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JP2913500B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2913500B2
JP2913500B2 JP5342886A JP34288693A JP2913500B2 JP 2913500 B2 JP2913500 B2 JP 2913500B2 JP 5342886 A JP5342886 A JP 5342886A JP 34288693 A JP34288693 A JP 34288693A JP 2913500 B2 JP2913500 B2 JP 2913500B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電界効果トランジスタ等
の半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図5に示すように、金属放熱板1の上に
電界効果トランジスタチップ2を固着すると共に、セラ
ミック製の絶縁体枠3を固着し、この絶縁体枠3に金属
片から成る外部リード4を固着し、チップ2と外部リー
ド4とを内部リード線5で接続し、チップ2を保護樹脂
(図示せず)で被覆して電界効果トランジスタを構成す
ることが知られている。なお、図5には図示はされてい
ないが、セラミック絶縁体枠3の上面に金属膜を設け、
ここに外部リード4を固着することがある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図5では絶
縁体枠3がセラミックであるので高価になるばかりでな
く、金属片から成る外部リード4を絶縁体枠3に固着す
るので、組立作業が煩雑になり、必然的に半導体装置が
コスト高になった。
【0004】そこで、本発明の目的はコストの低減を図
ることができる半導体装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、半導体素子と放熱体と外部接続体と内部接
続体とから成り、前記半導体素子は前記放熱体の一方の
主面に固着され、前記外部接続体は絶縁部材とこの表面
に形成された導体膜とから成り、前記絶縁部材は前記放
熱体の一方の主面に直接又は導体膜を介して固着された
第1の部分と前記放熱体の一方の主面の延長方向に前記
放熱体の一方の主面から張り出した第2の部分とを有
し、前記絶縁部材の前記第1の部分の主面の少なくとも
一部及び前記第2の部分の主面の少なくとも一部に導体
膜が設けられ、前記第1の部分の導体膜と前記第2の部
分の導体膜とは互いに接続され、前記半導体素子と前記
第1の部分の前記導体膜とが前記内部接続体によって電
気的に接続され、前記絶縁部材の前記第2の部分が可撓
性を有している半導体装置に係わるものである。なお、
請求項2に示すように、絶縁部材に環状部分と外部リー
ド用部分とを設け、環状部分によって半導体素子を囲む
ことが望ましい。また、請求項3に示すように外部リー
部分を帯状に形成することが望ましい。また、請求
項4に示すように保護樹脂を設けることが望ましい。
【0006】
【発明の作用及び効果】各請求項の発明によれば、外部
リードを金属片によって独立に形成しないで絶縁部材に
導体膜を形成することによって得るので、組立作業が容
易になり、コストの低減を図ることができる。また、請
求項2の発明によれば、絶縁部材の環状部分によって半
導体素子を取り囲むので、環状部分が半導体素子の容器
として機能し、半導体素子が保護される。また、請求項
1及び3の発明によれば、絶縁部材の第2の部分又は
リード用部分が可撓性を有するので、外部回路装置に
対する接続を容易に達成することができる。また、請求
項4の発明によれば半導体素子の保護を良好に達成する
ことができる。
【0007】
【実施例】次に、図1〜図4を参照して本発明の実施例
に係わる電界効果トランジスタについて説明する。図1
の電界効果トランジスタ10は、銅片にニッケルと金の
メッキを順次施した厚さ約0.6mmの放熱体即ち放熱
板11と、ポリイミド樹脂板から成り可撓性を有する厚
さ約0.1mmの絶縁部材12と、半導体素子としての
電界効果トランジスタチップ13とを有する。
【0008】放熱板11は一方の主面に突起状の台座部
11aを有しており、電界効果トランジスタチップ13
はこの台座部11aに半田14によって固着されてい
る。なお、台座部11aの一方の側に形成された突起部
11bはチップ13の位置決め部として機能する。本実
施例の放熱板11の平面形状は略正方形となっている
が、円形等にしてもよい。
【0009】絶縁部材12は多数装置分の絶縁部材を製
作できる大面積のポリイミド樹脂板を打ち抜き加工して
形成されたものであり、図2及び3に示すように環状
(枠状)の第1の部分12aとこの第1の部分12aの
両側に帯状に張り出した第2及び第3の部分12b、1
2cとを備えている。外部リードとして機能する第2及
び第3の部分12b、12cは略四角形の第1の部分1
2aよりも幅狭の帯状部分であるが、第1の部分12a
との境界領域の強度を高めるために境界領域が先端より
も幅広に形成されている。
【0010】本体部又はチップ収容部又は素子保護部又
は環状部分と呼ぶことができる第1の部分12aはこの
一方の主面(上面)から他方の主面(下面)に貫通して
いる四角形のチップ収容孔18を有する。第1の部分1
2aの上面には一対のソース接続用導体膜15a、15
bが配設され、また下面にもソース接続用導体膜15c
が配設され、これ等が第1の部分12aの一対の側面に
それぞれ形成された半円状溝12dにおける導体膜によ
って接続されている。
【0011】第1の部分12aから帯状に延びている第
2及び第3の部分12b、12cは少なくともこの主面
に対して垂直な方向に可撓性を有し、弾性変形可能であ
る。この弾性変形量は第2及び第3の部分12b、12
cの先端部がこの第2及び第3の部分12b、12cの
長さの2%以上(好ましくは5%以上)垂直方向に変位
できる量であることが望ましい。各図において第1の部
分12aの左側と第2の部分12bの上面にドレイン接
続用導体膜16aが帯状に配設され、左側の第2の部分
12bの下面にも図1及び図3に示すようにドレイン接
続用導体膜16bが配設され、これ等が第2の部分12
bの先端の側面の溝12eの導体膜16cによって相互
に接続されている。同様に第1の部分12aの右側と第
3の部分12cの上面にゲート接続用導体膜17aが帯
状に配設され、右側の第3の部分12cの下面にもゲー
ト接続用導体膜17bが配設され、これ等が第3の部分
12cの先端の側面の溝12fの導体膜17cによって
相互に接続されている。各導体膜15a、15b、15
c、16a、16b、16c、17a、17b、17c
は絶縁部材12上の銅箔を所定パターンにエッチングす
ることによって形成された下地層の上に銅メッキ層とニ
ッケルメッキ層と金メッキ層とを順次に形成したもので
ある。なお、この各導体層を銅箔を使用しないで金属メ
ッキ層又は金属蒸着層で形成することもできる。また、
溝12d、12e、12fの導体膜を絶縁部材12の上
面及び下面の導体膜と別に形成してもよい。
【0012】合成樹脂から成る絶縁部材12に導体膜1
5a、15b、15c、16a、16b、16c、17
a、17b、17cを設けることによって構成された素
子保護及び外部接続体19は放熱体としての放熱板11
の上面に固着されている。即ち、絶縁部材12の孔18
の中にチップ13が収容されるように素子保護及び外部
接続体19が配置され、第1の部分12aの下面のソー
ス接続用導体膜15cが半田20によって、金属放熱板
11に固着されている。電界効果トランジスタチップ1
3は周知のように上面にドレイン電極、ゲート電極及び
ソース電極を有し、ドレイン電極は内部接続体としての
リード細線21によって上面のドレイン接続用導体膜1
6aに接続され、ゲート電極はリード細線22によって
上面のゲート接続用導体膜17aに接続され、ソース電
極は2本のリード細線23、24によって上面のソース
接続用導体膜15a、15bに接続されている。
【0013】保護樹脂25は図1に示すようにチップ1
3を被覆するようにチップ収容孔18に充填され且つリ
ード細線21〜24を被覆するように第1の部分12a
の上に配設されている。この保護樹脂25は周知のポッ
ティング法又はトランスファモールド法で形成される。
【0014】電界効果トランジスタ10は例えば図4に
示すように使用される。即ち、外部放熱体26に開口2
7を有する回路基板28が半田29で固着されたものを
用意し、回路基板28の開口27に電界効果トランジス
タ10の放熱板11を挿入し、この底面を半田によって
外部放熱体26に固着する。また絶縁部材12のリード
として機能する第2の部分12bのドレイン接続用導体
膜16b、16cを回路基板28の上面の第1の配線導
体31に半田32で固着し、同様に第3の部分12cの
ゲート接続用導体膜17b、17cを回路基板28の上
面の第2の配線導体33に半田34で固着する。この
時、リードとして機能する第2及び第3の部分12b、
12cは可撓性を有するので、従来の金属リードと同様
に回路基板28の配線導体31、33との高さの差を吸
収するように弾性変形して良好に半田接続される。ま
た、半田32、34が第2及び第3の部分12b、12
cの先端の溝12e、12fに挿入されて強固な結合が
達成される。
【0015】また、本実施例ではポリイミド樹脂板の打
ち抜き加工で絶縁部材12を量産することができ、且つ
独立した金属リード片が不要になるので、図5に示す従
来のセラミック製の絶縁体枠3と外部リード4を使用す
るものに比べて大幅なコストの低減が可能になる。
【0016】
【変形例】本発明は上述の実施例に限定されるものでな
く、例えば次の変形が可能なものである。 (1) 溝12d、12e、12fの代りに貫通孔を設
け、ここに導体を充填して上下の導体層を接続すること
ができる。 (2) 第2及び第3の部分12b、12cの可撓性を
この長さの増大を伴わないで得るために、図6に示すよ
うに第1の部分12aと第2及び第3の部分12b、1
2cとの境界領域のみを幅狭にし、これ等の先端を幅広
にし、幅広の先端部で電気的接続を確実に達成してもよ
い。 (3) 図7に示すように、第1の部分12aを第2及
び第3の部分12b、12cよりも厚く形成し、第2及
び第3の部分12b、12cの可撓性を高めてもよい。 (4) 電界効果トランジスタ以外のバイポ−ラトラン
ジスタ、ダイオ−ド等の半導体素子にも適用可能であ
る。また、16aをゲ−ト接続用導体膜、17aをドレ
イン接続用導体膜とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の電界効果トランジスタを図2
のA−A線を拡大して示す断面図である。
【図2】図1の電界効果トランジスタの平面図である。
【図3】図2の素子保護及び外部接続体の底面図であ
る。
【図4】図1の電界効果トランジスタを回路基板に取り
付けた状態を示す断面図である。
【図5】従来の電界効果トランジスタの断面図である。
【図6】変形例の素子保護及び外部接続体の平面図であ
る。
【図7】別の変形例の素子保護及び外部接続体の断面図
である。
【符号の説明】
11 放熱板 12 絶縁部材 13 チップ 16a、16b、16c、17a、17b、17c 導
体膜

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子と放熱体と外部接続体と内部
    接続体とから成り、 前記半導体素子は前記放熱体の一方の主面に固着され、 前記外部接続体は絶縁部材とこの表面に形成された導体
    膜とから成り、 前記絶縁部材は前記放熱体の一方の主面に直接又は導体
    膜を介して固着された第1の部分と前記放熱体の一方の
    主面の延長方向に前記放熱体の一方の主面から張り出し
    た第2の部分とを有し、 前記絶縁部材の前記第1の部分の主面の少なくとも一部
    及び前記第2の部分の主面の少なくとも一部に導体膜が
    設けられ、 前記第1の部分の導体膜と前記第2の部分の導体膜とは
    互いに接続され、 前記半導体素子と前記第1の部分の前記導体膜とが前記
    内部接続体によって電気的に接続され、 前記絶縁部材の前記第2の部分が可撓性を有しているこ
    とを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 半導体素子と放熱体と板状絶縁部材と外
    部リード用導体膜と内部接続体とから成り、 前記半導体素子は前記放熱体の一方の主面の中央に固着
    され、前記絶縁部材は中央に孔を有する環状部分とこの環状部
    分から張り出している外部リード用部分とを有し、 前記環状部分は前記孔の中に前記半導体素子を収容する
    ように配置され且つ前記放熱体の一方の主面に直接又は
    導体膜を介して固着され、 前記外部リード用部分は前記環状部分に支持され且つ前
    記放熱体の一方の主面から張り出すように形成され、 前記外部リード用導体膜は前記絶縁部材の前記環状部分
    及び前記外部リード用部分に形成され、 前記内部接続体は前記半導体素子と前記導体膜とを接続
    ていることを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記外部リード部分は前記環状部分よ
    りも幅狭に形成された帯状部分であり、且つその主面に
    対して垂直な方向に可撓性を有するように形成されてい
    ることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 更に、前記半導体素子を被覆する保護樹
    脂が設けられていることを特徴とする請求項又は
    載の半導体装置。
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