JP2995361B2 - 照射領域モニター付きｘ線照射装置 - Google Patents
照射領域モニター付きｘ線照射装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、照射領域モニターを備
えたＸ線照射装置に関するものである。
えたＸ線照射装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線照射装置における、従来のＸ線照射
モニター装置としては、例えば、特開昭５８−１３３２
３９号公報に示すものがある。これは、Ｘ線照射装置と
試料との間に、Ｘ線は透過するが可視光線は反射するＸ
線透過鏡を、Ｘ線光軸に対してその面を略４５度に傾け
て介在させる。また可視光線源を、一旦Ｘ線透過鏡に当
てて試料表面のＸ線照射領域を照射するように配置す
る。なお、試料とＸ線透過鏡との間には、Ｘ線および可
視光線を絞り込み、並行光線にするためのコリメータが
設けられている。この構成により、Ｘ線照射装置から発
生したＸ線は、Ｘ線透過鏡を透過して、コリメータによ
り絞り込まれ、並行Ｘ線となって試料表面を照射する。
また、可視光線源から発した可視光線は、Ｘ線透過鏡に
Ｘ線光軸に対して略直角に照射し、反射する。これによ
り可視光線はＸ線光軸と同軸になり、そして、コリメー
タにより絞り込まれ、並行光線となって試料表面を照射
する。つまり、Ｘ線にて試料表面を照射される領域を、
可視光線が照射する。この可視光線を照射部分を他の手
段にて観察することにより、Ｘ線照射領域をモニターす
るものである。
モニター装置としては、例えば、特開昭５８−１３３２
３９号公報に示すものがある。これは、Ｘ線照射装置と
試料との間に、Ｘ線は透過するが可視光線は反射するＸ
線透過鏡を、Ｘ線光軸に対してその面を略４５度に傾け
て介在させる。また可視光線源を、一旦Ｘ線透過鏡に当
てて試料表面のＸ線照射領域を照射するように配置す
る。なお、試料とＸ線透過鏡との間には、Ｘ線および可
視光線を絞り込み、並行光線にするためのコリメータが
設けられている。この構成により、Ｘ線照射装置から発
生したＸ線は、Ｘ線透過鏡を透過して、コリメータによ
り絞り込まれ、並行Ｘ線となって試料表面を照射する。
また、可視光線源から発した可視光線は、Ｘ線透過鏡に
Ｘ線光軸に対して略直角に照射し、反射する。これによ
り可視光線はＸ線光軸と同軸になり、そして、コリメー
タにより絞り込まれ、並行光線となって試料表面を照射
する。つまり、Ｘ線にて試料表面を照射される領域を、
可視光線が照射する。この可視光線を照射部分を他の手
段にて観察することにより、Ｘ線照射領域をモニターす
るものである。
【０００３】また、他従来例として、例えば、特開平１
−１８５５００号公報に示すものがある。この構成は、
Ｘ線を細長いガイドチューブにて、Ｘ線を試料表面にス
ポットにて照射する。Ｘ線照射装置と試料との間に、Ｘ
線を反射する反射鏡を、Ｘ線光軸に対してその面を略４
５度に傾けて介在させ、その中心にはガイドチューブが
通る穴が設けられている。また可視光線源を、一旦反射
鏡に当てて試料表面のＸ線照射領域を照射するように配
置する。更に、可視光線軸上には、試料表面上に可視光
線が焦点を結ぶように光学レンズが配置されている。こ
の例も、Ｘ線にて試料表面を照射される領域を、可視光
線が照射し、この可視光線を照射部分を他の手段にて観
察することにより、Ｘ線照射領域をモニターするもので
ある。
−１８５５００号公報に示すものがある。この構成は、
Ｘ線を細長いガイドチューブにて、Ｘ線を試料表面にス
ポットにて照射する。Ｘ線照射装置と試料との間に、Ｘ
線を反射する反射鏡を、Ｘ線光軸に対してその面を略４
５度に傾けて介在させ、その中心にはガイドチューブが
通る穴が設けられている。また可視光線源を、一旦反射
鏡に当てて試料表面のＸ線照射領域を照射するように配
置する。更に、可視光線軸上には、試料表面上に可視光
線が焦点を結ぶように光学レンズが配置されている。こ
の例も、Ｘ線にて試料表面を照射される領域を、可視光
線が照射し、この可視光線を照射部分を他の手段にて観
察することにより、Ｘ線照射領域をモニターするもので
ある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】特開昭５８−１３３２
３９号公報に示すものにおいては、Ｘ線および可視光線
を、中空円筒状のコリメータにて絞り込み、径の細いビ
ーム状にして試料表面に照射するため、Ｘ線源からのＸ
線放射立体角が小さくなる為大きなＸ線強度が得られな
い点、および回折現象のためにコリメータの内径を数十
μｍ程度以下にすることは困難である。つまり、微小の
ビーム径を得ることができない。
３９号公報に示すものにおいては、Ｘ線および可視光線
を、中空円筒状のコリメータにて絞り込み、径の細いビ
ーム状にして試料表面に照射するため、Ｘ線源からのＸ
線放射立体角が小さくなる為大きなＸ線強度が得られな
い点、および回折現象のためにコリメータの内径を数十
μｍ程度以下にすることは困難である。つまり、微小の
ビーム径を得ることができない。
【０００５】また、特開平１−１８５５００号公報に示
すものにおいても、細管状のガイドチューブにてＸ線を
絞りかつ径の細いビーム状にして試料表面に照射し、ま
た、可視光線は光学レンズにてビーム状に絞られるた
め、それぞれの焦点位置を一致させるのにアライメント
を調整する必要があり、また試料位置がずれた場合、焦
点が一致しなくなるという課題がある。
すものにおいても、細管状のガイドチューブにてＸ線を
絞りかつ径の細いビーム状にして試料表面に照射し、ま
た、可視光線は光学レンズにてビーム状に絞られるた
め、それぞれの焦点位置を一致させるのにアライメント
を調整する必要があり、また試料位置がずれた場合、焦
点が一致しなくなるという課題がある。
【０００６】さらに、前述の従来例では、ビーム状の可
視光線の試料照射位置を確認するための手段である可視
光観察装置（可視光撮像装置）を試料周りの別の位置に
配置する必要がある。試料に傾斜回転機構など、試料に
大きな自由度が要求される場合や、装置構成上、可視光
観察装置の配置場所に制限がなる場合、Ｘ線照射位置を
確認できない場合がでてくる。目視による直接可視光線
の照射領域（つまり、Ｘ線照射領域）を観察する場合
は、精々数百μｍ程度まてしか確認できない。
視光線の試料照射位置を確認するための手段である可視
光観察装置（可視光撮像装置）を試料周りの別の位置に
配置する必要がある。試料に傾斜回転機構など、試料に
大きな自由度が要求される場合や、装置構成上、可視光
観察装置の配置場所に制限がなる場合、Ｘ線照射位置を
確認できない場合がでてくる。目視による直接可視光線
の照射領域（つまり、Ｘ線照射領域）を観察する場合
は、精々数百μｍ程度まてしか確認できない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、Ｘ線を発生するＸ線発生装置と、前記Ｘ線
をその鏡面状態の内面において全反射し、集光する全反
射型Ｘ線レンズと、前記Ｘ線発生装置と前記全反射型Ｘ
線レンズとの間に、前記Ｘ線の光軸に対してその面を傾
けて介在し、Ｘ線を透過し、可視光線を反射するＸ線透
過鏡と、前記Ｘ線透過鏡を反射し、前記全反射型Ｘ線レ
ンズにより反射した可視光線が、前記Ｘ線の光軸と同軸
になるように配置され、且つ前記Ｘ線発生装置と前記全
反射型Ｘ線レンズとのＸ線光学距離と、前記全反射型Ｘ
線レンズとの可視光光学距離とが等しく配置された可視
光源と、前記全反射型Ｘ線レンズと前記可視光源との間
に設けられたハーフミラーと、前記可視光と前記ハーフ
ミラーとの光軸に対して他方の光軸に可視光二次元位置
検出装置を設けたことを特徴とする照射領域モニター付
きＸ線照射装置である。
するために、Ｘ線を発生するＸ線発生装置と、前記Ｘ線
をその鏡面状態の内面において全反射し、集光する全反
射型Ｘ線レンズと、前記Ｘ線発生装置と前記全反射型Ｘ
線レンズとの間に、前記Ｘ線の光軸に対してその面を傾
けて介在し、Ｘ線を透過し、可視光線を反射するＸ線透
過鏡と、前記Ｘ線透過鏡を反射し、前記全反射型Ｘ線レ
ンズにより反射した可視光線が、前記Ｘ線の光軸と同軸
になるように配置され、且つ前記Ｘ線発生装置と前記全
反射型Ｘ線レンズとのＸ線光学距離と、前記全反射型Ｘ
線レンズとの可視光光学距離とが等しく配置された可視
光源と、前記全反射型Ｘ線レンズと前記可視光源との間
に設けられたハーフミラーと、前記可視光と前記ハーフ
ミラーとの光軸に対して他方の光軸に可視光二次元位置
検出装置を設けたことを特徴とする照射領域モニター付
きＸ線照射装置である。
【０００８】
【作用】Ｘ線透過鏡によりＸ線光軸に重畳された可視光
は、Ｘ線発生装置と全反射型Ｘ線レンズとのＸ線光学距
離と、可視光線源と全反射型Ｘ線レンズとの可視光光学
距離とが等しく配置されているため、Ｘ線と同一の条件
にて全反射型Ｘ線レンズに入射する。この全反射型Ｘ線
レンズにて、Ｘ線と可視光は、鏡の反射原理に従って全
反射する。全反射型Ｘ線レンズの内径は、凹面鏡形状を
しているため、Ｘ線と可視光は試料表面の同一位置（領
域）を照射することになる。ここで、Ｘ線源と可視光線
源がスポット形状をしていれば、スポットとして試料表
面を照射する。この可視光線のスポット照射がＸ線照射
（スポット）の照射位置を示すことになる。さらに、可
視光線の試料への照射した可視光は、全反射型Ｘ線レン
ズを通り、Ｘ線透過鏡で反射され、ハーフミラーに到達
する。このハーフミラーにて、試料からの可視光の一部
は可視光線源とは別の他の光軸を通って、可視光二次元
位置検出装置に入力される。この可視光二次元位置検出
装置にて、可視光が試料の何処を照射しているかを観察
することができるものである。
は、Ｘ線発生装置と全反射型Ｘ線レンズとのＸ線光学距
離と、可視光線源と全反射型Ｘ線レンズとの可視光光学
距離とが等しく配置されているため、Ｘ線と同一の条件
にて全反射型Ｘ線レンズに入射する。この全反射型Ｘ線
レンズにて、Ｘ線と可視光は、鏡の反射原理に従って全
反射する。全反射型Ｘ線レンズの内径は、凹面鏡形状を
しているため、Ｘ線と可視光は試料表面の同一位置（領
域）を照射することになる。ここで、Ｘ線源と可視光線
源がスポット形状をしていれば、スポットとして試料表
面を照射する。この可視光線のスポット照射がＸ線照射
（スポット）の照射位置を示すことになる。さらに、可
視光線の試料への照射した可視光は、全反射型Ｘ線レン
ズを通り、Ｘ線透過鏡で反射され、ハーフミラーに到達
する。このハーフミラーにて、試料からの可視光の一部
は可視光線源とは別の他の光軸を通って、可視光二次元
位置検出装置に入力される。この可視光二次元位置検出
装置にて、可視光が試料の何処を照射しているかを観察
することができるものである。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を参照しなが
ら説明する。図１は本発明の一実施例のＸ線照射装置の
概略断面を示し、１はＸ線発生装置装置であり、図示し
ないスリットまたはピンホール等にて点状のＸ線源１ａ
を有している。Ｘ線源１ａのスポットサイズは数百μｍ
から数μｍまで可変することができる。Ｘ線源１ａから
のＸ線１２はＸ線軸１３を有するビーム形状になり、Ｈ
ｅ等Ｘ線の吸収のすくないガス、あるいは真空に保たれ
たパイプ２を通過する。Ｈｅガスの場合、エネルギー５
ｋｅＶ以上のＸ線１２は９９％以上通過する。
ら説明する。図１は本発明の一実施例のＸ線照射装置の
概略断面を示し、１はＸ線発生装置装置であり、図示し
ないスリットまたはピンホール等にて点状のＸ線源１ａ
を有している。Ｘ線源１ａのスポットサイズは数百μｍ
から数μｍまで可変することができる。Ｘ線源１ａから
のＸ線１２はＸ線軸１３を有するビーム形状になり、Ｈ
ｅ等Ｘ線の吸収のすくないガス、あるいは真空に保たれ
たパイプ２を通過する。Ｈｅガスの場合、エネルギー５
ｋｅＶ以上のＸ線１２は９９％以上通過する。
【００１０】通過したＸ線１２は、パイプ２の他端部に
レンズホルダー３が設けられている。レンズホルダー３
は、Ｘ線１２を集光する全反射型Ｘ線レンズ４が５軸移
動可能に、備えられている。全反射型Ｘ線レンズ４の内
面は鏡面に仕上げられており、楕円体ミラーであり、凹
面状をしている。本実施例では、パイレックスガラス性
の全反射型Ｘ線レンズ４の内面形状は紡錘形状のものを
用いたが、皿状のものでも使用できる。
レンズホルダー３が設けられている。レンズホルダー３
は、Ｘ線１２を集光する全反射型Ｘ線レンズ４が５軸移
動可能に、備えられている。全反射型Ｘ線レンズ４の内
面は鏡面に仕上げられており、楕円体ミラーであり、凹
面状をしている。本実施例では、パイレックスガラス性
の全反射型Ｘ線レンズ４の内面形状は紡錘形状のものを
用いたが、皿状のものでも使用できる。
【００１１】一方、Ｘ線照射装置には、試料表面のＸ線
照射位置にスポット状の可視光を照射するための可視光
源１０が設けられている。可視光源１０から発生した可
視光線１４は、光学レンズ９により絞られ、その焦点上
にピンホール８が設けられており、ピンホール８は可視
光線１４の光源としてのスポット形が決定される。な
お、可視光源１０からの可視光線軸１５ａ方向がＸ線軸
１３方向と平行になるように、可視光源１０、光学レン
ズ９およびピンホール８は位置している。
照射位置にスポット状の可視光を照射するための可視光
源１０が設けられている。可視光源１０から発生した可
視光線１４は、光学レンズ９により絞られ、その焦点上
にピンホール８が設けられており、ピンホール８は可視
光線１４の光源としてのスポット形が決定される。な
お、可視光源１０からの可視光線軸１５ａ方向がＸ線軸
１３方向と平行になるように、可視光源１０、光学レン
ズ９およびピンホール８は位置している。
【００１２】可視光源１０からの可視光軸１５ａ上にハ
ーフミラー７が傾けられて設けられている。その傾き
は、Ｘ線軸１３の方向に４５度で傾けられている。ハー
フミラー７で反射した可視光線１４は可視光源１０から
の可視光軸１５ａと直角な可視光軸１５ｂを有し、その
可視光軸１５ｂは、Ｘ線軸１３と直交することになる。
ハーフミラー７からの可視光軸１５ｂとＸ線軸１３との
交点に、Ｘ線光軸１３上にＸ線１２を透過し、可視光線
を反射するＸ線透過鏡６が、Ｘ線軸１２および可視光軸
１５ｂに対して４５度、試料５方向に傾けて、挿入され
ている。これらの配置および傾きは実施例に限定される
ものではなく、要は可視光源１０からの可視光線１４が
ハーフミラー７を通って、Ｘ線透過鏡６にて反射され、
全反射型Ｘ線レンズ４の内面に集束されて、試料５の表
面を照射するような配置であればよいものである。つま
り各鏡７、６の傾斜各は一般に４５度が最も適している
がその角度に限定されるものではない。
ーフミラー７が傾けられて設けられている。その傾き
は、Ｘ線軸１３の方向に４５度で傾けられている。ハー
フミラー７で反射した可視光線１４は可視光源１０から
の可視光軸１５ａと直角な可視光軸１５ｂを有し、その
可視光軸１５ｂは、Ｘ線軸１３と直交することになる。
ハーフミラー７からの可視光軸１５ｂとＸ線軸１３との
交点に、Ｘ線光軸１３上にＸ線１２を透過し、可視光線
を反射するＸ線透過鏡６が、Ｘ線軸１２および可視光軸
１５ｂに対して４５度、試料５方向に傾けて、挿入され
ている。これらの配置および傾きは実施例に限定される
ものではなく、要は可視光源１０からの可視光線１４が
ハーフミラー７を通って、Ｘ線透過鏡６にて反射され、
全反射型Ｘ線レンズ４の内面に集束されて、試料５の表
面を照射するような配置であればよいものである。つま
り各鏡７、６の傾斜各は一般に４５度が最も適している
がその角度に限定されるものではない。
【００１３】Ｘ線透過鏡６には、一般に、ベリリウム又
はアルミニウムの薄板が用いられる。少なくとも可視光
を反射する面は、鏡面である。ここで、スリット８から
Ｘ線透過鏡６までの可視光１４の光学距離と、Ｘ線発生
装置の図示しないスリット等のＸ線源位置からＸ線透過
鏡６までのＸ線光学距離とが等しくなるように各配置は
設定されている。
はアルミニウムの薄板が用いられる。少なくとも可視光
を反射する面は、鏡面である。ここで、スリット８から
Ｘ線透過鏡６までの可視光１４の光学距離と、Ｘ線発生
装置の図示しないスリット等のＸ線源位置からＸ線透過
鏡６までのＸ線光学距離とが等しくなるように各配置は
設定されている。
【００１４】更に、可視光軸１５ｂ上にハーフミラー７
の延長線上（Ｘ線透過鏡と逆方向）に、可視光二次元位
置検出装置１１が設けられている。可視光二次元位置検
出装置１１は、光学的に試料５表面観察する装置となっ
ている。ここで、Ｘ線１２および可視光１５の作用につ
いて説明する。つまり、Ｘ線発生装置１から発生したＸ
線１２は、試料５方向にＸ線軸１３を有し、Ｘ線透過鏡
６を通過して、全反射型Ｘ線レンズ４にて反射され、集
束し、試料５表面上にスポットとして照射する。なお、
Ｘ線軸１３付近を通過するＸ線１２は、全反射型Ｘ線レ
ンズ４の中心部を通過するため、試料表面に集束されな
いのでストッパ１９がＸ線軸１３上に、全反射型Ｘ線レ
ンズ４の入口付近に設けられている。
の延長線上（Ｘ線透過鏡と逆方向）に、可視光二次元位
置検出装置１１が設けられている。可視光二次元位置検
出装置１１は、光学的に試料５表面観察する装置となっ
ている。ここで、Ｘ線１２および可視光１５の作用につ
いて説明する。つまり、Ｘ線発生装置１から発生したＸ
線１２は、試料５方向にＸ線軸１３を有し、Ｘ線透過鏡
６を通過して、全反射型Ｘ線レンズ４にて反射され、集
束し、試料５表面上にスポットとして照射する。なお、
Ｘ線軸１３付近を通過するＸ線１２は、全反射型Ｘ線レ
ンズ４の中心部を通過するため、試料表面に集束されな
いのでストッパ１９がＸ線軸１３上に、全反射型Ｘ線レ
ンズ４の入口付近に設けられている。
【００１５】また、可視光源１０から発生し可視光１４
は、ハーフミラー７にて反射して、Ｘ線透過鏡６に到達
する。ここで再び、可視光１４はＸ線透過鏡６にて反射
され、前述のＸ線１２と同一のビームとなる。Ｘ線透過
鏡６にて反射された可視光１４は、Ｘ線と同様に、全反
射型Ｘ線レンズ４にて反射され、集束し、試料５表面上
にスポットとして照射する。つまり、試料５表面上にス
ポットとして照射されるＸ線１２と可視光１４は同一形
状を持つことになる。従って、試料５表面の可視光１４
のスポットを観察することにより、Ｘ線照射領域をモニ
ターすることができる。
は、ハーフミラー７にて反射して、Ｘ線透過鏡６に到達
する。ここで再び、可視光１４はＸ線透過鏡６にて反射
され、前述のＸ線１２と同一のビームとなる。Ｘ線透過
鏡６にて反射された可視光１４は、Ｘ線と同様に、全反
射型Ｘ線レンズ４にて反射され、集束し、試料５表面上
にスポットとして照射する。つまり、試料５表面上にス
ポットとして照射されるＸ線１２と可視光１４は同一形
状を持つことになる。従って、試料５表面の可視光１４
のスポットを観察することにより、Ｘ線照射領域をモニ
ターすることができる。
【００１６】試料５表面をスポットとして照射した可視
光１４は試料５表面にて散乱反射する。その一部は、再
び全反射型Ｘ線レンズ４に入射され、反射されて、Ｘ線
軸１３に沿って、Ｘ線源１ａ方向に進行する。再びＸ線
透過鏡６により、可視光１４は反射され、可視光軸１５
ｂに沿って進行する。そして、ハーフミラー７に到達す
る。ハーフミラー７に到達した可視光１４の一部は、ハ
ーフミラー７を透過して、可視光二次元検出装置１１に
到達する。つまり、可視光二次元検出装置１１は画像検
出装置を形成しており、試料５表面への可視光１４スポ
ット照射の位置、つまりＸ線１２の照射位置を拡大して
観察、確認することができるものである。
光１４は試料５表面にて散乱反射する。その一部は、再
び全反射型Ｘ線レンズ４に入射され、反射されて、Ｘ線
軸１３に沿って、Ｘ線源１ａ方向に進行する。再びＸ線
透過鏡６により、可視光１４は反射され、可視光軸１５
ｂに沿って進行する。そして、ハーフミラー７に到達す
る。ハーフミラー７に到達した可視光１４の一部は、ハ
ーフミラー７を透過して、可視光二次元検出装置１１に
到達する。つまり、可視光二次元検出装置１１は画像検
出装置を形成しており、試料５表面への可視光１４スポ
ット照射の位置、つまりＸ線１２の照射位置を拡大して
観察、確認することができるものである。
【００１７】なお、ここで、試料への可視光１４スポッ
ト照射の位置の近傍を観察するために、試料への可視光
１４のスポット照射位置の近傍を光で照らす第２の可視
光源２０が、試料５の近傍に設けられている。可視光二
次元検出器１１での検出画像は、３０μｍ程度の解像度
で検出されるが、そのデータを画像処理装置１８を介し
て、テレビモニター１７に画像表示させると、可視光ス
ポットの位置を数μｍ程度の解像度で画像表示すること
ができる。
ト照射の位置の近傍を観察するために、試料への可視光
１４のスポット照射位置の近傍を光で照らす第２の可視
光源２０が、試料５の近傍に設けられている。可視光二
次元検出器１１での検出画像は、３０μｍ程度の解像度
で検出されるが、そのデータを画像処理装置１８を介し
て、テレビモニター１７に画像表示させると、可視光ス
ポットの位置を数μｍ程度の解像度で画像表示すること
ができる。
【００１８】試料面を傾けて試料５を配置した場合、試
料５から全反射型Ｘ線レンズ４への可視光１４の乱反射
光が少なくなっても、可視光１４の照射位置近傍を照射
する第２の可視光源２０が設けられているので、試料４
表面の観察が容易にできる。ここで、第２の可視光源２
０をファイバーによる照明にした場合、試料の傾斜等に
制約を与えずに、自由に、試料を傾けることができる。
試料を傾けたり、回転させる時可視光線の照射距離は変
化するが、全反射型Ｘ線レンズ４の焦点深度が深いた
め、可視光１４の照射位置を見失うことが少ない。この
全反射型Ｘ線レンズ４においては、収差が大きく存在す
るが、３００μｍ程度以上の視野が得られる。さらに、
収差補正レンズを使用することにより、さらに広い視野
が得られる。全反射型Ｘ線レンズ４は、長焦点深度であ
るため、試料５の傾きを８０度程度以上傾けても１００
μｍ領域程度の観察が可能である。
料５から全反射型Ｘ線レンズ４への可視光１４の乱反射
光が少なくなっても、可視光１４の照射位置近傍を照射
する第２の可視光源２０が設けられているので、試料４
表面の観察が容易にできる。ここで、第２の可視光源２
０をファイバーによる照明にした場合、試料の傾斜等に
制約を与えずに、自由に、試料を傾けることができる。
試料を傾けたり、回転させる時可視光線の照射距離は変
化するが、全反射型Ｘ線レンズ４の焦点深度が深いた
め、可視光１４の照射位置を見失うことが少ない。この
全反射型Ｘ線レンズ４においては、収差が大きく存在す
るが、３００μｍ程度以上の視野が得られる。さらに、
収差補正レンズを使用することにより、さらに広い視野
が得られる。全反射型Ｘ線レンズ４は、長焦点深度であ
るため、試料５の傾きを８０度程度以上傾けても１００
μｍ領域程度の観察が可能である。
【００１９】なお、Ｘ線源は、微小焦点型Ｘ線管に限っ
たものではなく、例えば回転対陰極型Ｘ線源やレーザー
プラズマ励起によるＸ線源、通常のＸ線管、放射光光源
等を直接Ｘ線源とする場合と、それにピンホール、スリ
ット、あるいは、他のＸ線光学素子による集束点をＸ線
源とする場合も、本発明に含まれる。鏡面状態をなす全
反射型Ｘ線レンズ４は図１に示した筒状の形状のものに
限らず、可視光の反射を起こすような表面を有する平面
または湾曲状の結晶も含まれ、他の材質や形状のもので
も本発明に含まれる。
たものではなく、例えば回転対陰極型Ｘ線源やレーザー
プラズマ励起によるＸ線源、通常のＸ線管、放射光光源
等を直接Ｘ線源とする場合と、それにピンホール、スリ
ット、あるいは、他のＸ線光学素子による集束点をＸ線
源とする場合も、本発明に含まれる。鏡面状態をなす全
反射型Ｘ線レンズ４は図１に示した筒状の形状のものに
限らず、可視光の反射を起こすような表面を有する平面
または湾曲状の結晶も含まれ、他の材質や形状のもので
も本発明に含まれる。
【００２０】また、本実施例の構成に限らず、Ｘ線軸１
３に複数のＸ線透過鏡６を配置する場合や、ハーフミラ
ー７を複数設けてる場合も本発明に含まれる。
３に複数のＸ線透過鏡６を配置する場合や、ハーフミラ
ー７を複数設けてる場合も本発明に含まれる。
【００２１】
【発明の効果】この構成により、試料表面上へのＸ線照
射領域の観察を顕微鏡、望遠鏡、ズームレンズ等の可視
光観察機構を試料位置付近に設置する必要がなく、試料
を自由に回転、傾斜することができ、またを、Ｘ線軸長
さ方向に対して多少位置がずれていても正確にＸ線照射
領域位置を数μｍ以下の精度で観察モニターすることが
できる。Ｘ線照射領域と、可視光線照射領域が同一形状
になるため、全反射型Ｘ線レンズの軸調整を、可視光線
のスポットを観察することにより達成することがでい
る。
射領域の観察を顕微鏡、望遠鏡、ズームレンズ等の可視
光観察機構を試料位置付近に設置する必要がなく、試料
を自由に回転、傾斜することができ、またを、Ｘ線軸長
さ方向に対して多少位置がずれていても正確にＸ線照射
領域位置を数μｍ以下の精度で観察モニターすることが
できる。Ｘ線照射領域と、可視光線照射領域が同一形状
になるため、全反射型Ｘ線レンズの軸調整を、可視光線
のスポットを観察することにより達成することがでい
る。
【図１】図１は本発明にかかわる一実施例の概略断面図
である。
である。
１ Ｘ線発生装置 １ａ Ｘ線源 ２ パイプ ３ レンズホルダー ４ 全反射型Ｘ線レンズ ５ 試料 ６ Ｘ線透過鏡 ７ ハーフミラー ８ スリット ９ 光学レンズ １０ 可視光源 １１ 可視光二次元検出器 １２ Ｘ線 １３ Ｘ線軸 １４ 可視光 １５ａ、１５ｂ 可視光軸 １７ テレビモニター １８ 画像処理装置 １９ ストッパ ２０ 第２の可視光源
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G21K 1/06 G21K 5/00 G21K 5/02
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｘ線を発生するＸ線発生装置と、 前記Ｘ線をその鏡面状態の内面において全反射し、集光
する全反射型Ｘ線レンズと、 前記Ｘ線発生装置と前記全反射型Ｘ線レンズとの間に、
前記Ｘ線の光軸に対してその面を傾けて介在し、Ｘ線を
透過し、可視光線を反射するＸ線透過鏡と、 前記Ｘ線透過鏡を反射し、前記全反射型Ｘ線レンズによ
り反射した可視光線が、前記Ｘ線の光軸と同軸になるよ
うに配置され、且つ前記Ｘ線発生装置と前記全反射型Ｘ
線レンズとのＸ線光学距離と、前記全反射型Ｘ線レンズ
との可視光光学距離とが等しく配置された可視光源と、 前記全反射型Ｘ線レンズと前記可視光源との間に設けら
れたハーフミラーと、 前記可視光と前記ハーフミラーとの光軸に対して他方の
光軸に可視光二次元位置検出装置を設けたことを特徴と
する照射領域モニター付きＸ線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4043979A JP2995361B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 照射領域モニター付きｘ線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4043979A JP2995361B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 照射領域モニター付きｘ線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05240999A JPH05240999A (ja) | 1993-09-21 |
| JP2995361B2 true JP2995361B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=12678842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4043979A Expired - Lifetime JP2995361B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 照射領域モニター付きｘ線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995361B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3635682A1 (de) * | 1986-10-21 | 1988-04-28 | Bbc Brown Boveri & Cie | Ueberwachungseinrichtung fuer den lampenausfall bei flugplatzfeuerungsanlagen |
| CN111603186A (zh) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 北京普泽润通科技有限公司 | X射线等效可见光路模拟器 |
| CN115389538B (zh) * | 2022-08-09 | 2023-12-29 | 深圳市埃芯半导体科技有限公司 | X射线分析装置及方法 |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP4043979A patent/JP2995361B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05240999A (ja) | 1993-09-21 |
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