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JP3319429B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP3319429B2
JP3319429B2 JP11722399A JP11722399A JP3319429B2 JP 3319429 B2 JP3319429 B2 JP 3319429B2 JP 11722399 A JP11722399 A JP 11722399A JP 11722399 A JP11722399 A JP 11722399A JP 3319429 B2 JP3319429 B2 JP 3319429B2
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    • GPHYSICS
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    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関し、詳しくは、マトリックス状に配置された複数個
のメモリセルを有するメモリセル・アレイとその周辺に
設けられた回路とからなるバンクを複数個有する半導体
記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体記憶装置のうち、DRAMは、周
知のように、スイッチング用のMOSトランジスタ(以
下、スイッチング・トランジスタと呼ぶ)とメモリ・キ
ャパシタとからなるメモリセルがマトリックス状に配置
されてメモリセル・アレイを構成しており、メモリ・キ
ャパシタに電荷を貯えるか否かにより"1"又は"0"の1
ビットのデータを記憶している。各メモリセルを構成す
るスイッチング・トランジスタは、そのソース電極にメ
モリ・キャパシタの一方の電極が接続され、そのゲート
電極に行方向に配線されたワード線が接続され、そのド
レイン電極に列方向に配線されたビット線が接続されて
いる。
【0003】例えば、あるメモリセルに記憶されたデー
タを読み出す場合、対応するワード線を活性化する、す
なわち、"H"レベルの電圧を印加して当該メモリセルを
構成するスイッチング・トランジスタをオンする。これ
により、当該メモリセルを構成するメモリ・キャパシタ
に蓄積された電荷によって対応するビット線上に現出し
た電圧の高低を検出して、当該メモリセルに記憶され
た"1"又は"0"の1ビットのデータを読み出す。一方、
例えば、あるメモリセルに"1"のデータを記憶する場
合、対応するワード線を活性化する、すなわち、"H"レ
ベルの電圧を印加して当該メモリセルを構成するスイッ
チング・トランジスタをオンすると共に、対応するビッ
ト線に"H"レベルの電圧を印加して当該メモリセルを構
成するメモリ・キャパシタを充電した後、対応するワー
ド線を不活性化する、すなわち、"L"レベルの電圧を印
加して上記スイッチング・トランジスタをオフすること
により、上記メモリ・キャパシタに電荷を貯える。メモ
リ・キャパシタに貯えられた電荷は、保持されるが、わ
ずかに存在する漏れ電流により、時間の経過と共に徐々
に減少していき、最後には失われてしまう。このため、
一定時間毎に、スイッチング・トランジスタをオンし
て、メモリ・キャパシタに貯えられ減少している電荷を
検出し、センスアンプと呼ばれる増幅器により増幅した
後、再び同一のメモリ・キャパシタを充電するリフレッ
シュと呼ばれる動作を行う必要がある。
【0004】DRAMは、記憶容量が数メガビット程度
までの場合には、メモリセル・アレイは1個で良いが、
記憶容量が数十メガビットから数ギガビット程度になる
と、メモリセルの個数が数十万〜数十億個となり、ワー
ド線及びビット線の本数が膨大になる、所望のメモリセ
ルに対するデータの書き込み又は読み出しを行うアクセ
ス・タイムが長くなってしまう、等の様々な不都合が生
じるため、通常は、メモリセル・アレイを複数個設けて
いる。メモリセル・アレイとその周辺に設けられた回路
とを合わせたものはバンクと呼ばれる。このような複数
個のバンクを有するDRAMにおいて、上記したリフレ
ッシュは、内部に設けられたリフレッシュ・カウンタと
呼ばれるカウンタが用いられて、以下に示す手順で行わ
れる。例えば、2個のバンクを有するDRAMにおいて
は、リフレッシュ・カウンタのカウント値を更新させ、
そのカウント値の最下位の数ビットにより2個のバンク
を交互に選択すると共に、選択されたバンクにおいて、
そのカウント値に基づいて複数本のワード線に順次"H"
レベルの電圧を印加させて当該ワード線に接続されてい
るすべてのスイッチング・トランジスタをオンさせ、オ
ンしているスイッチング・トランジスタを介してビット
線上に現出した、メモリ・キャパシタに貯えられ減少し
ている電荷をセンスアンプにより増幅した後、再び同一
のメモリ・キャパシタを充電する。
【0005】ところで、上記した複数個のバンクを有す
るDRAMには、上記リフレッシュ・カウンタが正常に
動作しているか否かをテストするリフレッシュ・カウン
タ・テストが仕様の1つとして挙げられている。このリ
フレッシュ・カウンタ・テストは、上記したような、単
に各メモリセルを構成するメモリ・キャパシタに貯えら
れ減少している電荷を増幅する通常のリフレッシュとは
異なり、すべて、あるいは一部のメモリセルのデータに
ついてリフレッシュを実行している間に所定のデータを
各メモリセルに順次書き込み、リフレッシュ終了後各メ
モリセルに書き込まれたデータを順次読み出して、先に
各メモリセルに書き込んだデータが正しく読み出されて
いるかを確認することにより、リフレッシュ・カウンタ
が正常に動作しているか否かを確認するためのテストで
ある。通常のリフレッシュは、一般に、自動リフレッシ
ュ、あるいはセルフ・リフレッシュと呼ばれ、一旦外部
からそれを実行させるコマンドが供給されれば、すべて
のバンクのすべてのメモリセルを構成するメモリ・キャ
パシタに貯えられ減少している電荷の増幅が終了し、停
止コマンドを実行するまでは動作を停止しない。これに
対し、リフレッシュ・カウンタ・テストにおけるリフレ
ッシュは、一般に、CBR(Cas Before Ras)リフレッ
シュと呼ばれ、外部からそれを実行させるコマンドが供
給される毎に、リフレッシュ・カウンタのカウント値を
1個ずつ更新させて動作を実行していく。
【0006】以下、リフレッシュ・カウンタ・テストの
概略について、バンクAとバンクBとを有し、CPU
(中央処理装置)やメモリ・コントロール・ユニット等
の外部からコマンドがクロックに同期して供給され、そ
のコマンドに基づいて動作する同期型のDRAMを例に
とり、図14に示すタイミング・チャートを参照して説
明する。まず、クロックCLK(図14(1)参照)に
同期して外部から供給されるモード・レジスタ・セット
・コマンドMRS(図14(2)参照)に対応して、モ
ード・レジスタの記憶内容を、外部から供給されるアド
レスをデコードして得られたリフレッシュ・カウンタ・
テスト・モードを指定するオペレーション・コードに変
更する。モード・レジスタは、バンクの周辺に複数個設
けられ、データの書き込み及び読み出し等の動作を連続
して行うバースト・モードにおけるクロック数を表すバ
ースト長等の各種情報や、上記リフレッシュ・カウンタ
・テスト・モード及び上記バースト・モードを指定する
等の各種のオペレーション・コードが一時保持される。
【0007】次に、クロックCLK(図14(1)参
照)に同期して外部から供給されるリフレッシュ・コマ
ンドREF(図14(2)参照)に対応して、リフレッ
シュ・カウンタがそのカウント値を更新させるが、その
カウント値の最下位ビットRCL(図14(7)参照)
が、例えば、バンクBを活性化させるための値RCLB
であるとすると、その値RCLBに基づいて、バンクB
に対応して設けられ、外部から供給される外部ロウ・ア
ドレス又はリフレッシュ・カウンタのカウント値からな
る内部ロウ・アドレスをデコードしてバンクBの所定の
ワード線に"H"レベルの信号を印加するロウ・デコーダ
を活性化するための信号RASB(図14(6)参照)
が生成される。したがって、信号RASBによってバン
クBに対応したロウ・デコーダが活性化されるので、ロ
ウ・アドレスによって指定されたバンクBのワード線
に"H"レベルの電圧が印加され、当該ワード線に接続さ
れているメモリセルにおいて上記したリフレッシュが行
われる。
【0008】次に、リフレッシュが終了したバンクに所
定のデータを書き込むが、その場合、データを書き込む
べきバンクを指定すると共に、バンクに対応して設けら
れ、データを書き込むべきメモリセルが接続されたビッ
ト線と、このビット線と平行に設けられ半導体記憶装置
の外部からのデータをメモリセルに入出力させる入出力
線とを接続するためのスイッチであるカラム・スイッチ
を活性化する、すなわち、"H"レベルの電圧を印加する
カラム・デコーダを活性化する必要がある。上記したよ
うに、リフレッシュが行われるバンクの指定は、半導体
記憶装置内部に設けられたリフレッシュ・カウンタのカ
ウント値の最下位ビットRCLに基づいて生成される信
号RASA又はRASB(図14(5)及び(6)参
照)によりバンクA又はバンクBに対応したロウ・デコ
ーダが活性化されることにより行われる。これに対し、
そのリフレッシュ後に行われるデータの書き込み時にお
けるバンクの指定は、通常、外部から供給されるアドレ
スの最上位の数ビットに基づいて生成される信号CAS
A又はCASB(図14(3)及び(4)参照)により
バンクA又はバンクBに対応したカラム・デコーダが活
性化されることにより行われる。この場合、リフレッシ
ュ・カウンタのカウント値は外部から認識できないた
め、リフレッシュが終了したバンクがバンクA又はバン
クBのいずれであるかは外部から認識できない。
【0009】したがって、リフレッシュ・コマンドに基
づいてカウントアップされたリフレッシュ・カウンタの
カウント値の最下位ビットRCL(今の場合、値RCL
B)により生成された信号RASB(図14(6)参
照)に基づいて指定されたバンク(今の場合、バンク
B)と、そのリフレッシュ・コマンドに続いて供給され
たライト・コマンドと共に外部から供給されたアドレス
の最上位の数ビットに基づいて生成された信号CASA
(図14(3)参照)に基づいて指定されたバンク(今
の場合、バンクA)とが一致しない場合には、リフレッ
シュが終了したバンクに所定のデータを書き込むことが
できない。このような不都合は、データの読み出し時に
も同様に発生する。したがって、このような事態が発生
すると、リフレッシュ・カウンタ・テストを正常に実行
することができなくなってしまう。
【0010】そこで、以上説明した不都合を解決するた
めの半導体記憶装置が、例えば、特開平10−9217
5号公報に開示されている。図15は、上記公報に開示
された従来の半導体記憶装置を構成する信号発生回路の
電気的構成例を示す回路図である。この例の信号発生回
路は、オアゲート1及び2と、インバータ3及び4と、
レジスタ5と、スイッチ6〜8と、フリップフロップ9
及び10とから概略構成されている。オアゲート1は、
外部から供給される、バースト・モードでのデータの書
き込みを指令するバースト・ライト・コマンドBWR
と、バースト・モードでのデータの読み出しを指令する
バースト・リード・コマンドBRDとの論理和を取り、
フリップフロップ9及び10の第1の入力端INに供
給する。オアゲート2は、外部から供給される、バース
ト・モードの中止を指令するバースト・ストップ・コマ
ンドBSTと、書き込み又は読み出しのデータのデータ
長が予め設定されたバースト長に到達した後の自動的な
バースト・モードの終了を指令するバースト・レングス
・エンド・コマンドBLEとの論理和を取り、フリップ
フロップ9及び10の第2の入力端INに供給する。
インバータ3は、外部から供給されるリフレッシュ・カ
ウンタ・テスト・コマンドに基づいて生成され、リフレ
ッシュ・カウンタ・テストの間"H"レベルとなるテスト
・モード信号TMを反転してスイッチ7の制御端に供給
する。
【0011】スイッチ6は、外部から供給されるリフレ
ッシュ・コマンドREFによりオン/オフされ、リフレ
ッシュ・カウンタのカウント値の最下位ビットRCLを
レジスタ5に供給する。レジスタ5は、2個のインバー
タからなり、スイッチ6を介して供給されるリフレッシ
ュ・カウンタのカウント値の最下位ビットRCLを一時
保持した後、インバータ4の入力端に供給する。インバ
ータ4は、レジスタ5の出力信号を反転してスイッチ8
の入力端に供給する。スイッチ7は、インバータ3の出
力信号によりオン/オフされ、外部から供給されたアド
レスの最上位ビットEAMをフリップフロップ9及び1
0の第3の入力端INに供給する。スイッチ8は、テ
スト・モード信号TMによりオン/オフされ、インバー
タ4の出力信号をフリップフロップ9及び10の第3の
入力端INに供給する。フリップフロップ9及び10
は、第3の入力端INに供給される信号により活性化
された場合には、オアゲート1の出力信号、すなわち、
バースト・ライト・コマンドBWR又はバースト・リー
ド・コマンドBRDにより"L"レベルから"H"レベルに
変化し、オアゲート2の出力信号、すなわち、バースト
・ストップ・コマンドBSTとバースト・レングス・エ
ンド・コマンドBLEにより"H"レベルから"L"レベル
に変化する信号CASA及びCASBをそれぞれ出力す
る。
【0012】次に、上記構成の半導体記憶装置の動作に
ついて説明する。まず、通常のリフレッシュ及び通常の
ライト又はリードの時には、テスト・モード信号TMが
供給されないので、スイッチ7がオンするのに対し、ス
イッチ8がオフする。これにより、外部から供給された
アドレスの最上位ビットEAMがフリップフロップ9及
び10の第3の入力端INに供給されるので、アドレ
スの最上位ビットEAMに基づいて、フリップフロップ
9又はフリップフロップ10が活性化され、信号CAS
A又は信号CASBが出力される。これに対し、リフレ
ッシュ・カウンタ・テストの時には、テスト・モード信
号TMが供給されるので、スイッチ8がオンするのに対
し、スイッチ7がオフする。これにより、リフレッシュ
・コマンドREFが供給されると、スイッチ6がオンす
るので、リフレッシュ・カウンタのカウント値の最下位
ビットRCLがスイッチ6、レジスタ5、インバータ4
及びスイッチ8を介してフリップフロップ9及び10の
第3の入力端INに供給されるので、リフレッシュ・
カウンタのカウント値の最下位ビットRCLに基づい
て、フリップフロップ9又はフリップフロップ10が活
性化され、信号CASA又は信号CASBが出力され
る。
【0013】このような構成によれば、リフレッシュ・
カウンタ・テストの時、リフレッシュ・コマンドREF
に基づいてカウントアップされたリフレッシュ・カウン
タのカウント値の最下位ビットRCLからカラム・デコ
ーダを活性化する信号も、ロウ・デコーダを活性化する
信号も生成されるので、リフレッシュ時に指定されたバ
ンクと、そのリフレッシュ後のデータの書き込み又は読
み出しが指定されたバンクとは必ず一致する。したがっ
て、リフレッシュ・カウンタ・テストを正常に実行する
ことができる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したリ
フレッシュ・カウンタ・テストは、仕様上決められてい
るので、それに関連する回路が半導体記憶装置内部に設
けられてはいるが、実際上は実行されることはほとんど
ない。それにもかかわらず、上記した公報に開示された
従来の半導体記憶装置においては、リフレッシュ・カウ
ンタ・テストだけのために、複雑な信号発生回路を設け
なければならないと共に、リフレッシュ・カウンタのカ
ウント値の最下位ビットRCLを伝達する信号線をチッ
プ全体に配線しなければならないので、その回路及び配
線のチップ面積における占有面積の分だけ半導体記憶装
置の高集積化が阻まれるという問題があった。
【0015】この発明は、上述の事情に鑑みてなされた
もので、簡単な回路構成及び配線でリフレッシュ・カウ
ンタ・テストを正常に実行することができる半導体記憶
装置を提供することを目的としている。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、複数本のワード線と、複数
本のビット線と、前記ワード線と前記ビット線との交差
点にマトリックス状に配置された複数個のメモリセル
と、各ビット線に対応して設けられ、外部からのデータ
を対応するメモリセルに入出力するための複数本の入出
力線と、対応するビット線と入出力線とを接続する複数
個のカラム・スイッチとを有するメモリセル・アレイ
と、前記複数本のワード線のいずれかを活性化するロウ
・デコーダと、前記複数個のカラム・スイッチのいずれ
かを活性化するカラム・デコーダとを有する複数個のバ
ンクとを備えてなる半導体記憶装置に係り、さらに、リ
フレッシュ・コマンドに基づいて、そのカウント値を更
新させるリフレッシュ・カウンタと、前記リフレッシュ
・コマンドが供給される毎に、更新されたカウント値
下位ビットに基づいて、前記複数個のバンクのうちのい
ずれかのロウ・デコーダを活性化するための第1の制御
信号を出力する第1の制御手段と、前記リフレッシュ・
カウンタの動作をテストする場合には、前記リフレッシ
ュ・コマンドが供給された後に供給されるライト・コマ
ンド又はリード・コマンドに基づいて、バンクのカラ
ム・デコーダの活性化に関与する第2の制御信号を出力
する第2の制御手段と、前記第1の制御信号と前記第2
の制御信号との論理積に基づいて、前記複数個のバンク
のうちのいずれかのカラム・デコーダを活性化するため
の第3の制御信号を出力する第3の制御手段とを備えて
なることを特徴としている。
【0017】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体記憶装置に係り、前記メモリセル・アレイは、各入
出力線を所定の電圧に固定する複数個の電圧固定手段を
有し、前記第1の制御信号が供給されないすべてのバン
クの前記複数個の電圧固定手段を活性化するための第4
の制御信号を出力する第4の制御手段を備えてなること
を特徴としている。
【0018】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の半導体記憶装置に係り、前記複数個のバンクは、横
方向、縦方向、あるいはその両方向に配置されているこ
とを特徴としている。
【0019】また、請求項4記載の発明は、請求項1、
2又は3記載の半導体記憶装置に係り、少なくともコマ
ンドがクロックに同期して供給される同期型であること
を特徴としている。
【0020】
【0021】
【0022】
【作用】この発明の構成によれば、簡単な回路構成及び
配線でリフレッシュ・カウンタ・テストを正常に実行す
ることができる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態について説明する。説明は、実施例を用い
て具体的に行う。 A.第1の実施例 まず、この発明の第1の実施例について説明する。図1
は、この発明の第1の実施例である半導体記憶装置の要
部の電気的構成を示すブロック図である。この例の半導
体記憶装置は、同期型のDRAMであり、バンク11
及び11 と、テスト回路12と、コマンド・デコーダ
13と、アドレス・デコーダ14と、リフレッシュ・カ
ウンタ15と、ロウ制御回路16と、カラム制御回路1
7と、イネーブル回路18及び18とから概略構成
されている。
【0024】バンク11とバンク11とは、各構成
要素の添え字が異なると共に、入出力される信号やデー
タの添え字が異なる以外は同一構成であるので、バンク
11 についてのみ説明する。バンク11は、メモリ
セル・アレイ21と、カラム・デコーダ22と、ロ
ウ・デコーダ23と、入出力制御回路24とから概
略構成されている。ここで、図2にメモリセル・アレイ
21の一部の電気的構成を示す。メモリセル・アレイ
21は、スイッチング・トランジスタ31とメモリ・
キャパシタ32とからなり、マトリックス状に配置され
た複数個のメモリセル33と、行方向に配線された複数
本のワード線34と、列方向に配線された複数本のビッ
ト線35と、ビット線35と平行に配線されたスイッチ
線36と、ビット線35及びスイッチ線36と平行に配
線された入出力線37と、各ビット線35の少なくとも
両端に設けられた複数個のセンスアンプ38と、MOS
トランジスタからなり、ビット線35と入出力線37と
の間に設けられたカラム・スイッチ39と、MOSトラ
ンジスタからなり、各入出力線37の一端に設けられた
複数個のプリチャージ・トランジスタ40とから概略構
成されている。各メモリセル33を構成するスイッチン
グ・トランジスタ31は、そのソース電極にメモリ・キ
ャパシタ32の一方の電極が接続され、そのゲート電極
にワード線34が接続され、そのドレイン電極にビット
線35が接続されている。メモリ・キャパシタ32の他
方の電極は、例えば、接地されている。ワード線34
は、ロウ・デコーダ23により活性化される、すなわ
ち、"H"レベルのワード信号WD1m(m=1,2,
…)が印加されることにより、ゲート電極が接続された
スイッチング・トランジスタ31をオンする。ワード線
34、スイッチ線36及び入出力線37は、いずれもメ
モリセル・アレイ21の端から端まで連続して配線さ
れているが、ビット線35は、センスアンプ38の駆動
能力の関係上、例えば、行方向に配置された512個の
メモリセル33毎に1本ずつ配線されている。
【0025】カラム・スイッチ39は、センスアンプ3
8の近傍に設けられ、そのドレイン電極に入出力線37
が接続され、そのゲート電極にスイッチ線36が接続さ
れ、そのソース電極にビット線35が接続されており、
カラム・デコーダ22により活性化される、すなわ
ち、"H"レベルのスイッチ信号SW1n(n=1,2,
…)がスイッチ線36に印加されることにより、ビット
線35と入出力線37とを接続し、対応して設けられた
所定のメモリセル33における外部からのデータの書き
込み又は外部へのデータの読み出しを可能とする。
【0026】プリチャージ・トランジスタ40は、その
ドレイン電極に電源電圧VCCが印加され、そのソース
電極に入出力線37が接続され、そのゲート電極が入出
力制御回路24に接続されており、入出力制御回路2
により活性化される、すなわち、そのゲート電極
に"H"レベルのプリチャージ入出力信号PIOが印加さ
れることにより、入出力線37に電源電圧VCCに略等
しい電圧を印加して、当該入出力線37に対応して設け
られたすべてのメモリセル33における外部からのデー
タの書き込み又は外部へのデータの読み出しを禁止す
る。一方、外部からのデータの書き込み又は外部へのデ
ータの読み出し時には、入出力制御回路24により不
活性化される、すなわち、プリチャージ・トランジスタ
40のゲート電極に"L"レベルのプリチャージ入出力信
号PIOが印加されることにより、対応する入出力線3
7がプリチャージ状態となり、当該入出力線37に対応
して設けられたメモリセル33における外部からのデー
タの書き込み又は外部へのデータの読み出しが可能とな
る。
【0027】図1に示すバンク11において、カラム
・デコーダ22は、図3に示すように、ナンド・ゲー
ト41とインバータ42とからなる論理回路がメモリセ
ル・アレイ21の各スイッチ線36に対応して設けら
れ、イネーブル回路18から供給されるイネーブル信
号ENとアドレス・デコーダ14から供給される内部
アドレスIADのうちの内部カラム・アドレスICAD
の対応するビットICAD1n(n=1,2,…)との
論理積をとり反転した後、タイミングと論理を合わせる
ためにさらに1回反転し、"H"レベルのスイッチ信号S
1nとして対応するスイッチ線36に供給する。ロウ
・デコーダ23は、図4に示すように、ナンド・ゲー
ト43とインバータ44とからなる論理回路がメモリセ
ル・アレイ21の各ワード線34に対応して設けら
れ、ロウ制御回路16から供給されるロウ制御信号RC
TLとアドレス・デコーダ14から供給される内部ア
ドレスIADのうちの内部ロウ・アドレスIRADの対
応するビットIRAD1m(m=1,2,…)との論理
積をとり反転した後、タイミングと論理を合わせるため
にさらに1回反転し、"H"レベルのワード信号WD1m
として対応するワード線34に供給する。入出力制御回
路24は、図5に示すように、ナンド・ゲート45と
インバータ46〜49とからなり、イネーブル回路18
から供給されるイネーブル信号ENとロウ制御回路
16から供給されるロウ制御信号RCTLとの論理積
をとり反転した後、タイミングと論理を合わせるために
さらに4回反転し、"L"レベルのプリチャージ入出力信
号PIOとしてプリチャージ・トランジスタ40に供給
する。
【0028】テスト回路12は、アドレス・デコーダと
複数個のモード・レジスタとからなり、コマンド・デコ
ーダ13から供給されるモード・レジスタ・セット・コ
マンドMRSに対応して、モード・レジスタの記憶内容
を、CPUやメモリ・コントロール・ユニット等の外部
から供給される外部アドレスEADをデコードして得ら
れたリフレッシュ・カウンタ・テスト・モード等の各種
テスト・モードを指定するオペレーション・コードに変
更すると共に、当該テスト・モードに対応したテスト・
モード信号TMをロウ制御回路16及びカラム制御回路
17に供給する。コマンド・デコーダ13は、外部から
クロックに同期して供給される外部コマンドCMDをデ
コードして、装置各部を活性化させるためのアクト・コ
マンドACTや、リフレッシュ・コマンドREF、ライ
ト・コマンドWR及びリード・コマンドRD等の各種コ
マンドをロウ制御回路16及びカラム制御回路17に供
給すると共に、リフレッシュ・コマンドREFについて
はアドレス・デコーダ14にも供給し、モード・レジス
タ・セット・コマンドMRSについてはテスト回路12
に供給する。
【0029】アドレス・デコーダ14は、外部から供給
される外部アドレスEADをバンク11及び11
供給すべき内部アドレスIADにデコードしてバンク1
及び11に供給すると共に、外部アドレスEAD
の最上位の2ビットを外部からのバンク選択信号EBS
としてロウ制御回路16に供給する。また、アドレス・
デコーダ14は、コマンド・デコーダ13からリフレッ
シュ・コマンドREFが供給された場合には、リフレッ
シュ・カウンタ15から供給されるカウント値RCTを
内部アドレスIADとしてバンク11及び11に供
給する。リフレッシュ・カウンタ15は、通常のリフレ
ッシュ及びリフレッシュ・カウンタ・テストの際に、そ
のカウント値RCTが更新され、更新されたカウント値
RCTをアドレス・デコーダ14に供給すると共に、そ
の最下位の2ビットRCLをロウ制御回路16に供給す
る。
【0030】ロウ制御回路16は、アドレス・デコーダ
14から供給されるバンク選択信号EBSやリフレッシ
ュ・カウンタ15から供給される最下位の2ビットRC
L等に基づいて、ロウ制御信号RCTL及びRCTL
を生成して、ロウ・デコーダ23及び23並びに
入出力制御回路24及び24に供給する。ここで、
図6にロウ制御回路16の電気的構成の一例を示す。ロ
ウ制御回路16は、ナンド・ゲート51〜55と、イン
バータ56〜64と、遅延素子65と、スイッチ66〜
71と、フリップフロップ72及び73とから概略構成
されている。ナンド・ゲート51は、外部から供給され
るアクト・コマンドACTとアドレス・デコーダ14か
ら供給されるバンク選択信号EBSのビットEBS
の論理積をとり反転し、インバータ57は、ナンド・ゲ
ート51の出力信号を反転してスイッチ66の入力端に
供給する。一方、インバータ58は、外部から供給され
るリフレッシュ・コマンドREFを反転してスイッチ6
6及び67の制御端に供給する。スイッチ66は、イン
バータ58の出力信号によりオン/オフされ、インバー
タ57の出力信号をフリップフロップ72の第1の入力
端に供給する。
【0031】ここで、図7にスイッチ66の電気的構成
の一例を示す。スイッチ66は、インバータ74と、N
チャネルのMOSトランジスタ及びPチャネルのMOS
トランジスタからなるトランスファゲート75とから構
成され、制御端Tに"H"レベルの制御信号が供給され
ることによりオンして入力端TINから入力された信号
を出力端TOUTから出力する。なお、図6に示す他の
スイッチ67〜71及び図8に示すスイッチ86〜88
もスイッチ66と同一の電気的構成を有している。図6
に示すナンド・ゲート52は、アクト・コマンドACT
とバンク選択信号EBSのビットEBSとの論理積を
とり反転し、インバータ59は、ナンド・ゲート52の
出力信号を反転してスイッチ67の入力端に供給する。
スイッチ67は、インバータ58の出力信号によりオン
/オフされ、インバータ59の出力信号をフリップフロ
ップ73の第1の入力端に供給する。
【0032】ナンド・ゲート53は、リフレッシュ・コ
マンドREFとリフレッシュ・カウンタ15から供給さ
れるカウント値RCLのビットRCLとの論理積をと
り反転し、インバータ60は、ナンド・ゲート53の出
力信号を反転してスイッチ68の入力端に供給する。ス
イッチ68は、リフレッシュ・コマンドREFによりオ
ン/オフされ、インバータ60の出力信号をフリップフ
ロップ72の第1の入力端INに供給する。ナンド・
ゲート54は、リフレッシュ・コマンドREFとカウン
ト値RCLのビットRCLとの論理積をとり反転し、
インバータ61は、ナンド・ゲート54の出力信号を反
転してスイッチ69の入力端に供給する。スイッチ69
は、リフレッシュ・コマンドREFによりオン/オフさ
れ、インバータ61の出力信号をフリップフロップ73
の第1の入力端INに供給する。
【0033】遅延素子65は、リフレッシュ・コマンド
REFを所定時間遅延してナンド・ゲート55の第1の
入力端に供給する。この遅延素子65は、通常のリフレ
ッシュにおいては、リフレッシュ・カウンタ・テストの
場合と異なり、プリチャージ・コマンドPREが供給さ
れないため、疑似的なプリチャージ・コマンドPREを
生成するために設けられている。 インバータ56は、
テスト・モード信号TMを反転し、ナンド・ゲート55
は、遅延素子65の出力信号とインバータ56の出力信
号との論理積をとり反転してインバータ64に供給す
る。インバータ64は、ナンド・ゲート55の出力信号
を反転してスイッチ70の制御端に供給し、インバータ
62は、遅延素子65の出力信号を反転し、インバータ
63は、インバータ62の出力信号を反転してスイッチ
70の入力端に供給する。スイッチ70は、インバータ
64の出力信号によりオン/オフされ、インバータ63
の出力信号をフリップフロップ72及び73の第2の入
力端INに供給する。スイッチ71は、ナンド・ゲー
ト55の出力信号によりオン/オフされ、プリチャージ
・コマンドPREをフリップフロップ72及び73の第
2の入力端INに供給する。 フリップフロップ72
は、スイッチ66又はスイッチ68の出力信号により"
L"レベルから"H"レベルに変化し、スイッチ70又は
スイッチ71の出力信号により"H"レベルから"L"レベ
ルに変化するロウ制御信号RCTLを生成して出力す
る。フリップフロップ73は、スイッチ67又はスイッ
チ69の出力信号により"L"レベルから"H"レベルに変
化し、スイッチ70又はスイッチ71の出力信号によ
り"H"レベルから"L"レベルに変化するロウ制御信号R
CTL を生成して出力する。
【0034】また、図1に示すカラム制御回路17は、
アドレス・デコーダ14から供給されるバンク選択信号
EBSやコマンド・デコーダ13から供給されるライト
・コマンドWR等に基づいて、カラム制御信号CCTL
及びCCTLを生成して、イネーブル回路18
び18に供給する。ここで、図8にカラム制御回路1
7の電気的構成の一例を示す。カラム制御回路17は、
オア・ゲート81及び82と、インバータ83〜85
と、スイッチ86〜88と、ナンド・ゲート89及び9
0と、フリップフロップ91及び92とから概略構成さ
れている。オア・ゲート81は、コマンド・デコーダ1
3から供給される、ライト・コマンドWRとリード・コ
マンドRDとの論理和をとり、ナンド・ゲート89及び
90のそれぞれの第1の入力端に供給する。アドレス・
デコーダ14からのバンク選択信号EBSのビットEB
及びEBSはそれぞれスイッチ86及び87の入
力端に供給され、インバータ83は、テスト回路12か
ら供給されるテスト・モード信号TMを反転してスイッ
チ86及び87の制御端に供給する。スイッチ86は、
インバータ83の出力信号によりオン/オフされ、バン
ク選択信号EBSのビットEBSをナンド・ゲート8
9の第2の入力端に供給し、スイッチ87は、インバー
タ83の出力信号によりオン/オフされ、バンク選択信
号EBSのビットEBSをナンド・ゲート90の第2
の入力端に供給する。
【0035】スイッチ88は、テスト・モード信号TM
によりオン/オフされ、その入力端に印加された電源電
圧VCCをナンド・ゲート89及び90の第2の入力端
に供給する。オアゲート82は、コマンド・デコーダ1
3から供給される、バースト・モードの中止を指令する
バースト・ストップ・コマンドBSTと、書き込み又は
読み出しのデータのデータ長が予め設定されたバースト
長に到達した後の自動的なバースト・モードの終了を指
令するバースト・レングス・エンド・コマンドBLEと
の論理和を取り、フリップフロップ91及び92の第2
の入力端INに供給する。
【0036】ナンド・ゲート89は、オア・ゲート81
の出力信号とスイッチ86〜88を介して供給される信
号との論理積をとり反転し、インバータ84は、ナンド
・ゲート89の出力信号を反転してフリップフロップ9
1の第1の入力端INに供給する。ナンド・ゲート9
0は、オア・ゲート81の出力信号とスイッチ86〜8
8を介して供給される信号との論理積をとり反転し、イ
ンバータ85は、ナンド・ゲート90の出力信号を反転
してフリップフロップ92の第1の入力端IN に供給
する。フリップフロップ91は、インバータ84の出力
信号により"L"レベルから"H"レベルに変化し、オア・
ゲート82の出力信号により"H"レベルから"L"レベル
に変化するカラム制御信号CCTLを生成して出力す
る。フリップフロップ92は、インバータ85の出力信
号により"L"レベルから"H"レベルに変化し、オア・ゲ
ート82の出力信号により"H"レベルから"L"レベルに
変化するカラム制御信号CCTLを生成して出力す
る。
【0037】また、図1に示すイネーブル回路18
は、図9に示すように、インバータ93及び94から
なり、カラム制御回路17から供給されるカラム制御信
号CCTLをタイミングと論理を合わせるために2回
反転し、イネーブル信号ENとしてカラム・デコーダ
22及び入出力制御回路24に供給する。なお、イ
ネーブル回路18は、イネーブル回路18とは入出
力される信号の添え字が異なる以外は同一構成であるの
で、その説明を省略する。
【0038】次に、上記構成の半導体記憶装置における
リフレッシュ・カウンタ・テストの概略について、図1
0に示すタイミング・チャートを参照して説明する。ま
ず、コマンド・デコーダ13は、クロックCLK(図1
0(1)参照)に同期して外部から供給された外部コマ
ンドCMD(図10(2)参照)をデコードして、その
コマンドがモード・レジスタ・セット・コマンドMRS
である場合には、モード・レジスタ・セット・コマンド
MRSをテスト回路12に供給する。テスト回路12
は、コマンド・デコーダ13から供給されたモード・レ
ジスタ・セット・コマンドMRSに対応して、外部から
供給された外部アドレスEADをデコードして得られた
リフレッシュ・カウンタ・テスト・モードを指定するオ
ペレーション・コードにモード・レジスタの記憶内容を
変更すると共に、リフレッシュ・カウンタ・テスト・モ
ードに対応したテスト・モード信号TM(図10(3)
参照)をロウ制御回路16及びカラム制御回路17に供
給する。
【0039】これにより、ロウ制御回路16において
は、テスト・モード信号TMに基づいて、リフレッシュ
・コマンドREFの供給に関わりなく、ナンド・ゲート
55の出力信号が"H"レベルとなるので、スイッチ71
がオンするのに対し、スイッチ70がオフする(図6参
照)。すなわち、プリチャージ・コマンドPREが供給
されれば、"H"レベルのロウ制御信号RCTL及びR
CTLが"L"レベルへ変化し得る状態となる。また、
カラム制御回路17においては、テスト・モード信号T
Mに基づいて、スイッチ88がオンするのに対し、スイ
ッチ86及び87がオフする(図8参照)ので、アドレ
ス・デコーダ14が外部から供給された外部アドレスE
ADの最上位の2ビットを外部からのバンク選択信号E
BSとして(図10(4)参照)カラム制御回路17に
供給しても、その値に関わりなく、ナンド・ゲート89
及び90のそれぞれの第2の入力端に"H"レベルの電圧
が印加される。したがって、リフレッシュ・カウンタ・
テスト・モード時には、後述するように、カラム制御回
路17において、バンク選択信号EBSの値に関わりな
く、カラム制御信号CCTL及びCCTLが生成さ
れることになる。
【0040】次に、コマンド・デコーダ13は、クロッ
クCLK(図10(1)参照)に同期して外部から供給
された外部コマンドCMD(図10(2)参照)をデコ
ードして、そのコマンドがリフレッシュ・コマンドRE
Fである場合には、リフレッシュ・コマンドREFをア
ドレス・デコーダ14及びロウ制御回路16に供給す
る。アドレス・デコーダ14は、コマンド・デコーダ1
3から供給されたリフレッシュ・コマンドREFに対応
して、リフレッシュ・カウンタ15から供給されるカウ
ント値RCTを内部アドレスIADとしてバンク11
及び11に供給する。一方、ロウ制御回路16におい
ては、コマンド・デコーダ13から供給されたリフレッ
シュ・コマンドREFによりスイッチ68及び69がオ
ンするのに対し、スイッチ66及び67がオフする(図
6参照)ので、アドレス・デコーダ14がバンク選択信
号EBS(図10(4)参照)をロウ制御回路16に供
給しても、その値に関わりなく、リフレッシュ・カウン
タ15から供給されるカウント値RCLのビットRCL
及びRCLに基づいてロウ制御信号RCTL及び
RCTLが生成される。今の場合、図10(5)に示
すように、リフレッシュ・カウンタ15からカウント値
RCLのビットRCLが供給されているので、図10
(6)に示すように、ロウ制御信号RCTLが"H"レ
ベルとなる。この"H"レベルのロウ制御信号RCTL
は、ロウ・デコーダ23及び入出力制御回路24
供給される。したがって、"H"レベルのロウ制御信号R
CTLによりロウ・デコーダ23 が活性化されるの
で、ロウ・デコーダ23により内部アドレスIADに
よって指定されたメモリセル・アレイ11のワード線
34に"H"レベルの電圧が印加され、当該ワード線34
に接続されているメモリセル33においてリフレッシュ
が行われる。なお、リフレッシュの動作については、上
記した従来の技術と略同様であるので、その説明を省略
する。
【0041】次に、コマンド・デコーダ13は、クロッ
クCLK(図10(1)参照)に同期して外部から供給
された外部コマンドCMD(図10(2)参照)をデコ
ードして、そのコマンドがライト・コマンドWRである
場合には、ライト・コマンドWRをカラム制御回路17
に供給する。上記したように、テスト・モード信号TM
によってカラム制御回路17のスイッチ88が既にオン
しており、ナンド・ゲート89及び90のそれぞれの第
2の入力端に"H"レベルの電圧が印加されている。した
がって、ライト・コマンドWRが供給されることによ
り、フリップフロップ91及び92から出力されるカラ
ム制御信号CCTL及びCCTLは同時に"H"レベ
ルとなり(図10(8)及び(9)参照)、それぞれイ
ネーブル回路18及び18に供給される。これによ
り、"H"レベルのカラム制御信号CCTL及びCCT
は、イネーブル回路18及び18を経てイネー
ブル信号EN及びENとなり、カラム・デコーダ2
及び22並びに入出力制御回路24及び24
に供給される。したがって、"H"レベルのイネーブル信
号EN及びENによりカラム・デコーダ22及び
22が活性化されるので、カラム・デコーダ22
び22により内部アドレスIADによって指定された
メモリセル・アレイ11 及び11のスイッチ線36
に"H"レベルのスイッチ信号SW及びSW(図10
(10)及び(11)参照)が印加され、当該スイッチ
線36と平行に配線されたビット線35と入出力線37
とが接続される。一方、入出力制御回路24において
は、共に"H"レベルのカラム制御信号CCTL及びイ
ネーブル信号ENが供給されるので、"L"レベルのプ
リチャージ入出力信号PIOが出力される(図10
(12)参照)が、入出力制御回路24において
は、"H"レベルのイネーブル信号ENだけが供給さ
れ、カラム制御信号CCTLは"L"レベルのままであ
り、プリチャージ入出力信号PIOは"H"レベルのま
まである(図10(13)参照)。したがって、メモリ
セル・アレイ21においては、外部から供給されたデ
ータが、選択された入出力線37、カラム・スイッチ3
9及びビット線35を介して所望のメモリセルに書き込
まれる。これに対し、メモリセル・アレイ21におい
ては、入出力線37には電源電圧VCCに略等しい電圧
が印加されたままであり、何らかの原因によって外部か
らデータが供給されたとしても、メモリセルにデータが
書き込まれることはない。なお、従来の複数個のバンク
を有するDRAMでは、通常、各バンクのアドレス・フ
ィールドが異なっており、ロウ・デコーダ23を活性化
するために供給されたアドレスと、カラム・デコーダ2
2を活性化するために供給されたアドレスとが異なる場
合、すなわち、ロウ制御信号RCTLによって活性化さ
れない側のバンクにおいては、カラム制御信号CCTL
からカラム・スイッチまでの経路が無効とされ、センス
アンプ38等も活性化されない。したがって、この例に
おけるリフレッシュ・カウンタ・テストにおいても、選
択されない側のバンクについて、入出力制御回路24や
プリチャージ・トランジスタ40等により入出力線37
に電源電圧VCCに略等しい電圧を印加する必要は必ず
しもないが、安全性を確保するため、これらの回路を設
けている。
【0042】次に、コマンド・デコーダ13は、クロッ
クCLK(図10(1)参照)に同期して外部から供給
された外部コマンドCMD(図10(2)参照)をデコ
ードして、そのコマンドがすべてのバンクを同時にプリ
チャージ状態とするためのオール・プリチャージ・コマ
ンドAPREである場合には、プリチャージ・コマンド
PREをロウ制御回路16に供給すると共に、バースト
・ストップ・コマンドBSTをカラム制御回路17に供
給する。上記したように、テスト・モード信号TMに基
づいてロウ制御回路16のスイッチ71が既にオンして
いるので、プリチャージ・コマンドPREが供給される
ことにより、フリップフロップ72から出力されてい
る"H"レベルのロウ制御信号RCTLは"L"レベルと
なる(図10(6)参照)。一方、カラム制御回路17
においては、バースト・ストップ・コマンドBSTが供
給されることにより、フリップフロップ91及び92か
ら出力されている"H"レベルのカラム制御信号CCTL
及びCCTLは同時に"L"レベルとなり(図10
(8)及び(9)参照)、それぞれイネーブル回路18
及び18に供給される。カラム制御信号CCTL
及びCCTLは同時に"H"レベルから"L"レベルへ変
化することにより、イネーブル信号EN及びEN
同時に"H"レベルから"L"レベルへ変化し、したがっ
て、スイッチ信号SW及びSWも同時に"H"レベル
から"L"レベルへ変化する(図10(10)及び(1
1)参照)と共に、プリチャージ入出力信号PIO
は"L"レベルから"H"レベルへ変化する(図10(1
2)参照)。以上、リフレッシュ・カウンタ・テストに
おけるバンク11に対するリフレッシュ及びデータの
書き込みについて説明したが、バンク11に対するリ
フレッシュ及びデータの書き込み(図10に示すタイミ
ング・チャートの後半部)、バンク11に対するリフ
レッシュ及びデータの読み出し、バンク11に対する
リフレッシュ及びデータの読み出しについても、上記し
た手順と略同様であるので、その説明を省略する。
【0043】このように、この例の構成によれば、リフ
レッシュ・カウンタ・テストにおけるデータの書き込み
及び読み出しの時には、アドレス・デコーダ14から供
給されるバンク選択信号EBSの値に関わりなく、両方
のバンク11及び11のカラム・スイッチ39をオ
ンとすると共に、活性化されなかったバンク11の入出
力線37の電圧を電源電圧VCCに略等しい電圧に保持
するようにしたので、従来のように、複雑な信号発生回
路を設ける必要はなく、また、リフレッシュ・カウンタ
のカウント値の最下位ビットRCLを伝達する信号線を
チップ全体に配線する必要はない。したがって、簡単な
回路構成及び配線でリフレッシュ・カウンタ・テストを
正常に実行することができる。
【0044】B.第2の実施例 次に、この発明の第2の実施例について説明する。図1
1は、この発明の第2の実施例である半導体記憶装置の
要部の電気的構成を示すブロック図である。この図にお
いて、図1の各部に対応する部分には同一の符号を付
け、その説明を省略する。この図に示す半導体記憶装置
においては、図1に示すメモリセル・アレイ21及び
21並びにイネーブル回路18及び18に代え
て、メモリセル・アレイ101及び101並びにイ
ネーブル回路102及び102が新たに設けられて
いると共に、入出力制御回路24 及び24が除去さ
れている。
【0045】メモリセル・アレイ101及び101
がメモリセル・アレイ21及び21と異なるのは、
プリチャージ・トランジスタ40が除去されている点で
ある。イネーブル回路102は、図12に示すよう
に、ナンド・ゲート103とインバータ104とからな
り、ロウ制御回路16から供給されるロウ制御信号RC
TLとカラム制御回路17から供給されるカラム制御
信号CCTLとの論理積をとり反転した後、タイミン
グと論理を合わせるためにさらに反転し、イネーブル信
号ENとしてカラム・デコーダ22及び入出力制御
回路24に供給する。なお、イネーブル回路102
は、イネーブル回路102とは入出力される信号の添
え字が異なる以外は同一構成であるので、その説明を省
略する。
【0046】次に、上記構成の半導体記憶装置における
リフレッシュ・カウンタ・テストの概略について、図1
3に示すタイミング・チャートを参照して説明する。ま
ず、コマンド・デコーダ13は、クロックCLK(図1
3(1)参照)に同期して外部から供給された外部コマ
ンドCMD(図13(2)参照)をデコードして、その
コマンドがモード・レジスタ・セット・コマンドMRS
である場合には、モード・レジスタ・セット・コマンド
MRSをテスト回路12に供給する。テスト回路12
は、コマンド・デコーダ13から供給されたモード・レ
ジスタ・セット・コマンドMRSに対応して、外部から
供給された外部アドレスEADをデコードして得られた
リフレッシュ・カウンタ・テスト・モードを指定するオ
ペレーション・コードにモード・レジスタの記憶内容を
変更すると共に、リフレッシュ・カウンタ・テスト・モ
ードに対応したテスト・モード信号TM(図13(3)
参照)をロウ制御回路16及びカラム制御回路17に供
給する。
【0047】これにより、ロウ制御回路16において
は、テスト・モード信号TMに基づいて、リフレッシュ
・コマンドREFの供給に関わりなく、ナンド・ゲート
55の出力信号が"H"レベルとなるので、スイッチ71
がオンするのに対し、スイッチ70がオフする(図6参
照)。すなわち、プリチャージ・コマンドPREが供給
されれば、"H"レベルのロウ制御信号RCTL及びR
CTLが"L"レベルへ変化し得る状態となる。また、
カラム制御回路17においては、テスト・モード信号T
Mに基づいて、スイッチ88がオンするのに対し、スイ
ッチ86及び87がオフする(図8参照)ので、アドレ
ス・デコーダ14が外部から供給された外部アドレスE
ADの最上位の2ビットを外部からのバンク選択信号E
BSとして(図13(4)参照)カラム制御回路17に
供給しても、その値に関わりなく、ナンド・ゲート89
及び90のそれぞれの第2の入力端に"H"レベルの電圧
が印加される。したがって、リフレッシュ・カウンタ・
テスト・モード時には、後述するように、カラム制御回
路17において、バンク選択信号EBSの値に関わりな
く、カラム制御信号CCTL及びCCTLが生成さ
れることになる。
【0048】次に、コマンド・デコーダ13は、クロッ
クCLK(図13(1)参照)に同期して外部から供給
された外部コマンドCMD(図13(2)参照)をデコ
ードして、そのコマンドがリフレッシュ・コマンドRE
Fである場合には、リフレッシュ・コマンドREFをア
ドレス・デコーダ14及びロウ制御回路16に供給す
る。アドレス・デコーダ14は、コマンド・デコーダ1
3から供給されたリフレッシュ・コマンドREFに対応
して、リフレッシュ・カウンタ15から供給されるカウ
ント値RCTを内部アドレスIADとしてバンク11
及び11に供給する。一方、ロウ制御回路16におい
ては、コマンド・デコーダ13から供給されたリフレッ
シュ・コマンドREFによりスイッチ68及び69がオ
ンするのに対し、スイッチ66及び67がオフする(図
6参照)ので、アドレス・デコーダ14がバンク選択信
号EBS(図13(4)参照)をロウ制御回路16に供
給しても、その値に関わりなく、リフレッシュ・カウン
タ15から供給されるカウント値RCLのビットRCL
及びRCLに基づいてロウ制御信号RCTL及び
RCTLが生成される。今の場合、図13(5)に示
すように、リフレッシュ・カウンタ15からカウント値
RCLのビットRCLが供給されているので、図13
(6)に示すように、ロウ制御信号RCTLが"H"レ
ベルとなる。この"H"レベルのロウ制御信号RCTL
は、ロウ・デコーダ23及びイネーブル回路102
に供給される。したがって、"H"レベルのロウ制御信号
RCTLによりロウ・デコーダ23 が活性化される
ので、ロウ・デコーダ23により内部アドレスIAD
によって指定されたメモリセル・アレイ11のワード
線34に"H"レベルの電圧が印加され、当該ワード線3
4に接続されているメモリセル33においてリフレッシ
ュが行われる。なお、リフレッシュの動作については、
上記した従来の技術と略同様であるので、その説明を省
略する。
【0049】次に、コマンド・デコーダ13は、クロッ
クCLK(図13(1)参照)に同期して外部から供給
された外部コマンドCMD(図13(2)参照)をデコ
ードして、そのコマンドがライト・コマンドWRである
場合には、ライト・コマンドWRをカラム制御回路17
に供給する。上記したように、テスト・モード信号TM
によってカラム制御回路17のスイッチ88が既にオン
しており、ナンド・ゲート89及び90のそれぞれの第
2の入力端に"H"レベルの電圧が印加されている。した
がって、ライト・コマンドWRが供給されることによ
り、フリップフロップ91及び92から出力されるカラ
ム制御信号CCTL及びCCTLは同時に"H"レベ
ルとなり(図13(8)及び(9)参照)、それぞれイ
ネーブル回路102及び102に供給される。イネ
ーブル回路102及び102のうち、イネーブル回
路102には、"H"レベルのロウ制御信号RCTL
が供給されているので、"H"レベルのカラム制御信号C
CTLは、イネーブル回路102を経てイネーブル
信号ENとなり、カラム・デコーダ22に供給され
る。一方、イネーブル回路102に供給されているロ
ウ制御信号RCTLは"L"レベルのままである(図1
3(7)参照)ので、イネーブル回路102から出力
されるイネーブル信号ENは"L"レベルのままである
(図13(11)参照)。これにより、"H"レベルのイ
ネーブル信号ENによりカラム・デコーダ22 だけ
が活性化されるので、カラム・デコーダ22により内
部アドレスIADによって指定されたメモリセル・アレ
イ11のスイッチ線36に"H"レベルのスイッチ信号
SW(図13(12)参照)が印加され、当該スイッ
チ線36と平行に配線されたビット線35と入出力線3
7とが接続される。したがって、メモリセル・アレイ2
においては、外部から供給されたデータが、選択さ
れた入出力線37、カラム・スイッチ39及びビット線
35を介して所望のメモリセルに書き込まれる。これに
対し、メモリセル・アレイ21においては、カラム・
デコーダ22が活性化されていないので、メモリセル
にデータが書き込まれることはない。
【0050】次に、コマンド・デコーダ13は、クロッ
クCLK(図13(1)参照)に同期して外部から供給
された外部コマンドCMD(図13(2)参照)をデコ
ードして、そのコマンドがオール・プリチャージ・コマ
ンドAPREである場合には、プリチャージ・コマンド
PREをロウ制御回路16に供給すると共に、バースト
・ストップ・コマンドBSTをカラム制御回路17に供
給する。上記したように、テスト・モード信号TMに基
づいてロウ制御回路16のスイッチ71が既にオンして
いるので、プリチャージ・コマンドPREが供給される
ことにより、フリップフロップ72から出力されてい
る"H"レベルのロウ制御信号RCTLは"L"レベルと
なる(図13(6)参照)。一方、カラム制御回路17
においては、バースト・ストップ・コマンドBSTが供
給されることにより、フリップフロップ91及び92か
ら出力されている"H"レベルのカラム制御信号CCTL
及びCCTLは同時に"L"レベルとなり(図13
(8)及び(9)参照)、それぞれイネーブル回路10
及び102に供給される。カラム制御信号CCT
が"H"レベルから"L"レベルへ変化することによ
り、イネーブル信号ENも"H"レベルから"L"レベル
へ変化し、したがって、スイッチ信号SWも"H"レベ
ルから"L"レベルへ変化する(図13(12)参照)。
以上、リフレッシュ・カウンタ・テストにおけるバンク
11に対するリフレッシュ及びデータの書き込みにつ
いて説明したが、バンク11に対するリフレッシュ及
びデータの書き込み(図13に示すタイミング・チャー
トの後半部)、バンク11に対するリフレッシュ及び
データの読み出し、バンク11に対するリフレッシュ
及びデータの読み出しについても、上記した手順と略同
様であるので、その説明を省略する。
【0051】このように、この例の構成によれば、ロウ
制御信号RCTLとカラム制御信号CCTLとからイネ
ーブル信号ENを生成しているので、上記した第1の実
施例よりさらに簡単な回路構成及び配線でリフレッシュ
・カウンタ・テストを正常に実行することができる。
【0052】以上、この発明の実施例を図面を参照して
詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られる
ものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計
の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、上述
の各実施例においては、この発明を同期型のDRAMに
適用する例を示したが、これに限定されず、この発明を
非同期型のDRAMに適用しても良い。また、上述の各
実施例においては、この発明をバンクが2個横方向に配
置されたDRAMに適用する例を示したが、バンクの個
数は限定されず、また、バンクの配置方向は縦方向、あ
るいは縦横両方向でも良い。さらに、上述の各実施例に
おいては、テスト回路12がアドレス・デコーダを有す
る例を示したが、これに限定されず、アドレス・デコー
ダ14でデコードされたアドレスを供給されるように構
成しても良い。
【0053】また、上述の第2の実施例においては、第
1の実施例で設けられた入出力制御回路24及び24
を除去すると共に、メモリセル・アレイ21及び2
からプリチャージ・トランジスタ40を除去したも
のをメモリセル・アレイ101及び101とした例
を示したが、これに限定されず、図1に示すイネーブル
回路18及び18を単にイネーブル回路102
び102に代えた構成でも良い。この場合には、誤動
作をさらに確実に防止することができる。また、リフレ
ッシュ・カウンタ・テストは、リフレッシュ・カウンタ
15の動作をチェックするテストであるから、すべての
メモリセルについてリフレッシュする必要はなく、一部
のメモリセルについてリフレッシュすれば良い。また、
フリップフロップ72、73、91及び92は、R−S
フリップフロップでも良い。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の構成に
よれば、リフレッシュ・カウンタのテスト動作時には、
リフレッシュ・コマンドが供給された後に供給されるラ
イト・コマンド又はリード・コマンドに基づいて、すべ
てのバンクのカラム・デコーダを活性化するようにした
ので、簡単な回路構成及び配線でリフレッシュ・カウン
タ・テストを正常に実行することができる。これによ
り、半導体記憶装置の高集積化がより可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施例である半導体記憶装置
の要部の電気的構成を示すブロック図である。
【図2】同装置を構成するメモリセル・アレイの一部の
電気的構成の一例を示す回路図である。
【図3】同装置を構成するカラム・デコーダの電気的構
成の一例を示す回路図である。
【図4】同装置を構成するロウ・デコーダの電気的構成
の一例を示す回路図である。
【図5】同装置を構成する入力制御回路の電気的構成の
一例を示す回路図である。
【図6】同装置を構成するロウ制御回路の電気的構成の
一例を示す回路図である。
【図7】ロウ制御回路を構成するスイッチの電気的構成
の一例を示す回路図である。
【図8】同装置を構成するカラム制御回路の電気的構成
の一例を示す回路図である。
【図9】同装置を構成するイネーブル回路の電気的構成
の一例を示す回路図である。
【図10】同装置におけるリフレッシュ・カウンタ・テ
ストの概略を説明するためのタイミング・チャートであ
る。
【図11】この発明の第2の実施例である半導体記憶装
置の要部の電気的構成を示すブロック図である。
【図12】同装置を構成するイネーブル回路の電気的構
成の一例を示す回路図である。
【図13】同装置におけるリフレッシュ・カウンタ・テ
ストの概略を説明するためのタイミング・チャートであ
る。
【図14】従来のリフレッシュ・カウンタ・テストの概
略を説明するためのタイミング・チャートである。
【図15】従来の半導体記憶装置を構成する信号発生回
路の電気的構成例を示す回路図である。
【符号の説明】
11,11,101,101 バンク 15 リフレッシュ・カウンタ 16 ロウ制御回路(第1の制御手段) 17 カラム制御回路(第2の制御手段) 18,18 イネーブル回路(第2の制御手段) 102,102 イネーブル回路(第3の制御手
段) 21,21 メモリセル・アレイ 22,22 カラム・デコーダ 23,23 ロウ・デコーダ 24,24 入出力制御回路(第4の制御手段) 33 メモリセル 34 ワード線 35 ビット線 37 入出力線 39 カラム・スイッチ 40 プリチャージ・トランジスタ(電圧固定
手段)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数本のワード線と、複数本のビット線
    と、前記ワード線と前記ビット線との交差点にマトリッ
    クス状に配置された複数個のメモリセルと、各ビット線
    に対応して設けられ、外部からのデータを対応するメモ
    リセルに入出力するための複数本の入出力線と、対応す
    るビット線と入出力線とを接続する複数個のカラム・ス
    イッチとを有するメモリセル・アレイと、前記複数本の
    ワード線のいずれかを活性化するロウ・デコーダと、前
    記複数個のカラム・スイッチのいずれかを活性化するカ
    ラム・デコーダとを有する複数個のバンクとを備える半
    導体記憶装置であって、 リフレッシュ・コマンドに基づいて、そのカウント値を
    更新させるリフレッシュ・カウンタと、 前記リフレッシュ・コマンドが供給される毎に、更新さ
    れたカウント値の下位ビットに基づいて、前記複数個の
    バンクのうちのいずれかのロウ・デコーダを活性化する
    ための第1の制御信号を出力する第1の制御手段と、 前記リフレッシュ・カウンタの動作をテストする場合に
    は、前記リフレッシュ・コマンドが供給された後に供給
    されるライト・コマンド又はリード・コマンドに基づい
    て、バンクのカラム・デコーダの活性化に関与する
    2の制御信号を出力する第2の制御手段と、 前記第1の制御信号と前記第2の制御信号との論理積に
    基づいて、前記複数個のバンクのうちのいずれかのカラ
    ム・デコーダを活性化するための第3の制御信号を出力
    する第3の制御手段とが付加されてなることを特徴とす
    る半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】 前記メモリセル・アレイは、各入出力線
    を所定の電圧に固定する複数個の電圧固定手段を有し、 前記第1の制御信号が供給されないすべてのバンクの前
    記複数個の電圧固定手段を活性化するための第4の制御
    信号を出力する第4の制御手段を備えてなることを特徴
    とする請求項1記載の半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】 前記複数個のバンクは、横方向、縦方
    向、あるいはその両方向に配置されていることを特徴と
    する請求項1又は2記載の半導体記憶装置。
  4. 【請求項4】 少なくともコマンドがクロックに同期し
    て供給される同期型であることを特徴とする請求項1、
    2又は3記載の半導体記憶装置。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002367370A (ja) * 2001-06-07 2002-12-20 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
KR100451466B1 (ko) * 2002-10-31 2004-10-08 주식회사 하이닉스반도체 테스트 성능이 개선된 반도체 메모리 장치
KR100562335B1 (ko) * 2003-04-30 2006-03-17 주식회사 하이닉스반도체 동작시 노이즈를 줄일 수 있는 반도체 메모리 장치
KR100620643B1 (ko) 2004-04-12 2006-09-13 주식회사 하이닉스반도체 리프레쉬를 수행하는 반도체 메모리 장치 및 그 방법
TWI425354B (zh) * 2007-10-16 2014-02-01 Mstar Semiconductor Inc 資料存取系統及方法
JP4417994B2 (ja) * 2007-11-26 2010-02-17 株式会社東芝 素材データ記録装置及び、素材データ記録方法
JP2012022751A (ja) * 2010-07-15 2012-02-02 Elpida Memory Inc 半導体装置
KR102223007B1 (ko) 2014-07-28 2021-03-04 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치, 이의 리프레쉬 방법 및 반도체 메모리 장치의 리프레쉬 카운터
US10068648B1 (en) 2017-08-30 2018-09-04 Micron Technology, Inc. Distributed mode registers in memory devices

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3400824B2 (ja) * 1992-11-06 2003-04-28 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JP2988804B2 (ja) * 1993-03-19 1999-12-13 株式会社東芝 半導体メモリ装置
JP3244340B2 (ja) * 1993-05-24 2002-01-07 三菱電機株式会社 同期型半導体記憶装置
US5636173A (en) * 1995-06-07 1997-06-03 Micron Technology, Inc. Auto-precharge during bank selection
US5587961A (en) * 1996-02-16 1996-12-24 Micron Technology, Inc. Synchronous memory allowing early read command in write to read transitions
KR100218733B1 (ko) 1996-04-04 1999-09-01 김영환 싱크로노스 디램의 카스신호 발생기
KR100206600B1 (ko) * 1996-06-03 1999-07-01 김영환 싱크로노스 디램의 리프레쉬 카운터 테스트 모드방법 및 그 장치
US5959929A (en) * 1997-12-29 1999-09-28 Micron Technology, Inc. Method for writing to multiple banks of a memory device
JP4017248B2 (ja) * 1998-04-10 2007-12-05 株式会社日立製作所 半導体装置

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