diamines or tetracarboxylic acid anhydrides exemplified above can be used in combination within the range not exceeding 50 mol% of each of the diamines or tetracarboxylic acid anhydrides.

本発明では、好適には1,3−ビス(4−アミノフェノキシベンゼン)と2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物〜得られるポリイミド、1,3−ビス(4−アミノフェノキシベンゼン)とピロメリット酸二無水物とから得られるポリイミド、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)−2,2−ジメチルプロパンと4,4’−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)とから製造されるポリイミド、4,4’−オキシジフタル酸二無水物(ODPA)およびピロメリット酸二無水物と、1,3−ビス(4−アミノフェノキシベンゼン)とから得られるポリイミド、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンと3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とから得られるポリイミド、3,3’−ジアミノベンゾフェノンおよび1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンと3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とから得られるポリイミド、を例示できる。
ジアミン成分とテトラカルボン酸二無水物の反応モル比は、通常、ジアミン成分1モルに対し、テトラカルボン酸二無水物成分0.75〜1.25モルの範囲である。好ましくは0.8〜1.2モルの範囲である。
In the present invention, 1,3-bis (4-aminophenoxybenzene) and 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride to polyimide obtained, 1,3-bis (4- A polyimide obtained from aminophenoxybenzene) and pyromellitic dianhydride, 1,3-bis (4-aminophenoxy) -2,2-dimethylpropane and 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (ODPA); A polyimide obtained from 1,4'-oxydiphthalic dianhydride (ODPA) and pyromellitic dianhydride and 1,3-bis (4-aminophenoxybenzene), Polyimide obtained from bis (3-aminophenoxy) benzene and 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3′-diaminobenzo Examples thereof include polyimides obtained from phenone and 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride.
The reaction molar ratio of the diamine component and the tetracarboxylic dianhydride is usually in the range of 0.75 to 1.25 mol of the tetracarboxylic dianhydride component with respect to 1 mol of the diamine component. Preferably it is the range of 0.8-1.2 mol.

本発明では、熱可塑性接着剤としての熱可塑性ポリイミド層に係わる熱可塑性ポリイミドのポリマー末端を封止する目的として、ジカルボン酸無水物を添加しても良い。使用されるジカルボン酸無水物としては、無水フタル酸、2,3−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、3,4−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、2,3−ビフェニルジカルボン酸無水物、3,4−ビフェニルジカルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド無水物、1,2−ナフタレンジカロボン酸無水物、2,3−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,8−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,2−アントラセンジカルボン酸無水物、2,3−アントラセンジカルボン酸無水物、1,9−アントラセンジカルボン酸無水物が挙げられる。
これらのジカルボン酸無水物はアミン又はジカルボン酸無水物と反応性を有しない基で置換されてもよい。ジカルボン酸無水物の添加量は、通常、主原料である前記特定のジアミンとテトラカルボン酸二無水物の合計量100モルに対して、0.001〜0.5モルの範囲である。好ましくは、0.005〜0.25モルの範囲である。
In the present invention, a dicarboxylic anhydride may be added for the purpose of sealing the polymer terminal of the thermoplastic polyimide related to the thermoplastic polyimide layer as the thermoplastic adhesive. Examples of the dicarboxylic anhydride used include phthalic anhydride, 2,3-benzophenone dicarboxylic anhydride, 3,4-benzophenone dicarboxylic anhydride, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl ether anhydride, 2,3- Biphenyl dicarboxylic acid anhydride, 3,4-biphenyl dicarboxylic acid anhydride, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl sulfone anhydride, 3,4-dicarboxyphenyl phenyl sulfone anhydride, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl sulfide anhydrous 1,2-naphthalene dicarboxylic acid anhydride, 2,3-naphthalene dicarboxylic acid anhydride, 1,8-naphthalene dicarboxylic acid anhydride, 1,2-anthracene dicarboxylic acid anhydride, 2,3-anthracene dicarboxylic acid Examples include acid anhydrides and 1,9-anthracene dicarboxylic acid anhydrides.
These dicarboxylic acid anhydrides may be substituted with groups that are not reactive with amines or dicarboxylic acid anhydrides. The addition amount of the dicarboxylic acid anhydride is usually in the range of 0.001 to 0.5 mol with respect to 100 mol of the total amount of the specific diamine and tetracarboxylic dianhydride as the main raw materials. Preferably, it is the range of 0.005-0.25 mol.

同様に、熱可塑性ポリイミドのポリマー末端を封止する目的でモノアミンを添加してもよい。使用されるモノアミンとしては、例えば、アニリン、o−トルイジン、m−トルイジン、p−トルイジン、2,3−キシリジン、2,4−キシリジン、2,5−キシリジン、2,6−キシリジン、3,4−キシリジン、3,5−キシリジン、o−クロロアニリン、m−クロロアニリン、p−クロロアニリン、o−ニトロアニリン、o−ブロモアニリン、m−ブロモアニリン、o−ニトロアニリン、m−ニトロアニリン、p−ニトロアニリン、o−アミノフェノール、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール、o−アニリジン、m−アニリジン、p−アニリジン、o−フェネチジン、m−フェネチジン、p−フェネチジン、o−アミノベンツアルデヒド、m−アミノベンツアルデヒド、p−アミノベンツアルデヒド、o−アミノベンゾニトリル、m−アミノベンゾニトリル、p−アミノベンゾニトリル、2−アミノビフェニル、3−アミノビフェニル、4−アミノビフェニル、2−アミノフェノールフェニルエーテル、3−アミノフェノールフェニルエーテル、4−アミノフェノールフェニルエーテル、2−アミノベンゾフェノン、3−アミノベンゾフェノン、4−アミノベンゾフェノン、2−アミノフェノールフェニルスルフィド、3−アミノフェノールフェニルスルフィド、4−アミノフェノールフェニルスルフィド、2−アミノフェノールフェニルスルホン、3−アミノフェノールフェニルスルホン、4−アミノフェノールフェニルスルホン、α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミン、1−アミノ−2−ナフトール、2−アミノ−1−ナフトール、4−アミノ−1−ナフトール、5−アミノ−1−ナフトール、5−アミノ−1−ナフトール、5−アミノ−2−ナフトール、7−アミノ−2−ナフトール、8−アミノ−2−ナフトール、1−アミノアントラセン、2−アミノアントラセン、9−アミノアントラセン等が挙げられる。   Similarly, a monoamine may be added for the purpose of sealing the polymer terminal of the thermoplastic polyimide. Examples of the monoamine used include aniline, o-toluidine, m-toluidine, p-toluidine, 2,3-xylidine, 2,4-xylidine, 2,5-xylidine, 2,6-xylidine, 3,4 -Xylidine, 3,5-xylidine, o-chloroaniline, m-chloroaniline, p-chloroaniline, o-nitroaniline, o-bromoaniline, m-bromoaniline, o-nitroaniline, m-nitroaniline, p -Nitroaniline, o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, o-anilysine, m-anilysine, p-anilysine, o-phenetidine, m-phenetidine, p-phenetidine, o-aminobenzaldehyde, m -Aminobenzaldehyde, p-aminobenzaldehyde, o-aminobenzonitrile Ril, m-aminobenzonitrile, p-aminobenzonitrile, 2-aminobiphenyl, 3-aminobiphenyl, 4-aminobiphenyl, 2-aminophenol phenyl ether, 3-aminophenol phenyl ether, 4-aminophenol phenyl ether, 2-aminobenzophenone, 3-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 2-aminophenol phenyl sulfide, 3-aminophenol phenyl sulfide, 4-aminophenol phenyl sulfide, 2-aminophenol phenyl sulfone, 3-aminophenol phenyl sulfone, 4-aminophenol phenyl sulfone, α-naphthylamine, β-naphthylamine, 1-amino-2-naphthol, 2-amino-1-naphthol, 4-amino-1-naphth 5-amino-1-naphthol, 5-amino-1-naphthol, 5-amino-2-naphthol, 7-amino-2-naphthol, 8-amino-2-naphthol, 1-aminoanthracene, 2- Examples include aminoanthracene and 9-aminoanthracene.

これらモノアミンは単独で又は2種以上組み合わせて使用しても良い。モノアミンの添加量は、通常、主原料である前記特定のジアミンとテトラカルボン酸二無水物の合計100モルに対して、0.001〜0.5モルの範囲である。好ましくは0.005〜0.25モルの範囲である。
この他、条件を満たす範囲でポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエステルイミド樹脂などを単独で、あるいは適宜組み合わせて使用することができる。
また本発明の利点を損なわない限りにおいて、熱可塑性接着剤に熱硬化性の接着剤例えばエポキシ系やシアナート系の接着剤を混合使用してもよく、その使用量において全接着剤層におけるこの熱硬化性接着剤の割合が高々40%である。
前記の熱可塑性ポリイミド系樹脂は、前記各成分と、さらに場合により他のテトラカルボン酸二無水物および他のジアミンとを、有機溶媒中、約100℃以下、特に20〜60℃の温度で反応させてポリアミド酸の溶液とし、このポリアミド酸の溶液をドープ液として使用して製造することができる。
また、前述のようにして製造したポリアミド酸の溶液を150〜250℃に加熱するか、又はイミド化剤を添加して150℃以下、特に15〜50℃の温度で反応させて、イミド環化した後溶媒を蒸発させる、もしくは貧溶媒中に析出させて粉末とした後、該粉末を有機溶液に溶解して熱圧着性ポリイミド系樹脂の有機溶媒溶液を得ることができる。
These monoamines may be used alone or in combination of two or more. The amount of monoamine added is usually in the range of 0.001 to 0.5 mol with respect to a total of 100 mol of the specific diamine and tetracarboxylic dianhydride as the main raw materials. Preferably it is the range of 0.005-0.25 mol.
In addition, a polyamideimide resin, a polyetherimide resin, a polyesterimide resin, or the like can be used alone or in appropriate combination within a range that satisfies the conditions.
As long as the advantages of the present invention are not impaired, a thermosetting adhesive such as an epoxy-based or cyanate-based adhesive may be used in combination with the thermoplastic adhesive. The proportion of curable adhesive is at most 40%.
The thermoplastic polyimide resin reacts with the above components, and optionally other tetracarboxylic dianhydrides and other diamines in an organic solvent at a temperature of about 100 ° C. or less, particularly 20 to 60 ° C. Thus, a polyamic acid solution can be prepared, and the polyamic acid solution can be used as a dope solution.
Further, the polyamic acid solution produced as described above is heated to 150 to 250 ° C., or an imidizing agent is added and reacted at a temperature of 150 ° C. or less, particularly 15 to 50 ° C., to imide cyclization. Thereafter, the solvent is evaporated or precipitated in a poor solvent to form a powder, and then the powder is dissolved in an organic solution to obtain an organic solvent solution of a thermocompression-bondable polyimide resin.

本発明における熱可塑性ポリイミド系樹脂を得るためには、前記の有機溶媒中、ジアミン(アミノ基のモル数として)の使用量が酸無水物の全モル数(テトラ酸二無水物とジカルボン酸無水物の酸無水物基としての総モルとして)に対する比として、好ましくは0.92〜1.1、特に0.98〜1.1、そのなかでも特に0.99〜1.1であり、ジカルボン酸無水物の使用量がテトラカルボン酸二無水物の酸無水物基モル量に対する比として、好ましくは0.05以下、特に0.02以下であるような割合の各成分を反応させることが好ましい。   In order to obtain the thermoplastic polyimide resin in the present invention, the amount of diamine (as the number of moles of amino group) used in the organic solvent is the total number of moles of acid anhydride (tetraacid dianhydride and dicarboxylic acid anhydride). Ratio of the product to the total moles as acid anhydride groups) is preferably from 0.92 to 1.1, in particular from 0.98 to 1.1, in particular from 0.99 to 1.1. The ratio of the amount of acid anhydride used is preferably 0.05 or less, particularly preferably 0.02 or less, as the ratio of the amount of acid anhydride to the molar amount of acid anhydride group of tetracarboxylic dianhydride. .

前記のジアミンおよびジカルボン酸無水物の使用割合が前記の範囲外であると、得られるポリアミド酸、従って熱可塑性のポリイミドの分子量が小さく、フレキシブル金属箔積層体の接着強度の低下をもたらす。また、ポリアミド酸のゲル化を制限する目的でリン系安定剤、例えば亜リン酸トリフェニル、リン酸トリフェニル等をポリアミド酸重合時に固形分(ポリマー)濃度に対して0.01〜1質量%の範囲で添加することができる。また、イミド化促進の目的で、ドープ液中に塩基性有機化合物系触媒を添加することができる。
例えば、イミダゾール、2−イミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾールなどをポリアミド酸に対して0.05〜10質量%、特に0.1〜2質量%の割合で使用することができる。これらは比較的低温でポリイミドフィルムを形成するため、イミド化が不十分となることを避けるために使用する。また、接着強度の安定化の目的で、熱圧着性のポリイミド原料ドープに有機アルミニウム化合物、無機アルミニウム化合物又は有機錫化合物を添加してもよい。例えば水酸化アルミニウム、アルミニウムトリアセチルアセトナートなどをポリアミド酸に対してアルミニウム金属として1ppm以上、特に1〜1000ppmの割合で添加することができる。
When the proportions of the diamine and dicarboxylic acid anhydride are out of the above ranges, the resulting polyamic acid, and hence the thermoplastic polyimide, has a low molecular weight, resulting in a decrease in the adhesive strength of the flexible metal foil laminate. Further, for the purpose of limiting the gelation of the polyamic acid, a phosphorus stabilizer such as triphenyl phosphite and triphenyl phosphate is 0.01 to 1% by mass with respect to the solid content (polymer) concentration during polyamic acid polymerization. It can be added in the range of. For the purpose of promoting imidization, a basic organic compound catalyst can be added to the dope solution.
For example, imidazole, 2-imidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole and the like can be used at a ratio of 0.05 to 10% by mass, particularly 0.1 to 2% by mass with respect to the polyamic acid. . Since these form a polyimide film at a relatively low temperature, they are used to avoid imidation becoming insufficient. For the purpose of stabilizing the adhesive strength, an organoaluminum compound, an inorganic aluminum compound, or an organotin compound may be added to the thermocompression bonding polyimide raw material dope. For example, aluminum hydroxide, aluminum triacetylacetonate or the like can be added in an amount of 1 ppm or more, particularly 1 to 1000 ppm as aluminum metal with respect to polyamic acid.

前記のポリアミド酸製造に使用する有機溶媒は、高耐熱性のポリイミドおよび熱圧着性のポリイミドのいずれに対しても、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、N−メチルカプロラクタム、クレゾール類などが挙げられる。これらの有機溶媒は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The organic solvent used in the production of the polyamic acid is N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl for both high heat-resistant polyimide and thermocompression bonding polyimide. Examples include acetamide, N, N-diethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylphosphoramide, N-methylcaprolactam, and cresols. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

なお、熱可塑性接着剤を塗布する前にポリイミドフィルム表面をプラズマ処理、コロナ処理、アルカリ処理することは、接着力を高めるために好ましい方法であり、かかるプラズマは不活性ガスプラズマであり、不活性ガスとしては窒素ガス、Ne、Ar、Kr、Xeが用いられる。プラズマを発生させる方法に格別な制限はなく、不活性気体をプラズマ発生装置内に導入し、プラズマを発生させればよい。
プラズマ処理に要する時間は特に限定されず、通常1秒〜30分、好ましくは10秒〜10分である。プラズマ処理時のプラズマの周波数と出力、プラズマ発生のためのガス圧、処理温度に関しても格別な制限はなく、プラズマ処理装置で扱える範囲であれば良い。周波数は通常13.56MHz、出力は通常50W〜1000W、ガス圧は通常0.01Pa〜10Pa、温度は、通常20℃〜250℃、好ましくは20℃〜180℃である。出力が高すぎると、基材フィルム表面に亀裂の入るおそれがある。また、ガス圧が高すぎると基材フィルム表面の平滑性が低下するおそれがある。
Note that plasma treatment, corona treatment, and alkali treatment of the polyimide film surface before applying the thermoplastic adhesive is a preferable method for increasing the adhesive force, and such plasma is an inert gas plasma and is inert. Nitrogen gas, Ne, Ar, Kr, and Xe are used as the gas. There is no particular limitation on the method for generating plasma, and an inert gas may be introduced into the plasma generator to generate plasma.
The time required for the plasma treatment is not particularly limited, and is usually 1 second to 30 minutes, preferably 10 seconds to 10 minutes. There are no particular restrictions on the frequency and output of the plasma during the plasma processing, the gas pressure for generating the plasma, and the processing temperature as long as they can be handled by the plasma processing apparatus. The frequency is usually 13.56 MHz, the output is usually 50 W to 1000 W, the gas pressure is usually 0.01 Pa to 10 Pa, and the temperature is usually 20 ° C. to 250 ° C., preferably 20 ° C. to 180 ° C. If the output is too high, the substrate film surface may crack. Moreover, when gas pressure is too high, there exists a possibility that the smoothness of the base film surface may fall.

次いで、この表面処理したポリイミドフィルム面に熱可塑性接着剤層を形成するが、その方法は限定されるものではなく、ポリイミドフィルム面に熱可塑性接着剤を塗布・乾燥して熱可塑性接着剤層を形成する方法や、他離型性シートやフィルムに予め熱可塑性接着剤層を形成し、これをポリイミドフィルム面に貼合や転写するなどしてポリイミドフィルム面に熱可塑性接着剤層を形成する方法などが例として挙げられる。
金属箔の積層は、プラズマ処理を施すか又は施さないポリイミドフィルム面に形成された熱可塑性接着剤層に金属箔を重ね圧力、熱などを使用して積層したものである。
本発明の金属箔としての金属は、銀、銅、金、白金、ロジウム、ニッケル、アルミニウム、鉄、クロム、亜鉛、錫、黄銅、白銅、青銅、モネル、錫鉛系半田、錫銅系半田、錫銀系半田、等の単独又はそれらの合金が用いられるが、銅を用いるのが性能と経済性のバランスにおいて好ましい実施態様である。金属箔層を回路用(導電性)とする場合には、その金属層の厚さは好ましくは1〜175μmであり、より好ましくは3〜50μmである。金属箔層を貼合わせたポリイミドフィルムを放熱基板として用いる場合には、金属層の厚さは、好ましくは50〜3000μmである。
Next, a thermoplastic adhesive layer is formed on the surface-treated polyimide film surface, but the method is not limited, and a thermoplastic adhesive layer is applied to the polyimide film surface and dried to form a thermoplastic adhesive layer. A method of forming, or a method of forming a thermoplastic adhesive layer on the polyimide film surface by forming a thermoplastic adhesive layer in advance on another release sheet or film, and pasting or transferring this onto the polyimide film surface. For example.
In the lamination of the metal foil, the metal foil is laminated on the thermoplastic adhesive layer formed on the polyimide film surface with or without the plasma treatment, and laminated using pressure, heat, or the like.
The metal as the metal foil of the present invention is silver, copper, gold, platinum, rhodium, nickel, aluminum, iron, chromium, zinc, tin, brass, bronze, bronze, monel, tin lead solder, tin copper solder, Tin-silver solder or the like alone or an alloy thereof is used, but using copper is a preferred embodiment in terms of balance between performance and economy. When the metal foil layer is used for a circuit (conductive), the thickness of the metal layer is preferably 1 to 175 μm, more preferably 3 to 50 μm. When using the polyimide film which bonded the metal foil layer as a heat sink, the thickness of a metal layer becomes like this. Preferably it is 50-3000 micrometers.

この金属箔層の熱可塑性接着剤層を介して積層されるポリイミドフィルム表面の表面粗さについては特に限定されないが、JIS B 0601(表面粗さの定義と表示)における、中心線平均粗さ(以下Raと記載する)および十点平均粗さ(以下Rzと記載する)で表示される値が、Raについては0.1μm以下、Rzについては1.0μm以下であるものが好ましい。
本発明においては、上記方法で得られたポリイミドフィルムと金属箔との複合体である金属積層シートを、さらに200〜350℃で熱処理することが好ましい態様である。この熱処理は、220〜330℃が好ましく、240〜310℃がより好ましい。該熱処理により基材フィルムの有している歪や金属化ポリイミドフィルムの製造過程で生ずる歪が緩和され、本発明の効果をより一層効果的に発現することができ、前記した半導体パッケージなどの耐久性や信頼性を向上することができる。200℃未満では歪を緩和する効果が小さくなり、逆に350℃を超えた場合は、基材のポリイミドフィルムの劣化が起こるので好ましくない。
Although the surface roughness of the polyimide film surface laminated via the thermoplastic adhesive layer of the metal foil layer is not particularly limited, the centerline average roughness in JIS B 0601 (definition and display of surface roughness) ( It is preferable that the values expressed by Ra) and ten-point average roughness (hereinafter Rz) are 0.1 μm or less for Ra and 1.0 μm or less for Rz.
In this invention, it is a preferable aspect that the metal laminated sheet which is a composite_body | complex of the polyimide film and metal foil obtained by the said method is further heat-processed at 200-350 degreeC. This heat treatment is preferably 220 to 330 ° C, more preferably 240 to 310 ° C. The heat treatment reduces the strain of the base film and the strain generated in the manufacturing process of the metalized polyimide film, and can more effectively express the effects of the present invention. And reliability can be improved. If it is less than 200 ° C., the effect of alleviating the strain becomes small. Conversely, if it exceeds 350 ° C., the polyimide film of the base material is deteriorated, which is not preferable.

このようにして得られた本発明の金属積層シートは、通常の方法によって、例えば導電性の金属箔層又は必要に応じてその上に形成される後付けの厚膜金属層側にフォトレジストを塗布し乾燥後、露光、現像、エッチング、フォトレジスト剥離の工程により、配線回路パターンを形成し、さらに必要に応じてソルダーレジスト塗布、可塑および無電解スズメッキを行い、フレキシブルプリント配線板、それらを多層化した多層プリント配線板、また半導体チップを直接この上に実装したプリント配線板が得られる。これら回路の作成、多層化、半導体チップの実装における方法は特に限定されるものではなく、従来公知の方式から適宜選択し実施すればよい。
本発明で使用する金属(箔)層又は必要に応じてその上に形成される後付けの厚膜金属層側の表面には、金属単体や金属酸化物などといった無機物の塗膜を形成してもよい。また金属箔層又は必要に応じてその上に形成される後付けの厚膜金属層の表面を、カップリング剤(アミノシラン、エポキシシランなど)による処理、サンドプラスト処理、ホ−リング処理、コロナ処理、プラズマ処理、エッチング処理などに供してもよい。
The thus obtained metal laminated sheet of the present invention is coated with a photoresist on the side of a conductive metal foil layer or a later thick film metal layer formed on the conductive metal foil layer, if necessary. After drying, a wiring circuit pattern is formed by the steps of exposure, development, etching, and photoresist stripping. Further, if necessary, solder resist coating, plastic and electroless tin plating are performed, and a flexible printed wiring board is formed in multiple layers. A multilayer printed wiring board or a printed wiring board on which a semiconductor chip is directly mounted can be obtained. There are no particular limitations on the method for creating these circuits, making them multi-layered, and mounting a semiconductor chip, and the methods may be appropriately selected from known methods.
On the surface of the metal (foil) layer used in the present invention or, if necessary, the thick film metal layer attached later, an inorganic coating such as a single metal or a metal oxide may be formed. Good. In addition, the surface of the metal foil layer or the post-attached thick film metal layer formed on the metal foil layer, if necessary, is treated with a coupling agent (aminosilane, epoxysilane, etc.), sand plast treatment, rolling treatment, corona treatment, You may use for a plasma process, an etching process, etc.

以下、実施例および比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によって限定されるものではない。なお、以下の実施例における物性の評価方法は以下の通りであり、300℃熱処理後のカール度の測定、イミド化率の測定は前記した方法の通りである。
1.ポリイミドフィルムの厚さ
マイクロメーター(ファインリューフ社製、ミリトロン(登録商標)1245D)を用いて測定した。
2.各種シートの反り度(見かけ上の反り度)
図1(C)に示すように、50mm×50mmの各種シートの試験片を平面上に凹状となるように静置し、四隅の平面からの距離(h1、h2、h3、h4:単位mm)の平均値を反り量(mm)とし、試験片の各頂点から中心までの距離(35.36mm)に対する反り量の百分率(%)で表される値である。
具体的には、次式によって算出される。
反り量(mm)=(h1+h2+h3+h4)/4
反り度(%)=100×(反り量)/35.36
試料片のサンプリングは、各種シートの幅方向、長さ方向共に2点(幅長の1/3と2/3の点からを原則にし、取れない場合はできるだけ中央部からの点から取る)計4点としその平均値をもって表すものとする。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited by a following example. In addition, the evaluation method of the physical property in a following example is as follows, and the measurement of the curl degree after 300 degreeC heat processing and the measurement of imidation rate are as above-mentioned method.
1. The thickness of the polyimide film was measured using a micrometer (Finereuf, Millitron (registered trademark) 1245D).
2. Warpage of various sheets (apparent warpage)
As shown in FIG. 1 (C), test pieces of various sheets of 50 mm × 50 mm are left to be concave on the plane, and distances from the four corner planes (h1, h2, h3, h4: unit mm). Is the value expressed as a percentage (%) of the warpage amount with respect to the distance (35.36 mm) from each vertex to the center of the test piece.
Specifically, it is calculated by the following formula.
Warpage (mm) = (h1 + h2 + h3 + h4) / 4
Degree of warpage (%) = 100 × (warpage amount) /35.36
Sampling of sample pieces is performed at 2 points in the width direction and length direction of each sheet (in principle, the points from 1/3 and 2/3 of the width are taken, and if not possible, the points are taken from the center as much as possible) It shall be expressed as the average value of 4 points.

実施例などで使用する化合物の略称を下記する。
P−PDA:パラフェニレンジアミン
BPDA:3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
DMF:ジメチルホルムアミド
DMAC:ジメチルアセトアミド
AA:無水酢酸
IQ:イソキノリン
また、略称GFはポリイミド前駆体フィルム(グリーンフィルム)を、略称IFはポリイミドフィルムを示す。
Abbreviations of compounds used in Examples and the like are described below.
P-PDA: paraphenylenediamine BPDA: 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride DMF: dimethylformamide DMAC: dimethylacetamide AA: acetic anhydride IQ: isoquinoline In addition, the abbreviation GF is a polyimide precursor film (Green film), the abbreviation IF indicates a polyimide film.

(製造例;実−1〜実−3)
窒素導入管、温度計、攪拌棒を備えた容器を窒素置換した後、P−PDAを入れた。次いで、DMACを加えて完全に溶解させてから、BPDAを加えて、モノマーとしてのP−PDAとBPDAとが1/1のモル比でDMAC中重合し、モノマー仕込濃度が、15質量%となるようにし、25℃にて5時間攪拌すると、褐色の粘調なポリアミド酸溶液が得られた。得られたポリアミド酸溶液100質量部に対してAAを15質量部、IQを3質量部の割合で混合し、これを厚さ188ミクロン、幅800mmのポリエステルフィルム(コスモシャインA4100(東洋紡績株式会社製))の滑剤を含まない面に幅740mmとなるようにコーティングし(スキージ/ベルト間のギャップは、430μm)、
4つの乾燥ゾーンを有する連続式乾燥炉に通して乾燥した。各ゾーンはフィルムを挟んで上下に各3列のスリット状吹き出し口を有し、各吹き出し口間の熱風温度はプラスマイナス1.5℃、風量差はプラスマイナス3%の範囲で制御できるよう設定されている。また幅方向についてはフィルム有効幅の1.2倍に相当する幅までの間、プラスマイナス1℃以内となるように制御がなされている。
(Production example: Real-1 to Real-3)
A container equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirring rod was purged with nitrogen, and then P-PDA was added. Next, after DMAC is added and completely dissolved, BPDA is added, and P-PDA and BPDA as monomers are polymerized in DMAC at a molar ratio of 1/1, and the monomer charge concentration becomes 15% by mass. When stirred at 25 ° C. for 5 hours, a brown viscous polyamic acid solution was obtained. 15 parts by mass of AA and 3 parts by mass of IQ are mixed with 100 parts by mass of the obtained polyamic acid solution, and this is mixed with a polyester film (Cosmo Shine A4100 (Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 188 microns and a width of 800 mm. )) Coated on the non-lubricating surface to a width of 740 mm (squeegee / belt gap is 430 μm)
It dried by passing through the continuous drying furnace which has four drying zones. Each zone has three rows of slit-shaped air outlets above and below the film. The hot air temperature between the air outlets can be controlled within a range of plus or minus 1.5 ° C and the air volume difference can be controlled within a range of plus or minus 3%. Has been. The width direction is controlled to be within ± 1 ° C. until a width corresponding to 1.2 times the effective film width.

乾燥炉の設定は以下の通りである。
(乾燥条件A)
レベリングゾーン 温度25℃、風量なし
第1ゾーン 上側温度 105℃、下側温度 105℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
第2ゾーン 上側温度 100℃、下側温度 100℃
風量 上下とも30〜35立方m/分
第3ゾーン 上側温度 95℃、下側温度 100℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
第4ゾーン 上側温度 90℃、下側温度 100℃
上側風量 15立方m/分、下側風量 20立方m/分
各ゾーンの長さは同じであり、総乾燥時間は18分である。
また風量は各ゾーンの吹き出し口からの風量の総計であり、実−1、実−2、実−3で上記範囲内で変更したものである。
かかる乾燥条件において、第3ゾーンまでは塗膜表面が指触乾燥状態には至らず、ほぼ定率乾燥条件となっていることが確認されている。
塗膜表面は第4ゾーンに入ってまもなく指触乾燥に至り以後は減率乾燥的に乾燥が進行している。この際に下側の温度、風量を上側より多めに設定し、塗膜内の溶媒の拡散を促進している。
なお、各ゾーン中央の吹き出し口の真下に当たる部分でフィルム上10mmの位置に支持された熱電対により、10cm間隔でモニターがなされプラスマイナス1.5℃以内であることが確認されている。
The setting of the drying oven is as follows.
(Drying condition A)
Leveling zone temperature 25 ° C, no air volume 1st zone upper temperature 105 ° C, lower temperature 105 ° C
Air volume 20-25 cubic m / min for both top and bottom Zone 2 Upper temperature 100 ° C, Lower temperature 100 ° C
Air volume 30 to 35 cubic m / min in both upper and lower zones Third zone Upper temperature 95 ° C, Lower temperature 100 ° C
Air volume 20-25 cubic m / min on both top and bottom Zone 4 Upper temperature 90 ° C, Lower temperature 100 ° C
Upper air volume 15 cubic m / min, lower air volume 20 cubic m / min The length of each zone is the same, and the total drying time is 18 minutes.
Further, the air volume is the total of the air volumes from the outlets of each zone, and is changed within the above range for Real-1, Real-2, and Real-3.
Under such drying conditions, it has been confirmed that the surface of the coating film does not reach a dry-to-touch state until the third zone, and is almost constant rate drying conditions.
The surface of the coating film was dry to the touch shortly after entering the fourth zone, and thereafter, the drying progressed in a decelerating manner. At this time, the lower temperature and the air volume are set higher than the upper side to promote the diffusion of the solvent in the coating film.
In addition, it is confirmed that the temperature is within ± 1.5 ° C. by monitoring at intervals of 10 cm by a thermocouple supported at a position of 10 mm on the film at the portion directly below the blowout port at the center of each zone.

乾燥後に自己支持性となったGF(ポリアミド酸フィルム)をポリエステルフィルムから剥離して、各GF、実−1、実−2、実−3を得た、この各GFの|IMA−IMB|の値はそれぞれ0.6、1.0、3.7であった。
得られた各GF(グリーンフィルム)を、ピンテンターにて両端を把持した状態で窒素置換された連続式の熱処理炉に通し、第1段が180℃で5分、昇温速度4℃/秒で昇温して第2段として400℃で5分の条件で2段階の加熱を施して、イミド化反応を進行させた。その後、5分間で室温にまで冷却することで、褐色を呈する各ポリイミドフィルム(IF)、F実−1、F実−2、F実−3を得た。
なお、GFを熱処理する際に、芳香族ポリアミド製モノフィラメントストランドからなるブラシをフィルム両端部に接するように設け、ピンテンターのピンにフィルム両端が均一に突き刺さるようにした。
得られた各IF(ポリイミドフィルム)の厚み、カール度は、F実−1で15μmと2.6%、F実−2で15.1μmと3.9%、F実−3で15μmと7.3%であった。
GF (polyamic acid film) that became self-supporting after drying was peeled from the polyester film to obtain each GF, real-1, real-2, and real-3. | IM A -IM B of each GF The values of | were 0.6, 1.0, and 3.7, respectively.
Each GF (green film) obtained was passed through a continuous heat treatment furnace purged with nitrogen while holding both ends with a pin tenter, the first stage was 180 ° C. for 5 minutes, and the heating rate was 4 ° C./second. The temperature was raised, and the second stage was heated at 400 ° C. for 5 minutes as a second stage to proceed the imidization reaction. Then, each polyimide film (IF), F real-1, F real-2, F real-3 which exhibits brown was obtained by cooling to room temperature in 5 minutes.
In addition, when heat-treating GF, a brush made of an aromatic polyamide monofilament strand was provided so as to be in contact with both ends of the film so that both ends of the film pierced uniformly into the pins of the pin tenter.
The thickness and curl degree of each IF (polyimide film) obtained were 15 μm and 2.6% for F real-1, 15.1 μm and 3.9% for F real-2, and 15 μm and 7 for F real-3. 3%.

(製造例;実−4〜実−6)
窒素導入管、温度計、攪拌棒を備えた容器を窒素置換した後、P−PDAを入れた。次いで、DMACを加えて完全に溶解させてから、BPDAを加えて、モノマーとしてのP−PDAとBPDAとが1/1のモル比でDMAC中重合し、モノマー仕込濃度が、15質量%となるようにし、25℃にて5時間攪拌すると、褐色の粘調なポリアミド酸溶液が得られた。得られたポリアミド酸溶液をステンレスベルト上にコーティングし(スキージ/ベルト間のギャップは、450μm)、製造例;実−1〜実−3と同様の方法で乾燥した。乾燥後に自己支持性となったGFをステンレスベルトから剥離して各GF、実−4、実−5、実−6を得た。
(Production Example; Real-4 to Real-6)
A container equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirring rod was purged with nitrogen, and then P-PDA was added. Next, after DMAC is added and completely dissolved, BPDA is added, and P-PDA and BPDA as monomers are polymerized in DMAC at a molar ratio of 1/1, and the monomer charge concentration becomes 15% by mass. When stirred at 25 ° C. for 5 hours, a brown viscous polyamic acid solution was obtained. The obtained polyamic acid solution was coated on a stainless steel belt (the gap between the squeegee and the belt was 450 μm), and dried in the same manner as in Production Examples: Example-1 to Example-3. GF which became self-supporting after drying was peeled from the stainless steel belt to obtain GF, -4, -5, and -6.

乾燥後に自己支持性となったGF(ポリアミド酸フィルム)をポリエステルフィルムから剥離して、各GF、実−1、実−2、実−3を得た、この各GFの|IMA−IMB|の値はそれぞれ1.1、1.5、4.2であった。
得られたGFを、窒素置換された連続式の熱処理炉に通し、第1段が180℃で3分、昇温速度4℃/秒で昇温して第2段として460℃で2分の条件で2段階の加熱を施して、イミド化反応を進行させた。その後、5分間で室温にまで冷却することで、褐色を呈する厚さ25μmの各IF、F実−4、F実−5、F実−6を得た。
なお、GFを熱処理する際に、芳香族ポリアミド製モノフィラメントストランドからなるブラシをフィルム両端部に接するように設け、ピンテンターのピンにフィルム両端が均一に突き刺さるようにした。
得られた各IFの厚み、カール度は、F実−4で15μmと4.3%、F実−5で15.1μmと5.5%、F実−6で15μmと8.3%であった。
GF (polyamic acid film) that became self-supporting after drying was peeled from the polyester film to obtain each GF, real-1, real-2, and real-3. | IM A -IM B of each GF The values of | were 1.1, 1.5, and 4.2, respectively.
The obtained GF was passed through a continuous heat treatment furnace purged with nitrogen, the first stage was heated at 180 ° C. for 3 minutes, and the heating rate was 4 ° C./second, and the second stage was at 460 ° C. for 2 minutes. Under the conditions, two-stage heating was performed to advance the imidization reaction. Then, by cooling to room temperature in 5 minutes, each IF, F real-4, F real-5, and F real-6 of 25 micrometers in thickness which exhibit brown were obtained.
In addition, when heat-treating GF, a brush made of an aromatic polyamide monofilament strand was provided so as to be in contact with both ends of the film so that both ends of the film pierced uniformly into the pins of the pin tenter.
The thickness and curl degree of each IF obtained were 15 μm and 4.3% for F real-4, 15.1 μm and 5.5% for F real-5, and 15 μm and 8.3% for F real-6. there were.

(製造例;比−1〜比−3)
実施例1で得られたポリアミド酸溶液100質量部に対してAAを15質量部、IQを3質量部の割合で混合し、これをステンレスベルト上にコーティングし(スキージ/ベルト間のギャップは、430μm)、と製造例;実−1〜実−3と同様の乾燥装置にて乾燥を行った、なお乾燥条件(温度は乾燥炉の設定温度)は以下の通りである。
レベリングゾーン 温度25℃、風量なし
第1ゾーン 温度 上下とも110℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
第2ゾーン 温度 上下とも120℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
第3ゾーン 温度 上下とも120℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
第4ゾーン 温度 上下とも120℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
各ゾーンの長さは同じであり、総乾燥時間は9分である。
また風量は各ゾーンの吹き出し口からの風量の総計であり、比−1、比−2、比−3で上記範囲内で変更したものである。
かかる乾燥条件においては、第2ゾーン中央で塗膜表面が指触乾燥状態に至り、以後は減率乾燥的な乾燥が行われている物と推察できる。
(Production example; ratio-1 to ratio-3)
15 parts by mass of AA and 3 parts by mass of IQ are mixed with 100 parts by mass of the polyamic acid solution obtained in Example 1, and this is coated on a stainless steel belt (the gap between the squeegee / belt is 430 μm), and production examples; drying was carried out in the same drying apparatus as in Examples -1 to -3, and the drying conditions (temperature is the set temperature of the drying furnace) are as follows.
Leveling zone 25 ° C, no air flow 1st zone temperature 110 ° C
Air volume 20-25 cubic m / min on both top and bottom Zone 2 Temperature 120 ° C on both top and bottom
Air volume 20-25 cubic m / min for both top and bottom Zone 3 Temperature 120 ° C for both top and bottom
Air volume 20-25 cubic m / min on both top and bottom Zone 4 Temperature 120 ° C on both top and bottom
Airflow 20-25 cubic m / min in both the top and bottom The length of each zone is the same, and the total drying time is 9 minutes.
The air volume is the total of the air volumes from the outlets of each zone, and is changed within the above range by ratio-1, ratio-2, and ratio-3.
Under such drying conditions, it can be inferred that the surface of the coating film is dry to the touch at the center of the second zone, and thereafter, drying at a reduced rate is performed.

乾燥後に自己支持性となったGFをステンレスベルトから剥離して、各GF3種、比−1、比−2、比−3を得た。
この各GFの|IMA−IMB|の値はそれぞれ5.3、7.5、11.2であった。
得られた各GFを、ピンテンターにて両端を把持した状態で窒素置換された連続式の熱処理炉に通し、第1段が180℃で5分、昇温速度4℃/秒で昇温して第2段として400℃で5分の条件で2段階の加熱を施して、イミド化反応を進行させた。その後、5分間で室温にまで冷却することで、褐色を呈する各IF、F比−1、F比−2、F比−3を得た。
得られた各IFの厚み、カール度は、F比−1で15μmと10.5%、F比−2で15.1μmと14.1%、F比−3で15μmと18.5%であった。
The GF that became self-supporting after drying was peeled from the stainless steel belt to obtain each GF3 type, ratio-1, ratio-2, and ratio-3.
The values of | IM A −IM B | of each GF were 5.3, 7.5, and 11.2, respectively.
Each GF obtained was passed through a continuous heat treatment furnace purged with nitrogen while holding both ends with a pin tenter, and the first stage was heated at 180 ° C. for 5 minutes and at a heating rate of 4 ° C./second. As the second stage, two stages of heating were performed at 400 ° C. for 5 minutes to advance the imidization reaction. Then, each IF, F ratio-1, F ratio-2, and F ratio-3 which show brown were obtained by cooling to room temperature in 5 minutes.
The thickness and curl degree of each IF obtained were 15 μm and 10.5% at F ratio-1 of 15.1 μm and 14.1% at F ratio-2, and 15 μm and 18.5% at F ratio-3. there were.

(実施例1〜6、比較例1〜3)
<接着シートの製造>
製造例で得られた各ポリイミドフィルムを使用して、以下に従い接着シート得た。
攪拌機、窒素導入管を備えた反応容器に、N−メチル−2−ピロリドンを加え、さらに、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンと2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とを1000:1000のモル比でモノマー濃度が22質量%になるように、またトリフェニルホスフェートをモノマー質量に対して0.1質量%加えた。添加終了後25℃を保ったまま1時間反応を続け、ポリアミド酸(SA1)溶液を得た。得られたポリアミド酸のηsp/Cは1.6であった。
このSA1を使用してダブルコーターを用い、製造例で得られた各ポリイミドフィルムの片面に、乾燥厚み7μmとなるように塗布し、90℃にて30分間乾燥し、乾燥後のフィルムを連続式の熱処理炉に通し、200℃から380℃まで、ほぼ直線的に20分間にて昇温し10分間で冷却、厚み15μmの褐色の各ポリイミドフィルムの片面に、厚さ4μmの熱可塑性ポリイミドが配された各熱圧着性多層ポリイミドフィルムである各片面接着シート(KTS実−1〜KTS実−6およびKTS比−1〜KTS比−3;上記製造例で得た各フィルムの末尾をもって使用ポリイミドフィルムを表示する、KTS実−1はF実−1のポリイミドフィルムからの片面接着シートを表示する。以下同じ)を得た。
(Examples 1-6, Comparative Examples 1-3)
<Manufacture of adhesive sheet>
Using each polyimide film obtained in the production example, an adhesive sheet was obtained according to the following.
N-methyl-2-pyrrolidone is added to a reaction vessel equipped with a stirrer and a nitrogen introduction tube, and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid are added. Acid dianhydride was added at a molar ratio of 1000: 1000 so that the monomer concentration was 22% by mass, and triphenyl phosphate was added at 0.1% by mass with respect to the monomer mass. After completion of the addition, the reaction was continued for 1 hour while maintaining 25 ° C. to obtain a polyamic acid (SA1) solution. Ηsp / C of the obtained polyamic acid was 1.6.
Using this SA1, a double coater was applied to one side of each polyimide film obtained in the production example so as to have a dry thickness of 7 μm, dried at 90 ° C. for 30 minutes, and the dried film was continuous. Through a heat treatment furnace of 200 ° C. to 380 ° C., approximately 20 minutes in temperature, cooled in 10 minutes, and 4 μm thick thermoplastic polyimide is placed on one side of each 15 μm thick brown polyimide film. Each single-sided adhesive sheet (KTS Real-1 to KTS Real-6 and KTS Ratio-1 to KTS Ratio-3; each used polyimide film with the end of each film obtained in the above production example) KTS real -1 displays a single-sided adhesive sheet from a polyimide film of F real -1.

また、同じようにこのSA1をダブルコーターで、製造例で得られた各ポリイミドフィルムの両面に、乾燥厚み7μmとなるように塗布し、90℃にて30分間乾燥し、乾燥後のフィルムを連続式の熱処理炉に通し、200℃から380℃まで、ほぼ直線的に20分間にて昇温し10分間で冷却、厚み15μmの褐色の各ポリイミドフィルムの両面に、厚さ4μmの熱可塑性ポリイミドが配された各熱圧着性多層ポリイミドフィルムである各両面接着シート(RYS実−1〜RYS実−6およびRYS比−1〜RYS比−3)を得た。得られた各両面接着シートのポリイミドフィルムと接着剤層との総厚みは23μmであった。
得られた各接着シートの反り度の平均値をもって判定した。各シートにおける反り度平均値が10%を超えるものを×、反り度が7%を超え〜10%までのものを△、3〜7%を○、3%未満のものを◎とした。
その結果、KTS実−1、KTS実−2、KTS実−4が全て◎、KTS実−3、KTS実−5が○、KTS実−6が△、KTS比−1、KTS比−2、KTS比−3は全て×であった。
RYS実−1、RYS実−2、RYS実−3、RYS実−4、RYS実−5が全て◎、RYS実−6が○、RYS比−1が△、RYS比−2、RYS比−3は×であった。
Similarly, the SA1 was applied to both sides of each polyimide film obtained in the production example with a double coater so that the dry thickness was 7 μm, dried at 90 ° C. for 30 minutes, and the dried film was continuously applied. Through a heat treatment furnace of the formula, from 200 ° C. to 380 ° C., approximately 20 minutes in temperature, cooled in 10 minutes, 4 μm thick thermoplastic polyimide on both sides of each brown polyimide film of 15 μm thickness Each double-sided adhesive sheet (RYS Real-1 to RYS Real-6 and RYS Ratio-1 to RYS Ratio-3), which is each thermocompression-bondable multilayer polyimide film, was obtained. The total thickness of the polyimide film and the adhesive layer of each obtained double-sided adhesive sheet was 23 μm.
Judgment was made based on the average value of the degree of warpage of each obtained adhesive sheet. The sheet having an average warpage degree exceeding 10% was evaluated as “x”, the sheet having a warpage degree exceeding 7% and up to 10% was evaluated as “Δ”, and the sheet having 3-7% was evaluated as “◯”.
As a result, KTS real-1, KTS real-2, KTS real-4 are all ◎, KTS real-3, KTS real-5 is ◯, KTS real-6 is △, KTS ratio-1, KTS ratio-2, The KTS ratio-3 was all x.
RYS real-1, RYS real-2, RYS real-3, RYS real-4, RYS real-5 are all ◎, RYS real-6 is ◯, RYS ratio-1 is △, RYS ratio-2, RYS ratio- 3 was x.

<金属積層シートの製造>
ロール内部加熱および外部加熱併用方式の熱圧着機を用い、加熱により、ロール表面温度を240℃に加熱した。ロール間に得られた熱圧着性多層ポリイミドフィルムを通し、その両側から、厚み18μmの電解銅箔(福田金属箔粉工業株式会社製、CF−T9)を供給し、銅箔/熱融着性多層ポリイミドフィルム/銅箔からなる各ポリイミドフィルムからの各両面金属積層シート(RYM実−1〜RYM実−6およびRYM比−1〜RYM比−3)を得た。
得られた各金属積層シートの反り度の平均値をもって判定した。各金属積層シートにおける反り度平均値が10%を超えるものを×、反り度が7%を超え〜10%までのものを△、3〜7%を○、3%未満のものを◎とした。
その結果、RYM実−1、RYM実−2、RYS実−3、RYM実−4、RYM実−5が全て◎、RYM実−6が○、RYM比−1が△、RYM比−2、RYM比−3は×であった。
<Manufacture of metal laminate sheet>
The roll surface temperature was heated to 240 ° C. by heating using a thermocompression bonding machine of a roll internal heating and external heating combined method. Through the thermocompression-bonding multilayer polyimide film obtained between the rolls, an electrolytic copper foil with a thickness of 18 μm (CF-T9, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd.) is supplied from both sides, and the copper foil / heat-sealability Each double-sided metal laminate sheet (RYM real-1 to RYM real-6 and RYM ratio-1 to RYM ratio-3) was obtained from each polyimide film made of multilayer polyimide film / copper foil.
Judgment was made by the average value of the degree of warpage of each obtained metal laminated sheet. The average value of warpage in each metal laminated sheet is over 10%, crossover is over 7% and up to 10% is △, 3-7% is ○, less than 3% is ◎. .
As a result, RYM real-1, RYM real-2, RYS real-3, RYM real-4, RYM real-5 are all ◎, RYM real-6 is ◯, RYM ratio-1 is △, RYM ratio-2, The RYM ratio-3 was x.

<プリント配線板の製造>
上記で作製した各両面金属積層シートの片面に液状レジストを用いて膜厚6μmのネガレジストを形成し、エッチングで銅層を除去し、線間/線幅が60μm/40μmの微細線を含むLCDドライバ搭載用を想定した4.8cm×4.8cmのテスト用回路パターンを形成した。裏面には同様にして、4mm角の正方形パターンをパターン間0.5mmで格子状に形成し、各ポリイミドフィルムからの各テスト用回路基板(TPR実−1〜TPR実−6およびTPR比−1〜TPR比−3)を同様にして多数作製した。パターンの面積密度は表裏とも50%である
作製した各テスト用回路基板を3枚用意し、各テスト用回路基板間に実施例1〜6、比較例1〜3での各接着シート(RYS実−1〜RYS実−6およびRYS比−1〜RYS比−3)と、各テスト用回路基板の最上と最下に実施例1〜6、比較例1〜3での各片面接着シート(KTS実−1〜KTS実−6およびKTS比−1〜KTS比−3)を、各同一ポリイミドフィルムからのものとなるように配し、熱圧着にて積層を施し各テスト用多層基板を作製した。
F実−1〜F実−6のポリイミドフィルムからの各テスト用多層基板においては、全てパターン剥がれのないものであったが、F比−1〜F比−3のポリイミドフィルムからの各テスト用多層基板においては、パターンの剥がれが見られた。
また、断面観察のために各テスト用多層基板を微細線パターンの幅方向の断面が出る方向に切断し、樹脂にて包埋し端面研磨した後に顕微鏡で拡大観察し、図2下段の積層後に示したような接着シートの変形が無いかを評価した、F実−1〜F実−6のポリイミドフィルムからの各テスト用多層基板においては、全て接着シートの変形のないものであったが、F比−1〜F比−3のポリイミドフィルムからの各テスト用多層基板においては、接着シートの変形が見られた。
<Manufacture of printed wiring boards>
A liquid crystal resist is used to form a negative resist having a film thickness of 6 μm on one side of each of the double-sided metal laminate sheets produced above, the copper layer is removed by etching, and an LCD including fine lines having a line spacing / line width of 60 μm / 40 μm A test circuit pattern of 4.8 cm × 4.8 cm assumed to be mounted on a driver was formed. Similarly, a square pattern of 4 mm square is formed in a lattice pattern with a pattern spacing of 0.5 mm on the back surface, and each test circuit board (TPR actual-1 to TPR actual-6 and TPR ratio −1) from each polyimide film is formed. ˜TPR ratio-3) were prepared in the same manner. The area density of the pattern is 50% on both the front and back sides. Three prepared test circuit boards are prepared, and the adhesive sheets (RYS actual) in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 are prepared between the test circuit boards. -1 to RYS actual -6 and RYS ratio -1 to RYS ratio -3), and the single-sided adhesive sheets (KTS) in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 at the top and bottom of each test circuit board Real-1 to KTS Real-6 and KTS ratio-1 to KTS ratio-3) were arranged so as to be from the same polyimide film, and were laminated by thermocompression bonding to prepare each test multilayer substrate. .
In each of the test multilayer substrates from F actual -1 to F actual -6 polyimide films, all patterns were not peeled off, but for each test from polyimide films having F ratio -1 to F ratio -3. In the multilayer substrate, peeling of the pattern was observed.
In addition, for cross-sectional observation, each test multilayer substrate was cut in the direction in which the cross-section in the width direction of the fine line pattern emerges, embedded in resin, polished on the end face, and then magnified with a microscope. In each of the test multilayer substrates from the F actual-1 to F actual-6 polyimide films, which were evaluated for the deformation of the adhesive sheet as shown, all of the adhesive sheets were not deformed, Deformation of the adhesive sheet was observed in each of the test multilayer substrates from the polyimide film having F ratio-1 to F ratio-3.

(実施例7〜8、比較例4〜6)
(長尺ポリイミドフィルムの製造)
窒素導入管、温度計、攪拌棒を備えた容器を窒素置換した後、ODAを入れた。次いで、DMACを加えて完全に溶解させてから、PMDAを加えて、モノマーとしてのODAとPMDAとが1/1のモル比でDMAC中重合し、モノマー仕込濃度が、15質量%となるようにし、25℃にて5時間攪拌すると、褐色の粘調なポリアミド酸溶液が得られた。
得られたポリアミド酸溶液100質量部に対してAAを15質量部、IQを3質量部の割合で混合してドープとし、エンドレスステンレスベルト上にコーティングし(スキージ/ベルト間のギャップは、400μm)、製造例;実−1と同様の乾燥炉を用い以下の条件で乾燥した。
(乾燥条件A)
レベリングゾーン 温度25℃、風量なし
第1ゾーン 上側温度 105℃、下側温度 105℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
第2ゾーン 上側温度 105℃、下側温度 110℃
風量 上下とも30〜35立方m/分
第3ゾーン 上側温度 100℃、下側温度 105℃
風量 上下とも20〜25立方m/分
第4ゾーン 上側温度 95℃、下側温度 100℃
上側風量 15立方m/分、下側風量 20立方m/分
各ゾーンの長さは同じであり、総乾燥時間は18分である。
乾燥後に自己支持性となったポリアミド酸フィルムをステンレスベルトから剥離して、厚さ48.0μmの幅700mm、長さ2600mのGF:実−7を得た、この各GFの|IMA−IMB|の値は3.4であった
<両面接着シートの製造>
攪拌機、窒素導入管を備えた反応容器に、N−メチル−2−ピロリドンを加え、さらに、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンと2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とを1000:1000のモル比でモノマー濃度が22質量%になるように、またトリフェニルホスフェートをモノマー重量に対して0.1質量%加えた。添加終了後25℃を保ったまま1時間反応を続け、ポリアミド酸(SA1)溶液を得た。得られたポリアミド酸のηsp/Cは1.6であった。
このSA1を使用してダブルコーターを用い、前記GF:実−7の両面に、乾燥厚み3μmとなるように塗布し、90℃にて30分間乾燥し、さらに製造例4と同様の、窒素置換された連続式の熱処理炉に通し、第1段が180℃で4分、昇温速度3℃/秒で昇温して第2段として480℃で3分の条件で2段階の加熱を施して、イミド化反応を進行させた。その後、5分間で室温にまで冷却し、両側の把持に用いた部分をそれぞれ50mmスリットにて落とし、所定の長さに裁断して6インチプラスチックコアに巻き付け、各片面接着シート(KTS実−7、KTS実−8、KTS比−4およびKTS比−5、KTS比−6)を得た。
KTS実−7 幅250mm、長さ 2050m プラ管巻径168mm
KTS実−8 幅508mm、長さ 2050m プラ管巻径168mm
KTS比−4 幅508mm、長さ 2050m プラ管巻径 60mm
KTS比−5 幅580mm、長さ 2050m プラ管巻径168mm
KTS比−6 幅508mm、長さ 2500m プラ管巻径168mm
得られた接着シートは、厚み15μmの褐色の各ポリイミドフィルムの両面に、厚さ2μmの熱可塑性ポリイミドが配されたものであった。得られた接着シートの反り度を500mごとに評価した結果を表1に示す。なお反り度は500mごとの地点からさらに5m加えた地点までを一つの被測定範囲単位として扱った。
(Examples 7-8, Comparative Examples 4-6)
(Manufacture of long polyimide film)
A container equipped with a nitrogen introduction tube, a thermometer, and a stirring rod was purged with nitrogen, and then ODA was added. Next, after adding DMAC and completely dissolving it, PMDA is added, and ODA and PMDA as monomers are polymerized in DMAC at a molar ratio of 1/1 so that the monomer charge concentration becomes 15% by mass. When stirred at 25 ° C. for 5 hours, a brown viscous polyamic acid solution was obtained.
15 parts by mass of AA and 3 parts by mass of IQ are mixed with 100 parts by mass of the resulting polyamic acid solution to form a dope and coated on an endless stainless steel belt (the gap between the squeegee / belt is 400 μm). Production Example: Drying was carried out under the following conditions using the same drying furnace as in Example-1.
(Drying condition A)
Leveling zone temperature 25 ° C, no air volume 1st zone upper temperature 105 ° C, lower temperature 105 ° C
Air volume 20-25 cubic m / min for both top and bottom Zone 2 Upper temperature 105 ° C, Lower temperature 110 ° C
Air volume 30 to 35 cubic m / min on both top and bottom Zone 3 Upper side temperature 100 ° C, Lower side temperature 105 ° C
Air volume 20-25 cubic m / min for both top and bottom Zone 4 Upper temperature 95 ° C, Lower temperature 100 ° C
Upper air volume 15 cubic m / min, lower air volume 20 cubic m / min The length of each zone is the same, and the total drying time is 18 minutes.
The polyamic acid film that became self-supporting after the drying was peeled off from the stainless steel belt, the width of the thick 48.0Myuemu 700 mm, length 2600 m GF: obtain real -7, of each GF | IM A -IM The value of B | was 3.4. <Manufacture of double-sided adhesive sheet>
N-methyl-2-pyrrolidone is added to a reaction vessel equipped with a stirrer and a nitrogen introduction tube, and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene and 2,3,3 ′, 4′-biphenyltetracarboxylic acid are added. Acid dianhydride was added at a molar ratio of 1000: 1000 so that the monomer concentration was 22% by mass, and triphenyl phosphate was added at 0.1% by mass based on the monomer weight. After completion of the addition, the reaction was continued for 1 hour while maintaining 25 ° C. to obtain a polyamic acid (SA1) solution. Ηsp / C of the obtained polyamic acid was 1.6.
Using this SA1, a double coater was applied to both sides of the GF: Real-7 to a dry thickness of 3 μm, dried at 90 ° C. for 30 minutes, and further replaced with nitrogen as in Production Example 4. The first stage is heated at 180 ° C. for 4 minutes and the heating rate is 3 ° C./second, and the second stage is heated at 480 ° C. for 3 minutes. The imidization reaction was allowed to proceed. Then, it is cooled to room temperature in 5 minutes, the parts used for gripping on both sides are dropped by 50 mm slits, cut into a predetermined length, wound around a 6 inch plastic core, and each single-sided adhesive sheet (KTS actual-7 KTS real-8, KTS ratio-4, KTS ratio-5, KTS ratio-6).
KTS actual-7 width 250mm, length 2050m plastic tube winding diameter 168mm
KTS actual -8 width 508mm, length 2050m plastic tube winding diameter 168mm
KTS ratio-4 width 508mm, length 2050m plastic tube winding diameter 60mm
KTS ratio-5 width 580mm, length 2050m plastic tube winding diameter 168mm
KTS ratio-6 width 508mm, length 2500m plastic tube winding diameter 168mm
The obtained adhesive sheet was obtained by arranging thermoplastic polyimide having a thickness of 2 μm on both surfaces of each brown polyimide film having a thickness of 15 μm. Table 1 shows the results of evaluating the degree of warpage of the obtained adhesive sheet every 500 m. In addition, the degree of warping was handled as a unit to be measured from a point every 500 m to a point added by 5 m.

Figure 0003912618
Figure 0003912618

以上述べてきたように、本発明の特定物性のポリイミドフィルムを基材として使用した接着シート、金属積層シートおよびプリント配線板は、平面性に優れたものであり、例えばプリント配線板などに加工した場合であっても反りや歪みのないものとなり平面維持性に優れるばかりでなく、平面性維持による金属箔層の密着性においても優れたものである。
また多層化した際にも均質な積層加工が行われるため、反り、変形の小さい、特に高密度な微細配線が要求されるディスプレイドライバー、高速の演算装置、グラフィックコントローラ、高容量のメモリー素子などに使用される基板として有用である。特にこれらが高温に曝されることの多いディスプレイドライバー、高速の演算装置、グラフィックコントローラ、高容量のメモリー素子などのプリント基板として有用である。
As described above, the adhesive sheet, the metal laminate sheet and the printed wiring board using the polyimide film having specific physical properties of the present invention as a base material are excellent in flatness, and processed into a printed wiring board, for example. Even in this case, there is no warpage or distortion, and not only the flatness is excellent, but also the adhesion of the metal foil layer due to the flatness is excellent.
In addition, since uniform lamination processing is performed even when multilayered, it is suitable for display drivers, high-speed arithmetic devices, graphic controllers, high-capacity memory elements, etc. that require warping, small deformation, particularly high-density fine wiring. It is useful as a substrate to be used. In particular, they are useful as printed circuit boards such as display drivers, high-speed arithmetic devices, graphic controllers, and high-capacity memory devices that are often exposed to high temperatures.

ポリイミドフィルムのカール度の測定方法(および反り度測定方法)を示した模式図である。(a)は上面図であり、(b)は熱風処理前の(a)におけるa−aで示される断面図であり、(c)は熱風処理後の(a)におけるa−aで示される断面図である。 ただし、(c)は、各種シートの反り度測定時は各種シートを静置した状態を表す。It is the schematic diagram which showed the measuring method (and curvature degree measuring method) of the curl degree of a polyimide film. (A) is a top view, (b) is a sectional view indicated by aa in (a) before hot air treatment, and (c) is indicated by aa in (a) after hot air treatment. It is sectional drawing. However, (c) shows the state which left various sheets stationary at the time of the curvature measurement of various sheets. 積層前のテスト用回路基板の構成の模式図である。It is a schematic diagram of the structure of the circuit board for a test before lamination | stacking. 積層後のテスト用回路基板の構成の模式図である。It is a schematic diagram of the structure of the circuit board for a test after lamination | stacking.

符号の説明Explanation of symbols

1:ポリイミドフィルムの試験片、2:アルミナ・セラミック板、3:テスト用回路基板、4:接着シート、5:銅箔、6:回路側高分子フィルム、7:絶縁層幅、8:接着シート高分子フィルム、9:接着剤、10:フィルムの変形、11:ボイド       1: Test piece of polyimide film, 2: Alumina ceramic plate, 3: Circuit board for test, 4: Adhesive sheet, 5: Copper foil, 6: Circuit side polymer film, 7: Insulation layer width, 8: Adhesive sheet Polymer film, 9: adhesive, 10: deformation of film, 11: void

Claims (14)

芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドフィルムであって、ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてビフェニルテトラカルボン酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてフェニレンジアミン残基を有し、乾燥工程で支持体上の塗膜の上側の雰囲気温度よりも前記反対側の雰囲気温度が1〜55℃高い条件下で塗膜を乾燥することによって得られるフィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下であるポリイミドフィルムを基材フィルムとし、当該基材フィルムの少なくとも片面に熱可塑性接着剤層が形成されてなることを特徴とする接着シート。 A polyimide film obtained by reacting an aromatic diamine with an aromatic tetracarboxylic acid, wherein the polyimide is at least a residue of an aromatic tetracarboxylic acid, a biphenyltetracarboxylic acid residue, a residue of an aromatic diamine A film obtained by drying a coating film under a condition that has a phenylenediamine residue as the above and the atmospheric temperature on the opposite side is 1 to 55 ° C. higher than the atmospheric temperature on the upper side of the coating film on the support in the drying step An adhesive sheet comprising: a polyimide film having a curl degree of 10% or less after heat treatment at 300 ° C. as a base film, and a thermoplastic adhesive layer formed on at least one side of the base film. フィルムの300℃熱処理後のカール度が8%以下であることを特徴とする請求項1に記載の接着シート。   The adhesive sheet according to claim 1, wherein the curl degree of the film after heat treatment at 300 ° C is 8% or less. 請求項1〜2のいずれかに記載の接着シートの熱可塑性接着剤層側に金属箔が積層されてなることを特徴とする金属積層シート。   A metal laminate sheet, wherein a metal foil is laminated on the thermoplastic adhesive layer side of the adhesive sheet according to claim 1. 請求項3に記載の金属積層シートの金属箔を一部除去してなることを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board obtained by partially removing the metal foil of the metal laminate sheet according to claim 3. 請求項4に記載のプリント配線板を複数枚積層してなることを特徴とする多層プリント配線板。   A multilayer printed wiring board comprising a plurality of the printed wiring boards according to claim 4 laminated. 請求項4又は5いずれかに記載のプリント配線板に半導体チップが実装されてなることを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board comprising a semiconductor chip mounted on the printed wiring board according to claim 4. 芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られるポリイミドフィルムであって、ポリイミドが少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてビフェニルテトラカルボン酸残基、芳香族ジアミン類の残基としてフェニレンジアミン残基を有し、乾燥工程で支持体上の塗膜の上側の雰囲気温度よりも前記反対側の雰囲気温度が1〜55℃高い条件下で塗膜を乾燥することによって得られるフィルムの300℃熱処理後のカール度が10%以下であるポリイミドフィルムを基材フィルムとし、当該基材フィルムの少なくとも片面に熱可塑性接着剤層が形成されてなることを特徴とする接着シートロール。 A polyimide film obtained by reacting an aromatic diamine with an aromatic tetracarboxylic acid, wherein the polyimide is at least a residue of an aromatic tetracarboxylic acid, a biphenyltetracarboxylic acid residue, a residue of an aromatic diamine A film obtained by drying a coating film under a condition that has a phenylenediamine residue as the above and the atmospheric temperature on the opposite side is 1 to 55 ° C. higher than the atmospheric temperature on the upper side of the coating film on the support in the drying step An adhesive sheet roll comprising: a polyimide film having a curl degree after heat treatment at 300 ° C. of 10% or less as a base film, and a thermoplastic adhesive layer formed on at least one side of the base film. 300℃熱処理後のカール度が8%以下であるポリイミドフィルムを基材フィルムとすることを特徴とする請求項7の接着シートロール。   The adhesive sheet roll according to claim 7, wherein a polyimide film having a curl degree after heat treatment at 300 ° C of 8% or less is used as a base film. 幅238〜516mm、長さ30〜2100mであることを特徴とする請求項7又は8記載の接着シートロール。   The adhesive sheet roll according to claim 7 or 8, wherein the adhesive sheet roll has a width of 238 to 516 mm and a length of 30 to 2100 m. 請求項7〜9のいずれかに記載の接着シートの熱可塑性接着剤層側に金属箔が積層されてなることを特徴とする金属積層シートロール。   A metal laminated sheet roll comprising a metal foil laminated on the thermoplastic adhesive layer side of the adhesive sheet according to claim 7. 請求項10に記載の金属積層シートの金属箔を一部除去してなることを特徴とするプリント配線板用ロール。   A roll for a printed wiring board, wherein a part of the metal foil of the metal laminate sheet according to claim 10 is removed. 請求項11に記載のプリント配線板を複数枚積層してなることを特徴とする多層プリント配線板用ロール。   A roll for a multilayer printed wiring board, wherein a plurality of the printed wiring boards according to claim 11 are laminated. 請求項11又は12に記載のプリント配線板に半導体チップが実装されてなることを特徴とするプリント配線板用ロール。   A roll for a printed wiring board, comprising a semiconductor chip mounted on the printed wiring board according to claim 11. 少なくとも芳香族テトラカルボン酸類の残基としてのビフェニルテトラカルボン酸残基と芳香族ジアミン類の残基としてのフェニレンジアミン残基と溶媒とからなる溶液を支持体上に塗膜形成し、次いで支持体上の塗膜の上側の雰囲気温度よりも前記反対側の雰囲気温度が1〜55℃高い条件下で塗膜を乾燥し、次いで熱処理を経てポリイミドフィルムとなし、当該ポリイミドフィルムを基材フィルムとし、当該基材フィルムの少なくとも片面に熱可塑性接着剤層を形成することを特徴とする接着シートの製造方法。  A solution comprising at least a biphenyltetracarboxylic acid residue as an aromatic tetracarboxylic acid residue, a phenylenediamine residue as an aromatic diamine residue and a solvent is formed on a support, and then the support The coating film is dried under a condition that the atmospheric temperature on the opposite side is higher by 1 to 55 ° C. than the atmospheric temperature on the upper side of the upper coating film, followed by heat treatment to form a polyimide film, and the polyimide film as a base film, A method for producing an adhesive sheet, comprising forming a thermoplastic adhesive layer on at least one surface of the substrate film.
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