JP3489729B2 - 積層コンデンサ、配線基板、デカップリング回路および高周波回路 - Google Patents
積層コンデンサ、配線基板、デカップリング回路および高周波回路Info
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Description
サ、配線基板、デカップリング回路および高周波回路に
関するもので、特に、高周波回路において有利に適用さ
れ得る積層コンデンサ、ならびに、この積層コンデンサ
を用いて構成される、配線基板、デカップリング回路お
よび高周波回路に関するものである。
サは、たとえばセラミック誘電体からなり、積層される
複数の誘電体層、ならびに複数のコンデンサユニットを
形成するように特定の誘電体層を介して互いに対向しな
がら誘電体層の積層方向に交互に配置される複数対の第
1および第2の内部電極を有する、コンデンサ本体を備
えている。コンデンサ本体の第1および第2の端面に
は、それぞれ、第1および第2の外部端子電極が形成さ
れる。第1の内部電極は、コンデンサ本体の第1の端面
上にまで延び、ここで第1の外部端子電極に電気的に接
続され、また、第2の内部電極は、第2の端面上にまで
延び、ここで第2の外部端子電極に電気的に接続され
る。
2の外部端子電極から第1の外部端子電極へと流れる電
流は、第2の外部端子電極から第2の内部電極へと流
れ、この第2の内部電極から誘電体層を通って第1の内
部電極に至り、次いで、この第1の内部電極内を通って
第1の外部端子電極へと至る。
量をC、等価直列インダクタンス(ESL)をL、等価
直列抵抗(ESR)と呼ばれる主に電極の抵抗をRとし
たとき、直列にCLRが接続された回路で表わされる。
は、f0 =1/〔2π×(L×C)1/ 2 〕となり、共振
周波数より高い周波数では、コンデンサとして機能しな
くなる。言い換えると、LすなわちESL値が小さけれ
ば、共振周波数(f0 )は高くなり、より高周波で使用
できることになる。なお、内部電極に銅を用いてESR
を小さくすることなども考えられているが、マイクロ波
領域で使うためには低ESL化が図られたコンデンサが
必要となる。
ンピュータ等のマイクロプロセッシングユニット(MP
U)のMPUチップに電源を供給する電源回路に接続さ
れるデカップリングコンデンサとして用いられるコンデ
ンサにおいても、低ESL化が求められている。
2に関する接続構成の一例を図解的に示すブロック図で
ある。
ップ3およびメモリ4を備える。電源部2は、MPUチ
ップ3に電源を供給するためのもので、電源部2からM
PUチップ3に至る電源回路には、デカップリングコン
デンサ5が接続されている。また、MPUチップ3から
メモリ4側には、信号回路が構成されている。
れるデカップリングコンデンサ5の場合でも、通常のデ
カップリングコンデンサと同様、ノイズ吸収や電源の変
動に対する平滑化のために用いられるが、さらに、最近
では、MPUチップ3において、その動作周波数が50
0MHzを超えて1GHzにまで達するものが計画され
ており、このようなMPUチップ3に関連して高速動作
が要求される用途にあっては、クイックパワーサプライ
としての機能(立ち上がり時等の電力が急に必要な時
に、コンデンサに充電された電気量から数ナノ秒の間に
電力を供給する機能)が必要である。
グコンデンサ5にあっても、インダクタンス成分ができ
るだけ低い、たとえば10pH以下であることが必要と
なってきており、このようにインダクタンス値の低いコ
ンデンサの実現が望まれている。
プ(動作クロック周波数約500MHz)3では、DC
約2.0Vが供給され、消費電力は約24W、すなわち
12A位の電流が流れる設計になっている。その消費電
力の低減化のために、MPU1が動作していない時はス
リープモードとして、消費電力を1W以下にまで落とす
仕様が採用されている。スリープモードからアクティブ
モードへの変換時、MPUチップ3には、その動作数ク
ロックのうちにアクティブモードに必要な電力が供給さ
れる必要がある。動作周波数500MHzでは、スリー
プモードからアクティブモードへの変換時において、4
〜7ナノ秒という時間の間に電力を供給する必要があ
る。
源部2からでは間に合わないため、電源部2から電源を
供給するまでの時間、MPUチップ3近傍に置くデカッ
プリングコンデンサ5に充電されている電荷を放電する
ことによってMPUチップ3に電源を供給することが行
なわれる。
っては、このような機能を満足させるために、MPUチ
ップ3近傍のデカップリングコンデンサ5のESLは、
少なくとも10pH以下であることが必要となる。
層コンデンサのESLは、500〜800pH程度であ
り、上述したような10pH以下には程遠い。このよう
に、インダクタンス成分が積層コンデンサにおいてもた
らされるのは、積層コンデンサにおいて流れる電流の方
向によってその方向が決まる磁束が誘起され、この磁束
に起因して自己インダクタンス成分が生じるためであ
る。
り得る積層コンデンサの構造が、たとえば、特開平2−
256216号公報、米国特許第5880925号、特
開平2−159008号公報、特開平11−14499
6号公報、特開平7−201651号公報等において提
案されている。
デンサにおいて誘起される磁束の相殺によるもので、こ
のような磁束の相殺が生じるようにするため、積層コン
デンサにおいて流れる電流の方向を多様化することが行
なわれている。そして、この電流の方向の多様化のた
め、コンデンサ本体の外表面上に形成される端子電極の
数を増やすことによって、これに電気的に接続されるよ
うに引き出される内部電極の引出し部分の数を増やすと
ともに、内部電極の引き出し部分をいくつかの方向に向
けることが行なわれている。
いる積層コンデンサにおける低ESL化のための対策
は、効果の点において、未だ不十分である。
報、米国特許第5880925号および特開平2−15
9008号公報では、内部電極をコンデンサ本体の対向
する2つの側面にまで引き出す構造が記載されている
が、約100pH程度までしか低ESL化を図ることが
できないものと推測される。
は、内部電極をコンデンサ本体の4つの側面に引き出す
構造が記載されているが、最も優れたESL値として、
40pHが記載されているにすぎない。
は、内部電極をコンデンサ本体の上下の主面にまで引き
出す構造が記載されているが、最も優れたESL値とし
て、50pHが記載されているにすぎない。
いられるMPUチップ用の(電源ラインを含む)高周波
回路において、従来は、たとえば10pH以下といった
ESLを実現するため、複数の積層コンデンサを並列に
接続した状態として配線基板に実装することが行なわれ
ている。その結果、積層コンデンサのための実装面積が
大きくなり、このような高周波回路を構成する電気機器
の小型化を阻害する原因となっている。
より効果的に図り得るように改良された積層コンデンサ
を提供しようとすることである。
層コンデンサを用いて構成される、配線基板、デカップ
リング回路および高周波回路を提供しようとすることで
ある。
デンサは、積層される複数の誘電体層を含むコンデンサ
本体を備えている。
電体層を介して互いに対向する少なくとも1対の第1お
よび第2の内部電極が設けられ、コンデンサ本体の、内
部電極と平行に延びる少なくとも一方の主面上には、第
1および第2の外部端子電極が設けられる。
の内部電極に対して電気的に絶縁された状態で第1の内
部電極と第1の外部端子電極とを電気的に接続するよう
に特定の誘電体層を貫通する複数の第1の貫通導体、お
よび第1の内部電極に対して電気的に絶縁された状態で
第2の内部電極と第2の外部端子電極とを電気的に接続
するように特定の誘電体層を貫通する複数の第2の貫通
導体がそれぞれ設けられる。これら第1および第2の貫
通導体は、内部電極を流れる電流によって誘起される磁
界を互いに相殺するように配置される。
ため、第1および第2の貫通導体は、それぞれ、第1お
よび第2の内部電極の中央部において第1および第2の
内部電極に接続されているものに加えて、第1および第
2の内部電極の各々の周縁部において第1および第2の
内部電極に接続されている、第1および第2の周縁貫通
導体を含むことを特徴とするとともに、第1および第2
の周縁貫通導体の各々の中心と第1および第2の内部電
極の各々の辺との間の長さは、第1および第2の貫通導
体の配列ピッチの1/3以下に選ばれていることを特徴
としている。
それぞれ、第1および第2の内部電極の各々の辺上にお
いて第1および第2の内部電極に接続されているものを
含むことが好ましい。
なくとも一方は、対応の内部電極の角において対応の内
部電極に接続されているものを含んでいてもよい。
それぞれ、第1および第2の内部電極の各々の辺上にお
いて第1および第2の内部電極に接続されているものを
含みながら、第1および第2の周縁貫通導体の少なくと
も一方は、対応の内部電極の角において対応の内部電極
に接続されているものを含んでいてもよい。
第1および第2の外部端子電極は、それぞれ、第1およ
び第2の貫通導体の各々に関連して点状に分布するよう
に設けられていることが好ましい。
極には、半田バンプが形成されていることが好ましい。
いて、第1および第2の外部端子電極は、コンデンサ本
体の一方の主面上にのみ設けられていることが好まし
い。なお、第1および第2の外部端子電極は、コンデン
サ本体の2つの主面の各々上に形成されていても、ある
いは、第1の外部端子電極が一方の主面上に形成され、
第2の外部端子電極が他方の主面上に形成されてもよ
い。
MPUに備えるMPUチップのための電源回路に接続さ
れるデカップリングコンデンサとして有利に用いられ
る。
ンデンサが実装された、配線基板にも向けられる。
けられる場合、その具体的な一実施態様では、この配線
基板には、マイクロプロセッシングユニットに備えるM
PUチップが搭載され、また、配線基板は、MPUチッ
プのための電源を供給するための電源用ホット側配線導
体とグラウンド配線導体とを備え、積層コンデンサの第
1および第2の外部端子電極の一方が電源用ホット側配
線導体に電気的に接続され、かつ第1および第2の外部
端子電極の他方がグラウンド配線導体に接続される。
積層コンデンサに備える第1および第2の外部端子電極
は、バンプにより接続される。
コンデンサを備える、デカップリング回路にも向けられ
る。
コンデンサを備える、高周波回路にも向けられる。
1の実施形態による積層コンデンサ11を示している。
ここで、図1は、積層コンデンサ11の内部構造を示す
平面図であり、(1)と(2)とは互いに異なる断面を
示している。また、図2は、図1の線II−IIに沿う
断面図である。
誘電体層12を含むコンデンサ本体13を備えている。
誘電体層12は、たとえばセラミック誘電体から構成さ
れる。
電体層12を介して互いに対向する少なくとも1対の第
1および第2の内部電極14および15が設けられてい
る。この実施形態では、複数対の第1および第2の内部
電極14および15が設けられている。
4および15と平行に延びる主面16および17の少な
くとも一方、この実施形態では、一方の主面17上に
は、第1および第2の外部端子電極18および19が設
けられている。
第2の内部電極15に対して電気的に絶縁された状態で
第1の内部電極14と第1の外部端子電極18とを電気
的に接続するように特定の誘電体層12を貫通する複数
の第1の貫通導体20および20aが設けられている。
また、第1の内部電極14に対して電気的に絶縁された
状態で第2の内部電極15と第2の外部端子電極19と
を電気的に接続するように特定の誘電体層12を貫通す
る複数の第2の貫通導体21および21aが設けられて
いる。
第2の内部電極14および15が設けられ、第1および
第2の内部電極14および15の間に形成される静電容
量が、第1および第2の貫通導体20および20aなら
びに21および21aによって並列接続され、このよう
に並列接続された静電容量が、第1および第2の外部端
子電極18および19の間に取り出される。
と第2の貫通導体21および21aとは、内部電極14
および15を流れる電流によって誘起される磁界を互い
に相殺するように配置されている。すなわち、この実施
形態では、第1および第2の貫通導体20および20a
ならびに21および21aは、四角形、より特定的に
は、正方形の各頂点に位置する分布状態をもって配列さ
れており、第1の貫通導体20および20aと第2の貫
通導体21および21aとが互いに隣り合うように配置
されている。
導体20および20aのいくつかは、第1の内部電極1
4の周縁部において第1の内部電極14に接続されてい
る、第1の周縁貫通導体20aとなり、また、第2の貫
通導体21および21aのいくつかは、第2の内部電極
15の周縁部において第2の内部電極15に接続されて
いる、第2の周縁貫通導体21aとなっている。
よび第2の周縁貫通導体20aおよび21aは、それぞ
れ、第1および第2の内部電極14および15の各々の
辺上において第1および第2の内部電極14および15
に接続されている。
19は、それぞれ、第1および第2の貫通導体20およ
び20aならびに21および21aの各々に関連して点
状に分布するように主面17上に設けられている。この
実施形態では、第1および第2の外部端子電極18およ
び19は、それぞれ、導電パッド22および23ならび
にそれらの上に形成される半田バンプ24および25を
備えている。
低ESL化をより効果的に図ることができる。
実施形態に係る積層コンデンサ11が優れていることを
確認するため、内部電極14および15ならびに貫通導
体20、20a、21および21aをニッケルを含む導
電性ペーストによって形成し、内部電極14および15
の各々の大きさを4.0mm×4.0mmとし、貫通導
体20、20a、21および21aの配列ピッチを1.
0mmとし、同じく直径を0.1mmとし、内部電極1
4および15と貫通導体21および21aならびに20
および20aとの各々の間に設けられる絶縁領域の外径
を0.2mmとした、積層コンデンサ11について、共
振法によって、ESL値を評価したところ、18pHと
なった。
ンサについてインピーダンスの周波数特性を求め、この
周波数特性における極小点(コンデンサの容量成分Cと
ESLとの間の直列共振点)の周波数fo から、 ESL=1/[(2πfo )2 ×C] によって、ESLを求めようとする方法である。
1、2および3に係る各積層コンデンサを作製し、各々
のESL値を評価した。なお、比較例1〜3に係る各積
層コンデンサの作製にあたっては、特に断らない限り、
前述した積層コンデンサ11に係る試料と同様の方法を
採用した。
通導体20、20a、21および21aが設けられた
が、比較例1は、貫通導体として、積層コンデンサ11
における周縁貫通導体20aおよび21aを備えないこ
とを除いて積層コンデンサ11と同様の構造を有するも
ので、中央部に位置するもののみ合計9個の貫通導体を
備えるものである。この比較例1によれば、82pHと
いった高いESL値しか得られなかった。
20および21の配列ピッチについては、積層コンデン
サ11の場合と同様にしながら、周縁貫通導体を設け
ず、中央部に位置するもののみ合計16個の貫通導体2
0および21を設けたものである。この比較例2によれ
ば、45pHといった比較的高いESL値しか得られな
かった。
20および21の配列ピッチを狭めながら、中央部にの
み合計25個の貫通導体20および21を設けたもので
ある。この比較例3によれば、積層コンデンサ11にお
ける貫通導体20、20a、21および21aの合計数
である「21」より多い25個の貫通導体20および2
1を備えているにも関わらず、前述した積層コンデンサ
11のESL値である18pHより高い28pHのES
L値しか得られなかった。このことから、低ESL化に
は、周縁貫通導体20aおよび21aの存在が効果的で
あることがわかる。
積層コンデンサ26を示す、図1(1)に相当する図で
ある。図5において、図1に示した要素に相当する要素
には同様の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
貫通導体として、第1および第2の内部電極14および
15の各々の辺の中間部上において第1および第2の内
部電極14および15に接続される第1および第2の周
縁貫通導体20aおよび21aだけでなく、第1の内部
電極14の角において第1の内部電極14に接続される
周縁貫通導体20aを備えることを特徴としている。
通導体20aを配置することにより、第1の実施形態に
係る積層コンデンサ11に比べて、さらなる低ESL化
を図ることができる。前述したESL値の評価方法に従
えば、この積層コンデンサ26によれば、15pHのE
SL値を得ることができた。
積層コンデンサ27を示す、図2に相当する図である。
図6において、図2に示した要素に相当する要素には同
様の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
は、第1の外部端子電極18がコンデンサ本体13の一
方の主面16上に設けられ、第2の外部端子電極19が
他方の主面17上に形成されていることを特徴としてい
る。
積層コンデンサ28を示す、図2に相当する図である。
図7において、図2に示した要素に相当する要素には同
様の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
は、第1および第2の外部端子電極18および19の双
方が、コンデンサ本体13の2つの主面16および17
の各々上に設けられていることを特徴としている。
あっては、第1の貫通導体20および20aと第2の貫
通導体21および21aとにおける図2に示した断面上
での電流の流れを互いに逆方向に向けることができる。
これに対して、図6に示した積層コンデンサ27および
図7に示した積層コンデンサ28にあっては、第1の貫
通導体20および20aと第2の貫通導体21および2
1aとにおいて流れる電流が互いに同じ方向になる。こ
のことから、低ESL化に対する効果については、図2
に示した積層コンデンサ11がより優れていると言うこ
とができる。
積層コンデンサ29を示す、図1(1)に相当する図で
ある。図8において、図1に示す要素に相当する要素に
は同様の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
は、第1の貫通導体20および20aならびに第2の貫
通導体21および21aが合計36個設けられているこ
とを特徴としている。このように、貫通導体の数は、必
要に応じて、任意に変更することができる。
5に示した積層コンデンサ26の場合と同様、内部電極
の角に位置する周縁貫通導体20aおよび21aを備え
ている。この実施形態では、内部電極14および15の
各々の一辺に沿って、合計6個の周縁貫通導体20aお
よび21aが配置されているので、第1および第2の周
縁貫通導体20aおよび21aの双方について、内部電
極14および15の各々の角に位置するものがある。す
なわち、第1および第2の周縁貫通導体20aおよび2
1aは、それぞれ、第1および第2の内部電極14およ
び15の各々の角において第1および第2の内部電極1
4および15に接続されているものを備えている。
積層コンデンサ30を示す、図1(1)に相当する図で
ある。図9において、図1に示した要素に相当する要素
には同様の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
は、第1および第2の貫通導体20および20aならび
に21および21aが、三角形、より特定的には、正三
角形の各頂点に位置する分布状態をもって配列されてい
ることを特徴としている。
体の配列において採用される分布状態は、その他、たと
えば六角形の各頂点に位置するような分布状態であって
もよい。
明するための内部電極14と貫通導体20、20a、2
1および21aとの位置関係を示す平面図である。
周縁貫通導体20aおよび21aは、内部電極14およ
び15(内部電極15については図示しない。)の辺上
において内部電極14および15にそれぞれ接続された
が、これら周縁貫通導体20aおよび21aは、図10
に示すように、内部電極14および15の辺より内側に
配置されてもよい。図10に示した実施形態では、周縁
貫通導体20aおよび21aは、それぞれ、内部電極1
4および15の各々の辺に接するように配置されてい
る。
明するための図10に相当する図である。
および21aは、図10に示した場合と比較して、内部
電極14および15(内部電極15については図示しな
い。)の辺よりさらに内側に配置されている。このよう
に、周縁貫通導体20aおよび21aが、内部電極14
および15の辺より内側に配置される場合であっても、
周縁貫通導体20aおよび21aの中心と内部電極14
および15の各々の辺との間の長さ31は、貫通導体2
0、20a、21および21aの配列ピッチ32の1/
3以下に選ばれる。すなわち、図1、図5、図6、図
7、図8、図9、図10および図11にそれぞれ示した
第1ないし第8の実施形態のいずれの場合であっても、
周縁貫通導体20aおよび21aの中心と内部電極14
および15の各々の辺との間の長さ31は、貫通導体2
0、20a、21および21aの配列ピッチ32の1/
3以下となっている。
図示した種々の実施形態に関連して説明したが、内部電
極の数、あるいは、外部端子電極の数および貫通導体の
数ならびに位置について、種々に変更することができ
る。また、貫通導体の断面形状については、図示のよう
な円形に限らず、たとえば、四角形や六角形などに変更
されてもよい。
ば、前述の図13に示したMPU1に備えるデカップリ
ングコンデンサ5として有利に用いることができる。こ
のように、この発明に係る積層コンデンサをデカップリ
ングコンデンサとして用いているMPUの構造につい
て、図12に示した構造例に従って以下に説明する。
にキャビティ34が設けられた多層構造の配線基板35
を備えている。配線基板35の上面には、MPUチップ
36が表面実装されている。また、配線基板35のキャ
ビティ34内には、デカップリングコンデンサとして機
能する、この発明に係る積層コンデンサ、たとえば第1
の実施形態に係る積層コンデンサ11が収容されてい
る。さらに、配線基板35は、マザーボード37上に表
面実装されている。
的に図示されるように、MPU33において必要な配線
導体が形成されていて、これら配線導体によって、図1
3に示すような接続が達成される。
板35の内部には、電源用ホット側電極38およびグラ
ウンド電極39が形成されている。
側ビアホール導体40を介して、積層コンデンサ11の
第1の外部端子電極18に電気的に接続され、電源用ホ
ット側ビアホール導体41を介して、MPUチップ36
の特定の端子42に電気的に接続され、さらに、電源用
ホット側ビアホール導体43を介して、マザーボード3
7のホット側導電ランド44に電気的に接続されてい
る。
用ビアホール導体45を介して、積層コンデンサ11の
第2の外部端子電極19に電気的に接続され、グラウン
ド用ビアホール導体46を介して、MPUチップ36の
特定の端子47に電気的に接続され、さらに、グラウン
ド用ビアホール導体48を介して、マザーボード37の
グラウンド側導電ランド49に電気的に接続されてい
る。
第2の外部端子電極18および19とビアホール導体4
0および45との接続には、図12では詳細には図示し
ないが、バンプによる接続が適用される。
モリ4に相当するメモリの図示は省略されている。
デンサによれば、積層される複数の誘電体層を含むコン
デンサ本体の内部には、特定の誘電体層を介して互いに
対向する少なくとも1対の第1および第2の内部電極が
設けられ、また、このコンデンサ本体の、内部電極と平
行に延びる少なくとも一方の主面上には、第1および第
2の外部端子電極が設けられ、コンデンサ本体の内部に
は、さらに、第1の内部電極と第1の外部電極とを電気
的に接続する複数の第1の貫通導体、および第2の内部
電極と第2の外部端子電極とを電気的に接続する複数の
第2の貫通導体がそれぞれ設けられ、第1および第2の
貫通導体が、内部電極を流れる電流によって誘起される
磁界を互いに相殺するように配置されているので、この
点において、積層コンデンサ内において流れる電流を種
々の方向へ向けかつ電流長を短くすることができるの
で、ESLを小さくすることができるばかりでなく、第
1および第2の貫通導体は、それぞれ、第1および第2
の内部電極の各々の周縁部において第1および第2の内
部電極に接続されている、第1および第2の周縁貫通導
体を含んでいるので、内部電極の周縁部にまで磁界の相
殺効果を及ぼすことが可能となり、一層の低ESL化を
図ることができる。
振周波数を高周波化することができ、積層コンデンサが
コンデンサとして機能する周波数域を高周波化すること
ができ、この発明に係る積層コンデンサによれば、電子
回路の高周波化に十分対応することができ、たとえば、
高周波回路におけるバイパスコンデンサやデカップリン
グコンデンサとして有利に用いることができる。
用されるデカップリングコンデンサにあっては、クイッ
クパワーサプライとしての機能が要求されるが、この発
明に係る積層コンデンサは、ESLが低いので、このよ
うな用途に向けられても、高速動作に十分対応すること
ができる。
いて備える外部端子電極は、積層コンデンサを適宜の配
線基板上に実装する場合、バンプ接続を有利に適用する
ことを可能にする。現在、たとえばMPUチップのよう
な半導体チップにおいては、動作周波数が高周波化する
に伴って、バンプ接続が多用される傾向にあるが、主面
端子電極の存在は、この傾向に適合するものである。ま
た、このようなバンプ接続は、高密度実装を可能とし、
接続における寄生インダクタンスの発生を抑えることも
できる。
様は、前述したような磁束の相殺をより高めたり、電流
長をより短くしたりして、ESLの低減により効果的で
ある。
が、それぞれ、第1および第2の内部電極の各々の辺上
において第1および第2の内部電極に接続されているも
のを含むようにすることである。
少なくとも一方が、対応の内部電極の角において対応の
内部電極に接続されているものを含むようにすることで
ある。
が、コンデンサ本体の一方の主面上にのみ形成されるよ
うにすることである。
サ11の内部構造を示す平面図であり、(1)は第1の
内部電極14が通る断面を示し、(2)は第2の内部電
極15が通る断面を示している。
するための比較例として用意された積層コンデンサを示
す、図1(1)に相当する図である。
するために用意された別の比較例としての積層コンデン
サを示す、図1(1)に相当する図である。
サ26を示す、図1(1)に相当する図である。
サ27を示す、図2に相当する図である。
サ28を示す、図2に相当する図である。
サ29を示す、図1(1)に相当する図である。
サ30を示す、図1(1)に相当する図である。
内部電極14と貫通導体20、20a、21および21
aとの位置関係を示す平面図である。
図10に相当する図である。
ンサ11をデカップリングコンデンサとして用いてい
る、MPU33の構造例を図解的に示す断面図である。
源部2に関する接続構成を図解的に示すブロック図であ
る。
Claims (15)
- 【請求項1】 積層される複数の誘電体層を含むコンデ
ンサ本体を備え、 前記コンデンサ本体の内部には、特定の前記誘電体層を
介して互いに対向する少なくとも1対の第1および第2
の内部電極が設けられ、 前記コンデンサ本体の、前記内部電極と平行に延びる少
なくとも一方の主面上には、第1および第2の外部端子
電極が設けられ、 前記コンデンサ本体の内部には、さらに、前記第2の内
部電極に対して電気的に絶縁された状態で前記第1の内
部電極と前記第1の外部端子電極とを電気的に接続する
ように特定の前記誘電体層を貫通する複数の第1の貫通
導体、および前記第1の内部電極に対して電気的に絶縁
された状態で前記第2の内部電極と前記第2の外部端子
電極とを電気的に接続するように特定の前記誘電体層を
貫通する複数の第2の貫通導体がそれぞれ設けられ、 前記第1および第2の貫通導体は、前記内部電極を流れ
る電流によって誘起される磁界を互いに相殺するように
配置され、 前記第1および第2の貫通導体は、それぞれ、前記第1
および第2の内部電極の中央部において前記第1および
第2の内部電極に接続されているものに加えて、前記第
1および第2の内部電極の各々の周縁部において前記第
1および第2の内部電極に接続されている、第1および
第2の周縁貫通導体を含み、 前記第1および第2の周縁貫通導体の各々の中心と前記
第1および第2の内部電極の各々の辺との間の長さは、
前記第1および第2の貫通導体の配列ピッチの1/3以
下に選ばれている 、積層コンデンサ。 - 【請求項2】 前記第1および第2の周縁貫通導体は、
それぞれ、前記第1および第2の内部電極の各々の辺上
において前記第1および第2の内部電極に接続されてい
るものを含む、請求項1に記載の積層コンデンサ。 - 【請求項3】 前記第1および第2の周縁貫通導体の少
なくとも一方は、対応の前記内部電極の角において対応
の前記内部電極に接続されているものを含む、請求項1
に記載の積層コンデンサ。 - 【請求項4】 前記第1および第2の周縁貫通導体は、
それぞれ、前記第1および第2の内部電極の各々の辺上
において前記第1および第2の内部電極に接続されてい
るものを含み、かつ前記第1および第2の周縁貫通導体
の少なくとも一方は、対応の前記内部電極の角において
対応の前記内部電極に接続されているものを含む、請求
項1に記載の積層コンデンサ。 - 【請求項5】 前記第1および第2の外部端子電極は、
それぞれ、前記第1および第2の貫通導体の各々に関連
して点状に分布するように設けられている、請求項1な
いし4のいずれかに記載の積層コンデンサ。 - 【請求項6】 前記第1および第2の外部端子電極に
は、半田バンプが形成されている、請求項5に記載の積
層コンデンサ。 - 【請求項7】 前記第1および第2の外部端子電極は、
一方の前記主面上にのみ設けられている、請求項1ない
し6のいずれかに記載の積層コンデンサ。 - 【請求項8】 前記第1および第2の外部端子電極は、
2つの前記主面の各々上に形成されている、請求項1な
いし6のいずれかに記載の積層コンデンサ。 - 【請求項9】 前記第1の外部端子電極は、一方の前記
主面上に形成され、前記第2の外部端子電極は、他方の
前記主面上に形成されている、請求項1ないし6のいず
れかに記載の積層コンデンサ。 - 【請求項10】 マイクロプロセッシングユニットに備
えるMPUチップのための電源回路に接続されるデカッ
プリングコンデンサとして使用される、請求項1ないし
9のいずれかに記載の積層コンデンサ。 - 【請求項11】 請求項1ないし10のいずれかに記載
の積層コンデンサが実装された、配線基板。 - 【請求項12】 マイクロプロセッシングユニットに備
えるMPUチップが搭載され、前記MPUチップのため
の電源を供給するための電源用ホット側配線導体とグラ
ウンド配線導体とを備え、前記積層コンデンサの前記第
1および第2の外部端子電極の一方が前記電源用ホット
側配線導体に電気的に接続され、かつ前記第1および第
2の外部端子電極の他方が前記グラウンド配線導体に接
続されている、請求項11に記載の配線基板。 - 【請求項13】 前記第1および第2の外部端子電極が
バンプにより接続されている、請求項11または12に
記載の配線基板。 - 【請求項14】 請求項1ないし10のいずれかに記載
の積層コンデンサを備える、デカップリング回路。 - 【請求項15】 請求項1ないし10のいずれかに記載
の積層コンデンサを備える、高周波回路。
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DE (1) | DE10019839B4 (ja) |
TW (1) | TW494417B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10418179B2 (en) | 2016-11-11 | 2019-09-17 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayer thin-film capacitor |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9054094B2 (en) | 1997-04-08 | 2015-06-09 | X2Y Attenuators, Llc | Energy conditioning circuit arrangement for integrated circuit |
US7321485B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-01-22 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
US7336468B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-02-26 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
JP2001185442A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Murata Mfg Co Ltd | 積層コンデンサ、デカップリングコンデンサの接続構造および配線基板 |
US6636416B2 (en) * | 2001-06-14 | 2003-10-21 | Intel Corporation | Electronic assembly with laterally connected capacitors and manufacturing method |
US6713860B2 (en) * | 2002-02-01 | 2004-03-30 | Intel Corporation | Electronic assembly and system with vertically connected capacitors |
TW586205B (en) * | 2001-06-26 | 2004-05-01 | Intel Corp | Electronic assembly with vertically connected capacitors and manufacturing method |
EP1755161A3 (en) * | 2001-08-24 | 2007-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Interconnect module with reduced power distribution impedance |
US6847527B2 (en) | 2001-08-24 | 2005-01-25 | 3M Innovative Properties Company | Interconnect module with reduced power distribution impedance |
US6888432B2 (en) * | 2002-02-15 | 2005-05-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Laminated substrate, method of producing the same, nonreciprocal circuit element, and communication device |
DE10217565A1 (de) * | 2002-04-19 | 2003-11-13 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit integrierter gitterförmiger Kapazitätsstruktur |
DE10217566A1 (de) * | 2002-04-19 | 2003-11-13 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit integrierter, eine Mehrzahl an Metallisierungsebenen aufweisende Kapazitätsstruktur |
DE60239391D1 (de) * | 2002-06-07 | 2011-04-21 | St Microelectronics Srl | rgungsringes mit großem parasitärem Widerstand |
US6606237B1 (en) * | 2002-06-27 | 2003-08-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer capacitor, wiring board, decoupling circuit, and high frequency circuit incorporating the same |
CN100437850C (zh) * | 2002-10-30 | 2008-11-26 | 京瓷株式会社 | 电容器,布线基板,退耦电路以及高频电路 |
US6819543B2 (en) * | 2002-12-31 | 2004-11-16 | Intel Corporation | Multilayer capacitor with multiple plates per layer |
US20040231885A1 (en) * | 2003-03-07 | 2004-11-25 | Borland William J. | Printed wiring boards having capacitors and methods of making thereof |
DE10313891A1 (de) * | 2003-03-27 | 2004-10-14 | Epcos Ag | Elektrisches Vielschichtbauelement |
US6950300B2 (en) * | 2003-05-06 | 2005-09-27 | Marvell World Trade Ltd. | Ultra low inductance multi layer ceramic capacitor |
US6992387B2 (en) * | 2003-06-23 | 2006-01-31 | Intel Corporation | Capacitor-related systems for addressing package/motherboard resonance |
JP4623988B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2011-02-02 | 京セラ株式会社 | コンデンサ及びその実装構造 |
DE10341564B4 (de) | 2003-09-09 | 2007-11-22 | Infineon Technologies Ag | Kondensatoranordnung und Verfahren zur Herstellung derselben |
JP4079120B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2008-04-23 | 株式会社村田製作所 | 積層型セラミックコンデンサの製造方法 |
JP4597585B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2010-12-15 | 日本特殊陶業株式会社 | 積層電子部品及びその製造方法 |
JP2006032747A (ja) * | 2004-07-20 | 2006-02-02 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 積層電子部品及びその製造方法 |
US7075185B2 (en) * | 2004-09-14 | 2006-07-11 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Routing vias in a substrate from bypass capacitor pads |
US7149072B2 (en) * | 2004-11-04 | 2006-12-12 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayered chip capacitor array |
KR100674830B1 (ko) * | 2004-11-04 | 2007-01-25 | 삼성전기주식회사 | 적층형 캐패시터 어레이 |
JP2008537843A (ja) | 2005-03-01 | 2008-09-25 | エックストゥーワイ アテニュエイターズ,エルエルシー | 内部で重なり合った調整器 |
KR20060134277A (ko) * | 2005-06-22 | 2006-12-28 | 삼성전기주식회사 | 내장형 상하전극 적층부품 및 그의 제조 방법 |
JPWO2007010768A1 (ja) * | 2005-07-15 | 2009-01-29 | 株式会社村田製作所 | コンデンサおよびその製造方法 |
DE102006056872A1 (de) * | 2006-12-01 | 2008-06-12 | Epcos Ag | Vielschicht-Kondensator |
US8238116B2 (en) * | 2007-04-13 | 2012-08-07 | Avx Corporation | Land grid feedthrough low ESL technology |
JP4501996B2 (ja) * | 2007-11-29 | 2010-07-14 | Tdk株式会社 | 貫通コンデンサの実装構造 |
US20090296310A1 (en) * | 2008-06-03 | 2009-12-03 | Azuma Chikara | Chip capacitor precursors, packaged semiconductors, and assembly method for converting the precursors to capacitors |
JP4687757B2 (ja) | 2008-07-22 | 2011-05-25 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
JP4772132B2 (ja) * | 2009-01-13 | 2011-09-14 | 京セラ株式会社 | コンデンサ素子内蔵多層配線基板 |
KR101846388B1 (ko) * | 2011-11-29 | 2018-04-09 | 한국전자통신연구원 | 수직구조 캐패시터 및 수직구조 캐패시터의 형성 방법 |
US8779849B2 (en) * | 2012-01-27 | 2014-07-15 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for providing capacitance in a multi-chip module |
US9213386B2 (en) | 2012-10-22 | 2015-12-15 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods and for providing power responsive to a power loss |
KR101872582B1 (ko) * | 2016-03-22 | 2018-06-28 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 커패시터 및 그 제조 방법 |
JP7537500B2 (ja) | 2020-08-12 | 2024-08-21 | 株式会社村田製作所 | 多端子積層コンデンサ |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3308359A (en) | 1965-03-12 | 1967-03-07 | Bruce R Hayworth | Low-inductance capacitor |
US3612963A (en) | 1970-03-11 | 1971-10-12 | Union Carbide Corp | Multilayer ceramic capacitor and process |
US3822397A (en) | 1973-05-07 | 1974-07-02 | Sprague Electric Co | A capacitor package with a split metal-plate terminal cover |
US3971970A (en) | 1974-11-27 | 1976-07-27 | P. R. Mallory & Co., Inc. | Electrical component with low impedance at high frequency |
US4074340A (en) | 1976-10-18 | 1978-02-14 | Vitramon, Incorporated | Trimmable monolithic capacitors |
US4295183A (en) | 1979-06-29 | 1981-10-13 | International Business Machines Corporation | Thin film metal package for LSI chips |
US4274124A (en) | 1979-12-26 | 1981-06-16 | International Business Machines Corporation | Thick film capacitor having very low internal inductance |
US4328530A (en) | 1980-06-30 | 1982-05-04 | International Business Machines Corporation | Multiple layer, ceramic carrier for high switching speed VLSI chips |
US4346429A (en) | 1980-07-09 | 1982-08-24 | Union Carbide Corporation | Multilayer ceramic capacitor with foil terminal |
FR2507379A1 (fr) | 1981-06-05 | 1982-12-10 | Europ Composants Electron | Bloc de condensateurs en serie et multiplicateur de tension utilisant un tel bloc de condensateurs |
US4419714A (en) | 1982-04-02 | 1983-12-06 | International Business Machines Corporation | Low inductance ceramic capacitor and method for its making |
US4430690A (en) | 1982-10-07 | 1984-02-07 | International Business Machines Corporation | Low inductance MLC capacitor with metal impregnation and solder bar contact |
JPS60158612A (ja) | 1984-01-27 | 1985-08-20 | 富士通株式会社 | 多層セラミツクコンデンサ |
DE3669614D1 (de) | 1985-01-17 | 1990-04-19 | Eurofarad | Keramischer hochfrequenzmehrschichtkondensator mit hoher kapazitaet. |
US4706162A (en) | 1985-01-22 | 1987-11-10 | Rogers Corporation | Multilayer capacitor elements |
US4814940A (en) | 1987-05-28 | 1989-03-21 | International Business Machines Corporation | Low inductance capacitor |
US4830723A (en) | 1988-06-22 | 1989-05-16 | Avx Corporation | Method of encapsulating conductors |
US4831494A (en) | 1988-06-27 | 1989-05-16 | International Business Machines Corporation | Multilayer capacitor |
US4853826A (en) | 1988-08-01 | 1989-08-01 | Rogers Corporation | Low inductance decoupling capacitor |
US4852227A (en) * | 1988-11-25 | 1989-08-01 | Sprague Electric Company | Method for making a multilayer ceramic capacitor with buried electrodes and terminations at a castellated edge |
US4862318A (en) | 1989-04-04 | 1989-08-29 | Avx Corporation | Method of forming thin film terminations of low inductance ceramic capacitors and resultant article |
JPH05205966A (ja) | 1992-01-24 | 1993-08-13 | Murata Mfg Co Ltd | 積層コンデンサ |
US5517385A (en) | 1992-11-19 | 1996-05-14 | International Business Machines Corporation | Decoupling capacitor structure |
JPH06260364A (ja) | 1993-03-08 | 1994-09-16 | Masusaku Okumura | チップ部品 |
JPH07201651A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 積層コンデンサ |
JPH07307412A (ja) * | 1994-05-10 | 1995-11-21 | Sumitomo Metal Ind Ltd | バイパス用コンデンサ搭載積層パッケージ |
JPH07326536A (ja) | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Kyocera Corp | セラミックコンデンサ |
US5880925A (en) | 1997-06-27 | 1999-03-09 | Avx Corporation | Surface mount multilayer capacitor |
JPH11135356A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-21 | Kyocera Corp | 積層セラミックコンデンサ |
JP2991175B2 (ja) * | 1997-11-10 | 1999-12-20 | 株式会社村田製作所 | 積層コンデンサ |
JPH11204372A (ja) | 1997-11-14 | 1999-07-30 | Murata Mfg Co Ltd | 積層コンデンサ |
EP0917165B1 (en) * | 1997-11-14 | 2007-04-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer capacitor |
-
1999
- 1999-11-19 JP JP32901299A patent/JP3489729B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-02-25 TW TW089103304A patent/TW494417B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-02-28 US US09/514,769 patent/US6344961B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-17 KR KR1020000020003A patent/KR100363652B1/ko active IP Right Grant
- 2000-04-20 DE DE10019839A patent/DE10019839B4/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10418179B2 (en) | 2016-11-11 | 2019-09-17 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Multilayer thin-film capacitor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW494417B (en) | 2002-07-11 |
US6344961B1 (en) | 2002-02-05 |
DE10019839B4 (de) | 2010-01-28 |
KR20010049257A (ko) | 2001-06-15 |
JP2001148325A (ja) | 2001-05-29 |
KR100363652B1 (ko) | 2002-12-05 |
DE10019839A1 (de) | 2001-06-21 |
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