JP3328731B2 - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス素子Info
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Description
センス素子(以下有機EL素子)に関するものである。
詳しくは、置換ポリ(p−フェニレンビニレン)を発光
材料として用いた有機EL素子に関する。
ルミネッセンス素子は発光させるのに高電圧が必要であ
った。最近、Tangらは有機蛍光色素を発光層とし、
それに電子写真の感光体等に用いられていた有機電荷輸
送化合物を積層した二層構造を有する有機EL素子を作
製し、発光層のみを有するものに比較して低電圧駆動、
高効率、高輝度の有機EL素子を実現させた(特開昭5
9−194393号公報)。有機EL素子は無機EL素
子に比べ、低電圧駆動、高輝度に加えて多数の色の発光
が容易に得られるという特長があることから、 素子構造
や有機蛍光色素、有機電荷輸送化合物について多くの試
みが報告されている〔ジャパニーズ・ジャーナル・オブ
・アプライド・フィジックス(Jpn.J.Appl.
Phys.)27巻、L269(1988年)〕、〔ジ
ャーナル・オブ・アプライド・フィジックス(J.Ap
pl.Phys.)65巻、3610頁(1989年)
〕。これまでに、発光材料としては低分子量の有機蛍
光色素が一般に用いられており、高分子量の発光材料と
しては、WO9013148号公開明細書、特開平3−
126787号公報、アプライド・フィジックス・レタ
ーズ(Appl.Phys.Lett.) 58巻、19
82頁(1991年)などで提案されているにすぎなか
った。
で報告されてきた高分子発光材料を用いた有機EL素子
は駆動電圧が高く、輝度も必ずしも十分とは言い難いも
のであった。高分子発光材料は熱的に安定であり、また
塗布法により容易に均一性に優れた発光層を形成できる
ことから、それらの長所を生かしながら、より駆動電圧
が低く、高輝度である有機EL素子が要望されている。
した低電圧駆動、高輝度の有機EL素子を提供すること
にある。
光材料を発光層として用いた有機EL素子の低電圧駆
動、高輝度化を鋭意検討してきた。その結果、高分子発
光材料として、置換ポリ−p−フェニレンビニレンを用
い、これに、電子輸送性化合物を添加したものを発光層
として用いることにより、高分子発光材料を単独で用い
た場合に比べて、低電圧駆動化、高輝度化が実現される
ことを見い出し、本発明に至った。
明または半透明である一対の陽極および陰極からなる電
極間に、少なくとも発光層を有する有機エレクトロルミ
ネッセンス素子において、該発光層が下記化2
素,炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基および
アルキルチオ基ならびに炭素数6〜20の芳香族炭化水
素基から選ばれた基を示し、且つ少なくとも一つが炭素
数4〜20のアルキル基、アルコキシ基またはアルキル
チオ基であり、nは10〜30000の数を表す。)で
表される置換ポリ(p−フェニレンビニレン)と電子輸
送性化合物を含むことを特徴とする有機EL素子を提供
することにある。
に説明する。本発明に用いられる上記化2で表わされる
置換ポリ(p−フェニレンビニレン)は溶剤に可溶性の
ものである。ここで、R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞ
れ独立に水素,炭素数1〜20のアルキル基、アルコキ
シ基およびアルキルチオ基ならびに炭素数6〜20の芳
香族炭化水素基から選ばれた基を示し、且つ可溶性を与
えるには、少なくともそれらの一つが炭素数4〜20の
アルキル基、アルコキシ基またはアルキルチオ基である
ことが必要である。これらのなかで成膜性が良好なアル
キル基、アルコキシ基が特に好ましい。ここで、炭素数
1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、デシル基、ラウリル基、2−エチル−
ヘキシル基、3−メチル−ブチル基、イソプロピル基な
どであり、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、デシル基、2−エチル−ヘキシル基、3−メチ
ル−ブチル基が好ましい。または炭素数1〜20のアル
コキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ
基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオ
キシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、ラウリル
オキシ基、2−エチル−ヘキシルオキシ基、3−メチル
−ブトキシ基、イソプルピルオキシ基などであり、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、
オクチルオキシ基、デシルオキシ基、2−エチル−ヘキ
シルオキシ基、3−メチル−ブトキシ基が好ましい。ア
ルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、
ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプ
チルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ラウリル
チオ基、2−エチル−ヘキシルチオ基、3−メチル−ブ
チルチオ基、イソプルピルチオ基などであり、ペンチル
チオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチ
オ基、デシルチオ基、2−エチル−ヘキシルチオ基、3
−メチル−ブチルチオ基が好ましい。芳香族炭化水素基
としてはフェニル基、4- アルコキシフェニル基、4-
アルキルフェニル基、1−ナフタレン基、2−ナフタレ
ン基が例示される。
ン)としては、ポリ(2,5−ジペンチル−p−フェニ
レンビニレン)、ポリ(2,5−ジヘキシル−p−フェ
ニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジヘプチル−p−フ
ェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジオクチル−p−
フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジデシル−p−
フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジペンチルオキ
シ−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジヘキ
シルオキシ−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2,5
−ジヘプチルオキシ−p−フェニレンビニレン)、ポリ
(2,5−ジオクチルオキシ−p−フェニレンビニレ
ン)、ポリ(2,5−ジデシルオキシ−p−フェニレン
ビニレン)、ポリ(2,5−ジペンチルチオ−p−フェ
ニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジヘキシルチオ−p
−フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジヘプチルチ
オ−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2−メトキシ−
5−ヘプチルオキシ−p−フェニレンビニレン)、ポリ
(2−メトキシ−5−ラウリルオキシ−p−フェニレン
ビニレン)、ポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチル
−ヘキシルオキシ)−p−フェニレンビニレン)、ポリ
(2−メトキシ−5−ヘプチルチオ−p−フェニレンビ
ニレン)、ポリ(2−メトキシ−5−ラウリルチオ−p
−フェニレンビニレン)、ポリ(2−メトキシ−5−
(3’−メチル−ブトキシ)−p−フェニレンビニレ
ン)などが例示される。これらの中で、ポリ(2,5−
ジペンチル−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2,5
−ジヘキシル−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2,
5−ジヘプチル−p−フェニレンビニレン)、ポリ
(2,5−ジオクチル−p−フェニレンビニレン)、ポ
リ(2,5−ジペンチルオキシ−p−フェニレンビニレ
ン)、ポリ(2,5−ジヘキシルオキシ−p−フェニレ
ンビニレン)、ポリ(2,5−ジヘプチルオキシ−p−
フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジオクチルオキ
シ−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジデシ
ルオキシ−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2−メト
キシ−5−ヘキシルオキシ−p−フェニレンビニレ
ン)、ポリ(2−メトキシ−5−(3’−メチル−ブト
キシ)−p−フェニレンビニレン)が好ましい。これら
の置換ポリ(p−フェニレンビニレン)は単独で用いて
もよいし、2種類以上を混合して用いてもよい。
し、余りにも小さすぎると均一な膜が得られにくい場合
があり、また、余りに大きすぎても溶解性が低下し、均
一に製膜することが困難になる場合があるのでnの範囲
は10〜30000であり、10〜10000が好まし
い。
フェニレンビニレン)を用いることにより、溶液から成
膜する場合、この溶液を塗布後乾燥により溶媒を除去す
るだけでよく、また、電子輸送性化合物を混合した場合
においても同様な手法が適用でき、製造上非常に有利で
ある。
レンビニレン)の合成法としては特に限定されないが、
例えば特開平1−254734号公報、特開平1−79
217号公報等に記載されている方法が用いられる。す
なわち、例えば、相当するビス(ハロゲン化メチル)化
合物、より具体的には、例えば、2,5−ジヘプチルオ
キシ−p−キシリレンジブロミドを、キシレン/第三級
ブチルアルコール混合溶媒中、第三級ブトキシカリウム
を用いて重合させる脱ハロゲン化水素法をあげることが
できる。また、相当するホスホニウム塩とアルデヒドと
をリチウムアルコラートを触媒として反応させる方法で
あるWittig法、相当するスルホニウム塩をアルカ
リ存在下に重合させ、ついで脱スルホニウム塩処理を行
なうスルホニウム塩分解法などが例示される。また、こ
れらの高分子化合物を有機EL素子の発光層として用い
る場合、その純度が発光特性に影響を与えるため、合成
後、再沈精製、クロマトグラフによる分別等の純化処理
をすることが望ましい。
ては、発光材料として使用する置換ポリ(p−フェニレ
ンビニレン)に対して電子輸送性が高ければ特に限定さ
れないが、例えば、オキサジアゾール系化合物、ベンゾ
キノン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノ
ン系化合物、テトラシアノアンスラキノジメタン系化合
物、ジフェニルジシアノエチレン系化合物、フルオレノ
ン系化合物、ジフェノキノン系化合物、8−ヒドロキシ
キノリンおよびその誘導体の金属錯体等が例示される。
具体的には、特開昭63−70257、同63−175
860号公報、特開平2−135361、同2−135
359、同3−152184号公報に記載されているも
の等、公知のものが使用可能であるが、オキサジアゾー
ル系化合物、ベンゾキノン系化合物、アントラキノン系
化合物、8−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金
属錯体が好ましく、特に、2−(4−ビフェニリル)−
5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス
(8−キノリノール)アルミニウムが好ましい。これら
の電子輸送性化合物は、単独で用いてもよいし、2種類
以上を混合して用いてもよい。電子輸送性化合物を置換
ポリ(p−フェニレンビニレン)に混合して使用する場
合、その量は少なすぎると効果が小さく、多すぎると発
光に寄与しない電流が増加するため、有機EL素子にし
た場合、輝度等の特性が悪くなる。使用する電子輸送性
化合物の分子量によっても異なるが、混合する割合は長
鎖基置換ポリ(p−フェニレンビニレン)に対して1〜
40wt%が好ましく、より好ましくは2〜30wt%
である。
リ(p−フェニレンビニレン)に、既知の発光材料を分
散させたものを発光層として用いることも含まれる。発
光材料としては特に限定されないが、例えば、ナフタレ
ン誘導体、アントラセン及びその誘導体、ペリレン及び
その誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン
系、シアニン系などの色素類、8−ヒドロキシキノリン
およびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフ
ェニルシクロペンタジエン及びその誘導体、テトラフェ
ニルブタジエン及びその誘導体などを用いることができ
る。具体的には、例えば特開昭57−51781、同5
9−194393号公報に記載されているもの等、公知
のものが使用可能である。
に述べる。陽極および陰極からなる一対の電極で、透明
または半透明な電極としては、ガラス、透明プラスチッ
ク等の透明基板の上に透明または半透明の電極を形成し
たものが用いられる。陽極の材料としては、導電性の金
属酸化物膜、半透明の金属薄膜等が用いられる。具体的
にはインジウム・スズ・オキサイド (ITO) 、酸化ス
ズ (NESA)、Au、Pt、Ag、Cu等が用いられ
る。作製方法としては真空蒸着法、スパッタリング法、
メッキ法などが用いられる。
ニレンビニレン)と電子輸送性化合物を含む発光層を形
成する。成膜方法としてはこれら材料の混合液を使用し
てスピンコーティング法、キャスティング法、ディッピ
ング法、バーコート法、ロールコート法等の塗布法また
は真空蒸着法が例示されるが、混合溶液をスピンコーテ
ィング法、キャスティング法、ディッピング法、バーコ
ート法、ロールコート法等の塗布法により成膜するのが
特に好ましい。
ましくは10Å〜1μmである。電流密度を上げて発光
効率を上げるためには100〜5000Åの範囲が好ま
しい。なお、塗布法により薄膜化した場合には、溶媒を
除去するため、減圧下あるいは不活性雰囲気下、室温以
上で材料の分解温度以下、具体的には30〜330℃、
好ましくは60〜300℃、さらに好ましくは100〜
250℃の温度で熱処理することが望ましい。熱処理す
る時間としては、溶媒を除去するためには少なくとも1
0分以上処理することが好ましく、実用的には1〜24
時間がより好ましい。
化合物を含まない場合には上記の成膜方法で発光層を設
け、その上に電子輸送層を形成する。電子輸送層の材料
としては前述の電子輸送性化合物が用いられる。
に限定されないが、粉末状態からの真空蒸着法、あるい
は溶媒に溶かした後のスピンコーティング法、キャステ
ィング法、ディッピング法、バーコート法、ロールコー
ト法等の塗布法、あるいは上記化2の長鎖基置換ポリ
(p−フェニレンビニレン)またはそれとは別の高分子
化合物と電子輸送性化合物とを溶液状態または溶融状態
で混合し分散させた後のスピンコーティング法、キャス
ティング法、ディッピング法、バーコート法、ロールコ
ート法等の塗布法を用いることができる。混合する高分
子化合物としては、特に限定されないが、電荷輸送を極
度に阻害しないものが好ましく、また、可視光に対する
吸収が強くないものが好適に用いられる。例えば、上記
化2の長鎖基置換ポリ(p−フェニレンビニレン)、ポ
リ(p−フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジメト
キシ−p−フェニレンビニレン)、ポリ(2,5−ジメ
チル−p−フェニレンビニレン)、ポリチオフェン及び
その誘導体、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)及び
その誘導体、ポリカーボネート、ポリメタクリレート、
ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリシロキサンなどが例示される。製膜が容易に
行なえるという点では、塗布法を用いることが好まし
い。
ルが発生しないような厚みが必要であるが、あまり厚い
と素子の抵抗が増加し、高い駆動電圧が必要となり好ま
しくない。したがって、電子輸送層の膜厚は50〜20
00Åである。
ンビニレン)と電子輸送性化合物との混合層の場合はこ
の層の上に、また発光層と電子輸送層が積層されている
場合は電子輸送層の上に電極を設ける。この電極は電子
注入陰極となる。その材料としては、特に限定されない
が、イオン化エネルギーの小さい材料が好ましい。例え
ば、Al、In、Mg、MgとAgの合金(Mg−Ag
合金と記載することがある)、In−Ag合金、Mg−
In合金、グラファイト薄膜等が用いられる。これらの
中ではMgとAgの合金が好ましい。陰極の作製方法と
しては真空蒸着法、スパッタリング法等公知の方法が用
いられる。
これまで述べた陽極/発光層/陰極(/は層を積層した
ことを示す)、あるいは陽極/発光層/電子輸送層/陰
極の構造以外に、陽極と発光層の間、または陰極と電子
輸送層との間に高分子化合物のバッファー層を有する組
み合わせの構造、すなわち陽極/バッファー層/発光層
/陰極、陽極/バッファー層/発光層/電子輸送層/陰
極、陽極/発光層/バッファー層/陰極、陽極/発光層
/電子輸送層/バッファー層/陰極、陽極/バッファー
層/発光層/バッファー層/陰極、陽極/バッファー層
/発光層/電子輸送層/バッファー層/陰極をとること
もできる。バッファー層に用いる高分子化合物としては
特に限定されないが、電荷輸送を極度に阻害しないもの
が好ましく、また、可視光に対する吸収が強くないもの
が好適に用いられる。例えば、ポリ(N−ビニルカルバ
ゾール)、ポリアニリン及びその誘導体、ポリチオフェ
ン及びその誘導体、ポリ(2,5−チエニレンビニレ
ン)及びその誘導体、ポリシラン及びその誘導体などが
例示される。成膜が容易に行なえるという点では、塗布
法を用いることが好ましい。バッファー層の厚みは通常
5Å〜10μm、電流密度を上げて発光効率を上げるた
めには好ましくは10〜5000Å、より好ましくは2
0〜1000Åである。
に限定されるものではない。
付けたガラス基板に、特開平1−79217号公報の実
施例6で2,5−ジヘプチル−p−キシリレンジブロミ
ドの代わりに2,5−ジヘプチルオキシ−p−キシリレ
ンジブロミドを用いて実施例6記載の方法で合成したポ
リ(2,5−ジヘプチルオキシ−p−フェニレンビニレ
ン)〔ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)
によるポリスチレン換算の数平均重合度約360〕と電
子輸送性化合物として2−(4−ビフェニリル)−5−
(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾール〔ポリ(2,5−ジヘプチルオキシ−p−フェニ
レンビニレン)に対する混合割合は5wt%〕の0.6
7wt%トルエン/クロロホルム(3/2重量比)溶液
を用い、スピンコートにより800Åの厚みで成膜し
た。次いで、これを減圧下60℃で1時間乾燥した後、
その上に陰極として、Inを3000Å蒸着して、有機
EL素子を作製した。蒸着のときの真空度は3×10-6
Torr以下であった。この素子に電圧19.4Vを印
加したところ、電流密度275mA/cm2 の電流が流
れ、輝度160.6cd/m2 のオレンジ色のEL発光
が観察された。また20cd/m2 の輝度にするための
電圧は13.2Vであった。
ニル)−1,3,4−オキサジアゾールをポリ(2,5
−ジヘプチルオキシ−p−フェニレンビニレン)に対し
て15wt%とした以外は実施例1と同じ方法で890Å
の厚みの発光層を持つ、有機EL素子を作製した。この
素子に電圧26.0Vを印加したところ、電流密度21
9mA/cm2 の電流が流れ、輝度71.9cd/m2
のオレンジ色のEL発光が観察された。また20cd/
m2 の輝度にするための電圧は19.6Vであった。
ニル)−1,3,4−オキサジアゾールをポリ(2,5
−ジヘプチルオキシ−p−フェニレンビニレン)に対し
て2.5wt%とした以外は実施例1と同じ方法で10
10Åの厚みの発光層を持つ、有機EL素子を作製し
た。この素子に電圧19.4Vを印加したところ、電流
密度56mA/cm2 の電流が流れ、輝度46.8cd
/m2 のオレンジ色のEL発光が観察された。また20
cd/m2 の輝度にするための電圧は17.5Vであっ
た。
レン)に2−(4−ビフェニリル)−5−(4−t−ブ
チルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾールを混合
しない以外は実施例1と同じ方法で980Åの厚みの発
光層を持つ、有機EL素子を作製した。この素子に電圧
33.3Vを印加したところ、電流密度617mA/c
m2 の電流が流れたが、輝度26.4cd/m2 のオレ
ンジ色のEL発光が観察されただけであった。また20
cd/m2 の輝度にするための電圧は32.9Vであっ
た。
レン)の代わりに、特開平1−79217号公報の実施
例6で2,5−ジヘプチル−p−キシリレンジブロミド
の代わりに2,5−ジヘキシルオキシ−p−キシリレン
ジブロミドを用いて実施例6記載の方法で合成したポリ
(2,5−ジヘキシルオキシ−p−フェニレンビニレ
ン)(GPCによるポリスチレン換算数平均重合度約1
60)を用い、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−
t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
をポリ(2,5−ジヘキシルオキシ−p−フェニレンビ
ニレン)に対して10wt%混合し、溶媒としてクロロ
ホルムを用いた以外は実施例1と同じ方法で1300Å
の厚みの発光層を持つ、有機EL素子を作製した。この
素子に電圧25.0Vを印加したところ、電流密度34
6mA/cm2 の電流が流れ、輝度44.6cd/m2
のオレンジ色のEL発光が観察された。また20cd/
m2 の輝度にするための電圧は23.5Vであった。
レン)の代わりに、特開平1−79217号公報の実施
例6で2,5−ジヘプチル−p−キシリレンジブロミド
の代わりに2,5−ジペンチルオキシ−p−キシリレン
ジブロミドを用いて実施例6記載の方法で合成したポリ
(2,5−ジペンチルオキシ−p−フェニレンビニレ
ン)(GPCによるポリスチレン換算数平均重合度約4
00)を用い、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−
t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
をポリ(2,5−ジペンチルオキシ−p−フェニレンビ
ニレン)に対して10wt%混合し、溶媒としてクロロ
ホルムを用いた以外は実施例1と同じ方法で1400Å
の厚みの発光層を持つ、有機EL素子を作製した。この
素子に電圧23.3Vを印加したところ、電流密度38
6mA/cm2 の電流が流れ、輝度51.4cd/m2
のオレンジ色のEL発光が観察された。また20cd/
m2 の輝度にするための電圧は22.5Vであった。
ニル)−1,3,4−オキサジアゾールをポリ(2,5
−ジヘプチルオキシ−p−フェニレンビニレン)に対し
て44.4wt%混合した以外は実施例1と同じ方法で
2600Åの厚みの発光層を持つ、有機EL素子を作製
した。この素子に電圧40.0Vを印加したところ、電
流密度1360mA/cm2の電流が流れたが、輝度1
3.4cd/m2 のオレンジ色のEL発光が観察された
だけであった。また電圧を上げると絶縁破壊のため20
cd/m2 の輝度にすることができなかった。
付けたガラス基板に、実施例1と同様の方法で合成した
ポリ(2,5−ジヘプチルオキシ−p−フェニレンビニ
レン)と電子輸送性化合物としてアントラキノン〔ポリ
(2,5−ジヘプチルオキシ−p−フェニレンビニレン
に対する混合割合は5wt%〕の0.67wt%トルエ
ン/クロロホルム(3/2重量比)溶液を用い、スピン
コートにより1100Åの厚みで成膜した。次いで、こ
れを減圧下60℃で1時間乾燥した後、その上に陰極と
して、Inを3000Å蒸着して、有機EL素子を作製
した。蒸着のときの真空度は3×10-6Torr以下で
あった。この素子に電圧20.8Vを印加したところ、
電流密度165.2mA/cm 2 の電流が流れ、輝度1
46cd/m2 のオレンジ色のEL発光が観察された。
また、20cd/m2 の輝度にするための電圧は16.
8Vであった。
レンビニレン)とポリ(p−フェニレンビニレン)の
7:3(重量比)の混合物から成る層をつけた以外は、
発光層、陰極は実施例6と同じ方法で、バッファー層と
発光層の厚さの合計が1500Åの有機EL素子を作製
した。ここで、ポリ(2,5−チエニレンビニレン)と
ポリ(p−フェニレンビニレン)の7:3の混合物から
成る層は、特開平1−9221号公報の実施例1に記載
の方法で得たポリ(2,5−チエニレンビニレン)(P
TV)中間体をN,N−ジメチルホルムアミド(DM
F)に溶解してPTV中間体溶液としたものと、特開昭
59−199746号公報の実施例1に記載の方法で合
成したポリ(p−フェニレンビニレン)(PPV)中間
体のBr- 塩の水溶液を大量のNaBF4水溶液に添加
して対イオン(Br- )をBF4 - に交換し、沈澱とし
て回収したPPV中間体のBF4 - 塩をDMFに溶解し
てPPV中間体溶液としたものを、熱処理後生成する両
高分子の重量比が7:3となるような割合で混合した溶
液をスピンコートにより成膜し、200℃で熱処理する
ことにより作成した。この素子に電圧24.4Vを印加
したところ、電流密度70.8mA/cm2の電流が流
れ、輝度120cd/m2 のオレンジ色のEL発光が観
察された。また、20cd/m2 の輝度にするための電
圧は18.2Vであった。
は実施例6と同じ方法で630Åの厚みの発光層を持
つ、有機EL素子を作製した。この素子に電圧18.3
Vを印加したところ、電流密度163.4mA/cm2
の電流が流れ、輝度63cd/m2 のオレンジ色のEL
発光が観察された。また、20cd/m2の輝度にする
ための電圧は14.8Vであった。
実施例1と同じ方法で合成したポリ(2,5−ジヘプチ
ルオキシ−p−フェニレンビニレン)〔ゲルパーハエー
ションクロマトグラフ(GPC)によるポリスチレン換
算の数平均重合度約360〕の0.75wt%クロロホ
ルム溶液を用い、ディッピングにより成膜した。つい
で、これを減圧下60℃で1時間乾燥した後、その上に
電子輸送層として、トリス(8−キノリノール)アルミ
ニウムを700Å蒸着し、ついで陰極として、Mg−A
g合金(重量比10:1)を1500Å、さらにその上
にAgを1000Å蒸着して、有機EL素子を作製し
た。有機層の厚さは合計910Åであった。また、蒸着
のときの真空度はいずれも3×10-6Torr以下であ
った。この素子に電圧17.8Vを印加したところ、電
流密度420mA/cm2 の電流が流れ、輝度2290
cd/m2 のオレンジ色のEL発光が観察された。発光
スペクトルはポリ(2,5−ジヘプチルオキシ−p−フ
ェニレンビニレン)の蛍光スペクトルと一致した。
機EL素子を作製した。この素子に電圧9.2Vを印加
したところ、電流密度569mA/cm2 の電流が流
れ、輝度1189cd/m2 のオレンジ色のEL発光が
観察された。また、これ以上電圧を上げても輝度は向上
せず、11.7Vで素子の破壊のため発光しなくなっ
た。
素子は、従来のものと比較して、低電圧駆動で、しかも
輝度が向上しており、バックライトとしての面状光源、
フラットパネルディスプレイ等の装置としての使用が可
能である。
Claims (2)
- 【請求項1】少なくとも一方が透明または半透明である
一対の陽極および陰極からなる電極間に、少なくとも発
光層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子におい
て、該発光層が下記化1 【化1】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 はそれぞれ独立に水
素,炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基および
アルキルチオ基ならびに炭素数6〜20の芳香族炭化水
素基から選ばれた基を示し、且つ少なくとも一つが炭素
数4〜20のアルキル基、アルコキシ基またはアルキル
チオ基であり、nは10〜30000の数を表す。)で
表される置換ポリ(p−フェニレンビニレン)と電子輸
送性化合物を含むことを特徴とする有機エレクトロルミ
ネッセンス素子。 - 【請求項2】陰極がMgとAgの合金からなることを特
徴とする請求項1記載の有機エレクトロルミネッセンス
素子。
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