JP3090988B2

JP3090988B2 - 光学用積層シートの製造法

Info

Publication number: JP3090988B2
Application number: JP03244763A
Authority: JP
Inventors: 林次郎市川; 寛古森; 治恭坪井
Original assignee: Fujimori Kogyo Co Ltd
Current assignee: Fujimori Kogyo Co Ltd
Priority date: 1991-08-29
Filing date: 1991-08-29
Publication date: 2000-09-25
Anticipated expiration: 2015-09-25
Also published as: JPH0557831A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表面平滑性の極めてす
ぐれた光学用積層シート（殊に液晶表示パネル製造用の
電極基板）を製造する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示用透明電極の基板としては、従
来はガラスが用いられていたが、薄型にできないこと、
耐衝撃性が劣ること、量産化しにくいことなどの問題点
があるため、最近ではプラスチックス基板を用いること
が多くなっており、本出願人においても以下に述べるよ
うないくつかの出願を行っている。

【０００３】たとえば、特開昭６３−７１８２９号公報
には、ポリカーボネート系樹脂等のシートからなるレタ
ーデーション値３０nm以下の基材層の少なくとも片面に
水性アンカーコート層を設けた後、そのアンカーコート
層の上に耐透気性樹脂または／および架橋性樹脂硬化物
からなる単層または複層の保護層を設けた液晶表示パネ
ル用電極基板が示されている。

【０００４】特開昭６４−５００２１号公報には、耐透
気性合成樹脂フィルム層と架橋性樹脂硬化物層との積層
体同士が、それぞれの耐透気性合成樹脂フィルム層面が
対向する状態で接着剤層を介して積層一体化された構成
を有する液晶表示パネル用電極基板が示されている。

【０００５】特開昭６４−５００２２号公報には、流延
製膜法により形成された耐透気性合成樹脂フィルム層の
両面に、その耐透気性合成樹脂フィルム層と反応しうる
架橋剤を使用した架橋性樹脂硬化物層を流延法により直
接形成させるようにした液晶表示パネル用電極基板の製
造法が示されている。

【０００６】特開平２−１３７９２２号公報には、耐溶
剤性を有しない樹脂層を有するレターデーション値３０
nm以下の基材シートの樹脂層側に、アルコール可溶性紫
外線硬化型接着剤層または水系熱硬化型接着剤層を積層
し、さらにその接着剤層上に剥離性シートを積層した液
晶表示パネル製造用の貼着型積層シートが示されてお
り、基材シートの例として、ポリカーボネート等の樹脂
シート／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹脂層
／フェノキシエーテル系架橋重合体層の層構成を有する
シートがあげられている。

【０００７】特開平２−１４９８１９号公報には、ロー
ル状に巻回可能な電極支持フィルムの片面に透明電極を
設けた構成を有する透明電極付き電極支持フィルムの電
極支持フィルム側を、レターデーション値が８０nm以
下、光線透過率が６０％以上の母材に貼着により積層一
体化した透明電極付き液晶セル基板が示されており、電
極支持フィルムの例として、樹脂フィルム層／アンカー
コーティング層／架橋性樹脂硬化物層、樹脂フィルム層
／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹脂フィルム
層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物層／耐透気
性合成樹脂フィルム層／アンカーコーティング層／樹脂
フィルム層／アンカーコーティング層／耐透気性合成樹
脂フィルム層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物
層／耐透気性合成樹脂フィルム層／接着剤層／耐透気性
合成樹脂フィルム層／架橋性樹脂硬化物層などの層構成
を有するフィルムがあげられている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上にあげたシート状基
板を液晶表示パネル製造用の電極基板として用いる場合
は、架橋性樹脂硬化物層上にＩＴＯ等の透明電極を形成
させ、さらにその上に配向膜を設けてから、液晶セルに
組み立てる。この場合、基板間に封じ込める液晶がＴＮ
（ツイステド・ネマチック）液晶である場合には、透明
電極形成側の基板表面の多少の凹凸は製品品質にほとん
ど影響を及ぼさない。というのは、ＴＮ液晶を用いた液
晶セルから組み立てた液晶表示パネルは無彩色であっ
て、濃淡さえはっきりすればパネルとして合格となるか
らである。

【０００９】しかしながら、基板間に封じ込める液晶が
ＳＴＮ（スーパー・ツイステド・ネマチック）液晶であ
る場合には、基板間の間隙が５〜６μm 程度にすぎない
にもかかわらずＳＴＮ液晶により２７０゜程度のツイス
トがなされるため、透明電極形成側の基板表面にわずか
の凹凸があっても表示に紫、緑などの色がついて画面が
非常に見にくくなるという事態を生じ、この点がプラス
チックス基板を用いた液晶表示パネルの最大の弱点とな
っていた。上に引用した本出願人の出願にかかる電極基
板も、この問題点については充分な解決がなされていな
かった。

【００１０】本発明は、このような背景下において、表
面平滑性の極めてすぐれた光学用積層シート（殊に液晶
表示パネル製造用の電極基板）を製造する方法を提供す
ることを目的とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の光学用積層シー
トの製造法は、架橋性樹脂硬化物層である樹脂層(2)を
流延製膜法により形成する光学用積層シートの製造法で
あって、下層(1) 上に樹脂層(2) 形成用の樹脂溶液を流
延した後、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重
量の５〜１００重量％となるまで乾燥を行うと共に、そ
の半乾燥被膜(2a)の上から表面粗度 0.5μm 以下の圧着
用材料(3) を圧着状態で接触させ、ついで乾燥硬化を進
めることにより、樹脂層(2) の自由面の表面粗度が 0.5
μm 以下の積層シートを得ることを特徴とするものであ
る。

【００１２】以下本発明を詳細に説明する。

【００１３】樹脂層(2) を構成する樹脂としては、液晶
表示パネル製造用の電極基板を目的とするときは耐熱
性、耐溶剤性、透明電極形成性などが要求されるので、
架橋性樹脂に架橋剤を配合した樹脂組成物を用いる。

【００１４】このような架橋性樹脂としては、フェノキ
シエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、アクリルエポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂またはウレタン樹脂などがあげられる。このうち典
型的な例として、フェノキシエーテル型架橋性樹脂とア
クリル樹脂について詳述する。

【００１５】架橋性樹脂の中で特に好ましい樹脂は、下
記の化１で示されるフェノキシエーテル型重合体であ
る。

【００１６】

【化１】

【００１７】（式中、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ は、それぞれ水素、炭
素数１〜３の低級アルキル基またはＢr 、Ｒ⁷ は炭素数
２〜４の低級アルキレン基、ｍは０〜３の整数、ｎは２
０〜３００の整数をそれぞれ意味する。）

【００１８】この重合体の水酸基の水素部分に架橋剤で
ある多官能性化合物を架橋反応させると、フェノキシエ
ーテル型架橋重合体が得られる。架橋重合体を得るため
に反応させる架橋剤（多官能性化合物）としては、水酸
基との反応活性が高い基、例えば、イソシアネート基、
カルボキシル基、カルボキシル基における反応性誘導基
（たとえばハライド、活性アミド、活性エステル、酸無
水物基等）、メルカプト等を同一または異なって２以上
有する化合物などが用いられ、特にポリイソシアネート
が重要である。

【００１９】アクリル樹脂としては、分子中に少なくと
も３個以上のアクリロイルオキシ基または／およびメタ
アクリロイルオキシ基を含有する化合物（以下、多官能
（メタ）アクリロイルオキシ基含有化合物という）を主
成分とする多官能不飽和単量体または／およびその初期
ラジカル反応物を主成分とする組成物をあげることがで
きる。特に好ましいのは、分子中に少なくとも３個以上
の（メタ）アクリロイルオキシ基を含有する多官能不飽
和単量体を、全不飽和単量体に対して５０重量％以上、
好ましくは７０重量％、特に好ましくは９０重量％以上
含有する不飽和単量体混合物または／およびその初期ラ
ジカル反応物から成る組成物である。

【００２０】架橋性樹脂硬化物層である樹脂層(2) の厚
さは、通常２〜５００μm 、好ましくは３μm 〜２００
μm とすることが多い。

【００２１】樹脂層(2) の自由面の表面粗度は、 0.5μ
m 以下、好ましくは 0.2μm 以下、さらに好ましくは
0.1μm 以下に設定される。一般に、溶融押出フィルム
の表面粗度は１００μm 厚のフィルムで３〜４μm 、流
延製膜フィルムの表面粗度は１００μm 厚のフィルムで
２〜３μm である。表面粗度をこのように常識外とも言
えるほど小さくする方法は後述する。

【００２２】樹脂層(2) は、光学的用途に用いることを
考慮して、そのレターデーション値が６０nm以下、好ま
しくは３０nm以下、可視光線透過率が６０％以上、好ま
しくは７０％以上であることが要求される。

【００２３】上記の光学用積層シートは、下層(1) 上に
樹脂層(2) 形成用の樹脂溶液を流延した後、半乾燥被膜
(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重量の５〜１００重量％
となるまで乾燥を行うと共に、その半乾燥被膜(2a)の上
から表面粗度 0.5μm 以下、好ましくは0.15μm 以下の
圧着用材料(3) を圧着状態で接触させ、ついで乾燥硬化
を進めることにより製造される。

【００２４】下層(1) としては、基材層、耐透気性樹脂
層、架橋性樹脂硬化物層、これらの層の積層体などがあ
げられ、殊に、基材層／耐透気性樹脂層、基材層／耐透
気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物層
／耐透気性樹脂層／基材層／耐透気性樹脂層、架橋性樹
脂硬化物層／耐透気性樹脂層／基材層／耐透気性樹脂層
／架橋性樹脂硬化物層、架橋性樹脂硬化物層／耐透気性
樹脂層／耐透気性樹脂層／架橋性樹脂硬化物層などの層
構成が重要である。積層構成の場合は、層間にアンカー
コーティング層や接着剤層を設けることができる。

【００２５】ここで基材層としては、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリスルホン、ポリアリレート、アモルファスポリ
オレフィン、ポリパラバン酸系樹脂、ポリアミドなどが
あげられる。基材層は熱変形温度が８０℃以上であるこ
とが望ましい。

【００２６】基材層は流延法や押出法により得られ、そ
の厚さは３０μm 〜３mm程度とすることが多い。

【００２７】耐透気性樹脂層を構成する耐透気性樹脂と
しては、たとえば、アクリロニトリル成分、ビニルアル
コール成分またはハロゲン化ビニリデン成分を５０モル
％以上含有する重合体から形成された層があげられ、特
にポリビニルアルコールまたはその共重合変性物あるい
はグラフト物、エチレン含量が１５〜５０モル％のエチ
レン−ビニルアルコール共重合体など、水酸基を有する
ポリマーが重要である。

【００２８】耐透気性樹脂層は通常流延法により形成さ
れ、その酸素透過率（ASTM D-1434-75に準じて測定）が
３０cc／24hr・m²・atm 以下、殊に２０cc／24hr・m²・
atm以下さらには１０cc／24hr・m²・atm 以下であるこ
とが望ましい。耐透気性樹脂層の厚さは、１〜５０μm
、殊に２〜２０μm の範囲に設定するのが適当であ
る。１μm 未満では耐透気性が不充分であり、５０μm
を越えると薄膜化の趨勢に反することになる。

【００２９】架橋性樹脂硬化物層としては、先に樹脂層
(2) の説明のところで述べたような架橋性樹脂硬化物層
が用いられる。

【００３０】下層(1) 上に樹脂層(2) 形成用の樹脂溶液
を流延した後は、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾
被膜重量の５〜１００重量％、好ましくは１５〜８０重
量％となるまで乾燥を行う。乾燥の程度が小さすぎると
きは、半乾燥被膜(2a)が流動しやすいため表面平滑な樹
脂層(2) が得られず、また後述の圧着用材料(3) が粘着
して剥離しにくくなり、一方乾燥が行きすぎたときに
は、半乾燥被膜(2a)が変形しないようになるため樹脂層
(2) の表面平滑性が得られなくなり、共に所期の目的を
達成しえなくなる。

【００３１】そして、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が
適度となった時点において、その半乾燥被膜(2a)の上か
ら表面粗度 0.5μm 以下の圧着用材料(3) を圧着状態で
接触させる。

【００３２】圧着用材料(3) として特に好ましいもの
は、二軸延伸プラスチックスフィルム、殊に、二軸延伸
ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリブ
チレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレン
ナフタレートフィルムなどの二軸延伸ポリエステルフィ
ルムである。ポリエステルフィルムのうち填料を配合し
ないものは、二軸延伸により表面平滑性が顕著に向上す
るという性質を有するからである。二軸延伸ポリエステ
ルフィルムは、その表面粗度が0.15μm 以下、0.05μm
以下、さらには0.01μm 以下のものまで入手できるの
で、そのようなフィルムを圧着用材料(3) として用いる
ことが望ましい。

【００３３】圧着用材料(3) としては、そのほか、他の
耐溶剤性および平滑性のある結晶性プラスチックスフィ
ルム（たとえば二軸延伸ポリプロピレンフィルム）や、
研磨した鋼板ベルト、研磨した鋼板ドラムなどを用いる
こともできる。

【００３４】上記のようにして半乾燥被膜(2a)の上から
表面粗度 0.5μm 以下の圧着用材料(3) を圧着状態で接
触させた後、圧着用材料(3) を除去してさらに乾燥硬化
を進めるか、あるいは圧着用材料(3) を除去することな
く乾燥硬化を進めてから圧着用材料(3) を除去する。

【００３５】これにより、下層(1) ／樹脂層(2) の層構
成を有しかつ樹脂層(2) の自由面の表面平滑度が 0.5μ
m 以下の積層シートが得られる。その樹脂層(2) 上に透
明電極を設け、さらにその上から配向膜を形成すれば、
液晶セル基板が作製できる。

【００３６】透明電極の形成には、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、金属溶射法、金
属メッキ法、化学蒸着法、スプレー法などが採用され、
特にスパッタリング法が重要である。透明電極の材質と
しては、主としてＳn 、Ｉn、Ｔi 、Ｐb 、Ｔb 等の金
属またはそれらの酸化物が用いられ、透明電極の層厚
は、少なくとも１００オングストローム、さらには２０
０オングストローム以上とするのが通常である。

【００３７】本発明の方法により得られる光学用積層シ
ートは、液晶表示パネル製造用の電極基板として特に重
要であるが、位相差板、偏光板、光ディスク、光カード
などの用途にも用いることができる。

【００３８】

【作用】本発明の方法により得られる光学用積層シート
にあっては、積層シートの表面に位置する樹脂層(2) の
自由面の表面平滑度が極めて高いので、たとえばこれを
ＳＴＮ液晶を封入する液晶セルの電極基板として用いた
場合であっても、表示に紫、緑などの色がついて画面が
非常に見にくくなるという事態を生じない。

【００３９】

【実施例】次に実施例をあげて本発明をさらに説明す
る。以下「部」とあるのは重量部である。

【００４０】実施例１基材層(1a)の一例としてのポリカーボネートシート（厚
さ９０μm 、レターデーション値１０nm）の片面に、水
溶性四級化エステルウレタン系アンカーコーティング剤
を塗布、乾燥して厚さ 1.0μm のアンカーコーティング
層を設けた後、そのアンカーコーティング層の上から、
エチレン含量３２モル％のエチレン−ビニルアルコール
共重合体（エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物）２
０部、水４５部、ｎ−プロパノール５０部、メチロール
化メラミン (住友化学工業株式会社製スミテックＭ−
３）４部よりなる組成の樹脂液を流延し、温度１１０℃
の乾燥機中を通過させて乾燥させた。これにより、厚さ
１０μm の耐透気性樹脂層(1b)が形成された。

【００４１】ついで、この耐透気性樹脂層(1b)の上か
ら、フェノキシエーテル樹脂（東都化成株式会社製）４
０部、メチルエチルケトン４０部、セロソルブアセテー
ト２０部、トリレンジイソシアネートとトリメチロール
プロパンとのアダクト体の７５％溶液（日本ポリウレタ
ン株式会社製コロネートＬ）４０部よりなる組成の硬化
性樹脂組成物溶液をアプリケーターを使用して塗布し、
８０℃で４分間乾燥してから、１３０℃で２０分間加熱
して、厚さ８μm のフェノキシエーテル樹脂系の架橋性
樹脂硬化物層(1c)を形成させた。このときの層構成は(1
a)/(1b)/(1c)である。

【００４２】次に、ポリカーボネートシート(1a)の他の
面に、上記と同様にしてアンカーコーティング層を設
け、さらにそのアンカーコーティング層の上から、上記
と同様にして厚さ１２μm の耐透気性樹脂層(1b)を形成
させた。このときの層構成は(1b)/(1a)/(1b)/(1c) であ
る。

【００４３】ついで、この耐透気性樹脂層(1b)の上か
ら、上記と同じ組成の硬化性樹脂組成物溶液をアプリケ
ーターを使用して塗布し、６０℃で１分間乾燥した。半
乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量は、絶乾被膜重量の３０重
量％であった。

【００４４】このようにして得られた(2a)/(1b)/(1a)/
(1b)/(1c)の層構成の積層シートの半乾燥被膜(2a)上
に、圧着用材料(3) の一例としての厚さ１００μm 、表
面粗度 0.004μm の二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム（帝人株式会社製Ｏタイプ）を当てがいなが
ら温度８０℃、プレス圧１０kgf/cm² の条件にてロール
群間を通して圧着して貼り合わせた。続いて室温下に３
６時間放置後、この貼合シートから二軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを剥離除去し（剥離操作は円
滑であった）、１２５℃まで昇温してからこの温度で６
０分加熱してエイジングを行った。

【００４５】上記の操作により、半乾燥被膜(2a)は乾燥
硬化して厚さ１０μm の架橋性樹脂硬化物層(2) とな
り、その自由面の表面平滑度は、光の干渉を利用した非
接触式表面粗さ計による測定で 0.1μm 以下であった。

【００４６】このようにして得られた積層シートのレタ
ーデーション値は１８nm、可視光線透過率は８９％、酸
素透過率（ASTM D-1434-75に準じて測定）は 0.5cc／24
hr・m²・atm 、表面の鉛筆硬度は両面とも２Ｈであり、
透湿性を有しなかった。全体の厚さは１３２μm であっ
た。

【００４７】次に、上記の積層シートの平滑処理した側
の架橋性樹脂硬化物層(2) 面に、スパッタリング法によ
り厚さ５００オングストロームのＩＴＯ層からなる透明
電極を直接形成させた。以下この積層シートを電極基板
として用いて、常法に従い、配向膜の形成とラビング処
理、液晶セルの組み立て、位相差板および偏光板の積層
を行い、液晶表示パネルを作製した。得られた液晶表示
パネルは、表示に着色むらが見られず、ガラスを基板と
して用いた液晶表示パネルと遜色のない性能を有してい
た。

【００４８】実施例２実施例１において、(1b)/(1a)/(1b)/(1c) の層構成の積
層体の耐透気性樹脂層(1b)の上から硬化性樹脂組成物溶
液をアプリケーターを使用して塗布し、室温で１０分間
風乾したところ、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量は絶乾
被膜重量の７０重量％となった。

【００４９】このようにして得られた(2a)/(1b)/(1a)/
(1b)/(1c)の層構成の積層シートの半乾燥被膜(2a)上に
実施例１と同じ圧着用材料（二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルム）(3) を当てがいながら、室温、プ
レス圧５０kgf/cm² の条件にてロール群間を通して圧着
して貼り合わせた。３日経過後、この貼合シートから二
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離除去
し（剥離操作は円滑であった）、１２５℃まで昇温して
からこの温度で１２０分加熱してエイジングを行った。

【００５０】上記の操作により、半乾燥被膜(2a)は乾燥
硬化して架橋性樹脂硬化物層(2) となり、その自由面の
表面平滑度は、光の干渉を利用した非接触式表面粗さ計
による測定で 0.1μm 以下であった。

【００５１】このようにして得られた積層シートのレタ
ーデーション値は１５nm、可視光線透過率は９１％、酸
素透過率（ASTM D-1434-75に準じて測定）は 0.3cc／24
hr・m²・atm 、表面の鉛筆硬度は両面ともＨであり、透
湿性を有しなかった。

【００５２】この積層シートを用いて実施例１と同様に
して液晶表示パネルを作製したが、実施例１と同様の好
ましい結果が得られた。

【００５３】実施例３実施例１と同様にして基材層（ポリカーボネートシー
ト）(1a)上に厚さ 0.5μm のアンカーコーティング層を
設けた後、そのアンカーコーティング層の上から実施例
１と同様にして厚さ８μm の耐透気性樹脂層(1b)を形成
させた。

【００５４】ついで、この耐透気性樹脂層(1b)の上か
ら、フェノキシエーテル樹脂（東都化成株式会社製）４
０部、ジオキサン２０部、セロソルブアセテート４０
部、「コロネートＬ」４０部よりなる組成の硬化性樹脂
組成物溶液をアプリケーターを使用して塗布し、８０℃
で４分間乾燥してから、１３０℃で２０分間加熱して、
厚さ８μm のフェノキシエーテル樹脂系の架橋性樹脂硬
化物層(1c)を形成させた。このときの層構成は(1a)/(1
b)/(1c)である。

【００５５】次に、ポリカーボネートシート(1a)の他の
面に、上記と同様にしてアンカーコーティング層を設
け、さらにそのアンカーコーティング層の上から、上記
と同様にして厚さ８μm の耐透気性樹脂層(1b)を形成さ
せた。このときの層構成は(1b)/(1a)/(1b)/(1c) であ
る。

【００５６】ついで、この耐透気性樹脂層(1b)の上か
ら、上記と同じ組成の硬化性樹脂組成物溶液をアプリケ
ーターを使用して塗布し、５０℃で６分間乾燥した。半
乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量は、絶乾被膜重量の２３重
量％であった。

【００５７】このようにして得られた(2a)/(1b)/(1a)/
(1b)/(1c)の層構成の積層シートの半乾燥被膜(2a)上に
実施例１と同じ圧着用材料（二軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルム）(3) を当てがいながら、室温、プ
レス圧１００kgf/cm² の条件にてロール群間を通して圧
着して貼り合わせた。３日経過後、この貼合シートから
二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離除
去し（剥離操作は円滑であった）、１２５℃まで昇温し
てからこの温度で６０分加熱してエイジングを行った。

【００５８】上記の操作により、半乾燥被膜(2a)は乾燥
硬化して架橋性樹脂硬化物層(2) となり、その自由面の
表面平滑度は、光の干渉を利用した非接触式表面粗さ計
による測定で 0.1μm 以下であった。

【００５９】このようにして得られた積層シートのレタ
ーデーション値は１６nm、可視光線透過率は９０％、酸
素透過率（ASTM D-1434-75に準じて測定）は 0.3cc／24
hr・m²・atm 、表面の鉛筆硬度は両面ともＨであり、透
湿性を有しなかった。

【００６０】この積層シートを用いて実施例１と同様に
して液晶表示パネルを作製したが、実施例１と同様の好
ましい結果が得られた。

【００６１】

【発明の効果】本発明においては、下層(1) 上に架橋性
樹脂硬化物層である樹脂層(2) 形成用の樹脂溶液を流延
した後、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重量
の５〜１００重量％となるまで乾燥を行うと共に、その
半乾燥被膜(2a)の上から表面粗度 0.5μm 以下の圧着用
材料(3) を圧着状態で接触させ、ついで乾燥硬化を進め
ることにより、樹脂層(2) の自由面の表面粗度が 0.5μ
m 以下の積層シートを得るようにしている。

【００６２】このようにして得られる光学用積層シート
にあっては、たとえばこれをＳＴＮ液晶を封入する液晶
セルの電極基板として用いた場合であっても、表示に
紫、緑などの色がついて画面が非常に見にくくなるとい
う事態を生じない。

【００６３】液晶表示パネルは年々大型化すると共に、
ＳＴＮ液晶方式の普及には目を見張るものがあるが、本
発明により、その用途にガラス基板に代えてプラスチッ
クス基板を用いても、表示特性が遜色のないものとなる
のである。

【００６４】特に、下層(1) として基材層／耐透気性樹
脂層の積層体を用い、その積層体の耐透気性樹脂層上に
樹脂層(2) としての自由面の表面粗度 0.5μm 以下の架
橋性樹脂硬化物層を形成するときは、表示の無彩色性に
加えて、耐透気性、耐透湿性、無着色性、高表面硬度、
耐熱性、耐有機薬品性を全て満足するようになる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＧ０２Ｆ 1/1333 ５００Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ (56)参考文献特開昭64−50022（ＪＰ，Ａ) 特開平２−149819（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−233531（ＪＰ，Ａ) 特開平４−214340（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 G02F 1/1333 500

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】架橋性樹脂硬化物層である樹脂層(2) を流
延製膜法により形成する光学用積層シートの製造法であ
って、下層(1) 上に樹脂層(2) 形成用の樹脂溶液を流延した
後、半乾燥被膜(2a)中の残存溶媒量が絶乾被膜重量の５
〜１００重量％となるまで乾燥を行うと共に、その半乾
燥被膜(2a)の上から表面粗度 0.5μm 以下の圧着用材料
(3) を圧着状態で接触させ、ついで乾燥硬化を進めるこ
とにより、樹脂層(2) の自由面の表面粗度が 0.5μm 以
下の積層シートを得ることを特徴とする光学用積層シー
トの製造法。
【請求項２】圧着用材料(3) が、表面粗度0.15μm 以下
の二軸延伸プラスチックスフィルムである請求項１記載
の製造法。
【請求項３】光学用積層シートが、そのレターデーショ
ン値が６０nm以下、可視光線透過率が６０％以上であ
り、かつ液晶表示パネル製造用の電極基板である請求項
１または２に記載の製造法。