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JP3126634B2 - Appearance inspection method - Google Patents

Appearance inspection method

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JP3126634B2
JP3126634B2 JP07190932A JP19093295A JP3126634B2 JP 3126634 B2 JP3126634 B2 JP 3126634B2 JP 07190932 A JP07190932 A JP 07190932A JP 19093295 A JP19093295 A JP 19093295A JP 3126634 B2 JP3126634 B2 JP 3126634B2
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Japan
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inspection
line
density
adjacent
pair
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JP07190932A
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Japanese (ja)
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JPH0943162A (en
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満 白澤
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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  • Image Analysis (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被検査物を含む空
間領域を撮像手段により撮像して得た濃淡画像に基づい
て被検査物の外観の傷や汚れのような欠陥や被検査物の
形状などを検査する外観検査方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect such as a flaw or dirt on the appearance of an inspected object or a defect of the inspected object based on a grayscale image obtained by imaging a spatial region including the inspected object by an imaging means. The present invention relates to a visual inspection method for inspecting a shape and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、この種の外観検査方法では、被
検査物を含む空間領域をITVカメラのような撮像装置
で撮像し、撮像した画像内での各画素の濃度(すなわ
ち、撮像装置での受光光量)に基づいて、被検査物の正
常な部分と被検査物の欠陥や背景とを識別している。す
なわち、画素の濃度についてしきい値を設定し、このし
きい値を用いて2値化することで、被検査物の正常な部
分と他の部分とに分離している。また、この分離を容易
にするために、被検査物に対しては適当な方向から光を
照射し、被検査物の正常な部分と他の部分とに照度差を
生じさせることも一般に行なわれている。
2. Description of the Related Art In general, in this type of appearance inspection method, a spatial region including an object to be inspected is imaged by an imaging device such as an ITV camera, and the density of each pixel in the captured image (that is, the imaging device). The normal part of the object to be inspected and the defect and the background of the object to be inspected are identified based on the amount of received light. That is, a threshold value is set for the pixel density, and binarization is performed using the threshold value, thereby separating the inspection object into a normal part and another part. In order to facilitate this separation, it is common practice to irradiate the object to be inspected with light from an appropriate direction so as to cause an illuminance difference between a normal part of the object and other parts. ing.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は2値
化のためのしきい値が固定的に設定されていたものであ
るから、被検査物の反射率が異なっていたり、被検査物
に照射される光の光量が変化したりすると、被検査物の
正常な部分と他の部分とを正しく分離するような2値化
ができなくなるという問題があった。言い換えると、異
なる被検査物の外見を検査したり、被検査物への照射光
量が変化すると、人手によってしきい値を調節しなけれ
ばならないという問題を有していた
Conventionally, the threshold value for binarization has been fixedly set, so that the reflectance of the object to be inspected is different, If the amount of irradiated light changes, there is a problem that it is not possible to perform binarization to correctly separate a normal portion and another portion of the inspection object. In other words, there has been a problem that when the appearance of a different object to be inspected is inspected, or when the amount of light applied to the object to be inspected changes, the threshold value must be manually adjusted .

【0004】また、被検査物の外観を検査する際に、検
査する必要のない領域を画像内からできるだけ除去する
ほうが処理すべき画素数が少なくなって処理効率が高く
なるから、検査対象となる領域のみを含むマスクを設定
し、マスク内のみで欠陥の有無や形状を認識することが
行なわれている。しかしながら、屈曲部分を含むような
複雑な輪郭線を有する被検査物について被検査物のみを
含むようなマスクを設定したり、被検査物に形成された
孔や溝あるいは突出部分などに対応する部位のみを検査
対象から除去し傷や汚れなどは検査対象として残すよう
なマスクを設定したりするのは困難であって、処理効率
を充分に高めることができないという問題がある。
Further, when inspecting the appearance of an object to be inspected, it is better to remove as much as possible an area that does not need to be inspected from the image because the number of pixels to be processed is reduced and the processing efficiency is increased, so that the object is inspected. A mask including only an area is set, and the presence or absence and shape of a defect are recognized only in the mask. However, for a test object having a complicated contour including a bent portion, a mask may be set to include only the test object, or a portion corresponding to a hole, a groove, a projecting portion, or the like formed in the test object. It is difficult to set a mask that removes only the inspection target from the inspection target and leaves the scratches and dirt as the inspection target, and there is a problem that the processing efficiency cannot be sufficiently improved.

【0005】本発明は上記事由に鑑みて為されたもので
あり、その目的は、被検査物に応じて2値化のためのし
きい値を自動的に設定するとともに、被検査物の正常な
部分と他の部分との濃度差が比較的小さい場合でもし
い値を設定可能とし、しかも検査対象にならない領域を
十分に除外して処理効率を高めた外観検査方法を提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to automatically set a threshold value for binarization in accordance with an object to be inspected and to set a normal value of the object to be inspected. such portion and the If can <br/> have value if the density difference is relatively small with other parts to be set, yet the appearance inspection method with enhanced sufficiently exclude the processing efficiency region not be inspected To provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明では、被
検査物を含む空間領域を撮像手段により撮像して得た濃
淡画像内に被検査物の少なくとも一部領域を含む検査ウ
インドウを設定し、検査ウインドウ内についての被検査
物の外観を検査する方法において、検査ウインドウの中
に互いに交差しない複数本の検査ラインを設定するとと
もに、各検査ライン上に複数個の濃度測定点を設定し、
各検査ラインごとに濃度測定点の濃度の最頻値を求め、
最頻値に対して高濃度側と低濃度側との少なくとも一方
に規定のオフセット値だけ偏移させた濃度しきい値を設
定するとともに、各検査ラインごとの濃度しきい値を用
いて各検査ラインごとの画素を2値化することによって
検査ウインドウ内から除外候補画素を抽出した後、隣接
する除外候補画素のまとまりである非検査候補領域の中
の濃度測定点の個数を求め、この個数が所定個数以上で
ある非検査候補領域を非検査領域とし、検査ウインドウ
から非検査領域を除外した検査対象領域についてのみ被
検査物の外観を検査する。
According to the first aspect of the present invention, an inspection window including at least a partial area of an object to be inspected is set in a grayscale image obtained by imaging a spatial area including the object to be inspected by an imaging means. In the method of inspecting the appearance of the inspection object in the inspection window, a plurality of inspection lines that do not intersect each other are set in the inspection window, and a plurality of density measurement points are set on each inspection line. ,
Calculate the mode of the density at the density measurement point for each inspection line,
In addition to setting a density threshold shifted by a specified offset value to at least one of the high density side and the low density side with respect to the mode, each inspection is performed using the density threshold for each inspection line. After extracting exclusion candidate pixels from the inspection window by binarizing the pixels for each line, the number of density measurement points in the non-inspection candidate region, which is a group of adjacent exclusion candidate pixels, is determined. A non-inspection candidate area that is equal to or more than a predetermined number is set as a non-inspection area, and the appearance of the inspection object is inspected only in an inspection target area excluding the non-inspection area from the inspection window.

【0007】この方法では、被検査物の少なくとも一部
領域を含む検査ウインドウの中に検査ラインを設定する
とともに検査ライン上に濃度測定点を設定し、各検査ラ
インごとの濃度測定点の濃度の最頻値に基づいて設定し
た濃度しきい値を用いて各検査ラインごとに濃度測定点
を2値化するから、2値化に用いる濃度しきい値が各被
検査物に応じて自動的に設定される。しかも、2値化に
より得られた除外候補画素のまとまりである非検査候補
領域の中の濃度測定点の個数を求め、各非検査候補領域
を検査ウインドウから除外すべきか否かを決定して検査
対象領域を決定するから、被検査物の孔や突起あるいは
被検査物を搬送するコンベアのような検査対象外の領域
を除外候補画素から除去することが可能であり、結果的
に検査対象にならない領域を十分に除外することができ
て処理効率の向上につながる。
In this method, an inspection line is set in an inspection window including at least a partial area of the inspection object, a density measurement point is set on the inspection line, and the density of the density measurement point for each inspection line is determined. Since the density measurement points are binarized for each inspection line using the density threshold set based on the mode, the density threshold used for binarization is automatically set according to each inspection object. Is set. In addition , the number of density measurement points in the non-inspection candidate area, which is a group of exclusion candidate pixels obtained by binarization, is determined, and it is determined whether each non-inspection candidate area should be excluded from the inspection window. Since the target area is determined, it is possible to remove a non-inspection area such as a hole or a projection of the inspection object or a conveyor for transporting the inspection object from the exclusion candidate pixels, and as a result, does not become an inspection object. Regions can be sufficiently excluded, leading to an improvement in processing efficiency.

【0008】請求項2の発明では、被検査物を含む空間
領域を撮像手段により撮像して得た濃淡画像内に被検査
物の少なくとも一部領域を含む検査ウインドウを設定
し、検査ウインドウ内についての被検査物の外観を検査
する方法において、上記濃淡画像に基づいて画素間の濃
度差のピークを通るエッジを求め、検査ウインドウの中
に互いに交差しない複数本の検査ラインを設定するとと
もに、各検査ライン上に複数個の濃度測定点を設定し、
各検査ラインごとに濃度測定点の濃度の最頻値を求め、
最頻値に対して高濃度側と低濃度側との少なくとも一方
に規定のオフセット値だけ偏移させた濃度しきい値を設
定するとともに、各検査ラインごとの濃度しきい値を用
いて各検査ラインごとの画素を2値化することによって
検査ウインドウ内から除外候補画素を抽出した後、隣接
する除外候補画素のまとまりである非検査候補領域の中
の濃度測定点の個数を求め、この個数が所定個数以上で
ある非検査候補領域の外周縁上の各濃度測定点から外向
きに上記エッジを探索し、エッジが検出されるとエッジ
をトレースすることにより非検査候補領域の外周を囲む
エッジを決定し、決定されたエッジの画素の個数および
画素の微分値の総和を求め、求めた画素の個数および微
分値の総和がそれぞれ所定値以上であるとエッジ内を非
検査領域とし、検査ウインドウから非検査領域を除外し
た検査対象領域についてのみ被検査物の外観を検査す
る。
According to the second aspect of the present invention, an inspection window including at least a part of the inspection object is set in a grayscale image obtained by imaging a spatial region including the inspection object by the imaging means. In the method of inspecting the appearance of the object to be inspected, an edge passing through the peak of the density difference between pixels is obtained based on the grayscale image, and a plurality of inspection lines that do not intersect each other are set in the inspection window. Set multiple concentration measurement points on the inspection line,
Calculate the mode of the density at the density measurement point for each inspection line,
In addition to setting a density threshold shifted by a specified offset value to at least one of the high density side and the low density side with respect to the mode, each inspection is performed using the density threshold for each inspection line. After extracting exclusion candidate pixels from the inspection window by binarizing the pixels for each line, the number of density measurement points in the non-inspection candidate region, which is a group of adjacent exclusion candidate pixels, is determined. The above edge is searched outward from each density measurement point on the outer peripheral edge of the non-inspection candidate region that is equal to or more than a predetermined number, and when the edge is detected, the edge surrounding the outer periphery of the non-inspection candidate region is traced by tracing the edge. The number of pixels of the determined edge and the sum of the differential values of the pixels are determined.If the calculated number of pixels and the total of the differential values are each equal to or larger than a predetermined value, the inside of the edge is determined as a non-inspection area, and the inspection is performed. For inspection areas excluding the non-examination region from the window only to inspect the appearance of the object to be inspected.

【0009】この方法は、請求項1の発明の方法をさら
に拡張したものであり、請求項1の発明において求めた
非検査候補領域は濃度測定点の間隔程度の誤差を持って
おり、実際に非検査領域として検査ウインドウから除外
すべき領域よりも若干小さいことが多いから、非検査候
補領域を拡大するように補正して非検査領域を正確に設
定しているのである。
This method is a further extension of the method according to the first aspect of the present invention. The non-inspection candidate area obtained in the first aspect of the present invention has an error of about the interval between the density measurement points. Since the non-inspection area is often slightly smaller than the area to be excluded from the inspection window, the non-inspection candidate area is corrected so as to be enlarged and the non-inspection area is accurately set.

【0010】請求項3の発明では、各検査ラインを互い
に平行な直線とし、隣合う各一対の検査ラインの間隔と
各検査ライン上で隣合う各一対の濃度測定点の間隔とを
それぞれ一定とし、かつ隣合う各一対の検査ライン上の
濃度測定点の位置を検査ラインの延長方向において一致
させている。請求項4の発明では、各検査ラインを互い
に平行な直線とし、隣合う各一対の検査ラインの間隔を
適宜に設定し、各検査ライン上で隣合う各一対の濃度測
定点の間隔を一定とし、かつ隣合う各一対の検査ライン
上の濃度測定点の位置を検査ラインの延長方向において
一致させている。
According to the third aspect of the present invention, each test line is a straight line parallel to each other, and the interval between each pair of adjacent test lines and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line are fixed. In addition, the positions of the density measurement points on each pair of adjacent test lines are matched in the extension direction of the test line. In the invention according to claim 4, each test line is a straight line parallel to each other, the interval between each pair of adjacent test lines is appropriately set, and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line is constant. In addition, the positions of the density measurement points on each pair of adjacent test lines are matched in the extension direction of the test line.

【0011】請求項5の発明では、各検査ラインを互い
に平行な直線とし、隣合う各一対の検査ラインの間隔と
各検査ライン上で隣合う各一対の濃度測定点の間隔とを
それぞれ一定とし、かつ隣合う各一対の検査ラインでは
互いに他方の検査ライン上の濃度測定点を検査ラインの
延長方向において隣合う各一対の濃度測定点の中央に位
置させている。
According to the fifth aspect of the present invention, each test line is a straight line parallel to each other, and the interval between each pair of adjacent test lines and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line are fixed. In each pair of adjacent inspection lines, the density measurement points on the other inspection line are positioned at the center of each pair of adjacent density measurement points in the extension direction of the inspection line.

【0012】請求項6の発明では、各検査ラインを互い
に平行な直線とし、隣合う各一対の検査ラインの間隔を
適宜に設定し、各検査ライン上で隣合う各一対の濃度測
定点の間隔を一定とし、かつ隣合う各一対の検査ライン
では互いに他方の検査ライン上の濃度測定点を検査ライ
ンの延長方向において隣合う各一対の濃度測定点の中央
に位置させている。
According to the present invention, each inspection line is a straight line parallel to each other, the interval between each pair of adjacent inspection lines is appropriately set, and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each inspection line is determined. Is constant, and in each pair of adjacent inspection lines, the density measurement point on the other inspection line is positioned at the center of each pair of adjacent density measurement points in the extension direction of the inspection line.

【0013】請求項7の発明では、各検査ラインを互い
に平行な直線とし、隣合う各一対の検査ラインの間隔を
一定とし、各検査ライン上で隣合う各一対の濃度測定点
の間隔とを適宜に設定している。請求項8の発明では、
各検査ラインを互いに平行な直線とし、隣合う各一対の
検査ラインの間隔と各検査ライン上で隣合う各一対の濃
度測定点の間隔とをそれぞれ適宜に設定している。
According to the present invention, each test line is a straight line parallel to each other, the interval between each pair of adjacent test lines is constant, and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line is determined. It is set appropriately. In the invention of claim 8,
Each test line is a straight line parallel to each other, and the interval between each pair of adjacent test lines and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line are appropriately set.

【0014】請求項3ないし請求項8は、検査ラインお
よび濃度測定点の望ましい設定方法であって、被検査物
の表面の濃度がほぼ均一であれば請求項3のように濃度
測定点を均一に分布させるのが望ましく、被検査物の表
面の濃度に何らかの分布が生じているときには、その分
布に応じて請求項4、6、7、8の発明のように検査ラ
インの間隔や濃度測定点の間隔を適宜に設定すればよ
い。さらに、請求項5、6の発明のように、濃度測定点
を千鳥状に配列すれば、比較的少数の濃度測定点を用い
て非検査領域を精度よく抽出することができる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of setting an inspection line and a density measuring point. If the density of the surface of the object to be inspected is substantially uniform, the density measuring point is made uniform. In the case where some distribution occurs in the density of the surface of the object to be inspected, the intervals between the inspection lines and the density measurement points are determined according to the distribution. May be set appropriately. Furthermore, if the density measurement points are arranged in a staggered manner as in the inventions of claims 5 and 6, a non-inspection area can be accurately extracted using a relatively small number of density measurement points.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(実施形態1)本実施形態では図1に示す手順で検査対
象領域を決定する。被検査物の外観を検査する際には、
被検査物は所定の位置に位置決めされ、ITVカメラの
ような撮像装置により被検査物を含む空間領域が撮像さ
れる。撮像装置の出力はA/D変換が施され、各画素ご
とに受光光量に応じた濃度値を有する白黒の濃淡画像が
フレームメモリに格納される。ここに、撮像装置で被検
査物を含む空間領域を撮像する際には、被検査物の傷や
汚れのような欠陥と他の部分との濃度に差が生じるよう
な角度で被検査物に対して光が照射される。また、以後
の説明では明度が大きい(つまり白色に近い)ほど濃度
が大きいものとする。以後の処理は、フレームメモリに
格納された濃淡画像に対して施される。
(Embodiment 1) In this embodiment, an inspection target area is determined according to the procedure shown in FIG. When inspecting the appearance of the inspection object,
The object to be inspected is positioned at a predetermined position, and a spatial region including the object to be inspected is imaged by an imaging device such as an ITV camera. The output of the imaging device is subjected to A / D conversion, and a monochrome grayscale image having a density value corresponding to the amount of received light for each pixel is stored in the frame memory. Here, when imaging the spatial region including the object to be inspected by the imaging device, the object to be inspected is angled such that a difference occurs between the density of a defect such as a scratch or dirt of the object to be inspected and another portion. Light is applied to the light. In the following description, it is assumed that the higher the brightness (ie, the closer to white), the higher the density. Subsequent processing is performed on the grayscale image stored in the frame memory.

【0016】被検査物Q1 には溝部R2 が形成され、被
検査物Q1 のみの画像は図2のようになるものとする。
まず、濃淡画像に対して図3のような検査ウインドウD
1 が設定される(S101)。検査ウインドウD1 は、
容易に設定できる形状とすればよく、ここでは矩形状に
設定してある。また、検査ウインドウD1 は被検査物Q
1 の少なくとも一部を含むように設定すればよく、被検
査物Q1 の全領域について外観検査を行なう場合を除け
ば、必ずしも被検査物Q1 の全体を含む必要はないが、
通常は検査ウインドウD1 の中において被検査物Q1
占める領域の割合を他の領域よりも充分に大きくするの
が望ましい。ここに、被検査物Q1 は所定の位置に位置
決めされ、撮像装置は定位置に固定されているから、検
査ウインドウD1 は被検査物Q1 によらず固定的に設定
することが可能であるが、被検査物Q1 に応じて検査ウ
インドウD1 の形状を変えるようにしてもよい。画像内
には、図3に示すように、被検査物Q1 の輪郭線に接し
て背景の一部となるコンベアR1 や、被検査物Q1 に形
成された溝部R2 などが含まれる。
[0016] The object to be inspected Q 1 groove R 2 is formed, an image of only the object to be inspected Q 1 is assumed to be as shown in Figure 2.
First, an inspection window D as shown in FIG.
1 is set (S101). The inspection window D 1 is
The shape may be a shape that can be easily set, and is set to a rectangular shape here. The inspection window D 1 is
1 may be set to include at least a portion, except when performing a visual inspection for the entire region of the object Q 1, need not necessarily include the entire object to be inspected Q 1,
Usually desirable to sufficiently larger than other areas the proportion of the area occupied by the object to be inspected Q 1 in in the examining window D 1. Here, the object to be inspected Q 1 is positioned at a predetermined position, the imaging device from being locked in place, the examining window D 1 is capable of fixedly set regardless of the object to be inspected Q 1 some, but it may be changed inspection window D 1 of the shape according to the object to be inspected Q 1. In the image, as shown in FIG. 3, and conveyer R 1 to be a part of the background against the contours of the object to be inspected Q 1, and the like groove R 2 formed in the object to be inspected Q 1 .

【0017】本発明の主旨は、検査対象となる領域とし
て、検査ウインドウD1 からコンベアR1 や溝部R2
どを除外した領域を設定することにあるから、以下の手
順によって検査ウインドウD1 からコンベアR1 や溝部
2 などを非検査領域として除外する。ただし、図4に
示すように、傷や汚れのような欠陥R0 が存在するとき
に、欠陥R0 は非検査領域に含まれないようにしなけれ
ばならない。
[0017] spirit of the present invention, as a region to be inspected, because there to set the excluded areas such as conveyor R 1 and groove R 2 from the inspection window D 1, from the inspection window D 1 by the following steps conveyor R 1 and groove R exclude 2 or the like as the non-examination region. However, as shown in FIG. 4, when a defect R 0 such as a scratch or dirt exists, the defect R 0 must not be included in the non-inspection area.

【0018】そこで、まず図5のように、検査ウインド
ウD1 の中に、適宜間隔で複数本の検査ラインL1 〜L
n を設定し、各検査ラインL1 〜Ln の上に適宜間隔で
濃度測定点P(x,y) を設定する。検査ラインL1 〜Ln
は、図示例においてはもっとも簡単な直線とし互いに平
行に設定しているが、直線である必要はなく、また互い
に交差しなければ平行である必要もない。さらに、隣接
する検査ラインL1 〜Ln の間隔や各検査ラインL1
n の上での濃度測定点P(x,y) の間隔は、任意に設定
してよい。ここに、これらの間隔は大きいほど濃度測定
点P(x,y) の個数が少なくなって短い時間で高速に処理
できることになるが、間隔が大き過ぎると非検査領域の
決定精度が低下するから、被検査物Q1 に応じて経験的
に適宜大きさに決定することが必要である。このように
して濃度測定点P(x,y) が設定した後に、各濃度測定点
(x,y) の濃度を求める(S102)。
Therefore, as shown in FIG. 5, a plurality of inspection lines L 1 to L 1 are arranged at appropriate intervals in an inspection window D 1.
Set n, to set the density measurement point P (x, y) at appropriate intervals on each inspection line L 1 ~L n. Inspection line L 1 ~L n
Are set to be the simplest straight lines in the illustrated example and are set parallel to each other, but need not be straight lines, and need not be parallel if they do not cross each other. Further, the distance between adjacent inspection lines L 1 to L n and each inspection line L 1 to L n
The interval between the density measurement points P (x, y) on L n may be set arbitrarily. Here, as these intervals are larger, the number of density measurement points P (x, y) is smaller and processing can be performed at high speed in a shorter time. However, when the interval is too large, the accuracy of determining the non-inspection area decreases. , it is necessary to determine empirically an appropriate size depending on the object to be inspected Q 1. After the density measurement points P (x, y) are set in this way, the density of each density measurement point P (x, y) is determined (S102).

【0019】ところで、上述のようにA/D変換を施し
ているから濃度は連続値ではなく離散値となり、たとえ
ば256段階の値を有している。したがって、濃度測定
点P (x,y) が適切に設定されているときには、1つの検
査ラインL1 〜Ln の上で濃度値が同じ値になる濃度測
定点P(x,y) が複数個存在する(被検査物Q1 が平面の
とき、理想的には検査ウインドウD1 の中で欠陥R0
コンベアR1 、溝部R 2 を除く部分の濃度値は同じにな
る)。そこで、検査ラインL1 〜Ln ごとに濃度測定値
(x,y) で求めた濃度の最頻値(モード)M1 〜Mn
求める。
By the way, A / D conversion is performed as described above.
Concentration is a discrete value instead of a continuous value.
For example, it has 256 values. Therefore, the concentration measurement
Point P (x, y)Is set properly, one check
Inspection line L1~ LnThe density measurement results in the same value on the
Fixed point P(x, y)Exist (the inspection object Q1Is a plane
Sometimes, inspection window D is ideal1Defect R in0,
Conveyor R1, Groove R TwoDensity values except for
). Therefore, the inspection line L1~ LnConcentration measurement value for each
P(x, y)Mode (mode) M of the density obtained in step1~ MnTo
Ask.

【0020】こうして求めた最頻値M1 〜Mn は、被検
査物Q1 の正常な領域の濃度値に近い値になるはずであ
る。一方、背景が影になる場合には背景の領域の濃度は
最頻値M1 〜Mn よりも低濃度になり、溝部R2 や凹没
した欠陥R0 も最頻値M1 〜Mn よりも低濃度になると
考えられる。また、突出部分などは正反射条件が満たさ
れて最頻値M1 〜Mn よりも高濃度になる部分が生じる
可能性があり、また被検査物Q1 の照明の仕方によって
は背景のほうが最頻値M1 〜Mn より高濃度になる可能
性がある。したがって、最頻値M1 〜Mn を濃度に対す
るしきい値として2値化すれば、検査対象とする領域か
ら除外すべき除外候補画素を抽出できると考えられる。
しかしながら、実際には照度むらなどによって検査対象
とすべき領域でも除外候補画素に含まれてしまうことが
ある。このような不都合が生じないようにするために、
本発明では、最頻値M1 〜Mn に対して高濃度側と低濃
度側とにそれぞれオフセット値WO,BOを設定し、オ
フセット値WO,BOの分だけ最頻値M1 〜Mn を偏移
させることによって、明側の濃度しきい値WSk (=M
k +WO)と暗側の濃度しきい値BSk =(Mk −B
O)とを設定している(S103)。ただし、添字のk
は1〜nの値をとる。
The mode values M 1 to M n obtained in this way should be close to the density values of the normal area of the inspection object Q 1 . On the other hand, when the background is a shadow, the density of the background area is lower than the mode values M 1 to M n , and the groove portion R 2 and the recessed defect R 0 are also the mode values M 1 to M n. It is considered that the concentration becomes lower than that of the above. In addition, a protruding portion or the like may have a portion where the specular reflection condition is satisfied and the density becomes higher than the mode values M 1 to M n, and the background may be different depending on the illumination method of the inspection object Q 1. The density may be higher than the mode values M 1 to M n . Therefore, if the mode M 1 to M n is binarized as a threshold value for the density, it is considered that an exclusion candidate pixel to be excluded from the inspection target area can be extracted.
However, in practice, an area to be inspected may be included in the exclusion candidate pixels due to uneven illuminance or the like. To avoid such inconvenience,
In the present invention, the offset values WO and BO are set on the high density side and the low density side with respect to the mode values M 1 to M n , respectively, and the mode values M 1 to M n are set by the offset values WO and BO. By shifting the light-side density threshold value WS k (= M
k + WO) and the dark side density threshold value BS k = (M k −B
O) is set (S103). Where the subscript k
Takes a value of 1 to n.

【0021】上述したように、検査ウインドウD1 のう
ち被検査物Q1 が占める割合を充分に大きく設定してい
るから、被検査物Q1 について検査対象となる領域に含
まれる画素の濃度は、上記最頻値M1 〜Mn に近い値に
なる。そこで、各濃度測定点P(x,y) について、各検査
ラインL1 〜Ln ごとに設定された濃度しきいWSk
BSk を用いることによって濃度を2値化し、濃度測定
点P(x,y) の濃度が濃度しきい値WSk よりも大きいと
きに明領域候補点とし、濃度測定点P(x,y) の濃度が濃
度しきい値BSk よりも小さいときに暗領域候補点とす
る。ただし、濃度しきい値WSk ,BSk は各検査ライ
ンLk ごとに設定されるから、各検査ラインLk ごとに
異なる濃度しきい値WSk ,BSk を用いることにな
る。
As described above, the proportion of the inspection window D 1 occupied by the inspection object Q 1 is set to be sufficiently large, so that the density of the pixels included in the inspection target area of the inspection object Q 1 is becomes a value closer to the most frequent value M 1 ~M n. Therefore, for each density measurement point P (x, y) , the density threshold WS k , set for each inspection line L 1 to L n ,
The density is binarized by using BS k , and when the density of the density measurement point P (x, y) is larger than the density threshold value WS k, it is determined as a bright area candidate point, and the density measurement point P (x, y) and dark region candidate points when the concentration is smaller than the concentration threshold BS k. However, the concentration threshold WS k, since BS k is set for each inspection line L k, concentration threshold WS k different for each inspection line L k, will be used BS k.

【0022】このように各検査ラインLk ごとに異なる
濃度しきい値WSk ,BSk を用いることにより、光源
の照明方法などによる濃度分布のむらを除去しやすくな
る。この理由を以下に説明する。いま、検査物Q1
特定方向において図6のように濃度分布が傾斜している
ものとする。このような濃度分布は、図6における点A
が点Bよりも光源に近いような場合に生じる。図6にお
いて濃度に段差が生じている部分は欠陥R0 である。こ
のような濃度分布を生じているときには、全領域の平均
濃度を求めて濃度しきい値を設定しても、低コントラス
トの欠陥R0 を検出するのは難しい。このような場合に
は、濃度の傾斜方向に直交するような検査ラインL1
n を設定できれば、各検査ラインL1 〜Ln 上では濃
度に傾斜がほとんど生じないと考えられるから、欠陥R
0 の検出が容易になると考えられる本発明では、各検
査ラインL1 〜Ln ごとに最頻値M1 〜Mn に基づいて
求めた濃度しきい値WSk ,BSk を用いて2値化して
いるから、低コントラストの欠陥R0 も検出しやすく
ることが可能である。
[0022] Thus the concentration threshold WS k different for each inspection line L k, by using a BS k, tends to remove the unevenness of the density distribution by lighting method of the light source. The reason will be described below. Now, it is assumed that the concentration distribution as shown in FIG. 6 is inclined in a specific direction of the object to be inspected Q 1. Such a density distribution is represented by a point A in FIG.
Occurs when the point is closer to the light source than the point B. In FIG. 6, a portion where a step occurs in density is a defect R 0 . When such a density distribution is generated, it is difficult to detect the low-contrast defect R 0 even if the average density of the entire area is calculated and the density threshold is set. In such a case
Are inspection lines L 1 -L which are orthogonal to the concentration gradient direction.
If set to L n, it is considered that hardly is inclined concentration on each inspection line L 1 ~L n, defects R
It is considered that the detection of 0 becomes easy . In the present invention , since each of the inspection lines L 1 to L n is binarized using the density threshold values WS k and BS k obtained based on the mode values M 1 to M n , a defect with low contrast is obtained. R 0 also be easy to detect
It is possible to

【0023】濃度しきい値WSk ,BSk を用いて2値
化した明領域候補点および暗領域候補点からなる除外候
補画素は、それぞれ複数画素が隣接してひとまとまりに
なるのが普通である。つまり、2値画像において同じ画
素値(0または1)のみからなるまとまりが形成される
から、以下では除外候補画素のまとまりを非検査候補領
域D2 と呼ぶ。検査ウインドウD1 の中には図3に示す
ように複数の非検査候補領域D2 が形成されるから、各
非検査候補領域D2 ごとにラベルを付与する(S10
4)。このようにして各非検査候補領域D2 にラベルを
付与した段階では、図4に示すように、欠陥R0 にもラ
ベルが付与されることになる(ラベルが付与された非検
査候補領域D2 を一点鎖線で囲んである)。
Excluded candidate pixels consisting of bright region candidate points and dark region candidate points binarized using the density threshold values WS k , BS k are generally a plurality of pixels adjacent to each other. is there. That is, since the chunks composed of only the same pixel value in the binary image (0 or 1) is formed, in the following referred to unity exclusion candidate pixels and non-inspection candidate region D 2. Since in the examining window D 1 has a plurality of non-inspection candidate region D 2 as shown in FIG. 3 is formed, the label applied to each non-inspection candidate region D 2 (S10
4). In this way, the stage of applying a label to each non-inspection candidate region D 2, as shown in FIG. 4, it becomes that the label is applied to the defect R 0 (non-test candidate label is applied area D 2 is surrounded by a dashed line).

【0024】欠陥R0 は検査対象とする領域に含めなけ
ればならないから、検査対象とする領域を求めるには、
検査ウインドウD1 のうち欠陥R0 を除く各非検査候補
領域D2 を除去する必要がある。この処理を実現するた
めに、各非検査候補領域D2の画素数を計数し、計数値
を非検査領域決定しきい値と比較することによって、ラ
ベル付けされた各非検査候補領域D2 の面積(画素数)
に応じて、非検査候補領域D2 を欠陥R0 と他の領域と
に分類する。非検査候補領域D2 の画素数は、ラベル画
像(各画素の画素値としてラベルとなる数値を与えた画
像)を用いるとすれば、画素値が同じ数値の画素の個数
を計数することで求めることができる。欠陥R0 と他の
領域との区別には、明領域候補点からなる非検査候補領
域D2 に含まれる画素数と、暗領域候補点からなる非検
査候補領域D2 に含まれる画素数とに対して、それぞれ
非検査領域決定しきい値を設定しておき、いずれかの画
素数が非検査領域決定しきい値を越えるときには、その
非検査候補領域D2 は欠陥R0 ではないものとして非検
査領域とする。たとえば、非検査領域決定しきい値を、
明領域候補点からなる非検査候補領域D2 に対してW
T、暗領域候補点からなる非検査候補領域D2 に対して
WBとし、非検査候補領域D2 の画素数をKとする。こ
こで、非検査候補領域D2 が明領域候補点からなるとき
にはK>WTならば、その非検査候補領域D2 を非検査
領域と決定し、非検査候補領域D2 が暗領域候補点から
なるときにはK>BTならば、その非検査候補領域D2
を非検査領域と決定する(S105)。
Since the defect R 0 must be included in the area to be inspected, to find the area to be inspected,
It is necessary to remove the non-test candidate region D 2 except for defective R 0 of the inspection window D 1. To realize this process, counts the number of pixels each non-inspection candidate region D 2, by comparing the count value with the non-inspection area determined threshold, labeled for each non-examination candidate region D 2 Area (number of pixels)
Depending on, to classify non-inspection candidate region D 2 in the defect R 0 and other areas. Number of pixels uninspected candidate region D 2, if the use of the label image (image by use of numerical values the label as a pixel value of each pixel) is determined by the pixel value is counted the number of pixels of the same value be able to. In order to distinguish the defect R 0 from other areas, the number of pixels included in the non-inspection candidate area D 2 composed of bright area candidate points and the number of pixels included in the non-inspection candidate area D 2 composed of dark area candidate points are determined. , A non-inspection area determination threshold is set in advance, and when any of the pixels exceeds the non-inspection area determination threshold, the non-inspection candidate area D 2 is determined not to be the defect R 0. This is a non-inspection area. For example, the non-inspection area determination threshold is
W for the non-inspection candidate area D 2 composed of bright area candidate points
T, and WB for non examination candidate region D 2 consisting of dark region candidate points, the number of pixels uninspected candidate regions D 2 and K. Here, when the non-inspection candidate area D 2 is composed of bright area candidate points, if K> WT, the non-inspection candidate area D 2 is determined as a non-inspection area, and the non-inspection candidate area D 2 is determined from the dark area candidate points. If K> BT, the non-inspection candidate area D 2
Is determined as a non-inspection area (S105).

【0025】以上のようにして決定した非検査領域を検
査ウインドウD1 から除去すれば、残された領域が検査
対象領域になる。すなわち、コンベアR1 ないし背景や
溝部R2 は非検査領域として検査対象領域から除外さ
れ、欠陥R0 は非検査領域にならずに検査対象領域に含
まれる。このようにして求めた検査対象領域について検
査項目に応じた画像処理を行なえば、検査に要する処理
量を少なくして処理効率を向上させることができるので
ある。
[0025] By removing the non-inspection area determined in the above manner from the inspection window D 1, remaining space is inspected area. That is, the conveyor R 1 or the background or the groove R 2 is excluded from the inspection target region as a non-inspection region, and the defect R 0 is not included in the non-inspection region but is included in the inspection target region. By performing image processing according to the inspection item on the inspection target area obtained in this way, the processing amount required for the inspection can be reduced and the processing efficiency can be improved.

【0026】以下に、濃度測定点P(x,y) の配置例につ
いて説明する。上述の例では検査ラインL1 〜Ln の形
状や間隔および濃度測定点P(x,y) の間隔についてとく
に制約がないが、以下の各例では検査ラインL1 〜Ln
は互いに平行かつ直線であるものとする。また、検査ラ
インL1 〜Ln の延長方向をX方向とし、濃度測定点P
(x,y) の配列される平面内において検査ラインL1 〜L
n に直交する方向をY方向とする。
An example of the arrangement of the density measurement points P (x, y) will be described below. Shape and spacing and density measurement point P (x, y) of the inspection line L 1 ~L n in the above example is not particularly constrained for spacing, inspection line L 1 ~L n in the following examples
Are parallel and straight to each other. The extension direction of the inspection lines L 1 to L n is defined as the X direction, and the density measurement point P
Inspection lines L 1 to L 1 in a plane where (x, y) are arranged
The direction orthogonal to n is defined as the Y direction.

【0027】第1には、検査ラインL1 〜Ln の間隔を
一定とし、かつ各検査ラインL1 〜Ln の上での濃度測
定点P(x,y) の間隔を一定にする設定方法がある。ま
た、隣接する各一対の検査ラインL1 〜Ln の濃度測定
点P(x,y) のX方向の位置を一致させる。つまり、検査
ウインドウD1 の中に単位格子が正方形状ないし長方形
状となる格子を設定し、格子点をそれぞれ濃度測定点P
(x,y) としてもよい。このような設定方法を採用すれば
濃度測定点P(x,y) を容易に設定することができる。
First, the interval between the inspection lines L 1 to L n is set to be constant, and the interval between the density measurement points P (x, y) on each of the inspection lines L 1 to L n is set to be constant. There is a way. Further, to match the X position of the density measurement point P of the pair of inspection line L 1 ~L n adjacent (x, y). That is, the inspection window D unit cell in 1 sets a grid of a square or rectangular shape, lattice points each concentration measuring point P
(x, y) may be used. By adopting such a setting method, the density measurement point P (x, y) can be easily set.

【0028】第2には、図7のように、隣合う各一対の
検査ラインL1 〜Ln の間隔を適宜に設定し、各検査ラ
インL1 〜Ln の上での濃度測定点P(x,y) の間隔は一
定とする設定方法がある。また、隣合う各一対の検査ラ
インL1 〜Ln の上の濃度測定点P(x,y) のX方向にお
ける位置は等しくなっている。つまり、濃度測定点P
(x,y) の間隔はX方向では一定、Y方向では任意とす
る。この設定方法では、被検査物Q1 の表面の濃度分布
がY方向に傾斜している場合や、被検査物Q1 の表面に
Y方向に濃度変化の生じるような模様が形成されている
ような場合には、上述のように濃度測定点P(x,y) を設
定すると、検査対象領域の決定精度が高くなる。
Second, as shown in FIG. 7, each pair of adjacent
Inspection line L1~ LnSet the intervals between
Inn L1~ LnMeasurement point P on(x, y)Interval is one
There is a fixed setting method. In addition, each pair of adjacent inspection lines
Inn L1~ LnMeasurement point P above(x, y)In the X direction
The positions are the same. That is, the concentration measurement point P
(x, y)Are constant in the X direction and arbitrary in the Y direction.
You. In this setting method, the inspection object Q1Surface concentration distribution
Is inclined in the Y direction, or the inspection object Q1On the surface of
A pattern that causes a density change in the Y direction is formed
In such a case, as described above, the concentration measurement point P(x, y)Set
Then, the accuracy of determining the inspection target area increases.

【0029】第3には、図8のように、隣接する各一対
の検査ラインL1 〜Ln の間隔を一定とし、各検査ライ
ンL1 〜Ln の上での濃度測定点P(x,y) の間隔も一定
にする設定方法がある。ただし、隣合う検査ラインL1
〜Ln の上での濃度測定点P (x,y) のX方向の位置を、
互いに他の検査ラインL1 〜Ln の上で隣接している一
対の濃度測定点P(x,y) の中央に設定してある。つま
り、濃度測定点P(x,y)がいわゆる千鳥状に配列される
ことになる。このような配列を採用すれば、単位格子を
正方形状ないし長方形状とした場合と各検査ラインL1
〜Ln の上での濃度測定点P(x,y) の間隔が等しいもの
とすれば、X方向の間隔を半分にしたことになり、濃度
測定点P(x,y) の個数が等しいとすれば非検査領域の検
出漏れが少なくなる。つまり、濃度測定点P(x,y) の個
数をできるだけ少なく設定して処理に要する時間を短く
しながらも、非検査領域の検出漏れを少なくすることが
できることになる。
Third, as shown in FIG.
Inspection line L1~ LnOf the inspection line
L1~ LnMeasurement point P on(x, y)Is constant
There is a setting method. However, the adjacent inspection line L1
~ LnMeasurement point P on (x, y)The position in the X direction of
Other inspection lines L to each other1~ LnOne adjacent on
Pair concentration measurement point P(x, y)Is set in the center of Toes
The concentration measurement point P(x, y)Are arranged in a staggered pattern
Will be. By adopting such an arrangement, the unit cell
Square or rectangular shape and each inspection line L1
~ LnMeasurement point P on(x, y)With equal intervals
Then, the interval in the X direction is halved, and the density
Measurement point P(x, y)If the number of
Leakage is reduced. That is, the concentration measurement point P(x, y)Pieces
Set the number as low as possible to reduce processing time
However, it is possible to reduce the omission of detection in the non-inspection area.
You can do it.

【0030】第4には、図8に示した濃度測定点P
(x,y) の設定方法のように、各検査ラインL1 〜Ln
上では隣合う各一対の濃度測定点P(x,y) の間隔を一定
とし、隣接する検査ラインL1 〜Ln の上の濃度測定点
(x,y) 同士はX方向において異なる位置に配置するも
のにおいて、図9のように、隣合う各検査ラインL1
n の間隔を適宜に設定する設定方法がある。このよう
な設定を採用すれば、濃度測定点P(x,y) を千鳥状に配
列した場合と同様に、比較的少数の濃度測定点P(x ,y)
で非検査領域を精度よく抽出することができ、しかも、
被検査物Q1 の表面の濃度分布がY方向に傾斜している
場合や被検査物Q1 の表面にY方向に濃度変化の生じる
ような模様が形成されているような場合に、各検査ライ
ンL1 〜Lnの間隔を適宜に設定することで、検査対象
領域の決定精度が高くなる。
Fourth, the density measurement point P shown in FIG.
(x, y)Each inspection line L1~ Lnof
Above, each pair of adjacent density measurement points P(x, y)Constant spacing
And the adjacent inspection line L1~ LnConcentration measurement point above
P(x, y)Are placed at different positions in the X direction
At this time, as shown in FIG.1~
L nThere is a setting method for appropriately setting the interval of. like this
If a simple setting is adopted, the concentration measurement point P(x, y)Arranged in a staggered pattern
As in the case of a row, a relatively small number of concentration measurement points P(x , y)
Can extract the non-inspection area with high accuracy.
Inspection object Q1Concentration distribution on the surface of is inclined in the Y direction
Case and inspection object Q1Density changes in the Y direction on the surface of
If such a pattern is formed, check each inspection line.
L1~ LnBy setting the interval of
The determination accuracy of the region is increased.

【0031】第5には、図10に示すように、濃度測定
点P(x,y) を各検査ラインL1 〜L n 上で適宜に配列す
る設定方法がある。図10では隣接する各一対の検査ラ
インL1 〜Ln の間隔は一定に設定してある。このよう
な設定は、被検査物Q1 の表面の濃度分布がX方向にお
いて傾斜している場合や、被検査物Q1 の表面にX方向
に濃度変化の生じるような模様が形成されている場合に
適用すれば、検査対象領域の決定精度が高くなる。
Fifth, as shown in FIG.
Point P(x, y)For each inspection line L1~ L nArrange appropriately as above
There are different setting methods. FIG. 10 shows a pair of adjacent inspection lines.
Inn L1~ LnAre set constant. like this
Setting is inspected object Q1Concentration distribution on the surface of
When the inspection object Q1X direction on the surface of
If a pattern that changes the density is formed on the
If applied, the accuracy of determining the inspection target region is increased.

【0032】第6には、図11に示すように、濃度測定
点P(x,y) を各検査ラインL1 〜L n 上で適宜に配列す
るとともに、隣合う検査ラインL1 〜Ln の間隔を適宜
に設定する設定方法がある。このような設定方法は、被
検査物Q1 の表面の濃度分布がX方向およびY方向にお
いて傾斜している場合や、被検査物Q1 の表面にX方向
ないしY方向の濃度変化を伴うような模様が形成されて
いるときに、この設定方法を採用することで、検査対象
領域の決定精度を高めることができる。
Sixth, as shown in FIG.
Point P(x, y)For each inspection line L1~ L nArrange appropriately as above
And the adjacent inspection line L1~ LnAs appropriate
There is a setting method to set. Such a setting method is
Inspection object Q1Concentration distribution on the surface of
When the inspection object Q1X direction on the surface of
Or a pattern with a density change in the Y direction
When this setting method is used,
The accuracy of determining the area can be improved.

【0033】(実施形態2)本実施形態では実施形態1
において求めた非検査領域をさらに補正することによっ
て、非検査領域をより高い精度で求めようとするもので
ある。すなわち、上述のように濃度測定点P(x,y) は1
画素よりも大きい間隔で設定されるのが普通であるか
ら、濃度測定点P(x,y) のみによって非検査領域を決定
すると、図13に示すように、その非検査領域E′は実
際に非検査領域Eとすべき範囲よりも小さくなっている
可能性がある。
(Embodiment 2) In this embodiment, Embodiment 1
By further correcting the non-inspection area obtained in the above, the non-inspection area is to be obtained with higher accuracy. That is, as described above, the concentration measurement point P (x, y) is 1
Normally, the non-inspection area E ′ is set at an interval larger than the pixel. Therefore, when the non-inspection area is determined only by the density measurement point P (x, y) , the non-inspection area E ′ is actually set as shown in FIG. It may be smaller than the range to be set as the non-inspection area E.

【0034】そこで、本実施形態では、実施形態1で求
めた非検査領域E′を拡大補正することによって非検査
領域Eを精度よく決定することを図っている。この処理
を可能とするために、本実施形態では被検査物Q1 の濃
淡画像に濃度に関する微分処理を施し、濃度変化の大き
い部分をエッジとしてあらかじめ抽出してある。この種
の処理は被検査物の輪郭を抽出する場合などに用いる細
線化処理として一般的なものであるが、たとえば、微分
値(隣接画素の濃度の変化率)および微分方向値(隣接
画素の濃度の変化率が小さい方向)を求め、微分値が所
定値以上となる線を1画素の幅で微分方向値の方向に延
長するというような処理になる。このようなエッジを求
めると、非検査領域Eはエッジに囲まれているから、非
検査領域E′を拡大すれば非検査領域E′の外周縁が非
検査領域Eのエッジに接触すると考えられる。
Therefore, in the present embodiment, the non-inspection area E is determined with high accuracy by enlarging and correcting the non-inspection area E 'obtained in the first embodiment. To enable this process, in the present embodiment performs a differential processing on the concentration in the gray-scale image of the object Q 1, it is previously extracted larger portion of the density change as an edge. This type of processing is generally used as a thinning processing used for extracting the contour of the inspection object. For example, for example, a differential value (a change rate of the density of an adjacent pixel) and a differential direction value (a density of an adjacent pixel) are used. A process in which the line in which the differential value is equal to or larger than a predetermined value is extended in the direction of the differential direction value by the width of one pixel. When such an edge is obtained, the non-inspection area E is surrounded by the edge. Therefore, if the non-inspection area E ′ is enlarged, it is considered that the outer peripheral edge of the non-inspection area E ′ contacts the edge of the non-inspection area E. .

【0035】そこで、図12のようにステップS101
〜S105までは実施形態1と同様の手順で処理し、求
めた非検査領域E′について外周縁を拡大補正する。拡
大補正の処理は、次の手順で行なう。まず、非検査領域
E′の外周縁の各濃度測定点P(x,y) を中心とし外側に
向かって渦巻き状に1画素ずつエッジの探索を行なう。
このような探索を行なえば必ずエッジ上の点を検出する
ことができるから、各濃度測定点P(x,y) ごとにエッジ
上の点を検出し、さらに、検出されたエッジ上の点から
エッジを1画素ずつトレースすることにより、エッジを
線としてつなげる。つまり、いずれかの濃度測定点P
(x,y) に対応して検出されたエッジ上の点からエッジを
トレースすると、別の濃度測定点P(x,y) に対応して検
出されたエッジ上の点に到達するから、このような処理
を順次行なえば、エッジを線としてつなぐことができる
(S106)。このようにして求めたエッジが非検査領
域Eのエッジであれば、エッジ上の画素の個数は所定値
以上になり、またエッジ上の微分値の総和は比較的大き
い値になるはずであるから(つまり、非検査領域Eのエ
ッジを挟んで明暗の差が大きいから)、画素の個数およ
び微分値の総和をあらかじめ設定してある決定用しきい
値とそれぞれ比較し、画素の個数および微分値の総和が
それぞれ決定用しきい値を越えているときには、求めた
エッジを非検査領域Eのエッジとして決定する(S10
7)。以後の処理は実施形態1と同様である。
Therefore, as shown in FIG.
Processing up to S105 is performed in the same procedure as in the first embodiment, and the outer peripheral edge of the obtained non-inspection area E 'is enlarged and corrected. The enlargement correction process is performed in the following procedure. First, an edge is searched for one pixel at a time in a spiral shape with each density measurement point P (x, y) on the outer peripheral edge of the non-inspection area E 'as a center.
By performing such a search, a point on the edge can always be detected. Therefore, a point on the edge is detected for each density measurement point P (x, y) , and further, a point on the detected edge is detected. The edges are connected as lines by tracing the edges pixel by pixel. That is, one of the concentration measurement points P
If the edge is traced from a point on the edge detected corresponding to (x, y) , it reaches a point on the edge detected corresponding to another density measurement point P (x, y). By sequentially performing such processing, edges can be connected as lines (S106). If the edge obtained in this way is the edge of the non-inspection area E, the number of pixels on the edge should be equal to or greater than a predetermined value, and the sum of differential values on the edge should be a relatively large value. (In other words, the difference in brightness is large across the edge of the non-inspection area E), the number of pixels and the sum of the differential values are compared with predetermined thresholds for determination, and the number of pixels and the differential values are determined. Are determined as the edges of the non-inspection area E (S10).
7). Subsequent processing is the same as in the first embodiment.

【0036】[0036]

【発明の効果】請求項1の発明では、被検査物の少なく
とも一部領域を含む検査ウインドウの中に検査ラインを
設定するとともに検査ライン上に濃度測定点を設定し、
各検査ラインごとの濃度測定点の濃度の最頻値に基づい
て設定した濃度しきい値を用いて各検査ラインごとに濃
度測定点を2値化するので、2値化に用いる濃度しきい
値が各被検査物に応じて自動的に設定されるという利点
がある。しかも、2値化により得られた除外候補画素の
まとまりである非検査候補領域の中の濃度測定点の個数
を求め、各非検査候補領域を検査ウインドウから除外す
べきか否かを決定して検査対象領域を決定するので、被
検査物の孔や突起あるいは被検査物を搬送するコンベア
のような検査対象外の領域を除外候補画素から除去する
ことが可能であり、結果的に検査対象にならない領域を
十分に除外することができて処理効率の向上につながる
という利点がある。
According to the first aspect of the present invention, an inspection line is set in an inspection window including at least a partial region of an inspection object, and a density measurement point is set on the inspection line.
Since the density measurement point is binarized for each inspection line using the density threshold set based on the mode of the density of the density measurement point for each inspection line, the density threshold used for binarization Is automatically set according to each inspection object. In addition , the number of density measurement points in the non-inspection candidate area, which is a group of exclusion candidate pixels obtained by binarization, is determined, and it is determined whether each non-inspection candidate area should be excluded from the inspection window. Since the target area is determined, it is possible to remove a non-inspection area such as a hole or a protrusion of the inspection object or a conveyor that conveys the inspection object from the exclusion candidate pixels, and as a result, does not become an inspection object. There is an advantage that the region can be sufficiently excluded, leading to an improvement in processing efficiency.

【0037】請求項2の発明は、請求項1の発明の方法
を拡張したものであって、請求項1の発明において求め
た非検査候補領域は濃度測定点の間隔程度の誤差を持ち
実際に非検査領域として検査ウインドウから除外すべき
領域よりも若干小さいことが多いから、非検査候補領域
を拡大するように補正することにより非検査領域を正確
に設定することができる。
The second aspect of the present invention is an extension of the method of the first aspect of the present invention, wherein the non-inspection candidate area obtained in the first aspect of the present invention has an error of about the interval between the density measurement points and actually has an error. Since the non-inspection area is often slightly smaller than the area to be excluded from the inspection window, the non-inspection area can be accurately set by correcting the non-inspection candidate area to be enlarged.

【0038】請求項3ないし請求項8の発明は、検査ラ
インおよび濃度測定点の望ましい設定方法であって、被
検査物の表面の濃度がほぼ均一であれば請求項3のよう
に濃度測定点を均一に分布させるのが望ましく、被検査
物の表面の濃度に何らかの分布が生じているときには、
その分布に応じて請求項4、6、7、8の発明のように
検査ラインの間隔や濃度測定点の間隔を適宜に設定すれ
ばよい。さらに、請求項5、6の発明のように、濃度測
定点を千鳥状に配列すれば、比較的少数の濃度測定点を
用いて非検査領域を精度よく抽出することができる。
The invention according to claims 3 to 8 is a preferred method for setting an inspection line and a density measurement point, wherein the density measurement point is determined if the density of the surface of the inspection object is substantially uniform. Is desirably distributed uniformly, and when there is some distribution in the concentration of the surface of the inspection object,
The intervals between the inspection lines and the intervals between the density measurement points may be appropriately set according to the distribution as in the inventions of claims 4, 6, 7, and 8. Furthermore, if the density measurement points are arranged in a staggered manner as in the inventions of claims 5 and 6, a non-inspection area can be accurately extracted using a relatively small number of density measurement points.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態1の手順を示す流れ図である。FIG. 1 is a flowchart showing a procedure of a first embodiment.

【図2】実施形態1の説明に用いる被検査物を示す図で
ある。
FIG. 2 is a diagram showing an inspection object used for describing the first embodiment.

【図3】実施形態1における被検査物、検査ウインド
ウ、除外候補画素の非検査候補領域などの関係を示す図
である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a relationship between an inspection object, an inspection window, a non-inspection candidate area of an exclusion candidate pixel, and the like in the first embodiment.

【図4】実施形態1において除外候補画素の非検査候補
領域を含んだ状態を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a state including a non-inspection candidate area of an exclusion candidate pixel in the first embodiment.

【図5】実施形態1における濃度測定点の設定例を示す
図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating an example of setting a density measurement point according to the first embodiment.

【図6】実施形態1において検査ラインの設定理由を説
明する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a reason for setting an inspection line in the first embodiment.

【図7】実施形態1における濃度測定点の設定例を示す
図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of setting a density measurement point according to the first embodiment.

【図8】実施形態1における濃度測定点の設定例を示す
図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating an example of setting a density measurement point according to the first embodiment.

【図9】実施形態1における濃度測定点の設定例を示す
図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a setting example of density measurement points according to the first embodiment.

【図10】実施形態1における濃度測定点の設定例を示
す図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating an example of setting a density measurement point according to the first embodiment.

【図11】実施形態1における濃度測定点の設定例を示
す図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating an example of setting a density measurement point according to the first embodiment.

【図12】実施形態2の手順を示す流れ図である。FIG. 12 is a flowchart showing a procedure according to the second embodiment.

【図13】実施形態2の概念を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing the concept of the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 検査ウインドウ D2 非検査候補領域 P(x,y) 濃度測定点 Q1 被検査物 R1 コンベア R2 溝部 R0 欠陥D 1 Inspection window D 2 Non-inspection candidate area P (x, y) concentration measurement point Q 1 Inspection object R 1 Conveyor R 2 Groove R 0 Defect

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 被検査物を含む空間領域を撮像手段によ
り撮像して得た濃淡画像内に被検査物の少なくとも一部
領域を含む検査ウインドウを設定し、検査ウインドウ内
についての被検査物の外観を検査する方法において、検
査ウインドウの中に互いに交差しない複数本の検査ライ
ンを設定するとともに、各検査ライン上に複数個の濃度
測定点を設定し、各検査ラインごとに濃度測定点の濃度
の最頻値を求め、最頻値に対して高濃度側と低濃度側と
の少なくとも一方に規定のオフセット値だけ偏移させた
濃度しきい値を設定するとともに、各検査ラインごとの
濃度しきい値を用いて各検査ラインごとの画素を2値化
することによって検査ウインドウ内から除外候補画素を
抽出した後、隣接する除外候補画素のまとまりである非
検査候補領域の中の濃度測定点の個数を求め、この個数
が所定個数以上である非検査候補領域を非検査領域と
し、検査ウインドウから非検査領域を除外した検査対象
領域についてのみ被検査物の外観を検査することを特徴
とする外観検査方法。
An inspection window including at least a partial region of an inspection object is set in a grayscale image obtained by imaging a spatial region including the inspection object by an imaging unit, and the inspection window of the inspection object in the inspection window is set. In the method of inspecting appearance, a plurality of inspection lines that do not intersect each other are set in an inspection window, and a plurality of density measurement points are set on each inspection line, and the density of the density measurement points is set for each inspection line. Of the mode, set a density threshold shifted from the mode by at least one of the high density side and the low density side by a specified offset value, and set the density threshold for each inspection line. After extracting exclusion candidate pixels from the inspection window by binarizing the pixels for each inspection line using the threshold, the pixels in the non-inspection candidate region, which is a group of adjacent exclusion candidate pixels, are extracted. The number of density measurement points is determined, and a non-inspection candidate area in which the number is equal to or greater than a predetermined number is defined as a non-inspection area, and the appearance of the inspection object is inspected only in an inspection target area excluding the non-inspection area from the inspection window. Features a visual inspection method.
【請求項2】 被検査物を含む空間領域を撮像手段によ
り撮像して得た濃淡画像内に被検査物の少なくとも一部
領域を含む検査ウインドウを設定し、検査ウインドウ内
についての被検査物の外観を検査する方法において、上
記濃淡画像に基づいて画素間の濃度差のピークを通るエ
ッジを求め、検査ウインドウの中に互いに交差しない複
数本の検査ラインを設定するとともに、各検査ライン上
に複数個の濃度測定点を設定し、各検査ラインごとに濃
度測定点の濃度の最頻値を求め、最頻値に対して高濃度
側と低濃度側との少なくとも一方に規定のオフセット値
だけ偏移させた濃度しきい値を設定するとともに、各検
査ラインごとの濃度しきい値を用いて各検査ラインごと
の画素を2値化することによって検査ウインドウ内から
除外候補画素を抽出した後、隣接する除外候補画素のま
とまりである非検査候補領域の中の濃度測定点の個数を
求め、この個数が所定個数以上である非検査候補領域の
外周縁上の各濃度測定点から外向きに上記エッジを探索
し、エッジが検出されるとエッジをトレースすることに
より非検査候補領域の外周を囲むエッジを決定し、決定
されたエッジの画素の個数および画素の微分値の総和を
求め、求めた画素の個数および微分値の総和がそれぞれ
所定値以上であるとエッジ内を非検査領域とし、検査ウ
インドウから非検査領域を除外した検査対象領域につい
てのみ被検査物の外観を検査することを特徴とする外観
検査方法。
2. An inspection window including at least a partial area of an object to be inspected is set in a grayscale image obtained by imaging a spatial area including the object to be inspected by an imaging unit. In the method of inspecting the appearance, an edge passing through the peak of the density difference between pixels is determined based on the grayscale image, a plurality of inspection lines that do not intersect each other are set in the inspection window, and a plurality of inspection lines are set on each inspection line. The number of density measurement points is set, the mode of the density at the density measurement point is determined for each inspection line, and the mode is biased by at least one of the high density side and the low density side by the specified offset value. Extraction candidate pixels are extracted from the inspection window by setting the shifted density threshold and binarizing the pixels for each inspection line using the density threshold for each inspection line. After that, the number of density measurement points in the non-inspection candidate area, which is a group of adjacent exclusion candidate pixels, is determined, and the number is determined from each density measurement point on the outer peripheral edge of the non-inspection candidate area in which the number is equal to or greater than a predetermined number. The edge is searched in the direction, and when the edge is detected, the edge is traced to determine an edge surrounding the outer periphery of the non-inspection candidate area, and the number of pixels of the determined edge and the sum of differential values of the pixels are obtained. If the calculated number of pixels and the sum of the differential values are respectively equal to or more than predetermined values, the inside of the edge is regarded as a non-inspection area, and the appearance of the inspection object is inspected only in the inspection target area excluding the non-inspection area from the inspection window. A visual inspection method characterized by the following.
【請求項3】 各検査ラインを互いに平行な直線とし、
隣合う各一対の検査ラインの間隔と各検査ライン上で隣
合う各一対の濃度測定点の間隔とをそれぞれ一定とし、
かつ隣合う各一対の検査ライン上の濃度測定点の位置を
検査ラインの延長方向において一致させたことを特徴と
する請求項1または請求項2記載の外観検査方法。
3. Each inspection line is a straight line parallel to each other,
The interval between each pair of adjacent test lines and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line are constant,
3. The visual inspection method according to claim 1, wherein the positions of the density measurement points on each pair of adjacent inspection lines are matched in the extension direction of the inspection line.
【請求項4】 各検査ラインを互いに平行な直線とし、
隣合う各一対の検査ラインの間隔を適宜に設定し、各検
査ライン上で隣合う各一対の濃度測定点の間隔を一定と
し、かつ隣合う各一対の検査ライン上の濃度測定点の位
置を検査ラインの延長方向において一致させたことを特
徴とする請求項1または請求項2記載の外観検査方法。
4. Each inspection line is a straight line parallel to each other,
The interval between each pair of adjacent test lines is appropriately set, the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line is fixed, and the position of the density measurement point on each pair of adjacent test lines is determined. 3. The visual inspection method according to claim 1, wherein the inspection lines are aligned in an extension direction of the inspection line.
【請求項5】 各検査ラインを互いに平行な直線とし、
隣合う各一対の検査ラインの間隔と各検査ライン上で隣
合う各一対の濃度測定点の間隔とをそれぞれ一定とし、
かつ隣合う各一対の検査ラインでは互いに他方の検査ラ
イン上の濃度測定点を検査ラインの延長方向において隣
合う各一対の濃度測定点の中央に位置させたことを特徴
とする請求項1または請求項2記載の外観検査方法。
5. Each inspection line is a straight line parallel to each other,
The interval between each pair of adjacent test lines and the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line are constant,
And a pair of adjacent inspection lines, wherein the density measurement points on the other inspection line are located at the center of the pair of adjacent density measurement points in the extension direction of the inspection line. Item 2. An appearance inspection method according to Item 2.
【請求項6】 各検査ラインを互いに平行な直線とし、
隣合う各一対の検査ラインの間隔を適宜に設定し、各検
査ライン上で隣合う各一対の濃度測定点の間隔を一定と
し、かつ隣合う各一対の検査ラインでは互いに他方の検
査ライン上の濃度測定点を検査ラインの延長方向におい
て隣合う各一対の濃度測定点の中央に位置させたことを
特徴とする請求項1または請求項2記載の外観検査方
法。
6. Each inspection line is a straight line parallel to each other,
The interval between each pair of adjacent test lines is appropriately set, the interval between each pair of adjacent density measurement points on each test line is constant, and each pair of adjacent test lines is on the other test line. 3. The appearance inspection method according to claim 1, wherein the density measurement point is located at the center of each of the pair of density measurement points adjacent to each other in the extension direction of the inspection line.
【請求項7】 各検査ラインを互いに平行な直線とし、
隣合う各一対の検査ラインの間隔を一定とし、各検査ラ
イン上で隣合う各一対の濃度測定点の間隔とを適宜に設
定したことを特徴とする請求項1または請求項2記載の
外観検査方法。
7. Each inspection line is a straight line parallel to each other,
3. The visual inspection according to claim 1, wherein an interval between each pair of adjacent inspection lines is constant, and an interval between each pair of adjacent density measurement points on each inspection line is appropriately set. Method.
【請求項8】 各検査ラインを互いに平行な直線とし、
隣合う各一対の検査ラインの間隔と各検査ライン上で隣
合う各一対の濃度測定点の間隔とをそれぞれ適宜に設定
したことを特徴とする請求項1または請求項2記載の外
観検査方法。
8. Each inspection line is a straight line parallel to each other,
3. The visual inspection method according to claim 1, wherein an interval between each pair of adjacent inspection lines and an interval between each pair of adjacent density measurement points on each inspection line are appropriately set.
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