JP2804243B2 - アルキル−又はアリールジクロルシランの製法、触媒及び触媒の製法 - Google Patents
アルキル−又はアリールジクロルシランの製法、触媒及び触媒の製法Info
- Publication number
- JP2804243B2 JP2804243B2 JP7132102A JP13210295A JP2804243B2 JP 2804243 B2 JP2804243 B2 JP 2804243B2 JP 7132102 A JP7132102 A JP 7132102A JP 13210295 A JP13210295 A JP 13210295A JP 2804243 B2 JP2804243 B2 JP 2804243B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- catalyst
- carbon atoms
- atoms per
- monovalent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- -1 aryl trichlorosilane Chemical compound 0.000 claims description 122
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229940006461 iodide ion Drugs 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 claims 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 10
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 4
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- 241000264877 Hippospongia communis Species 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 238000007210 heterogeneous catalysis Methods 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- FIYOBGRDYJMCMT-UHFFFAOYSA-M dibutyl-(3-methylhexyl)-triethoxysilylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)([Si](OCC)(OCC)OCC)CCC(C)CCC FIYOBGRDYJMCMT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 description 2
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007172 homogeneous catalysis Methods 0.000 description 2
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N propylsilane Chemical compound CCC[SiH3] UIDUKLCLJMXFEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBDUMNZXAIUUTH-HWKANZROSA-N (e)-tetradec-2-ene Chemical group CCCCCCCCCCC\C=C\C OBDUMNZXAIUUTH-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical group CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 2-triethoxysilylethanamine Chemical compound CCO[Si](CCN)(OCC)OCC BHWUCEATHBXPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 2-trimethoxysilylethanamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCN QHQNYHZHLAAHRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VETJJNDTZRRSQP-UHFFFAOYSA-M 3-ethylhexyl-dipentyl-triethoxysilylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCC[N+](CCCCC)([Si](OCC)(OCC)OCC)CCC(CC)CCC VETJJNDTZRRSQP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GCIARMDXQWNVJF-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](Cl)(Cl)Cl GCIARMDXQWNVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWKSKIMOESPYIA-BYPYZUCNSA-N L-N-acetyl-Cysteine Chemical compound CC(=O)N[C@@H](CS)C(O)=O PWKSKIMOESPYIA-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 108010009736 Protein Hydrolysates Proteins 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- BGPCFXZWLWDDDU-UHFFFAOYSA-N chloro(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH2]Cl BGPCFXZWLWDDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000005289 controlled pore glass Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004977 cycloheptylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N dichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[SiH](Cl)Cl SJTARAZFCVDEIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGVRTWJCRZPOEL-UHFFFAOYSA-M dihexyl-(3-propylhexyl)-triethoxysilylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCC(CCC)CCC)[Si](OCC)(OCC)OCC YGVRTWJCRZPOEL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PFKRTWCFCOUBHS-UHFFFAOYSA-N dimethyl(octadecyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[NH+](C)C PFKRTWCFCOUBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBXLAGBAHAROGS-UHFFFAOYSA-M dioctyl-(3-propyloctyl)-triethoxysilylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCC(CCC)CCCCC)[Si](OCC)(OCC)OCC OBXLAGBAHAROGS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical class O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLDHYRXZZNDOKU-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCN(CC)CCC[Si](OC)(OC)OC ZLDHYRXZZNDOKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALGXBNKQANCVPJ-UHFFFAOYSA-N n,n-diheptylheptan-1-amine;hydrochloride Chemical compound Cl.CCCCCCCN(CCCCCCC)CCCCCCC ALGXBNKQANCVPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFDDMZKDAIOGFP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyloctan-1-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[NH+](C)C BFDDMZKDAIOGFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 210000002741 palatine tonsil Anatomy 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005628 tolylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHSMJSNXQUKFBB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-morpholin-4-ylpropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN1CCOCC1 XHSMJSNXQUKFBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/125—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、触媒の存在下に、アル
キル−又はアリールトリクロルシランとSi−結合メチ
ル基、水素−及び/又は塩素原子を有するシラン少なく
とも1種とを共均等化(Komproportionierung)させるこ
とによりアルキル−又はアリールジクロルシランを製造
する方法に関する。
キル−又はアリールトリクロルシランとSi−結合メチ
ル基、水素−及び/又は塩素原子を有するシラン少なく
とも1種とを共均等化(Komproportionierung)させるこ
とによりアルキル−又はアリールジクロルシランを製造
する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】米国特許第3399222号明細書に、
反応:2 RSiCl3+MeSiH3−−−→2 RS
iHCl2+MeSiHCl2が記載されている。しかし
ながら、この反応は、均一触媒R4NCl又はR4PCl
の存在下で実施される。
反応:2 RSiCl3+MeSiH3−−−→2 RS
iHCl2+MeSiHCl2が記載されている。しかし
ながら、この反応は、均一触媒R4NCl又はR4PCl
の存在下で実施される。
【0003】米国特許第3769310号明細書に、特
に、アルキル−又はアリールジクロルシランの製造もそ
こに言及されている方法が記載されている。しかしなが
ら、この反応は、例えばAlCl3、KAlCl4により
均一に触媒作用されている。
に、アルキル−又はアリールジクロルシランの製造もそ
こに言及されている方法が記載されている。しかしなが
ら、この反応は、例えばAlCl3、KAlCl4により
均一に触媒作用されている。
【0004】欧州特許第147834号明細書に、特
に、アルキル−又はアリールジクロルシランの製造もそ
こに言及されている方法が記載されている。しかしなが
ら、この反応は、結晶質Al2O3の存在下に触媒作用さ
れている。
に、アルキル−又はアリールジクロルシランの製造もそ
こに言及されている方法が記載されている。しかしなが
ら、この反応は、結晶質Al2O3の存在下に触媒作用さ
れている。
【0005】西独特許第4208152号明細書に、ジ
メチルジクロルシランへのH−移転を触媒させるために
使用される第四アンモニウム基を有する触媒が記載され
ている。
メチルジクロルシランへのH−移転を触媒させるために
使用される第四アンモニウム基を有する触媒が記載され
ている。
【0006】公知技術水準の欠点は、付加的な反応工程
により再び回収すべきである均一触媒を使用することに
あり、かつ/又はこの方法が生成物を僅かな収率でのみ
提供することにある。
により再び回収すべきである均一触媒を使用することに
あり、かつ/又はこの方法が生成物を僅かな収率でのみ
提供することにある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、アル
キル−及びアリールジクロルシランの改良された製法並
びに公知技術水準に比べて改良された特性を有する触媒
を提供することである。
キル−及びアリールジクロルシランの改良された製法並
びに公知技術水準に比べて改良された特性を有する触媒
を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】この課題は本発明により
解決される。
解決される。
【0009】本発明の対象は、触媒の存在下に、アルキ
ル−又はアリールトリクロルシランとSi−結合メチル
基、水素−及び/又は塩素原子を有するシラン少なくと
も1種とを共均等化させることによりアルキル−又はア
リールジクロルシランを製造する方法であり、これは、
シランとしてメチルシラン及び/又はメチルクロルシラ
ンを使用し、かつ触媒としてNR2R1−基又は-X+NR
3R1−基(式中、Rは同じか又は異なるものであり、水
素原子又は基1個当たり1〜20個の炭素原子を有する
一価の炭化水素基を表わすか又は2個のRは、一緒にな
って、ヘテロ原子により中断されていてもよい炭素原子
4〜11個を有する二価の炭化水素基を表し、R1は基
1個当たり炭素原子1〜20個を有する二価の炭化水素
基を表し、X-はクロリドイオン、ブロミドイオン又は
ヨージドイオンを表す)、有利に-X+NR3R1−基がそ
の上に結合された、反応媒体に不溶の担体を含有するも
のを使用することよりなる。
ル−又はアリールトリクロルシランとSi−結合メチル
基、水素−及び/又は塩素原子を有するシラン少なくと
も1種とを共均等化させることによりアルキル−又はア
リールジクロルシランを製造する方法であり、これは、
シランとしてメチルシラン及び/又はメチルクロルシラ
ンを使用し、かつ触媒としてNR2R1−基又は-X+NR
3R1−基(式中、Rは同じか又は異なるものであり、水
素原子又は基1個当たり1〜20個の炭素原子を有する
一価の炭化水素基を表わすか又は2個のRは、一緒にな
って、ヘテロ原子により中断されていてもよい炭素原子
4〜11個を有する二価の炭化水素基を表し、R1は基
1個当たり炭素原子1〜20個を有する二価の炭化水素
基を表し、X-はクロリドイオン、ブロミドイオン又は
ヨージドイオンを表す)、有利に-X+NR3R1−基がそ
の上に結合された、反応媒体に不溶の担体を含有するも
のを使用することよりなる。
【0010】本発明による方法は、共均等化の際に、S
i−結合塩素原子及び水素原子の交換が行われるが、S
i−結合アルキル−又はアリール基の交換は行われない
ので、利用できない副産物が生じないという利点を有す
る。不均一触媒作用により、反応生成物は、触媒から容
易に分離でき、従って連続的な方法が可能である。
i−結合塩素原子及び水素原子の交換が行われるが、S
i−結合アルキル−又はアリール基の交換は行われない
ので、利用できない副産物が生じないという利点を有す
る。不均一触媒作用により、反応生成物は、触媒から容
易に分離でき、従って連続的な方法が可能である。
【0011】メチルシラン及び/又はメチルクロルシラ
ンとアルキル−又はアリールトリクロルシランとの共均
等化は、NR2R1−基又は-X+NR3R1−基(式中、
R、R1及びX-は前記のものを表す)がその上に結合さ
れている、反応媒体に不溶の担体の存在下で起こる。
ンとアルキル−又はアリールトリクロルシランとの共均
等化は、NR2R1−基又は-X+NR3R1−基(式中、
R、R1及びX-は前記のものを表す)がその上に結合さ
れている、反応媒体に不溶の担体の存在下で起こる。
【0012】アルキル−及びアリールトリクロルシラン
のアルキル−及びアリール基の例は、アルキル基、例え
ばエチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n−
ブチル−、イソ−ブチル−、tert.−ブチル−、n−ペ
ンチル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、ter
t.−ペンチル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基;
ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、例え
ばn−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,
2,4−トリメチルペンチル基;ノニル基、例えばn−
ノニル基;デシル基、例えばn−デシル基;ドデシル
基、例えばn−ドデシル基;テトラデシル基;ヘキサデ
シル基及びオクタデシル基、例えばn−オクタデシル
基;シクロアルキル基、例えばシクロペンチル−、シク
ロヘキシル−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキ
シル基;アリール基、例えばフェニル基;アルカリール
基、例えばo−、m−、p−トリル基;キシリル基及び
エチルフェニル基及びアルアルキル基、例えばベンジル
基、α−及びβ−フェニルエチル基;ハロゲンアルキル
基、例えばクロルメチル、3−クロルプロピル−及び3
−ブロムプロピル基;ハロゲンアリール基、例えばo
−、m−、p−クロルフェニル−及びクロルトリル基で
ある。
のアルキル−及びアリール基の例は、アルキル基、例え
ばエチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n−
ブチル−、イソ−ブチル−、tert.−ブチル−、n−ペ
ンチル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、ter
t.−ペンチル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基;
ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、例え
ばn−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,
2,4−トリメチルペンチル基;ノニル基、例えばn−
ノニル基;デシル基、例えばn−デシル基;ドデシル
基、例えばn−ドデシル基;テトラデシル基;ヘキサデ
シル基及びオクタデシル基、例えばn−オクタデシル
基;シクロアルキル基、例えばシクロペンチル−、シク
ロヘキシル−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキ
シル基;アリール基、例えばフェニル基;アルカリール
基、例えばo−、m−、p−トリル基;キシリル基及び
エチルフェニル基及びアルアルキル基、例えばベンジル
基、α−及びβ−フェニルエチル基;ハロゲンアルキル
基、例えばクロルメチル、3−クロルプロピル−及び3
−ブロムプロピル基;ハロゲンアリール基、例えばo
−、m−、p−クロルフェニル−及びクロルトリル基で
ある。
【0013】基Rの例は、アルキル基、例えばメチル
−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n
−ブチル−、イソ−ブチル−、tert.−ブチル−、n−
ペンチル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、te
rt.−ペンチル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル
基;ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、
例えばn−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば
2,2,4−トリメチルペンチル基;ノニル基、例えば
n−ノニル基;デシル基、例えばn−デシル基;ドデシ
ル基、例えばn−ドデシル基;テトラデシル基;ヘキサ
デシル基及びオクタデシル基、例えばn−オクタデシル
基;シクロアルキル基、例えばシクロペンチル−、シク
ロヘキシル−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキ
シル基;アリール基、例えばフェニル基;アルカリール
基、例えばo−、m−、p−トリル基;キシリル基及び
エチルフェニル基及びアルアルキル基、例えばベンジル
基、α−及びβ−フェニルエチル基である。
−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n
−ブチル−、イソ−ブチル−、tert.−ブチル−、n−
ペンチル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、te
rt.−ペンチル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル
基;ヘプチル基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、
例えばn−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば
2,2,4−トリメチルペンチル基;ノニル基、例えば
n−ノニル基;デシル基、例えばn−デシル基;ドデシ
ル基、例えばn−ドデシル基;テトラデシル基;ヘキサ
デシル基及びオクタデシル基、例えばn−オクタデシル
基;シクロアルキル基、例えばシクロペンチル−、シク
ロヘキシル−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキ
シル基;アリール基、例えばフェニル基;アルカリール
基、例えばo−、m−、p−トリル基;キシリル基及び
エチルフェニル基及びアルアルキル基、例えばベンジル
基、α−及びβ−フェニルエチル基である。
【0014】両方の基Rが、一緒になって、二価の炭化
水素基を表す基の例は、式:−(CH2)5−及び−(C
H2)4−の基である。
水素基を表す基の例は、式:−(CH2)5−及び−(C
H2)4−の基である。
【0015】両方の基Rが、一緒になって、ヘテロ原子
により中断されている二価の炭化水素基を表す基の例
は、式:−(CH2)2−O−(CH2)2−及び−(CH
2)2−O−(CH2)2−O−(CH2)2−の基である。
により中断されている二価の炭化水素基を表す基の例
は、式:−(CH2)2−O−(CH2)2−及び−(CH
2)2−O−(CH2)2−O−(CH2)2−の基である。
【0016】Rの有利な例は、アルキル基であり、その
際、より高い触媒活性に基づき、n−ブチル−、n−ペ
ンチル−、n−ヘキシル−、n−ヘプチル−及びn−オ
クチル基が特に有利である。
際、より高い触媒活性に基づき、n−ブチル−、n−ペ
ンチル−、n−ヘキシル−、n−ヘプチル−及びn−オ
クチル基が特に有利である。
【0017】基R1の例はアルキレン基、例えばメチレ
ン−、エチレン−、n−プロピレン−、イソ−プロピレ
ン−、n−ブチレン−、イソ−ブチレン−、n−ペンチ
レン−、イソ−ペンチレン基;ヘキシレン基、例えばn
−ヘキシレン基;ヘプチレン基、例えばn−ヘプチレン
基;オクチレン基、例えばn−オクチレン基及びイソ−
オクチレン基;ノニレン基、例えばn−ノニレン基;デ
シレン基、例えばn−デシレン基;ドデシレン基、例え
ばn−ドデシレン基;テトラデシレン基;ヘキサデシレ
ン基及びオクタデシレン基、例えばn−オクタデシレン
基;シクロアルキレン基、例えばシクロペンチレン−、
シクロヘキシレン−及びシクロヘプチレン基;アリーレ
ン基、例えばフェニレン基;アルカリーレン基、例えば
トリレン基及びアルアルキレン基、例えばベンジレン基
である。
ン−、エチレン−、n−プロピレン−、イソ−プロピレ
ン−、n−ブチレン−、イソ−ブチレン−、n−ペンチ
レン−、イソ−ペンチレン基;ヘキシレン基、例えばn
−ヘキシレン基;ヘプチレン基、例えばn−ヘプチレン
基;オクチレン基、例えばn−オクチレン基及びイソ−
オクチレン基;ノニレン基、例えばn−ノニレン基;デ
シレン基、例えばn−デシレン基;ドデシレン基、例え
ばn−ドデシレン基;テトラデシレン基;ヘキサデシレ
ン基及びオクタデシレン基、例えばn−オクタデシレン
基;シクロアルキレン基、例えばシクロペンチレン−、
シクロヘキシレン−及びシクロヘプチレン基;アリーレ
ン基、例えばフェニレン基;アルカリーレン基、例えば
トリレン基及びアルアルキレン基、例えばベンジレン基
である。
【0018】基R1の有利な例は、アルキレン基であ
り、その際、n−プロピレン−、n−ブチレン−、n−
ペンチレン基が特に有利である。
り、その際、n−プロピレン−、n−ブチレン−、n−
ペンチレン基が特に有利である。
【0019】ハロゲニドイオンX-としては、クロリド
イオンが有利である。
イオンが有利である。
【0020】反応媒体に不溶の有利な担体は、酸性陶
土、例えばトンシル(Tonsil)、モンモリロン石及びその
他のH+−形のアルミノケイ酸塩、ゼオライト、多孔質
ガラス、例えばコントロールされた細孔ガラス、多孔性
セラミック、例えばコントロールされた細孔セラミッ
ク、多孔性二酸化ケイ素、例えば沈殿法又は熱分解法に
よるケイ酸、多孔性酸化アルミニウム及び多孔性ムル石
である。開放孔焼結ガラスが特に有利である。
土、例えばトンシル(Tonsil)、モンモリロン石及びその
他のH+−形のアルミノケイ酸塩、ゼオライト、多孔質
ガラス、例えばコントロールされた細孔ガラス、多孔性
セラミック、例えばコントロールされた細孔セラミッ
ク、多孔性二酸化ケイ素、例えば沈殿法又は熱分解法に
よるケイ酸、多孔性酸化アルミニウム及び多孔性ムル石
である。開放孔焼結ガラスが特に有利である。
【0021】反応媒体に不溶の担体の他の有利な例は、
官能性シラン又はポリスチレン、例えばジビニルベンゼ
ンで架橋されたポリスチレンの乾燥加水分解物である。
官能性シラン又はポリスチレン、例えばジビニルベンゼ
ンで架橋されたポリスチレンの乾燥加水分解物である。
【0022】NR2R1−基又は-X+NR3R1−基の担体
への結合は、式: Y3-xR2 xSi(CH2)nZ (I) [式中、Yは、加水分解可能な基を表し、R2は、基1
個当たり1〜12個の炭素原子を有する一価の炭化水素
基を表わし、nは1〜20、有利に1〜12、特に有利
に1〜8の整数を表し、xは0又は1、有利に0を表
し、ZはNR2−又は-X+NR3−基を表し、ここで、R
は前記のものを表し、有利には同じか又は異なるもので
あり、かつ基1個当たり4〜8個の炭素原子を有する一
価の炭化水素基を表し、X-は前記のものを表す]の化
合物の加水分解可能な基Yを用いて、有利には不活性溶
剤、例えばトルエン、クロルベンゼン又はアルコール、
有利にはエタノール中で、有利には0〜200℃の範囲
の温度、特に有利に50〜100℃の範囲の温度で行
う。
への結合は、式: Y3-xR2 xSi(CH2)nZ (I) [式中、Yは、加水分解可能な基を表し、R2は、基1
個当たり1〜12個の炭素原子を有する一価の炭化水素
基を表わし、nは1〜20、有利に1〜12、特に有利
に1〜8の整数を表し、xは0又は1、有利に0を表
し、ZはNR2−又は-X+NR3−基を表し、ここで、R
は前記のものを表し、有利には同じか又は異なるもので
あり、かつ基1個当たり4〜8個の炭素原子を有する一
価の炭化水素基を表し、X-は前記のものを表す]の化
合物の加水分解可能な基Yを用いて、有利には不活性溶
剤、例えばトルエン、クロルベンゼン又はアルコール、
有利にはエタノール中で、有利には0〜200℃の範囲
の温度、特に有利に50〜100℃の範囲の温度で行
う。
【0023】加水分解可能な基Yの例は、アルコキシ
基、例えばメトキシ−、エトキシ−、プロポキシ−及び
ブトキシ基であり、その際、エトキシ基が特に有利であ
り、かつハロゲン原子、例えば塩素原子である。
基、例えばメトキシ−、エトキシ−、プロポキシ−及び
ブトキシ基であり、その際、エトキシ基が特に有利であ
り、かつハロゲン原子、例えば塩素原子である。
【0024】基R2の例は、アルキル基、例えばメチル
−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n
−ブチル−、イソ−ブチル基;アリール基、例えばフェ
ニル基;及びアルカリール基、例えばo−、m−、p−
トリル基である。
−、エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n
−ブチル−、イソ−ブチル基;アリール基、例えばフェ
ニル基;及びアルカリール基、例えばo−、m−、p−
トリル基である。
【0025】特に、容易な入手性のため、基R2とし
て、メチル基が有利であり、nは2又は3の値が、即ち
エチレン−又はプロピレン基が有利である。
て、メチル基が有利であり、nは2又は3の値が、即ち
エチレン−又はプロピレン基が有利である。
【0026】式: Y3-xR2 xSi(CH2)nZ (I) の有利な化合物の例は、3−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2
−アミノエチルトリメトキシシラン、2−アミノエチル
トリエトキシシラン及び3−アミノプロピルトリクロル
シランである。
シシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2
−アミノエチルトリメトキシシラン、2−アミノエチル
トリエトキシシラン及び3−アミノプロピルトリクロル
シランである。
【0027】有利には、N,N−ジエチルアミノプロピ
ルトリメトキシシラン、モルホリノプロピルトリエトキ
シシラン、トリメトキシシリル−3−プロピル−N,
N,N−ジメチルオクチルアンモニウムクロリド、トリ
メトキシシリル−3−プロピル−N,N,N−ジメチル
オクタデシルアンモニウムクロリド、有利にはトリエト
キシシリル−3−プロピル−N,N,N−トリ−ペンチ
ルアンモニウムクロリド、トリエトキシシリル−3−プ
ロピル−N,N,N−トリ−ヘキシルアンモニウムクロ
リド、トリエトキシシリル−3−プロピル−N,N,N
−トリ−ヘプチルアンモニウムクロリド、トリエトキシ
シリル−3−プロピル−N,N,N−トリ−オクチルア
ンモニウムクロリド及び特に有利にトリエトキシシリル
−3−プロピル−N,N,N−トリ−ブチルアンモニウ
ムクロリドが使用される。
ルトリメトキシシラン、モルホリノプロピルトリエトキ
シシラン、トリメトキシシリル−3−プロピル−N,
N,N−ジメチルオクチルアンモニウムクロリド、トリ
メトキシシリル−3−プロピル−N,N,N−ジメチル
オクタデシルアンモニウムクロリド、有利にはトリエト
キシシリル−3−プロピル−N,N,N−トリ−ペンチ
ルアンモニウムクロリド、トリエトキシシリル−3−プ
ロピル−N,N,N−トリ−ヘキシルアンモニウムクロ
リド、トリエトキシシリル−3−プロピル−N,N,N
−トリ−ヘプチルアンモニウムクロリド、トリエトキシ
シリル−3−プロピル−N,N,N−トリ−オクチルア
ンモニウムクロリド及び特に有利にトリエトキシシリル
−3−プロピル−N,N,N−トリ−ブチルアンモニウ
ムクロリドが使用される。
【0028】粉末として、又は有利には円形プレート、
管、球、棒、蜂巣状物、有利にラッシヒリングの形の既
に完成された成形体として使用されうる未処理担体の重
量に対して5〜40重量%、特に25〜35重量%の式
(I)の化合物を使用するのが有利である。
管、球、棒、蜂巣状物、有利にラッシヒリングの形の既
に完成された成形体として使用されうる未処理担体の重
量に対して5〜40重量%、特に25〜35重量%の式
(I)の化合物を使用するのが有利である。
【0029】アルコール、例えばメタノール、有利にエ
タノール又は他の不活性溶剤、例えばトルエン、キシレ
ン及びクロルベンゼン中の式(I)の化合物の10〜6
0%、有利に25〜35%溶液を使用するのが有利であ
る。
タノール又は他の不活性溶剤、例えばトルエン、キシレ
ン及びクロルベンゼン中の式(I)の化合物の10〜6
0%、有利に25〜35%溶液を使用するのが有利であ
る。
【0030】NR2R1−基又は-X+NR3R1−基の担体
上への結合は、式(I)の化合物の加水分解物の製造の
間におこり、これは、公知法により担体の存在下で製造
できる(K.G.Allum et al.,Organometal.Chem.87,203(1
975)参照)。
上への結合は、式(I)の化合物の加水分解物の製造の
間におこり、これは、公知法により担体の存在下で製造
できる(K.G.Allum et al.,Organometal.Chem.87,203(1
975)参照)。
【0031】反応の際にそうして得られた触媒は、有利
には温度50〜100℃で乾燥させる。
には温度50〜100℃で乾燥させる。
【0032】他の可能性は、式(I)の化合物を先ず部
分的に加水分解し、第二工程の最初に、担体の存在下で
これを完全に加水分解し、これにより担体上に結合させ
ることにある。
分的に加水分解し、第二工程の最初に、担体の存在下で
これを完全に加水分解し、これにより担体上に結合させ
ることにある。
【0033】加水分解物の変性のために、加水分解は、
他の化合物、例えば水ガラス、ハロゲン化チタン又はチ
タンアルコレート、ハロゲン化ジルコン又はジルコンア
ルコレート、ハロゲン化アルミニウム又はアルミニウム
アルコレート、ハロゲン化ケイ素又はケイ素アルコレー
ト及びハロゲン化スズ又はスズアルコレートの存在下で
も実施でき、その際、テトラアルコキシシラン、例えば
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
プロポキシシラン及びテトラブトキシシランが有利であ
り、テトラエトキシシランは特に有利である。
他の化合物、例えば水ガラス、ハロゲン化チタン又はチ
タンアルコレート、ハロゲン化ジルコン又はジルコンア
ルコレート、ハロゲン化アルミニウム又はアルミニウム
アルコレート、ハロゲン化ケイ素又はケイ素アルコレー
ト及びハロゲン化スズ又はスズアルコレートの存在下で
も実施でき、その際、テトラアルコキシシラン、例えば
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
プロポキシシラン及びテトラブトキシシランが有利であ
り、テトラエトキシシランは特に有利である。
【0034】加水分解物の変性のための化合物を、式
(I)の化合物に対して1:1〜5:1モル、特に有利
に3:1モルの量で使用するのが有利である。
(I)の化合物に対して1:1〜5:1モル、特に有利
に3:1モルの量で使用するのが有利である。
【0035】加水分解物の製造の際に使用される化合物
の例は、Si(OEt)4及び(EtO)3SiCH2C
H2CH2NBu3 +Cl-;Ti(OBu)4及び(Me
O)3SiCH2CH2CH2NMe2C18H37 +Cl-;Na2S
iO3及び(MeO)3SiCH2CH2CH2NMe2C10
H21 +Cl-;Al(O−i−Pr)3及び(MeO)3S
iCH2CH2CH2NMe3 +Cl-であり、ここでMeは
メチル基、Etはエチル基、i−Prはイソ−プロピル
基及びBuはn−ブチル基を表す。
の例は、Si(OEt)4及び(EtO)3SiCH2C
H2CH2NBu3 +Cl-;Ti(OBu)4及び(Me
O)3SiCH2CH2CH2NMe2C18H37 +Cl-;Na2S
iO3及び(MeO)3SiCH2CH2CH2NMe2C10
H21 +Cl-;Al(O−i−Pr)3及び(MeO)3S
iCH2CH2CH2NMe3 +Cl-であり、ここでMeは
メチル基、Etはエチル基、i−Prはイソ−プロピル
基及びBuはn−ブチル基を表す。
【0036】NR2R1−基又は-X+NR3R1−基と結合
された触媒は、平均粒度分布、特に1μm〜1mm、有
利に0.5〜1mmの粉末として存在するかもしくはN
R2R1−基又は-X+NR3R1−基の担体への結合の前後
に、自体公知の方法で成形体、例えばリング、半リン
グ、棒、球、立方体又は鞍型に変えられた。有利な成形
体は、リング、球又は立方体の形を有する。
された触媒は、平均粒度分布、特に1μm〜1mm、有
利に0.5〜1mmの粉末として存在するかもしくはN
R2R1−基又は-X+NR3R1−基の担体への結合の前後
に、自体公知の方法で成形体、例えばリング、半リン
グ、棒、球、立方体又は鞍型に変えられた。有利な成形
体は、リング、球又は立方体の形を有する。
【0037】成形体は、場合により有機又は無機の結合
剤の添加下に、又は架橋性加水分解下に、平均粒度分布
1μm〜1mmを有する微細に分割された触媒から成形
される。成形は、高温での圧縮又は高圧での焼結による
が、押出し及び引き続いての異形材の粉砕によっても行
うことができる。
剤の添加下に、又は架橋性加水分解下に、平均粒度分布
1μm〜1mmを有する微細に分割された触媒から成形
される。成形は、高温での圧縮又は高圧での焼結による
が、押出し及び引き続いての異形材の粉砕によっても行
うことができる。
【0038】有機又は無機の結合剤の例は、エポキシ樹
脂、水ガラス、有機ポリマー、例えばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリア
クリレート及びポリアミドである。
脂、水ガラス、有機ポリマー、例えばポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリア
クリレート及びポリアミドである。
【0039】成形された触媒の多孔性を高めるために、
成形前に、材料に、有利には水溶性物質、例えば塩化ナ
トリウム又は硫酸ナトリウムを添加し、これらは成形工
程後には溶出され、そのため、高活性の巨大孔性が生じ
る。
成形前に、材料に、有利には水溶性物質、例えば塩化ナ
トリウム又は硫酸ナトリウムを添加し、これらは成形工
程後には溶出され、そのため、高活性の巨大孔性が生じ
る。
【0040】担体としては、多孔性二酸化ケイ素を使用
するのが特に有利であり、その際、開放孔焼結ガラス
(シラン:登録商標名;以後省略(SIRAN,Schott Glaswer
ke,Mainz))からなる成形体が特に有利である。この開
放孔焼結ガラスは、有利には0.4m2/g迄の、有利
には0.4m2/gの表面積、70%までの調整可能な
孔容積、孔径1.6〜400μmを有し、かつ例えばシ
ランが加水分解に安定であるようにそこに結合されうる
シラノール基を含有する。この成形体は円形プレート、
管、球、棒、蜂巣状物、有利にはラッシヒリングの形で
使用することができる。成形体の大きさは、有利に、反
応容器の大きさの1/10である。
するのが特に有利であり、その際、開放孔焼結ガラス
(シラン:登録商標名;以後省略(SIRAN,Schott Glaswer
ke,Mainz))からなる成形体が特に有利である。この開
放孔焼結ガラスは、有利には0.4m2/g迄の、有利
には0.4m2/gの表面積、70%までの調整可能な
孔容積、孔径1.6〜400μmを有し、かつ例えばシ
ランが加水分解に安定であるようにそこに結合されうる
シラノール基を含有する。この成形体は円形プレート、
管、球、棒、蜂巣状物、有利にはラッシヒリングの形で
使用することができる。成形体の大きさは、有利に、反
応容器の大きさの1/10である。
【0041】成形体に式Iの化合物を、有利には、他の
化合物、例えばケイ素アルコレートと混合して、アルコ
ール、例えばエタノール中で、架橋性加水分解下に含浸
させることにより、NR2R1−基又は-X+NR3R1−基
が、有利には担体表面に結合される。その際、粉末とし
て又は有利には円形プレート、管、球、棒、蜂巣状物、
有利にラッシヒリングの形の既に完成された成形体とし
て使用されうる未処理担体の重量に対して5〜40重量
%、特に25〜35重量%の式(I)の化合物を使用す
るのが有利である。アルコール、例えばメタノール、有
利にエタノール又は他の不活性溶剤、例えばトルエン中
の式(I)の化合物の10〜60%、有利に25〜35
%溶液を使用するのが有利である。
化合物、例えばケイ素アルコレートと混合して、アルコ
ール、例えばエタノール中で、架橋性加水分解下に含浸
させることにより、NR2R1−基又は-X+NR3R1−基
が、有利には担体表面に結合される。その際、粉末とし
て又は有利には円形プレート、管、球、棒、蜂巣状物、
有利にラッシヒリングの形の既に完成された成形体とし
て使用されうる未処理担体の重量に対して5〜40重量
%、特に25〜35重量%の式(I)の化合物を使用す
るのが有利である。アルコール、例えばメタノール、有
利にエタノール又は他の不活性溶剤、例えばトルエン中
の式(I)の化合物の10〜60%、有利に25〜35
%溶液を使用するのが有利である。
【0042】式(I)の化合物は、加水分解物の変性の
ための化合物、例えばケイ素アルコレートと共に、1:
1〜1:5モル、有利に1:3モルの量で使用するのが
有利である。引き続いての架橋性加水分解は、希塩酸の
添加及び反応温度の最大100℃迄の上昇により達成さ
れ、その際、溶剤が留去され、触媒は残分として残留す
る。乾燥を完了するため、触媒を、90℃までで、空気
で洗浄する。
ための化合物、例えばケイ素アルコレートと共に、1:
1〜1:5モル、有利に1:3モルの量で使用するのが
有利である。引き続いての架橋性加水分解は、希塩酸の
添加及び反応温度の最大100℃迄の上昇により達成さ
れ、その際、溶剤が留去され、触媒は残分として残留す
る。乾燥を完了するため、触媒を、90℃までで、空気
で洗浄する。
【0043】本発明の他の対象物は、-X+NR3R1−基
(式中、Rは同じか又は異なるものであり、かつ基1個
当たり4〜8個の炭素原子を有する一価の炭化水素基を
表わし、R1は基1個当たり炭素原子1〜12個、有利
に1〜8個を有する二価の炭化水素基を表し、X-はク
ロリドイオン、ブロミドイオン又はヨージドイオンを表
す)が結合している担体を含有する触媒である。
(式中、Rは同じか又は異なるものであり、かつ基1個
当たり4〜8個の炭素原子を有する一価の炭化水素基を
表わし、R1は基1個当たり炭素原子1〜12個、有利
に1〜8個を有する二価の炭化水素基を表し、X-はク
ロリドイオン、ブロミドイオン又はヨージドイオンを表
す)が結合している担体を含有する触媒である。
【0044】-X+NR3−基は、有利には、式: Y3-xR2 xSi(CH2)nZ (I) [式中、Yは、メトキシ−、エトキシ−、ブトキシ基か
らなる群から選択された加水分解可能な基を表し、R2
は、基1個当たり1〜12個の炭素原子を有する一価の
炭化水素基を表わし、nは1〜12、有利には1〜8の
整数を表し、xは0又は1、有利に0を表し、ZはNR
2−又は有利に-X+NR3−基を表し、ここで、Rは同じ
か又は異なるものであり、基1個当たり4〜8個の炭素
原子を有する一価の炭化水素基を表し、X-は前記のも
のを表す]の化合物の加水分解可能な基Yを介して、担
体に結合する。
らなる群から選択された加水分解可能な基を表し、R2
は、基1個当たり1〜12個の炭素原子を有する一価の
炭化水素基を表わし、nは1〜12、有利には1〜8の
整数を表し、xは0又は1、有利に0を表し、ZはNR
2−又は有利に-X+NR3−基を表し、ここで、Rは同じ
か又は異なるものであり、基1個当たり4〜8個の炭素
原子を有する一価の炭化水素基を表し、X-は前記のも
のを表す]の化合物の加水分解可能な基Yを介して、担
体に結合する。
【0045】本発明による触媒は、有利に、開放孔焼結
ガラスからなる成形体の形状を有し、かつ有利に、反応
容器の直径の0.05〜0.2倍の大きさを有する。
ガラスからなる成形体の形状を有し、かつ有利に、反応
容器の直径の0.05〜0.2倍の大きさを有する。
【0046】本発明による方法で使用されるメチルシラ
ン及び/又はメチルクロルシランは、触媒の存在下での
メチルジクロルシランの不均等化により製造される。触
媒の例は、第三アミン、第四アンモニウム塩、例えばメ
チルトリオクチルアンモニウムクロリド及び米国特許
(US−A)第4870200号明細書(Wacker-Chemi
e GmbH)に記載されるような、第三アミン基又は第四ア
ンモニウム基がその上に共有結合している、反応媒体に
不溶の担体からなる触媒である。本発明による触媒を使
用するのが特に有利である。
ン及び/又はメチルクロルシランは、触媒の存在下での
メチルジクロルシランの不均等化により製造される。触
媒の例は、第三アミン、第四アンモニウム塩、例えばメ
チルトリオクチルアンモニウムクロリド及び米国特許
(US−A)第4870200号明細書(Wacker-Chemi
e GmbH)に記載されるような、第三アミン基又は第四ア
ンモニウム基がその上に共有結合している、反応媒体に
不溶の担体からなる触媒である。本発明による触媒を使
用するのが特に有利である。
【0047】メチルシラン及びメチルクロルシランは、
他の方法によっても製造することができる。
他の方法によっても製造することができる。
【0048】本発明による方法で使用されるメチルシラ
ンは、例えばメチルヒドロゲンシロキサンから、E.
L.ツィッキイ(E.L.Zicky)、J.Organomet
al.Chem.4、411〜412(1965)に記
載される方法により製造できるか、又はW.ノル、ヘミ
・ウント・テクノロジー・デア・シリコーン、ヘミ出
版、バインハイム(W.Noll,Chemie und Technologie der
Silicone,Verlag Chemie,Weinheim)、第2版、76〜
77頁、1968により、金属水素化物を用いてメチル
クロルシランに水素添加することにより製造することが
できる。
ンは、例えばメチルヒドロゲンシロキサンから、E.
L.ツィッキイ(E.L.Zicky)、J.Organomet
al.Chem.4、411〜412(1965)に記
載される方法により製造できるか、又はW.ノル、ヘミ
・ウント・テクノロジー・デア・シリコーン、ヘミ出
版、バインハイム(W.Noll,Chemie und Technologie der
Silicone,Verlag Chemie,Weinheim)、第2版、76〜
77頁、1968により、金属水素化物を用いてメチル
クロルシランに水素添加することにより製造することが
できる。
【0049】シラン−化合物は、気体又は液体形で、又
は不活性有機溶剤、例えばヘキサン、トルエン、キシレ
ン又はクロルベンゼン中に溶解して使用する。
は不活性有機溶剤、例えばヘキサン、トルエン、キシレ
ン又はクロルベンゼン中に溶解して使用する。
【0050】固体触媒は、固定層又は流動層中に存在す
る微粒形で又は有利に恒温にされた管中に存在する成形
体として使用する。
る微粒形で又は有利に恒温にされた管中に存在する成形
体として使用する。
【0051】触媒は、NR2R1−基又は-X+NR3R1−
基(式中、Rは同じか又は異なるものであり、水素原子
又は基1個当たり1〜20個の炭素原子を有する一価の
炭化水素基を表わすか又は2個のRが一緒になって、ヘ
テロ原子により中断されていてもよい炭素原子4〜11
個を有する二価の炭化水素基を表し、R1は基1個当た
り炭素原子1〜20個を有する二価の炭化水素基を表
し、X-はクロリドイオン、ブロミドイオン又はヨージ
ドイオンを表す)がその上に結合された、反応媒体に不
溶の担体を含有する触媒であり、その場合、本発明によ
る触媒が有利である。
基(式中、Rは同じか又は異なるものであり、水素原子
又は基1個当たり1〜20個の炭素原子を有する一価の
炭化水素基を表わすか又は2個のRが一緒になって、ヘ
テロ原子により中断されていてもよい炭素原子4〜11
個を有する二価の炭化水素基を表し、R1は基1個当た
り炭素原子1〜20個を有する二価の炭化水素基を表
し、X-はクロリドイオン、ブロミドイオン又はヨージ
ドイオンを表す)がその上に結合された、反応媒体に不
溶の担体を含有する触媒であり、その場合、本発明によ
る触媒が有利である。
【0052】固定層又は流動層中に触媒が配列する場
合、メチルシラン及び/又はメチルクロルシランは、ア
ルキル−又はアリールトリクロルシランと共に、圧力特
に0.1〜15バール、有利に1〜5バール、温度特に
0〜300℃、有利に50〜120℃で、触媒からなる
固定層又は流動層に通し、得られた反応混合物を液化さ
せ、分別蒸留で分離して、アルキル−又はアリールジク
ロルシランが得られる。
合、メチルシラン及び/又はメチルクロルシランは、ア
ルキル−又はアリールトリクロルシランと共に、圧力特
に0.1〜15バール、有利に1〜5バール、温度特に
0〜300℃、有利に50〜120℃で、触媒からなる
固定層又は流動層に通し、得られた反応混合物を液化さ
せ、分別蒸留で分離して、アルキル−又はアリールジク
ロルシランが得られる。
【0053】アルキル−及びアリールジクロルシランの
アルキル−及びアリール基の例は、アルキル基、例えば
エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n−ブ
チル−、イソ−ブチル−、tert.−ブチル−、n−ペン
チル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、tert.
−ペンチル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基;ヘ
プチル基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、例えば
n−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,2,
4−トリメチルペンチル基;ノニル基、例えばn−ノニ
ル基;デシル基、例えばn−デシル基;ドデシル基、例
えばn−ドデシル基;テトラデシル基;ヘキサデシル基
及びオクタデシル基、例えばn−オクタデシル基;シク
ロアルキル基、例えばシクロペンチル−、シクロヘキシ
ル−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキシル基;
アリール基、例えばフェニル基;アルカリール基、例え
ばo−、m−、p−トリル基;キシリル基及びエチルフ
ェニル基及びアルアルキル基、例えばベンジル基、α−
及びβ−フェニルエチル基;ハロゲンアルキル基、例え
ばクロルメチル、3−クロルプロピル−及び3−ブロム
プロピル基;ハロゲンアリール基、例えばo−、m−、
p−クロルフェニル−及びクロルトリル基である。
アルキル−及びアリール基の例は、アルキル基、例えば
エチル−、n−プロピル−、イソ−プロピル−、n−ブ
チル−、イソ−ブチル−、tert.−ブチル−、n−ペン
チル−、イソ−ペンチル−、ネオ−ペンチル−、tert.
−ペンチル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基;ヘ
プチル基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、例えば
n−オクチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,2,
4−トリメチルペンチル基;ノニル基、例えばn−ノニ
ル基;デシル基、例えばn−デシル基;ドデシル基、例
えばn−ドデシル基;テトラデシル基;ヘキサデシル基
及びオクタデシル基、例えばn−オクタデシル基;シク
ロアルキル基、例えばシクロペンチル−、シクロヘキシ
ル−、シクロヘプチル基及びメチルシクロヘキシル基;
アリール基、例えばフェニル基;アルカリール基、例え
ばo−、m−、p−トリル基;キシリル基及びエチルフ
ェニル基及びアルアルキル基、例えばベンジル基、α−
及びβ−フェニルエチル基;ハロゲンアルキル基、例え
ばクロルメチル、3−クロルプロピル−及び3−ブロム
プロピル基;ハロゲンアリール基、例えばo−、m−、
p−クロルフェニル−及びクロルトリル基である。
【0054】その際、メチルジクロルシランの不均等化
の際に精留塔中に生じる塔頂生成物、メチルシラン、メ
チルクロルシラン又はメチルシランとメチルクロルシラ
ンからの混合物を使用するのが有利であり、その場合、
均一又は不均一触媒作用下に、第三アミン、第四アンモ
ニウム塩及び第三アミン基又は第四アンモニウム基がそ
の上に共有結合した、反応媒体に不溶の担体からなる触
媒(例えば米国特許(US−A)第4870200号明
細書(Wacker-Chemie GmbH)中に記載)又は有利に本発明
による触媒の存在下で不均等化を実施する。
の際に精留塔中に生じる塔頂生成物、メチルシラン、メ
チルクロルシラン又はメチルシランとメチルクロルシラ
ンからの混合物を使用するのが有利であり、その場合、
均一又は不均一触媒作用下に、第三アミン、第四アンモ
ニウム塩及び第三アミン基又は第四アンモニウム基がそ
の上に共有結合した、反応媒体に不溶の担体からなる触
媒(例えば米国特許(US−A)第4870200号明
細書(Wacker-Chemie GmbH)中に記載)又は有利に本発明
による触媒の存在下で不均等化を実施する。
【0055】恒温にされた管中に成形体としての触媒が
配列する際は、メチルシラン及び/又はメチルクロルシ
ランは、アルキル−又はアリールトリクロルシランと共
に、圧力特に0.1〜20バール、有利に1〜3バー
ル、温度特に0〜250℃、有利に50〜120℃で導
入する。引き続いて、得られた反応混合物は、分別蒸留
で分離する。
配列する際は、メチルシラン及び/又はメチルクロルシ
ランは、アルキル−又はアリールトリクロルシランと共
に、圧力特に0.1〜20バール、有利に1〜3バー
ル、温度特に0〜250℃、有利に50〜120℃で導
入する。引き続いて、得られた反応混合物は、分別蒸留
で分離する。
【0056】その際、メチルジクロルシランの不均等化
の際に精留塔中に生じる塔頂生成物、メチルシラン、メ
チルクロルシラン又はメチルシランとメチルクロルシラ
ンからの混合物を使用するのが有利であり、その場合、
均一又は不均一触媒作用下に、第三アミン、第四アンモ
ニウム塩及び第三アミン基又は第四アンモニウム基がそ
の上に共有結合した、反応媒体に不溶の担体からなる触
媒(例えば米国特許(US−A)第4870200号明
細書(Wacker-Chemie GmbH)中に記載)又は有利に本発明
による触媒の存在下で不均等化を実施する。
の際に精留塔中に生じる塔頂生成物、メチルシラン、メ
チルクロルシラン又はメチルシランとメチルクロルシラ
ンからの混合物を使用するのが有利であり、その場合、
均一又は不均一触媒作用下に、第三アミン、第四アンモ
ニウム塩及び第三アミン基又は第四アンモニウム基がそ
の上に共有結合した、反応媒体に不溶の担体からなる触
媒(例えば米国特許(US−A)第4870200号明
細書(Wacker-Chemie GmbH)中に記載)又は有利に本発明
による触媒の存在下で不均等化を実施する。
【0057】本発明による方法は、バッチ法で、半連続
的に又は完全に連続的に実施することができる。有利に
は、完全に連続的に実施する。アルキル−及びアリール
ジクロルシランは、脂肪族二重結合又は三重結合を有す
る有機化合物のヒドロシリル化を経て官能性シラン又は
シロキサンを製造するために重要な出発化合物である。
的に又は完全に連続的に実施することができる。有利に
は、完全に連続的に実施する。アルキル−及びアリール
ジクロルシランは、脂肪族二重結合又は三重結合を有す
る有機化合物のヒドロシリル化を経て官能性シラン又は
シロキサンを製造するために重要な出発化合物である。
【0058】主にメチルジクロルシランの不均等化の際
に生じる、副産物としてのメチルトリクロルシランは、
経済的な方法で、例えば炎内加水分解(Flammenhydrolys
e)により生じた高分散性ケイ酸を製造するために、利用
することができる。
に生じる、副産物としてのメチルトリクロルシランは、
経済的な方法で、例えば炎内加水分解(Flammenhydrolys
e)により生じた高分散性ケイ酸を製造するために、利用
することができる。
【0059】
例1: 触媒の製造:回転気化機の10l−フラスコ中で、シラ
ン−ラシッヒリング(SIRAN-Raschig-Ringe(登録商
標;以後省略):Schott Glaswerke,Mainz,BRD:外径
9mm)1020gを、エタノール 810ml中のト
リエトキシシリル−3−プロピル−N,N,N−トリブ
チルアンモニウムクロリド(3−クロルプロピルトリエ
トキシシラン215g及びトリブチルアミン185gか
らの混合物をエタノール220ml中に130℃/25
バールで40時間保持し、引き続いて真空中で全ての揮
発性物質を除去することにより、オートクレーブ中で製
造)306g及びテトラエトキシシラン 265gから
の溶液中で、室温で30分間動かした。
ン−ラシッヒリング(SIRAN-Raschig-Ringe(登録商
標;以後省略):Schott Glaswerke,Mainz,BRD:外径
9mm)1020gを、エタノール 810ml中のト
リエトキシシリル−3−プロピル−N,N,N−トリブ
チルアンモニウムクロリド(3−クロルプロピルトリエ
トキシシラン215g及びトリブチルアミン185gか
らの混合物をエタノール220ml中に130℃/25
バールで40時間保持し、引き続いて真空中で全ての揮
発性物質を除去することにより、オートクレーブ中で製
造)306g及びテトラエトキシシラン 265gから
の溶液中で、室温で30分間動かした。
【0060】引き続いて、7%塩酸350mlを添加
し、室温で45分間保持し、かつ混合物を93℃迄3時
間にわたり加熱し、その際溶剤を留去した。リングの乾
燥完了のために、90℃で6時間、空気で洗浄した。
し、室温で45分間保持し、かつ混合物を93℃迄3時
間にわたり加熱し、その際溶剤を留去した。リングの乾
燥完了のために、90℃で6時間、空気で洗浄した。
【0061】例2〜6:例1により製造の触媒を恒温に
された、直径2.4cmの管に、嵩高さ150cmまで
充填した。導入するシランの量及び組成は変化させ(例
2〜6)、試験管から出てくる生成物を液化し、1H−
NMR−スペクトル分析を行った。実験条件及び結果を
次の表にまとめた。使用MeSiH3/MeSiH2Cl
−混合物は、米国特許(US−A)第4870200号
明細書例3に記載の方法により製造した。
された、直径2.4cmの管に、嵩高さ150cmまで
充填した。導入するシランの量及び組成は変化させ(例
2〜6)、試験管から出てくる生成物を液化し、1H−
NMR−スペクトル分析を行った。実験条件及び結果を
次の表にまとめた。使用MeSiH3/MeSiH2Cl
−混合物は、米国特許(US−A)第4870200号
明細書例3に記載の方法により製造した。
【0062】
【表1】
【0063】例7(図1参照):主として、制御可能な
計量ポンプ、気化機、全長2.5m、内径50mmの充
填塔、冷却機を備えた塔頂部、5l容量のレトルト並び
に圧力一定保持のための装置及び缶の排出部からなるV
4A−鋼製の実験装置1中で、気化機中で連続的に気化
されるメチルジクロルシランA 1000g/時間を、
貯蔵器から、計量ポンプを用いて、絶対圧7バールで塔
下部に供給する。その製造が例1に記載されている触媒
が充填された塔1に導入され、95℃まで予加熱された
メチルジクロルシランを不均等化し、その際、生じた反
応混合物を同時に分離した。生じた高分散性メチルトリ
クロルシラン(404g/時間)及び未反応のメチルジ
クロルシラン(506g/時間) Bは、缶に集め、そ
こから、貯蔵器に搬入する。易沸騰物は、塔中で、更に
反応しながら上へと行く。塔中の温度は、缶で122
℃、塔頂部で2℃である。生じた蒸気混合物Cは、塔頂
部で取り出し、n−プロピルトリクロルシランD 60
0g/時間と一緒に、例1により製造の触媒で充填さ
れ、100℃に恒温保持された、直径5cm、長さ15
0cmの管2に、2バール(絶対)で通す;反応生成物
を冷却機で完全に液化させ、大気圧で、寸法は最初のも
のに相当するが、V4A−鋼−インターパック−10−
充填体(V4A-Stahl-Interpak-Fuellkoerper)で充填され
た精留塔3の中心部に導入する。易沸騰物メチルシラ
ン、n−プロピルシラン及びメチルクロルシラン Eを
塔頂部で取り出し、反応器2に供給する。塔3の缶か
ら、連続的に、次の組成のシラン−混合物F 680g
/時間を取り出す: プロピルジクロルシラン 45.6重量% プロピルトリクロルシラン 19.8重量% プロピルクロルシラン 7.2重量% メチルジクロルシラン 18.6重量% メチルトリクロルシラン 8.8重量% シランの分離のために、混合物を蒸留により後処理す
る。
計量ポンプ、気化機、全長2.5m、内径50mmの充
填塔、冷却機を備えた塔頂部、5l容量のレトルト並び
に圧力一定保持のための装置及び缶の排出部からなるV
4A−鋼製の実験装置1中で、気化機中で連続的に気化
されるメチルジクロルシランA 1000g/時間を、
貯蔵器から、計量ポンプを用いて、絶対圧7バールで塔
下部に供給する。その製造が例1に記載されている触媒
が充填された塔1に導入され、95℃まで予加熱された
メチルジクロルシランを不均等化し、その際、生じた反
応混合物を同時に分離した。生じた高分散性メチルトリ
クロルシラン(404g/時間)及び未反応のメチルジ
クロルシラン(506g/時間) Bは、缶に集め、そ
こから、貯蔵器に搬入する。易沸騰物は、塔中で、更に
反応しながら上へと行く。塔中の温度は、缶で122
℃、塔頂部で2℃である。生じた蒸気混合物Cは、塔頂
部で取り出し、n−プロピルトリクロルシランD 60
0g/時間と一緒に、例1により製造の触媒で充填さ
れ、100℃に恒温保持された、直径5cm、長さ15
0cmの管2に、2バール(絶対)で通す;反応生成物
を冷却機で完全に液化させ、大気圧で、寸法は最初のも
のに相当するが、V4A−鋼−インターパック−10−
充填体(V4A-Stahl-Interpak-Fuellkoerper)で充填され
た精留塔3の中心部に導入する。易沸騰物メチルシラ
ン、n−プロピルシラン及びメチルクロルシラン Eを
塔頂部で取り出し、反応器2に供給する。塔3の缶か
ら、連続的に、次の組成のシラン−混合物F 680g
/時間を取り出す: プロピルジクロルシラン 45.6重量% プロピルトリクロルシラン 19.8重量% プロピルクロルシラン 7.2重量% メチルジクロルシラン 18.6重量% メチルトリクロルシラン 8.8重量% シランの分離のために、混合物を蒸留により後処理す
る。
【図1】本発明によるアルキル−又はアリールジクロル
シランの製法のフローチャートを示す図。
シランの製法のフローチャートを示す図。
1 塔、 2 反応器、 3 精留塔、 A メチルジ
クロルシラン、 B高分散性メチルトリクロルシラン及
び未反応メチルジクロルシラン、 C 生じた蒸気混合
物、 D n−プロピルトリクロルシラン、 E メチ
ルシラン、n−プロピルシラン及びメチルクロルシラ
ン、 F シラン−混合物
クロルシラン、 B高分散性メチルトリクロルシラン及
び未反応メチルジクロルシラン、 C 生じた蒸気混合
物、 D n−プロピルトリクロルシラン、 E メチ
ルシラン、n−プロピルシラン及びメチルクロルシラ
ン、 F シラン−混合物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/12
Claims (6)
- 【請求項1】 触媒の存在下に、アルキルトリクロルシ
ラン又はアリールトリクロルシランとSi−結合メチル
基、水素原子及び/又は塩素原子を有するシラン少なく
とも1種とを共均等化させることによりアルキルジクロ
ルシラン又はアリールジクロルシランを製造する際に、
シランとしてメチルシラン及び/又はメチルクロルシラ
ンを使用し、かつ触媒として、式: Y 3 −xR 2 x Si(CH 2 ) n Z (I) [式中、Yは、メトキシー、エトキシー、ブトキシ基か
らなる群から選択された加水分解可能な基を表し、R 2
は、基1個当たり1〜12個の炭素原子を有する一価の
炭化水素基を表わし、nは1〜12の整数を表し、xは
0又は1を表し、ZはNR 2 −又は−X+NR 3 −基を
表し、ここで、Rは同じか又は異なるものであり、基1
個当たり1〜20個の炭素原子を有する一価の炭化水素
基を表し、X − はクロリドイオン、ブロミドイオン又は
ヨージドイオンを表す]の化合物と反応溶媒に不溶の担
体とを反応させることにより得られる触媒を使用するこ
とを特徴とする、アルキル−又はアリールジクロルシラ
ンの製法。 - 【請求項2】 式中、Rは同じか又は異なるものであ
り、基1個当たり4〜8個の炭素原子を有する一価の炭
化水素基を表わす請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 式: Y 3−x R 2 x Si(CH 2 ) n Z (I) [式中、Yは、メトキシ−、エトキシ−、ブトキシ基か
らなる群から選択された加水分解可能な基を表し、R 2
は、基1個当たり1〜12個の炭素原子を有する一価の
炭化水素基を表わし、nは1〜12の整数を表し、xは
0又は1を表し、ZはNR 2 −又は − X + NR 3 −基を
表し、ここで、Rは同じか又は異なるものであり、基1
個当たり1〜20個の炭素原子を有する一価の炭化水素
基を表し、X − はクロリドイオン、ブロミドイオン又は
ヨージドイオンを表す]の化合物と反応溶媒に不溶の担
体とを反応させることにより得られる、アルキルトリク
ロルシラン又はアリールトリクロルシランとメチルシラ
ン及び/又はメチルクロルシランとから共均等化させる
ことによりアルキルジクロルシラン又はアリールジクロ
ルシランを製造するための触媒。 - 【請求項4】 式中、Rは同じか又は異なるものであ
り、基1個当たり4〜8個の炭素原子を有する一価の炭
化水素基を表わす請求項3記載の触媒。 - 【請求項5】 反応溶媒に不溶の担体と式: Y 3−x R 2 x Si(CH 2 ) n Z (I) [式中、Yは、メトキシー、エトキシー、ブトキシ基か
らなる群から選択された加水分解可能な基を表し、R 2
は、基1個当たり1〜12個の炭素原子を有する一価の
炭化水素基を表わし、nは1〜12の整数を表し、xは
0又は1を表し、ZはNR 2 −又は − X + NR 3 −基を
表し、ここで、Rは同じか又は異なるものであり、基1
個当たり1〜20個の炭素原子を有する一価の炭化水素
基を表し、X − はクロリドイオン、ブロミドイオン又は
ヨージドイオンを表す]の化合物とを反応させる、請求
項3又は4記載の触媒を製造するための方法。 - 【請求項6】 式中、Rは同じか又は異なるものであ
り、基1個当たり4〜8個の炭素原子を有する一価の炭
化水素基を表わす請求項5記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4419270A DE4419270A1 (de) | 1994-06-01 | 1994-06-01 | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- oder Aryldichlorsilanen |
DE4419270.3 | 1994-06-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07330781A JPH07330781A (ja) | 1995-12-19 |
JP2804243B2 true JP2804243B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=6519602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7132102A Expired - Lifetime JP2804243B2 (ja) | 1994-06-01 | 1995-05-30 | アルキル−又はアリールジクロルシランの製法、触媒及び触媒の製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5616761A (ja) |
EP (1) | EP0685483B1 (ja) |
JP (1) | JP2804243B2 (ja) |
CN (1) | CN1117494A (ja) |
DE (2) | DE4419270A1 (ja) |
ES (1) | ES2100758T3 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08333388A (ja) * | 1995-06-12 | 1996-12-17 | Ajinomoto Co Inc | 新規アスパルチルジペプチドアミド誘導体及び甘味剤 |
JP3638778B2 (ja) | 1997-03-31 | 2005-04-13 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置およびその製造方法 |
JP3564375B2 (ja) * | 2000-09-20 | 2004-09-08 | Necアクセステクニカ株式会社 | 接続用端子の瞬断検出装置 |
CN101007820B (zh) * | 2006-01-26 | 2011-04-06 | 杭州师范大学 | 一种连续法合成苯基氯硅烷的成套设备 |
DE102007028254A1 (de) | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von SiH-haltigen Silanen |
DE102007059170A1 (de) * | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1457139A (fr) * | 1965-01-29 | 1966-10-28 | Dow Corning | Substitutions réciproques de l'hydrogène et du chlore dans les silanes |
US3769310A (en) * | 1972-06-07 | 1973-10-30 | Gen Electric | Redistribution of alkylhydrosilanes |
DE3120195C2 (de) * | 1981-05-21 | 1986-09-04 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Polymere Ammoniumverbindungen mit kieselsäureartigem Grundgerüst, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
FR2552435B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de fabrication de silanes hydrogenes par redistribution |
FR2552436B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouveau procede de fabrication d'hydrogeno-silanes par reaction de redistribution |
US4889838A (en) * | 1983-12-22 | 1989-12-26 | Union Carbide Corporation And Plastics Company Inc. | Redistribution of organohalosilanes utilizing heat treated crystalline alumina catalysts |
KR860000661B1 (ko) * | 1984-05-17 | 1986-05-29 | 한국과학기술원 | 염화실란의 불균등화 반응촉매의 제조방법 |
US4613491A (en) * | 1984-05-17 | 1986-09-23 | Korea Advanced Institute Of Science And Technology | Redistribution catalyst and methods for its preparation and use to convert chlorosilicon hydrides to silane |
JPH0753574B2 (ja) * | 1985-06-11 | 1995-06-07 | 三井東圧化学株式会社 | シラン類の不均化方法 |
DE3712098A1 (de) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von disproportionierungsprodukten von dichlormethylsilan in gegenwart eines katalysators |
DE4208152A1 (de) * | 1992-03-13 | 1993-09-16 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von dimethylchlorsilan |
DE4240730A1 (de) * | 1992-12-03 | 1994-06-09 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Dimethylchlorsilan |
DE4304256A1 (de) * | 1993-02-12 | 1994-08-18 | Solvay Deutschland | Katalysator zur Disproportionierung von Aryl- oder Alkylhalogendisilanen zu Aryl- oder Alkylhalogenmono- und Aryl- oder Alkylhalogenpolysilanen |
-
1994
- 1994-06-01 DE DE4419270A patent/DE4419270A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-05-08 US US08/437,196 patent/US5616761A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-05-30 JP JP7132102A patent/JP2804243B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-01 EP EP95108426A patent/EP0685483B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-01 ES ES95108426T patent/ES2100758T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-01 DE DE59500219T patent/DE59500219D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-01 CN CN95106690A patent/CN1117494A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0685483B1 (de) | 1997-05-07 |
JPH07330781A (ja) | 1995-12-19 |
US5616761A (en) | 1997-04-01 |
ES2100758T3 (es) | 1997-06-16 |
DE59500219D1 (de) | 1997-06-12 |
CN1117494A (zh) | 1996-02-28 |
EP0685483A1 (de) | 1995-12-06 |
DE4419270A1 (de) | 1995-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3772347A (en) | Transition metal catalyzed silylations | |
JP4418803B2 (ja) | オルガニルハイドロジェンシランの製造方法 | |
US4888435A (en) | Integrated process for alkylation and redistribution of halosilanes | |
US4746752A (en) | Preparation of hydrogenosilanes by redistribution | |
JP2960522B2 (ja) | シラン混合物の精製方法 | |
JP2804243B2 (ja) | アルキル−又はアリールジクロルシランの製法、触媒及び触媒の製法 | |
JPH069656A (ja) | ジメチルクロロシランの製法 | |
US5670687A (en) | Process for preparing SiH-containing organochlorosilanes | |
JP2002155089A (ja) | アルキルクロルシランの製法 | |
JP2562560B2 (ja) | ジメチルクロルシランの製造方法 | |
US4870200A (en) | Process for preparing disproportionation products of dichloromethylsilane in the presence of a catalyst | |
JPH0786115B2 (ja) | 第3級炭化水素基含有ハロゲン化シランの製造方法 | |
JP4435572B2 (ja) | フェニルオルガノシリコン中間体を製造する方法 | |
EP0365207B1 (en) | Preparation of organosilanes | |
EP0652221B1 (en) | Preparations of dimethylchlorosilane and triorganochlorosilanes | |
JP3754479B2 (ja) | 3−クロロプロピルトリクロロシラン合成用触媒および3−クロロプロピルトリクロロシランの製造方法 | |
JPH11152290A (ja) | 粗オルガノクロロシラン混合物のクロロカーボン含有率を減少させる方法 | |
JPH0753742B2 (ja) | シラン化合物の製造方法 | |
EP0508433A1 (en) | Preparation of siloxanes | |
CN112625058A (zh) | 一种多乙烯基硅烷歧化反应制备单乙烯基氯硅烷的方法 | |
JPH09169775A (ja) | ジアルキルクロロシランの製造方法 | |
JPH09194484A (ja) | アルキニルシラン類の製造方法 | |
JPH0751581B2 (ja) | モノハイドロジェン(トリオルガノシロキシ)オルガノシランの製造方法 |