JP3072905B2 - optical disk - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、光ディスク、特に光磁気記録ディスク、相
変化型の光記録ディスク、ピット形成型の光記録ディス
クや、再生専用の光ディスク等に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical disc, particularly a magneto-optical recording disc, a phase-change optical recording disc, a pit-forming optical recording disc, a read-only optical disc, and the like.
<従来の技術> 光ディスク、例えば光磁気記録ディスクは、基板上
に、順次、樹脂層、記録層、保護コート等が積層されて
構成される。<Prior Art> An optical disc, for example, a magneto-optical recording disc, is formed by sequentially laminating a resin layer, a recording layer, a protective coat, and the like on a substrate.
この場合、樹脂層には、通常、紫外線硬化型化合物が
用いられる。そして、いわゆる2P法を用いて、基板上
に、トラッキング用のグルーブやピット、あるいは記録
ピット等のパターンを有する樹脂層を形成する。In this case, an ultraviolet curable compound is usually used for the resin layer. Then, using a so-called 2P method, a resin layer having a pattern of tracking grooves and pits or recording pits is formed on the substrate.
2P法では、まず、前記パターンの母型パターンを有す
るスタンパ表面に紫外線硬化型化合物を展着し、この紫
外線硬化型化合物上にディスク状基板を圧接する。次い
で紫外線を照射して硬化した後、スタンパと樹脂とを剥
離する。これにより母型パターンが転写された樹脂層を
基板上に形成することができる。In the 2P method, first, an ultraviolet-curable compound is spread on the surface of a stamper having a matrix pattern of the pattern, and a disk-shaped substrate is pressed onto the ultraviolet-curable compound. Next, after curing by irradiation with ultraviolet rays, the stamper and the resin are separated. Thereby, the resin layer to which the matrix pattern has been transferred can be formed on the substrate.
<発明が解決しようとする課題> しかし、従来の紫外線硬化型化合物を硬化させた樹脂
層の中には、粘着性が比較的高いため、スタンパから剥
離しにくい物がある。<Problems to be Solved by the Invention> However, some resin layers obtained by curing a conventional ultraviolet-curable compound have a relatively high tackiness and are difficult to peel off from a stamper.
しかも、剥離する際、あるいは剥離後、グルーブやピ
ットの形状が保持されず、良好な転写形状を得られない
場合がある。In addition, at the time of peeling or after the peeling, the shape of the groove or pit is not maintained, and a good transfer shape may not be obtained.
加えて、耐熱性や耐湿性さらに膜強度が不十分であ
る。In addition, heat resistance, moisture resistance, and film strength are insufficient.
例えば、スパッタリングにて記録層を成膜する際、60
〜100℃程度の温度下におかれるため、樹脂層が熱で変
形し、ディスクの機械的精度が低下する。For example, when forming the recording layer by sputtering, 60
Since the resin layer is placed at a temperature of about 100 ° C., the resin layer is deformed by heat, and the mechanical accuracy of the disk is reduced.
また、高温、高湿下にてディスクを保存したり、ある
いは使用する際、樹脂層が変形し、ディスクの機械的精
度が低下する。Further, when storing or using the disk under high temperature and high humidity, the resin layer is deformed, and the mechanical accuracy of the disk is reduced.
この結果、ディスクを回転させる際、ディスクの面偏
心が生じてトラッキングが困難となり、エラーが発生し
てしまう。As a result, when the disk is rotated, surface eccentricity of the disk occurs, which makes tracking difficult and causes an error.
本発明の目的は、2P法にて樹脂層を形成する際、スタ
ンパから剥離しやすく、グルーブやピットの形状を良好
に保持でき、しかも耐熱性、耐湿性、膜強度が高い樹脂
層を有し、機械的精度が高い光ディスクを提供すること
にある。An object of the present invention is to form a resin layer by the 2P method, which is easy to peel off from a stamper, can maintain good shapes of grooves and pits, and has a resin layer having high heat resistance, moisture resistance, and film strength. Another object of the present invention is to provide an optical disk having high mechanical accuracy.
<課題を解決するための手段> このような、目的は、下記の本発明によって達成され
る。<Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention described below.
(1)基板上に、放射線を照射して硬化した樹脂層を有
し、 前記樹脂層の周波数10Hz、温度20〜100℃における弾
性率が200kgf/mm2以上であり、 前記樹脂層の周波数10Hz、温度20〜100℃における力
学的損失係数tanδが0.01〜0.2であり、 前記樹脂層上に金属記録層を形成した光ディスク。(1) a resin layer cured by irradiation with radiation on a substrate, the resin layer having a frequency of 10 Hz, an elastic modulus at a temperature of 20 to 100 ° C. of 200 kgf / mm 2 or more, and a frequency of 10 Hz of the resin layer; An optical disc having a mechanical loss coefficient tan δ at a temperature of 20 to 100 ° C. of 0.01 to 0.2; and a metal recording layer formed on the resin layer.
<作用> 本発明の光ディスクの樹脂層の弾性率は、200kgf/mm2
以上であり、粘着性が低い。<Effect> The elastic modulus of the resin layer of the optical disc of the present invention is 200 kgf / mm 2
Above, the adhesiveness is low.
このため、2P法にて基板上に樹脂層を形成する際、ス
タンパから樹脂を容易に剥離できる。Therefore, when the resin layer is formed on the substrate by the 2P method, the resin can be easily separated from the stamper.
加えて、形成されたグルーブやピットの形状をそのま
ま保持できるため、スタンパの母型パターンが正確に転
写された樹脂層を形成できる。In addition, since the shape of the formed groove or pit can be maintained as it is, it is possible to form a resin layer on which the master pattern of the stamper is accurately transferred.
また、本発明の光ディスクの樹脂層は、耐熱性や耐湿
性が高く、かつ膜強度が高い。Further, the resin layer of the optical disc of the present invention has high heat resistance and moisture resistance, and high film strength.
このため、高温、高湿下におかれた場合、例えば、記
録層をスパッタリングにて形成する際、あるいは光ディ
スクを高温、高湿下にて保存、使用する際でも樹脂層が
変形せず、ディスクの機械的精度を高く保持できる。For this reason, when placed under high temperature and high humidity, for example, when forming the recording layer by sputtering, or when storing and using the optical disk under high temperature and high humidity, the resin layer does not deform, Can maintain high mechanical accuracy.
なお、樹脂層の弾性率は、用いる紫外線硬化型化合物
によってのみ定まるものではないため、本発明では、紫
外線硬化型化合物、光重合開始剤、あるいはこれらの含
有量や紫外線の照射条件、雰囲気等種々の条件を組み合
わせて所望の樹脂層を形成する。In addition, since the elastic modulus of the resin layer is not determined only by the ultraviolet-curable compound used, in the present invention, the ultraviolet-curable compound, the photopolymerization initiator, or their contents, ultraviolet irradiation conditions, atmosphere, etc. A desired resin layer is formed by combining the above conditions.
<具体的構成> 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。<Specific Configuration> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.
本発明の光ディスクは、基板上に、放射線を照射して
硬化させた樹脂層を有する。The optical disk of the present invention has a resin layer cured by irradiation with radiation on a substrate.
この場合、本発明は、情報を予め担持している再生専
用の光ディスクおよび情報を担持させうる記録層を有す
る光記録ディスクの双方である。In this case, the present invention is both a read-only optical disk that previously carries information and an optical recording disk that has a recording layer capable of carrying information.
ただし、ここでは好適例として第1図に示される光磁
気記録ディスクを例に挙げて説明する。However, here, the magneto-optical recording disk shown in FIG. 1 will be described as a preferred example.
この光磁気記録ディスク1は、基板2上に、樹脂層
3、保護層4、中間層5、記録層6、保護層7、保護コ
ート8、接着剤層9、保護基板10を順次有する片面記録
タイプである。This magneto-optical recording disk 1 has a single-sided recording in which a resin layer 3, a protective layer 4, an intermediate layer 5, a recording layer 6, a protective layer 7, a protective coat 8, an adhesive layer 9, and a protective substrate 10 are sequentially formed on a substrate 2. Type.
本発明において、基板2は、記録光および再生光に対
して透明なものであり、その材質には、従来光ディスク
の基板材質として公知のガラスや樹脂等を用いればよ
く、用途等に応じて適宜選択される。この場合好ましく
は樹脂製あるいはガラス製とし、より好ましくはガラス
製とする。In the present invention, the substrate 2 is transparent to recording light and reproduction light, and its material may be glass or resin known as a substrate material of a conventional optical disk, and may be appropriately set according to the application. Selected. In this case, it is preferably made of resin or glass, and more preferably made of glass.
基板2をガラスにより構成すれば、耐熱性、耐湿性が
向上し、複屈折もほとんど生じない。When the substrate 2 is made of glass, heat resistance and moisture resistance are improved and birefringence hardly occurs.
ガラス製基板の場合は、強化ガラスから構成すること
が好ましい。強化ガラスを用いることにより、より高い
剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。In the case of a glass substrate, it is preferable to be made of tempered glass. By using tempered glass, higher rigidity and better weather resistance and durability can be obtained.
本発明で用いる強化ガラスに特に制限はなく、通常の
強化法を用いて強化した物理強化ガラスや化学強化ガラ
スを使用すればよいが、好ましくは化学強化ガラスを使
用する。There is no particular limitation on the tempered glass used in the present invention, and physical strengthened glass or chemically strengthened glass strengthened by a normal tempering method may be used, but preferably chemically strengthened glass is used.
また、樹脂製基板の場合、例えばアクリル樹脂、ポリ
カーボネート、エポキシ樹脂、ポリメチルペンテン、ポ
リオレフィン、等が好適である。In the case of a resin substrate, for example, acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin, polymethylpentene, polyolefin and the like are suitable.
基板2の形状は、ディスク状であり、外径は、通常50
〜360mm程度、内径は、通常15〜60mm程度、厚さは、通
常0.5〜2mm程度である。The shape of the substrate 2 is a disk shape and the outer diameter is usually 50
The diameter is usually about 15 to 60 mm, and the thickness is usually about 0.5 to 2 mm.
なお、基板2は、公知の方法に従い製造すればよい。 The substrate 2 may be manufactured according to a known method.
基板2上には、樹脂層3が設層れさる。 On the substrate 2, a resin layer 3 is provided.
樹脂層3は、放射線硬化型化合物ないしその組成物を
紫外線、電子線等の放射線を照射して硬化させた物質か
ら構成され、その表面に、トラッキング用、アドレス用
等のために、ピットあるいはグルーブ等の所定のパター
ンを有する。The resin layer 3 is composed of a radiation-curable compound or a composition obtained by curing the composition by irradiating it with radiation such as ultraviolet rays or electron beams. The resin layer 3 has pits or grooves on its surface for tracking, addressing, and the like. Etc. have a predetermined pattern.
硬化後の樹脂層3の周波数10Hz、20〜100℃の温度範
囲内の各温度における弾性率は、200kgf/mm2以上であ
る。The elastic modulus of the cured resin layer 3 at a temperature of 20 Hz to 100 ° C. at a frequency of 10 Hz is 200 kgf / mm 2 or more.
弾性率が200kgf/mm2未満では、耐熱性等が不十分であ
る。When the elastic modulus is less than 200 kgf / mm 2 , heat resistance and the like are insufficient.
ただしあまり大きすぎると樹脂層3がもろくなりす
ぎ、温湿度変化によりクラックを生ずる可能性があるた
め、200〜1500kgf/mm2であることが好ましい。However, if it is too large, the resin layer 3 becomes too brittle, and cracks may occur due to changes in temperature and humidity. Therefore, it is preferably 200 to 1500 kgf / mm 2 .
そして、より好ましくは220〜1500kgf/mm2、特に250
〜1000kgf/mm2である。And, more preferably 220~1500kgf / mm 2, in particular 250
It is a ~1000kgf / mm 2.
弾性率が前記範囲の場合、本発明の効果がより一層向
上する。When the elastic modulus is in the above range, the effect of the present invention is further improved.
また、硬化後の樹脂層3の周波数10Hz、20〜100℃の
温度範囲内の各温度における力学的損失係数tanδは0.0
1〜0.,2である。Further, the mechanical loss coefficient tan δ at each temperature within the temperature range of 10 Hz and 20 to 100 ° C. of the cured resin layer 3 is 0.0
1 to 0,2.
前記範囲をこえると材料の粘性が大きくなってきて、
熱によるグルーブ形状変化がおきやすくなる。Beyond the above range, the viscosity of the material will increase,
The groove shape changes easily due to heat.
前記範囲未満では、樹脂層3自体がもろくなりすぎ、
温湿度変化によりクラックが生じやすい。また、フィル
ム形成能力がおちてしまう。Below the range, the resin layer 3 itself becomes too brittle,
Cracks tend to occur due to changes in temperature and humidity. In addition, the film forming ability falls.
そして、より好ましくは0.05〜0.2、特に0.05〜0.18
であることが好ましい。And more preferably 0.05-0.2, especially 0.05-0.18
It is preferred that
tanδが前記範囲の場合、本発明の効果がより一層向
上する。When tan δ is within the above range, the effects of the present invention are further improved.
弾性率および力学的損失係数tanδは以下のようにし
て測定される。The elastic modulus and the mechanical loss coefficient tan δ are measured as follows.
樹脂層を例えば離型紙上に厚さ100〜500μmとなるよ
うに形成する。次いで離型紙から樹脂層を剥離し、粘弾
性測定装置を用い、強制振動法により加振周波数10Hz
(正弦波)にて、0〜150℃間で測定する。The resin layer is formed, for example, on release paper so as to have a thickness of 100 to 500 μm. Next, the resin layer was peeled off from the release paper, and using a viscoelasticity measuring device, the excitation frequency was 10 Hz by the forced vibration method
(Sinusoidal wave), measured between 0 and 150 ° C.
樹脂層3を構成する樹脂材質は、前記の弾性率が得ら
れれば特に制限はなく、いわゆる2P法に用いられる各種
放射線硬化型化合物から、適宜選択すればよい。The resin material constituting the resin layer 3 is not particularly limited as long as the above elastic modulus can be obtained, and may be appropriately selected from various radiation-curable compounds used in a so-called 2P method.
使用するモノマーとしては、1官能、2官能、3官能
あるいは多官能エステルアクリレート、ウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート等が好適である。As the monomer to be used, monofunctional, bifunctional, trifunctional or polyfunctional ester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate and the like are preferable.
この場合、モノマーは1種だけ用いてもよいが、前記
の弾性率やtanδが得やすい点で2種、場合によっては
3種以上併用してもよい。In this case, only one type of monomer may be used, but two types, or in some cases, three or more types, may be used in view of the above-mentioned elastic modulus and tan δ being easily obtained.
そして前記のモノマーのうち、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等
の3官能モノマーと、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒド
ロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等の2官
能モノマーとの併用が最適である。And among the above monomers, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, trifunctional monomers such as trimethylolpropane trimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate, neopentyl glycol diacrylate hydroxycaperate-modified hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, The combination with a bifunctional monomer such as neopentyl glycol dimethacrylate is optimal.
また、モノマーにかえて、あるいはモノマーに加え
て、オリゴマーを1種あるいは2種以上併用してもよ
い。Further, instead of the monomer or in addition to the monomer, one or more oligomers may be used in combination.
オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレート等
が好適である。As the oligomer, oligoester acrylate and the like are preferable.
多官能オリゴエステルアクリレートとしては、アロニ
ックスM−8100、M−6500(東亜合成化学社製)として
市販されているものを用いることができ、これらは下記
式(A)、(B)で示されるものである。As the polyfunctional oligoester acrylate, those commercially available as ARONIX M-8100 and M-6500 (manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.) can be used, and these are those represented by the following formulas (A) and (B). It is.
(B)AM−NnM−A (M−6500) A:アクリル酸、X:多価アルコール、 M:2価アルコール、Y:多塩基酸 N:2塩基酸 また、モノマーやオリゴマーに加え、通常、光重合開
始剤が添加される。 (B) AM-N n M -A (M-6500) A: acrylic acid, X: polyhydric alcohols, M: 2 dihydric alcohols, Y: polybasic acid N: 2 dibasic acid also added to the monomer or oligomer, Usually, a photopolymerization initiator is added.
使用する光重合開始剤には特に制限がないが、例えば
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−
メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフ
ォリノ−1−プロパノン、ベンゾイン、ベンゾフェノ
ン、ベンジル等が好適である。There is no particular limitation on the photopolymerization initiator used, for example,
2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-
Methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, benzoin, benzophenone, benzyl and the like are preferred.
光重合開始剤の含有量は、1〜10重量%、特に3〜5
重量%が好ましい。The content of the photopolymerization initiator is 1 to 10% by weight, particularly 3 to 5%.
% By weight is preferred.
この場合、本発明では溶剤等の添加物が含有されない
ことが好ましい。In this case, in the present invention, it is preferable that additives such as a solvent are not contained.
このような樹脂層3の設層は、公知の2P法により行な
うことが好ましい。It is preferable to form such a resin layer 3 by a known 2P method.
2P法では、まず、所定のパターンを有するスタンパ表
面に放射線硬化型化合物、好ましくは放射線硬化型化合
物に光重合開始剤を添加したものを展着し、この塗膜上
に基板2を圧接する。この圧接により、スタンパ表面の
パターンを塗膜表面に転写する。In the 2P method, first, a radiation-curable compound, preferably a compound obtained by adding a photopolymerization initiator to the radiation-curable compound, is spread on the surface of a stamper having a predetermined pattern, and the substrate 2 is pressed against the coating film. By this pressing, the pattern on the stamper surface is transferred to the coating film surface.
次いで、基板2を通して放射線好ましくは紫外線を照
射することにより塗膜を硬化させて、樹脂と基板2とを
接着した後、樹脂とスタンパとを剥離する。Next, the coating film is cured by irradiating radiation, preferably ultraviolet light, through the substrate 2 to bond the resin to the substrate 2 and then peel off the resin and the stamper.
以上の工程により、スタンパのパターンが転写された
樹脂層3を、基板2の表面に形成する。Through the above steps, the resin layer 3 to which the pattern of the stamper has been transferred is formed on the surface of the substrate 2.
なお、本発明では、前記のとおり、硬化後の樹脂層3
の弾性率を200kgf/mm2以上に規制しているため、樹脂と
スタンパとの剥離が容易であり、しかも形成されたグル
ーブやピットを良好な形に保持できる。In the present invention, as described above, the cured resin layer 3
Since the elastic modulus of the resin is regulated to 200 kgf / mm 2 or more, the resin and the stamper can be easily separated, and the formed grooves and pits can be maintained in a good shape.
塗膜を紫外線によって硬化させるには、公知の種々の
方法に従えばよい。In order to cure the coating film with ultraviolet rays, various known methods may be used.
例えば、キセノン放電管、高圧水銀灯等の紫外線電球
等を用いればよい。For example, a xenon discharge tube, an ultraviolet lamp such as a high-pressure mercury lamp, or the like may be used.
また、場合によっては電子線等を用いることもでき
る。In some cases, an electron beam or the like can be used.
塗膜の硬化条件には特に制限がなく、例えば下記の条
件とすればよい。The conditions for curing the coating film are not particularly limited, and for example, the following conditions may be used.
放射線照射量:0.3〜2ジュール/cm2程度 なお、硬化時の雰囲気には特に制限がなく、例えば大
気中でよい。Irradiation dose: about 0.3 to 2 joules / cm 2 The atmosphere at the time of curing is not particularly limited, and may be, for example, in the air.
ただし、嫌気硬化性を備えた放射線硬化型化合物を用
いる場合には、Ar等の不活性ガス雰囲気、N2ガス雰囲気
等が好適である。However, when a radiation-curable compound having anaerobic curability is used, an inert gas atmosphere such as Ar, an N 2 gas atmosphere, or the like is suitable.
このようにして形成される樹脂層3の層厚は、好まし
くは5〜100μm、より好ましくは30〜50μmである。The thickness of the resin layer 3 formed in this manner is preferably 5 to 100 μm, more preferably 30 to 50 μm.
前記範囲未満では樹脂層3が薄すぎて、硬化不足にな
り易い。If it is less than the above range, the resin layer 3 is too thin, and it is easy to be insufficiently cured.
前記範囲をこえると樹脂層3が厚すぎて、層の内部が
未硬化になり易く、またシワが発生し易い。When the thickness exceeds the above range, the resin layer 3 is too thick, so that the inside of the layer is apt to be uncured and wrinkles are easily generated.
中間層5は、C/N比を向上させるために設けられ、各
種誘電体物質から形成されることが好ましく、その層厚
は30〜150nm程度であることが好ましい。The intermediate layer 5 is provided to improve the C / N ratio, and is preferably formed of various dielectric materials, and preferably has a thickness of about 30 to 150 nm.
なお、このような中間層材質を後述する記録層6の上
に保護層7として設けて、前記中間層5と併用すること
もできる。併用する場合には、中間層5と保護層7の組
成は同一であっても異なっていてもよい。Incidentally, such a material for the intermediate layer may be provided as a protective layer 7 on the recording layer 6 described later, and used together with the intermediate layer 5. When used together, the compositions of the intermediate layer 5 and the protective layer 7 may be the same or different.
必要に応じて設けられる保護層4および保護層7は、
記録層6の耐食性向上のために設けられるものであり、
これらは少なくとも一方、好ましくは両方が設けられる
ことが好ましい。これら保護層は、各種酸化物、炭化
物、窒化物、硫化物あるいはこれらの混合物からなる無
機薄膜から構成されることが好ましい。また、前述した
ように、上記の中間層材質で形成してもよい。保護層の
層厚は30〜300nm程度であることが耐食性向上の点から
好ましい。The protective layer 4 and the protective layer 7, which are provided as necessary,
It is provided to improve the corrosion resistance of the recording layer 6,
It is preferable that at least one of them, and preferably both of them are provided. These protective layers are preferably composed of an inorganic thin film made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides or mixtures thereof. Further, as described above, it may be formed of the above-mentioned intermediate layer material. The thickness of the protective layer is preferably about 30 to 300 nm from the viewpoint of improving corrosion resistance.
このような保護層4、7や中間層5は、スパッタ法等
の各種気相成膜法等によって形成されることが好まし
い。Such protective layers 4 and 7 and the intermediate layer 5 are preferably formed by various vapor deposition methods such as a sputtering method.
記録層6は、変調された熱ビームあるいは変調された
磁界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記
録情報は磁気−光変換して再生されるものである。In the recording layer 6, information is magnetically recorded by a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.
記録層6は、光磁気記録が行なえるものであればその
材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合
金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッタ、
蒸着法、イオンプレーティング法等により、非晶質膜と
して形成したものであることが好ましい。The material of the recording layer 6 is not particularly limited as long as it can perform magneto-optical recording. An alloy containing a rare earth metal element, particularly an alloy of a rare earth metal and a transition metal, is formed by sputtering,
It is preferably formed as an amorphous film by an evaporation method, an ion plating method, or the like.
希土類金属としては、Tb、Dy、Nd、Gd、Sm、Ceのうち
の1種以上を用いることが好ましい。As the rare earth metal, it is preferable to use one or more of Tb, Dy, Nd, Gd, Sm, and Ce.
遷移金属としては、FeおよびCoが好ましい。 Fe and Co are preferable as the transition metal.
この場合、FeとCoの総含有量は、65〜85at%であるこ
とが好ましい。In this case, the total content of Fe and Co is preferably 65 to 85 at%.
そして、残部は実質的に希土類金属である。 The balance is substantially a rare earth metal.
好適に用いられる記録層の組成としては、TbFeCo、Dy
TbFeCo、NdDyFeCo、NdGdFeCo等がある。Preferred recording layer compositions include TbFeCo, Dy
There are TbFeCo, NdDyFeCo, NdGdFeCo and the like.
なお、記録層中には、10at%以下の範囲でCr、Al、T
i、Pt、Si、Mo、Mn、V、Ni、Cu、Zn、Ge、Au等が含有
されてもよい。In the recording layer, Cr, Al, T
i, Pt, Si, Mo, Mn, V, Ni, Cu, Zn, Ge, Au and the like may be contained.
また、10at%以下の範囲で、Sc、Y、La、Ce、Pr、P
m、Sm、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等の他の希土類金属元
素を含有してもよい。In addition, Sc, Y, La, Ce, Pr, P
Other rare earth metal elements such as m, Sm, Eu, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu may be contained.
このような記録層6の層厚は、通常、10〜1000nm程度
である。The layer thickness of such a recording layer 6 is usually about 10 to 1000 nm.
なお、記録層6の成膜方法によるが、例えばスパッタ
リングの際、ディスクは、60〜100℃程度の温度下にお
かれることがあるが、樹脂層3は、耐熱性が高いため、
熱による変形がほとんどない。Depending on the method of forming the recording layer 6, for example, during sputtering, the disk may be placed at a temperature of about 60 to 100 ° C. However, since the resin layer 3 has high heat resistance,
Almost no deformation due to heat.
このため、機械的精度が高い光磁気記録ディスク1が
得られる。Therefore, a magneto-optical recording disk 1 having high mechanical accuracy can be obtained.
言い換えれば、本発明の効果は、特に気相成膜法のよ
うに高温、例えば60〜100℃程度の温度で記録層6の成
膜が行なわれる場合に顕著に発現する。In other words, the effect of the present invention is remarkably exhibited particularly when the recording layer 6 is formed at a high temperature, for example, at a temperature of about 60 to 100 ° C., as in a vapor deposition method.
保護コート8は、耐食性や、耐擦傷性の向上のために
設けられるものであり、種々の有機系の物質から構成さ
れることが好ましいが、特に、放射線硬化型化合物ない
しその組成物を、電子線、紫外線等の放射線により硬化
させた物質から構成されることが好ましい。The protective coat 8 is provided for improving corrosion resistance and abrasion resistance, and is preferably made of various organic substances. It is preferable to be composed of a substance cured by radiation such as rays or ultraviolet rays.
保護コート8の膜厚は、通常0.1〜100μm程度であ
る。The thickness of the protective coat 8 is usually about 0.1 to 100 μm.
このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビ
ア塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知
の方法を組み合わせて設層すればよい。Such a coating film may be usually formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping.
保護基板10は、記録層6の損傷等を有効に防止するた
めに必要に応じて設けられるものであり、通常、ガラス
製あるいは樹脂製である。The protection substrate 10 is provided as necessary to effectively prevent the recording layer 6 from being damaged, and is usually made of glass or resin.
保護基板10の厚さは、剛性を確保するために、通常、
0.5〜2.0μm程度とする。The thickness of the protective substrate 10 is usually
It is about 0.5 to 2.0 μm.
保護基板10は、例えば、図示されるように接着剤層9
により接着され、基板2と一体化される。The protective substrate 10 may be, for example, an adhesive layer 9 as illustrated.
And integrated with the substrate 2.
用いる接着剤に、特に制限はないが、ホットメルト系
接着剤が好ましい。The adhesive to be used is not particularly limited, but a hot melt adhesive is preferred.
ホットメルト系接着剤は一般に、ベースポリマーを主
体とし、これに粘着付与剤、軟化剤、可塑剤、ワックス
等の添加剤を加えて構成される。A hot-melt adhesive generally comprises a base polymer as a main component and additives such as a tackifier, a softener, a plasticizer, and a wax.
接着に際しては、例えばホットメルト系接着剤を用い
るときには、ロールコータ等を用いればよい。When bonding, for example, when using a hot-melt adhesive, a roll coater or the like may be used.
接着剤層9の厚さは、通常、10〜100μm程度であ
る。The thickness of the adhesive layer 9 is usually about 10 to 100 μm.
以上では、本発明の光ディスクを片面記録型の光磁気
記録ディスクに適用する場合を説明したが、両面記録型
の光磁気記録ディスクにも適用することができる。In the above, the case where the optical disk of the present invention is applied to a single-sided recording type magneto-optical recording disk has been described, but the present invention can also be applied to a double-sided recording type magneto-optical recording disk.
両面記録型の光磁気記録ディスクは、前述した各構成
層を有する基板2を2枚用意して、記録層6が内封され
るように、例えば、接着剤層9により接着して得られ
る。A double-sided recording type magneto-optical recording disk is obtained by preparing two substrates 2 having the above-described respective constituent layers and bonding the recording layer 6 with, for example, an adhesive layer 9 so that the recording layer 6 is enclosed.
また本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層
を有し、反射率変化により記録、再生を行なう光記録デ
ィスクにも適用することができる。In addition, the present invention can be applied to an optical recording disk having a so-called phase-change type recording layer and performing recording and reproduction by changing the reflectance.
このような記録層としては、例えば、特公昭54−4190
2号、特許第1004835号などに記載のTe−Se系合金、特開
昭62−76035号などに記載のTe−Ge系合金、特開昭63−5
6827号などに記載のTe−In系合金、特願昭61−307298
号、特願昭61−307299号などに記載のTe−Sn系合金、特
開昭58−54338号、特許第974257号、特許第974258号、
特許第974257号などに記載のTe酸化物系、その他各種T
e、Seを主体とするカルコゲン系、 Ge−Sn、Si−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じる合金 Ag−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−Al等の結晶構造変化によっ
て色変化を生じる合金、In−Sb等の結晶粒径の変化を生
じる合金などがある。As such a recording layer, for example, Japanese Patent Publication No. 54-4190
2, Te-Se alloys described in Patent No. 100004835, etc., Te-Ge alloys described in JP-A-62-76035, etc., and JP-A-63-5
No. 6827, etc., Te-In alloy, Japanese Patent Application No. 61-307298
No., Japanese Patent Application No. 61-307299, Te-Sn based alloys described in JP-A-58-54338, Patent No. 974257, Patent No. 974258,
Te oxides described in Patent No. 974257, etc., and other various T
e, Se-based chalcogen-based, Ge-Sn, Si-Sn, etc. alloys that produce an amorphous-crystalline transition Color change due to crystal structure change of Ag-Zn, Ag-Al-Cu, Cu-Al, etc. And alloys such as In-Sb that cause a change in crystal grain size.
また、ピット形成により反射率変化を生じるいわゆる
ピット形成型の記録層を有する光記録ディスクにも適用
することができる。Further, the present invention can also be applied to an optical recording disk having a so-called pit forming type recording layer in which a change in reflectance occurs due to pit formation.
ピット形成型の記録層には、シアニン系、フタロシア
ニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系等の色素系、あるいはTeを主体とするTe系等
の材料が用いられる。Pit-forming recording layers include dyes such as cyanine-based, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, anthraquinone-based, azo-based, triphenylmethane-based, pyrylium or thiapyrylium salt-based, and Te-based such as Te-based. Materials are used.
この他、本発明は、光学式ビデオディスク、光学式デ
ジタルオーディオディスク等の再生専用の光ディスクで
あってもよい。ただ、好ましくは、上記のうち気相成膜
法により記録層が形成される金属を含有する記録層、特
に金属記録層を有する相変化型の光記録ディスクと、希
土類金属元素等の金属を含有する記録層、特に金属記録
層を有する光磁気記録ディスクである。In addition, the present invention may be a read-only optical disk such as an optical video disk and an optical digital audio disk. However, preferably, of the above, a recording layer containing a metal on which a recording layer is formed by a vapor deposition method, particularly a phase-change optical recording disk having a metal recording layer, and a metal containing a rare earth metal element or the like. A magneto-optical recording disk having a recording layer, particularly a metal recording layer.
このような金属を含有する記録層を有する光ディスク
の場合、記録層の成膜の際、ディスクが高温下、例え
ば、60〜100℃程度の温度下におかれるため、耐熱性が
高い前記の樹脂層を形成することにより、熱により樹脂
層の変形が防止でき、機械的精度が高い光ディスクが実
現する。In the case of an optical disc having a recording layer containing such a metal, when forming the recording layer, the disc is placed at a high temperature, for example, at a temperature of about 60 to 100 ° C., so that the resin having high heat resistance is used. By forming the layer, deformation of the resin layer due to heat can be prevented, and an optical disc with high mechanical accuracy is realized.
<実施例> 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに
詳細に説明する。<Example> Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.
[実施例1] ガラス製基板2に、順次樹脂層3、ガラス保護層4、
SiNx中間層5、TbFeCo記録層6、SiNx保護層7、および
保護コート8を形成し、最後に接着剤層9により樹脂製
保護基板10を接着して第1図に示される片面記録型の光
磁気記録ディスクを製造した。[Example 1] A resin layer 3, a glass protective layer 4,
A SiNx intermediate layer 5, a TbFeCo recording layer 6, a SiNx protective layer 7, and a protective coat 8 are formed, and finally, a resin protective substrate 10 is adhered by an adhesive layer 9, and a single-sided recording light shown in FIG. A magnetic recording disk was manufactured.
ガラス製基板2は、アルミナケイ酸系の化学強化ガラ
スとし、外径200mm、厚さ1.2mmのディスク状とした。The glass substrate 2 was made of alumina silicate-based chemically strengthened glass and had a disk shape with an outer diameter of 200 mm and a thickness of 1.2 mm.
樹脂層3は2P法により厚さ30μmに形成し、その表面
にはトラッキング用グルーブを形成した。The resin layer 3 was formed to a thickness of 30 μm by a 2P method, and a tracking groove was formed on the surface thereof.
この場合、紫外線硬化性モノマーおよび光重合開始剤
は下記のものを用いた。In this case, the following were used as the ultraviolet curable monomer and the photopolymerization initiator.
紫外線硬化性モノマーA1: トリメチロールプロパントリアクリレート 紫外線硬化性モノマーA2: ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアク
リレート 紫外線硬化性オリゴマーA3: アロンニックス M−8100 A:アクリル酸、X:多価アルコール、 Y:多塩基酸 光重合開始剤B1: 2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 光重合開始剤B2: 2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−
モルフォリノ−1−プロパノン 前記のA1、A2、A3、B1およびB2を表1に示される配合
比(重量比)にて混合して用い、樹脂層が異なるサンプ
ルNo.1〜No.3を製造した。UV curable monomer A1: Trimethylolpropane triacrylate UV curable monomer A2: neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate UV curable oligomer A3: Aronix M-8100 A: acrylic acid, X: polyhydric alcohol, Y: polybasic acid Photopolymerization initiator B1: 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Photopolymerization initiator B2: 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-
Morpholino-1-propanone Samples No. 1 to No. 3 having different resin layers were produced by mixing the above A1, A2, A3, B1 and B2 at the compounding ratio (weight ratio) shown in Table 1.
樹脂の硬化には高圧水銀灯を使用し、硬化条件は下記
のとおりとした。A high-pressure mercury lamp was used for curing the resin, and the curing conditions were as follows.
紫外線照射量:1ジュール/cm2 最大放射束:0.1ワット/cm2 雰囲気:N2ガス中 保護層4、中間層5、記録層6および保護層7は、そ
れぞれ、スパッタ法にて成膜した。UV irradiation amount: 1 Joule / cm 2 Maximum radiant flux: 0.1 Watt / cm 2 Atmosphere: In N 2 gas Protective layer 4, intermediate layer 5, recording layer 6 and protective layer 7 were each formed by a sputtering method. .
また、保護コート8は、オリゴエステルアクリレート
を塗布後、紫外線照射して架橋硬化させることにより、
10μmに設層した。Further, the protective coat 8 is formed by applying an oligoester acrylate and then irradiating ultraviolet rays to crosslink and cure.
The layer was set to 10 μm.
接着剤層9には、ホットメルト系接着剤を用い、ロー
ルコータにより設層し、その厚さを80μmとした。The adhesive layer 9 was formed by using a hot-melt adhesive and using a roll coater to have a thickness of 80 μm.
得られた各サンプルの樹脂層3の20℃、100℃におけ
る弾性率および力学的損失係数tanδは表1に示される
とおりである。The elastic modulus and the mechanical loss coefficient tan δ at 20 ° C. and 100 ° C. of the resin layer 3 of each of the obtained samples are as shown in Table 1.
この場合、弾性率および力学的損失係数tanδの測定
は以下のようにして測定した。In this case, the elastic modulus and the mechanical loss coefficient tanδ were measured as follows.
樹脂層を離型紙上にロールコータを用いて厚さ100〜5
00μmとなるように塗布し、サンプルと同一条件で硬化
させた。得られた樹脂層を離型紙から剥離し、岩本製作
所製粘弾性スペクトロメータにより、加振周波数(正弦
波)10Hzにて、0〜150℃間で測定した。Resin layer on release paper using roll coater, thickness 100 ~ 5
It was applied so as to have a thickness of 00 μm, and was cured under the same conditions as the sample. The obtained resin layer was peeled from the release paper, and measured at 0 to 150 ° C. at an excitation frequency (sine wave) of 10 Hz using a viscoelastic spectrometer manufactured by Iwamoto Seisakusho.
得られた各サンプルを温度80℃、湿度80%RHの雰囲気
中に入れ、500時間保存した。 Each of the obtained samples was placed in an atmosphere at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 80% RH and stored for 500 hours.
そして、この後、光ディスク機械特性測定装置ODA−I
I(新電子工業製)を用いて、各サンプルの機械的精度
を測定した。After that, the optical disk mechanical characteristics measuring device ODA-I
Using I (manufactured by Shin Denshi Kogyo), the mechanical accuracy of each sample was measured.
測定条件は、ディスク回転数:1800rpm、レーザーパワ
ー:1mWとし、ディスクの内周r=55mmから外周r=95mm
まで、5mmおきに、機械精度測定を行なった。The measurement conditions were as follows: disk rotation speed: 1800 rpm, laser power: 1 mW, inner circumference r = 55 mm to outer circumference r = 95 mm
Until then, the machine accuracy was measured every 5 mm.
この結果、比較用サンプNo.3は、トラッキングエラー
が多く、ディスクの偏心加速度、真円度が悪く、ディス
クの機械的精度が低いことが確認された。As a result, it was confirmed that the comparative sample No. 3 had many tracking errors, had poor eccentric acceleration and roundness of the disk, and had low mechanical accuracy of the disk.
これに対し、本発明のサンプルNo.1およびNo.2は、偏
心加速度等が小さく、ディスクの機械的精度が高いこと
が確認された。On the other hand, it was confirmed that the samples No. 1 and No. 2 of the present invention had low eccentric acceleration and the like and high mechanical accuracy of the disk.
なお、本発明のサンプルNo.1およびNo.2は、樹脂層3
を形成する際、すなわち紫外線で硬化した後スタンパと
樹脂とを剥離するのが容易であった。The samples No. 1 and No. 2 according to the present invention correspond to the resin layer 3
It was easy to peel off the stamper and the resin when forming, that is, after curing with ultraviolet light.
そして、スタンパの母型パターンを正確に転写するこ
とができ、しかも形成されたグルーブの形状を良好に保
持することができた。Then, the master pattern of the stamper could be transferred accurately, and the shape of the formed groove could be maintained well.
これらの結果から、本発明の効果が明らかである。 From these results, the effect of the present invention is clear.
[実施例2] 実施例1において、記録層6をTe−Sn−Ge合金にかえ
たほかは同様にして、反射率変化により記録・再生を行
なう相変化型の光記録ディスクサンプルを製造した。Example 2 An optical recording disk sample of a phase change type that performs recording / reproduction by changing the reflectance was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the recording layer 6 was changed to a Te—Sn—Ge alloy.
この場合、記録層6は、高周波マグネトロンスパッタ
にて成膜した。In this case, the recording layer 6 was formed by high-frequency magnetron sputtering.
そして、各サンプルに対し、実施例1と同様の評価を
行なったところ同等の結果が得られた。When the same evaluation as in Example 1 was performed on each sample, equivalent results were obtained.
以上の結果から本発明の効果が明らかである。 The effects of the present invention are clear from the above results.
<発明の効果> 本発明の光ディスクの樹脂層は、耐熱性、耐湿性が高
く、かつ膜強度が高い。<Effect of the Invention> The resin layer of the optical disc of the present invention has high heat resistance, high moisture resistance, and high film strength.
このため、ディスクの製造中間工程において、記録層
等の各層の成膜時に高温下におかれた場合でも熱により
樹脂層が変形しない。For this reason, the resin layer is not deformed by heat even in the case where the recording layer and other layers are formed at a high temperature in the intermediate step of manufacturing the disk.
そして、機械的精度が高い光ディスクが実現する。 And an optical disk with high mechanical accuracy is realized.
加えて、高温、高湿下にてディスクを保存したり、使
用してもディスクの機械的精度を高く保持できる。In addition, the mechanical accuracy of the disk can be kept high even when the disk is stored or used under high temperature and high humidity.
また、2P法にて基板上に樹脂層を形成する際、硬化し
た樹脂をスタンパから容易に剥離できる。When a resin layer is formed on a substrate by the 2P method, the cured resin can be easily peeled off from the stamper.
加えて、形成されたグルーブやピットの形状が良好に
保持され、スタンパの母型ターンが正確に転写された樹
脂層を形成できる。In addition, the shape of the formed grooves and pits is favorably maintained, and a resin layer on which the master mold turn of the stamper is accurately transferred can be formed.
このため、歩留りや量産性が向上する。 For this reason, yield and mass productivity are improved.
第1図は、本発明の光ディスクの1例を示す断面図であ
る。 符号の説明 1……光磁気記録ディスク 2……基板 3……樹脂層 4……保護層 5……中間層 6……記録層 7……保護層 8……保護コート 9……接着剤層 10……保護基板FIG. 1 is a sectional view showing an example of the optical disk of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Magneto-optical recording disk 2 ... Substrate 3 ... Resin layer 4 ... Protective layer 5 ... Intermediate layer 6 ... Recording layer 7 ... Protective layer 8 ... Protective coat 9 ... Adhesive layer 10 ... Protective substrate
Claims (1)
層を有し、 前記樹脂層の周波数10Hz、温度20〜100℃における弾性
率が200kgf/mm2以上であり、 前記樹脂層の周波数10Hz、温度20〜100℃における力学
的損失係数tanδが0.01〜0.2であり、 前記樹脂層上に金属記録層を形成した光ディスク。A resin layer cured by irradiation with radiation on a substrate, wherein the resin layer has a modulus of elasticity at a frequency of 10 Hz and a temperature of 20 to 100 ° C. of 200 kgf / mm 2 or more; An optical disc having a mechanical loss coefficient tan δ at a frequency of 10 Hz and a temperature of 20 to 100 ° C. of 0.01 to 0.2, and a metal recording layer formed on the resin layer.
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