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JP3340610B2 - Electronic component package body and method of manufacturing the same - Google Patents

Electronic component package body and method of manufacturing the same

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Publication number
JP3340610B2
JP3340610B2 JP2852296A JP2852296A JP3340610B2 JP 3340610 B2 JP3340610 B2 JP 3340610B2 JP 2852296 A JP2852296 A JP 2852296A JP 2852296 A JP2852296 A JP 2852296A JP 3340610 B2 JP3340610 B2 JP 3340610B2
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JP
Japan
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plating
package body
tie bar
layer
electronic component
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Inventor
雅仁 森田
Original Assignee
日本特殊陶業株式会社
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Medicines Containing Plant Substances (AREA)
  • Steroid Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路チップ等
の半導体素子や、チップ抵抗やチップコンデンサ等のチ
ップ部品、水晶振動子や表面弾性波素子等の電子部品を
装着するための電子部品用パッケージ本体及びその製造
方法に関するものである。
The present invention relates to a semiconductor device such as an integrated circuit chip, a chip component such as a chip resistor and a chip capacitor, and an electronic component for mounting an electronic component such as a crystal oscillator and a surface acoustic wave device. The present invention relates to a package body and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】集積回路チップ等を装着するセラミック
パッケージ本体には、未焼成のセラミックグリーンシー
トにタングステン等のペーストを回路配線用として印刷
或いは貫通穴に充填した後、積層し、所定形状に切断し
た後に焼成する、同時焼成法により製造したものが多く
用いられている。
2. Description of the Related Art In a ceramic package body on which an integrated circuit chip or the like is mounted, an unfired ceramic green sheet is printed or filled into through holes with a paste of tungsten or the like for circuit wiring, and then laminated and cut into a predetermined shape. After firing, a material manufactured by a simultaneous firing method is often used.

【0003】ここで、焼成を行った積層体の各部分のメ
ッキを要する要メッキ部分へのメッキは、無電解メッキ
又は電解メッキにより行っている。このうち、電解メッ
キは、無電解メッキに比して、製造コストが低く、確実
にメッキを行えるという利点があるが、要メッキ部に電
気的導通をとる必要があるので、積層体内に形成したメ
ッキタイバーを介して導通を取ることが行われている。
[0003] Here, plating of the required plating parts which require plating of each part of the fired laminate is performed by electroless plating or electrolytic plating. Among them, the electrolytic plating has an advantage that the production cost is low and the plating can be performed reliably, compared with the electroless plating, but it is necessary to provide electrical conduction to a plating required portion, so that the electrolytic plating is formed in the laminate. Conducting conduction through a plating tie bar is performed.

【0004】図11〜図14は、従来技術に係るパッケ
ージ本体の製造方法を示している。図11は、グリーン
シートの平面図である。第1の開口部314Aが形成さ
れたグリーンシート(第1層)314には、内部配線及
びメッキタイバーとなる金属ペースト層382が塗布さ
れている。この金属ペースト層382の上面に、図11
に破線で示す第2の開口部316Aが形成された第2層
のグリーンシート(図示せず)を積層することにより、
積層シートが形成される。ここで、上記金属ペースト層
の内側端部382aは、後にボンディングパッドとなる
部分であって、積層後でも第2開口部316A側から露
出して、略第1開口部314Aまで延在している。図中
でCは、積層シートの切断位置を示す切断線である。
FIGS. 11 to 14 show a method of manufacturing a package body according to the prior art. FIG. 11 is a plan view of the green sheet. On the green sheet (first layer) 314 in which the first opening 314A is formed, a metal paste layer 382 serving as an internal wiring and a plating tie bar is applied. On the upper surface of this metal paste layer 382, FIG.
By laminating a second layer green sheet (not shown) in which a second opening 316A shown by a broken line is formed,
A laminated sheet is formed. Here, the inner end 382a of the metal paste layer is a portion to be a bonding pad later, is exposed from the second opening 316A side even after lamination, and extends to approximately the first opening 314A. . In the figure, C is a cutting line indicating the cutting position of the laminated sheet.

【0005】図13は、図11のサークルA部の拡大図
を表している。図中に示す金属ペースト層382は、内
部配線を形成する部分382bとメッキタイバーを形成
する部分382cとが含まれ、メッキタイバーを形成す
る部分382cは、切断線Cを越えて外側(図中右側)
に延在している。
FIG. 13 is an enlarged view of a circle A in FIG. The metal paste layer 382 shown in the drawing includes a portion 382b for forming an internal wiring and a portion 382c for forming a plating tie bar, and the portion 382c for forming a plating tie bar extends outside the cutting line C (right side in the drawing). )
Extends.

【0006】図12(A)は、図11に示す第1グリー
ンシート314に第2グリーンシートを積層した積層シ
ートを切断線Cに沿って切断した積層体の金属ペースト
層の状態を示し、図12(B)は、図12(A)に示す
積層体の側端面に金属ペースト層を塗布した後、焼成し
てメッキ用導電層335を形成した状態を示している。
図12(B)に示す積層体において、開口部316A側
から露出しているメタライズ層(ボンディングパッド)
332aに電解メッキを施す。ここでは、積層体をメッ
キ液に浸漬した後、積層体の側面のメッキ用導電層33
5からメッキタイバー337及び内部配線339を介し
て上記メタライズ層332aに電流を流すことにより、
一挙にメッキを施す。その後、メッキ用導電層335を
研削等により除去することで、各配線は相互に切り離さ
れ独立となる。
FIG. 12A shows a state of a metal paste layer of a laminate obtained by cutting a laminated sheet obtained by laminating a second green sheet on the first green sheet 314 shown in FIG. 11 along a cutting line C. FIG. 12B shows a state in which a metal paste layer is applied to the side end surface of the stacked body shown in FIG. 12A and then baked to form a conductive layer 335 for plating.
In the laminated body shown in FIG. 12B, the metallized layer (bonding pad) exposed from the opening 316A side
332a is subjected to electrolytic plating. Here, after immersing the laminate in the plating solution, the plating conductive layer 33 on the side surface of the laminate is used.
5 through the plating tie bar 337 and the internal wiring 339 to the metallization layer 332a.
Plating all at once. Thereafter, by removing the conductive layer for plating 335 by grinding or the like, the wirings are separated from each other and become independent.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ここで、集積回路用パ
ッケージ本体を形成する際に電解メッキを行うために配
設されるメッキタイバーは、メッキ終了後は、不要なも
のであるが、その後もパッケージ本体内に残存する。し
かも、メッキタイバーは、図示しないアースラインや電
源ライン等の間に浮遊容量を持ち、ノイズ等を内部配線
339側へ伝えることがあるため、その影響をできるだ
け小さくするべく、細く形成することにより浮遊容量を
小さくする必要がある。従って、図11内のサークルA
部の拡大図である図13に示すように、内部配線を形成
する金属ペースト層382bに対して、メッキタイバー
を形成する金属ペースト層382cは細く形成されてい
る。
Here, the plating tie bar provided for performing the electrolytic plating when forming the package body for the integrated circuit is unnecessary after the plating, but is not necessary thereafter. It remains in the package body. In addition, the plating tie bar has a stray capacitance between a ground line and a power supply line (not shown) and may transmit noise and the like to the internal wiring 339 side. It is necessary to reduce the capacity. Therefore, circle A in FIG.
As shown in FIG. 13 which is an enlarged view of the portion, the metal paste layer 382c forming the plating tie bar is formed thinner than the metal paste layer 382b forming the internal wiring.

【0008】しかしながら、当該金属ペースト層382
cを細く形成すると、図12(B)を参照して上述した
メッキ用導電層335となる金属ペースト層との接続さ
れないものが生じ、メッキが施せないものが発生するこ
とがあった。
However, the metal paste layer 382
When c is formed to be thin, there may be a case where the metal is not connected to the metal paste layer serving as the conductive layer for plating 335 described above with reference to FIG. 12B, and a case where plating cannot be performed may occur.

【0009】図14は、図12(A)のB−B断面の側
面部を拡大して示したものである。細く形成された金属
ペースト層382cは、図11の切断線Cに沿って切断
された際に、図中に示すように第1層のグリーンシート
314と第2層のグリーンシート316との間に埋没し
て、側端面に露出し得ないことがある。このため、図1
2(B)に示すように積層体の側面にメッキ用導電層3
35を配設しても、該メッキ用導電層335と接続され
ないメッキタイバーができる。すると、当該メッキタイ
バーに接続されたメタライズ層332aには電流を流せ
ないため、そのメタライズ層332a(例えば一ケ所)
だけ電解メッキを施されないことになり、パッケージ本
体全体を不良として廃棄せざるを得なくなる。
FIG. 14 is an enlarged view of a side surface of a cross section taken along line BB of FIG. When the thin metal paste layer 382c is cut along the cutting line C in FIG. 11, between the first layer green sheet 314 and the second layer green sheet 316 as shown in FIG. It may be buried and cannot be exposed on the side end surface. Therefore, FIG.
As shown in FIG. 2 (B), the plating conductive layer 3
Even if 35 is provided, a plating tie bar that is not connected to the plating conductive layer 335 can be formed. Then, since no current can flow through the metallized layer 332a connected to the plating tie bar, the metallized layer 332a (for example, at one location)
Only the electrolytic plating is not performed, and the entire package body must be discarded as defective.

【0010】本発明は、上述した課題を解決するために
なされたものであり、その目的とするところは、メッキ
タイバーの浮遊容量を小さくすると共に、電解メッキを
確実に行い得る電子部品用パッケージ本体及びその製造
方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to reduce the floating capacity of a plating tie bar and to reliably perform electrolytic plating. And a method for manufacturing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、請求項1の電子部品を装着するための電子部品用パ
ッケージ本体は、積層された複数の絶縁層と、該パッケ
ージ本体上の各所にメッキを施すために、該絶縁層と絶
縁層との間に配置され、該パッケージ本体の側面に露出
するメッキタイバーと、該パッケージ本体の該側面に配
置され、該側面に露出する該メッキタイバーと接続する
メッキ用導電層と、を備え、該メッキタイバーは、該メ
ッキタイバーは、被切断部分の幅が、該被切断部分近傍
より該パッケージ本体内部に位置する部分よりも広く形
成されていることを技術的特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an electronic component package body for mounting an electronic component, comprising: a plurality of laminated insulating layers; A plating tie bar disposed between the insulating layer and the insulating layer to expose the package body, and a plating tie bar disposed on the side surface of the package body and exposed on the side surface. and a plating conductive layer connected, the plating tie bars, the plating tie bars, the width of the cutting portion is formed wider than the portion located from the object to be cut portion near the inside of the package body and This is a technical feature.

【0012】請求項1の電子部品用パッケージ本体で
は、絶縁層と絶縁層との間に配置されたメッキタイバー
が、被切断部分の幅よりもパッケージ本体内部側の部分
の幅を狭く形成してあるため、浮遊容量が小さくなり、
ノイズ等の影響を受け難い。逆に、被切断部分は、幅が
広くされているので、メッキ用導電層とメッキタイバー
との接続が確実にでき、メッキを施すべき各所にメッキ
が被着されない不具合が発生しない。
In the electronic component package body of the first aspect, the plating tie bar disposed between the insulating layer and the insulating layer is formed such that the width of the portion inside the package body is smaller than the width of the portion to be cut. Therefore, the stray capacitance becomes smaller,
Less susceptible to noise. Conversely, since the portion to be cut is widened, the connection between the conductive layer for plating and the plating tie bar can be ensured, and there is no problem that plating is not applied to various places where plating is to be performed.

【0013】また、請求項2の電子部品を装着するため
の電子部品用パッケージ本体は、積層された複数の絶縁
層と、該絶縁層と絶縁層との間に配置されたメタライズ
層であって、内部配線および該内部配線からパッケージ
本体の側面へ導出するメッキタイバーとを含むメタライ
ズ層と、該パッケージ本体の該側面に配置され、該側面
へ露出するメッキタイバーと接続するメッキ用導電層
と、を有し、前記メタライズ層の前記メッキタイバーに
おいて、該パッケージ本体の被切断部分の幅が、該内部
配線へ接続する部分の幅よりも広く形成されていること
を技術的特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an electronic component package body for mounting an electronic component, comprising: a plurality of laminated insulating layers; and a metallized layer disposed between the insulating layers. A metallized layer including an internal wiring and a plating tie bar derived from the internal wiring to the side surface of the package body, and a conductive layer for plating disposed on the side surface of the package body and connected to the plating tie bar exposed to the side surface, In the plating tie bar of the metallized layer, a technical feature is that a width of a cut portion of the package body is formed wider than a width of a portion connected to the internal wiring.

【0014】請求項2の電子部品用パッケージ本体で
は、メタライズ層のメッキタイバーが、該内部配線に接
続された部分の幅を、該パッケージ本体の被切断部分よ
りも狭く形成してある。このため、メッキタイバーの浮
遊容量が小さくなり、ノイズ等の影響を受け難い。一
方、被切断部分は、幅が広くされているので、メッキ用
導電層とメッキタイバーとの接続が確実にでき、メッキ
が被着されない部分を生じる不具合の発生を抑えられ
る。
In the electronic component package body of the second aspect, the plating tie bar of the metallized layer is formed so that the width of the portion connected to the internal wiring is narrower than the cut portion of the package body. For this reason, the floating capacitance of the plating tie bar is reduced, and is less susceptible to noise and the like. On the other hand, since the portion to be cut is wide, the connection between the conductive layer for plating and the plating tie bar can be surely performed, and the occurrence of a problem that causes a portion where plating is not attached can be suppressed.

【0015】また、請求項3の電子部品を装着するため
の電子部品用パッケージ本体の製造方法は、第1のグリ
ーンシート上に、焼成により内部配線及びメッキタイバ
ーとなる部位を有する複数の金属ペースト層を形成する
工程であって、該メッキタイバーとなる部位のうちの被
切断部の幅を、前記内部配線となる部位との接続部の幅
よりも広く塗布する工程と、前記第1のグリーンシート
上に、第2のグリーンシートを積層圧着する工程と、該
第1と第2のグリーンシートの積層体を所定の位置で切
断し、前記金属ペースト層の前記メッキタイバーとなる
部位の前記被切断部を露出させる工程と、切断された前
記積層体の側面にメッキ用導電層となる金属ペースト層
を形成して、前記露出した被切断部を介して前記メッキ
タイバーとなる部位と接続させる工程と、該積層体を焼
成する工程と、焼成によって形成されたメッキ用導電層
からメッキタイバーを介して内部配線に電流を流し、こ
れに接続するパッケージ本体の各要メッキ部にメッキを
施す工程と、を含むことを技術的特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an electronic component package body for mounting an electronic component, wherein a plurality of metal pastes having a portion which becomes an internal wiring and a plating tie bar by firing are provided on the first green sheet. Forming a layer, wherein a width of a portion to be cut out of a portion serving as the plating tie bar is wider than a width of a connection portion with a portion serving as the internal wiring; A step of laminating and pressing a second green sheet on the sheet, cutting the laminate of the first and second green sheets at a predetermined position, and covering the portion of the metal paste layer that serves as the plating tie bar. Exposing a cut portion, forming a metal paste layer to be a conductive layer for plating on the side surface of the cut laminate, and forming the plating tie bar through the exposed cut portion. And a step of firing the laminate, and passing an electric current from the conductive layer for plating formed by the firing to the internal wiring through a plating tie bar, and plating each required plating portion of the package body connected thereto. And a step of performing the following.

【0016】請求項3の電子部品用パッケージ本体の製
造方法では、金属ペースト層を塗布する工程において、
焼成によりメッキタイバーとなる部位のうちの被切断部
の幅を、内部配線となる部位との接続部の幅よりも広く
塗布してあるため、第1、第2のグリーンシートの積層
体を切断した際に、該切断部を確実に露出させることが
できる。このため、第1、第2のグリーンシートの積層
体の側面に、メッキ用導電層となる金属ペースト層を塗
布した際に、該メッキタイバーとなる複数の金属ペース
ト層にメッキ用導電層となる金属ペースト層を接続する
ことが可能となる。従って、焼成後に、メッキ用導電層
から複数のメッキタイバーを介して内部配線に電流を流
し、これに接続するボンディングパッド、C4用パッ
ド、ダイアタッチ部、シールリング、入出力ピンや入出
力パッド等、パッケージ本体に設けられる要メッキ部の
各々に確実にメッキを施すことができる。
According to a third aspect of the present invention, in the method of manufacturing a package body for an electronic component, the step of applying a metal paste layer comprises the steps of:
Since the width of the portion to be cut out of the portion that becomes the plating tie bar by firing is wider than the width of the connection portion with the portion that becomes the internal wiring, the laminate of the first and second green sheets is cut. Then, the cut portion can be reliably exposed. Therefore, when a metal paste layer serving as a plating conductive layer is applied to the side surfaces of the first and second green sheet laminates, the plurality of metal paste layers serving as the plating tie bars become the plating conductive layers. A metal paste layer can be connected. Therefore, after firing, a current flows from the conductive layer for plating to the internal wiring through a plurality of plating tie bars, and a bonding pad, a pad for C4, a die attach portion, a seal ring, an input / output pin, an input / output pad, etc. are connected thereto. In addition, it is possible to reliably perform plating on each of the required plating portions provided in the package body.

【0017】請求項4、請求項5では、請求項1〜請求
項3において、前記メッキタイバーとなる部位の被切断
部の幅を、180μm以上となるように形成したことを
技術的特徴とする。
In claims 4 and 5, claims 1 to 1
Item 3 is a technical feature in that a width of a portion to be cut at the portion serving as the plating tie bar is 180 μm or more.

【0018】更に、請求項4、請求項5の電子部品用パ
ッケージ本体では、金属ペースト層の前記メッキタイバ
ーとなる部位の被切断部の幅を、180μm以上にして
ある。このため、第1、第2のグリーンシートの積層体
を切断した際に、該被切断部を積層体側面に確実に露出
させることができる。
Further, in the electronic component package body according to the fourth and fifth aspects, the width of the cut portion of the portion of the metal paste layer that becomes the plating tie bar is set to 180 μm or more. Therefore, when the laminate of the first and second green sheets is cut, the cut portion can be reliably exposed to the side surface of the laminate.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体化した実施態
様について図を参照して説明する。図1は、本発明の第
1実施態様に係る電子部品用パッケージ本体の一部切り
欠き側面図を示している。集積回路用パッケージ本体1
0は、同時焼成された絶縁層12、14、16からな
り、底面をなす絶縁層(底部層)12と、第1層14及
び第2層16に設けた、第1開口部14A、第2開口部
16Aにより内周壁(側壁)が階段状の空所(凹部)1
0Aを備え、集積回路20を収容している。第1層14
と第2層16との間には、タングステンペーストを塗布
し同時焼成することにより形成されたメタライズ層32
が配置されている。該メタライズ層32のうち第1層1
4上で空所内に露出している部分は、ニッケル及び金の
メッキが施されてボンディングパッド30として列設さ
れている。このパッケージ本体10では、メタライズ層
32がパッケージ本体内部を通じて外部との接続用の入
出力ピン50などと接続されている。なお、パッケージ
本体10の上部(図中上側)には、集積回路20を気密
状態に保つためのキャップ60がシールリング62を介
して載置されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments embodying the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a partially cutaway side view of an electronic component package body according to a first embodiment of the present invention. Package body 1 for integrated circuits
Numeral 0 designates an insulating layer (bottom layer) 12 which is formed of simultaneously baked insulating layers 12, 14, and 16 and which forms a bottom surface, and a first opening 14A, a second opening 14A provided in the first layer 14 and the second layer 16. A space (recess) 1 in which the inner peripheral wall (side wall) is stepped by the opening 16A.
0A and houses the integrated circuit 20. First layer 14
A metallized layer 32 formed by applying and simultaneously firing a tungsten paste between
Is arranged. The first layer 1 of the metallized layer 32
The portions exposed in the vacant spaces 4 are plated with nickel and gold and arranged in rows as bonding pads 30. In this package body 10, the metallization layer 32 is connected to input / output pins 50 for connection to the outside through the inside of the package body. Note that a cap 60 for keeping the integrated circuit 20 airtight is placed via a seal ring 62 on the upper portion (upper side in the figure) of the package body 10.

【0020】引き続き、パッケージ本体10の製造方法
について、図2乃至図7を参照して説明する。アルミナ
を主成分とするセラミック粉末に、焼結補助剤としてシ
リカ、マグネシア、カルシア等の粉末及び有機溶剤やバ
インダー等を混練して泥漿を作成し、この泥漿をドクタ
ーブレード法によりキャスティングして、シート厚0.
5、0.6、1mmのグリーンシートを複数枚作成する。
図2には、シート厚1mmに形成された底部グリーンシー
ト72と、シート厚0.5mmに形成された第1層グリー
ンシート74と、シート厚0.6mmに形成された第2層
グリーンシート76とを示す。ここで、第1層グリーン
シート74及び第2層グリーンシート76の所定箇所を
打ち抜いて第1開口部74A及び該第1開口部74Aよ
り大きな第2開口部76Aを形成すると共に、第1層グ
リーンシート74及び底部グリーンシート72の所定位
置を打ち抜きビアホール86、88を形成する。この
後、タングステンを主成分とするペースト状金属混合物
を各ビアホール86、88内に均一に隙間なく充填して
乾燥する。
Next, a method of manufacturing the package body 10 will be described with reference to FIGS. Ceramic powder containing alumina as a main component, silica as a sintering agent, magnesia, kneading powder such as calcia and organic solvents and binders to create a slurry, casting the slurry by a doctor blade method, sheet Thickness 0.
A plurality of green sheets of 5, 0.6 and 1 mm are prepared.
FIG. 2 shows a bottom green sheet 72 having a sheet thickness of 1 mm, a first layer green sheet 74 having a sheet thickness of 0.5 mm, and a second layer green sheet 76 having a sheet thickness of 0.6 mm. And Here, predetermined portions of the first layer green sheet 74 and the second layer green sheet 76 are punched to form a first opening 74A and a second opening 76A larger than the first opening 74A, and the first layer green sheet 74A is formed. Predetermined positions of the sheet 74 and the bottom green sheet 72 are punched to form via holes 86 and 88. Thereafter, a paste-like metal mixture containing tungsten as a main component is uniformly filled in the via holes 86 and 88 without gaps and dried.

【0021】この乾燥後、第1層グリーンシート74の
表面へ焼成後にメタライズ層となる金属ペースト層82
を、また、底部グリーンシート72の表面へ金属ペース
ト層84を、タングステンを主成分とするペースト状金
属混合物をスクリーン印刷することにより20μmの厚
さに塗布する。
After this drying, a metal paste layer 82 which becomes a metallized layer after firing on the surface of the first layer green sheet 74
Further, a metal paste layer 84 is applied to the surface of the bottom green sheet 72 to a thickness of 20 μm by screen printing a paste-like metal mixture containing tungsten as a main component.

【0022】ここで、第1層74の表面に塗布された金
属ペースト層82をD矢印に沿って見た状態を図4に示
す。金属ペースト層82は、後述するように、第2層グ
リーンシート76の第2開口部76Aから露出してボン
ディングパッドを形成する部分82aと、第1層と第2
層のグリーンシート74、76に挟まれ内部配線を形成
する部分82bと、メッキタイバーを形成する部分82
c、82dとが形成されている。ここで、ボンディング
パッドを形成する部分82aおよび内部配線を形成する
部分82bは、約180μmの幅に形成されている。な
お、パッケージ本体を形成するための切断線Cを一点鎖
線で示している。図4中のサークルE部を拡大して図6
に示す。メッキタイバーを構成する金属ペースト層の
内、内部配線側との接続部分82cは、約120μmと
細く形成されており、また、切断線Cを跨ぐ部分(被切
断部)82dは180μmと太く形成されている。
Here, FIG. 4 shows a state in which the metal paste layer 82 applied to the surface of the first layer 74 is viewed along the arrow D. As will be described later, the metal paste layer 82 includes a portion 82a exposed from the second opening 76A of the second layer green sheet 76 to form a bonding pad, a first layer and a second layer.
A portion 82b between the green sheets 74 and 76 for forming the internal wiring and a portion 82 for forming the plating tie bar
c and 82d are formed. Here, the portion 82a for forming the bonding pad and the portion 82b for forming the internal wiring are formed to have a width of about 180 μm. The cutting line C for forming the package body is shown by a dashed line. FIG. 6 is an enlarged view of circle E in FIG.
Shown in In the metal paste layer constituting the plating tie bar, the connecting portion 82c with the internal wiring side is formed as thin as about 120 μm, and the portion (section to be cut) straddling the cutting line C is formed as thick as 180 μm. ing.

【0023】この金属ペースト層82、84の乾燥後、
押圧して金属ペースト層82、84を、シートからの高
さが10μmになるように、グリーンシート72、74
に押し込んでおくとよい。なお、説明を容易にするた
め、図等において押し込まれた状態での記述は省略す
る。
After drying the metal paste layers 82 and 84,
The metal paste layers 82 and 84 are pressed to form green sheets 72 and 74 such that the height from the sheet is 10 μm.
It is good to push in. Note that, in order to facilitate the description, a description in a state where the button is pressed in the drawings and the like is omitted.

【0024】次いで、図3に示すように底部グリーンシ
ート72の上に第1層グリーンシート74、そして、第
1層グリーンシート74の上に第2層グリーンシート7
6を加熱しつつ圧着する。その後、図4を参照して上述
した切断線Cに沿って図3に示す積層体シートを切断す
る。図5(A)は、切断された積層体90の金属ペース
ト層82を透視した状態を示す平面図である。図5にお
いて、第2層グリーンシート76、又は第2層16は、
図示の便宜上から第2開口部76A又は開口部16Aの
みが示されている点に注意されたい。ここで、図5
(A)に示す積層体90の側面90Aを矢印Fに沿って
見た図、即ち、積層体90の切断線Cによる切断端面を
図7(A)に示す。
Next, as shown in FIG. 3, the first layer green sheet 74 is placed on the bottom green sheet 72, and the second layer green sheet 7 is placed on the first layer green sheet 74.
6 is pressed while heating. Thereafter, the laminate sheet shown in FIG. 3 is cut along the cutting line C described above with reference to FIG. FIG. 5A is a plan view showing a state where the cut metal paste layer 82 of the stacked body 90 is seen through. In FIG. 5, the second layer green sheet 76 or the second layer 16 is
Note that only the second opening 76A or the opening 16A is shown for convenience of illustration. Here, FIG.
FIG. 7A is a view of the side surface 90A of the laminate 90 shown in FIG. 7A as viewed along the arrow F, that is, FIG.

【0025】図6を参照して上述したように、メッキタ
イバーを構成する金属ペースト層の切断線Cを跨ぐ部分
(被切断部)82dは太く(幅広に)形成されているた
め、図14を参照して上述した従来技術の金属ペースト
層382cと異なり、全ての金属ペースト層82dが側
面90Aから露出している。
As described above with reference to FIG. 6, the portion (section to be cut) 82d straddling the cutting line C of the metal paste layer constituting the plating tie bar is formed thick (wide), so that FIG. Unlike the prior art metal paste layer 382c described above, all the metal paste layers 82d are exposed from the side surface 90A.

【0026】ここで、図5(A)に示す積層体90の各
側面90Aに、図5(B)に示すようにタングステンを
主成分とするペースト状金属混合物をスクリーン印刷す
ることにより20μmの厚さに塗布して、焼成後にメッ
キ用導電層となる金属ペースト層85を形成する。図5
(B)に示す積層体90の側面90Aを矢印Gに沿って
見た状態を図7(B)に示す。ここで、全ての金属ペー
スト層82dが、側面90Aから露出しているため、塗
布された金属ペースト層85との間で確実に接続してい
る。
Here, as shown in FIG. 5B, a paste-like metal mixture containing tungsten as a main component is screen-printed on each side surface 90A of the laminated body 90 shown in FIG. Then, a metal paste layer 85 to be a conductive layer for plating after firing is formed. FIG.
FIG. 7B shows a state in which the side surface 90A of the stacked body 90 shown in FIG. Here, since all the metal paste layers 82d are exposed from the side surface 90A, they are reliably connected to the applied metal paste layer 85.

【0027】次いで、図5(B)に示す積層体90を脱
脂した後に焼成する。この焼成により積層体は2割弱程
度収縮して焼結する。焼成収縮後の積層体92を図5
(C)に示す。金属ペースト層85は焼成されてメッキ
用導電層35になる。また、金属ペースト層82は、焼
成されて、第2開口部76Aから露出しているパッド部
32aと、第1と第2絶縁層とに挟まれた内部配線32
bと、メッキタイバーとなる。ここで、図5(C)中に
て示す内部配線32b側と接続するためのメッキタイバ
ーの幅細い部分を導電用メッキタイバー32cとして、
また、切断線Cにて切断されメッキ用導電層35側と接
続されている幅の太い部分を接続用メッキタイバー32
dとして呼称する。なお、上述した約2割の収縮によ
り、パッド部32a及び内部配線32bは幅約150μ
mに、導電用メッキタイバー32cは幅約100μm
に、接続用メッキタイバー32dは幅約150μmにな
っている。
Next, the laminate 90 shown in FIG. 5B is degreased and then fired. By this firing, the laminate shrinks and shrinks by less than about 20%. The laminate 92 after firing shrinkage is shown in FIG.
It is shown in (C). The metal paste layer 85 is fired to become the conductive layer for plating 35. Further, the metal paste layer 82 is baked, and the internal wiring 32 sandwiched between the first and second insulating layers and the pad 32a exposed from the second opening 76A is formed.
b and plating tie bars. Here, the narrow portion of the plating tie bar for connecting to the internal wiring 32b side shown in FIG. 5C is referred to as a conductive plating tie bar 32c.
Further, the thick portion cut at the cutting line C and connected to the plating conductive layer 35 side is connected to the plating tie bar 32 for connection.
Called as d. The pad portion 32a and the internal wiring 32b have a width of about 150 μm due to the contraction of about 20% described above.
m, the conductive tie bar 32c has a width of about 100 μm
The connecting plating tie bar 32d has a width of about 150 μm.

【0028】次いで、図5(C)に示す積層体92を電
解メッキ用の溶液に浸漬し、メッキ用導電層35に電流
を流すことにより、メッキタイバー32d、32c及び
内部配線32bを介して、第2層16の開口部16Aか
ら延在している、即ち、積層体92から露出しているメ
タライズ層32のパッド部32aや、入出力ピン用バッ
ド(図示しない)、シールリングロー付けメタライズ層
(図示しない)に電解ニッケルメッキを施す。その後、
当該積層体92に、図1に示すようにシールリング62
及びピン50をロー付けし、更に、同様にして電解ニッ
ケルメッキを行った後に、電解金メッキを行うことによ
り、メタライズ層32のパット部32aをボンディング
パッドとして使用し得るようにする。即ち、後述するボ
ンディングを容易に行えるようにする。また、シールリ
ング62や入出力ピン50にNi及び金メッキを被着す
る。これら電解メッキ処理後、メッキ用導電層35を削
り取ることにより、各内部配線相互は独立にされ、図1
に示すようなパッケージ本体10が完成する。
Next, the laminate 92 shown in FIG. 5C is immersed in a solution for electrolytic plating, and a current is applied to the conductive layer 35 for plating, so that the tie bars 32d and 32c and the internal wiring 32b are used. The pad portion 32a of the metallized layer 32 extending from the opening 16A of the second layer 16, that is, the pad portion 32a for the input / output pin (not shown) exposed from the laminated body 92, (Not shown) is subjected to electrolytic nickel plating. afterwards,
As shown in FIG.
Then, the pins 50 are soldered, electrolytic nickel plating is performed in the same manner, and electrolytic gold plating is performed, so that the pad portion 32a of the metallized layer 32 can be used as a bonding pad. That is, bonding described later can be easily performed. Further, Ni and gold plating are applied to the seal ring 62 and the input / output pins 50. After these electrolytic plating processes, the internal wirings are made independent by shaving off the conductive layer 35 for plating.
The package body 10 shown in FIG.

【0029】その後、このパッケージ本体10に集積回
路20を固定し、該集積回路20の入出力端子とボンデ
ィングパッド30とをボンディングワイヤ40にて接続
する。ボンディングパッド30のパッド部32aの幅
は、150μmに形成してあるため、集積回路20の入
出力端子20aからのボンディングワイヤ40の先端
を、ボンディングパッド30に容易に接続することがで
きる。このボンディングにより、集積回路20側からの
信号を、ボンディングパッド30(メタライズ層32)
及び内部配線32を介してピン50から取り出せるよう
にする。その後、キャップ60を封着して、パッケージ
が完成する。
Thereafter, the integrated circuit 20 is fixed to the package body 10, and the input / output terminals of the integrated circuit 20 and the bonding pads 30 are connected by bonding wires 40. Since the width of the pad portion 32a of the bonding pad 30 is formed to be 150 μm, the tip of the bonding wire 40 from the input / output terminal 20a of the integrated circuit 20 can be easily connected to the bonding pad 30. By this bonding, a signal from the integrated circuit 20 is transferred to the bonding pad 30 (metallization layer 32).
And can be taken out of the pin 50 via the internal wiring 32. Thereafter, the cap 60 is sealed to complete the package.

【0030】この実施態様においては、接続用メッキタ
イバー32dの幅のみが太く、メッキタイバーの大半を
占める導電用メッキタイバー32cの幅は細いため、メ
ッキタイバー全体の浮遊容量を小さくすることができ
る。このため、図示しないアースラインや電源ラインか
らのノイズが、メッキタイバーを介して内部配線側に伝
わり難いという利点を有する。
In this embodiment, only the width of the connection plating tie bar 32d is large and the width of the conductive plating tie bar 32c, which occupies most of the plating tie bar, is small, so that the floating capacitance of the entire plating tie bar can be reduced. For this reason, there is an advantage that noise from an unillustrated ground line or power supply line is not easily transmitted to the internal wiring side via the plating tie bar.

【0031】ここで、接続用メッキタイバー32dの幅
と、メッキ用導電層35とメッキタイバー32dとの接
続不良発生率との関係、即ち、図6を参照して上述した
金属ペースト層82の被切断部82dでの幅と、被切断
部82dと金属ペースト層85との接続不良発生率との
関係について図8を参照して説明する。図8では、横軸
に接続用メッキタイバー32dの幅(μm)及び金属ペ
ースト層の被切断部82dの幅(μm)を、また、縦軸
に接続不良発生率(%)を示している。図8から明らか
なようにタイバー32dの幅あるいは被切断部82dの
幅と接続不良発生率との間には相関性がある。
Here, the relationship between the width of the connection plating tie bar 32d and the incidence of connection failure between the plating conductive layer 35 and the plating tie bar 32d, that is, the coverage of the metal paste layer 82 described above with reference to FIG. The relationship between the width at the cut portion 82d and the incidence of connection failure between the cut portion 82d and the metal paste layer 85 will be described with reference to FIG. In FIG. 8, the horizontal axis indicates the width (μm) of the connection plating tie bar 32d and the width (μm) of the cut portion 82d of the metal paste layer, and the vertical axis indicates the connection failure occurrence rate (%). As is clear from FIG. 8, there is a correlation between the width of the tie bar 32d or the width of the cut portion 82d and the connection failure occurrence rate.

【0032】即ち、被切断部82dの幅を180μm以
上とした場合には、ほぼ0(0.01%程度)であるの
対し、幅が狭くなるのにつれて、急速に不良発生率が増
加し、幅60μm(タイバー32dの幅で50μm)の
場合には、約4%となる。従って、接続用メッキタイバ
ー32dの幅を150μm、即ち被切断部82dの幅を
180μmにすれば、図7(A)を参照して上述したよ
うに、積層体90の側面(切断断面)90Aから金属ペ
ースト層の被切断部82dを確実に露出させることがで
きる。さすれば、メッキタイバー32dと図5(C)を
参照して上述したメッキ用導電層35との接続が確実に
取れるので、接続不良発生率をほぼ0(0.01%程
度)に保つことが可能となる。これに対して、接続用メ
ッキタイバー32dの幅を150μm未満、即ち、被切
断部82dの幅を180μm未満にすると、図14を参
照して上述したように、切断線Cに沿って切断された際
に、被切断部82dが第1層のグリーンシートと第2層
のグリーンシートとの間に埋没して、側端面に金属ペー
スト層が露出し得ないことが起き、断線不良発生率が徐
々に高まる。
That is, when the width of the portion to be cut 82d is 180 μm or more, it is almost 0 (approximately 0.01%). In the case of a width of 60 μm (50 μm in width of the tie bar 32d), it is about 4%. Therefore, if the width of the connection plating tie bar 32d is set to 150 μm, that is, the width of the cut portion 82d is set to 180 μm, as described above with reference to FIG. The cut portion 82d of the metal paste layer can be reliably exposed. Then, since the connection between the plating tie bar 32d and the conductive layer for plating 35 described above with reference to FIG. 5C can be reliably established, the occurrence rate of connection failure is maintained at almost 0 (about 0.01%). Becomes possible. On the other hand, when the width of the connection plating tie bar 32d is less than 150 μm, that is, the width of the portion to be cut 82d is less than 180 μm, the cutting is performed along the cutting line C as described above with reference to FIG. At this time, the cut portion 82d is buried between the green sheet of the first layer and the green sheet of the second layer, so that the metal paste layer cannot be exposed on the side end surface, and the occurrence rate of disconnection failure gradually increases. To increase.

【0033】なお、上記の場合の不良発生率の算出は、
パッケージ本体側面から露出するタイバーの数が300
ケのパッケージ本体を用い、メッキ用導電層とタイバー
との接続不良によるメッキ不良がパッケージ本体中に1
箇所でも生じた場合には、不良と判定する手法によっ
た。
The calculation of the defect occurrence rate in the above case is as follows.
300 tie bars exposed from the package body side
In the package body, there is one plating failure in the package body due to poor connection between the conductive layer for plating and the tie bar.
In the case where it occurs even at a location, a method of determining a defect was employed.

【0034】第1実施態様の改変例について、図9を参
照して説明する。図6を参照して上述した態様では、メ
ッキタイバーを構成する金属ペースト層82cと、金属
ペースト層82dとは段階的に幅が変えられていた。こ
の金属ペースト層82dの幅は、図9(A)に示すよう
に放物線状に広がるラッパ状のものや、図9(B)に示
すように直線的に広がるくさび状のものなど徐々に変化
させていくことも可能である。
A modification of the first embodiment will be described with reference to FIG. In the embodiment described above with reference to FIG. 6, the width of the metal paste layer 82c and the width of the metal paste layer 82d constituting the plating tie bar are changed stepwise. The width of the metal paste layer 82d is gradually changed, such as a trumpet-shaped thing spreading in a parabolic shape as shown in FIG. 9A, or a wedge-shaped thing spreading in a straight line as shown in FIG. 9B. It is also possible to go.

【0035】引き続き本発明の第2実施態様について図
10を参照して説明する。図10は、パッケージ本体1
10の平面図である。この図において、第2絶縁層は、
図示の便宜上から第2開口部116Aのみが示されてい
る点に注意されたい。第1絶縁層114の上には、パッ
ケージ本体110の側端110A近傍まで延在している
内部配線132bと、パッケージ本体110の側端11
0A近傍まで延在していない内部配線132b’とが形
成されている。ここで、側端110A近傍まで延在して
いない内部配線132b’に接続するメッキタイバー
は、第1実施態様と同様に、幅細い導電用メッキタイバ
ー132cと、幅の太い接続用メッキタイバー132d
とからなっている。他方、パッケージ本体110の側端
110A近傍まで延在している内部配線132bには、
幅の変わらない接続用メッキタイバー132eが接続さ
れている。この第2実施態様においては、全長が長いた
めに浮遊容量の大きくなるメッキタイバーのみに細い導
電用メッキタイバー132cを形成することにより、ノ
イズの影響を抑えている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 10 shows the package body 1
10 is a plan view of FIG. In this figure, the second insulating layer
Note that only the second opening 116A is shown for convenience of illustration. On the first insulating layer 114, the internal wiring 132b extending to the vicinity of the side end 110A of the package body 110 and the side end 11 of the package body 110
Internal wiring 132b 'that does not extend to the vicinity of 0A is formed. Here, the plating tie bar connected to the internal wiring 132b 'that does not extend to the vicinity of the side end 110A includes a narrow conductive plating tie bar 132c and a thick connection plating tie bar 132d as in the first embodiment.
It consists of On the other hand, the internal wiring 132b extending to the vicinity of the side end 110A of the package body 110 includes:
The connection plating tie bar 132e having the same width is connected. In the second embodiment, the effect of noise is suppressed by forming a thin conductive plating tie bar 132c only on the plating tie bar having a large floating capacitance due to its long overall length.

【0036】上述した実施態様では、パッケージ本体側
面には同時焼成によりメッキ用導電層を形成した例を示
した。しかし、必ずしもこれに限定されず、積層体の焼
成後に、パッケージ本体側面に導体を焼付(後焼成)し
ても良く、また、導電性樹脂を塗布し、硬化させたもの
をメッキ用導電層として用いることも可能である。ま
た、上述した実施態様では、パッケージ本体を構成する
セラミックとして、アルミナを主成分とするセラミック
材料を用いたが、AlN、ガラスセラミック、SiC、
ムライト、ガラスセラミック等、種々のセラミック材料
を採用することができる。また、金属ペースト層の材料
はセラミック材料に応じて適宜選択すればよく、例え
ば、タングステン、モリブデン、銅、銀等を用いること
ができる。
In the above-described embodiment, an example is shown in which a conductive layer for plating is formed on the side surface of the package body by simultaneous firing. However, the present invention is not necessarily limited to this. After firing the laminate, a conductor may be baked (post-fired) on the side surface of the package body, or a conductive resin applied and cured may be used as a conductive layer for plating. It is also possible to use. Further, in the above-described embodiment, as the ceramic constituting the package body, a ceramic material containing alumina as a main component is used, but AlN, glass ceramic, SiC,
Various ceramic materials, such as mullite and glass ceramic, can be employed. The material of the metal paste layer may be appropriately selected according to the ceramic material, and for example, tungsten, molybdenum, copper, silver, or the like can be used.

【0037】上記実施態様においては、集積回路チップ
と、ボンディングパッドとの接続には、ボンディングワ
イヤを用いた場合を示したが、その他TAB接続によっ
て、両者を接続しても良い。更に、フリップチップ法
(C4技術)によってもよく、この場合には、接続端子
(C4パッド等)が内部配線に接続して形成され、本発
明により所定のメッキがなされる。
In the above embodiment, the case where a bonding wire is used for connection between the integrated circuit chip and the bonding pad has been described. However, both may be connected by TAB connection. Further, a flip chip method (C4 technology) may be used. In this case, connection terminals (C4 pads and the like) are formed by connecting to internal wirings, and predetermined plating is performed according to the present invention.

【0038】また、内部配線に接続して、メッキが施さ
れる部位(要メッキ部)としては、上述の如く集積回路
チップとの接続端子、即ち、ボンディングパッドやC4
パッドがある。その他、上述したような入出力ピンの
他、BGA(Ball Grid Array)やLG
A(Lead Grid Array)等の形態で用い
られるボール状端子やランド、その他、リード状端子な
どの入出力端子が含まれる。更には、集積回路を装着す
るダイアタッチ部や、上述したシールリングを装着する
ためのシールリング用メタライズ部、あるいは、シール
リング、チップ抵抗やチップコンデンサ等を装着するた
めの表面メタライズ部などが挙げられる。
The portions to be connected to the internal wiring and plated (required plating portions) include the connection terminals with the integrated circuit chip as described above, that is, the bonding pads and C4.
There are pads. In addition to the input / output pins described above, a BGA (Ball Grid Array) and an LG
Input / output terminals such as ball-shaped terminals and lands used in the form of A (Lead Grid Array) or the like, and lead-shaped terminals are included. Furthermore, a die attach portion for mounting an integrated circuit, a metallized portion for a seal ring for mounting the above-described seal ring, or a surface metallized portion for mounting a seal ring, a chip resistor, a chip capacitor, and the like are given. Can be

【0039】[0039]

【効果】以上記述したように本発明の電子部品用パッケ
ージ本体によれば、メッキタイバーが、内部配線に接続
する部分の幅を、狭く(細く)形成してある。このた
め、メッキタイバーの浮遊容量を小さくでき、ノイズ等
の影響を受け難くすることができる。一方、該パッケー
ジ本体の側面へ露出する部分は広く(太く)形成してあ
るため、確実に側面に露出し、該側面に形成するメッキ
用導電層と接続するので、ボンディングパッドをはじめ
とする要メッキ部に確実にメッキを施すことができる。
As described above, according to the electronic component package body of the present invention, the width of the portion where the plating tie bar is connected to the internal wiring is formed narrow (narrow). For this reason, the floating capacitance of the plating tie bar can be reduced, and the influence of noise or the like can be reduced. On the other hand, since the portion exposed to the side surface of the package body is formed wide (thick), it is surely exposed to the side surface and is connected to the conductive layer for plating formed on the side surface. Plating can be reliably applied to the plated portion.

【0040】また、本発明の電子部品用パッケージ本体
の製造方法によれば、金属ペースト層を塗布する工程に
おいて、焼成によりメッキタイバーとなる金属ペースト
層の被切断部の幅を、内部配線との接続部分よりも広く
塗布してあるため、第1、第2のグリーンシートの積層
体を切断した際に、該被切断部を確実に露出させること
ができる。このため、第1、第2のグリーンシートの積
層体の側面に、メッキ用導電層となる金属ペースト層を
塗布した際に、該メッキタイバーとなる複数の金属ペー
スト層にメッキ用導電層となる金属ペースト層を接続す
ることが可能となる。従って、焼成後に、メッキ用導電
層から複数のメッキタイバーを介して内部配線に電流を
流し、これに接続するパッケージ本体の要メッキ部に確
実にメッキを施すことができる。
According to the method of manufacturing a package body for an electronic component of the present invention, in the step of applying the metal paste layer, the width of the cut portion of the metal paste layer that becomes a plating tie bar by firing is adjusted to the internal wiring. Since the coating is applied wider than the connection portion, the cut portion can be reliably exposed when the first and second green sheet laminates are cut. Therefore, when a metal paste layer serving as a plating conductive layer is applied to the side surfaces of the first and second green sheet laminates, the plurality of metal paste layers serving as the plating tie bars become the plating conductive layers. A metal paste layer can be connected. Therefore, after baking, a current is applied to the internal wiring from the conductive layer for plating via the plurality of plating tie bars, and the plating required for the package body connected to this can be reliably plated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施態様に係るパッケージ本体の
一部切り欠き側面図である。
FIG. 1 is a partially cutaway side view of a package body according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すパッケージ本体の組み立て工程を示
す縦断面図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an assembly process of the package body shown in FIG.

【図3】図2に示すグリーンシートを積層した状態を示
す縦断面図である。
FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing a state where the green sheets shown in FIG. 2 are stacked.

【図4】図2に示す第1層グリーンシートのD矢視図で
ある。
FIG. 4 is a view on arrow D of the first layer green sheet shown in FIG. 2;

【図5】図5(A)は、積層シートから切断された積層
体の平面図であり、図5(B)は、側面に金属ペースト
層が塗布された積層体の平面図であり、図5(C)は焼
成後の積層体の平面図である。
FIG. 5A is a plan view of a laminate cut from a laminated sheet, and FIG. 5B is a plan view of a laminate in which a metal paste layer is applied to side surfaces; FIG. 5C is a plan view of the laminated body after firing.

【図6】図4のサークルE部の拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of a circle E part in FIG. 4;

【図7】図7(A)は図5(A)のF矢視図であり、図
7(B)は図5(B)のG矢視図である。
7 (A) is a view as viewed in the direction of arrow F in FIG. 5 (A), and FIG. 7 (B) is a view as viewed in the direction of arrow G in FIG. 5 (B).

【図8】メッキタイバーの幅と断線不良発生率との関係
を示すグラフである。
FIG. 8 is a graph showing the relationship between the width of a plating tie bar and the incidence of disconnection failure.

【図9】第1実施態様の改変例を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a modification of the first embodiment.

【図10】本発明の第2実施態様に係るパッケージ本体
の平面図である。
FIG. 10 is a plan view of a package body according to a second embodiment of the present invention.

【図11】従来技術に係るグリーンシートを示す平面図
である。
FIG. 11 is a plan view showing a green sheet according to the related art.

【図12】従来技術に係る積層体の平面図であって、図
12(A)は焼成前の状態を、図12(B)は焼成後の
状態を示している。
12A and 12B are plan views of a laminate according to the related art, where FIG. 12A shows a state before firing and FIG. 12B shows a state after firing.

【図13】図11のサークルA部の拡大図である。FIG. 13 is an enlarged view of a circle A part of FIG. 11;

【図14】図12のB−B線の断面拡大図である。FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view taken along line BB of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 パッケージ本体 14 第1層 16 第2層 20 集積回路 30 ボンディングパッド 32 メタライズ層 32a パッド部 32b 内部配線 32c 導電用メッキタイバー 32d 接続用メッキタイバー DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Package body 14 1st layer 16 2nd layer 20 Integrated circuit 30 Bonding pad 32 Metallization layer 32a Pad part 32b Internal wiring 32c Plating tie-bar for conduction 32d Plating tie-bar for connection

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電子部品を装着するための電子部品用パ
ッケージ本体であって、 積層された複数の絶縁層と、 該パッケージ本体上の各所にメッキを施すために、該絶
縁層と絶縁層との間に配置され、該パッケージ本体の側
面に露出するメッキタイバーと、 該パッケージ本体の該側面に配置され、該側面に露出す
る該メッキタイバーと接続するメッキ用導電層と、を備
え、 該メッキタイバーは、被切断部分の幅が、該被切断部分
近傍より該パッケージ本体内部に位置する部分よりも広
く形成されている電子部品用パッケージ本体。
An electronic component package body for mounting an electronic component, comprising: a plurality of laminated insulating layers; and an insulating layer and an insulating layer for plating each part on the package body. A plating tie bar disposed on the side of the package body, and a plating conductive layer connected to the plating tie bar exposed on the side surface of the package body and exposed on the side surface; tie bars, the width of the cutting portion, an electronic component package body which is wider than the portion located inside said package body from the object to be cut portion <br/> vicinity.
【請求項2】 電子部品を装着するための電子部品用パ
ッケージ本体であって、 積層された複数の絶縁層と、 該絶縁層と絶縁層との間に配置されたメタライズ層であ
って、内部配線および該内部配線からパッケージ本体の
側面へ導出するメッキタイバーとを含むメタライズ層
と、 該パッケージ本体の該側面に配置され、該側面へ露出す
るメッキタイバーと接続するメッキ用導電層と、を有
し、 前記メタライズ層の前記メッキタイバーにおいて、該パ
ッケージ本体の被切断部分の幅が、該内部配線へ接続す
る部分の幅よりも広く形成されている電子部品用パッケ
ージ本体。
2. An electronic component package body for mounting an electronic component, comprising: a plurality of laminated insulating layers; and a metallized layer disposed between the insulating layers. A metallizing layer including a wiring and a plating tie bar leading out from the internal wiring to a side surface of the package body; and a plating conductive layer disposed on the side surface of the package body and connected to the plating tie bar exposed to the side surface. The package body for an electronic component, wherein in the plating tie bar of the metallized layer, a width of a cut portion of the package body is formed wider than a width of a portion connected to the internal wiring.
【請求項3】 電子部品を装着するための電子部品用パ
ッケージ本体の製造方法であって、 第1のグリーンシート上に、焼成により内部配線及びメ
ッキタイバーとなる部位を有する複数の金属ペースト層
を形成する工程であって、該メッキタイバーとなる部位
のうちの被切断部の幅を、前記内部配線となる部位との
接続部の幅よりも広く塗布する工程と、 前記第1のグリーンシート上に、第2のグリーンシート
を積層圧着する工程と、 該第1と第2のグリーンシートの積層体を所定の位置で
切断し、前記金属ペースト層の前記メッキタイバーとな
る部位の前記被切断部を露出させる工程と、 切断された前記積層体の側面にメッキ用導電層となる金
属ペースト層を形成して、前記露出した被切断部を介し
て前記メッキタイバーとなる部位と接続させる工程と、 該積層体を焼成する工程と、 焼成によって形成されたメッキ用導電層からメッキタイ
バーを介して内部配線に電流を流し、これに接続するパ
ッケージ本体の各要メッキ部にメッキを施す工程と、を
含む、 電子部品用パッケージ本体の製造方法。
3. A method of manufacturing an electronic component package body for mounting an electronic component, comprising: forming, on a first green sheet, a plurality of metal paste layers having portions that become internal wiring and plating tie bars by firing. Forming a coating tie bar, wherein the width of the cut portion of the portion serving as the plating tie bar is wider than the width of the connection portion with the portion serving as the internal wiring; A step of laminating and pressing a second green sheet; cutting the laminate of the first and second green sheets at a predetermined position to form a portion to be the plating tie bar of the metal paste layer; Forming a metal paste layer to be a conductive layer for plating on the side surface of the cut laminate, and contacting the portion to be the plating tie bar through the exposed cut portion. Causing the laminate to be fired; flowing current from the conductive layer for plating formed by firing to the internal wiring via a plating tie bar, and plating each required plating portion of the package body connected thereto. And a method of manufacturing a package body for an electronic component.
【請求項4】 前記メッキタイバーとなる部位の前記被
切断部の幅を、180μm以上となるように形成した請
求項3の電子部品用パッケージ本体の製造方法。
4. The method for manufacturing a package body for an electronic component according to claim 3, wherein a width of said portion to be cut at a portion to be said plating tie bar is formed to be 180 μm or more.
【請求項5】 前記被切断部分の幅を、180μm以上5. The width of the portion to be cut is 180 μm or more.
となるように形成した請求項1又は請求項2の電子部品The electronic component according to claim 1, wherein the electronic component is formed to be
用パッケージ本体。Package body.
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