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JP2905981B2 - ３―置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類及びその製造方法並びに除草剤 - Google Patents

３―置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類及びその製造方法並びに除草剤

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JP2905981B2
JP2905981B2 JP2105699A JP10569990A JP2905981B2 JP 2905981 B2 JP2905981 B2 JP 2905981B2 JP 2105699 A JP2105699 A JP 2105699A JP 10569990 A JP10569990 A JP 10569990A JP 2905981 B2 JP2905981 B2 JP 2905981B2
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JP
Japan
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group
hydrogen atom
halogen atom
alkyl group
general formula
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幸三 町谷
友三 三浦
均 西岡
俊太郎 平館
功 柳井
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な３−置換フェニルピラゾール誘導体及
びその製造方法並びに該化合物を有効成分とする除草剤
に関するものである。
本発明者等は作物類に対して薬害が少なく、且つ低薬
量で除草効果を有する新規な化合物を創出すべく、鋭意
研究を重ねた結果、下記一般式（Ｉ）で表される３−置
換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類が文献未記載
の新規化合物であり、且つ低薬量で多くの雑草に対して
優れた除草効果を示し、作物類に対しては薬害の少ない
化合物であることを見出し、本発明を完成させたもので
ある。
特開昭50−117936号、同52−91861号、同54−70270号
及び同55−9062号公報にピラゾール誘導体が除草剤とし
て開示されているが、本発明の一般式（Ｉ）で表される
３−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類は全く
開示されておらず、しかもこれら公報類に開示の化合物
に比して低薬量で優れた除草効果を示し、且つ作物類に
対して薬害の少ないものである。
本発明の３−置換フェニルピラゾール誘導体又はその
塩類は、一般式（Ｉ） ［式中、R1は低級アルキル基、低級ハロアルキル基、フ
ェニル基又は１〜５個の同一又は異なっても良い置換基
を有するフェニル基を示し、R2はハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低
級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロア
ルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級ハロ
アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホイル基又
は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、R3は水素原子
又はハロゲン原子を示し、R4は水素原子、低級アルキル
基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロ
アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキニル
基、ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルコ
キシアルキル基、ハロゲン原子によって置換されても良
い低級アルキルチオアルキル基、シアノアルキル基、低
級アルコキシアルコキシアルキル基、−CO（R5）CO−Ｙ
−R6（式中、R5は水素原子又は低級アルキル基を示し、
R6は水素原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、
低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、低級アルキ
ニル基、低級ハロアルキニル基、低級アルコキシアルキ
ル基又は低級アルキルチオアルキル基を示し、ＹはＯ、
Ｓ又は−Ｎ（R7）−（式中、R7は水素原子、低級アルキ
ル基、低級アルケニル基又は低級アルキニル基を示
す。）を示し、ＹがＯ又はＳの場合、R6はアルカリ金属
原子又は四級アンモニウム塩を示すこともできる。）を
示し、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、ＡはＯ、
Ｓ又は−Ｎ（R7）−（式中、R7は前記に同じ）。を示
す。］ で表される。
本発明の一般式（Ｉ）で表される３−置換フェニルピ
ラゾール誘導体は、例えば下記に図示する製法により製
造することができる。
（式中、R1,R2,R3及びＸは前記に同じくし、A1はＯ又は
−NH−を示し、R4-1は低級アルキル基、低級ハロアルキ
ル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、低級
アルキニル基、低級ハロアルキニル基、ハロゲン原子に
よって置換されても良い低級アルコキシアルキル基、ハ
ロゲン原子によって置換されても良い低級アルキルチオ
アルキル基、シアノアルキル基、低級アルコキシアルコ
キシアルキル基、−CH（R5）CO−Ｙ−R6（式中、R5は水
素原子又は低級アルキル基を示し、R6は水素原子、低級
アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、
低級ハロアルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロア
ルキニル基、低級アルコキシアルキル基又は低級アルキ
ルチオアルキル基を示し、ＹはＯ、Ｓ又は−Ｎ（R7）−
（式中、R7は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基又は低級アルキニル基を示す。）を示し、ＹがＯ又
はＳの場合、R6はアルカリ金属原子又は四級アンモニウ
ム塩を示すこともできる。Ｓはハロゲン原子を示す。） 即ち、一般式（II−１）で表されるピラゾール類を、
不活性溶媒の存在下又は不存在下に、及び塩基の存在下
又は不存在下に、カルボニル化試剤によりカルボニル挿
入反応を行い、一般式（Ｉ−１）で表される３−置換フ
ェニルピラゾール誘導体とし、該３−置換フェニルピラ
ゾール誘導体を単離し又は単離せずして、一般式（II
I）で表されるハライド類とを塩基及び不活性溶媒の存
在下に反応させ、一般式（Ｉ−２）で表される３−置換
フェニルピラゾール誘導体を製造することができる。
Ａ−1.一般式（II−１）→一般式（Ｉ−１） 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進
行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばジクロ
ロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリ
ル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチルセロソル
ブ、ジエチルエーテ等の鎖状エーテル類、ジオキサン、
テトラハイドロフラン等の環状エーテル類、スルホラ
ン、ジメチルスルホン、ジメチルスルホシド等を例示す
ることができるが、本反応はこれらの不活性溶媒に限定
されるものではなく、これらの不活性溶媒は単独で若し
くは混合して使用することもできる。
本反応で使用できるカルボニル化試剤としては、ホス
ゲン、カルボニルジイミダゾール、ジスクシイミドカー
ボネート等を使用することができ、他の方法として二酸
化セレンを触媒として一酸化炭素を付加させる方法等を
例示することができるが、ジスクシイミドカーボネート
を使用するのが好ましい。
本反応は等モル反応であるので、反応試剤を等モル使
用すれば良いが、カルボニル化試剤を過剰に使用するの
が好ましい。
本反応ではカルボニル化試剤としてホスゲンを使用し
た場合、塩基の存在下に行われ、使用できる塩基として
は、無機塩基又は有機塩基を使用することができ、無機
塩基としては、例えばナトリウム、カリウム、マグネシ
ウム若しくはカルシウム等のアルカリ金属又はアルカリ
土類金属の水酸化物、炭酸塩若しくはアルコラート等、
有機塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン
等を例示することができる。
反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範
囲から選択すれば良い。
反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、
数分乃至48時間の範囲である。
反応終了後、反応液から目的物を常法により、例えば
減圧下に不活性溶媒を留去し、必要により再結晶法、カ
ラムクロマトグラフィー法等で精製を行うことにより一
般式（Ｉ−１）で表される３−置換フェニルピラゾール
誘導体を製造することができる。
Ａ−2.一般式（Ｉ−１）→一般式（Ｉ−２） 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進
行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばＡ−１
に例示の不活性溶媒の他に水等を使用することができ、
これらの不活性溶媒は単独で若しくは混合して使用する
こともできる。又、水及び有機溶媒の混合溶媒を使用す
る場合、相間移動触媒の使用も可能である。
本反応は等モル反応であるので、反応試剤を等モル使
用すれば良いが、一般式（III）で表されるハライド類
を過剰に使用しても良い。
本反応で使用できる塩基としては、Ａ−１で使用でき
る無機塩基又は有機塩基を使用することができる。
塩基の使用量は、一般式（Ｉ−１）で表される３−置
換フェニルピラゾール誘導体に対して等モル乃至過剰モ
ルの範囲で使用すれば良い。
反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範
囲から選択すれば良い。
反応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、
数分乃至48時間の範囲である。
反応終了後、反応液から目的物を常法により、例えば
溶媒抽出等の操作を行い、必要により再結晶法、カラム
クロマトグラフィー法等で精製を行うことにより一般式
（Ｉ−２）で表される３−置換フェニルピラゾール誘導
体を製造することができる。
Ａ−3. 一般式（Ｉ）で表されるピラゾール誘導体で、Ａが−
Ｎ（R7）−で表されるピラゾール誘導体は、Ａが−NH−
であるピラゾール誘導体と低級アルキルハライド類、低
級アルケニルハライド類又は低級アルキニルハライド類
とを同様にして反応を行うことにより製造することがで
きる。
（式中、R1,R2,R3,R4-1及びＸは前記に同じく、Ｚはハ
ロゲン原子を示す。） 即ち、一般式（II−２）で表されるピラゾール類を不
活性溶媒の存在下に、チオシアン酸塩と反応させ、次い
で臭素等のハロゲンで環化反応を行い一般式（II−３）
で表されるピラゾール類とし、該一般式（II−３）を単
離し、又は単離せずして不活性溶媒の存在下にジアゾ化
・分解反応を行い一般式（Ｉ−３）で表される３−置換
フェニルピラゾール誘導体とし、該一般式（Ｉ−３）を
単離し、又は単離せずして、更に一般式（III）で表さ
れるハライド類とを塩基及び不活性溶媒の存在下に反応
させ、一般式（Ｉ−４）で表される３−置換フェニルピ
ラゾール誘導体を製造することができる。
Ｂ−1.一般式（II−２）→一般式（II−３） 本反応で使用できる不活性溶媒としては、例えば酢
酸、塩酸等の鉱酸の他に有機酸も使用することができ
る。これらは単独で若しくは水と混合して使用すること
もできる。
本反応で使用できるチオシアン酸塩としては、例えば
チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオ
シアン酸アンモニウム等のチオシアン酸を使用すること
ができる。
チオシアン酸塩の使用量は等モル反応であるので、一
般式（II−２）で表されるピラゾール類に対して等モル
使用すれば良いが、好ましくは過剰に使用するのが良
い。
次いで環化反応に使用するハロゲンとしては塩素、臭
素等のハロゲンを使用することができ、ハロゲンの使用
量は一般式（II−２）で表されるピラゾール類に対して
等モル乃至過剰モルの範囲で使用すれば良いが、好まし
くは過剰に使用するのが良い。
反応温度は、チオシアン塩酸の付加反応及び環化反応
とも、０〜50℃の範囲から選択すれば良い。
反応時間は反応剤の量及び反応温度により一定しない
が、チオシアン酸塩の付加反応及び環化反応を通して数
分乃至48時間の範囲で適宜選択すれば良い。
反応終了後、目的物を含む反応液から常法により、例
えば溶媒抽出法、溶媒留去等により単離することがで
き、必要に応じてカラムクロマトグラフィー法、再結晶
法等により精製することにより一般式（II−３）で表さ
れるピラゾール類を製造することができる。
Ｂ−2.一般式（II−３）→一般式（Ｉ−３） 本反応はジアゾ化及び分解の反応からなり、ジアゾ化
反応は亜硝酸ナトリウムを使用し、亜硝酸ナトリウムは
粉末のまま若しくは適量の水に希釈して使用すれば良
い。
亜硝酸ナトリウムの使用量は一般式（II−３）で表さ
れるピラゾール類に対して等モル使用すれば良く、過剰
に使用することもできる。
反応温度は−５℃乃至５℃の範囲で行うのが良い。
反応に使用する硫酸、酢酸等の鉱酸及びこれらと水と
の混合物を使用することができる。
次いで得られたピラゾール類のジアゾニウム塩を単離
し、又は単離せずして次の分解反応に付せば良い。
分解反応で使用する不活性溶媒としてはジアゾニウム
塩を単離しない場合は、ジアゾ化で使用した不活性溶媒
をそのまま使用すれば良く、単離した場合は30〜70％の
硫酸水溶液等を使用することができる。
分解反応は触媒の存在下に行われ、反応温度は10〜18
0℃の範囲で行われるが、ジアゾニウム塩溶液を不活性
溶媒中に滴下する場合は50〜180℃の範囲で行うのが良
く、触媒として酸化第一銅を使用する場合は10〜50℃の
範囲で行うのが良い。
分解反応で使用できる触媒としては硫酸銅及び酸化第
一銅等を使用することができ、反応系に硝酸銅を加えた
後酸化第一銅を加えれば良い。
硝酸銅及び酸化第一銅の使用量は、硝酸銅では等モル
乃至60倍モルの範囲から適宜選択でき、好ましくは30〜
60倍モルで行うのが良く、酸化第一銅の使用量は触媒量
乃至等モルの範囲で使用すれば良く、好ましくは等モル
前後の量を使用するのが良い。
反応時間は反応剤の量及び反応温度により一定しない
が、ジアゾ化及び分解反応で数分乃至48時間の範囲で適
宜選択すれば良い。
反応終了後、目的物を含む反応液を氷水中に注ぎ、溶
媒抽出等の方法により目的物を単離することができ、必
要に応じて再結晶法、カラムクロマトグラフィー法等に
より精製し、目的とする一般式（Ｉ−３）で表される３
−置換フェニルピラゾール誘導体を製造することができ
る。
C.一般式（Ｉ−３）→一般式（Ｉ−４） 本反応はＡ−２と同様に行うことにより一般式（Ｉ−
４）で表される３−置換フェニルピラゾール誘導体を製
造することができる。
Ｂ−4. 一般式（Ｉ）で表されるピラゾール誘導体で、R2が低
級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル
基、低級ハロアルキルスルフィニル基又は低級ハロアル
キルスルホニル基の場合、R2が低級アルキルチオ基又は
低級ハロアルキルチオ基を有する一般式（Ｉ）で表され
るピラゾール誘導体をメタクロロ過安息香酸等の過酸化
剤により酸化することにより製造することができる。
一般式（Ｉ）で表される３−置換フェニルピラゾール
誘導体の代表的な化合物を第１表に示す。
第１表中、物性が油状物である化合物の核磁気共鳴ス
ペクトル（NMR）のデータを第２表に示す。
一般式（Ｉ）で表される３−置換フェニルピラゾール
誘導体の塩類としては、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸の
他、例えばパラトルエンスルホン酸等の有機酸等の塩類
を例示することができ、これらの塩類は一般式（Ｉ）で
表される３−置換ピラゾール誘導体の適当な鉱酸、有機
酸等で処理することにより製造することができる。
一般式（II−１）又は一般式（II−２）で表されるピ
ラゾール類は以下に図示する方法により製造することが
できる。
（式中、R1,R2,R3,X及びＺは前記に同じくし、R3-1はハ
ロゲン原子を示し、Ｗは水素原子又はハロゲン原子を示
し、R8は低級アルキル基又は低級ハロアルキル基を示
し、R9は低級アルキル基を示す。） 即ち、R2がハロゲン原子の場合、一般式（Ｘ）で表さ
れる化合物と一般式（VI）で表される化合物とを反応さ
せて一般式（IV−４−１）で表されるピラゾール類と
し、R2が低級アルキル基の場合、一般式（XI）で表され
る化合物と一般式（Ｖ）で表されるヒドラジン類とを反
応させて一般式（IV−４−１）で表されるピラゾール類
とし、R2が低級アルコキシ基又は低級ハロアルコキシ基
の場合、一般式（XII）で表される化合物と炭酸ジアル
キルとを反応させて一般式（VII）で表される化合物と
し、該化合物（VII）を一般式（Ｖ）で表されるヒドラ
ジン類及び一般式（IX）で表されるハライド類とを反応
させ、一般式（IV−４−１）で表されるピラゾール類と
し、又はR2が低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキル
チオ基の場合、化合物（VII）とローソン試薬及び一般
式（IX）で表されるハライド類とを反応させて一般式
（IV−４−１）で表されるピラゾール類とするか、若し
くは一般式（XII）で表される化合物と二硫化炭素とを
反応させ、次いで一般式（IX）で表されるハライド類と
反応させて一般式（VIII）で表される化合物とし、該化
合物（VIII）を一般式（Ｖ）で表されるヒドラジン類と
反応させることにより、一般式（IV−４−１）で表され
るピラゾール類を製造することができる。
更に該一般式（IV−４−１）で表されるピラゾール類
をハロゲン化することにより一般式（IV−４−２）で表
されるピラゾール類を製造することができる。
上記の製法により得られた一般式（IV−４）で表され
るピラゾール類をニトロ化し、一般式（IV−３）で表さ
れるピラゾール類とし、該一般式（IV−３）で表される
ピラゾール類でＷがハロゲン原子の場合、一般式（IV−
３）で表されるピラゾール類をアンモニアと反応させて
一般式（VI−５）で表されるピラゾール類とし、更に還
元することにより一般式（II−１−２）で表されるピラ
ゾール類を製造するか、若しくは一般式（IV−３）で表
されるピラゾール類をアルコラート類と反応させて一般
式（IV−２）で表されるピラゾール類とし、更に酸で脱
アルキル化することにより一般式（IV−１）で表される
化合物とし、該一般式（IV−１）で表される化合物を還
元することにより一般式（II−１−１）で表されるピラ
ゾール類とすることができる。
以上の製法により一般式（II−１）で表されるピラゾ
ール類を製造することができる。
又、一般式（II−２）で表されるピラゾール類は、上
記製法で得られる一般式（IV−３）で表されるピラゾー
ル類でＷが水素原子の場合、一般式（IV−３）で表され
るピラゾール類を還元することにより製造することがで
きる。
以下に本発明の代表的な実施例を示すが本発明はこれ
らに限定されるものではない。
実施例1. ５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ
−１−メチルピラゾール−３−イル）−６−フルオロ−
２（3H）−ベンゾオキサゾロンの製造（化合物No.4） ３−（５−アミノ−２−フルオロ−４−ヒドロキシフ
ェニル）−４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−
メチルピラゾール0.61g（1.98ミリモル）をアセトニト
リル60ml中に溶解した溶液に、ジスクシイミドカーボネ
ート0.51g（1.98ミリモル）をアセトニトリル60mlに溶
解した溶液を滴下した。滴下終了後、室温下で３時間反
応を行った。
反応終了後、目的物を含む反応液から溶媒を減圧留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、目的物0.35gを得た。
物性 油状物 収率 53.0％ NMR（CDCl3/TMS,δ値,ppm） 3.82（3H,s）,6.12（1H,t,J＝72Hz）,7.08（1H,d,J＝
9Hz）,7.14（1H,d,J＝5Hz）,11.22（1H,brs）． 実施例2. ５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ
−１−メチルピラゾール−３−イル）−６−フルオロ−
３−（２−プロピニル）−２（3H）−ベンゾオキサゾロ
ンの製造（化合物No.9） ５−（４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−１−メ
チルピラゾール−３−イル）−６−フルオロ−２（3H）
−ベンゾオキサゾロン0.35g（1.05ミリモル）をジメチ
ルスルホキシド17ml及び水酸化カリウム粉末0.09g（1.5
8ミリモル）の混合液に臭化プロパルギル0.19g（1.6ミ
リモル）を加え、室温下で１時間反応を行った。
反応終了後、目的物を含む反応液を冷希塩酸中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗し、無水芒硝で
乾燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をエーテル及びｎ−ヘ
キサンから再結晶して目的物0.25gを得た。
物性 m.p.118.0℃ 収率 64.1％ 実施例3. ６−クロロ−５−（４−クロロ−１−メチル
−５−メチルチオピラゾール−３−イル）−２（3H）−
ベンジチアゾロンの製造（化合物No.1） ３−1. ２−アミノ−６−クロロ−５−（４−クロロ−
１−メチル−５−メチルチオピラゾール−３−イル）ベ
ンゾチアゾールの製造 ３−（５−アミノ−２−クロロフェニル）−４−クロ
ロ−１−メチル−５−メチルチオピラゾール11.3g（39.
2ミリモル）を95％氷酢酸38mlに溶解し、チオシアン酸
アンモニウム7.45g（98ミリモル）を加え、室温下で均
一な溶液になるまで撹拌した。次いで該反応溶液に臭素
7.21g（45.08ミリモル）を氷酢酸11mlに溶解した溶液を
滴下した。滴下終了後、室温下に一夜放置し、次いで反
応液を100℃に加熱し、該反応液に熱水76mlを加え、熱
時に濾過し、濾液を冷却後、炭酸ナトリウムを加えて中
和し、酢酸エチルで目的物を抽出した。抽出液を水、５
％炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄し、無
水芒硝で乾燥後、抽出液を減圧留去し、残渣を酢酸エチ
ルで再結晶することにより目的物を2.47g得た。
物性 結晶物 収率 18.3％ NMR（CDCl3/TMS,δ値,ppm） 2.40（3H,s）,3.96（3H,s）,7.26（1H,s）,7.33（2H,
brs）,7.66（1H,s） ３−2. ６−クロロ−５−（４−クロロ−１−メチル−
５−メチルチオピラゾール−３−イル）−２（3H）−ベ
ンゾチアゾロンの製造 （化合物No.1） ３−１で得られた２−アミノ−６−クロロ−５−（４
−クロロ−１−メチル−５−メチルチオピラゾール−３
−イル）ベンゾチアゾール1.87g（5.4ミリモル）、濃硫
酸4ml、酢酸4ml及び水4mlの混合液を氷浴中で冷却した
後、該混合液に亜硝酸ナトリウム0.41g（5.9ミリモル）
を水2mlに溶解した溶液を０〜５℃の温度下に滴下し、
１時間撹拌反応を行った。次いで硝酸銅78.27g（324ミ
リモル）を水117.4mlに溶解した溶液を滴下し、反応液
の温度を15℃にした後、酸化第一銅0.77g（5.4ミリモ
ル）を加え、発泡が終了するまで反応を行った。
反応終了後、目的物を含む反応液から酢酸エチルで目
的物を抽出した。抽出液を水、５％炭酸水素ナトリウム
水溶液、食塩水で順次洗浄し、無水芒硝で乾燥後、抽出
液を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、目的物0.41gを得た。
物性 油状物 収率 21.9％ NMR（CDCl3/TMS,δ値,ppm） 2.41（3H,s）,3.98（3H,s）,7.07（1H,s）,7.43（1H,
s）,10.18（1H,brs）。
本発明の一般式（Ｉ）で表される３−置換フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類は、例えばノビエ（タイヌ
ビエの俗称、イネ科一年生草、水田の代表的強害草）、
タマガヤツリ（カヤツリグサ科一年生草、水田の害
草）、マツバイ（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水
路、水田に発生、水田の代表的多年生害草）、ウリカワ
（オモダカ科、湿地、溝、水田に発生する多年生害
草）、ホタルイ（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水
路、水田に発生）、エンバク（イネ科一年生草、山野、
畑地に発生）、メヒシバ（イネ科一年生草、畑、樹園地
の代表的強害草）、ギシギシ（タデ科多年生草、畑地、
道端に発生）、コゴメカヤツリ（カヤツリグサ科一年生
草、畑地、道端に発生）、アオビユ（ヒユ科一年生草、
畑地、道端、空地に発生）等の水田、畑地、樹園地、湿
地等に発生する一年生草及び多年生雑草を防除する作用
を有する。
本発明の一般式（Ｉ）で表される３−置換フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類は、出芽前及び出芽後にあ
る雑草に対して優れた防除作用を示すことから、有用植
物の植え付け予定地に予め処理するとか、有用植物の植
え付け後（有用植物が樹園の如く既に定植されている場
合を含有む。）雑草の発生前期から生育期に処理するこ
とにより本発明除草剤の有する特徴ある生理活性を効果
的に発現させることができる。しかし本発明除草剤はこ
のような態様においてのみ使用されねばならないという
ものではなく、例えば本発明除草剤は水田用除草剤とし
て使用することができるばかりでなく、一般雑草の除草
剤としても使用することができ、例えば刈り取り跡、休
耕田畑、畦畔、農道、水路、牧草造成地、墓地、公園、
道路、運動場、建物の周辺の空き地、開墾地、線路、森
林等の一般雑草の駆除の為に使用することもできる。こ
の場合、雑草の発生始期までに処理するのが経済的にも
最も効果的であるが、必ずしもこれに限定されるもので
はなく、生育期にある雑草を防除することが可能であ
る。
本発明の一般式（Ｉ）で表される３−置換フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類を除草剤として使用する場
合、農薬製剤上の定法に従い、使用上都合の良い形状に
製剤して使用するのが一般的である。即ち、本発明の一
般式（Ｉ）で表される３−置換フェニルピラゾール誘導
体又はその塩類は、これらを適当な不活性担体に、又は
必要に応じて補助剤と一緒に、適当な割合に配合して溶
解、分解、懸濁、混合、含浸、吸着若しくは付着させ、
適宜の剤形、例えば懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、粒
剤、粉剤、錠剤等に製剤して使用すれば良い。本発明で
使用できる不活性担体として固体又は液体の何れであっ
ても良く、固体の担体になりうる材料としては、例えば
ダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、
クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉体、植物エキス抽出後の
残渣、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘土類（例えばカ
オリン、ベントナイト、酸性白土等）、タルク類（例え
ばタルク、ピロフィライト等）、シリカ類（例えば珪藻
土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔含水微粉珪素、含
水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品により珪酸
カルシウムを主成分として含むものもある。〕）、活性
炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レンガ粉砕物、フ
ライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム等
の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等の
化学肥料、堆肥等を挙げることができる。これらは単独
で若しくは二種以上の混合物の形で使用される。
液体の担体になりうる材料としては、それ自体溶媒能
を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助剤の助けに
より有効成分化合物を分散させうることとなるものから
選択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示で
きるが、これらは単独で若しくは２種以上の混合物の形
で使用され、例えば水、アルコール類（例えばメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチ
レングリコール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えば
エチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類
（例えばガソリン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、
アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例え
ばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等）、エ
ステル類（例えば酢酸エチル、ジイソプロピルフタレー
ト、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等）、
アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリル類（例
えばアセトニトリル等）、ジメチルスルホキシド類等を
挙げることができる。
他の補助剤としては次に例示する代表的な補助剤をあ
げることができ、これらの補助剤は目的に応じて使用さ
れ、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又
ある場合には全く補助剤を使用しないことも可能であ
る。
有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び／又は湿潤
の目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸
エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエ
チレンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールス
ルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンス
ルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等の界面活性
剤を例示することができる。
又有効成分化合物の分散安定化、粘着及び／又は結合
の目的のために、次に例示する補助剤を使用することも
でき、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポ
リビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト、リ
グニンスルホン酸塩等の補助剤を使用することもでき
る。
固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を使
用することもでき、例えばワックス、ステアリン酸塩、
燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。
懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレンスル
ホン酸縮合物、縮合燐酸塩等の複助剤を使用することも
できる。
消泡剤としては、例えばシリコーン油等の補助剤を使
用することもできる。
有効成分化合物の配合割合は必要に応じて加減するこ
とができ、例えば粉剤或いは粒とする場合は0.01〜50重
量％、又乳剤或いは水和剤とする場合も同様0.01〜50重
量％が適当である。
本発明の一般式（Ｉ）で表される３−置換ピラゾール
誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤は、各種雑
草を枯殺し若しくは生育を抑制するために、そのまま、
又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で殺草若
しくは生育抑制に有効な量を、当該雑草に、又は当該雑
草の発生若しくは生育が好ましくない場所において、茎
葉又は土壌に適用して使用する。
本発明の一般式（Ｉ）で表される３−置換ピラゾール
誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤の使用量は
種々の印紙、例えば目的、対象雑草、雑草又は作物の発
生／生育状況、雑草の発生傾向、天候、環境条件、剤
型、施用方法、施用場所、施用時期等により変動する
が、有効成分化合物としてヘクタール当たり1g〜10Kgの
範囲から目的に応じて適宜選択すれば良い。
本発明の一般式（Ｉ）で表される３−置換ピラゾール
誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤を更に防除
対象草種、防除適期の拡大のため、或いは薬量の低減を
はかる目的で他の除草剤と混合して使用することも可能
である。
以下に本発明の代表的な試験例及び処方例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
試験例1. 出芽前の水稲雑草に対する除草効果 １万分の１アールポットに床土を詰め、予措したノビ
エの種子を播種し、その上に予措したホタルイとコナギ
の種子を混和した土壌を覆土（1cm）し、湛水した。こ
れに本発明化合物（第１表記載の化合物）を有効成分と
する薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理21日
後に除草効果を調査し、無誌と比較して殺草率を算出
し、以下の基準で判定を行った。
除草活性の判定記述 ５……95％以上殺草。
４……70％以上95％未満殺草。
３……50％以上70％未満殺草。
２……30％以上50％未満殺草。
１……10％以上30％未満殺草。
０……10％未満殺草。
結果を第３表に示す。
尚、比較対照化合物Ａは特開昭52−91861号公報第５
頁記載の３−フェニル−５−メチルチオピラゾールを、
Ｂは同公報第４頁の例１に記載の化合物を、Ｃは特開昭
54−70270号公報に記載のNo.8を、そしてＤは特開昭55
−9062号公報第９頁に記載の化合物No.159を比較対照化
合物として使用した。
試験例2. 出芽後の水稲雑草に対する除草効果 １万分の１アールポットに土壤を詰め、水田状態に
し、水田雑草であるノビエ、ホタルイの種子、ミスガヤ
ツリ及びウリカワの塊茎を一葉期になるよう調整した。
これに本発明化合物（第１表記載の化合物）を有効成
分とする薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理
21日後に除草効果を調査し、試験例１と同様にして殺草
率を算出し、判定を行った。同時に水稲に対する薬害を
調査し下記の基準で薬害を判定した。
薬害の判定基準 Ｈ……薬害大。
Ｍ……薬害中。
Ｌ……薬害小。
Ｎ……薬害無。
結果を第４表に示す。
試験例3. 出芽前の畑地雑草に対する除草効果 縦10cm×横20cm×高さ5cmのポリエチレン製バットに
土壤を詰め、これに畑作作物（ダイズ及びコムギ）及び
畑地有害雑草（ノビエ、イチビ、オナモミ、オオイヌノ
フグリ、ヤエムグラ）の種子の播種覆土した。
これに本発明化合物（第１表記載の化合物）を有効成
分とする薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理
14日後に除草効果を調査し、試験例１と同様にして殺草
率を算出し、判定を行った。同時にダイズ及びコムギに
対する薬害を調査し試験例２の基準に従って薬害を判定
した。
結果を第５表に示す。
試験例4. 出芽後の畑地雑草に対する除草効果 縦10cm×横20cm×高さ5cmのポリエチレン製バットに
土壤を詰め、これに下記に示す畑地作物（ダイズ及びコ
ムギ）及び畑地有害雑草（ノビエ、イチビ、オナモミ、
オオイヌノフグリ、ヤエムグラ）の種子を播種覆土し、
各々下記の葉期になるまで生育させ、これに本発明化合
物（第１表記載の化合物）を有効成分とする薬剤を所定
濃度の散布液として処理した。処理14日後に除草効果を
調査し、試験例１と同様にして殺草率を算出し、判定を
行った。同時にダイズ及びコムギに対する薬害を調査し
試験例２の基準に従って薬害を判定した。
供試雑草種及びその葉期並びにダイズ及びコムギの葉
期。
コムギ ２葉期 ダイズ １葉期 ノビエ ２葉期 イチビ ２葉期 オナモミ １葉期 オオイヌノフグリ １葉期 ヤエムグラ ２葉期 結果を第６表に示す。
処方例1. 化合物No.1 50部 クレー・ホワイトカーボンのクレーを主体とする混合
物 45部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 5部 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
処方例2. 化合物No.4 5部 クレー・ベントナイトの混合物 90部 リグニンスルホン酸カルシウム 5部 以上を均一に混合粉砕し、適量の水を加えて混練し、
造粒して粉剤とする。
処方例3. 化合物No.9 50部 キシレン 40部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルとアルキ
ルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 10部 以上を均一に混合溶解して、乳剤とする。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 417/04 ２３１ Ｃ０７Ｄ 417/04 ２３１ (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 403/04 C07D 413/04 C07D 417/04 ＣＡ．ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式（Ｉ） ［式中、R1は低級アルキル基、低級ハロアルキル基、フ
    ェニル基又は１〜５個の同一又は異なっても良い置換基
    を有するフェニル基を示し、R2はハロゲン原子、低級ア
    ルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低
    級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロア
    ルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級ハロ
    アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基又
    は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、R3は水素原子
    又はハロゲン原子を示し、R4は水素原子、低級アルキル
    基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロ
    アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキニル
    基、ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルコ
    キシアルキル基、ハロゲン原子によって置換されても良
    い低級アルキルチオアルキル基、シアノアルキル基、低
    級アルコキシアルコキシアルキル基、−CH（R5）CO−Ｙ
    −R6（式中、R5は水素原子又は低級アルキル基を示し、
    R6は水素原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、
    低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキニル基、低級アルコキシアルキ
    ル基又は低級アルキルチオアルキル基を示し、ＹはＯ、
    Ｓ又は−Ｎ（R7）−（式中、R7は水素原子、低級アルキ
    ル基、低級アルケニル基又は低級アルキニル基を示
    す。）を示し、ＹはＯ又はＳの場合、R6はアルカリ金属
    原子又は四級アンモニウム塩を示すこともできる。）を
    示し、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、ＡはＯ、
    Ｓ又は−Ｎ（R7）−（式中、R7は前記に同じ。）を示
    す。」 で表される３−置換フェニルピラゾール誘導体又はその
    塩類。
  2. 【請求項２】一般式（Ｉ）において、R1は低級アルキル
    基を示し、R2が低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ
    基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基を
    示し、R3がハロゲン原子を示し、R4が水素原子、低級ア
    ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、
    低級アルキニル基又は低級ハロアルキニル基を示し、Ｘ
    が水素原子又はハロゲン原子を示し、ＡがＯ、Ｓ又は−
    Ｎ（R7）−（式中、R7は水素原子、低級アルキル基、低
    級アルケニル基又は低級アルキニル基を示す。）を示す
    請求項第１項記載の３−置換フェニルピラゾール誘導体
    又はその塩類。
  3. 【請求項３】一般式（Ｉ−５） （式中、R1は低級アルキル基、低級ハロアルキル基、フ
    ェニル基又は１〜５個の同一又は異なっても良い置換基
    を有するフェニル基を示し、R2はハロゲン原子、低級ア
    ルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低
    級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロア
    ルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級ハロ
    アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基又
    は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、R3は水素原子
    又はハロゲン原子を示し、Ｘは水素原子又はハロゲン原
    子を示し、A2はＯ又はＳを示す。） で表される３−フェニル置換ピラゾール誘導体と 一般式（III） R4-1・Ｚ （III） ［式中、R4-1は低級アルキウ基、低級ハロアルキル基、
    低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキニル基、ハロゲン原子によって
    置換されても良い低級アルコキシアルキル基、ハロゲン
    原子によって置換されても良い低級アルキルチオアルキ
    ル基、シアノアルキル基、低級アルコキシアルコキシア
    ルキル基、−CH（R5）CO−Ｙ−R6（式中、R5は水素原子
    又は低級アルキル基を示し、R6は水素原子、低級アルキ
    ル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハ
    ロアルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルケニ
    ル基、低級アルコキシアルキル基又は低級アルキルチオ
    アルキル基を示し、ＹはＯ、Ｓ又は−Ｎ（R7）−（式
    中、R7は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基
    又は低級アルキニル基を示す。）を示し、ＹがＯ又はＳ
    の場合、R6はアルカリ金属原子又は四級アンモニウム塩
    を示すこともできる。Ｚはハロゲン原子を示す。］で表
    されるハライド類と反応させることを特徴とする 一般式（Ｉ′） （式中、R1,R2,R3,R4-1,A2及びＸは前記に同じ。） で表される３−置換フェニルピラゾール誘導体又はその
    塩類の製造方法。
  4. 【請求項４】一般式（Ｉ） ［式中、R1は低級アルキル基、低級ハロアルキル基、フ
    ェニル基又は１〜５個の同一又は異なっても良い置換基
    を有するフェニル基を示し、R2はハロゲン原子、低級ア
    ルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ基、低
    級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ハロア
    ルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級ハロ
    アルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基又
    は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、R3は水素原子
    又はハロゲン原子を示し、R4は水素原子、低級アルキル
    基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロ
    アルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキニル
    基、ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルコ
    キシアルキル基、ハロゲン原子によって置換されても良
    い低級アルキルチオアルキル基、シアノアルキル基、低
    級アルコキシアルコキシアルキル基、−CH（R5）CO−Ｙ
    −R6（式中、R5は水素原子又は低級アルキル基を示し、
    R6は水素原子、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、
    低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキニル基、低級アルコキシアルキ
    ル基又は低級アルキルチオアルキル基を示し、ＹはＯ、
    Ｓ又は−Ｎ（R7）−（式中、R7は水素原子、低級アルキ
    ル基、低級アルケニル基又は低級アルキニル基を示
    す。）を示し、ＹがＯ又はＳの場合、R6はアルカリ金属
    原子又は四級アンモニウム塩を示すこともできる。）を
    示し、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し、ＡはＯ、
    Ｓ又は−Ｎ（R7）−（式中、R7は前記に同じ。）を示
    す。］ で表される３−置換フェニルピラゾール誘導体又はその
    塩類を有効成分として含有することを特徴する除草剤。
  5. 【請求項５】一般式（Ｉ）において、R1が低級アルキル
    基を示し、R2が低級アルコキシ基、低級ハロアルコキシ
    基、低級アルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基を
    示し、R3がハロゲン原子を示し、R4が水素原子、低級ア
    ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、
    低級アルキニル基又は低級ハロアルキニル基を示し、Ｘ
    が水素原子又はハロゲン原子を示し、ＡがＯ、Ｓ又は−
    Ｎ（R7）−（式中、R7は水素原子、低級アルキル基、低
    級アルケニル基又は低級アルキニル基を示す。）を示す
    ３−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類を有効
    成分として含有することを特徴とする請求項第４項記載
    の除草剤。
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US5532416A (en) * 1994-07-20 1996-07-02 Monsanto Company Benzoyl derivatives and synthesis thereof
DE4417837A1 (de) 1994-05-20 1995-11-23 Basf Ag Substituierte 3-Phenylpyrazole
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GB9422708D0 (en) * 1994-11-10 1995-01-04 Zeneca Ltd Herbicides
US5698708A (en) * 1996-06-20 1997-12-16 Monsanto Company Preparation of substituted 3-aryl-5-haloalkyl-pyrazoles having herbicidal activity
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DE102008022221A1 (de) * 2008-05-06 2009-11-12 Universität des Saarlandes Inhibitoren der humanen Aldosteronsynthase CYP11B2
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