JP2856755B2 - オキサジアゾール化合物、感光性組成物および該化合物の製造法 - Google Patents
オキサジアゾール化合物、感光性組成物および該化合物の製造法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリ
アジン−2−イル基を有するオキサジアゾール化合物、
該化合物を含有する感光性組成物および該化合物の製造
法に関する。
アジン−2−イル基を有するオキサジアゾール化合物、
該化合物を含有する感光性組成物および該化合物の製造
法に関する。
従来の技術 トリクロロメチル基を有する芳香族化合物または複素
環式化合物を種々の光化学反応のための開始剤として使
用することは、公知である。
環式化合物を種々の光化学反応のための開始剤として使
用することは、公知である。
西ドイツ国特許出願公開第2243621号明細書には、1
または2個のトリクロロメチル基および1個の発色団に
よって置換されておりかつ光重合可能な組成物の場合に
光開始剤としてならびに酸によって分解できるアセター
ルとの混合物の場合に酸供与体として適当であるs−ト
リアジンが開示されている。この化合物は、電磁線スペ
クトルの可視光線領域内で光を吸収しかつ光開始剤とし
て作用するようなものをも包含する。
または2個のトリクロロメチル基および1個の発色団に
よって置換されておりかつ光重合可能な組成物の場合に
光開始剤としてならびに酸によって分解できるアセター
ルとの混合物の場合に酸供与体として適当であるs−ト
リアジンが開示されている。この化合物は、電磁線スペ
クトルの可視光線領域内で光を吸収しかつ光開始剤とし
て作用するようなものをも包含する。
発色団としての少なくとも2核の芳香族基が直接にト
リアジン環に結合しているような類似の化合物は、西ド
イツ国特許出願公開第2718259号明細書(=米国特許第4
189323号明細書)に開示されている。
リアジン環に結合しているような類似の化合物は、西ド
イツ国特許出願公開第2718259号明細書(=米国特許第4
189323号明細書)に開示されている。
欧州特許出願公開第137425号明細書には、場合によっ
ては置換されたスチリル基を2位に有する類似の4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジンが記載されて
いる。この化合物の吸収ピークは、多くの場合に近紫外
線領域内にある。
ては置換されたスチリル基を2位に有する類似の4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジンが記載されて
いる。この化合物の吸収ピークは、多くの場合に近紫外
線領域内にある。
西ドイツ国特許出願公開第2851472号明細書には、2
−ハロゲノメチル−5−ビニル−1,3,4−オキサジアゾ
ール誘導体を光開始剤として含有する感光性組成物が記
載されている。
−ハロゲノメチル−5−ビニル−1,3,4−オキサジアゾ
ール誘導体を光開始剤として含有する感光性組成物が記
載されている。
光開始剤として作用する類似の化合物は、西ドイツ国
特許出願公開第3506274号明細書に開示されている。こ
の化合物は、吸収ピークを長波長で有する。
特許出願公開第3506274号明細書に開示されている。こ
の化合物は、吸収ピークを長波長で有する。
西ドイツ国特許出願公開第3021590号明細書および同
第3021599号明細書には、トリクロロメチルフェニル基
によって置換されておりかつ上記化合物と同様に光開始
剤として適当であるハロゲン化オキサゾールが開示され
ている。
第3021599号明細書には、トリクロロメチルフェニル基
によって置換されておりかつ上記化合物と同様に光開始
剤として適当であるハロゲン化オキサゾールが開示され
ている。
更に、欧州特許出願公開第135348号明細書および同等
135863号明細書には、1−アルキル−2−カルボニルメ
チレン−ベンゾチアゾールおよびトリクロロメチルフェ
ニル基をカルボニル基上に有する類似の複素環式化合物
が開示されている。この化合物も最大の感度を近紫外線
領域内で有する。
135863号明細書には、1−アルキル−2−カルボニルメ
チレン−ベンゾチアゾールおよびトリクロロメチルフェ
ニル基をカルボニル基上に有する類似の複素環式化合物
が開示されている。この化合物も最大の感度を近紫外線
領域内で有する。
前記化合物の大多数を製造するための反応条件は、収
量が比較的に低くかつ望ましくない分離困難な副生成物
の形成が行なわれるような程度にかなり苛酷なものであ
る(例えば、西ドイツ国特許出願公開第2243621号明細
書、同第2718259号明細書または同第2851472号明細
書)。多数の公知の開始剤を用いた場合には、不適当な
感度により異なる開始剤系を互いに結合させることが必
要とされる。更に、正確には公知の開始剤の感度が最大
であることにより、殊に銅表面との接触状態で感光性組
成物への実際の使用要件に適合する貯蔵安定性は示さな
いことが判明した。更に、光分解により活性化安可能な
酸供与体として使用することもできる大部分の公知の光
開始剤は、380〜420nmの最大感度を有する。
量が比較的に低くかつ望ましくない分離困難な副生成物
の形成が行なわれるような程度にかなり苛酷なものであ
る(例えば、西ドイツ国特許出願公開第2243621号明細
書、同第2718259号明細書または同第2851472号明細
書)。多数の公知の開始剤を用いた場合には、不適当な
感度により異なる開始剤系を互いに結合させることが必
要とされる。更に、正確には公知の開始剤の感度が最大
であることにより、殊に銅表面との接触状態で感光性組
成物への実際の使用要件に適合する貯蔵安定性は示さな
いことが判明した。更に、光分解により活性化安可能な
酸供与体として使用することもできる大部分の公知の光
開始剤は、380〜420nmの最大感度を有する。
しかし、現在の露光技術においては、反対方向を示す
2つの新しい傾向が現われている。一面で、殊にマイク
ロ電子技術において微細構造の発生およびその改善され
た再生のために短波長、例えば365nmで最大の発光を有
する光源は、未来において程度を増大させるために使用
される。他面、グラフィックアート工業において光源、
例えばレーザーは、情報をデジタル化する経過中に使用
され、このレーザーは、電磁線スペクトルの可視光線の
領域内、一般に450nmよりも上で光を発する。
2つの新しい傾向が現われている。一面で、殊にマイク
ロ電子技術において微細構造の発生およびその改善され
た再生のために短波長、例えば365nmで最大の発光を有
する光源は、未来において程度を増大させるために使用
される。他面、グラフィックアート工業において光源、
例えばレーザーは、情報をデジタル化する経過中に使用
され、このレーザーは、電磁線スペクトルの可視光線の
領域内、一般に450nmよりも上で光を発する。
発明を達成するための手段 本発明の目的は、比較的に容易に接近可能でありかつ
実際の使用で広範囲の可能な変法を提供し、したがって
最適な方法でそれぞれ用途の種々の領域の要件に最適の
方法で適合させることができる、種々の感光性材料に使
用することができる新規の感光性化合物を得ることであ
る。殊に、本発明の目的は、弱い光源であっても活性が
開始されるかまたは露光時間の減少が可能であるような
程度に紫外線スペクトル領域内で約365nmで高い感度を
有する感光性化合物を得ることである。更に、感光性組
成物は、適当な染料または増感剤を添加することによっ
て400〜700nm、殊に450〜650nmのスペクトル領域内で高
い感度に増感させることができるはずである。殊に、高
い厚さの層に使用される感光性組成物の場合、光開始剤
は、完全な光反応を可能ならしめるためにあまり強い固
有の着色を有していてはならない。更に、開始剤を含有
する感光性組成物は、支持体の材料とは無関係に高い貯
蔵可能性を有し、かつ照射後に感光層中で明らかに目で
見ることができる画像コントラストを生じるはずであ
る。
実際の使用で広範囲の可能な変法を提供し、したがって
最適な方法でそれぞれ用途の種々の領域の要件に最適の
方法で適合させることができる、種々の感光性材料に使
用することができる新規の感光性化合物を得ることであ
る。殊に、本発明の目的は、弱い光源であっても活性が
開始されるかまたは露光時間の減少が可能であるような
程度に紫外線スペクトル領域内で約365nmで高い感度を
有する感光性化合物を得ることである。更に、感光性組
成物は、適当な染料または増感剤を添加することによっ
て400〜700nm、殊に450〜650nmのスペクトル領域内で高
い感度に増感させることができるはずである。殊に、高
い厚さの層に使用される感光性組成物の場合、光開始剤
は、完全な光反応を可能ならしめるためにあまり強い固
有の着色を有していてはならない。更に、開始剤を含有
する感光性組成物は、支持体の材料とは無関係に高い貯
蔵可能性を有し、かつ照射後に感光層中で明らかに目で
見ることができる画像コントラストを生じるはずであ
る。
本発明の目的は、一般式(I): [式中、 R1は置換されていないかまたは1〜10個の炭素原子を
有する1〜3個のアルキル基もしくはアルコキシ基、1
〜6個の炭素原子を有するペルハロアルキル基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、ジフェ
ニルアミノ基またはフェニル基によって置換されている
フェニル基もしくはナフチル基または単環式もしくは三
環式芳香族N−ヘテロイル基を表わし、 R2およびR3は互いに異なり、かつ水素原子を表わす
か、または4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリア
ジン−2−イル基を表わし、 nおよびmは互いに独立に0および1の数の1つを表
わす]で示される化合物によって達成される。
有する1〜3個のアルキル基もしくはアルコキシ基、1
〜6個の炭素原子を有するペルハロアルキル基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、ジフェ
ニルアミノ基またはフェニル基によって置換されている
フェニル基もしくはナフチル基または単環式もしくは三
環式芳香族N−ヘテロイル基を表わし、 R2およびR3は互いに異なり、かつ水素原子を表わす
か、または4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリア
ジン−2−イル基を表わし、 nおよびmは互いに独立に0および1の数の1つを表
わす]で示される化合物によって達成される。
また、本発明によれば、少なくとも1個の4,6−ビス
−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル置換基
を有する感光性有機化合物(a)および化合物(a)の
光反応生成物と反応させることができる化合物(b)を
含有し、化合物(b)の場合とは異なる現像液中での光
吸収、粘性または可溶性を有する生成物を形成させる感
光性組成物が得られる。
−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル置換基
を有する感光性有機化合物(a)および化合物(a)の
光反応生成物と反応させることができる化合物(b)を
含有し、化合物(b)の場合とは異なる現像液中での光
吸収、粘性または可溶性を有する生成物を形成させる感
光性組成物が得られる。
本発明による組成物は、化合物(a)が上記式Iによ
る化合物からなることを特徴とする。
る化合物からなることを特徴とする。
本発明による化合物は、化学線の作用下で化学反応、
殊にフリーラジカルによって開始される重合を開始させ
ることができるフリーラジカルを形成する。また、この
化合物は、照射時に水素ハロゲン化物を形成し、それに
より酸触媒反応、例えばアセタール結合の開裂または塩
の形成、例えば指示薬染料の色の変化は、開始すること
ができる。
殊にフリーラジカルによって開始される重合を開始させ
ることができるフリーラジカルを形成する。また、この
化合物は、照射時に水素ハロゲン化物を形成し、それに
より酸触媒反応、例えばアセタール結合の開裂または塩
の形成、例えば指示薬染料の色の変化は、開始すること
ができる。
R1がアルキル基またはアルコキシ基によって置換され
ている場合には、このアルキル基またはアルコキシ基
は、1〜10個、有利に1〜6個の炭素原子を有すること
ができる。これらの基は、非分子鎖状もしくは分子鎖状
であることができるか、また必要に応じて環化し、脂環
式基、例えばシクロヘキシル基を形成させることができ
る。
ている場合には、このアルキル基またはアルコキシ基
は、1〜10個、有利に1〜6個の炭素原子を有すること
ができる。これらの基は、非分子鎖状もしくは分子鎖状
であることができるか、また必要に応じて環化し、脂環
式基、例えばシクロヘキシル基を形成させることができ
る。
本発明による化合物は、有利に次の2つの方法により
得ることができる: 好ましくない第1の方法は、次の反応式によって説明
され、この場合R1、R2、R3、mおよびnは、前記のもの
を表わす。
得ることができる: 好ましくない第1の方法は、次の反応式によって説明
され、この場合R1、R2、R3、mおよびnは、前記のもの
を表わす。
この第1の方法によれば、式IVの酸ヒドラジドは、式
IIIの酸塩化物と反応させることができる、式Vのビス
アシルヒドラジドを形成させ、次いでこのビスアシルヒ
ドラジドは、脱水剤により式Iに相応して本発明による
化合物に変換される。ヒドラジドは、公知方法によっ
て、例えばゴットフレッドセン(W.O.Godtfredsen)お
よびバンゲダル(S.Vangedal)著、Acta Chem.Scand.、
第9巻、1498(1955)またはハラダ(R.Harada)および
コンドー(H.Kondo)著、Bull.Chem.Soc.Jpn、第41巻、
2521(1968)の記載により得ることができる。他の製造
法は、フーベン・ワイル(Houben−Wey1)“メトーデン
・デア・オルガニッシェン・ヒェミー(Methoden der O
rganischen Chemie)”第VIII巻、第976頁以降に記載さ
れている。例えば、フーベン・ワイル(Houben−Wey
l)、第10/2巻、第127頁以降に記載されたような公知方
法により、式IVのヒトラジドは、これを式IIIの酸塩化
物と反応させることによって式Vのビスアシルヒドラジ
ドに変換される。式IIIの酸塩化物の製造は、同日付け
で提出された西ドイツ国特許出願第P3807378.1号明細書
に記載されている。式Vのビスアシルヒドラジドは、フ
ット(M.P.Hutt)、エルスラーガー(E.F.Elslager)お
よびワーベル(L.M.Werbel)著、ジャーナル・オブ・ヘ
テロサイクリック・ケミストリー(J.Heterocycl.Che
m.)、第7巻、511(19790)に記載の方法により式Iに
相応して本発明のオキサジアゾール誘導体に変換するこ
とができる。好ましい第2の方法の場合には、式VIの芳
香族ニトリルは、ナトリウムアジド、有利にリチウムま
たはアンモニウムジドと反応され、したがって式IIの相
応するテトラゾールに変換される。この反応は、例えば
フィンネガン(W.G.Finnegan)、ヘンリー(R.A.Henr
y)およびロフトキスト(R.Loftquist)著、ザ・ジャー
ナル・オブ・ズィ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィ(J.Amer.Chem.Soc.)、第80巻、2908(1958)の指針
と同様にして実施することができる。式IIIの酸塩化物
は、更に、式IIIの酸塩化物は、例えばフイスゲン(R.H
uisgen)、ザウアー(J.Sauer)およびシュトゥルン
(H.J.Sturn)著、アンゲバンテ・ヒェミー(Angew.Che
m.)、第70巻、272(1958)の指針と同様にして高い収
量で生じる1工程反応で式IIのテトラゾールを式Iに相
応する本発明による化合物に変換するために使用するこ
とができる: 反応がこの反応式に従って進行することは、実際に驚
異的なことである。それというのも、トリクロロメチル
基は、本発明の場合と同様に特にこの基がトリアジン環
に結合している場合に、殊に窒素原子を有する求核化合
物を用いて求核置換反応に極めて容易に入ることができ
ることは、知られているからである。しかし、下記に記
載した例は、この予想される副反応が実質的には重要で
はなく、かつ式Iの化合物が高い収量で得られることを
示す。
IIIの酸塩化物と反応させることができる、式Vのビス
アシルヒドラジドを形成させ、次いでこのビスアシルヒ
ドラジドは、脱水剤により式Iに相応して本発明による
化合物に変換される。ヒドラジドは、公知方法によっ
て、例えばゴットフレッドセン(W.O.Godtfredsen)お
よびバンゲダル(S.Vangedal)著、Acta Chem.Scand.、
第9巻、1498(1955)またはハラダ(R.Harada)および
コンドー(H.Kondo)著、Bull.Chem.Soc.Jpn、第41巻、
2521(1968)の記載により得ることができる。他の製造
法は、フーベン・ワイル(Houben−Wey1)“メトーデン
・デア・オルガニッシェン・ヒェミー(Methoden der O
rganischen Chemie)”第VIII巻、第976頁以降に記載さ
れている。例えば、フーベン・ワイル(Houben−Wey
l)、第10/2巻、第127頁以降に記載されたような公知方
法により、式IVのヒトラジドは、これを式IIIの酸塩化
物と反応させることによって式Vのビスアシルヒドラジ
ドに変換される。式IIIの酸塩化物の製造は、同日付け
で提出された西ドイツ国特許出願第P3807378.1号明細書
に記載されている。式Vのビスアシルヒドラジドは、フ
ット(M.P.Hutt)、エルスラーガー(E.F.Elslager)お
よびワーベル(L.M.Werbel)著、ジャーナル・オブ・ヘ
テロサイクリック・ケミストリー(J.Heterocycl.Che
m.)、第7巻、511(19790)に記載の方法により式Iに
相応して本発明のオキサジアゾール誘導体に変換するこ
とができる。好ましい第2の方法の場合には、式VIの芳
香族ニトリルは、ナトリウムアジド、有利にリチウムま
たはアンモニウムジドと反応され、したがって式IIの相
応するテトラゾールに変換される。この反応は、例えば
フィンネガン(W.G.Finnegan)、ヘンリー(R.A.Henr
y)およびロフトキスト(R.Loftquist)著、ザ・ジャー
ナル・オブ・ズィ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィ(J.Amer.Chem.Soc.)、第80巻、2908(1958)の指針
と同様にして実施することができる。式IIIの酸塩化物
は、更に、式IIIの酸塩化物は、例えばフイスゲン(R.H
uisgen)、ザウアー(J.Sauer)およびシュトゥルン
(H.J.Sturn)著、アンゲバンテ・ヒェミー(Angew.Che
m.)、第70巻、272(1958)の指針と同様にして高い収
量で生じる1工程反応で式IIのテトラゾールを式Iに相
応する本発明による化合物に変換するために使用するこ
とができる: 反応がこの反応式に従って進行することは、実際に驚
異的なことである。それというのも、トリクロロメチル
基は、本発明の場合と同様に特にこの基がトリアジン環
に結合している場合に、殊に窒素原子を有する求核化合
物を用いて求核置換反応に極めて容易に入ることができ
ることは、知られているからである。しかし、下記に記
載した例は、この予想される副反応が実質的には重要で
はなく、かつ式Iの化合物が高い収量で得られることを
示す。
使用することができる一般式VIのニトリルは、アルキ
ルニトリルおよび殊にアリールもしくはアリールエテニ
ルニトリルを包含し、これらは、苛酷な条件下でのみ1,
3−双極付加反応に入るかまたは1,3−双極付加反応に決
して入らない不活性基によって置換されていてもよい。
この種のニトリルは、種々の公知方法によって得ること
ができる。
ルニトリルおよび殊にアリールもしくはアリールエテニ
ルニトリルを包含し、これらは、苛酷な条件下でのみ1,
3−双極付加反応に入るかまたは1,3−双極付加反応に決
して入らない不活性基によって置換されていてもよい。
この種のニトリルは、種々の公知方法によって得ること
ができる。
式IIのテトラゾールへの変換は、ニトリルを1〜5
倍、有利に約2倍の化学量論理的量のアンモニウム、リ
チウムもしくはナトリウムアジドと、極性溶剤中、有利
にジメチルホルムアミドもしくは2−メトキシ−エタノ
ール中で50〜200℃の温度範囲内、有利に100〜120℃温
度範囲内で反応させるような方法で適当に実施される。
ナトリウムアジドを試薬として使用する場合には、リチ
ウムもしくはアンモニウム塩、例えばリチウムもしくは
アンモニウム塩化物は、混合物に適当に添加される。そ
れというのも、中間的に形成されたリチウムアジドは、
過程中で使用することができる溶剤中でより良好な溶解
度を有するからである。反応混合物は、予め定められた
温度で5〜100時間、有利に20〜30時間維持され、かつ
冷却後にこの混合物は、水中に注入される。塩酸水溶液
で注意深く酸性にしかつ必要に応じて十分に冷却した
後、式IIのテトラゾールは、高い純度および高い収量で
沈殿され、かつ濾過によって単離することができる。定
量的反応に破損を生じる場合には、未反応のニトリル
は、非酸性水溶液を濾過するかまたは有機溶剤、例えば
エーテルもしくはジクロロメタンで抽出することによっ
て除去することができる。
倍、有利に約2倍の化学量論理的量のアンモニウム、リ
チウムもしくはナトリウムアジドと、極性溶剤中、有利
にジメチルホルムアミドもしくは2−メトキシ−エタノ
ール中で50〜200℃の温度範囲内、有利に100〜120℃温
度範囲内で反応させるような方法で適当に実施される。
ナトリウムアジドを試薬として使用する場合には、リチ
ウムもしくはアンモニウム塩、例えばリチウムもしくは
アンモニウム塩化物は、混合物に適当に添加される。そ
れというのも、中間的に形成されたリチウムアジドは、
過程中で使用することができる溶剤中でより良好な溶解
度を有するからである。反応混合物は、予め定められた
温度で5〜100時間、有利に20〜30時間維持され、かつ
冷却後にこの混合物は、水中に注入される。塩酸水溶液
で注意深く酸性にしかつ必要に応じて十分に冷却した
後、式IIのテトラゾールは、高い純度および高い収量で
沈殿され、かつ濾過によって単離することができる。定
量的反応に破損を生じる場合には、未反応のニトリル
は、非酸性水溶液を濾過するかまたは有機溶剤、例えば
エーテルもしくはジクロロメタンで抽出することによっ
て除去することができる。
テトラゾールは、これを5〜50倍量の塩基、有利にピ
リジ中に溶解するかまたは懸濁させることによって式I
に相応する本発明によるオキサジアゾール誘導体に変換
される。一般式IIIの酸塩化物は、この混合物に添加さ
れ、この混合物は、必要に応じて処理中に冷却されなけ
ればならない。更に、この混合物は、50〜150℃、有利
に80〜120℃に徐々に加熱され、窒素の発生が強力に開
始することが観察される。窒素の発生が終結してから1
〜5時間、有利に2〜3時間後に、この混合物は、冷却
され、かつ水中に注入され;処理中に式Iに相応する本
発明によるオキサジアゾール誘導体は、一般に高い純度
で沈殿される。必要に応じて、水溶液は、有機溶剤で酸
性にすることができおよび/または抽出することができ
る。この場合、生成物は、溶剤を蒸発させることによっ
て単離される。本発明による化合物は、場合によっては
再結晶化によって後処理される。
リジ中に溶解するかまたは懸濁させることによって式I
に相応する本発明によるオキサジアゾール誘導体に変換
される。一般式IIIの酸塩化物は、この混合物に添加さ
れ、この混合物は、必要に応じて処理中に冷却されなけ
ればならない。更に、この混合物は、50〜150℃、有利
に80〜120℃に徐々に加熱され、窒素の発生が強力に開
始することが観察される。窒素の発生が終結してから1
〜5時間、有利に2〜3時間後に、この混合物は、冷却
され、かつ水中に注入され;処理中に式Iに相応する本
発明によるオキサジアゾール誘導体は、一般に高い純度
で沈殿される。必要に応じて、水溶液は、有機溶剤で酸
性にすることができおよび/または抽出することができ
る。この場合、生成物は、溶剤を蒸発させることによっ
て単離される。本発明による化合物は、場合によっては
再結晶化によって後処理される。
本発明による化合物は、重合可能な化合物、開始剤お
よび場合によっては結合剤を本質的成分として含有する
光重合可能な組成物ための光開始剤として適当である。
よび場合によっては結合剤を本質的成分として含有する
光重合可能な組成物ための光開始剤として適当である。
本発明による感光性組成物中に使用された重合可能な
化合物は、少なくとも1個のエチレン性二重結合を含有
しかつ単量体、オリゴマー、重合体またはこれらの成分
の混合物の形で存在することができる。適当な化合物の
例は、場合によってはポリ不飽和のカルボン酸およびそ
の塩、酸誘導体、例えばカルボン酸から得られたエステ
ルもしくはアミド、誘導体、例えばウレタン基、スルホ
ニルウレタンもしくはホスフィニルウレタンまたは相当
する尿素化合物、エポキシドから得ることができる不飽
和エーテルおよび不飽和誘導体である。
化合物は、少なくとも1個のエチレン性二重結合を含有
しかつ単量体、オリゴマー、重合体またはこれらの成分
の混合物の形で存在することができる。適当な化合物の
例は、場合によってはポリ不飽和のカルボン酸およびそ
の塩、酸誘導体、例えばカルボン酸から得られたエステ
ルもしくはアミド、誘導体、例えばウレタン基、スルホ
ニルウレタンもしくはホスフィニルウレタンまたは相当
する尿素化合物、エポキシドから得ることができる不飽
和エーテルおよび不飽和誘導体である。
カルボン酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、クロトン酸、イソクロトン酸およびマレイン酸
である。カルボン酸の塩の例は、前記カルボン酸のナト
リウム塩またはカリウム塩である。
コン酸、クロトン酸、イソクロトン酸およびマレイン酸
である。カルボン酸の塩の例は、前記カルボン酸のナト
リウム塩またはカリウム塩である。
不飽和カルボン酸と、場合によっては多価のアルコー
ルとの適当なエステルは、アクリル酸およびメタクリル
酸とのエステル、例えばエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラメチレンジオールジ(メタ)アクリレート、
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,4−シクロ
ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリト
リトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールジ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アク
リレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、
ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトー
ルヘキサ(メタ)アクリレート、およびポリエステル
(メタ)アクリレートオリゴマー、2,2−ビス−[p−
(3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)−フェニル]−プロパンおよび2,2−ビス−
[4−(メタ)アクリロイルオキシ−エトキシ−フェニ
ル]−プロパン;イタコン酸エスエル、例えばエチレン
グリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイ
タコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4
−ブタンジオールイタコネート、テトラメチレンジオー
ルジイタコネート、ペンタエリトールジイタコネートお
よびソルビトールテトライタコネート;クロトン酸エス
テル、例えばエチレングリコールジクロトネート、テト
ラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリトリ
トールジクロトネートおよびソルビトールテトラクロト
ネート;イソクロトン酸エステル、例えばエチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリトリトールジシ
オクロトネートおよびソルビトールテトライソクロトネ
ート;ならびにマレイン酸エステル、例えばエチレング
リコールジマレイネート、トリエチレングリコールジマ
レイネート、ペンタエリトリトールジマレイネートおよ
びソルビトールテトラマレイネートを包含する。前記エ
ステルは、単独で使用することができるか、または混合
物として使用することができる。
ルとの適当なエステルは、アクリル酸およびメタクリル
酸とのエステル、例えばエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラメチレンジオールジ(メタ)アクリレート、
プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,4−シクロ
ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリト
リトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリトリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールジ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラ
(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アク
リレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、
ソルビトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトー
ルヘキサ(メタ)アクリレート、およびポリエステル
(メタ)アクリレートオリゴマー、2,2−ビス−[p−
(3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプ
ロポキシ)−フェニル]−プロパンおよび2,2−ビス−
[4−(メタ)アクリロイルオキシ−エトキシ−フェニ
ル]−プロパン;イタコン酸エスエル、例えばエチレン
グリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイ
タコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4
−ブタンジオールイタコネート、テトラメチレンジオー
ルジイタコネート、ペンタエリトールジイタコネートお
よびソルビトールテトライタコネート;クロトン酸エス
テル、例えばエチレングリコールジクロトネート、テト
ラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリトリ
トールジクロトネートおよびソルビトールテトラクロト
ネート;イソクロトン酸エステル、例えばエチレングリ
コールジイソクロトネート、ペンタエリトリトールジシ
オクロトネートおよびソルビトールテトライソクロトネ
ート;ならびにマレイン酸エステル、例えばエチレング
リコールジマレイネート、トリエチレングリコールジマ
レイネート、ペンタエリトリトールジマレイネートおよ
びソルビトールテトラマレイネートを包含する。前記エ
ステルは、単独で使用することができるか、または混合
物として使用することができる。
使用することができる不飽和カルボン酸と場合によっ
ては多価のアミンとのアミドは、アクリルアミドおよび
メタクリルアミド、例えばメチレン−ビス−(メタ)ア
クリルアミド、1,6−ヘキサメチレン−ビス−(メタ)
アクリルアミド、ジエチレントリアミン−トリス−(メ
タ)アクリルアミドおよびキシレン−ビス−(メタ)ア
クリルアミドをからなる。
ては多価のアミンとのアミドは、アクリルアミドおよび
メタクリルアミド、例えばメチレン−ビス−(メタ)ア
クリルアミド、1,6−ヘキサメチレン−ビス−(メタ)
アクリルアミド、ジエチレントリアミン−トリス−(メ
タ)アクリルアミドおよびキシレン−ビス−(メタ)ア
クリルアミドをからなる。
更に、エチレン性不飽和結合を含有する有利に使用さ
れる重合可能な化合物は、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、例えばヒドロキシエチルメタクリレート
もしくは2−ヒドロキシ−プロピルアクリレートと、分
子中に少なくとも2個のイソシアネート基を有するイソ
シアネートとの付加反応によって得られる分子中に少な
くとも2個の重合可能なビニル基を有するビニルウレタ
ン化合物であるか、或いはイソシアネートアルキル(メ
タ)アクリレート、例えば2−イソシアネートエチルメ
タクリレート、および窒素原子を有することができる多
価アルコールからの付加反応によって得られるものであ
る。
れる重合可能な化合物は、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、例えばヒドロキシエチルメタクリレート
もしくは2−ヒドロキシ−プロピルアクリレートと、分
子中に少なくとも2個のイソシアネート基を有するイソ
シアネートとの付加反応によって得られる分子中に少な
くとも2個の重合可能なビニル基を有するビニルウレタ
ン化合物であるか、或いはイソシアネートアルキル(メ
タ)アクリレート、例えば2−イソシアネートエチルメ
タクリレート、および窒素原子を有することができる多
価アルコールからの付加反応によって得られるものであ
る。
前記の化合物の中、多価アルコールのアクリルエステ
ルおよびメタアクリルエステルならびにジイソシアネー
トと、多価不飽和アルコールの部分エステルの反応生成
物、ならびにヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
とポリイソシアネートとの反応生成物およびイソシアネ
ートアルキル(メタ)アクリレートとポリアルコールと
の反応生成物は、特に好ましい重合可能な成分を表わ
す。最後に記載した単量体の例は、西ドイツ国特許出願
公開第2064079号明細書、同第2361041号明細書および同
第2822190号明細書に記載されている。層中での単量体
の量は、一般に非揮発性成分の量に対して約10〜80重量
%、有利に20〜60重量%である。
ルおよびメタアクリルエステルならびにジイソシアネー
トと、多価不飽和アルコールの部分エステルの反応生成
物、ならびにヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
とポリイソシアネートとの反応生成物およびイソシアネ
ートアルキル(メタ)アクリレートとポリアルコールと
の反応生成物は、特に好ましい重合可能な成分を表わ
す。最後に記載した単量体の例は、西ドイツ国特許出願
公開第2064079号明細書、同第2361041号明細書および同
第2822190号明細書に記載されている。層中での単量体
の量は、一般に非揮発性成分の量に対して約10〜80重量
%、有利に20〜60重量%である。
本発明による光開始剤を光重合可能な組成物に使用す
る場合には、光重合可能な組成物は、結合剤を含有して
いてもよい。結合剤は、エチレン性不飽和の重合可能な
化合物および本発明による光開始剤と相溶性でなければ
ならない。画像に応じての露光後に、感光層を洗浄除去
または剥離によって処理することができなければならな
い。更に、結合剤は、十分な靱性、強度、耐摩擦性およ
び可撓性を感光層に付与しなければならない。結合剤
は、通常線状有機重合体である。
る場合には、光重合可能な組成物は、結合剤を含有して
いてもよい。結合剤は、エチレン性不飽和の重合可能な
化合物および本発明による光開始剤と相溶性でなければ
ならない。画像に応じての露光後に、感光層を洗浄除去
または剥離によって処理することができなければならな
い。更に、結合剤は、十分な靱性、強度、耐摩擦性およ
び可撓性を感光層に付与しなければならない。結合剤
は、通常線状有機重合体である。
使用することができる結合剤は、例えば塩素化ポリエ
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアルキル(メタ)
アクリレート[但し、アルキル基は、例えばメチル基、
エチル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ヘキシル
基もしくは2−エチルヘキシル基であるものとする]、
記載したアルキル(メタ)アクリレートと、少なくとも
1つの単量体、例えばアクリロニトリル、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、スチレンもしくはブタジエンとの共重
合体;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/アクリロニトリル
共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン/アク
リロニトリル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリアクロニトリル、アクリロニトリル/ス
チレン共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン/スチ
レン共重合体、ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポ
リアミド(例えば、ナイロン−6)、ポリウレタン、メ
チルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロー
ス、ポリビニルホルマールおよびポリビニルブチラール
を包含する。
チレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアルキル(メタ)
アクリレート[但し、アルキル基は、例えばメチル基、
エチル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ヘキシル
基もしくは2−エチルヘキシル基であるものとする]、
記載したアルキル(メタ)アクリレートと、少なくとも
1つの単量体、例えばアクリロニトリル、塩化ビニル、
塩化ビニリデン、スチレンもしくはブタジエンとの共重
合体;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/アクリロニトリル
共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン/アク
リロニトリル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリアクロニトリル、アクリロニトリル/ス
チレン共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン/スチ
レン共重合体、ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポ
リアミド(例えば、ナイロン−6)、ポリウレタン、メ
チルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロー
ス、ポリビニルホルマールおよびポリビニルブチラール
を包含する。
水中で不溶性であるかまたは有機溶剤中で可溶性であ
りかつアルカリ水溶液中で可溶性もしくは少なくとも膨
潤可能である結合剤は、特に好適である。
りかつアルカリ水溶液中で可溶性もしくは少なくとも膨
潤可能である結合剤は、特に好適である。
殊に挙げられるのは、カルボキシル基を有する結合
剤、例えば(メタ)アクリル酸および/またはその不飽
和の類縁化合物、例えばクロトン酸の共重合体、無水マ
レイン酸もしくはその半エステルの共重合体、ヒドロキ
シル基を有する重合体と、ジカルボン酸無水物およびそ
の混合物との反応生成物である。
剤、例えば(メタ)アクリル酸および/またはその不飽
和の類縁化合物、例えばクロトン酸の共重合体、無水マ
レイン酸もしくはその半エステルの共重合体、ヒドロキ
シル基を有する重合体と、ジカルボン酸無水物およびそ
の混合物との反応生成物である。
他の適当な結合剤は、酸水素を含有する基を有する重
合体の反応生成物[但し、これらの全部または幾つか
は、活性化イソシアネートと反応された]、例えばヒド
ロキシ基を有する重合体と、脂肪族もしくは芳香族スル
ホニルイソシアネートまたはホスフィン酸イソシアネー
トとの反応生成物を包含する。
合体の反応生成物[但し、これらの全部または幾つか
は、活性化イソシアネートと反応された]、例えばヒド
ロキシ基を有する重合体と、脂肪族もしくは芳香族スル
ホニルイソシアネートまたはホスフィン酸イソシアネー
トとの反応生成物を包含する。
また、次のものが適当である:ヒドロキシル基を有す
る重合体、例えばヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ートの共重合体、アリルアルコールの共重合体、ビニル
アルコールの共重合体ポリウレタンまたはポリエステ
ル、ならびにエポキシ樹脂[但し、このエポキシ樹脂
は、十分な数の遊離OH基を有するか、またはアルカリ水
溶液中で可溶性であるように変性されている]、または
フェノール性ヒドロキシル基を有する重合体、例えば縮
合可能な化合物、殊にホルムアルデヒド、アセトルデヒ
ドもしくはアセトンと、フェノールとの縮合生成物;ま
たはヒドロキシスチレンの共重合体。また、(メタ)ア
クリル酸アミドと、アルキル(メタ)アクリレートとの
共重合体を使用することもできる。
る重合体、例えばヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ートの共重合体、アリルアルコールの共重合体、ビニル
アルコールの共重合体ポリウレタンまたはポリエステ
ル、ならびにエポキシ樹脂[但し、このエポキシ樹脂
は、十分な数の遊離OH基を有するか、またはアルカリ水
溶液中で可溶性であるように変性されている]、または
フェノール性ヒドロキシル基を有する重合体、例えば縮
合可能な化合物、殊にホルムアルデヒド、アセトルデヒ
ドもしくはアセトンと、フェノールとの縮合生成物;ま
たはヒドロキシスチレンの共重合体。また、(メタ)ア
クリル酸アミドと、アルキル(メタ)アクリレートとの
共重合体を使用することもできる。
前記の重合体は、殊に、該重合体が200000またはそれ
以上、有利に1000〜100000の分子量を有し、かつ10〜25
0、有利に20〜200の酸価を有するか、または50〜750、
有利に100〜500のヒドロキシル価を有する場合に適当で
ある。
以上、有利に1000〜100000の分子量を有し、かつ10〜25
0、有利に20〜200の酸価を有するか、または50〜750、
有利に100〜500のヒドロキシル価を有する場合に適当で
ある。
好ましいアルカリ可溶性結合剤は、以下に記載してあ
る: (メタ)アクリル酸と、アルキル(メタ)アクリレー
ト、(メタ)アクリル酸ニトリル等との共重合体;クロ
トン酸と、アルキル(メタ)アクリレート、(メタ)ア
クリル酸ニトリル等との共重合体;ビニル酢酸と、アル
キル(メタ)アクリレートとの共重合体;無水マレイン
酸と、場合によっては置換されたスチレン、不飽和炭化
水素、不飽和エーテルもしくはエステルとの共重合体;
無水マレイン酸の共重合体のエステル化生成物;ヒドロ
キシル基を有する重合体と、ジカルボン酸もしくはポリ
カルボン酸の無水物とのエステル化生成物、ヒドロキシ
アルキル(メタ)アクリレートと、アルキル(メタ)ア
クリレート、(メタ)アクリル酸ニトリル等との共重合
体;アリルアルコールと、場合によっては置換されたス
チレンとの共重合体;ビニルアルコールと、アルキル
(メタ)アクリレートもしくは重合可能な他の不飽和化
合物との共重合体;ポリウレタン[但し、これは、十分
な数の遊離OH基を有する];エポキシ樹脂;ポリエステ
ル;部分的に鹸化された酢酸ビニル共重合体;遊離OH基
を有するポリビニルアセタール;ヒドロキシスチレン
と、アルキル基(メタ)アクリレート等との共重合体;
フェノール/ホルムアルデヒド樹脂、例えばノボラッ
ク。
る: (メタ)アクリル酸と、アルキル(メタ)アクリレー
ト、(メタ)アクリル酸ニトリル等との共重合体;クロ
トン酸と、アルキル(メタ)アクリレート、(メタ)ア
クリル酸ニトリル等との共重合体;ビニル酢酸と、アル
キル(メタ)アクリレートとの共重合体;無水マレイン
酸と、場合によっては置換されたスチレン、不飽和炭化
水素、不飽和エーテルもしくはエステルとの共重合体;
無水マレイン酸の共重合体のエステル化生成物;ヒドロ
キシル基を有する重合体と、ジカルボン酸もしくはポリ
カルボン酸の無水物とのエステル化生成物、ヒドロキシ
アルキル(メタ)アクリレートと、アルキル(メタ)ア
クリレート、(メタ)アクリル酸ニトリル等との共重合
体;アリルアルコールと、場合によっては置換されたス
チレンとの共重合体;ビニルアルコールと、アルキル
(メタ)アクリレートもしくは重合可能な他の不飽和化
合物との共重合体;ポリウレタン[但し、これは、十分
な数の遊離OH基を有する];エポキシ樹脂;ポリエステ
ル;部分的に鹸化された酢酸ビニル共重合体;遊離OH基
を有するポリビニルアセタール;ヒドロキシスチレン
と、アルキル基(メタ)アクリレート等との共重合体;
フェノール/ホルムアルデヒド樹脂、例えばノボラッ
ク。
感光層中での結合剤の量は、一般に20〜90重量%、有
利に40〜80重量%である。
利に40〜80重量%である。
本発明による光開始剤は、この型の組成物に0.1〜15.
0重量%、有利に0.2〜5重量%の範囲の量で添加され
る。
0重量%、有利に0.2〜5重量%の範囲の量で添加され
る。
意図される使用および所望の性質に応じて、光重合可
能な組成物は、添加剤のような種々の物質からなること
ができる。例は、次のものを包含する: 熱重合を阻止するための抑制剤、水素供与体、スペクト
ル感度を調節する物質、染料、着色剤および無色顔料、
着色前駆物質、指示薬および可塑剤。
能な組成物は、添加剤のような種々の物質からなること
ができる。例は、次のものを包含する: 熱重合を阻止するための抑制剤、水素供与体、スペクト
ル感度を調節する物質、染料、着色剤および無色顔料、
着色前駆物質、指示薬および可塑剤。
使用することができる抑制剤は、例えばヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−第三ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、第三ブチル−ピロカテコー
ル、ベンゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロ
ルアニール、ナフチルアミン、ナフトール、ニトロベン
ゼンおよびジニトロベンゼンである。
ン、p−メトキシフェノール、ジ−第三ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、第三ブチル−ピロカテコー
ル、ベンゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロ
ルアニール、ナフチルアミン、ナフトール、ニトロベン
ゼンおよびジニトロベンゼンである。
適当な染料および顔料は、例えばメチレンブルー、ク
リスタルバイオレット、ローダミンB、フクシン、アウ
リン、アゾ染料、アントラキノン染料、二酸化チタン、
カーボンブラック、酸化第二鉄、フタロシアニン顔料、
またアゾ顔料;しかし、使用した染料の吸収は、光開始
剤の開始範囲内であまり高すぎてはならないことに注意
すべきである。
リスタルバイオレット、ローダミンB、フクシン、アウ
リン、アゾ染料、アントラキノン染料、二酸化チタン、
カーボンブラック、酸化第二鉄、フタロシアニン顔料、
またアゾ顔料;しかし、使用した染料の吸収は、光開始
剤の開始範囲内であまり高すぎてはならないことに注意
すべきである。
可塑剤の例は、フタル酸エステル、グリコールエステ
ル、燐酸エステルまたは脂肪族ジカルボン酸エステル酸
を包含する。
ル、燐酸エステルまたは脂肪族ジカルボン酸エステル酸
を包含する。
また、組成物は、一般式Iの光開始剤と一緒に使用し
た場合に、光重合速度を増大させるために選択されてい
る増感剤および/または付加的な光開始剤を含有するこ
とができる。使用することができる増感剤は、ベンゾイ
ン、ベンゾインアルキルエーテル、9−フルオレノン、
2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アント
ロン、9,10−アントラキノン、置換アントラキノン、キ
サントン、置換キサントン、チオキサントン、ベンジ
ル、ジベンザールアセトン、置換カルコン、ベンゾフェ
ノンもしくはベンズアントロン、エオシンもしくはフル
オレセイン誘導体、アクリジン、ピロニンまたは類似の
物質である。
た場合に、光重合速度を増大させるために選択されてい
る増感剤および/または付加的な光開始剤を含有するこ
とができる。使用することができる増感剤は、ベンゾイ
ン、ベンゾインアルキルエーテル、9−フルオレノン、
2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アント
ロン、9,10−アントラキノン、置換アントラキノン、キ
サントン、置換キサントン、チオキサントン、ベンジ
ル、ジベンザールアセトン、置換カルコン、ベンゾフェ
ノンもしくはベンズアントロン、エオシンもしくはフル
オレセイン誘導体、アクリジン、ピロニンまたは類似の
物質である。
適当な共開始剤は、殊にトリクロロメチル基を有する
光開始剤であり、その吸収ピークは、明らかに本発明に
よる光開始剤の吸収ピークよりも高い。
光開始剤であり、その吸収ピークは、明らかに本発明に
よる光開始剤の吸収ピークよりも高い。
同時に出願された西ドイツ国特許出願第P3807381.1号
明細書に記載の4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル−ベンゾイルメチレン複素環式化合
物は、例えば特に適当である。この測定によれば、感光
性組成物のスペクトル感度は、大きい波長領域を越えて
拡大させることができる。
明細書に記載の4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル−ベンゾイルメチレン複素環式化合
物は、例えば特に適当である。この測定によれば、感光
性組成物のスペクトル感度は、大きい波長領域を越えて
拡大させることができる。
光重合可能な組成物は、種々の用途、例えば安全ガラ
スの製造に使用することができ、光または粒子線、例え
ば電子ビームによって硬化される表面被膜として使用す
ることができ、歯科医療領域に使用することができ、か
つ殊に複写分野で感光性複写材料として使用することが
できる。次に、前記分野での可能な用途を記載すること
にする:凸版印刷、フレキソ印刷、平版印刷、グラビア
印刷およびスクリーン印刷用の印刷版を光機械的に製造
するための複写層または例えば点字用テキスト、1枚の
コピー、タンニング画像、顔料画像等を製造するための
レリーフコピー。更に、この組成物は、例えばネームプ
レート、プリント回路を製作するためのエッチングレジ
ストの光機械的製造および触刻に使用することができ
る。
スの製造に使用することができ、光または粒子線、例え
ば電子ビームによって硬化される表面被膜として使用す
ることができ、歯科医療領域に使用することができ、か
つ殊に複写分野で感光性複写材料として使用することが
できる。次に、前記分野での可能な用途を記載すること
にする:凸版印刷、フレキソ印刷、平版印刷、グラビア
印刷およびスクリーン印刷用の印刷版を光機械的に製造
するための複写層または例えば点字用テキスト、1枚の
コピー、タンニング画像、顔料画像等を製造するための
レリーフコピー。更に、この組成物は、例えばネームプ
レート、プリント回路を製作するためのエッチングレジ
ストの光機械的製造および触刻に使用することができ
る。
記載した用途に組成物を商業的に利用することは、溶
液または分散液の形で、例えばフォトレジスト溶液とし
て行なうことがき、このフォトレジスト溶液は、例えば
触刻のためおよびプリント回路、スクリーン印刷ステン
シル等の製造のために使用者自らによって個々の支持体
の塗布される。また、組成物は、例えば印刷版の製造の
ために予め塗布された貯蔵可能な感光性複写材料の形で
適当な支持体上に固体の感光層として存在させることが
できる。この組成物は、同様にドライレジストの製造の
ために適当である。
液または分散液の形で、例えばフォトレジスト溶液とし
て行なうことがき、このフォトレジスト溶液は、例えば
触刻のためおよびプリント回路、スクリーン印刷ステン
シル等の製造のために使用者自らによって個々の支持体
の塗布される。また、組成物は、例えば印刷版の製造の
ために予め塗布された貯蔵可能な感光性複写材料の形で
適当な支持体上に固体の感光層として存在させることが
できる。この組成物は、同様にドライレジストの製造の
ために適当である。
一般に、組成物を光重合の間空気酸素の影響から保護
することは、有利である。組成移を薄い複写層の形で使
用する場合には、低い酸素透過率を有する適当なカバー
フィルムを適用することは、有利てある。このフィルム
は、自己支持性であり、かつ複写層を現像する前に剥離
することができる。例えば、ポリエステルフィルムは、
この目的のために適当である。また、カバーフィルム
は、現像液に可溶であるかまたは未硬化の領域から現像
の間に少なくとも除去することができる材料からなるこ
とができる。この目的に適当な材料の例は、蝋、ポリア
ミド、ポリビニルアルコール、ポリホスフェート、砂糖
等である。
することは、有利である。組成移を薄い複写層の形で使
用する場合には、低い酸素透過率を有する適当なカバー
フィルムを適用することは、有利てある。このフィルム
は、自己支持性であり、かつ複写層を現像する前に剥離
することができる。例えば、ポリエステルフィルムは、
この目的のために適当である。また、カバーフィルム
は、現像液に可溶であるかまたは未硬化の領域から現像
の間に少なくとも除去することができる材料からなるこ
とができる。この目的に適当な材料の例は、蝋、ポリア
ミド、ポリビニルアルコール、ポリホスフェート、砂糖
等である。
本発明による組成物を用いて製造される複写材料に適
当な支持体の例は、アルミニウム、鋼、亜鉛、銅および
例えばポリエチレンテフタレートもしくは酢酸セルロー
スのプラスチックフィルム、ならびにスクリン印刷用支
持体、例えばガーゼポリアミド6である。
当な支持体の例は、アルミニウム、鋼、亜鉛、銅および
例えばポリエチレンテフタレートもしくは酢酸セルロー
スのプラスチックフィルム、ならびにスクリン印刷用支
持体、例えばガーゼポリアミド6である。
更に、本発明による化合物は、性質の変化が開始剤の
光分解の間に形成された酸触媒によって開始されるよう
な感放射線性組成物に使用することができる。例えば、
この場合には、ビニルエーテル、N−ビニル化合物、例
えばN−ビニルカルバゾール、または特殊な酸分解可能
なラクトンを包含する系の陽イオン重合を記載すること
ができ、それによってフリーラジカル法は、前記反応の
幾つかの場合に期待することができる。更に、酸硬化可
能な組成物は、アミドプラスト、例えば尿素/ホルムア
ルドヒド樹脂、メラミン/ホルムアルデヒド樹脂および
他のN−メチロール化合物ならびにフェノール/ホルム
アルデヒド樹脂を包含する。エポキシ樹脂の硬化は、一
般にルイス酸または陰イオンが塩化物よりも求核性でな
い酸、すなわち新規化合物の光分解の間に形成されるハ
ロゲン化水素酸の陰イオンにより行なわれるにも拘ら
ず、エポキシ樹脂およびノボラックからなる層は、本発
明による組成物の存在下での露光で完全に硬化される。
光分解の間に形成された酸触媒によって開始されるよう
な感放射線性組成物に使用することができる。例えば、
この場合には、ビニルエーテル、N−ビニル化合物、例
えばN−ビニルカルバゾール、または特殊な酸分解可能
なラクトンを包含する系の陽イオン重合を記載すること
ができ、それによってフリーラジカル法は、前記反応の
幾つかの場合に期待することができる。更に、酸硬化可
能な組成物は、アミドプラスト、例えば尿素/ホルムア
ルドヒド樹脂、メラミン/ホルムアルデヒド樹脂および
他のN−メチロール化合物ならびにフェノール/ホルム
アルデヒド樹脂を包含する。エポキシ樹脂の硬化は、一
般にルイス酸または陰イオンが塩化物よりも求核性でな
い酸、すなわち新規化合物の光分解の間に形成されるハ
ロゲン化水素酸の陰イオンにより行なわれるにも拘ら
ず、エポキシ樹脂およびノボラックからなる層は、本発
明による組成物の存在下での露光で完全に硬化される。
新規化合物のもう1つの有利な性質は、光分解の間に
乾燥系中で色の変化を生ぜしめること、すなわち色前駆
物質、例えばロイコ化合物から色形成を誘発させるこ
と、またはシアニン、メロシアニンもしくはスチリル染
料塩基を含有する組成物中での深色の色の変化および濃
色化を生ぜしめることの能力にある。更に、例えば染料
塩基、N−ビニルカルバゾールおよびハロゲン化炭化水
素を含有する、西ドイツ国特許出願公開第1572080号明
細書に記載の組成物の場合には、ハロゲン化合物テオラ
ブロモメタンは、フォーマー(former)量の画分である
量の本発明による化合物によって代えることができる。
また、色の変化は、工業的に、例えば印刷版の製造の場
合にも望まれており、したがって複写の結果は、現像前
であっても露光後に評価することができる。
乾燥系中で色の変化を生ぜしめること、すなわち色前駆
物質、例えばロイコ化合物から色形成を誘発させるこ
と、またはシアニン、メロシアニンもしくはスチリル染
料塩基を含有する組成物中での深色の色の変化および濃
色化を生ぜしめることの能力にある。更に、例えば染料
塩基、N−ビニルカルバゾールおよびハロゲン化炭化水
素を含有する、西ドイツ国特許出願公開第1572080号明
細書に記載の組成物の場合には、ハロゲン化合物テオラ
ブロモメタンは、フォーマー(former)量の画分である
量の本発明による化合物によって代えることができる。
また、色の変化は、工業的に、例えば印刷版の製造の場
合にも望まれており、したがって複写の結果は、現像前
であっても露光後に評価することができる。
本発明による化合物は、西ドイツ国特許出願公開第23
31377号明細書および同第2641100号明細書に記載の酸供
与体の代わりに有利に使用することができる。
31377号明細書および同第2641100号明細書に記載の酸供
与体の代わりに有利に使用することができる。
本発明による化合物を使用するのに特に好ましい分野
は、組成物以外に酸によって分解することができる少な
くとも1つのC−O−C基を有する化合物を本質的成分
として含有する組成物にある。次に、酸によって分解す
ることができる好ましい化合物を記載することにする: A)少なくと1つのオルトカルボキシレート基および/
またはカルボキシアミドアセタール基を有するもの、こ
の場合この化合物は、高分子量の性質を有しかつこれら
の基は主鎖中の結合要素としてまたは側位の置換基とし
て存在することができ、 B)繰返しアセタール基および/またはケタール基を有
する重合体化合物、 C)カルボン酸の活性化エステルの繰返し単位を有する
重合体化合物。
は、組成物以外に酸によって分解することができる少な
くとも1つのC−O−C基を有する化合物を本質的成分
として含有する組成物にある。次に、酸によって分解す
ることができる好ましい化合物を記載することにする: A)少なくと1つのオルトカルボキシレート基および/
またはカルボキシアミドアセタール基を有するもの、こ
の場合この化合物は、高分子量の性質を有しかつこれら
の基は主鎖中の結合要素としてまたは側位の置換基とし
て存在することができ、 B)繰返しアセタール基および/またはケタール基を有
する重合体化合物、 C)カルボン酸の活性化エステルの繰返し単位を有する
重合体化合物。
感放射線性組成物の成分として酸によって分解するこ
とができる型Aの化合物は、詳細には西ドイツ国特許出
願公開第2610842号明細書または同第2928636号明細書に
記載されており;型Bの化合物を含有する組成物は、西
ドイツ国特許第2718254号明細書の対象であり;かつ型
Cの化合物を含有する組成物は、欧州特許出願公開第10
2450号明細書に記載されている。
とができる型Aの化合物は、詳細には西ドイツ国特許出
願公開第2610842号明細書または同第2928636号明細書に
記載されており;型Bの化合物を含有する組成物は、西
ドイツ国特許第2718254号明細書の対象であり;かつ型
Cの化合物を含有する組成物は、欧州特許出願公開第10
2450号明細書に記載されている。
酸によって分解することができる化合物として、同様
に本発明による化合物の光分解生成物によって崩壊され
る、西ドイツ国特許第2306248号明細書に記載のアリー
ルアルキルアセタールおよびアミナールも例として記載
することができる。
に本発明による化合物の光分解生成物によって崩壊され
る、西ドイツ国特許第2306248号明細書に記載のアリー
ルアルキルアセタールおよびアミナールも例として記載
することができる。
分子が化学線の作用によって直接または間接的により
小さい分子に変換されるような組成物は、一般に照射し
た領域内で増大した溶解度、粘性または揮発性を有す
る。この部分は、適当な手段、例えば現像液での溶解に
よって除去することができる。複写材料において、これ
らの場合は、ポジ型系と呼ばれている。
小さい分子に変換されるような組成物は、一般に照射し
た領域内で増大した溶解度、粘性または揮発性を有す
る。この部分は、適当な手段、例えば現像液での溶解に
よって除去することができる。複写材料において、これ
らの場合は、ポジ型系と呼ばれている。
多数のポジ型複写材料において有効であることが証明
されたノボラック縮合樹脂は、本発明による化合物を酸
によって分解することができる化合物を有する組成物に
使用する場合には添加剤として特に有用でありかつ有利
であることが照明された。この樹脂、殊にホルムアルデ
ヒド縮合成分としての置換フェノールを有する高度に縮
合された樹脂は、現像の際に露光した層部分と、、未露
光の層部分との間の著しい差を促進する。ノボラック樹
脂の性質および量は、意図した目的に応じて変動するこ
とができ;全部の固体に対して30〜90重量%、特に55〜
85重量%のノボラック量が好ましい。
されたノボラック縮合樹脂は、本発明による化合物を酸
によって分解することができる化合物を有する組成物に
使用する場合には添加剤として特に有用でありかつ有利
であることが照明された。この樹脂、殊にホルムアルデ
ヒド縮合成分としての置換フェノールを有する高度に縮
合された樹脂は、現像の際に露光した層部分と、、未露
光の層部分との間の著しい差を促進する。ノボラック樹
脂の性質および量は、意図した目的に応じて変動するこ
とができ;全部の固体に対して30〜90重量%、特に55〜
85重量%のノボラック量が好ましい。
付加的に多数の他の樹脂、有利にビニル重合体、例え
ばポリビニルアセテート、ポリアクリレート、ポリビニ
ルエーテルおよびポリビニルピロリドンを包含すること
もでき、これらは、それ自体コモノマーによって変性さ
れていてもよい。該樹脂の最も有利な性質は、特殊な用
途における要件および現像条件下での影響に依存する。
一般に、量比は、ノボラック20%以下である。特殊な要
件、例えば可撓性、付着力および光沢等のためには、感
光性組成物は、少量の物質、例えばポリグリコール、セ
ルロース誘導体、例えばエチルセルロース、湿潤剤、染
料および微粒状顔料ならびに必要に応じて紫外線吸収剤
を含有していてもよい。現像は、有利に工業界で常用さ
れておりかつ少量の有機溶剤を含有することもできる水
性アルカリ現像液を用いて実施されるかまたは有機溶剤
を用いて実施される。
ばポリビニルアセテート、ポリアクリレート、ポリビニ
ルエーテルおよびポリビニルピロリドンを包含すること
もでき、これらは、それ自体コモノマーによって変性さ
れていてもよい。該樹脂の最も有利な性質は、特殊な用
途における要件および現像条件下での影響に依存する。
一般に、量比は、ノボラック20%以下である。特殊な要
件、例えば可撓性、付着力および光沢等のためには、感
光性組成物は、少量の物質、例えばポリグリコール、セ
ルロース誘導体、例えばエチルセルロース、湿潤剤、染
料および微粒状顔料ならびに必要に応じて紫外線吸収剤
を含有していてもよい。現像は、有利に工業界で常用さ
れておりかつ少量の有機溶剤を含有することもできる水
性アルカリ現像液を用いて実施されるかまたは有機溶剤
を用いて実施される。
光重合可能な組成物との関連で既述した支持体は、ポ
ジ型の複写材料に使用することもでき、さらに適当な支
持体は、マイクロ電子工学で常用のシリコン、二酸化シ
リコンおよび砒化ガリウム表面である。
ジ型の複写材料に使用することもでき、さらに適当な支
持体は、マイクロ電子工学で常用のシリコン、二酸化シ
リコンおよび砒化ガリウム表面である。
ポジ型の組成物中で酸供与体として使用される本発明
による化合物の量は、物質および層に依存して広く変動
することができる。著しく有利な結果は、全固体に対し
て約0.1〜10%、有利に0.2〜5%の量で得られる。10μ
mを越える厚さを有する層のためには、比較的少量の酸
供与体を使用するのが有利である。
による化合物の量は、物質および層に依存して広く変動
することができる。著しく有利な結果は、全固体に対し
て約0.1〜10%、有利に0.2〜5%の量で得られる。10μ
mを越える厚さを有する層のためには、比較的少量の酸
供与体を使用するのが有利である。
約700nmまでの波長の電磁線は、原理的に露光に適当
である。好ましい波長範囲は、約300〜500nmに拡がって
いる。本発明による組成物は、350〜400nmの範囲内の最
大感度を示す。
である。好ましい波長範囲は、約300〜500nmに拡がって
いる。本発明による組成物は、350〜400nmの範囲内の最
大感度を示す。
吸収ピークが屡々365nmの重要な波長で存在している
本発明による化合物が多種多様であることにより、光開
始剤は使用した光源に最適な方法で適合させることがで
きる。光源の例としては、次のものを記載することがで
きる:蛍光管、キセノン灯、高圧の金属ハロゲン化物を
ドープした水銀灯および炭素アーク灯。
本発明による化合物が多種多様であることにより、光開
始剤は使用した光源に最適な方法で適合させることがで
きる。光源の例としては、次のものを記載することがで
きる:蛍光管、キセノン灯、高圧の金属ハロゲン化物を
ドープした水銀灯および炭素アーク灯。
更に、本発明による感光性組成物の場合、金属フィラ
メント灯の光の下で常用の投影装置および拡大装置中で
の露光および一般的な白熱電球での接触露光は、有利に
実施することができる。露光は、レーザーのコヒーレン
ト光を用いて行なうこともできる。本発明の目的に適当
なレーザーは、例えばアルゴンイオンレーザー、クリプ
トンイオンレーザー、キセノンイオンレーザー、色素レ
ーザー、ヘリウム/カドミウムレーザーまたはヘリウム
/ネオンレーザーを包含する。レーザービームは、一般
に所定のプログラミングされた線形運動および/または
スクリーン運動により監視することができる。
メント灯の光の下で常用の投影装置および拡大装置中で
の露光および一般的な白熱電球での接触露光は、有利に
実施することができる。露光は、レーザーのコヒーレン
ト光を用いて行なうこともできる。本発明の目的に適当
なレーザーは、例えばアルゴンイオンレーザー、クリプ
トンイオンレーザー、キセノンイオンレーザー、色素レ
ーザー、ヘリウム/カドミウムレーザーまたはヘリウム
/ネオンレーザーを包含する。レーザービームは、一般
に所定のプログラミングされた線形運動および/または
スクリーン運動により監視することができる。
電子ビームでの照射は、他の異なる方法である。電子
ビームは、本発明による化合物の1つおよび酸によって
分解可能化合物、ならびに多くの他の有機材料からなる
組成物を十分に分解しかつ架橋することができ、したが
ってネガ画像は、未照射の部分を溶剤によって除去する
かまたはオリジナルなしに露光することによって除去
し、かつ現像する場合に得られる。
ビームは、本発明による化合物の1つおよび酸によって
分解可能化合物、ならびに多くの他の有機材料からなる
組成物を十分に分解しかつ架橋することができ、したが
ってネガ画像は、未照射の部分を溶剤によって除去する
かまたはオリジナルなしに露光することによって除去
し、かつ現像する場合に得られる。
しかし、より低い強度および/または電子ビームのよ
り高い書込み速度の場合、電子ビームは、より高い溶解
度の方向に差を生じ、すなわち照射した層部分は、現像
液によって除去することができる。最も有利な条件は、
予備実験によって容易に定めることができる。
り高い書込み速度の場合、電子ビームは、より高い溶解
度の方向に差を生じ、すなわち照射した層部分は、現像
液によって除去することができる。最も有利な条件は、
予備実験によって容易に定めることができる。
本発明による化合物を有する感放射性組成物は、ポジ
型またはネガ型の印刷版、すなわち殊にオフセット印刷
版、凸版印刷版、フレキソ印刷版、ハーフトーングラビ
ア印刷版およびスクリン印刷版の製造、フォトレジスト
溶液およびドライレジストに有利に使用される。
型またはネガ型の印刷版、すなわち殊にオフセット印刷
版、凸版印刷版、フレキソ印刷版、ハーフトーングラビ
ア印刷版およびスクリン印刷版の製造、フォトレジスト
溶液およびドライレジストに有利に使用される。
本発明による化合物の性質により、公知技術水準と比
較して多大の利点を有する感光性記録材料が得られる。
この利点の中、近紫外線領域内の光を発する光源に対し
て高い感度は、殊に挙げなければならない。それによっ
て、近紫外線領域内で発する低エネルギーレーザーを使
用することにより実際の要件に応じた迅速な露光が保証
される。感光性組成物の場合に屡々観察される空気酸素
に対する高い感受性は、本発明による光開始剤を使用し
た場合には副次的程度で生じる。付加的に、本発明によ
る光開始剤の高い化学的安定性および熱的安定性のため
に得られた感光層は異常に高い貯蔵安定性を有し、この
ことは、在庫品を維持することができかつ溶液または感
光層を長時間貯蔵することができることを意味するとい
う特に有利な事実が存在する。更に、本発明による光開
始剤または酸供与体がそれぞれ使用されている感光性組
成物は、臨界表面、例えば銅表面上で任意の接触的に開
始される暗反応を殆ど受けないという別の重要な利点が
存在し、このことは、既に公知技術水準を上廻る改善を
表わす。本発明による化合物は、僅かな固有色のために
実際の要件に応じて薄層の場合であっても使用すること
ができる。
較して多大の利点を有する感光性記録材料が得られる。
この利点の中、近紫外線領域内の光を発する光源に対し
て高い感度は、殊に挙げなければならない。それによっ
て、近紫外線領域内で発する低エネルギーレーザーを使
用することにより実際の要件に応じた迅速な露光が保証
される。感光性組成物の場合に屡々観察される空気酸素
に対する高い感受性は、本発明による光開始剤を使用し
た場合には副次的程度で生じる。付加的に、本発明によ
る光開始剤の高い化学的安定性および熱的安定性のため
に得られた感光層は異常に高い貯蔵安定性を有し、この
ことは、在庫品を維持することができかつ溶液または感
光層を長時間貯蔵することができることを意味するとい
う特に有利な事実が存在する。更に、本発明による光開
始剤または酸供与体がそれぞれ使用されている感光性組
成物は、臨界表面、例えば銅表面上で任意の接触的に開
始される暗反応を殆ど受けないという別の重要な利点が
存在し、このことは、既に公知技術水準を上廻る改善を
表わす。本発明による化合物は、僅かな固有色のために
実際の要件に応じて薄層の場合であっても使用すること
ができる。
また、感光性組成物は、可視光線に対して敏感であ
り、それ故に適当な条件下、例えば黄色光の下で取り扱
わなければならないけれども、本発明による化合物は、
結晶状態の場合に光および熱に対して極めて安定性であ
る。それ故に、本発明による化合物は、あまり多大な費
用をかけることなしに実質的に標準の製造条件下で製造
しかつ取り扱うことができ、かつこの状態で長時間安定
性であり、したがってこの化合物の在庫品は、維持する
ことができ、したがってこの在庫品は、実際の目的に適
当である。
り、それ故に適当な条件下、例えば黄色光の下で取り扱
わなければならないけれども、本発明による化合物は、
結晶状態の場合に光および熱に対して極めて安定性であ
る。それ故に、本発明による化合物は、あまり多大な費
用をかけることなしに実質的に標準の製造条件下で製造
しかつ取り扱うことができ、かつこの状態で長時間安定
性であり、したがってこの化合物の在庫品は、維持する
ことができ、したがってこの在庫品は、実際の目的に適
当である。
実施例 次の実施例は、本発明をより詳細に説明するのに役立
ち;まず、本発明による種々の化合物の製造が記載さ
れ、これに続いて感放射線組成物中への該化学物の幾つ
かの使用が記載されている。
ち;まず、本発明による種々の化合物の製造が記載さ
れ、これに続いて感放射線組成物中への該化学物の幾つ
かの使用が記載されている。
実施例中、重量部(pbw)および容量部(pbv)は、g
およびmlと同じ関係にある。百分率のデータおよび量の
データは、別記しない限り、重量単位である。
およびmlと同じ関係にある。百分率のデータおよび量の
データは、別記しない限り、重量単位である。
製造例 1 a)5−フェニルテトラゾール ベンゾニトリル11.5pbw、塩化リチウム9.2pbwおよび
ナトリウムアジド15.7pbwを2−メトキシ−エタノール4
00pbv中に懸濁させ、この混合物を15時間還流下に加熱
する。冷却後、この混合物を水1000pbv中に流込み、か
つ30分間撹拌する。不溶性成分を濾別し、次いで濃塩酸
を混合物がpH値2に調節されるまで注意深く添加する。
この混合物を氷/塩化ナトリウム冷却浴中で0℃に冷却
し、かつこの温度で一晩中放置する。沈澱物を吸引装置
を用いて濾別し、かつ五酸化燐上で乾燥する。収量:5−
フェニルテトラゾール8pbw。
ナトリウムアジド15.7pbwを2−メトキシ−エタノール4
00pbv中に懸濁させ、この混合物を15時間還流下に加熱
する。冷却後、この混合物を水1000pbv中に流込み、か
つ30分間撹拌する。不溶性成分を濾別し、次いで濃塩酸
を混合物がpH値2に調節されるまで注意深く添加する。
この混合物を氷/塩化ナトリウム冷却浴中で0℃に冷却
し、かつこの温度で一晩中放置する。沈澱物を吸引装置
を用いて濾別し、かつ五酸化燐上で乾燥する。収量:5−
フェニルテトラゾール8pbw。
b)メチル4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)ベンゾエート 工程1:ピリジン16pbwをヒドロキシルアミン塩酸塩14pbw
に添加し、この混合物を撹拌する。4−メトキシカルボ
ニルベンズアルデヒド32.8pbwを撹拌しながら添加し、
混合物を昇温させる。10分後、m−キシレン200pbwを添
加し、この混合物を水分離器中で還流下に加熱する。約
10分後、水の理論的量が分離した。この混合物を室温に
冷却し、ジエチルエーテル200pbwで希釈し、かつ2回そ
れぞれ蒸留水150pbw宛で洗浄する。有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、溶剤を回転蒸発器で除去し、この場
合最後のキシレンの痕跡は、減圧下で蒸発される。主と
してメチル4−シアノベンゾエートから構成された得ら
れた粗製生成物をエタノール150pbwから再結晶させる。
トリアジン−2−イル)ベンゾエート 工程1:ピリジン16pbwをヒドロキシルアミン塩酸塩14pbw
に添加し、この混合物を撹拌する。4−メトキシカルボ
ニルベンズアルデヒド32.8pbwを撹拌しながら添加し、
混合物を昇温させる。10分後、m−キシレン200pbwを添
加し、この混合物を水分離器中で還流下に加熱する。約
10分後、水の理論的量が分離した。この混合物を室温に
冷却し、ジエチルエーテル200pbwで希釈し、かつ2回そ
れぞれ蒸留水150pbw宛で洗浄する。有機層を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、溶剤を回転蒸発器で除去し、この場
合最後のキシレンの痕跡は、減圧下で蒸発される。主と
してメチル4−シアノベンゾエートから構成された得ら
れた粗製生成物をエタノール150pbwから再結晶させる。
工程2:上記の乾燥した生成物16pbwを湿分の不在下でト
リクロロアセトニトリル86.6pbwおよび臭化アルミニウ
ム3.2pbwと一緒にして撹拌する。澄明な溶液の温度を24
〜28℃に一定に維持し、次いで塩化水素ガスをもはやHC
l吸収が起こらなくなるまで(約2〜5時間)撹拌しな
がら溶液に通過させる。反応生成物は、この時間の間に
ますます固化する。撹拌を調節し、シロップ状の混合物
を室温で24時間後反応させる。黄色の固体の反応生成物
をジクロロメタン55pbw中に引取り、かつ2回それぞれ
蒸留水250pbw宛で洗浄する。有機相を硫酸ナトリウム上
で乾燥する。溶剤の蒸発後、白色の残留物をエタノール
250pbwから再結晶させる。収量:メチル4−(4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)ベ
ンゾエートの白色結晶の理論値の91%。
リクロロアセトニトリル86.6pbwおよび臭化アルミニウ
ム3.2pbwと一緒にして撹拌する。澄明な溶液の温度を24
〜28℃に一定に維持し、次いで塩化水素ガスをもはやHC
l吸収が起こらなくなるまで(約2〜5時間)撹拌しな
がら溶液に通過させる。反応生成物は、この時間の間に
ますます固化する。撹拌を調節し、シロップ状の混合物
を室温で24時間後反応させる。黄色の固体の反応生成物
をジクロロメタン55pbw中に引取り、かつ2回それぞれ
蒸留水250pbw宛で洗浄する。有機相を硫酸ナトリウム上
で乾燥する。溶剤の蒸発後、白色の残留物をエタノール
250pbwから再結晶させる。収量:メチル4−(4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)ベ
ンゾエートの白色結晶の理論値の91%。
融点:157〜158℃。
C13H7N3Cl6O2(449.9) 計算値:C34.70%H1.51%N9.34%Cl47.28% 実測値:C34.6%H1.4%N9.1%Cl47.7% c)4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリア
ジン−2−イル)安息香酸 メチル4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル)ベンゾエート125pbw、トリクロロ
酢酸250pbwおよび濃硫酸2pbwを撹拌しながら175℃に加
熱する。この温度で形成されたメチルトリクロロアセテ
ートを留去する。メチルトリクロロアセテート約40pbw
を留去した後、270ミリバールの僅かな真空を確立さ
せ、蒸留を完結させる。蒸留物を80℃に冷却させ、次い
で氷水1500pbwに添加する。この混合物を30分間磨砕
し、次いでこの生成物を吸引装置を用いて濾別する。収
量:87pbw=理論値の72%、融点275℃の白色結晶(トル
エンから)。
ジン−2−イル)安息香酸 メチル4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル)ベンゾエート125pbw、トリクロロ
酢酸250pbwおよび濃硫酸2pbwを撹拌しながら175℃に加
熱する。この温度で形成されたメチルトリクロロアセテ
ートを留去する。メチルトリクロロアセテート約40pbw
を留去した後、270ミリバールの僅かな真空を確立さ
せ、蒸留を完結させる。蒸留物を80℃に冷却させ、次い
で氷水1500pbwに添加する。この混合物を30分間磨砕
し、次いでこの生成物を吸引装置を用いて濾別する。収
量:87pbw=理論値の72%、融点275℃の白色結晶(トル
エンから)。
C12H5N3O2Cl6(435.9) 計算値:C33.06%H1.16%N9.64%Cl48.80% 実測値:C33.3%H1.0%N9.6%Cl48.3% d)4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリア
ジン−2−イル)ベンゾイルクロリド 4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジ
ン−2−イル)安息香酸87pbwを塩化チオニル350pbwに
添加する。湿分の不在下に還流下に加熱しかつ強力に撹
拌しながら、SO2の明らかな発生を観察することができ
る。6時間後、澄明な溶液が存在している。過剰な塩化
チオニルを端部に向かって真空に引くことによって留去
する。実質的に定量的な収量で純粋な4−(4,6−ビス
−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)ベン
ゾイルクロリドを含有する残留物をヘキサンから再結晶
させる(融点1000〜101℃)。
ジン−2−イル)ベンゾイルクロリド 4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジ
ン−2−イル)安息香酸87pbwを塩化チオニル350pbwに
添加する。湿分の不在下に還流下に加熱しかつ強力に撹
拌しながら、SO2の明らかな発生を観察することができ
る。6時間後、澄明な溶液が存在している。過剰な塩化
チオニルを端部に向かって真空に引くことによって留去
する。実質的に定量的な収量で純粋な4−(4,6−ビス
−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)ベン
ゾイルクロリドを含有する残留物をヘキサンから再結晶
させる(融点1000〜101℃)。
C12H4N3OCl7(454.3) 計算値:C31.72%H0.89%N9.25%Cl454.62% 実測値:C31.9%H0.7%N9.3%Cl54.7% e)2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)フェニル]−5−フェニル−1,
3,4−オキサジアゾール(化合物No.1) 5−フェニルテトラゾール5pbwおよび4−(4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル]ベ
ンゾイルクロリト15.5pbwをピリジン125pbvに溶解し、
この溶液を徐々に還流下に加熱する。約80℃で窒素の発
生が開始され、約1時間後に終結する。冷却後、この混
合物を氷水500pbv中に流し込み、沈澱した沈澱物を濾別
し、かつ乾燥後に2−メトキシ−エタノールから再結晶
させる。収量:15.2pbw=理論値の83.5%、肉色の結晶、
融点226〜227.5℃。
トリアジン−2−イル)フェニル]−5−フェニル−1,
3,4−オキサジアゾール(化合物No.1) 5−フェニルテトラゾール5pbwおよび4−(4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル]ベ
ンゾイルクロリト15.5pbwをピリジン125pbvに溶解し、
この溶液を徐々に還流下に加熱する。約80℃で窒素の発
生が開始され、約1時間後に終結する。冷却後、この混
合物を氷水500pbv中に流し込み、沈澱した沈澱物を濾別
し、かつ乾燥後に2−メトキシ−エタノールから再結晶
させる。収量:15.2pbw=理論値の83.5%、肉色の結晶、
融点226〜227.5℃。
C19H9Cl6N5O(536.0) 計算値:C42.57%H1.69%N13.06%Cl39.68% 実測値:C42.3%H1.6%N12.8%Cl40.1% UV(CH2Cl2):λmax=330nm。
製造例 2 a)5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾール 3,4−ジメトキシベンゾニトリル18.1pbw、塩化リチウ
ム9.1pbwおよびナトリウムアジド15.7pbw2−メトキシエ
タノール400pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却後、
溶剤の約2/3を留去し、残りの混合物を水1000pbv中に流
し込む。得られた澄明の溶液を0℃に冷却し、酸性に
し、沈澱した沈澱物を濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥す
る。収量:5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾ
ール13.5pbw。
ム9.1pbwおよびナトリウムアジド15.7pbw2−メトキシエ
タノール400pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却後、
溶剤の約2/3を留去し、残りの混合物を水1000pbv中に流
し込む。得られた澄明の溶液を0℃に冷却し、酸性に
し、沈澱した沈澱物を濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥す
る。収量:5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾ
ール13.5pbw。
b)2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合
物No.7) 5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾール20p
bwおよび4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル)ベンゾイルクロリド44pbwを処理
中に起こる窒素の強力な発生下にピリジン200pbv中で還
流下に徐々に加熱する。1.5時間後、この溶液を冷却
し、水1000pbvに流し込み、沈澱の完結後、生成物を吸
引装置を用いて濾別する。乾燥後、この生成物を2−メ
トキシ−エタノールから再結晶させる。収量:36pbw=理
論値の62.9%、黄色の結晶、融点214〜215℃。
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合
物No.7) 5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾール20p
bwおよび4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル)ベンゾイルクロリド44pbwを処理
中に起こる窒素の強力な発生下にピリジン200pbv中で還
流下に徐々に加熱する。1.5時間後、この溶液を冷却
し、水1000pbvに流し込み、沈澱の完結後、生成物を吸
引装置を用いて濾別する。乾燥後、この生成物を2−メ
トキシ−エタノールから再結晶させる。収量:36pbw=理
論値の62.9%、黄色の結晶、融点214〜215℃。
C21H13Cl6N5O3(596.1) 計算値:C42.31%H2.20%N11.75%Cl35.69% 実測値:C42.1%H2.2%N11.7%Cl36.2% UV(CH2Cl2):λmax=353nm。
製造例 3 a)3−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリア
ジン−2−イル)ベンゾイルクロリド 塩化チオニル240pbwおよびトルエン240pbwを混合し、
これに3−シアノ安息香酸140pbwを添加する。この懸濁
液を湿分の不在下に撹拌し、かつ還流下に加熱する。約
5時間後、SO2の発生が完結し、溶液は澄明になる。過
剰の塩化チオニルおよびトルエンを留去し、残留物をメ
タノール600pbw中に注意深く流し込む。この混合物を24
時間放置し、次いで0℃に冷却し、沈澱を完結させる。
メチル3−シアノベンゾエートの沈澱物を吸引装置を用
いて濾別し、かつ五酸化燐上で乾燥する。
ジン−2−イル)ベンゾイルクロリド 塩化チオニル240pbwおよびトルエン240pbwを混合し、
これに3−シアノ安息香酸140pbwを添加する。この懸濁
液を湿分の不在下に撹拌し、かつ還流下に加熱する。約
5時間後、SO2の発生が完結し、溶液は澄明になる。過
剰の塩化チオニルおよびトルエンを留去し、残留物をメ
タノール600pbw中に注意深く流し込む。この混合物を24
時間放置し、次いで0℃に冷却し、沈澱を完結させる。
メチル3−シアノベンゾエートの沈澱物を吸引装置を用
いて濾別し、かつ五酸化燐上で乾燥する。
上記化合物をトリクロロアセトニトリルと反応させ、
製造例1の記載と同様にしてメチル3−(4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)ベンゾ
エート(融点115〜117℃)を形成させる。この化合物を
トリクロロ酢酸と、製造例1の場合と同様にして反応さ
せることによって、相応する安息香酸(融点211.5℃)
を得、この安息香酸を塩化チオニルと反応させることに
よって酸塩化物(融点102〜103℃)を得る。
製造例1の記載と同様にしてメチル3−(4,6−ビス−
トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)ベンゾ
エート(融点115〜117℃)を形成させる。この化合物を
トリクロロ酢酸と、製造例1の場合と同様にして反応さ
せることによって、相応する安息香酸(融点211.5℃)
を得、この安息香酸を塩化チオニルと反応させることに
よって酸塩化物(融点102〜103℃)を得る。
b)2−[3−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合
物No.23) 5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾール20p
bwおよび3−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル)ベンゾイルクロリド44pbwをピリ
ジン400pbv中で加熱する。更に、この混合物を上記の記
載と同様にして後処理する。収量:52pbw=理論値の90.8
%、実質的に無色の結晶、融点195〜196℃。
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(3,4−ジ
メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合
物No.23) 5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾール20p
bwおよび3−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル)ベンゾイルクロリド44pbwをピリ
ジン400pbv中で加熱する。更に、この混合物を上記の記
載と同様にして後処理する。収量:52pbw=理論値の90.8
%、実質的に無色の結晶、融点195〜196℃。
C21H13Cl6N5O3(596.1) 計算値:C42.31%H2.20%N11.75%Cl35.69% 実測値:C42.2%H2.2%N11.7%Cl36.9% UV(CH2Cl2):λmax=306nm。
製造例 4 a)メチル4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)シンナメート 工程1:4−シアノ桂皮酸50pbw、無水メタノール27.7pb
w、1,2−ジクロロエタン200pbwおよびトルエンスルホン
酸1.6pbwを約15時間還流下に加熱する。この時点で薄層
クロマトグラフィーによって監視することにより、反応
は完結したことが判明する。澄明な溶液を氷冷却し、そ
の後に幾らかの生成物を結晶させ、かつ濾過によって単
離する。母液を濃度5%の重炭酸ナトリウム溶液で洗浄
し、かつ2回水で洗浄する、有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥した後、溶剤を蒸発させ、生じる生成物を五酸
化燐上で乾燥する。メチル4−シアノシンナメートの2
つのバッチを双方が同じ純度を有するので合わせる。
トリアジン−2−イル)シンナメート 工程1:4−シアノ桂皮酸50pbw、無水メタノール27.7pb
w、1,2−ジクロロエタン200pbwおよびトルエンスルホン
酸1.6pbwを約15時間還流下に加熱する。この時点で薄層
クロマトグラフィーによって監視することにより、反応
は完結したことが判明する。澄明な溶液を氷冷却し、そ
の後に幾らかの生成物を結晶させ、かつ濾過によって単
離する。母液を濃度5%の重炭酸ナトリウム溶液で洗浄
し、かつ2回水で洗浄する、有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥した後、溶剤を蒸発させ、生じる生成物を五酸
化燐上で乾燥する。メチル4−シアノシンナメートの2
つのバッチを双方が同じ純度を有するので合わせる。
得られたエステルを使用し、製造例1(b)と同様に
してメチル4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)シンナメートを得る。
してメチル4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)シンナメートを得る。
b)4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリア
ジン−2−イル)桂皮酸 乾燥窒素でフラッシュされたフラスコ中に無水1,2−
ジクロロエタン450pbw、ヘキサメチルジシラン49.2pbw
および沃素85.3pbwを装入する。メチル4−(4,6−ビス
−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)シン
ナメート80pbw少量ずつ添加し、その間にときどき発熱
的に進行する反応を冷却による制御下に保持する。添加
が完結した後、この混合物を−20℃で操作される冷却系
を使用することにより還流下に加熱し、この冷却系の操
作を薄相クロマトグラフィーが実質的に完全な変換を示
すまで(4〜12時間)連続させる。冷却後、水400pbwを
反応混合物に添加し、この反応混合物をジクロロエタン
が蒸発されるまで回転蒸発器で濃縮する。メタノールを
残りの水性混合物に添加し、酸を定量的に沈澱させる。
この酸を吸収装置を用いて濾別し、かつ氷酢酸(この場
合に、再結晶された生成物は、氷酢酸1モルを含有す
る)から結晶させるかまたは水/氷酢酸混合物から再結
晶させる。収量:60.5pbw=理論値の78%、融点233〜234
℃。
ジン−2−イル)桂皮酸 乾燥窒素でフラッシュされたフラスコ中に無水1,2−
ジクロロエタン450pbw、ヘキサメチルジシラン49.2pbw
および沃素85.3pbwを装入する。メチル4−(4,6−ビス
−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)シン
ナメート80pbw少量ずつ添加し、その間にときどき発熱
的に進行する反応を冷却による制御下に保持する。添加
が完結した後、この混合物を−20℃で操作される冷却系
を使用することにより還流下に加熱し、この冷却系の操
作を薄相クロマトグラフィーが実質的に完全な変換を示
すまで(4〜12時間)連続させる。冷却後、水400pbwを
反応混合物に添加し、この反応混合物をジクロロエタン
が蒸発されるまで回転蒸発器で濃縮する。メタノールを
残りの水性混合物に添加し、酸を定量的に沈澱させる。
この酸を吸収装置を用いて濾別し、かつ氷酢酸(この場
合に、再結晶された生成物は、氷酢酸1モルを含有す
る)から結晶させるかまたは水/氷酢酸混合物から再結
晶させる。収量:60.5pbw=理論値の78%、融点233〜234
℃。
C14H7N3O2Cl6(461.9) 計算値:C36.40%H1.53%N9.10%Cl46.05% 実測値:C36.2%H1.35%N8.9%Cl46.5% 得られた化合物を使用し、製造例1(d)と同様にし
て4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジ
ン−2−イル)シンナモイルクロリド(融点156〜158
℃)を得る。
て4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジ
ン−2−イル)シンナモイルクロリド(融点156〜158
℃)を得る。
c)2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニルエテニル]−5−
(3,4−ジメトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル(化合物No.37) 5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾール20p
bwをピリジン400pbv中の4−(4,6−ビス−トリクロロ
メチル−s−トリアジン−2−イル)桂皮酸クロリド48
pbwと一緒に還流下に加熱する。約1時間の反応時間
後、暗色の混合物を冷却し、かつ水中に流し込む。塩酸
を徐々に添加することによってこの混合物のpH値を3〜
4に調節し、次いでこの混合物をエーテルとテトラヒド
ロフランとの1:1混合物と一緒に振盪させることによっ
て抽出する。有機相を水で洗浄し、希薄な重炭酸ナトリ
ウム溶液で洗浄し、再び水で洗浄し、かつ塩化カルシウ
ム上で乾燥する。溶剤を蒸発させ、残留物をトルエン中
で磨砕する。溶解しなかった成分を濾別する。収量:30p
bw=理論値の52.4%、黄色の結晶、融点241.5〜242℃
(分解) C23H15Cl6N5O3(622.1) 計算値:C44.40%H2.43%N11.26%Cl34.19% 実測値:C44.7%H2.5%N11.1%Cl34.4% UV(CH2Cl2):λmax=369nm。
トリアジン−2−イル)−フェニルエテニル]−5−
(3,4−ジメトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル(化合物No.37) 5−(3,4−ジメトキシフェニル)−テトラゾール20p
bwをピリジン400pbv中の4−(4,6−ビス−トリクロロ
メチル−s−トリアジン−2−イル)桂皮酸クロリド48
pbwと一緒に還流下に加熱する。約1時間の反応時間
後、暗色の混合物を冷却し、かつ水中に流し込む。塩酸
を徐々に添加することによってこの混合物のpH値を3〜
4に調節し、次いでこの混合物をエーテルとテトラヒド
ロフランとの1:1混合物と一緒に振盪させることによっ
て抽出する。有機相を水で洗浄し、希薄な重炭酸ナトリ
ウム溶液で洗浄し、再び水で洗浄し、かつ塩化カルシウ
ム上で乾燥する。溶剤を蒸発させ、残留物をトルエン中
で磨砕する。溶解しなかった成分を濾別する。収量:30p
bw=理論値の52.4%、黄色の結晶、融点241.5〜242℃
(分解) C23H15Cl6N5O3(622.1) 計算値:C44.40%H2.43%N11.26%Cl34.19% 実測値:C44.7%H2.5%N11.1%Cl34.4% UV(CH2Cl2):λmax=369nm。
製造例 5 a)5−(3,4−ジメトキシ−フェニルエテニル)−テ
トラゾール 3,4−ジメトキシ桂皮酸ニトリル9.8pbw、塩化リチウ
ム4.3pbwおよびナトリウムアジド7.4pbwを2−メトキシ
−エタノール200pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却
後、この混合物を水4000pbv中に流し込む。得られた澄
明な溶液を0℃に冷却し、酸性にし、沈澱する沈澱物を
濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(3,4−
ジメトキシ−フェニルエテニル)−テトラゾール9pbw。
トラゾール 3,4−ジメトキシ桂皮酸ニトリル9.8pbw、塩化リチウ
ム4.3pbwおよびナトリウムアジド7.4pbwを2−メトキシ
−エタノール200pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却
後、この混合物を水4000pbv中に流し込む。得られた澄
明な溶液を0℃に冷却し、酸性にし、沈澱する沈澱物を
濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(3,4−
ジメトキシ−フェニルエテニル)−テトラゾール9pbw。
b)2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(3,4−ジ
メトキシフェニルエテニル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル(化合物No.30) 上記(a)に記載の化合物20pbwおよび4−(4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)桂
皮酸クロリド48pbwを処理中に起こる強力な窒素発生下
にピリジン200pbv中で還流下に徐々に加熱する。1.5時
間後、溶液を冷却し、水500pbv中に流し込み、かつ沈澱
の完結後に生成物を吸収装置中で濾別する。乾燥後、こ
の生成移を2−メトキシエタノールから再結晶させる。
収量:28pbw=理論値の52.4%、黄色の結晶、融点207〜2
08℃。
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(3,4−ジ
メトキシフェニルエテニル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル(化合物No.30) 上記(a)に記載の化合物20pbwおよび4−(4,6−ビ
ス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)桂
皮酸クロリド48pbwを処理中に起こる強力な窒素発生下
にピリジン200pbv中で還流下に徐々に加熱する。1.5時
間後、溶液を冷却し、水500pbv中に流し込み、かつ沈澱
の完結後に生成物を吸収装置中で濾別する。乾燥後、こ
の生成移を2−メトキシエタノールから再結晶させる。
収量:28pbw=理論値の52.4%、黄色の結晶、融点207〜2
08℃。
C23H15Cl6N5O3(622.1) 計算値:C44.40%H2.43%N11.26%Cl34.19% 実測値:C44.4%H2.4%N11.2%Cl34.4% UV(CH2Cl2):λmax=373nm。
製造例 6 a)5−(1−ナフチル)−テトラゾール 1−ナフトニトリル40pbw、塩化リチウム21.5pbwおよ
びナトリウムアジド34.7pbwを2−メトキシ−エタノー
ル750pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却後、この混
合物を水4000pbv中に流し込む。得られた混合物を濾過
し、0℃に冷却し、酸性にした後に沈澱する沈澱物を濾
別し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(1−ナフ
チル)−テトラゾール29pbw。
びナトリウムアジド34.7pbwを2−メトキシ−エタノー
ル750pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却後、この混
合物を水4000pbv中に流し込む。得られた混合物を濾過
し、0℃に冷却し、酸性にした後に沈澱する沈澱物を濾
別し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(1−ナフ
チル)−テトラゾール29pbw。
b)2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(1−ナフ
チル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合物No.16) 上記(a)に記載の化合物26.7pbwおよび4−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル93pbwを処理中に起こる強力な窒素発生
下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱する。1.5
時間後、溶液を冷却し、水800pbv中に流し込み、かつ沈
澱の完結後に生成物を吸収装置中で濾別する。乾燥後、
この生成物を2−メトキシエタノールから再結晶させ
る。収量:57pbw=理論値の71.5%、黄色の結晶、融点29
8℃。
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(1−ナフ
チル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合物No.16) 上記(a)に記載の化合物26.7pbwおよび4−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル93pbwを処理中に起こる強力な窒素発生
下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱する。1.5
時間後、溶液を冷却し、水800pbv中に流し込み、かつ沈
澱の完結後に生成物を吸収装置中で濾別する。乾燥後、
この生成物を2−メトキシエタノールから再結晶させ
る。収量:57pbw=理論値の71.5%、黄色の結晶、融点29
8℃。
C23H11Cl6N5O(586.1) 計算値:C47.13%H1.89%N11.95%Cl36.29% 実測値:C47.1%H1.9%N11.7%Cl36.0% UV(CH2Cl2):λmax=348nm。
製造例 7 a)5−(2−ナフチル)−テトラゾール 2−ナフトニトリル40pbw、塩化リチウム21.5pbwおよ
びナトリウムアジド34.7pbwを2−メトキシ−エタノー
ル750pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却後、この混
合物を水4000pbv中に流し込む。得られた混合物を濾過
し、0℃に冷却し、かつ酸性にする。沈澱する沈澱物を
濾過し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(2−ナ
フチル)−テトラゾール46pbw。
びナトリウムアジド34.7pbwを2−メトキシ−エタノー
ル750pbv中で16時間還流下に加熱する。冷却後、この混
合物を水4000pbv中に流し込む。得られた混合物を濾過
し、0℃に冷却し、かつ酸性にする。沈澱する沈澱物を
濾過し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(2−ナ
フチル)−テトラゾール46pbw。
b)2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(2−ナフ
チル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合物No.17) 上記(a)に記載の化合物19.6pbwおよび4−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル45.4pbwを処理中に起こる強力な窒素発
生下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱する。1.
5時間後、溶液を冷却し、水800pbv中に流し込み、かつ
沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて濾別する。乾
燥後、この生成物をエタノールから再結晶させる。収
量:46pbw=理論値の77.8%、淡黄色の結晶、融点248〜2
50℃。
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(2−ナフ
チル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合物No.17) 上記(a)に記載の化合物19.6pbwおよび4−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル45.4pbwを処理中に起こる強力な窒素発
生下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱する。1.
5時間後、溶液を冷却し、水800pbv中に流し込み、かつ
沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて濾別する。乾
燥後、この生成物をエタノールから再結晶させる。収
量:46pbw=理論値の77.8%、淡黄色の結晶、融点248〜2
50℃。
C23H11Cl6N5O(586.1) 計算値:C47.13%H1.89%N11.95%Cl36.29% 実測値:C47.8%H1.7%N11.6%Cl36.6% UV(CH2Cl2):λmax=336nm。
製造例 8 a)5−(4−ジフェニルアミノフェニル)−テトラゾ
ール 4−ジフェニルアミノ−ベンゾニトリル81pbw、塩化
リチウム47pbwおよびナトリウムアジド72phwを2−メト
キシ−エタノール105pbvで96時間還流下に加熱する。冷
却後、この混合物を水3000pbv中に流し込む。活性炭を
得られた混合物に添加し、次いでこの混合物を濾過し、
0℃に冷却し、かつpH5の酸性にする。沈澱する沈澱物
を濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(4−
ジフェニルアミノフェニル)−テトラゾール84pbw。
ール 4−ジフェニルアミノ−ベンゾニトリル81pbw、塩化
リチウム47pbwおよびナトリウムアジド72phwを2−メト
キシ−エタノール105pbvで96時間還流下に加熱する。冷
却後、この混合物を水3000pbv中に流し込む。活性炭を
得られた混合物に添加し、次いでこの混合物を濾過し、
0℃に冷却し、かつpH5の酸性にする。沈澱する沈澱物
を濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥する。収量:5−(4−
ジフェニルアミノフェニル)−テトラゾール84pbw。
b)2−[3−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(4−ジフ
ェニルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
(化合物No.26) 上記(a)に記載の化合物31.4pbwおよび3−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル45.4pbwを処理中に起こる強力な窒素発
生下にピリジン300pbvで還流下に徐々に加熱する、1.5
時間後、この溶液を冷却し、水800pbv中に流し込み、か
つ沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて濾別する。
乾燥後、この生成物をエタノール/トルエンから再結晶
させる。収量:52pbw=理論値の73.9%、黄色の結晶、融
点238〜239℃。
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(4−ジフ
ェニルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール
(化合物No.26) 上記(a)に記載の化合物31.4pbwおよび3−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル45.4pbwを処理中に起こる強力な窒素発
生下にピリジン300pbvで還流下に徐々に加熱する、1.5
時間後、この溶液を冷却し、水800pbv中に流し込み、か
つ沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて濾別する。
乾燥後、この生成物をエタノール/トルエンから再結晶
させる。収量:52pbw=理論値の73.9%、黄色の結晶、融
点238〜239℃。
C31H18Cl6N6O(703.2) 計算値:C52.96%H2.58%N11.95%Cl30.25% 実測値:C52.5%H2.8%N11.6%Cl30.3% UV(CH2Cl2):λmax=360nm。
製造例 9 2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−ト
リアジン−2−イル)−フェニル]−5−(4−ジフェ
ニルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化
合物No.18) 製造例8の(a)に記載の化合物31.4pbwおよび4−
(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2
−イル)塩化ベンゾイル45.4pbwを処理中に起こる強力
な窒素発生下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱
する。1.5時間後、この溶液を冷却し、水800pbv中に流
し込み、かつ沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて
濾別する。乾燥後、この生成物をエタノール/クロロホ
ルムから再結晶させる。収量:46pbw=理論値の65.4%、
黄色の結晶、融点209〜210.5℃。
リアジン−2−イル)−フェニル]−5−(4−ジフェ
ニルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化
合物No.18) 製造例8の(a)に記載の化合物31.4pbwおよび4−
(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2
−イル)塩化ベンゾイル45.4pbwを処理中に起こる強力
な窒素発生下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱
する。1.5時間後、この溶液を冷却し、水800pbv中に流
し込み、かつ沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて
濾別する。乾燥後、この生成物をエタノール/クロロホ
ルムから再結晶させる。収量:46pbw=理論値の65.4%、
黄色の結晶、融点209〜210.5℃。
C31H18Cl6N6O(703.2) 計算値:C52.95%H2.58%N11.95%Cl30.25% 実測値:C53.1%H2.4%N11.5%Cl29.4% UV(CH2Cl2):λmax=403nm。
製造例 10 a)5−(4−クロロフェニル)−テトラゾール 4−クロロベゾベンゾニトリル15.3pbw、塩化リチウ
ム9.1pbwおよびナトリウムアジド15.7pbwを2−メトキ
シ−エタノール450pbv中で24時間還流下に加熱する。冷
却後、この混合物を水1000pbv中に流し込む。得られた
混合物を濾過し、0℃に冷却し、かつpH3の酸性にす
る。沈澱する沈澱物を濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥す
る。収量:5−(4−クロロフェニル)−テトラゾール18
pbw。
ム9.1pbwおよびナトリウムアジド15.7pbwを2−メトキ
シ−エタノール450pbv中で24時間還流下に加熱する。冷
却後、この混合物を水1000pbv中に流し込む。得られた
混合物を濾過し、0℃に冷却し、かつpH3の酸性にす
る。沈澱する沈澱物を濾別し、水で洗浄し、かつ乾燥す
る。収量:5−(4−クロロフェニル)−テトラゾール18
pbw。
b)2−[4−(4,6−ビス−トリクロロメチル−s−
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(4−クロ
ロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合物No.
9) 上記(a)に記載の化合物24.6pbwおよび4−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル93pbwを処理中に起こる強力な窒素発生
下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱する。澄明
な溶液は、反応処理中いつ如何なるときでも形成されな
い。1.5時間後、この溶液を冷却し、水800pbvに流し込
み、かつ沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて濾別
する。乾燥後、この生成物を2−メトキシ−エタノール
から再結晶させる。収量:70pbw=理論値の90.2%、淡黄
色の結晶、融点273℃。
トリアジン−2−イル)−フェニル]−5−(4−クロ
ロフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(化合物No.
9) 上記(a)に記載の化合物24.6pbwおよび4−(4,6−
ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン−2−イル)
塩化ベンゾイル93pbwを処理中に起こる強力な窒素発生
下にピリジン300pbv中で還流下に徐々に加熱する。澄明
な溶液は、反応処理中いつ如何なるときでも形成されな
い。1.5時間後、この溶液を冷却し、水800pbvに流し込
み、かつ沈澱の完結後に生成物を吸収装置を用いて濾別
する。乾燥後、この生成物を2−メトキシ−エタノール
から再結晶させる。収量:70pbw=理論値の90.2%、淡黄
色の結晶、融点273℃。
C19H8Cl7N5O(570.5) 計算値:C40.00%H1.41%N12.28%Cl43.50% 実測値:C39.8%H1.4%N12.1%Cl43.4% UV(CH2Cl2):λmax=332nm。
製造例 11 製造例1の工程(a)を塩化アンモニウム1当量を塩
化リチウムに代え、かつジメチルホルムアミドを2−メ
トキシ−エタノールの代わりに使用するような方法で変
える。混合物を110℃で16時間加熱し、アンモニウムア
ジドの比較的に大きい結晶を凝縮器中で結晶させる。こ
の混合物を製造例1の記載と同様にして後処理する。得
られた収量は、5−フェニルテトラゾール9pbwである。
化リチウムに代え、かつジメチルホルムアミドを2−メ
トキシ−エタノールの代わりに使用するような方法で変
える。混合物を110℃で16時間加熱し、アンモニウムア
ジドの比較的に大きい結晶を凝縮器中で結晶させる。こ
の混合物を製造例1の記載と同様にして後処理する。得
られた収量は、5−フェニルテトラゾール9pbwである。
後反応を製造例1の記載と同様にして実施し;得られ
た生成物は、227℃の融点を有する。
た生成物は、227℃の融点を有する。
製造例 12 製造例1の工程(a)を塩化アンモニウム1当量を塩
化リチウムに代えるような方法で変える。混合物を16時
間還流下に加熱し、アンモニウムアジドを凝縮器中で結
晶させる。この混合物を製造例1の記載と同様にして後
処理する。得られた収量は、5−フェニルテトラゾール
5pbwである。
化リチウムに代えるような方法で変える。混合物を16時
間還流下に加熱し、アンモニウムアジドを凝縮器中で結
晶させる。この混合物を製造例1の記載と同様にして後
処理する。得られた収量は、5−フェニルテトラゾール
5pbwである。
次表には、製造されかつ試験された式Iの全部の化合
物が記載されている。
物が記載されている。
製造例に記載しなかった化合物は、次表2中に記載し
た波長で吸収ピークを有する(溶剤:CH2Cl2): 使用例 1 2.5g/m2の酸化物層を得るために電気化学的に粗面化
されかつ陽極酸化されたアルミニウム箔をポリビニルス
ルホン酸水溶液で前処理した。こうして得られた支持材
料を次の組成の溶液で塗布した: ブタノン中の、酸価190を有するスチレン、n−ヘキシ
ル−メタクリレートおよびメタクリル酸(10:60:30)の
三元重合体の濃度31%の溶液 91.2pbw、 ヘキサメチレンジイソシアネート1モルと、ヒドロキシ
エチルメタクリレート2モルとの反応生成物の濃度51.5
%の溶液 54.9pbw、 化合物No.4 2.8pbwおよび 2−メトキシ−エタノール 660pbw。
た波長で吸収ピークを有する(溶剤:CH2Cl2): 使用例 1 2.5g/m2の酸化物層を得るために電気化学的に粗面化
されかつ陽極酸化されたアルミニウム箔をポリビニルス
ルホン酸水溶液で前処理した。こうして得られた支持材
料を次の組成の溶液で塗布した: ブタノン中の、酸価190を有するスチレン、n−ヘキシ
ル−メタクリレートおよびメタクリル酸(10:60:30)の
三元重合体の濃度31%の溶液 91.2pbw、 ヘキサメチレンジイソシアネート1モルと、ヒドロキシ
エチルメタクリレート2モルとの反応生成物の濃度51.5
%の溶液 54.9pbw、 化合物No.4 2.8pbwおよび 2−メトキシ−エタノール 660pbw。
3.0g/m2の乾燥層重量を回転塗布および100℃で2分間
の乾燥によって得た。感光層をポリビニルアルコールの
被覆層で塗布した。
の乾燥によって得た。感光層をポリビニルアルコールの
被覆層で塗布した。
得られた印刷版を付加的な線およびスクリーン素子を
有する13段階の露光ウエッジの下で110cmの距離をもっ
て配置された5kWの金属ハロゲン化物灯の光に5秒間露
光した。露光後、この版を100℃で1分間加熱した。次
に、実施例により本発明を詳細に説明する。、この版を
次の組成の現像液で現像した: メタ珪酸ナトリウム×9H2O 60pbw、 塩化ストロンチウム×6H2O 1.06pbw、 非イオン性湿潤剤 0.6pbwおよび 脱イオン水 2000pbw。
有する13段階の露光ウエッジの下で110cmの距離をもっ
て配置された5kWの金属ハロゲン化物灯の光に5秒間露
光した。露光後、この版を100℃で1分間加熱した。次
に、実施例により本発明を詳細に説明する。、この版を
次の組成の現像液で現像した: メタ珪酸ナトリウム×9H2O 60pbw、 塩化ストロンチウム×6H2O 1.06pbw、 非イオン性湿潤剤 0.6pbwおよび 脱イオン水 2000pbw。
この版は、第4段階にまで架橋された。微細な線およ
びスクリーン素子は申し分ないものになった。シートオ
フセット印刷機上に締め付けた後、この版は供給したイ
ンキを直ちに受理し、かつ100000枚を越える印刷物の印
刷能力を生じた。
びスクリーン素子は申し分ないものになった。シートオ
フセット印刷機上に締め付けた後、この版は供給したイ
ンキを直ちに受理し、かつ100000枚を越える印刷物の印
刷能力を生じた。
使用例 2 下記の組成の塗布液を得、使用例1の記載と同様にし
て前処理されたアルミニウム箔に塗布し、2.8g/m2の乾
燥層重量を生じた: ブタノン中の濃度34.4%の溶液として添加した、酸価11
8を有するメチルメタクリレートとメタクリル酸(82:1
8)と共重合体 102.6pbw、 トリメチロールエタントリアクリレート 36pbw、 2,4−ジニトロ−6−クロロ−ベンゼンジアゾニウム塩
を2−メトキシ−5−アセチルアミノ−N−シアノエチ
ル−N−ヒドロキシエチル−アニリンとカップリングす
ることによって得られた青色のアゾ染料 0.7pbwおよび 2−メトキシエタノール 462pbw中 化合物No.7 1.56pbw。
て前処理されたアルミニウム箔に塗布し、2.8g/m2の乾
燥層重量を生じた: ブタノン中の濃度34.4%の溶液として添加した、酸価11
8を有するメチルメタクリレートとメタクリル酸(82:1
8)と共重合体 102.6pbw、 トリメチロールエタントリアクリレート 36pbw、 2,4−ジニトロ−6−クロロ−ベンゼンジアゾニウム塩
を2−メトキシ−5−アセチルアミノ−N−シアノエチ
ル−N−ヒドロキシエチル−アニリンとカップリングす
ることによって得られた青色のアゾ染料 0.7pbwおよび 2−メトキシエタノール 462pbw中 化合物No.7 1.56pbw。
感光層をポリビニルアルコールの被覆層で被覆し、使
用例1の記載と同様にして30秒間露光し、かつ付加的に
加熱処理することなしに使用例1に記載の現像液で現像
した。
用例1の記載と同様にして30秒間露光し、かつ付加的に
加熱処理することなしに使用例1に記載の現像液で現像
した。
高い解像力の版が得られ、この版は、シートオフセッ
ト印刷機を使用した場合に約200000枚の印刷物を生じ
た。
ト印刷機を使用した場合に約200000枚の印刷物を生じ
た。
使用例 3 使用例1の記載と同様にして次の組成を有する感光液
をアルミニウム箔上に塗布し3.0g/m2の乾燥層重量を生
じ、かつ被覆で被覆した: 酸価145を有しかつテトラヒドロフラン中の濃度12%の
溶液として得られた、ビニルブチラール単位71重量%、
ビニルアセテート単位2重量%およびビニルアルコール
単位27重量%を含有するポリビニルブチラールをプロペ
ニルスルホニルイソシネートと反応させることによって
得られた反応生成物 32.83pbw、 使用例2に記載の青色のアゾ染料 0.03pbw および 2−メトキシ−エタノール87.42pbw中の化合物No.160.3
7pbw。
をアルミニウム箔上に塗布し3.0g/m2の乾燥層重量を生
じ、かつ被覆で被覆した: 酸価145を有しかつテトラヒドロフラン中の濃度12%の
溶液として得られた、ビニルブチラール単位71重量%、
ビニルアセテート単位2重量%およびビニルアルコール
単位27重量%を含有するポリビニルブチラールをプロペ
ニルスルホニルイソシネートと反応させることによって
得られた反応生成物 32.83pbw、 使用例2に記載の青色のアゾ染料 0.03pbw および 2−メトキシ−エタノール87.42pbw中の化合物No.160.3
7pbw。
この版を使用例1の記載と同様にして露光しかつ現像
した。この場合には、完全に架橋された段階5が12秒の
露光時間で得られ;全てのスクリーンおよび線素子は申
し分のないものであった。印刷物160000枚の印刷能力が
得られた。
した。この場合には、完全に架橋された段階5が12秒の
露光時間で得られ;全てのスクリーンおよび線素子は申
し分のないものであった。印刷物160000枚の印刷能力が
得られた。
使用例 4 ブタノン 240pbwおよび 2−メトキシ−エタノール 30pbw中の 使用例1に記載の三元重合体 66pbw、 ポリプロピレングリコール−420−ジメタクリレート42p
bw、 使用例2に記載の染料 0.2pbw、 化合物No.26 2.5pbw の溶液を厚さ35μmの銅箔を有するフェンプラスト積層
クラッド上に回転塗布し、100℃での乾燥後に45μmの
層厚を生じた。この版を真空フレームから110cmの距離
をもって配置された5kWの金属ハロゲン化物灯に40秒間
露光した。使用したオリジナルは、0.15の濃度増加分を
有する13段階の露光ウェッジならびに80μmよりも小さ
い線幅および間隔を有する線オリジナルから成り立って
いた。
bw、 使用例2に記載の染料 0.2pbw、 化合物No.26 2.5pbw の溶液を厚さ35μmの銅箔を有するフェンプラスト積層
クラッド上に回転塗布し、100℃での乾燥後に45μmの
層厚を生じた。この版を真空フレームから110cmの距離
をもって配置された5kWの金属ハロゲン化物灯に40秒間
露光した。使用したオリジナルは、0.15の濃度増加分を
有する13段階の露光ウェッジならびに80μmよりも小さ
い線幅および間隔を有する線オリジナルから成り立って
いた。
露光後、層を吹付け現像装置中で濃度0.8%の炭酸ナ
トリウム溶液を用いて100秒間現像した。5つの完全に
架橋されたウェッジ段階が得られた。
トリウム溶液を用いて100秒間現像した。5つの完全に
架橋されたウェッジ段階が得られた。
次に、この版を水道水で30秒間洗浄し、濃度15%のア
ンモニウムペルオキシジスルフェート溶液中で30秒間腐
蝕し、濃度10%の硫酸中に30秒間浸漬し、次いで次の電
解浴中で連続的に電気分解した: 1)シュレッター(Schloetter),ガイリンゲン/シュ
タイゲ(Geilingen/Steige)から入手可能な銅電解浴中
で50分間 型:“光沢銅浴(Glanzkupfebad)PC" 電流密度:2.5A/dm2 金属の析出:約25μm 温度:室温 2)シュレッター(Schloetter),ガイリンゲン/シュ
タイゲ(Geilingen/Steige)から入手可能な鉛−錫浴LA
中で15分間 電流密度:2A/dm2 金属の析出:15μm 温度:室温 この版は、如何なるアンダーカッティングまたは損傷
を示さなかった。レジスト層の側壁のそれぞれの張出し
または傾斜は、140μmのレジスト幅に対して10μm未
満であった。
ンモニウムペルオキシジスルフェート溶液中で30秒間腐
蝕し、濃度10%の硫酸中に30秒間浸漬し、次いで次の電
解浴中で連続的に電気分解した: 1)シュレッター(Schloetter),ガイリンゲン/シュ
タイゲ(Geilingen/Steige)から入手可能な銅電解浴中
で50分間 型:“光沢銅浴(Glanzkupfebad)PC" 電流密度:2.5A/dm2 金属の析出:約25μm 温度:室温 2)シュレッター(Schloetter),ガイリンゲン/シュ
タイゲ(Geilingen/Steige)から入手可能な鉛−錫浴LA
中で15分間 電流密度:2A/dm2 金属の析出:15μm 温度:室温 この版は、如何なるアンダーカッティングまたは損傷
を示さなかった。レジスト層の側壁のそれぞれの張出し
または傾斜は、140μmのレジスト幅に対して10μm未
満であった。
レジストステンシルは、濃度5%のKOH溶液中で50℃
で除去することができ、さらに剥き出しの銅は常用の腐
触媒体中で腐触することができた。
で除去することができ、さらに剥き出しの銅は常用の腐
触媒体中で腐触することができた。
使用例 5 機械的に粗面化されたアルミニウム箔を 融点105〜120℃を有するクレゾール/ホルムアルデヒド
ノボラック 75pbw、 トエレチレングリコールおよび2−ブチルアルデヒドの
ポリアセタール 23.8pbw、 クリスタルバイオレット塩基 0.02pbw、ならびに 2−メトキシ−エタノール 24pbwおよび ブタノン 275pbw中の 化合物No.36 0.6pbw の溶液で回転塗布し、かつ乾燥した。この版を段階ウェ
ッジおよび微細な線およびスクリーン素子を有するオリ
ジナルを通して露光した。現像を メタ珪酸ナトリウム×9H2O 5.5pbw、 燐酸三ナトリウム×12H2O 3.4pbw、および 脱イオン水 90.7pbw中の 燐酸二水素ナトリウム 0.4pbw の溶液を用いて実施した。35秒の露光時間および10分後
の現像で4つの完全に現像されたウェッジ段階が得られ
た。試験素子は、10μmの範囲よりも少なかった。
ノボラック 75pbw、 トエレチレングリコールおよび2−ブチルアルデヒドの
ポリアセタール 23.8pbw、 クリスタルバイオレット塩基 0.02pbw、ならびに 2−メトキシ−エタノール 24pbwおよび ブタノン 275pbw中の 化合物No.36 0.6pbw の溶液で回転塗布し、かつ乾燥した。この版を段階ウェ
ッジおよび微細な線およびスクリーン素子を有するオリ
ジナルを通して露光した。現像を メタ珪酸ナトリウム×9H2O 5.5pbw、 燐酸三ナトリウム×12H2O 3.4pbw、および 脱イオン水 90.7pbw中の 燐酸二水素ナトリウム 0.4pbw の溶液を用いて実施した。35秒の露光時間および10分後
の現像で4つの完全に現像されたウェッジ段階が得られ
た。試験素子は、10μmの範囲よりも少なかった。
使用例 6 次の組成のポジ型ドライレジスト溶液を得た: 使用例5に記載のノボラック 21.2pbw、 2−エチル2−ブチル−1,3−プロパンジオールのビス
−(5−エチル−5−ブチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)エーテル 10pbw、 クリスタルバイオレット塩基 0.05pbw、 低粘度のポリエチルアクリレート 3.8pbwおよび ブタノン 65pbw中の 化合物No.42 0.25pbw。
−(5−エチル−5−ブチル−1,3−ジオキサン−2−
イル)エーテル 10pbw、 クリスタルバイオレット塩基 0.05pbw、 低粘度のポリエチルアクリレート 3.8pbwおよび ブタノン 65pbw中の 化合物No.42 0.25pbw。
トリクロロ酢酸/ポリビニルアルコール水溶液で前処
理された、二軸延伸された熱硬化性の厚さ25μmのポリ
エステルフィルムを前記溶液で塗布した。層重量は45g/
m2であった。この層を銅箔の両面に積層し、冷却後に支
持フィルムを剥離し、乾燥箱中で80℃で後焼付けし、被
覆した箔をポケットの形の適合した1対のオリジナルを
用いて両面で露光した。露光した層領域を使用例5に記
載の現像液を使用することにより吹付け現像で現像し
た。この版を市場で入手可能な塩化第二鉄溶液を用いて
版がきれいに腐触されるまで両面で腐触した。レジスト
ステンシルを濃度4%のKOH溶液で除去し、かつ触刻さ
れた成分を得、この場合この成分は、オリジナルの完全
な再現を生じた。
理された、二軸延伸された熱硬化性の厚さ25μmのポリ
エステルフィルムを前記溶液で塗布した。層重量は45g/
m2であった。この層を銅箔の両面に積層し、冷却後に支
持フィルムを剥離し、乾燥箱中で80℃で後焼付けし、被
覆した箔をポケットの形の適合した1対のオリジナルを
用いて両面で露光した。露光した層領域を使用例5に記
載の現像液を使用することにより吹付け現像で現像し
た。この版を市場で入手可能な塩化第二鉄溶液を用いて
版がきれいに腐触されるまで両面で腐触した。レジスト
ステンシルを濃度4%のKOH溶液で除去し、かつ触刻さ
れた成分を得、この場合この成分は、オリジナルの完全
な再現を生じた。
使用例 7 使用例1の記載により、5つの感光性印刷版を得、か
つ未露光状態で空気循環炉中で100℃で1時間、2時
間、3時間および4時間加熱した。それぞれの加熱時間
の終結時に、版を炉から取出し、冷却し、15秒間露光
し、かつ使用例1の記載と同様にして後処理した。比較
のために、加熱しなかった版を露光し、かつ同様にして
処理した。
つ未露光状態で空気循環炉中で100℃で1時間、2時
間、3時間および4時間加熱した。それぞれの加熱時間
の終結時に、版を炉から取出し、冷却し、15秒間露光
し、かつ使用例1の記載と同様にして後処理した。比較
のために、加熱しなかった版を露光し、かつ同様にして
処理した。
それぞれ1時間、2時間および3時間加熱した版は、
比較試料と実際に異ならず、4時間加熱した版は、連続
階調段階ウェッジの1つの付加的な架橋段階を示した。
比較試料と実際に異ならず、4時間加熱した版は、連続
階調段階ウェッジの1つの付加的な架橋段階を示した。
この例は、本発明による組成物の熱安定性が著しく良
好であることを示す。
好であることを示す。
使用例 8 使用例1の記載と同様にして塗布されたアルミニウム
箔を未露光状態で熱い箱中で56℃の温度でそれぞれ2週
間、6週間および3週間保持した。版を熱い箱から取出
した後、この版を使用例1の記載と同様にして後処理し
た。熱い箱中で3ヵ月間の貯蔵後であっても、露光しか
つ現像した版ならびにこれから得られた印刷物は、使用
例1のオリジナル版と何ら重大な差を示さなかった。
箔を未露光状態で熱い箱中で56℃の温度でそれぞれ2週
間、6週間および3週間保持した。版を熱い箱から取出
した後、この版を使用例1の記載と同様にして後処理し
た。熱い箱中で3ヵ月間の貯蔵後であっても、露光しか
つ現像した版ならびにこれから得られた印刷物は、使用
例1のオリジナル版と何ら重大な差を示さなかった。
こうして得られた版は、高められた温度で卓越した貯
蔵安定性を有する。
蔵安定性を有する。
使用例 9 使用例1の記載と同様にして塗布されたアルミニウム
箔を未露光状態でキャビネット中に熱帯条件下で温度42
℃および相対湿度60%でそれぞれ2週間、6週間および
13週間保持した。版をキャビネットから取出した後、こ
の版を使用例1の記載と同様にして後処理した。
箔を未露光状態でキャビネット中に熱帯条件下で温度42
℃および相対湿度60%でそれぞれ2週間、6週間および
13週間保持した。版をキャビネットから取出した後、こ
の版を使用例1の記載と同様にして後処理した。
熱帯条件下で3ヵ月間の貯蔵後であっても、露光しか
つ現像した版ならびにこれから得られた印刷物は、使用
例1のオリジナル版と何ら重大な差を示さなかった。
つ現像した版ならびにこれから得られた印刷物は、使用
例1のオリジナル版と何ら重大な差を示さなかった。
こうして得られた版は、熱帯条件下で卓越した貯蔵安
定性を有する。
定性を有する。
使用例 10および比較例 11 機械的に粗面化したアルミニウム箔を 使用例5に記載のノボラック 75pbw、 トリエチレングリコールおよび2−ブチルアルデヒドの
ポリアセタール 23.8pbw、 クリスタルバイオレット塩基 0.02pbwおよび 2−メトキシ−エタノール 24pbwおよび ブタノン 275pbw中の 化合物No.29 0.6pbw の溶液で回転塗布し、かつ乾燥した。
ポリアセタール 23.8pbw、 クリスタルバイオレット塩基 0.02pbwおよび 2−メトキシ−エタノール 24pbwおよび ブタノン 275pbw中の 化合物No.29 0.6pbw の溶液で回転塗布し、かつ乾燥した。
比較のために前記処方の化合物No.29を等量の化合物
2−トリクロロメチル−5−(4−メトキシフェニルエ
テニル)−1,3,4−オキサジアゾール(西ドイツ国特許
出願公開第2851471号明細書化合物No.7)によって代
え、版を得られた溶液を製造し、この版はその他の点で
は同一であった。双方の場合、2.2g/m2の乾燥層重量が
得られた。
2−トリクロロメチル−5−(4−メトキシフェニルエ
テニル)−1,3,4−オキサジアゾール(西ドイツ国特許
出願公開第2851471号明細書化合物No.7)によって代
え、版を得られた溶液を製造し、この版はその他の点で
は同一であった。双方の場合、2.2g/m2の乾燥層重量が
得られた。
これらの版を段階ウェッジおよび微細な線およびスク
リーン素子を有するオリジナを通して露光した。現像を メタ珪酸ナトリウム×9H2O 5.5pbw、 燐酸三ナトリウム×12H2O 3.4pbw、および 脱イオン水 90.7pbw中の 燐酸二水素ナトリウム 0.4pbw の溶液を用いて実施した。35秒の露光時間および10分後
の現像で約4〜5つの完全に現像されたウェッジ段階が
化合物No.29を用いて得られた。試験素子は、10μmの
範囲よりも少なかった。比較化合物を使用した場合、2
〜3つの完全に現像されたウェッジ段階が得られ、試験
素子の分解能は、約15〜20μmよりも少ない程度に生じ
た。
リーン素子を有するオリジナを通して露光した。現像を メタ珪酸ナトリウム×9H2O 5.5pbw、 燐酸三ナトリウム×12H2O 3.4pbw、および 脱イオン水 90.7pbw中の 燐酸二水素ナトリウム 0.4pbw の溶液を用いて実施した。35秒の露光時間および10分後
の現像で約4〜5つの完全に現像されたウェッジ段階が
化合物No.29を用いて得られた。試験素子は、10μmの
範囲よりも少なかった。比較化合物を使用した場合、2
〜3つの完全に現像されたウェッジ段階が得られ、試験
素子の分解能は、約15〜20μmよりも少ない程度に生じ
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07D 413/10 WPIL(Derwent)
Claims (14)
- 【請求項1】一般式(I): [式中、 R1は置換されていないかまたは1〜10個の炭素原子を有
する1〜3個のアルキル基もしくはアルコキシ基、1〜
6個の炭素原子を有するペルハロアルキル基、ニトロ
基、シアノ基、カルボキシル基、カルボニル基、ジフェ
ニルアミノ基またはフェニル基によって置換されている
フェニル基またはナフチル基または単環式もしくは三環
式芳香族N−ヘテロイル基を表わし、 R2およびR3は互いに異なり、かつ水素原子を表わすか、
または4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン
−2−イル基を表わし、 nおよびmは互いに独立に0および1の数の1つを表わ
す]で示される化合物。 - 【請求項2】R1は置換されていないかまたは請求項1記
載の基の1個によって置換されているフェニル基であ
る、請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】R2が水素原子である、請求項1記載の化合
物。 - 【請求項4】少なくとも1個の4,6−ビス−トリクロロ
メチル−s−トリアジン−2−イル置換基を有する感光
性有機化合物(a)と、化合物(a)の光反応生成物と
反応させることができる化合物(b)とからなり、この
場合現像液中での光吸収、粘性または溶解度が(b)の
場合と異なる生成物を形成させる感光性組成物におい
て、化合物(a)が請求項1記載の式Iの化合物である
ことを特徴とする、感光性組成物。 - 【請求項5】化合物(b)はフリーラジカルによって開
始される重合を行なうことができるエチレン性不飽和化
合物である、請求項4記載の感光性組成物。 - 【請求項6】化合物(b)が酸によって分解することが
できる少なくとも1個のC−O−C結合を有する、請求
項4記載の感光性組成物。 - 【請求項7】化合物(b)が酸によって陽イオン重合を
誘導させることができるものである、請求項4記載の感
光性組成物。 - 【請求項8】化合物(b)が酸によって架橋されうるも
のである、請求項4記載の感光性組成物。 - 【請求項9】化合物(b)は色相が酸の作用下で変わ
る、請求項4記載の感光性組成物。 - 【請求項10】式Iの化合物を非揮発性成分に対して0.
1〜15重量%の量で含有する、請求項4記載の感光性組
成物。 - 【請求項11】付加的に水不溶性高分子量結合剤を含有
する、請求項4記載の感光性組成物。 - 【請求項12】結合剤がアルカリ水溶液に可溶である、
請求項11記載の感光性組成物。 - 【請求項13】請求項1記載の式Iの化合物を製造する
方法において、式II: [式中、R1およびnは請求項1記載のものを表わす]で
示される化合物を、 式III: [式中、Xはハロゲン原子であり、R2、R3およびmはそ
れぞれ請求項1記載のものを表わす]で示されるカルボ
ン酸ハロゲン化物と反応させることを特徴とする、式I
の化合物の製造法。 - 【請求項14】反応を反応媒体としての複素環式塩基中
で50〜150℃の温度で実施する、請求項13記載の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3807380A DE3807380A1 (de) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende oxadiazolverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
DE3807380.3 | 1988-03-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH024787A JPH024787A (ja) | 1990-01-09 |
JP2856755B2 true JP2856755B2 (ja) | 1999-02-10 |
Family
ID=6349032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1053078A Expired - Fee Related JP2856755B2 (ja) | 1988-03-07 | 1989-03-07 | オキサジアゾール化合物、感光性組成物および該化合物の製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0332043B1 (ja) |
JP (1) | JP2856755B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
JPH0446344A (ja) * | 1990-06-14 | 1992-02-17 | Mitsubishi Kasei Corp | ネガ型感光性組成物 |
US5631307A (en) | 1994-06-28 | 1997-05-20 | Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Photopolymerization initiator composition and photopolymerizable composition |
DE69506970T2 (de) * | 1994-09-06 | 1999-06-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | Lichtempfindliche Bis(halogenmethyloxadiazol)-Verbindung und lichtempfindliches Übertragungsblatt, das diese Verbindung verwendet |
JP3858278B2 (ja) * | 1994-12-27 | 2006-12-13 | チッソ株式会社 | 電界発光素子 |
US7294447B2 (en) | 2001-09-24 | 2007-11-13 | Agfa Graphics Nv | Positive-working lithographic printing plate precursor |
CN114957934A (zh) * | 2022-06-27 | 2022-08-30 | 扬州君禾薄膜科技有限公司 | 一种抗菌抗静电聚酯切片及其制备方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4040922A (en) * | 1975-10-06 | 1977-08-09 | Eastman Kodak Company | Photopolymerizable polymeric compositions containing halogen containing heterocyclic compound |
US4189323A (en) * | 1977-04-25 | 1980-02-19 | Hoechst Aktiengesellschaft | Radiation-sensitive copying composition |
US4212970A (en) * | 1977-11-28 | 1980-07-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 2-Halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds |
DE3337024A1 (de) * | 1983-10-12 | 1985-04-25 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch |
-
1988
- 1988-03-07 DE DE3807380A patent/DE3807380A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-03-02 DE DE58907663T patent/DE58907663D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-03-02 EP EP89103608A patent/EP0332043B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-07 JP JP1053078A patent/JP2856755B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
EP0332043A1 (de) | 1989-09-13 |
EP0332043B1 (de) | 1994-05-18 |
DE3807380A1 (de) | 1989-09-21 |
DE58907663D1 (de) | 1994-06-23 |
JPH024787A (ja) | 1990-01-09 |
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