JP3047708B2 - Manufacturing method of ceramic laminated electronic component - Google Patents
Manufacturing method of ceramic laminated electronic componentInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば積層コンデンサ
のようなセラミック積層電子部品の製造方法に関し、特
に、複数の内部電極がセラミック層を介して重なり合っ
ている素子部分の周囲に構成される部分の構造が改良さ
れたセラミック積層電子部品の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component such as a multilayer capacitor, and more particularly, to a method for forming a plurality of internal electrodes around an element portion overlapping with a ceramic layer interposed therebetween. The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic laminated electronic component having an improved structure.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のセラミック積層電子部品の製造方
法の一例を、積層コンデンサを例にとり説明する。2. Description of the Related Art An example of a conventional method of manufacturing a ceramic multilayer electronic component will be described by taking a multilayer capacitor as an example.
【0003】まず、図1に示すように、マザーのセラミ
ックグリーンシート1を用意する。マザーのセラミック
グリーンシート1の上面に、複数の内部電極パターン2
を導電ペーストを印刷することにより形成する。First, as shown in FIG. 1, a mother ceramic green sheet 1 is prepared. A plurality of internal electrode patterns 2 are provided on the upper surface of the mother ceramic green sheet 1.
Is formed by printing a conductive paste.
【0004】次に、内部電極パターン2が印刷されたマ
ザーのセラミックグリーンシート1を複数枚積層し、上
下に内部電極パターンの印刷されていないマザーのセラ
ミックグリーンシート1を適宜の枚数積層し、厚み方向
に加圧し、図2に示すマザーの積層体3を得る。なお、
上記内部電極パターン2が印刷されたセラミックグリー
ンシート1の積層にあたっては、上下の内部電極パター
ン2が積層コンデンサの素子部分を構成するように、複
数枚のセラミックグリーンシート1が積層される。得ら
れた積層体3のA−A線及びB−B線に沿う断面図を図
3(a)及び(b)に示す。Next, a plurality of mother ceramic green sheets 1 on which the internal electrode patterns 2 are printed are laminated, and an appropriate number of mother ceramic green sheets 1 on which the internal electrode patterns are not printed are laminated one above the other. Pressing in the direction, the mother laminate 3 shown in FIG. 2 is obtained. In addition,
When laminating the ceramic green sheets 1 on which the internal electrode patterns 2 are printed, a plurality of ceramic green sheets 1 are laminated so that the upper and lower internal electrode patterns 2 constitute the element portion of the multilayer capacitor. FIGS. 3A and 3B are cross-sectional views of the obtained laminate 3 along the line AA and the line BB.
【0005】次に、図3(a)及び(b)の一点鎖線C
及び一点鎖線Dに沿うように積層体3を切断し、個々の
積層コンデンサ単位の積層体生チップを得る。図4に略
図的に示すように、得られた積層体生チップ4では、内
部電極パターン2が切断されて構成されている複数の内
部電極5,6が、それぞれ、端面4a,4bに露出する
ように配置されている。また、複数の内部電極5,6
は、セラミックグリーンシート層を隔てて重なり合うよ
うに配置されている。さらに、上記内部電極5,6がセ
ラミックグリーンシート層を介して積層されている素子
部分の上方及び下方には、ダミー層4e,4f(図5
(a),(b)参照)が形成されている。また、上記素
子部分の側方、すなわち複数の内部電極5,6が積層さ
れている部分と側面4c,4dとの間には、サイドマー
ジン部4g,4hが構成されている。Next, a dashed line C in FIGS. 3A and 3B
Then, the multilayer body 3 is cut along the dashed line D to obtain a multilayer raw chip for each multilayer capacitor unit. As schematically shown in FIG. 4, in the obtained laminated green chip 4, a plurality of internal electrodes 5, 6 formed by cutting the internal electrode pattern 2 are exposed on the end faces 4a, 4b, respectively. Are arranged as follows. Also, a plurality of internal electrodes 5, 6
Are arranged so as to overlap each other with the ceramic green sheet layer interposed therebetween. Further, above and below the element portion where the internal electrodes 5 and 6 are stacked via the ceramic green sheet layer, dummy layers 4e and 4f (FIG. 5).
(See (a) and (b)). Side margins 4g and 4h are formed on the sides of the element portion, that is, between the side where the plurality of internal electrodes 5 and 6 are stacked and the side surfaces 4c and 4d.
【0006】次に、上記積層体生チップ4を焼成し、焼
結体を得、得られた焼結体の両端面に外部電極を付与
し、積層コンデンサを得る。上記製造方法において、ダ
ミー層4e,4f及びサイドマージン部4g,4hを形
成しておくのは、最終的に得られた積層コンデンサにお
いて、内部電極5,6を外部電極と電気的に接続される
部分を除いて焼結体内に完全に埋設し、側面における短
絡や耐湿性の低下を防止するためである。Next, the laminated green chip 4 is fired to obtain a sintered body, and external electrodes are applied to both end surfaces of the obtained sintered body to obtain a laminated capacitor. In the above manufacturing method, the formation of the dummy layers 4e and 4f and the side margin portions 4g and 4h is because the internal electrodes 5 and 6 are electrically connected to the external electrodes in the finally obtained multilayer capacitor. This is for completely burying the part in the sintered body except for the part to prevent short-circuiting on the side surface and a decrease in moisture resistance.
【0007】上記ダミー層4e,4f及びサイドマージ
ン部4g,4hを構成するための他の方法を、図6を参
照して説明する。この方法では、複数の内部電極8がセ
ラミックグリーンシートを介して重なり合うように配置
された積層体生チップ7を用意する。この場合、積層体
生チップ7の全幅に至るように複数の内部電極8が形成
されている。すなわち、複数の内部電極8は、その両側
面が、積層体生チップ7の両側面7a,7bに露出され
ている。しかる後、積層体生チップ7を得た後に、その
外周側面を覆うようにセラミックスラリー9を付着さ
せ、しかる後焼成する。得られた焼結体では、上記積層
体生チップが焼成されて構成された素子部分の上下及び
左右に上記セラミックスラリー9が焼結して構成された
ダミー層及びサイドマージン部が構成されることにな
る。Another method for forming the dummy layers 4e and 4f and the side margins 4g and 4h will be described with reference to FIG. In this method, a laminated green chip 7 in which a plurality of internal electrodes 8 are arranged so as to overlap with each other via a ceramic green sheet is prepared. In this case, a plurality of internal electrodes 8 are formed so as to reach the entire width of the stacked raw chip 7. That is, the plurality of internal electrodes 8 have both side surfaces exposed to both side surfaces 7 a and 7 b of the laminated green chip 7. Thereafter, after obtaining the laminated green chip 7, a ceramic slurry 9 is adhered so as to cover the outer peripheral side surface, and then fired. In the obtained sintered body, a dummy layer and a side margin portion formed by sintering the ceramic slurry 9 are formed on the upper and lower sides and right and left of the element portion formed by firing the laminated green chip. become.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】積層体生チップ4で
は、素子部分において内部電極5,6が一定の間隔で積
層されているのに対し、図5のダミー層4e,4fやサ
イドマージン部4g,4hが設けられている部分ではそ
のような金属材料が間に介在されていない。従って、積
層体生チップ4を焼成するに際し、素子部分と、他の部
分とで焼結反応の速度や温度が異なるため、得られた焼
結体において、歪みが生じがちであった。すなわち、素
子部分と、ダミー層4e,4fやサイドマージン部4
g,4hが焼成された部分との間で歪みが生じることが
あった。In the laminated raw chip 4, the internal electrodes 5 and 6 are laminated at regular intervals in the element portion, whereas the dummy layers 4e and 4f and the side margin portions 4g in FIG. , 4h, there is no such metal material interposed therebetween. Therefore, when firing the laminated green chip 4, since the sintering reaction speed and temperature are different between the element portion and the other portions, distortion tends to occur in the obtained sintered body. That is, the element portion and the dummy layers 4e and 4f and the side margin portion 4
In some cases, distortion occurred between the portions where g and 4h were fired.
【0009】その結果、デラミネーションや剥がれと称
されている層間剥離現象が発生することがあった。ま
た、上記歪みの発生により、得られた積層コンデンサの
耐熱衝撃性や耐機械的衝撃性が劣化するという問題もあ
った。加えて、上記層間剥離が生じた場合などにおいて
は、高温もしくは高湿環境の下におかれた場合、絶縁抵
抗等の特性が早期に低下することもあった。As a result, a delamination phenomenon called delamination or peeling may occur. Further, there is also a problem that the heat distortion and the mechanical shock resistance of the obtained multilayer capacitor are deteriorated due to the occurrence of the distortion. In addition, when the above-mentioned delamination occurs, when exposed to a high-temperature or high-humidity environment, characteristics such as insulation resistance may be reduced at an early stage.
【0010】さらに、焼結体内の焼結状態が均一でない
ため、同一の焼結体内の層間において、並びに異なる焼
結体間において静電容量などの電気的特性にばらつきが
生じがちであった。Furthermore, since the sintering state in the sintered body is not uniform, electric characteristics such as capacitance tend to vary between layers in the same sintered body and between different sintered bodies.
【0011】図1〜図5を参照して説明した従来法で
は、積層体3は、焼成に先立ち厚み方向に加圧される
が、金型等により積層体3を厚み方向に加圧した場合
に、内部電極5,6が積層されている素子部分とサイド
マージン部とでは、加えられる圧力が異なることにな
る。従って、電極が重なり合っている素子部分と、サイ
ドマージン部とで、圧力の加わり方が異なるため、焼成
前に層間剥離が生じることもあった。In the conventional method described with reference to FIGS. 1 to 5, the laminate 3 is pressed in the thickness direction prior to firing, but when the laminate 3 is pressed in the thickness direction by a mold or the like. In addition, the applied pressure differs between the element portion where the internal electrodes 5 and 6 are stacked and the side margin portion. Therefore, the pressure is applied differently between the element portion where the electrodes overlap and the side margin portion, so that delamination may occur before firing.
【0012】他方、図6に示した積層体生チップ7を用
いる方法では、積層体生チップ7の全幅に至る内部電極
8を用いているため、積層体生チップ7の段階では、圧
着方法の如何に係わらず、圧力が均一に加わるため、層
間剥離現象は生じ難い。しかしながら、この方法におい
ても、セラミックスラリー9を周囲に付着させた後に焼
成した場合、積層体生チップ7と、周囲のセラミックス
ラリー9により構成されている部分とにおいて、焼結反
応温度や速度が異なるため、上記第1の方法と同様に、
デラミネーションや剥がれと称されている層間剥離現象
が生じがちであった。従って、積層コンデンサの耐熱衝
撃性や耐機械的衝撃性が劣化したり、高温・高湿環境の
下におかれた場合に絶縁抵抗などの電気的特性が劣化し
たりするという欠点があった。On the other hand, in the method using the laminated raw chip 7 shown in FIG. 6, the internal electrodes 8 reaching the entire width of the laminated raw chip 7 are used. Regardless of the method, since the pressure is applied uniformly, the delamination phenomenon hardly occurs. However, also in this method, when firing after attaching the ceramic slurry 9 to the surroundings, the sintering reaction temperature and speed are different between the laminated green chip 7 and the portion constituted by the surrounding ceramic slurry 9. Therefore, similar to the first method,
A delamination phenomenon called delamination or peeling tends to occur. Therefore, there has been a defect that the thermal shock resistance and the mechanical shock resistance of the multilayer capacitor are deteriorated, and electrical characteristics such as insulation resistance are deteriorated when the multilayer capacitor is placed in a high temperature and high humidity environment.
【0013】さらに、素子部分の周囲にダミー層やサイ
ドマージン部が存在していたため、焼結に際して必要な
ガスの拡散が十分に進行せず、素子部分における焼結む
らが生じ易かった。その結果、素子部分とその他の部分
との間で焼結反応温度や速度が異なるため、収縮ばらつ
きが生じたり、グレインの成長ばらつきが生じ、容量が
不安定となりがちであった。Further, since a dummy layer and a side margin portion exist around the element portion, diffusion of gas required for sintering does not sufficiently proceed, and sintering unevenness in the element portion is likely to occur. As a result, since the sintering reaction temperature and speed differ between the element portion and the other portions, shrinkage variation or grain growth variation occurs, and the capacity tends to be unstable.
【0014】よって、本発明の目的は、複数の内部電極
がセラミック層を介して重なりあっている素子部分と、
それ以外の部分との間の歪みに起因する種々の欠点を解
消することができ、層間剥離現象の発生を防止すること
ができ、耐熱衝撃性及び耐機械的衝撃性に優れ、電気的
特性のばらつきが少なく、信頼性に優れたセラミック積
層電子部品を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide an element portion in which a plurality of internal electrodes overlap with each other via a ceramic layer;
Various defects caused by distortion between other parts can be eliminated, delamination can be prevented, excellent thermal shock resistance and mechanical shock resistance, and excellent electrical characteristics It is an object of the present invention to provide a ceramic multilayer electronic component with little variation and excellent reliability.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、複数の内部電極がセラミック層を介して重なり合っ
ている素子部分と、素子部分の上下に配置されたダミー
層と、素子部分の側方に配置されたサイドマージン部と
を有するセラミック積層電子部品の製造方法であって、
複数のセラミックグリーンシートを複数の内部電極を間
に介して積層してなり、かつ対向している一対の側面に
前記内部電極が露出されており、前記素子部分及びダミ
ー層のうち少なくとも前記素子部分を構成するための積
層体生チップを用意する工程と、前記積層体生チップを
焼成して、複数の前記内部電極の両側面が外側面に露出
されている焼結体を得る工程と、前記焼結体の前記外側
面を含む4つの側面の周囲にセラミックスラリーまたは
合成樹脂の一方を付着させる工程と、前記セラミックス
ラリーまたは合成樹脂の一方を硬化させて電子部品素子
チップを得る工程と、電子部品素子チップに内部電極と
電気的に接続される外部電極を形成する工程とを備え
る、セラミック積層電子部品の製造方法である。According to the first aspect of the present invention, there is provided an element portion in which a plurality of internal electrodes are overlapped with a ceramic layer interposed therebetween, a dummy layer arranged above and below the element portion, and an element portion. A method for manufacturing a ceramic laminated electronic component having a side margin portion disposed on a side,
A plurality of ceramic green sheets are stacked with a plurality of internal electrodes interposed therebetween, and the internal electrodes are exposed on a pair of opposing side surfaces, and at least the element portion of the element portion and the dummy layer Preparing a laminated green chip for constituting, and firing the laminated green chip to obtain a sintered body in which both side surfaces of the plurality of internal electrodes are exposed to the outer surface, Attaching one of a ceramic slurry or a synthetic resin around four side surfaces including the outer side surface of the sintered body; curing one of the ceramic slurry or the synthetic resin to obtain an electronic component chip; Forming external electrodes electrically connected to the internal electrodes on the component element chip.
【0016】また、請求項2に記載のように、好ましく
は、上記セラミックスラリーまたは合成樹脂を付着させ
る工程が、焼結体を型内に入れ、型内にセラミックスラ
リーまたは溶融状態にある合成樹脂を充填することによ
り行われる。Preferably, in the step of adhering the ceramic slurry or the synthetic resin, the step of attaching the ceramic slurry or the synthetic resin includes placing the sintered body in a mold, and forming the ceramic slurry or the synthetic resin in a molten state in the mold. Is carried out.
【0017】[0017]
【作用】本発明では、内部電極が積層体の全幅に至るよ
うに、内部電極の両側面が対向側面に露出されている積
層体生チップを予め焼成して、複数の内部電極が対向し
ている一対の側面に露出されている素子部分構成用焼結
体を得る。According to the present invention, a laminated green chip having both sides exposed on opposite sides is preliminarily fired so that the internal electrodes reach the entire width of the laminated body, and a plurality of internal electrodes face each other. To obtain a sintered body for element part configuration exposed on a pair of side surfaces.
【0018】そして、上記焼結体を得た後に、外周側面
に、セラミックスラリーまたは合成樹脂を付着させ、硬
化させることにより、電子部品素子チップを得る。従っ
て、電極がセラミック層を介して重なり合っている素子
部分では、焼結の速度及び温度が均一な状態で焼成が進
行し、しかも焼成に際してのガスの拡散性も高められる
歪みの少ない焼結体を得ることができる。すなわち、本
発明は、素子部分のみを先に焼成して、素子部分におけ
る歪みの発生を防止し、内部電極の露出を防止するため
のサイドマージン部については、後工程においてセラミ
ックスラリーや合成樹脂を硬化させることにより構成
し、それによって素子部分における層間剥離現象を防止
したことに特徴を有する。After obtaining the sintered body, a ceramic slurry or a synthetic resin is adhered to the outer peripheral side surface and cured to obtain an electronic component chip. Therefore, in the element portion where the electrodes overlap with the ceramic layer interposed therebetween, the sintering proceeds at a uniform sintering speed and temperature, and a sintered body with less distortion that also enhances the gas diffusivity at the time of sintering is obtained. Obtainable. That is, in the present invention, only the element portion is baked first to prevent the occurrence of distortion in the element portion, and for the side margin portion for preventing the exposure of the internal electrode, ceramic slurry or synthetic resin is used in a later step. It is characterized by being cured, thereby preventing the delamination phenomenon in the element portion.
【0019】なお、セラミックスラリーの硬化は、該セ
ラミックスラリーが付着された焼結体を再度焼成するこ
とにより、合成樹脂の硬化は、焼結体側面に合成樹脂を
付着させた後加熱処理することにより行われる。The hardening of the ceramic slurry is performed by re-firing the sintered body to which the ceramic slurry is attached, and the hardening of the synthetic resin is performed by heating after attaching the synthetic resin to the side surface of the sintered body. It is performed by
【0020】なお、請求項1に記載の発明では、上記の
ように予め焼成される部分は、素子分及びダミー層のう
ち少なくとも素子部分である。すなわち、ダミー層につ
いては、最初に上記焼結体を得るに際し素子部分と一緒
に焼成してもよく、あるいはサイドマージン部を構成す
る際に、上記セラミックスラリーまたは合成樹脂により
構成してもよい。According to the first aspect of the present invention, the portion which is preliminarily baked as described above is at least an element portion of the element portion and the dummy layer. That is, the dummy layer may be fired together with the element portion when the sintered body is first obtained, or may be formed of the ceramic slurry or the synthetic resin when forming the side margin portion.
【0021】また、請求項2に記載の発明では、上記セ
ラミックスラリーまたは合成樹脂を付着させる工程が、
型内に焼結体を入れ、該型内にセラミックスラリーまた
は合成樹脂を充填することにより行われる。従って、焼
結体の周囲に容易にかつ確実にセラミックスラリーまた
は合成樹脂を付着させることができる。According to the second aspect of the present invention, the step of adhering the ceramic slurry or the synthetic resin comprises:
This is performed by placing a sintered body in a mold and filling the mold with a ceramic slurry or a synthetic resin. Therefore, the ceramic slurry or the synthetic resin can be easily and reliably adhered to the periphery of the sintered body.
【0022】[0022]
【実施例の説明】〔第1の実施例〕図7〜図16を参照
して、本発明の一実施例に係るセラミック積層電子部品
の製造方法を説明する。なお、本実施例は、積層コンデ
ンサの製造方法に適用したものであるが、本発明は、積
層コンデンサ以外の他の積層セラミック電子部品の製造
方法にも適用することができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] A method of manufacturing a ceramic laminated electronic component according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Although the present embodiment is applied to a method for manufacturing a multilayer capacitor, the present invention can be applied to a method for manufacturing a multilayer ceramic electronic component other than a multilayer capacitor.
【0023】まず、図7に示すように、矩形形状に打ち
抜かれたマザーのセラミックグリーンシート11を用意
する。次に、マザーのセラミックグリーンシート11上
に複数の内部電極パターン12,12aを形成する。内
部電極パターン12,12aは、導電ペーストをスクリ
ーン印刷することにより、あるいはグラビア転写もしく
は蒸着、メッキもしくはスパッタリングなどの薄膜形成
法により形成することができる。First, as shown in FIG. 7, a mother ceramic green sheet 11 punched into a rectangular shape is prepared. Next, a plurality of internal electrode patterns 12, 12a are formed on the ceramic green sheet 11 of the mother. The internal electrode patterns 12 and 12a can be formed by screen-printing a conductive paste or by a thin film forming method such as gravure transfer or vapor deposition, plating or sputtering.
【0024】内部電極パターン12は、それぞれ、セラ
ミックグリーンシート11の両側縁11a,11bに至
るように形成されている。また、内部電極パターン12
aは、両側縁11a,11bに至るように形成されてい
るが、その幅は、内部電極パターン12に比べて細くさ
れている。また、内部電極パターン12,12aは、図
示のように所定の幅のギャップ領域gを隔てて形成され
ている。The internal electrode patterns 12 are formed so as to reach both side edges 11a and 11b of the ceramic green sheet 11, respectively. In addition, the internal electrode pattern 12
“a” is formed so as to reach both side edges 11 a and 11 b, and the width thereof is smaller than that of the internal electrode pattern 12. The internal electrode patterns 12, 12a are formed with a gap region g having a predetermined width as shown in the figure.
【0025】次に、内部電極パターン12,12aが印
刷されたセラミックグリーンシート11を、内部電極パ
ターン12aが交互に逆の側に位置するように積層し、
厚み方向に加圧することにより、図8及び図9に示す積
層体13を得る。Next, the ceramic green sheets 11 on which the internal electrode patterns 12 and 12a are printed are laminated so that the internal electrode patterns 12a are alternately located on the opposite sides.
The laminate 13 shown in FIGS. 8 and 9 is obtained by pressing in the thickness direction.
【0026】次に、図9(b)に示す一点鎖線Eに沿っ
て積層体13を切断し、図10に示す積層体14を得
る。この積層体14を、長さ方向に沿って所定の寸法ご
とに切断刃15を用いて切断する。Next, the laminate 13 is cut along a dashed line E shown in FIG. 9B to obtain a laminate 14 shown in FIG. The laminated body 14 is cut along the length direction at predetermined dimensions using a cutting blade 15.
【0027】上記切断により、積層体生チップを得、該
積層体生チップを焼成して焼結体17(図11)を得
る。焼結体17では、上記内部電極パターン12,12
aが切断されて構成された複数の内部電極12A,12
Bがセラミック層を介して隔てられて積層されている。
また、複数の内部電極12Aは、焼結体17の端面17
aに、複数の内部電極12Bは、端面17bに引き出さ
れている。さらに、複数の内部電極12A,12Bは、
その両側面が、焼結体17の対向し合っている側面17
c,17dに露出されている。すなわち、上記製造工程
を経て得られるため、焼結体17では、内部電極12
A,12Bが、焼結体17の全幅に至るように配置され
ている。By the above cutting, a laminated green chip is obtained, and the laminated green chip is fired to obtain a sintered body 17 (FIG. 11). In the sintered body 17, the internal electrode patterns 12, 12
a plurality of internal electrodes 12A and 12
B are stacked separated by a ceramic layer.
Further, the plurality of internal electrodes 12 </ b> A
4A, the plurality of internal electrodes 12B are drawn out to the end face 17b. Further, the plurality of internal electrodes 12A and 12B
The opposite side faces 17 of the sintered body 17
c, 17d. That is, since the sintered body 17 is obtained through the above manufacturing process, the internal electrode 12
A and 12B are arranged so as to reach the entire width of the sintered body 17.
【0028】この場合、焼結体17は、積層コンデンサ
の素子部分を構成するものであるが、積層体13の段階
で厚み方向に均一に加圧されており、しかも複数の内部
電極12A,12Bを介して積層されているセラミック
グリーンシート層が均一な状態で構成されているため、
焼結体17内のセラミック層において歪みは生じ難い。
よって、焼結体17において、デラミネーションと称さ
れているような層間剥離現象は生じ難い。In this case, the sintered body 17 constitutes the element portion of the multilayer capacitor, but is uniformly pressed in the thickness direction at the stage of the laminated body 13 and has a plurality of internal electrodes 12A, 12B. Since the ceramic green sheet layer laminated via is configured in a uniform state,
Strain hardly occurs in the ceramic layer in the sintered body 17.
Therefore, in the sintered body 17, the delamination phenomenon, which is called delamination, hardly occurs.
【0029】次に、図12に示す型18を用意する。型
18は、マトリックス上に配置された複数の凹部19を
有する。各凹部19は、上記焼結体17を収納し得る大
きさに構成されている。Next, a mold 18 shown in FIG. 12 is prepared. The mold 18 has a plurality of recesses 19 arranged on a matrix. Each recess 19 is configured to have a size that can accommodate the sintered body 17.
【0030】図13に略図的に示すように、上記凹部1
9内に焼結体17を入れ、しかる後セラミックスラリー
を充填する。使用するセラミックスラリーとしては、比
較的低温で収縮変化の少ないものを使用することが望ま
しい。As schematically shown in FIG.
The sintered body 17 is put into the tube 9 and then filled with a ceramic slurry. As the ceramic slurry to be used, it is desirable to use a ceramic slurry having a relatively low temperature and a small change in shrinkage.
【0031】次に、周囲にセラミックスラリーが付着さ
れたセラミック焼結体17を型18から取り出す。取り
出された構造体を、図14(a)及び(b)に断面図で
示す。Next, the ceramic sintered body 17 around which the ceramic slurry is adhered is taken out of the mold 18. The taken-out structure is shown in a cross-sectional view in FIGS.
【0032】図14から明らかなように、セラミック焼
結体17の周囲に、セラミックスラリー層20が形成さ
れている。次に、焼結体17の両端面17a,17bを
覆っているセラミックスラリーを研磨などの方法により
除去し、図15に示すように、複数の内部電極12A,
12Bを両端面17a,17bに露出させる。As is apparent from FIG. 14, a ceramic slurry layer 20 is formed around the ceramic sintered body 17. Next, the ceramic slurry covering both end faces 17a and 17b of the sintered body 17 is removed by a method such as polishing, and as shown in FIG.
12B is exposed on both end faces 17a and 17b.
【0033】しかる後、焼結体17の外周側面にセラミ
ックスラリー層20が形成された図15に示すチップを
焼成し、セラミックスラリー層20を焼結する。このよ
うにして、図16に示す電子部品素子チップ21を得る
ことができる。なお、図16において、20Aはダミー
のセラミック層を示し、上記セラミックスラリー層20
が焼成されて形成されている。電子部品素子チップ21
の両端面21a,21bを覆うように一対の外部電極2
2,23を形成し、積層コンデンサ24を得る。Thereafter, the chip shown in FIG. 15 having the ceramic slurry layer 20 formed on the outer peripheral side surface of the sintered body 17 is fired, and the ceramic slurry layer 20 is sintered. Thus, the electronic component chip 21 shown in FIG. 16 can be obtained. In FIG. 16, reference numeral 20A denotes a dummy ceramic layer,
Is formed by firing. Electronic component element chip 21
And a pair of external electrodes 2 so as to cover both end faces 21a and 21b.
2 and 23 are formed to obtain a multilayer capacitor 24.
【0034】なお、上記外部電極22,23の形成は、
従来の積層コンデンサの製造方法に従って行うことがで
き、電子部品素子チップ21の両端面21a,21b上
に銀などの金属を含む導電ペーストを塗布し、焼き付け
ることにより、あるいはメッキもしくは蒸着等により行
って形成することができる。なお、外部電極22,23
は、導電ペーストの塗布及び焼き付けにより行う場合に
は、該外部電極の焼き付け温度がセラミックスラリー層
20の焼成温度と近似している場合には、セラミックス
ラリー層20の焼成と外部電極22,23の焼成とを同
一工程により行ってもよい。The external electrodes 22 and 23 are formed as follows.
It can be performed according to a conventional manufacturing method of a multilayer capacitor, by applying and baking a conductive paste containing a metal such as silver on both end surfaces 21a and 21b of the electronic component chip 21, or by plating or vapor deposition. Can be formed. The external electrodes 22 and 23
When the baking temperature of the external electrode is close to the baking temperature of the ceramic slurry layer 20 when applying and baking a conductive paste, the baking of the ceramic slurry layer 20 and the baking of the external electrodes 22 and 23 are performed. The firing may be performed in the same step.
【0035】必要に応じて、上記外部電極22,23の
外表面に、さらにNi及びSn層をメッキしてもよい。
本実施例の積層コンデンサの製造方法では、上記のよう
に素子部分を構成する焼結体17を予め焼成するため、
最終的に得られた積層コンデンサ24において素子部分
に歪みが生じ難く、従ってデラミネーション等が生じ難
い。しかも、焼成に際してのガスの拡散性も高められる
ので、よって、積層コンデンサの耐熱衝撃性や耐機械的
衝撃性が高められ、かつ高温・高湿環境の下におかれた
場合であっても、絶縁抵抗などの電気的特性の低下が起
こり難い。また、焼成に際してのガスの拡散性も高めら
れるので、素子部分の焼結状態が均一となり、静電容量
のばらつきも生じ難く、かつ多数の積層コンデンサを製
造した場合には、異なる積層コンデンサ間の静電容量の
ばらつきも低減することができる。If necessary, the outer surfaces of the external electrodes 22 and 23 may be further plated with Ni and Sn layers.
In the manufacturing method of the multilayer capacitor of the present embodiment, since the sintered body 17 forming the element portion is pre-fired as described above,
In the finally obtained multilayer capacitor 24, distortion is unlikely to occur in the element portion, so that delamination and the like are unlikely to occur. In addition, since the gas diffusivity upon firing is also enhanced, the thermal shock resistance and mechanical shock resistance of the multilayer capacitor are enhanced, and even when the capacitor is placed in a high-temperature, high-humidity environment, Electrical characteristics such as insulation resistance are unlikely to decrease. In addition, since the diffusivity of gas during firing is also enhanced, the sintering state of the element portion is uniform, variation in capacitance is unlikely to occur, and when a large number of multilayer capacitors are manufactured, between different multilayer capacitors, Variations in capacitance can also be reduced.
【0036】上記実施例では、型18内に焼結体17を
投入し、セラミックスラリーを充填することにより、焼
結体17の全外周面にスラリー層20を形成し、しかる
後端面17a,17b上のセラミックスラリー層を研磨
などにより削除したが、予め端面17a,17b上にセ
ラミックスラリーが付着しないように型18の寸法を定
めておいたり、端面17a,17b上にマスク等を付与
しておき、端面17a,17b上にセラミックスラリー
が付着しないようにしておいてもよい。そのようにすれ
ば、上記セラミックスラリーの研磨作業を省略すること
ができる。In the above embodiment, the sintered body 17 is put into the mold 18 and filled with the ceramic slurry to form the slurry layer 20 on the entire outer peripheral surface of the sintered body 17, and the rear end faces 17a, 17b Although the upper ceramic slurry layer was removed by polishing or the like, the dimensions of the mold 18 were determined in advance so that the ceramic slurry did not adhere to the end faces 17a and 17b, or a mask or the like was provided on the end faces 17a and 17b. Alternatively, the ceramic slurry may be prevented from adhering to the end faces 17a and 17b. By doing so, the polishing operation of the ceramic slurry can be omitted.
【0037】次に、上記実施例の効果を確認するために
行った実験及びその結果につき説明する。実験例1 上記実施例の方法に従って、積層コンデンサを作製し
た。原料として、チタン酸バリウムを主成分とするセラ
ミックスラリーを用い、厚み30μmのセラミックグリ
ーンシートを作製した。このセラミックグリーンシート
を矩形形状に打ち抜き、図7に示したマザーのセラミッ
クグリーンシート11を用意した。マザーのセラミック
グリーンシート上に上記実施例に従って内部電極パター
ン12,12aを形成し、電極積層数が30枚となるよ
うに、内部電極パターンの印刷されたセラミックグリー
ンシートを積層し、積層体を得た。なお、上記積層体を
焼成して得られた焼結体の外周側面に付着されるスラリ
ーとしては、チタン酸バリウム系セラミック粉末を主体
とするものを用いた。また、セラミックスラリー層20
の厚みは、300μmとした。Next, an experiment conducted to confirm the effects of the above embodiment and the results thereof will be described. Experimental Example 1 A multilayer capacitor was manufactured according to the method of the above-described embodiment. As a raw material, a ceramic green sheet having a thickness of 30 μm was prepared using a ceramic slurry containing barium titanate as a main component. This ceramic green sheet was punched into a rectangular shape to prepare a mother ceramic green sheet 11 shown in FIG. The internal electrode patterns 12, 12a are formed on the mother ceramic green sheet according to the above embodiment, and the ceramic green sheets on which the internal electrode patterns are printed are laminated so that the number of laminated electrodes is 30 to obtain a laminate. Was. In addition, as the slurry attached to the outer peripheral side surface of the sintered body obtained by firing the above-mentioned laminate, a slurry mainly composed of barium titanate-based ceramic powder was used. The ceramic slurry layer 20
Had a thickness of 300 μm.
【0038】比較のために、上記実施例で用意したマザ
ーのセラミックグリーンシートを用い、従来法に従って
内部電極パターンを印刷し、かつ内部電極積層数が30
枚とされている積層体を得、さらに上下に厚み300μ
mとなるダミー層を構成するために複数枚のセラミック
グリーンシートを積層し、厚み方向に加圧することによ
りマザーの積層体を得た。このマザーの積層体を用い、
従来法に従って、実施例に相当の積層コンデンサを作製
した。なお、この比較例の積層コンデンサにおいても、
サイドマージン部の幅は、実施例と同様に300μmと
した。For comparison, the internal electrode pattern was printed according to the conventional method using the mother ceramic green sheet prepared in the above example, and the number of laminated internal electrodes was 30.
Obtain a laminate having a thickness of 300 μm
A plurality of ceramic green sheets were laminated to form a dummy layer having a thickness of m, and a mother laminate was obtained by pressing in the thickness direction. Using this mother laminate,
According to the conventional method, a multilayer capacitor corresponding to the example was produced. Incidentally, also in the multilayer capacitor of this comparative example,
The width of the side margin portion was 300 μm as in the example.
【0039】上記のようにして得た実施例及び比較例の
積層コンデンサ各500個につき、デラミネーション発
生割合を調べた。また、各積層コンデンサ50個に30
0℃の温度変化を与えて、耐熱衝撃性試験を行い、絶縁
抵抗(IR)の劣化を調べた。絶縁抵抗の劣化が10Ω
以上の場合について不良品とした。さらに、実施例及び
比較例の積層コンデンサにつき下記の要領で高温負荷試
験及び耐湿負荷試験を行った。The delamination occurrence ratio was examined for each of the 500 multilayer capacitors of the embodiment and the comparative example obtained as described above. Also, 30 for each of the 50 multilayer capacitors
A thermal shock resistance test was performed by giving a temperature change of 0 ° C., and deterioration of insulation resistance (IR) was examined. Degradation of insulation resistance is 10Ω
The above cases were regarded as defective. Further, a high temperature load test and a moisture resistance load test were performed on the multilayer capacitors of the examples and the comparative examples in the following manner.
【0040】高温負荷試験… 85℃の温度に250個
の積層コンデンサを2000時間放置した後の絶縁抵抗
の低下を測定した。絶縁抵抗低下値が10Ω以上の場合
を不良品とした。High temperature load test: A decrease in insulation resistance after 250 multilayer capacitors were left at a temperature of 85 ° C. for 2000 hours was measured. The case where the insulation resistance reduction value was 10Ω or more was determined to be defective.
【0041】耐湿負荷試験… 相対湿度95%、85℃
の環境の下に積層コンデンサ250個を2000時間放
置し、放置前後における絶縁抵抗の変化を測定した。絶
縁抵抗の低下が10Ω以上の場合不良品とした。Humidity load test: relative humidity 95%, 85 ° C
250 multilayer capacitors were allowed to stand for 2000 hours in the environment described above, and changes in insulation resistance before and after the standing were measured. When the decrease in insulation resistance was 10Ω or more, it was determined to be defective.
【0042】さらに、実施例及び比較例の積層コンデン
サ72個につき、静電容量を測定し、そのばらつきCV
値(%)を測定した。Further, the capacitance was measured for 72 multilayer capacitors of the example and the comparative example, and their variation CV was measured.
The value (%) was measured.
【0043】[0043]
【表1】 [Table 1]
【0044】表1から明らかなように、デラミネーショ
ン発生割合、耐熱衝撃試験後の絶縁抵抗の劣化、高温負
荷及び耐湿負荷試験後の絶縁抵抗の劣化、並びに静電容
量のばらつきの何れにおいても、従来法により得られた
積層コンデンサに対し、実施例で得られた積層コンデン
サが優れていることが明らかである。As is clear from Table 1, the occurrence rate of delamination, the deterioration of the insulation resistance after the thermal shock test, the deterioration of the insulation resistance after the high-temperature load and the moisture-proof load test, and the variation of the capacitance were all significant. It is clear that the multilayer capacitor obtained in the example is superior to the multilayer capacitor obtained by the conventional method.
【0045】〔第2の実施例〕第1の実施例では、焼結
体17を得た後に、型18内においてセラミックスラリ
ーを投入し、それによって焼結体17の外表面にセラミ
ックスラリー層20を形成していたが、セラミックスラ
リー層の成形に代えて、合成樹脂層を形成してもよい。
すなわち、型18の凹部19内に、合成樹脂を注入し、
硬化させることにより、図17(a),(b)に示すよ
うに、焼結体17の外表面に合成樹脂層25を形成して
もよい。この場合には、合成樹脂層25のうち、焼結体
17の端面17a,17b上の部分を研磨などにより除
去し、しかる後第1の実施例と同様に外部電極を付与す
ることにより、積層コンデンサを構成することができ
る。この第2の実施例から明らかなように、焼結体17
を得た後に、合成樹脂層を焼結体17の外周側面を覆う
ように形成し、それによってサイドマージン部及びダミ
ー層を形成し、素子部分の耐湿性を高めるように構成し
てもよい。[Second Embodiment] In the first embodiment, after a sintered body 17 is obtained, a ceramic slurry is poured into a mold 18 so that a ceramic slurry layer 20 is formed on the outer surface of the sintered body 17. However, instead of forming the ceramic slurry layer, a synthetic resin layer may be formed.
That is, synthetic resin is injected into the concave portion 19 of the mold 18,
By curing, the synthetic resin layer 25 may be formed on the outer surface of the sintered body 17 as shown in FIGS. In this case, the portion of the synthetic resin layer 25 on the end faces 17a and 17b of the sintered body 17 is removed by polishing or the like, and then the external electrodes are provided in the same manner as in the first embodiment, so that the lamination is performed. A capacitor can be configured. As is clear from the second embodiment, the sintered body 17
After obtaining, the synthetic resin layer may be formed so as to cover the outer peripheral side surface of the sintered body 17, thereby forming a side margin portion and a dummy layer, thereby improving the moisture resistance of the element portion.
【0046】第2の実施例においても、焼結体17を得
る工程までは、第1の実施例と同様に行われるため、第
1の実施例と同様に素子部分におけるデラミネーション
の発生を防止することができる。また、素子部分におい
て焼結歪みが生じ難いため、耐熱衝撃性及び耐機械的衝
撃性も高められる。Also in the second embodiment, since the steps up to the step of obtaining the sintered body 17 are performed in the same manner as in the first embodiment, the occurrence of delamination in the element portion is prevented as in the first embodiment. can do. In addition, since sintering distortion hardly occurs in the element portion, thermal shock resistance and mechanical shock resistance are also improved.
【0047】次に、上記のように素子部分を構成する焼
結体17の周囲に合成樹脂層21を形成する第2の実施
例についての具体的な実験例につき説明する。実験例2 酸化チタンを主成分とするセラミックスラリーを用い、
最終的なセラミック層の厚みが30μmとなるように厚
みが制御されたマザーのセラミックグリーンシートを用
意した。内部電極パターン積層枚数が10枚となるよう
に、内部電極パターンの印刷されたマザーのセラミック
グリーンシート11を積層して積層体を得、厚み方向に
加圧した後、個々の積層コンデンサ単位に切断して積層
体生チップを得た。得られた積層体生チップを第1の実
施例と同様にして焼成し、焼結体を得た。得られた焼結
体を、実験例1の場合と同様に型内に配置し、但し、セ
ラミックスラリーに代えて、嫌気状態で硬化するエポキ
シ樹脂を充填し、硬化させ、図17に示した構造を得
た。しかる後、焼結体17の両端面17a,17b上の
合成樹脂層を研磨により削除し、該端面17a,17b
を覆うように外部電極を形成して実施例2の積層コンデ
ンサを得た。なお、サイドマージン部の合成樹脂層の厚
みは約200μmとした。なお、上記実施例2を得る工
程において、マザーの積層体を切断して個々の積層体生
チップを得るに際し、積層体生チップの幅すなわち内部
電極幅を異ならせることにより、種々の積層コンデンサ
を作製した。Next, a specific experimental example of the second embodiment in which the synthetic resin layer 21 is formed around the sintered body 17 constituting the element portion as described above will be described. Experimental Example 2 Using a ceramic slurry containing titanium oxide as a main component,
A mother ceramic green sheet whose thickness was controlled so that the final thickness of the ceramic layer was 30 μm was prepared. The mother ceramic green sheets 11 on which the internal electrode patterns are printed are laminated so that the number of laminated internal electrode patterns becomes 10, a laminated body is obtained, and after pressing in the thickness direction, it is cut into individual laminated capacitor units. Thus, a laminated green chip was obtained. The obtained laminated green chip was fired in the same manner as in the first example to obtain a sintered body. The obtained sintered body is placed in a mold in the same manner as in Experimental Example 1, except that an epoxy resin that cures in an anaerobic state is filled and cured instead of the ceramic slurry, and the structure shown in FIG. 17 is obtained. I got Thereafter, the synthetic resin layer on both end faces 17a and 17b of the sintered body 17 is removed by polishing, and the end faces 17a and 17b are removed.
An external electrode was formed so as to cover the multilayer capacitor to obtain a multilayer capacitor of Example 2. The thickness of the synthetic resin layer in the side margin was set to about 200 μm. Note that, in the step of obtaining the above-described Example 2, when the mother laminate is cut to obtain individual laminate raw chips, the width of the laminate raw chip, that is, the width of the internal electrode is made different, so that various multilayer capacitors can be formed. Produced.
【0048】比較のために、比較例として、従来法に従
って上記実施例2の積層コンデンサに相当の積層コンデ
ンサを作製し、比較例2とした。上記のようにして得た
実施例2及び比較例2の積層コンデンサ各72個につ
き、静電容量を測定した。容量ばらつき(CV値)を、
静電容量の平均値とともに、下記の表2に示す。For comparison, as a comparative example, a multilayer capacitor corresponding to the multilayer capacitor of the above-mentioned Example 2 was manufactured according to a conventional method, and the result was designated as Comparative Example 2. The capacitance was measured for each of the 72 multilayer capacitors of Example 2 and Comparative Example 2 obtained as described above. The capacitance variation (CV value)
Table 2 below shows the average values of the capacitances.
【0049】なお、比較例2においては、積層する内部
電極枚数を変更することより、実施例2の各積層コンデ
ンサと同一の静電容量を実現し得るようにして、種々の
静電容量のサンプルを作製した。結果を下記の表2に示
す。In Comparative Example 2, by changing the number of internal electrodes to be laminated, the same capacitance as each of the multilayer capacitors of Example 2 could be realized, so that various capacitance samples were obtained. Was prepared. The results are shown in Table 2 below.
【0050】[0050]
【表2】 [Table 2]
【0051】表2から明らかなように、第2の実施例の
方法によれば、積層体生チップを切断する際の幅を操作
することにより種々の容量の積層コンデンサを容易に得
ることができ、しかも容量ばらつきを従来例に比べて大
幅に低減し得ることがわかる。As is clear from Table 2, according to the method of the second embodiment, it is possible to easily obtain multilayer capacitors having various capacities by controlling the width at which the laminated green chip is cut. Further, it can be seen that the capacitance variation can be greatly reduced as compared with the conventional example.
【0052】実験例3 セラミックスラリー層20を焼結体17の外周の形成し
たことに代えて、嫌気状態で硬化するエポキシ樹脂を型
内に充填することによりサイドマージン部の幅が300
μmの合成樹脂層25を形成したことを除いては、実験
例1と同様にして、実施例の積層コンデンサを作製し、
実験例1と同様にして評価した。結果を下記の表3に示
す。なお、表3においては、実験例1で用意した比較例
の積層コンデンサの結果についても併せて示す。 EXPERIMENTAL EXAMPLE 3 Instead of forming the ceramic slurry layer 20 on the outer periphery of the sintered body 17, an epoxy resin which hardens in an anaerobic state is filled in the mold so that the width of the side margin portion becomes 300.
Except that the synthetic resin layer 25 of μm was formed, the multilayer capacitor of the example was manufactured in the same manner as in Experimental Example 1.
Evaluation was performed in the same manner as in Experimental Example 1. The results are shown in Table 3 below. In Table 3, the results of the multilayer capacitor of the comparative example prepared in Experimental Example 1 are also shown.
【0053】[0053]
【表3】 [Table 3]
【0054】表3から明らかなように、合成樹脂層によ
りサイドマージン部を構成した場合であっても、実験例
1と同様に、デラミネーション発生割合、耐熱衝撃試
験、高温負荷試験、耐湿負荷試験の何れにおいても比較
例に比べて優れた結果を示し、かつ容量ばらつきも小さ
いことがわかる。As is apparent from Table 3, even when the side margin portion is formed by the synthetic resin layer, the delamination occurrence ratio, the thermal shock test, the high-temperature load test, and the moisture-resistant load test are performed in the same manner as in Experimental Example 1. It can be seen that in each case, the results are superior to those of the comparative example, and the variation in capacitance is small.
【0055】[0055]
【発明の効果】本発明によれば、内部電極が全幅に至る
積層体生チップを焼成することにより、素子部分を構成
するための焼結体が予め用意され、該焼結体の周囲にセ
ラミックスラリーや合成樹脂を付着させて硬化させるこ
とにより、少なくともサイドマージン部が構成される。According to the present invention, a sintered body for forming an element portion is prepared in advance by firing a laminated green chip having an internal electrode having a full width, and a ceramic is provided around the sintered body. At least a side margin portion is formed by attaching and curing a rally or a synthetic resin.
【0056】従って、素子部分を構成している焼結体
は、均一な状態で焼成されるため、焼結歪みが生じ難
く、デラミネーションと称されているような層間剥離現
象を防止することができる。また、焼結体内に大きな歪
みが残留していないため、耐熱衝撃性及び耐機械的衝撃
性が高められる。特に、周囲を合成樹脂層で被覆した場
合には、該合成樹脂による緩和作用により、耐機械的衝
撃性が一層高められる。Accordingly, since the sintered body constituting the element portion is fired in a uniform state, sintering distortion hardly occurs, and it is possible to prevent a delamination phenomenon called delamination. it can. Further, since no large strain remains in the sintered body, the thermal shock resistance and the mechanical shock resistance are improved. In particular, when the periphery is covered with a synthetic resin layer, mechanical shock resistance is further enhanced by the relaxation effect of the synthetic resin.
【0057】さらに、素子部分を構成している焼結体内
部に大きな歪みが残留していないため、並びに周囲をセ
ラミックスラリーを焼成することにより構成されたセラ
ミック層や合成樹脂層で覆われているため、メッキ処理
などの化学処理に伴う素子部分の劣化が生じ難く、かつ
耐湿性も高められる。従って、積層セラミック電子部品
の信頼性を高め得る。Further, since no large strain remains inside the sintered body constituting the element portion, the periphery is covered with a ceramic layer or a synthetic resin layer formed by firing a ceramic slurry. Therefore, deterioration of the element portion due to chemical treatment such as plating is unlikely to occur, and moisture resistance is also improved. Therefore, the reliability of the multilayer ceramic electronic component can be improved.
【0058】加えて、素子部分を構成しているセラミッ
ク内に大きな歪みが残留していないため、並びに焼成に
際してのガス拡散性が改善されるため、均一な焼結体
(素子部分)を得ることができ、それによって静電容量
等の電気的特性のばらつきを著しく小さくすることがで
きる。In addition, since a large strain does not remain in the ceramic constituting the element portion and the gas diffusivity upon firing is improved, a uniform sintered body (element portion) is obtained. Accordingly, variations in electrical characteristics such as capacitance can be significantly reduced.
【0059】また、従来は、セラミック焼成に際しての
ばらつきや各種加工ばらつきにより、外形寸法がばらつ
く場合があったが、請求項2に記載のように、セラミッ
クスラリーや合成樹脂により焼結体の周囲に少なくとも
サイドマージン部を構成する場合には、使用する型の寸
法により最終的に得られるセラミック積層電子部品の外
形を決定することができるので、外形寸法のばらつきを
低減することも可能となる。In the past, the external dimensions sometimes fluctuated due to variations during firing of ceramics and various processing variations. However, as described in claim 2, a ceramic slurry or synthetic resin surrounds the sintered body. When at least the side margin portion is formed, the outer shape of the finally obtained ceramic laminated electronic component can be determined by the size of the mold to be used, so that the variation in the outer size can be reduced.
【図1】従来法で用いられるマザーのセラミックグリー
ンシートを示す平面図。FIG. 1 is a plan view showing a mother ceramic green sheet used in a conventional method.
【図2】従来法で用意される積層体を示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view showing a laminate prepared by a conventional method.
【図3】(a)及び(b)は、図2のA−A線及びB−
B線に沿う断面図。FIGS. 3 (a) and 3 (b) are views taken along lines AA and B-
Sectional drawing which follows the B line.
【図4】従来法で用意される積層体生チップを説明する
ための略図的斜視図。FIG. 4 is a schematic perspective view for explaining a laminated raw chip prepared by a conventional method.
【図5】(a)及び(b)は、図4の積層体生チップの
横断面図及び縦断面図。5 (a) and (b) are a cross-sectional view and a vertical cross-sectional view of the laminated green chip of FIG.
【図6】従来の積層コンデンサの他の例を説明するため
の斜視図。FIG. 6 is a perspective view for explaining another example of a conventional multilayer capacitor.
【図7】実施例で用意されるマザーのセラミックグリー
ンシート及びその上に形成される内部電極パターンを示
す平面図。FIG. 7 is a plan view showing a mother ceramic green sheet prepared in an example and internal electrode patterns formed thereon.
【図8】実施例で用意されるマザーの積層体を示す斜視
図。FIG. 8 is a perspective view showing a mother laminate prepared in the embodiment.
【図9】(a)及び(b)は、図8のA−A線及びB−
B線に沿う各断面図。9 (a) and (b) are lines AA and B-
Each sectional view which follows the B line.
【図10】実施例においてマザーの積層体を切断する工
程を示す斜視図。FIG. 10 is a perspective view showing a step of cutting the mother laminate in the embodiment.
【図11】実施例で用意された焼結体を示す斜視図。FIG. 11 is a perspective view showing a sintered body prepared in an example.
【図12】焼結体が入れられる凹部を有する型を示す斜
視図。FIG. 12 is a perspective view showing a mold having a concave portion into which a sintered body is placed.
【図13】型内の凹部に焼結体を充填した状態を示す模
式的斜視図。FIG. 13 is a schematic perspective view showing a state in which a sintered body is filled in a concave portion in a mold.
【図14】(a)及び(b)は、焼結体の周囲にセラミ
ックスラリーを形成した状態を示す各断面図。FIGS. 14 (a) and (b) are cross-sectional views showing a state in which a ceramic slurry is formed around a sintered body.
【図15】焼結体の両端面に設けられたセラミックスラ
リーを研磨により除去した状態を示す断面図。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state in which ceramic slurry provided on both end surfaces of the sintered body has been removed by polishing.
【図16】実施例で得られた積層コンデンサを示す断面
図。FIG. 16 is a sectional view showing the multilayer capacitor obtained in the example.
【図17】(a)及び(b)は、第2の実施例において
焼結体の周囲に合成樹脂層を形成した状態を示す縦断面
図及び横断面図。17A and 17B are a longitudinal sectional view and a transverse sectional view showing a state in which a synthetic resin layer is formed around a sintered body in the second embodiment.
11…マザーのセラミックグリーンシート 12,12a…内部電極パターン 13…マザーの積層体 14…積層体 12A,12B…内部電極 17…焼結体 17a,17b…焼結体の端面 17c,17d…焼結体の側面 18…型 19…凹部 20…セラミックスラリー層 21…電子部品素子チップ 22,23…外部電極 24…積層コンデンサ 25…合成樹脂層 11: Mother ceramic green sheet 12, 12a: Internal electrode pattern 13: Mother laminated body 14: Laminated body 12A, 12B: Internal electrode 17: Sintered body 17a, 17b: End face of sintered body 17c, 17d: Sintered Side surface of body 18 ... Mold 19 ... Depression 20 ... Ceramic slurry layer 21 ... Electronic component chip 22, 23 ... External electrode 24 ... Multilayer capacitor 25 ... Synthetic resin layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米田 康信 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株 式会社村田製作所内 (56)参考文献 特開 平4−39916(JP,A) 特開 昭59−34622(JP,A) 特開 平6−204271(JP,A) 特開 昭62−226613(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 4/12 - 4/42 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yasunobu Yoneda 2-26-10 Tenjin, Nagaokakyo-shi, Kyoto Murata Manufacturing Co., Ltd. (56) References JP-A-4-39916 (JP, A) JP-A Sho 59-34622 (JP, A) JP-A-6-204271 (JP, A) JP-A-62-226613 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01G 4/12 -4/42
Claims (2)
重なり合っている素子部分と、素子部分の上下に配置さ
れたダミー層と、素子部分の側方に配置されたサイドマ
ージン部とを有するセラミック積層電子部品の製造方法
であって、 複数のセラミックグリーンシートを複数の内部電極を間
に介して積層してなり、かつ対向している一対の側面に
前記内部電極が露出されており、前記素子部分及びダミ
ー層のうち少なくとも前記素子部分を構成するための積
層体生チップを用意する工程と、 前記積層体生チップを焼成して、複数の前記内部電極の
両側面が外側面に露出されている焼結体を得る工程と、 前記焼結体の前記外側面を含む4つの側面の周囲にセラ
ミックスラリーまたは合成樹脂の一方を付着させる工程
と、 前記セラミックスラリーまたは合成樹脂の一方を硬化さ
せて電子部品素子チップを得る工程と、 電子部品素子チップに内部電極と電気的に接続される外
部電極を形成する工程とを備える、セラミック積層電子
部品の製造方法。1. A ceramic comprising: an element portion in which a plurality of internal electrodes overlap each other via a ceramic layer; a dummy layer disposed above and below the element portion; and a side margin portion disposed on a side of the element portion. A method of manufacturing a laminated electronic component, comprising: laminating a plurality of ceramic green sheets with a plurality of internal electrodes interposed therebetween, and exposing the internal electrodes to a pair of opposing side surfaces; A step of preparing a laminate raw chip for constituting at least the element portion of the portion and the dummy layer; and sintering the laminate raw chip so that both side surfaces of the plurality of internal electrodes are exposed to outer surfaces. Obtaining a sintered body, and applying one of a ceramic slurry or a synthetic resin around four side surfaces including the outer side surface of the sintered body; Or a step of obtaining an electronic component device chip while curing the synthetic resin, and a step of forming external electrodes which are connected electrically with the internal electrodes on the electronic component element chip, a manufacturing method of a ceramic multilayer electronic part.
の一方を付着させる工程が、前記焼結体を型内に入れ、
型内においてセラミックスラリーまたは溶融状態にある
合成樹脂を充填することにより行われる、請求項1に記
載のセラミック積層電子部品の製造方法。2. The step of adhering one of the ceramic slurry or the synthetic resin includes: placing the sintered body in a mold;
The method for manufacturing a ceramic laminated electronic component according to claim 1, wherein the method is performed by filling a ceramic slurry or a synthetic resin in a molten state in a mold.
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- 1993-10-20 JP JP5262393A patent/JP3047708B2/en not_active Expired - Lifetime
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