JP3666054B2 - 基板用ガラス - Google Patents
基板用ガラス Download PDFInfo
- Publication number
- JP3666054B2 JP3666054B2 JP11383595A JP11383595A JP3666054B2 JP 3666054 B2 JP3666054 B2 JP 3666054B2 JP 11383595 A JP11383595 A JP 11383595A JP 11383595 A JP11383595 A JP 11383595A JP 3666054 B2 JP3666054 B2 JP 3666054B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- thermal expansion
- substrate
- expansion coefficient
- strain point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、基板用ガラスに関し、特にプラズマディスプレイパネルの基板材料として好適な基板用ガラスに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来よりプラズマディスプレイパネルの基板としては、建築窓用ソーダライムガラス板が使用されており、この基板表面に、Al、Ni、Ag、ITO、ネサ膜等からなる電極や絶縁ペーストを500〜600℃の温度で焼き付けることによって回路が形成される。その後、500〜600℃の温度でフリットシールすることによってプラズマディスプレイが作製される。
【0003】
そのためこの種の基板用ガラスには、一般に次のような特性を満足することが要求される。
【0004】
▲1▼500〜600℃、特に570℃以上の温度で熱処理する際の熱収縮を小さくするため、歪点が570℃以上であること。
【0005】
▲2▼熱膨張係数が、絶縁ペーストやシーリングフリットのそれと整合しているため反りが発生しないこと。つまり75〜95×10-7/℃の熱膨張係数を有すること。
【0006】
▲3▼ネサ膜等の薄膜電極と、ガラス中のアルカリ成分が反応すると、電極材料の電気抵抗値が変化してしまうため、ガラスの体積抵抗率が、150℃で1010Ω・cm以上と高く、アルカリ成分が薄膜電極と反応しないこと。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
建築窓用ソーダライムガラスは、約89×10-7/℃の熱膨張係数を有しており、これをプラズマディスプレイパネルの基板として用いても反りは発生しないが、歪点が500℃程度と低いため、570〜600℃の温度で熱処理する際の熱収縮が大きいという欠点を有している。
【0008】
またソーダライムガラスは、体積抵抗率が比較的低く、しかも化学的耐久性に乏しいため、長期間の保管、使用によって表面に焼けが発生し、プラズマディスプレイの表示画面が見づらくなるという欠点も有している。
【0009】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、570℃以上の温度で熱処理しても熱収縮が小さく、また75〜95×10-7/℃の熱膨張係数を有し、しかもソーダライムガラスに比べて体積抵抗率が高く、化学的耐久性に優れた基板用ガラスを提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板用ガラスは、重量百分率で、SiO2 50〜65%、Al2O3 3〜14%、MgO 0〜4%、CaO 0〜2.9%、SrO 2〜13%、BaO 2〜13%、MgO+CaO+SrO+BaO 17〜27%、Li2O 0〜1%、Na2O 2〜10%、K2O 2〜13%、Li2O+Na2O+K2O 7〜15%、ZrO2 1〜9%、TiO2 0〜5%、Sb2O3 0〜1%、As2O3 0〜1%の組成を有することを特徴とし、好ましくは、重量百分率で、SiO2 51〜64%、Al2O3 3〜14%、MgO 0〜3.5%、CaO 0〜2.8%、SrO 3〜12%、BaO 3〜12%、MgO+CaO+SrO+BaO 17〜27%、Li2O 0〜1%、Na2O 2.5〜9%、K2O 3〜12%、Li2O+Na2O+K2O 7〜15%、ZrO2 1.5〜8%、TiO2 0.1〜4%、Sb2O3 0〜1%、As2O3 0〜1%の組成を有することを特徴とする。
【0011】
【作用】
以下、本発明の基板用ガラスの各成分を上記のように限定した理由を説明する。
【0012】
SiO2 は、ガラスのネットワークフォーマーであり、その含有量は50〜65%、好ましくは51〜64%である。50%より小さいと、ガラスの歪点が低くなるため、熱収縮が大きくなり、一方、65%より多いと、熱膨張係数が小さくなりすぎる。
【0013】
Al2 O3 は、ガラスの歪点を高めるための成分であり、その含有量は2〜15%、好ましくは3〜14%である。2%より小さいと、上記効果が得られず、一方、15%より多いと、熱膨張係数が小さくなりすぎる。
【0014】
MgOは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数を制御するための成分であり、その含有量は0〜4%、好ましくは0〜3.5%である。4%より多いと、ガラスが失透しやすく、成形が困難となる。すなわちガラスが失透しやすいと、失透物の発生を抑えるため溶融温度を高くする必要があるが、溶融温度を高くすると、成形時のガラスが軟らかくなる。その結果、ガラス板の表面にうねりが発生したり、寸法精度が低下しやすくなり、高い表面精度や寸法精度が要求されるプラズマディスプレイパネルの基板として使用することが不可能となる。
【0015】
CaO、SrO及びBaOは、いずれもMgOと同様の作用を有する成分であり、CaOの含有量は、0〜2.9%、好ましくは0〜2.8%である。2.9%より多いと、ガラスが失透しやすく、成形が困難となる。
【0016】
またSrOとBaOの含有量は、各々2〜13%、好ましくは3〜12%である。これらの成分が、各々2%より少ないと、歪点が低くなりすぎ、一方、13%より多いと、ガラスが失透しやすく、成形が困難となる。
【0017】
ただしMgO、CaO、SrOおよびBaOの合量が、17%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりやすく、一方、27%より多いと、ガラスが失透しやすくなる。
【0018】
Li2 O、Na2 OおよびK2 Oは、いずれも熱膨張係数を制御するための成分であり、Li2 Oの含有量は、0〜1%である。Li2 Oが1%より多いと、歪点が低くなりすぎる。
【0019】
またNa2 Oの含有量は、2〜10%、好ましくは2.5〜9%である。2%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりすぎ、一方、10%より多いと、歪点が低くなりすぎる。
【0020】
K2 Oの含有量は、2〜13%、好ましくは3〜12%である。2%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりすぎ、一方、13%より多いと、歪点が低くなりすぎる。
【0021】
ただしLi2 O、Na2 OおよびK2 Oの合量が7%より少ないと、熱膨張係数が小さくなりやすく、一方、15%より多いと、歪点が低くなりやすくなる。
【0022】
ZrO2 は、ガラスの化学的耐久性を向上させるのに効果のある成分であり、その含有量は、1〜9%、好ましくは1.5〜8%である。1%より少ないと、化学的耐久性を向上させる効果に乏しくなると共に歪点が低くなりすぎ、一方、9%より多いと、熱膨張係数が小さくなりすぎると共に、ガラスの溶融時に失透物が生成しやすく成形が困難となる。
【0023】
TiO2 は、ガラスの紫外線による着色を防止する成分であり、その含有量は0〜5%、好ましくは0.1〜4%である。プラズマディスプレイの場合、放電時に紫外線が発生するが、基板が紫外線によって着色すると、長期間使用している間に徐々に表示画面が見づらくなる。従って本発明においては、TiO2 を0.1%以上含有させることが望ましい。しかしながら5%より多いと、ガラスが失透しやすく、成形が困難となるため好ましくない。
【0024】
Sb2 O3 とAs2 O3 は、いずれも清澄剤として使用する成分であり、その含有量は、各々0〜1%である。1%より多いと、ガラスが失透しやすくなり、成形が困難となる。
【0025】
【実施例】
以下、本発明の基板用ガラスを実施例に基づいて詳細に説明する。
【0026】
表1は、実施例の基板用ガラス(試料No.1〜6)と、比較例の基板用ガラス(試料No.7、8)を示すものである。因に試料No.8は、一般の建築窓用ソーダライムガラスである。
【0027】
【表1】
【0028】
表1の各試料は、次のようにして調製した。
【0029】
まず表中のガラス組成となるように原料を調合し、これを白金坩堝に入れた後、電気炉で1450〜1550℃の温度で4時間溶融し、この溶融ガラスをカーボン上に流し出して板状に成形した。次いで、このガラス板の両面を光学研磨することによってガラス基板を作製した。
【0030】
こうして得られた各試料について、歪点、液相温度、熱膨張係数、体積抵抗率および紫外線による着色の度合いを調べた。
【0031】
表1から明らかなように、実施例であるNo.1〜6の各試料は、歪点が572℃以上であるため、熱収縮が小さく、液相温度が1050℃以下であるため、失透し難いことが明らかである。またこれらの試料は、熱膨張係数が80〜89×10-7/℃であり、150℃における体積抵抗率が1011.4以上と高く、しかも紫外線による着色度合いが小さかった。
【0032】
それに対し、比較例であるNo.7の試料は、液相温度が1200℃と高いことから、失透しやすく、成形し難いものと考えられる。またNo.8の試料は、歪点が500℃と低く、且つ、体積対抗率が低いため、アルカリ成分が薄膜電極と反応しやすいものと考えられ、しかも紫外線による着色の度合いも大きかった。
【0033】
尚、表中の歪点は、ASTM C336−71の方法に基づいて測定し、液相温度は、白金ボートに297〜500μmの粒径を有するガラス粉末を入れ、温度勾配炉に48時間保持した後の失透観察によって求めたものである。
【0034】
また熱膨張係数は、ディラトメーターによって30〜380℃における平均熱膨張係数を測定したものであり、体積抵抗率は、ASTM C657−78に基づいて150℃における値を測定したものである。
【0035】
さらに紫外線による着色の度合いは、各ガラス基板を400Wの水銀ランプで48時間照射し、照射前後の波長400nmにおける紫外線透過率を測定し、その透過率の差を示したものである。この値が大きいほど、紫外線によって着色しやすいということになる。
【0036】
【発明の効果】
以上のように本発明の基板用ガラスは、570℃以上の温度で熱処理しても熱収縮が小さく、75〜95×10-7/℃の熱膨張係数を有し、また体積抵抗率が高く、しかも化学的耐久性に優れ、紫外線による着色も少ないため、プラズマディスプレイパネルの基板材料として好適である。
【0037】
さらに本発明の基板用ガラスは、失透し難いため、一般にガラス板の成形方法として知られているフロート法、フュージュン法、ロールアウト法等のいずれの方法によっても製造することが可能である。
Claims (2)
- 重量百分率で、SiO2 50〜65%、Al2O3 3〜14%、MgO 0〜4%、CaO 0〜2.9%、SrO 2〜13%、BaO 2〜13%、MgO+CaO+SrO+BaO 17〜27%、Li2O 0〜1%、Na2O 2〜10%、K2O 2〜13%、Li2O+Na2O+K2O 7〜15%、ZrO2 1〜9%、TiO2 0〜5%、Sb2O3 0〜1%、As2O3 0〜1%の組成を有することを特徴とする基板用ガラス。
- 重量百分率で、SiO2 51〜64%、Al2O3 3〜14%、MgO 0〜3.5%、CaO 0〜2.8%、SrO 3〜12%、BaO 3〜12%、MgO+CaO+SrO+BaO 17〜27%、Li2O 0〜1%、Na2O 2.5〜9%、K2O 3〜12%、Li2O+Na2O+K2O 7〜15%、ZrO2 1.5〜8%、TiO2 0.1〜4%、Sb2O3 0〜1%、As2O3 0〜1%の組成を有することを特徴とする請求項1の基板用ガラス。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11383595A JP3666054B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 基板用ガラス |
US09/043,248 US6162750A (en) | 1995-04-14 | 1996-07-10 | Substrate glass and plasma display made by using the same |
PCT/JP1996/001916 WO1998001399A1 (fr) | 1995-04-14 | 1996-07-10 | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11383595A JP3666054B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 基板用ガラス |
PCT/JP1996/001916 WO1998001399A1 (fr) | 1995-04-14 | 1996-07-10 | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005041695A Division JP2005139065A (ja) | 2005-02-18 | 2005-02-18 | 基板用ガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08290938A JPH08290938A (ja) | 1996-11-05 |
JP3666054B2 true JP3666054B2 (ja) | 2005-06-29 |
Family
ID=26437217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11383595A Expired - Lifetime JP3666054B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 基板用ガラス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6162750A (ja) |
JP (1) | JP3666054B2 (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6236391B1 (en) * | 1995-01-24 | 2001-05-22 | Elo Touchsystems, Inc. | Acoustic touch position sensor using a low acoustic loss transparent substrate |
EP0795522B1 (en) * | 1996-03-14 | 1999-08-18 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
US5908794A (en) * | 1996-03-15 | 1999-06-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
WO1998049111A1 (en) * | 1997-04-29 | 1998-11-05 | Pilkington Plc | Glass compositions used in plasma displays |
DE19721738C1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-05 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigevorrichtungen und Verwendungen |
KR100431728B1 (ko) * | 1997-11-03 | 2004-09-08 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마영상표시판넬용기판유리조성물 |
DE60006176T2 (de) * | 1999-03-25 | 2004-04-22 | Central Glass Co., Ltd., Ube | Glaszusammensetzung, durch Ionenaustausch verstärkter Glasgegenstand und Verfahren zu dessen Herstellung |
FR2801302B1 (fr) * | 1999-11-22 | 2001-12-21 | Saint Gobain Vitrage | Procede de traitement de substrats en verre et substrats en verre pour la realisation d'ecrans de visualisation |
US6949485B2 (en) * | 2000-06-01 | 2005-09-27 | Asabi Glass Company, Limited | Glass for substrate and glass substrate |
JP2002117778A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-19 | Toray Ind Inc | ディスプレイ用基板、ディスプレイ用部材およびディスプレイ |
JP4692915B2 (ja) * | 2002-05-29 | 2011-06-01 | 日本電気硝子株式会社 | プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板。 |
JP2005089286A (ja) * | 2003-08-12 | 2005-04-07 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
KR20050038931A (ko) * | 2003-10-23 | 2005-04-29 | 쌩-고벵 글래스 프랑스 | 실리카 소다 석회 유리 조성물과 그 사용 방법 |
JP2005162536A (ja) * | 2003-12-03 | 2005-06-23 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
JP4213077B2 (ja) | 2004-04-28 | 2009-01-21 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板およびその製造方法並びに情報記録媒体およびその製造方法 |
JP2005314169A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ランプ用ガラス組成物およびこれを用いたランプ |
JP5013304B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-08-29 | 日本電気硝子株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板 |
JP5046176B2 (ja) * | 2006-05-18 | 2012-10-10 | 日本電気硝子株式会社 | 平面画像表示装置用ガラスおよびそれを用いたガラス基板並びにその製造方法 |
JP5589252B2 (ja) * | 2006-10-10 | 2014-09-17 | 日本電気硝子株式会社 | 強化ガラス基板 |
CN103492332A (zh) * | 2011-05-10 | 2014-01-01 | 日本电气硝子株式会社 | 薄膜太阳能电池用玻璃板 |
WO2012153272A1 (en) * | 2011-05-12 | 2012-11-15 | Stellenbosch University | Photo-catalyst and its preparation |
JP5648982B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2015-01-07 | 日本電気硝子株式会社 | 太陽電池用ガラス基板 |
JP5742084B2 (ja) * | 2012-06-22 | 2015-07-01 | 日本電気硝子株式会社 | 太陽電池用ガラス基板 |
JP5831850B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2015-12-09 | 日本電気硝子株式会社 | 太陽電池用ガラス基板 |
GB201505091D0 (en) | 2015-03-26 | 2015-05-06 | Pilkington Group Ltd | Glass |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5250504B2 (ja) * | 1972-03-27 | 1977-12-24 | ||
NL7906579A (nl) * | 1979-09-03 | 1981-03-05 | Philips Nv | Glas, kathodestraalbuis voorzien van een scherm vervaardigd uit een dergelijk glas. |
US4390637A (en) * | 1980-09-10 | 1983-06-28 | Nippon Electric Glass Company, Limited | X-Ray absorbing glass for a color cathode ray tube having a controlled chromaticity value and a selective light absorption |
GB2115403B (en) * | 1982-02-20 | 1985-11-27 | Zeiss Stiftung | Optical and opthalmic glass |
JP2738036B2 (ja) * | 1989-07-06 | 1998-04-08 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラス組成物 |
US5270269A (en) * | 1992-06-08 | 1993-12-14 | Corning Incorporated | Lead-free fine crystal glassware |
FR2713622B1 (fr) * | 1993-12-10 | 1996-03-01 | Corning Vitro Corp | Verres ne contenant pas de plomb et présentant les caractéristiques du cristal. |
DE69502806T2 (de) * | 1994-10-13 | 1999-03-04 | Saint-Gobain Vitrage "Les Miroirs", Courbevoie | Substrat aus verstärktem glas |
FR2727399B1 (fr) * | 1994-10-13 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications |
US5599754A (en) * | 1994-10-14 | 1997-02-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof |
GB2299991B (en) * | 1995-04-20 | 1998-09-09 | Ag Technology Corp | Glass substrate for magnetic disk |
EP0795522B1 (en) * | 1996-03-14 | 1999-08-18 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
-
1995
- 1995-04-14 JP JP11383595A patent/JP3666054B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-07-10 US US09/043,248 patent/US6162750A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6162750A (en) | 2000-12-19 |
JPH08290938A (ja) | 1996-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3666054B2 (ja) | 基板用ガラス | |
US5854153A (en) | Glasses for display panels | |
EP0795522B1 (en) | Glass composition for a substrate | |
US6313052B1 (en) | Glass for a substrate | |
JP2738036B2 (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
US5908794A (en) | Glass composition for a substrate | |
JPH0867529A (ja) | ホウ酸低含有ホウケイ酸ガラス及びその応用 | |
JPH10152339A (ja) | 耐熱性ガラス組成物 | |
JP3831957B2 (ja) | ガラス組成物及びプラズマディスプレー用基板 | |
JP4320823B2 (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
JPH08165138A (ja) | 基板用ガラス組成物とそれを用いたプラズマディスプレイ用基板 | |
JP2000128572A (ja) | 硼珪酸ガラス及びその製造方法 | |
JPH08290939A (ja) | 基板用ガラス | |
JP2001226138A (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
JP4686858B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
JP3460298B2 (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
JP3867817B2 (ja) | 基板用ガラス | |
KR100320628B1 (ko) | 기판용유리와이를이용한플라즈마디스플레이장치 | |
JP3867816B2 (ja) | 基板用ガラス | |
JPH1025129A (ja) | 基板用ガラス | |
JPH11100226A (ja) | ディスプレイ装置用基板ガラス | |
JP4389257B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
KR100320627B1 (ko) | 기판용유리와이를이용한플라즈마디스플레이장치 | |
JP4265157B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
JP4756428B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050315 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050328 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080415 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090415 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090415 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100415 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100415 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110415 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110415 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130415 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415 Year of fee payment: 9 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |