JP2853881B2 - Plastic film profile control method - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、押出成形機によって成形するプラスチッ
クフィルムもしくはシートの成形プロセスにおいて、最
も重要な品質管理が要求される平均厚さに対するプロフ
ァイル制御方法に関する。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a profile control method for an average thickness for which the most important quality control is required in a molding process of a plastic film or sheet molded by an extruder. .
一般に、この種のプラスチックフィルムにおける厚さ
制御として、プラスチックフィルムの送出方向(Machin
e Direction)に対する厚さ制御(MD制御という)と、
プラスチックフィルムの幅方向(Cross Direction)に
対する厚さ制御(CDプロファイル制御という)とが知ら
れている。そして、これらMD制御とCDプロファイル制御
は、いずれも走査式厚さ計を使用して同時に行われる。In general, the thickness control of this type of plastic film includes the direction of feeding of the plastic film (Machin
e Direction) thickness control (called MD control)
A thickness control (referred to as CD profile control) in a width direction (Cross Direction) of a plastic film is known. Both the MD control and the CD profile control are performed simultaneously using a scanning thickness gauge.
しかるに、前記プラスチックフィルムの厚さ分布の均
一化を目的とするプロファイル制御は走査式厚さ計によ
って測定される生データ(原波形)に基づいて行われ
る。この場合、制御対象は殆どTダイ(ダイボルト、チ
ョークバー)に限定されている。However, profile control for the purpose of equalizing the thickness distribution of the plastic film is performed based on raw data (original waveform) measured by a scanning thickness gauge. In this case, the control target is almost limited to a T-die (die bolt, choke bar).
従来より、プラスチックフィルムの幅方向の厚さむら
を調整し得るよう構成したTダイとして、ダイの間隙調
整を可動リップにより行うよう構成したものが知られて
いる。この種の可動リップ方式によるTダイは、固定リ
ップと可動リップとを対向させて、これらのリップによ
って形成される間隙によって押出成形されるプラスチッ
クフィルムの厚さが規定され、前記可動リップには幅方
向に複数個のダイボルトが設けられ、これらのダイボル
トをそれぞれ移動させることにより、リップ間隙を調整
するよう構成される。2. Description of the Related Art Conventionally, as a T-die configured to be able to adjust thickness unevenness in a width direction of a plastic film, a T-die configured to adjust a gap of the die by a movable lip is known. In this type of movable lip type T-die, a fixed lip and a movable lip are opposed to each other, and a gap formed by the lips defines a thickness of a plastic film to be extruded. A plurality of die bolts are provided in the direction, and the lip gap is adjusted by moving the die bolts.
このような構成によるプロファイル制御およびダイボ
ルト調整に際し、走査式厚さ計により測定される複雑な
プロファイル波形は、各種空間波長(以下、単に波長と
称する)の正弦波成分が複合されたもの(フーリエ級数
で波形解析される)と考えられる。In profile control and die bolt adjustment with such a configuration, a complex profile waveform measured by a scanning thickness gauge is a composite of sinusoidal components of various spatial wavelengths (hereinafter simply referred to as wavelengths) (Fourier series). It is considered that the waveform is analyzed).
このうち、ある限度以下の細かな波長成分(波形の凹
凸の波長)は、ダイボルト操作では修正不可能である。
例えば、ナイロン、PP、PETおよびPVAフィルム等のプロ
ファイル波形は、細かな凹凸が目立ち、このような原波
形に基づいてダイボルトの操作量を決めると、ノイズ成
分を対象とした修正動作が行われ易くなり、これらの成
分をダイボルトで調整することは不可能であるばかり
か、むしろ逆効果である場合が多い。特に、各ダイボル
トへ熱量をステップ状に供給して制御する熱変位式自動
ダイの場合には、温度が過剰に高くあるいは低くなり、
調整不能となる。Of these, fine wavelength components below a certain limit (wavelength of unevenness of waveform) cannot be corrected by die bolt operation.
For example, profile waveforms such as nylon, PP, PET, and PVA films have conspicuous fine irregularities, and when the operation amount of the die bolt is determined based on such an original waveform, a correction operation targeting a noise component is easily performed. In addition, it is not only impossible to adjust these components by die bolting, but it is rather counterproductive in many cases. In particular, in the case of a thermal displacement type automatic die that controls the amount of heat supplied to each die bolt stepwise, the temperature becomes excessively high or low,
Adjustment becomes impossible.
従って、走査式厚さ計により測定されたプロファイル
波形は、そのままではプロファイルの調整用データとし
ては不適正である。Therefore, the profile waveform measured by the scanning thickness gauge is inappropriate as profile adjustment data as it is.
また、このようなプロファイル制御では、ダイボルト
の調整以外の要因によって生じる欠陥、例えばダイライ
ン,しわ,ノイズ等の監視や診断が困難である。Further, in such profile control, it is difficult to monitor and diagnose defects, such as die lines, wrinkles, and noises, caused by factors other than die bolt adjustment.
このような観点から、Tダイのリップ部とダイボルト
の間隔位置およびプロファイル波形の波長成分について
の関係について検討すれば次の通りである。From such a viewpoint, the relationship between the interval between the lip portion of the T-die and the die bolt and the wavelength component of the profile waveform is examined as follows.
すなわち、リップ部材は剛性の高い弾性体で構成さ
れ、ダイボルトによるその変形パターンは力学の法則に
よって支配される連続性があり、限度以上に細かい湾曲
は不可能である。That is, the lip member is formed of an elastic body having high rigidity, and its deformation pattern due to the die bolt has continuity governed by the laws of dynamics, and it is impossible to curve more finely than the limit.
そこで、リップの変形パターンの理論最小ピッチPmin
とダイボルト間隔aとの関係は、第4図に示す通りであ
り、特に特殊形状を有するフレキシブルリップ(リップ
上に凹凸を有する)の場合には完全に次式が成立する。Therefore, the theoretical minimum pitch P min of the lip deformation pattern
The relationship between the distance and the die bolt distance a is as shown in FIG. 4. In the case of a flexible lip having a special shape (having irregularities on the lip), the following expression is completely satisfied.
Pmin=2a …(1) なお、標準的なフレキシブルリップの場合、実質的に
この変形パターンの最小ピッチPminは、 Pmin=150〜200mm である。P min = 2a (1) In the case of a standard flexible lip, the minimum pitch P min of this deformation pattern is substantially P min = 150 to 200 mm.
式(1)のような関係であるから前記ダイボルト間隔
aが小さい程、プロファイル波形の細かい凹凸成分の改
善が可能である。このため、ダイボルト間隔を狭めるこ
とは、プロファイル波形中に振幅の大きな小波長の凹凸
成分が含まれている場合、その効果は極めて大きい。Since the relationship is as shown in the equation (1), the smaller the die bolt interval a is, the more the fine unevenness component of the profile waveform can be improved. For this reason, the effect of reducing the die bolt interval is extremely large when the profile waveform includes a small-wavelength unevenness component having a large amplitude.
しかるに、一般に、プロファイル波形に含まれる凹凸
成分のうち、修正したい最小波長をλminとした時、所
要ダイボルト間隔aは、一般にほぼP=λと見なせるた
め、前記式(1)より次式の関係が成立する。However, in general, when the minimum wavelength to be corrected among the uneven components included in the profile waveform is λ min , the required die bolt interval a can be generally regarded as substantially P = λ. Holds.
a≦λmin/2 …(2) この関係式は、正にディジタル計測におけるサンプリ
ング定理と対応している。a ≦ λ min / 2 (2) This relational expression exactly corresponds to the sampling theorem in digital measurement.
さて、前述したように走査式厚さ計により測定された
プロファイル波形そのままでは、ノイズ的成分である凹
凸成分のためにプロファイルの調整用データとして用い
るには不適正である。このため、β線などで古くから用
いられてきたアナログ式ローパスフィルタ法によって細
かな凹凸成分、すなわち高周波成分を取除いて平滑化す
る方法や、或いは非常に変化の激しいデータを大局的に
観察するときによく行われるデジタル式単純移動平均法
を用いて平滑化する方法等が採られている。As described above, the profile waveform measured by the scanning thickness gauge as it is is inappropriate for use as profile adjustment data because of the unevenness component that is a noise component. For this reason, a method of removing fine unevenness components, that is, high-frequency components, by using an analog low-pass filter method that has been used for a long time with β-rays or the like, and smoothing the data, or observing very drastically changing data globally. A smoothing method using a digital simple moving average method that is often performed is adopted.
しかしながら、前述したアナログ式ローパスフィルタ
法による平滑化方法は、一次信号を抵抗とコンデンサに
よって構成するRC一次遅れフィルタ等を通して平滑化す
るものであるため、位相ずれが生じてプラスチックフィ
ルム(以下、単にフィルムという)のプロファイルの実
態を掴めないという難点を有している。However, the smoothing method using the analog low-pass filter method described above smoothes the primary signal through an RC primary delay filter or the like constituted by a resistor and a capacitor. Has the drawback of not being able to grasp the actual state of the profile.
また、デジタル式単純移動平均法(非対称型と対称型
とがあるが、ここでは対称型を扱う)によれば、単純移
動平均演算を行うフィルタのバンド巾をBとするとき、
フィルムプロファイルに含まれる波長成分のうち、 波長λ=(0.5〜1)B の成分の凹凸が逆転するという実状にそぐわない点があ
り、制御上大変都合が悪い。さらに、単純移動平均演算
を行うためのフィルタのバンド巾に対し、最適バンド巾
を選択するための拠り所がないという問題点がある。According to the digital simple moving average method (asymmetric type and symmetric type, but the symmetric type is used here), when the bandwidth of a filter for performing the simple moving average calculation is B,
Among the wavelength components included in the film profile, there is a point that the irregularity of the component of the wavelength λ = (0.5 to 1) B is inconsistent with the actual situation, which is very inconvenient in control. Further, there is a problem that there is no base for selecting the optimum bandwidth with respect to the bandwidth of the filter for performing the simple moving average calculation.
そこで、本発明に目的は、押出成形機によって連続成
形されるプラスチックフィルム等のプロファイル制御方
法において、走査式厚さ計により測定されたプロファイ
ルデータに対し最適バンド巾を選択して、プロファイル
制御が不可能な短波長成分は凹凸の逆転を伴わず減衰・
消滅すると共に、制御可能な中・長波長成分の減衰は最
小となる最適なデータ加工をする平滑化処理を行い、こ
れにより決定された自動ダイの操作量に基づくプラスチ
ックフィルムのプロファイル制御方法を提供するにあ
る。Therefore, an object of the present invention is to provide a method for controlling a profile of a plastic film or the like which is continuously molded by an extruder, by selecting an optimum bandwidth with respect to profile data measured by a scanning thickness gauge, thereby making profile control impossible. Possible short wavelength components are attenuated without inversion of unevenness.
Provides a smoothing process that performs optimal data processing that minimizes controllable attenuation of medium- and long-wavelength components that disappears, and provides a plastic film profile control method based on the determined automatic die operation amount. To be.
本発明に係るプラスチックフィルムのプロファイル制
御方法は、押出成形されるプラスチックフィルム等に対
し走査式厚さ計によりプロファイルの計測を行い、得ら
れたプロファイルデータに基づいて自動ダイを操作し所
要の厚さのフィルムを成形するプラスチックフィルムの
プロファイル制御方法において、 前記プロファイルデータ内に含まれ、かつ、自動ダイ
によって調整不可能な細かな凹凸成分データをカットオ
フするための平滑化処理を行うに際し、前記プロファイ
ルデータに対して異なる平均化帯域巾を用いて少くとも
2回対称型の移動平均演算処理を行い、その平均値によ
って自動ダイの操作量を決定することを特徴とする。The profile control method for a plastic film according to the present invention measures the profile of a plastic film or the like to be extruded by a scanning thickness gauge, and operates an automatic die based on the obtained profile data to obtain a required thickness. In the method of controlling the profile of a plastic film for forming a film, the profile data is included in the profile data, and when performing a smoothing process for cutting off fine unevenness component data that cannot be adjusted by an automatic die, the profile At least two times symmetrical moving average calculation processing is performed on the data using different averaging bandwidths, and the operation amount of the automatic die is determined based on the average value.
また、前記異なる平均化帯域巾を用いる移動平均演算
処理の少なくとも2回の平均化帯域巾は、2回目の平均
化帯域巾を最初の平均化帯域巾の1/1.5〜1/2とすれば好
適である。In addition, at least two averaging bandwidths of the moving average calculation processing using the different averaging bandwidths can be performed by setting the second averaging bandwidth to 1 / 1.5 to 1/2 of the first averaging bandwidth. It is suitable.
本発明に係るプラスチックフィルムのプロファイル制
御方法によれば、操作式厚さ計により測定されたプロフ
ァイルデータ内のプロファイル制御が不可能な短波長成
分をカットする平滑化処理を行うに際し、アナログ式ロ
ーパスフィルタ法を用いないため位相ずれによる欠点が
生じることはなく、少なくとも2回は異なる平均化帯域
巾を用いて移動平均を行う新たな多重移動平均法を採用
したため単純移動平均法による凹凸成分の逆転を大巾に
改善することができる。さらに、凹凸の逆転を伴わず減
衰・消滅するよう最適バンド巾を選択することができる
と共に、制御可能な中・長波長成分の減衰を最小とする
最適なデータ加工により決定された操作量に基づく制御
方法であるため、最良の品質を有する所要厚さのフィル
ムを成形することができる。According to the method for controlling the profile of a plastic film according to the present invention, an analog low-pass filter is used for performing a smoothing process for cutting short wavelength components in which profile control is impossible in profile data measured by an operation-type thickness gauge. Since the method does not use the method, there is no drawback due to the phase shift. A new multiple moving average method that performs moving average using at least two different averaging bandwidths is adopted. Can be greatly improved. Furthermore, the optimum bandwidth can be selected so as to attenuate / disappear without the reversal of the unevenness, and based on the operation amount determined by the optimal data processing that minimizes the attenuation of the controllable middle and long wavelength components. Because of the control method, it is possible to form a film of the required thickness with the best quality.
次に、本発明に係るプラスチックフィルムのプロファ
イル制御方法の実施例につき、添付図面を参照しながら
以下詳細に説明する。Next, an embodiment of a method for controlling a profile of a plastic film according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第1図は、本発明のプラスチックフィルムのプロファ
イル制御方法を押出成形機の成形プロセス制御システム
に適用した一実施例を示すシステム構成図である。FIG. 1 is a system configuration diagram showing an embodiment in which the plastic film profile control method of the present invention is applied to a molding process control system of an extruder.
すなわち、第1図はプラスチックフィルムを成形する
プロセスであって、参照符号10は押出機、12はフィルム
成形用Tダイ、14は成形ロールユニット、16は走査式厚
さ計、18は巻取機をそれぞれ示す。前記走査式厚さ計16
による測定信号は入力インタフェース20を介してCPU22
にプロファイル波形として入力される。CPU22には、記
憶手段としてのメモリ24および入出力手段としてのCRT
ディスプレイ26、キーボード28、プリンタ30が接続配置
される。FIG. 1 shows a process for forming a plastic film. Reference numeral 10 denotes an extruder, 12 denotes a film forming T-die, 14 denotes a forming roll unit, 16 denotes a scanning thickness gauge, and 18 denotes a winding machine. Are respectively shown. The scanning thickness gauge 16
Measurement signal from the CPU 22 via the input interface 20
Is input as a profile waveform. The CPU 22 has a memory 24 as storage means and a CRT as input / output means.
A display 26, a keyboard 28, and a printer 30 are connected and arranged.
そして、前記CPU22において前記プロファイル制御信
号は、パワーユニット32を介してTダイ12に対しダイボ
ルトの操作信号としてフィードバックされる。Then, in the CPU 22, the profile control signal is fed back to the T-die 12 via the power unit 32 as a die bolt operation signal.
次に、前記構成からなる成形プロセスにおけるシステ
ムの本発明に係る制御方法による処理操作について、第
2図に示すフローチャートを参照しながら説明する。Next, the processing operation of the system according to the present invention in the molding process having the above configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.
まず、走査式厚さ計16によって、成形ロールユニット
14より連続的に送出されるフィルムのプロファイルデー
タを測定し、この測定信号を入力インタフェース20を介
してCPU22に入力し、メモリ24に記憶させる。First, the forming roll unit is scanned by the scanning thickness gauge 16.
The profile data of the film continuously transmitted from 14 is measured, and the measurement signal is input to the CPU 22 via the input interface 20 and stored in the memory 24.
このようにして、所要のプロファイルデータのサンプ
リングが達成された時点で、CPU22における演算機能に
よって次の各データ処理を行う。As described above, when the sampling of the required profile data is achieved, the following data processing is performed by the arithmetic function of the CPU 22.
(1) プロファイル波形(原波形)の作成 (2) 原波形の小波長凹凸成分をカットオフして平滑
化処理を行ったプロファイル波形の作成 (3) カットオフしたデータの保持 (4) 平滑化処理を行ったプロファイル波形に基づく
Tダイのボルト調整量の算出 このようにして、CPU22において演算処理された各デ
ータは、前記(1)〜(3)項につきCRTディスプレイ2
6に表示したり、プリンタ30に出力することができる。
第3図は原波形データと平滑化処理を行ったプロファイ
ル波形データとの表示例を示すものである。勿論、カッ
トオフしたデータの表示も可能である。(1) Creation of a profile waveform (original waveform) (2) Creation of a profile waveform in which the small-wavelength unevenness component of the original waveform is cut off and smoothed (3) Retention of the cut-off data (4) Smoothing Calculation of T-Die Bolt Adjustment Amount Based on Processed Profile Waveform In this manner, each data calculated by CPU 22 is used for CRT display 2 according to the above items (1) to (3).
6 or output to the printer 30.
FIG. 3 shows a display example of the original waveform data and the profile waveform data subjected to the smoothing process. Of course, it is also possible to display cut-off data.
また、前記(4)項に関するデータは、ダイボルト制
御信号としてパワーユニット32へ転送し、Tダイ12のダ
イボルト位置調整を行う。The data relating to the above item (4) is transferred to the power unit 32 as a die bolt control signal, and the die bolt position of the T die 12 is adjusted.
以上の処理操作を所定のタイミングで反復し、本発明
システムの円滑な運転を達成することができる。The above processing operation is repeated at a predetermined timing, whereby a smooth operation of the system of the present invention can be achieved.
ここで、前記(2)項の本発明に係る平滑化処理につ
き、従来の単純移動平均法と比較しながら更に詳細に説
明する。第3図から明らかなように、原波形には細かな
凹凸のノイズ的成分が含まれているため、この原波形か
ら制御用として最適なデータだけを抽出する平滑化処理
を行う必要がある。Here, the smoothing processing according to the present invention in the above item (2) will be described in further detail in comparison with the conventional simple moving average method. As is apparent from FIG. 3, since the original waveform contains noise-like components having fine irregularities, it is necessary to perform a smoothing process for extracting only optimum data for control from the original waveform.
以下、分かり易くするために、プロファイルのモデル
成分を正弦波として表し、連続関数y(x)について解
析する。Hereinafter, for simplicity, the model component of the profile is represented as a sine wave, and the continuous function y (x) is analyzed.
y(x)=αsin2π(x/λ) …(3) ここで、λは波長、αは波高(P−Pの1/2)であ
り、以上の説明ではα=1とする。そこで、従来の単純
移動平均法によれば、位置xの単純移動平均(x)
は、次式で表される(対称型)。y (x) = αsin2π (x / λ) (3) Here, λ is a wavelength, α is a wave height (1/2 of PP), and α = 1 in the above description. Therefore, according to the conventional simple moving average method, the simple moving average of the position x (x)
Is represented by the following equation (symmetric type).
ここで、Bはフィルタのバンド巾である。 Where B is the bandwidth of the filter.
(4)式を定積分してまとめれば、 となる。従って、波高の減衰比Aは、 と表される。(4) If the equation is definitely integrated and summarized, Becomes Therefore, the wave height attenuation ratio A is It is expressed as
(6)式をB/λに対してプロットすると、第6図に示
す通りである。すなわち、単純に移動平均をとるだけで
は、第6図のCで示すように、1≦(B/λ)≦2の範囲
において減衰比Aが負、つまり、位相が180゜ずれて凹
凸が逆転する現象が発生する。この現象は3≦(B/λ)
≦4の範囲でも同様であるが、実用上は無視できるた
め、以下では範囲Cについて検討している。When the equation (6) is plotted against B / λ, it is as shown in FIG. That is, simply taking a moving average simply results in a negative attenuation ratio A in the range of 1 ≦ (B / λ) ≦ 2 as shown by C in FIG. 6, that is, the phase is shifted by 180 ° and the irregularities are reversed. Phenomenon occurs. This phenomenon is 3 ≦ (B / λ)
The same applies to the range of ≦ 4, but since it can be ignored in practical use, the range C will be discussed below.
このように、従来の単純移動平均法で凹凸の逆転現象
が生じるのは、フィルタ特性が理想的でないためであ
り、波長λに対するバンド巾Bの最適な選択を行うこと
により改善を図る必要がある。従って、最適バンド巾B
を次のような考え方に基づいて第6図に示すフィルタ特
性から決定する。As described above, the inversion phenomenon of the concavities and convexities occurs in the conventional simple moving average method because the filter characteristics are not ideal, and it is necessary to improve by performing the optimal selection of the bandwidth B with respect to the wavelength λ. . Therefore, the optimum bandwidth B
Is determined from the filter characteristics shown in FIG. 6 based on the following concept.
測定データの波長成分のうち、 制御したくともリップを屈曲操作できなければ余分
な成分と見なし、 可制御成分の減衰比Aは0.5以上にする、 ということである。Of the wavelength components of the measurement data, if the lip cannot be bent even if it is desired to control it, it is regarded as an extra component and the attenuation ratio A of the controllable component is set to 0.5 or more.
上記に関しては、前述したように標準的なフレキシ
ブルリップの場合、実質的に変形可能なパターンの最小
ピッチPminが150〜200mmであるから、ここでは仮に限界
波長λcを200mmとする。With regard to the above, for a typical flexible lip as described above, the minimum pitch P min of substantially deformable pattern because it is 150 to 200 mm, here assumed to limit the wavelength lambda c and 200 mm.
また、に関しては、第6図から減衰比Aが0.5のと
きのB/λが0.6であることより、バンド巾BはB=0.6×
λC=120mmが得られる。実際には、限界波長λCはダ
イの形状等によって多少異なるため、システム上は可変
パラメータ扱いが望ましいが、ここでは説明の便宜上、
以後基本のバンド巾として120mmを用いる。As for B / λ when the damping ratio A is 0.5 from FIG. 6, the bandwidth B is B = 0.6 ×
λ C = 120 mm is obtained. Actually, since the limit wavelength λ C is slightly different depending on the shape of the die and the like, it is desirable to treat variable parameters on the system. However, here, for convenience of explanation,
Hereinafter, 120 mm is used as the basic band width.
前記の単純移動平均法による波高の減衰比Aに関し、
バンド巾Bを120mmと固定して波長λに対してプロット
すると、第7図に(a)で示す特性曲線が得られる。こ
の場合、λ=60〜120mmの波長成分の凹凸が逆転する
(第6図のCで示す範囲)。この凹凸が逆転する範囲
で、極小値が生じる波長λ1を求める。(6)式で π(B/λ)=X と置いて、 (∂A/∂X)=0 から、次式が導かれる。Regarding the attenuation ratio A of the wave height by the simple moving average method,
When the bandwidth B is fixed to 120 mm and plotted against the wavelength λ, the characteristic curve shown in FIG. 7A is obtained. In this case, the unevenness of the wavelength component of λ = 60 to 120 mm is reversed (the range indicated by C in FIG. 6). The wavelength λ 1 at which the minimum value occurs is determined in a range where the unevenness is reversed. In equation (6), π (B / λ) = X and the following equation is derived from (∂A / 式 X) = 0.
X−tanX=0 …(7) この数値解を求めると、X=4.49となり、従って、 B/λ1=1.43 …(8) が得られる。このことから、この極小値が生じる波長λ
1は、バンド巾Bに比例して移動することが分かる。一
例として、第7図の(a)で示す曲線の場合, λ1=120/1.43=83.9mm である。X−tanX = 0 (7) When this numerical solution is obtained, X = 4.49, and therefore B / λ 1 = 1.43 (8) is obtained. From this, the wavelength λ at which this minimum occurs
1 is seen to move in proportion to the band width B. As an example, in the case of the curve shown in FIG. 7A, λ 1 = 120 / 1.43 = 83.9 mm.
この極小値が生じる波長λ1がバンド巾Bに比例して
移動するということから、従来の単純移動平均法だけ用
いた場合に生じる凹凸の逆転現象を相殺するような、例
えば第7図の(a)で示す減衰比A1の曲線で生じる極小
値を相殺する効果が最大となるような第2のバンド巾B2
を選択して重ね合わせれば改善できることが理解され
る。すなわち、第2のバンド巾B2に対する波長をλ2、
その場合の減衰比をA2とすると、 A2(λ2)=−A1(λ1) …(9) を満足するバンド巾B2を選択すればよい。Since the wavelength λ 1 at which the minimum value occurs moves in proportion to the bandwidth B, the inversion of the unevenness which occurs when only the conventional simple moving average method is used is canceled out, for example, as shown in FIG. The second bandwidth B 2 that maximizes the effect of canceling out the minimum value generated by the curve of the attenuation ratio A 1 shown in a).
It can be understood that it can be improved by selecting and superimposing. That is, the wavelength for the second bandwidth B 2 is λ 2 ,
When the damping ratio in that case and A 2, A 2 (λ 2 ) = - A 1 (λ 1) ... may be selected band width B 2 that satisfies (9).
このような考え方に基づく多重移動平均法を用いるこ
とにより、特定の波長範囲でプロファイルの凹凸が逆転
する現象が大巾に改善された最適な平滑化処理を行うこ
とができる。第6図から、B/λ1=1.43の場合の減衰比
A(B/λ1)は、 A(B/λ1)=−0.217 であるから、 A(B/λ)=+0.217 を満足するλがλ2であり、第6図から求めれば、 B/λ2=0.813 …(10) となり、従って、 λ2=B/0.813 が得られる。By using the multiple moving average method based on such a concept, it is possible to perform an optimal smoothing process in which the phenomenon that profile unevenness is reversed in a specific wavelength range is greatly improved. From FIG. 6, the attenuation ratio A (B / λ 1 ) when B / λ 1 = 1.43 is A (B / λ 1 ) = − 0.217, so that A (B / λ) = + 0.217 The satisfying λ is λ 2, which is obtained from FIG. 6 as B / λ 2 = 0.813 (10). Therefore, λ 2 = B / 0.813 is obtained.
第7図の最初のバンド巾B1が120mmの場合の曲線
(a)について考えれば、 λ1=83.9mm であるから、(10)式を満足するには第2のバンド巾B2
による波長λ2がB1によるλ1に一致すれば良く、 B2=0.813×83.9=68mm となる。従って、実際のサンプリングピッチが10mmの場
合には、第2のバンド巾B2は70mmとなり、これによって
単純移動平均を行った場合の減衰比Aの特性曲線は、第
7図に示す曲線(b)のようになる。この異なるバンド
巾B1とB2を使用した単純移動平均法によるそれぞれの結
果A1とA2との平均((A1+A2)/2)をとる2重移動平均
法による特性は(c)に示すようになる。単純移動平均
法による曲線(a)および(b)の場合に比べて位相逆
転部の波高が約1/3に減少すると共にピーク位置も短波
長側に移動し、逆転現象の悪影響が大巾に改善されてい
ることが判る。Considering first band width B 1 of FIG. 7 is for the case of 120mm curve (a), λ 1 = because it is 83.9mm, (10) second to satisfy the equation of the band width B 2
It is sufficient that the wavelength λ 2 according to λ 1 matches λ 1 according to B 1 , and B 2 = 0.813 × 83.9 = 68 mm. Therefore, if the actual sampling pitch is 10mm, the second band width B 2 is 70mm, and the characteristic curve of the damping ratio A when thereby subjected to simple moving average, a curve shown in FIG. 7 (b )become that way. The characteristic by the double moving average method which takes the average ((A 1 + A 2 ) / 2) of the results A 1 and A 2 by the simple moving average method using the different bandwidths B 1 and B 2 is (c ). Compared to the curves (a) and (b) obtained by the simple moving average method, the wave height of the phase inversion section is reduced to about 1/3 and the peak position is also shifted to the short wavelength side, so that the adverse effect of the inversion phenomenon is greatly affected. It can be seen that it has been improved.
前述した最初のバンド巾B1は、第5図に示す標準型の
フレキシブルリップの場合70〜140mm、第4図に示す自
在屈曲性を有する特殊フレキシブルリップの場合はダイ
ボルト配列ピッチの1.5〜2倍が適当であり、2回目以
降のバンド巾は順次1/1.5〜1/2として多重移動平均を行
うようにすれば良い。First band width B 1 described above is 1.5 to 2 times the fifth case of the standard type of flexible lip shown in FIG 70~140Mm, in the case of special flexible lip having a bendable property shown in FIG. 4 die bolt arrangement pitch Is appropriate, and the band width after the second time may be set to 1 / 1.5 to 1/2 in order to perform the multiple moving average.
前述した実施例から明らかなように、本発明のプラス
チックフィルムのプロファイル制御方法によれば、走査
式厚さ計によって測定される生データ(原波形)に対し
て異なるバンド幅を用いて少くとも2回単純移動平均を
行い、その代数平均をとるという多重移動平均法を適用
した平滑化処理により得られたデータに基いて、Tダイ
の制御演算(操作量演算)を行う結果、全ダイボルト操
作量が適正化され、プラスチックフイルムの厚さ分布の
均一化を目的とするプロファイル制御を確実に達成する
ことができる。このため、実質的に最良の品質を有する
フイルムが成形される。As is apparent from the above-described embodiment, according to the method for controlling the profile of a plastic film of the present invention, the raw data (original waveform) measured by the scanning gage is measured by using different bandwidths for at least two times. A simple moving average is performed, and a control operation (operation amount operation) of the T-die is performed based on the data obtained by the smoothing process using the multiple moving average method of taking the algebraic average. And the profile control for the purpose of making the thickness distribution of the plastic film uniform can be surely achieved. As a result, a film having substantially the best quality is formed.
特に、熱変位式自動ダイを使用する場合には、過剰操
作量の出力が防止されるため安定なプロファイル制御を
実現できる。In particular, when a thermal displacement type automatic die is used, output of an excessive operation amount is prevented, so that stable profile control can be realized.
以上、本発明の好適な実施例について説明したが、本
発明は前記実施例に限定されることなく、本発明の精神
を逸脱しない範囲内において種々の設計を変更なし得る
ことは勿論である。Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various designs can be changed without departing from the spirit of the present invention.
第1図は本発明に係るプラスチックフィルムのプロファ
イル制御方法を適用した一実施例を示す押出成形機の成
形プロセス制御システム構成図、第2図は第1図に示す
システム構成における制御システムを実行するためのフ
ローチャート図、第3図は第1図に示すシステム構成に
よって本発明の制御方法を実行した場合の動作出力波形
図、第4図はTダイにおける自在屈曲性を有する特殊フ
レキシブルリップの変形パターンの最小ピッチとダイボ
ルト間隙との関係を示す説明図、第5図はTダイにおけ
る標準型フレキシブルリップの変形パターンの最小ピッ
チとダイボルト間隙との関係を示す説明図、第6図は単
純移動平均法による波高の減衰特性を示す特性曲線図、
第7図は一例として本発明に係る平滑化処理で使用する
2重移動平均法の効果を示す特性曲線図である。 10……押出機 12……フィルム成形用Tダイ 14……成形ロールユニット 16……走査式厚さ計、18……巻取機 20……入力インタフェース 22……CPU、24……メモリ 26……CRTディスプレイ 28……キーボード、30……プリンタ 32……パワーユニットFIG. 1 is a configuration diagram of a molding process control system of an extruder showing an embodiment to which a plastic film profile control method according to the present invention is applied, and FIG. 2 executes a control system in the system configuration shown in FIG. FIG. 3 is an operation output waveform diagram when the control method of the present invention is executed by the system configuration shown in FIG. 1, and FIG. 4 is a deformation pattern of a special flexible lip having free bending property in a T-die. FIG. 5 is an explanatory view showing the relationship between the minimum pitch of the die and the die bolt gap, FIG. 5 is an explanatory view showing the relationship between the minimum pitch of the deformation pattern of the standard type flexible lip in the T-die and the die bolt gap, and FIG. Characteristic curve diagram showing wave height attenuation characteristics by
FIG. 7 is a characteristic curve diagram showing the effect of the double moving average method used in the smoothing process according to the present invention as an example. 10 Extruder 12 Film forming T-die 14 Forming roll unit 16 Scanning thickness gauge 18 Rewinder 20 Input interface 22 CPU 24 Memory 26 ... CRT display 28 ... Keyboard, 30 ... Printer 32 ... Power unit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−291120(JP,A) 特開 平1−95025(JP,A) 特開 昭61−45312(JP,A) 特開 昭61−5916(JP,A) 特開 昭63−272527(JP,A) 特開 昭64−78815(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B29C 47/00 - 47/96──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-61-291120 (JP, A) JP-A-1-95025 (JP, A) JP-A-61-45312 (JP, A) JP-A-61-45312 5916 (JP, A) JP-A-63-272527 (JP, A) JP-A-64-78815 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B29C 47/00-47 / 96
Claims (2)
対し走査式厚さ計によりプロファイルの計測を行い、得
られたプロファイルデータに基づいて自動ダイを操作し
所要の厚さのフィルムを成形するプラスチックフィルム
のプロファイル制御方法において、 前記プロファイルデータ内に含まれ、かつ、自動ダイに
よって調整不可能な細かな凹凸成分データをカットオフ
するための平滑化処理を行うに際し、前記プロファイル
データに対して異なる平均化帯域巾を用いて少なくとも
2回対称型の移動平均演算処理を行い、その平均値によ
って自動ダイの操作量を決定することを特徴とするプラ
スチックフィルムのプロファイル制御方法。1. A plastic film for measuring a profile of a plastic film or the like to be extruded by a scanning thickness gauge and operating an automatic die based on the obtained profile data to form a film of a required thickness. In the profile control method, when performing a smoothing process for cutting off fine unevenness component data that is included in the profile data and cannot be adjusted by an automatic die, different averaging is performed on the profile data. A method for controlling a profile of a plastic film, wherein a symmetrical moving average calculation process is performed at least twice using a bandwidth, and an operation amount of an automatic die is determined based on the average value.
演算処理の少なくとも2回の平均化帯域巾は、2回目の
平均化帯域巾を最初の平均化帯域巾の1/1.5〜1/2とする
ことを特徴とする請求項1記載のプラスチックフィルム
のプロファイル制御方法。2. The averaging bandwidth of at least two times in the moving average calculation processing using different averaging bandwidths is such that the second averaging bandwidth is 1 / 1.5 to 1/2 of the first averaging bandwidth. 2. The method for controlling a profile of a plastic film according to claim 1, wherein:
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