JP3740551B2 - Method for manufacturing permanent magnet - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)、FeおよびBを含有する永久磁石の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
高性能を有する永久磁石としては、粉末冶金法によるSm−Co系磁石でエネルギー積として、250kJ/m3のものが量産されている。しかし、Sm−Co系磁石は、Sm、Coの原料価格が高いという欠点を有する。希土類の中では原子量の小さい希土類元素、例えばセリウムやプラセオジム、ネオジムは、サマリウムよりも豊富にあり価格が安い。また、Feは安価である。
【0003】
そこで、近年Nd−Fe−B系磁石が開発され、特開昭59−46008号公報では、焼結磁石が、また特開昭60−9852号公報では、高速急冷法によるものが開示されている。Nd−Fe−B系磁石は、200kJ/m3以上の高エネルギー積を示す高性能磁石であるが、主成分として酸化され易い希土類元素と鉄とを含有するため、耐食性が低く、性能の劣化、バラつき等が問題となっている。
【0004】
このようなR−Fe−B系磁石の耐食性の低さを改善することを目的として、耐食性を有する種々の保護層を表面に有する永久磁石あるいはその製造方法が提案されている(特開昭60−54406号公報、同60−63901号公報、同60−63902号公報、同61−130453号公報、同61−150201号公報、同61−166115号公報、同61−166116号公報、同61−166117号公報、同61−185910号公報、同61−270308号公報、同62−120004号公報等)。
【0005】
このような保護層は、金属、金属酸化物や金属窒化物等の化合物、ガラス、樹脂等の有機物、あるいはこれらの混合物を材質として構成されるものである。また、その設層方法としては、電気めっき等の液相めっき、スパッタ、イオンプレーティング、真空蒸着等の気相めっき、浸漬塗布、刷毛塗布、注入、溶融めっき、電着塗布等の塗布法などが適用されている。これらの方法により設層された保護層のうち、電気めっきによる金属保護層は量産性に優れ、また単に耐食性を改善するだけでなく、機械的強度においても補強効果を発揮するため、有用である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
一般に電気めっきによる保護層は、Cu/Sn/Ni等の、R−Fe−B系磁石体よりも電気化学的に貴な金属によって形成されるため、このような金属が溶解しているめっき浴は、磁石体に対しても腐食作用を示す。そのため、保護層が完全に形成されるまでの間は、磁石体のめっき浴中への溶解が多少なりとも発生する。
【0007】
このように溶解する磁石体成分のうち、Feはそのほとんどを空気酸化によって沈殿しやすい3価のFeイオンとすることができるため、めっき装置において通常行われる連続濾過処理により容易に除去が可能である。また、Bは3価のBO3イオンとなるが、これもめっき浴にホウ酸またはホウ酸塩がpH緩衝剤として加えられることが多いことから予想されるように、保護層の性能にほとんど影響を及ぼさない。
【0008】
しかしながら、希土類元素(以下、元素Rまたは単にRということがある)のイオンは、酸化によってその沈殿性が変化することもなく、また電気化学的に非常に卑であるので保護層への共析も起こらない。そのため、連続的にめっき浴を使用していると、めっき浴中に蓄積してしまう。このようにして増大したRイオン濃度が一定以上になると、設層される保護層にシミ、ピンホール、層間剥離等の外観異常が発生し、結果的に耐食性能が低下するという問題を引き起こす。
【0009】
このようなRイオンの蓄積に対し、特開平7−34300号公報では、リン酸アルキルエステルを添加して反応させることによりRイオンを除去する方法が提案されている。しかし、この方法は、反応生成物がゲル状のイオン会合体であり、しかも、このイオン会合体は比重が低くめっき浴に浮いてしまうため、濾過によって浴中から除くことが困難であるという問題がある。また、処理後に、未反応のリン酸アルキルエステルを活性炭により除去する処理が必要であるため、めっき浴稼働中にRイオン除去ができないという問題もある。
【0010】
本発明は、前述したようなRイオンのめっき浴中への蓄積を防止し、一定の外観および耐食性能を示す保護層をもった永久磁石を安定に製造する方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記(1)〜(10)の本発明により達成される。
(1) R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)、FeおよびBを含有する永久磁石体の表面に密着して、電気めっきにより保護層を形成する工程を有する永久磁石の製造方法であって、
前記電気めっきに際し、塩化物成分を実質的に含有しないスルファミン酸系めっき浴を用い、電気めっきの繰り返しに伴って増大する前記めっき浴中のRイオンを、アゾジスルホン酸によって連続的または間欠的に除去することにより、前記保護層の欠陥および外観不良を防ぐ永久磁石の製造方法。
(2) 前記めっき浴中のRイオンを除去するために、前記めっき浴にアゾジスルホン酸を添加するか、前記めっき浴中においてアゾジスルホン酸を生成させる上記(1)の永久磁石の製造方法。
(3) 前記めっき浴が稼働中に、前記めっき浴中においてアゾジスルホン酸を生成させる上記(1)の永久磁石の製造方法。
(4) 前記アゾジスルホン酸が、化学的、電気化学的または光化学的に生成されたものである上記(1)〜(3)のいずれかの永久磁石の製造方法。
(5) 前記アゾジスルホン酸が、スルファミン酸塩を含有する溶液に酸化剤を添加することにより生成されたものである上記(4)の永久磁石の製造方法。
(6) 前記アゾジスルホン酸が、スルファミン酸塩を含有する溶液に対し不溶性陽極を用いて電解処理を行うことにより生成されたものである上記(4)の永久磁石の製造方法。
(7) 前記アゾジスルホン酸が、スルファミン酸塩を含有する溶液に対しNi含有陽極を用いて電解処理を行うことにより生成されたものである上記(4)の永久磁石の製造方法。
(8) 前記電解処理の際に、陽極電流密度を6A/dm2以上とする上記(7)の永久磁石の製造方法。
(9) 前記アゾジスルホン酸が、スルファミン酸塩を含有する溶液に対し酸化チタンを含む光触媒を用いて酸化処理を施すことにより生成されたものである上記(4)の永久磁石の製造方法。
(10) 電気めっきの繰り返しによりスルファミン酸が加水分解して増大する前記めっき浴中の硫酸イオンを、前記めっき浴にバリウム化合物を添加することにより除去する上記(1)〜(9)のいずれかの永久磁石の製造方法。
【0012】
【作用】
Rイオンは、ほぼ中性の溶液中からは水酸化物として沈殿する場合もあるが、めっき操作が行われる酸性、塩基性のめっき浴中では溶解状態を保つため、通常、濾過によって除去することは不可能である。また、中性付近でめっき操作を行えるめっき浴も存在するが、この場合もめっき対象金属イオンの沈殿を防止する目的で錯化剤が添加されているため、Rイオンも沈殿しないので、通常、濾過による除去は不可能である。
【0013】
しかしながら、本発明者は、各種組成のめっき浴における連続運転において、継続的にめっき浴中のRイオン濃度を監視し続けるうちに、特定の浴組成および特定の処理条件において、Rイオン濃度の増大が異常に少なくなる現象を見いだし、本発明に至った。
【0014】
具体的にRイオン濃度の増大が少なかったのは、スルファミン酸系のめっき浴のうち塩化物を含まないものであり、かつ比較的大きな陽極電流密度でめっきを行った場合であった。ただし、塩化物を含まないスルファミン酸系のめっき浴に、単純にR化合物を溶解して濾過操作を行なうモデル実験の場合には、Rイオン濃度は低下しなかった。
【0015】
そこで、塩化物を含まないスルファミン酸系めっき浴に対し、不溶性陽極を使用して空電解処理を行うと、沈殿物が生成して濾過操作で除去され、これに伴ってめっき浴中のRイオン濃度が減少することが判明した。したがって、この沈殿物はR化合物であると考えられる。この実験で得られた沈殿物は、希塩酸には容易に溶解してしまうことが確認されたので、塩酸成分が含まれないスルファミン酸系めっき浴において、Rイオン濃度の増大が抑えられたことも説明できる。
【0016】
また、めっき浴に対し過マンガン酸塩やオゾンによる酸化処理を適用した場合にも、同様にRイオン濃度の低下が認められた。
【0017】
スルファミン酸系めっき浴を用いてめっきを行うと、条件によっては、スルファミン酸イオンが陽極で酸化されてアゾジスルホン酸イオン(SO3NNSO3 2-)が生成することが知られている。本発明者は、このことと、上記したRイオンが減少する条件とに基づき、塩素イオンを含まないスルファミン酸系めっき浴において、特定の条件下でのめっき操作によって陽極で生成するアゾジスルホン酸が、Rイオン濃度の増大を一部抑制すると考えた。実際に、アゾジスルホン酸が生成するようにめっき浴に対し上記酸化処理を行うと、沈殿物が生じると共に浴中のRイオン濃度が著しく低下した。
【0018】
そこで本発明では、めっき浴にアゾジスルホン酸を添加するか、めっき浴中でアゾジスルホン酸を生成させることにより、アゾジスルホン酸とRイオンとの結合により沈殿物を形成し、Rイオンを除去する構成とした。これにより本発明では、めっき浴中のRイオン濃度の増大率を低下させるのではなく、Rイオン濃度自体を低下させることができる。従来も、塩化物を含まないスルファミン酸系のめっき浴は比較的寿命が長かったが、このめっき浴に本発明を適用することにより、極めて長期間にわたってめっき浴を廃棄・更新する必要がなくなる。また、本発明では、めっき浴の稼働中に、めっき浴中においてアゾジスルホン酸を生成することも可能であり、この場合、長期間にわたってめっき浴の連続稼働が可能となるので、生産性の向上および低コスト化に極めて有効である。
【0019】
なお、スルファミン酸浴を長期間使用すると、スルファミン酸の一部が加水分解して硫酸イオンとアンモニウムイオンとなることが知られている。本発明により生成される上記沈殿物は希硫酸に溶解するため、浴中に硫酸イオンが蓄積すると沈殿生成が阻害される。ただし、浴中に生成した硫酸イオンは、バリウム化合物を添加して、硫酸バリウムとして沈殿させて濾過することにより除去が可能である。したがって、増大した硫酸イオンをバリウム化合物により除去すれば、アゾジスルホン酸によるRイオン濃度低下効果を、長期にわたって維持できる。
【0020】
【発明の実施の形態】
本発明においては永久磁石体に保護層を設層する前に、所定の処理液を用いて前処理を行う。
【0021】
めっき前処理には、塩酸、硫酸等の非酸化性の酸が用いられることが多い。しかし、希土類元素を含む永久磁石体に対しこれらの酸を用いて処理を行うと、酸により発生する水素が永久磁石体表面に吸蔵され、吸蔵部位が脆化して、多量の粉状未溶解物が発生する。この粉状未溶解物は、保護層の欠陥の原因となったり密着性低下を引き起こしたりするので、非酸化性の酸は処理液に含有させないことが好ましい。したがって、用いる酸としては水素の発生の少ない酸化性の酸である硝酸が好ましい。硝酸を用いることにより、その酸化作用で磁石体表面に化学エッチングが施され、肉眼では確認不可能な程度の微細な凹凸構造が形成される。
【0022】
このような前処理による磁石体の溶解量は、表面から、平均厚さで5μm以上、より好ましくは、10〜15μmとすることが好ましい。5μm未満の溶解量では磁石体表面の加工による変質層、酸化層を完全に除去することができないために十分な密着性が得られない。また、凹凸の平均深さ(谷から山までの深さ)は、1〜5μm程度が好ましい。また凹凸の平均ピッチは10〜50μm程度であることが好ましい。これらにより密着性が向上する。
【0023】
このような前処理に用いられる処理液の硝酸の濃度は1規定以下、特に0.6規定以下、より好ましくは0.5規定以下とすることが望ましい。硝酸濃度が1規定を超える場合には、磁石体の溶解速度が極めて早くなり、溶解量の制御が困難で所望の寸法精度の製品を得ることが困難となる。また、バレル処理のように大量処理する場合には、処理状態のばらつきも大きくなる。
【0024】
処理終了時のFe溶解量は、1〜10g/L(リットル)程度とする。すなわち、バッチ処理により溶解処理を行い、この程度のFe溶解量となったときに処理液を廃棄すればよい。
【0025】
処理液による処理温度は、好ましくは40℃以下、より好ましくは30℃以下、さらに好ましくは20℃以下とする。なお、処理時間は処理液組成、温度、目的とするエッチング量によって適宜調整すればよいが、通常、1〜20分間とすることが好ましい。
【0026】
このような、前処理を行なった磁石体表面から少量の未溶解物および、残存酸成分を完全に除去するため、超音波を使用した洗浄を実施することが好ましい。この超音波洗浄は、イオン交換水等の塩素イオン含有量の少ない水、またはそれに残存酸の中和を目的とした少量の塩基性化合物を溶解した溶液中で行なうのが望ましい。洗浄液に塩素イオンが含まれると磁石表面に錆が発生する原因となると共に、めっき浴に持ち込まれてアゾジスルホン酸とRイオンとの沈殿生成を阻害する要因ともなる。また必要に応じて、前記超音波洗浄の前後に同様な水あるいは塩基性水溶液による浸漬洗浄を行なってもよい。さらに、前記前処理を行なう前に磁石体の加工方法・保存状態に応じて、機械的な研磨処理および、めっき前処理として通常行なわれる浸漬または電解脱脂処理もしくはアルカリ脱錆処理を行なってもよい。
【0027】
なお、前記の酸による前処理においては、超音波印加を行わないことが好ましい。エロージョン作用により、凹凸が大きくなりすぎる場合があるからである。
【0028】
洗浄を行った磁石体表面上に、電気めっきにより保護層を設層する。保護層を電気めっきにより設層することにより、量産性に優れた高性能耐食膜を形成することができる。
【0029】
本発明において保護層は、Niを主成分とする。保護層にNiを用いることにより、保護層の強度が高くなり、優れた防錆効果を得ることができる。本発明では、この保護層を電気めっきにより形成する。この電気めっきには、Niを含有する陽極と、実質的に塩化物成分を含有しないスルファミン酸ニッケル浴を用いる。
【0030】
スルファミン酸浴の組成例としては、例えば
Ni(NH2SO3)2・4H2O:150〜600g/L、
NiBr2・6H2O :0〜30g/L、
ホウ酸 :30〜60g/L
が好ましい。めっき浴の建浴に際しては、使用する水も塩素を含有しないことが好ましく、浴中の塩素量は0.01g/L以下とすることが好ましい。このように、めっき浴から塩素成分を除くことによって経時によるフクレの発生を防止することができ、また、アゾジスルホン酸によるRイオン除去効果を十分に発現させることができる。
【0031】
めっき条件は、pH(水素イオン濃度)を3〜6、特に4.0〜5.0とすることが好ましく、温度を30〜70℃とすることが好ましい。pHが低すぎると、磁石体が溶解してしまい、また、スルファミン酸の加水分解により、浴中に硫酸イオンが増大してアゾジスルホン酸のRイオン除去効果を阻害する。pHが高すぎると、水酸化ニッケルが析出して、めっき膜が脆くなってしまう。
【0032】
本発明では、運転中のめっき浴中のRイオンを定期的に分析し、その濃度が好ましくは3g/L以下、より好ましくは1g/L以下となるよう管理する。分析法は任意であるが、プラズマ発光分光法を好ましく用いることができる。分析の頻度は、めっき浴の容量や磁石体の形状および処理量によっても異なるが、1回/週程度とすればよい。
【0033】
前記分析により、Rイオンが許容される上限濃度に達した場合は、めっき浴にアゾジスルホン酸を添加する。これにより、めっき浴中のRイオンがアゾジスルホン酸と結合して沈殿を形成し、浴中のRイオン濃度が低下する。ただし、アゾジスルホン酸そのものは入手が困難であるため、スルファミン酸塩溶液に対し、化学的、電気化学的または光化学的に酸化処理を行ってアゾジスルホン酸を生成させ、この溶液をめっき浴に添加することが好ましい。この場合に用いるスルファミン酸塩としては、例えばLi、Na、K等のアルカリ金属のスルファミン酸塩が好ましい。なお、アゾジスルホン酸の添加量は、めっき浴中のRイオン量が、目的とする量まで低下するように適宜決定すればよい。
【0034】
また、スルファミン酸系めっき浴自体がスルファミン酸塩溶液であるため、Rイオンを除去する対象であるめっき浴に対して化学的、電気化学的または光化学的に酸化処理を行うことにより、めっき浴中でアゾジスルホン酸を生成させることもできる。この方法は、外部からアゾジスルホン酸含有溶液を添加する方法と比較して、めっき浴の量が変動することがなく、また、めっき浴の稼働中に、めっき浴中において連続的または間欠的にアゾジスルホン酸を生成させることが可能であるため、より好ましい方法である。
【0035】
スルファミン酸塩溶液に対し化学的に酸化処理を施す場合、溶液中に酸化剤を添加すればよい。酸化剤としては、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩および/またはオゾンが好ましい。過マンガン酸塩を用いる場合、添加して数時間攪拌することにより十分にアゾジスルホン酸を生成させ、その後、過酸化水素水を添加して、残留する過マンガン酸塩を分解し、生成した二酸化マンガンを濾過によって除去する。一方、酸化剤としてオゾンを用いる場合、スルファミン酸塩溶液にオゾンを吹き込めばよい。めっき浴に対し、オゾンによるアゾジスルホン酸生成処理を直接施す場合、例えばめっき浴を空気攪拌するためのブロアの吸気側にオゾン発生機を設置すれば、めっき浴中にオゾンを連続的に吹き込むことが可能となるため、稼働中のめっき浴中においてアゾジスルホン酸を生成させることが可能である。一方、めっき浴に過マンガン酸塩を投入する方法では、上記したように過マンガン酸塩を除去するためにバッチ処理となる。したがって、酸化剤としてはオゾンが好ましい。なお、めっき浴中へのオゾンの吹き込みは、間欠的に行ってもよい。酸化剤の添加量は、めっき浴中のRイオン量に応じ、適宜決定すればよい。
【0036】
スルファミン酸塩溶液に対し電気化学的に酸化処理を施す場合、以下に説明する第1の電解処理または第2の電解処理を利用することが好ましい。
【0037】
第1の電解処理では、スルファミン酸塩溶液に不溶性陽極とダミー陰極とを挿入し、数分間から数十分間程度の空電解処理を行うことによりアゾジスルホン酸を生成させることが好ましい。不溶性陽極としては例えば白金めっきチタン陽極、カーボン陽極を使用することができる。この場合の陽極電流密度は特に限定されないが、陽極電流密度が比較的低い場合でもアゾジスルホン酸の生成が可能であること、また、陽極電流密度を高くすると、ガス発生が多くなること、などから、陽極電流密度は1A/dm2以下とすることが好ましい。
【0038】
第1の電解処理を、めっき浴に対して直接施す場合、通常のめっき操作(保護層形成のためのめっき操作)に用いる電源とは独立した電源を設置し、この独立電源から上記不溶性陽極と上記ダミー陰極とに対して電流を供給する構成とすれば、稼働中のめっき浴に対してアゾジスルホン酸生成処理を行うことができる。
【0039】
一方、第2の電解処理では、通常のめっき操作に用いるNi含有陽極を用い、通常のめっき操作よりも陽極電流密度を高くする。これにより陽極の酸化が追いつかなくなる結果、供給された電流の一部がスルファミン酸イオンの酸化に消費されることになるため、アゾジスルホン酸が生成する。この場合の陽極電流密度は、好ましくは6A/dm2以上、より好ましくは10A/dm2以上である。ただし、陽極電流密度を著しく高くすると、通電に必要な電圧が高くなって大型の電源装置が必要となるため、陽極電流密度は15A/dm2以下とすることが好ましい。
【0040】
なお、磁石体への保護層形成などのように、めっき浴を繰り返し使用する通常のめっきにおける陽極電流密度は、1〜5A/dm2とするのが一般的である(例えば、全国鍍金材料組合連合会から発行された「めっき技術ガイド」の111ページ表4−10参照)。したがって本発明でも、保護層形成時の陽極電流密度は、この範囲内とすることが好ましい。一方、陰極電流密度は、めっき膜の膜質に大きく影響する条件であり、めっき条件として単に電流密度と記載されているものは、この陰極電流密度である。本発明において保護層形成の際の陰極電流密度は従来と同様であってよく、例えば特開平4−283911号公報に記載されているように、0.1〜10A/dm2程度とすればよい。陰極電流密度が低すぎると、めっき膜中への不純物の共折が多くなり、外観の悪い耐食性の低い膜となりやすい。一方、陰極電流密度が大きすぎると、陰極近傍での水素発生が増大して水素が磁石体に吸蔵され、密着性低下の原因となる。
【0041】
第2の電解処理をめっき浴に対して直接施す場合、陰極には、めっき対象の磁石体を用いてもよい。ただし、陰極電流密度が過大となって良質な保護層を形成できなくなるおそれが高いことから、ダミー陰極を用いることが好ましい。一方、第2の電解処理を、めっき浴とは異なるスルファミン酸塩溶液に対し施す場合には、ダミー陰極を用いればよい。
【0042】
第2の電解処理をめっき浴に対して直接施す場合、めっき浴稼働中に、あるいはダミー陰極に差し替えるだけでアゾジスルホン酸を生成できるので、生産性に与える影響は少ない。
【0043】
第2の電解処理を施すと、めっき浴のpHが好ましい範囲を外れる程度まで低下することがある。したがって、必要に応じ、処理終了後にpHを調整することが好ましい。めっき浴とは異なるスルファミン酸塩溶液に対し第2の電解処理を施した場合、溶液中に例えばリチウムやナトリウム等のアルカリ金属の炭酸塩や水酸化物を添加してpHを上昇させた後、この溶液をめっき浴中に投入すればよい。一方、めっき浴に対し第2の電解処理を施した場合には、めっき浴中に例えば炭酸ニッケルを添加してpHを調節することができる。
【0044】
なお、電気化学的酸化処理を間欠的に行う場合の処理時間は、めっき浴中のRイオン量が、目的とする量まで低下するように適宜決定すればよい。
【0045】
スルファミン酸塩溶液に対し光化学的に酸化処理を施す場合、酸化チタンを含む光触媒をスルファミン酸塩溶液に接触させることにより、アゾジスルホン酸を生成させる。酸化チタンとしては、アナターゼ型またはルチル型のいずれであってもよいが、より強い触媒活性を得られる点でアナターゼ型酸化チタンが好ましい。めっき浴に対して光化学的酸化処理を施す場合、例えば、連続濾過用の配管の少なくとも一部を、ガラス等の透明材料からなる透光部とし、この透光部の内面に光触媒を含有する膜を形成しておき、この透光部に紫外線を照射することによりアゾジスルホン酸を生成させればよい。めっき浴稼働中は連続濾過が行われるため、連続濾過用の配管中でアゾジスルホン酸を生成させることにより、稼働中のめっき浴中にアゾジスルホン酸を連続的に供給することができる。
【0046】
以上のいずれの酸化処理手段においても、めっき浴中に生成した沈殿物を除去するためには、めっき装置に設けられた連続濾過処理装置を利用することができるが、必要に応じ、バッチ濾過処理を行ってもよい。
【0047】
なお、上記各酸化処理によって生成するアゾジスルホン酸は、透明な溶液中においては、アゾ結合(N=N)に基づく特有の光吸収によって存在を確認することが可能である。一方、有色のニッケルイオンが多量に含有されるめっき浴中では、アゾジスルホン酸の増減を正確に監視することは困難である。しかし、アゾジスルホン酸は、ニッケルめっき膜の応力を圧縮応力側に変化させる作用があることが知られているので、形成されるニッケルめっき膜の応力を定期的に測定することによって、その増減を間接的に監視することもできる。ただし、本発明を実施するに際しては、めっき浴に添加するスルファミン酸塩溶液中のアゾジスルホン酸含有量またはめっき浴中のアゾジスルホン酸含有量を正確に把握する必要はない。すなわち、めっき浴中のRイオン濃度が所望量低下するように、上記各酸化処理の度合いを制御すればよい。
【0048】
適正な操作条件にてめっき処理を行っていても、長期間の使用においてはスルファミン酸の一部が加水分解して硫酸イオンが蓄積する。その結果、蓄積した硫酸イオン濃度とほぼ等しい濃度のRイオンが、上記酸化処理後も残存することとなる。その場合には、例えば水酸化バリウム等のバリウム塩を浴中に添加して、硫酸イオンを硫酸バリウムとして沈殿させ、沈殿物を濾過によって除去することが好ましい。これにより、長期間にわたって、アゾジスルホン酸によるRイオン除去作用を十全に機能させることが可能となる。なお、硫酸イオン濃度は、イオンクロマトグラフ等によって分析することができる。
【0049】
本発明においては、必要に応じて自然電位の異なる公知のダブルニッケルめっき、トリニッケルめっき等の耐食性向上を目的とした多層めっきも好ましく用いることができる。多層めっきとする場合、少なくとも、磁石体に密着する電気めっき膜形成の際に、本発明を適用する。
【0050】
これらの電気めっきによる保護層の設層に際しては、磁石体の寸法・形状に応じてラックめっき法またはバレルめっき法を適宜適用する。一般に、ラックめっき法で処理されるような寸法の大きい磁石体では、無欠陥の保護層を必要とする面積が広いので保護層を比較的厚くする必要がある。この場合、電気めっき膜からなる保護層の厚さは、20〜30μmであることが好ましい。一方、バレルめっき法で大量に処理されるような自重数十グラム以下の磁石体では、表面積が小さいので保護層を比較的薄くしても問題ない。この場合の保護層の厚さは、10〜20μmであることが好ましい。
【0051】
また、必要があればこれらの電気めっきによる保護層の上に、さらに他の手法による保護層、例えば無電解めっき層、各種塗布法による樹脂層などを設層することもでき、この場合には電気めっきによる保護層をより薄くすることが可能である。
【0052】
本発明において保護層が表面に設層される永久磁石体は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)、FeおよびBを含有するものである。
【0053】
R、FeおよびBの含有量は、原子百分率で
5.5≦R≦30、
42≦Fe≦90、
2≦B≦28
であることが好ましく、特に、永久磁石体を焼結法により製造する場合は、Rは8原子%以上であることが好ましい。
【0054】
希土類元素Rとしては、Nd、Pr、Ho、Tbのうち少なくとも1種、あるいはさらに、La、Sm、Ce、Gd、Er、Eu、Pm、Tm、Yb、Yのうち1種以上を含むものが好ましい。なお、Rとして2種以上の元素を用いる場合、原料としてミッシュメタル等の混合物を用いることもできる。R含有量が少なすぎると、結晶構造がα−Feと同一構造の立方晶組織となるため、高い保磁力(HcJ)が得られない。一方、R含有量が多すぎると、Rリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下する。Fe含有量が少なすぎるとBrが低くなり、多すぎるとHcJが低くなる。B含有量が少なすぎると菱面体組繊となるためHcJが不十分となり、多すぎるとBリッチな非磁性相が多くなるためBrが低くなる。
【0055】
なお、Feの一部をCoで置換することにより、磁気特性を損うことなく温度特性を改善することができる。この場合、Co置換量がFeの50%を超えると磁気特性が劣化するため、Co置換量は50%以下とすることが好ましい。
【0056】
さらに、Bの一部を、C、P、S、Cuのうちの1種以上で置換することにより、生産性の向上および低コスト化が実現できる。この場合、置換量は全体の4原子%以下であることが好ましい。また、保磁力の向上、生産性の向上、低コスト化のために、Al、Ti、V、Cr、Mn、Bi、Nb、Ta、Mo、W、Sb、Ge、Sn、Zr、Ni、Si、Hf等の1種以上を添加してもよい。この場合、添加量は総計で10原子%以下とすることが好ましい。
【0057】
本発明における永久磁石体は、実質的に正方晶系の結晶構造の主相を有する。この主相の粒径は、1〜100μm程度であることが好ましい。そして、通常、体積比で1〜50%の非磁性相を含むものである。
【0058】
このような永久磁石体は、前述した特開昭61−185910号公報等に開示されている。
【0059】
上記のような永久磁石体は、以下に述べるような焼結法により製造されることが好ましい。まず、所望の組成の合金を鋳造し、インゴットを得る。得られたインゴットを、スタンプミル等により粒径10〜100μm程度に粗粉砕し、次いで、ボールミル等により0.5〜5μm程度の粒径に微粉砕する。得られた粉末を、好ましくは磁場中にて成形する。この場合、磁場強度は800kA/m以上、成形圧力は100〜500MPa程度であることが好ましい。得られた成形体を、1000〜1200℃で0.5〜5時間焼結し、急冷する。なお、焼結雰囲気は、Arガス等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。この後、好ましくは不活性ガス雰囲気中で、500〜900℃にて1〜5時間時効処理を行う。
【0060】
【実施例】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳細に説明する。
【0061】
共通条件
14Nd−1Dy−7B−78Fe(数字は原子比)の組成をもち、外径35mm、内径20mm、高さ2mmの扁平なリング状焼結体を、粉末冶金法により作製した。この焼結体にバレル研磨処理を施して、磁石体とした。この磁石体に対し、めっき前処理として、0.5規定の硝酸溶液による表面層の溶解処理およびイオン交換水中での超音波洗浄処理を行った。
【0062】
めっき浴は総容量0.5m3とし、それぞれ上記前処理済み試料500個と、通電補助用のNiめっき付きで径3mmの鉄ボール2kgとを装入した径0.3m、長さ0.5mの六角柱状バレルを同時に4台使用し、バレル当たりの電流値50Aにて4時間のバレルめっき処理を行った。めっき浴のpHは4.5±0.2、めっき浴の温度は50±3℃とし、陽極としては陽極電流密度が2A/dm2となる面積の電解ニッケル板を使用した。
【0063】
上記バレルめっき処理を、試料を更新しながら3回/日行い、毎週末にめっき液をサンプリングしてめっき浴中のRイオン濃度を測定した。また、めっき後の試料に関しては全数の外観検査を行った。また、各バッチから抜き取ったn=10個のサンプルを、温度120℃、圧力0.2MPa、相対湿度100%、24時間のプレッシャークッカー試験に投入して、耐食性試験を行った。
【0064】
実施例1
Ni(NH2SO3)2・4H2O:600g/L、
NiBr2・6H2O :15g/L、
ホウ酸 :40g/L
を含有するめっき浴を使用して、3ヶ月間にわたって試料のめっきを実施し、浴中のRイオン濃度(NdイオンとDyイオンとの合計濃度)を継続的に測定した。めっき浴中のRイオン濃度の推移を図1に示す。
【0065】
図1に示されるように、Rイオン濃度は3ヶ月後においても1g/L以下であった。また、形成されるめっき膜は、ピンホール・シミ等の外観不良率が1%以下であり、プレッシャークッカー試験での不良発生は全く認められなかった。ただし、図1から、約1年程度の連続運転により、Rイオン濃度が3g/Lを超えることが予想される。
【0066】
電気化学的酸化処理
濃度100g/Lのスルファミン酸ナトリウム溶液1リットルを調製し、白金めっきチタン板を陽極、ステンレス板を陰極として、陽極電流密度1A/dm2で10分間の電解処理を施すことによりスルファミン酸の一部を電気化学的に酸化して、アゾジスルホン酸含有溶液を調製した。
【0067】
3ヶ月使用後の上記めっき浴からサンプリングした1リットルのめっき液に、上記アゾジスルホン酸含有溶液を0.05リットル添加し、2時間撹拌後にNo.5Cの濾紙を用いて濾過を行ったところ、青白色の沈殿が認められた。濾過後のめっき液中のRイオン濃度を分析したところ、0.02g/Lに減少していた。
【0068】
なお、Rイオン濃度がさらに増大した状態をシミュレートするために、上記めっき浴中のRイオン濃度が4g/LとなるようにR化合物(酸化ネオジム)を添加した。次いで、上記アゾジスルホン酸含有溶液の添加量を0.2リットルとしたほかは上記電気化学的酸化処理と同様にして処理を施した後、濾過を行ったところ、濾過後のRイオン濃度は0.05g/Lまで減少していた。
【0069】
実施例2
Ni(NH2SO3)2・4H2O:150g/L、
NaNH2SO3 :200g/L、
NiBr2・6H2O :5g/L、
ホウ酸 :40g/L
を含有するめっき浴を使用して、3ヶ月間にわたって試料のめっきを実施し、浴中のRイオン濃度を継続的に測定した。めっき浴中のRイオン濃度の推移を図1に併記する。
【0070】
図1に示されるように、Rイオン濃度は3ヶ月後においても0.5g/L以下であった。また、形成されるめっき膜は、ピンホール・シミ等の外観不良率が1%以下であり、プレッシャークッカー試験での不良発生は全く認められなかった。
【0071】
化学的酸化処理
3ヶ月使用後の上記めっき浴からサンプリングした1リットルのめっき液に対し、1規定の過マンガン酸カリウム溶液0.03リットルを添加し、4時間攪拌した。濃度30質量%の過酸化水素水をめっき液の赤紫色が消えるまで添加して、残留した過マンガン酸カリウムを分解した後、No.5Cの濾紙を用いて濾過を行った。濾過後のめっき液中のRイオン濃度を分析したところ、検出限界(0.001g/L)未満であった。
【0072】
なお、Rイオン濃度がさらに増大した状態をシミュレートするために、実施例1と同様にR化合物を添加した。次いで、過マンガン酸カリウム溶液の添加量を0.15リットルとしたほかは上記化学的酸化処理と同様にして処理を施し、濾過を行ったところ、濾過後のRイオン濃度は0.05g/Lまで減少していた。
【0073】
電気化学的酸化処理
3ヶ月使用後の上記めっき浴から1リットルのめっき液をサンプリングし、高純度電解ニッケル板を陽極、ステンレス網を陰極として陽極電流密度12A/dm2で10分間の電解処理を実施し、両極を取り出してから2時間攪拌した後、No.5Cの濾紙を用いて濾過を行った。濾過後のめっき液中のRイオン濃度を分析したところ、0.001g/L未満であった。
硫酸イオン除去処理
3ヶ月使用後の上記めっき浴から1リットルのめっき液をサンプリングし、スルファミン酸の加水分解によって硫酸イオンが生成した状態をシミュレートするために5gの硫酸アンモニウムを添加した後、上記電気化学的酸化処理および濾過を行った。濾過後のめっき液中のRイオン濃度を分析したところ、ほとんど減少が認められなかった。
【0074】
そこで、濾過後の上記めっき液に、6.5gの水酸化バリウムを添加し、再度、上記電気化学的酸化処理および濾過を行った、濾過後のめっき液を分析したところ、Rイオン濃度は0.001g/L未満まで減少していた。
【0075】
比較例1
Ni(NH2SO3)2・4H2O:600g/L、
NiCl2・6H2O :15g/L、
ホウ酸 :40g/L
を含有するめっき浴を使用して、実施例1と同様に3か月間にわたって試料のめっきを実施し、浴中のRイオン濃度を継続的に測定した。実施例1で用いた組成との相違点は、臭化ニッケルを塩化ニッケルに置換したことだけである。めっき浴中のRイオン濃度の推移を図1に併記する。
【0076】
図1に示されるように、Rイオン濃度は、実施例1と比較して約3倍の速度で増大し、3ヶ月後には3g/Lを上回った。また、形成されるめっき膜のピンホール・シミ等の外観不良率は徐々に増大し、3ヶ月後の時点では5%に達し、この時点でプレッシャークッカー試験における不良の発生が認められるようになった。
【0077】
電気化学的酸化処理
3ヶ月使用後の上記めっき浴からサンプリングした1リットルのめっき液に、実施例1で調製したアゾジスルホン酸含有溶液を0.05リットル添加し、2時間攪拌後にNo.5Cの濾紙を用いて濾過を行ったが、沈殿は確認できなかった。濾過後のめっき液中のRイオン濃度を分析したところ、3g/L以上とほとんど減少していなかった。これは、めっき浴中に塩化物が含有されていたためである。
【0078】
【発明の効果】
本発明によれば、保護層を設層するためのめっき浴を頻繁に廃棄・更新する必要がなくなる。そのため、外観不良が少なく、耐食性の良好な永久磁石を長期にわたって安定に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】めっき継続日数とめっき浴中のR(希土類元素)イオン濃度との関係を示すグラフである。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for producing a permanent magnet containing R (where R is one or more rare earth elements including Y), Fe and B.
[0002]
[Prior art]
A permanent magnet having high performance is an Sm-Co magnet by powder metallurgy and has an energy product of 250 kJ / m.ThreeIs mass-produced. However, the Sm—Co magnet has a drawback that the raw material price of Sm and Co is high. Among rare earth elements, rare earth elements having a small atomic weight, such as cerium, praseodymium, and neodymium, are more abundant and less expensive than samarium. Fe is inexpensive.
[0003]
In recent years, therefore, Nd-Fe-B magnets have been developed. JP-A-59-46008 discloses a sintered magnet, and JP-A-60-9852 discloses a high-speed quenching method. . Nd-Fe-B magnets are 200 kJ / mThreeAlthough it is a high-performance magnet exhibiting the above high energy product, it contains rare earth elements that are easily oxidized and iron as the main components, and therefore has low corrosion resistance and has problems such as deterioration in performance and variation.
[0004]
For the purpose of improving the low corrosion resistance of such R-Fe-B magnets, there have been proposed permanent magnets having various protective layers having corrosion resistance on the surface or a method for producing the same (Japanese Patent Laid-Open No. 60/1990). No. -54406, No. 60-63901, No. 60-63902, No. 61-130453, No. 61-150201, No. 61-166115, No. 61-166116, No. 61- 166117, 61-185910, 61-270308, 62-120004, etc.).
[0005]
Such a protective layer is composed of a metal, a compound such as a metal oxide or a metal nitride, an organic material such as glass or resin, or a mixture thereof. The layering method includes liquid phase plating such as electroplating, vapor phase plating such as sputtering, ion plating and vacuum deposition, coating methods such as dip coating, brush coating, pouring, hot dipping, electrodeposition coating, etc. Has been applied. Among the protective layers formed by these methods, the metal protective layer by electroplating is useful because it is excellent in mass productivity and not only improves corrosion resistance but also exhibits a reinforcing effect in mechanical strength. .
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
In general, the protective layer formed by electroplating is formed of a metal that is electrochemically nobler than the R-Fe-B magnet body, such as Cu / Sn / Ni, and thus a plating bath in which such a metal is dissolved. Shows a corrosive action on the magnet body. Therefore, until the protective layer is completely formed, some dissolution of the magnet body in the plating bath occurs.
[0007]
Of the magnet body components that dissolve in this way, most of Fe can be converted into trivalent Fe ions that are easily precipitated by air oxidation, and therefore can be easily removed by continuous filtration treatment usually performed in a plating apparatus. is there. B is trivalent BOThreeAlthough it becomes an ion, this also has little effect on the performance of the protective layer, as expected because boric acid or borate is often added to the plating bath as a pH buffer.
[0008]
However, ions of rare earth elements (hereinafter sometimes referred to as element R or simply R) do not change their precipitation due to oxidation, and are electrochemically very basic. Also does not happen. Therefore, if the plating bath is used continuously, it accumulates in the plating bath. When the increased R ion concentration becomes a certain level or more, appearance abnormalities such as stains, pinholes, and delamination occur in the protective layer to be formed, resulting in a problem that the corrosion resistance is lowered.
[0009]
For such accumulation of R ions, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-34300 proposes a method of removing R ions by adding phosphoric acid alkyl ester and reacting them. However, in this method, the reaction product is a gel-like ion aggregate, and the ion aggregate has a low specific gravity and floats on the plating bath, so that it is difficult to remove from the bath by filtration. There is. Moreover, since the process which removes unreacted phosphoric acid alkylester with activated carbon is required after a process, there also exists a problem that R ion removal cannot be performed during plating bath operation.
[0010]
An object of the present invention is to provide a method of stably producing a permanent magnet having a protective layer that prevents accumulation of R ions in the plating bath as described above and exhibits a certain appearance and corrosion resistance. .
[0011]
[Means for Solving the Problems]
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (10) below.
(1) A permanent magnet having a step of forming a protective layer by electroplating in close contact with the surface of a permanent magnet body containing R (where R is one or more of rare earth elements including Y), Fe and B A manufacturing method comprising:
In the electroplating, a sulfamic acid plating bath substantially not containing a chloride component is used, and R ions in the plating bath that increase with repetition of electroplating are continuously or intermittently added by azodisulfonic acid. A method for manufacturing a permanent magnet, which prevents defects and appearance defects of the protective layer by removing.
(2) The method for producing a permanent magnet according to (1), wherein azodisulfonic acid is added to the plating bath or azodisulfonic acid is generated in the plating bath in order to remove R ions in the plating bath.
(3) The method for producing a permanent magnet according to (1), wherein azodisulfonic acid is generated in the plating bath while the plating bath is in operation.
(4) The method for producing a permanent magnet according to any one of (1) to (3) above, wherein the azodisulfonic acid is generated chemically, electrochemically or photochemically.
(5) The method for producing a permanent magnet according to (4), wherein the azodisulfonic acid is produced by adding an oxidizing agent to a solution containing a sulfamate.
(6) The method for producing a permanent magnet according to (4) above, wherein the azodisulfonic acid is produced by subjecting a solution containing a sulfamate to an electrolytic treatment using an insoluble anode.
(7) The method for producing a permanent magnet according to (4), wherein the azodisulfonic acid is produced by subjecting a solution containing a sulfamate to electrolytic treatment using a Ni-containing anode.
(8) During the electrolytic treatment, the anode current density is 6 A / dm.2The manufacturing method of the permanent magnet according to (7) above.
(9) The method for producing a permanent magnet according to (4) above, wherein the azodisulfonic acid is produced by subjecting a solution containing sulfamate to an oxidation treatment using a photocatalyst containing titanium oxide.
(10) Any one of (1) to (9) above, wherein sulfate ions in the plating bath, which are increased by hydrolysis of sulfamic acid by repeated electroplating, are removed by adding a barium compound to the plating bath. Of manufacturing permanent magnets.
[0012]
[Action]
R ions may precipitate as hydroxides from almost neutral solutions, but are usually removed by filtration in order to maintain dissolution in acidic and basic plating baths where plating operations are performed. Is impossible. In addition, there is a plating bath that can perform a plating operation near neutrality. In this case, since a complexing agent is added for the purpose of preventing precipitation of metal ions to be plated, R ions do not precipitate. Removal by filtration is not possible.
[0013]
However, the present inventor, while continuously monitoring the R ion concentration in the plating bath in the continuous operation in the plating baths having various compositions, increases the R ion concentration in a specific bath composition and specific processing conditions. Has been found to be abnormally reduced, leading to the present invention.
[0014]
Specifically, the increase in the R ion concentration was small when the sulfamic acid-based plating bath contained no chloride and was plated with a relatively large anode current density. However, in the case of a model experiment in which an R compound was simply dissolved in a sulfamic acid plating bath containing no chloride and the filtration operation was performed, the R ion concentration did not decrease.
[0015]
Therefore, when an electrolysis treatment using an insoluble anode is performed on a sulfamic acid-based plating bath not containing chloride, a precipitate is generated and removed by a filtration operation. Along with this, R ions in the plating bath are generated. It was found that the concentration decreased. Therefore, this precipitate is considered to be an R compound. Since it was confirmed that the precipitate obtained in this experiment was easily dissolved in dilute hydrochloric acid, the increase in the R ion concentration was suppressed in the sulfamic acid plating bath containing no hydrochloric acid component. I can explain.
[0016]
Moreover, when the oxidation treatment with permanganate or ozone was applied to the plating bath, a decrease in the R ion concentration was also observed.
[0017]
When plating is performed using a sulfamic acid-based plating bath, depending on conditions, sulfamic acid ions are oxidized at the anode and azodisulfonic acid ions (SOThreeNNSOThree 2-) Is known to produce. Based on this and the conditions under which the R ions decrease, the present inventor found that azodisulfonic acid produced at the anode by the plating operation under specific conditions in a sulfamic acid-based plating bath not containing chlorine ions. It was considered that the increase in the R ion concentration was partially suppressed. Actually, when the above-described oxidation treatment was performed on the plating bath so that azodisulfonic acid was formed, a precipitate was formed and the R ion concentration in the bath was significantly reduced.
[0018]
Therefore, in the present invention, azodisulfonic acid is added to the plating bath, or azodisulfonic acid is generated in the plating bath, thereby forming a precipitate by bonding of azodisulfonic acid and R ions, thereby removing R ions. The configuration. Thereby, in this invention, R ion concentration itself can be reduced rather than reducing the increase rate of R ion concentration in a plating bath. Conventionally, a sulfamic acid-based plating bath containing no chloride has a relatively long life. However, by applying the present invention to this plating bath, it is not necessary to discard and renew the plating bath for a very long period of time. In the present invention, it is also possible to produce azodisulfonic acid in the plating bath during operation of the plating bath. In this case, the plating bath can be continuously operated over a long period of time, so that productivity is improved. And it is extremely effective for cost reduction.
[0019]
In addition, when using a sulfamic acid bath for a long period, it is known that a part of sulfamic acid will hydrolyze and it will become a sulfate ion and an ammonium ion. Since the precipitate produced by the present invention is dissolved in dilute sulfuric acid, the accumulation of sulfate ions in the bath inhibits the formation of the precipitate. However, the sulfate ions generated in the bath can be removed by adding a barium compound, precipitating as barium sulfate, and filtering. Therefore, if the increased sulfate ion is removed by the barium compound, the effect of lowering the R ion concentration by azodisulfonic acid can be maintained over a long period of time.
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the present invention, before the protective layer is formed on the permanent magnet body, pretreatment is performed using a predetermined treatment liquid.
[0021]
Non-oxidizing acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid are often used for the plating pretreatment. However, when a permanent magnet body containing rare earth elements is treated with these acids, hydrogen generated by the acid is occluded on the surface of the permanent magnet body, and the occlusion site becomes brittle, resulting in a large amount of powdery undissolved matter. Occurs. Since this powdery undissolved substance causes a defect of the protective layer or causes a decrease in adhesion, it is preferable not to include a non-oxidizing acid in the treatment liquid. Therefore, the acid used is preferably nitric acid, which is an oxidizing acid that generates little hydrogen. By using nitric acid, the surface of the magnet body is chemically etched by the oxidation action, and a fine uneven structure that cannot be confirmed with the naked eye is formed.
[0022]
The amount of dissolution of the magnet body by such pretreatment is preferably 5 μm or more, more preferably 10 to 15 μm in average thickness from the surface. When the dissolution amount is less than 5 μm, the deteriorated layer and the oxide layer cannot be completely removed by processing the surface of the magnet body, so that sufficient adhesion cannot be obtained. The average depth of the irregularities (depth from the valley to the mountain) is preferably about 1 to 5 μm. Moreover, it is preferable that the average pitch of unevenness | corrugation is about 10-50 micrometers. These improve adhesion.
[0023]
The concentration of nitric acid in the treatment solution used for such pretreatment is desirably 1 N or less, particularly 0.6 N or less, and more preferably 0.5 N or less. When the nitric acid concentration exceeds 1N, the dissolution rate of the magnet body becomes extremely fast, and it becomes difficult to control the amount of dissolution and to obtain a product with a desired dimensional accuracy. In addition, when a large amount of processing is performed, such as barrel processing, variation in processing state becomes large.
[0024]
The amount of Fe dissolved at the end of the treatment is about 1 to 10 g / L (liter). That is, the dissolution treatment is performed by batch processing, and the treatment liquid may be discarded when the amount of dissolved Fe becomes this level.
[0025]
The treatment temperature with the treatment liquid is preferably 40 ° C. or less, more preferably 30 ° C. or less, and further preferably 20 ° C. or less. The treatment time may be appropriately adjusted depending on the treatment liquid composition, temperature, and target etching amount, but it is usually preferably 1 to 20 minutes.
[0026]
In order to completely remove a small amount of undissolved substances and residual acid components from the pretreated magnetic body surface, it is preferable to perform cleaning using ultrasonic waves. This ultrasonic cleaning is preferably performed in water having a low chloride ion content such as ion-exchanged water or a solution in which a small amount of a basic compound is dissolved for the purpose of neutralizing residual acid. When chlorine ions are contained in the cleaning liquid, it causes rust generation on the magnet surface, and it is brought into the plating bath to inhibit precipitation of azodisulfonic acid and R ions. If necessary, the same immersion cleaning with water or a basic aqueous solution may be performed before and after the ultrasonic cleaning. Furthermore, before performing the pretreatment, depending on the processing method and storage state of the magnet body, mechanical polishing treatment and dipping or electrolytic degreasing treatment or alkali derusting treatment usually performed as plating pretreatment may be performed. .
[0027]
In the pretreatment with the acid, it is preferable not to apply ultrasonic waves. This is because the unevenness may become too large due to the erosion action.
[0028]
A protective layer is formed on the cleaned magnet body surface by electroplating. By forming the protective layer by electroplating, a high-performance corrosion-resistant film having excellent mass productivity can be formed.
[0029]
In the present invention, the protective layer contains Ni as a main component. By using Ni for the protective layer, the strength of the protective layer is increased and an excellent antirust effect can be obtained. In the present invention, this protective layer is formed by electroplating. For this electroplating, an anode containing Ni and a nickel sulfamate bath substantially free of chloride components are used.
[0030]
Examples of the composition of the sulfamic acid bath include, for example,
Ni (NH2SOThree)2・ 4H2O: 150-600 g / L,
NiBr2・ 6H2O: 0 to 30 g / L,
Boric acid: 30-60g / L
Is preferred. When the plating bath is constructed, it is preferable that the water used does not contain chlorine, and the amount of chlorine in the bath is preferably 0.01 g / L or less. Thus, by removing the chlorine component from the plating bath, the occurrence of swelling due to aging can be prevented, and the effect of removing R ions by azodisulfonic acid can be sufficiently exhibited.
[0031]
As for the plating conditions, the pH (hydrogen ion concentration) is preferably 3 to 6, particularly 4.0 to 5.0, and the temperature is preferably 30 to 70 ° C. If the pH is too low, the magnet body is dissolved, and sulfate ions increase in the bath due to hydrolysis of sulfamic acid, thereby inhibiting the R ion removal effect of azodisulfonic acid. If the pH is too high, nickel hydroxide will precipitate and the plating film will become brittle.
[0032]
In the present invention, R ions in the plating bath during operation are periodically analyzed, and the concentration is preferably controlled to be 3 g / L or less, more preferably 1 g / L or less. Although the analysis method is arbitrary, plasma emission spectroscopy can be preferably used. The frequency of analysis varies depending on the capacity of the plating bath, the shape of the magnet body, and the processing amount, but may be about once per week.
[0033]
When the above analysis shows that the upper limit concentration of R ions is acceptable, azodisulfonic acid is added to the plating bath. As a result, R ions in the plating bath combine with azodisulfonic acid to form a precipitate, and the R ion concentration in the bath decreases. However, since azodisulfonic acid itself is difficult to obtain, sulfamate solution is chemically, electrochemically or photochemically oxidized to produce azodisulfonic acid, and this solution is added to the plating bath. It is preferable to do. The sulfamate used in this case is preferably an alkali metal sulfamate such as Li, Na, or K. The amount of azodisulfonic acid added may be appropriately determined so that the amount of R ions in the plating bath decreases to the target amount.
[0034]
In addition, since the sulfamic acid plating bath itself is a sulfamate solution, the oxidation bath is chemically, electrochemically, or photochemically applied to the plating bath that is the target for removing R ions. Can also produce azodisulfonic acid. In this method, the amount of the plating bath does not fluctuate as compared with the method of adding the azodisulfonic acid-containing solution from the outside, and the plating bath is operated continuously or intermittently in the plating bath during the operation of the plating bath. Since azodisulfonic acid can be produced, it is a more preferable method.
[0035]
When chemically oxidizing the sulfamate solution, an oxidizing agent may be added to the solution. As the oxidizing agent, permanganate such as potassium permanganate and / or ozone is preferable. When using a permanganate, azodisulfonic acid is sufficiently produced by adding and stirring for several hours, and then hydrogen peroxide is added to decompose the remaining permanganate, and the produced dioxide. Manganese is removed by filtration. On the other hand, when ozone is used as the oxidizing agent, ozone may be blown into the sulfamate solution. When the azodisulfonic acid production treatment with ozone is directly applied to the plating bath, for example, if an ozone generator is installed on the suction side of the blower for stirring the air in the plating bath, ozone is continuously blown into the plating bath. Therefore, it is possible to generate azodisulfonic acid in the plating bath during operation. On the other hand, in the method of adding permanganate to the plating bath, as described above, batch processing is performed to remove permanganate. Therefore, ozone is preferable as the oxidizing agent. In addition, ozone may be blown into the plating bath intermittently. What is necessary is just to determine the addition amount of an oxidizing agent suitably according to the amount of R ion in a plating bath.
[0036]
When electrochemically oxidizing the sulfamate solution, it is preferable to use the first electrolytic treatment or the second electrolytic treatment described below.
[0037]
In the first electrolytic treatment, it is preferable to generate azodisulfonic acid by inserting an insoluble anode and a dummy cathode into the sulfamate solution and performing an empty electrolytic treatment for several minutes to several tens of minutes. As the insoluble anode, for example, a platinum-plated titanium anode or a carbon anode can be used. The anode current density in this case is not particularly limited, but it is possible to generate azodisulfonic acid even when the anode current density is relatively low, and that the generation of gas increases when the anode current density is increased. The anode current density is 1A / dm2The following is preferable.
[0038]
When the first electrolytic treatment is directly applied to the plating bath, a power source independent of the power source used for normal plating operation (plating operation for forming the protective layer) is installed, and the insoluble anode and If it is set as the structure which supplies an electric current with respect to the said dummy cathode, an azodisulfonic acid production | generation process can be performed with respect to the plating bath in operation.
[0039]
On the other hand, in the second electrolytic treatment, a Ni-containing anode used for a normal plating operation is used, and the anode current density is made higher than that of a normal plating operation. As a result, the oxidation of the anode cannot catch up. As a result, a part of the supplied current is consumed for the oxidation of the sulfamate ion, so that azodisulfonic acid is generated. The anode current density in this case is preferably 6 A / dm.2Or more, more preferably 10 A / dm2That's it. However, if the anode current density is remarkably increased, the voltage required for energization increases and a large power supply device is required. Therefore, the anode current density is 15 A / dm.2The following is preferable.
[0040]
In addition, the anode current density in normal plating in which a plating bath is repeatedly used, such as formation of a protective layer on a magnet body, is 1 to 5 A / dm.2(See, for example, Table 4-10 on page 111 of the “Plating Technology Guide” issued by the National Association of Plating Materials Association). Therefore, also in the present invention, the anode current density when forming the protective layer is preferably within this range. On the other hand, the cathode current density is a condition that greatly affects the film quality of the plating film, and what is simply described as the current density as the plating condition is this cathode current density. In the present invention, the cathode current density at the time of forming the protective layer may be the same as the conventional one. For example, as described in JP-A-4-283911, 0.1-10 A / dm2It should be about. If the cathode current density is too low, the number of impurities folded into the plating film increases, and a film with poor appearance and low corrosion resistance tends to be formed. On the other hand, if the cathode current density is too high, hydrogen generation near the cathode increases, and hydrogen is occluded in the magnet body, causing a decrease in adhesion.
[0041]
When the second electrolytic treatment is directly applied to the plating bath, a magnet body to be plated may be used for the cathode. However, it is preferable to use a dummy cathode because the cathode current density is excessive and there is a high possibility that a good quality protective layer cannot be formed. On the other hand, when the second electrolytic treatment is performed on a sulfamate solution different from the plating bath, a dummy cathode may be used.
[0042]
When the second electrolytic treatment is directly applied to the plating bath, azodisulfonic acid can be generated during the operation of the plating bath or simply by replacing the dummy cathode, so that the influence on productivity is small.
[0043]
When the second electrolytic treatment is performed, the pH of the plating bath may be lowered to an extent that falls outside the preferred range. Therefore, it is preferable to adjust the pH after completion of the treatment, if necessary. When the second electrolytic treatment is applied to a sulfamate solution different from the plating bath, the pH is increased by adding an alkali metal carbonate or hydroxide such as lithium or sodium into the solution, What is necessary is just to throw this solution in a plating bath. On the other hand, when the second electrolytic treatment is performed on the plating bath, for example, nickel carbonate can be added to the plating bath to adjust the pH.
[0044]
In addition, what is necessary is just to determine suitably the process time in the case of performing an electrochemical oxidation process intermittently so that the amount of R ion in a plating bath may fall to the target quantity.
[0045]
When photochemically oxidizing the sulfamate solution, azodisulfonic acid is generated by bringing a photocatalyst containing titanium oxide into contact with the sulfamate solution. Titanium oxide may be either anatase type or rutile type, but anatase type titanium oxide is preferred in terms of obtaining stronger catalytic activity. When the photochemical oxidation treatment is performed on the plating bath, for example, at least a part of the continuous filtration pipe is a translucent portion made of a transparent material such as glass, and a film containing a photocatalyst on the inner surface of the translucent portion And azodisulfonic acid may be generated by irradiating the light transmitting part with ultraviolet rays. Since continuous filtration is performed during operation of the plating bath, azodisulfonic acid can be continuously supplied into the plating bath during operation by generating azodisulfonic acid in the piping for continuous filtration.
[0046]
In any of the above oxidation treatment means, in order to remove the precipitate generated in the plating bath, a continuous filtration treatment apparatus provided in the plating apparatus can be used. May be performed.
[0047]
Note that the presence of the azodisulfonic acid produced by each oxidation treatment can be confirmed in a transparent solution by specific light absorption based on an azo bond (N = N). On the other hand, in a plating bath containing a large amount of colored nickel ions, it is difficult to accurately monitor the increase or decrease in azodisulfonic acid. However, azodisulfonic acid is known to have the effect of changing the stress of the nickel plating film to the compressive stress side. Therefore, by periodically measuring the stress of the nickel plating film formed, the increase or decrease can be increased. It can also be monitored indirectly. However, when carrying out the present invention, it is not necessary to accurately grasp the azodisulfonic acid content in the sulfamate solution added to the plating bath or the azodisulfonic acid content in the plating bath. That is, the degree of each oxidation treatment may be controlled so that the R ion concentration in the plating bath is reduced by a desired amount.
[0048]
Even if the plating treatment is performed under proper operating conditions, a part of sulfamic acid is hydrolyzed and sulfate ions accumulate in long-term use. As a result, R ions having a concentration substantially equal to the accumulated sulfate ion concentration remain after the oxidation treatment. In that case, it is preferable to add a barium salt such as barium hydroxide to the bath to precipitate sulfate ions as barium sulfate, and remove the precipitate by filtration. This makes it possible to fully function the R ion removing action of azodisulfonic acid over a long period of time. The sulfate ion concentration can be analyzed by an ion chromatograph or the like.
[0049]
In the present invention, multilayer plating for the purpose of improving corrosion resistance such as known double nickel plating and trinickel plating having different natural potentials can be preferably used as necessary. In the case of multilayer plating, the present invention is applied at least when forming an electroplated film that is in close contact with the magnet body.
[0050]
In forming the protective layer by electroplating, a rack plating method or a barrel plating method is appropriately applied according to the size and shape of the magnet body. In general, a magnet body having a large size that is processed by a rack plating method has a large area that requires a defect-free protective layer, so that the protective layer needs to be relatively thick. In this case, the thickness of the protective layer made of an electroplated film is preferably 20 to 30 μm. On the other hand, in a magnet body having a weight of several tens of grams or less that is processed in a large amount by barrel plating, there is no problem even if the protective layer is relatively thin because the surface area is small. In this case, the thickness of the protective layer is preferably 10 to 20 μm.
[0051]
In addition, if necessary, a protective layer by another technique, such as an electroless plating layer, a resin layer by various coating methods, etc. can be provided on the protective layer by electroplating. It is possible to make the protective layer by electroplating thinner.
[0052]
In the present invention, the permanent magnet body having the protective layer on the surface thereof contains R (where R is one or more of rare earth elements including Y), Fe and B.
[0053]
The contents of R, Fe and B are in atomic percentages
5.5 ≦ R ≦ 30,
42 ≦ Fe ≦ 90,
2 ≦ B ≦ 28
In particular, when a permanent magnet body is produced by a sintering method, R is preferably 8 atomic% or more.
[0054]
The rare earth element R includes at least one of Nd, Pr, Ho, and Tb, or further includes one or more of La, Sm, Ce, Gd, Er, Eu, Pm, Tm, Yb, and Y. preferable. In addition, when using 2 or more types of elements as R, mixtures, such as a misch metal, can also be used as a raw material. If the R content is too small, the crystal structure becomes a cubic structure having the same structure as that of α-Fe, so that high coercive force (HcJ) cannot be obtained. On the other hand, if the R content is too large, the R-rich non-magnetic phase increases and the residual magnetic flux density (Br) decreases. If the Fe content is too low, Br will be low, and if it is too high, HcJ will be low. If the B content is too small, the rhombohedral fabric is formed, so that HcJ is insufficient. If the B content is too large, the B-rich nonmagnetic phase increases, so the Br becomes low.
[0055]
Note that by replacing part of Fe with Co, the temperature characteristics can be improved without deteriorating the magnetic characteristics. In this case, if the Co substitution amount exceeds 50% of Fe, the magnetic properties deteriorate, so the Co substitution amount is preferably 50% or less.
[0056]
Furthermore, by replacing a part of B with one or more of C, P, S, and Cu, productivity can be improved and cost can be reduced. In this case, the amount of substitution is preferably 4 atomic% or less. In addition, Al, Ti, V, Cr, Mn, Bi, Nb, Ta, Mo, W, Sb, Ge, Sn, Zr, Ni, Si are used to improve coercivity, improve productivity, and reduce costs. One or more of Hf and the like may be added. In this case, the total amount added is preferably 10 atomic% or less.
[0057]
The permanent magnet body in the present invention has a main phase having a substantially tetragonal crystal structure. The particle size of the main phase is preferably about 1 to 100 μm. And it usually contains 1-50% nonmagnetic phase by volume ratio.
[0058]
Such a permanent magnet body is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-185910 described above.
[0059]
The permanent magnet body as described above is preferably manufactured by a sintering method as described below. First, an alloy having a desired composition is cast to obtain an ingot. The obtained ingot is coarsely pulverized to a particle size of about 10 to 100 μm by a stamp mill or the like, and then finely pulverized to a particle size of about 0.5 to 5 μm by a ball mill or the like. The obtained powder is preferably shaped in a magnetic field. In this case, the magnetic field strength is preferably 800 kA / m or more, and the molding pressure is preferably about 100 to 500 MPa. The obtained molded body is sintered at 1000 to 1200 ° C. for 0.5 to 5 hours and rapidly cooled. The sintering atmosphere is preferably an inert gas atmosphere such as Ar gas. Thereafter, an aging treatment is preferably performed at 500 to 900 ° C. for 1 to 5 hours in an inert gas atmosphere.
[0060]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.
[0061]
Common conditions
A flat ring-shaped sintered body having a composition of 14Nd-1Dy-7B-78Fe (numbers are atomic ratios), an outer diameter of 35 mm, an inner diameter of 20 mm, and a height of 2 mm was produced by a powder metallurgy method. The sintered body was subjected to barrel polishing to obtain a magnet body. As a pretreatment for plating, the magnet body was subjected to a surface layer dissolution treatment with a 0.5 N nitric acid solution and an ultrasonic cleaning treatment in ion-exchanged water.
[0062]
The plating bath has a total capacity of 0.5mThree4 each of the above-mentioned pre-treated samples and 4 hexagonal columnar barrels with a diameter of 0.3 m and a length of 0.5 m, charged with 2 kg of steel balls with a diameter of 3 mm and with Ni plating for assisting energization. Then, barrel plating was performed for 4 hours at a current value of 50 A per barrel. The pH of the plating bath is 4.5 ± 0.2, the temperature of the plating bath is 50 ± 3 ° C., and the anode current density is 2 A / dm as the anode.2An electrolytic nickel plate having an area to be used was used.
[0063]
The barrel plating process was performed 3 times / day while updating the sample, and the plating solution was sampled every weekend to measure the R ion concentration in the plating bath. In addition, a total number of appearance inspections were performed on the samples after plating. Further, n = 10 samples extracted from each batch were put into a pressure cooker test at a temperature of 120 ° C., a pressure of 0.2 MPa, a relative humidity of 100%, and 24 hours to perform a corrosion resistance test.
[0064]
Example 1
Ni (NH2SOThree)2・ 4H2O: 600 g / L,
NiBr2・ 6H2O: 15 g / L,
Boric acid: 40 g / L
The sample was plated for 3 months using a plating bath containing, and the R ion concentration (total concentration of Nd ions and Dy ions) in the bath was continuously measured. The transition of the R ion concentration in the plating bath is shown in FIG.
[0065]
As shown in FIG. 1, the R ion concentration was 1 g / L or less even after 3 months. In addition, the plating film formed had an appearance defect rate of 1% or less such as pinholes and spots, and no occurrence of defects was observed in the pressure cooker test. However, from FIG. 1, it is expected that the R ion concentration exceeds 3 g / L by continuous operation for about one year.
[0066]
Electrochemical oxidation treatment
1 liter of sodium sulfamate solution with a concentration of 100 g / L is prepared, and the anode current density is 1 A / dm using a platinum-plated titanium plate as an anode and a stainless plate as a cathode.2A part of sulfamic acid was electrochemically oxidized by applying an electrolytic treatment for 10 minutes to prepare an azodisulfonic acid-containing solution.
[0067]
0.05 liter of the azodisulfonic acid-containing solution was added to 1 liter of the plating solution sampled from the plating bath after 3 months of use, and the mixture was stirred for 2 hours. When filtration was performed using 5C filter paper, a pale white precipitate was observed. When the R ion concentration in the plating solution after filtration was analyzed, it was reduced to 0.02 g / L.
[0068]
In order to simulate a state in which the R ion concentration further increased, an R compound (neodymium oxide) was added so that the R ion concentration in the plating bath was 4 g / L. Subsequently, after performing the same treatment as the above electrochemical oxidation treatment except that the amount of the azodisulfonic acid-containing solution added was 0.2 liter, the R ion concentration after filtration was 0. Reduced to 05 g / L.
[0069]
Example 2
Ni (NH2SOThree)2・ 4H2O: 150 g / L,
NaNH2SOThree : 200 g / L,
NiBr2・ 6H2O: 5 g / L,
Boric acid: 40 g / L
A plating bath containing was used to plate the sample for 3 months and the R ion concentration in the bath was continuously measured. The transition of the R ion concentration in the plating bath is also shown in FIG.
[0070]
As shown in FIG. 1, the R ion concentration was 0.5 g / L or less even after 3 months. In addition, the plating film formed had an appearance defect rate of 1% or less such as pinholes and spots, and no occurrence of defects was observed in the pressure cooker test.
[0071]
Chemical oxidation treatment
0.03 liter of 1N potassium permanganate solution was added to 1 liter of plating solution sampled from the plating bath after 3 months of use, and stirred for 4 hours. A hydrogen peroxide solution having a concentration of 30% by mass was added until the reddish purple color of the plating solution disappeared, and the remaining potassium permanganate was decomposed. Filtration was performed using 5C filter paper. When the R ion concentration in the plating solution after filtration was analyzed, it was less than the detection limit (0.001 g / L).
[0072]
In addition, in order to simulate the state where the R ion concentration further increased, the R compound was added in the same manner as in Example 1. Next, treatment was performed in the same manner as the above chemical oxidation treatment except that the amount of potassium permanganate solution added was 0.15 liter, and filtration was performed. The R ion concentration after filtration was 0.05 g / L. It was decreasing until.
[0073]
Electrochemical oxidation treatment
One liter of plating solution is sampled from the above plating bath after 3 months of use, and the anode current density is 12 A / dm using a high-purity electrolytic nickel plate as the anode and a stainless steel mesh as the cathode.2No. 10 was subjected to electrolytic treatment for 10 minutes and stirred for 2 hours after removing both electrodes. Filtration was performed using 5C filter paper. When the R ion concentration in the plating solution after filtration was analyzed, it was less than 0.001 g / L.
Sulfate ion removal treatment
One liter of plating solution is sampled from the plating bath after 3 months of use, 5 g of ammonium sulfate is added to simulate the state in which sulfate ions are generated by hydrolysis of sulfamic acid, and then the electrochemical oxidation treatment is performed. And filtration was performed. When the R ion concentration in the plating solution after filtration was analyzed, almost no decrease was observed.
[0074]
Therefore, when 6.5 g of barium hydroxide was added to the plating solution after filtration, and the plating solution after filtration was again subjected to the electrochemical oxidation treatment and filtration, the R ion concentration was 0. It decreased to less than 0.001 g / L.
[0075]
Comparative Example 1
Ni (NH2SOThree)2・ 4H2O: 600 g / L,
NiCl2・ 6H2O: 15 g / L,
Boric acid: 40 g / L
Using the plating bath containing, the sample was plated for 3 months in the same manner as in Example 1 and the R ion concentration in the bath was continuously measured. The only difference from the composition used in Example 1 is that nickel bromide was replaced with nickel chloride. The transition of the R ion concentration in the plating bath is also shown in FIG.
[0076]
As shown in FIG. 1, the R ion concentration increased at a rate about 3 times that of Example 1 and exceeded 3 g / L after 3 months. In addition, the appearance defect rate of pinholes, spots, etc. of the formed plating film gradually increases and reaches 5% after 3 months. At this point, the occurrence of defects in the pressure cooker test is recognized. It was.
[0077]
Electrochemical oxidation treatment
0.05 liter of the azodisulfonic acid-containing solution prepared in Example 1 was added to 1 liter of the plating solution sampled from the plating bath after use for 3 months, and after stirring for 2 hours, Filtration was performed using 5C filter paper, but no precipitation was confirmed. When the R ion concentration in the plating solution after filtration was analyzed, it was hardly reduced to 3 g / L or more. This is because chloride was contained in the plating bath.
[0078]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is not necessary to frequently discard and renew the plating bath for forming the protective layer. Therefore, a permanent magnet having few appearance defects and good corrosion resistance can be stably manufactured over a long period of time.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the number of days of plating and the concentration of R (rare earth element) ions in a plating bath.
Claims (4)
前記電気めっきに際し、塩化物成分を実質的に含有しないスルファミン酸系めっき浴を用い、電気めっきの繰り返しに伴って増大する前記めっき浴中のRイオンを、アゾジスルホン酸によって連続的または間欠的に除去することにより、前記保護層の欠陥および外観不良を防ぐ永久磁石の製造方法であって、
前記アゾジスルホン酸が、スルファミン酸塩を含有する溶液に酸化剤を添加することにより生成されたものである永久磁石の製造方法。 R (wherein, R is one or more rare earth elements including Y), in close contact with the surface of the permanent magnet body containing Fe and B, have a step of forming a protective layer by electroplating,
In the electroplating, a sulfamic acid plating bath substantially not containing a chloride component is used, and R ions in the plating bath that increase with repetition of electroplating are continuously or intermittently generated by azodisulfonic acid. A method of manufacturing a permanent magnet that prevents defects in the protective layer and appearance defects by removing ,
A method for producing a permanent magnet, wherein the azodisulfonic acid is produced by adding an oxidizing agent to a solution containing a sulfamate.
前記電気めっきに際し、塩化物成分を実質的に含有しないスルファミン酸系めっき浴を用い、電気めっきの繰り返しに伴って増大する前記めっき浴中のRイオンを、アゾジスルホン酸によって連続的または間欠的に除去することにより、前記保護層の欠陥および外観不良を防ぐ永久磁石の製造方法であって、In the electroplating, a sulfamic acid plating bath substantially not containing a chloride component is used, and R ions in the plating bath that increase with repetition of electroplating are continuously or intermittently generated by azodisulfonic acid. A method of manufacturing a permanent magnet that prevents defects in the protective layer and appearance defects by removing,
前記アゾジスルホン酸が、スルファミン酸塩を含有する溶液に対しNi含有陽極を用いて、陽極電流密度6When the azodisulfonic acid is a Ni-containing anode for a solution containing sulfamate, an anode current density of 6 A/dmA / dm 22 以上の条件で、電解処理を行うことにより生成されたものである永久磁石の製造方法。The manufacturing method of the permanent magnet which is produced | generated by performing an electrolysis process on the above conditions.
前記電気めっきに際し、塩化物成分を実質的に含有しないスルファミン酸系めっき浴を用い、電気めっきの繰り返しに伴って増大する前記めっき浴中のRイオンを、アゾジスルホン酸によって連続的または間欠的に除去することにより、前記保護層の欠陥および外観不良を防ぐ永久磁石の製造方法であって、In the electroplating, a sulfamic acid plating bath substantially not containing a chloride component is used, and R ions in the plating bath that increase with repetition of electroplating are continuously or intermittently added by azodisulfonic acid. A method of manufacturing a permanent magnet that prevents defects in the protective layer and appearance defects by removing,
前記アゾジスルホン酸が、スルファミン酸塩を含有する溶液に対し酸化チタンを含む光触媒を用いて酸化処理を施すことにより生成されたものである永久磁石の製造方法。A method for producing a permanent magnet, wherein the azodisulfonic acid is produced by subjecting a solution containing sulfamate to an oxidation treatment using a photocatalyst containing titanium oxide.
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