Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP3870066B2 - 基板位置決め装置および露光装置 - Google Patents

基板位置決め装置および露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3870066B2
JP3870066B2 JP2001337746A JP2001337746A JP3870066B2 JP 3870066 B2 JP3870066 B2 JP 3870066B2 JP 2001337746 A JP2001337746 A JP 2001337746A JP 2001337746 A JP2001337746 A JP 2001337746A JP 3870066 B2 JP3870066 B2 JP 3870066B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
photomask
direction moving
moving mechanism
holding means
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001337746A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003077825A (ja
Inventor
栄一 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanei Giken Co Ltd
Original Assignee
Sanei Giken Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanei Giken Co Ltd filed Critical Sanei Giken Co Ltd
Priority to JP2001337746A priority Critical patent/JP3870066B2/ja
Priority to TW090128818A priority patent/TW544552B/zh
Priority to KR10-2001-0079446A priority patent/KR100469987B1/ko
Priority to EP01129867A priority patent/EP1223471A1/en
Priority to US10/020,296 priority patent/US20020079276A1/en
Publication of JP2003077825A publication Critical patent/JP2003077825A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3870066B2 publication Critical patent/JP3870066B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/707Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0008Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for aligning or positioning of tools relative to the circuit board

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、基板位置決め装置および露光装置に関し、より特定的には、基板の位置決め、または、フォトマスクと基板との相対的な位置決めを、簡素にかつ廉価であるとともに、精度と信頼性を満足させる構造を有する、基板位置決め装置および露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、基板位置決め装置は、基板を支持する基板支持体をX、Y、θ方向に移動させるための移動装置が設けられている。この移動装置の配置としては、X、Y、θそれぞれの移動装置を積重ねる方法と、基板支持体の四角形の1辺に間隔をおいてY方向の移動装置2個を設け、隣接する1辺にX方向の移動装置を1個設けて、X方向の移動装置、および2個のY方向の移動装置を差動させて、基板を、X、Y、およびθ方向に移動させていた。
【0003】
ここで、図13を参照して、基板位置決め装置に用いられる、モータ、および、ボールねじを用いた従来の位置合わせ方式を採用した移動装置の構造について説明する。この移動装置では、基板をX,Y,θ方向に移動させて、基板の位置決めを行なう方式を採用している。
【0004】
基板2は、支持体30に保持されている。この支持体30の2辺(A,B)には回転体8が設けられている。さらに、この回転体8に接して支持体30を移動させるボールねじ6、および、モータ7などによって構成されるX方向移動装置200、第1のY方向用移動装置210、および、第2Yの方向用移動装置220が設けられている。
【0005】
また、支持体30の2辺(A,B)に対向する側の2辺(C,D)には、ばね9が、支持体30をX方向移動装置200、第1のY方向用移動装置210、および、第2のY方向用移動装置220の方向に押付けるように、辺Cに1ヶ所、辺Dに2ヶ所設けられている。
【0006】
また、露光装置においても、フォトマスクを通して光を基板に照射することによって、フォトマスクに描かれたパターンを基板に転写する前に、フォトマスクと基板とを精度よく位置合わせすることは極めて重要である。この位置合わせにおいては、従来フォトマスクと基板とが接近または接触して重ねられた状態で、フォトマスクと基板とを相対的にX,Y,θ方向に移動する方法が採用されている。なお、θ方向とは、X,Y方向と同一面内における回転方向を示すものとする。
【0007】
このX,Y,θ方向に移動するための移動方法は,上記基板位置決め装置と同様に、X,Y,θそれぞれの移動装置を積重ねる方法、または、四角形の保持手段(フォトマスクまたは基板を保持する手段)の1辺に間隔をおいてY方向移動装置を2個設け、隣接する他の1辺にX方向移動装置を1個設ける方法により実現される。後者の方法の場合、X方向移動装置によりX方向、Y方向移動装置によりY方向の位置が調節され、さらに2個のY方向移動装置を差動させてθ方向の位置が調節される。
【0008】
ここで、図14を参照して、露光装置に用いられる、モータ、および、ボールねじを用いた従来の位置合わせ方式を採用した移動装置の構造について説明する。この移動装置では、固定された基板に対して、フォトマスクをX,Y,θ方向に移動させて位置合わせをする方式を採用している。
【0009】
フォトマスク1は、支持体30に保持されている。この支持体30の2辺(A,B)には回転体8が設けられている。さらに、この回転体8に接して支持体30を移動させるボールねじ6、および、モータ7などによって構成されるX方向移動装置200、第1のY方向用移動装置210、および、第2Yの方向用移動装置220が設けられている。
【0010】
また、支持体30の2辺(A,B)に対向する側の2辺(C,D)には、ばね9が、支持体30をX方向移動装置200、第1のY方向用移動装置210、および、第2のY方向用移動装置220の方向に押付けるように、辺Cに1ヶ所、辺Dに2ヶ所設けられている。
【0011】
フォトマスク1と基板2とにはそれぞれ対応する位置に、フォトマスクの位置合わせマーク4と、基板の位置合わせマーク5が設けられている。フォトマスク1と基板2とが重ねられた状態で、CCDカメラ(図示省略)によってこのフォトマスク1と基板2との位置合わせマーク4,5が読取られ、その位置ずれ量のデータに基づいて、X方向移動装置200、第1のY方向用移動装置210、および、第2のY方向用移動装置220が駆動されて、フォトマスク1がX,Y,θ方向に移動され,フォトマスク1と基板2とが位置合わせされる。
【0012】
ここで、上記基板位置決め装置および上記露光装置に用いられる、X方向移動装置200、第1のY方向用移動装置210、および、第2のY方向用移動装置220の構造について、図15を参照して詳細に説明する。各移動装置は、モータ7、モータ軸7a、ボールねじ6、モータ軸7aとボールねじ6とを繋ぐカップリング310、ボールねじ6の推力を受けるスラスト軸受300、ボールねじ6に螺合する雌ねじ290、先端金具230、先端金具230を直進案内するリニアベアリング220、これらの部材を支持するフレーム320から構成されている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
このように、上記基板位置決め装置、および上記露光装置において、Y方向移動装置を2個設け、隣接する他の1辺にX方向移動装置を1個設ける移動装置の場合、比較的構造が簡単で小型にできる利点を有している。しかし、高価なボールねじ6や、ボールねじ6の推力を受けるスラスト軸受300、さらに直線運動をさせるためのリニアベアリング220等を使用する必要があり、また、部品点数も多くなり、また、各部品の軸芯を合わせて組立てることも容易ではないため、基板位置決め装置全体、および露光装置全体として高価になるという問題があった。
【0014】
したがって、この発明の第1の目的は、上記問題点を解決するためになされたものであり、基板の位置決めにおいて、簡素にかつ廉価であるとともに、精度と信頼性を満足させる構造を有する基板位置決め装置を提供することにある。
【0015】
また、この発明の第2の目的は、フォトマスクと基板との間の相対的な位置決めに関し、簡素にかつ廉価であるとともに、精度と信頼性を満足させる構造を有する基板位置決め装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
この発明に基いた、基板位置決め装置においては、ベースプレートと、このベースプレートに設けられ、基板をその基板の平面を含むX、Y、θ方向に移動可能なように保持する保持手段と、上記基板の複数の辺、または位置決めマークの位置を、位置検出センサによって検出し、予め定めた基板の位置に対するずれ量を演算して、その演算結果に基づいて上記保持手段をX、Y、θ方向に移動してずれ量をなくすように、上記基板の位置決めを行なう基板位置決め装置であって、上記保持手段をX方向に移動させるためのX方向移動機構と、上記保持手段をY方向に移動させるための第1のY方向移動機構と、上記第1のY方向移動機構とはX方向にずれて位置し、上記保持手段をY方向に移動させる第2のY方向移動機構とを有し、上記X方向移動機構、上記第1のY方向移動機構、および、上記第2のY方向移動機構が上記保持手段に接する回転カム機構である。
【0017】
この構成によれば、回転カム機構を用いて、X方向移動機構、第1のY方向移動機構、および、第2のY方向移動機構を実現させることにより、移動機構の簡素が可能になり、また、各移動装置に必要とされるコストの低減を図ることが可能になる。また、回転カムの角度を正確に制御することで、保持装置の移動量を正確に管理できるため、移動距離精度と信頼性の向上を得ることが可能となる。
【0018】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記回転カム機構は、回転軸に偏心して取付けられた円盤、または、円筒状の円形偏心カムからなる偏心回転部材と、上記偏心回転部材の外周に嵌め込められる転がり軸受とを含み、上記転がり軸受の外周が上記保持手段に接することを特徴とする。
【0019】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記回転軸は、上記偏心回転部材の回転角度を読取るための読取手段をさらに含む。
【0020】
また、上記発明のより好ましい形態として、位置検出センサによって読取られた上記基板の位置ずれ量に基き、上記基板の位置ずれをなくすために各々の上記円形偏心カムの必要な回転角度をプロセッサによって演算し、そのデータによって各々の上記円形偏心カムを回転させる。
【0021】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記基板の辺よりも外側に位置する固定マークを上記ベースプレートに設け、上記基板の複数の辺または位置決めマークと上記固定マークとの間の距離を上記位置検出センサによって読取り、この読取りデータに基き、上記基板の複数の辺または位置決めマークと上記固定マークとの間の距離を、予め定めた値となるように上記基板の位置決めを行なう。
【0022】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記各偏心回転部材は、回転角度が制御可能なモータの出力軸に、直接上記円盤または上記円筒状の円形偏心カムを取付けたことを特徴とする。
【0023】
この発明に基いた、露光装置においては、フォトマスクと基板とが近接または接触して重ねられ、上記フォトマスクを通して光を上記基板に照射することによって、上記フォトマスクに描かれたパターンを上記基板に転写する露光装置であって、以下の構成を備える。
【0024】
上記フォトマスクと上記基板とを位置合わせするために、上記フォトマスクと上記基板とには、それぞれ対応する位置に複数個の位置合わせマークが設けられ、上記フォトマスクと上記基板とが重ねられた状態で、CCDカメラによって、上記フォトマスクと上記基板との位置合わせマークが読取られ、上記CCDカメラによって読取られたデータに基づいて、上記フォトマスクと上記基板とが相対的にX,Y,θ方向に移動させられて、上記フォトマスクと上記基板との位置合わせ行なうための位置合わせ装置を有する。
【0025】
また、この位置合わせ装置は、上記フォトマスクまたは上記基板のいずれか移動する一方を保持し、かつ、上記フォトマスクまたは上記基板の面方向に移動可能とされた保持装置と、上記保持装置をX方向に移動させるX方向移動機構と、上記保持装置をY方向に移動させる第1のY方向移動機構と、上記第1のY方向移動機構とはX方向にずれて位置し、上記保持装置をY方向に移動させる第2のY方向移動機構とを有する。さらに、上記X方向移動機構、上記第1のY方向移動機構、および、上記第2のY方向移動機構が、上記保持装置に接する回転カム機構である。
【0026】
この構成によれば、回転カム機構を用いて、X方向移動機構、第1のY方向移動機構、および、第2のY方向移動機構を実現させることにより、移動機構の簡素が可能になり、また、各移動装置に必要とされるコストの低減を図ることが可能になる。また、回転カムの角度を正確に制御することで、保持装置の移動量を正確に管理できるため、移動距離精度と信頼性の向上を得ることが可能となる。
【0027】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記回転カム機構は、回転軸に偏心して取付けられた円盤、または、円筒状の円形偏心カムからなる偏心回転部材と、上記偏心回転部材の外周に嵌め込まれる転がり軸受とを含み、上記転がり軸受の外周が上記保持装置に接する構成が採用される。
【0028】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記回転軸は、上記偏心回転部材の回転角度を読取るための読取装置をさらに含む。
【0029】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記CCDカメラによって読取られた上記フォトマスクと上記基板との位置ずれ量を認識するための画像処理装置と、上記画像処理装置による情報に基き、上記フォトマスクと上記基板との位置ずれ量を演算する演算手段と、上記演算手段から出力される情報に基き、上記フォトマスクと上記基板との位置ずれをなくすために、上記X方向移動機構、上記第1のY方向移動機構、および、上記第2のY方向移動機構に対して、上記各偏心回転部材の必要な回転角度を与えるための出力装置とを備える。
【0030】
また、上記発明のより好ましい形態として、上記各偏心回転部材は、回転角度が制御可能なモータの出力軸に、直接上記円盤または上記円筒状の円形偏心カムを取付けた構成が採用される。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、この発明を適用した基板位置決め装置、および露光装置の各実施の形態について図を参照しながら説明する。
【0032】
(実施の形態1)
以下、本実施の形態における基板位置決め装置の構成について、図1を参照して説明する。なお、図1は、本実施の形態における基板位置決め装置の回転円形偏心カムを用いた位置決め原理を示す図である。なお、図13を用いて説明した従来の基板位置決め装置と同一または相当部分については、同一の参照番号を付して詳細な説明は省略する。
【0033】
(基板位置決め装置の概略構成)
図1を参照して、本実施の形態における基板位置決め装置は、回転円形偏心カム機構100,110,120に特徴を有している。
【0034】
具体的には、基板2が保持される支持体30の一辺(A)に当接するようにX方向移動機構として回転円形偏心カム機構100が設けられ、支持体30の他の辺(B)に当接するように、X方向にずれた位置に第1のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構110、および、第2のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構120が設けられている。この構成を採用することにより、基板をX,Y,θ方向に移動させることが可能となる。なお、θ方向とは、X,Y方向と同一面内における回転方向を示すものとする。
【0035】
回転円形偏心カム機構としては、支持体30の辺に設けられる支持体金具28に接する転がり軸受11b、転がり軸受11bをその外周面に嵌め込む円形偏心カム11a、およびこの円形偏心カム11aに回転駆動力を伝達する回転軸10を備えている。
【0036】
(回転角度θと移動量Sとの関係)
次に、図2(a),(b)を参照して、「円形偏心カム11aの回転角度θ」と「支持体30の移動量S」との関係について説明する。図2(a)に示すように、回転軸10の中心と円形偏心カム11aの中心を結ぶ直線(L1)と、円形偏心カム11aが接する支持体30の1辺とが平行となる位置を回転角度θの原点(0点)とする。また、直線(L1)と支持体30の1辺とが平行して移動するとして、円形偏心カム11aの±方向に回転させたときの「円形偏心カム11aの回転角度θ」と「支持体30の移動量S」との関係を図2(b)のグラフに示す。このグラフの曲線は、S=sinθの式で表わされる。
【0037】
(基板位置決め装置のより具体的な構造)
次に、図3から図6を参照して、本実施の形態における回転円形偏心カム機構を用いた基板位置決め装置のより具体的な構造について説明する。なお、図3は本実施の形態における基板位置決め装置の構成を示す平面図(図4中III−III線矢視図)であり、図4は図3中IV−IV線矢視断面図である。また、図5は、上部ベースプレート24Aと、固定マーク6,7,8と、基板ベースプレート30Cとの位置関係を示す斜視図であり、図6は固定マーク6,7,8を除く、上部ベースプレート24Aと、下部ベースプレート24Bと、第1支持体30Aと、第2支持体30Bと、基板ベースプレート30Cとの位置関係を示す斜視図である。
【0038】
基板2は基板ベースプレート30Cに真空吸着によって支持されている。基板ベースプレート30Cは第1支持体30Aを介在して第2支持体30Bに載置・固定されている。第2支持体30Bの一辺(A)には、支持体金具28が設けられ、この支持体金具28に接するようにX方向移動機構として回転円形偏心カム機構100が設けられている。第2支持体30Bの他の辺(B)には、X方向にずれた位置に支持体金具28が2ヶ所設けられ、各支持体金具28に接するように第1のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構110、および、第2のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構120が設けられている。また、第2支持体30Bの2辺(A,B)に対向する側の2辺(C,D)には、ばね9が、第2支持体30BをX方向移動装置100、第1のY方向用移動装置110、および、第2のY方向用移動装置120の方向に押付けるように、辺Cに1ヶ所、辺Dに2ヶ所設けられている。
【0039】
回転円形偏心カム機構としては、転がり軸受11b、転がり軸受11bをその外周面に嵌め込む円形偏心カム11a、この円形偏心カム11aに回転駆動力を伝達する回転軸10、および、回転軸10を回転駆動させるためのモータ32を備えている。なお、円形偏心カム11aとしては、円盤形状、円筒状形状のものを用いることが好ましい。また、回転軸10には、円形偏心カム11aに回転角度を読取るためのエンコーダ等の読取装置を設けることが好ましく、さらに好ましくは、モータ32において、出力軸の回転角度が制御可能なモータを用いることが好ましい。また、円形偏心カム11aが接する第2支持体30Bの1辺とが平行となる位置である回転角度θの原点(0点)の検出装置と、パルスモータとを用いて、回転軸10の回転角度を認識する制御を行なうことも可能である。また、基板ベースプレート30Cの基板2側には、CCDカメラ12が設けられている。
【0040】
図7を参照して、第2支持体30Bの支持部の詳細構造は、第2支持体30BをXY方向に移動可能に支持しつつ、Z方向への移動を拘束するための構造であり、支持体金具28の平板部28aを、ハウジング25によって自由に回転可能なように保持されたボール27を有する一対の軸受26によって挟んで支持している。軸受26の一方は上部ベースプレート24Aに直接設けられ、軸受26の他方は上部ベースプレート24Aに固定されたブラケット21に設けられる。なお、上部ベースプレート24Aは、支柱24Cにより、下部ベースプレート24Bに支持されている(図4参照)。
【0041】
図8を参照して、基板ベースプレート30Cに保持される基板2の、上部ベースプレート24Aに対する位置決めは、上部ベースプレート24Aに設けられた固定マーク6,7,8と、基板2の対応する辺または位置決めマークとの距離が、位置検出センサであるCCDカメラ12により読取られ、この読取られた基板2の位置ずれ情報に基き、プロセッサにより基板2のずれ量が演算される。その後、この演算結果に基いて、基板2の位置ずれをなくすように、X方向移動機構100、第1のY方向移動機構110、および、第2のY方向移動機構120に対して、各円形偏心カム11aに必要な回転角度が、プロセッサから与えられる。なお、基板ベースプレート30Cには、上部ベースプレート24Aに設けられた固定マーク6,7,8をCCDカメラ12で読取ることができるように、切欠部30kが設けられている。
【0042】
(作用・効果)
以上、本実施の形態における基板位置決め装置によれば、回転カム機構を用いて、X方向移動機構100、第1のY方向移動機構110、および、第2のY方向移動機構120の実現が可能となり、移動機構の簡素を図ることが可能になる。また、回転カムの角度を正確に制御することで、保持装置の移動量を正確に管理できるため、移動距離精度と信頼性の向上を得ることが可能となる。なお、基板ベースプレート30Cをベルトコンベア、ローラコンベアに置き換える構成の採用も可能である。
【0043】
(実施の形態2)
以下、この発明に基いた実施の形態における露光装置の構成について、図9を参照して説明する。なお、図9は、本実施の形態における露光装置の回転円形偏心カムを用いた位置合わせ方式の原理を示す図である。なお、図14を用いて説明した従来の露光装置と同一または相当部分については、同一の参照番号を付して詳細な説明は省略する。
【0044】
(露光装置の概略構成)
図9を参照して、本実施の形態における露光装置の移動装置は、図14に示す従来の移動装置の部分を改良し、回転円形偏心カム機構100,110,120を設けた点に特徴を有している。
【0045】
具体的には、フォトマスク1が保持される支持体30の一辺(A)に当接するようにX方向移動機構として回転円形偏心カム機構100が設けられ、支持体30の他の辺(B)に当接するように、X方向にずれた位置に第1のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構110、および、第2のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構120が設けられている。なお、フォトマスク1に対して近接して配置される基板2については、図9中2点鎖線で示している。
【0046】
この構成を採用することにより、フォトマスクを基板に対してX,Y,θ方向に移動させることが可能となる。なお、θ方向とは、X,Y方向と同一面内における回転方向を示すものとする。
【0047】
回転円形偏心カム機構としては、支持体30の辺に設けられる支持体金具28に接する転がり軸受11b、転がり軸受11bをその外周面に嵌め込む円形偏心カム11a、およびこの円形偏心カム11aに回転駆動力を伝達する回転軸10を備えている。
【0048】
回転角度θと移動量Sとの関係については、上記図2を用いた説明と同一であるため、ここでの説明は省略する。
【0049】
(プロセッサ)
また、図10にフォトマスク1に設けられる位置合わせマーク4と、基板2に設けられる位置合わせマーク5とをCCDカメラ12で読取り、そのデータ処理を行なうプロセッサのブロック図を示す。すなわち、フォトマスク1と基板2とが重ねられた状態で、フォトマスク1の位置合わせマーク4と基板2の位置合わせマーク5とが光源13で照明され、CCDカメラ12によって読取られる。
【0050】
読取られた位置合わせマーク4,5の画像は、画像処理装置14で処理され、そのデータは演算装置15に送られ、位置合わせマーク4と位置合わせマーク5との位置ずれ量が算出されるとともに、この位置ずれ量を打消すための各回転円形偏心カム機構100,110,120の移動量が算出され、各回転円形偏心カム機構100,110,120を駆動するための出力装置16に送られる。なお、この演算装置の機構は、上記実施の形態1における基板位置合わせ装置にも適用することが可能である。
【0051】
(露光装置のより具体的な構造)
次に、図11および図12を参照して、本実施の形態における回転円形偏心カム機構を用いた露光装置のより具体的な構造について説明する。なお、図11は本実施の形態における露光装置の構成を示す平面図(図12中IX−IX線矢視図)であり、図12は図11中X−X線矢視断面図である。
【0052】
図9に示す露光装置と同様に、フォトマスク1は支持体30に保持されている。基板2は基板ホルダー31により真空吸着によって支持され、さらにこの基板ホルダー31は、基板ベースプレート32に支持されている。また、基板ベースプレート32は、ベースプレート24に対して、ガイドピン29により支持されている。
【0053】
支持体30の一辺(A)には、支持体金具28が設けられ、この支持体金具28に接するようにX方向移動機構として回転円形偏心カム機構100が設けられている。支持体30の他の辺(B)には、X方向にずれた位置に支持体金具28が2ヶ所設けられ、各支持体金具28に接するように第1のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構110、および、第2のY方向移動機構として回転円形偏心カム機構120が設けられている。また、支持体30の2辺(A,B)に対向する側の2辺(C,D)には、ばね9が、支持体30をX方向移動装置100、第1のY方向用移動装置110、および、第2のY方向用移動装置120の方向に押付けるように、辺Cに1ヶ所、辺Dに2ヶ所設けられている。
【0054】
回転円形偏心カム機構としては、転がり軸受11b、転がり軸受11bをその外周面に嵌め込む円形偏心カム11a、この円形偏心カム11aに回転駆動力を伝達する回転軸10、および、回転軸10を回転駆動させるためのモータ17を備えている。なお、円形偏心カム11aとしては、円盤形状、円筒状形状のものを用いることが好ましい。また、回転軸10には、円形偏心カム11aに回転角度を読取るためのエンコーダ等の読取装置を設けることが好ましく、さらに好ましくは、モータ17において、出力軸の回転角度が制御可能なモータを用いることが好ましい。また、円形偏心カム11aが接する支持体30の1辺とが平行となる位置である回転角度θの原点(0点)を検出装置と、パルス値を出力するパルスモータとを用いて、回転軸10の回転角度を認識する制御を用いることも可能である。
【0055】
ベースプレート24の光源側には、CCDカメラ12をX方向に移動可能に支持するカメラX方向移動装置20が設けられ、さらにこのカメラX方向移動装置20をY方向に移動可能に支持するカメラY方向移動装置19が設けられている。なお、図5には、CCDカメラ12をY方向に移動可能に支持するガイドレール18が図示されている。
【0056】
なお、支持体30の支持部の詳細構造については、上記図7に示す構造と同一であるため、ここでの説明は省略する。
【0057】
(作用・効果)
以上、本実施の形態における露光装置によれば、回転カム機構を用いて、X方向移動機構100、第1のY方向移動機構110、および、第2のY方向移動機構120の実現が可能となり、移動機構の簡素を図ることが可能になる。また、回転カムの角度を正確に制御することで、保持装置の移動量を正確に管理できるため、移動距離精度と信頼性の向上を得ることが可能となる。さらに、図10に示す演算装置においては、回転偏芯カム11aの回転角度θを求めるためのプログラムが必要であるが、移動機構の構成を簡素化することにより、露光装置全体としてのコストの低減を図ることが可能となる。
【0058】
なお、上記実施の形態においては、フォトマスク1を支持する支持体30をX,Y方向に移動可能とし、基板2を支持する基板ホルダー31を固定する機構を採用したが、フォトマスク1を支持する支持体30を固定し、基板2を支持する基板ホルダー31をX,Y方向に移動可能とする機構を採用することも可能であり、フォトマスク1と基板2とが相対的にX,Y,θ方向移動可能な機構であれば、どのような機構の採用も可能である。
【0059】
したがって、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【0060】
【発明の効果】
この発明に基いた基板位置決め装置および露光装置によれば、回転カム機構を用いて、X方向移動機構、第1のY方向移動機構、および、第2のY方向移動機構を実現させることにより、移動機構の簡素が可能になり、また、各移動装置に必要とされるコストの低減を図ることが可能になる。また、回転カムの角度を正確に制御することで、保持装置の移動量を正確に管理できるため、位置合わせ精度と信頼性の向上を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態1における基板位置決め装置の回転円形偏心カムを用いた位置合わせ方式の原理を示す図である。
【図2】 (a)は「円形偏心カム11aの回転角度θ」と「支持体30の移動量S」との関係を示す模式図であり、(b)は「円形偏心カム11aの回転角度θ」と「支持体30の移動量S」との関係を示すグラフである。
【図3】 実施の形態1における基板位置決め装置の構成を示す平面図(図4中III−III線矢視図)である。
【図4】 図3中IV−IV線矢視断面図である。
【図5】 実施の形態1における基板位置決め装置の上部ベースプレート24Aと、固定マーク6,7,8と、基板ベースプレート30Cとの位置関係を示す斜視図である。
【図6】 実施の形態1における基板位置決め装置の固定マーク6,7,8を除く、上部ベースプレート24Aと、下部ベースプレート24Bと、第1支持体30Aと、第2支持体30Bと、基板ベースプレート30Cとの位置関係を示す斜視図である。
【図7】 実施の形態1における基板位置決め装置の支持体30の支持部の詳細構造を示す図である。
【図8】 実施の形態1における基板位置決め装置の基板2と支持体30との位置決めを示す図である。
【図9】 実施の形態2における露光装置の回転円形偏心カムを用いた位置合わせ方式の原理を示す図である。
【図10】 実施の形態2における露光装置の演算装置のブロック図である。
【図11】 実施の形態2における露光装置の構成を示す平面図(図12中IX−IX線矢視図)である。
【図12】 図11中X−X線矢視断面図である。
【図13】 従来の技術における基板位置決め装置の位置合わせ方式の原理を示す図である。
【図14】 従来の技術における露光装置の位置合わせ方式の原理を示す図である。
【図15】 従来の技術における基板位置決め装置、および露光装置に採用される移動装置の構造を示す図である。
【符号の説明】
1 フォトマスク、2 基板、4 フォトマスク位置合わせマーク、5 基板位置合わせマーク、10 回転軸、11a 円形偏心カム、11b 転がり軸受、12 CCDカメラ、14 画像処理装置、15 演算装置、16 出力装置、17,32 モータ、18 ガイドレール、19 カメラY方向移動装置、20 カメラX方向移動装置、21 ブラケット、24A 上部ベースプレート、24B 下部ベースプレート、24C 支柱、25 ハウジング、26 軸受、27 ボール、28a 平板部、28 支持体金具、29 ガイドピン、30 支持体、30A 第1支持体、30B 第2支持体、30C 基板ベースプレート、30k 切欠部、31 基板ホルダー、100,110,120 回転円形偏心カム機構。

Claims (9)

  1. ベースプレートと、このベースプレートに設けられ、基板をその基板の平面を含むX、Y、θ方向に移動可能なように保持する保持手段と、前記基板の複数の辺の位置、または位置決めマークの位置を、位置検出センサによって検出し、予め定めた基板の位置に対するずれ量を演算して、その演算結果に基づいて前記保持手段をX、Y、θ方向に移動してずれ量をなくすように、前記基板の位置決めを行なう基板位置決め装置であって、
    前記保持手段をX方向に移動させるためのX方向移動機構と、
    前記保持手段をY方向に移動させるための第1のY方向移動機構と、
    前記第1のY方向移動機構とはX方向にずれて位置し、前記保持手段をY方向に移動させる第2のY方向移動機構とを有し、
    前記X方向移動機構、前記第1のY方向移動機構、および、前記第2のY方向移動機構が前記保持手段に接する回転カム機構であり、
    前記回転カム機構は、
    回転軸に偏心して取付けられた円盤、または、円筒状の円形偏心カムからなる偏心回転部材と、
    前記偏心回転部材の外周に嵌め込められる転がり軸受とを含み、
    前記転がり軸受の外周が前記保持手段に接することを特徴とする、基板位置決め装置。
  2. 前記回転軸は、前記偏心回転部材の回転角度を読取るための読取手段をさらに含む、請求項1に記載の基板位置決め装置。
  3. 位置検出センサによって読取られた前記基板の位置ずれ量に基き、前記基板の位置ずれをなくすために各々の前記円形偏心カムの必要な回転角度をプロセッサによって演算し、そのデータによって各々の前記円形偏心カムを回転させる、請求項またはに記載の基板位置決め装置。
  4. 前記基板の辺よりも外側に位置する固定マークを上記ベースプレートに設け、前記基板の複数の辺または位置決めマークと前記固定マークとの間の距離を前記位置検出センサによって読取り、この読取りデータに基き、前記基板の複数の辺または位置決めマークと前記固定マークとの間の距離を、予め定めた値となるように前記基板の位置決めを行なう、請求項1〜のいずれかに記載の基板位置決め装置。
  5. 前記各偏心回転部材は、
    回転角度が制御可能なモータの出力軸に、直接前記円盤または前記円筒状の円形偏心カムを取付けたことを特徴とする、請求項のいずれかに記載の基板位置決め装置。
  6. フォトマスクと基板とが近接または接触して重ねられ、前記フォトマスクを通して光を前記基板に照射することによって、前記フォトマスクに描かれたパターンを前記基板に転写する露光装置であって、
    前記フォトマスクと前記基板とを位置合わせするために、前記フォトマスクと前記基板とには、それぞれ対応する位置に複数個の位置合わせマークが設けられ、
    前記フォトマスクと前記基板とが重ねられた状態で、CCDカメラによって、前記フォトマスクと前記基板との位置合わせマークが読取られ、
    前記CCDカメラによって読取られたデータに基づいて、前記フォトマスクと前記基板とが相対的にX,Y,θ方向に移動させられて、前記フォトマスクと前記基板との位置合わせを行なうための位置合わせ手段を有し、
    前記位置合わせ手段は、
    前記フォトマスクまたは前記基板のいずれか移動する一方を保持し、かつ、前記フォトマスクまたは前記基板の面方向に沿って移動可能とされた保持手段と、
    前記保持手段をX方向に移動させるX方向移動機構と、
    前記保持手段をY方向に移動させる第1のY方向移動機構と、
    前記第1のY方向移動機構とはX方向にずれて位置し、前記保持手段をY方向に移動させる第2のY方向移動機構とを有し、
    前記X方向移動機構、前記第1のY方向移動機構、および、前記第2のY方向移動機構が、前記保持手段に接する回転カム機構であり、
    前記回転カム機構は、回転軸に偏心して取付けられた円盤、または、円筒状の円形偏心カムからなる偏心回転部材と、
    前記偏心回転部材の外周に嵌め込められる転がり軸受とを含み、
    前記転がり軸受の外周が前記保持手段に接することを特徴とする、露光装置。
  7. 前記回転軸は、前記偏心回転部材の回転角度を読取るための読取手段をさらに含む、請求項に記載の露光装置。
  8. 前記CCDカメラによって読取られた前記フォトマスクと前記基板との位置ずれ量を認識するための画像処理手段と、
    前記画像処理手段による情報に基き、前記フォトマスクと前記基板との位置ずれ量を演算するための演算手段と、
    前記演算手段から出力される情報に基き、前記フォトマスクと前記基板との位置ずれをなくすために、前記X方向移動機構、前記第1のY方向移動機構、および、前記第2のY方向移動機構に対して、前記各偏心回転部材の必要な回転角度を与えるための出力手段と、
    を備える、請求項またはに記載の露光装置。
  9. 前記各偏心回転部材は、
    回転角度が制御可能なモータの出力軸に、直接前記円盤または前記円筒状の円形偏心カムを取付けたことを特徴とする、請求項のいずれかに記載の露光装置。
JP2001337746A 2000-12-27 2001-11-02 基板位置決め装置および露光装置 Expired - Fee Related JP3870066B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001337746A JP3870066B2 (ja) 2000-12-27 2001-11-02 基板位置決め装置および露光装置
TW090128818A TW544552B (en) 2000-12-27 2001-11-21 Substrate positioning apparatus and exposure apparatus
KR10-2001-0079446A KR100469987B1 (ko) 2000-12-27 2001-12-14 기판위치 결정장치 및 노광장치
EP01129867A EP1223471A1 (en) 2000-12-27 2001-12-14 Substrate positioning apparatus and exposure apparatus
US10/020,296 US20020079276A1 (en) 2000-12-27 2001-12-18 Substrate positioning apparatus and exposure apparatus

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000396594 2000-12-27
JP2000-396594 2000-12-27
JP2001187586 2001-06-21
JP2001-187586 2001-06-21
JP2001337746A JP3870066B2 (ja) 2000-12-27 2001-11-02 基板位置決め装置および露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003077825A JP2003077825A (ja) 2003-03-14
JP3870066B2 true JP3870066B2 (ja) 2007-01-17

Family

ID=27345558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001337746A Expired - Fee Related JP3870066B2 (ja) 2000-12-27 2001-11-02 基板位置決め装置および露光装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20020079276A1 (ja)
EP (1) EP1223471A1 (ja)
JP (1) JP3870066B2 (ja)
KR (1) KR100469987B1 (ja)
TW (1) TW544552B (ja)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4555033B2 (ja) * 2003-12-25 2010-09-29 株式会社 液晶先端技術開発センター 結晶化装置並びに方法、電子デバイスの製造方法、及び光変調素子
JP4410063B2 (ja) 2004-09-06 2010-02-03 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置
JP2007108130A (ja) * 2005-10-17 2007-04-26 Canon Machinery Inc XYθテーブル駆動機構
JP4726814B2 (ja) * 2007-01-16 2011-07-20 株式会社日立ハイテクノロジーズ 基板の位置決め装置及び位置決め方法
FI20080053A0 (fi) 2007-12-12 2008-01-22 Wallac Oy Laite ja menetelmä optisen komponentin paikan sovittamiseksi
JP5326133B2 (ja) * 2008-04-15 2013-10-30 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン キャリアボード用位置合わせ治具
TWI418959B (zh) * 2009-10-27 2013-12-11 Ind Tech Res Inst 對位裝置與對位方法
DE102011009502B4 (de) * 2011-01-26 2017-11-02 Leica Biosystems Nussloch Gmbh Eindeckmodul zum Aufbringen von Deckgläsern auf Objektträger
JP5868122B2 (ja) * 2011-10-31 2016-02-24 Jukiオートメーションシステムズ株式会社 基板処理装置、テーブル機構、位置決め方法及びプログラム
JP5918518B2 (ja) * 2011-11-30 2016-05-18 川崎重工業株式会社 搬送ワークのヨーイング補正機構とその補正方法
CN104838276A (zh) * 2012-07-12 2015-08-12 康拉德有限责任公司 制备和/或加工工件的装置
KR101573274B1 (ko) 2014-10-10 2015-12-01 에스티에스반도체통신 주식회사 반도체 다이 본딩장치 및 이의 본딩 스테이지 정렬방법
WO2017017988A1 (ja) * 2015-07-30 2017-02-02 日本精工株式会社 テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械
JP6634836B2 (ja) 2015-07-30 2020-01-22 日本精工株式会社 テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械
KR101781979B1 (ko) 2017-03-14 2017-09-26 원종표 다기능 인쇄회로기판 로더기용 적재장치
JP2020068243A (ja) * 2018-10-22 2020-04-30 キヤノン株式会社 基板保持装置、露光装置及び物品の製造方法
DE102020100648A1 (de) * 2020-01-14 2021-07-15 Lambotec GmbH Computerimplementiertes Verfahren zur Steuerung einer Siebdruckmaschine, computergesteuerte Siebdruckmaschine
JP7076828B2 (ja) * 2020-02-27 2022-05-30 三星ダイヤモンド工業株式会社 位置決め装置および位置決め搬送システム
KR102203190B1 (ko) * 2020-09-04 2021-01-14 (주)선우하이테크 가변형 기판표면 처리장치

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58204535A (ja) * 1982-05-24 1983-11-29 Mitsubishi Electric Corp マスク合わせ装置
US4544311A (en) * 1983-03-15 1985-10-01 Micronix Partners Mask alignment apparatus
JPS61271835A (ja) * 1985-05-27 1986-12-02 Canon Inc 整合装置
US4872358A (en) * 1987-06-11 1989-10-10 U.S. Philips Corporation Driving mechanism having a pressure member
KR100291110B1 (ko) * 1993-06-19 2001-06-01 히가시 데쓰로 프로우브장치 및 그것을 사용한 피검사체의 검사방법
JP3275544B2 (ja) * 1994-07-21 2002-04-15 ウシオ電機株式会社 ステージ装置
JPH0927443A (ja) * 1995-07-11 1997-01-28 Nikon Corp ステージ駆動制御装置
JP3658142B2 (ja) * 1997-05-08 2005-06-08 キヤノン株式会社 計測方法およびデバイス製造方法
JPH1174186A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Canon Inc 位置決め装置、露光装置およびデバイス製造方法
KR100262655B1 (ko) * 1998-02-25 2000-09-01 이건환 웨이퍼 프로버의 정렬 방법 및 장치
TW390956B (en) * 1998-08-06 2000-05-21 Sanei Giken Co Ltd Positioning mark and alignment method using the same
JP2000182936A (ja) * 1998-12-17 2000-06-30 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
KR20010027127A (ko) * 1999-09-10 2001-04-06 김영환 웨이퍼 플랫존 검출장치

Also Published As

Publication number Publication date
US20020079276A1 (en) 2002-06-27
KR100469987B1 (ko) 2005-02-04
EP1223471A1 (en) 2002-07-17
JP2003077825A (ja) 2003-03-14
TW544552B (en) 2003-08-01
KR20020053714A (ko) 2002-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3870066B2 (ja) 基板位置決め装置および露光装置
US4655584A (en) Substrate positioning apparatus
JP2631485B2 (ja) 位置決め装置
WO2007049640A1 (ja) 露光方法及び露光装置
KR20080089302A (ko) 묘화 장치 및 방법
KR20130012933A (ko) 인쇄 장치, 인쇄 방법 및 그 인쇄 방법을 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체
TWI570519B (zh) 曝光微影裝置以及曝光微影方法
US20060105555A1 (en) Display apparatus and control method thereof
KR102719735B1 (ko) 얼라이너 장치 및 얼라인먼트 방법
JPS62101045A (ja) ウエ−ハの中心合せ装置
KR20080002864A (ko) 병진 선회 2차 자유도 스테이지 장치 및 이를 이용한 3차자유도 스테이지 장치
JPH02223844A (ja) 物体ホルダ
US6342944B1 (en) Vertical alignment table mechanism
JP3364079B2 (ja) アライメントステージ
JP3662357B2 (ja) 円板形状体の位置決め装置
JP2006100590A (ja) 近接露光装置
KR20150057234A (ko) 기판 및 마스크 정렬 장치
JP2859433B2 (ja) 移動機構とこの移動機構を使った露光装置
JP4487700B2 (ja) 近接露光装置
JPS63266850A (ja) 円形基板の位置決め装置
JP4228451B2 (ja) ワークの位置決め装置
JP2006041095A (ja) 搬送システム及び露光システム
JPH10163300A (ja) ステージ装置
JPS60167009A (ja) 板状物の位置合わせ方法および装置
JP2024101440A (ja) 動力伝達機構、載置台、及び搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040914

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060207

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060405

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061010

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061016

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091020

Year of fee payment: 3

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091020

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101020

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101020

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111020

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111020

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121020

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees