JP2862632B2 - 基板の縦型搬送装置 - Google Patents
基板の縦型搬送装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、縦向きのウエハなどの基板を裏面吸着して
縦にしたまま搬送する搬送ハンドと縦型ステージに設け
られた基板保持手段との間で、前記基板を縦にしたまま
該基板の受渡しを行う基板の縦型搬送装置に関するもの
である。
縦にしたまま搬送する搬送ハンドと縦型ステージに設け
られた基板保持手段との間で、前記基板を縦にしたまま
該基板の受渡しを行う基板の縦型搬送装置に関するもの
である。
半導体装置、特に半導体メモリの大容量化に伴ない、
半導体製造装置における微細化技術の向上が叫ばれてい
る。
半導体製造装置における微細化技術の向上が叫ばれてい
る。
該微細化技術の向上の一手段として、シンクロトロン
放射光を光源とするＸ線露光装置があるが、該Ｘ線露光
装置は従来の遠紫外光などを光源とする露光装置と異な
り、ウエハおよびマスクを縦に配置した構成となってい
る（たとえば、特願昭63−252991号）。
放射光を光源とするＸ線露光装置があるが、該Ｘ線露光
装置は従来の遠紫外光などを光源とする露光装置と異な
り、ウエハおよびマスクを縦に配置した構成となってい
る（たとえば、特願昭63−252991号）。
このようなＸ線露光装置においては、次に示す理由に
より、縦向きのウエハを搬送ハンドで裏面吸着して縦に
したまま搬送して、縦型ステージに設けられた基板保持
手段と該搬送ハンドとの間で、前記ウエハを縦にしたま
ま該ウエハの受渡しを行う基板の縦型搬送装置が用いら
れる。
より、縦向きのウエハを搬送ハンドで裏面吸着して縦に
したまま搬送して、縦型ステージに設けられた基板保持
手段と該搬送ハンドとの間で、前記ウエハを縦にしたま
ま該ウエハの受渡しを行う基板の縦型搬送装置が用いら
れる。
（１）ウエハは前記縦型ステージに設置されて露光され
るため、従来のようにウエハを横にして搬送するもので
は、前記基板保持手段あるいは前記搬送ハンドのいずれ
かに該ウエハを縦にする機能が必要となる。
るため、従来のようにウエハを横にして搬送するもので
は、前記基板保持手段あるいは前記搬送ハンドのいずれ
かに該ウエハを縦にする機能が必要となる。
（２）ウエハ上に描かれるパターンの線幅の微細化に伴
ない、従来のようにウエハを横にして搬送するもので
は、該ウエハ搬送時のごみの付着が問題となる。
ない、従来のようにウエハを横にして搬送するもので
は、該ウエハ搬送時のごみの付着が問題となる。
第４図（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ基板の縦型搬送装置
の従来例の一つを示す概略構成図である。
の従来例の一つを示す概略構成図である。
この基板の縦型搬送装置は、縦向きのウエハ101を裏
面吸着して縦にしたまま搬送する搬送ハンド112と、該
ウエハ101が設置される不図示の縦型ステージに設けら
れた、前記ウエハ101を縦にしたまま前記搬送ハンド112
と該ウエハ101の受渡しをする基板保持手段であるウエ
ハチャック113と、前記搬送ハンド112が取り付けられて
いる平行リンク104と、該平行リンク104が取り付けられ
ているブロック114と、該ブロック114が取り付けられて
おり、前記搬送ハンド112をＺ軸方向（第４図（Ｂ）の
紙面垂直方向）に移動させるためのＺステージ115とを
有する。ここで、ウエハチャック113と搬送ハンド112と
はともにウエハ101の裏面を吸着するため、該ウエハチ
ャック113は該ウエハ101の中心部の裏面を吸着し、前記
搬送ハンド112は該ウエハ101の左半分（第４図（Ｂ））
の前記ウエハチャック113が当接する部分よりも外側の
裏面を吸着する構成となっている。
面吸着して縦にしたまま搬送する搬送ハンド112と、該
ウエハ101が設置される不図示の縦型ステージに設けら
れた、前記ウエハ101を縦にしたまま前記搬送ハンド112
と該ウエハ101の受渡しをする基板保持手段であるウエ
ハチャック113と、前記搬送ハンド112が取り付けられて
いる平行リンク104と、該平行リンク104が取り付けられ
ているブロック114と、該ブロック114が取り付けられて
おり、前記搬送ハンド112をＺ軸方向（第４図（Ｂ）の
紙面垂直方向）に移動させるためのＺステージ115とを
有する。ここで、ウエハチャック113と搬送ハンド112と
はともにウエハ101の裏面を吸着するため、該ウエハチ
ャック113は該ウエハ101の中心部の裏面を吸着し、前記
搬送ハンド112は該ウエハ101の左半分（第４図（Ｂ））
の前記ウエハチャック113が当接する部分よりも外側の
裏面を吸着する構成となっている。
この基板の縦型搬送装置では、搬送ハンド112からウ
エハチャック113へウエハ101を渡すときには、該搬送ハ
ンド112の位置を不図示のセンサで確認しつつ、前記ウ
エハ101がウエハチャック113に少し押付けられる位置ま
でＺステージ115を不図示の駆動装置により移動させ
る。その後、前記ウエハチャック113で前記ウエハ101の
裏面を吸着させたのち、前記搬送ハンド112の吸着を解
除する。一方、ウエハチャック113から搬送ハンド112へ
ウエハ101を渡すときには、該ウエハチャック113により
裏面が吸着されている前記ウエハ101の裏面を前記搬送
ハンド112によっても吸着させたのち、前記ウエハチャ
ック113の吸着を解除し、前記駆動装置によりＺステー
ジ115を駆動して前記搬送ハンド112を次の工程の位置ま
で移動させる。
エハチャック113へウエハ101を渡すときには、該搬送ハ
ンド112の位置を不図示のセンサで確認しつつ、前記ウ
エハ101がウエハチャック113に少し押付けられる位置ま
でＺステージ115を不図示の駆動装置により移動させ
る。その後、前記ウエハチャック113で前記ウエハ101の
裏面を吸着させたのち、前記搬送ハンド112の吸着を解
除する。一方、ウエハチャック113から搬送ハンド112へ
ウエハ101を渡すときには、該ウエハチャック113により
裏面が吸着されている前記ウエハ101の裏面を前記搬送
ハンド112によっても吸着させたのち、前記ウエハチャ
ック113の吸着を解除し、前記駆動装置によりＺステー
ジ115を駆動して前記搬送ハンド112を次の工程の位置ま
で移動させる。
しかしながら、上述した従来例の基板の縦型搬送装置
では、次のような欠点があるため、ウエハチャック113
に十分な吸着力を持たせることが困難であったと同時
に、ウエハ101を脱落させることなく確実にウエハチャ
ック113と搬送ハンド112との間で該ウエハ101を受渡し
させることが困難であった。
では、次のような欠点があるため、ウエハチャック113
に十分な吸着力を持たせることが困難であったと同時
に、ウエハ101を脱落させることなく確実にウエハチャ
ック113と搬送ハンド112との間で該ウエハ101を受渡し
させることが困難であった。
（１）ウエハチャック113と搬送ハンド112はともにウエ
ハ101の裏面を吸着するため、両者の吸着力がほぼ等し
くなるように両者の吸着面積を決める必要がある。しか
し、前記ウエハ101の裏面の面積には限りがあるため、
該ウエハ101を脱落させない十分な吸着力を両者ともに
持たせるだけの吸着面積を確保することが難しい。
ハ101の裏面を吸着するため、両者の吸着力がほぼ等し
くなるように両者の吸着面積を決める必要がある。しか
し、前記ウエハ101の裏面の面積には限りがあるため、
該ウエハ101を脱落させない十分な吸着力を両者ともに
持たせるだけの吸着面積を確保することが難しい。
（２）ウエハ101の受渡しのときに該ウエハ101を脱落さ
せないためには、該受渡し時のウエハチャック113の吸
着面と搬送ハンド112の吸着面との平行度を高精度に調
整する必要があるが、第４図に示した搬送ハンド112を
Ｚステージ115で移動させるものでは、前記平行度を高
精度に調整することには限界がある。
せないためには、該受渡し時のウエハチャック113の吸
着面と搬送ハンド112の吸着面との平行度を高精度に調
整する必要があるが、第４図に示した搬送ハンド112を
Ｚステージ115で移動させるものでは、前記平行度を高
精度に調整することには限界がある。
本発明の目的は、基板保持手段に十分な吸着力を与え
られると同時に、基板保持手段と搬送ハンド間の基板の
受渡しを、該基板が脱落することなく確実に行える信頼
性の高い基板の縦型搬送装置を提供することにある。
られると同時に、基板保持手段と搬送ハンド間の基板の
受渡しを、該基板が脱落することなく確実に行える信頼
性の高い基板の縦型搬送装置を提供することにある。
本発明は、縦向きの基板を吸着して縦にしたまま搬送
する搬送ハンドと、該搬送ハンドと前記基板を縦にした
まま受渡しをする基板保持手段とを有する基板の縦型搬
送装置において、 前記基板保持手段は、共に縦向きの吸着面を有し且つ
該吸着面同士が基板の面の法線方向に相対移動可能な第
１の吸着チャックと第２の吸着チャックを有すると共
に、該第２の吸着チャックと前記搬送ハンドとの間で受
渡しを行なう際に、基板の傾き誤差を吸収するように前
記第２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段を設ける
ものである。
する搬送ハンドと、該搬送ハンドと前記基板を縦にした
まま受渡しをする基板保持手段とを有する基板の縦型搬
送装置において、 前記基板保持手段は、共に縦向きの吸着面を有し且つ
該吸着面同士が基板の面の法線方向に相対移動可能な第
１の吸着チャックと第２の吸着チャックを有すると共
に、該第２の吸着チャックと前記搬送ハンドとの間で受
渡しを行なう際に、基板の傾き誤差を吸収するように前
記第２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段を設ける
ものである。
また、前記基板保持手段で基板を保持する際に、前記
第１の吸着チャック並びに前記第２の吸着チャックの両
方を用いて前記基板を吸着するものである。
第１の吸着チャック並びに前記第２の吸着チャックの両
方を用いて前記基板を吸着するものである。
［作用］ 基板保持手段は、第１の吸着チャックと、該第１の吸
着チャックと同一平面上に吸着面をもち、受渡し位置に
ある基板の面の法線方向に移動可能な第２の吸着チャッ
クとを有し、該第２の吸着チャックと前記搬送ハンド間
で前記基板の受渡しを行うことにより、該基板を受取っ
た前記第２の吸着チャックを、その吸着面が前記第１の
吸着チャックの吸着面と同一平面上にくる位置まで移動
させたのち、これら２つの吸着チャックで前記基板の裏
面を吸着させることができるので、前記基板保持手段に
十分な吸着力を与えられる。
着チャックと同一平面上に吸着面をもち、受渡し位置に
ある基板の面の法線方向に移動可能な第２の吸着チャッ
クとを有し、該第２の吸着チャックと前記搬送ハンド間
で前記基板の受渡しを行うことにより、該基板を受取っ
た前記第２の吸着チャックを、その吸着面が前記第１の
吸着チャックの吸着面と同一平面上にくる位置まで移動
させたのち、これら２つの吸着チャックで前記基板の裏
面を吸着させることができるので、前記基板保持手段に
十分な吸着力を与えられる。
また、前記基板保持手段は、前記第２の吸着チャック
と前記搬送ハンド間での前記基板の受渡し時の該基板の
傾き誤差を吸収し、該第２の吸着チャックを支持する誤
差吸収手段を有することにより、前記基板が多少傾いて
いても前記第２の吸着チャックの吸着面を該基板の傾き
に応じて傾かせることができるため、該基板の受渡し時
に前記第２の吸着チャックまたは前記搬送ハンドの吸着
面の全面を該基板の裏面に押し当てることができるの
で、前記基板の受渡し時の脱落を防止することができ、
前記基板保持手段と前記搬送ハンド間の該基板の受渡し
の信頼性を向上させることができる。
と前記搬送ハンド間での前記基板の受渡し時の該基板の
傾き誤差を吸収し、該第２の吸着チャックを支持する誤
差吸収手段を有することにより、前記基板が多少傾いて
いても前記第２の吸着チャックの吸着面を該基板の傾き
に応じて傾かせることができるため、該基板の受渡し時
に前記第２の吸着チャックまたは前記搬送ハンドの吸着
面の全面を該基板の裏面に押し当てることができるの
で、前記基板の受渡し時の脱落を防止することができ、
前記基板保持手段と前記搬送ハンド間の該基板の受渡し
の信頼性を向上させることができる。
［実施例］ 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図（Ａ），（Ｂ）はそれぞれ本発明の基板の縦型
搬送装置の第１の実施例を示す概略構成図、第２図は第
１図に示した第２の吸着チャック20の支持方法を示す概
略構成図である。
搬送装置の第１の実施例を示す概略構成図、第２図は第
１図に示した第２の吸着チャック20の支持方法を示す概
略構成図である。
本実施例の基板の縦型搬送装置では、縦向きのウエハ
11は搬送ハンド12により裏面吸着されて縦にしたまま搬
送される。また、該ウエハ11が設置される不図示の縦型
ステージに設けられた、該ウエハ11を縦にしたまま前記
搬送ハンド12と該ウエハ11の受渡しをする基板保持手段
は、該ウエハ11の周方向外側の裏面を吸着する円筒の形
状を有する第１の吸着チャック17と、前記ウエハ11の中
心部の裏面を吸着する、該第１の吸着チャック17と同一
平面上に吸着面をもつ円板の形状を有する第２の吸着チ
ャック20と、該第２の吸着チャック20を前記ウエハ11の
受渡し位置［第１図（Ａ）で第２の吸着チャック20を破
線で示す位置］まで該ウエハ11の面の法線方向（Ｚ軸方
向）に沿って移動させる、該第２の吸着チャック20の直
径と同じ外径を有するＺ駆動軸19と、第２図に示すよう
に該Ｚ駆動軸19と該第２の吸着チャック20との互いに対
向する面の間に等間隔に設けられた、前記ウエハ11の受
渡し時の該ウエハ11の傾き誤差を吸収し、該第２の吸着
チャック20を支持する誤差吸収手段である４本の波形状
に屈曲された板ばね221〜224とから構成されている。
11は搬送ハンド12により裏面吸着されて縦にしたまま搬
送される。また、該ウエハ11が設置される不図示の縦型
ステージに設けられた、該ウエハ11を縦にしたまま前記
搬送ハンド12と該ウエハ11の受渡しをする基板保持手段
は、該ウエハ11の周方向外側の裏面を吸着する円筒の形
状を有する第１の吸着チャック17と、前記ウエハ11の中
心部の裏面を吸着する、該第１の吸着チャック17と同一
平面上に吸着面をもつ円板の形状を有する第２の吸着チ
ャック20と、該第２の吸着チャック20を前記ウエハ11の
受渡し位置［第１図（Ａ）で第２の吸着チャック20を破
線で示す位置］まで該ウエハ11の面の法線方向（Ｚ軸方
向）に沿って移動させる、該第２の吸着チャック20の直
径と同じ外径を有するＺ駆動軸19と、第２図に示すよう
に該Ｚ駆動軸19と該第２の吸着チャック20との互いに対
向する面の間に等間隔に設けられた、前記ウエハ11の受
渡し時の該ウエハ11の傾き誤差を吸収し、該第２の吸着
チャック20を支持する誤差吸収手段である４本の波形状
に屈曲された板ばね221〜224とから構成されている。
ここで、前記搬送ハンド12は、前記受渡し位置におい
て前記第２の吸着チャック20と重ならないようにＵ字形
の形状をしており、支持アーム14および固定ブロック15
を介してＸ軸方向（図中左右方向）に移動可能なＸステ
ージ16に取り付けられている。また、前記第１の吸着チ
ャック17の中心部に設けられたガイド孔17aには、前記
Ｚ駆動軸19が反吸着面側から嵌挿されており該ガイド孔
17aに案内されて軸方向に摺動自在に構成されている。
さらに、前記Ｚ駆動時19は、前記縦型ステージに設けら
れたシリンダなどの直動のアクチュエータ（不図示）に
より駆動されてＺ軸方向にリニアに移動する。
て前記第２の吸着チャック20と重ならないようにＵ字形
の形状をしており、支持アーム14および固定ブロック15
を介してＸ軸方向（図中左右方向）に移動可能なＸステ
ージ16に取り付けられている。また、前記第１の吸着チ
ャック17の中心部に設けられたガイド孔17aには、前記
Ｚ駆動軸19が反吸着面側から嵌挿されており該ガイド孔
17aに案内されて軸方向に摺動自在に構成されている。
さらに、前記Ｚ駆動時19は、前記縦型ステージに設けら
れたシリンダなどの直動のアクチュエータ（不図示）に
より駆動されてＺ軸方向にリニアに移動する。
前記第１の吸着チャック17には第１の吸着ライン18を
介して、前記第２の吸着チャック20には第２の吸着ライ
ン21を介して、前記搬送ハンド12には第３の吸着ライン
13を介して、前記ウエハ11を真空吸着するための不図示
の真空発生源がそれぞれ接続されている。
介して、前記第２の吸着チャック20には第２の吸着ライ
ン21を介して、前記搬送ハンド12には第３の吸着ライン
13を介して、前記ウエハ11を真空吸着するための不図示
の真空発生源がそれぞれ接続されている。
次に、本実施例の基板の縦型搬送装置の動作について
説明する。
説明する。
搬送ハンド12から基板保持手段へウエハ11を渡すとき
には、該搬送ハンド12の位置を不図示のセンサで確認し
つつ、受渡し位置までＸステージ16を不図示の駆動装置
により移動させる。その後、第２の吸着チャック20の吸
着面が前記ウエハ11の裏面に当接する位置まで、前記ア
クチュエータによりＺ駆動軸19をＺ軸方向（第１図
（Ａ）の下方向に）に前進させる。このとき、前記第２
の吸着チャック20はＺ軸方向,X軸回転方向（ωｘ方
向）,Y軸回転方向（ωｙ方向）に自由に移動できるよう
に４本の前記板ばね221〜224で前記Ｚ駆動軸19に支持さ
れているため、該第２の吸着チャック20が前記ウエハ11
の裏面に当接したときに該ウエハ11が傾いていても、該
第２の吸着チャック20の吸着面が該傾きに応じて傾くの
で、該吸着面の全面を該ウエハ11の裏面に押当てること
ができる。前記Ｚ駆動軸19の前進が終了すると、前記第
２の吸着ライン21を前記真空発生源に連通させることに
より前記第２の吸着チャック20の吸着面に前記ウエハ11
を真空吸着させたのち、前記搬送ハンド12の吸着を解除
する。
には、該搬送ハンド12の位置を不図示のセンサで確認し
つつ、受渡し位置までＸステージ16を不図示の駆動装置
により移動させる。その後、第２の吸着チャック20の吸
着面が前記ウエハ11の裏面に当接する位置まで、前記ア
クチュエータによりＺ駆動軸19をＺ軸方向（第１図
（Ａ）の下方向に）に前進させる。このとき、前記第２
の吸着チャック20はＺ軸方向,X軸回転方向（ωｘ方
向）,Y軸回転方向（ωｙ方向）に自由に移動できるよう
に４本の前記板ばね221〜224で前記Ｚ駆動軸19に支持さ
れているため、該第２の吸着チャック20が前記ウエハ11
の裏面に当接したときに該ウエハ11が傾いていても、該
第２の吸着チャック20の吸着面が該傾きに応じて傾くの
で、該吸着面の全面を該ウエハ11の裏面に押当てること
ができる。前記Ｚ駆動軸19の前進が終了すると、前記第
２の吸着ライン21を前記真空発生源に連通させることに
より前記第２の吸着チャック20の吸着面に前記ウエハ11
を真空吸着させたのち、前記搬送ハンド12の吸着を解除
する。
該搬送ハンド12の吸着を解除したのち、前記ウエハ11
の裏面が前記搬送ハンド12の吸着面から完全に離れる位
置（以下、不干渉位置と呼ぶ）まで、前記アクチュエー
タにより前記Ｚ駆動軸19をＺ軸方向にさらに前進させた
のち、前記Ｘステージ16を前記駆動装置により第１図
（Ａ）の図示左側に移動し、前記搬送ハンド12を退避さ
せる。そして、前記第２の吸着チャック20の吸着面が前
記第１の吸着チャック17の吸着面と同一平面状にくる位
置（以下、初期位置と称する）まで、前記アクチュエー
タにより前記Ｚ駆動軸19を後退させたのち、前記第１の
吸着ライン18を前記真空発生源に連通させることによ
り、前記第１の吸着チャック17の吸着面にも前記ウエハ
11を真空吸着させて、すべての動作を終了する。
の裏面が前記搬送ハンド12の吸着面から完全に離れる位
置（以下、不干渉位置と呼ぶ）まで、前記アクチュエー
タにより前記Ｚ駆動軸19をＺ軸方向にさらに前進させた
のち、前記Ｘステージ16を前記駆動装置により第１図
（Ａ）の図示左側に移動し、前記搬送ハンド12を退避さ
せる。そして、前記第２の吸着チャック20の吸着面が前
記第１の吸着チャック17の吸着面と同一平面状にくる位
置（以下、初期位置と称する）まで、前記アクチュエー
タにより前記Ｚ駆動軸19を後退させたのち、前記第１の
吸着ライン18を前記真空発生源に連通させることによ
り、前記第１の吸着チャック17の吸着面にも前記ウエハ
11を真空吸着させて、すべての動作を終了する。
一方、基板保持手段から搬送ハンド12へウエハ11を渡
す場合には、まず、該ウエハ11の裏面を真空吸着してい
る第１の吸着チャック17および第２の吸着チャック20の
うち、該第１の吸着チャック17による真空吸着を解除し
たのち、前記アクチュエータによりＺ駆動軸19を前記不
干渉位置まで前進させる。そして、Ｘステージ16を前記
駆動装置により駆動して、前記搬送ハンド12を受渡し位
置まで進ませたのち、前記アクチュエータによりＺ駆動
軸19を該受渡し位置まで後退させ、前記ウエハ11の裏面
を前記搬送ハンド12の吸着面に当接させる。このとき、
該ウエハ11の面が該搬送ハンド12の吸着面に対して傾い
ていても、前述したように前記第２の吸着チャック20を
支持している４本の前記板ばね221〜224により該傾きは
吸収されるので、該搬送ハンド12の吸着面の全面に前記
ウエハ11の裏面を押当てることができる。その後、該搬
送ハンド12により該ウエハ11の裏面を真空吸着したの
ち、前記第２の吸着チャック20による真空吸着を解除
し、前記アクチュエータにより前記Ｚ駆動軸19を前記初
期位置まで後退させて、すべての動作を終了する。
す場合には、まず、該ウエハ11の裏面を真空吸着してい
る第１の吸着チャック17および第２の吸着チャック20の
うち、該第１の吸着チャック17による真空吸着を解除し
たのち、前記アクチュエータによりＺ駆動軸19を前記不
干渉位置まで前進させる。そして、Ｘステージ16を前記
駆動装置により駆動して、前記搬送ハンド12を受渡し位
置まで進ませたのち、前記アクチュエータによりＺ駆動
軸19を該受渡し位置まで後退させ、前記ウエハ11の裏面
を前記搬送ハンド12の吸着面に当接させる。このとき、
該ウエハ11の面が該搬送ハンド12の吸着面に対して傾い
ていても、前述したように前記第２の吸着チャック20を
支持している４本の前記板ばね221〜224により該傾きは
吸収されるので、該搬送ハンド12の吸着面の全面に前記
ウエハ11の裏面を押当てることができる。その後、該搬
送ハンド12により該ウエハ11の裏面を真空吸着したの
ち、前記第２の吸着チャック20による真空吸着を解除
し、前記アクチュエータにより前記Ｚ駆動軸19を前記初
期位置まで後退させて、すべての動作を終了する。
以上説明したように、本実施例の基板の縦型搬送装置
では、ウエハ11を受取った基板保持手段は、第１の吸着
チャック17と第２の吸着チャック20とにより該ウエハ11
の裏面の大部分を真空吸着するため、第４図に示した従
来例のものよりも大きな吸着力で該ウエハ11を吸着する
ことができるので、該ウエハ11の落下を防止することが
できる。また、第２の吸着チャック20と搬送ハンド12間
でのウエハ11の受渡し時において該ウエハ11が傾いてい
ても、該傾きは該第２の吸着チャック20を支持している
４本の前記板ばね221〜224により吸収されるので、該第
２の吸着チャック20の吸着面と搬送ハンド12の吸着面と
の平行度を高精度に調整しなくても、前記ウエハ11の受
渡しを確実に行える。
では、ウエハ11を受取った基板保持手段は、第１の吸着
チャック17と第２の吸着チャック20とにより該ウエハ11
の裏面の大部分を真空吸着するため、第４図に示した従
来例のものよりも大きな吸着力で該ウエハ11を吸着する
ことができるので、該ウエハ11の落下を防止することが
できる。また、第２の吸着チャック20と搬送ハンド12間
でのウエハ11の受渡し時において該ウエハ11が傾いてい
ても、該傾きは該第２の吸着チャック20を支持している
４本の前記板ばね221〜224により吸収されるので、該第
２の吸着チャック20の吸着面と搬送ハンド12の吸着面と
の平行度を高精度に調整しなくても、前記ウエハ11の受
渡しを確実に行える。
第３図は本発明の基板の縦型搬送装置の第２の実施例
を示すウエハ31の受渡し部分の概略構成図である。
を示すウエハ31の受渡し部分の概略構成図である。
本発明例の基板の縦型搬送装置は、搬送ハンド32とウ
エハ31の受渡しを行う第２の吸着チャック40が該ウエハ
31の周方向外側の裏面を吸着する点、および該第２の吸
着チャック40と前記搬送ハンド32間での前記ウエハ31の
受渡し時の該ウエハ31の傾き誤差を吸収し、該第２の吸
着チャック40を支持する誤差吸収手段として３本のコイ
ルばね421〜423を用いている点が、第１図に示した実施
例のものと異なる。
エハ31の受渡しを行う第２の吸着チャック40が該ウエハ
31の周方向外側の裏面を吸着する点、および該第２の吸
着チャック40と前記搬送ハンド32間での前記ウエハ31の
受渡し時の該ウエハ31の傾き誤差を吸収し、該第２の吸
着チャック40を支持する誤差吸収手段として３本のコイ
ルばね421〜423を用いている点が、第１図に示した実施
例のものと異なる。
本実施例の基板の縦型搬送装置では、第２の吸着チャ
ック40がウエハ31の周方向外側の裏面を吸着するため、
該第２の吸着チャック40は円板の一部をＵ字形にくりぬ
いた形状を有し、搬送ハンド32は該ウエハ31の受渡し時
に前記第２の吸着チャック40と重ならないように、該第
２の吸着チャック40のくりぬかれた部分と同様の形状を
有する。また、第１の吸着チャック37は前記搬送ハンド
32と同じ形状を有し、その吸着面と前記第２の吸着チャ
ック40の吸着面とが初期位置において同一平面上にくる
ように設けられている（第３図に示している状態）。
ック40がウエハ31の周方向外側の裏面を吸着するため、
該第２の吸着チャック40は円板の一部をＵ字形にくりぬ
いた形状を有し、搬送ハンド32は該ウエハ31の受渡し時
に前記第２の吸着チャック40と重ならないように、該第
２の吸着チャック40のくりぬかれた部分と同様の形状を
有する。また、第１の吸着チャック37は前記搬送ハンド
32と同じ形状を有し、その吸着面と前記第２の吸着チャ
ック40の吸着面とが初期位置において同一平面上にくる
ように設けられている（第３図に示している状態）。
また、前記第２の吸着チャック40は、不図示のアクチ
ュエータによりＺ軸方向（第３図の右斜め下方向）に駆
動されるＺステージ52上に設けられている支持ブロック
51の該第２の吸着チャック40と対向する面に、３本のコ
イルばね421〜423により支持されている。さらに、前記
支持ブロック51の中心部に設けられたガイド孔51aに嵌
挿されているチャック固定棒50の先端を前記第１の吸着
チャック37の反吸着面側の面に固着することにより、該
第１の吸着チャック37を前記チャック固定棒50で支持す
るとともに、前記支持ブロック51が前記チャック固定棒
50の軸方向に摺動自在となるようにしている。
ュエータによりＺ軸方向（第３図の右斜め下方向）に駆
動されるＺステージ52上に設けられている支持ブロック
51の該第２の吸着チャック40と対向する面に、３本のコ
イルばね421〜423により支持されている。さらに、前記
支持ブロック51の中心部に設けられたガイド孔51aに嵌
挿されているチャック固定棒50の先端を前記第１の吸着
チャック37の反吸着面側の面に固着することにより、該
第１の吸着チャック37を前記チャック固定棒50で支持す
るとともに、前記支持ブロック51が前記チャック固定棒
50の軸方向に摺動自在となるようにしている。
前記チャック固定棒50内部には、第１の吸着ライン38
を介して前記第１の吸着チャック37と不図示の真空発生
源とを接続する孔が設けられている。また、前記第２の
吸着チャック40は第２の吸着ライン41を介して、また前
記搬送ハンド32は第３の吸着ライン33を介して、それぞ
れ不図示の真空発生源と接続されている。
を介して前記第１の吸着チャック37と不図示の真空発生
源とを接続する孔が設けられている。また、前記第２の
吸着チャック40は第２の吸着ライン41を介して、また前
記搬送ハンド32は第３の吸着ライン33を介して、それぞ
れ不図示の真空発生源と接続されている。
次に、本実施例の基板の縦型搬送装置の動作について
説明する。
説明する。
搬送ハンド32から基板保持手段へウエハ31を渡すとき
には、その位置を不図示のセンサで確認しつつ該搬送ハ
ンド32を受渡し位置まで移動させる。その後、第２の吸
着チャック40の吸着面が前記ウエハ31の裏面に当接する
位置まで、前記アクチュエータによりＺステージ52をＺ
軸方向に前進させる。このとき、前記第２の吸着チャッ
ク40は３本のコイルばね421〜423によりＺ軸方向,X軸回
転方向（ωｘ方向）,Y軸回転方向（ωｙ方向）に自由に
移動できるように支持されているため、該第２の吸着チ
ャック40が前記ウエハ31の裏面に当接したときに該ウエ
ハ31が傾いていても、該第２の吸着チャック40の吸着面
が該傾きに応じて傾くので、該吸着面の全面を該ウエハ
31の裏面に押当てることができる。前記Ｚステージ52の
前進が終了すると、前記第２の吸着ライン41を前記真空
発生源に連通させることにより、前記第２の吸着チャッ
ク40の吸着面に前記ウエハ31を真空吸着させたのち、前
記搬送ハンド32の吸着を解除する。
には、その位置を不図示のセンサで確認しつつ該搬送ハ
ンド32を受渡し位置まで移動させる。その後、第２の吸
着チャック40の吸着面が前記ウエハ31の裏面に当接する
位置まで、前記アクチュエータによりＺステージ52をＺ
軸方向に前進させる。このとき、前記第２の吸着チャッ
ク40は３本のコイルばね421〜423によりＺ軸方向,X軸回
転方向（ωｘ方向）,Y軸回転方向（ωｙ方向）に自由に
移動できるように支持されているため、該第２の吸着チ
ャック40が前記ウエハ31の裏面に当接したときに該ウエ
ハ31が傾いていても、該第２の吸着チャック40の吸着面
が該傾きに応じて傾くので、該吸着面の全面を該ウエハ
31の裏面に押当てることができる。前記Ｚステージ52の
前進が終了すると、前記第２の吸着ライン41を前記真空
発生源に連通させることにより、前記第２の吸着チャッ
ク40の吸着面に前記ウエハ31を真空吸着させたのち、前
記搬送ハンド32の吸着を解除する。
該搬送ハンド32の吸着を解除したのち、前記ウエハ31
の裏面が前記搬送ハンド32の吸着面から完全に離れる位
置（不干渉位置）まで、前記アクチュエータにより前記
Ｚステージ52をＺ軸方向にさらに前進させたのち、前記
搬送ハンド12を図示左斜め下側に移動して退避させる。
そして、前記第２の吸着チャック40の吸着面が前記第１
の吸着チャック37の吸着面と同一平面上にくる位置（初
期位置）まで、前記アクチュエータにより前記Ｚステー
ジ52を後退させたのち、前記第１の吸着ライン38を前記
真空発生源に連通させることにより前記第１の吸着チャ
ック37の吸着面にも前記ウエハ31を真空吸着させて、す
べての動作を終了する。
の裏面が前記搬送ハンド32の吸着面から完全に離れる位
置（不干渉位置）まで、前記アクチュエータにより前記
Ｚステージ52をＺ軸方向にさらに前進させたのち、前記
搬送ハンド12を図示左斜め下側に移動して退避させる。
そして、前記第２の吸着チャック40の吸着面が前記第１
の吸着チャック37の吸着面と同一平面上にくる位置（初
期位置）まで、前記アクチュエータにより前記Ｚステー
ジ52を後退させたのち、前記第１の吸着ライン38を前記
真空発生源に連通させることにより前記第１の吸着チャ
ック37の吸着面にも前記ウエハ31を真空吸着させて、す
べての動作を終了する。
一方、基板保持手段から搬送ハンド32へウエハ31を渡
す場合には、まず、該ウエハ31の裏面を真空吸着してい
る第１の吸着チャック37および第２の吸着チャック40の
うち、該第１の吸着チャック37による真空吸着を解除し
たのち、前記アクチュエータによりＺステージ52を前記
不干渉位置まで前進させる。そして、前記搬送ハンド32
を受渡し位置まで進ませたのち、前記アクチュエータに
より前記Ｚステージ52を該受渡し位置まで後退させ、前
記ウエハ31の裏面を前記搬送ハンド32の吸着面に当接さ
せる。このとき、該ウエハ31の面が該搬送ハンド32の吸
着面に対して傾いていても、前述したように前記第２の
吸着チャック40を支持している３本のコイルばね421〜4
23により該傾きは吸収されるので、該搬送ハンド32の吸
着面の全面に前記ウエハ31の裏面を押当てることができ
る。その後、該搬送ハンド32により該ウエハ31の裏面を
真空吸着したのち、前記第２の吸着チャック40による真
空吸着を解除し、前記アクチュエータにより前記Ｚステ
ージ52を前記初期位置まで後退させて、すべての動作を
終了する。
す場合には、まず、該ウエハ31の裏面を真空吸着してい
る第１の吸着チャック37および第２の吸着チャック40の
うち、該第１の吸着チャック37による真空吸着を解除し
たのち、前記アクチュエータによりＺステージ52を前記
不干渉位置まで前進させる。そして、前記搬送ハンド32
を受渡し位置まで進ませたのち、前記アクチュエータに
より前記Ｚステージ52を該受渡し位置まで後退させ、前
記ウエハ31の裏面を前記搬送ハンド32の吸着面に当接さ
せる。このとき、該ウエハ31の面が該搬送ハンド32の吸
着面に対して傾いていても、前述したように前記第２の
吸着チャック40を支持している３本のコイルばね421〜4
23により該傾きは吸収されるので、該搬送ハンド32の吸
着面の全面に前記ウエハ31の裏面を押当てることができ
る。その後、該搬送ハンド32により該ウエハ31の裏面を
真空吸着したのち、前記第２の吸着チャック40による真
空吸着を解除し、前記アクチュエータにより前記Ｚステ
ージ52を前記初期位置まで後退させて、すべての動作を
終了する。
本実施例においても、第１図に示した実施例と同様の
効果が得られる。
効果が得られる。
以上の説明において、第２の吸着チャックと搬送ハン
ド間での基板の受渡し時の該基板の傾き誤差を吸収し、
該第２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段として、
第１図に示した第１の実施例では４本の前記板ばね221
〜224を用い、第２図に示した第２の実施例では３本の
コイルばね421〜423を用いたが、その他に渦巻きばねな
どを用いてもよい。
ド間での基板の受渡し時の該基板の傾き誤差を吸収し、
該第２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段として、
第１図に示した第１の実施例では４本の前記板ばね221
〜224を用い、第２図に示した第２の実施例では３本の
コイルばね421〜423を用いたが、その他に渦巻きばねな
どを用いてもよい。
また、以上の説明では、ウエハを露光するための縦型
ステージへのウエハの受渡しを例としたが、本発明の基
板の縦型搬送装置はこれに限るものではなく、たとえ
ば、前述した特願昭63−252991号記載のＸ線露光装置に
おいては、ウエハの露光を行うウエハチェック部の他
に、ウエハのオリフラを検知するオリフラ検知チャック
部でも用いることができる。
ステージへのウエハの受渡しを例としたが、本発明の基
板の縦型搬送装置はこれに限るものではなく、たとえ
ば、前述した特願昭63−252991号記載のＸ線露光装置に
おいては、ウエハの露光を行うウエハチェック部の他
に、ウエハのオリフラを検知するオリフラ検知チャック
部でも用いることができる。
さらに、受渡しを行う対象としてはウエハに限るもの
でななく、薄膜トランジスタなどが形成される液晶ディ
スプレイなどの基板であってもよい。
でななく、薄膜トランジスタなどが形成される液晶ディ
スプレイなどの基板であってもよい。
基板を吸着させる方法としては、真空吸着に限るもの
ではなく、静電吸着（たとえば、特公昭62−19060号公
報）あるいは磁気吸着（たとえば、特開昭63−194331号
公報）などでもよく、これらの組合せであってもよい。
ではなく、静電吸着（たとえば、特公昭62−19060号公
報）あるいは磁気吸着（たとえば、特開昭63−194331号
公報）などでもよく、これらの組合せであってもよい。
本発明の基板の縦型搬送装置によれば、基板保持手段
が、共に縦向きの吸着面を有し且つ該吸着面同士が基板
の面の法線方向に相対移動可能な第１の吸着チャックと
第２の吸着チャックを有すると共に、該第２の吸着チャ
ックと前記搬送ハンドとの間で受渡しを行なう際に、基
板の傾き誤差を吸収するように前記第２の吸着チャック
を支持する誤差吸収手段を有することにより、両方の吸
着チャックにより十分な吸着力を発揮することができ、
また、受渡し時に基板が多少傾いていても、第２の吸着
チャックまたは搬送ハンドの吸着面の全面を基板の裏面
に押し当てることができるため、基板の受渡し時に脱落
を防止することができ、基板保持手段と搬送ハンド間で
の基板の受渡しの信頼性を向上させることができるとい
う効果がある。
が、共に縦向きの吸着面を有し且つ該吸着面同士が基板
の面の法線方向に相対移動可能な第１の吸着チャックと
第２の吸着チャックを有すると共に、該第２の吸着チャ
ックと前記搬送ハンドとの間で受渡しを行なう際に、基
板の傾き誤差を吸収するように前記第２の吸着チャック
を支持する誤差吸収手段を有することにより、両方の吸
着チャックにより十分な吸着力を発揮することができ、
また、受渡し時に基板が多少傾いていても、第２の吸着
チャックまたは搬送ハンドの吸着面の全面を基板の裏面
に押し当てることができるため、基板の受渡し時に脱落
を防止することができ、基板保持手段と搬送ハンド間で
の基板の受渡しの信頼性を向上させることができるとい
う効果がある。
第１図は本発明の基板の縦型搬送装置の第１の実施例を
示す概略構成図であり、（Ａ）はその上面図、（Ｂ）は
その正面図、第２図は第１図に示した第２の吸着チャッ
クの支持方法を示す概略構成図、第３図は本発明の基板
の縦型搬送装置の第２の実施例を示すウエハの受渡し部
分の概略構成図、第４図は基板の縦型搬送装置の従来例
の一つを示す概略構成図であり、（Ａ）はその上面図、
（Ｂ）はその正面図である。 11,31……ウエハ、 12,32……搬送ハンド、 13,33……第３の吸着ライン、 14,34……支持アーム、 15……固定ブロック、16……Ｘステージ、 17,37……第１の吸着チャック、 17a,51a……ガイド孔、 18,38……第１の吸着ライン、 19……Ｚ駆動軸、 20,40……第２の吸着チャック、 21,41……第２の吸着ライン、 221〜224……板ばね、 421〜423……コイルばね、 50……チャック固定棒、 51……支持ブロック、52……Ｚステージ。
示す概略構成図であり、（Ａ）はその上面図、（Ｂ）は
その正面図、第２図は第１図に示した第２の吸着チャッ
クの支持方法を示す概略構成図、第３図は本発明の基板
の縦型搬送装置の第２の実施例を示すウエハの受渡し部
分の概略構成図、第４図は基板の縦型搬送装置の従来例
の一つを示す概略構成図であり、（Ａ）はその上面図、
（Ｂ）はその正面図である。 11,31……ウエハ、 12,32……搬送ハンド、 13,33……第３の吸着ライン、 14,34……支持アーム、 15……固定ブロック、16……Ｘステージ、 17,37……第１の吸着チャック、 17a,51a……ガイド孔、 18,38……第１の吸着ライン、 19……Ｚ駆動軸、 20,40……第２の吸着チャック、 21,41……第２の吸着ライン、 221〜224……板ばね、 421〜423……コイルばね、 50……チャック固定棒、 51……支持ブロック、52……Ｚステージ。
Claims (2)
- 【請求項１】縦向きの基板を吸着して縦にしたまま搬送
する搬送ハンドと、該搬送ハンドと前記基板を縦にした
まま受渡しをする基板保持手段とを有する基板の縦型搬
送装置において、 前記基板保持手段は、共に縦向きの吸着面を有し且つ該
吸着面同士が基板の面の法線方向に相対移動可能な第１
の吸着チャックと第２の吸着チャックを有すると共に、
該第２の吸着チャックと前記搬送ハンドとの間で受渡し
を行なう際に、基板の傾き誤差を吸収するように前記第
２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段を設けたこと
を特徴とする基板の縦型搬送装置。 - 【請求項２】前記基板保持手段で基板を保持する際に、
前記第１の吸着チャック並びに前記第２の吸着チャック
の両方を用いて前記基板を吸着することを特徴とする第
１項記載の基板の縦型搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10878490A JP2862632B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | 基板の縦型搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10878490A JP2862632B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | 基板の縦型搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0410452A JPH0410452A (ja) | 1992-01-14 |
| JP2862632B2 true JP2862632B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=14493394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10878490A Expired - Fee Related JP2862632B2 (ja) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | 基板の縦型搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2862632B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7295287B2 (en) | 2003-10-31 | 2007-11-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holder and exposure apparatus having the same |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003073495A1 (fr) * | 2002-02-27 | 2003-09-04 | Tokyo Electron Limited | Procede de support d'un substrat |
| SG125948A1 (en) * | 2003-03-31 | 2006-10-30 | Asml Netherlands Bv | Supporting structure for use in a lithographic apparatus |
| US7223873B2 (en) | 2004-03-30 | 2007-05-29 | Daisco Co., Ltd | Process for preparing amines |
| DE102006060908A1 (de) | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Evonik Degussa Gmbh | Kontinuierliches Verfahren zur Decarboxylierung von Carbonsäuren |
-
1990
- 1990-04-26 JP JP10878490A patent/JP2862632B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7295287B2 (en) | 2003-10-31 | 2007-11-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holder and exposure apparatus having the same |
| US7834982B2 (en) | 2003-10-31 | 2010-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holder and exposure apparatus having the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0410452A (ja) | 1992-01-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |