JP3006985B2 - Display substrate and its mounting structure - Google Patents
Display substrate and its mounting structureInfo
- Publication number
- JP3006985B2 JP3006985B2 JP30667293A JP30667293A JP3006985B2 JP 3006985 B2 JP3006985 B2 JP 3006985B2 JP 30667293 A JP30667293 A JP 30667293A JP 30667293 A JP30667293 A JP 30667293A JP 3006985 B2 JP3006985 B2 JP 3006985B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- wiring
- substrate
- display
- driving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/36—Assembling printed circuits with other printed circuits
- H05K3/361—Assembling flexible printed circuits with other printed circuits
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は表示用基板およびその
実装構造に関する。より詳しくは、液晶表示装置、EL
(エレクトロ・ルミネセンス)表示装置等の表示パネルの
一部を構成する表示用基板と、その実装構造に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display substrate and a mounting structure thereof. More specifically, liquid crystal display devices, EL
(Electroluminescence) The present invention relates to a display substrate constituting a part of a display panel such as a display device, and a mounting structure thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】図5は、従来の一般的な実装方式(駆動
用IC実装方式)で実装されたマトリクス型液晶表示装
置を示している。液晶表示パネル201は、表示用基板
としての下側基板221と上側基板222との間に、図
示しない液晶を封入して構成されている。下側基板22
1には、画素が形成されている表示領域203から周縁
部に向かって延びる多数の配線206,207が設けら
れており、これらの各配線206,207の基板周辺側
端部が電極端子となっている(なお、簡単のため、この
明細書の全体を通して、電極端子は配線に含まれるもの
とする。)。図6に示すように、例えば下側基板221
の配線206は、厚さ3000Å程度のTa膜209
と、その上に設けられた厚さ800Å程度のITO(錫
添加酸化インジウム)膜210との2層構造からなって
いる(例えば特開昭63−195687号公報)。図5
に示すように、実装状態では、下側基板221の配線2
06,207に、それぞれ駆動用IC224,225を
搭載したフレキシブル配線板204,205が接続され
る。詳しくは、図6に示すように、例えばフレキシブル
配線板204は、ポリイミド樹脂からなる基材面217
に、SnやAuなどをメッキしたCu材からなる出力端
子208を有している。下側基板221の配線206の
端部と、フレキシブル配線板206の出力端子208と
が、導電性を有する接続材211を介して接続される。
動作時には、駆動用IC224が出力した表示信号は、
フレキシブル配線板204の出力端子208、接続材2
11、下側基板221の配線206を介して表示領域に
供給される。2. Description of the Related Art FIG. 5 shows a matrix type liquid crystal display device mounted by a conventional general mounting method (driving IC mounting method). The liquid crystal display panel 201 is configured by sealing liquid crystal (not shown) between a lower substrate 221 and an upper substrate 222 as display substrates. Lower substrate 22
1 is provided with a large number of wirings 206 and 207 extending from the display area 203 where the pixels are formed toward the peripheral edge, and the ends of the wirings 206 and 207 on the peripheral side of the substrate serve as electrode terminals. (Note that, for the sake of simplicity, throughout this specification, electrode terminals are included in wiring.) As shown in FIG. 6, for example, the lower substrate 221
Wiring 206 is a Ta film 209 having a thickness of about 3000
It has a two-layer structure of an ITO (tin-added indium oxide) film 210 having a thickness of about 800 ° provided thereon (for example, JP-A-63-195687). FIG.
As shown in the figure, the wiring 2 of the lower substrate 221 is in the mounted state.
06 and 207 are connected to flexible wiring boards 204 and 205 on which driving ICs 224 and 225 are mounted, respectively. Specifically, as shown in FIG. 6, for example, the flexible wiring board 204 is provided with a base material surface 217 made of a polyimide resin.
And an output terminal 208 made of a Cu material plated with Sn, Au, or the like. An end of the wiring 206 of the lower substrate 221 and the output terminal 208 of the flexible wiring board 206 are connected via a conductive connection member 211.
During operation, the display signal output by the driving IC 224 is:
Output terminal 208 of flexible wiring board 204, connection material 2
11, is supplied to the display area via the wiring 206 of the lower substrate 221.
【0003】また、図3は、COG(チップ・オン・グ
ラス)方式によって実装されたマトリクス型液晶表示装
置を示している。液晶表示パネル101は、表示用基板
としての下側基板121と上側基板122との間に、図
示しない液晶を封入して構成されている。下側基板12
1には、画素が形成されている表示領域123から周縁
部に向かって延びる多数の配線が設けられており、これ
らの各配線126a,126bの端部が電極端子となっ
ている。配線126a,127aのさらに基板周辺側
に、上記配線126a,127aと離間した状態で、基
板周辺に向かって延びる配線126b,127bが設け
られている。図4に示すように、例えば下側基板121
の配線126a,配線126bは、いずれも厚さ300
0Å程度のTa膜129と、その上に設けられた厚さ8
00Å程度のITO膜130との2層構造からなってい
る。図3に示すように、実装状態では、下側基板121
の配線126a,127aと配線126b,127bと
の間に、それぞれ駆動用IC124,125が搭載さ
れ、また、配線126b,127bにフレキシブル配線
板133,134が接続される。詳しくは、図4に示す
ように、例えば駆動用IC124は、出力側バンプ電極
128a,入力側バンプ電極128bを有している。こ
れらの出力側バンプ電極128a,入力側バンプ電極1
28bが、導電性を有する接続材131,131を介し
て、それぞれ下側基板121の配線126aの基板周辺
側端部,配線126bの表示領域側端部と接続される。
また、例えばフレキシブル配線板133は、ポリイミド
樹脂からなる基材面137に、SnやAuなどをメッキ
したCu材からなる出力端子135を有している。この
出力端子135が、導電性を有する接続材136を介し
て、下側基板121の配線126bの基板周辺側端部と
接続される。動作時には、電源や入力信号がフレキシブ
ル配線板133の出力端子135,接続材136,配線
126b,接続材131,入力側バンプ電極128bを
介して、駆動用IC124に入力される。そして、駆動
用IC124が出力した表示信号が、出力側バンプ電極
128a,接続材131,配線126aを介して、表示
領域に供給される。FIG. 3 shows a matrix type liquid crystal display device mounted by a COG (chip-on-glass) method. The liquid crystal display panel 101 is configured by sealing liquid crystal (not shown) between a lower substrate 121 and an upper substrate 122 as display substrates. Lower substrate 12
1, a large number of wirings extending from the display region 123 where the pixels are formed toward the peripheral edge are provided, and the ends of the wirings 126a and 126b are electrode terminals. Wirings 126b and 127b extending toward the periphery of the substrate are provided further away from the wirings 126a and 127a on the peripheral side of the substrate than the wirings 126a and 127a. As shown in FIG. 4, for example, the lower substrate 121
The wiring 126a and the wiring 126b have a thickness of 300
A Ta film 129 having a thickness of about 0 ° and a thickness 8 provided thereon.
It has a two-layer structure with an ITO film 130 of about 00 °. As shown in FIG. 3, in the mounted state, the lower substrate 121
The driving ICs 124 and 125 are mounted between the wirings 126a and 127a and the wirings 126b and 127b, respectively, and the flexible wiring boards 133 and 134 are connected to the wirings 126b and 127b. More specifically, as shown in FIG. 4, for example, the driving IC 124 has an output-side bump electrode 128a and an input-side bump electrode 128b. These output-side bump electrode 128a and input-side bump electrode 1
28b are connected to the peripheral end of the wiring 126a of the lower substrate 121 and the display area side end of the wiring 126b via the conductive connecting members 131 and 131, respectively.
Further, for example, the flexible wiring board 133 has an output terminal 135 made of a Cu material plated with Sn, Au, or the like on a base material surface 137 made of a polyimide resin. The output terminal 135 is connected to the peripheral end of the wiring 126b of the lower substrate 121 via the connection member 136 having conductivity. During operation, a power supply and an input signal are input to the driving IC 124 via the output terminal 135 of the flexible wiring board 133, the connecting member 136, the wiring 126b, the connecting member 131, and the input-side bump electrode 128b. Then, the display signal output by the driving IC 124 is supplied to the display area via the output-side bump electrode 128a, the connecting material 131, and the wiring 126a.
【0004】上記いずれの液晶表示装置も、表示用基板
の配線206,207(図5,図6),配線126a,
126b,127a,127b(図3,図4)をTa膜
とITO膜との2層構造としているので、Ta膜上のI
TO膜の存在によって、基板完成後にTa膜の表面が酸
化されるのを防止することができる。なお、Ta膜の面
抵抗は約3Ω/□、ITO膜の面抵抗は約50Ω/□で
あることから、基板の周辺側から表示領域への電源や信
号の供給は、主に下層であるTa膜を通して行われてい
る。In any of the above liquid crystal display devices, the wirings 206 and 207 (FIGS. 5 and 6) of the display substrate, the wiring 126a,
126b, 127a, and 127b (FIGS. 3 and 4) have a two-layer structure of a Ta film and an ITO film.
The presence of the TO film can prevent the surface of the Ta film from being oxidized after the completion of the substrate. Since the sheet resistance of the Ta film is about 3 Ω / □ and the sheet resistance of the ITO film is about 50 Ω / □, the supply of power and signals from the peripheral side of the substrate to the display region is mainly performed in the lower Ta layer. Is done through the membrane.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
の如く表示用基板の配線206,207(図5,図
6),配線126a,126b,127a,127b
(図3,図4)をTa膜とITO膜との2層構造とした
場合、ITO膜形成時に、下層であるTa膜の表面が酸
化される。また、ITO膜をパターン加工する工程で、
リワーク作業を行う場合に、ITO膜用のエッチャント
(塩化第2鉄溶液)によって、Ta膜が侵されて変質す
る。このため、ITO膜とTa膜との間の界面抵抗が大
きくばらつき、歩留が低下するという問題がある。実験
によれば、このような基板作製プロセス中の変動要因に
よって、ITO膜とTa膜との間の界面抵抗はおよそ2
×104〜107Ω・μm2の範囲でばらつくことが判明し
ている。このようにTa膜の表面が酸化され変質して、
ITO膜との界面抵抗が高くなった場合、駆動用ICか
ら表示領域に至るまでの抵抗が増大して、表示信号が歪
み、この結果、表示状態が悪化することになる。この影
響は、表示の高精細化に伴って配線206,207(図
5,図6),配線126a,126b,127a,12
7b(図3,図4)の面積が縮小されると、深刻なもの
となる。例えば、図4に示したCOG実装方式の場合に
は、配線126aの面積は、一般的な実装方式(駆動用
IC実装方式)のものに比して遥かに小さい。このた
め、抵抗の増大分が大きく、表示状態への影響も大きく
なる。また、配線126bの面積は、上記配線126a
に比して大きいものの、電源を供給すべきラインでの抵
抗増大は、増大分が小さいものであっても致命的なもの
となり、駆動用ICの動作状態を著しく悪化させる。However, the wirings 206 and 207 (FIGS. 5 and 6) and the wirings 126a, 126b, 127a and 127b of the display substrate as in the prior art.
When FIGS. 3 and 4 have a two-layer structure of a Ta film and an ITO film, the surface of the lower Ta film is oxidized when the ITO film is formed. In the process of patterning the ITO film,
When performing a reworking operation, the Ta film is affected by the etchant (ferric chloride solution) for the ITO film and is deteriorated. For this reason, there is a problem that the interface resistance between the ITO film and the Ta film varies greatly, and the yield decreases. According to experiments, the interfacial resistance between the ITO film and the Ta film is about 2 due to such a variation factor during the substrate manufacturing process.
It has been found that it varies in the range of × 10 4 to 10 7 Ω · μm 2 . Thus, the surface of the Ta film is oxidized and deteriorated,
When the interface resistance with the ITO film is increased, the resistance from the driving IC to the display area is increased, and the display signal is distorted. As a result, the display state is deteriorated. This effect is caused by the increase in the definition of the display, the wirings 206 and 207 (FIGS. 5 and 6) and the wirings 126a, 126b, 127a and 12a.
When the area of 7b (FIGS. 3 and 4) is reduced, it becomes serious. For example, in the case of the COG mounting method shown in FIG. 4, the area of the wiring 126a is much smaller than that of a general mounting method (driving IC mounting method). For this reason, the increase in resistance is large, and the effect on the display state is also large. The area of the wiring 126b is equal to the area of the wiring 126a.
However, the increase in resistance in the line to which power is to be supplied is fatal even if the increase is small, and significantly degrades the operating state of the driving IC.
【0006】そこで、この発明の目的は、プロセス変動
の影響を受けず高歩留で作製でき、良好な表示品位を得
ることができる表示用基板およびその実装構造を提供す
ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a display substrate which can be manufactured at a high yield without being affected by process variations and can obtain good display quality, and a mounting structure thereof.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の表示用基板は、平面型表示装置の
一部を構成するための表示用基板であって、基板面に、
この基板面の周縁部から内部の表示領域へ信号を伝える
ための配線を有する表示用基板において、上記配線のパ
ターンは、上記基板面に接して設けられたタンタル膜
と、このタンタル膜上に設けられた錫添加酸化インジウ
ム膜とからなる2層膜で形成され、上記配線のパターン
の少なくとも一部の領域で、上記タンタル膜と錫添加酸
化インジウム膜との間にチタン膜が設けられていること
を特徴としている。In order to achieve the above object, a display substrate according to claim 1 is a display substrate for forming a part of a flat panel display device, wherein
In a display substrate having a wiring for transmitting a signal from a peripheral portion of the substrate surface to an internal display area, the wiring pattern is provided on a tantalum film provided in contact with the substrate surface and on the tantalum film. And a titanium film is provided between the tantalum film and the tin-added indium oxide film in at least a part of the wiring pattern. It is characterized by.
【0008】また、請求項2に記載の表示用基板の実装
構造は、請求項1に記載の表示用基板を備え、上記配線
のうち上記周縁部に存する部分に、上記信号を発生する
駆動用ICを搭載したフレキシブル配線板の出力端子が
接続されていることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided a mounting structure for a display substrate, comprising the display substrate according to the first aspect, wherein a driving signal for generating the signal is provided in a portion of the wiring existing in the peripheral portion. An output terminal of a flexible wiring board on which an IC is mounted is connected.
【0009】また、請求項3に記載の表示用基板の実装
構造は、請求項1に記載の表示用基板を備え、上記配線
は、上記表示領域から上記周縁部に延びるパターンを持
ち、上記チタン膜が設けられた領域を有する第1の配線
と、上記第1の配線よりも基板周辺側で基板周辺に向か
って延びるパターンを持ち、上記チタン膜が設けられた
領域を有する第2の配線とを含み、上記第1の配線の基
板周辺側の端部に、上記信号を発生する駆動用ICの出
力側電極が接続される一方、上記第2の配線の上記表示
領域側の端部に上記駆動用ICの入力側電極が接続さ
れ、上記第2の配線の上記基板周辺側の端部に、上記駆
動用ICに入力信号を供給するフレキシブル配線板の出
力端子が接続されていることを特徴としている。According to a third aspect of the present invention, there is provided a display substrate mounting structure including the display substrate according to the first aspect, wherein the wiring has a pattern extending from the display area to the peripheral portion, A first wiring having a region provided with a film, and a second wiring having a pattern extending toward the periphery of the substrate on a peripheral side of the substrate with respect to the first wiring and having a region provided with the titanium film. The output side electrode of the driving IC for generating the signal is connected to the end of the first wiring on the substrate peripheral side, and the end of the second wiring is connected to the display area side. An input electrode of a driving IC is connected, and an output terminal of a flexible wiring board for supplying an input signal to the driving IC is connected to an end of the second wiring on the peripheral side of the substrate. And
【0010】また、請求項4に記載の表示用基板の実装
構造は、請求項3に記載の表示用基板の実装構造におい
て、上記第1の配線の上記錫添加酸化インジウム膜と上
記駆動用ICの上記出力側電極、および、上記第2の配
線の上記錫添加酸化インジウム膜と上記駆動用ICの上
記入力側電極が、異方性導電膜を介して接続されている
ことを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the mounting structure of the display substrate according to the third aspect, the tin-added indium oxide film of the first wiring and the driving IC are provided. The output-side electrode, the tin-added indium oxide film of the second wiring, and the input-side electrode of the driving IC are connected via an anisotropic conductive film.
【0011】また、請求項5に記載の表示用基板は、請
求項1に記載の表示用基板において、上記配線は、上記
表示領域から上記周縁部に延びるパターンを持ち、上記
チタン膜が設けられた領域を有する第1の配線と、上記
第1の配線よりも基板周辺側で基板周辺に向かって延び
るパターンを持ち、上記チタン膜が設けられた領域を有
する第2の配線とを含み、少なくとも上記第1の配線の
基板周辺側の端部、および、上記第2の配線の上記表示
領域側の端部で、上記錫添加酸化インジウム膜上にモリ
ブデン膜が設けられていることを特徴としている。According to a fifth aspect of the present invention, in the display substrate according to the first aspect, the wiring has a pattern extending from the display area to the peripheral portion, and the titanium film is provided. And a second wiring having a pattern extending toward the periphery of the substrate on the peripheral side of the substrate with respect to the first wiring and having a region where the titanium film is provided, at least A molybdenum film is provided on the tin-doped indium oxide film at the end of the first wiring on the substrate peripheral side and at the end of the second wiring on the display region side. .
【0012】また、請求項6に記載の表示用基板の実装
構造は、請求項5に記載の表示用基板を備え、上記第1
の配線の基板周辺側の端部の上記モリブデン膜に、上記
信号を発生する駆動用ICの出力側電極が接続される一
方、上記第2の配線の上記表示領域側の端部の上記モリ
ブデン膜に上記駆動用ICの入力側電極が接続され、上
記第2の配線の上記基板周辺側の端部に、上記駆動用I
Cに入力信号を供給するフレキシブル配線板の出力端子
が接続されていることを特徴としている。Further, a mounting structure for a display substrate according to claim 6 includes the display substrate according to claim 5, wherein
The output electrode of the drive IC for generating the signal is connected to the molybdenum film at the end of the wiring on the substrate peripheral side, while the molybdenum film at the display area side end of the second wiring is connected to the molybdenum film. The input side electrode of the driving IC is connected to the driving IC, and the driving I
An output terminal of a flexible wiring board for supplying an input signal to C is connected.
【0013】また、請求項7に記載の表示用基板の実装
構造は、請求項6に記載の表示用基板の実装構造におい
て、上記第1の配線の基板周辺側の端部の上記モリブデ
ン膜と上記駆動用ICの出力側電極、および、上記第2
の配線の上記表示領域側の端部の上記モリブデン膜と上
記駆動用ICの入力側電極が、導電粒子として銀または
銀とパラジウムとからなる合金を含むペースト材を介し
て接続されていることを特徴としている。According to a seventh aspect of the present invention, in the mounting structure of a display substrate according to the sixth aspect, the molybdenum film is provided at an end of the first wiring on a peripheral side of the substrate. An output electrode of the driving IC;
That the molybdenum film at the end of the wiring on the display region side and the input electrode of the driving IC are connected via a paste material containing silver or an alloy of silver and palladium as conductive particles. Features.
【0014】[0014]
【作用】請求項1の表示用基板では、配線を形成するた
めTa(タンタル)膜上にTi(チタン)膜を形成する
時、直接ITO(錫添加酸化インジウム)膜を形成する
場合と異なり、Ta膜表面を酸化させることが無い。ま
た、Ti膜上にITO膜を形成する時、Ti膜表面が酸化
される度合いは、Ta膜表面が酸化される場合に比して
はるかに軽度である。さらに、Ti膜はITO膜用のエ
ッチャント(塩化第2鉄溶液)によって侵されることが
無い。したがって、Ta膜とTi膜との間の界面抵抗、お
よび、Ti膜とITO膜との間の界面抵抗は、従来に比
してプロセス変動の影響を受けにくく、低く安定したも
のとなる。したがって、この表示用基板は高歩留で作製
されるとともに、実装後に良好な表示品位が得られる。
また、今後の表示の高精細化への対応も可能となる。ま
た、上記Ti膜が設けられた領域のITO膜上に絶縁膜
が設けられる一方、上記Ti膜が設けられていない上記
2層膜の領域で上記絶縁膜が除去されているので、Ta
膜、Ti膜、ITO膜からなる3層膜が上記絶縁膜で保
護されるとともに、上記絶縁膜が除去された領域を電極
端子として、その電極端子にフレキシブル配線板の出力
端子や駆動用ICの電極を接続することができる。な
お、上記3層膜上の絶縁膜をも除去してしまうと、絶縁
膜をエッチングした時点でITO膜を通してTi膜が侵
されることになる。According to the display substrate of the first aspect, when a Ti (titanium) film is formed on a Ta (tantalum) film to form a wiring, unlike the case where an ITO (tin-added indium oxide) film is directly formed, There is no oxidation of the Ta film surface. Further, when the ITO film is formed on the Ti film, the degree of oxidation of the surface of the Ti film is much lighter than the case where the surface of the Ta film is oxidized. Further, the Ti film is not affected by the etchant (ferric chloride solution) for the ITO film. Therefore, the interfacial resistance between the Ta film and the Ti film and the interfacial resistance between the Ti film and the ITO film are less affected by process fluctuations than in the prior art, and are low and stable. Therefore, this display substrate can be manufactured with a high yield, and good display quality can be obtained after mounting.
In addition, it is possible to cope with higher definition display in the future. Further, while the insulating film is provided on the ITO film in the region where the Ti film is provided, the insulating film is removed in the region of the two-layer film where the Ti film is not provided.
The three-layer film composed of a film, a Ti film, and an ITO film is protected by the insulating film, and the region from which the insulating film is removed is used as an electrode terminal, and the electrode terminal is used as an output terminal of a flexible wiring board or a driving IC. Electrodes can be connected. If the insulating film on the three-layer film is also removed, the Ti film is attacked through the ITO film when the insulating film is etched.
【0015】請求項2の表示用基板の実装構造では、表
示用基板の配線のパターンの少なくとも一部の領域で、
Ta膜とITOとの間にチタン膜が設けられているの
で、Ta膜とTi膜との間の界面抵抗、および、Ti膜と
ITO膜との間の界面抵抗が低くなる結果、フレキシブ
ル配線板の出力端子から表示領域に至るまでの配線に関
する抵抗(端部での抵抗を含む)が、従来に比して低く
安定な状態にある。したがって、良好な表示品位が得ら
れる。In the display substrate mounting structure according to a second aspect, at least a part of the wiring pattern of the display substrate includes:
Since the titanium film is provided between the Ta film and the ITO film, the interface resistance between the Ta film and the Ti film and the interface resistance between the Ti film and the ITO film are reduced, so that the flexible wiring board is reduced. The resistance (including the resistance at the end) of the wiring from the output terminal to the display area is lower and more stable than before. Therefore, good display quality can be obtained.
【0016】請求項3の表示用基板の実装構造では、表
示用基板の第1,第2配線の各パターンの少なくとも一
部の領域にTi膜が設けられているので、フレキシブル
配線板の出力端子から駆動用ICの入力側電極に至るま
での第1の配線に関する抵抗(端部での抵抗を含む)、
および、駆動用ICの出力側電極から表示領域に至るま
での第2の配線に関する抵抗(端部での抵抗を含む)
が、従来に比して低く安定な状態にある。したがって、
良好な表示品位が得られる。According to the third aspect of the present invention, since the Ti film is provided in at least a part of each of the first and second wiring patterns of the display substrate, the output terminal of the flexible wiring board is provided. From the first wiring to the input electrode of the driving IC (including the resistance at the end),
And the resistance (including the resistance at the end) of the second wiring from the output side electrode of the driving IC to the display area.
However, it is in a low and stable state as compared with the related art. Therefore,
Good display quality can be obtained.
【0017】請求項4の表示用基板の実装構造では、上
記第1の配線のITO膜と上記駆動用ICの出力側電
極、および、上記第2の配線のITO膜と上記駆動用I
Cの入力側電極が、異方性導電膜を介して接続されてい
るので、この異方性導電膜によって駆動用IC(チッ
プ)の下面が保護される。したがって、別途駆動用IC
封止用の樹脂を塗布すること無く、高い信頼性が得られ
る。According to a fourth aspect of the present invention, the ITO film of the first wiring and the output side electrode of the driving IC, and the ITO film of the second wiring and the driving film are connected to each other.
Since the input electrode of C is connected via the anisotropic conductive film, the lower surface of the driving IC (chip) is protected by the anisotropic conductive film. Therefore, a separate driving IC
High reliability can be obtained without applying a sealing resin.
【0018】請求項5の表示用基板では、少なくとも第
1の配線の基板周辺側の端部、および、第2の配線の上
記表示領域側の端部で、上記ITO膜が除去されて上記
タンタル膜上にモリブデン膜が設けられているので、駆
動用ICの出力側電極,入力側電極(一般にAuからな
る)との接続抵抗がさらに低減される。また、請求項1
の表示用基板と同様に、高歩留で作製されるとともに、
実装後に良好な表示品位が得られる。また、今後の表示
の高精細化への対応も可能となる。In the display substrate according to the present invention, the ITO film is removed at least at the end of the first wiring on the substrate peripheral side and at the end of the second wiring on the display area side, and the tantalum is removed. Since the molybdenum film is provided on the film, the connection resistance between the output electrode and the input electrode (generally made of Au) of the driving IC is further reduced. Claim 1
As with the display substrate of the above, while being manufactured with high yield,
Good display quality can be obtained after mounting. In addition, it is possible to cope with higher definition of the display in the future.
【0019】請求項6の表示用基板の実装構造では、上
記モリブデン膜によって、第1の配線の基板周辺側の端
部,第2の配線の表示領域側端部と、駆動用ICの出力
側電極,入力側電極との接続抵抗がさらに低減される。
したがって、フレキシブル配線板の出力端子から駆動用
ICの入力側電極に至るまでの第1の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)、および、駆動用ICの出力側
電極から表示領域に至るまでの第2の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)が、さらに低減される。したが
って、良好な表示品位が得られ、また、接続の信頼性が
高くなる。In the mounting structure of a display substrate according to the present invention, the molybdenum film forms an end of the first wiring on the substrate peripheral side, an end of the second wiring on the display area side, and an output side of the driving IC. The connection resistance between the electrode and the input side electrode is further reduced.
Therefore, the resistance (including the resistance at the end) of the first wiring from the output terminal of the flexible wiring board to the input side electrode of the driving IC, and the resistance from the output side electrode of the driving IC to the display area. The resistance (including the resistance at the end) of the second wiring up to the above is further reduced. Therefore, good display quality can be obtained, and connection reliability can be improved.
【0020】請求項7の表示用基板の実装構造では、導
電粒子として銀または銀とパラジウムとからなる合金を
含むペースト材によって、第1の配線の基板周辺側の端
部,第2の配線の表示領域側端部と、駆動用ICの出力
側電極,入力側電極との接続抵抗がさらに低減される。
したがって、フレキシブル配線板の出力端子から駆動用
ICの入力側電極に至るまでの第1の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)、および、駆動用ICの出力側
電極から表示領域に至るまでの第2の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)が、さらに低減される。したが
って、良好な表示品位が得られ、また、接続の信頼性が
高くなる。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a display substrate mounting structure, wherein the first wiring has a peripheral portion on the substrate side and the second wiring has a paste material containing silver or an alloy of silver and palladium as conductive particles. The connection resistance between the display area side end and the output side electrode and the input side electrode of the driving IC is further reduced.
Therefore, the resistance (including the resistance at the end) of the first wiring from the output terminal of the flexible wiring board to the input side electrode of the driving IC, and the resistance from the output side electrode of the driving IC to the display area. The resistance (including the resistance at the end) of the second wiring up to the above is further reduced. Therefore, good display quality can be obtained, and connection reliability can be improved.
【0021】[0021]
【実施例】図1は、この発明の第1実施例の液晶表示装
置の要部断面を示している。この液晶表示装置はCOG
方式にて実装されており、液晶表示パネル1と、駆動用
IC24と、フレキシブル配線板33を備えている。FIG. 1 is a sectional view of a main part of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention. This liquid crystal display device is COG
The liquid crystal display panel 1, the driving IC 24, and the flexible wiring board 33 are provided.
【0022】液晶表示パネル1は、表示用基板としての
下側基板21と図示しない上側基板との間に、液晶を封
入して構成されている。下側基板21には、画素が形成
されている表示領域(図において左側)から周縁部に向
かって延びる多数の第1の配線46aが設けられてお
り、これらの各配線46aの端部が電極端子となってい
る。第1の配線46aのさらに基板周辺側に、第1の配
線46aと離間した状態で、基板周辺に向かって延びる
第2の配線46bが設けられている。これらの配線46
a,46bのパターンは、下側基板21に接して設けら
れた厚さ3000Å程度のTa膜29と、このTa膜29
上に設けられた厚さ800Å程度のITO膜30とから
なる2層膜で形成されている。そして、上記配線のパタ
ーンの少なくとも一部の領域で、Ta膜29とITO膜
30との間に厚さ3000Å程度のTi膜40が設けら
れている。この例では、Ti膜40は、配線46a,4
6bの端部(電極端子)を除く領域に設けられている。
なお、Ta膜の面抵抗は約3Ω/□、ITO膜の面抵抗
は約50Ω/□、Ti膜の面抵抗は約3Ω/□である。
絶縁膜42は下側基板21のうち配線46a,46bの
端部(電極端子)を除く略全域を覆っている。The liquid crystal display panel 1 is configured such that liquid crystal is sealed between a lower substrate 21 as a display substrate and an upper substrate (not shown). The lower substrate 21 is provided with a large number of first wirings 46a extending from the display area (left side in the figure) where the pixels are formed toward the peripheral edge, and the ends of each of the wirings 46a are connected to the electrodes. Terminal. A second wiring 46b extending toward the periphery of the substrate is provided further away from the first wiring 46a on the peripheral side of the substrate than the first wiring 46a. These wirings 46
The patterns a and b are composed of a Ta film 29 having a thickness of about 3000 ° provided in contact with the lower substrate 21 and a Ta film 29 having a thickness of about 3000 °.
It is formed of a two-layer film composed of an ITO film 30 having a thickness of about 800 ° provided thereon. Then, a Ti film 40 having a thickness of about 3000 ° is provided between the Ta film 29 and the ITO film 30 in at least a part of the wiring pattern. In this example, the Ti film 40 includes the wirings 46a,
6b is provided in a region excluding the end (electrode terminal).
The sheet resistance of the Ta film is about 3Ω / □, the sheet resistance of the ITO film is about 50Ω / □, and the sheet resistance of the Ti film is about 3Ω / □.
The insulating film 42 covers substantially the entire area of the lower substrate 21 except for the ends (electrode terminals) of the wirings 46a and 46b.
【0023】この表示用基板21を作製する工程では、
Ta膜29上にTi膜40を形成する時、直接ITO(錫
添加酸化インジウム)膜30を形成する場合と異なり、
Ta膜29の表面を酸化させることが無い。また、Ti膜
40上にITO膜30を形成する時、Ti膜40の表面
が酸化される度合いは、Ta膜29の表面が酸化される
場合に比して遥かに軽度である。さらに、Ti膜40は
ITO膜30用のエッチャント(塩化第2鉄溶液)によ
って侵されることが無い。したがって、Ta膜29とTi
膜40との間の界面抵抗、および、Ti膜40とITO
膜30との間の界面抵抗は、従来に比してプロセス変動
の影響を受けにくく、低く安定したものとなる。したが
って、この表示用基板1は高歩留で作製することができ
る。また、今後の表示の高精細化への対応も可能とな
る。なお、配線46a,46bの端部にTi40膜を設
けていないのは、絶縁膜42をエッチングした時点で、
ITO膜を通してTi40が侵されるからである。In the process of manufacturing the display substrate 21,
When the Ti film 40 is formed on the Ta film 29, unlike the case where the ITO (tin-added indium oxide) film 30 is directly formed,
The surface of the Ta film 29 is not oxidized. Further, when the ITO film 30 is formed on the Ti film 40, the degree of oxidation of the surface of the Ti film 40 is much lighter than the case where the surface of the Ta film 29 is oxidized. Further, the Ti film 40 is not affected by the etchant (ferric chloride solution) for the ITO film 30. Therefore, the Ta film 29 and Ti
The interfacial resistance between the film 40 and the Ti film 40 and ITO
The interface resistance with the film 30 is less susceptible to process fluctuations than in the prior art, and is low and stable. Therefore, the display substrate 1 can be manufactured with a high yield. In addition, it is possible to cope with higher definition of the display in the future. The reason why the Ti40 film is not provided at the ends of the wirings 46a and 46b is that when the insulating film 42 is etched,
This is because Ti40 is attacked through the ITO film.
【0024】駆動用IC24は、出力側バンプ電極28
a,入力側バンプ電極28bを有している。これらのバ
ンプ電極28a,28bは金メッキにより形成されてい
る。フレキシブル配線板33は、ポリイミド樹脂からな
る基材面37に、SnやAuなどをメッキしたCu材か
らなる出力端子35を有している。The driving IC 24 includes an output-side bump electrode 28
a, input-side bump electrode 28b. These bump electrodes 28a and 28b are formed by gold plating. The flexible wiring board 33 has an output terminal 35 made of a Cu material plated with Sn or Au on a base material surface 37 made of a polyimide resin.
【0025】図示の実装状態では、下側基板21の配線
46aと46bとの間に駆動用IC24が搭載され、ま
た、配線46bにフレキシブル配線板33が接続されて
いる。すなわち、駆動用IC24の出力側バンプ電極2
8a,入力側バンプ電極28bが、異方性導電膜41を
介して、それぞれ下側基板21の配線46aの基板周辺
側端部(電極端子),配線46bの表示領域側端部と接
続されている。また、フレキシブル配線板33の出力端
子35が、異方性導電膜36を介して、下側基板21の
配線46bの基板周辺側端部と接続されている。なお、
異方性導電膜41,36の接続は加熱および加圧によっ
て行われる。In the illustrated mounting state, the driving IC 24 is mounted between the wirings 46a and 46b of the lower substrate 21, and the flexible wiring board 33 is connected to the wiring 46b. That is, the output side bump electrode 2 of the driving IC 24
8a, the input-side bump electrode 28b is connected to the substrate peripheral end (electrode terminal) of the wiring 46a of the lower substrate 21 and the display area side end of the wiring 46b via the anisotropic conductive film 41, respectively. I have. In addition, the output terminal 35 of the flexible wiring board 33 is connected to the peripheral end of the wiring 46 b of the lower substrate 21 via the anisotropic conductive film 36. In addition,
The connection of the anisotropic conductive films 41 and 36 is performed by heating and pressing.
【0026】動作時には、電源や入力信号がフレキシブ
ル配線板33の出力端子35,接続材36,配線46
b,接続材41,入力側バンプ電極28bを介して、駆
動用IC24に供給される。そして、駆動用IC24が
出力した表示信号が、出力側バンプ電極28a,接続材
41,配線46aを介して、表示領域に供給される。In operation, a power supply and an input signal are applied to the output terminal 35, the connecting member 36, and the wiring 46 of the flexible wiring board 33.
b, the connection material 41, and the input side bump electrode 28b, and are supplied to the driving IC 24. Then, the display signal output from the driving IC 24 is supplied to the display area via the output-side bump electrode 28a, the connecting material 41, and the wiring 46a.
【0027】ここで、配線46a,46bの各パターン
の少なくとも一部の領域にTi膜40が設けられている
ので、フレキシブル配線板33の出力端子35から駆動
用IC24の入力側電極28bに至るまでの配線46a
に関する抵抗(端部での抵抗を含む)、および、駆動用
IC24の出力側電極28aから表示領域に至るまでの
配線46bに関する抵抗(端部での抵抗を含む)が、従
来に比して低く安定な状態にある。したがって、良好な
表示品位を得ることができる。また、下側基板21と駆
動用IC24とが異方性導電膜41を介して接続されて
いるので、この異方性導電膜41によって駆動用IC
(チップ)24の下面が保護される。したがって、別途
駆動用IC24封止用の樹脂を塗布すること無く、高い
信頼性を得ることができる。Since the Ti film 40 is provided in at least a part of each pattern of the wirings 46a and 46b, the Ti film 40 extends from the output terminal 35 of the flexible wiring board 33 to the input side electrode 28b of the driving IC 24. Wiring 46a
(Including the resistance at the end) and the resistance (including the resistance at the end) of the wiring 46b from the output electrode 28a of the driving IC 24 to the display area are lower than those in the related art. It is in a stable state. Therefore, good display quality can be obtained. Since the lower substrate 21 and the driving IC 24 are connected via the anisotropic conductive film 41, the driving IC
The lower surface of (chip) 24 is protected. Therefore, high reliability can be obtained without separately applying a resin for sealing the driving IC 24.
【0028】さて、測定用の特別なパターンでの実験に
よれば、上述の表示用基板21の配線46a,46bで
は、プロセスの変動がある場合でも、Ta膜29とTi膜
40との間の界面抵抗が5×102〜8×102Ω・μm2
となり、Ti膜40とITO膜30の間の界面抵抗が5
×102〜2×103Ω・μm2となった。よって、Ta膜
29からTi膜40を介してITO膜30に至るまでの
抵抗は、両者を加えた103〜2.8×103Ω・μm2と
見積もることができた。したがって、Ti膜40を設け
ない場合(従来)の2×104〜107Ω・μm2に比し
て、遥かに低減することができた。また、プロセス変動
によるばらつきも大幅に低減することができた。According to an experiment using a special pattern for measurement, the wirings 46a and 46b of the display substrate 21 described above have a gap between the Ta film 29 and the Ti film 40 even when there is a process variation. Interface resistance is 5 × 10 2 to 8 × 10 2 Ω · μm 2
And the interface resistance between the Ti film 40 and the ITO film 30 becomes 5
× 10 2 to 2 × 10 3 Ω · μm 2 . Therefore, the resistance from the Ta film 29 to the ITO film 30 via the Ti film 40 can be estimated to be 10 3 to 2.8 × 10 3 Ω · μm 2 in which both are added. Therefore, it was able to be reduced much as compared with 2 × 10 4 to 10 7 Ω · μm 2 when the Ti film 40 was not provided (conventional). In addition, the variation due to the process variation was significantly reduced.
【0029】実際に、配線46bに関する抵抗(端部で
の抵抗を含む)は、Ti膜40の面積が約104μm2のと
き3〜4Ωとなり、Ti膜を設けない場合の5〜29Ω
に比して、抵抗の値およびばらつきを大幅に低減するこ
とができた。Actually, the resistance (including the resistance at the end) of the wiring 46b is 3 to 4Ω when the area of the Ti film 40 is about 10 4 μm 2 , and 5 to 29Ω when the Ti film is not provided.
The value and variation of the resistance were significantly reduced as compared with the case of FIG.
【0030】図2は、この発明の第2実施例の液晶表示
装置の要部断面を示している。この液晶表示装置は、第
1実施例と同様にCOG方式にて実装されており、液晶
表示パネル1′と、駆動用IC24と、フレキシブル配
線板33を備えている。なお、簡単のため、同一構成要
素には同一符号を付している。駆動用IC24とフレキ
シブル配線板33は、第1実施例のものと同じであるた
め、説明を省略する。FIG. 2 is a sectional view showing a main part of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention. This liquid crystal display device is mounted by the COG method as in the first embodiment, and includes a liquid crystal display panel 1 ′, a driving IC 24, and a flexible wiring board 33. For the sake of simplicity, the same components are denoted by the same reference numerals. Since the driving IC 24 and the flexible wiring board 33 are the same as those of the first embodiment, the description is omitted.
【0031】液晶表示パネル1′は、表示用基板として
の下側基板21と図示しない上側基板との間に、液晶を
封入して構成されている。下側基板21には、画素が形
成されている表示領域(図において左側)から周縁部に
向かって延びる多数の第1の配線66aが設けられてお
り、これらの各配線66aの端部が電極端子となってい
る。第1の配線66aのさらに基板周辺側に、第1の配
線66aと離間した状態で、基板周辺に向かって延びる
第2の配線66bが設けられている。これらの配線66
a,66bのパターンは、下側基板21に接して設けら
れたTa膜29と、このTa膜29上に設けられたITO
膜30とからなる2層膜で形成されている。そして、上
記配線のパターンの少なくとも一部の領域で、Ta膜2
9とITO膜30との間にチタン膜40が設けられてい
る。第1の配線66aの基板周辺側の端部、および、第
2の配線66bの表示領域側の端部には、Mo膜60が
設けられている。なお、Mo膜の面抵抗は約0.5Ω/
□である。絶縁膜42は下側基板21のうち配線66
a,66bの端部を除く略全域を覆っている。The liquid crystal display panel 1 'is constructed by sealing liquid crystal between a lower substrate 21 as a display substrate and an upper substrate (not shown). The lower substrate 21 is provided with a large number of first wirings 66a extending from the display area (left side in the drawing) where the pixels are formed toward the peripheral edge, and the ends of each of these wirings 66a are connected to the electrodes. Terminal. Further on the substrate peripheral side of the first wiring 66a, there is provided a second wiring 66b extending toward the substrate periphery in a state of being separated from the first wiring 66a. These wirings 66
The patterns a and 66b are composed of a Ta film 29 provided in contact with the lower substrate 21 and an ITO film provided on the Ta film 29.
It is formed of a two-layer film including the film 30. Then, the Ta film 2 is formed in at least a part of the region of the wiring pattern.
A titanium film 40 is provided between the substrate 9 and the ITO film 30. The Mo film 60 is provided at the end of the first wiring 66a on the substrate peripheral side and at the end of the second wiring 66b on the display area side. The sheet resistance of the Mo film is about 0.5Ω /
□. The insulating film 42 is formed on the wiring 66 of the lower substrate 21.
a, 66b covers almost the entire area except the end portions.
【0032】上記下側基板21を作製する工程では、第
1実施例のものと同様に、Ta膜29とTi膜40との間
の界面抵抗、および、Ti膜40とITO膜30との間
の界面抵抗は、従来に比してプロセス変動の影響を受け
にくく、低く安定したものとなる。したがって、この表
示用基板1′は高歩留で作製することができる。また、
今後の表示の高精細化への対応も可能となる。なお、第
1の配線66aの基板周辺側の端部、および、第2の配
線66bの表示領域側の端部にのみMo膜60を設けて
いるのは、Mo膜が水分に弱く、絶縁膜42の段差に生
じる隙間を通して水分に侵されるからである。In the step of fabricating the lower substrate 21, the interface resistance between the Ta film 29 and the Ti film 40 and the resistance between the Ti film 40 and the ITO film 30 are the same as in the first embodiment. Is less susceptible to process variations than in the past, and is low and stable. Therefore, the display substrate 1 'can be manufactured with a high yield. Also,
It will be possible to cope with higher definition display in the future. It is to be noted that the Mo film 60 is provided only on the end of the first wiring 66a on the substrate peripheral side and the end of the second wiring 66b on the display area side because the Mo film is weak to moisture and the insulating film This is because water is eroded through the gap formed in the step 42.
【0033】図示の実装状態では、下側基板21の配線
66aと66bとの間に駆動用IC24が搭載され、ま
た、配線66bにフレキシブル配線板33が接続されて
いる。すなわち、駆動用IC24の出力側バンプ電極2
8a,入力側バンプ電極28bが、導電粒子としてAg
とPdとからなる合金を含むAg・Pdペースト61,6
1を介して、それぞれ下側基板21の配線66aの基板
周辺側端部(電極端子),配線66bの表示領域側端部
と接続されている。また、フレキシブル配線板33の出
力端子35が、異方性導電膜36を介して、下側基板2
1の配線66bの基板周辺側端部と接続されている。ま
た、駆動用IC24と下側基板21との隙間に、封止用
樹脂62が充填されている。なお、Ag・Pdペースト材
61による接続は、転写方式にて駆動用IC24の出力
側バンプ電極28a,入力バンプ電極28bにAg・Pdペ
ースト材61を適量供給し、位置合わせ搭載後、加熱し
てAg・Pdペースト材61を硬化させることにより行わ
れる。また、異方性導電膜36の接続は加熱および加圧
によって行われる。In the illustrated mounting state, the driving IC 24 is mounted between the wirings 66a and 66b of the lower substrate 21, and the flexible wiring board 33 is connected to the wiring 66b. That is, the output side bump electrode 2 of the driving IC 24
8a, the input side bump electrode 28b is made of Ag as conductive particles.
Ag / Pd paste 61,6 containing an alloy consisting of Pd and Pd
1, the wiring 66a of the lower substrate 21 is connected to the peripheral end (electrode terminal) of the wiring 66a and the wiring 66b to the display area side end. Further, the output terminal 35 of the flexible wiring board 33 is connected to the lower substrate 2 via the anisotropic conductive film 36.
One of the wirings 66b is connected to the peripheral end of the substrate. A gap between the drive IC 24 and the lower substrate 21 is filled with a sealing resin 62. The connection using the Ag / Pd paste material 61 is performed by supplying an appropriate amount of the Ag / Pd paste material 61 to the output-side bump electrode 28a and the input bump electrode 28b of the driving IC 24 by a transfer method, positioning, and then heating. This is performed by curing the Ag / Pd paste material 61. The connection of the anisotropic conductive film 36 is performed by heating and pressing.
【0034】動作時には、電源や入力信号がフレキシブ
ル配線板33の出力端子35,接続材36,配線46
b,接続材41,入力側バンプ電極28bを介して、駆
動用IC24に供給される。そして、駆動用IC24が
出力した表示信号が、出力側バンプ電極28a,接続材
41,配線46aを介して、表示領域に供給される。In operation, a power supply and an input signal are supplied to the output terminal 35, the connecting member 36, and the wiring 46 of the flexible wiring board 33.
b, the connection material 41, and the input side bump electrode 28b, and are supplied to the driving IC 24. Then, the display signal output from the driving IC 24 is supplied to the display area via the output-side bump electrode 28a, the connecting material 41, and the wiring 46a.
【0035】ここで、第1実施例と同様に、配線66
a,66bの各パターンの少なくとも一部の領域にTi
膜40が設けられているので、フレキシブル配線板33
の出力端子35から駆動用IC24の入力側電極28b
に至るまでの配線66aに関する抵抗(端部での抵抗を
含む)、および、駆動用IC24の出力側電極28aか
ら表示領域に至るまでの配線66bに関する抵抗(端部
での抵抗を含む)が、従来に比して低く安定な状態にあ
る。したがって、良好な表示品位を得ることができる。
また、上記Mo膜60およびAg・Pdペースト61に
よって、配線66aの基板周辺側の端部,配線66bの
表示領域側端部と、駆動用IC24の出力側電極28
a,入力側電極28bとの接続抵抗をさらに低減でき
る。したがって、フレキシブル配線板33の出力端子3
5から駆動用IC24の入力側電極28bに至るまでの
配線66aに関する抵抗(端部での抵抗を含む)、およ
び、駆動用IC24の出力側電極28aから表示領域に
至るまでの配線66bに関する抵抗(端部での抵抗を含
む)を、さらに低減できる。したがって、さらに良好な
表示品位が得ることができ、また、接続の信頼性を高め
ることができる。Here, as in the first embodiment, the wiring 66
a, 66b at least in part of the area of each pattern.
Since the film 40 is provided, the flexible wiring board 33
From the output terminal 35 to the input-side electrode 28b of the driving IC 24
, And the resistance (including the resistance at the end) of the wiring 66b from the output electrode 28a of the driving IC 24 to the display area, including the resistance at the end. It is in a low and stable state as compared with the conventional case. Therefore, good display quality can be obtained.
Further, the Mo film 60 and the Ag / Pd paste 61 allow the wiring 66a to have an edge on the substrate peripheral side, the wiring 66b to have a display area side, and the output electrode 28 of the driving IC 24.
a, The connection resistance with the input side electrode 28b can be further reduced. Therefore, the output terminals 3 of the flexible wiring board 33
5 and the resistance (including the resistance at the end) of the wiring 66a from the driving IC 24 to the input electrode 28b and the resistance of the wiring 66b from the output electrode 28a of the driving IC 24 to the display area ( (Including resistance at the ends). Therefore, better display quality can be obtained, and the reliability of the connection can be improved.
【0036】実際に、配線66bに関する抵抗(端部で
の抵抗を含む)は、Ti膜40の面積が約4×104μm2
のとき1.5〜2.5Ωとなり、Ti膜を設けない場合
の2〜10Ωに比して、抵抗の値およびばらつきを大幅
に低減することができた。Actually, the resistance of the wiring 66b (including the resistance at the end) is about 4 × 10 4 μm 2 of the area of the Ti film 40.
In this case, the resistance was 1.5 to 2.5 Ω, and the resistance value and the variation were significantly reduced as compared with 2 to 10 Ω when the Ti film was not provided.
【0037】なお、この実施例で、配線内部または配線
上に新たに設けたTi膜,Mo膜は、液晶表示パネルの表
示領域を形成するために通常用いられている膜であり、
この発明の実施のために特別に形成するものではない。
したがって、この発明の実施によってコストアップが生
じることはない。In this embodiment, the Ti film and the Mo film newly provided in the wiring or on the wiring are films which are usually used for forming a display area of a liquid crystal display panel.
It is not specially formed for carrying out the present invention.
Therefore, the implementation of the present invention does not increase the cost.
【0038】また、この実施例では、プロセス面の制限
から配線パターンの一部の領域にのみTi膜40を形成
しているが、プロセス面の制限が無い場合には配線パタ
ーンの全域にわたってTi膜40を形成するのが望まし
い。Further, in this embodiment, the Ti film 40 is formed only in a part of the wiring pattern due to the limitation of the process surface. However, when there is no limitation of the process surface, the Ti film 40 is formed over the entire area of the wiring pattern. Preferably, 40 is formed.
【0039】また、この実施例では、COG方式によっ
て実装された液晶表示装置について説明したが、当然な
がら、この発明の適用範囲はこれに限られるものではな
い。この発明は一般的な実装方式(駆動用IC実装方
式)の液晶表示装置にも適用することができる。この場
合も、フレキシブル配線板の出力端子から表示領域に至
るまでの配線抵抗を従来に比して低く安定な状態にで
き、良好な表示品位を得ることができる。また、この発
明は、EL表示装置など他のタイプの平面型表示装置に
広く適用することができる。In this embodiment, the liquid crystal display device mounted by the COG method has been described. However, the scope of the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to a general mounting type (driving IC mounting type) liquid crystal display device. Also in this case, the wiring resistance from the output terminal of the flexible wiring board to the display area can be made lower and stable as compared with the related art, and good display quality can be obtained. Further, the present invention can be widely applied to other types of flat display devices such as an EL display device.
【0040】[0040]
【発明の効果】以上より明らかなように、請求項1の表
示用基板では、配線を形成するためTa(タンタル)膜
上にTi(チタン)膜を形成する時、直接ITO(錫添
加酸化インジウム)膜を形成する場合と異なり、Ta膜
表面を酸化させることが無い。また、Ti膜上にITO
膜を形成する時、Ti膜表面が酸化される度合いは、Ta
膜表面が酸化される場合に比してはるかに軽度である。
さらに、Ti膜はITO膜用のエッチャント(塩化第2
鉄溶液)によって侵されることが無い。したがって、T
a膜とTi膜との間の界面抵抗、および、Ti膜とITO
膜との間の界面抵抗は、従来に比してプロセス変動の影
響を受けにくく、低く安定化することができる。したが
って、高歩留で作製できるとともに、実装後に良好な表
示品位を得ることができる。また、今後の表示の高精細
化への対応も可能となる。また、上記Ti膜が設けられ
た領域のITO膜上に絶縁膜が設けられる一方、上記T
i膜が設けられていない上記2層膜の領域で上記絶縁膜
が除去されているので、Ta膜、Ti膜、ITO膜からな
る3層膜が上記絶縁膜で保護される。これとともに、上
記絶縁膜が除去された領域を電極端子として、その電極
端子にフレキシブル配線板の出力端子や駆動用ICの電
極を接続することができる。As is apparent from the above description, in the display substrate according to the first aspect, when a Ti (titanium) film is formed on a Ta (tantalum) film for forming a wiring, ITO (tin-added indium oxide) is directly used. Unlike the case of forming a film, the surface of the Ta film is not oxidized. In addition, ITO is applied on the Ti film.
When the film is formed, the degree of oxidation of the surface of the Ti film depends on Ta.
It is much lighter than when the film surface is oxidized.
In addition, the Ti film is an etchant for the ITO film (second chloride).
Iron solution). Therefore, T
interface resistance between a film and Ti film, and Ti film and ITO
The interface resistance between the film and the film is less susceptible to process fluctuations as compared with the prior art, and can be stabilized at a low level. Therefore, it can be manufactured at a high yield, and a good display quality can be obtained after mounting. In addition, it is possible to cope with higher definition display in the future. Also, while an insulating film is provided on the ITO film in the region where the Ti film is provided,
Since the insulating film is removed in the region of the two-layer film where the i film is not provided, the three-layer film including the Ta film, the Ti film, and the ITO film is protected by the insulating film. At the same time, an output terminal of a flexible wiring board or an electrode of a driving IC can be connected to the electrode terminal using the region from which the insulating film has been removed.
【0041】請求項2の表示用基板の実装構造では、表
示用基板の配線のパターンの少なくとも一部の領域で、
Ta膜とITOとの間にチタン膜が設けられているの
で、Ta膜とTi膜との間の界面抵抗、および、Ti膜と
ITO膜との間の界面抵抗を低くできる。したがって、
フレキシブル配線板の出力端子から表示領域に至るまで
の配線に関する抵抗(端部での抵抗を含む)を、従来に
比して低く安定化できる。したがって、良好な表示品位
を得ることができる。In the display substrate mounting structure according to the second aspect, at least a part of the wiring pattern of the display substrate has
Since the titanium film is provided between the Ta film and the ITO film, the interface resistance between the Ta film and the Ti film and the interface resistance between the Ti film and the ITO film can be reduced. Therefore,
The resistance (including the resistance at the end) of the wiring from the output terminal of the flexible wiring board to the display area can be stabilized lower than in the conventional case. Therefore, good display quality can be obtained.
【0042】請求項3の表示用基板の実装構造では、表
示用基板の第1,第2配線の各パターンの少なくとも一
部の領域にTi膜が設けられているので、フレキシブル
配線板の出力端子から駆動用ICの入力側電極に至るま
での第1の配線に関する抵抗(端部での抵抗を含む)、
および、駆動用ICの出力側電極から表示領域に至るま
での第2の配線に関する抵抗(端部での抵抗を含む)
を、従来に比して低く安定化できる。したがって、良好
な表示品位を得ることができる。According to the third aspect of the present invention, since the Ti film is provided in at least a part of each of the first and second wiring patterns of the display substrate, the output terminal of the flexible wiring board is provided. From the first wiring to the input electrode of the driving IC (including the resistance at the end),
And the resistance (including the resistance at the end) of the second wiring from the output side electrode of the driving IC to the display area.
Can be stabilized lower than before. Therefore, good display quality can be obtained.
【0043】請求項4の表示用基板の実装構造では、上
記第1の配線のITO膜と上記駆動用ICの出力側電
極、および、上記第2の配線のITO膜と上記駆動用I
Cの入力側電極が、異方性導電膜を介して接続されてい
るので、この異方性導電膜によって駆動用IC(チッ
プ)の下面を保護できる。したがって、別途駆動用IC
封止用の樹脂を塗布すること無く、高い信頼性を得るこ
とができる。In the mounting structure of the display substrate according to the present invention, the ITO film of the first wiring and the output electrode of the driving IC, and the ITO film of the second wiring and the driving I / O.
Since the input electrode of C is connected via the anisotropic conductive film, the lower surface of the driving IC (chip) can be protected by the anisotropic conductive film. Therefore, a separate driving IC
High reliability can be obtained without applying a sealing resin.
【0044】請求項5の表示用基板では、少なくとも第
1の配線の基板周辺側の端部、および、第2の配線の上
記表示領域側の端部で、上記ITO膜が除去されて上記
タンタル膜上にモリブデン膜が設けられているので、駆
動用ICの出力側電極,入力側電極(一般にAuからな
る)との接続抵抗をさらに低減できる。また、請求項1
の表示用基板と同様に、高歩留で作製でき、実装後に良
好な表示品位を得ることができる。また、今後の表示の
高精細化への対応も可能となる。In the display substrate according to the fifth aspect, at least at the end of the first wiring on the substrate peripheral side and at the end of the second wiring on the display region side, the ITO film is removed and the tantalum is removed. Since the molybdenum film is provided on the film, the connection resistance between the output side electrode and the input side electrode (generally made of Au) of the driving IC can be further reduced. Claim 1
As in the case of the display substrate described above, it can be manufactured with a high yield, and a good display quality can be obtained after mounting. In addition, it is possible to cope with higher definition of the display in the future.
【0045】請求項6の表示用基板の実装構造では、上
記モリブデン膜によって、第1の配線の基板周辺側の端
部,第2の配線の表示領域側端部と、駆動用ICの出力
側電極,入力側電極との接続抵抗をさらに低減できる。
したがって、フレキシブル配線板の出力端子から駆動用
ICの入力側電極に至るまでの第1の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)、および、駆動用ICの出力側
電極から表示領域に至るまでの第2の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)を、さらに低減できる。したが
って、良好な表示品位を得ることができ、また、接続の
信頼性を高めることができる。In the mounting structure of the display substrate according to the present invention, the molybdenum film allows the first wiring to have a peripheral portion of the substrate, a second wiring having a display region, and an output side of the driving IC. The connection resistance between the electrode and the input side electrode can be further reduced.
Therefore, the resistance (including the resistance at the end) of the first wiring from the output terminal of the flexible wiring board to the input side electrode of the driving IC, and the resistance from the output side electrode of the driving IC to the display area. Up to the second wiring (including the resistance at the end). Therefore, good display quality can be obtained, and the reliability of the connection can be improved.
【0046】請求項7の表示用基板の実装構造では、導
電粒子として銀または銀とパラジウムとからなる合金を
含むペースト材によって、第1の配線の基板周辺側の端
部,第2の配線の表示領域側端部と、駆動用ICの出力
側電極,入力側電極との接続抵抗をさらに低減できる。
したがって、フレキシブル配線板の出力端子から駆動用
ICの入力側電極に至るまでの第1の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)、および、駆動用ICの出力側
電極から表示領域に至るまでの第2の配線に関する抵抗
(端部での抵抗を含む)を、さらに低減できる。したが
って、良好な表示品位を得ることができ、また、接続の
信頼性を高めることができる。In the display substrate mounting structure of the present invention, the end of the first wiring on the substrate peripheral side and the second wiring are formed by a paste material containing silver or an alloy of silver and palladium as conductive particles. The connection resistance between the display area side end and the output side electrode and the input side electrode of the driving IC can be further reduced.
Therefore, the resistance (including the resistance at the end) of the first wiring from the output terminal of the flexible wiring board to the input side electrode of the driving IC, and the resistance from the output side electrode of the driving IC to the display area. Up to the second wiring (including the resistance at the end). Therefore, good display quality can be obtained, and the reliability of the connection can be improved.
【図1】 この発明の第1実施例の液晶表示装置の要部
断面を示す図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a main part of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 この発明の第2実施例の液晶表示装置の要部
断面を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a cross section of a main part of a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
【図3】 COG方式により実装された液晶表示装置の
全体を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an entire liquid crystal display device mounted by a COG method.
【図4】 図3の液晶表示装置の周縁部の断面を示す図
である。4 is a diagram showing a cross section of a peripheral portion of the liquid crystal display device of FIG.
【図5】 一般的な実装方式により実装された液晶表示
装置の全体を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an entire liquid crystal display device mounted by a general mounting method.
【図6】 図5の液晶表示装置の周縁部の断面を示す図
である。6 is a diagram showing a cross section of a peripheral portion of the liquid crystal display device of FIG.
1,1′ 液晶表示パネル 21 下側基板 24 駆動用IC 46a,66a 第1の配線 46b,66b 第2の配線 28a 出力側電極 28b 入力側電極 29 Ta膜 30 ITO膜 33 フレキシブル配線板 35 出力端子 36,41 異方性導電膜 37 フレキシブル配線板の基材 40 Ti膜 42 絶縁膜 60 Mo膜 61 Ag・Pdペースト材 62 封止用樹脂 1, 1 'Liquid crystal display panel 21 Lower substrate 24 Driving ICs 46a, 66a First wiring 46b, 66b Second wiring 28a Output electrode 28b Input electrode 29 Ta film 30 ITO film 33 Flexible wiring board 35 Output terminal 36, 41 Anisotropic conductive film 37 Flexible wiring board base material 40 Ti film 42 Insulating film 60 Mo film 61 Ag / Pd paste material 62 Sealing resin
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田草 康伸 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 平3−12638(JP,A) 特開 平4−93927(JP,A) 特開 平4−177224(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1345 G09F 9/00 348 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yasunobu Tagusa 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka Inside Sharp Corporation (56) References JP-A-3-12638 (JP, A) JP-A-4 -93927 (JP, A) JP-A-4-177224 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1345 G09F 9/00 348
Claims (7)
表示用基板であって、基板面に、この基板面の周縁部か
ら内部の表示領域へ信号を伝えるための配線を有する表
示用基板において、 上記配線のパターンは、上記基板面に接して設けられた
タンタル膜と、このタンタル膜上に設けられた錫添加酸
化インジウム膜とからなる2層膜で形成され、 上記配線のパターンの少なくとも一部の領域で、上記タ
ンタル膜と錫添加酸化インジウム膜との間にチタン膜が
設けられ、 上記チタン膜が設けられた領域の錫添加酸化インジウム
膜上に絶縁膜が設けられる一方、上記チタン膜が設けら
れていない上記2層膜の領域で上記絶縁膜が除去されて
いることを特徴とする表示用基板。1. A display substrate for constituting a part of a flat panel display device, comprising a wiring on a substrate surface for transmitting a signal from a peripheral portion of the substrate surface to an internal display area. In the substrate, the wiring pattern is formed of a two-layer film including a tantalum film provided in contact with the substrate surface and a tin-added indium oxide film provided on the tantalum film. In at least a part of the region, a titanium film is provided between the tantalum film and the tin-added indium oxide film, and an insulating film is provided on the tin-added indium oxide film in the region where the titanium film is provided. A display substrate, wherein the insulating film is removed in a region of the two-layer film where the titanium film is not provided.
発生する駆動用ICを搭載したフレキシブル配線板の出
力端子が接続されていることを特徴とする表示用基板の
実装構造。2. The display terminal according to claim 1, wherein an output terminal of a flexible wiring board on which a driving IC for generating the signal is mounted is connected to a portion of the wiring at the peripheral portion. A mounting structure for a display substrate.
ーンを持ち、上記チタン膜が設けられた領域を有する第
1の配線と、上記第1の配線よりも基板周辺側で基板周
辺に向かって延びるパターンを持ち、上記チタン膜が設
けられた領域を有する第2の配線とを含み、 上記第1の配線の基板周辺側の端部に、上記信号を発生
する駆動用ICの出力側電極が接続される一方、上記第
2の配線の上記表示領域側の端部に上記駆動用ICの入
力側電極が接続され、 上記第2の配線の上記基板周辺側の端部に、上記駆動用
ICに入力信号を供給するフレキシブル配線板の出力端
子が接続されていることを特徴とする表示用基板の実装
構造。3. A first wiring comprising the display substrate according to claim 1, wherein the wiring has a pattern extending from the display region to the peripheral portion, and has a region provided with the titanium film; A second wiring having a pattern extending toward the periphery of the substrate at a position closer to the periphery of the substrate than the first wiring, and a second wiring having a region in which the titanium film is provided; The output side electrode of the driving IC for generating the signal is connected to the portion, and the input side electrode of the driving IC is connected to the end of the second wiring on the display area side. An output terminal of a flexible wiring board for supplying an input signal to the driving IC, is connected to an end of the wiring on the peripheral side of the substrate.
において、 上記第1の配線の上記錫添加酸化インジウム膜と上記駆
動用ICの上記出力側電極、および、上記第2の配線の
上記錫添加酸化インジウム膜と上記駆動用ICの上記入
力側電極が、異方性導電膜を介して接続されていること
を特徴とする表示用基板の実装構造。4. The mounting structure of a display substrate according to claim 3, wherein the tin-added indium oxide film of the first wiring, the output electrode of the driving IC, and the second wiring are connected to each other. A mounting structure for a display substrate, wherein the tin-added indium oxide film and the input electrode of the driving IC are connected via an anisotropic conductive film.
ーンを持ち、上記チタン膜が設けられた領域を有する第
1の配線と、上記第1の配線よりも基板周辺側で基板周
辺に向かって延びるパターンを持ち、上記チタン膜が設
けられた領域を有する第2の配線とを含み、 少なくとも上記第1の配線の基板周辺側の端部、およ
び、上記第2の配線の上記表示領域側の端部で、上記錫
添加酸化インジウム膜が除去されて上記タンタル膜上に
モリブデン膜が設けられていることを特徴とする表示用
基板。5. The display substrate according to claim 1, wherein the wiring has a pattern extending from the display region to the peripheral portion, and a first wiring having a region provided with the titanium film; A second wiring having a pattern extending toward the periphery of the substrate from the first wiring to the periphery of the substrate, and a second wiring having a region in which the titanium film is provided; at least an end of the first wiring on the periphery of the substrate; And a molybdenum film provided on the tantalum film by removing the tin-added indium oxide film at a portion and at an end of the second wiring on the display region side.
に、上記信号を発生する駆動用ICの出力側電極が接続
される一方、上記第2の配線の上記表示領域側の端部の
上記モリブデン膜に上記駆動用ICの入力側電極が接続
され、 上記第2の配線の上記基板周辺側の端部に、上記駆動用
ICに入力信号を供給するフレキシブル配線板の出力端
子が接続されていることを特徴とする表示用基板の実装
構造。6. The display substrate according to claim 5, wherein an output-side electrode of a driving IC for generating the signal is connected to the molybdenum film at an end of the first wiring near the substrate. On the other hand, an input-side electrode of the driving IC is connected to the molybdenum film at an end of the second wiring on the display region side, and the driving electrode is connected to an end of the second wiring on the peripheral side of the substrate. A display substrate mounting structure, wherein an output terminal of a flexible wiring board for supplying an input signal to a display IC is connected.
において、 上記第1の配線の基板周辺側の端部の上記モリブデン膜
と上記駆動用ICの出力側電極、および、上記第2の配
線の上記表示領域側の端部の上記モリブデン膜と上記駆
動用ICの入力側電極が、導電粒子として銀または銀と
パラジウムとからなる合金を含むペースト材を介して接
続されていることを特徴とする表示用基板の実装構造。7. The mounting structure of a display substrate according to claim 6, wherein the molybdenum film at the end of the first wiring on the substrate peripheral side, the output electrode of the driving IC, and the second electrode. That the molybdenum film at the end of the wiring on the display region side and the input electrode of the driving IC are connected via a paste material containing silver or an alloy of silver and palladium as conductive particles. Characteristic display board mounting structure.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30667293A JP3006985B2 (en) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | Display substrate and its mounting structure |
TW083111153A TW340192B (en) | 1993-12-07 | 1994-11-30 | A display board having wiring with three-layered structure and a display device including the display board |
US08/350,406 US5608559A (en) | 1993-12-07 | 1994-12-06 | Display board having wiring with three-layered structure and a display device including the display board |
KR1019940033560A KR0147308B1 (en) | 1993-12-07 | 1994-12-06 | Display board having wiring with three-layered structure and display device including the display board |
CN94112794A CN1052088C (en) | 1993-12-07 | 1994-12-07 | A display board having wiring with three-layered structure and a display device including the display board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30667293A JP3006985B2 (en) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | Display substrate and its mounting structure |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07159804A JPH07159804A (en) | 1995-06-23 |
JP3006985B2 true JP3006985B2 (en) | 2000-02-07 |
Family
ID=17959934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30667293A Expired - Fee Related JP3006985B2 (en) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | Display substrate and its mounting structure |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3006985B2 (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4319258B2 (en) * | 1995-12-12 | 2009-08-26 | 日立化成工業株式会社 | Rework method |
US7411211B1 (en) | 1999-07-22 | 2008-08-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Contact structure and semiconductor device |
JP2002258768A (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Seiko Epson Corp | Electrooptical device, its manufacturing method, and electronic apparatus |
JP2004317924A (en) | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Advanced Display Inc | Display device and method for manufacturing display device |
KR101061915B1 (en) * | 2003-07-29 | 2011-09-02 | 티피오 홍콩 홀딩 리미티드 | Electronic device with wiring terminals |
JP5546353B2 (en) * | 2010-05-28 | 2014-07-09 | 京セラ株式会社 | Input device and display device having the same |
WO2012161027A1 (en) * | 2011-05-20 | 2012-11-29 | シャープ株式会社 | Display module |
-
1993
- 1993-12-07 JP JP30667293A patent/JP3006985B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07159804A (en) | 1995-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR0147308B1 (en) | Display board having wiring with three-layered structure and display device including the display board | |
JP3415845B2 (en) | Electrical connection structure and electrical connection method thereof | |
EP1630592B1 (en) | Liquid crystal display device with a tape circuit substrate having a signal line with a slit | |
JP3285168B2 (en) | Display device mounting structure and mounting method | |
WO2002021199A1 (en) | Liquid crystal display | |
JP4226368B2 (en) | WIRING BOARD, DISPLAY DEVICE, AND WIRING BOARD MANUFACTURING METHOD | |
TW567383B (en) | Liquid crystal display | |
JP3006985B2 (en) | Display substrate and its mounting structure | |
JPH10104651A (en) | Display device | |
US7206056B2 (en) | Display device having a terminal that has a transparent film on top of a high resistance conductive film | |
JP5026032B2 (en) | Liquid crystal display device and manufacturing method thereof | |
JPH09146110A (en) | Liquid crystal display device | |
JP2001264794A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display device | |
JP3323692B2 (en) | Flip-chip type liquid crystal display device | |
JP3023052B2 (en) | Display substrate | |
JP2892510B2 (en) | Liquid crystal display device | |
JP3736105B2 (en) | Active matrix substrate, manufacturing method thereof, and liquid crystal panel | |
JPH1096944A (en) | Electrical connecting structure and liquid crystal display device | |
JP2000275659A (en) | Liquid crystal display device | |
JP2004205551A (en) | Picture display panel, photomask, picture display device and method for manufacturing picture display panel | |
JPH02127621A (en) | Manufacture of liquid crystal display device | |
JP4086296B2 (en) | Lead electrode connection structure | |
US20240379920A1 (en) | Wiring substrate and method for preparing same, light-emitting substrate, and display device | |
JP7397589B2 (en) | Electronic device and its manufacturing method, and display device and its manufacturing method | |
JP2008216466A (en) | Display device and manufacturing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081126 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091126 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091126 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101126 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111126 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 12 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111126 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 13 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121126 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |