JP3007986B2 - β―ラクタム誘導体の製法 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はβ−ラクタム誘導体の新規な製造法に関す
る。
る。
従来の技術 従来、一般式 [式中R1は水素原子、C1-4のアルキル基又はC1-4のハロ
アルキル基を、R2は水素原子、C1-4のアルキル基又は置
換基を有することのあるフェニル基を夫々示す。Aは基 を示し、之等各基中 R3はアミノ基又は保護されたアミノ基を、 R4は水素原子又はカルボン酸保護基を、また R5及びR6は夫々水酸基又は保護された水酸基と水素原
子とを示すか或は両者で基=O又は基 を示す。該基においてR7は水素原子、C1-4のアルキル
基、置換基を有することのあるフェニル基又は基−COOR
8(R8は水素原子又はC1-4のアルキル基である)を示
す。更にXは水素原子、ハロゲン原子、水酸基又は保護
された水酸基を示し、Yは基−SO2Ar又は−SAr(Arは置
換基を有することのあるアリール基又は置換基を有する
ことのある含窒素芳香族複素環基である)を示す。] で表わされるアルケニル基置換β−ラクタム誘導体か
ら、一般式 [式中R1及びAは前記に同じ。] で表わされるβ−ラクタム誘導体及び/又は構造的に可
能な場合はその相当するエノール互変異性体を製造する
方法としては、オゾンを用いる方法[特開昭50−129590
号公報、特開昭51−98265号公報等]が専ら知られてい
る。
アルキル基を、R2は水素原子、C1-4のアルキル基又は置
換基を有することのあるフェニル基を夫々示す。Aは基 を示し、之等各基中 R3はアミノ基又は保護されたアミノ基を、 R4は水素原子又はカルボン酸保護基を、また R5及びR6は夫々水酸基又は保護された水酸基と水素原
子とを示すか或は両者で基=O又は基 を示す。該基においてR7は水素原子、C1-4のアルキル
基、置換基を有することのあるフェニル基又は基−COOR
8(R8は水素原子又はC1-4のアルキル基である)を示
す。更にXは水素原子、ハロゲン原子、水酸基又は保護
された水酸基を示し、Yは基−SO2Ar又は−SAr(Arは置
換基を有することのあるアリール基又は置換基を有する
ことのある含窒素芳香族複素環基である)を示す。] で表わされるアルケニル基置換β−ラクタム誘導体か
ら、一般式 [式中R1及びAは前記に同じ。] で表わされるβ−ラクタム誘導体及び/又は構造的に可
能な場合はその相当するエノール互変異性体を製造する
方法としては、オゾンを用いる方法[特開昭50−129590
号公報、特開昭51−98265号公報等]が専ら知られてい
る。
しかしながら、上記オゾンを用いる方法は、特殊な装
置を必要とする上に、オゾン酸化反応の中間体として極
めて爆発性の高いオゾニドの生成は避けられず、そのた
めに危険な作業が伴われる不利がある。更に上記オゾン
酸化反応は希薄溶液形態で極低温で行なわなければなら
ず、これが工業的実施を困難としている。
置を必要とする上に、オゾン酸化反応の中間体として極
めて爆発性の高いオゾニドの生成は避けられず、そのた
めに危険な作業が伴われる不利がある。更に上記オゾン
酸化反応は希薄溶液形態で極低温で行なわなければなら
ず、これが工業的実施を困難としている。
以上のように前記一般式(1)で表わされるアルケニ
ル置換β−ラクタム誘導体を原料としてそのオゾン酸化
により一般式(2)で表わされるβ−ラクタム誘導体を
製造する従来の方法は、工業化が困難であり、改善され
るべき種々の欠点を有している。
ル置換β−ラクタム誘導体を原料としてそのオゾン酸化
により一般式(2)で表わされるβ−ラクタム誘導体を
製造する従来の方法は、工業化が困難であり、改善され
るべき種々の欠点を有している。
発明が解決しようとする課題 従って、本発明の目的は上記従来法に見られる欠点を
すべて解消して、安全且つ簡便で、しかも充分に工業的
実施が可能で、更に高収率、高純度で前記一般式(1)
で表わされる誘導体より一般式(2)で表わされる誘導
体及び/又はその相当するエノール互変異性体を製造で
きる新しい方法を提供することにある。
すべて解消して、安全且つ簡便で、しかも充分に工業的
実施が可能で、更に高収率、高純度で前記一般式(1)
で表わされる誘導体より一般式(2)で表わされる誘導
体及び/又はその相当するエノール互変異性体を製造で
きる新しい方法を提供することにある。
課題を解決するための手段 本発明者らは、上記目的より鋭意検討を重ねた結果、
上記一般式(1)の誘導体の酸化反応がある特定の酸化
剤の利用により良好に進行することが見出だすと共に該
酸化剤の利用によれば、上記目的が悉く達成されること
を見出だし、ここに本発明を完成するに至った。
上記一般式(1)の誘導体の酸化反応がある特定の酸化
剤の利用により良好に進行することが見出だすと共に該
酸化剤の利用によれば、上記目的が悉く達成されること
を見出だし、ここに本発明を完成するに至った。
即ち、本発明によれば、前記一般式(1)で表わされ
るアルケニル基置換β−ラクタム誘導体を、ルテニウム
触媒又はレニウム触媒の存在下に過ヨウ素酸又はその塩
にて酸化して、前記一般式(2)で表わされるβ−ラク
タム誘導体及び/又は構造的に可能な場合はその相当す
るエノール互変異性体を得ることを特徴とするβ−ラク
タム誘導体の製造法が提供される。
るアルケニル基置換β−ラクタム誘導体を、ルテニウム
触媒又はレニウム触媒の存在下に過ヨウ素酸又はその塩
にて酸化して、前記一般式(2)で表わされるβ−ラク
タム誘導体及び/又は構造的に可能な場合はその相当す
るエノール互変異性体を得ることを特徴とするβ−ラク
タム誘導体の製造法が提供される。
本発明方法によれば、上記ルテニウム触媒又はレニウ
ム触媒と過ヨウ素酸又はその塩との組み合わせ利用に基
づいて、安全且つ簡便に、しかも工業的に、また高収
率、高純度で前記一般式(1)で表わされる誘導体より
一般式(2)で表わされる誘導体及び/又はその相当す
るエノール互変異性体を製造することができる。
ム触媒と過ヨウ素酸又はその塩との組み合わせ利用に基
づいて、安全且つ簡便に、しかも工業的に、また高収
率、高純度で前記一般式(1)で表わされる誘導体より
一般式(2)で表わされる誘導体及び/又はその相当す
るエノール互変異性体を製造することができる。
本明細書において、C1-4のアルキル基の具体例として
は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基等を例示でき
る。
は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n
−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基等を例示でき
る。
C1-4のハロアルキル基としては、塩素原子、臭素原
子、沃素原子等のハロゲン原子が1〜3個置換したメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル基等を例示できる。
子、沃素原子等のハロゲン原子が1〜3個置換したメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル基等を例示できる。
置換基を有することのあるフェニル基における置換基
としては、具体的には弗素原子、塩素原子、臭素原子、
沃素原子等のハロゲン原子;メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−
ブチル基等のC1-4のアルキル基;メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、tert−ブトキシ基等のC1-4のアルコキシ基;ニトロ
基;シアノ基;アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ基等のC1-4のアルキ
ル基を置換基として有することのあるアミノ基;水酸
基;アセトキシ基;メルカプト基;メチルチオ基;アセ
チルチオ基;アセチル基等を例示できる。之等の各置換
基は同一種又は又は異なる種より夫々1〜5個の範囲で
適宜組み合わせてフェニル基置換基として存在すること
ができる。
としては、具体的には弗素原子、塩素原子、臭素原子、
沃素原子等のハロゲン原子;メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−
ブチル基等のC1-4のアルキル基;メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキ
シ、tert−ブトキシ基等のC1-4のアルコキシ基;ニトロ
基;シアノ基;アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ基等のC1-4のアルキ
ル基を置換基として有することのあるアミノ基;水酸
基;アセトキシ基;メルカプト基;メチルチオ基;アセ
チルチオ基;アセチル基等を例示できる。之等の各置換
基は同一種又は又は異なる種より夫々1〜5個の範囲で
適宜組み合わせてフェニル基置換基として存在すること
ができる。
保護されたアミノ基としては、プロテクティブ グル
ープ イン オーガニック シンセシス(Protective G
roups in Organic Synthesis、Theodora W.Greene著、
以下単に「文献」という)の第7章(第218〜287頁)に
記載されている各種の基の他、フェノキシアセトアミ
ド、p−メチルフェノキシアセトアミド、p−メトキシ
フェノキシアセトアミド、p−クロロフェノキシアセト
アミド、p−ブロモフェノキシアセトアミド、フェニル
アセトアミド、p−メチルフェニルアセトアミド、p−
メトキシフェニルアセトアミド、p−クロロフェニルア
セトアミド、p−ブロモフェニルアセトアミド、フェニ
ルモノクロロアセトアミド、フェニルジクロロアセトア
ミド、フェニルヒドロキシアセトアミド、フェニルアセ
トキシアセトアミド、α−オキソフェニルアセトアミ
ド、チエニルアセトアミド、ベンゾアミド、p−メチル
ベンズアミド、p−メトキシベンズアミド、p−クロロ
ベンズアミド、p−ブロモベンズアミド、フェニルグル
シルアミドやアミノ基の保護されたフェニルグリシルア
ミド、p−ピドロキシフェニルグリシルアミドやアミノ
基及び水酸基の一方又は両方が保護されたp−ヒドロキ
シフェニルグリシムアミド等を例示できる。フェニルグ
リシルアミド及びp−ヒドロキシフェニルグリシルアミ
ドのアミノ基の保護基としては、上記文献の第7章(第
218〜287頁)に記載されている各種基を例示できる。ま
たp−ヒドロキシフェニルグリシルアミドの水酸基の保
護基としては、上記文献の第2表(第10〜72頁)に記載
されている各種基を例示できる。
ープ イン オーガニック シンセシス(Protective G
roups in Organic Synthesis、Theodora W.Greene著、
以下単に「文献」という)の第7章(第218〜287頁)に
記載されている各種の基の他、フェノキシアセトアミ
ド、p−メチルフェノキシアセトアミド、p−メトキシ
フェノキシアセトアミド、p−クロロフェノキシアセト
アミド、p−ブロモフェノキシアセトアミド、フェニル
アセトアミド、p−メチルフェニルアセトアミド、p−
メトキシフェニルアセトアミド、p−クロロフェニルア
セトアミド、p−ブロモフェニルアセトアミド、フェニ
ルモノクロロアセトアミド、フェニルジクロロアセトア
ミド、フェニルヒドロキシアセトアミド、フェニルアセ
トキシアセトアミド、α−オキソフェニルアセトアミ
ド、チエニルアセトアミド、ベンゾアミド、p−メチル
ベンズアミド、p−メトキシベンズアミド、p−クロロ
ベンズアミド、p−ブロモベンズアミド、フェニルグル
シルアミドやアミノ基の保護されたフェニルグリシルア
ミド、p−ピドロキシフェニルグリシルアミドやアミノ
基及び水酸基の一方又は両方が保護されたp−ヒドロキ
シフェニルグリシムアミド等を例示できる。フェニルグ
リシルアミド及びp−ヒドロキシフェニルグリシルアミ
ドのアミノ基の保護基としては、上記文献の第7章(第
218〜287頁)に記載されている各種基を例示できる。ま
たp−ヒドロキシフェニルグリシルアミドの水酸基の保
護基としては、上記文献の第2表(第10〜72頁)に記載
されている各種基を例示できる。
カルボン酸保護基としては、上記文献の第5章(第15
2〜192頁)に記載の各種の基の他、ベンジル基、p−メ
トキシベンジル基、p−ニトロベンジル基、ジフェニル
メチル基、トリクロロエチル基、tert−ブチル基等を例
示できる。
2〜192頁)に記載の各種の基の他、ベンジル基、p−メ
トキシベンジル基、p−ニトロベンジル基、ジフェニル
メチル基、トリクロロエチル基、tert−ブチル基等を例
示できる。
保護された水酸基の保護基としては、上記文献の第2
章(第10〜72頁)に記載の各種の基の他、メチル基、エ
チル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ベンジル
基、p−メチルベンジル基、p−メトキシベンジル基、
ジフェニルメチル基、トリメチルシリル基、tert−ブチ
ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、フェニルジ
メチルシリル基、アセチル基等を例示できる。
章(第10〜72頁)に記載の各種の基の他、メチル基、エ
チル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ベンジル
基、p−メチルベンジル基、p−メトキシベンジル基、
ジフェニルメチル基、トリメチルシリル基、tert−ブチ
ルジメチルシリル基、トリエチルシリル基、フェニルジ
メチルシリル基、アセチル基等を例示できる。
ハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原
子、沃素原子等を例示できる。
子、沃素原子等を例示できる。
Arで示される置換基を有することのあるアリール基と
しては、フェニル基、ナフチル基等の無置換アリール基
及び以下の置換基の1個又は以下の置換基の同一種又は
異なる種の複数個(例えばアリール基がフェニル基の場
合は5個まで、ナフチル基の場合は7個まで)を有する
置換アリール基を例示できる。上記置換基としては、具
体的には弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等の
ハロゲン原子;メチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基等の
C1-4のアルキル基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブト
キシ基等のC1-4のアルコキシ基;メチルチオ、エチルチ
オ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチル
チオ、イソブチルチオ、tert−ブチルチオ基等のC1-4の
アルキルチオ基;アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ基等のC1-4のアルキ
ル基の1〜2個を置換基として有することのあるアミノ
基;水酸基;ニトロ基;シアノ基;フェニル基;−OCOR
9(R9はフェニル基、トリル基又はC1-4アルキル基であ
る)で示されるアシルオキシ基;−COR9(R9は上記に同
じ)で示されるアシル基等を例示できる。
しては、フェニル基、ナフチル基等の無置換アリール基
及び以下の置換基の1個又は以下の置換基の同一種又は
異なる種の複数個(例えばアリール基がフェニル基の場
合は5個まで、ナフチル基の場合は7個まで)を有する
置換アリール基を例示できる。上記置換基としては、具
体的には弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等の
ハロゲン原子;メチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル基等の
C1-4のアルキル基;メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、tert−ブト
キシ基等のC1-4のアルコキシ基;メチルチオ、エチルチ
オ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチル
チオ、イソブチルチオ、tert−ブチルチオ基等のC1-4の
アルキルチオ基;アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ基等のC1-4のアルキ
ル基の1〜2個を置換基として有することのあるアミノ
基;水酸基;ニトロ基;シアノ基;フェニル基;−OCOR
9(R9はフェニル基、トリル基又はC1-4アルキル基であ
る)で示されるアシルオキシ基;−COR9(R9は上記に同
じ)で示されるアシル基等を例示できる。
また同Arで示される置換基を有することのある含窒素
芳香族複素環基としては、具体的には 基等の無置換含窒素芳香族複素環基及び上記置換アリー
ル基における置換基と同一の置換基の1個又は複数個を
有する置換含窒素芳香族複素環基位を例示できる。
芳香族複素環基としては、具体的には 基等の無置換含窒素芳香族複素環基及び上記置換アリー
ル基における置換基と同一の置換基の1個又は複数個を
有する置換含窒素芳香族複素環基位を例示できる。
本発明方法においては、前記一般式(1)で表わされ
るアルケニル置換β−ラクタム誘導体を、ルテニウム触
媒又はレニウム触媒の存在下に過ヨウ素酸又はその塩に
て酸化することを必須とする。
るアルケニル置換β−ラクタム誘導体を、ルテニウム触
媒又はレニウム触媒の存在下に過ヨウ素酸又はその塩に
て酸化することを必須とする。
ここでルテニウム触媒としては、酸化物、ハロゲン化
物、錯塩等の各種形態の公知のルテニウム化合物をいず
れも用いることができる。その具体例としては、例えば
Ru(CO)5、Ru(CO)9、Ru3(CO)12、Ru(NO)5、R
u(CO)4、Ru(CO)Br、Ru(CO2)C2、Ru(CO2)B
r2、Ru(CO)2I2、Ru(NO)Br2、Ru(NO)I2、H4[Ru
(CN)6]、Na4[Ru(CN)6]、K4[Ru(CN)6]、C
a2[Ru(CN)6]、Sr2[Ru(CN)6]、Ba2[Ru(CN)
6]、[Ru(phen)3]C2、[Ru(phen)3]I2、
[Ru(pehn)3](CO4)2、RuS2、RuSe2、RuTe2、
RuC3、RuBr3、RuI3、Na3[RlC6]、K3[RuC
6]、Na2[RuC5(OH)2]、K2[RuC5(OH)
2]、Na2[RuC5(NO)]、K2[RuC5(NO)]、
[Ru(NH3)6]C3、[Ru(NH3)6]Br3、[Ru(N
H3)6]I3、Ru(acac)3、RuO2、Na2[RuC6]、K2
[RuC6]、Na4[C5RuORuC5]、RuF5、H2Ru
O4、(NH4)2RuO4、Na2RuO4、K2RuO4、NaRuO4、KRuO4、
RuO4等を例示できる。之等のルテニウム化合物は水和物
の形態でも本発明に有利に使用するとができる。上記の
内では特にRuC3、RuBr3、RuI3、RuO2が好ましい。
物、錯塩等の各種形態の公知のルテニウム化合物をいず
れも用いることができる。その具体例としては、例えば
Ru(CO)5、Ru(CO)9、Ru3(CO)12、Ru(NO)5、R
u(CO)4、Ru(CO)Br、Ru(CO2)C2、Ru(CO2)B
r2、Ru(CO)2I2、Ru(NO)Br2、Ru(NO)I2、H4[Ru
(CN)6]、Na4[Ru(CN)6]、K4[Ru(CN)6]、C
a2[Ru(CN)6]、Sr2[Ru(CN)6]、Ba2[Ru(CN)
6]、[Ru(phen)3]C2、[Ru(phen)3]I2、
[Ru(pehn)3](CO4)2、RuS2、RuSe2、RuTe2、
RuC3、RuBr3、RuI3、Na3[RlC6]、K3[RuC
6]、Na2[RuC5(OH)2]、K2[RuC5(OH)
2]、Na2[RuC5(NO)]、K2[RuC5(NO)]、
[Ru(NH3)6]C3、[Ru(NH3)6]Br3、[Ru(N
H3)6]I3、Ru(acac)3、RuO2、Na2[RuC6]、K2
[RuC6]、Na4[C5RuORuC5]、RuF5、H2Ru
O4、(NH4)2RuO4、Na2RuO4、K2RuO4、NaRuO4、KRuO4、
RuO4等を例示できる。之等のルテニウム化合物は水和物
の形態でも本発明に有利に使用するとができる。上記の
内では特にRuC3、RuBr3、RuI3、RuO2が好ましい。
またレニウム触媒としては、酸化分、硫化物、ハロゲ
ン化物、錯塩等の各種形態の公知のルテニウム化合物を
いずれも用いることができる。その具体例としては、例
えばRe2O3、ReC3、ReBr3、Na[ReC4]、K[ReC
4]、ReO2、Na2ReO3、K2ReO3、ReS2、ReF4、K2[ReC
6]、Cs2[ReC6]、(NH4)2[ReC6]、NaRe
O3、KReO3、K2[ReOC5]、(NH4)2[ReOC5]、
ReC5、ReO3、Na2ReO4、K2ReO4、ReF6、ReOF4、ReO2F
2、ReOC4、Re2O7、NaR4O4、KReO4、Re2S7、NaReO
3S、KReO3S、ReO3C、ReO3Br等の例示できる。之等の
レニウム化合物もまた水和物の形態でも本発明に使用で
きる。上記の内では特にRe2O7が好ましい。
ン化物、錯塩等の各種形態の公知のルテニウム化合物を
いずれも用いることができる。その具体例としては、例
えばRe2O3、ReC3、ReBr3、Na[ReC4]、K[ReC
4]、ReO2、Na2ReO3、K2ReO3、ReS2、ReF4、K2[ReC
6]、Cs2[ReC6]、(NH4)2[ReC6]、NaRe
O3、KReO3、K2[ReOC5]、(NH4)2[ReOC5]、
ReC5、ReO3、Na2ReO4、K2ReO4、ReF6、ReOF4、ReO2F
2、ReOC4、Re2O7、NaR4O4、KReO4、Re2S7、NaReO
3S、KReO3S、ReO3C、ReO3Br等の例示できる。之等の
レニウム化合物もまた水和物の形態でも本発明に使用で
きる。上記の内では特にRe2O7が好ましい。
上記ルテニウム触媒及びレニウム触媒の使用量として
は、理論的には1分子が反応系に存在すればよいわけで
あるが、通常一般式(1)で表わされる化合物に対して
約0.0001〜0.5倍モル程度、好ましくは約0.001〜0.2倍
モル量程度の範囲から選択されるのがよい。
は、理論的には1分子が反応系に存在すればよいわけで
あるが、通常一般式(1)で表わされる化合物に対して
約0.0001〜0.5倍モル程度、好ましくは約0.001〜0.2倍
モル量程度の範囲から選択されるのがよい。
本発明方法において用いられる過ヨウ素酸又はその塩
としては、オルト過ヨウ素酸、メタ過ヨウ素酸及びこれ
らの塩類を例示でき、好ましくはメタ過ヨウ素酸及びそ
の塩類が使用され、特に好ましくはメタ過ヨウ素酸及び
そのアルカリ金属塩類が使用される。
としては、オルト過ヨウ素酸、メタ過ヨウ素酸及びこれ
らの塩類を例示でき、好ましくはメタ過ヨウ素酸及びそ
の塩類が使用され、特に好ましくはメタ過ヨウ素酸及び
そのアルカリ金属塩類が使用される。
上記過ヨウ素酸又はその塩の使用量としては、反応さ
せる化合物の種類によって変化するが、通常一般式
(1)で表わされる化合物が1個のアルケニル基で置換
されている場合は、該化合物(1)に対して1〜15倍モ
ル量程度、好ましくは1〜8倍モル量程度の範囲から選
ぶのがよく、一般式(1)で表わされる化合物が2個の
アルケニル基で置換されている場合は、上記の2倍量を
用いるのがよい。
せる化合物の種類によって変化するが、通常一般式
(1)で表わされる化合物が1個のアルケニル基で置換
されている場合は、該化合物(1)に対して1〜15倍モ
ル量程度、好ましくは1〜8倍モル量程度の範囲から選
ぶのがよく、一般式(1)で表わされる化合物が2個の
アルケニル基で置換されている場合は、上記の2倍量を
用いるのがよい。
本発明の酸化反応は、有機溶媒又は含水有機溶媒中、
或は水と溶け合わない有機溶媒の場合には水との2層系
中で行なわれる。上記有機溶媒としては、一般式(1)
の化合物を溶解し且つ該反応の条件下で不活性なもので
ある限り従来公知のものを広く使用できる。その具体例
としては例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール
等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロ
ピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエスエル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケト
ン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
エチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、パレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロメタン、クロロホルム、ジクロエタン、トリ
クロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロライ
ド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素類、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭
化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘ
プタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。之等は
1種単独で2種以上混合して使用される。また之等の有
機溶媒には、必要に応じて水が含有されていてもよい。
かかる溶媒は、一般式(1)の化合物1kg当り、通常0.5
〜200程度、好ましくは1〜50程度使用されるのが
よい。
或は水と溶け合わない有機溶媒の場合には水との2層系
中で行なわれる。上記有機溶媒としては、一般式(1)
の化合物を溶解し且つ該反応の条件下で不活性なもので
ある限り従来公知のものを広く使用できる。その具体例
としては例えばメタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ブタノール、tert−ブタノール
等のアルコール類、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロ
ピル、蟻酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル等の低級カルボン酸の低級アルキルエスエル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケト
ン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
エチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、エチル
プロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ジプロピル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテ
ル、メチルセロソルブ、ジメトキシエタン等のエーテル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリ
ル、イソブチロニトリル、パレロニトリル等のニトリル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
アニソール等の置換もしくは未置換の芳香族炭化水素
類、ジクロメタン、クロロホルム、ジクロエタン、トリ
クロルエタン、ジブロムエタン、プロピレンジクロライ
ド、四塩化炭素、フロン類等のハロゲン化炭化水素類、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭
化水素類、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘ
プタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、
ジメチルスルホキシド等を挙げることができる。之等は
1種単独で2種以上混合して使用される。また之等の有
機溶媒には、必要に応じて水が含有されていてもよい。
かかる溶媒は、一般式(1)の化合物1kg当り、通常0.5
〜200程度、好ましくは1〜50程度使用されるのが
よい。
本発明方法における酸化反応の反応温度は、用いられ
る原料化合物、触媒、溶媒等の種類に応じてその好まし
い範囲が変化するが、一般に−20〜50℃程度、好ましく
は−5〜30℃程度の範囲から選択されるのがよい。
る原料化合物、触媒、溶媒等の種類に応じてその好まし
い範囲が変化するが、一般に−20〜50℃程度、好ましく
は−5〜30℃程度の範囲から選択されるのがよい。
上記反応終了後、例えば通常の抽出操作等を行なうこ
とにより、目的とする一般式(2)で表わされるβ−ラ
クタム誘導体及び/又は構造的に可能な場合はその相当
するエノール互変異性体を単離収得し得る。得られる目
的化合物は更に必要に応じて慣用される精製操作、例え
ば再結晶法、カラムクロマトグラフィー等により、精製
することができる。
とにより、目的とする一般式(2)で表わされるβ−ラ
クタム誘導体及び/又は構造的に可能な場合はその相当
するエノール互変異性体を単離収得し得る。得られる目
的化合物は更に必要に応じて慣用される精製操作、例え
ば再結晶法、カラムクロマトグラフィー等により、精製
することができる。
発明の効果 本発明方法によれば、目的とする一般式(2)で表わ
されるβ−ラクタム誘導体及び/又は構造的に可能な場
合はその相当するエノール互変異性体を、特殊な装置を
必要とすることなく、入手容易な設備、薬品等を用い
て、容易に、安全且つ簡便な操作で、しかも高収率、高
純度で製造することができる。
されるβ−ラクタム誘導体及び/又は構造的に可能な場
合はその相当するエノール互変異性体を、特殊な装置を
必要とすることなく、入手容易な設備、薬品等を用い
て、容易に、安全且つ簡便な操作で、しかも高収率、高
純度で製造することができる。
実施例 以下、実施例を挙げて本発明方法を一層明らかにす
る。
る。
実施例 1 上記化合物(1a)をアセト20ml及び水10mlの混合溶媒
に溶かし、この溶液を氷浴で冷却した後、過ヨウ素酸2g
及び二酸化ルテニウム2.2mgを加え、攪拌しながら4時
間反応させた。このようにして得られた反応溶液に水50
mlを加え、酢酸エチル50mlで抽出した。有機層を分液
し、5%ハイポ水溶液10ml、5%重曹水10ml及び飽和食
塩水20mlの混合液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、減圧濃縮することにより、目的とする上記化合
物(2a)を98%の収率で得た。
に溶かし、この溶液を氷浴で冷却した後、過ヨウ素酸2g
及び二酸化ルテニウム2.2mgを加え、攪拌しながら4時
間反応させた。このようにして得られた反応溶液に水50
mlを加え、酢酸エチル50mlで抽出した。有機層を分液
し、5%ハイポ水溶液10ml、5%重曹水10ml及び飽和食
塩水20mlの混合液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で
乾燥し、減圧濃縮することにより、目的とする上記化合
物(2a)を98%の収率で得た。
この物のNMRスペクトルは、別法で合成された該化合
物(2a)のそれと一致した。
物(2a)のそれと一致した。
実施例 2 上記化合物(1b)を実施例1と同様にして反応させ
て、目的とする上記化合物(2b)を96%の収率で得た。
て、目的とする上記化合物(2b)を96%の収率で得た。
この物のNMRスペクトルは、別法で合成された該化合
物(2b)のそれと一致した。
物(2b)のそれと一致した。
実施例 3 上記化合物(1c)を実施例1と同様にして反応させ
て、目的とする上記化合物(2c)を95%の収率で得た。
て、目的とする上記化合物(2c)を95%の収率で得た。
この物のNMRスペクトルは、別法で合成された該化合
物(2c)のそれと一致した。
物(2c)のそれと一致した。
実施例 4 上記化合物(1d)を実施例1と同様にして反応させ
て、目的とする上記化合物(2d)を90%の収率で得た。
て、目的とする上記化合物(2d)を90%の収率で得た。
この物のNMRスペクトルは、別法で合成された該化合
物(2c)のそれと一致した。
物(2c)のそれと一致した。
実施例 5 上記化合物(1a)及び過ヨウ素酸200mgをテトラヒド
ロフラン2mlと水1mlとの混合溶媒に溶解し、この溶液に
Re2O7 5mgを加えて、室温で攪拌しながら21時間反応さ
せた。
ロフラン2mlと水1mlとの混合溶媒に溶解し、この溶液に
Re2O7 5mgを加えて、室温で攪拌しながら21時間反応さ
せた。
このようにして得られた反応溶液に水10mlを加え、酢
酸エチル10mlで抽出し、有機層を分液し、5%ハイポ水
溶液1ml、5%重曹水1ml及び飽和食塩水5mlの混合液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮す
ることにより、上記目的化合物(2a)を85%の収率で得
た。
酸エチル10mlで抽出し、有機層を分液し、5%ハイポ水
溶液1ml、5%重曹水1ml及び飽和食塩水5mlの混合液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮す
ることにより、上記目的化合物(2a)を85%の収率で得
た。
この物のNMRスペクトルは、別法で合成された該化合
物(2a)のそれと一致した。
物(2a)のそれと一致した。
実施例 6 上記化合物(1e)100mgをアセトン2ml及び水1mlの混
合溶媒に溶解させ、この溶液を15℃に冷却した後、過ヨ
ウ素酸200mg及び二酸化ルテニウム1mgを加え、攪拌しな
がら40分間反応させた。
合溶媒に溶解させ、この溶液を15℃に冷却した後、過ヨ
ウ素酸200mg及び二酸化ルテニウム1mgを加え、攪拌しな
がら40分間反応させた。
このようにして得られた反応溶液に水10mlを加え、酢
酸エチル10mlで抽出し、有機層を分液し、5%ハイポ水
溶液1ml、5%重曹水1ml及び飽和食塩水5mlの混合液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮す
ることにより、上記目的化合物(2e)を92%の収率で得
た。
酸エチル10mlで抽出し、有機層を分液し、5%ハイポ水
溶液1ml、5%重曹水1ml及び飽和食塩水5mlの混合液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮す
ることにより、上記目的化合物(2e)を92%の収率で得
た。
NMRスペクトル(CDC3)δ(ppm): 3.60(s,2)H、3.80(s,3H) 4.23(ABq,2H,J=13.0Hz) 4.73(dd,1H,J=5.0Hz,7.0Hz) 5.12(ABq,2H,J=13.0Hz) 5.71(d,1H,J=5.0Hz) 6.27(d,1H,J=7.0Hz) 6.80−8.00(m,14H) 実施例 7 上記化合物(1f)を実施例6と同様に反応させて、上
記目的化合物(2f)を92%の収率で得た。
記目的化合物(2f)を92%の収率で得た。
NMRスペクトル(CDC3)δ(ppm): 3.63(s,2H) 4.20(ABq,2H,J=13.0Hz) 4.76(dd,1H,J=5.0Hz,7.0Hz) 5.72(d,1H,J=5.0Hz) 6.10(d,1H,J=7.0Hz) 6.85(s,1H) 7.05−7.50(m,20H) 実施例 8 上記化合物(1g)を実施例6と同様に反応させて、上
記目的化合物(2g)を90%の収率で得た。
記目的化合物(2g)を90%の収率で得た。
NMRスペクトル(CDC3)δ(ppm): 3.70(s,2H)、3.80(s,3H) 4.23(ABq,2H,J=13.0Hz) 4.94(dd,1H,J=6.0Hz,8.0Hz) 5.15(ABq,2H,J=13.0Hz) 5.78(d,1H,J=6.0Hz) 6.75−7.95(m,14H) 実施例 9 上記化合物(1h)500mgをアセトン10mlに溶解させ、
この溶液に水2.5mlを加えて氷浴で冷却した後、過ヨウ
素酸875mg及びRuC3 5mgを加え、反応温度を3℃とし
て攪拌しながら4時間反応させた。
この溶液に水2.5mlを加えて氷浴で冷却した後、過ヨウ
素酸875mg及びRuC3 5mgを加え、反応温度を3℃とし
て攪拌しながら4時間反応させた。
このようにして得られた反応溶液にハイポ水溶液及び
重曹水を加え、ベンゼンで抽出し、有機層を分液し、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮することによ
り、上記目的化合物(2h)を86%の収率で得た。
重曹水を加え、ベンゼンで抽出し、有機層を分液し、無
水硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧濃縮することによ
り、上記目的化合物(2h)を86%の収率で得た。
NMRスペクトル(CDC3)δ(ppm): 0.05(s,3H)、0.10(s,3H) 0.75(s,9H) 1.55(d,3H,J=12.0Hz) 4.60(m,2H) 4.80(dd,1H,J=6.0Hz,9.0Hz) 5.13(ABq,2H,J=12.0Hz) 5.65(d,1H,J=9.0Hz) 7.15−7.85(m,9H) 9.85(d,1H,J=6.0Hz) 実施例10 上記化合物(1i)を実施例9と同様に反応させて、上
記目的化合物(2i)を85%の収率で得た。
記目的化合物(2i)を85%の収率で得た。
NMRスペクトル(CDC3)δ(ppm): 1.53(d,1H,J=8.5Hz) 4.30−4.80(m,2H) 5.05(dd,1H,J=6.0Hz,8.5Hz) 4.98(ABq,2H,J=22Hz) 5.77(d,1H,J=8.5Hz) 6.90−7.90(m,24H) 10.00(d,1H) 実施例11 上記化合物(1j)[エステル基の結合炭素におけるジ
アステレオマー混合物]を、実施例9と同様に反応させ
て、上記目的化合物(2j)[ジアステレオマー混合物]
を94%の収率で得た。
アステレオマー混合物]を、実施例9と同様に反応させ
て、上記目的化合物(2j)[ジアステレオマー混合物]
を94%の収率で得た。
NMRスペクトル(CDC3)δ(ppm): 1.65,1.39(ss,3H) 3.50−3.95(m,4H) 4.60−4.80(m,1H) 5.18,5.23(ABq,ABq,1H,J=24Hz) 5.10−5.25(m,1H) 5.55,5.62(d,d,1H,J=6.0Hz) 6.65−7.90(m,9H) 9.73,9.81(d,d,1H,J=6.0Hz)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI // C07B 61/00 300 C07D 205/08 U (72)発明者 菊池 亮 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 亀山 豊 徳島県徳島市川内町加賀須野463 大塚 化学株式会社徳島研究所内 (72)発明者 鳥居 滋 岡山県赤磐郡山陽町山陽団地4丁目4― 18 (72)発明者 田中 秀雄 岡山県岡山市芳賀5115―34 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 205/08
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 [式中R1は水素原子、C1-4のアルキル基又はC1-4のハロ
アルキル基を、R2は水素原子、C1-4のアルキル基又は置
換基を有することのあるフェニルを夫々示す。Aは基 を示し、之等各基中R3はアミノ基又は保護されたアミノ
基を、R4は水素原子又はカルボン酸保護基を、またR5及
びR6は夫々水酸基又は保護された水酸基と水素原子とを
示すか或は両者で基=O又は基 を示す。該基においてR7は水素原子、C1-4のアルキル
基、置換基を有することのあるフェニル基又は基−COOR
8(R8は水素原子又はC1-4のアルキル基である)を示
す。更にXは水素原子、ハロゲン原子、水酸基又は保護
された水酸基を示し、Yは基−SO2Ar又は−SAr(Arは置
換基を有することのあるアリール基又は置換基を有する
ことのある含窒素芳香族複素環基である)を示す。] で表わされるアルケニル基置換β−ラクタム誘導体を、
ルテニウム触媒又はレニウム触媒の存在下に過ヨウ素酸
又はその塩にて酸化して、一般式 [式中R1及びAは前記に同じ。] で表わされるβ−ラクタム誘導体及び/又は構造的に可
能な場合はその相当するエノール互変異性体を得ること
を特徴とするβ−ラクタム誘導体の製造法。
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